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JP7069739B2 - Coil parts and their manufacturing methods - Google Patents
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Description

特許法第30条第2項適用 平成29年8月21日に、Texas Instrumentsに対してサンプルを提供Application of Article 30, Paragraph 2 of the Patent Act On August 21, 2017, a sample was provided to Texas Instruments.

本発明は、コイル部品及びその製造方法に関し、コイルパターンを埋め込む磁性樹脂層を備えたコイル部品及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a coil component and a manufacturing method thereof, and to a coil component provided with a magnetic resin layer in which a coil pattern is embedded and a manufacturing method thereof.

コイルパターンを埋め込む磁性樹脂層を備えたコイル部品として、特許文献1には、焼結フェライトなどの磁性材料からなる磁性基板上に絶縁樹脂層を介して平面スパイラル導体(コイル導体)を形成し、平面スパイラル導体を磁性樹脂層で覆った構造を有するコイル部品が開示されている。 As a coil component provided with a magnetic resin layer for embedding a coil pattern, Patent Document 1 states that a flat spiral conductor (coil conductor) is formed on a magnetic substrate made of a magnetic material such as sintered ferrite via an insulating resin layer. A coil component having a structure in which a flat spiral conductor is covered with a magnetic resin layer is disclosed.

また特許文献2には、薄いフェライト磁性膜の主面に樹脂層又はガラス層を介して平面コイルを形成し、平面コイルの上面を薄いフェライト磁性膜で覆った構造を有し、上下のフェライト磁性膜の一方又は双方がフェライト磁性粉を樹脂バインダで固着した磁性樹脂からなるコイル部品が開示されている。樹脂層又はガラス層は、フェライト磁性膜の表面の凹凸による平面コイル形状の不整合を改善するために設けられる。 Further, Patent Document 2 has a structure in which a flat coil is formed on the main surface of a thin ferrite magnetic film via a resin layer or a glass layer, and the upper surface of the flat coil is covered with a thin ferrite magnetic film. A coil component made of a magnetic resin in which one or both of the films have ferrite magnetic powder fixed with a resin binder is disclosed. The resin layer or the glass layer is provided to improve the inconsistency of the flat coil shape due to the unevenness of the surface of the ferrite magnetic film.

特開2017-79216号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-79216 特開2001-244124号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-244124

特許文献1に記載された従来のコイル部品を薄型化するためには、磁性基板をより薄くする必要があるが、磁性基板を薄くすると割れや欠けが発生しやすくなり、製品の信頼性が低下するため、薄型化には限界がある。また磁気飽和しやすい構造であり、大電流用途には不向きである。 In order to make the conventional coil component described in Patent Document 1 thinner, it is necessary to make the magnetic substrate thinner, but if the magnetic substrate is made thinner, cracks and chips are likely to occur, and the reliability of the product is lowered. Therefore, there is a limit to thinning. In addition, it has a structure that tends to be magnetically saturated, and is not suitable for high current applications.

また、特許文献2に記載された従来のコイル部品は、コイル素子を構成する導体パターンの表裏を薄いフェライト磁性膜で覆うことでコイル部品を薄くすることが可能であるが、コイルの特性を維持しながら反りを抑制することが難しいという問題がある。 Further, in the conventional coil component described in Patent Document 2, the coil component can be thinned by covering the front and back of the conductor pattern constituting the coil element with a thin ferrite magnetic film, but the characteristics of the coil are maintained. However, there is a problem that it is difficult to suppress the warp.

したがって、本発明の目的は、薄型であってもコイルの特性を維持しながら反りを抑制することが可能なコイル部品を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a coil component capable of suppressing warpage while maintaining the characteristics of the coil even if it is thin.

上記課題を解決するため、本発明によるコイル部品は、第1主面とその反対側に第2主面を有する絶縁ギャップ層と前記絶縁ギャップ層の前記第1主面上に形成された複数の導体層と層間絶縁層とが交互に積層されたコイル部と、前記絶縁ギャップ層の前記第1主面側から前記コイル部及び前記絶縁ギャップ層を覆う第1磁性樹脂層と、前記絶縁ギャップ層の前記第2主面側から前記絶縁ギャップ層を覆う第2磁性樹脂層とを備え、前記絶縁ギャップ層は、弾性率が互いに異なる第1絶縁樹脂層及び第2絶縁樹脂層を含むことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the coil component according to the present invention has an insulating gap layer having a first main surface and a second main surface on the opposite side thereof, and a plurality of coil parts formed on the first main surface of the insulating gap layer. A coil portion in which conductor layers and interlayer insulating layers are alternately laminated, a first magnetic resin layer covering the coil portion and the insulating gap layer from the first main surface side of the insulating gap layer, and the insulating gap layer. A second magnetic resin layer covering the insulating gap layer is provided from the second main surface side of the above, and the insulating gap layer includes a first insulating resin layer and a second insulating resin layer having different elastic ratios from each other. And.

本発明によれば、コイル部を挟む第1磁性樹脂層と第2磁性樹脂層との間に弾性率が異なる2層の絶縁樹脂層が設けられているので、コイル部品の総厚が薄くても、コイルの特性を維持しながら部品の反りを抑えることができる。 According to the present invention, since the two insulating resin layers having different elastic moduli are provided between the first magnetic resin layer and the second magnetic resin layer sandwiching the coil portion, the total thickness of the coil parts is thin. However, it is possible to suppress the warp of parts while maintaining the characteristics of the coil.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層は、前記第2絶縁樹脂層よりも前記コイル部側に位置し、前記第1絶縁樹脂層の弾性率は、前記第2絶縁樹脂層の弾性率よりも小さいことが好ましい。これにより、コイル部品の特性を維持しながら反りを抑えることができる。また、コイル部を形成する際のエッチング工程において層間絶縁層と絶縁ギャップ層との間に隙間が発生してコイルパターンがエッチャントに侵食されることがなく、製品不良を防止することができる。また、コイル部品の製造工程において、製造途中のコイル部品をキャリア基板から容易に剥離することができ、コイル部の表裏が磁性樹脂層で覆われたコイル部品を容易に製造することができる。 In the present invention, the first insulating resin layer is located closer to the coil portion than the second insulating resin layer, and the elastic modulus of the first insulating resin layer is higher than the elastic modulus of the second insulating resin layer. Small is preferable. As a result, warpage can be suppressed while maintaining the characteristics of the coil parts. Further, in the etching process when forming the coil portion, a gap is generated between the interlayer insulating layer and the insulating gap layer, and the coil pattern is not eroded by the etchant, so that product defects can be prevented. Further, in the coil component manufacturing process, the coil component in the process of being manufactured can be easily peeled off from the carrier substrate, and the coil component whose front and back surfaces of the coil portion are covered with a magnetic resin layer can be easily manufactured.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層の熱膨張率は、前記第2絶縁樹脂層の熱膨張率よりも大きいことが好ましい。これによれば、コイル部を形成する際のエッチング工程において層間絶縁層と絶縁ギャップ層との間に隙間が発生する確率を低減することができ、絶縁信頼性の向上を図ることができる。 In the present invention, the coefficient of thermal expansion of the first insulating resin layer is preferably larger than the coefficient of thermal expansion of the second insulating resin layer. According to this, it is possible to reduce the probability that a gap is generated between the interlayer insulating layer and the insulating gap layer in the etching process when forming the coil portion, and it is possible to improve the insulating reliability.

