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JP7097573B2 - Compounds and organic semiconductor materials containing them - Google Patents
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Description

本発明は、テトラゾロピリジン化合物に関する。詳細には、有機半導体材料に用いることができる新規なテトラゾロピリジン化合物に関する。 The present invention relates to tetrazolopyridine compounds. More specifically, the present invention relates to a novel tetrazolopyridine compound that can be used as an organic semiconductor material.

テトラゾロピリジン化合物は、医薬中間体として知られている。例えば、特許文献1では、6-クロロニコチン酸クロリドを原料としてグリシジル基を有するテトラゾロピリジン化合物を合成している。また非特許文献1では、種々の置換基を有するテトラゾロピリジン化合物が提案されている。 Tetrazolopyridine compounds are known as pharmaceutical intermediates. For example, in Patent Document 1, a tetrazolopyridine compound having a glycidyl group is synthesized using 6-chloronicotinic acid chloride as a raw material. Further, Non-Patent Document 1 proposes a tetrazolopyridine compound having various substituents.

特表2001-526282号公報Special Table 2001-526282 Gazette

John M. Keith、「One-Step Conversion of Pyridine N-Oxides to Tetrazolo[1,5-a]Pyridines」、Journal of Organic Chemistry、2006、71、p.9540-9543John M. Keith, "One-Step Conversion of Pyridine N-Oxides to Tetrazole [1,5-a] Pyridines", Journal of Organic Chemistry, 2006, 71, p. 9540-9543

しかしながら、上記のテトラゾロピリジン化合物を有機半導体材料に用いた場合の効果は知られていなかった。 However, the effect of using the above tetrazolopyridine compound as an organic semiconductor material has not been known.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、テトラゾロピリジン化合物の中でも、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環と縮環した化合物は、LUMO準位を低くでき有機半導体材料として有用であることを見出して、本発明を完成した。As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have fused a tetrazolopyridine compound with a 5-membered heterocycle containing at least one -SO 2- as a ring component. The present invention was completed by finding that the compound can lower the LUMO level and is useful as an organic semiconductor material.

即ち、本発明の化合物は、下記式(1)~(3)のいずれかで表されることを特徴とする。下記式(1)~(3)中、Y1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。That is, the compound of the present invention is characterized by being represented by any of the following formulas (1) to (3). In the following formulas (1) to (3), Y 1 and Y 2 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one -SO 2- as a ring component.

Figure 0007097573000001
Figure 0007097573000001

1及びY2は、それぞれ独立に、下記式(Y1)または(Y2)で表される複素環であることが好ましい。下記式(Y1)または(Y2)中、R1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。p1は0~2の整数、p2は0~1の整数、p3は0~3の整数を表す。*a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。It is preferable that Y 1 and Y 2 are heterocycles independently represented by the following formulas (Y1) or (Y2). In the following formula (Y1) or (Y2), R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or an alkyl halide group. p1 represents an integer of 0 to 2, p2 represents an integer of 0 to 1, and p3 represents an integer of 0 to 3. One of * a and * b is * 1 in the equations (1) to (3), and the other is * 2.

Figure 0007097573000002
Figure 0007097573000002

下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物も本発明の範囲に包含される。下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。Dは、結合手を表す。Compounds having structural units represented by any of the following formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) are also included in the scope of the present invention. In the following formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently have -SO 2- as a ring component. Represents a 5-membered heterocycle containing at least one. D represents a bond.

Figure 0007097573000003
Figure 0007097573000003

前記化合物(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物は、下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)のいずれかで表される化合物であることが好ましい。下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。A1は、置換基を有していてもよい芳香族環を表す。n1及びn2は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。The compounds having a structural unit represented by any of the compounds (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) are the following formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1A). It is preferably a compound represented by any of II-1J). In the following formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently contain at least 1 -SO 2- as a ring component. Represents a 5-membered heterocycle including. A 1 represents an aromatic ring which may have a substituent. n1 and n2 each independently represent an integer of 1 or more. R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.

Figure 0007097573000004
Figure 0007097573000004

本発明には、式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物も含まれる。式(I)中、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。

Figure 0007097573000005
The present invention also includes a polymer compound having a structural unit represented by the formula (I) and one or more donor units. In formula (I), Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one —SO 2- as a ring component.
Figure 0007097573000005

前記ドナー性ユニットは、式(Dn-1)~(Dn-15)のいずれかで表される構造単位であることが好ましい。下記式(Dn-1)~(Dn-15)中、R30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。R31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。*は結合手を表す。The donor unit is preferably a structural unit represented by any of the formulas (Dn-1) to (Dn-15). In the following formulas (Dn-1) to (Dn-15), R 30 independently represents an aliphatic hydrocarbon group. R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group. * Represents a bond.

Figure 0007097573000006
Figure 0007097573000006

前記化合物又は高分子化合物を含む有機半導体材料及び該有機半導体材料を含む有機電子デバイスも本発明の技術的範囲に包含される。 An organic semiconductor material containing the compound or a polymer compound and an organic electronic device containing the organic semiconductor material are also included in the technical scope of the present invention.

本発明の化合物は、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環と縮環したテトラゾロピリジン化合物であるため、LUMO準位を低くでき、有機半導体材料として有用である。Since the compound of the present invention is a tetrazolopyridine compound fused with a 5-membered heterocycle containing at least one -SO 2- as a ring component, the LUMO level can be lowered and it is useful as an organic semiconductor material. be.

以下、本発明について説明する。なお、以下「式(x)で表される化合物」を、単に「化合物(x)」という場合がある。また本発明の化合物には、その互変異性体やそれらの塩も含まれ、以下に例示する各成分及び官能基は、それぞれ単独で、或いは組み合わせて使用できる。 Hereinafter, the present invention will be described. In addition, the "compound represented by the formula (x)" may be simply referred to as "compound (x)" below. The compound of the present invention also includes tautomers thereof and salts thereof, and each component and functional group exemplified below can be used alone or in combination.

1.化合物
本発明の化合物は、下記式(1)、(2)又は(3)で表される。下記式(1)~(3)中、Y1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
1. 1. Compound The compound of the present invention is represented by the following formula (1), (2) or (3). In the following formulas (1) to (3), Y 1 and Y 2 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one -SO 2- as a ring component.

Figure 0007097573000007
Figure 0007097573000007

1又はY2で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。Examples of the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 include a heterocycle represented by the following formula.

Figure 0007097573000008
Figure 0007097573000008

中でも、ジオキソチオフェン環、ジオキソチアゾール環が好ましい。 Of these, a dioxothiophene ring and a dioxothiazole ring are preferable.

1又はY2で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。The heterocycle represented by Y 1 or Y 2 does not have to have a substituent and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; and a halogen. It is also preferable that it is substituted with one or more selected from the alkylated groups.

(ハロゲン原子)
前記ハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、臭素原子が特に好ましい。
(Halogen atom)
As the halogen atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is particularly preferable.

(脂肪族炭化水素基)
前記脂肪族炭化水素基は、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状の場合は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。
(Adipose hydrocarbon group)
The aliphatic hydrocarbon group may be chain-like or cyclic. In the case of a chain, it may be either a linear chain or a branched chain.

前記鎖状脂肪族炭化水素基は、アルキル基;或いはアルケニル基、アルキニル基等の鎖状不飽和脂肪族炭化水素基のいずれであってもよく、アルキル基であることがより好ましい。 The chain aliphatic hydrocarbon group may be any of an alkyl group; or a chain unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as an alkenyl group and an alkynyl group, and is more preferably an alkyl group.

前記鎖状脂肪族炭化水素基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。 The chain aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and further preferably 1 to 20 carbon atoms.

前記アルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基のいずれでもよく、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、1-n-ブチルブチル基、1-n-プロピルペンチル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、3-エチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチル基、6-メチルヘプチル基、2,4,4-トリメチルペンチル基、2,5-ジメチルヘキシル基、n-ノニル基、1-n-プロピルヘキシル基、2-n-プロピルヘキシル基、1-エチルヘプチル基、2-エチルヘプチル基、1-メチルオクチル基、2-メチルオクチル基、6-メチルオクチル基、2,3,3,4-テトラメチルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-デシル基、1-n-ペンチルペンチル基、1-n-ブチルヘキシル基、2-n-ブチルヘキシル基、1-n-プロピルヘプチル基、1-エチルオクチル基、2-エチルオクチル基、1-メチルノニル基、2-メチルノニル基、3,7-ジメチルオクチル基、n-ウンデシル基、1-n-ブチルヘプチル基、2-n-ブチルヘプチル基、1-n-プロピルオクチル基、2-n-プロピルオクチル基、1-エチルノニル基、2-エチルノニル基、n-ドデシル基、1-n-ペンチルヘプチル基、2-n-ペンチルヘプチル基、1-n-ブチルオクチル基、2-n-ブチルオクチル基、1-n-プロピルノニル基、2-n-プロピルノニル基、n-トリデシル基、1-n-ペンチルオクチル基、2-n-ペンチルオクチル基、1-n-ブチルノニル基、2-n-ブチルノニル基、1-メチルデシル基、2-メチルデシル基、n-テトラデシル基、1-n-ヘプチルヘプチル基、1-n-ヘキシルオクチル基、2-n-ヘキシルオクチル基、1-n-ペンチルノニル基、2-n-ペンチルノニル基、n-ペンタデシル基、1-n-ヘプチルオクチル基、1-n-ヘキシルノニル基、2-n-ヘキシルノニル基、n-ヘキサデシル基、2-ヘキシルデシル基、1-n-オクチルオクチル基、1-n-ヘプチルノニル基、2-n-ヘプチルノニル基、n-ヘプタデシル基、1-n-オクチルノニル基、n-オクタデシル基、1-n-ノニルノニル基、n-ノナデシル基、n-エイコシル基、2-オクチルドデシル基、n-ヘンエイコシル基、n-ドコシル基、n-トリコシル基、n-テトラコシル基、2-デシルテトラデシル基等が挙げられる。 The alkyl group may be either a linear or branched alkyl group, and specifically, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, or n. -Hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 1-n-butylbutyl group, 1-n-propylpentyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1 -Methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 6-methylheptyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, 2,5-dimethylhexyl group, n-nonyl group, 1-n-propylhexyl group, 2- n-Propylhexyl group, 1-ethylheptyl group, 2-ethylheptyl group, 1-methyloctyl group, 2-methyloctyl group, 6-methyloctyl group, 2,3,3,4-tetramethylpentyl group, 3 , 5,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 1-n-pentylpentyl group, 1-n-butylhexyl group, 2-n-butylhexyl group, 1-n-propylheptyl group, 1-ethyloctyl Group, 2-ethyloctyl group, 1-methylnonyl group, 2-methylnonyl group, 3,7-dimethyloctyl group, n-undecyl group, 1-n-butylheptyl group, 2-n-butylheptyl group, 1-n -Propyloctyl group, 2-n-propyloctyl group, 1-ethylnonyl group, 2-ethylnonyl group, n-dodecyl group, 1-n-pentylheptyl group, 2-n-pentylheptyl group, 1-n-butyloctyl group Group, 2-n-butyl octyl group, 1-n-propylnonyl group, 2-n-propylnonyl group, n-tridecyl group, 1-n-pentyloctyl group, 2-n-pentyloctyl group, 1-n -Butylnonyl group, 2-n-butylnonyl group, 1-methyldecyl group, 2-methyldecyl group, n-tetradecyl group, 1-n-heptylheptyl group, 1-n-hexyloctyl group, 2-n-hexyloctyl group, 1-n-pentylnonyl group, 2-n-pentylnonyl group, n-pentadecyl group, 1-n-heptyloctyl group, 1-n-hexylnonyl group, 2-n-hexylnonyl group, n-hexadecyl group, 2-Hexyldecyl group, 1-n-octyloctyl group, 1-n-heptylnonyl group, 2-n-heptylnonyl group, n-heptadecyl group, 1-n-octylnonyl group, n-octadecyl group, 1-n- Nonyl Nonyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, 2-octyldodecyl group, Examples thereof include an n-heneicosyl group, an n-docosyl group, an n-tricosyl group, an n-tetracosyl group and a 2-decyltetradecyl group.

前記環状脂肪族炭化水素基(脂環式炭化水素基)は、単環、多環のいずれであってもよい。 The cyclic aliphatic hydrocarbon group (alicyclic hydrocarbon group) may be either monocyclic or polycyclic.

前記脂環式炭化水素基は、シクロアルキル基、或いはシクロアルケニル基、シクロアルキニル基等の不飽和脂環式炭化水素基のいずれであってもよく、シクロアルキル基であることが好ましい。 The alicyclic hydrocarbon group may be either a cycloalkyl group or an unsaturated alicyclic hydrocarbon group such as a cycloalkenyl group or a cycloalkynyl group, and is preferably a cycloalkyl group.

前記脂環式炭化水素基の炭素数は3~20が好ましく、より好ましくは3~14である。 The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 14 carbon atoms.

前記脂環式炭化水素基としては、具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基等の単環式のシクロアルキル基;ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基等の多環式のシクロアルキル基等が挙げられる。 Specific examples of the alicyclic hydrocarbon group include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclononyl group; bicyclohexyl. Examples thereof include a polycyclic cycloalkyl group such as a group, a bicycloheptyl group and a bicyclooctyl group.

(アルコキシ基)
前記アルコキシ基としては、前記アルキル基に-O-が結合した基が挙げられる。
(Alkoxy group)
Examples of the alkoxy group include a group in which —O— is bonded to the alkyl group.

前記アルコキシ基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24である。 The alkoxy group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms.

(ハロゲン化アルキル基)
前記ハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)で置換された基が挙げられる。
(Halogenated alkyl group)
Examples of the halogenated alkyl group include groups in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with a halogen atom (particularly preferably a fluorine atom) such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

前記ハロゲン化アルキル基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。 The alkyl halide group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably 1 to 4 carbon atoms.

前記ハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。 Specific examples of the alkyl halide group include a perfluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group and a nonafluorobutyl group, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.

上記置換基の置換数は、Y1又はY2で表される各複素環につき0、1または2であることが好ましく、0または1であることが特に好ましい。The number of substitutions of the substituent is preferably 0, 1 or 2 for each heterocycle represented by Y 1 or Y 2 , and particularly preferably 0 or 1.

1又はY2で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される環が好ましい。下記式(Y1)または(Y2)中、R1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。p1は0~2の整数、p2は0~1の整数を表す。*a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。As the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 , specifically, a ring represented by the following formula is preferable. In the following formula (Y1) or (Y2), R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or an alkyl halide group. p1 represents an integer of 0 to 2, and p2 represents an integer of 0 to 1. One of * a and * b is * 1 in the equations (1) to (3), and the other is * 2.

Figure 0007097573000009
Figure 0007097573000009

(ハロゲン原子)
前記R1で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
(Halogen atom)
Examples of the halogen atom represented by R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a bromine atom and an iodine atom are preferable.

(脂肪族炭化水素基)
前記R1で表される脂肪族炭化水素基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。
(Adipose hydrocarbon group)
The aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and even more preferably 1 to 20 carbon atoms.

前記R1で表される脂肪族炭化水素基としては、Y1又はY2で表される複素環を置換していてもよい脂肪族炭化水素基と同様の基が挙げられる。Examples of the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 include groups similar to the aliphatic hydrocarbon group in which the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 may be substituted.

(アルコキシ基)
前記R1で表されるアルコキシ基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。
(Alkoxy group)
The alkoxy group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and even more preferably 1 to 20 carbon atoms.

前記R1で表されるアルコキシ基としては、Y1又はY2で表される複素環を置換していてもよいアルコキシ基と同様の基が挙げられる。Examples of the alkoxy group represented by R 1 include groups similar to the alkoxy group in which the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 may be substituted.

(ハロゲン化アルキル基)
前記R1で表されるハロゲン化アルキル基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。
(Halogenated alkyl group)
The alkyl halide group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably 1 to 4 carbon atoms.

前記R1で表されるハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。Specific examples of the alkyl halide group represented by R 1 include a perfluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group and a nonafluorobutyl group, and trifluoro. Methyl groups are particularly preferred.

化合物(1)について詳細に説明する。 Compound (1) will be described in detail.

