JP7112476B2 - Transparent polyimide resin film using polyimide-forming composition - Google Patents
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Description
本発明は、フレキシブル表示装置に適用可能な、ポリイミド形成用組成物を用いて製造される透明ポリイミド樹脂フィルムに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent polyimide resin film produced using a composition for forming polyimide , which is applicable to flexible display devices.
ポリイミド(Polyimide、PI)樹脂は、不溶不融の超高耐熱性樹脂であって、電気的、化学的、熱的、及び機械的物性に優れているという長所を有するため、自動車材料、航空・宇宙船材料などのような耐熱性の先端材料、並びに絶縁コーティング剤、絶縁膜、半導体、LCD電極保護膜などのような電子材料として広く使用されている。 Polyimide (PI) resin is an insoluble and infusible ultra-high heat-resistant resin, and has excellent electrical, chemical, thermal, and mechanical properties. It is widely used as heat-resistant advanced materials such as spacecraft materials, and electronic materials such as insulating coating agents, insulating films, semiconductors, and LCD electrode protective films.
このようなポリイミド樹脂の合成方法としては、一般に、ジアンヒドリドとジアミンとを有機溶媒中で重合させてポリアミック酸(Polyamic acid)溶液を製造した後、これを熱処理で硬化させてフィルムとして製造する方法、または、化学的にイミド化(Imidazation)を行った後、浸漬、洗浄、再溶解などの過程を経てフィルムとして製造する方法が行われている。 As a method for synthesizing such a polyimide resin, generally, a dianhydride and a diamine are polymerized in an organic solvent to prepare a polyamic acid solution, which is then cured by heat treatment to prepare a film. Alternatively, after chemical imidization, immersion, washing, re-dissolution, etc. are performed to produce a film.
まず、ポリアミック酸溶液を熱処理で硬化させてポリイミド樹脂フィルムを製造する方法は、250~400℃の高温で数時間加熱する過程を含む。その過程で樹脂の着色が生じるため、可視光域での透過度及び黄色度が低下してしまい、透明性が要求される光学材料として使用することが困難である。一方、低温で加熱する場合、ポリイミド樹脂フィルムの製造に要する時間が長くなると共にポリアミック酸の低分子量化が生じるため、製造されるポリイミド樹脂フィルムの強度が低下するという問題点がある。 First, the method of preparing a polyimide resin film by curing a polyamic acid solution by heat treatment includes heating at a high temperature of 250 to 400° C. for several hours. Since the resin is colored in the process, the transmittance and yellowness in the visible light range are lowered, making it difficult to use as an optical material that requires transparency. On the other hand, heating at a low temperature prolongs the time required to produce the polyimide resin film and lowers the molecular weight of the polyamic acid, resulting in a problem of reduced strength of the produced polyimide resin film.
また、ポリアミック酸溶液を化学的にイミド化してポリイミド樹脂フィルムを製造する方法は、ポリアミック酸溶液にキシレンやトルエンなどを加え、ディーン・スターク方法(Dean Stark Method)でイミド化する過程、または、ポリアミック酸溶液にピリジンなどの触媒と、無水酢酸などの脱水剤を加え、低温でイミド化する過程を含む。しかし、前記化学的にイミド化する方法では、別のディーン・スターク装置を設ける必要があり、または、イミド化後に浸漬、洗浄、乾燥、再溶解などの過程を経る必要があるため、工程が複雑で、廃水が多量に発生するという問題点がある。 In addition, the method of chemically imidizing a polyamic acid solution to produce a polyimide resin film includes adding xylene, toluene, or the like to the polyamic acid solution and imidizing by the Dean Stark method, or polyamic It includes a process of adding a catalyst such as pyridine and a dehydrating agent such as acetic anhydride to an acid solution and imidizing at a low temperature. However, the chemical imidization method requires a separate Dean-Stark apparatus, or requires processes such as immersion, washing, drying, and redissolution after imidization, resulting in a complicated process. However, there is a problem that a large amount of waste water is generated.
従って、比較的簡単な工程によって、高透明性を示し、かつ熱的特性及び機械的特性に優れた、透明ポリイミド樹脂フィルムを製造するためのポリアミック酸溶液の開発が求められている。 Therefore, there is a demand for the development of a polyamic acid solution for producing a transparent polyimide resin film exhibiting high transparency and excellent thermal and mechanical properties by a relatively simple process.
本発明は、特定の構造を有するジアンヒドリド単量体とジアミン単量体とを採用し、これらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用して一定温度で硬化することで、低いYI(Yellow Index)及び高い光透過度を実現し、機械的特性を調節することができる、透明ポリイミドフィルムを製造することを目的としている。 The present invention adopts a dianhydride monomer and a diamine monomer having a specific structure, adjusts their content to a specific range, and uses a catalyst having a boiling point within a specific range to The object is to produce a transparent polyimide film that can be cured to achieve a low YI (Yellow Index) and high light transmittance and to adjust mechanical properties.
また、本発明は、LCD及びOLEDのフレキシブル表示装置用プラスチック透明基板、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、電子ペーパー用基板材料などに適用可能な透明ポリイミドフィルムを提供することを目的としている。 The present invention also provides a transparent polyimide film that can be applied to plastic transparent substrates for LCD and OLED flexible display devices, TFT substrates, flexible printed circuit substrates, flexible OLED surface lighting substrates, electronic paper substrate materials, and the like. purpose.
上述の目的を達成するため、本発明は、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミン、下記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミンからなる群より選ばれる1種以上のジアミンと、を含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;(c)2-メチルピペラジン、4-tert-ブチルピリジン、及び2,3,5-コリジンからなる群から選択される1種以上である塩基性触媒;及び(d)有機溶媒;を含み、脱水剤を除いたポリイミド形成用組成物をイミド化して製造され、以下の(i)~(v)の物性条件を満たす、透明ポリイミド樹脂フィルムを提供する。
膜厚さ10μm以下において、
(i)波長550nmでの光透過度が88%以上であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が5.0以下であり、
(iii)ヘーズが1.0以下であり、
(iv)弾性率が3~6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120~200MPaの範囲である。
In order to achieve the above object, the present invention provides (a) a diamine represented by the following chemical formula (1), a diamine represented by the following chemical formula (2), a diamine represented by the following chemical formula (2A), and 2, 2 a diamine mixture containing one or more diamines selected from the group consisting of '-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine ; (b) a dianhydride represented by the following chemical formula (3); (c) a basic catalyst that is one or more selected from the group consisting of 2-methylpiperazine, 4-tert-butylpyridine, and 2,3,5-collidine ; and (d) an organic solvent; is produced by imidizing a polyimide-forming composition excluding a dehydrating agent, and satisfies the following physical property conditions (i) to (v) to provide a transparent polyimide resin film .
At a film thickness of 10 μm or less,
(i) a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm;
(ii) a yellowness index of 5.0 or less according to the standard of ASTM E313;
(iii) haze is 1.0 or less,
(iv) an elastic modulus in the range of 3 to 6 GPa;
(v) Tensile strength is in the range of 120-200 MPa.
Aは、単結合、-C(=O)-、及び-C(=O)NH-、並びにハロゲン、又はハロゲン原子で置換されたC
1
~C
6
のアルキル基で置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X1及びX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X1及びX2のうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基であり、
mは、0~2の整数である。)
A is a single bond, -C(=O)- and -C(=O)NH-, and C6 - C substituted with a halogen or a C1 - C6 alkyl group substituted with a halogen atom selected from the group consisting of 20 arylene groups,
X 1 and X 2 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; is selected from the group consisting of
provided that when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom ;
m is an integer from 0 to 2; )
B
1 は、C
1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-S(=O)2-、-C(=O)NH-、及びC
1
~C
6
のアルキル基で置換または非置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X3及びX4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択される。)
B
2
は、単結合、C
1
~C
6
のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC
1
~C
6
のアルキレン基、及びC
1
~C
6
のアルキル基で置換または非置換されたC
6
~C
20
のアリーレン基からなる群から選択され、
X
3
及びX
4
は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C
1
~C
6
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC
1
~C
6
のアルキル基からなる群から選択される。)
Cは、4価のC6~C20の芳香族環基、及び4価のC4~C20の脂肪族環基からなる群から選択され、
前記4価のC6~C20の芳香族環基は、C1~C6のアルキル基で置換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、-C(=O)NH-、及び-C(=O)-O-からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Dは、C1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-C(=O)-、及び-S(=O)2-からなる群から選択され、
X5及びX6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
nは、1~3の整数である。)
B 1 is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O — , —S—, —S(=O) 2 — , —C(═O)NH—, and a C 6 to C 20 arylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 6 alkyl group,
X 3 and X 4 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; selected from the group consisting of )
B 2 is a single bond, a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are replaced with halogen atoms , and a C 1 to C 6 alkyl group substituted or unsubstituted selected from the group consisting of substituted C6 - C20 arylene groups;
X 3 and X 4 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; selected from the group consisting of )
C is selected from the group consisting of a tetravalent C6- C20 aromatic cyclic group and a tetravalent C4 - C20 aliphatic cyclic group;
the tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring group may be substituted with a C 1 to C 6 alkyl group;
The C may be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different, and the plurality of rings are -C(=O)NH- and -C(=O)-O It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of - . )
D is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O—, —S—, —C(=O)—, and -S(=O) 2 - is selected from the group consisting of
X 5 and X 6 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms is selected from the group consisting of
n is an integer of 1-3. )
さらに、本発明は、前記透明ポリイミド樹脂フィルムを含む透明基板を提供する。 Furthermore, the present invention provides a transparent substrate including the transparent polyimide resin film.
