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JP7052320B2 - Flux for soldering - Google Patents
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Description

本発明は、はんだ付け用フラックスに関する。詳しくは、水系のはんだ付け用フラックスに関する。 The present invention relates to a flux for soldering. More specifically, the present invention relates to a water-based soldering flux.

電子機器への電子部品の実装には、はんだを使用したはんだ付けがコスト面及び信頼性の面で有利であり、一般的に行われている。はんだ付けの方法としては、ヤニ入りはんだをはんだ鏝を用いてはんだ付けする方法、ソルダペースト、ソルダプリフォーム、及びソルダボールなどをリフロー炉で再溶解してはんだ付けを行うリフローはんだ付け法、溶融はんだにプリント基板及び電子部品を接触させてはんだ付けを行うフローはんだ付け法等がある。 For mounting electronic components on electronic devices, soldering using solder is advantageous in terms of cost and reliability, and is generally performed. Soldering methods include soldering solder containing solder with a soldering iron, reflow soldering method in which solder paste, solder preform, solder balls, etc. are redissolved in a reflow furnace and soldered. There is a flow soldering method in which a printed board and electronic parts are brought into contact with solder to perform soldering.

一般に、フローはんだ付け法には、液状のフラックス(ポストフラックス)が用いられる。当該液状フラックスは、電子回路基板のはんだ付け面の表面酸化被膜を除去し、該はんだ付け面に対する溶融はんだの濡れ性を確保する役割をしている。当該液状フラックスは、ロジンや活性剤などの固形成分を溶剤に溶解させたものであり、はんだ付けの前に、発泡フラクサーやスプレーフラクサーにて電子回路基板のはんだ付け面に塗布される。その後、該電子回路基板はプレヒーター内に投入され、100~150℃で加熱することにより前記溶剤が除去される。 Generally, a liquid flux (post-flux) is used in the flow soldering method. The liquid flux has a role of removing the surface oxide film on the soldered surface of the electronic circuit board and ensuring the wettability of the molten solder on the soldered surface. The liquid flux is obtained by dissolving a solid component such as rosin or an activator in a solvent, and is applied to the soldered surface of an electronic circuit board with a foam fluxer or a spray fluxer before soldering. After that, the electronic circuit board is put into a preheater and heated at 100 to 150 ° C. to remove the solvent.

前記液状フラックスの溶剤には、ロジンや活性剤がよく溶解するイソプロピルアルコールなどのアルコール類が使用されてきた。しかしながら、アルコールのような揮発性有機化合物(VOC)は大気中に放出されると、大気汚染の原因となるため、近年ではその使用が規制されている。これらの理由により、前記フローはんだ付け法においてもVOC量を低減した液状フラックスが望まれており、主に水を溶剤に用いる水系フラックスがこれまで開発されている(例えば、特許文献1、2参照)。 Alcohols such as isopropyl alcohol, in which rosin and an activator are well dissolved, have been used as the solvent for the liquid flux. However, the use of volatile organic compounds (VOCs) such as alcohol has been restricted in recent years because they cause air pollution when released into the atmosphere. For these reasons, a liquid flux with a reduced VOC amount is desired even in the flow soldering method, and water-based fluxes mainly using water as a solvent have been developed so far (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ).

特許文献1には、前記水系フラックスとして水のみを溶剤に用いるフラックスが記載されているが、水の蒸発潜熱及び表面張力の高さのため、前記プレヒーターによる加熱処理を経ても完全には水が除去されず、前記はんだ付けにおいて、はんだボールが多く発生する問題があった。また、溶剤である水の表面張力の高さのため、該水系フラックスは前記はんだ付け面への濡れ広がりが悪い問題もあった。さらに、該水系フラックスは、水に対する活性剤やロジンの溶解性が低いため、不均一な溶液となっており作業性に問題があった。 Patent Document 1 describes a flux that uses only water as a solvent as the water-based flux, but due to the high latent heat of evaporation of water and high surface tension, water is completely water even after being heat-treated by the preheater. Was not removed, and there was a problem that many solder balls were generated in the soldering. Further, due to the high surface tension of water as a solvent, the water-based flux has a problem that it does not spread well on the soldered surface. Further, since the aqueous flux has low solubility of the activator and rosin in water, it is a non-uniform solution and has a problem in workability.

特許文献1には、作業性を向上させるために、水及びイソプロパノールの混合溶剤を用いた水系フラックスも記載されているが、該混合溶剤が引火性の高いイソプロパノールを含むため、該水系フラックスは引火点を有しており消防法で危険物に分類されるので、取り扱い性に問題があった。 Patent Document 1 also describes an aqueous flux using a mixed solvent of water and isopropanol in order to improve workability. However, since the mixed solvent contains highly flammable isopropanol, the aqueous flux is flammable. Since it has a point and is classified as a dangerous substance by the Fire Service Act, there was a problem in handleability.

特許文献2には、水に対して活性剤やロジンを溶解させるために、界面活性剤を含む水系フラックスが記載されている。しかしながら、該水系フラックスを前記はんだ付け面に塗布してはんだ付けをした場合、フラックス残渣に界面活性剤が残存して絶縁抵抗性が低下し、はんだ付け後の電気的信頼性が悪くなる問題があった。 Patent Document 2 describes an aqueous flux containing a surfactant in order to dissolve an activator or rosin in water. However, when the water-based flux is applied to the soldered surface and soldered, there is a problem that the surfactant remains in the flux residue, the insulation resistance is lowered, and the electrical reliability after soldering is deteriorated. there were.

特開平8-132282号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-1322282 特開2002-120089号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-120089

本発明は、水を含む場合でも、前記加熱処理における乾燥性が高く、はんだ付け性が良好であり、はんだ付け面への濡れ性も良く、引火点を有さず、均一な性状であり、且つ電気的信頼性が高いはんだ付け用フラックスを提供することを課題とする。 According to the present invention, even when water is contained, the dryness in the heat treatment is high, the solderability is good, the wettability to the soldered surface is good, there is no ignition point, and the properties are uniform. Another object of the present invention is to provide a soldering flux having high electrical reliability.

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の共沸点を有する所定の共沸化合物及び所定の活性剤を含むはんだ付け用フラックスによって、前記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。即ち本発明は、以下のはんだ付け用フラックスに関する。 As a result of diligent studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a soldering flux containing a predetermined azeotropic compound having a specific azeotropic point and a predetermined activator, and have completed the present invention. That is, the present invention relates to the following soldering flux.

1.一般式(1):R-O-[-CH-CH-O]n-R
(式(1)中、nは1又は2の整数を示す。nが1のとき、Rは水素原子を、Rは炭素数1~4のアルキル基を示し、nが2のとき、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)で表される、常圧下の沸点が120~200℃であるグリコール系化合物(a1)及び水(a2)を含む共沸混合物(A)、並びに活性剤(B)を含み、
(A)成分の常圧下の共沸点が90~100℃である、はんだ付け用フラックス。
1. 1. General formula (1): R 1 -O- [-CH 2 -CH 2 -O] n-R 2
(In the formula (1), n represents an integer of 1 or 2. When n is 1, R 1 represents a hydrogen atom, R 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and when n is 2. R 1 and R 2 independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and include a glycol-based compound (a1) and water (a2) having a boiling point of 120 to 200 ° C. under normal pressure. Contains the co-boiling mixture (A), as well as the activator (B).
(A) A flux for soldering, in which the co-boiling point of the component under normal pressure is 90 to 100 ° C.

2.(A)成分における(a1)成分、(a2)成分の重量比率が、10~45重量%、55~90重量%である、前記項1に記載のはんだ付け用フラックス。 2. 2. Item 2. The soldering flux according to Item 1, wherein the weight ratios of the component (a1) and the component (a2) in the component (A) are 10 to 45% by weight and 55 to 90% by weight.

3.(B)成分が、分子内に炭素数2~6のアルキレン基又は炭素数2~6のアルケニレン基を有する脂肪族ジカルボン酸である、前記項1又は2に記載のはんだ付け用フラックス。 3. 3. Item 2. The soldering flux according to Item 1 or 2, wherein the component (B) is an aliphatic dicarboxylic acid having an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms in the molecule.

4.さらに、ロジン系樹脂(C)及び三級アミン(D)を含む、前記項1~3のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。 4. The soldering flux according to any one of Items 1 to 3, further comprising a rosin-based resin (C) and a tertiary amine (D).

