JP7101453B2

JP7101453B2 - セラミック製ろ過膜の洗浄方法、ろ過膜装置及びろ過容器

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Publication number: JP7101453B2
Application number: JP2016181716A
Authority: JP
Inventors: 佳介瀧口
Original assignee: Organo Corp
Current assignee: Organo Corp
Priority date: 2016-09-16
Filing date: 2016-09-16
Publication date: 2022-07-15
Anticipated expiration: 2036-09-16
Also published as: JP2018043217A

Description

本発明は、セラミック製ろ過膜の洗浄方法、ろ過膜装置及びろ過容器に関する。

ろ過膜の洗浄方法としては、ろ過膜の二次側から処理水を通水する逆洗や、膜の一次側に気体を供給する気体洗浄等の物理洗浄が挙げられる。物理洗浄は、ろ過膜で処理する被処理水の水質等にもよるが、例えば、３０分～数時間毎に１回の頻度で行われる。

また、物理洗浄では除去できない膜閉塞物質がろ過膜上に堆積する場合には、酸化剤、アルカリ剤、酸剤等の薬品を使用した化学洗浄等が物理洗浄と共に行われる。

しかし、化学洗浄では、薬品コストや洗浄廃液の処理コスト等が問題となるため、化学洗浄の頻度を減らすことが望まれている。

そこで、ろ過膜より上流側で、被処理水に凝集剤を添加する凝集沈殿処理を行うこと（例えば、特許文献１参照）、或いは物理洗浄の際に酸化剤をろ過膜に供給すること（例えば、特許文献２参照）で、化学洗浄の頻度を減らす例があるが、いずれも凝集剤や酸化剤等の薬品を使用することになる。

特開平８－１１７７４７号公報特開平８－１９７０５３号公報

ところで、ろ過膜にはセラミック製ろ過膜があるが、セラミック製ろ過膜は、一般的な有機膜と比べてアルカリ性薬品に対する耐薬品性が低い場合があるため、化学洗浄の頻度を減らすことが求められる。

そこで、本発明の目的は、化学洗浄の頻度を減らすことが可能なセラミック製ろ過膜の洗浄方法、ろ過膜装置及びろ過容器を提供することにある。

本実施形態は、被処理水を膜ろ過した後のセラミック製ろ過膜の一次側に蒸気を噴射して、前記セラミック製ろ過膜を洗浄する蒸気洗浄工程を有し、前記ろ過膜は、水槽内の被処理水に浸漬された浸漬型ろ過膜であり、前記蒸気洗浄工程は、前記ろ過膜を大気中に露出させた後に実施され、前記蒸気により前記セラミック製ろ過膜の一次側に堆積したケーキを掻き取るセラミック製ろ過膜の洗浄方法である。なお、膜ろ過後の蒸気噴射とは、膜ろ過後のセラミック製ろ過膜に蒸気を噴射する場合に制限されるものではなく、膜ろ過後のセラミック製ろ過膜に逆洗等の物理洗浄等を行った後、セラミック製ろ過膜に蒸気を噴射する場合等も含まれる。

前記セラミック製ろ過膜の洗浄方法において、前記蒸気洗浄工程前、または前記蒸気洗浄工程後に、前記被処理水を膜ろ過した処理水を前記ろ過膜の二次側から供給する逆洗工程をさらに有することが好ましい。

前記セラミック製ろ過膜の洗浄方法において、前記逆洗工程は、前記ろ過膜の一次側に気体を供給するエアスクラビングを行う工程をさらに有することが好ましい。

本実施形態は、被処理水を膜ろ過処理するセラミック製ろ過膜と、前記ろ過膜の一次側に蒸気を噴射して前記ろ過膜を洗浄する蒸気噴射手段と、前記ろ過膜を大気中に露出させる機構と、を有し、前記ろ過膜は、水槽内の被処理水に浸漬された浸漬型ろ過膜であり、前記蒸気噴射手段による前記ろ過膜の洗浄は、前記機構により前記ろ過膜を大気中に露出させた後に実施され、前記蒸気により前記ろ過膜の一次側に堆積したケーキを掻き取るろ過膜装置である。