Figure 0007097573000010
Figure 0007097573000010

式(1)中、Y1及びY2は、下記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。下記式中、R1、p1、p2は上記と同義であり、*1及び*2は、上記式(1)中の*1又は*2に対応する。In the formula (1), Y 1 and Y 2 are preferably heterocycles represented by the following formulas (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1), or (Y2-2). In the following formula, R 1 , p1 and p2 have the same meaning as above, and * 1 and * 2 correspond to * 1 or * 2 in the above formula (1).

Figure 0007097573000011
Figure 0007097573000011

中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環が好ましい。 Of these, the heterocycle represented by the formula (Y1-1) or (Y2-1) is preferable.

また、Y1及びY2は同一であっても同一でなくともよく、同一の複素環であることがより好ましい。Further, Y 1 and Y 2 may or may not be the same, and it is more preferable that they are the same heterocycle.

中でも、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(1-1)、(1-3)、(1-11)、(1-13)、(1-21)、(1-23)、(1-31)、(1-33)がさらに好ましい。 Among them, the compounds shown in the following table are preferable, and the compounds (1-1), (1-3), (1-11), (1-13), (1-21), (1-23), (1-2) are preferable. 31) and (1-33) are more preferable.

Figure 0007097573000012
Figure 0007097573000012

化合物(2)について詳細に説明する。 Compound (2) will be described in detail.

Figure 0007097573000013
Figure 0007097573000013

式(2)中、Y1は、上記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環がより好ましい。即ち、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(2-1)、(2-3)がさらに好ましい。In the formula (2), Y 1 is preferably a heterocycle represented by the above formula (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1), or (Y2-2). Of these, the heterocycle represented by the formula (Y1-1) or (Y2-1) is more preferable. That is, the compounds shown in the table below are preferable, and compounds (2-1) and (2-3) are more preferable.

Figure 0007097573000014
Figure 0007097573000014

化合物(3)について詳細に説明する。 Compound (3) will be described in detail.

Figure 0007097573000015
Figure 0007097573000015

式(3)中、Y2は、上記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環がより好ましい。即ち、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(3-1)、(3-3)がさらに好ましい。In the formula (3), Y 2 is preferably a heterocycle represented by the above formula (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1), or (Y2-2). Of these, the heterocycle represented by the formula (Y1-1) or (Y2-1) is more preferable. That is, the compounds shown in the table below are preferable, and compounds (3-1) and (3-3) are more preferable.

Figure 0007097573000016
Figure 0007097573000016

2.製造方法
本発明の製造方法の概要は、下記スキームで表される。下記スキーム中、Y1及びY2はそれぞれ上記と同義である。また、下記スキーム中、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、環の構成要素としてSを少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
2. 2. Manufacturing Method The outline of the manufacturing method of the present invention is represented by the following scheme. In the following scheme, Y 1 and Y 2 are synonymous with the above. Further, in the following scheme, Z 1 and Z 2 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one S as a component of the ring.

Figure 0007097573000017
Figure 0007097573000017

即ち、本発明の化合物(1)は、化合物(1-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(1-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z1)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 That is, in the compound (1) of the present invention, after the compound (1-X2) is oxidized (oxidation step: step 1), the azido compound is reacted with the obtained compound (1-X1) in the presence of a base. Thereby, the compound (Z1) can be produced (cyclization step (1): step 2) and oxidized (oxidation step: step 21).

同様に、本発明の化合物(2)は、化合物(2-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(2-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z2)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 Similarly, in the compound (2) of the present invention, after the compound (2-X2) is oxidized (oxidation step: step 1), the azido compound is reacted with the obtained compound (2-X1) in the presence of a base. The compound (Z2) can be produced by allowing the compound (Z2) to be produced (cyclization step (1): step 2), and can be produced by oxidizing the compound (Z2) (oxidation step: step 21).

また、本発明の化合物(3)は、化合物(3-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(3-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z3)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 Further, in the compound (3) of the present invention, after the compound (3-X2) is oxidized (oxidation step: step 1), the azido compound is reacted with the obtained compound (3-X1) in the presence of a base. Thereby, the compound (Z3) can be produced (cyclization step (1): step 2) and oxidized (oxidation step: step 21).

1又はZ2で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。Examples of the heterocycle represented by Z 1 or Z 2 include a heterocycle represented by the following formula.

Figure 0007097573000018
Figure 0007097573000018

中でも、チオフェン環、チアゾール環が好ましい。 Of these, the thiophene ring and the thiazole ring are preferable.

1又はZ2で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。The heterocycle represented by Z 1 or Z 2 does not have to have a substituent and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; and a halogen. It is also preferable that it is substituted with one or more selected from the alkylated groups.

上記Z1又はZ2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、上記Y1又はY2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同じものを用いることができる。The halogen atom, the aliphatic hydrocarbon group, the alkoxy group, and the alkyl halide group that replace the heterocycle represented by Z 1 or Z 2 are halogens that replace the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 . The same atoms, aliphatic hydrocarbon groups, alkoxy groups, and alkyl halides can be used.

1又はZ2で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される芳香族環が好ましい。As the heterocycle represented by Z 1 or Z 2 , specifically, an aromatic ring represented by the following formula is preferable.

Figure 0007097573000019
Figure 0007097573000019

式(ZY1)または(ZY2)中、R1、p1、p2は上記と同義であり、*a、*bの一方が式(Z1)~(Z3)における*1であり、他方が*2である。In the formula (ZY1) or (ZY2), R1 , p1 and p2 are synonymous with the above, one of * a and * b is * 1 in the formulas (Z1) to (Z3), and the other is * 2. be.

2-1.酸化工程:工程1
工程1では、上記化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)を得ることができる。
2-1. Oxidation step: Step 1
In step 1, the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1) or (3-X1) or (3-X1) is reacted by reacting the compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2) with an oxidizing agent. X1) can be obtained.

前記化合物(1-X2)、(2-X2)、及び(3-X2)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferred structures of the compounds (1-X2), (2-X2), and (3-X2) correspond to the specific structures and preferred structures of the compounds (1), (2) and (3). do.

前記酸化剤としては、例えば、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)等の過カルボン酸、過酸化水素を用いることができ、過カルボン酸を用いることが好ましい。 As the oxidizing agent, for example, a percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid (mCPBA) or hydrogen peroxide can be used, and it is preferable to use the percarboxylic acid.

前記酸化剤の量は、化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)1モルに対して、0.1モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは0.5モル以上、5モル以下である。 The amount of the oxidizing agent is preferably 0.1 mol or more and 10 mol or less, more preferably 0.5 mol, with respect to 1 mol of the compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2). It is 5 mol or less.

前記酸化工程:工程1における反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール等のアルコール系溶媒;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸系溶媒;水;或いはこれらの混合溶媒;が挙げられ、ハロゲン系溶媒が好ましい。 The oxidation step: Examples of the reaction solvent in step 1 include halogen-based solvents such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane and dichloropropane; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol and n-butanol; acetic acid. , A carboxylic acid solvent such as trifluoroacetic acid; water; or a mixed solvent thereof; and a halogen solvent is preferable.

反応温度は、-80℃以上、60℃以下が好ましく、より好ましくは0℃以上、40℃以下である。 The reaction temperature is preferably −80 ° C. or higher and 60 ° C. or lower, more preferably 0 ° C. or higher and 40 ° C. or lower.

2-2.環化工程:工程2
工程2では、上記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることで、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)を得ることができる。
2-2. Cyclization step: Step 2
In step 2, the compound (Z1), (Z2) or (Z3) is reacted with the above compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1) in the presence of a base by reacting the azide compound with the compound (Z1), (Z2) or (Z3). Can be obtained.

前記化合物(1-X1)、(2-X1)、及び(3-X1)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferred structures of the compounds (1-X1), (2-X1), and (3-X1) correspond to the specific structures and preferred structures of the compounds (1), (2) and (3). do.

前記アジド化合物としては、例えば、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)、ビス(4-ニトロフェニル)ホスホリルアジド等のジアリールホスホリルアジド;トリメチルシリルアジド(TMSA)等のトリアルキルシリルアジド;等の有機アジド化合物及びナトリウムアジドなどの無機アジド化合物が好ましい。 Examples of the azide compound include organic azide compounds such as diphenylphosphoryl azide (DPPA), diarylphosphoryl azide such as bis (4-nitrophenyl) phosphoryl azide; trialkylsilyl azide such as trimethylsilyl azide (TMSA); and sodium azide. Inorganic azide compounds such as are preferred.

前記アジド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、8モル以下、さらに好ましくは1モル以上、5モル以下である。アジド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the azide compound is preferably 0.5 mol or more and 10 mol or less, more preferably 1 mol or more, with respect to 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). , 8 mol or less, more preferably 1 mol or more and 5 mol or less. When the amount of the azide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.

前記有機アジド化合物は、例えば、ポリマー担持されていてもよい。中でも、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)及びトリメチルシリルアジド等のトリアルキルシリルアジド化合物が好ましい。 The organic azide compound may be supported on a polymer, for example. Of these, trialkylsilyl azide compounds such as diphenylphosphoryl azide (DPPA) and trimethylsilyl azide are preferred.

前記アジド化合物として、トリアルキルシリルアジドを用いる場合、さらに、スルホニルハライド化合物又はリン酸ハライド化合物を共存させてもよい。 When a trialkylsilyl azide is used as the azide compound, a sulfonyl halide compound or a phosphoric acid halide compound may be further coexisted.

(スルホニルハライド化合物)
前記スルホニルハライド化合物としては、例えば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、プロパンスルホニルクロリド、イソプロパンスルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペンタンスルホニルクロリド、ヘキサンスルホニルクロリド等のアルキルスルホニルクロリド化合物;ベンゼンスルホニルクロリド、2-メチルベンゼンスルホニルクロリド、3-メチルベンゼンスルホニルクロリド、4-メチルベンゼンスルホニルクロリド、2-クロロベンゼンスルホニルクロリド、3-クロロベンゼンスルホニルクロリド、4-クロロベンゼンスルホニルクロリド、2-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、3-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、4-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、2-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、3-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、4-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、2-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、3-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、4-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、2-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、3-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、4-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド等のアリールスルホニルクロリド化合物;塩化スルフリル;等のスルホニルクロリド化合物;ノナフルオロブタンスルホン酸フルオリド、フェニルスルホン酸フルオリド等のスルホニルフルオリド化合物;等が挙げられる。中でも、スルホニルクロリド化合物が好ましく、アリールスルホニルクロリド化合物がより好ましく、4-メチルベンゼンスルホニルクロリドがさらに好ましい。
(Sulfonyl halide compound)
Examples of the sulfonyl halide compound include alkylsulfonyl chloride compounds such as methanesulfonyl chloride, ethanesulfonyl chloride, propanesulfonyl chloride, isopropanesulfonyl chloride, butanesulfonyl chloride, pentanesulfonyl chloride, and hexanesulfonyl chloride; benzenesulfonyl chloride, 2-. Methylbenzenesulfonyl chloride, 3-methylbenzenesulfonyl chloride, 4-methylbenzenesulfonyl chloride, 2-chlorobenzenesulfonyl chloride, 3-chlorobenzenesulfonyl chloride, 4-chlorobenzenesulfonyl chloride, 2-bromobenzenesulfonyl chloride, 3-bromobenzenesulfonyl chloride , 4-bromobenzenesulfonyl chloride, 2-iodobenzenesulfonyl chloride, 3-iodobenzenesulfonyl chloride, 4-iodobenzenesulfonyl chloride, 2-fluorobenzenesulfonyl chloride, 3-fluorobenzenesulfonyl chloride, 4-fluorobenzenesulfonyl chloride, Arylsulfonyl chloride compounds such as 2-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride, 3-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride, 4-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride; sulfonyl chloride compounds such as sulfryl chloride; Sulfonyl fluoride compounds such as sulfonic acid fluoride; and the like. Among them, a sulfonyl chloride compound is preferable, an arylsulfonyl chloride compound is more preferable, and 4-methylbenzenesulfonyl chloride is further preferable.

前記スルホニルハライド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、20モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、15モル以下、さらに好ましくは1モル以上、13モル以下、特に好ましくは1モル以上、10モル以下である。スルホニルハライド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the sulfonyl halide compound is preferably 0.5 mol or more and 20 mol or less, more preferably 1 mol, with respect to 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). The above is 15 mol or less, more preferably 1 mol or more, 13 mol or less, and particularly preferably 1 mol or more and 10 mol or less. When the amount of the sulfonyl halide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.

(リン酸ハライド化合物)
前記リン酸ハライド化合物としては、例えば、ジメチルホスホリルクロリド、ジエチルホスホリルクロリド、ジプロピルホスホリルクロリド、ジイソプロピルホスホリルクロリド、ジブチルホスホリルクロリド等のジアルキルホスホリルクロリド化合物;ビス(2,2,2-トリクロロエチル)ホスホリルクロリド等のジハロゲン化アルキルホスホリルクロリド化合物;2-クロロ-2-オキソ-1,3,2-ジオキサホスホラン;ジフェニルホスホリルクロリド、ビス(2-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(4-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(2-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(4-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3,5-ジクロロフェニル)ホスホリルクロリド等のジアリールホスホリルクロリド化合物;1,2-フェニレンホスホロクロリデート;等が挙げられる。中でも、ジハロゲン化アルキルホスホリルクロリド化合物、ジアリールホスホリルクロリド化合物が好ましく、ビス(2,2,2-トリクロロエチル)ホスホリルクロリド、ジフェニルホスホリルクロリドがより好ましい。
(Phosphate halide compound)
Examples of the phosphoric acid halide compound include dialkylphosphoryl chloride compounds such as dimethylphosphoryl chloride, diethylphosphoryl chloride, dipropylphosphoryl chloride, diisopropylphosphoryl chloride, and dibutylphosphoryl chloride; bis (2,2,2-trichloroethyl) phosphoryl chloride. Dihalogenated alkyl phosphoryl chloride compounds such as 2-chloro-2-oxo-1,3,2-dioxaphosphorane; diphenylphosphoryl chloride, bis (2-methylphenyl) phosphoryl chloride, bis (3-methylphenyl) phosphoryl Chloride, bis (4-methylphenyl) phosphoryl chloride, bis (3,5-dimethylphenyl) phosphoryl chloride, bis (2-chlorophenyl) phosphoryl chloride, bis (3-chlorophenyl) phosphoryl chloride, bis (4-chlorophenyl) phosphoryl chloride , Diarylphosphoryl chloride compounds such as bis (3,5-dichlorophenyl) phosphoryl chloride; 1,2-phenylene phosphorochloridate; and the like. Of these, dihalogenated alkylphosphoryl chloride compounds and diarylphosphoryl chloride compounds are preferable, and bis (2,2,2-trichloroethyl) phosphoryl chloride and diphenylphosphoryl chloride are more preferable.

前記リン酸ハライド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、20モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、15モル以下、さらに好ましくは1モル以上、13モル以下、特に好ましくは1モル以上、10モル以下である。リン酸ハライド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the phosphate halide compound is preferably 0.5 mol or more and 20 mol or less, more preferably 1 mol, with respect to 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). It is 1 mol or more and 15 mol or less, more preferably 1 mol or more and 13 mol or less, and particularly preferably 1 mol or more and 10 mol or less. When the amount of the phosphoric acid halide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.

前記アジド化合物を反応させる際に共存させる塩基としては、例えば、ピリジン;N-メチルイミダゾール、イミダゾール等のイミダゾール化合物;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属塩化合物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属塩化合物;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、リチウムtert-アミルアルコキシド、ナトリウムtert-アミルアルコキシド、カリウムtert-アミルアルコキシド等のアルコキシアルカリ金属化合物;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化金属化合物;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリアリルアミン、ピリジン、2-メチルピリジン、3-メチルピリジン、4-メチルピリジン、N-メチルモルホリン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチルイミダゾール、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ-7-エンなどの3級アミン;等が挙げられる。中でも、ピリジン、イミダゾール化合物、アルカリ金属塩化合物、3級アミンが好ましく、より好ましくはピリジン、N-メチルイミダゾール、炭酸カリウム、トリエチルアミンであり、さらに好ましくはピリジン、炭酸カリウム、トリエチルアミンである。 Examples of the base coexisting in the reaction of the azido compound include pyridine; imidazole compounds such as N-methylimidazole and imidazole; lithium hydroxide, sodium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate. Alkali metal salt compounds such as cesium carbonate; alkaline earth metal salt compounds such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate; lithium methoxyd, sodium methoxyd, potassium methoxyd, Lithium ethoxide, sodium ethoxydo, potassium ethoxydo, lithium isopropoxide, sodium isopropoxide, potassium isopropoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, potassium tert-butoxide, lithium tert-amylalkoxide, sodium tert -Amethylalkalkoxide, potassium tert-alkoxy alkali metal compounds such as amylalkoxide; hydride metal compounds such as lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride; trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, diisopropylethylamine, tributylamine, tripentyl Amine, trihexylamine, trioctylamine, triallylamine, pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N, N-dimethylaniline, Examples include N-methylimidazole, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeceth-7-ene; and the like. Among them, pyridine, imidazole compound, alkali metal salt compound, tertiary amine are preferable, pyridine, N-methylimidazole, potassium carbonate and triethylamine are more preferable, and pyridine, potassium carbonate and triethylamine are more preferable.

