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JP7106824B2 - Light irradiation device - Google Patents
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JP7106824B2 - Light irradiation device - Google Patents

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Description

本発明は、回折光学素子を有する光照射装置に関するものである。 The present invention relates to a light irradiation device having a diffractive optical element.

近年、センサシステムの用途が拡大している。センサには色々な種類があり、検出する情報も様々である。その中の1つの手段として、光源から対象物に対して光を照射し、反射してきた光から情報を得るというものがある。例えば、パターン認証センサ、赤外線レーダ等は、その一例である。 In recent years, the applications of sensor systems have expanded. There are various kinds of sensors, and the information to be detected is also various. One of such means is to irradiate an object with light from a light source and obtain information from the reflected light. For example, pattern authentication sensors, infrared radars, etc. are examples.

これらのセンサの光源は、用途に応じた波長分布、明るさ、広がり等をもったものが使用される。光の波長は、可視光から赤外線までの範囲がよく用いられる。特に、赤外線は、外光の影響を受けにくく、不可視であり、対象物のやや内部を観察することも可能という特徴があるため、広く用いられている。また、光源の種類としては、LED光源、レーザ光源等が多く用いられる。例えば、遠いところを検知する場合には光の広がりが少ないレーザ光源が好適に用いられ、比較的近いところを検知する場合、ある程度の広がりを持った領域を照射する場合等にはLED光源が好適に用いられる。 The light sources of these sensors have a wavelength distribution, brightness, spread, etc., depending on the application. As for the wavelength of light, a range from visible light to infrared light is often used. In particular, infrared rays are widely used because they are not easily affected by external light, are invisible, and can be used to observe the inside of an object. As for the types of light sources, LED light sources, laser light sources, and the like are often used. For example, when detecting a distant place, a laser light source with little spread of light is preferably used, and when detecting a relatively close place, when irradiating an area with a certain extent of spread, an LED light source is suitable. used for

ところで、対象とする照射領域の大きさ、形状等は、必ずしも光源からの光の広がり(プロファイル)と一致しているとは限らず、拡散板、レンズ、遮蔽板等により光を整形する必要がある。光を整形する手段として、回折光学素子(Diffractive Optical Element :DOE)が挙げられる。これは異なる屈折率を持った材料が周期性を持って配列している場所を光が通過する際の回折現象を応用したものである。DOEは、基本的に単一波長の光に対して設計されるが、理論的には、ほぼ任意の形状に光を整形することが可能である。また、DOEでは、照射領域内の光分布の均一性を制御することが可能である。DOEのこのような特性は、不要な領域への照射を抑えることによる高効率化、光源数の削減等による装置の小型化等の点で有利となる。
また、DOEは、レーザの様な平行光源、LEDの様な拡散光源のいずれにも対応可能であり、また、紫外光から可視光、赤外線までの広い範囲の波長に対して適用可能である。
By the way, the size, shape, etc. of the target irradiation area do not necessarily match the spread (profile) of the light from the light source, and it is necessary to shape the light with a diffusion plate, lens, shielding plate, etc. be. A diffractive optical element (DOE) can be used as a means for shaping light. This applies the diffraction phenomenon when light passes through a place where materials with different refractive indices are arranged periodically. DOEs are designed primarily for light of a single wavelength, but theoretically they can shape light into almost any shape. Moreover, the DOE can control the uniformity of the light distribution within the irradiation area. Such characteristics of the DOE are advantageous in terms of high efficiency by suppressing irradiation to unnecessary areas, miniaturization of the apparatus by reducing the number of light sources, and the like.
DOEs can be used with both parallel light sources such as lasers and diffuse light sources such as LEDs, and can be applied to a wide range of wavelengths from ultraviolet light to visible light and infrared light.

例えば、特許文献1には、表面に凹凸構造が形成された複数枚の基板を組み合わせた光学素子が開示されている。 For example, Patent Literature 1 discloses an optical element in which a plurality of substrates having an uneven structure formed on their surfaces are combined.

ところで、発光素子とDOEとを組み合わせて1つの部品として光照射装置を構成して、これを用途に応じて基板上に実装するようにすると、取り扱いが容易である。その場合、他の各種部品とともに光照射装置も1つの部品として、ソルダーペースト(クリームはんだ)を挟んで基板上に配置された後、高温環境下でソルダーペーストを溶融させてはんだ付けされることが想定される。 By the way, if the light irradiation device is configured as one part by combining the light emitting element and the DOE, and this is mounted on the substrate according to the application, it is easy to handle. In that case, the light irradiation device is one part together with other various parts, and after being placed on the board with solder paste (cream solder) sandwiched therebetween, the solder paste is melted in a high temperature environment and soldered. is assumed.

ここで、DOEは、大量生産を想定すると、凹凸形状を樹脂により構成することが望ましいが、上述の実装工程における高温環境下におけるDOEの耐熱性については、従来考慮されておらず、高温下において凹凸形状が変形するおそれがあった。 Here, assuming mass production of the DOE, it is desirable that the concave-convex shape is made of resin. There is a risk that the uneven shape will be deformed.

特開2006-84635号公報JP 2006-84635 A

本発明の課題は、耐熱性の高い光照射装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a light irradiation device with high heat resistance.

本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。 The present invention solves the above problems by means of the following solutions. In order to facilitate understanding, reference numerals corresponding to the embodiments of the present invention are used for description, but the present invention is not limited to these.