前記ろ過膜装置において、前記膜ろ過処理で得られた処理水を前記ろ過膜の二次側より供給して前記ろ過膜の一次側に排出する逆洗処理を行う逆洗手段をさらに有し、前記蒸気噴射手段は、前記逆洗手段により逆洗処理を行う前又は行った後に、蒸気を噴射して前記ろ過膜を洗浄することが好ましい。

前記セラミック製ろ過膜の洗浄方法において、前記蒸気洗浄工程における蒸気の噴射圧力は、０．０８ＭＰａ～０．３０ＭＰａの範囲であることが好ましい。

前記ろ過膜装置において、前記セラミック製ろ過膜は、容器内に収容され、前記蒸気噴射手段は、前記容器内のろ過膜に蒸気を噴射するように前記容器に設けられたノズルを有し、前記ノズルから噴射される蒸気の噴射圧力は、０．０８ＭＰａ～０．３０ＭＰａの範囲であることが好ましい。

前記ろ過膜装置において、前記機構は、前記水槽内の前記被処理水を前記水槽外へ排出させ、前記ろ過膜を大気中に露出させる機構、及び、前記水槽内の前記ろ過膜を引き上げ、前記ろ過膜を大気中に露出させる機構のうちの少なくともいずれか一方であることが好ましい。
本実施形態は、セラミック製ろ過膜に蒸気を噴射して前記ろ過膜を洗浄する蒸気噴射手段を有する、ろ過容器である。

本発明によれば、化学洗浄の頻度を減らすことが可能なセラミック製ろ過膜の洗浄方法、ろ過膜装置及びろ過容器を提供することができる。

本実施形態に係るセラミック製ろ過膜の洗浄装置を備える膜ろ過システムの構成の一例を示す概略構成図である。膜モジュールとジェットノズルを設置した分配管３０との配置状態の一例を示す模式上面図である。本実施形態に係るセラミック製ろ過膜の洗浄装置を備える膜ろ過システムの構成の他の一例を示す概略構成図である。実施例５の通水結果を示す図である。

本発明の実施形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。

図１は、本実施形態に係るセラミック製ろ過膜の洗浄装置を備える膜ろ過システムの構成の一例を示す概略構成図である。図１に示す膜ろ過システム１は、原水槽１０、ろ過水槽１２、膜モジュール１４、処理水槽１６、セラミック製ろ過膜の洗浄装置（以下、蒸気洗浄装置と称する）、散気装置１８、コンプレッサ２０を備える。

図１に示す膜モジュール１４は、ろ過水槽１２内に設置された浸漬型膜モジュールであり、セラミック製ろ過膜２２及び集水配管２４を備えている。

本実施形態に係る蒸気浄装置は、膜モジュール１４のセラミック製ろ過膜２２に蒸気を噴射して、膜を洗浄するためのものである。図１に示す蒸気洗浄装置は、蒸気発生器２６、蒸気供給配管２８、分配管３０、ジェットノズル３２を備えている。図１に示す分配管３０は、膜モジュール１４の上部に配置されている。また、分配管３０には、複数のジェットノズル３２が設置されている。

図１の膜ろ過システム１において、原水槽１０の出口とろ過水槽１２の入口とは、ポンプ３４を介して原水配管３６により接続されている。ろ過水槽１２内のセラミック製ろ過膜２２の内部は、膜を透過した処理水が流入する集水空間が形成されており、セラミック製ろ過膜２２の上端に設置された集水配管２４と連通している。また、集水配管２４と処理水槽１６の入口とは、ポンプ３８を介してろ過処理水配管４０により接続されている。また、処理水槽１６の逆洗水出口とろ過処理水配管４０はポンプ４２を介して逆洗水配管４４により接続されている。ろ過水槽１２の下部出口には下部排水管４６が接続されている。また、コンプレッサ２０と散気装置１８とは気体供給配管４８により接続されている。また、ジェットノズル３２が設置された分配管３０と蒸気発生器２６とは蒸気供給配管２８により接続されている。