本発明において、前記第2絶縁樹脂層は、イミド結合を有する絶縁樹脂であることが好ましい。これによれば、コイル部品をキャリア基板上で加工した後、キャリア基板から容易に熱剥離することができる。 In the present invention, the second insulating resin layer is preferably an insulating resin having an imide bond. According to this, after the coil component is processed on the carrier substrate, it can be easily thermally peeled off from the carrier substrate.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層は、前記層間絶縁層と同じ材料からなることが好ましい。これによれば、第2絶縁樹脂層と層間絶縁層との接着性を高めることができ、層間絶縁層と絶縁ギャップ層との間に隙間が発生する確率を低減することができる。 In the present invention, the first insulating resin layer is preferably made of the same material as the interlayer insulating layer. According to this, the adhesiveness between the second insulating resin layer and the interlayer insulating layer can be enhanced, and the probability that a gap is generated between the interlayer insulating layer and the insulating gap layer can be reduced.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層の厚みは、前記第2絶縁樹脂層の厚みよりも厚いことが好ましい。この場合において、前記第2絶縁樹脂層の厚みは0.5~6μmであり、前記第1絶縁樹脂層の厚みは7~30μmであることが好ましい。これによれば、コイル部品の特性を維持しながら反りを抑えることができる。また、製造途中のコイル部品のキャリア基板からの熱剥離を容易にすると共に、第2絶縁樹脂層と層間絶縁層との接着性を高めてコイル部の絶縁信頼性を高めることができる。 In the present invention, the thickness of the first insulating resin layer is preferably thicker than the thickness of the second insulating resin layer. In this case, the thickness of the second insulating resin layer is preferably 0.5 to 6 μm, and the thickness of the first insulating resin layer is preferably 7 to 30 μm. According to this, it is possible to suppress the warp while maintaining the characteristics of the coil component. In addition, it is possible to facilitate thermal separation of the coil component during manufacturing from the carrier substrate, and to improve the adhesiveness between the second insulating resin layer and the interlayer insulating layer to improve the insulation reliability of the coil portion.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層は、前記コイル部の少なくとも内径領域と平面視で重なる領域内の一部に開口部を有し、前記第1磁性樹脂層の一部は前記第1絶縁樹脂層の前記開口部内に埋め込まれていることが好ましい。この構成によれば、コイル部の内径領域に形成された磁性コアの透磁率を高めることができる。 In the present invention, the first insulating resin layer has an opening in a part of a region overlapping with at least an inner diameter region of the coil portion in a plan view, and a part of the first magnetic resin layer is the first insulating. It is preferably embedded in the opening of the resin layer. According to this configuration, the magnetic permeability of the magnetic core formed in the inner diameter region of the coil portion can be increased.

また、本発明によるコイル部品の製造方法は、一方の主面に第2絶縁樹脂層が形成されたキャリア基板を用意し、前記第2絶縁樹脂層上に前記第2絶縁樹脂層よりも弾性率が小さい第1絶縁樹脂層を形成する工程と、前記第1絶縁樹脂層上に複数の導体層と層間絶縁層とが交互に積層されたコイル部を形成する工程と、前記キャリア基板の前記一方の主面側から前記コイル部を覆うように第1磁性樹脂層を形成する工程と、前記第2絶縁樹脂層から前記キャリア基板を剥離する工程と、前記第2絶縁樹脂層上に第2磁性樹脂層を形成する工程とを備えることを特徴とする。 Further, in the method for manufacturing a coil component according to the present invention, a carrier substrate having a second insulating resin layer formed on one main surface is prepared, and the elasticity of the second insulating resin layer is higher than that of the second insulating resin layer. A step of forming a first insulating resin layer having a small size, a step of forming a coil portion in which a plurality of conductor layers and an interlayer insulating layer are alternately laminated on the first insulating resin layer, and one of the carrier substrates. A step of forming the first magnetic resin layer so as to cover the coil portion from the main surface side of the above, a step of peeling the carrier substrate from the second insulating resin layer, and a second magnetic force on the second insulating resin layer. It is characterized by comprising a step of forming a resin layer.

本発明によれば、コイル部の両側が磁性樹脂層で覆われた薄型なコイル部品を製造することができ、コイル部品の総厚が薄くても、コイルの特性を維持しながら部品の反りを抑えることができる。 According to the present invention, it is possible to manufacture a thin coil component in which both sides of the coil portion are covered with a magnetic resin layer, and even if the total thickness of the coil component is thin, the component can be warped while maintaining the characteristics of the coil. It can be suppressed.

本発明において、前記コイル部を形成する工程は、前記導体層の不要部分をエッチングにより除去する工程を含むことが好ましい。また、前記キャリア基板が透明基板であり、前記第2絶縁樹脂層からキャリア基板を剥離する工程は、前記キャリア基板を通して前記第2絶縁樹脂層にレーザーを照射して前記キャリア基板を熱剥離する工程を含むことが好ましい。これにより、コイルパターンを埋め込む磁性樹脂層を備えた薄型のコイル部品を容易に製造することができる、 In the present invention, the step of forming the coil portion preferably includes a step of removing an unnecessary portion of the conductor layer by etching. Further, the carrier substrate is a transparent substrate, and the step of peeling the carrier substrate from the second insulating resin layer is a step of irradiating the second insulating resin layer with a laser through the carrier substrate to thermally peel the carrier substrate. It is preferable to include. This makes it possible to easily manufacture a thin coil component provided with a magnetic resin layer for embedding a coil pattern.

本発明において、前記第1絶縁樹脂層を形成する工程は、前記コイル部の少なくとも内径領域と平面視で重なる前記第1絶縁樹脂層の一部を選択的に除去して開口部を形成する工程を含み、前記第1磁性樹脂層を形成する工程は、前記第1絶縁樹脂層の前記開口部内に前記第1磁性樹脂層を埋め込む工程を含むことが好ましい。これにより、コイル部の内径領域に形成された磁性コアの透磁率を高めることができる。またコイル部の内径領域における絶縁ギャップ層を薄くすることができ、コイル部品のインダクタンス特性を向上させることができる。 In the present invention, the step of forming the first insulating resin layer is a step of selectively removing a part of the first insulating resin layer that overlaps with at least the inner diameter region of the coil portion in a plan view to form an opening. The step of forming the first magnetic resin layer preferably includes a step of embedding the first magnetic resin layer in the opening of the first insulating resin layer. As a result, the magnetic permeability of the magnetic core formed in the inner diameter region of the coil portion can be increased. Further, the insulating gap layer in the inner diameter region of the coil portion can be thinned, and the inductance characteristics of the coil component can be improved.

本発明によれば、薄型であってもコイルの特性を維持しながら反りを抑制することが可能なコイル部品を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a coil component capable of suppressing warpage while maintaining the characteristics of the coil even if it is thin.