第1の発明は、入射した光を回折して出射する回折光学素子(10,50)と、前記回折光学素子(10,50)に対して光を投影する光源部(30)と、を備える光照射装置(1)であって、前記回折光学素子(10,50)は、凸部(111a)が並んで配置される高屈折率部(111)と、前記凸部(111a)の間に形成されている凹部(112)を含む低屈折率部(114)と、を有する少なくとも1層の回折層(115)と、前記回折層(115)のうちのいずれの回折層(115)よりも前記光源部(30)からの光が出射する側に配置されたガラス層(41)と、を備える光照射装置(1)である。 A first invention comprises a diffractive optical element (10, 50) that diffracts and emits incident light, and a light source section (30) that projects light onto the diffractive optical element (10, 50). In the light irradiation device (1), the diffractive optical element (10, 50) is arranged between a high refractive index portion (111) in which convex portions (111a) are arranged side by side and the convex portions (111a). at least one diffractive layer (115) having a low refractive index portion (114) comprising recesses (112) formed therein; and a glass layer (41) arranged on the side from which light from the light source part (30) is emitted.

第2の発明は、第1の発明に記載の光照射装置(1)において、前記ガラス層(41)に積層された反射抑制層(42)を備えること、を特徴とする光照射装置(1)である。 A second invention is the light irradiation device (1) according to the first invention, characterized by comprising a reflection suppressing layer (42) laminated on the glass layer (41). ).

第3の発明は、第1の発明又は第2の発明に記載の光照射装置(1)において、前記ガラス層(41)は、前記回折層(115)の基材を兼ねていること、を特徴とする光照射装置(1)である。 A third invention is the light irradiation device (1) according to the first invention or the second invention, wherein the glass layer (41) also serves as a base material of the diffraction layer (115). A light irradiation device (1) is characterized.

第4の発明は、第3の発明に記載の光照射装置(1)において、全ての前記回折層(115)は、それぞれ、前記ガラス層(41)を基材としており、前記ガラス層(41)の前記回折層(115)とは反対側には、反射抑制層(42)が積層されていること、を特徴とする光照射装置(1)である。 A fourth invention is based on the light irradiation device (1) according to the third invention, wherein all the diffraction layers (115) use the glass layer (41) as a base material, and the glass layer (41 ) is laminated with an antireflection layer (42) on the side opposite to the diffraction layer (115).

第5の発明は、第1の発明から第4の発明までのいずれかに記載の光照射装置(1)において、前記回折層(115)は、基材(12)の両面に配置されている構成を含むこと、を特徴とする光照射装置(1)である。 A fifth invention is the light irradiation device (1) according to any one of the first invention to the fourth invention, wherein the diffraction layer (115) is arranged on both surfaces of the substrate (12). A light irradiation device (1) characterized by comprising:

第6の発明は、第1の発明から第5の発明までのいずれかに記載の光照射装置(1)において、前記光源部(30)は、基板(32)と、前記基板(32)に取り付けられた発光素子(31)と、前記基板(32)に一体となって固定され、前記回折光学素子(10,50)を保持する枠形のホルダ(20)とを備えること、を特徴とする光照射装置(1)である。 A sixth invention is the light irradiation device (1) according to any one of the first invention to the fifth invention, wherein the light source section (30) includes a substrate (32) and a It comprises a light-emitting element (31) mounted thereon and a frame-shaped holder (20) integrally fixed to the substrate (32) and holding the diffractive optical element (10, 50). It is a light irradiation device (1).

第7の発明は、第1の発明から第6の発明までのいずれかに記載の光照射装置(1)において、前記回折層(115)のうち最も前記光源部(30)に近い位置に設けられている前記回折層(115)は、前記凸部(111a)及び前記凹部(112)が前記光源部(30)側を向いて配置されていること、を特徴とする光照射装置(1)である。 A seventh invention is the light irradiation device (1) according to any one of the first invention to the sixth invention, wherein the diffraction layer (115) is provided at a position closest to the light source section (30). The light irradiation device (1) characterized in that the diffraction layer (115) is arranged such that the convex portions (111a) and the concave portions (112) face the light source portion (30) side. is.

本発明によれば、耐熱性の高い光照射装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a light irradiation apparatus with high heat resistance can be provided.

本実施形態の光照射装置1の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of light irradiation device 1 of this embodiment. 光照射装置1の斜視図である。1 is a perspective view of a light irradiation device 1; FIG. 光照射装置1の断面図である。1 is a cross-sectional view of a light irradiation device 1; FIG. 回折光学素子10を説明する図である。2A and 2B are diagrams illustrating a diffractive optical element 10; FIG. 回折光学素子10の構成を説明するための断面図である。2 is a cross-sectional view for explaining the configuration of the diffractive optical element 10; FIG. 第2実施形態の光照射装置1の断面図である。It is sectional drawing of the light irradiation apparatus 1 of 2nd Embodiment. 第3実施形態の光照射装置1の断面図である。It is sectional drawing of the light irradiation apparatus 1 of 3rd Embodiment. 第4実施形態の光照射装置1の断面図である。It is sectional drawing of the light irradiation apparatus 1 of 4th Embodiment. 第4実施形態の光照射装置1の変形形態を示す図である。It is a figure which shows the modification of the light irradiation apparatus 1 of 4th Embodiment. 第5実施形態の光照射装置1の断面図である。It is sectional drawing of the light irradiation apparatus 1 of 5th Embodiment. 第5実施形態の光照射装置1の変形形態を示す図である。It is a figure which shows the modification of the light irradiation apparatus 1 of 5th Embodiment. ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。4 is a diagram showing an example of a configuration including a diffractive optical element 70 having resin layers 11 on both sides of a glass layer 41. FIG. ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。4 is a diagram showing an example of a configuration including a diffractive optical element 70 having resin layers 11 on both sides of a glass layer 41. FIG. ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。4 is a diagram showing an example of a configuration including a diffractive optical element 70 having resin layers 11 on both sides of a glass layer 41. FIG. ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。4 is a diagram showing an example of a configuration including a diffractive optical element 70 having resin layers 11 on both sides of a glass layer 41. FIG. ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。4 is a diagram showing an example of a configuration including a diffractive optical element 70 having resin layers 11 on both sides of a glass layer 41. FIG.

