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JP7119103B2 - 薄膜ソーラーモジュールの製造方法 - Google Patents
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Description

本発明は、太陽光発電エネルギー生成の技術領域にあるものであって、2つの第三のパターニングトレンチを有する少なくとも一つのパターニングゾーンが提供されている薄膜ソーラーモジュールに関するものである。本発明は、さらに、本発明による方法によって製造した薄膜ソーラーモジュールに及ぶ。
薄膜ソーラーモジュールは、既に特許文献に数多く記載されている。単なる例示として、独国特許第4324318 C1号明細書及び欧州特許出願公開第2 200 097 A1号公報などの刊行物が挙げられる。薄膜ソーラーモジュールは、層の製造時に太陽電池を既に一体型に直列接続できるという特別な利点を提供する。典型的には、様々な層を平らなキャリア基板上に直接適用し、かつこれらの層を完全に分割する層トレンチによってパターンを形成する。太陽電池を形成するための層構造は、前面電極層及び背面電極層並びに光起電活性の吸収体層を含み、ここで、一般的に言えば、バッファー層のような追加の層が、吸収体層と前面電極層との間に存在している。太陽電池のパターニング後、コーティングされたキャリア基板はカバー層を具備し、その結果、耐候性の複合体が得られる。
技術的な処理属性及び効率の観点から、アモルファスシリコン、マイクロモルファスシリコン、若しくは多結晶シリコン、テルル化カドミウム(CdTe)、ガリウムヒ素(GaAs)、又は黄銅鉱化合物、特に、銅インジウム/ガリウムジスルフィド/ジセレニド(Cu(In,Ga)(S,Se))の吸収体層を有する薄膜ソーラーモジュールが有利であることが判明している。太陽光のスペクトルによく適合しているバンドギャップのおかげで、Cu(In,Ga)(S,Se)をベースとする化合物によって、特に高い吸収係数を達成することができる。
薄膜ソーラーモジュールの層構造において、太陽電池の一体型の直列接続のために、多数のパターニングゾーンが形成され、このパターニングゾーンは、それぞれ、「パターニングライン」とも呼ばれる少なくとも3つの線形のパターニングトレンチを有する。したがって、背面電極層は、太陽電池の背面電極を形成するために、第一のパターニングトレンチP1によって分割され;吸収体層は、太陽電池の吸収体を形成するために、第二のパターニングトレンチP2によって分割され;かつ前面電極層は、太陽電池の前面電極を形成するために、第三のパターニングトレンチP3によって分割される。隣り合う太陽電池は、第二のパターニングトレンチP2の導電性材料を介して、直列接続で互いに電気的に接続しており、ここで、一つの太陽電池の前面電極は、その隣の太陽電池の背面電極に電気的に接続している。パターニングゾーンはそれぞれ、第一のパターニングトレンチから第三のパターニングトレンチへのP1-P2-P3の直接的な連続をもたらす。
薄膜ソーラーモジュールの工業的な連続生産において、第三のパターニングトレンチP3は、一般的に言えば機械的に作り出されており、ここで、前面電極層、及び通常は吸収体層も、動いているニードルによって層構造から削り取られる(ニードルスクライビング)。大抵の場合、比較的硬い背面電極層がキャリア基板上に残存する。しかしながら、実際のところ、層の削り取りによって、ニードルとそのホルダーが高度の摩耗を伴う重い機械的負荷を受け、ニードルの交換に起因した生産システムの頻繁な稼働停止をもたらす。その結果として、生産性が低下し、薄膜ソーラーモジュールの製造コストが増大する。
対照的に、本発明の目的は、先行技術において公知の薄膜ソーラーモジュールを製造するための方法を有利に改善することにあり、それによって、この薄膜ソーラーモジュールの生産効率を改善するようになっている。また、この方法は、一般的な方法での工業的な連続生産において、経済的にかつ効率的に薄膜ソーラーモジュールを製造できるものであるべきである。
これらの目的及び他の目的は、独立請求項に記載したとおりの薄膜ソーラーモジュールの製造方法及び薄膜ソーラーモジュールにより、本発明の提案にしたがって達成される。本発明の有利な実施形態は、従属請求項の特徴によって示されている。
本発明によれば、太陽光エネルギー生成のための太陽電池のモノリシックに一体化した直列接続を伴う薄膜ソーラーモジュールを製造するための方法が提示される。「薄膜ソーラーモジュール」なる用語の慣習的な使用にしたがうと、薄膜ソーラーモジュールは、適切な機械的安定性のためにキャリア基板が必要とされるような、例えば数マイクロメートルといった小さい厚みを有する層構造を伴うモジュールを意味する。キャリア基板は、例えば、無機ガラス、プラスチック、金属、又は金属合金でできていてよく、かつそれぞれの層厚及び特定の材料特性に応じて、剛性プレート又は可撓性フィルムとして設計することができる。
本発明は、光入射側に面するキャリア基板上に、太陽電池を製造するための層構造が適用されるサブストレート(下側基材)構造の薄膜ソーラーモジュールの製造に関する。同様に、本発明は、基板が透明であり、かつ光入射側とは反対側に面するキャリア基板表面に層構造が適用されるスーパーストレート(上側基材)構造の薄膜ソーラーモジュールの製造に関する。
それ自体公知の様式で、本発明による薄膜ソーラーモジュールの層構造は、背面電極層、前面電極層、及び背面電極層と前面電極層との間に配置された光起電活性の吸収体層を含む。
層構造への光の通過を可能にしなければならないので、前面電極層は、光学的に透明である。光学的に透明な前面電極層は、典型的にはドープした金属酸化物(TCO=透明な導電性酸化物)を含むか又はそれでできており、例えば、n-導電型の、特に、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)を含むか又はそれでできている。
光起電活性の吸収体層は、好ましくは、黄銅鉱半導体を含むか又はこれでできており、有利には、銅インジウム/ガリウムジスルフィド/ジセレニド(Cu(In,Ga)(S,Se))の群からのI-III-VI族化合物半導体を含むか又はこれでできている。上記の式中、インジウム及びガリウムは、それぞれ単独で又は組み合わせて存在することができる。同じことが硫黄及びセレンに当てはまり、これらはそれぞれ、単独で又は組み合わせて存在することができる。吸収体層の材料として特に適しているのは、CIS(銅インジウムジセレニド/ジスルフィド)又はCIGS(銅インジウムガリウムジセレニド、銅インジウムガリウムジスルフィド、銅インジウムガリウムジスルホセレニド)である。典型的には、吸収体層は、第一の導電型(電荷担体型)のドーピングを有し、かつ前面電極は、相反する導電型(電荷担体型)のドーピングを有する。一般的に言えば、吸収体層は、p-導電型(p-ドープ)、すなわち、電子の欠陥(ホール)が過剰であり、かつ前面電極は、n-導電型(n-ドープ)であって、それによって、自由電子が過剰に存在するようになっている。
バッファー層を、典型的には、吸収体層と前面電極層との間に配置する。これは、特に、Cu(In,Ga)(S,Se)をベースとする吸収体層について当てはまるものであって、この場合には、一般的に言えば、p-導電性Cu(In,Ga)(S,Se)吸収体層と、n-導電性前面電極との間にバッファー層を必要とする。現在認識されているところによれば、バッファー層は、吸収体と前面電極との間の電子的適合を可能にする。さらに、バッファー層は、前面電極を堆積する後続のプロセス工程でのスパッタリングによる損傷、例えばDCマグネトロンスパッタリングによる損傷に対する保護を提供する。n-導電性前面電極層、バッファー層、及びp-導電性吸収体層が連続することによって、p-n-ヘテロ接合が形成され、言い換えれば、相反する導電型の複数の層間の接合が形成される。
本発明による薄膜ソーラーモジュールの層構造において、一体型に直列接続した太陽電池は、パターニングゾーンによって形成されている。したがって、少なくとも背面電極層は、第一のパターニングトレンチ(P1ライン、P1と略する)によって、互いに完全に分離した複数の区分に分割され、これらの区分が太陽電池の背面電極を形成する。また、少なくとも吸収体層は、第二のパターニングトレンチ(P2ライン、P2と略する)によって、互いに完全に分離した複数の区分に分割され、これらの区分が太陽電池の吸収体を形成し、かつ少なくとも前面電極層は、第三のパターニングトレンチ(P3ライン、P3と略する)によって、互いに完全に分離した複数の区分に分割され、これらの区分が太陽電池の前面電極を形成する。隣り合う太陽電池は、第二のパターニングトレンチにおける導電性材料を介して直列接続で互いに電気的に接続されており、ここで、一つの太陽電池の前面電極は、隣り合う太陽電池の背面電極に電気的に接続されており、典型的には、ただし強制的にではないが、この背面電極と直接物理的に接触している。パターニングトレンチは、P1-P2-P3の配列で配置され、ここでは、第一のパターニングトレンチP1と、第二のパターニングトレンチP2と、以下で説明するような、2つの直接隣り合う第三のパターニングトレンチP3、P3’との直接的な連続によって、パターニングゾーンが形成される。