図1は、本発明の好ましい実施形態によるコイル部品の外観を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a coil component according to a preferred embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施の形態によるコイル部品の構造を示す側面断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing the structure of a coil component according to the first embodiment of the present invention. 図3(a)~(d)は、4層構造のコイル部の各層の平面レイアウト図である。3 (a) to 3 (d) are plan layout views of each layer of the coil portion having a four-layer structure. 図4(a)~(g)は、第1の実施の形態によるコイル部品の製造工程を説明するための工程図である。4 (a) to 4 (g) are process diagrams for explaining the manufacturing process of the coil component according to the first embodiment. 図5(a)~(d)は、第1の実施の形態によるコイル部品の製造工程を説明するための工程図である。5 (a) to 5 (d) are process diagrams for explaining the manufacturing process of the coil component according to the first embodiment. 図6(a)~(c)は、第1の実施の形態によるコイル部品の製造工程を説明するための工程図である。6 (a) to 6 (c) are process diagrams for explaining the manufacturing process of the coil component according to the first embodiment. 図7(a)~(d)は、第1の実施の形態によるコイル部品の製造工程を説明するための工程図である。7 (a) to 7 (d) are process diagrams for explaining the manufacturing process of the coil component according to the first embodiment. 図8(a)及び(b)は、第2絶縁樹脂層の作用を説明するための断面図である。8 (a) and 8 (b) are cross-sectional views for explaining the action of the second insulating resin layer. 図9は、本発明の第2の実施の形態によるコイル部品の構造を示す側面断面図である。FIG. 9 is a side sectional view showing the structure of the coil component according to the second embodiment of the present invention. 図10(a)及び(b)は、第2の実施の形態によるコイル部品の製造工程の一部を示す工程図である。10 (a) and 10 (b) are process diagrams showing a part of the manufacturing process of the coil component according to the second embodiment.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の好ましい実施形態によるコイル部品の外観を示す斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a coil component according to a preferred embodiment of the present invention.

本実施形態によるコイル部品10は電源回路用のインダクタとして用いることが好適な表面実装型のチップ部品であり、図1に示すように、第1及び第2磁性樹脂層11,12を有する。第1及び第2磁性樹脂層11,12には、後述するコイルパターンが埋め込まれており、コイルパターンの一端が第1の外部端子E1に接続され、コイルパターンの他端が第2の外部端子E2に接続される。但し、本発明によるコイル部品が表面実装型のチップ部品であることは必須でなく、回路基板に埋め込むタイプのチップ部品であっても構わない。 The coil component 10 according to the present embodiment is a surface mount type chip component suitable to be used as an inductor for a power supply circuit, and has first and second magnetic resin layers 11 and 12 as shown in FIG. A coil pattern described later is embedded in the first and second magnetic resin layers 11 and 12, one end of the coil pattern is connected to the first external terminal E1, and the other end of the coil pattern is the second external terminal. Connected to E2. However, it is not essential that the coil component according to the present invention is a surface mount type chip component, and a chip component of a type embedded in a circuit board may be used.

第1及び第2磁性樹脂層11,12は、金属磁性粒子を含有する樹脂からなる複合部材であり、コイルパターンに電流を流すことによって生じる磁束の磁路を構成する。金属磁性粒子としては、パーマロイ系材料を用いることが好適である。また、樹脂としては、液状又は粉体である半硬化状態のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。第1及び第2磁性樹脂層11,12は、互いに同じ材料からなるものであっても構わないし、互いに異なる材料からなるものであっても構わない。第1及び第2磁性樹脂層11,12の材料として互いに同じ材料を用いれば、材料コストを低減することが可能となる。 The first and second magnetic resin layers 11 and 12 are composite members made of a resin containing metal magnetic particles, and form a magnetic path of magnetic flux generated by passing a current through a coil pattern. As the metal magnetic particles, it is preferable to use a permalloy-based material. Further, as the resin, it is preferable to use a semi-cured epoxy resin which is a liquid or powder. The first and second magnetic resin layers 11 and 12 may be made of the same material or may be made of different materials. If the same materials are used for the first and second magnetic resin layers 11 and 12, the material cost can be reduced.

本実施形態によるコイル部品10は、一般的な積層コイル部品とは異なり、積層方向であるz方向が回路基板と平行となるよう立てて実装される。具体的には、xz面を構成する面が実装面S1として用いられる。そして、実装面S1には、第1の外部端子E1及び第2の外部端子E2が設けられる。第1の外部端子E1は、実装面S1からyz面を構成する側面S2に亘って連続的に形成され、第2の外部端子E2は、実装面S1からyz面を構成する側面S3に亘って連続的に形成される。 Unlike a general laminated coil component, the coil component 10 according to the present embodiment is mounted upright so that the z direction, which is the stacking direction, is parallel to the circuit board. Specifically, the surface constituting the xz surface is used as the mounting surface S1. The mounting surface S1 is provided with a first external terminal E1 and a second external terminal E2. The first external terminal E1 is continuously formed from the mounting surface S1 to the side surface S2 constituting the yz surface, and the second external terminal E2 extends from the mounting surface S1 to the side surface S3 forming the yz surface. Formed continuously.

図2は、本発明の第1の実施の形態によるコイル部品10の構造を示す側面断面図である。 FIG. 2 is a side sectional view showing the structure of the coil component 10 according to the first embodiment of the present invention.

図2に示すように、第1及び第2磁性樹脂層11,12の積層体の内部にはコイル部20が埋め込まれている。コイル部20は4層の導体層41~44を有しており、各導体層は約3ターンの平面スパイラル形状のコイルパターンCを有している。これにより、コイルパターンCの合計ターン数は約12ターンとなる。また、各層のコイルパターンCの表面は、絶縁ギャップ層30及び層間絶縁層51~54によって覆われ、これによって第1及び第2磁性樹脂層11,12との接触が防止されている。 As shown in FIG. 2, the coil portion 20 is embedded inside the laminated body of the first and second magnetic resin layers 11 and 12. The coil portion 20 has four conductor layers 41 to 44, and each conductor layer has a coil pattern C having a plane spiral shape of about 3 turns. As a result, the total number of turns of the coil pattern C becomes about 12 turns. Further, the surface of the coil pattern C of each layer is covered with the insulating gap layer 30 and the interlayer insulating layers 51 to 54, whereby contact with the first and second magnetic resin layers 11 and 12 is prevented.

第1磁性樹脂層11は、コイル軸方向(z方向)における一方側からコイル部20を覆っており、コイル部20に囲まれた内径領域22、コイル部20を囲む外周領域23、並びに、コイル部20のコイル軸方向の一方側の上部領域24に設けられている。一方、第2磁性樹脂層12は、コイル軸方向(z方向)における他方側からコイル部20を覆っており、コイル部20を覆う下部領域21に設けられている。 The first magnetic resin layer 11 covers the coil portion 20 from one side in the coil axial direction (z direction), and has an inner diameter region 22 surrounded by the coil portion 20, an outer peripheral region 23 surrounding the coil portion 20, and a coil. The portion 20 is provided in the upper region 24 on one side in the coil axial direction. On the other hand, the second magnetic resin layer 12 covers the coil portion 20 from the other side in the coil axial direction (z direction), and is provided in the lower region 21 covering the coil portion 20.