本発明によれば、特定の構造を有するジアミン単量体とジアンヒドリド単量体とを採用し、これらの含有量を特定範囲に調節すると共に特定範囲内の沸点を有する触媒を使用することにより、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを同時に有する透明ポリイミド樹脂フィルムを提供することができる。 According to the present invention, by adopting a diamine monomer and a dianhydride monomer having a specific structure, adjusting their contents within a specific range, and using a catalyst having a boiling point within a specific range, , it is possible to provide a transparent polyimide resin film having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. at the same time.
また、本発明によれば、優れた光学特性、機械的特性、熱的特性などを有する前記透明ポリイミド樹脂フィルムを基板に適用することにより、優れた物性と製品信頼性を発揮するフレキシブル表示装置用透明基板を提供することができる。 Further, according to the present invention, by applying the transparent polyimide resin film having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. to a substrate, a flexible display device exhibiting excellent physical properties and product reliability can be obtained. A transparent substrate can be provided.
以下、本発明を詳述する。但し、後述の例は、例示に過ぎず、本発明は、これらの例によって制限されるものではなく、本発明の範疇は、後述の特許請求の範囲によって示される。 The present invention will be described in detail below. However, the examples described below are merely examples, and the present invention is not limited to these examples, and the scope of the present invention is indicated by the claims described below.
<透明ポリイミド樹脂フィルム>
本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、高透明性と共に優れた光学特性を保持しながら機械的特性及び熱的特性の改善されたものであり、(a)下記化学式(1)で示されるジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミン、下記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミンからなる群より選ばれる1種以上のジアミンと、を含むジアミン混合物;(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;(c)2-メチルピペラジン、4-tert-ブチルピリジン、及び2,3,5-コリジンからなる群から選択される1種以上である塩基性触媒;及び(d)有機溶媒;を含み、脱水剤を除いたポリイミド形成用組成物をイミド化して製造され、以下の(i)~(v)の物性条件を満たす。
膜厚さ10μm以下において、
(i)波長550nmでの光透過度が88%以上であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が5.0以下であり、
(iii)ヘーズが1.0以下であり、
(iv)弾性率が3~6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120~200MPaの範囲である。
< Transparent polyimide resin film >
The transparent polyimide resin film according to the present invention has improved mechanical properties and thermal properties while maintaining high transparency and excellent optical properties . (a) A diamine represented by the following chemical formula (1) and one or more diamines selected from the group consisting of a diamine represented by the following chemical formula (2), a diamine represented by the following chemical formula (2A), and 2,2′-dimethylbiphenyl-4,4′-diamine; (b) a dianhydride mixture containing a dianhydride represented by the following chemical formula (3) and a dianhydride represented by the following chemical formula (4); (c) 2-methylpiperazine, 4-tert-butyl pyridine, and a basic catalyst that is one or more selected from the group consisting of 2,3,5-collidine ; and (d) an organic solvent; It is produced and satisfies the following physical property conditions (i) to (v).
At a film thickness of 10 μm or less,
(i) a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm;
(ii) a yellowness index of 5.0 or less according to the standard of ASTM E313;
(iii) haze is 1.0 or less,
(iv) an elastic modulus in the range of 3 to 6 GPa;
(v) Tensile strength is in the range of 120-200 MPa.
(a)ジアミン混合物
前記ポリイミド形成用組成物は、ジアミン成分として、下記化学式(1)で示され
るジアミンと、下記化学式(2)で示されるジアミンとを含む。
(a) diamine mixture
The polyimide-forming composition contains , as diamine components, a diamine represented by the following chemical formula (1) and a diamine represented by the following chemical formula (2).
Aは、単結合、-C(=O)-、及び-C(=O)NH-、並びにハロゲン、又はハロゲン原子で置換されたC
1
~C
6
のアルキル基で置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X1及びX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X1及びX2のうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基であり、
mは、0~2の整数である。)
A is a single bond, -C(=O)- and -C(=O)NH-, and C6 - C substituted with a halogen or a C1 - C6 alkyl group substituted with a halogen atom selected from the group consisting of 20 arylene groups,
X 1 and X 2 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; is selected from the group consisting of
provided that when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom ;
m is an integer from 0 to 2; )
B
1 は、C
1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-S(=O)2-、-C(=O)NH-、及びC
1
~C
6
のアルキル基で置換または非置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X3及びX4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択される。)
B 1 is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O — , —S—, —S(=O) 2 — , —C(═O)NH—, and a C 6 to C 20 arylene group substituted or unsubstituted with a C 1 to C 6 alkyl group,
X 3 and X 4 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; selected from the group consisting of )
BB.
22
は、単結合、Cis a single bond, C
11
~C~C
66
のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたCC
11
~C~C
66
のアルキレン基、及びCThe alkylene group of, and C
11
~C~C
66
のアルキル基で置換または非置換されたCC substituted or unsubstituted with an alkyl group of
66
~C~C
2020
のアリーレン基からなる群から選択され、is selected from the group consisting of an arylene group of
XX
33
及びXand X
44
は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、Care the same or different from each other and each independently hydrogen, halogen, C
11
~C~C
66
のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたCand C in which one or more hydrogens have been replaced with halogen atoms
11
~C~C
66
のアルキル基からなる群から選択される。)are selected from the group consisting of alkyl groups of )
本発明の好適な一例によれば、前記X1及びX4は、当業界で周知の電子吸引性基(Electron Withdrawing Group、EWG)であることができ、それぞれ独立に、フッ素(F)またはCF3であることが好ましい。 According to one preferred example of the present invention, said X 1 and X 4 can be electron withdrawing groups (Electron Withdrawing Group, EWG) well known in the art, each independently fluorine (F) or CF 3 is preferred.
また、前記Aは、当業界で周知のC6~C20のアリーレン基であることができ、その具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニレンなどが挙げられる。特に、前記Aは、次の化学式(5)で示される置換体群から選択されるものであることが好ましい。 Also, A may be a C 6 -C 20 arylene group well known in the art, and specific examples thereof include phenylene, biphenylene, triphenylene, and the like. In particular, A is preferably selected from the group of substituents represented by the following chemical formula (5).
上述の化学式(1)において、フッ素(F)やCF3などの電子吸引性基(EWG)を少なくとも1つ以上導入することにより、分子鎖間及び分子鎖内電荷移動錯体(Change Transfer Complex、CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の透明度を向上することができる。 In the above chemical formula (1), by introducing at least one electron-withdrawing group (EWG) such as fluorine (F) or CF3 , inter-chain and intra-chain charge transfer complexes (Change Transfer Complex, CTC) ) can improve the transparency of the polyimide resin.
本発明において、前記化学式(1)で示されるジアミンとしては、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル-4,4’-ジアミン(TFDB)、4-アミノ-N-(4-アミノフェニル)ベンズアミン、ビス(4-アミノフェニル)メタノンなどに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。但し、フッ素化ビフェニル構造を含有するジアミンは、ジアンヒドリドとの反応性を調節しながら、高いガラス転移温度及び低い熱膨張性を実現することで、熱的特性を改善することができる。例えば、TFDBを使用する場合は、ポリイミド樹脂の透過度及びガラス転移温度を高くすると共に熱膨張係数を低くすることができる。 In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) includes 2,2′-bis(trifluoromethyl)biphenyl-4,4′-diamine (TFDB), 4-amino-N-(4-aminophenyl ) benzamine, bis(4-aminophenyl)methanone, etc., but not limited thereto. However, diamines containing a fluorinated biphenyl structure can improve thermal properties by achieving a high glass transition temperature and low thermal expansion while controlling reactivity with dianhydrides. For example, when TFDB is used, the transmittance and glass transition temperature of the polyimide resin can be increased and the thermal expansion coefficient can be decreased.
このような前記化学式(1)で示されるジアミンの含有量は、特に限定されないが、ジアミン混合物100モル%に対して、50~99.9モル%であることができ、好ましくは、70~99モル%である。化学式(1)で示されるジアミンを上述の範囲内で含む場合、単量体中の置換基間電荷移動効果によって、光学特性がより向上することができる。 The content of the diamine represented by the chemical formula (1) is not particularly limited, but may be 50 to 99.9 mol%, preferably 70 to 99 mol%, based on 100 mol% of the diamine mixture. in mol %. When the diamine represented by the chemical formula (1) is contained within the above range, optical properties can be further improved due to the effect of charge transfer between substituent groups in the monomer.
本発明において、前記化学式(2)又は前記化学式(2A)で示されるジアミンとしては、4,4’-オキシジベンゼンアミン(4,4’-ODA)、3,4-オキシジベンゼンアミン(3,4’-ODA)、3,3’-オキシジベンゼンアミン(3,3’-ODA)、4,4’-オキシ(3-(トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FODA)、4,4’-(1,4-フェニレンビス(オキシ))ビス(3-(トリフルオロメチル)ベンゼンアミン)(FAPB)、4,4’-(パーフルオロプロパン-2,2’-ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’-(2,2’-(1,4-フェニレン)ビス(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジベンゼンアミン、4,4’-スルホニルジベンゼンアミン(4,4’-DDS)、4,4’-(4,4’-(パーフルオロプロパン-2,2-ジイル)ビス(4,1-フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンアミン、4,4’-(4,4’-スルホニルビス(4,1-フェニレン)ビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’-(1,4-フェニレンビス(オキシ))ジベンゼンアミン、4,4’-(4,4’-(プロパン-2,2-ジイル)ビス(4,1-フェニレン))ビス(オキシ)ジベンゼンアミンなどに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。このような化学式(2)で示されるジアミンは、フェニル、ビフェニル、スルホン基(SO2)、シラン基などを含む単量体であることができる。なお、4,4’-ODA、FODA、FAPB、DABA(4,4'-Diaminobenzanilide)、4,4’-DDS、または4,4’-(パーフルオロプロパン-2,2’-ジイル)ジベンゼンアミンを使用する場合は、ポリイミド樹脂の熱的特性が低下することなく、光学特性をより向上することができる。 In the present invention, the diamine represented by the chemical formula (2) or the chemical formula (2A) includes 4,4′-oxydibenzenamine (4,4′-ODA), 3,4-oxydibenzenamine (3 ,4′-ODA), 3,3′-oxydibenzenamine (3,3′-ODA), 4,4′-oxy(3-(trifluoromethyl)benzenamine) (FODA), 4,4′ -(1,4-phenylenebis(oxy))bis(3-(trifluoromethyl)benzenamine) (FAPB), 4,4′-(perfluoropropane-2,2′-diyl)dibenzenamine, 4 ,4′-(2,2′-(1,4-phenylene)bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl)dibenzenamine, 4,4′- Sulfonyldibenzenamine (4,4'-DDS), 4,4'-(4,4'-(perfluoropropane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy)dibenzene Amine, 4,4'-(4,4'-sulfonylbis(4,1-phenylene)bis(oxy))dibenzenamine, 4,4'-(1,4-phenylenebis(oxy))dibenzenamine , 4,4′-(4,4′-(propane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy)dibenzenamine, etc. but not limited to, such diamines represented by formula ( 2 ) can be monomers containing phenyl, biphenyl, sulfone group (SO2), silane group, etc. 4,4 When using '-ODA, FODA, FAPB, DABA (4,4'-Diaminobenzanilide), 4,4'-DDS, or 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzenamine can further improve the optical properties without lowering the thermal properties of the polyimide resin.