本発明に関して、「パターニングトレンチ」との用語は、層構造の材料が充填された線状の凹部(平らな基板の面に対して垂直な凹部)を指し、ここで、トレンチは、層構造の少なくとも一つの層に形成されている。パターニングトレンチは、一体型に直列接続した太陽電池を形成する役割を果たし、ここで、パターニングトレンチが少なくとも一つの層を互いに完全に分離した2つの層区分に分割する。各パターニングトレンチは、それぞれの分割した層の材料とは異なる材料で充填されている。したがって、例えば、第一のパターニングトレンチP1は、典型的には吸収体層の材料で充填されている。これは、吸収体層の堆積の間に簡便な様式でなすことができる。第二のパターニングトレンチP2は、典型的には前面電極層の材料で充填されており、それによって、太陽電池の直列接続を実現し、かつ第三のパターニングトレンチP3、P3’は、例えば、平らな基板上に適用した層構造を覆うためのカバー層の材料で充填されている。
好ましくは、パターニングゾーンは、それぞれ線形であり、特に直線的である。それに応じて、パターニングトレンチは線形であり、特に、直線的なパターニングラインの形態である。パターニングゾーンでは、パターニングトレンチが好ましくは互いに対して平行に配置され、かつ、例えば、矩形又は方形のモジュールの一つの縁に対して平行にはしっている。特に、パターニングトレンチは、それぞれ、層構造の縁までずっと延在することができる。パターニングトレンチの延在方向は、モジュールの長さとして定義することができ、これに対して垂直な方向をモジュールの幅として定義することができる。
用語の一般的使用を踏まえて、「太陽電池」との用語は、前面電極、光起電活性の吸収体、及び背面電極を有し、かつ互いに直接隣り合う2つのパターニングゾーンで画定される層構造の領域を意味する。これは、類推によってモジュールの縁部領域にもあてはまり、ここでは、パターニングゾーンの代わりに、太陽電池の直列接続と電気的に接触するための接続区分が存在し、それによって、パターニングゾーンと直接隣接する接続区分との間に位置する前面電極、吸収体、及び背面電極を有するこの層領域によって太陽電池を定義するようになっている。
本発明によれば、薄膜ソーラーモジュールを製造するための方法は、平らな(平面の)基板を提供することを含む。太陽電池の背面電極を形成するための、(材料を充填した)第一のパターニングトレンチP1によって完全に分割される背面電極層を、平らな基板の片面に堆積する。背面電極層を基板の表面に直接堆積することができる。あるいは、少なくとも一つの追加の層を、基板と背面電極層との間に配置することができる。太陽電池の光起電活性の吸収体を形成するための、(材料を充填した)第二のパターニングトレンチP2によって完全に分割される吸収体層を、この背面電極層の上に堆積する。吸収体層を背面電極層の表面に直接堆積することができる。あるいは、少なくとも一つの追加の層を、背面電極層と吸収体層との間に配置することができる。太陽電池の前面電極を形成するための、(材料を充填した)第三のパターニングトレンチP3、P3’によって完全に分割される前面電極層を、吸収体層の上に堆積する。吸収体層は、前面電極層と背面電極層との間に位置する。前面電極層を吸収体層の表面に直接堆積することができる。あるいは、少なくとも一つの追加の層を、前面電極層と吸収体層との間に配置することができる。典型的には、黄銅鉱半導体に基づく吸収体の場合、少なくとも一つのバッファー層が吸収体層と前面電極層との間にあり、この目的のために、吸収体層の堆積の後でありかつ前面電極層の堆積の前に、少なくとも一つのバッファー層を堆積する。
背面電極層のパターニングは、典型的には、ただし強制的にではないが、吸収体層を堆積する前になされる。吸収体層のパターニングは、典型的には、ただし強制的にではないが、前面電極層を堆積する前になされる。
ここで、及び以下で、参照を容易にするためにP3、P3’として言及する2つの第三のパターニングトレンチは、各パターニングゾーンに作り出されることが必須である。一つの同じパターニングゾーンのこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、互いに隣り合って配置され、言い換えれば、この2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間には、他のパターニングトレンチ(及び光学活性な領域)が何ら存在しない。一つ目の選択肢では、同じパターニングゾーンのこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、互いに直接隣り合うことができ、言い換えれば、この2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間には、前面電極層区分が何ら存在しない。二つ目の選択肢では、同じパターニングゾーンのこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、前面電極層区分によって互いに分離していてもよい。したがって、パターニングゾーンは、第一のパターニングトレンチP1、第二のパターニングトレンチP2、及び2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の直接的な連続を含む。
一つの同じパターニングゾーンの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が互いに直接隣り合う場合、一方のパターニングトレンチP3は、一つのトレンチ壁と、他方のパターニングトレンチP3’とによって範囲を定められる。パターニングトレンチP3のトレンチ壁は、他方のパターニングトレンチP3’に向かい合っており、言い換えれば、他方のパターニングトレンチP3’に対向して位置している。相応して、もう一方のパターニングトレンチP3’は、一つのトレンチ壁と、他方のパターニングトレンチP3とによって範囲を定められる。パターニングトレンチP3’のトレンチ壁は、他方のパターニングトレンチP3に向かい合っており、言い換えれば、他方のパターニングトレンチP3に対向して位置している。この2つのパターニングトレンチP3及びP3’の2つのトレンチ壁は、互いに向かい合っており、言い換えれば、互いに対向して位置しており、かつ一緒になって、この2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’を画定する。
一つの同じパターニングゾーンの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が互いに直接隣り合っていない場合、言い換えれば、前面電極層区分が、2つのパターニングトレンチP3、P3’の間に位置しているとき、第三のパターニングトレンチP3、P3’のそれぞれは、互いに対向して位置する2つのトレンチ壁によって範囲を定められ、ここで、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間の前面電極層区分が、それぞれトレンチ壁を形成している。したがって、一方の第三のパターニングトレンチP3は、他方のパターニングトレンチP3’に向かい合うトレンチ壁と、他方のパターニングトレンチP3’の反対側にあるトレンチ壁であって、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間にある前面電極層区分によって形成されたトレンチ壁とによって範囲を定められる。相応して、もう一方の第三のパターニングトレンチP3’は、他方のパターニングトレンチP3に向かい合うトレンチ壁と、他方のパターニングトレンチP3の反対側にあるトレンチ壁であって、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間にある前面電極層区分によって形成されたトレンチ壁とによって範囲を定められる。