以下、本発明を実施するための最良の形態について図面等を参照して説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本実施形態の光照射装置1の分解斜視図である。
図2は、光照射装置1の斜視図である。
図3は、光照射装置1の断面図である。
図4は、回折光学素子10を説明する図である。
なお、図1から図4を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張して示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
(First embodiment)
FIG. 1 is an exploded perspective view of a light irradiation device 1 of this embodiment.
FIG. 2 is a perspective view of the light irradiation device 1. FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the light irradiation device 1. As shown in FIG.
FIG. 4 is a diagram illustrating the diffractive optical element 10. FIG.
1 to 4 are schematic diagrams, and the size and shape of each part are exaggerated as appropriate to facilitate understanding.
Also, in the following description, specific numerical values, shapes, materials, and the like are shown and described, but these can be changed as appropriate.

本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば、平行や直交等の用語については、厳密に意味するところに加え、同様の光学的機能を奏し、平行や直交と見なせる程度の誤差を有する状態も含むものとする。
本明細書において、板、シート、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、これらの文言は、適宜置き換えることができるものとする。
本明細書中において、シート面とは、各シートにおいて、そのシート全体として見たときにおける、シートの平面方向となる面を示すものであるとする。なお、板面、フィルム面に関しても同様であるとする。
また、本発明において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
In this specification, terms specifying shapes and geometrical conditions, such as parallel and orthogonal terms, have strict meanings, as well as similar optical functions to the extent that they can be regarded as parallel or orthogonal. It also includes states with errors.
In this specification, terms such as plate, sheet, and film are used, and as a general usage, they are used in the order of thickness, plate, sheet, and film. I use it in my book as well. However, since there is no technical meaning in such proper use, these words can be replaced as appropriate.
In this specification, the sheet surface refers to a surface of each sheet that is in the plane direction of the sheet when the sheet is viewed as a whole. It should be noted that the plate surface and the film surface are assumed to be the same.
In the present invention, the term "transparent" refers to a material that transmits at least the light of the wavelength used. For example, even if a material does not transmit visible light, if it transmits infrared light, it is treated as transparent when used for infrared applications.

図1に示すように、光照射装置1は、回折光学素子10と、ホルダ20と、光源部30と、カバーガラス40とを備える。
回折光学素子(光学素子)10は、回折現象により光の進行方向を制御する素子である。回折光学素子10は、異なる周期構造を持つ複数の領域(部分周期構造)からなる回折格子群を有する。回折格子群は、例えば、図4に示すように、部分周期構造として、B~G領域を有する。回折光学素子10の回折格子群に入射した光は、B~G領域での回折現象により、0~90°の範囲でほぼ均一な光として照射される。
As shown in FIG. 1 , the light irradiation device 1 includes a diffractive optical element 10 , a holder 20 , a light source section 30 and a cover glass 40 .
A diffractive optical element (optical element) 10 is an element that controls the traveling direction of light by a diffraction phenomenon. The diffractive optical element 10 has a diffraction grating group composed of a plurality of regions (partial periodic structures) having different periodic structures. The diffraction grating group has, for example, regions B to G as a partial periodic structure, as shown in FIG. The light incident on the diffraction grating group of the diffractive optical element 10 is irradiated as substantially uniform light in the range of 0 to 90 degrees due to the diffraction phenomenon in the B to G regions.

図5は、回折光学素子10の構成を説明するための断面図である。
回折光学素子10は、樹脂層11と、基材12と、を備える。
樹脂層11は、回折格子に対応する凹凸形状が形成された原版を用いて、例えば、基材上に塗布された紫外線硬化樹脂を賦型して凹凸形状を転写し、紫外線を照射して硬化させることにより形成できる。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the configuration of the diffractive optical element 10. As shown in FIG.
The diffractive optical element 10 has a resin layer 11 and a base material 12 .
For the resin layer 11, an original plate having an uneven shape corresponding to a diffraction grating is used, for example, an ultraviolet curable resin applied on a base material is molded to transfer the uneven shape, and the resin layer 11 is cured by irradiating with ultraviolet rays. can be formed by

紫外線硬化樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリチオール系、ブタジエンアクリレート等を用いることができる。なお、樹脂層11を形成するための材料は、紫外線硬化樹脂に限定されない。樹脂層11は、例えば、電子線硬化樹脂で形成してもよい。また、樹脂層11は、熱硬化型や紫外線硬化型のSOG(Spin on Glass)を用いて構成してもよい。また、回折格子に対応する凹凸形状は、原版から賦型により転写する例に限らず、上記凹凸形状を有する原版から作製された樹脂の中間版を用いて賦型してもよい。 As the ultraviolet curable resin, for example, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, polythiol, butadiene acrylate, and the like can be used. In addition, the material for forming the resin layer 11 is not limited to the ultraviolet curable resin. The resin layer 11 may be formed of, for example, an electron beam curable resin. Also, the resin layer 11 may be configured using a thermosetting or ultraviolet curing SOG (Spin on Glass). Further, the concave-convex shape corresponding to the diffraction grating is not limited to the example of transferring from the original plate by molding, but may be formed using a resin intermediate plate produced from the original plate having the concave-convex shape.

基材12は、樹脂層11を賦型する際のベースとなる部材である。基材12としては、例えば、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、メタクリル酸メチル・ブタジエン・スチレン(MBS)樹脂、メタクリル酸メチル・スチレン(MS)樹脂、アクリル・スチレン(AS)樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)樹脂等の透明樹脂を用いることができる。
密着層13は、基材12上に塗布されて、紫外線硬化樹脂等との密着性を高めるための層である。
The base material 12 is a member that serves as a base for shaping the resin layer 11 . Examples of the base material 12 include polycarbonate (PC) resin, polyethylene terephthalate (PET) resin, methyl methacrylate-butadiene-styrene (MBS) resin, methyl methacrylate-styrene (MS) resin, and acrylic-styrene (AS) resin. A transparent resin such as acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin can be used.
The adhesion layer 13 is a layer that is applied on the base material 12 to improve adhesion with an ultraviolet curable resin or the like.