図２は、膜モジュール１４とジェットノズル３２を設置した分配管３０との配置状態の一例を示す模式上面図（図１のろ過水槽１２の上部から見た図）である。図１の膜ろ過システム１において、分配管３０は、図２に示すように、膜モジュール１４の周囲を囲うように配設され、ジェットノズル３２が所定の間隔を空けて設置されている。ジェットノズル３２のノズル口３２ａは、蒸気をセラミック製ろ過膜２２に噴射できるように、膜モジュール１４（セラミック製ろ過膜２２）に向けられている。図２に示す分配管３０の形状、ジェットノズル３２の設置位置等は、一例であってこれに制限されるものではなく、例えば、セラミック製ろ過膜２２の形状、大きさ等に応じて、適宜変更されればよい。例えば、セラミック製ろ過膜２２が円筒状の場合、円環状の分配管３０を設置し、円環状の分配管３０に所定の間隔でジェットノズル３２を設置してもよい。また、例えば、セラミック製ろ過膜２２が直方体（平膜）の場合、当該ろ過膜２２を挟んで対向配置される一対の分配管３０を設置し、当該一対の分配管３０それぞれに所定の間隔でジェットノズル３２を設置してもよい。

本実施形態に係る膜ろ過システム１の動作の一例について説明する。

原水槽１０内には懸濁物質（例えば、固形物、汚泥、有機物、又は炭素繊維、鉄、アルミニウムといった無機物等の有価物等）を含む原水（被処理水）が貯留される。原水はポンプ３４により原水配管３６を通して、ろ過水槽１２に供給される。そして、ポンプ３８を稼働させて、ポンプ３８による吸引圧力（負圧）を、ろ過処理水配管４０を通じて膜モジュール１４に付与することにより、ろ過水槽１２内の原水が、膜モジュール１４のセラミック製ろ過膜２２を透過し、ろ過される。セラミック製ろ過膜２２を透過したろ過水（処理水）は、膜内の内部空間（二次側（処理水側））、集水配管２４、ろ過処理水配管４０を通り、処理水槽１６に供給される（ろ過工程）。処理水の少なくとも一部は、逆洗水として後述する逆洗処理に用いられてもよい。

このようなろ過処理を継続すると、原水中の懸濁物質によって、セラミック製ろ過膜２２の膜表面上にケーキが形成され、膜間差圧が上昇し、ろ過性能が低下してしまう。そこで、本実施形態では、所定時間ろ過処理を実施した後、以下の蒸気洗浄工程を実施する。

まず、ポンプ３４によるろ過水槽１２への原水の送液、及びポンプ３８による膜モジュール１４への吸引圧力の付与が停止された後、ろ過水槽１２内の原水が下部排水管４６から排出される。なお、下部排水管４６から排出された原水は原水槽１０に返送されることが望ましい。そして、蒸気発生器２６が稼働され、蒸気発生器２６により発生した蒸気が蒸気供給配管２８、分配管３０を通り、ジェットノズル３２から所定の圧力で、セラミック製ろ過膜２２に噴射される。ジェットノズル３２から噴射された蒸気により、セラミック製ろ過膜２２に堆積したケーキが剥離され、セラミック製ろ過膜２２が洗浄される（蒸気洗浄工程）。或いは、ポンプ３４によるろ過水槽１２への原水の送液、及びポンプ３８による膜モジュール１４への吸引圧力の付与が停止された後、膜モジュール１４を引き上げて、大気中に露出させた後、蒸気洗浄工程が実施されてもよい。

蒸気洗浄工程後には、原水槽１０内の原水がポンプ３４により原水配管３６を通してろ過水槽１２に供給され、下部排水管４６を通して排出されることが望ましい。これにより、蒸気洗浄工程により剥離されたケーキ（懸濁物質）は、原水と共に下部排水管４６を通して排出される。なお、懸濁物質に有価物が含まれる場合には、有価物を含む原水は、例えば、下部排水管４６から不図示の回収槽に供給（回収）されることが好ましい。なお、原水の代わりに処理水を用いてもよい。