5.前記フラックスが界面活性剤を含まない、前記項1~4のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。 5. Item 2. The soldering flux according to any one of Items 1 to 4, wherein the flux does not contain a surfactant.

本発明のはんだ付け用フラックス(以下、「フラックス」ということもある。)は、水とグリコール系化合物を含む共沸混合物(A)を溶剤として含むので、溶剤が水のみの水系フラックスに比べ揮発速度が速く乾燥性に優れる。そして、加熱処理後のはんだ付け面には共沸混合物(A)が残存しないので、はんだボールが抑制されてはんだ付け性が良好になる。また、本発明のフラックスは、はんだ付け面への濡れ性が良いものであり、該面への塗工が容易となる。さらに、本発明のフラックスは、はんだ付け工程におけるはんだブリッジも抑制できる。 Since the soldering flux of the present invention (hereinafter, also referred to as "flux") contains a co-boiling mixture (A) containing water and a glycol-based compound as a solvent, the solvent is more volatile than the water-based flux containing only water. It is fast and has excellent drying properties. Since the azeotropic mixture (A) does not remain on the soldered surface after the heat treatment, the solder balls are suppressed and the solderability is improved. Further, the flux of the present invention has good wettability to the soldered surface, and the coating on the surface becomes easy. Further, the flux of the present invention can also suppress the solder bridge in the soldering process.

本発明のフラックスは、引火点を有さないものとなっており、取扱いが容易で作業性に優れる。また、本発明のフラックスは、前記共沸混合物に活性剤やロジンが良く溶解して均一な溶液になっており、前記はんだ付け面への塗工がし易い。さらに、本発明のフラックスは、界面活性剤が不要なので、フラックス残渣の絶縁抵抗性が高くなり、はんだ付け後の電気的信頼性が高いものとなる。 The flux of the present invention has no flash point, is easy to handle, and is excellent in workability. Further, in the flux of the present invention, the activator and rosin are well dissolved in the azeotropic mixture to form a uniform solution, and it is easy to apply the flux to the soldered surface. Further, since the flux of the present invention does not require a surfactant, the insulation resistance of the flux residue is high, and the electrical reliability after soldering is high.

本発明のフラックスは、特定の沸点を有する所定のグリコール系化合物(a1)(以下、(a1)成分という)及び水(a2)(以下、(a2)成分という)を含む所定の共沸混合物(A)(以下、(A)成分という)、並びに所定の活性剤(B)(以下、(B)成分という)を含む組成物である。なお、本明細書に記載する「共沸混合物」とは、気相と液相の組成が同じである、混合物である。 The flux of the present invention is a predetermined azeotropic mixture containing a predetermined glycol-based compound (a1) having a specific boiling point (hereinafter referred to as (a1) component) and water (a2) (hereinafter referred to as (a2) component). A) (hereinafter referred to as the component (A)) and a predetermined activator (B) (hereinafter referred to as the component (B)). The "azeotropic mixture" described in the present specification is a mixture having the same composition of the gas phase and the liquid phase.

(A)成分は、(a1)及び(a2)成分を含む共沸混合物である。(A)成分は、その常圧下の共沸点(以下、単に、「共沸点」という。)が90~100℃程度であり、好ましくは95~100℃程度、より好ましくは97~99℃程度である。なお、「常圧」とは標準大気圧を意味する。また、(A)成分は、表面張力が水に比べて低いものであり、その値は特に限定されないが、好ましくは45dyn/cm未満であり、より好ましくは35dyn/cm未満である。(A)成分は、水の沸点以下の共沸点と水より低い表面張力を有するため、水に比べて揮発速度が高くなり、前記プレヒーターでの加熱処理(100~150℃)において乾燥性が高くなる。さらに、(A)成分は、高沸点を有する(a1)成分及び水である(a2)成分を主に含むため、引火点を有さない。 The component (A) is an azeotropic mixture containing the components (a1) and (a2). The component (A) has a co-boiling point under normal pressure (hereinafter, simply referred to as “co-boiling point”) at about 90 to 100 ° C, preferably about 95 to 100 ° C, and more preferably about 97 to 99 ° C. be. In addition, "normal pressure" means standard atmospheric pressure. Further, the surface tension of the component (A) is lower than that of water, and the value thereof is not particularly limited, but is preferably less than 45 dyn / cm, and more preferably less than 35 dyn / cm. Since the component (A) has a co-boiling point lower than the boiling point of water and a surface tension lower than that of water, the volatilization rate is higher than that of water, and the drying property is improved in the heat treatment (100 to 150 ° C.) with the preheater. It gets higher. Further, since the component (A) mainly contains the component (a1) having a high boiling point and the component (a2) which is water, it does not have a flash point.

(a1)成分は、一般式(1):R-O-[-CH-CH-O]n-R(式(1)中、nは1又は2の整数を示す。nが1のとき、Rは水素原子を、Rは炭素数1~4のアルキル基を示し、nが2のとき、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)で表されるグリコール系化合物である。一般式(1)において、nが1であってRが炭素数5以上のアルキル基の場合、又はnが2であってR及びRの少なくとも一方が炭素数4以上のアルキル基で、かつR及びRがいずれも水素原子でない場合は、(a1)成分の水溶性が低くなり、(A)成分は均一な溶液にはならない。また、nが2であってR及びRのいずれか一方が水素原子の場合、又はnが3以上の場合は、(A)成分の乾燥性が低くなる。 The component (a1) is a general formula (1): R 1 -O- [-CH 2 -CH 2 -O] n-R 2 (in formula (1), n represents an integer of 1 or 2. When 1, R 1 indicates a hydrogen atom, R 2 indicates an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and when n is 2, R 1 and R 2 independently indicate an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. It is a glycol-based compound represented by.). In the general formula (1), when n is 1 and R 2 is an alkyl group having 5 or more carbon atoms, or when n is 2 and at least one of R 1 and R 2 is an alkyl group having 4 or more carbon atoms. If neither R 1 nor R 2 is a hydrogen atom, the water solubility of the component (a1) becomes low, and the component (A) does not become a uniform solution. Further, when n is 2 and either R 1 or R 2 is a hydrogen atom, or when n is 3 or more, the drying property of the component (A) becomes low.

(a1)成分は、(A)成分が共沸点を有し、その引火性が低くなる点から、常圧下の沸点が120~200℃程度、好ましくは130~190℃程度、より好ましくは140~180℃程度である。 The component (a1) has a boiling point of about 120 to 200 ° C., preferably about 130 to 190 ° C., more preferably 140 to It is about 180 ° C.

(a1)成分の具体例として、前記一般式(1)のnが1の場合は、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、エチレングリコールモノ-iso-ブチルエーテル、エチレングリコールモノ-sec-ブチルエーテル、及びエチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル等が挙げられ、nが2の場合は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチル-iso-プロピルエーテル、ジエチレングリコールメチル-n - プロピルエーテル、ジエチレングリコールエチル-iso-プロピルエーテル、及びジエチレングリコールエチル-n - プロピルエーテル等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その中でも、乾燥性が高くなる点から、エチレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル、及びジエチレングリコールエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる1種以上が好ましい。 As a specific example of the component (a1), when n in the general formula (1) is 1, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-iso -Propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol mono-iso-butyl ether, ethylene glycol mono-sec-butyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether and the like can be mentioned. When n is 2, diethylene glycol ethyl is used. Examples thereof include methyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl-iso-propyl ether, diethylene glycol methyl-n-propyl ether, diethylene glycol ethyl-iso-propyl ether, and diethylene glycol ethyl-n-propyl ether. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, at least one selected from the group consisting of ethylene glycol mono-iso-propyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, and diethylene glycol ethylmethyl ether is preferable from the viewpoint of high drying property.

(a2)成分としては、純水、超純水、精製水、蒸留水、イオン交換水、及び水道水等が挙げられる。(a2)成分は軟水であっても硬水であってもよい。 Examples of the component (a2) include pure water, ultrapure water, purified water, distilled water, ion-exchanged water, tap water and the like. The component (a2) may be soft water or hard water.

