JP7064632B2 - 金属タンタルの製造方法 - Google Patents
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Description
酸素分析は、Eltra ON900分析器を使用して行った。
表面積は、Micromeritics Tristar表面積分析器を使用して測定した。
図3を参照して、タンタル酸塩ペレット35をFFCセル5のカソード30上に載置し、FFCプロセスを用いて650℃の温度で還元した。電解セル5内で使用した塩20は、主に、0.1~1.0重量%の酸化リチウムを含む塩化リチウムであった。セルのアノード40は、溶融亜鉛、又は、還元比較のために炭素を含んでいた。
炭素アノードを使用して、Ca3(CaTa2)O9の38gペレットを金属に還元した。3.5アンペアの電流で277330クーロンを通した。生成したタンタルを回収し、分析し、5.1m2/gの表面積、17000ppmの酸素含有率、及び5719ppmの炭素含有率を有することを見出した。
溶融亜鉛アノードを使用して、Ca3(CaTa2)O9の20gペレットを金属に還元した。2アンペアの電流で42458クーロンを通した。生成したタンタルを回収し、分析し、5.6m2/gの表面積、21000ppmの酸素含有率、及び493ppmの炭素含有率を有することを見出した。炭素含有率は、炭素アノード(実施例1)を使用して生成した比較例よりもかなり低いことが理解され得る。
炭素アノードを使用して、Ca2Ta2O7の38gペレットを金属に還元した。3.5アンペアの電流で270389クーロンを通した。生成したタンタルを回収し、分析し、11.04m2/gの表面積、34000ppmの酸素含有率、及び1817ppmの炭素含有率を有することを見出した。
溶融亜鉛アノードを使用して、Ca2Ta2O7の38gペレットを還元した。3.5アンペアの電流で271492クーロンを通した。生成したタンタルを回収し、分析し、6.74m2/gの表面積、13000ppmの酸素含有率、及び651ppmの炭素含有率を有することを見出した。炭素含有率は、炭素アノード(実施例3)を使用して生成した比較例よりもかなり低いことが理解され得る。
650℃の温度での予備電解作業を経た溶融塩中の溶融電解アノードを使用して、Ca2Ta2O7の20gペレットを金属に還元した。2アンペアの電流で46218クーロンを通した。生成したタンタルは、5.01m2/gの表面積、14000ppmの酸素含有率、及び386ppmの炭素含有率を有していた。この実施例は、実施例4と殆ど同一であるが、炭素含有率は更に低い。これは、塩から残留炭酸塩を除去することによって炭素汚染を更に低減する、塩の予備電解に起因し得る。非常に低い炭素レベルを有するタンタルを生成するためには、タンタル酸塩を導入するのに先立って、塩を電解して、炭素化合物を除去することが有利であり得る。
Claims (28)
- 金属タンタルの製造方法であって、
第一金属のタンタル酸塩を含む前駆体材料を提供し、前記第一金属はアルカリ金属又はアルカリ土類金属である、ステップと、
電解セル内において、前記前駆体材料を溶融塩と接触する状態に配置し、前記電解セルが、前記溶融塩と接触する状態に配置されたアノード及びカソードを更に含んでいる、ステップと、
前記前駆体材料がタンタルに還元されるように、炭素材料を含まない前記アノードと、前記カソードと、の間に電位を加えるステップと、を含む、方法。 - 前記前駆体材料が前記カソードと接触する状態に配置され、前記アノードが溶融第二金属を含み、前記第二金属は、前記第一金属とは異なり、かつ前記前駆体材料の還元中に前記第二金属が溶融状態にあるよう十分低い融点を有し、前記アノードと前記カソードとの間に電位が加えられた際に前記前駆体材料から放出された酸素が、前記アノードにて前記溶融第二金属と反応する、請求項1に記載の方法。
- 前記第二金属が商業的に純粋な金属であり、又は、前記第二金属が合金である、請求項2に記載の方法。
- 前記第二金属が、1000℃未満の融点と、1750℃未満の沸点とを有する、請求項2又は3に記載の方法。
- 前記第二金属が、亜鉛、テルル、ビスマス、鉛、マグネシウム、錫及びアルミニウムからなるリストから選択される任意の金属、又はその合金である、請求項2~4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アノードと前記カソードとの間に前記電位が加えられた際、前記第二金属の一部が前記カソード上に析出され、それにより前記金属タンタルは、一部の前記第二金属を含む、請求項2~5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記金属タンタルから前記第二金属を分離して、0.1重量%未満の前記第二金属を含む生成物を提供する更なるステップを含む、請求項6に記載の方法。
- 還元中に前記前駆体材料から除去された酸素が、前記アノードにて前記溶融第二金属と反応して、前記酸素と前記第二金属との間で酸化物を形成する、請求項2~7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アノードが、固体の、非炭素の酸素放出アノードである、請求項1に記載の方法。
- 前記第一金属がカルシウムであり、前記前駆体材料がタンタル酸カルシウムを含み、又は前記第一金属がリチウムであり、前記前駆体材料がタンタル酸リチウムを含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、タンタルと前記第一金属との間で形成可能な、熱力学的に最も安定なタンタル酸塩を含む、請求項1~10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、化学式Ca3(CaTa2)O9を有するタンタル酸カルシウムを含む、請求項1~11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、前記第一金属のタンタル酸塩からなる、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、前記第一金属の前記タンタル酸塩と酸化タンタルとの混合物、又は前記第一金属の前記タンタル酸塩と金属タンタルとの混合物、又は前記第一金属の前記タンタル酸塩と酸化タンタルと金属タンタルとの混合物である、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融塩が、前記第一金属の塩を含む、請求項1~14のいずれか1項に記載の方法。
- 前記溶融塩がCaCl2を含む、請求項1~15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、粉末、粒塊、若しくは顆粒の形態、又は多孔質ペレット若しくは成形プレフォームの形態である、請求項1~16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第一金属の前記タンタル酸塩を形成する更なるステップを含む、請求項1~17のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第一金属の前記タンタル酸塩が、酸化タンタルと、前記第一金属、又は前記第一金属を含む化合物との間の反応により形成される、請求項18に記載の方法。
- 前記第一金属の前記タンタル酸塩が、タンタル酸カルシウムであり、酸化タンタルとカルシウムとの間の反応により形成される、請求項18に記載の方法。
- 前記第一金属の前記タンタル酸塩が、化学的共沈又はゾルゲル反応により形成される、請求項18に記載の方法。
- 前記酸化タンタルが、所定の平均粒子サイズを有し、又は、前記金属タンタル酸塩を形成するのに先立って、所定の平均粒子サイズを生じるように処理される、請求項19又は20に記載の方法。
- 前記セル内に配置するのに先立って、前記前駆体材料を処理して、所定の前駆体平均粒子サイズ又は所定の前駆体粒子サイズ分布を提供するステップを更に含む、請求項1~22のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、0.1~100マイクロメートルの平均粒子サイズを有する、請求項1~23のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料が、0.5~10マイクロメートルの平均粒子サイズを有する、請求項1~24のいずれか1項に記載の方法。
- 前記前駆体材料の還元中、前記溶融塩が炭素材料と接触していない、請求項1~25のいずれか1項に記載の方法。
- 前記金属タンタルが、250ppm未満の炭素含有率を有する、請求項1~26のいずれか1項に記載の方法。
- 前記金属タンタルをキャパシタに形成する更なるステップを含む、請求項1~27のいずれか1項に記載の方法。
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