前記塩基の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、8モル以下、さらに好ましくは1モル以上、7モル以下、特に好ましくは1モル以上、5モル以下である。 The amount of the base is preferably 0.5 mol or more and 10 mol or less, more preferably 1 mol or more, with respect to 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). It is 8 mol or less, more preferably 1 mol or more, 7 mol or less, and particularly preferably 1 mol or more and 5 mol or less.

工程2における上記反応時、反応溶媒は用いないことが好ましい。 It is preferable that no reaction solvent is used during the above reaction in step 2.

反応溶媒を用いる場合、反応に影響を及ぼさない範囲で用いることができ、例えば、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。 When a reaction solvent is used, it can be used as long as it does not affect the reaction. For example, an ether solvent, an aromatic solvent, an ester solvent, a hydrocarbon solvent, a halogen solvent, a ketone solvent, or an amide solvent can be used. Etc. can be used.

前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。 Examples of the ether solvent include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyl tetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentylmethyl ether, t-butyl methyl ether, dioxane and the like.

前記芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。 Examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like.

前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Examples of the ester solvent include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate and the like.

前記炭化水素系溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, cyclohexane, heptane and the like.

前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等が挙げられる。 Examples of the halogen-based solvent include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane and the like.

前記ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.

前記アミド系溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジン等が挙げられる。 Examples of the amide-based solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro. -(1H) -pyrimidine and the like can be mentioned.

また、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。 Further, a nitrile solvent such as acetonitrile, a sulfoxide solvent such as dimethyl sulfoxide, and a sulfone solvent such as sulfolane can be used.

反応温度は、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましく、30℃以上、180℃以下がより好ましく、40℃以上、150℃以下がさらに好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and even more preferably 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.

2-3.酸化工程:工程21
工程21では、上記化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(1)、(2)又は(3)を得ることができる。
2-3. Oxidation step: Step 21
In step 21, the compound (1), (2) or (3) can be obtained by reacting the compound (Z1), (Z2) or (Z3) with an oxidizing agent.

前記化合物(Z1)、(Z2)、及び(Z3)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferred structures of the compounds (Z1), (Z2), and (Z3) correspond to the specific and preferred structures of the compounds (1), (2) and (3).

前記酸化剤としては、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)等の過カルボン酸、過酸化水素を用いることができ、過酸化水素を用いることが好ましい。 As the oxidizing agent, a percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid (mCPBA) or hydrogen peroxide can be used, and hydrogen peroxide is preferably used.

前記酸化剤の量は、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)1モルに対して、0.1モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは0.5モル以上、5モル以下である。 The amount of the oxidizing agent is preferably 0.1 mol or more and 10 mol or less, more preferably 0.5 mol or more and 5 mol or less, with respect to 1 mol of the compound (Z1), (Z2) or (Z3). be.

前記酸化工程:工程21における反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール等のアルコール系溶媒;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸系溶媒;水;或いはこれらの混合溶媒;が挙げられ、カルボン酸系溶媒が好ましい。 The oxidation step: Examples of the reaction solvent in step 21 include halogen-based solvents such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane and dichloropropane; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol and n-butanol; acetic acid. , A carboxylic acid solvent such as trifluoroacetic acid; water; or a mixed solvent thereof; and a carboxylic acid solvent is preferable.

反応温度は、0℃以上、120℃以下が好ましく、より好ましくは40℃以上、100℃以下である。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

2-4.化合物(1-X2)、(2-X2)及び(3-X2)の製造
上記化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)としては、市販品を用いてもよいし、下記スキームで表される方法により製造したものを用いてもよい。下記スキーム中、Z1及びZ2はそれぞれ上記と同義である。また、Rx1~Rx12は、環形成用官能基を表す。
2-4. Production of Compounds (1-X2), (2-X2) and (3-X2) As the above-mentioned compounds (1-X2), (2-X2) or (3-X2), commercially available products may be used. , Those manufactured by the method represented by the following scheme may be used. In the following scheme, Z 1 and Z 2 are synonymous with the above, respectively. Further, R x1 to R x12 represent a ring-forming functional group.

Figure 0007097573000020
Figure 0007097573000020

即ち、化合物(1-X2)は、化合物(1-X3)と化合物(1-X4)とを反応させ、さらに酸を反応させることにより製造できる(環化工程(2):工程3)。化合物(2-X2)又は(3-X2)は、化合物(2-X3)又は化合物(3-X3)に酸を反応させることにより製造できる(環化工程(3):工程4)。また、化合物(2-X2)又は(3-X2)は、化合物(2-X4)又は化合物(3-X4)にケトン、カルボン酸誘導体などを反応させることによっても製造できる(環化工程(4):工程5)。 That is, the compound (1-X2) can be produced by reacting the compound (1-X3) with the compound (1-X4) and further reacting with an acid (cyclization step (2): step 3). The compound (2-X2) or (3-X2) can be produced by reacting the compound (2-X3) or the compound (3-X3) with an acid (cyclization step (3): step 4). The compound (2-X2) or (3-X2) can also be produced by reacting the compound (2-X4) or the compound (3-X4) with a ketone, a carboxylic acid derivative, or the like (cyclization step (4). ): Step 5).

前記Rx1~Rx12で表される環形成用官能基は、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;炭素数5~7のアルキル基;-OH;-SH;-NHPx1;又は-Mx1(Lx1kxが好ましく、前記アルキル基に含まれるメチレン基は、-S-、-O-又は-N(Px1)-に置き換わっていてもよく、前記アルキル基に含まれる水素原子は、-OPx2又は-SPx2に置換されていてもよい。The ring-forming functional groups represented by R x1 to R x12 are hydrogen atoms; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; alkyl groups having 5 to 7 carbon atoms; -OH; -SH. -NHP x1 ; or -M x1 (L x1 ) kx is preferable, and the methylene group contained in the alkyl group may be replaced with -S-, -O- or -N (P x1 )-. The hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with -OP x2 or -SP x2 .

x1は、アミノ基の保護基を表し、具体的には、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等のカルバメート系保護基;トリフルオロアセチル基等のアミド系保護基;フタロイル基等のイミド系保護基;p-トルエンスルホニル基、2-ニトロベンゼンスルホニル基等のスルホンアミド系保護基;が挙げられる。中でも、アミノ基の保護基としては、カルバメート系保護基又はスルホンアミド系保護基が好ましく、tert-ブトキシカルボニル基又はp-トルエンスルホニル基が特に好ましい。P x1 represents an amino-protecting group, specifically, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, allyl. Carbamate-based protecting groups such as oxycarbonyl groups; amide-based protecting groups such as trifluoroacetyl groups; imide-based protecting groups such as phthaloyl groups; sulfonamide-based protecting groups such as p-toluenesulfonyl groups and 2-nitrobenzenesulfonyl groups; Can be mentioned. Among them, as the amino-protecting group, a carbamate-based protecting group or a sulfonamide-based protecting group is preferable, and a tert-butoxycarbonyl group or a p-toluenesulfonyl group is particularly preferable.

x2は、炭素数2~3のアルキル基を表し、複数(好ましくは2つ)の-OPx2又は-SPx2が1つの炭素原子に結合している場合、複数(好ましくは2つ)のPx2が一緒になって、環を形成していてもよい。P x2 represents an alkyl group having 2 to 3 carbon atoms, and when a plurality of (preferably two) -OP x2 or -SP x2 are bonded to one carbon atom, a plurality of (preferably two) -OP x2 or -SP x2 are bonded to one carbon atom. P x 2 may be combined to form a ring.

x1は、ホウ素原子又はスズ原子を表す。M x1 represents a boron atom or a tin atom.

x1は、炭素数1~6のアルキル基、-OH、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数6~10のアリールオキシ基又は炭素数7~10のアラルキルオキシ基を表し、複数のLx1は、Mx1とともに環を形成していてもよい。L x1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, -OH, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyloxy group having 7 to 10 carbon atoms, and a plurality of L's. x1 may form a ring with M x1 .

x1で表されるアルキル基としては、R1で表される脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基と同様の基が挙げられ、該アルキル基の炭素数は1~4であることが好ましい。Lx1で表されるアルコキシ基としては、前記R1で表される脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基に-O-が結合した基が挙げられ、該アルコキシ基の炭素数は1~4が好ましい。Lx1で表されるアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基等が挙げられ、該アリールオキシ基の炭素数は6~8が好ましい。さらにLx1で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基等が挙げられ、炭素数は7~8が好ましい。Examples of the alkyl group represented by L x 1 include groups similar to the alkyl group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 , and the alkyl group preferably has 1 to 4 carbon atoms. .. Examples of the alkoxy group represented by L x 1 include a group in which —O— is bonded to the alkyl group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 , and the alkoxy group has 1 to 4 carbon atoms. Is preferable. Examples of the aryloxy group represented by L x 1 include a phenyloxy group, and the aryloxy group preferably has 6 to 8 carbon atoms. Further, examples of the aralkyloxy group represented by L x 1 include a benzyloxy group, and the carbon number is preferably 7 to 8.

kxは、Mx1の種類に応じて2又は3の整数を表す。kxは、Mx1がホウ素原子の場合は2であり、Mx1がスズ原子の場合は3である。kx represents an integer of 2 or 3 depending on the type of M x1 . kx is 2 when M x1 is a boron atom and 3 when M x1 is a tin atom.

x1がホウ素原子の場合、*-Mx1(Lx1kxとしては、下記式(Om-1)~(Om-4)で表される基等が挙げられる。下記式中、Rx14は、水素原子、又は、炭素数1~4のアルキル基(好ましくは水素原子)を表す。*は、結合手を表す。When M x1 is a boron atom, examples of * -M x1 (L x1 ) kx include groups represented by the following formulas (Om-1) to (Om-4). In the following formula, R x14 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably a hydrogen atom). * Represents a bond.

Figure 0007097573000021
Figure 0007097573000021

x1がスズ原子の場合、*-Mx1(Lx1kxとしては、下記式(Om-5)または(Om-6)で表される基等が挙げられる。下記式中、*は、結合手を表す。When M x1 is a tin atom, examples of * -M x1 (L x1 ) kx include a group represented by the following formula (Om-5) or (Om-6). In the following formula, * represents a bond.

Figure 0007097573000022
Figure 0007097573000022

中でも、上記式(Om-1)、(Om-2)、(Om-5)、(Om-6)で表される基が好ましい。 Of these, the groups represented by the above formulas (Om-1), (Om-2), (Om-5), and (Om-6) are preferable.

環化工程(2):工程3
工程3では、触媒を共存させてもよい。
Cyclization step (2): Step 3
In step 3, the catalyst may coexist.

前記触媒としては、金属触媒が挙げられ、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、鉄系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などの遷移金属触媒が挙げられる。中でも、パラジウム系触媒が好ましい。 Examples of the catalyst include metal catalysts, and transition metal catalysts such as palladium-based catalysts, nickel-based catalysts, iron-based catalysts, copper-based catalysts, rhodium-based catalysts, and ruthenium-based catalysts. Of these, a palladium-based catalyst is preferable.

前記パラジウム系触媒としては、例えば、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、ヨウ化パラジウム(II)、酸化パラジウム(II)、硫化パラジウム(II)、テルル化パラジウム(II)、水酸化パラジウム(II)、セレン化パラジウム(II)、パラジウムシアニド(II)、パラジウムアセテート(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジアセテートビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノフェロセン)]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロロメタン付加体、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体、ジクロロ[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロ[2,5-ノルボルナジエン]パラジウム(II)、ジクロロビス(エチレンジアミン)パラジウム(II)、ジクロロ(1,5-シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロビス(メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルアルシン)パラジウム(II)等が挙げられる。これらの触媒は、一種のみを用いてもよく、二種以上を用いてもよい。 Examples of the palladium-based catalyst include palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, palladium (II) iodide, palladium (II) oxide, palladium (II) sulfide, palladium (II) telluride, and hydroxylation. Palladium (II), Palladium selenium (II), Palladium cyanide (II), Palladium acetate (II), Palladium trifluoroacetate (II), Palladium acetylacetonate (II), Diacetate bis (triphenylphosphine) palladium (II), Tetraquis (Triphenylphosphine) Palladium (0), Dichlorobis (Triphenylphosphine) Palladium (II), Dichlorobis (acetaceant) Palladium (II), Dichlorobis (benzonitrile) Palladium (II), Dichloro [1, 2 -Bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (II), dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium (II), dichloro [1,4-bis (diphenylphosphino) butane] palladium (II) ), Dichloro [1,1-bis (diphenylphosphinoferrocene)] palladium (II), dichloro [1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloromethane adduct, bis (dibenzideneacetone) palladium (0), Tris (dibenzilidenacetone) dipalladium (0), Tris (dibenzidyleneacetone) dipalladium (0) chloroform adduct, dichloro [1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazole-2- Iliden] (3-chloropyridyl) palladium (II), bis (tri-tert-butylphosphine) palladium (0), dichloro [2,5-norbornadiene] palladium (II), dichlorobis (ethylenediamine) palladium (II), dichloro Examples thereof include (1,5-cyclooctadiene) palladium (II), dichlorobis (methyldiphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (triphenylalcin) palladium (II) and the like. As these catalysts, only one kind may be used, or two or more kinds may be used.

前記化合物(1-X3)と触媒とのモル比(化合物(1-X3):触媒)は、一般に1:0.0001~1:0.5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.4が好ましく、1:0.005~1:0.3がより好ましく、1:0.01~1:0.2がさらに好ましい。 The molar ratio of the compound (1-X3) to the catalyst (compound (1-X3): catalyst) is generally about 1: 0.0001 to 1: 0.5 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency are not particularly limited. From the viewpoint of the above, 1: 0.001 to 1: 0.4 is preferable, 1: 0.005 to 1: 0.3 is more preferable, and 1: 0.01 to 1: 0.2 is even more preferable.

前記触媒には、特定の配位子を配位させてもよい。 A specific ligand may be coordinated to the catalyst.

前記配位子としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ(n-ブチル)ホスフィン、トリ(イソプロピル)ホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボラート、ビス(tert-ブチル)メチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニル(メチル)ホスフィン、トリフェニスホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(m-トリル)ホスフィン、トリス(p-トリル)ホスフィン、トリス(2-フリル)ホスフィン、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(3-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン、2-ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-メチルビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピル-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシ-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-ジフェニルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-メチルビフェニル、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,2-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、1,2-ビスジフェニルホスフィノエチレン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、1,2-エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、2,2’-ビピリジル、1,3-ジフェニルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ジメチルジヒドロイミダゾリリデン、ジエチルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,4,6-トリメチルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,10-フェナントロリン、5,6-ジメチル-1,10-フェナントロリン、バトフェナントロリン等が挙げられる。これらの配位子は、一種のみを用いてもよく、二種以上を用いてもよい。 Examples of the ligand include trimethylphosphin, triethylphosphin, tri (n-butyl) phosphin, tri (isopropyl) phosphin, tri (tert-butyl) phosphin, tri-tert-butylphosphonium tetrafluoroborate, and bis ( tert-butyl) Methylphosphine, Tricyclohexylphosphine, Diphenyl (Methyl) phosphine, Triphenis phosphine, Tris (o-tolyl) phosphine, Tris (m-tolyl) phosphine, Tris (p-tolyl) phosphine, Tris (2-frill) ) Phosphin, Tris (2-methoxyphenyl) phosphin, Tris (3-methoxyphenyl) phosphin, Tris (4-methoxyphenyl) phosphin, 2-dicyclohexylphosphinobiphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2'-methylbiphenyl, 2 -Dicyclohexylphosphino-2', 4', 6'-triisopropyl-1,1'-biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2', 6'-dimethoxy-1,1'-biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino -2'-(N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2-diphenylphosphino-2'-(N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2- (di-tert-butyl) phosphino-2'-( N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2- (di-tert-butyl) phosphinobiphenyl, 2- (di-tert-butyl) phosphino-2'-methylbiphenyl, 1,2-bis (diphenylphosphino) Etan, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,2-bis (dicyclohexylphosphino) ethane, 1,3-bis (dicyclohexylphosphino) propane, 1,4-Bis (dicyclohexylphosphino) butane, 1,2-bisdiphenylphosphinoethylene, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 1,2-ethylenediamine, N, N, N', N' -Tetramethylethylenediamine, 2,2'-bipyridyl, 1,3-diphenyldihydroimidazolidene, 1,3-dimethyldihydroimidazolidene, diethyldihydroimidazolidene, 1,3-bis (2,4,6- Trimethylphenyl) dihydroimidazolidene, 1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) dihydroimidazolidene, 1,10-phenanthroline, 5,6 -Dimethyl-1,10-phenanthroline, butophenanthroline and the like can be mentioned. As these ligands, only one kind may be used, or two or more kinds may be used.