(A)成分には、必要に応じて、一般式(2):R-O-[-CH-CH(CH)-O]n-R(式(2)中、nは1又は2を示す。nが1のとき、Rは炭素数1~4のアルキル基を、Rは水素原子を示し、nが2のとき、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)で表されるグリコール系化合物(a3)(以下、(a3)成分)を含んでもよい。一般式(2)において、nが1であってRが炭素数5以上のアルキル基の場合、又はnが2であってR及びRの少なくとも一方が炭素数4以上のアルキル基で、かつR及びRがいずれも水素原子でない場合は、(a1)成分の水溶性が低くなり、(A)成分は均一な溶液にはならない。また、nが2であってR及びRのいずれか一方が水素原子の場合、又はnが3以上の場合は、(A)成分の乾燥性が低くなる。 For the component (A), if necessary, the general formula (2): R 3 -O- [-CH 2 -CH (CH 3 ) -O] n-R 4 (in the formula (2), n is 1 Or 2. When n is 1, R 3 indicates an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 indicates a hydrogen atom, and when n is 2, R 3 and R 4 independently have 1 carbon atoms. It may contain a glycol-based compound (a3) (hereinafter, component (a3)) represented by (indicating an alkyl group of 3). In the general formula (2), when n is 1 and R 3 is an alkyl group having 5 or more carbon atoms, or when n is 2 and at least one of R 3 and R 4 is an alkyl group having 4 or more carbon atoms. If neither R 3 nor R 4 is a hydrogen atom, the water solubility of the component (a1) becomes low, and the component (A) does not become a uniform solution. Further, when n is 2 and any one of R 3 and R 4 is a hydrogen atom, or when n is 3 or more, the drying property of the component (A) becomes low.

(a3)成分は、(A)成分が共沸点を有し、その引火性が低くなる点から、常圧下の沸点が120~200℃程度、好ましくは130~190℃程度、より好ましくは140~180℃程度である。 The component (a3) has a boiling point of about 120 to 200 ° C., preferably about 130 to 190 ° C., more preferably 140 to, because the component (A) has a co-boiling point and its flammability is low. It is about 180 ° C.

(A)成分は、(a3)成分を含んだ場合でも、水より表面張力が低いものとなり、前記同様に乾燥性が高い。さらに、(a3)成分は高沸点を有するので、(A)成分は、前記同様に引火点を有さない。 Even when the component (A) is contained, the surface tension is lower than that of water, and the drying property is high as described above. Further, since the component (a3) has a high boiling point, the component (A) does not have a flash point as described above.

(a3)成分の具体例として、前記一般式(2)のnが1の場合は、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ-iso-ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ-sec-ブチルエーテル、及びプロピレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル等が挙げられ、nが2の場合は、ジプロピレングリコールエチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-iso-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-n -プロピルエーテル、ジプロピレングリコールエチル-iso-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールエチル-n - プロピルエーテル等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その中でも、乾燥性が高くなる点から、プロピレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル、及びジプロピレングリコールエチルメチルエーテルからなる群より選ばれる1種以上が好ましい。 As a specific example of the component (a3), when n in the general formula (2) is 1, for example, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-iso -Propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol mono-iso-butyl ether, propylene glycol mono-sec-butyl ether, propylene glycol mono-tert-butyl ether and the like can be mentioned. When n is 2, dipropylene Glycolethylmethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol methyl-iso-propyl ether, dipropylene glycol methyl-n-propyl ether, dipropylene glycol ethyl-iso-propyl ether, dipropylene glycol ethyl -N-propyl ether and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, at least one selected from the group consisting of propylene glycol mono-iso-propyl ether, propylene glycol mono-tert-butyl ether, and dipropylene glycol ethylmethyl ether is preferable from the viewpoint of high drying property.

(A)成分は、(a1)成分、(a2)成分及び必要に応じて用いる(a3)成分を各種公知の手段で混合することにより調製する。(a1)成分、(a2)成分及び(a3)成分の重量比率は、特に限定されないが、共沸点を有する点及び乾燥性が高くなる点を考慮して適宜設定できる。具体的には、(A)成分が(a3)成分を含まない場合は、(A)成分における(a1)及び(a2)成分の重量比率は、10~45重量%程度、55~90重量%程度が好ましく、20~40重量%程度、60~80重量%程度がより好ましい。また、(A)成分が(a3)成分を含む場合は、(A)成分における(a1)成分、(a2)成分及び(a3)成分の重量比率は、順に5~35重量%程度、30~90重量%程度、5~35重量%程度が好ましく、10~30重量%程度、40~80重量%程度、10~30重量%程度がより好ましい。 The component (A) is prepared by mixing the component (a1), the component (a2) and the component (a3) used as necessary by various known means. The weight ratio of the component (a1), the component (a2), and the component (a3) is not particularly limited, but can be appropriately set in consideration of having a co-boiling point and high drying property. Specifically, when the component (A) does not contain the component (a3), the weight ratios of the components (a1) and (a2) in the component (A) are about 10 to 45% by weight and 55 to 90% by weight. The degree is preferable, about 20 to 40% by weight, and more preferably about 60 to 80% by weight. When the component (A) contains the component (a3), the weight ratios of the component (a1), the component (a2) and the component (a3) in the component (A) are about 5 to 35% by weight and 30 to 30 in order. It is preferably about 90% by weight, preferably about 5 to 35% by weight, more preferably about 10 to 30% by weight, more preferably about 40 to 80% by weight, and more preferably about 10 to 30% by weight.

(A)成分の含有量は、特に限定されないが、フラックスの良好な濡れ性の点から、フラックスにおける重量比率が75~99.9重量%程度が好ましく、84~99.5重量%程度がより好ましい。 The content of the component (A) is not particularly limited, but from the viewpoint of good wettability of the flux, the weight ratio of the flux is preferably about 75 to 99.9% by weight, more preferably about 84 to 99.5% by weight. preferable.

(B)成分は、はんだ付け用のフラックスに利用可能な活性剤であれば、各種公知のものを限定なく使用できる。(B)成分としては特に限定されないが、はんだブリッジを抑制する点から、分子内に炭素数2~6のアルキレン基又は炭素数2~6のアルケニレン基を有する脂肪族ジカルボン酸であるのが好ましく、分子内に炭素数4~6のアルキレン基を有する脂肪族ジカルボン酸がより好ましい。また、該脂肪族ジカルボン酸は、非ハロゲン系脂肪族ジカルボン酸又はハロゲン系脂肪族ジカルボン酸のいずれかでも良いし、両方を含んでも良い。なお、(B)成分は、後述の(C)成分とは異なるものである。 As the component (B), any known activator can be used without limitation as long as it is an activator that can be used as a flux for soldering. The component (B) is not particularly limited, but is preferably an aliphatic dicarboxylic acid having an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms in the molecule from the viewpoint of suppressing solder bridging. , An aliphatic dicarboxylic acid having an alkylene group having 4 to 6 carbon atoms in the molecule is more preferable. Further, the aliphatic dicarboxylic acid may be either a non-halogen aliphatic dicarboxylic acid or a halogen-based aliphatic dicarboxylic acid, or may contain both. The component (B) is different from the component (C) described later.

(B)成分の具体例としては、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その中でも、はんだブリッジを抑制する点から、コハク酸、グルタル酸、及びアジピン酸からなる群より選ばれる1種以上が好ましい。 Specific examples of the component (B) include succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, one or more selected from the group consisting of succinic acid, glutaric acid, and adipic acid is preferable from the viewpoint of suppressing the solder bridge.

(B)成分は、(A)成分の共沸点には影響を及ばさない。詳細は不明だが、(B)成分は該共沸点下では固体状態であって蒸気圧がほとんど無く、該共沸点に影響を及ぼさないためと推定される。また、(B)成分は引火性が低いため、(A)及び(B)成分を含むフラックスは通常引火点を有さない。さらに、(B)成分は(A)成分に対する溶解性が高いので、(A)及び(B)成分を含むフラックスは通常均一な溶液となる。 The component (B) does not affect the co-boiling point of the component (A). Although the details are unknown, it is presumed that the component (B) is in a solid state under the co-boiling point and has almost no vapor pressure and does not affect the co-boiling point. Further, since the component (B) has low flammability, the flux containing the components (A) and (B) usually does not have a flash point. Further, since the component (B) is highly soluble in the component (A), the flux containing the components (A) and (B) is usually a uniform solution.

(B)成分の含有量は、特に限定されないが、はんだブリッジを抑制する点から、フラックスにおける重量比率が0.1~5重量%程度が好ましく、0.5~3重量%程度がより好ましい。 The content of the component (B) is not particularly limited, but the weight ratio in the flux is preferably about 0.1 to 5% by weight, more preferably about 0.5 to 3% by weight, from the viewpoint of suppressing the solder bridge.