第1磁性樹脂層11と第2磁性樹脂層12との間には、絶縁ギャップ層30が設けられている。絶縁ギャップ層30は樹脂などの非磁性材料からなり、第1磁性樹脂層11と第2磁性樹脂層12との間に磁気ギャップを形成することによって、磁気飽和を防止する役割を果たす。第1磁性樹脂層11は絶縁ギャップ層30の表面30a側に設けられており、第2磁性樹脂層12は絶縁ギャップ層30の裏面30b側に設けられている。 An insulating gap layer 30 is provided between the first magnetic resin layer 11 and the second magnetic resin layer 12. The insulating gap layer 30 is made of a non-magnetic material such as a resin, and plays a role of preventing magnetic saturation by forming a magnetic gap between the first magnetic resin layer 11 and the second magnetic resin layer 12. The first magnetic resin layer 11 is provided on the front surface 30a side of the insulating gap layer 30, and the second magnetic resin layer 12 is provided on the back surface 30b side of the insulating gap layer 30.

本実施形態による絶縁ギャップ層30は2層構造であって、第1磁性樹脂層11側に設けられた第1絶縁樹脂層31と、第2磁性樹脂層12側に設けられた第2絶縁樹脂層32とを有している。 The insulating gap layer 30 according to the present embodiment has a two-layer structure, and is a first insulating resin layer 31 provided on the first magnetic resin layer 11 side and a second insulating resin provided on the second magnetic resin layer 12 side. It has a layer 32.

第2絶縁樹脂層32は、磁気ギャップとしての役割を果たすだけでなく、製造途中のコイル部品(中間体)のキャリア基板からの熱剥離を容易にする役割を果たすものである。そのため、第2絶縁樹脂層32には、弾性率が低く熱膨張率が高い材料を用いることが好ましい。具体的には、第2絶縁樹脂層32には、ポリイミド樹脂に代表されるイミド結合を有する絶縁樹脂を用いることが好ましい。 The second insulating resin layer 32 not only serves as a magnetic gap, but also serves to facilitate thermal separation of the coil component (intermediate body) during manufacturing from the carrier substrate. Therefore, it is preferable to use a material having a low elastic modulus and a high coefficient of thermal expansion for the second insulating resin layer 32. Specifically, it is preferable to use an insulating resin having an imide bond typified by a polyimide resin for the second insulating resin layer 32.

一方、第1絶縁樹脂層31は、磁気ギャップとしての役割を果たすだけでなく、コイルの特性を維持しながらコイル部品10の反りを抑制する役割を果たすものである。また第1絶縁樹脂層31は、導体層41~44の不要部分のエッチング時にコイルパターンCまでもがエッチングされてしまうことによってコイル特性が低下することを防止する役割を果たすものである。そのため、第1絶縁樹脂層31の弾性率は第2絶縁樹脂層32よりも小さく、第1絶縁樹脂層31の熱膨張率は第2絶縁樹脂層32よりも大きいことが好ましい。例えば、第2絶縁樹脂層32の弾性率が5.3Gpaであるのに対して、第1絶縁樹脂層31の弾性率は3.5Gpaであることが好ましい。また、第2絶縁樹脂層32の熱膨張率が17ppmであるのに対して、第1絶縁樹脂層31の熱膨張率は60ppmであることが好ましい。 On the other hand, the first insulating resin layer 31 not only serves as a magnetic gap, but also plays a role of suppressing warpage of the coil component 10 while maintaining the characteristics of the coil. Further, the first insulating resin layer 31 plays a role of preventing the coil characteristics from being deteriorated due to the etching of even the coil pattern C when the unnecessary portions of the conductor layers 41 to 44 are etched. Therefore, it is preferable that the elastic modulus of the first insulating resin layer 31 is smaller than that of the second insulating resin layer 32, and the thermal expansion coefficient of the first insulating resin layer 31 is larger than that of the second insulating resin layer 32. For example, the elastic modulus of the second insulating resin layer 32 is preferably 5.3 Gpa, whereas the elastic modulus of the first insulating resin layer 31 is preferably 3.5 Gpa. Further, the coefficient of thermal expansion of the second insulating resin layer 32 is preferably 17 ppm, whereas the coefficient of thermal expansion of the first insulating resin layer 31 is preferably 60 ppm.

第1絶縁樹脂層31の厚みは、第2絶縁樹脂層32よりも厚いことが好ましい。例えば、第2絶縁樹脂層32の厚みが0.5~6μmであるのに対して、第1絶縁樹脂層31の厚みは7~30μmであることが好ましい。これにより、コイルの特性を維持しながら反りを抑えることができる。また、製造途中のコイル部品10のキャリア基板からの熱剥離を容易にすると共に、第1絶縁樹脂層31と層間絶縁層51との接着性を高めてコイル部20の絶縁信頼性を高めることができる。 The thickness of the first insulating resin layer 31 is preferably thicker than that of the second insulating resin layer 32. For example, the thickness of the second insulating resin layer 32 is preferably 0.5 to 6 μm, while the thickness of the first insulating resin layer 31 is preferably 7 to 30 μm. As a result, warpage can be suppressed while maintaining the characteristics of the coil. Further, it is possible to facilitate heat separation of the coil component 10 during manufacturing from the carrier substrate and to improve the adhesiveness between the first insulating resin layer 31 and the interlayer insulating layer 51 to improve the insulation reliability of the coil portion 20. can.

第1絶縁樹脂層31の材料は層間絶縁層51~54と同じであることが好ましい。第1絶縁樹脂層31は層間絶縁層51~54と共にコイルパターンCを第1及び第2磁性樹脂層11,12から絶縁分離する役割を果たし、第1絶縁樹脂層31の材料を層間絶縁層51~54と同じにすることで両者の境界部における接合力を高めることができる。したがって、層間絶縁層51と第1絶縁樹脂層31との境界部からエッチャントが侵入してコイルパターンCが侵食されることを防止することができる。 The material of the first insulating resin layer 31 is preferably the same as that of the interlayer insulating layers 51 to 54. The first insulating resin layer 31 plays a role of insulatingly separating the coil pattern C from the first and second magnetic resin layers 11 and 12 together with the interlayer insulating layers 51 to 54, and the material of the first insulating resin layer 31 is the interlayer insulating layer 51. By making it the same as ~ 54, the bonding force at the boundary between the two can be increased. Therefore, it is possible to prevent the etchant from invading from the boundary portion between the interlayer insulating layer 51 and the first insulating resin layer 31 and eroding the coil pattern C.

図3(a)~(d)は、4層構造のコイル部20の各層の平面レイアウト図である。 3 (a) to 3 (d) are plan layout views of each layer of the coil portion 20 having a four-layer structure.

図3(a)~(d)に示すように、コイル部20の1層目のコイルパターンC1の外周端は、第1の外部端子E1に接続されている。また1層目のコイルパターンC1の内周端は、層間絶縁層51を貫通するスルーホール導体41aを介して2層目のコイルパターンC2の内周端に接続されている。2層目のコイルパターンC2の外周端は、層間絶縁層52を貫通するスルーホール導体42aを介して3層目のコイルパターンC3の外周端に接続されており、3層目のコイルパターンC3の内周端は、層間絶縁層53を貫通するスルーホール導体43aを介して4層目のコイルパターンC4の外周端に接続されている。さらに4層目のコイルパターンC4の外周端は、第2の外部端子E2に接続されている。このように、4つのコイルパターンC1~C4は直列に接続されて単一のコイル素子を構成している。 As shown in FIGS. 3A to 3D, the outer peripheral end of the coil pattern C1 of the first layer of the coil portion 20 is connected to the first external terminal E1. Further, the inner peripheral end of the coil pattern C1 of the first layer is connected to the inner peripheral end of the coil pattern C2 of the second layer via a through-hole conductor 41a penetrating the interlayer insulating layer 51. The outer peripheral end of the second layer coil pattern C2 is connected to the outer peripheral end of the third layer coil pattern C3 via a through-hole conductor 42a penetrating the interlayer insulating layer 52, and the third layer coil pattern C3. The inner peripheral end is connected to the outer peripheral end of the fourth layer coil pattern C4 via a through-hole conductor 43a penetrating the interlayer insulating layer 53. Further, the outer peripheral end of the fourth layer coil pattern C4 is connected to the second external terminal E2. In this way, the four coil patterns C1 to C4 are connected in series to form a single coil element.