配位子を配位させる場合、触媒と配位子とのモル比(触媒:配位子)は、一般に1:0.5~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1~1:8が好ましく、1:1~1:7がより好ましく、1:1~1:5がさらに好ましい。 When coordinating a ligand, the molar ratio (catalyst: ligand) between the catalyst and the ligand is generally about 1: 0.5 to 1:10 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency are not particularly limited. From the above viewpoint, 1: 1 to 1: 8 is preferable, 1: 1 to 1: 7 is more preferable, and 1: 1 to 1: 5 is even more preferable.

化合物(1-X3)と塩基とのモル比(化合物(1-X3):塩基)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:1.8~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。 The molar ratio of the compound (1-X3) to the base (compound (1-X3): base) is generally about 1: 1 to 1:10 and is not particularly limited, but 1: from the viewpoint of yield and reaction efficiency. It is preferably 1.5 to 1: 8, more preferably 1: 1.8 to 1: 6, and even more preferably 1: 2 to 1: 5.

工程3において、化合物(1-X3)と化合物(1-X4)とを反応させた後に、反応させる酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸が好ましく、塩酸が特に好ましい。 In step 3, the acid to be reacted after the compound (1-X3) and the compound (1-X4) are reacted is preferably an inorganic acid such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid, and hydrochloric acid is particularly preferable.

工程3における反応溶媒としては、反応に影響を及ぼさない限り特に限定されることはなく、例えば、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。 The reaction solvent in step 3 is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and is, for example, an ether solvent, an aromatic solvent, an ester solvent, a hydrocarbon solvent, a halogen solvent, or a ketone solvent. , Amid solvent and the like can be used.

前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン等が挙げられる。 Examples of the ether solvent include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyl tetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentylmethyl ether, t-butyl methyl ether, 1,4-dioxane and the like.

前記芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。 Examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like.

前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Examples of the ester solvent include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate and the like.

前記炭化水素系溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, heptane and the like.

前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等が挙げられる。 Examples of the halogen-based solvent include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane and the like.

前記ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.

前記アミド系溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジン等が挙げられる。 Examples of the amide-based solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and 1,3-dimethyl3,4,5,6-tetrahydro-. (1H) -Pyrimidine and the like can be mentioned.

また、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。 Further, a nitrile solvent such as acetonitrile, a sulfoxide solvent such as dimethyl sulfoxide, and a sulfone solvent such as sulfolane can be used.

これらの中でも、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。 Among these, toluene, xylene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, N, N-dimethylformamide are particularly preferable.

反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.

工程3としては、例えば下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。 As step 3, for example, a step represented by the following scheme can be preferably adopted.

Figure 0007097573000023
Figure 0007097573000023

上記スキーム中、Px1、Px2、Mx1、Lx1、kx、Z1、Z2は上記と同義である。X1はハロゲン原子を表す。In the above scheme, P x1 , P x2 , M x1 , L x1 , kx, Z 1 , Z 2 are synonymous with the above. X 1 represents a halogen atom.

環化工程(3):工程4
工程4において、化合物(2-X3)又は化合物(3-X3)に反応させる酸としては、環化工程(2):工程3において用いられる酸として例示した酸と同様の酸を用いることができ、無機酸が好ましく、塩酸が特に好ましい。
Cyclization step (3): Step 4
In step 4, as the acid to react with the compound (2-X3) or the compound (3-X3), the same acid as the acid exemplified as the acid used in the cyclization step (2): step 3 can be used. , Inorganic acids are preferred, and hydrochloric acid is particularly preferred.

工程4における反応溶媒としては、環化工程(2):工程3において用いられる反応溶媒と同様の溶媒を用いることができ、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。 As the reaction solvent in the step 4, the same solvent as the reaction solvent used in the cyclization step (2): step 3 can be used, and for example, toluene, xylene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, N, N- Dimethylformamide is particularly preferred.

反応温度は、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or higher and 200 ° C. or lower from the viewpoint of increasing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.

工程4としては、例えば、下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。下記スキーム中、Px1、Px2、Z1は上記と同義である。As the step 4, for example, a step represented by the following scheme can be preferably adopted. In the following scheme, P x1 , P x2 , Z 1 are synonymous with the above.

Figure 0007097573000024
Figure 0007097573000024

環化工程(4):工程5
工程5において用いる酸化剤としては、上記酸化工程:工程1で用いられる酸化剤と同様の酸化剤を用いることができ、メタクロロ過安息香酸等の過カルボン酸が好ましい。
Cyclization step (4): Step 5
As the oxidizing agent used in the step 5, the same oxidizing agent as the oxidizing agent used in the above-mentioned oxidizing step: step 1: can be used, and a percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid is preferable.

工程5における反応溶媒としては、上記酸化工程:工程1における反応溶媒と同様の溶媒を用いることができ、ハロゲン系溶媒が好ましい。 As the reaction solvent in step 5, the same solvent as the reaction solvent in the above oxidation step: step 1 can be used, and a halogen-based solvent is preferable.

工程5としては、例えば、下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。下記スキーム中、Px1は上記と同義である。As the step 5, for example, a step represented by the following scheme can be preferably adopted. In the scheme below, P x1 is synonymous with the above.

Figure 0007097573000025
Figure 0007097573000025

3.テトラゾロピリジン多量体
本発明の化合物(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位として、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)又は(IID)で表される構造単位(以下、単に「構造単位(I)」、「構造単位(IIA)」、「構造単位(IIB)」、「構造単位(IIC)」又は「構造単位(IID)」という場合がある。)を含むテトラゾロピリジン多量体も本発明の技術的範囲に包含される。
3. 3. Tetrazolopyridine multimer The structural unit derived from the compounds (1), (2) or (3) of the present invention is represented by the formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID). Structural unit (hereinafter, may be simply referred to as "structural unit (I)", "structural unit (IIA)", "structural unit (IIB)", "structural unit (IIC)" or "structural unit (IID)". The tetrazolopyridine multimer containing.) Is also included in the technical scope of the present invention.

式(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位を有することで、化合物のLUMOが下がる傾向があり、半導体材料(n型あるいは両極性)として有用である。 Having a structural unit derived from the formulas (1), (2) or (3) tends to lower the LUMO of the compound, which is useful as a semiconductor material (n-type or bipolar).

Figure 0007097573000026
Figure 0007097573000026

式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。Dは、結合手を表す。In formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently have at least -SO 2- as a ring component. Represents a 5-membered heterocycle containing one. D represents a bond.

構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)、及び構造単位(IID)におけるY1及びY2の具体例及び好ましい範囲は、式(1)~(3)におけるY1及びY2の具体例及び好ましい範囲と同じである。Specific examples and preferred ranges of Y 1 and Y 2 in structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC), and structural units (IID) are Y 1 and in equations (1)-(3). It is the same as the specific example of Y 2 and the preferable range.

上記Y11又はY12で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。Examples of the heterocycle represented by Y 11 or Y 12 include a heterocycle represented by the following formula.

Figure 0007097573000027
Figure 0007097573000027

中でも、ジオキソチオフェン環、ジオキソチアゾール環が好ましい。 Of these, a dioxothiophene ring and a dioxothiazole ring are preferable.

上記Y11又はY12で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。The heterocycle represented by Y 11 or Y 12 may not have a substituent and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; and It is also preferable that the substituent is substituted with one or more selected from the alkyl halide groups.

上記Y11又はY12で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、上記Y1又はY2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同じものを用いることができる。The halogen atom, the aliphatic hydrocarbon group, the alkoxy group, and the alkyl halide group that replace the heterocycle represented by Y 11 or Y 12 are halogens that replace the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 . The same atoms, aliphatic hydrocarbon groups, alkoxy groups, and alkyl halides can be used.

上記Y11又はY12で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される環が好ましい。As the heterocycle represented by Y 11 or Y 12 , specifically, a ring represented by the following formula is preferable.

Figure 0007097573000028
Figure 0007097573000028

上記式(Y11)または(Y12)中、R1は、式(Y1)または(Y2)におけるR1と同じである。Dは、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)または(IID)におけるDと同じである。qは0~1の整数を表す。*a、*bの一方が式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)または(IID)における*1であり、他方が*2である。In the above formula (Y11) or (Y12), R 1 is the same as R 1 in the formula (Y1) or (Y2). D is the same as D in formula (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID). q represents an integer from 0 to 1. One of * a and * b is * 1 in the formula (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID), and the other is * 2.

上記構造単位(I)を含む化合物としては、具体的には、下記式(I-1)で表される化合物が挙げられる。下記式(I-1)中、Y11及びY12は、前記と同じである。A1は、置換されていてもよい芳香族環を表す。n1は、1以上の整数を表す。R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。Specific examples of the compound containing the structural unit (I) include a compound represented by the following formula (I-1). In the following formula (I-1), Y 11 and Y 12 are the same as described above. A 1 represents an aromatic ring that may be substituted. n1 represents an integer of 1 or more. R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.

Figure 0007097573000029
Figure 0007097573000029

上記構造単位(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかを含む化合物としては、下記式で表される化合物(II-1A)~(II-1J)が挙げられる。中でも、化合物(II-1A)又は化合物(II-1C)が好ましい。 Examples of the compound containing any of the structural units (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) include compounds (II-1A) to (II-1J) represented by the following formulas. Of these, compound (II-1A) or compound (II-1C) is preferable.

Figure 0007097573000030
Figure 0007097573000030

式(II-1A)~(II-1J)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、前記と同じである。A1は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族環を表す。n2は、1以上の整数を表す。In formulas (II-1A) to (II-1J), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are the same as described above. A 1 represents an aromatic ring that may be substituted independently of each other. n2 represents an integer of 1 or more.

上記A1で表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環、芳香族複素環が挙げられる。Examples of the aromatic ring represented by A 1 include an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle.

上記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられ、ベンゼン環が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring and the like, and a benzene ring is preferable.

上記芳香族複素環としては、例えば、下記式で表される芳香族複素環が挙げられる。下記式中、R3は、水素原子又はアルキル基を表し、R4は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基を表す。Examples of the aromatic heterocycle include an aromatic heterocycle represented by the following formula. In the following formula, R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 4 represents a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an alkyl halide group.

中でも、チオフェン環、チアゾール環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、フラン環、オキサゾール環等が好ましい。 Among them, a thiophene ring, a thiazole ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a furan ring, an oxazole ring and the like are preferable.

Figure 0007097573000031
Figure 0007097573000031

Figure 0007097573000032
Figure 0007097573000032

Figure 0007097573000033
Figure 0007097573000033

Figure 0007097573000034
Figure 0007097573000034

Figure 0007097573000035
Figure 0007097573000035

Figure 0007097573000036
Figure 0007097573000036

また、上記A1で表される芳香族環は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていることが好ましい。このハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、臭素原子が特に好ましい。ハロゲン原子の置換数は、1~2が好ましく、1が特に好ましい。Further, it is preferable that the aromatic ring represented by A 1 is substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. As the halogen atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is particularly preferable. The number of substitutions of the halogen atom is preferably 1 to 2, and particularly preferably 1.

上記A1で表される芳香族環は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。ハロゲン原子以外の置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。The aromatic ring represented by A 1 may have a substituent other than the halogen atom. Examples of the substituent other than the halogen atom include an alkyl group, an alkoxy group, an alkyl halide group and the like.

前記アルキル基としては、R1の脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基と同様の基が挙げられ、該アルキル基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~24である。Examples of the alkyl group include groups similar to the alkyl group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group of R 1 , and the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms.

前記アルコキシ基としては、前記アルキル基に-O-が結合した基が挙げられ、該アルコキシ基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~24である。 Examples of the alkoxy group include a group in which —O— is bonded to the alkyl group, and the alkoxy group preferably has 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 to 24 carbon atoms.

前記ハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)で置換された基が挙げられ、該ハロゲン化アルキル基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。 Examples of the alkyl halide group include a group in which the hydrogen atom of the alkyl group is replaced with a halogen atom (particularly preferably a fluorine atom) such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and the halogenated alkyl group is used. The number of carbon atoms in the group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and even more preferably 1 to 4.

前記ハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。 Specific examples of the alkyl halide group include a perfluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group and a nonafluorobutyl group, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.

上記A1で表される芳香族環のうち、芳香族炭化水素環は、2位、又は5位でテトラゾロピリジンのピリジン環と結合していることが好ましく、芳香族複素環は、2位でテトラゾロピリジンのピリジン環と結合していることが好ましい。Of the aromatic rings represented by A 1 , the aromatic hydrocarbon ring is preferably bonded to the pyridine ring of tetrazolopyridine at the 2-position or 5-position, and the aromatic heterocycle is at the 2-position. It is preferable that it is bonded to the pyridine ring of tetrazolopyridine.

上記A1で表される芳香族環としては、下記式で表される芳香族環が好ましい。As the aromatic ring represented by A 1 , the aromatic ring represented by the following formula is preferable.

Figure 0007097573000037
Figure 0007097573000037

式(Ar1)~(Ar16)中、R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。R4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。n2は0~2の整数、n3は0~1の整数、n4は0~4の整数、n5は0~3の整数を表す。In the formulas (Ar1) to (Ar16), R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 4 independently represents a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkyl halide group. n2 is an integer of 0 to 2, n3 is an integer of 0 to 1, n4 is an integer of 0 to 4, and n5 is an integer of 0 to 3.

上記R4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。Examples of the halogen atom represented by R 4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a bromine atom and an iodine atom are preferable.

上記R3で表されるアルキル基、上記R4で表されるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、それぞれ上記Y1で表される複素環が有していてもよい脂肪族酸化水素基として例示したアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基と同様の基が挙げられる。As the alkyl group represented by R 3 and the alkyl group represented by R 4 , the alkoxy group and the halogenated alkyl group, the aliphatic oxidation may be possessed by the heterocyclic ring represented by Y 1 above. Examples of the hydrogen group include an alkyl group, an alkoxy group, and a group similar to the alkyl halide group.

上記A1としては、具体的には、下記式で表される構造単位がより好ましい。Specifically, as the above A 1 , a structural unit represented by the following formula is more preferable.

下記式(Ar1-1)、(Ar2-1)、(Ar4-1)において、X2は2位に結合していることが好ましく、下記式(Ar3-1)において、X2は4位に結合していることが好ましい。In the following formulas (Ar1-1), (Ar2-1), and (Ar4-1), X 2 is preferably bonded to the 2-position, and in the following formula (Ar3-1), X 2 is in the 4-position. It is preferable that they are bonded.

Figure 0007097573000038
Figure 0007097573000038

上記式(Ar1-1)~(Ar16-1)中、R3は、上記と同義である。R5は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。X2は、ハロゲン原子を表す。n6は0~1の整数、n7は0~3の整数、n8は0~2の整数、n9は0~4の整数を表す。*は結合手を表す。In the above formulas (Ar1-1) to (Ar16-1), R 3 has the same meaning as above. R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group, or an alkyl halide group. X 2 represents a halogen atom. n6 is an integer of 0 to 1, n7 is an integer of 0 to 3, n8 is an integer of 0 to 2, and n9 is an integer of 0 to 4. * Represents a bond.