本発明のフラックスは、さらに、ロジン系樹脂(C)(以下、(C)成分とする)及び三級アミン(D)(以下、(D)成分とする)、又はそれらの塩を含んでもよい。 The flux of the present invention may further contain a rosin-based resin (C) (hereinafter referred to as a component (C)) and a tertiary amine (D) (hereinafter referred to as a component (D)), or salts thereof. ..

(C)成分は、ロジン系樹脂であれば、特に限定されない。(C)成分の具体例としては、例えば、馬尾松、スラッシュ松、メルクシ松、思茅松、テーダ松及び大王松等に由来する天然ロジン(ガムロジン、トール油ロジン、ウッドロジン)、天然ロジンを精製して得られる精製ロジン、天然ロジンを水素化反応させて得られる水素化ロジン、天然ロジンを不均化反応させて得られる不均化ロジン、α、β不飽和カルボン酸変性ロジン、重合ロジン等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。(C)成分は、後述の(D)成分と相互作用し易い点から、α、β不飽和カルボン酸変性ロジンが好ましい。なお、(C)成分も前記(B)成分と同様に、(A)成分の共沸点には影響を及ぼさない。また、(C)成分も引火性が低いので、それを含むフラックスも引火点を有さない。 The component (C) is not particularly limited as long as it is a rosin-based resin. Specific examples of the component (C) include purified natural rosin (gum rosin, tall oil rosin, wood rosin) derived from Mao pine, slush pine, Merckshi pine, Shikaya pine, Theda pine, Daio pine and the like. Purified rosin obtained from the above, hydrogenated rosin obtained by hydrogenating natural rosin, disproportionated rosin obtained by disproportionating natural rosin, α, β unsaturated carboxylic acid-modified rosin, polymerized rosin, etc. Can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. The component (C) is preferably an α or β unsaturated carboxylic acid-modified rosin because it easily interacts with the component (D) described later. Note that the component (C) does not affect the co-boiling point of the component (A), similarly to the component (B). Further, since the component (C) also has low flammability, the flux containing the component (C) does not have a flash point.

前記α、β不飽和カルボン酸変性ロジンは、前記天然ロジン及び/又は精製ロジン(以下、原料ロジンともいう)にα、β不飽和カルボン酸類をディールス・アルダー付加してなる化合物である。該α、β不飽和カルボン酸類は、(メタ)アクリル酸、フマル酸、及び(無水)マレイン酸等が挙げられる。ディールス・アルダー反応は各種公知の方法に従い行えばよい。具体的には、例えば、撹拌器、還流冷却管、窒素導入管等を備えた反応容器に、原料ロジンとα、β不飽和カルボン酸類とを仕込み、溶媒の存在下若しくは不存在下、及び触媒の存在下又は不存在下に、通常180~240℃程度の温度で通常1~9時間程度両者を反応させればよい。なお、反応容器は密閉構造とし、好ましくは更に窒素等の不活性ガス気流でパージすることがよい。 The α, β-unsaturated carboxylic acid-modified rosin is a compound obtained by adding α, β-unsaturated carboxylic acids to the natural rosin and / or purified rosin (hereinafter, also referred to as raw material rosin) by deal with alder. Examples of the α and β unsaturated carboxylic acids include (meth) acrylic acid, fumaric acid, and (maleic anhydride) maleic acid. The Diels-Alder reaction may be carried out according to various known methods. Specifically, for example, a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen introduction tube, etc. is charged with raw material rosin and α, β unsaturated carboxylic acids, in the presence or absence of a solvent, and as a catalyst. In the presence or absence of the above, the two may be reacted at a temperature of about 180 to 240 ° C. for usually about 1 to 9 hours. The reaction vessel should have a closed structure, and preferably further purged with an inert gas stream such as nitrogen.

前記α、β不飽和カルボン酸変性ロジンは、反応後に各種公知の方法で水素化を施してもよい。水素化は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、水素化触媒の存在下、通常1~25MPa、好ましくは5~20MPaの水素加圧下で、0.5~7時間程度、好ましくは1~5時間加熱することが挙げられる。水素化触媒としては、パラジウムカーボン、ロジウムカーボン、ルテニウムカーボン、及び白金カーボンなどの担持触媒、パラジウム、ニッケル、及び白金等の金属粉末等、各種公知のものを使用することができる。触媒の使用量は、α、β不飽和カルボン酸変性ロジン100重量部に対して、通常0.01~5重量部程度、好ましくは0.01~3.0重量部である。また、水素化温度は100~300℃程度、好ましくは150~290℃である。 The α, β unsaturated carboxylic acid-modified rosin may be hydrogenated by various known methods after the reaction. Hydrogenation is not particularly limited, and a known method can be adopted. Specifically, for example, heating in the presence of a hydrogenation catalyst, usually under hydrogen pressurization of 1 to 25 MPa, preferably 5 to 20 MPa, for about 0.5 to 7 hours, preferably 1 to 5 hours can be mentioned. .. As the hydrogenation catalyst, various known catalysts such as a carrying catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, and platinum carbon, and metal powders such as palladium, nickel, and platinum can be used. The amount of the catalyst used is usually about 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the α and β unsaturated carboxylic acid-modified rosin. The hydrogenation temperature is about 100 to 300 ° C, preferably 150 to 290 ° C.

(C)成分の酸価(JIS K 0070。以下、酸価というときは同様。)は、特に限定されないが、後述の(D)成分と相互作用し易い点で、160mgKOH/g以上が好ましく、180~310mgKOH/g程度がより好ましい。 The acid value of the component (C) (JIS K 0070; hereinafter, the same applies when the acid value is referred to) is not particularly limited, but is preferably 160 mgKOH / g or more in that it easily interacts with the component (D) described later. About 180 to 310 mgKOH / g is more preferable.

(C)成分の含有量は、特に限定されないが、フラックス残渣の絶縁抵抗性が高くなる点で、フラックスにおける重量比率が0.5~15重量%程度が好ましく、1~10重量%程度がより好ましく、1~5重量%程度が特に好ましい。 The content of the component (C) is not particularly limited, but the weight ratio in the flux is preferably about 0.5 to 15% by weight, more preferably about 1 to 10% by weight, in terms of increasing the insulation resistance of the flux residue. It is preferable, and about 1 to 5% by weight is particularly preferable.

(C)成分には、所望の特性を損なわない限り、非ロジン系樹脂を併用することもできる。非ロジン系樹脂の具体例としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ナイロン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリオレフイン樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂等の合成樹脂や、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、クロロプレンゴム(CR)、ナイロンゴム、ナイロン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等のエラストマーなどが挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 A non-rosin-based resin can also be used in combination with the component (C) as long as the desired properties are not impaired. Specific examples of the non-rosin resin include synthetic resins such as epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, nylon resin, polyacrylonitrile resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyolephine resin, fluororesin, ABS resin, and isoprene. Examples thereof include rubber, styrene butadiene rubber (SBR), butadiene rubber (BR), chloroprene rubber (CR), nylon rubber, nylon-based elastomers, and elastomers such as polyester-based elastomers. These can be used alone or in combination of two or more.

(D)成分は、三級アミンであれば、特に限定されない。(D)成分は、フラックスに(C)成分を用いる場合に必須使用され、(C)成分のカルボキシル基と(D)成分のアミノ基とが相互作用することで、(C)及び(D)成分は(A)成分に対する溶解性が高くなる。(D)成分は、(A)成分への溶解性が高い点から、20℃における水への溶解度が少なくとも10重量%の親水性アミンであるのが好ましく、同様の点から、下記一般式(3)で表されるモノアミン(D1)(以下、(D1)成分ともいう。)及び下記一般式(4)で表されるポリアミン(D2)(以下、(D2)成分ともいう。) がより好ましい。(D)成分は、(D1)成分又は(D2)成分のいずれか1成分でもよいし、両方の成分を含んでもよい。 The component (D) is not particularly limited as long as it is a tertiary amine. The component (D) is indispensably used when the component (C) is used for the flux, and the carboxyl group of the component (C) and the amino group of the component (D) interact with each other to form (C) and (D). The component has high solubility in the component (A). The component (D) is preferably a hydrophilic amine having a solubility in water at 20 ° C. of at least 10% by weight because of its high solubility in the component (A), and from the same point of view, the following general formula ( The monoamine (D1) represented by 3) (hereinafter, also referred to as (D1) component) and the polyamine (D2) represented by the following general formula (4) (hereinafter, also referred to as (D2) component) are more preferable. .. The component (D) may be either one component of the component (D1) or the component (D2), or may contain both components.