前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン(m-Tolidine)の合計含有量は、特に限定されないが、ジアミン混合物100モル%に対して、0.01~50モル%であることができ、好ましくは、0.1~30モル%である。前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン(m-Tolidine)からなる群より選ばれる1種以上のジアミンを上述の範囲内で含む場合、光学特性(光透過度及び黄色度)がより向上することができる。 The total content of the diamine represented by the chemical formula (2) , the diamine represented by the chemical formula (2A) , and 2,2′-dimethylbiphenyl-4,4′-diamine (m-Tolidine) is not particularly limited. , 0.01 to 50 mol %, preferably 0.1 to 30 mol %, relative to 100 mol % of the diamine mixture. One or more selected from the group consisting of the diamine represented by the chemical formula (2), the diamine represented by the chemical formula (2A), and 2,2′-dimethylbiphenyl-4,4′-diamine (m-Tolidine) When the diamine is contained within the above range, optical properties (light transmittance and yellowness) can be further improved.
本発明に係る(a)ジアミンは、ポリイミド樹脂の高透明性及び低黄色度を考慮して、前記化学式(1)で示されるジアミンとして、TFDBを使用すると共に、前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン(m-Tolidine)からなる群より選ばれる1種以上のジアミンとして、m-Tolidine、4,4’-ODA、FODA、FAPB、DABA、4,4’-DDS、または4,4’-(パーフルオロプロパン-2,2’-ジイル)ジベンゼンアミンを混合して使用することが好ましい。 The (a) diamine according to the present invention uses TFDB as the diamine represented by the chemical formula (1) in consideration of the high transparency and low yellowness of the polyimide resin, and is represented by the chemical formula (2). As one or more diamines selected from the group consisting of diamines, diamines represented by the chemical formula (2A), and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine (m-Tolidine) , m-Tolidine, 4 , 4′-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4′-DDS or 4,4′-(perfluoropropane-2,2′-diyl)dibenzenamine are preferably used in combination.
(b)ジアンヒドリド混合物
本発明に係るポリイミド形成用組成物は、ジアンヒドリド成分として、下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含む。
(b) Dianhydride Mixture The polyimide-forming composition according to the present invention contains a dianhydride represented by the following chemical formula (3) and a dianhydride represented by the following chemical formula (4) as dianhydride components.
Cは、4価のC6~C20の芳香族環基、及び4価のC4~C20の脂肪族環基からなる群から選択され、
前記4価のC6~C20の芳香族環基は、C1~C6のアルキル基で置換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、-C(=O)NH-、及び-C(=O)-O-からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
C is selected from the group consisting of a tetravalent C6- C20 aromatic cyclic group and a tetravalent C4 - C20 aliphatic cyclic group;
the tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring group may be substituted with a C 1 to C 6 alkyl group;
The C may be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different, and the plurality of rings are -C(=O)NH- and -C(=O)-O It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of - . )
Dは、C1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-C(=O)-、及び-S(=O)2-からなる群から選択され、
X5及びX6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
nは、1~3の整数である。)
D is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O—, —S—, —C(=O)—, and -S(=O) 2 - is selected from the group consisting of
X 5 and X 6 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms is selected from the group consisting of
n is an integer of 1-3. )
本発明の好適な一例によれば、前記Cは、当業界で周知の4価の炭化水素環基であり、前記炭化水素環基としては、例えば、C6~C20の芳香族環基、またはC4~C40の脂肪族環基などが挙げられる。前記Cは、4価の6員芳香族環基、または4価の6員脂環式環基であることが好ましい。なお、Cが4価の6員芳香族環基である場合、化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアミン構造を含有する芳香族ジアンヒドリドであり、Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアミン構造を含有する非芳香族ジアンヒドリドであることができる。 According to a preferred example of the present invention, C is a tetravalent hydrocarbon ring group well known in the art, and the hydrocarbon ring group includes, for example, a C 6 to C 20 aromatic ring group, or a C 4 to C 40 aliphatic cyclic group. C is preferably a tetravalent 6-membered aromatic ring group or a tetravalent 6-membered alicyclic ring group. When C is a tetravalent 6-membered aromatic ring group, the dianhydride represented by the chemical formula (3) is an aromatic dianhydride containing a diamine structure, and C is a tetravalent 6-membered aliphatic ring. If a group, the dianhydride of formula (3) can be a non-aromatic dianhydride containing a diamine structure.
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、-C(=O)-、-C(=O)NH-、-C(=O)-O-、及び-S(=O)2-からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。 The C may be a plurality of rings, the plurality of rings are the same or different, and the plurality of rings are -C(=O)-, -C(=O)NH-, - It is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of C(=O)-O- and -S(=O) 2 -.
例えば、前記Cが4価の6員芳香族環基である場合は、当業界で周知の1つ以上のC6~C40のアリーレン基、スルホン基、またはアリーレン基とスルホン基とが連結された形態であることができる。その具体例としては、フェニレン、ビフェニレン、トリフェニレン、スルホニルジフェニレンなどが挙げられる。特に、前記Cは、次の化学式(6)で示される置換体群から選択されるものであることが好ましい。 For example, when C is a tetravalent 6-membered aromatic ring group, one or more C 6 to C 40 arylene groups, sulfone groups, or arylene groups and sulfone groups known in the art are linked. can be in the form Specific examples include phenylene, biphenylene, triphenylene, sulfonyldiphenylene, and the like. In particular, C is preferably selected from the group of substituents represented by the following chemical formula (6).
前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドは、ジアンヒドリドの間にリジッドな構造を有するアリーレン基及び/又はスルホン基が導入されることにより、熱や光による分解が生じることなく外部衝撃に対して安定しているため、これを用いて製造されるポリイミド樹脂の光学特性、熱的特性、機械的特性などが有意に改善される。また、化学式(3)で示される化合物は、ジアンヒドリドの間にアミド基(-C(=O)-NH-)が導入されることにより、他のジアンヒドリド単量体中の酸素原子と反応して水素結合を形成し、高分子の主鎖に一定の結合力が発生することで、ポリイミド樹脂の機械的特性及び耐熱特性が有意に改善される。 The dianhydride represented by the chemical formula (3) is resistant to external impact without being decomposed by heat or light by introducing an arylene group and/or a sulfone group having a rigid structure between the dianhydrides. Since it is stable, the optical properties, thermal properties, mechanical properties, etc. of the polyimide resin produced using it are significantly improved. In addition, the compound represented by the chemical formula (3) reacts with oxygen atoms in other dianhydride monomers by introducing an amide group (-C(=O)-NH-) between dianhydrides. As a result, hydrogen bonds are formed and a certain bonding force is generated in the main chain of the polymer, which significantly improves the mechanical properties and heat resistance of the polyimide resin.
また、前記Cが4価の6員脂肪族環基である場合、化合物の構造中にπ電子が存在しないため、電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の高透過度及び低黄色度の実現に大きな役割を果たすようになる。 In addition, when the C is a tetravalent six-membered aliphatic ring group, there is no π electron in the structure of the compound, so by controlling the formation of a charge transfer complex (CTC), the polyimide resin has a high transparency. And it comes to play a big role in realization of low yellowness.
前記化学式(3)で示されるジアンヒドリドとしては、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(CHDA)、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物(CPBA)、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(S-BPDA)、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a-BPDA)、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、N,N’-(4,4’-スルホニルビス(4,1-フェニレン))ビス(1,3-ジオキソ-オクタヒドロイソベンゾフラン-5-カルボキサミド)などに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。 Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (3) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (CHDA). , 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride (CPBA), bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2. 2.2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S-BPDA), 2, 3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), N,N′-(4,4′-sulfonylbis(4,1-phenylene )) bis(1,3-dioxo-octahydroisobenzofuran-5-carboxamide) and the like, but not limited thereto.
このような化学式(3)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、ジアンヒドリド混合物100モル%に対して、10~95モル%であることができ、好ましくは、50~90モル%である。化学式(3)で示されるジアンヒドリドを上述の範囲内で含む場合、ポリイミド樹脂の高光透過度及び黄色度を保持すると共にポリイミド樹脂の熱膨張係数を低くすることができる。 The content of the dianhydride represented by the chemical formula (3) is not particularly limited, but can be 10 to 95 mol%, preferably 50 to 90 mol, relative to 100 mol% of the dianhydride mixture. %. When the dianhydride represented by the chemical formula (3) is contained within the range described above, the polyimide resin can maintain high light transmittance and yellowness and can have a low coefficient of thermal expansion.