回折格子の凹凸形状は、図5に示すように、断面形状において、複数の凸部111aが並んで配置された高屈折率部111を備えている。高屈折率部111は、断面の奥行き方向に延在している。
高屈折率部111は、図5では、凸部111aを底部と頂部の2-levelの形状とした例を図示しているが、凸部111aを2-levelよりも多い多段の階段形状としてもよい。
As shown in FIG. 5, the uneven shape of the diffraction grating has a high refractive index portion 111 in which a plurality of convex portions 111a are arranged in a cross-sectional shape. The high refractive index portion 111 extends in the depth direction of the cross section.
FIG. 5 shows an example of the high refractive index portion 111 in which the convex portion 111a has a 2-level shape of a bottom portion and a top portion. good.

また、凸部111aの間に形成されている凹部112及び凸部111aの頂部付近の空間113を含む上方の領域には、空気が存在している。そのため、凹部112及び空間113は、高屈折率部111よりも屈折率が低い低屈折率部114となっている。これら高屈折率部111及び低屈折率部114が交互に並んで配置された周期構造により、光を整形する作用を備える回折層115が構成されている。 In addition, air exists in the upper region including the recesses 112 formed between the protrusions 111a and the spaces 113 near the tops of the protrusions 111a. Therefore, the concave portion 112 and the space 113 form a low refractive index portion 114 having a lower refractive index than the high refractive index portion 111 . The periodic structure in which the high refractive index portions 111 and the low refractive index portions 114 are alternately arranged constitutes a diffraction layer 115 having a function of shaping light.

回折層115は、図4に示すように、異なる周期構造を持つ複数の領域B~G等を有している。回折層115に入射した光は、領域B~Gで複数方向に回折されるため、光を任意の形態に整形して照射できる。
回折層115の設計は、例えば、厳密結合波解析(RCWA)アルゴリズムを用いたGratingMOD(Rsoft社製)、反復フーリエ変換アルゴリズム(IFTA)を用いたVirtuallab(LightTrans社製)等の各種シミュレーションツールを用いて行うことができる。
The diffraction layer 115, as shown in FIG. 4, has a plurality of regions B to G having different periodic structures. Since the light incident on the diffraction layer 115 is diffracted in a plurality of directions by the regions B to G, the light can be shaped into an arbitrary shape and irradiated.
The diffraction layer 115 is designed using various simulation tools such as GratingMOD (manufactured by Rsoft) using a rigorous coupled wave analysis (RCWA) algorithm and Virtuallab (manufactured by LightTrans) using an iterative Fourier transform algorithm (IFTA). can be done.

回折光学素子10を赤外線用とする場合、凹部112の深さは、650nm以上であることが望ましい。より具体的には、例えば、波長780nm、屈折率1.6で計算した場合に、2-levelでは650nm、4-levelでは975nm、8-levelでは1137nmの深さがそれぞれ必要となる。
これが、例えば、980nmのレーザ光に対し、屈折率を1.6とし、長辺±50°×短辺±3.3°に広がる矩形の拡散形状を2-levelで設計する場合に、回折光学素子10の最適な深さは1087nm、最も細かい凹凸形状の幅は250nmとなり、最大アスペクト比は4を越える。
このように、入射光の波長が長いほど、回折光学素子10の最適深さも深くなるが、波長780nm以上の赤外線波長で利用する場合において、回折層115の凹部112の深さは、650nm以上が好ましく、900nm以上であることが光学特性上より好ましい。
なお、凹部112の深さの上限は、凹凸形状のアスペクト比にもよるが、3μm以下、より好ましくは2μm以下であるならば、転写精度よく賦型できる。
When the diffractive optical element 10 is for infrared rays, the depth of the concave portion 112 is desirably 650 nm or more. More specifically, for example, when calculating with a wavelength of 780 nm and a refractive index of 1.6, a depth of 650 nm is required for 2-level, 975 nm for 4-level, and 1137 nm for 8-level.
For example, for a laser beam of 980 nm, when designing a rectangular diffusion shape with a refractive index of 1.6 and a long side of ±50° × short side of ±3.3° with 2-level design, diffraction optics The optimum depth of the element 10 is 1087 nm, the width of the finest irregularities is 250 nm, and the maximum aspect ratio exceeds 4.
As described above, the longer the wavelength of the incident light, the deeper the optimum depth of the diffractive optical element 10. However, when using an infrared wavelength of 780 nm or more, the depth of the concave portion 112 of the diffraction layer 115 should be 650 nm or more. Preferably, it is 900 nm or more in view of optical properties.
Although the upper limit of the depth of the concave portion 112 depends on the aspect ratio of the uneven shape, if it is 3 μm or less, more preferably 2 μm or less, the mold can be formed with good transfer accuracy.

次に、樹脂層11の厚みについて説明する。
図5において、樹脂層11から凹凸形状の深さd1分を除いた厚みt1は、賦型で形成するパターンの深さにもよるが、賦型で形成する凹凸形状の充填性の観点からd1以上とすることが好ましい。
また、樹脂層11の厚みt2は、厚すぎると樹脂層の反りが生じ易くなるため20μm以下とすることが好ましい。厚みの下限は、形成する回折層115の凹部112の深さにもよるが、2μm以上、好ましくは4μm以上とすることができる。
Next, the thickness of the resin layer 11 will be described.
In FIG. 5, the thickness t1 obtained by removing the depth d1 of the uneven shape from the resin layer 11 depends on the depth of the pattern formed by the mold forming, but from the viewpoint of the filling property of the uneven shape formed by the mold forming, d1 It is preferable to set it as above.
Moreover, if the thickness t2 of the resin layer 11 is too thick, the resin layer tends to warp, so it is preferable to set the thickness t2 to 20 μm or less. The lower limit of the thickness depends on the depth of the concave portions 112 of the diffraction layer 115 to be formed, but can be 2 μm or more, preferably 4 μm or more.