一般式(3):(R)(3-m)N-[CH-CH(Y)-OH]m
(式(3)中、Yは水素原子又はメチル基を示し、mは1~3の整数を示す。mが1のとき、Rは炭素数1~3のアルキル基を示し、mが2のとき、Rは炭素数1~4のアルキル基を示す。)
General formula (3): (R 5 ) (3-m) N- [ CH2 -CH (Y) -OH] m
(In formula (3), Y represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents an integer of 1 to 3. When m is 1, R 3 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and m is 2. At this time, R 5 indicates an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

一般式(4):(R)RN-(CH)l-NR(R
(式(4)中、lは1~6の整数を示し、R、R、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)
General formula (4): (R 6 ) R 7 N- (CH 2 ) l-NR 8 (R 9 )
(In the formula (4), l represents an integer of 1 to 6, and R 6 , R 7 , R 8 and R 9 independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.)

(D1)成分の具体例としては、例えば、2-(ジメチルアミノ)エタノール、2-(ジエチルアミノ)エタノール、2-(ジ-n-プロピルアミノ)エタノール、2-(ジ-iso-プロピルアミノ)エタノール、1-ジメチルアミノ-2-プロパノール、1-ジエチルアミノ-2-プロパノール、1-ジ-n-プロピルアミノ-2-プロパノール、1-ジ-iso-プロピルアミノ-2-プロパノール、N-メチルジエタノールアミン、N-エチルジエタノールアミン、N-n-プロピルジエタノールアミン、N-iso-プロピルジエタノールアミン、N-n-ブチルジエタノールアミン、N-iso-ブチルジエタノールアミン、N-sec-ブチルジエタノールアミン、N-tert-ブチルジエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その中でも、溶解性の点から、2-(ジ-iso-プロピルアミノ)エタノール、1-ジエチルアミノ-2-プロパノール、及びN-n-ブチルジエタノールアミンからなる群より選ばれる1種以上が好ましい。 Specific examples of the component (D1) include 2- (dimethylamino) ethanol, 2- (diethylamino) ethanol, 2- (di-n-propylamino) ethanol, and 2- (di-iso-propylamino) ethanol. , 1-Dimethylamino-2-propanol, 1-diethylamino-2-propanol, 1-di-n-propylamino-2-propanol, 1-di-iso-propylamino-2-propanol, N-methyldiethanolamine, N -Ethyldiethanolamine, Nn-propyldiethanolamine, N-iso-propyldiethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, N-iso-butyldiethanolamine, N-sec-butyldiethanolamine, N-tert-butyldiethanolamine, and triethanolamine. And so on. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, one or more selected from the group consisting of 2- (di-iso-propylamino) ethanol, 1-diethylamino-2-propanol, and Nn-butyldiethanolamine is preferable from the viewpoint of solubility.

(D2)成分の具体例としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラメチルジアミノメタン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,4-ジアミノブタン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,5-ジアミノペンタン、N,N,N’,N’-テトラメチルヘキサメチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラエチルヘキサメチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラ-n-プロピルヘキサメチレンジアミン、及びN,N,N’,N’-テトラ-iso-プロピルヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その中でも、溶解性の点から、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン、及びN,N,N’,N’-テトラメチルヘキサメチレンジアミンからなる群より選ばれる1 種以上が好ましい。 Specific examples of the component (D2) include, for example, N, N, N', N'-tetramethyldiaminomethane, N, N, N', N'-tetramethylethylenediamine, N, N, N', N'. -Tetramethyl-1,3-diaminopropane, N, N, N', N'-Tetramethyl-1,4-diaminobutane, N, N, N', N'-Tetramethyl-1,5-diaminopentane , N, N, N', N'-tetramethylhexamethylenediamine, N, N, N', N'-tetraethylhexamethylenediamine, N, N, N', N'-tetra-n-propylhexamethylenediamine , And N, N, N', N'-tetra-iso-propylhexamethylenediamine and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of solubility, N, N, N', N'-tetramethylethylenediamine, N, N, N', N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane, and N, N, N' , N'-Tetramethylhexamethylenediamine is preferably one or more selected from the group.

(D)成分の含有量は、特に限定されないが、はんだブリッジを抑制し、前記絶縁抵抗性が高くなる点で、フラックスにおける重量比率が0.1~5重量%程度が好ましく、0.5~3重量%程度がより好ましい。(D)成分の含有量が、0.1重量%未満では(C)成分の(A)成分に対する溶解性が悪く、5重量%を超えると前記絶縁抵抗性が低下する。また、(D1)及び(D2)成分を併用する場合は、(D1)+(D2)の総量100重量部に対して、(D1)成分が10~50重量部程度、(D2)成分が50~90重量部程度であるのが好ましい。 The content of the component (D) is not particularly limited, but the weight ratio in the flux is preferably about 0.1 to 5% by weight, preferably 0.5 to 5%, in terms of suppressing the solder bridge and increasing the insulation resistance. About 3% by weight is more preferable. If the content of the component (D) is less than 0.1% by weight, the solubility of the component (C) in the component (A) is poor, and if it exceeds 5% by weight, the insulation resistance is lowered. When the components (D1) and (D2) are used in combination, the component (D1) is about 10 to 50 parts by weight and the component (D2) is 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of (D1) + (D2). It is preferably about 90 parts by weight.

フラックスにおける(C)成分と(D)成分との含有比率は特に限定されないが、(A)成分への溶解性及び前記絶縁抵抗性が高くなる点から、通常重量比[(C)/(D)]が70/30~95/5程度、好ましくは80/20~90/10程度である。 The content ratio of the component (C) and the component (D) in the flux is not particularly limited, but the normal weight ratio [(C) / (D) is high in terms of solubility in the component (A) and the insulation resistance. )] Is about 70/30 to 95/5, preferably about 80/20 to 90/10.

本発明のフラックスは、(C)及び(D)成分の代わりに、(C)成分と(D)成分から形成される塩を含めてもよい。該塩は、(C)成分と(D)成分とをそれぞれ前記含有量で用いて、各種公知の手段で中和反応させることで得られる。本発明のフラックスは、(C)及び(D)成分の代わりに該塩を用いても、所望の特性を損なわない。 The flux of the present invention may contain a salt formed from the component (C) and the component (D) instead of the components (C) and (D). The salt can be obtained by neutralizing a component (C) and a component (D) with the above-mentioned contents by various known means. The flux of the present invention does not impair the desired properties even when the salt is used instead of the components (C) and (D).

本発明のフラックスは、その製造方法は特に限定されないが、(A)及び(B)成分、並びに必要に応じて(C)及び(D)成分を、各種公知の手段で混合することにより調製する。なお、(C)成分と(D)成分から予め塩を形成させて、(C)及び(D)成分の代わりに該塩を混合させてもよい。フラックスにおける各成分の含有量は特に限定されないが、(C)及び(D)成分を含まない場合は、フラックスにおける(A)及び(B)成分の重量比率は、95~99.9重量%程度、0.1~5重量%程度が好ましく、97~99.5重量%程度、0.5~3重量%程度がより好ましい。また、フラックスが(C)及び(D)成分を含む場合には、(A)~(D)成分の重量比率は、順に75~99.3重量%程度、0.1~5重量%程度、0.5~15重量%程度、0.1~5重量%程度が好ましく、84~98重量%程度、0.5~3重量%程度、1~10重量%程度、0.5~3重量%程度がより好ましい。 The production method of the flux of the present invention is not particularly limited, but the flux is prepared by mixing the components (A) and (B) and, if necessary, the components (C) and (D) by various known means. .. A salt may be formed in advance from the component (C) and the component (D), and the salt may be mixed in place of the components (C) and (D). The content of each component in the flux is not particularly limited, but when the components (C) and (D) are not contained, the weight ratio of the components (A) and (B) in the flux is about 95 to 99.9% by weight. , About 0.1 to 5% by weight, more preferably about 97 to 99.5% by weight, and more preferably about 0.5 to 3% by weight. When the flux contains the components (C) and (D), the weight ratios of the components (A) to (D) are, in order, about 75 to 99.3% by weight, about 0.1 to 5% by weight, and so on. About 0.5 to 15% by weight, preferably about 0.1 to 5% by weight, preferably about 84 to 98% by weight, about 0.5 to 3% by weight, about 1 to 10% by weight, 0.5 to 3% by weight. The degree is more preferable.