次に、本実施形態によるコイル部品10の製造方法について説明する。 Next, a method of manufacturing the coil component 10 according to the present embodiment will be described.

図4~図7は、第1の実施の形態によるコイル部品10の製造方法を説明するための工程図である。 4 to 7 are process diagrams for explaining a method of manufacturing the coil component 10 according to the first embodiment.

まず、図4(a)に示すように、所定の強度を有するキャリア基板60を用意し、その上面に第2絶縁樹脂層32を形成する。キャリア基板60の材料については、キャリア基板60からの中間体の剥離し易さの観点から透明なガラス基板を用いることが好ましいが、フェライト基板やシリコン基板などを用いてもよい。また、第2絶縁樹脂層32の形成方法についても特に限定されず、スピンコート法や印刷法によってキャリア基板60の表面に樹脂材料を塗布することによって形成しても構わないし、あらかじめフィルム状に成型した第2絶縁樹脂層32をキャリア基板60に貼り付けても構わない。 First, as shown in FIG. 4A, a carrier substrate 60 having a predetermined strength is prepared, and a second insulating resin layer 32 is formed on the upper surface thereof. As the material of the carrier substrate 60, a transparent glass substrate is preferably used from the viewpoint of easy peeling of the intermediate from the carrier substrate 60, but a ferrite substrate, a silicon substrate, or the like may be used. Further, the method for forming the second insulating resin layer 32 is not particularly limited, and the second insulating resin layer 32 may be formed by applying a resin material to the surface of the carrier substrate 60 by a spin coating method or a printing method, or may be formed into a film in advance. The second insulating resin layer 32 may be attached to the carrier substrate 60.

次に、図4(b)に示すように、第2絶縁樹脂層32の全面に第1絶縁樹脂層31を形成する。第1絶縁樹脂層31形成方法についても特に限定されず、スピンコート法や印刷法によって第1絶縁樹脂層31を形成しても構わないし、あらかじめフィルム状に成型した第1絶縁樹脂層31を貼り付けても構わない。こうしてキャリア基板60上には2層構造の絶縁ギャップ層30が形成される。 Next, as shown in FIG. 4B, the first insulating resin layer 31 is formed on the entire surface of the second insulating resin layer 32. The method for forming the first insulating resin layer 31 is not particularly limited, and the first insulating resin layer 31 may be formed by a spin coating method or a printing method, or the first insulating resin layer 31 molded in a film shape in advance is attached. You can attach it. In this way, the insulating gap layer 30 having a two-layer structure is formed on the carrier substrate 60.

次に、図4(c)~(f)に示すように、絶縁ギャップ層30の表面30a(第1主面)にコイルパターンC1を含む1層目の導体層41を形成する。導体層41の形成では、図4(c)に示すようにスパッタリング法などの薄膜プロセスを用いて下地金属膜40a(シードパターン)を形成した後、図4(d)に示すように、コイルパターンC1のネガパターンからなる感光性永久レジストパターン50a(レジストポスト)を形成する。次いで、図4(e)に示すように、電解メッキ法により下地金属膜40aを所望の膜厚までメッキ成長させ、さらに図4(f)に示すように、アッシングにより感光性永久レジストパターン50aの上端部を除去し、コイルパターンC1の頭出しを行う。 Next, as shown in FIGS. 4C to 4F, a first conductor layer 41 including the coil pattern C1 is formed on the surface 30a (first main surface) of the insulating gap layer 30. In the formation of the conductor layer 41, a base metal film 40a (seed pattern) is formed by using a thin film process such as a sputtering method as shown in FIG. 4 (c), and then a coil pattern is formed as shown in FIG. 4 (d). A photosensitive permanent resist pattern 50a (resist post) composed of a negative pattern of C1 is formed. Next, as shown in FIG. 4 (e), the base metal film 40a is plated and grown to a desired film thickness by an electrolytic plating method, and further, as shown in FIG. 4 (f), the photosensitive permanent resist pattern 50a is formed by ashing. The upper end portion is removed, and the coil pattern C1 is cueed.

次に、図4(g)に示すように、コイルパターンC1の上面を覆うレジストパターン50bを形成する。以上により、レジストパターン50a,50bからなり、コイルパターンC1を取り囲む層間絶縁層51が形成される。 Next, as shown in FIG. 4 (g), a resist pattern 50b covering the upper surface of the coil pattern C1 is formed. As a result, the interlayer insulating layer 51 is formed of the resist patterns 50a and 50b and surrounds the coil pattern C1.

その後、図4(c)~(g)の工程を繰り返すことによって、図5(a)~(c)に示すように、2~4層目の導体層42~44と2~4層目の層間絶縁層52~54とを交互に形成する。 After that, by repeating the steps of FIGS. 4 (c) to 4 (g), as shown in FIGS. 5 (a) to 5 (c), the conductor layers 42 to 44 of the 2nd to 4th layers and the 2nd to 4th layers are formed. Interlayer insulation layers 52 to 54 are alternately formed.

次に、図5(d)に示すように、ドライエッチング又はミリングを行うことにより、コイルパターンC1~C4以外の導体層41~44を選択的に除去する。すなわち、コイルパターンC1~C4の内径領域22及び外周領域23に存在する導体層41~44を部分的に除去する。コイルパターンC1~C4は層間絶縁層51~54に覆われているのでエッチングによって除去されないが、それ以外の導体パターンはエッチングによって除去される。これにより、コイルパターンCに囲まれた内径領域22、並びに、コイルパターンCの外側に位置する外周領域23に空間が形成される。 Next, as shown in FIG. 5D, the conductor layers 41 to 44 other than the coil patterns C1 to C4 are selectively removed by dry etching or milling. That is, the conductor layers 41 to 44 existing in the inner diameter region 22 and the outer peripheral region 23 of the coil patterns C1 to C4 are partially removed. Since the coil patterns C1 to C4 are covered with the interlayer insulating layers 51 to 54, they are not removed by etching, but the other conductor patterns are removed by etching. As a result, a space is formed in the inner diameter region 22 surrounded by the coil pattern C and the outer peripheral region 23 located outside the coil pattern C.

図8(a)及び(b)は、第2絶縁樹脂層32の作用を説明するための断面図である。 8 (a) and 8 (b) are cross-sectional views for explaining the action of the second insulating resin layer 32.