本発明による方法では、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、それぞれ、パルスレーザービームによるレーザーアブレーションによって、少なくとも前面電極層を除去することで作り出される。少なくとも前面電極層(及び任意に吸収体層の一部)の局所的な除去を、層構造の側から透明な前面電極層への直接放射によって生じさせ、ここで、レーザービームが透明な前面電極層を通過し、かつ吸収体層がレーザーエネルギーを吸収する。これにより吸収体層の一部が蒸発し、それによって、その上にある前面電極層が、膨張ガスによって隆起し、かつ例えば環状に放出される(レーザーアブレーション)。2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、それぞれ、連続するレーザーパルスによって作り出され、言い換えれば、前面電極層の放出された領域を一緒につなぎ合わせる。好ましくは、単一のレーザーパルスが前面電極層の領域の放出を既にもたらすようにしてこれらのレーザーパルスのエネルギーを選択しながら、互いに隣り合うレーザーパルスが、部分的にのみ重なっている。これは、第三のパターニングトレンチP3、P3’の正確な製造であって、かつ特に効率的な製造を可能にする。吸収体層は、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’によって完全には分割されず、言い換えれば、第三のパターニングトレンチP3、P3’は、それぞれ、吸収体層まで延在するが、吸収体層の基板側の界面までずっとは延在しない。この目的のために、レーザーパルスのエネルギーが選択され、それによって、吸収体層の一部のみが蒸発し、かつ第三のパターニングトレンチP3、P3’の下(基板側の)に吸収体層の一部が残存するようになっている。
ここで、一つの同じパターニングゾーンにあるこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が、異なるエネルギーを有するレーザーパルスによって作り出されていることが必須である。一方の第三のパターニングトレンチP3’は、同じパターニングゾーンの他方の第三のパターニングトレンチP3を作り出すためのレーザーパルスよりも大きなエネルギーを有するレーザーパルスを使って作り出される。したがって、それぞれのパターニングゾーンについて、一つの第三のパターニングトレンチP3’をより大きなエネルギーのレーザーパルスによって作り出し、かつ一つの第三のパターニングトレンチP3をより小さなエネルギーのレーザーパルスによって作り出す。ここで、かつ以下で、「P3’」は、より大きなエネルギーのレーザーパルスによって作り出された第三のパターニングトレンチを指し、かつ「P3」は、より小さなエネルギーのレーザーパルスによって作り出された第三のパターニングトレンチを指す。
当業者に知られているように、レーザーパルスは、ビームの中心から外側に向かってエネルギーが低下するビームの方向に垂直な空間エネルギープロファイルを有する(ガウシアンプロファイル)。材料の蒸発は、実質的にレーザーパルスの中心領域でのみ起こり、その一方で、対照的にレーザーパルスの縁領域では、レーザーパルスのエネルギーが、蒸発しない吸収体層によって吸収される。本発明者らが初めて認識したように、このことは、アブレーション部位と境を接する吸収体層の残存する(非溶融の)材料の局所的な電気特性に重要な影響を及ぼす。実際、レーザーエネルギーを導入した結果、アブレーション部位の縁領域における少なくとも部分的な領域で吸収体層の材料の転換が起こり、ここで、吸収体層の元々の材料よりも、著しく大きい導電率を有する材料が生じ得る。例えば、黄銅鉱化合物半導体の三元材料相を二元材料相に転換することができ、一般的に言うと、この二元材料相は、三元材料相よりも高い導電性を有し、かつ特に金属的特性さえも有する。ここで、かつ以下で、アブレーション部位における吸収体層の材料の材料転換が起こる少なくとも部分的な領域(少なくとも部分的なゾーン)と一緒に結びついたことによって生じる、より高いエネルギーのレーザーパルスによって作り出されたアブレーション部位の又は第三のパターニングトレンチP3’の縁領域を、「転換領域」ともいう。特に、この転換領域は、完全に、吸収体層の転換した材料からなることができる。
特に不都合なことには、この転換領域のより高い導電性によって、前面電極層と背面電極層との間の短絡路(シャント)が起こり得る。本発明者らが明らかにすることができたように、転換領域の形成の程度は、発せられたレーザーパルスのエネルギーに実質的に依存し、より高いエネルギーは、転換した材料相のより多くの形成をもたらし、その逆もまた同様である。
本発明者らが実現したように、材料転換による吸収体層の材料の導電性の変化の不利な効果、特に三元黄銅鉱化合物半導体における二元相の生成による不利な効果を、パターニングゾーンごとに2つの第三のパターニングトレンチを作り出すという本発明による方法によって著しく低減することができる。ここで、一つの同じパターニングソーンにおけるこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’に対して、レーザーパルスが互いに異なるエネルギーを有することが必須である。
好ましくは、第三のパターニングトレンチP3を作り出すためのより小さいエネルギーのレーザーパルスは、第三のパターニングトレンチP3の縁領域の転換材料の生成を、少なくとも大部分、特に完全に防止するように選択される。しかしながら、一般的に言えば、これは、前面電極層の不完全に除去した領域を残すことの原因となり、言い換えれば、他方のパターニングトレンチP3’の方向に、場合によってはパターニングトレンチP3’の中に、一つ又は複数の突出部を生成することをもたらす。より小さいエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーは、前面電極層の少なくとも一つの突出部が残存し、この突出部が、第三のパターニングトレンチP3’と向き合う第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁から出発して、この第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも25%にわたって延在するように選択される。しかしながら、前面電極層のこの少なくとも一つの突出部は、この突出部に(直接的に)向かい合う、同じパターニングゾーンの第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁までずっとは延在せず、言い換えれば、この突出部は、第三のパターニングトレンチP3と向き合う第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁までずっとは延在しない。好ましくは、前面電極層のこの少なくとも一つの突出部は、第三のパターニングトレンチP3と向き合う第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁から距離を有しており、これは、第三のパターニングトレンチP3’の幅の少なくとも25%に相当する。
この方法は、第三のパターニングトレンチP3の製造時に変換領域が生成することを回避するか、又は所望の効果に関連して非常にわずかに若しくは取るに足りないほど小さいものでしか変換領域が生成しないことを保証する。加えて、この少なくとも一つの突出部によって、2つの太陽電池の前面電極の電気的短絡を回避する。
例えば、第三のパターニングトレンチP3の前面電極層の少なくとも一つの突出部は、この第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも50%にわたって、特に少なくとも75%にわたって、特に少なくとも100%にわたって延在する。レーザーアブレーションによる第三のパターニングトレンチP3の製造について通常の許容誤差を考慮して、第三のパターニングトレンチP3の前面電極層の少なくとも一つの突出部は、例えば、厳密に第三のパターニングトレンチP3の全幅にわたって延在する。しかしながら、第三のパターニングトレンチP3の前面電極層の少なくとも一つの突出部は、他方のパターニングトレンチP3’の中へ延在することも可能である。第三のパターニングトレンチP3の製造時に、前面電極層の複数の突出部を製造することができる。
第三のパターニングトレンチP3’と向き合う第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁は、幾分凹凸があり、ここで、前面電極層の少なくとも一つの突出部は、請求の範囲に記載した寸法を定める規定によって、それぞれ実質的により小さい寸法を有する、その凹凸によって生じる微小な突出とは明確にかつ有意に異なるものであり得る。