第1実施形態の光照射装置1では、回折光学素子10は、回折層115の位置が、光の出射側(図3における上側)となるようにして配置されている。 In the light irradiation device 1 of the first embodiment, the diffraction optical element 10 is arranged such that the diffraction layer 115 is positioned on the light exit side (upper side in FIG. 3).

ホルダ20は、回折光学素子10を搭載するための枠形に形成された部材である。ホルダ20は、例えば、ポリアミド、ポリカーボネート等のエンジニアリングプラスチックにより形成される。ホルダ20を変形しにくくするため、ポリカーボネート等にガラスファイバーを含有させてもよい。
ホルダ20は、中央が貫通した開口部となっている。ホルダ20は、回折光学素子10の周縁部が載せられる頂部20aを備えている。そして、この頂部20aの上に、接着材60を介して回折光学素子10が載せられて固定されている。なお、本実施形態のホルダ20の頂部20aは、平面で構成されているが、溝をさらに設けてもよい。
The holder 20 is a frame-shaped member for mounting the diffractive optical element 10 thereon. The holder 20 is made of, for example, engineering plastic such as polyamide or polycarbonate. In order to make the holder 20 difficult to deform, polycarbonate or the like may contain glass fibers.
The holder 20 has an opening penetrating through the center. The holder 20 has a top portion 20a on which the peripheral portion of the diffractive optical element 10 is placed. The diffractive optical element 10 is mounted and fixed on the top portion 20a with an adhesive 60 interposed therebetween. In addition, although the top portion 20a of the holder 20 of the present embodiment is configured as a flat surface, a groove may be further provided.

光源部30は、回折光学素子10に光を投影する。光源部30は、赤外光、青色光等を発する発光素子31を有している。発光素子31としては、例えば、垂直共振器面発光レーザー(VCSEL)等のレーザ光源を用いてもよいし、LED(発光ダイオード)を用いてもよい。発光素子31は、基板32上に実装されている。なお、発光素子31の形態によっては、配線33を用いて基板と接続することもできる。
光源部30は、ホルダ20の背面側(図3中の下側)に、不図示の接着材等を用いて取り付けられる。
The light source unit 30 projects light onto the diffractive optical element 10 . The light source unit 30 has a light emitting element 31 that emits infrared light, blue light, or the like. As the light emitting element 31, for example, a laser light source such as a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) may be used, or an LED (light emitting diode) may be used. The light emitting element 31 is mounted on the substrate 32 . In addition, depending on the form of the light emitting element 31, the wiring 33 can be used to connect to the substrate.
The light source unit 30 is attached to the back side of the holder 20 (lower side in FIG. 3) using an adhesive or the like (not shown).

カバーガラス40は、回折光学素子10の回折層115よりも光源部30からの光が出射する側に配置された部材であり、ガラス層41と、反射抑制層42とを備えている。
ガラス層41に用いるガラスとしては、熱膨張率が低く、耐熱性を有したガラスであることが望ましく、例えば、石英、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等を用いるとよい。また、本実施形態では、ガラス層41の厚みは、0.2mm~0.7mmとした。
カバーガラス40の両面には、反射抑制層42が形成されている。反射抑制層42としては、一般的に用いられる単層又は多層のコーティングが好適に用いることができるが、モスアイ構造等の賦型形状を用いると、光の入射角依存性が小さくなって、さらによい。
反射抑制層42を設けることにより、ガラス層41の界面における反射を抑制することができ、光の利用効率を高めることができる。
The cover glass 40 is a member arranged on the side from which the light from the light source section 30 is emitted from the diffraction layer 115 of the diffractive optical element 10 , and includes a glass layer 41 and an antireflection layer 42 .
The glass used for the glass layer 41 is desirably glass having a low coefficient of thermal expansion and heat resistance. Further, in this embodiment, the thickness of the glass layer 41 is set to 0.2 mm to 0.7 mm.
Antireflection layers 42 are formed on both surfaces of the cover glass 40 . As the antireflection layer 42, a commonly used single-layer or multi-layer coating can be suitably used. good.
By providing the anti-reflection layer 42, it is possible to suppress reflection at the interface of the glass layer 41, thereby enhancing the efficiency of light utilization.

本実施形態では、上述のように、回折光学素子10の出射側に、さらにカバーガラス40を設ける構成とした。この理由について説明する。
図2に示したように、本実施形態の光照射装置1は、発光素子31と回折光学素子10とを組み合わせて1つの部品として構成されている。そして、この光照射装置1は、用途に応じて基板上に実装して用いられる。光照射装置1は、1つの部品として、ソルダーペースト(クリームはんだ)を挟んで各種装置の基板(不図示)上に配置された後、高温環境下でソルダーペーストを溶融させて、はんだ付けされる。
In this embodiment, as described above, the cover glass 40 is further provided on the exit side of the diffractive optical element 10 . The reason for this will be explained.
As shown in FIG. 2, the light irradiation device 1 of this embodiment is configured as one component by combining the light emitting element 31 and the diffractive optical element 10 . This light irradiation device 1 is used by being mounted on a substrate depending on the application. The light irradiation device 1 is arranged as one part on substrates (not shown) of various devices with a solder paste (cream solder) sandwiched therebetween, and then soldered by melting the solder paste in a high-temperature environment. .

回折光学素子10の回折層115は、樹脂層11によって構成されている。仮にカバーガラス40が存在しないと、光照射装置1の実装時の高温環境に直接暴露されることによって、変形するおそれがある。カバーガラス40が設けられていることによって、樹脂層11は、高温の空気に直接接することがなく、樹脂層11が高温になることを抑制することができる。なお、回折光学素子10の発光素子31側は、基板32が設けられていることから、高温の空気に直接暴露されることはない。 The diffraction layer 115 of the diffraction optical element 10 is composed of the resin layer 11 . If the cover glass 40 were not present, there is a risk of deformation due to direct exposure to the high-temperature environment during mounting of the light irradiation device 1 . Since the cover glass 40 is provided, the resin layer 11 does not come into direct contact with high-temperature air, so that the resin layer 11 can be prevented from becoming hot. Since the substrate 32 is provided on the light emitting element 31 side of the diffractive optical element 10, it is not directly exposed to high-temperature air.