また、本発明の好適な一例によれば、前記X5及びX6は、当業界で周知の電子吸引性基(EWG)であることができ、それぞれ独立に、フッ素(F)またはCF3であることが好ましい。 Also, according to a preferred example of the present invention, X 5 and X 6 can be electron-withdrawing groups (EWG) well known in the art, each independently fluorine (F) or CF 3 Preferably.
前記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとしては、5,5’-(パーフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジイソベンゾフラン-1,3-ジオン(6-FDA)、5,5’-オキシジイソベンゾフラン-1,3-ジオン(ODPA)、5,5’-スルホニルジイソベンゾフラン-1,3-ジオン(DSDA)、ベンゾフェノン-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物(BTDA)などに由来する構造のうちから選択することができるが、これらに制限されない。なお、6FDAを使用する場合は、分子鎖間及び分子鎖内電荷移動錯体(CTC)の形成を制御することで、ポリイミド樹脂の透明度を向上することができる。 Examples of the dianhydride represented by the chemical formula (4) include 5,5′-(perfluoropropane-2,2-diyl)diisobenzofuran-1,3-dione (6-FDA), 5,5′-oxy Diisobenzofuran-1,3-dione (ODPA), 5,5′-sulfonyldiisobenzofuran-1,3-dione (DSDA), Benzophenone-3,3′,4,4′-tetracarboxylic dianhydride (BTDA) and the like, but not limited to these. When 6FDA is used, the transparency of the polyimide resin can be improved by controlling the formation of inter- and intra-molecular charge transfer complexes (CTC).
このような化学式(4)で示されるジアンヒドリドの含有量は、特に限定されないが、ジアンヒドリド100モル%に対して、5~90モル%であることができ、好ましくは、10~50モル%である。 The content of the dianhydride represented by the chemical formula (4) is not particularly limited, but may be 5 to 90 mol%, preferably 10 to 50 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride. is.
上述のように、本発明の一例においては、前記ジアミン成分として、化学式(1)で示されるジアミンと化学式(2)で示されるジアミンとを、ジアンヒドリド成分として、化学式(3)で示されるジアンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを、混合して使用するが、この時、(a)ジアミン混合物と(b)ジアンヒドリド混合物とは、ポリイミド樹脂の黄色度及び機械的特性を改善するため、(a):(b)=1:0.1~10の重量比で混合することができる。 As described above, in one example of the present invention, the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) are used as the diamine components, and the diamine represented by the chemical formula (3) is used as the dianhydride component. The hydride and the dianhydride represented by the chemical formula (4) are mixed and used. At this time, (a) the diamine mixture and (b) the dianhydride mixture improve the yellowness and mechanical properties of the polyimide resin. Therefore, (a):(b) can be mixed at a weight ratio of 1:0.1 to 10.
(c)塩基性触媒
塩基性触媒は、140~200℃の沸点を有する塩基性触媒であって、例えば、4-tert-ブチルピリジン、4-エチルピリジン、2-メチルピペラジン、2,6-ジメチルピペラジン、4-tert-ブチルピリジン、2-プロピルピリジン、4-プロピルピリジン、2,3,5-コリジン、2,5-ルチジン、2,6-ルチジン、2,3-ルチジン、4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、3-エチルピリジン、3-ピコリン、2,3-ジメチルピラジン、2,5-ジメチルピラジンなどが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(c) Basic catalyst The basic catalyst is a basic catalyst having a boiling point of 140 to 200°C, such as 4-tert-butylpyridine, 4-ethylpyridine, 2-methylpiperazine, 2,6-dimethyl piperazine, 4-tert-butylpyridine, 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 2,3,5-collidine, 2,5-lutidine, 2,6-lutidine, 2,3-lutidine, 4-diazabicyclo[2 .2.2] octane, 3-ethylpyridine, 3-picoline, 2,3-dimethylpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. can.
なお、塩基性触媒の沸点が140℃未満である場合は、フィルムの形成が困難となる。一方、沸点が200℃を超えると、本発明の硬化温度で触媒を除去し難くなり、触媒を除去するために硬化温度を上げる場合は、光学特性を阻害するようになる。 In addition, when the boiling point of the basic catalyst is less than 140° C., it becomes difficult to form a film. On the other hand, if the boiling point exceeds 200° C., it becomes difficult to remove the catalyst at the curing temperature of the present invention, and when the curing temperature is raised to remove the catalyst, optical properties are impaired.
(d)有機溶媒
前記ポリイミド形成用組成物を合成するための溶媒は、当業界で周知のものであれば、特に限定されない。前記溶媒としては、m-クレゾール、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、ジエチルアセテート、ジメチルフタレート(DMP)などの極性溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルムなどの低沸点溶媒、γ-ブチロラクトンなどの低吸収性溶媒などが挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(d) Organic Solvent The solvent for synthesizing the polyimide-forming composition is not particularly limited as long as it is well known in the art. Examples of the solvent include m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethylsulfoxide (DMSO), acetone, diethyl acetate, dimethyl phthalate (DMP), and the like. Polar solvents, low boiling point solvents such as tetrahydrofuran (THF) and chloroform, low absorption solvents such as γ-butyrolactone, and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.
上述のような本発明に係るポリイミド形成用組成物において、ジアミン混合物、ジアンヒドリド混合物、触媒、及び有機溶媒の含有量は、特に限定されないが、ポリイミド形成用組成物の全100重量%に対して、(a)ジアミン混合物が1~20重量%、(b)ジアンヒドリド混合物が1~20重量%、(c)触媒が当業界で周知の含有量、例えば、約0.01~20重量、具体的に約0.01~15重量%、より具体的には、約0.1~10重量%、及び(d)有機溶媒が残部であることができる。ここで、ポリイミド形成用組成物中における各成分の含有量が上記の範囲未満である場合は、前記ポリイミド形成用組成物の粘度が低くなりすぎることがあり、その反面、上記の範囲を超える場合は、ポリイミド形成用組成物の粘度が高くなりすぎることがある。従って、本発明に係るポリイミド形成用組成物中における各成分の含有量を上記の範囲内に調節することにより、ポリイミド形成用組成物が約1,000~500,000cps、好ましくは、約10,000~200,000cpsの範囲の粘度を有することができる。また、ポリイミド形成用組成物の粘度が上記の範囲内であれば、ポリイミド形成用組成物のコーティングの際に厚さの調節が容易に行われ、コーティングされる塗膜の表面が均一に形成されるようになる。 In the polyimide- forming composition according to the present invention as described above, the contents of the diamine mixture, the dianhydride mixture, the catalyst, and the organic solvent are not particularly limited, but are , (a) 1-20% by weight of a diamine mixture, (b) 1-20% by weight of a dianhydride mixture, (c) a catalyst content well known in the art, such as about 0.01-20% by weight, specifically typically about 0.01 to 15% by weight, more particularly about 0.1 to 10% by weight, and (d) the balance being organic solvent. Here, if the content of each component in the polyimide-forming composition is less than the above range, the viscosity of the polyimide-forming composition may become too low. can make the viscosity of the polyimide-forming composition too high. Therefore, by adjusting the content of each component in the polyimide-forming composition according to the present invention within the above range, the polyimide-forming composition can be obtained from about 1,000 to 500,000 cps, preferably about 10,000 cps 000 to 200,000 cps. In addition, when the viscosity of the polyimide-forming composition is within the above range, the thickness of the polyimide-forming composition can be easily adjusted during coating, and the surface of the coating film to be coated can be formed uniformly. Become so.
一方、本発明に係るポリイミド形成用組成物は、必要に応じて、本発明の目的及び効果を損なわない範囲内で、可塑剤、酸化防止剤、難燃化剤、分散剤、粘度調節剤、レベリング剤などの添加剤を少量含むことができる。 On the other hand, the polyimide-forming composition according to the present invention may optionally contain a plasticizer, an antioxidant, a flame retardant, a dispersant, a viscosity modifier, and a Additives such as leveling agents may be included in minor amounts.
上述のような本発明に係るポリイミド形成用組成物の溶液重合反応を行うことで、ポリアミック酸が得られる。具体的に、化学式(1)で示されるジアミンと化学式(2)で示されるジアミンとを有機溶媒に投入して溶解させた後、ここに、化学式(3)で示されるジアンヒドリドと化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを加えた後、溶液重合反応を行うと、ポリアミック酸が得られる。この時、反応条件は、特に限定されないが、-20~80℃で1~12時間(好ましくは、1~3時間)反応を行うことができる。 A polyamic acid can be obtained by carrying out a solution polymerization reaction of the polyimide-forming composition according to the present invention as described above. Specifically, after dissolving the diamine represented by the chemical formula (1) and the diamine represented by the chemical formula (2) in an organic solvent, the dianhydride represented by the chemical formula (3) and the chemical formula (4) ) is added and then a solution polymerization reaction is performed to obtain a polyamic acid. At this time, the reaction conditions are not particularly limited, but the reaction can be carried out at -20 to 80°C for 1 to 12 hours (preferably 1 to 3 hours).
なお、ポリイミド樹脂は、ランダム共重合体(Random copolymer)やブロック共重合体(Block copolymer)の形態であることができる。 In addition, the polyimide resin may be in the form of a random copolymer or a block copolymer.