また、本発明のフラックスには、所望の特性を損なわない限り、(B)成分以外のその他活性剤(E)(以下、(E)成分とする)を併用しても良い。(E)成分としては、例えば、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン2酸、クロレンド酸、ダイマー酸等の二塩基酸;ピコリン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸等の一塩基酸;1,2,3,4-テトラブロモブタン、1,2-ジブロモ-1-フェニルエタン、1-ブロモ-2-ブタノール、1-ブロモ-2-プロパノール、1,4-ジブロモ-2,3-ブタンジオール、trans/cis-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、2,2-ビス(ブロモメチル)-1,3-プロパンジオール、3-ブロモプロピオン酸、2-ブロモペンタン酸、エチルアミン臭素酸塩、ジエチルアミン臭素酸塩等のハロゲン含有化合物等が挙げられる。その中でも、はんだブリッジを抑制する点から、trans/cis-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、1-ブロモ-2-プロパノール、及び2,2-ビス(ブロモメチル)-1,3-プロパンジオールからなる群より選ばれる1種以上が好ましい。また、(E)成分の含有量は特に限定されないが、はんだブリッジを抑制し、前記絶縁抵抗性が高くなる点から、フラックスにおける重量比率が0.01~5重量%程度が好ましく、0.03~3重量%程度がより好ましい。 Further, the flux of the present invention may be used in combination with other activators (E) (hereinafter referred to as (E) component) other than the component (B) as long as the desired characteristics are not impaired. Examples of the component (E) include dibasic acids such as azelaic acid, sebacic acid, dodecane diic acid, chlorendic acid, and dimer acid; picolin acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, and stearic acid. Monobasic acids such as 1,2,3,4-tetrabromobutane, 1,2-dibromo-1-phenylethane, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 1,4-dibromo -2,3-butanediol, trans / cis-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2,2-bis (bromomethyl) -1,3-propanediol, 3-bromopropionic acid, Examples thereof include halogen-containing compounds such as 2-bromopentanoic acid, ethylamine bromate and diethylamine bromine. Among them, from the viewpoint of suppressing solder bridges, trans / cis-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 1-bromo-2-propanol, and 2,2-bis (bromomethyl) -1 , 3-Propanediol, one or more selected from the group consisting of diols is preferable. The content of the component (E) is not particularly limited, but the weight ratio in the flux is preferably about 0.01 to 5% by weight, preferably 0.03, from the viewpoint of suppressing the solder bridge and increasing the insulation resistance. It is more preferably about 3% by weight.

本発明のフラックスは、所望の特性を損なわない限り、前記(A)~(E)成分以外に、酸化防止剤、防黴剤、艶消し剤等の添加剤を含有しても良い。フラックス中の添加剤の含有量は特に限定されないが、通常0.1~5重量%程度である。 The flux of the present invention may contain additives such as antioxidants, fungicides, and matting agents in addition to the components (A) to (E) as long as the desired properties are not impaired. The content of the additive in the flux is not particularly limited, but is usually about 0.1 to 5% by weight.

本発明のフラックスは、溶剤である(A)成分の乾燥性が高いため、フラックス自体の乾燥性も高いものとなる。そして、前記加熱処理後のはんだ付け面には(A)成分が残存していないため、はんだ付け工程において、はんだボールが抑制されてはんだ付け性が良好になる。また、本発明のフラックスは、(A)成分の表面張力の低さのため、はんだ付け面への濡れ性が良いものとなり、該面への塗工がし易い。さらに、本発明のフラックスは、はんだ工程におけるはんだブリッジも抑制できる。 Since the flux of the present invention has high drying property of the component (A) which is a solvent, the drying property of the flux itself is also high. Since the component (A) does not remain on the soldered surface after the heat treatment, the solder balls are suppressed in the soldering step, and the solderability is improved. Further, since the flux of the present invention has a low surface tension of the component (A), it has good wettability to the soldered surface, and it is easy to apply the flux to the surface. Further, the flux of the present invention can also suppress the solder bridge in the soldering process.

本発明のフラックスは、引火点を有さないので非危険物であり、取扱いが容易で作業性に優れる。また、本発明のフラックスは、(A)成分に他成分が良く溶解しているため、均一な溶液であり前記はんだ付け面への塗工がし易い。さらに、本発明のフラックスは、界面活性剤が不要なので、フラックス残渣の絶縁抵抗性が高くなり、はんだ付け後の電気的信頼性が高いものとなる。 The flux of the present invention is a non-dangerous substance because it does not have a flash point, is easy to handle, and is excellent in workability. Further, since the flux of the present invention has other components well dissolved in the component (A), it is a uniform solution and can be easily applied to the soldered surface. Further, since the flux of the present invention does not require a surfactant, the insulation resistance of the flux residue is high, and the electrical reliability after soldering is high.

本発明のフラックスを、はんだ付け面に塗工する方法は特に制限されず、例えば、端子部品をそのまま浸漬する方法や、はんだ付け面に各種フラクサー(スプレー等)によって塗工する方法が挙げられる。また、本発明のフラックスは、各種公知のはんだ付けにおいて用いることができるが、フローはんだ付け法に用いることが好ましい。 The method of applying the flux of the present invention to the soldered surface is not particularly limited, and examples thereof include a method of immersing terminal parts as they are and a method of applying various fluxers (spray or the like) to the soldered surface. Further, although the flux of the present invention can be used in various known soldering methods, it is preferably used in the flow soldering method.

以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。ただし、本発明の技術的範囲がこれら実施例に限定されるものではない。また実施例中で「部」「%」は特に断りのない限り、「重量部」「重量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the technical scope of the present invention is not limited to these examples. Further, in the examples, "parts" and "%" mean "parts by weight" and "% by weight" unless otherwise specified.

(共沸混合物(A)の調製)
製造例1
200mlのナス型フラスコに、(a1)成分:グリコール系化合物としてエチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル(ETB)を20g、及び(a2)成分:水としてイオン交換水(以下、単に水という。)を80g入れ、よく混合することにより、溶液を調製した。
(Preparation of azeotropic mixture (A))
Production Example 1
In a 200 ml eggplant-shaped flask, 20 g of (a1) component: ethylene glycol mono-tert-butyl ether (ETB) as a glycol-based compound, and 80 g of (a2) component: ion-exchanged water (hereinafter, simply referred to as water) as water. The solution was prepared by adding and mixing well.

次いで、当該ナス型フラスコに、理論段数N=10に相当する蒸留カラム、ト字管、温度計およびリービッヒ冷却器を接続した。次いで、常圧下、当該ナス型フラスコをオイルバスで加熱し、当該溶液を沸騰させて、沸点100℃以下の留分のみを採取することにより共沸混合物(A)を得た。 Next, a distillation column, a distilling head, a thermometer, and a Liebig condenser corresponding to the theoretical plate number N = 10 were connected to the eggplant-shaped flask. Next, the eggplant-shaped flask was heated in an oil bath under normal pressure, the solution was boiled, and only a fraction having a boiling point of 100 ° C. or lower was collected to obtain an azeotropic mixture (A).

次いで、前記共沸混合物(A)の各成分の組成比(重量%)を、デジタル濃度計PR-201α((株)アタゴ製)を用いて測定した。組成比を表1に示す。 Next, the composition ratio (% by weight) of each component of the azeotropic mixture (A) was measured using a digital densitometer PR-201α (manufactured by Atago Co., Ltd.). The composition ratio is shown in Table 1.

製造例2~6、比較製造例1~5
製造例1において、(a1)成分を表1に示されるものに変更した他は、製造例1と同様にして各種共沸混合物(A)を調製して、各成分の組成比を測定した。
Production Examples 2 to 6, Comparative Production Examples 1 to 5
In Production Example 1, various azeotropic mixtures (A) were prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the component (a1) was changed to that shown in Table 1, and the composition ratio of each component was measured.

<引火点>
各製造例及び比較製造例で得られた共沸混合物(A)について、クリーブランド開放法(JIS K2265-4)に準拠して引火点を測定した。評価結果を表1に示す。
(評価基準)
○:クリーブランド方式で引火しない。
×:クリーブランド方式で引火する。
<Flash point>
The flash point of the azeotropic mixture (A) obtained in each production example and the comparative production example was measured according to the Cleveland opening method (JIS K2265-4). The evaluation results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria)
○: Does not ignite by the Cleveland method.
×: Ignite by the Cleveland method.