これとは対照的に、第三のパターニングトレンチP3’を製造するためのより大きいエネルギーのレーザーパルスは、好ましくは、レーザーエネルギーによって転換した材料の起こり得る生成とともに、言い換えれば、転換領域の起こり得る生成とともに、前面電極層が実質的に除去されるように選択される。ここで、より大きなエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーは、前面電極層のすべての残存する突出部が、第三のパターニングトレンチP3と向き合う第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁から出発して、それぞれ第三のパターニングトレンチP3’の幅の25%未満にわたって延在するように有利には選択される。例えば、第三のパターニングトレンチP3’を製造するためのより大きいエネルギーのレーザーパルスは、前面電極層のすべての残存する突出部が、それぞれ、第三のパターニングトレンチP3’の幅の最大で10%、特に最大で5%、特に最大で1%にわたって延在するように選択される。典型的には、第三のパターニングトレンチP3と向き合う第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁は、前面電極層の微小な突出が存在し得る凹凸を有している。しかしながら、第三のパターニングトレンチP3’の少なくとも25%にわたって延在する突出部は存在しない。
本発明による方法では、実際に、第三のパターニングトレンチP3’の製造時に電気的により良好な導電性の転換領域が生成する。しかしながら、この転換領域は、他方の第三のパターニングトレンチP3と組み合わさって、比較的低いシャント効果を有し、ここで、他方の第三のパターニングトレンチP3では、転換材料相がわずかにしか生成しないか又は全く生成しない。したがって、いずれの場合でも、短絡路は、第三のパターニングトレンチP3の領域における前面電極層の不完全に除去された領域(突出部)を介して現れる可能性があるが、そこでのみ現れるものであって、第三のパターニングトレンチP3のすべての長さにわたって現れるものではない。2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の組み合わせを通じて、一般的に言えば許容できる、薄膜ソーラーモジュールの効率のわずかな低下しかもたらされず、かつ2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の製造のために、レーザーアブレーションの有利な使用を可能にする。
本発明による方法とは対照的に、パターニングゾーンごとに一つだけの第三のパターニングトレンチが存在し、この第三のパターニングトレンチが、前面電極層を確実にかつ安全に完全に除去するような大きなエネルギーのレーザーパルスによって製造されている場合には、前面電極と背面電極との間の転換材料相を通じた電気的短絡路が形成される可能性が非常に高い。このことは、薄膜ソーラーモジュールの効率を著しく低下させる。一方で、パターニングゾーンごとに一つだけの第三のパターニングトレンチが存在し、この第三のパターニングトレンチが、転換材料相の形成を回避するような小さなエネルギーのレーザーパルスによって製造されている場合には、この第三のパターニングトレンチP3によって分割された前面電極層の区分間の連続する材料の橋(ウェブ)が残存する可能性が高い。これらのウェブは、前面電極層の隣り合う区分を短絡させる。これはまた、薄膜ソーラーモジュールの効率を著しく低下させる。したがって、パターニングゾーンごとに一つだけの第三のパターニングトレンチが存在し、この第三のパターニングトレンチが、レーザーアブレーションによって製造されている場合には、目的の対立を解消しなければならず、一方では、レーザーパルスのエネルギーは、吸収体の電気的特性を過剰に変化させることを回避するために高すぎるものであってはならず、他方では、レーザーパルスのエネルギーは、前面電極層の完全な除去を保証しかつ前面電極層の隣り合う区分間が橋架けされたままになることを回避するために低すぎるものであってはならない。本発明者らが解明したように、この目的の対立は、実際問題として、満足のいくように解消することができない。第三のパターニングトレンチP3’における転換領域の形成は、薄膜ソーラーモジュールの電気的特性に対してささいな影響しかもたらさないので、本発明は、異なるエネルギーのレーザーパルスによって作り出された2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の組み合わせを使った完全に新規な取り組み方を採用するものである。
2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’を製造するためのレーザーパルスのエネルギーは、例えば、吸収体層内のトレンチ深さが、それぞれ、吸収体層の層厚の最大で50%であるように選択される。2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が、例えば、最大で0.4μm、特に最大で0.1μmの、吸収体層内の平均トレンチ深さを有する場合に、例えば、吸収体層の層厚は、おおよそ2μmである。
好ましくは、第三のパターニングトレンチP3を製造するためのより小さなエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーは、第三のパターニングトレンチP3’を製造するためのより大きなエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーの5%~70%の範囲、特に5%~50%の範囲、特に5%~30%の範囲である。これによって、上述した2つの影響に関して十分な差異を達成することができる。第三のパターニングトレンチP3’を製造するためのレーザーパルスのエネルギーは、有利には0.5μJ~20μJの範囲であり、例えば、3μJである。好ましくは、レーザーパルスのパルス持続時間は、1フェムト秒~10ナノ秒の範囲、特に1ピコ秒~100ピコ秒の範囲である。レーザーパルスの波長は、有利には400ナノメーター~1500ナノメーターの範囲の波長でありながら、前面電極層を通過することができるように選択される。
より大きなエネルギーのレーザーパルスを使って作り出した第三のパターニングトレンチP3’は、例えば、同じパターニングゾーンの他方の第三のパターニングトレンチP3と、第二のパターニングトレンチP2との間にある。この手段によって、太陽電池の光学活性領域における前面電極と背面電極との間の望ましくない短絡路を、確実にかつ安全に回避することができる。
既に述べたように、本発明による方法の一実施形態に従い、一つの同じパターニングゾーンの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、これらの間に距離がないように作り出され、言い換えれば、この2つの第三のパターニングトレンチは、互いに直接隣り合っている。あるいは、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、前面電極層の区分によって互いに空間的に離れていてもよい。この手法は、特に、第三のパターニングトレンチP3’のより大きな転換領域を可能にする。
本発明は、本発明による方法によって製造した薄膜ソーラーモジュールにも及ぶ。
既に述べたように、本発明による薄膜ソーラーモジュールは、平らな(平面の)基板と共に、この基板上に適用された層構造を含み、この層構造は、背面電極層、前面電極層、及び背面電極層と前面電極層との間に配置された吸収体層を含む。層構造に、直列接続した太陽電池がパターニングゾーンによって形成されている。パターニングゾーンは、少なくとも背面電極層を分割する第一のパターニングトレンチP1、少なくとも吸収体層を分割する第二のパターニングトレンチP2、並びに少なくとも前面電極層を分割するための互いの近くに配置された2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’をそれぞれ有する。レーザーアブレーションによって製造した第三のパターニングトレンチP3、P3’は、吸収体を完全には分割しない。特に、第三のパターニングトレンチP3’は、同じパターニングゾーン9の他方の第三のパターニングトレンチP3と第二のパターニングトレンチP2との間に配置されている。2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、これらの間に間隔を置かずに配置することができる。あるいは、第三のパターニングトレンチP3、P3’は、前面電極層の区分によって、互いに空間的に離れていることもできる。