また、発光素子31が設けられているホルダ20によって囲まれた空間は、密閉空間となっている。光照射装置1の組立は、乾燥した低湿度環境下で行われるが、カバーガラス40が存在しないと、回折光学素子10を通して水分が上記空間内に浸入する場合がある。この場合、内部結露が生じるおそれがあり、そのような場合には、適切な光照射をおこなうことができなくなる。しかし、本実施形態では、カバーガラス40を設けたので、ホルダ20によって囲まれた空間に水分が浸入することを防止でき、内部結露も防ぐことができる。 A space surrounded by the holder 20 in which the light emitting element 31 is provided is a closed space. The light irradiation device 1 is assembled in a dry, low-humidity environment, but if the cover glass 40 is not present, moisture may enter the space through the diffractive optical element 10 . In this case, internal condensation may occur, and in such a case, appropriate light irradiation cannot be performed. However, in the present embodiment, since the cover glass 40 is provided, it is possible to prevent moisture from entering the space surrounded by the holder 20 and to prevent internal condensation.

さらに、カバーガラス40が設けられていることにより、樹脂層11に外部の物体がぶつかったりして凹凸形状がつぶされてしまうような物理的な破損も防止できる。 Furthermore, the provision of the cover glass 40 can prevent physical damage such as crushing of the uneven shape due to collision of an external object with the resin layer 11 .

以上説明したように、第1実施形態によれば、カバーガラス40を設けたので、樹脂層11の回折層115が高温の空気に直接暴露されることがなく、光照射装置1の耐熱性を向上することができる。
また、光照射装置1は、内部結露を防ぐことができる。
さらに、光照射装置1は、回折層115が物理的に損傷してしまうことも防止できる。
As described above, according to the first embodiment, since the cover glass 40 is provided, the diffraction layer 115 of the resin layer 11 is not directly exposed to high-temperature air, and the heat resistance of the light irradiation device 1 is improved. can be improved.
In addition, the light irradiation device 1 can prevent internal condensation.
Furthermore, the light irradiation device 1 can prevent the diffraction layer 115 from being physically damaged.

(第2実施形態)
図6は、第2実施形態の光照射装置1の断面図である。
なお、以下に示す各実施形態において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
第2実施形態の光照射装置1では、3枚の回折光学素子10を重ねて配置している。各回折光学素子10は、いずれも周縁部において接着材60を用いて接着されている。
このように複数枚の回折光学素子10を重ねる場合には、カバーガラス40は、最も光出射側(図6では、再上部)に配置するとよい。
なお、回折光学素子10は、積層される複数枚のそれぞれについて、光を整形する具体的な形態(特性)を異なるようにすることができる。
(Second embodiment)
FIG. 6 is a cross-sectional view of the light irradiation device 1 of the second embodiment.
In addition, in each embodiment shown below, the same code|symbol is attached|subjected to the part which achieves the same function as 1st Embodiment mentioned above, and the overlapping description is abbreviate|omitted suitably.
In the light irradiation device 1 of the second embodiment, three diffractive optical elements 10 are arranged in an overlapping manner. Each diffractive optical element 10 is adhered using an adhesive 60 at the peripheral portion thereof.
When a plurality of diffractive optical elements 10 are stacked in this manner, the cover glass 40 should be placed closest to the light exit side (uppermost in FIG. 6).
It should be noted that the diffractive optical element 10 can have different specific forms (characteristics) for shaping light for each of the plurality of stacked diffractive optical elements.

以上説明した第2実施形態においても、最も表面側となる位置にカバーガラス40を配置したので、第1実施形態と同様な効果を得ることができる。 Also in the second embodiment described above, since the cover glass 40 is arranged at the position closest to the surface, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(第3実施形態)
図7は、第3実施形態の光照射装置1の断面図である。
第3実施形態の光照射装置1では、第1実施形態における回折光学素子10及びカバーガラス40に代えて、回折光学素子50を備えている。
回折光学素子50は、ガラス層41と、反射抑制層42と、樹脂層11とを備えている。この回折光学素子50は、第1実施形態における回折光学素子10の基材12をガラス層41に置き換えた形態である。したがって、ガラス層41と、反射抑制層42と、樹脂層11とのそれぞれの構成自体は、第1実施形態のガラス層41、反射抑制層42、樹脂層11と同様である。
反射抑制層42は、樹脂層11側については、設けていない。この位置は、空気界面ではないことから、反射率が低いからである。また、ガラス層41と樹脂層11との間に、密着層13をさらに設けてもよい。
第3実施形態では、ガラス層41が樹脂層11よりも光の出射側となるようにして配置した。このような配置とすることにより、第1実施形態と同様に、ガラス層41が樹脂層11の回折層115を保護することが可能である。また、ガラス層41の厚さにもよるが、ガラス層41の厚さによって回折層115の位置が発光素子31から離れすぎてしまうことを回避できる。
(Third Embodiment)
FIG. 7 is a cross-sectional view of the light irradiation device 1 of the third embodiment.
The light irradiation device 1 of the third embodiment includes a diffractive optical element 50 instead of the diffractive optical element 10 and the cover glass 40 of the first embodiment.
The diffractive optical element 50 includes a glass layer 41 , an antireflection layer 42 and a resin layer 11 . This diffractive optical element 50 has a form in which the substrate 12 of the diffractive optical element 10 in the first embodiment is replaced with a glass layer 41 . Therefore, the structures of the glass layer 41, antireflection layer 42, and resin layer 11 are the same as those of the glass layer 41, antireflection layer 42, and resin layer 11 of the first embodiment.
The antireflection layer 42 is not provided on the resin layer 11 side. This is because this position is not an air interface and therefore has a low reflectance. Further, an adhesion layer 13 may be further provided between the glass layer 41 and the resin layer 11 .
In the third embodiment, the glass layer 41 is arranged on the light emitting side of the resin layer 11 . With such an arrangement, the glass layer 41 can protect the diffraction layer 115 of the resin layer 11 as in the first embodiment. Also, depending on the thickness of the glass layer 41 , it is possible to prevent the position of the diffraction layer 115 from being too far from the light emitting element 31 due to the thickness of the glass layer 41 .