<共沸点>
各製造例及び比較製造例で得られた共沸混合物(A)の共沸点については、各製造例及び比較製造例において各溶液を沸騰させた際、発生した蒸気の温度を測定することにより求めた。評価結果を表1に示す。
<Co-boiling point>
The azeotropic point of the azeotropic mixture (A) obtained in each production example and the comparative production example is determined by measuring the temperature of the steam generated when each solution is boiled in each production example and the comparative production example. rice field. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0007052320000001
表1の組成比の単位は重量%である。表1の略語は、以下の通りである。

(化合物の略語及び詳細)
EM:エチレングリコールモノメチルエーテル(東京化成工業(株)製)
EIP:エチレングリコールモノ-iso-プロピルエーテル(東京化成工業(株)製)
ETB:エチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル(東京化成工業(株)製)
DEME:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製)
DEDE:ジエチレングリコールジエチルエーテル(東京化成工業(株)製)
DEMIP:ジエチレングリコールメチル-iso-プロピルエーテル(東京化成工業(株)製)
ENH:エチレングリコールモノ-n-ヘキシルエーテル(東京化成工業(株)製)
DENB:ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(東京化成工業(株)製)
DEMNB:ジエチレングリコールメチル-n-ブチルエーテル(東京化成工業(株)製)
IPA:イソプロパノール(東京化成工業(株)製)
Figure 0007052320000001
The unit of the composition ratio in Table 1 is% by weight. The abbreviations in Table 1 are as follows.

(Abbreviations and details of compounds)
EM: Ethylene glycol monomethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
EIP: Ethylene glycol mono-iso-propyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
ETB: Ethylene glycol mono-tert-butyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DEME: Diethylene glycol ethylmethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DEDE: Diethylene glycol diethyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DEMIP: Diethylene glycol methyl-iso-propyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
ENH: Ethylene glycol mono-n-hexyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DENB: Diethylene glycol mono-n-butyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DENNB: Diethylene glycol methyl-n-butyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
IPA: Isopropanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

(フラックスの調製)
実施例1
製造例1で得られた共沸混合物(A)99.28部に、コハク酸( 東京化成工業(株) 製、以下同様。) を0.72部溶解させることによって、フラックスを調製した。組成を表2に示す。
(Preparation of flux)
Example 1
A flux was prepared by dissolving 0.72 parts of succinic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., the same applies hereinafter) in 99.28 parts of the azeotropic mixture (A) obtained in Production Example 1. The composition is shown in Table 2.

実施例2~14、比較例1~6
表2~4に示す原料組成に変更した他は、実施例1と同様にして各種フラックスを調製した。なお、比較製造例4で得られた共沸混合物(A)’は引火点を有しており、消防法の危険物に該当するため、フラックス調製においては使用しなかった。
Examples 2 to 14, Comparative Examples 1 to 6
Various fluxes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the raw material compositions shown in Tables 2 to 4 were changed. The azeotropic mixture (A)'obtained in Comparative Production Example 4 has a flash point and is classified as a dangerous substance under the Fire Service Act, and therefore was not used in flux preparation.

<フラックス外観>
各実施例及び比較例で得られたフラックスを、25℃で1時間静置させた後、当該フラックスの外観を目視で判定し、以下の基準によって評価した。評価結果を表2~4に示す。
(評価基準)
○:フラックスの外観が均一である。
×:フラックスの外観が白濁又は分離している。
<Appearance of flux>
The fluxes obtained in each Example and Comparative Example were allowed to stand at 25 ° C. for 1 hour, and then the appearance of the flux was visually judged and evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 2-4.
(Evaluation criteria)
◯: The appearance of the flux is uniform.
X: The appearance of the flux is cloudy or separated.

<フラックス濡れ性>
各実施例及び比較例で用いた共沸混合物(A)について、自動表面張力計CBVP-A3(協和界面科学(株)製)を使用し、Wilhelmy法(プレート法)により25℃における表面張力を測定し、該表面張力から以下の評価基準によってフラックスの濡れ性を評価した。評価結果を表2~4に示す。共沸混合物(A)の表面張力が低いほど、本発明のフラックスの濡れ性は高い。
(評価基準)
◎:表面張力が35dyn/cm未満。
○:表面張力が35dyn/cm以上、45dyn/cm未満。
△:表面張力が45dyn/cm以上、55dyn/cm未満。
×:表面張力が55dyn/cm以上。
<Flux wettability>
For the co-boiling mixture (A) used in each Example and Comparative Example, an automatic surface tension meter CBVP-A3 (manufactured by Kyowa Surface Science Co., Ltd.) was used, and the surface tension at 25 ° C. was measured by the Wethelmy method (plate method). The measurement was performed, and the wettability of the flux was evaluated from the surface tension according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Tables 2-4. The lower the surface tension of the azeotropic mixture (A), the higher the wettability of the flux of the present invention.
(Evaluation criteria)
⊚: Surface tension is less than 35 dyn / cm.
◯: Surface tension is 35 dyn / cm or more and less than 45 dyn / cm.
Δ: Surface tension is 45 dyn / cm or more and less than 55 dyn / cm.
X: Surface tension is 55 dyn / cm or more.

<フラックス乾燥性>
各実施例及び比較例で用いた共沸混合物(A)を軟膏缶に1.00g量り取り、80℃に設定した精密恒温器DF-62(ヤマト科学(株)製)の中に静置させ、共沸混合物(A)が完全に揮発するまでの時間(乾燥時間)を測定し、該乾燥時間から以下の評価基準によってフラックスの乾燥性を評価した。評価結果を表2~4に示す。溶剤である共沸混合物(A)の乾燥性が高いなら、本発明のフラックスの乾燥性も高い。
(評価基準)
◎:乾燥時間が25分未満。
○:乾燥時間が25分以上、35分未満。
△:乾燥時間が35分以上、45分未満。
×:乾燥時間が45分以上。
<Flux dryness>
Weigh 1.00 g of the azeotropic mixture (A) used in each Example and Comparative Example into an ointment can and let it stand in a precision thermostat DF-62 (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) set at 80 ° C. The time until the azeotropic mixture (A) was completely volatilized (drying time) was measured, and the drying property of the flux was evaluated from the drying time according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Tables 2-4. If the azeotropic mixture (A), which is a solvent, has a high drying property, the flux of the present invention also has a high drying property.
(Evaluation criteria)
⊚: Drying time is less than 25 minutes.
◯: Drying time is 25 minutes or more and less than 35 minutes.
Δ: Drying time is 35 minutes or more and less than 45 minutes.
X: Drying time is 45 minutes or more.

<はんだ付け性能(はんだブリッジ)>
リードピッチが0.5mm、0.65mmのQFP(Quad Flat Package)部品が搭載されたプリント基板に、各実施例及び比較例で得られたフラックスを0.6g/cm噴霧した。フラックス塗布後のプリント基板を噴流はんだ付け装置でプレヒート及びフローはんだ付けを行い、QFPのブリッジ(はんだブリッジ)の有無にてはんだ付け性能を評価した。評価基準は以下の通りである。評価結果を表2~4に示す。
(フローはんだ付け条件)
プリント基板の大きさ:10cm×15cm
フラックス塗布装置:SPT-300XL(生産技研サービス製)
噴流はんだ付け装置:セルソルダーC250(ヴィクトリー製)
はんだ組成:Sn-0.7Cu-0.05Ni-Ge(ソルダーコート(株)製LLS227N)
フラックス塗布量:0.6g/cm
プレヒート温度:110℃
はんだ付け温度:255℃
はんだ付け時間:3秒
(評価基準)
◎:リードピッチが0.5mm及び0.65mmのQFP部品において、いずれもブリッジが発生しない。
○:リードピッチが0.65mmのQFP部品においてブリッジが発生せず、0.5mmのQFP部品においてブリッジが発生する。
×:リードピッチが0.5mm及び0.65mmのQFP部品において、いずれもブリッジが発生する。
<Soldering performance (solder bridge)>
The flux obtained in each Example and Comparative Example was sprayed at 0.6 g / cm 2 on a printed circuit board on which a QFP (Quad Flat Package) component having a lead pitch of 0.5 mm and 0.65 mm was mounted. The printed circuit board after flux application was preheated and flow-soldered with a jet soldering device, and the soldering performance was evaluated based on the presence or absence of a QFP bridge (solder bridge). The evaluation criteria are as follows. The evaluation results are shown in Tables 2-4.
(Flow soldering conditions)
Printed circuit board size: 10 cm x 15 cm
Flux coating device: SPT-300XL (manufactured by Institute of Industrial Science, Labor and Welfare)
Jet soldering equipment: Cell Solder C250 (manufactured by Victory)
Solder composition: Sn-0.7Cu-0.05Ni-Ge (LLS227N manufactured by Solder Coat Co., Ltd.)
Flux coating amount: 0.6 g / cm 2
Preheat temperature: 110 ° C
Soldering temperature: 255 ° C
Soldering time: 3 seconds (evaluation standard)
⊚: No bridge occurs in any QFP component having a lead pitch of 0.5 mm and 0.65 mm.
◯: No bridge is generated in the QFP component having a lead pitch of 0.65 mm, and a bridge is generated in the QFP component having a lead pitch of 0.5 mm.
X: Bridges occur in both QFP components having lead pitches of 0.5 mm and 0.65 mm.