典型的には、本発明による薄膜ソーラーモジュールにおいて、吸収体層と前面電極層との間にバッファー層を配置する。好ましくは、バッファー層の材料は、硫化インジウム(InS)、ナトリウムをドープした硫化インジウム(InS:Na)、硫化カドミウム(CdS)、亜鉛オキソ硫化物(ZnOS)、及びイントリンシックな(本来の)酸化亜鉛(i-ZnO)からなる群から選択される一つ又は複数の化合物を含む。特に、バッファー層は、これらの材料の一つ又は複数からなるものとすることができる。
本発明によれば、一つのパターニングトレンチP3は、前面電極層の少なくとも一つの突出部を有し、この突出部は第三のパターニングトレンチP3’と向き合う第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁から出発して、第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも25%にわたって延在するが、この突出部に向かい合う同じパターニングゾーンの第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁までずっとは延在しない。他方の第三のパターニングトレンチP3’の前面電極層の任意の突出部は、第三のパターニングトレンチP3と向き合う第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁から出発して、この第三のパターニングトレンチP3’の幅の25%未満にわたって、それぞれ延在する。
本発明による薄膜ソーラーモジュールについて請求の範囲に記載した構造、特に、第三のパターニングトレンチP3’と向き合う第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁から出発して、第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも25%にわたって延在する前面電極層の少なくとも一つの突出部の構造は、光学電子顕微鏡を使った簡便な様式で検出しかつ確認することができる。吸収体層の材料の組成を決定するために、当業者によく知られている分析的測定方法(例えば、X線光電子分光法又はラマン分光法)を用いることによって、吸収体層の転換領域を同様に確認することができる。
本発明のさまざまな実施形態を、個別に又は任意の組合せで実現することができる。特に、以上及び以下で言及する特徴は、指示された組合せでのみならず、他の組合せで又は孤立した形態でも、本発明の範囲から逸脱することなく用いることができる。
ここで、本発明について、例示的実施形態を用い、添付図を参照しながら詳細に説明する。これらの図は、簡略化され原寸に比例した縮尺でなく示されている。
従来技術の薄膜ソーラーモジュールの太陽電池の一体化された直列接続の概略図である。 本発明による薄膜ソーラーモジュールの実施形態に従った太陽電池の一体化された直列接続の概略図である。 パターニングゾーンごとに一つのP3ラインを有している、本発明の部分ではない薄膜ソーラーモジュールの太陽電池の一体化された直列接続の概略図である。 本発明による薄膜ソーラーモジュールの別の実施形態に従った太陽電池の一体化された直列接続の概略図である。 図2の実施形態に従った本発明による薄膜ソーラーモジュールの2つのP3ラインの光学顕微鏡像である。 図5Aの2つのP3ラインの概略的なスケッチである。 本発明による方法を説明するためのフローチャートである。
図1は、全体として番号1として言及する従来技術の薄膜ソーラーモジュールを、断面図で概略的に例示したものである。薄膜ソーラーモジュール1は、一体化された形態で互いに直列接続した複数の太陽電池9を含み、ここでは大幅に簡略化した様式で、同一の構造を有する2つの太陽電池9のみが描かれている。もちろん、一般的に言えば、薄膜ソーラーモジュール1において、多数の太陽電池9(例えばおおよそ100~150)が直列接続している。
薄膜ソーラーモジュール1は、ここでは、例えばサブストレート構造を有し、言い換えれば、このソーラーモジュールは、基板の上に適用された薄膜でできた層構造3を有する基板2を有し、ここで、この層構造3は基板2の入光側の(平面的な)基板表面4に配置されている。基板2は、例えば、剛性ガラスプレートとして実装される一方で、実行するプロセスプロセスステップとの関係において所望される安定性及び不活性挙動を有する他の電気絶縁性の材料も同様に使用可能である。
層構造3は基板表面4上に配置されており、例えばモリブデン(Mo)などの光不透過性金属から作られ、蒸着またはマグネトロン強化カソードスパッタリング(スパッタリング)によって基板2の上に適用された不透明な黒色背面電極層5を含む。背面電極層5は、例えば、300nmから600nmの範囲内の層厚を有する。
割り当てられる日光を可能な限りたくさん吸収することのできるバンドギャップを有する金属イオンをドープした半導体でできた光起電活性の吸収体層6が、背面電極層5の上にある。吸収体層6は、ここでは、例えば、(例えばp-導電型の)黄銅鉱化合物半導体、例えばCu(In,Ga)(S,Se)の群の化合物で、特にナトリウム(Na)-ドープ型Cu(In,Ga)(S,Se)でできている。上記式において、インジウム(In)及びガリウム(Ga)は、代替的に又は組合せた形で存在することができる。同じことは、硫黄(S)及びセレン(Se)にも当てはまり、これらは、代替的に又は組合せた形で存在することができる。吸収体層6は、例えば、1μmから5μmまでの範囲内にあり、特に、おおよそ2μmである層厚を有する。吸収体層6の製造のためには、例えばスパッタリングによってさまざまな材料の層を適用し、その後、これらの層を、典型的にはS及び/又はSeを含有する雰囲気中で、炉内で加熱すること(RTP=急速加熱処理)によって、熱変換させて化合物半導体を形成する。化合物半導体のこの製造方法は、当業者にとって周知のものであり、したがってここで詳述する必要はない。
典型的には、バッファー層を吸収体層6の上に堆積し、このバッファー層は、ここでは、例えば、図1には詳細に描かれていないナトリウムをドープした硫化インジウム(In:Na)の単一層と(ドープされていない)イントリンシックな(本来の)酸化亜鉛(i-ZnO)の単一層とから構成されている。
前面電極層7を、例えばスパッタリングによって吸収体層6の上に適用する。前面電極層7は、可視スペクトル範囲内の放射線に対して透過性であり(「ウィンドウ電極」)、それによって、入射日光はほんのわずかしか弱められないようになっている。前面電極層7は、例えば、ドープした金属酸化物、例えばn-導電型アルミニウム(Al)-ドープ酸化亜鉛(ZnO)である。このような前面電極層7は、概してTCO層(TCO=透明導電性酸化物)と呼ばれる。前面電極層7の層厚は、例えばおおよそ500nmである。
層構造3は、様々なパターニングトレンチを有しており、それによって、一体化して直列接続した太陽電池9を形成する。パターニングは、適切なパターニング技術を用いて行われる。したがって、背面電極層5は、第一のパターニングトレンチP1によって、互いに完全に分離した複数の背面電極層区分に分割され、これらの区分が、太陽電池9の背面電極5-1、5-2を形成する。吸収体層6は、第二のパターニングトレンチP2によって、互いに完全に分離した複数の吸収体層区分に分割され、これらの区分が、それぞれ、太陽電池9の光起電活性領域又は吸収体6-1、6-2を形成する。前面電極層7は、第三のパターニングトレンチP3によって、互いに完全に分離した複数の前面電極層区分に分割され、これらの区分が、太陽電池9の前面電極7-1、7-2を形成する。第一、第二、及び第三のパターニングトレンチP1-P2-P3の各々の直接的な連続が、パターニングゾーン8を形成し、ここで、個々の太陽電池9は、2つの直接的に隣り合うパターニングゾーン8によって範囲を定められる。
第三のパターニングトレンチP3は、前面電極層を分割するという唯一の必要条件を有しながら、ここでは、例えば、背面電極層5までずっと延在している。この第三のパターニングトレンチP3は、ニードルを使って前面電極層7と吸収体層6を取り去ることによって(ニードルスクライビング)、従来から機械的に作り出されている。
パターニングトレンチP1、P2、P3は、それぞれ、材料で充填されている。第一のパターニングトレンチP1は、吸収体層6の材料で充填されている。第二のパターニングトレンチP2は、前面電極層7の材料で充填されており、それによって、前面電極7-1が第二のパターニングトレンチの材料を経由して背面電極5-2と直接接触しながら、一つの太陽電池9の前面電極7-1が、その隣の太陽電池9の背面電極5-2に電気的に伝導的な接続をするようになっている。この手段によって、太陽電池9は、一体化した形態で直列的に接続する。第三のパターニングトレンチP3は、コーティングされた基板2を周囲の影響から保護するためのカバー層(例えば、ガラスプレート)に接続する役割を果たす接着剤層の材料で充填する。これは、図1には示しておらず、本発明を理解するためには関連性がない。