式(Ar1-1)、(Ar2-1)、(Ar3-1)、(Ar4-1)中、X2で表されるハロゲン原子は、上記R4で表されるハロゲン原子と同様であり、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。R5は、それぞれ、上記R4で表されるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同様であり、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基が好ましい。n6、n7、n8、n9は、0~1の整数が好ましい。In the formulas (Ar1-1), (Ar2-1), (Ar3-1), and (Ar4-1), the halogen atom represented by X 2 is the same as the halogen atom represented by R 4 above. A bromine atom or an iodine atom is preferable, and a bromine atom is more preferable. R 5 is the same as the alkyl group, alkoxy group, and alkyl halide group represented by R 4 , respectively, and an alkoxy group and an alkyl halide group are preferable. n6, n7, n8, and n9 are preferably integers of 0 to 1.

化合物(I-1)としては、例えば、下記式(I-I)で表される化合物が挙げられる。
H-A10-Y40-A11-H (I-I)
Examples of the compound (I-1) include compounds represented by the following formula (I-I).
HA 10 -Y 40 -A 11 -H (I-I)

上記式中、Y40は、式(I)で表される構造を表す。In the above formula, Y 40 represents the structure represented by the formula (I).

10及びA11は、式(Ar1-1)~(Ar8-1)のいずれかで表される構造を表し、A10又はA11としては、式(Ar1-1)又は(Ar1-2)で表される基が好ましく、式(Ar1-2)で表される基がより好ましい。A 10 and A 11 represent a structure represented by any of the formulas (Ar1-1) to (Ar8-1), and A 10 or A 11 is the formula (Ar1-1) or (Ar1-2). The group represented by the formula (Ar1-2) is preferable, and the group represented by the formula (Ar1-2) is more preferable.

10とA11は同一であることが好ましい。It is preferable that A 10 and A 11 are the same.

上記式(I-I)で表される化合物としては、具体的には、下記表に示される化合物が好ましい。中でも、化合物(I-I-1)~(I-I-12)が好ましい。 Specifically, as the compound represented by the above formula (I), the compound shown in the following table is preferable. Of these, compounds (I-I-1) to (I-I-12) are preferable.

下記表中、(Y-I-1)~(Y-I-4)は、それぞれ下記式で表されるユニットを表す。 In the table below, (Y-I-1) to (Y-I-4) represent units represented by the following formulas, respectively.

Figure 0007097573000039
Figure 0007097573000039

Figure 0007097573000040
Figure 0007097573000040

化合物(II-1)としては、例えば、下記式(II-I)で表される化合物が挙げられる。
50-A20-Y51 (II-I)
Examples of the compound (II-1) include compounds represented by the following formula (II-I).
Y 50 -A 20 -Y 51 (II-I)

上記式中、Y50及びY51は、式(IIA)~(IID)のいずれかで表される構造を表す。In the above formula, Y 50 and Y 51 represent a structure represented by any of the formulas (IIA) to (IID).

20は、式(Ar1-1)~(Ar16-1)のいずれかで表される構造を表し、A20としては、式(Ar1-3)、(Ar3-2)、(Ar13-1)で表される構造が好ましい。A 20 represents a structure represented by any of the formulas (Ar1-1) to (Ar16-1), and the formulas (Ar1-3), (Ar3-2), and (Ar13-1) are used as the A 20 . The structure represented by is preferable.

上記式(II-I)で表される化合物としては、具体的には、下記表に示される化合物が好ましい。中でも、化合物(II-I-97)~(II-I-120)がより好ましく、化合物(II-I-98)、(II-I-99)、(II-I-105)、(II-I-108)、(II-I-110)、(II-I-111)、(II-I-117)、(II-I-120)がさらに好ましい。 As the compound represented by the above formula (II-I), specifically, the compound shown in the following table is preferable. Of these, compounds (II-I-97) to (II-I-120) are more preferred, and compounds (II-I-98), (II-I-99), (II-I-105), (II- I-108), (II-I-110), (II-I-111), (II-I-117), and (II-I-120) are even more preferred.

下記表中、(Y-II-1)~(Y-II-12)は、下記式で表されるユニットを表す。 In the table below, (Y-II-1) to (Y-II-12) represent units represented by the following formulas.

Figure 0007097573000041
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Figure 0007097573000042
Figure 0007097573000042

Figure 0007097573000043
Figure 0007097573000043

3-1.テトラゾロピリジン多量体の製造方法
上記化合物(I-1)の製造方法の概要は、下記スキームで表される。下記式中、X3は、ハロゲン原子を表す。M1は、Mx1と同義であり、L1はLx1と同義であり、k1はkxと同義であり、A1は上記と同義である。R3、Y11、Y12、Z11、Z12は、上記と同義である。
3-1. Method for Producing Tetrazolopyridine Multimer The outline of the method for producing the above compound (I-1) is represented by the following scheme. In the following formula, X 3 represents a halogen atom. M 1 is synonymous with M x 1, L 1 is synonymous with L x 1, k 1 is synonymous with kx, and A 1 is synonymous with the above. R 3 , Y 11 , Y 12 , Z 11 , and Z 12 are synonymous with the above.

Figure 0007097573000044
Figure 0007097573000044

即ち、化合物(I-1)は、3通りのルートで製造できる。 That is, compound (I-1) can be produced by three routes.

(ルート1)
化合物(I-X6)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(1):工程6)、得られた化合物(I-X5)と酸化剤とを反応させ(酸化工程:工程7)、得られた化合物(I-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZI-1)を製造し(環化工程(1):工程8)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 1)
After the compound (I-X6) and the compound (I-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (1): step 6), the obtained compound (I-X5) is oxidized. A compound (ZI-1) is produced by reacting with an agent (oxidation step: step 7) and reacting the obtained compound (I-X2) with an azido compound in the presence of a base (cyclization step (cyclization step (cyclization step)). 1): Can be produced by oxidation in step 8) (oxidation step: step 31).

(ルート2)
化合物(I-X3)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(1):工程9)、得られた化合物(I-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZI-1)を製造し(環化工程(1):工程8)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 2)
After the compound (I-X3) and the compound (I-X4) were reacted to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (1): step 9), the obtained compound (I-X2) was added. The compound (ZI-1) can be produced by reacting the azide compound in the presence of a base (cyclization step (1): step 8), and can be produced by oxidation (oxidation step: step 31).

(ルート3)
化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加することにより化合物(ZI-1)を製造し(芳香族環付加工程(1):工程10)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 3)
The compound (ZI-1) is produced by reacting the compound (I-X1) with the compound (I-X4) to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (1): step 10), and oxidation is performed. (Oxidation step: step 31).

また、上記化合物(II-1A)~(II-1J)の製造方法の概要は、下記スキームで表される。なお、下記スキームでは、上記化合物(II-1A)~(II-IJ)をまとめて化合物(II-1)で表す。 The outline of the production method of the above compounds (II-1A) to (II-1J) is represented by the following scheme. In the following scheme, the above compounds (II-1A) to (II-IJ) are collectively represented by the compound (II-1).

Figure 0007097573000045
Figure 0007097573000045

ただし、上記スキームにおいて、下記式(II)で表される構造は、下記式(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 However, in the above scheme, the structure represented by the following formula (II) means the structure represented by any of the following formulas (IIA), (IIB), (IIC) and (IID).

Figure 0007097573000046
Figure 0007097573000046

Figure 0007097573000047
Figure 0007097573000047

上記スキームにおいて、下記式(ZII)で表される構造は、下記式(ZIIA)、(ZIIB)、(ZIIC)及び(ZIID)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 In the above scheme, the structure represented by the following formula (ZII) shall mean the structure represented by any of the following formulas (ZIIA), (ZIIB), (ZIIC) and (ZIID).

Figure 0007097573000048
Figure 0007097573000048

Figure 0007097573000049
Figure 0007097573000049

また、下記式(II-X3)で表される構造は、下記式(IIA-X3)、(IIB-X3)、(IIC-X3)及び(IID-X3)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 The structure represented by the following formula (II-X3) is a structure represented by any of the following formulas (IIA-X3), (IIB-X3), (IIC-X3) and (IID-X3). It shall mean.

Figure 0007097573000050
Figure 0007097573000050

Figure 0007097573000051
Figure 0007097573000051

さらに、下記式(II-X6)で表される構造は、下記式(IIA-X6)、(IIB-X6)、(IIC-X6)及び(IID-X6)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 Further, the structure represented by the following formula (II-X6) is a structure represented by any of the following formulas (IIA-X6), (IIB-X6), (IIC-X6) and (IID-X6). It shall mean.

Figure 0007097573000052
Figure 0007097573000052

Figure 0007097573000053
Figure 0007097573000053

化合物(II-1A)~(II-1J)は、3通りのルートで製造できる。 Compounds (II-1A) to (II-1J) can be produced by three routes.

(ルート1)
化合物(II-X6)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(2):工程11)、得られた化合物(II-X5)と酸化剤とを反応させ(酸化工程:工程12)、得られた化合物(II-X2)に塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZII-1)を製造し(環化工程(1):工程13)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 1)
After the compound (II-X6) and the compound (II-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (2): step 11), the obtained compound (II-X5) is oxidized. The compound (ZII-1) is produced by reacting with an agent (oxidation step: step 12) and reacting the obtained compound (II-X2) with an azido compound in the presence of a base (cyclization step (1). ): Can be produced by oxidation in step 13) (oxidation step: step 32).

(ルート2)
化合物(II-X3)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(2):工程14)、得られた化合物(II-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZII-1)を製造し(環化工程(1):工程13)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 2)
After the compound (II-X3) and the compound (II-X4) were reacted to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (2): step 14), the obtained compound (II-X2) was added. The compound (ZII-1) can be produced by reacting the azide compound in the presence of a base (cyclization step (1): step 13), and can be produced by oxidation (oxidation step: step 32).

(ルート3)
化合物(II-X1)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加することにより化合物(ZII-1)を製造し(芳香族環付加工程(2):工程15)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 3)
The compound (ZII-1) is produced by reacting the compound (II-X1) with the compound (II-X4) to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (2): step 15), and oxidation is performed. (Oxidation step: step 32).

芳香族環付加工程(1):工程6、9、10 Aromatic ring addition step (1): Steps 6, 9, 10

(工程6)
工程6では、化合物(I-X6)と、化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(I-X5)を製造できる。
1(L1k1-(A1n1-R3 (I-X4)
(Step 6)
In step 6, the compound (IX5) can be produced by reacting the compound (IX6) with the compound (IX4).
M 1 (L 1 ) k1- (A 1 ) n1 -R 3 (I-X4)

式中、A1、M1、L1、R3、k1、n1は、上記と同義である。In the formula, A 1 , M 1 , L 1 , R 3 , k 1, and n 1 have the same meanings as above.

本工程で用いられる化合物(I-X6)としては、上記化合物(1-X2)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。Examples of the compound (I-X6) used in this step include compounds in which R 1 is a halogen atom among the above-mentioned compounds (1-X2).

(工程9)
工程9では、化合物(I-X3)と、化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(I-X2)を製造できる。
(Step 9)
In step 9, the compound (IX2) can be produced by reacting the compound (IX3) with the compound (IX4).

本工程で用いられる化合物(I-X3)としては、上記化合物(1-X1)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。Examples of the compound (I-X3) used in this step include compounds in which R 1 is a halogen atom among the above-mentioned compounds (1-X1).

(工程10)
工程10では、化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(ZI-1)を製造できる。
(Step 10)
In step 10, the compound (ZI-1) can be produced by reacting the compound (I-X1) with the compound (I-X4).

本工程で用いられる化合物(I-X1)としては、上記で例示した化合物(1)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。Examples of the compound (IX1) used in this step include compounds in which R 1 is a halogen atom among the compounds (1) exemplified above.

式(I-X4)におけるM1、L1、k1は、式(1-X4-1)におけるMx1、Lx1、kxと同様であり、化合物(I-X4)としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
10(L10k10-A20-R3 (I-X4-I)
M 1 , L 1 , k1 in the formula (I-X4) are the same as M x 1, L x 1, kx in the formula (1-X4-1), and the compound (I-X4) is represented by the following formula. The compound to be used is mentioned.
M 10 (L 10 ) k10 -A 20 -R 3 (I-X4-I)

ただし、式中、R3は上記と同義である。A20は、下記式(Ar1-1)~(Ar16-1)のいずれかで表される構造を表し、A20としては、式(Ar1-2)で表される構造が好ましい。*-M10(L10k10は、上記式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基を表す。However, in the formula, R 3 has the same meaning as above. A 20 represents a structure represented by any of the following formulas (Ar1-1) to (Ar16-1), and as A 20 , a structure represented by the formula (Ar1-2) is preferable. * -M 10 (L 10 ) k10 represents a group represented by any of the above formulas (Om-1) to (Om-6).

Figure 0007097573000054
Figure 0007097573000054

中でも、下記表に示す化合物が好ましく、より好ましくは化合物(I-X4-I-45)~(I-X4-I-66)であり、さらに好ましくは化合物(I-X4-I-45)又は(I-X4-I-56)である。 Among them, the compounds shown in the following table are preferable, more preferably compounds (I-X4-I-45) to (I-X4-I-66), and still more preferably compounds (I-X4-I-45) or. (I-X4-I-56).

Figure 0007097573000055
Figure 0007097573000055

化合物(I-X4)の量は、化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は(I-X1)1モルに対して、0.6~10モルが好ましく、より好ましくは0.8~6モルである。 The amount of the compound (I-X4) is preferably 0.6 to 10 mol, more preferably 0.8, with respect to 1 mol of the compound (I-X6), the compound (I-X3) or (I-X1). ~ 6 mol.

さらに、化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させる際には、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様の触媒を同様の条件で用いることができる。 Further, when the compound (I-X6), the compound (I-X3) or the compound (I-X1) is reacted with the compound (I-X4), the cyclization step (2): the catalyst exemplified in the step 3 is performed. The same catalyst as above can be used under the same conditions.

前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子と同様の特定の配位子を同様の条件で配位させてもよい。 The catalyst may be coordinated with a specific ligand similar to the ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 under the same conditions.

さらに化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は化合物(I-X1)と化合物(I-X4)を反応させる際、環化工程(2):工程3で例示した塩基と同様の塩基を同様の条件で共存させてもよい。 Further, when the compound (I-X6), the compound (I-X3) or the compound (I-X1) is reacted with the compound (I-X4), the cyclization step (2): a base similar to the base exemplified in the step 3. May coexist under the same conditions.

工程6、9、10で用いられる反応溶媒は、環化工程(2):工程3で用いられる反応溶媒と同様であり、同様の条件で用いることができる。 The reaction solvent used in steps 6, 9 and 10 is the same as the reaction solvent used in the cyclization step (2): step 3, and can be used under the same conditions.

工程6、9、10の反応温度は環化工程(2):工程3と同様である。 The reaction temperatures of steps 6, 9 and 10 are the same as those of the cyclization step (2): step 3.

3-2.芳香族環付加工程(2):工程11、14、15 3-2. Aromatic ring addition step (2): Steps 11, 14, 15

(工程11)
工程11では、化合物(II-X6)と、下記式(II-X4)で表される化合物と反応させることにより、化合物(II-X5)を製造できる。
4-(A2n1-X4 (II-X4)
(Step 11)
In step 11, the compound (II-X5) can be produced by reacting the compound (II-X6) with the compound represented by the following formula (II-X4).
X 4- (A 2 ) n1 -X 4 (II-X 4)

式中、A2、n1は、上記と同義である。X4は、ハロゲン原子を表す。In the formula, A 2 and n 1 have the same meanings as above. X 4 represents a halogen atom.

(工程14)
工程14では、化合物(II-X3)と、化合物(II-X4)とを反応させることにより、化合物(II-X2)を製造できる。
(Step 14)
In step 14, compound (II-X2) can be produced by reacting compound (II-X3) with compound (II-X4).

(工程15)
工程15では、化合物(II-X1)と、化合物(II-X4)とを反応させることにより、化合物(ZII-1)を製造できる。
(Step 15)
In step 15, compound (ZII-1) can be produced by reacting compound (II-X1) with compound (II-X4).