本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、前記ポリイミド形成用組成物を用いて製造されるため、光学特性(透明度及び黄色度)と共に改善された機械的特性(弾性率、強度)を有しながら、優れた熱的特性(熱膨張係数及びガラス転移温度)を期待することができる。具体的に、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、波長550nmでの光線透過率が88%以上であり、波長550nmでの黄色度(Yellow Index、YI)が5.0以下であり、ヘーズ(Haze)が1.0以下であり、弾性率(Modulus)が3~6GPaであり、機械的強度(Strength)が120~200MPaである。 Since the transparent polyimide resin film according to the present invention is produced using the polyimide-forming composition, it has optical properties (transparency and yellowness) and improved mechanical properties (elasticity, strength). Excellent thermal properties (thermal expansion coefficient and glass transition temperature) can be expected. Specifically, the transparent polyimide resin film according to the present invention has a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm, a yellowness index (YI) at a wavelength of 550 nm of 5.0 or less, and a haze ( Haze) is 1.0 or less, elastic modulus (Modulus) is 3 to 6 GPa, and mechanical strength (Strength) is 120 to 200 MPa.
また、本発明に係る透明ポリイミド樹脂フィルムは、イミド基を含有するため、耐熱性、耐化学性、耐摩耗性、及び電気的特性に優れている。 Moreover, since the transparent polyimide resin film according to the present invention contains imide groups, it is excellent in heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance, and electrical properties.
このような透明ポリイミド樹脂フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば、前記ポリイミド形成用組成物を、ガラス基板、金属基板または耐熱性高分子基板にコーティング(キャスティング)した後、80~300℃の範囲で徐々に昇温させながら、1~12時間、イミド化反応(Imidazation)を行うことで、ポリイミド樹脂フィルムを製造することができる。 The method for producing such a transparent polyimide resin film is not particularly limited. A polyimide resin film can be produced by performing an imidization reaction (imidation) for 1 to 12 hours while gradually raising the temperature in the range of .
前記コーティング方法としては、当業界で周知の方法を制限なく使用することができ、例えば、スピンコート法(Spin coating)、ディップコート法(Dip coating)、溶媒キャスト法(Solvent casting)、スロットダイコート法(Slot die coating)、スプレーコート法(Spray coating)などが挙げられる。 As the coating method, methods known in the art can be used without limitation, such as spin coating, dip coating, solvent casting, and slot die coating. (Slot die coating), spray coating, and the like.
前記透明ポリイミド樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、数百nm~数十μmとなるように、上述のポリイミド形成用組成物を1回以上コーティングして調節することができる。 The thickness of the transparent polyimide resin film is not particularly limited, but can be adjusted by coating the polyimide-forming composition one or more times so as to be several hundred nanometers to several tens of micrometers.
このような透明ポリイミド樹脂フィルムは、種々の分野で使用可能であり、特に、高透明性及び耐熱性が要求される有機EL素子(OLED)用ディスプレイ、液晶素子用ディスプレイ、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブルOLED面照明基板、電子ペーパー用基板材料のようなフレキシブル表示装置用基板及び保護膜として活用することができる。 Such transparent polyimide resin films can be used in various fields, and in particular, organic EL element (OLED) displays, liquid crystal element displays, TFT substrates, and flexible printed circuits that require high transparency and heat resistance. It can be used as a substrate, a flexible OLED surface lighting substrate, a flexible display device substrate such as a substrate material for electronic paper, and a protective film.
以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて詳述するが、本発明は、後述の実施例及び比較例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited by the examples and comparative examples described later.
[実施例1]
1-1.ポリイミド形成用組成物の製造
1500mlの3口丸底フラスコに、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)640.016gを入れた後、フラスコの温度を50℃に昇温させた。次に、フラスコに、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル-4,4’-ジアミン(TFDB)85.0gを加え、60分経過後、2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン(m-Tol)1.743gを加えた。これを1時間攪拌し、TFDB、m-Tolを完全に溶解させた。次に、フレスコに、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(CBDA)45.615g、及び5,5’-(パーフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジイソベンゾフラン-1,3-ジオン(6FDA)18.235gをそれぞれ順次加え、溶解させた。この時、固形分は15%であり、次に、5.5時間攪拌して反応を行った。単量体間反応の完了を、粘度が増加したか否かで確認した後、4-tert-ブチルピリジン37gを徐々に加え、4.5時間攪拌した。次に、自然冷却して、ポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 1]
1-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition A 1500 ml three-necked round-bottomed flask was charged with 640.016 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc), and the temperature of the flask was raised to 50.degree. Next, 85.0 g of 2,2′-bis(trifluoromethyl)biphenyl-4,4′-diamine (TFDB) was added to the flask, and after 60 minutes, 2,2′-dimethylbiphenyl-4,4 1.743 g of '-diamine (m-Tol) was added. This was stirred for 1 hour to completely dissolve TFDB and m-Tol. Next, 45.615 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 5,5′-(perfluoropropane-2,2-diyl)diisobenzofuran-1 were added to the fresco. , 3-dione (6FDA) (18.235 g) was sequentially added and dissolved. At this time, the solid content was 15%, and the reaction was then stirred for 5.5 hours. After confirming the completion of the reaction between the monomers by checking whether the viscosity increased, 37 g of 4-tert-butylpyridine was gradually added and stirred for 4.5 hours. Next, it was naturally cooled to obtain a polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs).
1-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-1.で得られたポリイミド形成用組成物を、LCD用ガラス板にバーコーター(Bar coater)を用いてコーティングした後、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、280℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行った。その結果、膜厚さが52μmである透明ポリイミド樹脂フィルム(イミド化率:85%以上)が得られた。次に、ガラス板からフィルムを分離して透明ポリイミド樹脂フィルムを得た。
1-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-1. After coating the polyimide-forming composition obtained in , using a bar coater on a glass plate for LCD, in a convection oven under a nitrogen atmosphere, at 80 ° C. for 30 minutes, at 150 ° C. for 30 minutes, The film was dried at 200° C. for 1 hour and then at 280° C. for 1 hour while gradually raising the temperature stepwise to carry out an imidization reaction. As a result, a transparent polyimide resin film (imidation rate: 85% or more) having a thickness of 52 μm was obtained. Next, the film was separated from the glass plate to obtain a transparent polyimide resin film.
[実施例2]
2-1.ポリイミド形成用組成物の製造
前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 2]
2-1. Production of Polyimide-Forming Composition 1-1 of Example 1 above. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was obtained in the same manner as above.
2-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして製造した。
2-2. Production of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 320°C for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. of Example 1, except that the imidization reaction is performed. was produced in the same manner as
[実施例3]
3-1.ポリイミド形成用組成物の製造
前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 3]
3-1. Production of Polyimide-Forming Composition 1-1 of Example 1 above. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was obtained in the same manner as above.
3-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
窒素雰囲気下、コンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして製造した。
3-2. Production of transparent polyimide resin film In a nitrogen atmosphere, dry in a convection oven at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 350°C for 1 hour while gradually increasing the temperature. , 1-2. of Example 1, except that the imidization reaction is performed. was produced in the same manner as
[実施例4]
4-1ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:79000CPs)を得た。
[Example 4]
4-1 Production of Polyimide-Forming Composition The procedure of 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 79000 CPs) was obtained in the same manner as above.
4-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.と同様にして製造した。
4-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. was produced in the same manner as
[実施例5]
5-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-エチルピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Example 5]
5-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was obtained in the same manner as above.
5-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例5の5-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
5-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. Instead of the polyimide-forming composition used in 5-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例6]
6-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに2-メチルピペラジンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:81000CPs)を得た。
[Example 6]
6-1. 1-1. of Example 1 except that 2-methylpiperazine was used instead of 4-tert- butylpyridine . A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 81000 CPs) was obtained in the same manner as above.
6-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例6の6-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
6-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 6-1. of Example 6 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例7]
7-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’-ODA:CBDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:122000CPs)を得た。
[Example 7]
7-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 122000 CPs) was obtained in the same manner as above.
7-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例7の7-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
7-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 7-1. of Example 7 instead of the polyimide-forming composition used in 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例8]
8-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例7の7-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:118000CPs)を得た。
[Example 8]
8-1. 7-1. of Example 7 above, except that 4-diazabicyclo[2.2.2]octane is used instead of 4-tert- butylpyridine . A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 118000 CPs) was obtained in the same manner as above.
8-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例8の8-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
8-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 8-1. of Example 8 instead of the polyimide-forming composition used in 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例9]
9-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例7の7-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:119000CPs)を得た。
[Example 9]
9-1. 7-1. of Example 7 except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert- butylpyridine . A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 119000 CPs) was obtained in the same manner as above.
9-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例9の9-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
9-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 9, 9-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例10]
10-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA: CHDA:6FDAを9:1:8:2のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 10]
10-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition The procedure described above was used except that TFDB:FODA:CHDA:6FDA was used in a molar ratio of 9:1:8:2 and 4-methoxypyridine was used in place of 4-tert-butylpyridine. 1-1 of Example 1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was obtained in the same manner as above.
10-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例10の10-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
10-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 10-1. of Example 10 instead of the polyimide-forming composition used in 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例11]
11-1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例10の10-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 11]
11-1. Production of polyimide-forming composition Example 10, 10-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was obtained in the same manner as above.
11-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例11の11-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
11-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 11-1. of Example 11 instead of the polyimide-forming composition used in . in a convection oven under a nitrogen atmosphere, stepwise at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 320°C for 1 hour. 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例12]
12-1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例10の10-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 12]
12-1. Production of polyimide-forming composition Example 10, 10-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was obtained in the same manner as above.
12-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例12の12-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
12-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 12-1. of Example 12 instead of the polyimide-forming composition used in . using the polyimide-forming composition prepared in stepwise, in a convection oven under a nitrogen atmosphere, at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 350°C for 1 hour. 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例13]
13-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s-BPDA:6FDAを9:1:9:1のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:112000CPs)を得た。
[Example 13]
13-1. Preparation of polyimide-forming composition except that TFDB:FODA:s-BPDA:6FDA is used in a molar ratio of 9:1:9:1 and 4-methoxypyridine is used instead of 4-tert-butylpyridine. , 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 112000 CPs) was obtained in the same manner as above.