本実施形態のように、ろ過工程後、蒸気洗浄工程を行うことで、セラミック製ろ過膜２２に堆積したケーキを除去することができる。したがって、セラミック製ろ過膜２２の洗浄において、化学洗浄を行う回数を減らすこと、ひいては薬品洗浄を行わない運転が可能となる。

蒸気発生器２６は、タンク内に貯留された水から蒸気を発生させる機器であり、例えば、日本電熱株式会社製大型蒸気発生装置が挙げられる。蒸気の温度は、セラミック製ろ過膜２２の洗浄効果の点で、例えば、８０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。

本実施形態では、ジェットノズル３２が設置された分配管３０が、膜モジュール１４の上部に設置されているが、これに制限されるものではなく、セラミック製ろ過膜２２の下部や側面に設置されていてもよい。セラミック製ろ過膜２２から剥離されたケーキが落下し易い点等から、ジェットノズル３２が設置された分配管３０を膜モジュール１４の上部に設置し、ジェットノズル３２から下方の膜モジュール１４に向けて蒸気を噴射することが好ましい。

蒸気の噴射圧力は、特に制限されるものではないが、セラミック製ろ過膜２２の洗浄効果の点等で、例えば、０．０８ＭＰａ～０．３０ＭＰａの範囲が好ましい。

蒸気の噴射角度は、セラミック製ろ過膜２２に対して垂直でもよいが、蒸気がセラミック製ろ過膜２２に接触する範囲を広くし、洗浄効果を高めることができる点で、例えば、セラミック製ろ過膜２２に対して４５°～９０°傾斜させることが好ましい。

また、ジェットノズル３２が設置された分配管３０は、処理水槽１６内に固定されていてもよいが、移動機構により、垂直方向（図の上下方向）等に移動してもよい。

本実施形態では、セラミック製ろ過膜２２の洗浄効果をより向上させる点で、蒸気洗浄工程と併せて、逆洗工程を実施してもよい。具体的には、ポンプ４２が稼働され、ろ過処理された処理水槽１６内の処理水が逆洗水配管４４、集水配管２４を通してセラミック製ろ過膜２２の内部空間（二次側）に供給され、ろ過膜２２を透過した逆洗排水が、ろ過水槽１２の下部排水管４６から排出される（逆洗工程）。この逆洗工程の前又は後で蒸気洗浄工程を行う。なお、逆洗工程の際には、コンプレッサ２０が稼働され、空気等の気体が気体供給配管４８を通して、膜モジュール１４に供給され、気体によりセラミック製ろ過膜２２を振動させるエアスクラビングを行っても良い。

蒸気洗浄工程の頻度は、原水水質や装置の運転条件により適宜決定されるが、蒸気発生に掛かるコスト等の点から、ろ過工程及び逆洗工程を複数回繰り返した後に、蒸気洗浄工程を行うのが望ましい。具体的には以下の運用が挙げられる。
（１）ろ過工程→逆洗工程→ろ過工程→逆洗工程→・・・→ろ過工程→蒸気洗浄工程→ろ過工程
（２）ろ過工程→逆洗工程→ろ過工程→逆洗工程→・・・→ろ過工程→蒸気洗浄工程→逆洗工程→ろ過工程
（３）ろ過工程→逆洗工程→ろ過工程→逆洗工程→・・・→ろ過工程→逆洗工程→蒸気洗浄工程→ろ過工程

膜モジュール１４において用いられるセラミック製ろ過膜２２は、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア等の無機膜である。セラミック製ろ過膜２２の孔径は、例えば、０．００１μｍ～０．１μｍの範囲、分画分子量では数千～数十万Ｄａの範囲であり、膜面積は、例えば、０．５ｍ^２～８０ｍ^２の範囲である。セラミック製ろ過膜２２の形状は、特に制限されるものではなく、例えば、管状膜、平膜等である。