式(II-X6)、(II-X3)及び(II-X1)中、M10、L10、k10は、それぞれ、式(1-X4-1)におけるMx1、Lx1、kxと同様である。In formulas (II-X6), (II-X3) and (II-X1), M10, L10 and k10 are the same as M x1 , L x1 and kx in formula ( 1 -X4-1), respectively. be.

化合物(II-X6)としては、化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 The compound (II-X6) includes a group represented by any of the formulas (Om-1) to (Om-6) in the compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2). Examples include bound compounds.

化合物(II-X3)としては、化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 The compound (II-X3) includes a group represented by any of the formulas (Om-1) to (Om-6) in the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). Examples include bound compounds.

化合物(II-X1)としては、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 Examples of the compound (II-X1) include compounds in which a group represented by any of the formulas (Om-1) to (Om-6) is bonded to the compound (Z1), (Z2) or (Z3). ..

式(II-X4)におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。 Examples of the halogen atom in the formula (II-X4) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable.

化合物(II-X4)としては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
40-A10-X40 (II-X4-I)
Examples of the compound (II-X4) include compounds represented by the following formulas.
X 40 -A 10 -X 40 (II-X4-I)

ただし、式中、A10は、下記式のいずれかで表される単位を表し、X40は、臭素原子又はヨウ素原子を表す。However, in the formula, A 10 represents a unit represented by any of the following formulas, and X 40 represents a bromine atom or an iodine atom.

Figure 0007097573000056
Figure 0007097573000056

中でも、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(II-X4-I-2)、(II-X4-I-3)、(II-X4-I-9)、(II-X4-I-12)(II-X4-I-14)、(II-X4-I-15)、(II-X4-I-21)、(II-X4-I-24)がより好ましい。 Among them, the compounds shown in the table below are preferable, and the compounds (II-X4-I-2), (II-X4-I-3), (II-X4-I-9), (II-X4-I-12) are preferable. (II-X4-I-14), (II-X4-I-15), (II-X4-I-21), and (II-X4-I-24) are more preferable.

Figure 0007097573000057
Figure 0007097573000057

化合物(II-X4)の量は、化合物(II-X6)、化合物(II-X3)又は化合物(II-X1)1モルに対して、0.6~5モルが好ましく、より好ましくは0.8~3モルである。 The amount of the compound (II-X4) is preferably 0.6 to 5 mol, more preferably 0., With respect to 1 mol of the compound (II-X6), the compound (II-X3) or the compound (II-X1). It is 8 to 3 mol.

化合物(II-X6)、化合物(II-X3)又は化合物(II-X1)と化合物(II-X4)とを反応させる際に共存させる触媒は、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様である。化合物(II-X4)と触媒とのモル比(化合物(II-X4):触媒)は、一般に1:0.0001~1:1.0程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.8が好ましく、1:0.005~1:0.6がより好ましく、1:0.01~1:0.4がさらに好ましい。 The catalyst coexisting when the compound (II-X6), the compound (II-X3) or the compound (II-X1) is reacted with the compound (II-X4) is exemplified in the cyclization step (2): step 3. Similar to the catalyst. The molar ratio of the compound (II-X4) to the catalyst (compound (II-X4): catalyst) is generally about 1: 0.0001 to 1: 1.0 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency are high. From the viewpoint, 1: 0.001 to 1: 0.8 is preferable, 1: 0.005 to 1: 0.6 is more preferable, and 1: 0.01 to 1: 0.4 is even more preferable.

前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子を、同様の条件で配位させてもよい。 The ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 may be coordinated to the catalyst under the same conditions.

工程11、14、15では、環化工程(2):工程3で例示した塩基を、同様の条件で共存させてもよい。 In steps 11, 14 and 15, the bases exemplified in the cyclization step (2): step 3 may coexist under the same conditions.

また、本工程において、反応溶媒も環化工程(2):工程3と同様の溶媒を同様の条件で用いることができる。 Further, in this step, the same solvent as in the cyclization step (2): step 3 can be used as the reaction solvent under the same conditions.

さらに反応温度も、環化工程(2):工程3と同様に調整できる。 Further, the reaction temperature can also be adjusted in the same manner as in the cyclization step (2): step 3.

3-3.酸化工程:工程7、12
工程7または工程12では、化合物(I-X5)又は化合物(II-X5)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(I-X2)又は化合物(II-X2)を得ることができる。
3-3. Oxidation process: Steps 7 and 12
In step 7 or step 12, compound (I-X2) or compound (II-X2) can be obtained by reacting compound (I-X5) or compound (II-X5) with an oxidizing agent.

前記酸化剤としては、前記酸化工程:工程1で例示した酸化剤と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the oxidizing agent, the same compound as the oxidizing agent exemplified in the oxidation step: Step 1 can be used under the same conditions.

また、反応溶媒、反応温度についても、酸化工程:工程1と同様の条件を採用できる。 Further, the same conditions as those in the oxidation step: step 1 can be adopted for the reaction solvent and the reaction temperature.

3-4.環化工程(1):工程8、13
工程8または工程13では、化合物(I-X2)又は化合物(II-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより、化合物(ZI-1)又は化合物(ZII-1)を得ることができる。
3-4. Cyclization step (1): Steps 8 and 13
In step 8 or step 13, compound (ZI-1) or compound (ZII-1) is obtained by reacting compound (I-X2) or compound (II-X2) with an azide compound in the presence of a base. be able to.

前記アジド化合物としては、環化工程(1):工程2で例示したアジド化合物と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the azide compound, a compound similar to the azide compound exemplified in the cyclization step (1): step 2 can be used under the same conditions.

また、アジド化合物を反応させる際に共存させる塩基も、環化工程(1):工程2で例示した塩基と同様であり、同様の条件で用いることができる。 Further, the base coexisting when reacting the azide compound is the same as the base exemplified in the cyclization step (1): step 2, and can be used under the same conditions.

更に、反応溶媒、反応温度についても、環化工程(1):工程2と同様の条件を採用できる。 Further, the same conditions as those in the cyclization step (1): step 2 can be adopted for the reaction solvent and the reaction temperature.

3-5.酸化工程:工程31、32
工程31または工程32では、化合物(ZI-1)又は化合物(ZII-1)と、酸化剤とを反応させることにより、本発明の化合物(I-1)又は化合物(II-1)を得ることができる。
3-5. Oxidation step: Steps 31, 32
In step 31 or step 32, the compound (I-1) or the compound (II-1) of the present invention is obtained by reacting the compound (ZI-1) or the compound (ZII-1) with an oxidizing agent. Can be done.

前記酸化剤としては、前記酸化工程:工程21で例示した酸化剤と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the oxidizing agent, the same compound as the oxidizing agent exemplified in the oxidation step: Step 21 can be used under the same conditions.

また、反応溶媒、反応温度についても、酸化工程:工程21と同様の条件を採用できる。 Further, the same conditions as those in the oxidation step: step 21 can be adopted for the reaction solvent and the reaction temperature.

4.有機半導体材料
本発明の化合物(1)、(2)及び(3)は、LUMO準位を低くできるとともに、熱安定性が優れ、さらには種々の官能基を付加することも容易であるため、有機半導体材料として優れており、本発明の化合物(1)、(2)又は(3)を用いて得られる有機半導体材料も本発明の技術的範囲に包含される。式(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)を有することで、LUMOが下がる傾向があり、n型あるいは両極性半導体材料として有用である。
4. Organic semiconductor materials The compounds (1), (2) and (3) of the present invention can lower the LUMO level, have excellent thermal stability, and can easily add various functional groups. It is excellent as an organic semiconductor material, and an organic semiconductor material obtained by using the compound (1), (2) or (3) of the present invention is also included in the technical scope of the present invention. Having structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) derived from formulas (1), (2) or (3) tends to lower LUMO and is n-type. Alternatively, it is useful as a bipolar semiconductor material.

前記有機半導体材料としては、式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物が好ましい。 As the organic semiconductor material, a polymer compound having a structural unit represented by the formula (I) and one or more donor units is preferable.

Figure 0007097573000058
Figure 0007097573000058

式(I)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、上記と同義である。In formula (I), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are synonymous with the above.

上記化合物(1)~(3)から導かれる構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)は電子受容性であり、拡張π共役系でのアクセプター性ユニットとしての機能が期待できるため、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを組み合わせてドナー-アクセプター型半導体高分子化合物とすることが好ましく、構造単位(I)とドナー性ユニットとを交互に配置することが好ましい。 The structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) derived from the above compounds (1) to (3) are electron acceptors and can be used as acceptor units in an extended π-conjugated system. It is preferable to combine one or more donor units into a donor-acceptor type semiconductor polymer compound, and structural units (I) and donor units are arranged alternately. Is preferable.

構造単位(I)とドナー性ユニットとは、芳香族環を介して結合していてもよい。 The structural unit (I) and the donor unit may be bonded via an aromatic ring.

前記構造単位(I)としては、上記式(Y-I-1)~(Y-I-4)で表されるユニット(構造単位)が好ましく、式(Y-I-1)で表される構造単位が特に好ましい。 As the structural unit (I), a unit (structural unit) represented by the above formulas (Y-I-1) to (Y-I-4) is preferable, and it is represented by the formula (Y-I-1). Structural units are particularly preferred.

また前記高分子化合物には、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)で表される構造単位の1種又は2種以上が含まれていてもよい。 Further, the polymer compound may contain one or more of the structural units represented by the formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID).

こうした高分子化合物は、特に、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 Such polymer compounds are particularly useful for organic electrodevices such as organic electroluminescence devices and organic thin film devices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, organic electronic devices, solar cells, and solar cell module applications.

前記ドナー性ユニットとしては、下記式(Dn-1)~(Dn-15)で表される構造単位(基)が挙げられる。 Examples of the donor unit include structural units (groups) represented by the following formulas (Dn-1) to (Dn-15).

Figure 0007097573000059
Figure 0007097573000059

式(Dn-1)~(Dn-15)中、R30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。R31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。*は、結合手を表す。In the formulas (Dn-1) to (Dn-15), R 30 independently represents an aliphatic hydrocarbon group. R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group. * Represents a bond.

30又はR31で表される脂肪族炭化水素基は、Y1で表される複素環を置換していてもよい脂肪族炭化水素基として例示した基と同様であり、炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。The aliphatic hydrocarbon group represented by R 30 or R 31 is the same as the group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group in which the heterocycle represented by Y 1 may be substituted, and has 1 to 1 to carbon atoms. 30 is preferable, 1 to 24 is more preferable, and 1 to 20 is more preferable.

本発明の高分子化合物は、例えば、上述した式(I-1)で表される化合物と、式(5)で表される化合物とを反応させることにより製造できる(以下、化合物(1)と化合物(5)を反応させる工程を「カップリング工程」という場合がある。)。 The polymer compound of the present invention can be produced, for example, by reacting the compound represented by the above formula (I-1) with the compound represented by the formula (5) (hereinafter referred to as compound (1)). The step of reacting the compound (5) may be referred to as a "coupling step").

Figure 0007097573000060
Figure 0007097573000060

式中、A1、M1、L1、k1、Y11、Y12、X3は上記と同義であり、X3はハロゲン原子を表す。A6は、ドナー性ユニットを表す。n10は、0又は1の整数を表す。nxは、1以上の整数を表す。In the formula, A 1 , M 1 , L 1 , k1, Y 11 , Y 12 , and X 3 have the same meanings as above, and X 3 represents a halogen atom. A 6 represents a donor unit. n10 represents an integer of 0 or 1. nx represents an integer of 1 or more.

6は、上記式(Dn-1)~(Dn-12)のいずれかで表される基が好ましく、式(Dn-4)、(Dn-6)及び(Dn-7)のいずれかで表される基がより好ましい。A 6 is preferably a group represented by any of the above formulas (Dn-1) to (Dn-12), and is preferably any of the formulas (Dn-4), (Dn-6) and (Dn-7). The group represented is more preferred.

3のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子が好ましい。Examples of the halogen atom of X 3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a bromine atom is preferable.

n10は、0が好ましい。 n10 is preferably 0.

化合物(I-1)と、化合物(5)のモル比は、1:99~99:1の範囲が好ましく、20:80~80:20の範囲がより好ましく、40:60~60:40の範囲が更に好ましい。 The molar ratio of compound (I-1) to compound (5) is preferably in the range of 1:99 to 99: 1, more preferably in the range of 20:80 to 80:20, and in the range of 40:60 to 60:40. The range is more preferred.

カップリング工程における触媒としては、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様の触媒を同様の条件で用いることができる。 As the catalyst in the coupling step, a catalyst similar to the catalyst exemplified in the cyclization step (2): step 3 can be used under the same conditions.

前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子と同様の特定の配位子を同様の条件で配位させてもよい。 The catalyst may be coordinated with a specific ligand similar to the ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 under the same conditions.

さらに環化工程(2):工程3で例示した塩基と同様の塩基を同様の条件で共存させてもよい。 Further, the cyclization step (2): a base similar to the base exemplified in step 3 may coexist under the same conditions.

カップリング工程で用いられる反応溶媒は、環化工程(2):工程3で用いられる反応溶媒と同様であり、同様の条件で用いることができる。 The reaction solvent used in the coupling step is the same as the reaction solvent used in the cyclization step (2): step 3, and can be used under the same conditions.

さらに、カップリング工程の反応温度は環化工程(2):工程3と同様である。 Further, the reaction temperature of the coupling step is the same as that of the cyclization step (2): step 3.

上記本発明の化合物は、電子受容性が高く、LUMO準位を低くできるため、有機電子デバイス、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 Since the compound of the present invention has high electron acceptability and can lower the LUMO level, it is possible to use organic electronic devices such as organic electroluminescence devices, organic thin film devices and other organic electrodevices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, and organic substances. It is useful for electronic devices, solar cells, solar cell modules, etc.

本願は、2017年9月13日に出願された日本国特許出願第2017-176221号に基づく優先権の利益を主張するものである。上記日本国特許出願第2017-176221号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。 This application claims the benefit of priority under Japanese Patent Application No. 2017-176221 filed on September 13, 2017. The entire contents of the specification of Japanese Patent Application No. 2017-176221 are incorporated herein by reference.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited by the following examples as well as the present invention, and appropriate modifications are made to the extent that it can meet the purposes of the preceding and the following. Of course, it is possible to carry out, and all of them are included in the technical scope of the present invention. In the following, unless otherwise specified, "part" means "part by mass" and "%" means "% by mass".

合成例1:
2-(2,2-ジメトキシエチルアミノ)メチルチオフェンの合成
Synthesis example 1:
Synthesis of 2- (2,2-dimethoxyethylamino) methylthiophene

Figure 0007097573000061
Figure 0007097573000061

3口フラスコに2-thiophenecarboxyaldehyde(2.24g,20mmol)、aminoacetaldehydedimethylacetal(2.2g,20mmol)、p-toluenesulfonsulfonicacid(10mg)、および無水エタノール(20mL)を入れ,90℃で4時間撹拌した。反応終了後、水素化ホウ素ナトリウム(760mg,20mmol)を入れさらに2時間加熱撹拌した。水を加え反応停止させたのち、酢酸エチル(AcOEt)により抽出を行った。溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を4.05g得た。 2-thiophenecarboxyaldehyde (2.24 g, 20 mmol), aminoacetaldehydedimethylacetal (2.2 g, 20 mmol), p-toluenesulfonsulfonic acid (10 mg), and absolute ethanol (20 mL) were placed in a three-necked flask and stirred at 90 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, sodium borohydride (760 mg, 20 mmol) was added, and the mixture was further heated and stirred for 2 hours. After stopping the reaction by adding water, extraction was performed with ethyl acetate (AcOEt). The solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 4.05 g of the target compound.

合成例2:
2-(2,2-ジメトキシエチル-p-トルエンスルホニルアミノ)メチルチオフェンの合成
Synthesis example 2:
Synthesis of 2- (2,2-dimethoxyethyl-p-toluenesulfonylamino) methylthiophene

Figure 0007097573000062
Figure 0007097573000062

2口フラスコに、上記スキームに示したチオフェン誘導体(4.05g,20mmol)、ピリジン(4.7g,60mmol)、および無水ジクロロメタン(20mL)中、0℃で塩化トルエンスルフォン酸(4.6g,24mmol)を加え6時間撹拌した。反応終了後,水を加え反応停止させたのち,ジクロロメタンにより抽出を行った。溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を5.45g(収率77%)得た。 Toluene sulfonic acid chloride (4.6 g, 24 mmol) at 0 ° C. in a two-necked flask in the thiophene derivative (4.05 g, 20 mmol), pyridine (4.7 g, 60 mmol), and anhydrous dichloromethane (20 mL) shown in the above scheme. ) Was added and the mixture was stirred for 6 hours. After completion of the reaction, water was added to stop the reaction, and then extraction was performed with dichloromethane. The solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 5.45 g (yield 77%) of the target compound.