図8(a)に示すように、もし絶縁ギャップ層30が第2絶縁樹脂層32の単層からなり、層間絶縁層51の下端が第2絶縁樹脂層32と接続されている場合には、層間絶縁層51の下端と絶縁ギャップ層30との密着性が不十分となり、コイルパターンC1~C4を積み上げていく過程で層間絶縁層51と絶縁ギャップ層30との境界部にクラックが発生しやすい。そのため、層間絶縁層51~54を選択的に除去する際に層間絶縁層51と第2絶縁樹脂層32との接触界面のわずかな隙間50cから1層目のコイルパターンC1の形成領域内にエッチャントが侵入してコイルパターンC1が浸食されるおそれがある。層間絶縁層51と第2絶縁樹脂層32との界面に隙間が形成されている場合、コイルパターンC1と絶縁樹脂層31との間の絶縁信頼性が低下する。また1層目のコイルパターンC1が浸食された場合にはコイルの電気的特性が直ちに悪化するか、あるいはコイル部品を使用し続けていくうちに悪化して所望の電気的特性が得られなくなる可能性が高い。 As shown in FIG. 8A, if the insulating gap layer 30 is composed of a single layer of the second insulating resin layer 32 and the lower end of the interlayer insulating layer 51 is connected to the second insulating resin layer 32, The adhesion between the lower end of the interlayer insulating layer 51 and the insulating gap layer 30 becomes insufficient, and cracks are likely to occur at the boundary between the interlayer insulating layer 51 and the insulating gap layer 30 in the process of stacking the coil patterns C1 to C4. .. Therefore, when the interlayer insulating layers 51 to 54 are selectively removed, an etchant is formed in the formation region of the coil pattern C1 of the first layer from the slight gap 50c of the contact interface between the interlayer insulating layer 51 and the second insulating resin layer 32. May invade and erode the coil pattern C1. When a gap is formed at the interface between the interlayer insulating layer 51 and the second insulating resin layer 32, the insulation reliability between the coil pattern C1 and the insulating resin layer 31 is lowered. Further, when the coil pattern C1 of the first layer is eroded, the electrical characteristics of the coil may be deteriorated immediately, or may be deteriorated as the coil parts are used continuously, and the desired electrical characteristics may not be obtained. Highly sexual.

しかし、図8(b)に示すように、絶縁ギャップ層30が第1及び第2絶縁樹脂層31,32の2層構造からなり、層間絶縁層51の下端が第1絶縁樹脂層31と接続される場合には、両者の接続界面の密着性を向上させることができ、コイルパターンC1の品質と絶縁信頼性を維持することができる。したがって、コイルの特性を維持して信頼性の高いコイル部品を提供することができる。 However, as shown in FIG. 8B, the insulating gap layer 30 has a two-layer structure of the first and second insulating resin layers 31 and 32, and the lower end of the interlayer insulating layer 51 is connected to the first insulating resin layer 31. If this is the case, the adhesion between the connection interfaces of the two can be improved, and the quality and insulation reliability of the coil pattern C1 can be maintained. Therefore, it is possible to maintain the characteristics of the coil and provide a highly reliable coil component.

次に、図6(a)に示すように、PET樹脂などからなるフィルム11a上に保持された半硬化状態の第1磁性樹脂層11を用意し、第1磁性樹脂層11がコイルパターンCと向かい合うようにキャリア基板60に張り合わせる。これにより、コイルパターンCの内径領域22、外周領域23及び上部領域24に第1磁性樹脂層11が形成される。或いは、導体層41~44の不要部分の除去によって形成された空間に、金属磁性粒子を含有する樹脂からなる半硬化状態の複合部材を印刷法によって埋め込んでも構わない。 Next, as shown in FIG. 6A, a semi-cured first magnetic resin layer 11 held on a film 11a made of PET resin or the like is prepared, and the first magnetic resin layer 11 has a coil pattern C. It is attached to the carrier substrate 60 so as to face each other. As a result, the first magnetic resin layer 11 is formed in the inner diameter region 22, the outer peripheral region 23, and the upper region 24 of the coil pattern C. Alternatively, a semi-cured composite member made of a resin containing metal magnetic particles may be embedded in the space formed by removing unnecessary portions of the conductor layers 41 to 44 by a printing method.

次に、図6(b)に示すように、第1磁性樹脂層11をプレスすることによって、コイルパターンCの内径領域22や外周領域23に生じている隙間を第1磁性樹脂層11によって完全に埋める。 Next, as shown in FIG. 6B, by pressing the first magnetic resin layer 11, the gaps formed in the inner diameter region 22 and the outer peripheral region 23 of the coil pattern C are completely filled by the first magnetic resin layer 11. Fill in.

次に、図6(c)に示すように、フィルム11aを剥離し、接着剤61を介して第1磁性樹脂層11にサポート板62を貼り付けた後、図7(a)に示すようにキャリア基板60を剥離する。これにより、絶縁ギャップ層30の裏面30b(第2主面)が露出した状態となる。尚、サポート板62は、キャリア基板60を剥離する工程における支持部材であり、キャリア基板60を剥離する工程において全体を支持する必要がない場合には、サポート板62を貼り付ける必要はない。 Next, as shown in FIG. 6 (c), the film 11a is peeled off, the support plate 62 is attached to the first magnetic resin layer 11 via the adhesive 61, and then as shown in FIG. 7 (a). The carrier substrate 60 is peeled off. As a result, the back surface 30b (second main surface) of the insulating gap layer 30 is exposed. The support plate 62 is a support member in the process of peeling the carrier substrate 60, and when it is not necessary to support the entire support in the process of peeling the carrier substrate 60, it is not necessary to attach the support plate 62.

キャリア基板60を剥離する方法としては、レーザー照射による熱剥離が好ましいが、機械的な剥離であってもよい。キャリア基板60を熱剥離する場合、キャリア基板60にはガラス基板が好ましく用いられ、キャリア基板60の裏側から第2絶縁樹脂層32に向けてレーザーを照射する。レーザー光はガラス基板を通って第2絶縁樹脂層32に到達し、第2絶縁樹脂層32が急速に加熱されることにより、キャリア基板60との界面において第2絶縁樹脂層32の接着力が低下するので、第2絶縁樹脂層32からキャリア基板60を容易に剥離することができる。 As a method for peeling the carrier substrate 60, thermal peeling by laser irradiation is preferable, but mechanical peeling may be used. When the carrier substrate 60 is thermally peeled off, a glass substrate is preferably used for the carrier substrate 60, and a laser is irradiated from the back side of the carrier substrate 60 toward the second insulating resin layer 32. The laser beam reaches the second insulating resin layer 32 through the glass substrate, and the second insulating resin layer 32 is rapidly heated, so that the adhesive force of the second insulating resin layer 32 is increased at the interface with the carrier substrate 60. Since it is lowered, the carrier substrate 60 can be easily peeled off from the second insulating resin layer 32.

次に、図7(b)に示すようにサポート板62を剥離し、中間体を上下反転させた後、PET樹脂などからなるフィルム12a上に保持された半硬化状態の第2磁性樹脂層12を用意し、第2磁性樹脂層12が絶縁ギャップ層30と向かい合うようにキャリア基板60に張り合わせる。これにより、絶縁ギャップ層30の裏面30bに第1磁性樹脂層11が形成される。 Next, as shown in FIG. 7B, the support plate 62 is peeled off, the intermediate body is turned upside down, and then the second magnetic resin layer 12 in a semi-cured state held on the film 12a made of PET resin or the like. Is prepared, and the second magnetic resin layer 12 is attached to the carrier substrate 60 so as to face the insulating gap layer 30. As a result, the first magnetic resin layer 11 is formed on the back surface 30b of the insulating gap layer 30.