以上説明した第3実施形態では、ガラス層41を回折光学素子50の基材としたので、第1実施形態と同様な効果を、より簡単な構成により実現できる。 In the third embodiment described above, since the glass layer 41 is used as the base material of the diffractive optical element 50, the same effects as in the first embodiment can be achieved with a simpler configuration.

(第4実施形態)
図8は、第4実施形態の光照射装置1の断面図である。
第4実施形態の光照射装置1は、回折光学素子50を3枚積層し、さらに、最も出光側にカバーガラス40を配置した形態である。なお、カバーガラス40と回折光学素子50は、先に示した実施形態のものと同様である。
本実施形態では、発光素子31に最も近い位置の回折光学素子50は、樹脂層11を発光素子31側に向けて配置し、他の2枚の回折光学素子50は、樹脂層11を出光側に向けて配置している。
図9は、第4実施形態の光照射装置1の変形形態を示す図である。
図9のように、中央の回折光学素子50を、樹脂層が発光素子31側を向くように配置してもよい。
(Fourth embodiment)
FIG. 8 is a cross-sectional view of the light irradiation device 1 of the fourth embodiment.
The light irradiation device 1 of the fourth embodiment has a configuration in which three diffractive optical elements 50 are laminated and a cover glass 40 is arranged on the most light exiting side. Note that the cover glass 40 and the diffractive optical element 50 are the same as those in the previous embodiment.
In this embodiment, the diffractive optical element 50 closest to the light emitting element 31 is arranged with the resin layer 11 facing the light emitting element 31 side, and the other two diffractive optical elements 50 have the resin layer 11 on the light output side. placed towards.
FIG. 9 is a diagram showing a modification of the light irradiation device 1 of the fourth embodiment.
As shown in FIG. 9, the central diffractive optical element 50 may be arranged such that the resin layer faces the light emitting element 31 side.

以上説明した第4実施形態のように、複数枚の回折光学素子50を積層して用いてもよい。また、最も出光側に配置される回折光学素子50の樹脂層11が出光側を向いて配置されているので、本実施形態では、さらに出光側にカバーガラス40を配置して、第1実施形態と同様な効果を実現している。 As in the fourth embodiment described above, a plurality of diffractive optical elements 50 may be stacked and used. Further, since the resin layer 11 of the diffractive optical element 50 arranged closest to the light exit side is arranged facing the light exit side, in the present embodiment, the cover glass 40 is further arranged on the light exit side, and the first embodiment is arranged so as to face the light exit side. achieves the same effect.

(第5実施形態)
図10は、第5実施形態の光照射装置1の断面図である。
本実施形態では、発光素子31に最も近い位置の回折光学素子50は、樹脂層11を発光素子31側に向けて配置し、発光素子31側から2枚目の回折光学素子50は、樹脂層11を出射側に向けて配置し、最も出光側となる回折光学素子50の樹脂層11を発光素子31側へ向けて配置している。
第5実施形態の光照射装置1は、回折光学素子50を3枚積層し、カバーガラス40は備えていない。しかし、第5実施形態の光照射装置1は、最も出光側となる回折光学素子50の樹脂層11を発光素子31側へ向けて配置している。よって、最も出光側(反射抑制層42を除く)にガラス層41が配置されている。これにより、カバーガラス40を設けなくとも、耐熱性の向上が可能である。
図11は、第5実施形態の光照射装置1の変形形態を示す図である。
図11のように、中央の回折光学素子50を、樹脂層が発光素子31側を向くように配置してもよい。
(Fifth embodiment)
FIG. 10 is a cross-sectional view of the light irradiation device 1 of the fifth embodiment.
In this embodiment, the diffractive optical element 50 closest to the light emitting element 31 is arranged with the resin layer 11 facing the light emitting element 31 side, and the second diffractive optical element 50 from the light emitting element 31 side is the resin layer 11 is arranged toward the exit side, and the resin layer 11 of the diffractive optical element 50 closest to the light exit side is arranged toward the light emitting element 31 side.
The light irradiation device 1 of the fifth embodiment has three laminated diffractive optical elements 50 and does not have a cover glass 40 . However, in the light irradiation device 1 of the fifth embodiment, the resin layer 11 of the diffractive optical element 50 closest to the light output side is arranged toward the light emitting element 31 side. Therefore, the glass layer 41 is arranged closest to the light output side (excluding the antireflection layer 42). Thereby, heat resistance can be improved without providing the cover glass 40 .
FIG. 11 is a diagram showing a modification of the light irradiation device 1 of the fifth embodiment.
As shown in FIG. 11, the central diffractive optical element 50 may be arranged such that the resin layer faces the light emitting element 31 side.

以上説明した第5実施形態のように、複数枚の回折光学素子50を積層して用いる場合に、最も出光側に配置される回折光学素子50については、樹脂層11を発光素子31側に向けて、すなわち、ガラス層41が出光側となるように配置することにより、第1実施形態と同様な効果を実現している。 As in the fifth embodiment described above, when a plurality of diffractive optical elements 50 are stacked and used, the resin layer 11 of the diffractive optical element 50 arranged closest to the light output side faces the light emitting element 31 side. That is, by arranging the glass layer 41 on the light exit side, the same effect as in the first embodiment is realized.