13-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例13の13-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
13-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 13-1. of Example 13 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例14]
14-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-メトキシピリジンの代わりに4-tert-ブチルピリジンを使用すること以外は、前記実施例13の13-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:113000CPs)を得た。
[Example 14]
14-1. 13-1. of Example 13 except that 4-tert- butylpyridine was used instead of 4-methoxypyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 113000 CPs) was obtained in the same manner as above.
14-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例14の14-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
14-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 14, 14-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例15]
15-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-メトキシピリジンの代わりに3-ピコリンを使用すること以外は、前記実施例13の13-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:110000CPs)を得た。
[Example 15]
15-1. 13-1 . of Example 13 except that 3-picoline was used instead of 4-methoxypyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 110,000 CPs) was obtained in the same manner as above.
15-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例15の15-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
15-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 15, 15-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例16]
16-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-メトキシピリジンの代わりに2,3-ルチジンを使用すること以外は、前記実施例13の13-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:112000CPs)を得た。
[Example 16]
16-1. 13-1 . of Example 13 except that 2,3-lutidine was used instead of 4-methoxypyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 112000 CPs) was obtained in the same manner as above.
16-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例16の16-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
16-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 16-1. of Example 16 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例17]
17-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-メトキシピリジンの代わりに2,3,5-コリジンを使用すること以外は、前記実施例13の13-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:119000CPs)を得た。
[Example 17]
17-1. 13-1. of Example 13 except that 2,3,5 -collidine was used instead of 4-methoxypyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 119000 CPs) was obtained in the same manner as above.
17-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例17の17-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
17-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 17-1. of Example 17 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例18]
18-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FAPB:a-BPDA:ODPAを9:1:7:3のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 18]
18-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition TFDB:FAPB:a-BPDA:ODPA was used in a molar ratio of 9:1:7:3 and 4-diazabicyclo[2.2.2] was used instead of 4-tert-butylpyridine. 1-1. of Example 1 above except that octane is used. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was obtained in the same manner as above.
18-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例18の18-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
18-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 18-1. of Example 18 instead of the polyimide-forming composition used in 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例19]
19-1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例18の18-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 19]
19-1. Production of composition for forming polyimide Example 18, 18-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was obtained in the same manner as above.
19-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例19の19-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、320℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
19-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 19, 19-1. in a convection oven under a nitrogen atmosphere, stepwise at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 320°C for 1 hour. 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例20]
20-1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例18の18-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:52000CPs)を得た。
[Example 20]
20-1. Production of composition for forming polyimide Example 18, 18-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was obtained in the same manner as above.
20-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例20の20-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
20-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 20-1. of Example 20 instead of the polyimide-forming composition used in . using the polyimide-forming composition prepared in stepwise, in a convection oven under a nitrogen atmosphere, at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 350°C for 1 hour. 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例21]
21-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:DABA:CBDA:DSDAを8:2:8:2のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:83000CPs)を得た。
[Example 21]
21-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 83000 CPs) was obtained in the same manner as above.
21-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例21の21-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
21-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 21, 21-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例22]
22-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに2,3,5-コリジンを使用すること以外は、前記実施例21の21-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:81000CPs)を得た。
[Example 22]
22-1. 21-1. of Example 21 except that 2,3,5 -collidine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 81000 CPs) was obtained in the same manner as above.
22-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例22の22-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
22-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 22-1. of Example 22 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例23]
23-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例21の21-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Example 23]
23-1. 21-1 . of Example 21 except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was obtained in the same manner as above.
23-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例23の23-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
23-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 23, 23-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例24]
24-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’-DDS:s-BPDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:61000CPs)を得た。
[Example 24]
24-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition TFDB:4,4′-DDS:s-BPDA:6FDA was used in a molar ratio of 9:1:7:3 and 4-diazabicyclo[2 .2.2] 1-1. of Example 1 above except that octane is used. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 61000 CPs) was obtained in the same manner as above.
24-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例24の24-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
24-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 24, 24-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例25]
25-1.ポリイミド形成用組成物の製造
実施例24の24-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:61000CPs)を得た。
[Example 25]
25-1. Production of polyimide-forming composition Example 24, 24-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 61000 CPs) was obtained in the same manner as above.
25-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例25の25-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
25-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 25, 25-1. using the polyimide-forming composition prepared in stepwise, in a convection oven under a nitrogen atmosphere, at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 350°C for 1 hour. 1-2. A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例26]
26-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4-(パーフルオロプロパン-2,2’-ジイル)ジベンゼンアミン:CBDA:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:47000CPs)を得た。
[Example 26]
26-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition TFDB:4,4-(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzenamine:CBDA:6FDA was used in a molar ratio of 9:1:7:3 and 4-tert 1-1. of Example 1 above, except that 4-methoxypyridine is used instead of -butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was obtained in the same manner as above.
26-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例26の26-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
26-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 26-1. of Example 26 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例27]
27-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s-BPDA:DSDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:107000CPs)を得た。
[Example 27]
27-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 107000 CPs) was obtained in the same manner as above.
27-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例27の27-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
27-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 27-1. of Example 27 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例28]
28-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:s-BPDA:BTDAを9:1:9:1のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:89000CPs)を得た。
[Example 28]
28-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 89000 CPs) was obtained in the same manner as above.
28-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例28の28-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
28-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 28-1. of Example 28 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例29]
29-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例28の28-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:85000CPs)を得た。
[Example 29]
29-1. 28-1 . of Example 28 except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was obtained in the same manner as above.
29-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例29の29-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
29-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 29, 29-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例30]
30-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例28の28-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:87000CPs)を得た。
[Example 30]
30-1. 28-1 . of Example 28 above, except that 4-diazabicyclo[2.2.2]octane is used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 87000 CPs) was obtained in the same manner as above.
30-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例30の30-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
30-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 30, 30-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例31]
31-1ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’-DDS:s-BPDA:6FDAを8:2:7:3のモル比で使用し、4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:46000CPs)を得た。
[Example 31]
31-1 Preparation of Polyimide Forming Composition TFDB:4,4′-DDS:s-BPDA:6FDA was used in a molar ratio of 8:2:7:3, replacing 4-tert-butylpyridine with 4- 1-1. of Example 1 above, except that diazabicyclo[2.2.2]octane is used. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 46000 CPs) was obtained in the same manner as above.
31-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例31の31-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
31-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 31, 31-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例32]
32-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:4,4’-DDS:ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物:6FDAを8:2:7:3のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:37000CPs)を得た。
[Example 32]
32-1. Preparation of polyimide-forming composition TFDB: 4,4′-DDS:bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride:6FDA 8:2:7:3 1-1. of Example 1 except that the molar ratio of A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 37000 CPs) was obtained in the same manner as above.
32-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例32の32-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
32-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 32, 32-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例33]
33-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに2,3,5-コリジンを使用すること以外は、前記実施例32の32-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:35000CPs)を得た。
[Example 33]
33-1. 32-1 . of Example 32 except that 2,3,5-collidine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 35000 CPs) was obtained in the same manner as above.
33-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例33の33-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
33-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 33, 33-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例34]
34-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例32の32-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:35000CPs)を得た。
[Example 34]
34-1. 32-1 . of Example 32 except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 35000 CPs) was obtained in the same manner as above.
34-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例34の34-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
34-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 34, 34-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例35]
35-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:FODA:ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物:6FDAを9:1:7:3のモル比で使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:41000CPs)を得た。
[Example 35]
35-1. Preparation of polyimide-forming composition 1-1. of Example 1 above, except that the molar ratio is used. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 41000 CPs) was obtained in the same manner as above.
35-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例35の35-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
35-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 35, 35-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例36]
36-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンを使用すること以外は、前記実施例35の35-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:41000CPs)を得た。
[Example 36]
36-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 35-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 41000 CPs) was obtained in the same manner as above.
36-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例36の36-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
36-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 36, 36-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[実施例37]
37-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりに4-メトキシピリジンを使用すること以外は、前記実施例35の35-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:40000CPs)を得た。
[Example 37]
37-1. 35-1 . of Example 35 except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 40000 CPs) was obtained in the same manner as above.
37-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、実施例37の37-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして透明ポリイミド樹脂フィルムを製造した。
37-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. In place of the polyimide-forming composition used in Example 37, 37-1. 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in A transparent polyimide resin film was produced in the same manner as above.
[比較例1]
1-1.ポリイミド形成用組成物の製造
4-tert-ブチルピリジンの代わりにピリジン19.987gを使用すること以外は、前記実施例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:82000CPs)を得た。
[Comparative Example 1]
1-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was obtained in the same manner as above.
1-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例1の1-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、実施例1の1-2.と同様にして製造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フィルムが得られなかった。
1-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 1-1. of Comparative Example 1 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in After producing in the same manner as in , an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and no film was obtained.
[比較例2]
2-1.ポリイミド形成用組成物の製造
ピリジンの代わりにイソキノリンを使用すること以外は、前記比較例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:80000CPs)を得た。
[Comparative Example 2]
2-1. Preparation of Polyimide-Forming Composition 1-1. of Comparative Example 1 except that isoquinoline is used instead of pyridine. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 80000 CPs) was obtained in the same manner as above.
2-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
比較例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例2の2-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、比較例1の1-2.と同様にして製造したが、イソキノリンの残量が多すぎて正常なフィルムが得られなかった。
2-2. Production of transparent polyimide resin film Comparative Example 1, 1-2. 2-1. of Comparative Example 2 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Comparative Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in However, the remaining amount of isoquinoline was too large to obtain a normal film.
[比較例3]
3-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:BTDA:6FDAを10:7:3のモル比で使用すること以外は、前記比較例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:73000CPs)を得た。
[Comparative Example 3]
3-1. 1-1. of Comparative Example 1 except that TFDB :BTDA:6FDA was used in a molar ratio of 10:7:3. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 73000 CPs) was obtained in the same manner as above.