次に、図7(c)に示すように、第1及び第2磁性樹脂層11,12をプレスした後、半硬化状態である第1及び第2磁性樹脂層11,12に熱や紫外線を与えることによって、第1及び第2磁性樹脂層11,12を完全に硬化させる。その後、フィルム12aを剥離する。 Next, as shown in FIG. 7 (c), after pressing the first and second magnetic resin layers 11 and 12, heat and ultraviolet rays are applied to the semi-cured first and second magnetic resin layers 11 and 12. By giving, the first and second magnetic resin layers 11 and 12 are completely cured. After that, the film 12a is peeled off.

そして、図7(d)に示すように、ダイシングによって個片化を行った後、図1に示す外部端子E1,E2を形成すれば、本実施形態によるコイル部品10が完成する。 Then, as shown in FIG. 7D, if the external terminals E1 and E2 shown in FIG. 1 are formed after the individualization by dicing, the coil component 10 according to the present embodiment is completed.

このように、本実施形態によれば、絶縁ギャップ層30を2層の絶縁樹脂層で構成していることから、製造途中のコイル部品のキャリア基板60からの熱剥離を容易にすると共に、層間絶縁層51と絶縁ギャップ層30との接着性を向上させることができる。したがって、不要な導体層をエッチングにより除去する工程(図5(d))において、コイルパターンC1までもがエッチングされてしまう事態を防止することができる。 As described above, according to the present embodiment, since the insulating gap layer 30 is composed of two insulating resin layers, the heat separation of the coil component in the process of manufacturing from the carrier substrate 60 is facilitated, and the layers are layered. The adhesiveness between the insulating layer 51 and the insulating gap layer 30 can be improved. Therefore, in the step of removing the unnecessary conductor layer by etching (FIG. 5D), it is possible to prevent the situation where even the coil pattern C1 is etched.

図9は、本発明の第2の実施の形態によるコイル部品の構造を示す側面断面図である。 FIG. 9 is a side sectional view showing the structure of the coil component according to the second embodiment of the present invention.

図9に示すように、このコイル部品10の特徴は、コイルパターンCの内径領域22及び外周領域23と平面視で重なる領域(破線参照)における第1絶縁樹脂層31の一部に開口部32a,32bがそれぞれ形成されており、開口部32a,32b内に第1磁性樹脂層11の一部が埋め込まれている点にある。そのため、コイルパターンCの内径領域22及び外周領域23に配置された絶縁ギャップ層30の厚さは第1の実施の形態よりも薄くなっている。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。 As shown in FIG. 9, the feature of the coil component 10 is the opening 32a in a part of the first insulating resin layer 31 in the region (see the broken line) overlapping the inner diameter region 22 and the outer peripheral region 23 of the coil pattern C in a plan view. , 32b are formed, respectively, and a part of the first magnetic resin layer 11 is embedded in the openings 32a and 32b. Therefore, the thickness of the insulating gap layer 30 arranged in the inner diameter region 22 and the outer peripheral region 23 of the coil pattern C is thinner than that of the first embodiment. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

図10(a)及び(b)は、第2の実施の形態によるコイル部品の製造工程の一部を示す工程図である。 10 (a) and 10 (b) are process diagrams showing a part of the manufacturing process of the coil component according to the second embodiment.

本実施形態によるコイル部品の製造では、図10(a)に示すように、まず第2絶縁樹脂層32上に第1絶縁樹脂層31を形成した後、図10(b)に示すように第1絶縁樹脂層31をパターニングして内径領域22と重なる領域に開口部32aを形成し、外周領域23と重なる領域に開口部32bを形成する。その後は第1の実施の形態と同様に、コイルパターンC1~C4及び層間絶縁層51~54を交互に形成し、さらに第1及び第2磁性樹脂層11,12を形成することにより、コイル部品10が完成する。本実施形態によるコイル部品10は、コイルパターンCの内径領域22及び外周領域23における絶縁ギャップ層30が薄くなっているので、コイル部品のインダクタンス特性を向上させることができる。 In the manufacture of the coil component according to the present embodiment, as shown in FIG. 10 (a), the first insulating resin layer 31 is first formed on the second insulating resin layer 32, and then the first insulating resin layer 31 is formed as shown in FIG. 10 (b). 1 The insulating resin layer 31 is patterned to form an opening 32a in a region overlapping the inner diameter region 22, and an opening 32b is formed in a region overlapping the outer peripheral region 23. After that, the coil components are formed by alternately forming the coil patterns C1 to C4 and the interlayer insulating layers 51 to 54, and further forming the first and second magnetic resin layers 11 and 12, as in the first embodiment. 10 is completed. In the coil component 10 according to the present embodiment, since the insulation gap layer 30 in the inner diameter region 22 and the outer peripheral region 23 of the coil pattern C is thin, the inductance characteristics of the coil component can be improved.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention, and these are also the present invention. Needless to say, it is included in the range.

例えば、上記実施形態におけるコイル部品は、12ターンのスパイラルパターンからなるコイルパターンCを備えているが、本発明においてコイルパターンの具体的なパターン形状がこれに限定されるものではない。 For example, the coil component in the above embodiment includes a coil pattern C composed of a 12-turn spiral pattern, but the specific pattern shape of the coil pattern is not limited to this in the present invention.

10 コイル部品
11 第1磁性樹脂層
11a フィルム
12 第2磁性樹脂層
12a フィルム
20 コイル部
21 下部領域
22 内径領域
23 外周領域
24 上部領域
30 絶縁ギャップ層
30a 絶縁ギャップ層の表面(第1主面)
30b 絶縁ギャップ層の裏面(第2主面)
31 第1絶縁樹脂層
32 第2絶縁樹脂層
32a,32b 第1絶縁樹脂層の開口部
40a 下地金属膜(シードパターン)
41 1層目の導体層
42 2層目の導体層
43 3層目の導体層
44 4層目の導体層
41a スルーホール導体
42a スルーホール導体
43a スルーホール導体
50a,50b レジストパターン
50c 隙間(クラック)
51 1層目の層間絶縁層
52 2層目の層間絶縁層
53 3層目の層間絶縁層
54 4層目の層間絶縁層
60 キャリア基板
61 接着剤
62 サポート板
C,C1~C4 コイルパターン
E1,E2 外部端子
S1 コイル部品の実装面
S2 コイル部品の側面
S3 コイル部品の側面
10 Coil component 11 1st magnetic resin layer 11a Film 12 2nd magnetic resin layer 12a Film 20 Coil part 21 Lower region 22 Inner diameter region 23 Outer region 24 Upper region 30 Insulation gap layer 30a Surface of insulation gap layer (first main surface)
30b Back surface of insulation gap layer (second main surface)
31 First Insulating Resin Layer 32 Second Insulating Resin Layers 32a, 32b Opening 40a of First Insulating Resin Layer Underlying Metal Film (Seed Pattern)
41 1st layer conductor layer 42 2nd layer conductor layer 43 3rd layer conductor layer 44 4th layer conductor layer 41a Through-hole conductor 42a Through-hole conductor 43a Through-hole conductor 50a, 50b Resist pattern 50c Gap (crack)
51 First interlayer insulating layer 52 Second interlayer insulating layer 53 Third layer interlayer insulating layer 54 Fourth interlayer insulating layer 60 Carrier substrate 61 Adhesive 62 Support plates C, C1 to C4 Coil patterns E1, E2 External terminal S1 Mounting surface of coil component S2 Side surface of coil component S3 Side surface of coil component