合成例3:
チエノ[3,2-c]ピリジンの合成(工程4)
Synthesis example 3:
Synthesis of Thieno [3,2-c] Pyridine (Step 4)

Figure 0007097573000063
Figure 0007097573000063

100mLフラスコに、上記スキームに示したチオフェン(5.45g,15mmol)、塩酸(5mL)、および1,4-ジオキサン(20mL)を入れ、一晩還流した。反応終了後、水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和し、ジクロロメタンにより抽出を行った。溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製、目的化合物を1.37g(収率66%)得た。 Thiophene (5.45 g, 15 mmol), hydrochloric acid (5 mL), and 1,4-dioxane (20 mL) shown in the above scheme were placed in a 100 mL flask and refluxed overnight. After completion of the reaction, the mixture was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution and extracted with dichloromethane. The solvent was concentrated and purified by silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 1.37 g (yield 66%) of the target compound.

合成例4:
チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシドの合成(工程1)
Synthesis example 4:
Synthesis of Thieno [3,2-c] Pyridine-N-Oxide (Step 1)

Figure 0007097573000064
Figure 0007097573000064

ナスフラスコにチエノピリジン(Thienopyridine)(1.37g,10.1mmol)、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)(2.6g,15mmol)、および無水ジクロロメタン(50mL)を入れ、-5℃で2日撹拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=20:1)を用いて精製しチエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド(Thienopyridine N-oxide)を520mg(収率34%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.29 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.66 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.72 (d, J =7.0 Hz, 1H), 8.17 (dd, J =1.6, 7.0 Hz, 1H), 8.76 (d, J =1.6 Hz, 1H).
Thienopyridine (1.37 g, 10.1 mmol), metachloroperbenzoic acid (mCPBA) (2.6 g, 15 mmol), and anhydrous dichloromethane (50 mL) were placed in an eggplant flask and stirred at −5 ° C. for 2 days. After completion of the reaction, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, and the organic layer was extracted with dichloromethane and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration, purification was performed using silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 20: 1) to obtain 520 mg (yield 34%) of thienopyridine-N-oxide. rice field.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.29 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.72 (d, J = 7.0 Hz, 1H), 8.17 (dd) , J = 1.6, 7.0 Hz, 1H), 8.76 (d, J = 1.6 Hz, 1H).

実施例1:
チエノテトラゾロピリジン(化合物(Tz-1))の合成(工程2)
Example 1:
Synthesis of Thienotetrazolopyridine (Compound (Tz-1)) (Step 2)

Figure 0007097573000065
Figure 0007097573000065

ねじ口試験管にチエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド(Thienopyridine N-oxide)(520mg,3.45mmol)、ジフェニルリン酸アジド(DPPA)(4.7g,17mmol)、および無水ピリジン(75mL,6.9mmol)を入れ、窒素雰囲気下、120℃で24時間撹拌した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CH2Cl2/MeOH=50:1)により精製することにより、チエノテトラゾロピリジン(Thienotetrazolopyridine)(化合物(Tz-1))を288mg(収率47%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.61 (d, J =7.3 Hz, 1H), 7.83 (d, J =5.4 Hz, 1H), 8.10 (d, J =5.4 Hz, 1H), 8.66 (d, J =7.3 Hz, 1H).
Thienopyridine-N-oxide (520 mg, 3.45 mmol), diphenylphosphoryl azide (DPPA) (4.7 g, 17 mmol), and anhydrous pyridine in a screw cap test tube. (75 mL, 6.9 mmol) was added, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. By directly purifying the reaction solution by silica gel column chromatography (CH 2 Cl 2 / MeOH = 50: 1), 288 mg (yield 47%) of Thienotetrazolopyridine (compound (Tz-1)) was obtained. rice field.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.61 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 8.10 (d, J = 5.4 Hz, 1H), 8.66 (d) , J = 7.3 Hz, 1H).

合成例5:
2-トリブチルスタンニルチエノ[3,2-c]ピリジンの合成
Synthesis example 5:
Synthesis of 2-Tributylstannyl Thieno [3,2-c] Pyridine

Figure 0007097573000066
Figure 0007097573000066

2口フラスコにチエノピリジン(Thienopyridine)(408mg,3.0mmol)、および無水テトラヒドロフラン(30mL)中、-78℃でジイソプロピルアミン(0.21mL,5.4mmol)、ブチルリチウム(2.6M,1.7mL)より発生させたリチウムジイソプロピルアミド(LDA)を加え1時間撹拌した。次いで、塩化トリブチルスズ(1.3mL,4.8mmol)を加え室温でさらに2時間撹拌した。水を加え反応停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮しアルミナカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を1.83g定量的に得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-0.95 (m, 9H), 1.20-1.41 (m, 12H), 1.49-1.69 (m, 6H), 7.47 (s, 1H), 7.79 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.35 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.09 (s, 1H).
Diisopropylamine (0.21 mL, 5.4 mmol), butyllithium (2.6 M, 1.7 mL) at −78 ° C. in thienopyridine (408 mg, 3.0 mmol) and anhydrous tetrahydrofuran (30 mL) in a two-necked flask. ), Lithium diisopropylamide (LDA) was added, and the mixture was stirred for 1 hour. Then, tributyltin chloride (1.3 mL, 4.8 mmol) was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. After stopping the reaction by adding water, extraction was performed with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified using alumina column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to quantitatively obtain 1.83 g of the target compound.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-0.95 (m, 9H), 1.20-1.41 (m, 12H), 1.49-1.69 (m, 6H), 7.47 (s, 1H), 7.79 (d, J) = 5.5 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 9.09 (s, 1H).

合成例6:
1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)ベンゼンの合成(工程11)
Synthesis example 6:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) benzene (step 11)

Figure 0007097573000067
Figure 0007097573000067

耐圧試験管に2,5-dibromo-1,4-hexyloxybenzene(143mg,0.33mmol)、2-stannylthienopyridine(425mg,1.0mmol)、Pd(PPh34(38mg,0.033mmol)、および無水トルエン(2mL)を入れ、マイクロウェーブ反応装置を用い180℃で10分撹拌した。反応終了後、溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=5:1)を用いて精製し、目的化合物(黄色固体)を71mg(収率38%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, J =7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J =6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).
2,5-dibromo-1,4-hexyloxybenzene (143 mg, 0.33 mmol), 2-stannylthienopyridine (425 mg, 1.0 mmol), Pd (PPh 3 ) 4 (38 mg, 0.033 mmol), and anhydrous in pressure test tubes. Toluene (2 mL) was added, and the mixture was stirred at 180 ° C. for 10 minutes using a microwave reactor. After completion of the reaction, the solvent was concentrated and purified by silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 5: 1) to obtain 71 mg (yield 38%) of the target compound (yellow solid).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.87 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).

合成例7:
1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)ベンゼンの合成(工程12)
Synthesis example 7:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thieno [3,2-c] pyridin-N-oxide-2-yl) benzene (step 12)

Figure 0007097573000068
Figure 0007097573000068

mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温、反応時間を14時間とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(230mg,収率51%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, J =7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J =6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).
The mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents, and the synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was room temperature and the reaction time was 14 hours (230 mg, yield 51%). ..
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.87 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).

実施例2:
1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)ベンゼン(化合物(Tz-2))の合成(工程13)
Example 2:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thienotetrazolopyridine-2-yl) benzene (compound (Tz-2)) (step 13)

Figure 0007097573000069
Figure 0007097573000069

DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-2)の合成を行った(21mg,収率16%)。 The compound (Tz-2) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that DPPA was 10 equivalents and anhydrous pyridine was 4 equivalents (21 mg, yield 16%).

合成例8:
4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)ジチオフェンの合成(工程11)
Synthesis example 8:
Synthesis of 4,4'-dihexyl-5,5'-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) dithiophene (step 11)

Figure 0007097573000070
Figure 0007097573000070

スズ体の原料を2.5当量とした以外、合成例6と同様にして合成を行った(53mg,収率14%)。 The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the raw material of the tin body was 2.5 equivalents (53 mg, yield 14%).

合成例9:
4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)ジチオフェンの合成(工程12)
Synthesis example 9:
Synthesis of 4,4'-dihexyl-5,5'-bis (thieno [3,2-c] pyridin-N-oxide-2-yl) dithiophene (step 12)

Figure 0007097573000071
Figure 0007097573000071

mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(57mg,収率98%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.79-0.90 (m, 3H), 1.16-1.44 (m, 6H), 1.52-1.69 (m, 2H), 2.78 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.29 (s, 1H), 7.65 (s, 1H), 7.71 (d, J=5.5 Hz, 1H), 8.16 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.74 (s, 1H).
The mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents, and the synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was set to room temperature (57 mg, yield 98%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.79-0.90 (m, 3H), 1.16-1.44 (m, 6H), 1.52-1.69 (m, 2H), 2.78 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.29 (s, 1H), 7.65 (s, 1H), 7.71 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.16 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.74 (s, 1H).

実施例3:
4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)ジチオフェン(化合物(Tz-3))の合成(工程13)
Example 3:
Synthesis of 4,4'-dihexyl-5,5'-bis (thienotetrazolopyridine-2-yl) dithiophene (compound (Tz-3)) (step 13)

Figure 0007097573000072
Figure 0007097573000072

DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-3)の合成を行った(33mg,収率54%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.30-1.46 (m, 6H), 1.68-1.78 (m, 2H), 2.86 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.13 (s, 1H), 7.56 (d, J =7.3 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.65 (d, J =7.3 Hz, 1H).
Compound (Tz-3) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that DPPA was 10 equivalents and anhydrous pyridine was 4 equivalents (33 mg, yield 54%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 1.30-1.46 (m, 6H), 1.68-1.78 (m, 2H), 2.86 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.13 (s, 1H), 7.56 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.65 (d, J = 7.3 Hz, 1H).

合成例10:
1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程11)
Synthesis example 10:
Synthesis of 1,3-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step 11)

Figure 0007097573000073
Figure 0007097573000073

合成例6と同様にして合成を行った(220mg,quant.)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.29-1.38 (m, 2H), 1.57-1.76 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.06 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J=5.5 Hz, 1H), 9.17 (s, 1H).
Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 6 (220 mg, quant.).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 1.29-1.38 (m, 2H), 1.57-1.76 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.06 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 9.17 (s, 1H).

合成例11:
1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程12)
Synthesis example 11:
Synthesis of 1,3-bis (thieno [3,2-c] pyridin-N-oxide-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step) 12)

Figure 0007097573000074
Figure 0007097573000074

mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(134mg,収率58%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.90 (br t, 3H), 1.29-1.38 (br m, 2H), 1.57-1.76 (br m, 2H), 2.75 (br t, 2H), 7.80 (br d, 1H), 8.08 (br s, 1H), 8.38 (br s, 1H), 8.44 (br d, 1H), 8.99 (s, 1H).
The mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents, and the synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was set to room temperature (134 mg, yield 58%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (br t, 3H), 1.29-1.38 (br m, 2H), 1.57-1.76 (br m, 2H), 2.75 (br t, 2H), 7.80 (br d, 1H), 8.08 (br s, 1H), 8.38 (br s, 1H), 8.44 (br d, 1H), 8.99 (s, 1H).

実施例4:
1,3-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオン(化合物(Tz-4))の合成(工程13)
Example 4:
Synthesis of 1,3-bis (thienotetrazolopyridine-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (compound (Tz-4)) (step 13) )

Figure 0007097573000075
Figure 0007097573000075

DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-4)の合成を行った(39mg,収率28%)。 The compound (Tz-4) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that DPPA was 10 equivalents and anhydrous pyridine was 4 equivalents (39 mg, yield 28%).

実施例5:
実施例4で得られた化合物(Tz-4)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(Tz-4-1)を得ることができると考えられる。

Figure 0007097573000076
Example 5:
It is considered that the compound (Tz-4-1) can be obtained by reacting the compound (Tz-4) obtained in Example 4 with the oxidizing agent.
Figure 0007097573000076

合成例12:
ジチエノピリジン-N-オキシドの合成(工程1)
Synthesis example 12:
Synthesis of dithienopyridine-N-oxide (step 1)

Figure 0007097573000077
Figure 0007097573000077

ジチエノピリジン(Dithienopyridine)を論文(Synthesis, 1989, 2, 130.)を参考に合成した。次いで、原料をチエノピリジン(thienopyridine)からジチエノピリジン(dithienopyridine)へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(333mg,収率80%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.40 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.57 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.61 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.98 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.85 (s, 1H).
Dithienopyridine was synthesized with reference to the paper (Synthesis, 1989, 2, 130.). Next, the raw material was changed from thienopyridine to dithienopyridine, and synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was set to room temperature (333 mg, yield 80%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.40 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.57 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.61 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.98 (d) , J = 5.5 Hz, 1H), 8.85 (s, 1H).

実施例6:
ジチエノテトラゾロピリジン(化合物(Tz-5))の合成(工程2)
Example 6:
Synthesis of dithienotetrazolopyridine (compound (Tz-5)) (step 2)

Figure 0007097573000078
Figure 0007097573000078

実施例1と同様にして化合物(Tz-5)の合成を行った(94mg,収率81%)。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.70 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.08 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.12 (d, J =5.5 Hz, 1H).Compound (Tz-5) was synthesized in the same manner as in Example 1 (94 mg, yield 81%). 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.70 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.08 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.12 (d) , J = 5.5 Hz, 1H).

合成例13:
1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程11)
Synthesis example 13:
Synthesis of 1,3-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step 11)

Figure 0007097573000079
Figure 0007097573000079

攪拌時間を20分に変更した以外は、合成例6と同様にして合成を行った(103mg,収率51%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.74 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.80 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.17 (s, 1H).
The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the stirring time was changed to 20 minutes (103 mg, yield 51%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.74 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.17 (s, 1H).

合成例14:
1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程12)
Synthesis example 14:
Synthesis of 1,3-bis (thieno [3,2-c] pyridin-N-oxide-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step) 12)

Figure 0007097573000080
Figure 0007097573000080

mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を-5℃から0℃に変更した以外は、合成例4と同様にして合成を行った(47mg,44%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (m, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.39 (br d, 1H), 7.53 (br d, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.96 (s, 1H), 8.89 (s, 1H).
The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents and the reaction temperature was changed from −5 ° C. to 0 ° C. (47 mg, 44%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (m, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.39 ( br d, 1H), 7.53 (br d, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.96 (s, 1H), 8.89 (s, 1H).

実施例7:
1,3-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオン(化合物(Tz-10))の合成(工程13)
Example 7:
Synthesis of 1,3-bis (thienotetrazolopyridine-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (compound (Tz-10)) (step 13) )

Figure 0007097573000081
Figure 0007097573000081

DPPAを10当量、無水ピリジンを10当量とした以外は、実施例1と同様にして化合物(Tz-10)の合成を行った(22mg,44%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.77 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.63 (d, J =7.7 Hz, 1H), 8.10 (s, 1H), 8.70 (s, 1H), 8.73 (d, J =7.7 Hz, 1H).
Compound (Tz-10) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that DPPA was 10 equivalents and anhydrous pyridine was 10 equivalents (22 mg, 44%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.77 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 8.10 (s, 1H), 8.70 (s, 1H), 8.73 (d, J = 7.7 Hz, 1H).

実施例8:
実施例7で得られた上記化合物(Tz-10)と、酸化剤とを反応させることにより、下記化合物(Tz-10-1)を得ることができると考えられる。
Example 8:
It is considered that the following compound (Tz-10-1) can be obtained by reacting the above compound (Tz-10) obtained in Example 7 with an oxidizing agent.