3-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、比較例3の3-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用する以外は、比較例1の1-2.と同様にして製造した後、ガラス板からフィルムを分離しようとしたが、形成された膜の割れが生じ、フィルムが得られなかった。
3-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. 3-1. of Comparative Example 3 instead of the polyimide-forming composition used in . 1-2. of Comparative Example 1, except for using the polyimide-forming composition produced in After producing in the same manner as in , an attempt was made to separate the film from the glass plate, but the formed film cracked and no film was obtained.
[比較例4]
4-1.ポリイミド形成用組成物の製造
TFDB:BTDA:6FDAを10:7:3のモル比で使用すること以外は、前記比較例1の1-1.と同様にしてポリイミド形成用組成物(25℃での溶液粘度:73000CPs)を得た。
[Comparative Example 4]
4-1. Manufacture of polyimide-forming composition
1-1. of Comparative Example 1, except that TFDB:BTDA:6FDA was used in a molar ratio of 10:7:3. A polyimide-forming composition (solution viscosity at 25° C.: 73000 CPs) was obtained in the same manner as above.
4-2.透明ポリイミド樹脂フィルムの製造
実施例1の1-2.で使用されたポリイミド形成用組成物の代わりに、 比較例4の4-1.で製造されたポリイミド形成用組成物を使用して、窒素雰囲気下のコンベクションオーブンにて、80℃で30分間、150℃で30分間、200℃で1時間、350℃で1時間、段階的に徐々に昇温させながら乾燥させ、イミド化反応を行うこと以外は、実施例1の1-2.と同様にして製造した。次に、ガラス板からポリイミドフィルムを分離して得た。
4-2. Production of transparent polyimide resin film Example 1, 1-2. Instead of the polyimide-forming composition used in Comparative Example 4, 4-1. using the polyimide-forming composition prepared in stepwise, in a convection oven under a nitrogen atmosphere, at 80°C for 30 minutes, 150°C for 30 minutes, 200°C for 1 hour, and 350°C for 1 hour. 1-2. was produced in the same manner as Next, a polyimide film was obtained by separating from the glass plate.
上述の実施例1~37及び比較例1~4において使用される、ジアミン混合物、ジアンヒドリド混合物、及び触媒の組成を、次の表1に示す。 The compositions of the diamine mixtures, dianhydride mixtures, and catalysts used in Examples 1-37 and Comparative Examples 1-4 above are shown in Table 1 below.
[実験例1]透明ポリイミド樹脂フィルムの物性評価
上述の実施例1~37及び比較例1~4において得られた透明ポリイミド樹脂フィルムの物性を、以下のような方法で評価し、その結果を表2に示す。
[Experimental Example 1] Evaluation of physical properties of transparent polyimide resin film The physical properties of the transparent polyimide resin films obtained in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 described above were evaluated by the following methods, and the results are shown. 2.
(1)光透過度(T%)の測定
波長550nmにおいて、UV-Vis NIR Spectrophotometer(島津製作所製、モデル名:UV-3150)を用いて、ASTM E313-73の規格によるC光源と視野角2°での測定を行った。
(1) Measurement of light transmittance (T%) At a wavelength of 550 nm, using a UV-Vis NIR Spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, model name: UV-3150), C light source and viewing angle 2 according to ASTM E313-73 standards. Measured in °.
(2)黄色度(Yellow Index、YI)の測定
分光測色計(コニカミノルタ社製、モデル名:CM-3700d)を用いて、波長550nmでの黄色度を、ASTM E313の規格によって測定した。
(2) Measurement of yellowness index (YI) Using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, model name: CM-3700d), yellowness at a wavelength of 550 nm was measured according to ASTM E313 standards.
(3)機械的特性の測定
UTM(インストロン社製、モデル名:5942)を用いて、ISO 527-3の規格によって引張強度(Strength、MPa)及び弾性率(Modulus、GPa)を測定した。
(3) Measurement of mechanical properties UTM (manufactured by Instron, model name: 5942) was used to measure tensile strength (Strength, MPa) and elastic modulus (Modulus, GPa) according to ISO 527-3 standards.
上記の表1及び表2から、得られた透明ポリイミド樹脂フィルムの組成による特性の変化がわかる。 From Tables 1 and 2 above, changes in properties depending on the composition of the obtained transparent polyimide resin film can be seen.
先ず、実施例1~37の結果から、同一の組成及び同一の触媒を使用する一方で、それぞれ異なる硬化温度を適用する場合、硬化温度が高くなるほど光学特性が劣化し、機械的特性には大差がないことがわかる。即ち、硬化温度が280℃であるイミド化工程において優れた特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。 First, from the results of Examples 1 to 37, when the same composition and the same catalyst are used, but different curing temperatures are applied, the higher the curing temperature, the worse the optical properties, and the greater the difference in mechanical properties. It turns out that there is no That is, it can be seen that a transparent polyimide resin film having excellent properties can be obtained in the imidization step at a curing temperature of 280°C.
また、実施例1及び4~6の結果から、同一の硬化温度(280℃)で、異なる沸点を有する触媒を使用する場合、類似する特性を有する透明ポリイミド樹脂が得られることがわかる。但し、実施例5では、得られたフィルムには部分的な損傷が生じることが確認される。 Also, from the results of Examples 1 and 4-6, it can be seen that transparent polyimide resins with similar properties can be obtained when catalysts with different boiling points are used at the same curing temperature (280° C.). However, in Example 5, it is confirmed that the obtained film is partially damaged.
さらに、実施例7~37の結果から、140~200℃の沸点を有する、種々の塩基性触媒を使用する場合、硬化温度が300以下と比較的低いイミド化工程においても優れた特性を有する透明ポリイミド樹脂フィルムが得られることがわかる。即ち、製作時において高温工程の改善が可能となることが確認される。 Furthermore, from the results of Examples 7 to 37, when various basic catalysts having a boiling point of 140 to 200 ° C. are used, the curing temperature is relatively low at 300 or less in the imidization step. It can be seen that a polyimide resin film is obtained. That is, it is confirmed that it is possible to improve the high-temperature process during manufacturing.
上述のような結果から、組成、硬化温度、触媒の種類を組み合わせることで、光学特性及び機械的特性を調節することが可能であることが確認される。 Results such as those described above confirm that it is possible to adjust optical and mechanical properties by combining composition, curing temperature, and type of catalyst.
一方、比較例1~2の結果から、同一の組成で115℃の低い沸点を有するピリジンを触媒として使用する場合、フィルムが得られておらず(比較例1)、240℃の沸点を有するイソキノリンを触媒として使用する場合、フィルムは得られているが、触媒の残量が多すぎることが確認される。このような問題点は、大量生産後のデバイスに適用する場合、大きなトラブルを招くおそれがあることは言うまでもない。 On the other hand, from the results of Comparative Examples 1 and 2, when pyridine having the same composition and a boiling point as low as 115°C was used as a catalyst, no film was obtained (Comparative Example 1), and isoquinoline having a boiling point of 240°C is used as the catalyst, a film is obtained, but it is confirmed that the residual amount of catalyst is too high. Needless to say, such problems may cause serious troubles when applied to devices after mass production.
また、比較例3~4の結果から、115℃の沸点を有する触媒を使用する場合、280℃の低い硬化温度ではフィルムが得られておらず(比較例3)、350℃の硬化温度では、フィルムが得られているが、部分的な損傷が生じることが確認される(比較例4)。 In addition, from the results of Comparative Examples 3 and 4, when using a catalyst having a boiling point of 115 ° C., a film was not obtained at a low curing temperature of 280 ° C. (Comparative Example 3), and at a curing temperature of 350 ° C., A film is obtained, but it is confirmed that partial damage occurs (Comparative Example 4).
上述のような結果を分析した結果、本発明に係る実施例1~37の透明ポリイミド樹脂フィルムは、優れた光学特性を有すると共に、引張強度及び弾性率の上昇など、優れた機械的特性を有するものであることがわかった。 As a result of analyzing the above results, the transparent polyimide resin films of Examples 1 to 37 according to the present invention have excellent optical properties and excellent mechanical properties such as increased tensile strength and elastic modulus. turned out to be something.
具体的に、実施例1~37で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムは、透過度88%以上、黄色度5.0以下、弾性率3~6GPa、強度120~60MPaであって、比較例1~4で得られた透明ポリイミド樹脂フィルムに比べて、光透過度が高く、黄色度が低く、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料として適用可能な条件を満たしていることがわかった。 Specifically, the transparent polyimide resin films obtained in Examples 1 to 37 had a transmittance of 88% or more, a yellowness of 5.0 or less, an elastic modulus of 3 to 6 GPa, and a strength of 120 to 60 MPa. Compared to the transparent polyimide resin film obtained in 4, it has high light transmittance, low yellowness, and excellent mechanical properties, so it satisfies the conditions applicable as a material for flexible display devices. I found out.
上述のように、本発明に係るポリイミド形成用組成物を用いて製造される透明ポリイミド樹脂フィルムは、製作の際において高温工程が改善されると共に、光透過度が高く、黄色度が低く、かつ、機械的特性に優れているため、フレキシブル表示装置用材料、基板または保護膜として適用可能であることが確認された。 As described above, the transparent polyimide resin film produced using the polyimide-forming composition according to the present invention has improved high-temperature processes during production, high light transmittance, low yellowness, and , It was confirmed that it can be applied as a material for a flexible display device, a substrate or a protective film because of its excellent mechanical properties.