膜モジュール１４は浸漬型に制限されるものではなく、槽外型の膜モジュールであってもよい。以下に、槽外型の膜モジュールを用いた膜処理システムの構成例を説明する。

図３は、本実施形態に係るセラミック製ろ過膜の洗浄装置を備える膜ろ過システムの構成の他の一例を示す概略構成図である。図３に示す膜ろ過システム２において、図１に示す膜ろ過システム１と同様の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。図３に示す膜ろ過システム２は、原水槽１０、槽外型の膜モジュール５０、処理水槽１６、蒸気洗浄装置（セラミック製ろ過膜の洗浄装置）、コンプレッサ２０を備える。槽外型の膜モジュール５０（以下、膜モジュール５０と称する）は、セラミック製ろ過膜を密閉可能な容器に収納したものである。

図３の膜ろ過システム２において、原水槽１０の出口と膜モジュール５０の一次側被処理水入口とは、ポンプ３４を介して原水配管３６により接続されている。膜モジュール５０の二次側出口と処理水槽１６の入口とは、ろ過処理水配管４０により接続されている。処理水槽１６の逆洗水出口とろ過処理水配管４０とは、ポンプ４２を介して逆洗水配管４４により接続されている。膜モジュール５０の一次側上部には、複数のジェットノズル３２が設置されている。ジェットノズル３２のノズル口は、膜モジュール５０内部のセラミック製ろ過膜に向けられている。ジェットノズル３２は、分配管３０に設置されており、分配管３０と蒸気発生器２６とは蒸気供給配管２８により接続されている。膜モジュール５０の一次側下部排水口には、下部排水管４６が接続されている。膜モジュール５０の一次側気体入口には、コンプレッサ２０が気体供給配管４８により接続されている。

本実施形態に係る膜ろ過システム２の動作の一例について説明する。

原水槽１０内の懸濁物質を含む原水は、ポンプ３４により原水配管３６を通して膜モジュール５０の一次側（原水側）に送液され、膜モジュール５０内のセラミック製ろ過膜によりろ過される。セラミック製ろ過膜を透過した処理水は、膜モジュール５０の二次側（処理水側）、ろ過処理水配管４０を通り、処理水槽１６に供給される（ろ過工程）。処理水の少なくとも一部は、逆洗水として逆洗処理に用いられてもよい。

上記ろ過処理が、所定時間実施された後、ポンプ３４による膜モジュール５０への原水の送液が停止され、膜モジュール５０の一次側に残留する原水が下部排水管４６から排出される。そして、蒸気発生器２６が稼働され、蒸気発生器２６により発生した蒸気が蒸気供給配管２８、分配管３０を通り、ジェットノズル３２から所定の圧力で、一次側のセラミック製ろ過膜に噴射される。ジェットノズル３２から噴射された蒸気により、セラミック製ろ過膜に堆積したケーキが剥離され、セラミック製ろ過膜が洗浄される（蒸気洗浄工程）。

蒸気洗浄工程後には、原水槽１０内の原水がポンプ３４によって原水配管３６を通して膜モジュール５０の一次側に供給され、下部排水管４６から排出されることが望ましい。これにより、蒸気洗浄工程により剥離されたケーキ（懸濁物質）が、原水と共に下部排水管４６から排出される。懸濁物質に有価物が含まれる場合には、有価物を含む原水は、例えば、下部排水管４６から不図示の回収槽に供給（回収）されることが好ましい。なお、原水の代わりに処理水を用いてもよい。

また、前述したように、蒸気洗浄工程と併せて逆洗工程を実施してもよい。具体的には、ポンプ４２が稼働され、ろ過処理された処理水槽１６内の処理水が逆洗水配管４４を通して膜モジュール５０の二次側から供給され、セラミック製ろ過膜モジュール５０を透過した逆洗排水が、膜モジュール５０の下部排水管４６から排出される（逆洗工程）。この逆洗工程の前又は後で蒸気洗浄工程を行う。なお、逆洗工程の際には、コンプレッサ２０が稼働され、空気等の気体が気体供給配管４８を通して、膜モジュール５０の一次側に供給され、気体によりセラミック製ろ過膜を振動させるエアスクラビングを行ってもよい。