Figure 0007097573000082
Figure 0007097573000082

実施例9:
ナスフラスコに、下記スキームに示すThienotetrazolopyridine(115mg、0.15mmol)、mCPBA(0.43g、1.5mmol)、および無水ジクロロメタン(10mL)を入れ、還流下で2日間撹拌する。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させる。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=10:1)を用いて精製すると、下記スキームに示す混合物が得られると考えられる。
Example 9:
In an eggplant flask, Thienotetrazolopyridine (115 mg, 0.15 mmol), mCPBA (0.43 g, 1.5 mmol), and anhydrous dichloromethane (10 mL) shown in the following scheme are placed and stirred under reflux for 2 days. After completion of the reaction, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added, the organic layer is extracted with dichloromethane, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration, purification using silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 10: 1) is considered to give the mixture shown in the scheme below.

Figure 0007097573000083
Figure 0007097573000083

合成例15:
4,9-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-N,N-ジエチルヘキシル-1,2,3,6,7,8-ヘキサヒドロピレン-2,7-ジアザ-1,3,6,8-テトラオンの合成
Synthesis example 15:
4,9-bis (thieno [3,2-c] pyridin-N-oxide-2-yl) -N, N-diazahexyl-1,2,3,6,7,8-hexahydropyrene-2, Synthesis of 7-diaza-1,3,6,8-tetraone

Figure 0007097573000084
Figure 0007097573000084

mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を-5℃から0℃に変更した以外は、合成例4と同様にして合成を行った。(98mg,77%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-1.00 (m, 6H), 1.14-1.45 (m, 8H), 1.74-1.97 (m, 2H), 4.05 (m, 2H), 7.35 (s, 1H), 7.50 (s, 1H), 7.75 (d, J =6.3 Hz, 2H), 8.23 (d, J =6.3 Hz, 2H), 8.76 (s, 1H).
The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4, except that the mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents and the reaction temperature was changed from −5 ° C. to 0 ° C. (98 mg, 77%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-1.00 (m, 6H), 1.14-1.45 (m, 8H), 1.74-1.97 (m, 2H), 4.05 (m, 2H), 7.35 (s, 1H) ), 7.50 (s, 1H), 7.75 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 8.23 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 8.76 (s, 1H).

実施例10:
4,9-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-N,N-ジエチルヘキシル-1,2,3,6,7,8-ヘキサヒドロピレン-2,7-ジアザ-1,3,6,8-テトラオン(化合物(Tz-11))の合成
Example 10:
4,9-Bis (thienotetrazolopyridine-2-yl) -N, N-diethylhexyl-1,2,3,6,7,8-hexahydropyrene-2,7-diaza-1,3,6 , 8-Tetraone (Compound (Tz-11))

Figure 0007097573000085
Figure 0007097573000085

DPPAを10当量,無水ピリジンを10当量とし、反応時間を20時間とした以外は、実施例1と同様にして合成を行った(17mg,収率15%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-1.00 (m, 12H), 1.14-1.45 (m, 16H), 1.74-1.97 (m, 4H), 4.05 (m, 2H), 7.65 (d, J =7.2 Hz, 2H), 8.16 (s, 2H), 8.74 (d, J =7.2 Hz, 2H), 8.84 (s, 2H).
Synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 except that DPPA was 10 equivalents, anhydrous pyridine was 10 equivalents, and the reaction time was 20 hours (17 mg, yield 15%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-1.00 (m, 12H), 1.14-1.45 (m, 16H), 1.74-1.97 (m, 4H), 4.05 (m, 2H), 7.65 (d, J) = 7.2 Hz, 2H), 8.16 (s, 2H), 8.74 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 8.84 (s, 2H).

合成例16:
ジブロモジチエノピリジンの合成
Synthesis example 16:
Synthesis of dibromodithienopyridine

Figure 0007097573000086
Figure 0007097573000086

2口フラスコに、ジチエノピリジン(Dithienopyridine)(100mg,0.5mmol)、および無水THF(10mL)中、-78℃でブチルリチウム(2.6M,0.7mL)を加え1時間撹拌したのち、臭素(0.06mL,1.1mmol)を加え室温でさらに2時間撹拌した。水を加え反応停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮しカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を得た(110mg,収率62%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.50 (s, 1H), 7.61 (s, 1H), 8.90 (s, 1H).
In a two-necked flask, butyl lithium (2.6 M, 0.7 mL) was added at −78 ° C. in dithienopyridine (100 mg, 0.5 mmol) and anhydrous THF (10 mL), and the mixture was stirred for 1 hour and then bromine. (0.06 mL, 1.1 mmol) was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. After stopping the reaction by adding water, extraction was performed with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified by column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain the target compound (110 mg, 62% yield).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.50 (s, 1H), 7.61 (s, 1H), 8.90 (s, 1H).

合成例17:
ジブロモジチエノピリジン-N-オキシドの合成
Synthesis example 17:
Synthesis of dibromodithienopyridine-N-oxide

Figure 0007097573000087
Figure 0007097573000087

反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして上記スキームに示す合成を行った(228mg,収率42%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 8.59 (s, 1H).
The synthesis shown in the above scheme was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was set to room temperature (228 mg, yield 42%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.35 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 8.59 (s, 1H).

実施例11:
ジブロモジチエノテトラピリジンの合成
Example 11:
Synthesis of dibromodithienotetrapyridine

Figure 0007097573000088
Figure 0007097573000088

実施例1と同様にして上記スキームに示す合成を行った(55mg,収率28%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.07 (s, 1H), 8.08 (s, 1H).
The synthesis shown in the above scheme was carried out in the same manner as in Example 1 (55 mg, yield 28%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 8.07 (s, 1H), 8.08 (s, 1H).

合成例18:
窒素雰囲気下、ねじ口試験管に、下記スキームに示す4-bromo-tert-butylbenzene(640mg、3mmol)、2-stnnylthienopyridine(1.53g、3.6mmol)、Pd(PPh34(346mg、0.3mmol)、および無水トルエン(5mL)を入れ、マイクロウェーブ反応装置で、180℃で10分加熱撹拌した。反応終了後、溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=5:1)を用いて精製し、目的化合物を876mg得た。
Synthesis example 18:
In a nitrogen atmosphere, in a screw cap test tube, 4-bromo-tert-butylbenzene (640 mg, 3 mmol), 2-stnnylthienopyridine (1.53 g, 3.6 mmol), Pd (PPh 3 ) 4 (346 mg, 0) shown in the following scheme. .3 mmol) and anhydrous toluene (5 mL) were added, and the mixture was heated and stirred at 180 ° C. for 10 minutes with a microwave reactor. After completion of the reaction, the solvent was concentrated and purified by silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 5: 1) to obtain 876 mg of the target compound.

Figure 0007097573000089
Figure 0007097573000089

合成例19:
ナスフラスコに、下記スキームに示すThienopyridine(876mg、3mmol)、mCPBA(1.29g、4.5mmol)、および無水ジクロロメタン(20mL)を入れ、室温で16時間撹拌した。反応終了後,飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=20:1)を用いて精製しN-oxideを607mg得た(収率71%)。
Synthesis example 19:
Thienopyridine (876 mg, 3 mmol), mCPBA (1.29 g, 4.5 mmol), and anhydrous dichloromethane (20 mL) shown in the following scheme were placed in an eggplant flask and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution was added, the organic layer was extracted with dichloromethane, and dried over anhydrous sodium sulfate. After concentration, purification was performed using silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 20: 1) to obtain 607 mg of N-oxide (yield 71%).

Figure 0007097573000090
Figure 0007097573000090

合成例20:
ねじ口試験官に、下記スキームに示すN-oxide(607mg、2.1mmol)、H22(2mL、ca.21mmol)、および酢酸(10mL)を入れ、80℃で2時間撹拌した。反応液に水を入れ濾過し、メタノールで洗浄することにより、目的化合物を337mg(収率50%)得た。
Synthesis example 20:
N-oxide (607 mg, 2.1 mmol), H 2 O 2 (2 mL, ca. 21 mmol), and acetic acid (10 mL) shown in the following scheme were added to the screw cap examiner, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. Water was added to the reaction mixture, filtered, and washed with methanol to obtain 337 mg (yield 50%) of the target compound.

Figure 0007097573000091
Figure 0007097573000091

実施例12:
窒素雰囲気下、ねじ口試験官に、下記スキームに示すN-oxide(337mg、1mmol)、DPPA(1.2g、5mmol)、および無水ピリジン(395mg、5mmol)を入れ、窒素雰囲気、120℃で24時間撹拌する。その結果、下記スキームに示す目的化合物が得られると考えられる。
Example 12:
Under a nitrogen atmosphere, N-oxide (337 mg, 1 mmol), DPPA (1.2 g, 5 mmol), and anhydrous pyridine (395 mg, 5 mmol) shown in the following scheme were added to the screw cap examiner in a nitrogen atmosphere at 120 ° C. at 24 ° C. Stir for hours. As a result, it is considered that the target compound shown in the following scheme can be obtained.

Figure 0007097573000092
Figure 0007097573000092

合成例21:
2,6-ビス(トリメチルスタンニル-ジチオフェン(BDT-SnMe3)の合成
Synthesis example 21:
Synthesis of 2,6-bis (trimethylstannyl-dithiophene (BDT-SnMe 3 ))

Figure 0007097573000093
Figure 0007097573000093

2口フラスコに、上記スキームに示すベンゾジチオフェン誘導体(360mg,0.59mmol)、および無水THF(20mL)を入れ、-78℃でブチルリチウム(2.6M,0.5mL)を加え1時間撹拌した。その後、塩化トリメチルスズ(1M,1.48mL)を加え、室温でさらに一晩撹拌した。水を加えて反応を停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮し、アルミナカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、GPCにより目的化合物を332mg(収率72%)得た。 The benzodithiophene derivative (360 mg, 0.59 mmol) and anhydrous THF (20 mL) shown in the above scheme are placed in a two-necked flask, butyllithium (2.6 M, 0.5 mL) is added at −78 ° C., and the mixture is stirred for 1 hour. did. Then, trimethyltin chloride (1M, 1.48 mL) was added, and the mixture was further stirred overnight at room temperature. After stopping the reaction by adding water, extraction was performed with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified using alumina column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 332 mg (yield 72%) of the target compound by GPC.

実施例13:
高分子化合物の合成
Example 13:
Synthesis of polymer compounds

Figure 0007097573000094
Figure 0007097573000094

耐圧試験管にジブロモジチエノテトラゾロピリジン(10mg,0.025mmol)、BDT-SnMe3(1.0当量)、Pd2(dba)3(5mol%)、P(o-tol)3(20mol%)および無水トルエン(4mL)、DMF(1mL)を入れ、80℃で2日加熱撹拌した。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、得られた固体はソックスレー抽出した(メタノール、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム)。そのうちクロロホルム抽出分の溶媒を濃縮し目的化合物(赤色固体)を11mg(M=2300,M/M=1.47)得た。このポリマーは溶解性が高いので、分取GPCを使い高分子量成分だけ回収した。フラクション1(Fr1)は、M=8900,M/M=1.49,フラクション2(Fr2)は、M=4800,M/M=1.40であった。Dibromodithienotetrazolopyridine (10 mg, 0.025 mmol), BDT-SnMe 3 (1.0 eq), Pd 2 (dba) 3 (5 mol%), P (o-tol) 3 (20 mol%) in a pressure resistant test tube. ), Anhydrous toluene (4 mL) and DMF (1 mL) were added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 days. After completion of the reaction, reprecipitation was carried out with methanol, and the obtained solid was extracted with Soxhlet (methanol, acetone, methylene chloride, chloroform). Of these, the solvent extracted from chloroform was concentrated to obtain 11 mg ( Mn = 2300, Mw / Mn = 1.47) of the target compound (red solid). Since this polymer has high solubility, only high molecular weight components were recovered using preparative GPC. Fraction 1 (Fr1) had M n = 8900, M w / M n = 1.49, and fraction 2 (Fr2) had M n = 4800, M w / M n = 1.40.

密度汎関数法によるシミュレーション
下記式で表される化合物について、それぞれ、密度汎関数法によるシミュレーションを行って、LUMO準位、HOMO準位を計算した。結果を表9に示す。なお、溶解性の関係から、上記化合物の合成は長鎖の置換基の化合物について行った。一方、エネルギー準位(HOMO/LUMO)は置換基の長短で大きく変わらないところ、分子の数が増加すると計算時間に長時間を要するため、シミュレーションは短鎖の置換基の化合物について行うこととした。
Simulation by Density Functional Theory The LUMO level and HOMO level were calculated by simulating the compounds represented by the following equations by the density functional theory, respectively. The results are shown in Table 9. In addition, because of the solubility, the synthesis of the above compound was carried out for the compound having a long-chain substituent. On the other hand, the energy level (HOMO / LUMO) does not change significantly depending on the length of the substituent, but it takes a long time to calculate when the number of molecules increases. Therefore, the simulation was performed for the short-chain substituent compound. ..

Figure 0007097573000095
Figure 0007097573000095

Figure 0007097573000096
Figure 0007097573000096

上記シミュレーションにより、本発明の化合物は、LUMO準位を低くできており、有機半導体材料として有用であることが明らかになった。 From the above simulation, it was clarified that the compound of the present invention was able to lower the LUMO level and was useful as an organic semiconductor material.

本発明の化合物は、電子受容性が高く、LUMO準位を低く維持できるため、有機電子デバイス、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 Since the compound of the present invention has high electron acceptability and can maintain a low LUMO level, organic electronic devices such as organic electroluminescence devices, organic thin film devices and other organic electrodevices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, and organic substances are used. It is useful for electronic devices, solar cells, solar cell modules, etc.

Claims (8)

下記式(1)~(3)のいずれかで表される化合物。
Figure 0007097573000097

[式(1)~(3)中、
1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。]
A compound represented by any of the following formulas (1) to (3).
Figure 0007097573000097

[In equations (1) to (3),
Y 1 and Y 2 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one -SO 2- as a component of the ring. ]
1及びY2が、それぞれ独立に、下記式(Y1)または(Y2)で表される複素環である請求項1に記載の化合物。
Figure 0007097573000098

[式(Y1)または(Y2)中、
1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。
p1は0~2の整数、p2は0~1の整数を表す。
*a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。]
The compound according to claim 1, wherein Y 1 and Y 2 are heterocycles represented by the following formulas (Y1) or (Y2) independently.
Figure 0007097573000098

[In equation (Y1) or (Y2),
R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or an alkyl halide group.
p1 represents an integer of 0 to 2, and p2 represents an integer of 0 to 1.
One of * a and * b is * 1 in the equations (1) to (3), and the other is * 2. ]
下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物。
Figure 0007097573000099

[式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、
1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
Dは、結合手を表す。]
A compound having a structural unit represented by any of the following formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID).
Figure 0007097573000099

[In formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID),
Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one —SO 2- as a ring component.
D represents a bond. ]
下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)のいずれかで表される請求項3に記載の化合物。
Figure 0007097573000100

[式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)中、
1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
1は、置換基を有していてもよい芳香族環を表す。
n1及びn2は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。
3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。]
The compound according to claim 3, which is represented by any of the following formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J).
Figure 0007097573000100

[In formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J),
Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one —SO 2- as a ring component.
A 1 represents an aromatic ring which may have a substituent.
n1 and n2 each independently represent an integer of 1 or more.
R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. ]
式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物。
Figure 0007097573000101

[式(I)中、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。]
A polymer compound having a structural unit represented by the formula (I) and one or more donor units.
Figure 0007097573000101

[In formula (I), Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocycle containing at least one —SO 2- as a ring component. ]
前記ドナー性ユニットが、式(Dn-1)~(Dn-15)のいずれかで表される構造単位である請求項5に記載の高分子化合物。
Figure 0007097573000102

[式(Dn-1)~(Dn-15)中、
30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。
31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。
*は、結合手を表す。]
The polymer compound according to claim 5, wherein the donor unit is a structural unit represented by any of the formulas (Dn-1) to (Dn-15).
Figure 0007097573000102

[In equations (Dn-1) to (Dn-15),
R 30 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group.
R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group.
* Represents a bond. ]
請求項1~4のいずれかに記載の化合物又は請求項5または6に記載の高分子化合物を含む有機半導体材料。 An organic semiconductor material containing the compound according to any one of claims 1 to 4 or the polymer compound according to claim 5 or 6. 請求項7に記載の有機半導体材料を含む有機電子デバイス。 An organic electronic device including the organic semiconductor material according to claim 7.
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