Claims (9)
(b)下記化学式(3)で示されるジアンヒドリドと、下記化学式(4)で示されるジアンヒドリドとを含むジアンヒドリド混合物;
(c)2-メチルピペラジン、4-tert-ブチルピリジン、及び2,3,5-コリジンからなる群から選択される1種以上である塩基性触媒;及び
(d)有機溶媒;
を含み、且つ脱水剤を含まないポリイミド形成用組成物をイミド化して製造され、以下の(i)~(v)の物性条件を満たす、透明ポリイミド樹脂フィルム。
(i)膜厚さ52μm以下において、波長550nmでの光透過度が88~89.5%であり、
(ii)ASTM E313の規格による黄色度が1.4~5.0であり、
(iii)ヘーズが0.4~1.0であり、
(iv)弾性率が3~6GPaの範囲であり、
(v)引張強度が120~200MPaの範囲である。
Aは、単結合、-C(=O)-、及び-C(=O)NH-、並びにハロゲン、又はハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基で置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X1及びX2は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
但し、Aが単結合である場合、X1及びX2のうちの少なくとも1つ以上は、ハロゲン、またはハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基であり、
mは、0~2の整数である。)
B1は、C1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-S(=O)2-、及びC1~C6のアルキル基で置換または非置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X3及びX4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択される。)
B2は、C1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、及びC1~C6のアルキル基で置換または非置換されたC6~C20のアリーレン基からなる群から選択され、
X3及びX4は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択される。)
Cは、4価のC6~C20の芳香族環基、及び4価のC4~C20の脂肪族環基からなる群から選択され、
前記4価のC6~C20の芳香族環基は、C1~C6のアルキル基で置換されることがあり、
前記Cは、複数個の環であることができ、複数個の環は、互いに同一または異なり、複数個の環同士が、単結合、-C(=O)NH-、及び-C(=O)-O-からなる群から選択される1種以上の連結基を介して連結されている。)
Dは、C1~C6のアルキレン基、1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキレン基、-O-、-S-、-C(=O)-、及び-S(=O)2-からなる群から選択され、
X5及びX6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、C1~C6のアルキル基、及び1つ以上の水素がハロゲン原子で置換されたC1~C6のアルキル基からなる群から選択され、
nは、1~3の整数である。) (a) from a diamine represented by the following chemical formula (1), a diamine represented by the following chemical formula (2), a diamine represented by the following chemical formula (2A), and 2,2′-dimethylbiphenyl-4,4′-diamine a diamine mixture comprising one or more diamines selected from the group consisting of;
(b) a dianhydride mixture containing a dianhydride represented by the following chemical formula (3) and a dianhydride represented by the following chemical formula (4);
(c) a basic catalyst that is one or more selected from the group consisting of 2-methylpiperazine, 4-tert-butylpyridine, and 2,3,5-collidine; and (d) an organic solvent;
and a transparent polyimide resin film produced by imidizing a polyimide-forming composition containing no dehydrating agent and satisfying the following physical property conditions (i) to (v).
(i) at a film thickness of 52 μm or less, the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 88 to 89.5%;
(ii) a yellowness index of 1.4 to 5.0 according to the standard of ASTM E313;
(iii) a haze of 0.4 to 1.0;
(iv) an elastic modulus in the range of 3 to 6 GPa;
(v) Tensile strength is in the range of 120-200 MPa.
A is a single bond, -C(=O)- and -C(=O)NH-, and C6 - C substituted with a halogen or a C1 - C6 alkyl group substituted with a halogen atom selected from the group consisting of 20 arylene groups,
X 1 and X 2 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; is selected from the group consisting of
provided that when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom;
m is an integer from 0 to 2; )
B 1 is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O—, —S—, —S(=O) 2 — , and C 6 -C 20 arylene groups substituted or unsubstituted with C 1 -C 6 alkyl groups,
X 3 and X 4 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; selected from the group consisting of )
B 2 is substituted or unsubstituted with a C 1 -C 6 alkylene group, a C 1 -C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are replaced with a halogen atom, and a C 1 -C 6 alkyl group selected from the group consisting of C6 - C20 arylene groups;
X 3 and X 4 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms; selected from the group consisting of )
C is selected from the group consisting of a tetravalent C6- C20 aromatic cyclic group and a tetravalent C4 - C20 aliphatic cyclic group;
the tetravalent C 6 to C 20 aromatic ring group may be substituted with a C 1 to C 6 alkyl group;
The C may be a plurality of rings, the plurality of rings may be the same or different, and the plurality of rings may be a single bond, -C(=O)NH-, and -C(=O ) is linked via one or more linking groups selected from the group consisting of —O—. )
D is a C 1 to C 6 alkylene group, a C 1 to C 6 alkylene group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, —O—, —S—, —C(=O)—, and -S(=O) 2 - is selected from the group consisting of
X 5 and X 6 are the same or different from each other and are each independently hydrogen, halogen, a C 1 -C 6 alkyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms is selected from the group consisting of
n is an integer of 1-3. )
*は、前記化学式(1)における連結部位であり、
R1~R3は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、F、及びCF3からなる群から選択される。) The transparent polyimide resin film according to claim 1, wherein A is selected from the group of substituents represented by the following chemical formula (5):
* is a linking site in the chemical formula (1),
R 1 to R 3 are the same or different from each other and are each independently selected from the group consisting of F and CF 3 . )
*は、前記化学式(3)における連結部位であり、
R4~R6は、互いに同一または異なり、それぞれ独立に、水素、またはC1~C6のアルキル基から選択される。) The transparent polyimide resin film according to claim 1, wherein C is selected from the substituent group represented by the following chemical formula (6):
* is a linking site in the chemical formula (3),
R 4 to R 6 are the same or different from each other and are each independently selected from hydrogen or C 1 to C 6 alkyl groups. )
前記化学式(2)で示されるジアミン、前記化学式(2A)で示されるジアミン、及び2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミンの合計含有量は、前記ジアミン混合物100モル%に対して、0.1~50モル%である、請求項1に記載の透明ポリイミド樹脂フィルム。 The content of the diamine represented by the chemical formula (1) is 50 to 99.9 mol% with respect to 100 mol% of the diamine mixture,
The total content of the diamine represented by the chemical formula (2), the diamine represented by the chemical formula (2A), and 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine is based on 100 mol% of the diamine mixture. , 0.1 to 50 mol %, the transparent polyimide resin film according to claim 1.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (17)
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| CN110606949B (en) * | 2019-08-16 | 2020-12-11 | 深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司 | Colorless transparent polyimide film containing fluorine and Cardo structure and preparation method thereof |
| JP7623817B2 (en) * | 2019-10-31 | 2025-01-29 | 住友化学株式会社 | Optical film and flexible display device |
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| WO2021132197A1 (en) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Polyimide resin, varnish, and polyimide film |
| JP7647589B2 (en) * | 2020-01-31 | 2025-03-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film |
| JP7469088B2 (en) * | 2020-03-18 | 2024-04-16 | 住友化学株式会社 | Optical film and flexible display device |
| US20210301132A1 (en) * | 2020-03-27 | 2021-09-30 | Zhongtian Electronic Materials Co.,LTD. | Transparent and tint-free polyimide film, preparation method thereof and optical polyimide film |
| CN111363354A (en) * | 2020-03-27 | 2020-07-03 | 中天电子材料有限公司 | Polyimide colorless transparent film, preparation method thereof and optical PI film |
| WO2021226951A1 (en) * | 2020-05-14 | 2021-11-18 | 律胜科技股份有限公司 | Polyimide film and manufacturing method therefor |
| KR20230066345A (en) * | 2020-09-10 | 2023-05-15 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polymer composition, varnish, and polyimide film |
| KR102485698B1 (en) * | 2021-02-05 | 2023-01-06 | 주식회사 두산 | Polyimide film having excellent optical property |
| KR102493648B1 (en) * | 2021-03-04 | 2023-01-31 | 주식회사 두산 | Polyimide film having excellent resilence property |
| CN115286596A (en) * | 2021-05-04 | 2022-11-04 | Sk新技术株式会社 | Novel diamine compound, polyimide precursor and polyimide film using the same, and use thereof |
| JP2023086491A (en) * | 2021-12-10 | 2023-06-22 | 東京応化工業株式会社 | Varnish composition, method for producing varnish composition, and method for producing polyimide resin |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013144750A (en) | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Ube Industries Ltd | Aqueous solution composition of polyimide precursor, and method of producing the same |
| JP2017186473A (en) | 2016-04-07 | 2017-10-12 | 株式会社カネカ | the film |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028417A (en) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Jsr Corp | Method for producing polyimide |
| TW200635982A (en) * | 2005-03-11 | 2006-10-16 | Nippon Catalytic Chem Ind | Production method of polyimide solution and fluorinated polyimide solution |
| JP5417595B2 (en) * | 2006-10-10 | 2014-02-19 | 新日鉄住金化学株式会社 | Formation method of polyimide resin layer |
| JP2011148955A (en) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Kaneka Corp | Method for producing polyimide film, and the resultant polyimide film |
| TWI468440B (en) * | 2012-11-27 | 2015-01-11 | Ind Tech Res Inst | Transparent electrochromic polyimide, method for manufacturing the same, and electrochromic device utilizing the same |
| KR102430647B1 (en) * | 2015-12-24 | 2022-08-09 | 주식회사 두산 | Polyamic acid composition comprising novel diamine monomer and trasparent polyimide film using the same |
-
2017
- 2017-12-22 KR KR1020170177752A patent/KR102471861B1/en active Active
-
2018
- 2018-12-21 JP JP2018239483A patent/JP2019112632A/en active Pending
- 2018-12-21 CN CN201811573922.6A patent/CN109957109B/en active Active
-
2020
- 2020-12-18 JP JP2020210061A patent/JP7112476B2/en active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013144750A (en) | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Ube Industries Ltd | Aqueous solution composition of polyimide precursor, and method of producing the same |
| JP2017186473A (en) | 2016-04-07 | 2017-10-12 | 株式会社カネカ | the film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3258908B2 (en) | 1996-06-25 | 2002-02-18 | 株式会社ピーエフユー | Gothic arch tracer system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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