膜モジュール５０において用いられるセラミック製ろ過膜、セラミック製ろ過膜に噴射する蒸気の噴射圧力、噴射角度等は、前述した通りである。

これまで、実施形態に係る膜洗浄装置を膜ろ過システムに組み込んだ構成について説明してきたが、これに制限されるものではない。例えば、浸漬型の膜モジュール１４又は槽外型の膜モジュール５０によるろ過処理後、これらの膜モジュールからセラミック製ろ過膜を取り出し、治具等に固定したセラミック製ろ過膜に対して、膜洗浄装置による蒸気洗浄工程を実施する等でもよい。

以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
図１に示す膜ろ過システムを用いて試験を行った。浸漬型の膜モジュールに使用したセラミック製ろ過膜として、孔径は、０．１μｍ、膜面積は、１ｍ^２の平膜を用いた。当該試験で処理する原水として、河川水（濁度１０、懸濁物質濃度１８ｍｇ／Ｌ）を用いた。

実施例１では、ろ過フラックス１．０ｍ／ｄで、１時間ろ過処理を行った後、逆洗フラックス２ｍ／ｄで、１分間逆洗処理を行うろ過－逆洗サイクルを２３回繰り返し、次のろ過処理後に、蒸気温度１００℃、蒸気の噴射圧力２００ｋＰａで、１分間蒸気洗浄処理を行った。そして、洗浄後における回復率を求めた。回復率とは、セラミック製ろ過膜における試験前の純水透過性能に対する洗浄後の純水透過性能の割合である。純水透過性能は、以下の式により求められる。

純水透過性能＝Ｂ×１００÷Ａ（ｍ／ｄ＠１００ｋＰａ）
Ａ：純水を膜に通水した際の圧力（単位：ｋＰａ）
Ｂ：純水を膜に通水した際の流量（単位：ｍ／ｄ）

＜実施例２＞
実施例２では、蒸気温度を１３０℃、蒸気の噴射圧力を２８０ｋＰａに変更したこと以外は、実施例１と同様の条件で試験を行った。

＜実施例３＞
実施例３では、蒸気温度を１３０℃、蒸気の噴射圧力を２８０ｋＰａに変更し、また、蒸気洗浄処理後に、逆洗フラックス２ｍ／ｄで、１分間逆洗処理を行ったこと以外は、実施例１と同様の条件で試験を行った。

＜実施例４＞
実施例４では、蒸気洗浄処理後に、逆洗フラックス２ｍ／ｄで、１分間逆洗処理を行ったこと以外は、実施例１と同様の条件で試験を行った。

＜比較例＞
ろ過フラックス１．０ｍ／ｄで、１時間ろ過処理を行った後、逆洗フラックス２ｍ／ｄで、１分間逆洗処理を行うろ過－逆洗サイクルを２４回繰り返した（蒸気洗浄処理を行わない）こと以外は、実施例１と同様の条件で試験を行った。

表１に実施例１～４及び比較例の洗浄条件をまとめた。また、表２に、実施例１～４及び比較例の回復率の結果をまとめた。

表２の結果から分かるように、蒸気洗浄処理を行った実施例１～４は、蒸気洗浄処理を行わず逆洗処理のみを行った比較例１に比べて、高い回復率を示した。これにより、蒸気洗浄処理を行うことで、逆洗処理では除去することができないセラミック製ろ過膜上のケーキを除去することができたと言える。

＜実施例５＞
図１に示す膜ろ過システムを用いて試験を行った。浸漬型の膜モジュールに使用したセラミック製ろ過膜としては、孔径は、０．１μｍ、膜面積は、１ｍ^２の平膜を用いた。当該試験で処理される原水として、河川水（濁度１０、懸濁物質濃度１８ｍｇ／Ｌ）を用いた。

実施例５では、ろ過フラックス１．０ｍ／ｄで、１時間ろ過処理を行った後、逆洗フラックス２ｍ／ｄで、１分間逆洗処理を行うろ過－逆洗サイクルを繰り返し行った。そして、一日一回の頻度で、ろ過処理後の蒸気洗浄を行った。蒸気洗浄における蒸気温度を１３０℃、蒸気の噴射圧力を２８０ｋＰａ、洗浄時間を１分間に設定した。通水開始から２１日後試験を終了した。