(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
(deformed form)
Various modifications and changes are possible without being limited to the embodiments described above, and they are also within the scope of the present invention.

(1)各実施形態において、回折光学素子10又は回折光学素子50の枚数は、例示した枚数に限らず、適宜変更可能である。 (1) In each embodiment, the number of diffractive optical elements 10 or 50 is not limited to the illustrated number, and can be changed as appropriate.

(2)各実施形態において、回折光学素子10又は回折光学素子50は、2レベルの凹凸構造を備える回折格子により構成されている例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、多段階の凹凸構造を備える回折格子により構成してもよい。 (2) In each of the embodiments, the diffractive optical element 10 or the diffractive optical element 50 has been described by exemplifying a diffraction grating having a two-level concavo-convex structure. It is not limited to this, and may be configured by, for example, a diffraction grating having a multi-stage concave-convex structure.

(3)各実施形態において、樹脂層11がガラス層41の片方の面にのみ構成されている例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、ガラス層41の両面に樹脂層11を設け、ガラス層41の両面に回折格子が構成されている構成を含めてもよい。
図12から図16は、ガラス層41の両面に樹脂層11を有する回折光学素子70を含む構成の例を示す図である。なお、これらの図中の符号は、上述した各実施形態と同様な構成には、同一の符号を設けている。なお、図12から図16に示す例では、いずれもガラス層41が出光側となるように配置されており、上記各実施形態と同様な効果が期待できる。
(3) In each embodiment, an example in which the resin layer 11 is formed only on one surface of the glass layer 41 has been described. For example, a configuration in which the resin layers 11 are provided on both sides of the glass layer 41 and diffraction gratings are configured on both sides of the glass layer 41 may be included.
12 to 16 are diagrams showing examples of configurations including the diffractive optical element 70 having the resin layers 11 on both sides of the glass layer 41. FIG. It should be noted that the same reference numerals are provided for the same configurations as those of the above-described embodiments. In addition, in the examples shown in FIGS. 12 to 16, the glass layer 41 is arranged on the light exit side, and the same effects as those of the above embodiments can be expected.

なお、第1実施形態~第3実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は以上説明した各実施形態によって限定されることはない。 Although the first to third embodiments and modifications can be used in combination as appropriate, detailed description thereof will be omitted. Moreover, the present invention is not limited to each embodiment described above.

1 光照射装置
10 回折光学素子
11 樹脂層
12 基材
13 密着層
14 ガラス層
20 ホルダ
20a 頂部
30 光源部
31 発光素子
32 基板
33 配線
40 カバーガラス
41 ガラス層
42 反射抑制層
50 回折光学素子
60 接着材
70 回折光学素子
111 高屈折率部
111a 凸部
112 凹部
113 空間
114 低屈折率部
115 回折層
1 Light irradiation device 10 Diffraction optical element 11 Resin layer 12 Base material 13 Adhesion layer 14 Glass layer 20 Holder 20a Top part 30 Light source part 31 Light emitting element 32 Substrate 33 Wiring 40 Cover glass 41 Glass layer 42 Antireflection layer 50 Diffraction optical element 60 Adhesion Material 70 Diffractive optical element 111 High refractive index portion 111a Convex portion 112 Concave portion 113 Space 114 Low refractive index portion 115 Diffractive layer

Claims (5)

入射した光を回折して出射する回折光学素子と、
前記回折光学素子に対して光を投影する光源部と、
を備える光照射装置であって、
前記回折光学素子は、
凸部が並んで配置される高屈折率部と、前記凸部の間に形成されている凹部を含む低屈折率部と、を有する回折層と、
前記回折層のうちのいずれの回折層よりも前記光源部からの光が出射する側に配置されたガラス層と、
を備え、
前記回折層は、基材の両面に配置されている構成を含む、光照射装置。
a diffractive optical element that diffracts and emits incident light;
a light source unit that projects light onto the diffractive optical element;
A light irradiation device comprising
The diffractive optical element is
a diffraction layer having a high refractive index portion in which convex portions are arranged side by side, and a low refractive index portion including concave portions formed between the convex portions;
a glass layer disposed on a side of the diffraction layer from which the light from the light source part is emitted from any of the diffraction layers;
with
The light irradiation device, wherein the diffraction layer is arranged on both sides of a substrate.
請求項1に記載の光照射装置において、
前記ガラス層に積層された反射抑制層を備えること、
を特徴とする光照射装置。
In the light irradiation device according to claim 1,
comprising an antireflection layer laminated on the glass layer;
A light irradiation device characterized by:
請求項1又は請求項2に記載の光照射装置において、
前記ガラス層は、前記回折層の基材を兼ねていること、
を特徴とする光照射装置。
In the light irradiation device according to claim 1 or claim 2,
the glass layer also serves as a base material for the diffraction layer;
A light irradiation device characterized by:
請求項1から請求項3までのいずれかに記載の光照射装置において、
前記光源部は、
基板と、
前記基板に取り付けられた発光素子と、
前記基板に一体となって固定され、前記回折光学素子を保持する枠形のホルダとを備えること、
を特徴とする光照射装置。
In the light irradiation device according to any one of claims 1 to 3,
The light source unit
a substrate;
a light emitting element attached to the substrate;
a frame-shaped holder integrally fixed to the substrate and holding the diffractive optical element;
A light irradiation device characterized by:
請求項1から請求項4までのいずれかに記載の光照射装置において、
前記回折層のうち最も前記光源部に近い位置に設けられている前記回折層は、前記凸部及び前記凹部が前記光源部側を向いて配置されていること、
を特徴とする光照射装置。
In the light irradiation device according to any one of claims 1 to 4,
The diffraction layer provided closest to the light source part among the diffraction layers is arranged such that the convex part and the concave part face the light source part side,
A light irradiation device characterized by:
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