Claims (11)

第1主面とその反対側に第2主面を有する絶縁ギャップ層と
前記絶縁ギャップ層の前記第1主面上に形成された複数の導体層と層間絶縁層とが交互に積層されたコイル部と、
前記絶縁ギャップ層の前記第1主面側から前記コイル部及び前記絶縁ギャップ層を覆う第1磁性樹脂層と、
前記絶縁ギャップ層の前記第2主面側から前記絶縁ギャップ層を覆う第2磁性樹脂層とを備え、
前記絶縁ギャップ層は、弾性率が互いに異なる第1絶縁樹脂層及び第2絶縁樹脂層を含み、
前記第1絶縁樹脂層は、前記第2絶縁樹脂層よりも前記コイル部側に位置し、
前記第1絶縁樹脂層の弾性率は、前記第2絶縁樹脂層の弾性率よりも小さいことを特徴とするコイル部品。
A coil in which an insulating gap layer having a first main surface and a second main surface on the opposite side thereof, a plurality of conductor layers formed on the first main surface of the insulating gap layer, and an interlayer insulating layer are alternately laminated. Department and
From the first main surface side of the insulating gap layer to the coil portion and the first magnetic resin layer covering the insulating gap layer,
A second magnetic resin layer covering the insulating gap layer is provided from the second main surface side of the insulating gap layer.
The insulating gap layer includes a first insulating resin layer and a second insulating resin layer having different elastic moduli .
The first insulating resin layer is located closer to the coil portion than the second insulating resin layer.
A coil component characterized in that the elastic modulus of the first insulating resin layer is smaller than the elastic modulus of the second insulating resin layer .
前記第1絶縁樹脂層の熱膨張率は、前記第2絶縁樹脂層の熱膨張率よりも大きい、請求項に記載のコイル部品。 The coil component according to claim 1 , wherein the coefficient of thermal expansion of the first insulating resin layer is larger than the coefficient of thermal expansion of the second insulating resin layer. 前記第2絶縁樹脂層は、イミド結合を有する絶縁樹脂である、請求項1又は2に記載のコイル部品。 The coil component according to claim 1 or 2 , wherein the second insulating resin layer is an insulating resin having an imide bond. 前記第1絶縁樹脂層は、前記層間絶縁層と同じ材料からなる、請求項1乃至のいずれか一項に記載のコイル部品。 The coil component according to any one of claims 1 to 3 , wherein the first insulating resin layer is made of the same material as the interlayer insulating layer. 前記第1絶縁樹脂層の厚みは、前記第2絶縁樹脂層の厚みよりも厚い、請求項1乃至のいずれか一項に記載のコイル部品。 The coil component according to any one of claims 1 to 4 , wherein the thickness of the first insulating resin layer is thicker than the thickness of the second insulating resin layer. 前記第1絶縁樹脂層の厚みは7~30μmであり、前記第2絶縁樹脂層の厚みは0.5~6μmである、請求項に記載のコイル部品。 The coil component according to claim 5 , wherein the thickness of the first insulating resin layer is 7 to 30 μm, and the thickness of the second insulating resin layer is 0.5 to 6 μm. 前記第1絶縁樹脂層は、前記コイル部の少なくとも内径領域と平面視で重なる領域内の一部に開口部を有し、前記第1磁性樹脂層の一部は前記第1絶縁樹脂層の前記開口部内に埋め込まれている、請求項1乃至のいずれか一項に記載のコイル部品。 The first insulating resin layer has an opening in a part of the coil portion that overlaps at least the inner diameter region in a plan view, and a part of the first magnetic resin layer is the first insulating resin layer. The coil component according to any one of claims 1 to 6 , which is embedded in the opening. 一方の主面に第2絶縁樹脂層が形成されたキャリア基板を用意し、前記第2絶縁樹脂層上に前記第2絶縁樹脂層よりも弾性率が小さい第1絶縁樹脂層を形成する工程と、
前記第1絶縁樹脂層上に複数の導体層と層間絶縁層とが交互に積層されたコイル部を形成する工程と、
前記キャリア基板の前記一方の主面側から前記コイル部を覆うように第1磁性樹脂層を形成する工程と、
前記第2絶縁樹脂層から前記キャリア基板を剥離する工程と、
前記第2絶縁樹脂層上に第2磁性樹脂層を形成する工程とを備えることを特徴とするコイル部品の製造方法。
A step of preparing a carrier substrate on which a second insulating resin layer is formed on one main surface and forming a first insulating resin layer having a lower elastic modulus than the second insulating resin layer on the second insulating resin layer. ,
A step of forming a coil portion in which a plurality of conductor layers and an interlayer insulating layer are alternately laminated on the first insulating resin layer.
A step of forming a first magnetic resin layer so as to cover the coil portion from the one main surface side of the carrier substrate, and a step of forming the first magnetic resin layer.
The step of peeling the carrier substrate from the second insulating resin layer and
A method for manufacturing a coil component, which comprises a step of forming a second magnetic resin layer on the second insulating resin layer.
前記コイル部を形成する工程は、前記導体層の不要部分をエッチングにより除去する工程を含む、請求項に記載のコイル部品の製造方法。 The method for manufacturing a coil component according to claim 8 , wherein the step of forming the coil portion includes a step of removing an unnecessary portion of the conductor layer by etching. 前記キャリア基板が透明基板であり、前記第2絶縁樹脂層からキャリア基板を剥離する工程は、前記キャリア基板を通して前記第2絶縁樹脂層にレーザーを照射して前記キャリア基板を熱剥離する工程を含む、請求項8又は9に記載のコイル部品の製造方法。 The carrier substrate is a transparent substrate, and the step of peeling the carrier substrate from the second insulating resin layer includes a step of irradiating the second insulating resin layer with a laser through the carrier substrate to thermally peel the carrier substrate. , The method for manufacturing a coil component according to claim 8 or 9 . 前記第1絶縁樹脂層を形成する工程は、前記コイル部の少なくとも内径領域と平面視で重なる前記第1絶縁樹脂層の一部を選択的に除去して開口部を形成する工程を含み、
前記第1磁性樹脂層を形成する工程は、前記第1絶縁樹脂層の前記開口部内に前記第1磁性樹脂層を埋め込む工程を含む、請求項8乃至10のいずれか一項に記載のコイル部品の製造方法。
The step of forming the first insulating resin layer includes a step of selectively removing a part of the first insulating resin layer that overlaps with at least the inner diameter region of the coil portion in a plan view to form an opening.
The coil component according to any one of claims 8 to 10 , wherein the step of forming the first magnetic resin layer includes a step of embedding the first magnetic resin layer in the opening of the first insulating resin layer. Manufacturing method.
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