既知の様式で、太陽放射によって太陽電池9の光起電活性吸収体6-1、6-2に、電子ホール対が発生する。一つの太陽電池9からその隣の太陽電池9への電流(電子)について、その結果生じる電流路10を図1に概略的に示してある。
ここで図2を参照すると、図2には、本発明による薄膜ソーラーモジュール1の実施形態が例示されている。不必要な繰り返しを避けるために、図1の薄膜ソーラーモジュールに対する相違点のみを説明し、それ以外は図1での説明を参照するものとする。
図1とは対照的に、図2では、パターニングトレンチP1、P2、P3の順番が逆であり、断面図の横方向に見た方向で逆になったものに相当している。この構造は、第三のパターニングトレンチP3の領域の異なる設計においてのみ異なっており、ここで、一つの同じパターニングゾーン8について、単一の第三のパターニングトレンチP3の代わりに、図2にP3及びP3’として名前を付けた2つの第三のパターニングトレンチが設けられている。この2つのパターニングトレンチP3、P3’は、ニードルスクライビングによって作り出されたものではなく、代わりにそれぞれレーザーアブレーションによって作り出されたものであり、第三のパターニングトレンチP3’は、第三のパターニングトレンチP3を作り出すためのレーザーパルスよりも大きなエネルギーを有するレーザーパルスによって作り出された。したがって、単に概略的に図2に例示したように、第三のパターニングトレンチP3’は、第三のパターニングトレンチP3よりも大きな深さを中心に有することができる。2つのパターニングトレンチP3、P3’を製造するためのレーザーパルスのエネルギーは互いに異なり、かつパターニングトレンチP3’は、パターニングトレンチP3よりも大きなエネルギーのレーザーパルスによって作り出された。
2つのパターニングトレンチP3、P3’は、それぞれ、吸収体層6を完全には分割しておらず、したがって、吸収体層6の基板側の界面12までずっとは延在していない。例えば、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’のトレンチの底は、吸収体層6の前面電極側の界面11に近いところに位置している。
互いに異なるエネルギーを有するレーザーパルスをこの2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’を作り出すために使用した。ここで、第三のパターニングトレンチP3を作り出すためのより小さいエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーは、例えば、第三のパターニングトレンチP3’を作り出すためのより大きなエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーの5%~30%であった。第三のパターニングトレンチP3’を作り出すためのレーザーパルスのエネルギーは、例えば、0.5μJ~20μJの範囲であった。レーザーパルスの持続時間は、例えば、1フェムト秒~10ナノ秒の範囲にあった。レーザーパルスの波長は、400nm~1500nmの範囲にあり、それによって、直接照射を受けた前面電極層7がレーザーパルスを通過させることができ、かつ前面電極層7の除去ためのレーザーパルスのエネルギーを吸収体層6が吸収することができるようになっていた。
図2の実施形態では、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’は、これらの間に距離を置かずに直接隣り合って配置されている。したがって、一方の第三のパターニングトレンチP3は、前面電極7-2によって形成されたトレンチ壁13によって範囲を定められる。トレンチ壁13は、もう一方の第三のパターニングトレンチP3’の方を向いている。相応して、他方の第三のパターニングトレンチP3’は、前面電極7-1によって形成されたトレンチ壁13’によって範囲を定められる。トレンチ壁13’は、もう一方の第三のパターニングトレンチP3だけでなく、もう一方のトレンチ壁13の方を向いている。2つのトレンチ壁13、13’は、互いに向かい合って(反対側に)位置しており、かつ一緒になって、この2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の範囲を定める。
次に、本発明によって達成される有利な効果を、図3及び4を参照しながらさらに詳しく説明する。図3は、断面図で薄膜ソーラーモジュール1の太陽電池の一体化した直列接続の概略図を示したものである。この薄膜ソーラーモジュール1には本発明の思想は実現されていない。本発明とは異なり、パターニングゾーン8は、それぞれ、単一の第三のパターニングトレンチP3’のみを有している。パターニングトレンチP3’は、比較的高いエネルギーのレーザーパルスを使ってレーザーアブレーションによって作り出されたものであり、そのエネルギーは、前面電極層7を確実にかつ安全に取り除くことができるように選択された。レーザーパルスの典型的なガウス分布様エネルギープロファイルによって、レーザーエネルギーが、第三のパターニングトレンチP3’に隣り合う吸収体層6の非蒸発性転換領域15に導入され、このエネルギーは、吸収体層6の材料の蒸発をもたらさないが、材料の変化をもたらし、したがって、吸収体層6の電気的特性の変化をもたらす。吸収体層6の転換領域15は、より暗い網掛けによって図3に概略的に特定されている。いかなる理論にも拘束されるものではないが、本発明者らは、三元黄銅鉱化合物半導体の場合、この転換領域15において次第に二元材料相が生成するものと推測しており、典型的にはこの二元材料相は、黄銅鉱化合物半導体それ自体の導電性よりも大きな導電性を有している。増加した導電性を有するこれらの領域は、望ましくないことに、図3に例として素描する、太陽電池9の前面電極7-2と背面電極5-2との間の電気的な短絡路(シャント)14を引き起こす。図3の概略図からは明らかではないが、隣り合う太陽電池9の2つの前面電極7-1、7-2の間の実質的に大きな距離に起因して、2つの前面電極7-1、7-2間の起こり得る電気的な短絡路は関係がない。ここでは、(図の平面に対して垂直な)短絡路14が、第三のパターニングトレンチP3’のすべての長さにわたって延在し、それによって、薄膜ソーラーモジュール1の効率が著しく低下するようになっていることが重要な点である。この理由から、単一の第三のパターニングトレンチP3’のみをそれぞれ有するパターニングゾーン8を製造するために、博識のある当業者であれば、レーザーアブレーションを使用することを排除しなければならない。
図4を参照しながら以下に明らかとなるように、本発明によれば、図3に関連して述べた問題を回避することができ、この図4には、本発明による薄膜ソーラーモジュール1の別の実施形態が概略的な断面図に示されている。図4の薄膜ソーラーモジュール1は、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が、これらの間で互いに距離を置かずに隣り合っているわけではなく、代わりに、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間に前面電極層7の狭い前面電極層区分16がある点でのみ、図2の薄膜ソーラーモジュール1とは異なっている。したがって、一方の第三のパターニングトレンチP3は、他方の第三のパターニングトレンチP3’の方を向いた、前面電極7-2によって形成された(第一の)トレンチ壁13と、他方の第三のパターニングトレンチP3’の反対側を向いた、前面電極層区分16によって形成された(第二の)トレンチ壁19とによって範囲を定められる。第一のトレンチ壁13と第二のトレンチ壁19とは、互いに向かい合って位置している。相応して、もう一方の第三のパターニングトレンチP3’は、他方の第三のパターニングトレンチP3の方を向いた、前面電極7-1によって形成された(第一の)トレンチ壁13’と、他方の第三のパターニングトレンチP3の反対側を向いた、前面電極層区分16によって形成された(第二の)トレンチ壁19’とによって範囲を定められる。第一のトレンチ壁13’と第二のトレンチ壁19’とは、互いに向かい合って位置している。