<はんだ付け性能(はんだボール)>
前記フローはんだ付け後のプリント基板において、飛散しているはんだボールの数を目視で数えて、はんだ付け性能を評価した。評価基準は以下の通りである。評価結果を表2~4に示す。
(評価基準)
◎:はんだボールが3個以下 。
○:はんだボールが4~7個。
×:はんだボールが8個以上。
<Soldering performance (solder ball)>
In the printed circuit board after the flow soldering, the number of scattered solder balls was visually counted to evaluate the soldering performance. The evaluation criteria are as follows. The evaluation results are shown in Tables 2-4.
(Evaluation criteria)
⊚: 3 or less solder balls.
◯: 4 to 7 solder balls.
×: 8 or more solder balls.

<絶縁抵抗性>
JISZ3197に規定されているくし型基板2型に、各実施例及び比較例で得られたフラックスを塗布した。該フラックスを塗布した基板を110℃の乾燥機で5分間乾燥させ、235℃のはんだ浴(金属種:Sn-37Pb)に3秒間浸しはんだ付けを行った。その後、基板を引き上げ、室温まで冷却させた。さらに、該基板を温度85℃、湿度85%の恒温恒湿槽内に放置して、168時間後のフラックス残渣の抵抗値(Ω)を測定して絶縁抵抗性を評価した。評価基準は以下の通りである。評価結果を表2~4に示す。
(評価基準)
○:抵抗値が1.0×10Ω以上。
×:抵抗値が1.0×10Ω未満。
<Insulation resistance>
The flux obtained in each Example and Comparative Example was applied to the comb-shaped substrate 2 type specified in JISZ3197. The substrate coated with the flux was dried in a dryer at 110 ° C. for 5 minutes, and then immersed in a solder bath (metal type: Sn-37Pb) at 235 ° C. for 3 seconds for soldering. Then, the substrate was pulled up and cooled to room temperature. Further, the substrate was left in a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, and the resistance value (Ω) of the flux residue after 168 hours was measured to evaluate the insulation resistance. The evaluation criteria are as follows. The evaluation results are shown in Tables 2-4.
(Evaluation criteria)
◯: The resistance value is 1.0 × 108 Ω or more.
X: The resistance value is less than 1.0 × 108 Ω.

Figure 0007052320000002
Figure 0007052320000002

Figure 0007052320000003
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Figure 0007052320000004

Figure 0007052320000004

表2~4中の配合量の単位は重量部であり、略語及び注釈は、以下の通りである。
(1)界面活性剤。
(2)フラックスが二層に分離したので、他の評価はしなかった。

(化合物の略語及び詳細)
コハク酸:東京化成工業(株) 製
グルタル酸:東京化成工業(株) 製
アジピン酸:東京化成工業(株) 製
KE-604:アクリル化ロジン(酸価236mgKOH/g、荒川化学工業(株)製)
マルキードNo.31:フマル化ロジン(酸価186mgKOH/g、荒川化学工業(株)製)
マルキードNo.33:マレイン化ロジン(酸価303mgKOH/g、荒川化学工業(株)製)
TMHMDA:N,N,N’,N’-テトラメチルヘキサメチレンジアミン(東京化成工業(株) 製)
BIDE:N-ブチルジエタノールアミン(東京化成工業(株) 製)
DBD:trans-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール(ハイケム(株)製)
LDA:ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン(第一工業製薬(株)製)

























The unit of the blending amount in Tables 2 to 4 is the part by weight, and the abbreviations and annotations are as follows.
(1) Surfactant.
(2) Since the flux was separated into two layers, no other evaluation was performed.

(Abbreviations and details of compounds)
Succinic acid: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Glutaric acid: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Adipic acid: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. KE-604: Acrylicized rosin (acid value 236 mgKOH / g, Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) Made)
Marquid No. 31: Rosin fumarated (acid value 186 mgKOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.)
Marquid No. 33: Rosin maleated (acid value 303 mgKOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.)
TMHMDA: N, N, N', N'-tetramethylhexamethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
BIDE: N-butyldiethanolamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
DBD: trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (manufactured by HighChem Co., Ltd.)
LDA: Betaine lauryldimethylaminoacetic acid (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)

























Claims (4)

一般式(1):R-O-[-CH-CH-O]n-R
(式(1)中、nは1又は2の整数を示す。nが1のとき、Rは水素原子を、Rは炭素数1~4のアルキル基を示し、nが2のとき、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)で表される、常圧下の沸点が120~200℃であるグリコール系化合物(a1)、水(a2)及び必要に応じて
一般式(2):R-O-[-CH-CH(CH)-O]n-R
(式(2)中、nは1又は2を示す。nが1のとき、Rは炭素数1~4のアルキル基を、Rは水素原子を示し、nが2のとき、R及びRは独立して炭素数1~3のアルキル基を示す。)で表される、常圧下の沸点が120~200℃であるグリコール系化合物(a3)のみからなる共沸混合物(A)、並びに活性剤(B)を含み、
(A)成分の常圧下の共沸点が90~100℃であり、
(B)成分の含有量が、フラックスにおける重量比率が0.1~5重量%であり、
(B)成分が、分子内に炭素数2~6のアルキレン基又は炭素数2~6のアルケニレン基を有する脂肪族ジカルボン酸である、
はんだ付け用フラックス(ただし、界面活性剤は含まない)。
General formula (1): R 1 -O- [-CH 2 -CH 2 -O] n-R 2
(In the formula (1), n represents an integer of 1 or 2. When n is 1, R 1 represents a hydrogen atom, R 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and when n is 2. R 1 and R 2 independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), a glycol-based compound (a1) having a boiling point of 120 to 200 ° C. under normal pressure, water (a2), and necessary. General formula (2): R 3 -O- [-CH 2 -CH (CH 3 ) -O] n-R 4 according to
(In the formula (2), n represents 1 or 2. When n is 1, R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 4 represents a hydrogen atom, and when n is 2, R 3 And R4 independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and a co-boiling mixture (A) consisting only of a glycol-based compound (a3) having a boiling point of 120 to 200 ° C. under normal pressure. , As well as the activator (B),
(A) The co-boiling point of the component under normal pressure is 90 to 100 ° C.
The content of the component (B) has a weight ratio of 0.1 to 5% by weight in the flux.
The component (B) is an aliphatic dicarboxylic acid having an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms in the molecule.
Flux for soldering (however, surfactant is not included).
(A)成分が(a1)成分及び(a2)成分からなり、(A)成分における(a1)成分、(a2)成分の重量比率が、10~45重量%、55~90重量%である、請求項1に記載のはんだ付け用フラックス。 The component (A) is composed of the component (a1) and the component (a2), and the weight ratios of the component (a1) and the component (a2) in the component (A) are 10 to 45% by weight and 55 to 90% by weight. , The soldering flux according to claim 1. (A)成分における(a1)成分、(a2)成分及び(a3)成分の重量比率が、5~35重量%、30~90重量%、5~35重量%である、請求項1に記載のはんだ付け用フラックス。 The first aspect of the present invention, wherein the weight ratios of the component (a1), the component (a2) and the component (a3) in the component (A) are 5 to 35% by weight, 30 to 90% by weight, and 5 to 35% by weight. Flux for soldering. さらに、ロジン系樹脂(C)及び三級アミン(D)を含む、請求項1~3のいずれかに記載のはんだ付け用フラックス。 The soldering flux according to any one of claims 1 to 3, further comprising a rosin-based resin (C) and a tertiary amine (D).
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