表３に実施例５の通水条件及び洗浄条件をまとめた。

図４に実施例５の通水結果を示す。実施例５において、逆洗処理ではセラミック製ろ過膜上のケーキが充分に除去されず、徐々に膜間差圧が上昇したが、蒸気洗浄処理を行うことで、膜間差圧が低下し、安定運転できることを確認した。これにより、化学洗浄の頻度を減らすことが可能であると言える。

１，２膜ろ過システム、１０原水槽、１２ろ過水槽、１４，５０膜モジュール、１６処理水槽、１８散気装置、２０コンプレッサ、２２セラミック製ろ過膜、２４集水配管、２６蒸気発生器、２８蒸気供給配管、２８逆洗水配管、３０分配管、３２ジェットノズル、３２ａノズル口、３４，３８，４２ポンプ、３６原水配管、４０ろ過処理水配管、４４逆洗水配管、４６下部排水管、４８気体供給配管。

Claims

被処理水を膜ろ過した後のセラミック製ろ過膜の一次側に蒸気を噴射して、前記セラミック製ろ過膜を洗浄する蒸気洗浄工程を有し、
前記ろ過膜は、水槽内の被処理水に浸漬された浸漬型ろ過膜であり、
前記蒸気洗浄工程は、前記ろ過膜を大気中に露出させた後に実施され、前記蒸気により前記セラミック製ろ過膜の一次側に堆積したケーキを掻き取ることを特徴とするセラミック製ろ過膜の洗浄方法。
前記蒸気洗浄工程前、または前記蒸気洗浄工程後に、前記被処理水を膜ろ過した処理水を前記ろ過膜の二次側から供給する逆洗工程をさらに有する、請求項１に記載のセラミック製ろ過膜の洗浄方法。
前記逆洗工程は、前記ろ過膜の一次側に気体を供給するエアスクラビングを行う工程をさらに有する、請求項２に記載のセラミック製ろ過膜の洗浄方法。
被処理水を膜ろ過処理するセラミック製ろ過膜と、
前記ろ過膜の一次側に蒸気を噴射して前記ろ過膜を洗浄する蒸気噴射手段と、
前記ろ過膜を大気中に露出させる機構と、を有し、
前記ろ過膜は、水槽内の被処理水に浸漬された浸漬型ろ過膜であり、
前記蒸気噴射手段による前記ろ過膜の洗浄は、前記機構により前記ろ過膜を大気中に露出させた後に実施され、前記蒸気により前記ろ過膜の一次側に堆積したケーキを掻き取るろ過膜装置。
前記膜ろ過処理で得られた処理水を前記ろ過膜の二次側より供給して前記ろ過膜の一次側に排出する逆洗処理を行う逆洗手段をさらに有し、
前記蒸気噴射手段は、前記逆洗手段により逆洗処理を行う前又は行った後に、蒸気を噴射して前記ろ過膜を洗浄する、請求項４に記載のろ過膜装置。
前記蒸気洗浄工程における蒸気の噴射圧力は、０．０８ＭＰａ～０．３０ＭＰａの範囲である、請求項１～３のいずれか１項に記載のセラミック製ろ過膜の洗浄方法。
前記セラミック製ろ過膜は、容器内に収容され、前記蒸気噴射手段は、前記容器内のろ過膜に蒸気を噴射するように前記容器に設けられたノズルを有し、
前記ノズルから噴射される蒸気の噴射圧力は、０．０８ＭＰａ～０．３０ＭＰａの範囲である、請求項４又は５に記載のろ過膜装置。
前記機構は、前記水槽内の前記被処理水を前記水槽外へ排出させ、前記ろ過膜を大気中に露出させる機構、及び、前記水槽内の前記ろ過膜を引き上げ、前記ろ過膜を大気中に露出させる機構のうちの少なくともいずれか一方である、請求項４に記載のろ過膜装置。