図2の実施形態によれば、第三のパターニングトレンチP3’を、第三のパターニングトレンチP3のものよりも大きなエネルギーのレーザーパルスを使って作り出した。図4に示したように、第三のパターニングトレンチP3’は、第三のパターニングトレンチP3よりも、中心でより大きな深さを有することができる。図3に関連して説明したように、吸収体層6の転換は、第三のパターニングトレンチP3’と境界を有する転換領域15において起こる可能性が高く、この領域では吸収体層6の蒸発は起こらない。転換領域15を、より暗い網掛けを使って概略的に特定している。より大きなエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーを、第三のパターニングトレンチP3’の領域で前面電極層7が実質的に完全に取り除かれるようにして選択し、それによって、(第一の)トレンチ壁13’から出発して、第三のパターニングトレンチP3’の幅の少なくとも25%の寸法を有する突出部が残存しないようにした。転換領域15は、直接隣り合う第三のパターニングトレンチP3までずっと延在しているが、第三のパターニングトレンチP3’の方を向いた第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁13までずっとは延在していない。これらの説明は、図2の本発明による実施形態にも類似して当てはまる。
これとは対照的に、より小さいエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーを、第三のパターニングトレンチP3の縁領域で吸収体層6の転換が実質的に起こらないように選択した。したがって、転換領域15は生成していない。しかしながら、これによって、前面電極層7は、完全には完全には取り除かれず、かつもう一方の第三のパターニングトレンチP3’の方向に前面電極層7の一つ又は複数の突出部が生成するという事実がもたらされる。特に、第三のパターニングトレンチPの製造時に、前面電極層7の少なくとも一つの突出部が残存し、この突出部が、(第一の)トレンチ壁13から出発して、第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも25%、特に少なくとも50%、特に少なくとも75%、特に少なくとも100%の寸法を有するように、より小さいエネルギーを有するレーザーパルスのエネルギーを選択する。図4の実施態様では、このような突出部は、例えば、(第一の)トレンチ壁13から、前面電極層区分16までずっと、又はこれを越えて延在することができる。図2の実施態様では、このような突出部は、例えば、(第一の)トレンチ壁13から、他方の第三のパターニングトレンチP3’までずっと延在し、かつその中に延在することができる。しかしながら、特定の実施態様にかかわらず、このような突出部は、他方の第三のパターニングトレンチP3’の(第一の)トレンチ壁13’までずっとは延在せず、かつこのような突出部は、特に、他方の第三のパターニングトレンチP3’の(第一の)トレンチ壁13’から距離を有していて、この距離は他方の第三のパターニングトレンチP3’の幅の少なくとも25%に対応している。このような突出部については、図5A及び5Bに関連して詳細に説明する。
加えて、図4では、電気的により良好な導電性の転換領域15に起因した、太陽電池9の前面電極7-2と背面電極5-2との間の短絡電流路(シャント)14が、概略的に示されている。第三のパターニングトレンチP3のおかげで、転換領域15がそれほど遠くには達しないので、この短絡電流路14は前面電極7-2又は(第一の)トレンチ壁13にまですっとは延在しない。この理由から、第三のパターニングトレンチP3の領域の前面電極層7の突出部に起因して、非常に小さな(一般的には無視できるほどの)短絡電流だけしか太陽電池9の前面電極7-2と背面電極5-2との間を流れることができない。この有利な効果は、図2及び図4の本発明による薄膜ソーラーモジュール1の実施形態の両方に生じる。
次に、図5A及び5Bに言及する。図5Aは、図2の実施形態による2つの直接的に隣り合う第三のパターニングトレンチP3、P3’の光学顕微鏡像を示したものである。図5Bは、スケッチとして、図5Aの光学顕微鏡像を模写したものである。これらの図の両者で、前面電極層7の除去されなかった材料に相当する、前面電極7-2の突出部17を認識できる。突出部17は、第三のパターニングトレンチP3の(第一の)トレンチ壁13から、第三のパターニングトレンチP3’の(第一の)トレンチ壁13’の方向に延在し、ここで、この突出部の寸法は、第三のパターニングトレンチP3の幅におおよそ相当している。2つのトレンチ壁13、13’は、いくらかの凹凸又は波形を有している。トレンチ壁13、13’の凹凸によって形成される(微小の)突出は、典型的には、これを伴う第三のパターニングトレンチP3、P3’の幅の実質的に25%未満である寸法をそれぞれ有し、したがって、第三のパターニングトレンチP3の幅の25%を超えて延在する少なくとも一つの突出部17とは、簡単な様式で(例えば、光学顕微鏡によって)区別することができる。図5Bでは、例示として、トレンチ壁13’の一つの(微小な)突出17’をスケッチしている。図5A及び図5Bの描写では、突出部17は、第三のパターニングトレンチP3’までずっと(通常の許容誤差の範囲内で)延在している。このような形態は、時間的に第三のパターニングトレンチP3の前又は後で第三のパターニングトレンチP3’を作り出すときに得ることができる。異なるエネルギーのレーザーパルスによって作り出される第三のパターニングトレンチP3、P3’の本発明による組み合わせによって、第三のパターニングトレンチP3の領域で前面電極7-2の突出部17が、向かい合う前面電極7-1にまでずっとは延在しないが、第三のパターニングトレンチP3’のみにまでは延在し、したがって、この突出部17は転換領域15とだけ電気的に接触する、ということを有利に達成することができる。この様式では、(突出部17と転換領域15とによって作り出される)2つの空間的に非常に小さな短絡領域18、18’が存在するということが成し遂げられる。したがって、有利なことに、短絡電流路14は、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’のすべての長さにわたって延在せず、代わりに、この2つの短絡領域18、18’に空間的に制限される。その結果として、短絡電流は非常に小さく、かつ薄膜ソーラーモジュール1の効率は、わずかにしか低下しない。
図6は、フローチャートを使って、本発明による上述した薄膜ソーラーモジュール1を製造する例示的な方法を示したものである。これによれば、第一の工程Iで、平らな基板2を提供する。別の工程IIで、第一のパターニングトレンチP1によって、太陽電池の背面電極を形成するためにパターニングされる背面電極層5を平らな基板2の片面に堆積する。別の工程IIIで、太陽電池9の光起電活性の吸収体6-1、6-2を形成するためにパターニングされる吸収体層6を背面電極層5の上に堆積する。別の工程IVで、太陽電池9の前面電極7-1、7-2を形成するために、第三のパターニングトレンチP3、P3’によってパターニングされる前面電極層7を吸収体層6の上に堆積する。第三のパターニングトレンチP3、P3’は、レーザーアブレーションによって作り出される。各パターニングゾーン8に対して、2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が作り出され、ここで、一つの同じパターニングゾーン8の第三のパターニングトレンチP3’は、このパターニングソーン8のもう一方の第三のパターニングトレンチP3を作り出すためのレーザーパルスのエネルギーよりも大きいエネルギーを有するレーザーパルスを使って作り出される。
本発明は、薄膜ソーラーモジュールを製造する方法だけでなく、対応する薄膜ソーラーモジュールも利用可能にするものであり、この薄膜ソーラーモジュールには、各パターニングゾーンに異なるエネルギーのレーザーパルスによるレーザーアブレーションによって、2つの隣り合う第三のパターニングトレンチP3、P3’が作り出されている。短絡路は、この2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’すべての長さにわたって延在するものではなく、代わりに、第三のパターニングトレンチの領域における突出部に空間的に制限され、それによって、薄膜ソーラーモジュールの効率の低下が起こらないようになっている。時間及びコストの集約的な維持管理を伴う先行技術で使用されるニードルスクライビングの代わりに、パターニングゾーンの第三のパターニングトレンチを製造するために、有利なことにパルスレーザービームを使用することができる。本発明による方法は、薄膜ソーラーモジュールを製造するための既存のシステムにおいて、比較的簡便な様式で実現することができる。
1 薄膜ソーラーモジュール
2 基板
3 層構造
4 基板表面
5 背面電極層
5-1、5-2 背面電極
6 吸収体層
6-1、6-2 吸収体
7 前面電極層
7-1、7-2 前面電極
8 パターニングゾーン
9 太陽電池
10 電流路
11 前面電極側の界面
12 基板側の界面
13、13’ (第一の)トレンチ壁
14 短絡電流路(シャント)
15 転換領域
16 前面電極層区分
17、17’ 突出部
18、18’ 短絡領域
19、19’ (第二の)トレンチ壁

Claims (15)

  1. 以下の工程を含む、直列接続した太陽電池(9)を有する薄膜ソーラーモジュール(1)を製造する方法:
    - 平らな基板(2)を提供すること、
    - 前記基板(2)の片面(4)に背面電極層(5)を堆積すること、
    - 第一のパターニングトレンチP1によって、少なくとも前記背面電極層(5)を分割すること、
    - 前記背面電極層(5)の上に吸収体層(6)を堆積すること、
    - 第二のパターニングトレンチP2によって、少なくとも前記吸収体層(6)を分割すること、
    - 前記吸収体層(6)の上に前面電極層(7)を堆積すること、
    - それぞれ、前記吸収体層の前記基板側の界面まで到達しないように前記吸収体層まで延在する第三のパターニングトレンチP3、P3’によって、少なくとも前記前面電極層(7)を分割すること、
    ここで、まず第1に行われる第一のパターニングトレンチP1、該第一のパターニングトレンチP1の後に行われる第二のパターニングトレンチP2、及び、該第二のパターニングトレンチP2の後に行われる隣り合う2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’によって、パターニングゾーン(8)を形成し、
    前記第三のパターニングトレンチP3、P3’を、それぞれ、パルスレーザービームを用いたレーザーアブレーションによって作り出し、前記パターニングゾーン(8)の一方の第三のパターニングトレンチP3’を、比較的 大きなエネルギーのレーザーパルスを使って作り出し、かつ前記パターニングゾーン(8)の他方の第三のパターニングトレンチP3を、より小さなエネルギーのレーザーパルス を使って作り出す。
  2. 前記前面電極層(7)の少なくとも一つの突出部(17)が残存し、この突出部が、前 記第三のパターニングトレンチP3’と向き合う前記第三のパターニングトレンチP3の トレンチ壁(13)から出発して、前記第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくと も25%にわたって延在するが、前記突出部(17)に向かい合う同じパターニングゾー ン(8)の前記第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁(13’)までずっとは 延在しないように、より小さなエネルギーを有する前記レーザーパルスのエネルギーを選択する、請求項1に記載の方法。
  3. 前記前面電極層(7)の少なくとも一つの前記突出部(17)が、前記第三のパターニ ングトレンチP3の幅の少なくとも50%にわたって在するように、より小さなエネルギーを有する前 記レーザーパルスのエネルギーを選択する、請求項2に記載の方法。
  4. 前記第三のパターニングトレンチP3と向き合う前記第三のパターニングトレンチP3 ’のトレンチ壁(13’)から出発して、前記第三のパターニングトレンチP3’の幅の 少なくとも25%にわたって延在する前記前面電極層(7)の突出部(17’)が、残存 しないように、より大きなエネルギーを有する前記レーザーパルスのエネルギーを選択する、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記前面電極層(7)のすべての前記突出部(17’)が、それぞれ、前記第三のパターニングトレンチP3’の幅の最大で10%わたって延在するように、より大きなエネルギーを有する前記レーザーパルスのエネルギーを選択する、請求項に記載の方法。
  6. 一つの同じ前記パターニングゾーン(8)の前記2つの第三のパターニングトレンチP 3、P3’を、これらが互いに直接隣り合うようにして作り出す、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 一つの同じ前記パターニングゾーン(8)の前記2つの第三のパターニングトレンチP 3、P3’を、前記2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’の間に前面電極層区 分(16)が残存するようにして作り出す、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
  8. より小さなエネルギーを有する前記レーザーパルスのエネルギーが、より大きなエネル ギーを有する前記レーザーパルスのエネルギーの5%~70%の範囲ある、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
  9. より大きなエネルギーの前記レーザーパルスが、0.5μJ~20μJの範囲のエネルギーを有する、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記第三のパターニングトレンチP3、P3’を作り出すための前記レーザーパルスが 、1フェムト秒~10ナノ秒の範囲パルス持続時間を有する、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 前記第三のパターニングトレンチP3、P3’を作り出すための前記レーザーパルスが 、400ナノメーター~1500ナノメーターの範囲の波長を有する、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 個々のレーザーパルスの部分的な重なりのみによって、前記第三のパターニングトレン チP3、P3’をそれぞれ作り出す、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
  13. 基板(2)、並びに前記基板上に適用された層構造(3)であって、背面電極層(5) 、前面電極層(7)、及び前記背面電極層と前記前面電極層との間に配置された吸収体層 (6)を含む層構造を有する、薄膜ソーラーモジュール(1)であって、
    ここで、直列接続した太陽電池(9)が、パターニングゾーン(8)によって前記層構 造(3)に形成されており、
    少なくとも一つのパターニングゾーン(8)が、以下を有しており:
    -少なくとも前記背面電極層(5)を分割する第一のパターニングトレンチP1、 -少なくとも前記吸収体層(6)を分割する第二のパターニングトレンチP2、
    - 互いに近くに配置され、それぞれ、前記前面電極層(7)を分割する、それぞれ、前記吸収体層の前記基板側の界面まで到達しないように前記吸収体層まで延在する2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’、ここで、
    - 一方の第三のパターニングトレンチP3が、前記前面電極層(7)の少なくとも一つの突出部(17)を有しており、この突出部が、前記第三のパターニングトレンチP3’と向き合う前記第三のパターニングトレンチP3のトレンチ壁(13)から出発して、前記第三のパターニングトレンチP3の幅の少なくとも25%にわたって延在するが、前記突出部(17)に向かい合う同じパターニングゾーン(8)の前記第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁(13’)までずっとは延在しておらず、かつ
    - 他方の第三のパターニングトレンチP3’が、前記第三のパターニングトレンチP3と向き合う前記第三のパターニングトレンチP3’のトレンチ壁(13’)から 出発して、前記第三のパターニングトレンチP3’の幅の少なくとも25%にわたって延在する前記前面電極層(7)の突出部(17’)を有していない、 薄膜ソーラーモジュール(1)。
  14. 一つの同じ前記パターニングゾーン(8)の前記2つの第三のパターニングトレンチP3、P3’が、互いに直接隣り合っている、請求項13に記載の薄膜ソーラーモジュール (1)。
  15. 一つの同じ前記パターニングゾーン(8)の前記2つの第三のパターニングトレンチP 3、P3’の間に、前面電極層区分(16)が配置されている、請求項13に記載の薄膜ソーラーモジュール(1)。
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