JP7133165B2 - Method for producing modified particles for material modification - Google Patents
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Description
本発明は、材料改質用変性粒子の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing modified particles for material modification.
オレフィン重合体は、その産業上利用価値の高さから、種々の方法で工業的に製造され、年間1億トンを超える生産量があるとされている。オレフィン重合体は、炭素と水素を主成分とするので、安定、安価な材料であることが特徴でもある。一方で、オレフィン重合体における官能基を有さない構造は、極性を有する材料との親和性に乏しく、着色性、接着性などの改質を行い難い性質を併せ持っている。 Olefin polymers are industrially manufactured by various methods due to their high industrial utility value, and the annual production is said to exceed 100 million tons. Since olefin polymers are mainly composed of carbon and hydrogen, they are characterized by being stable and inexpensive materials. On the other hand, the structure having no functional group in the olefin polymer has poor affinity with polar materials, and also has properties such as colorability and adhesiveness that are difficult to modify.
オレフィン重合体の変性方法(官能基の導入方法)としては、ラジカル発生剤を用いて、無水マレイン酸をグラフト反応させる方法が知られているが、分子量の低下や、架橋反応を伴う場合があり、その導入量にも限界がある。
この解決方法として、固相反応での変性方法の例がある(例えば特許文献1参照)。
As a method of modifying olefin polymers (method of introducing functional groups), a method of grafting maleic anhydride using a radical generator is known. , there is a limit to the amount of introduction.
As a solution to this problem, there is an example of a denaturation method using a solid-phase reaction (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、オレフィン重合体の分子量の低下などの問題の解決は充分とは言えないのが現状のようである。分子量の低下は、材料としての強度の低下などの様々なマイナス要因につながる恐れがある。 However, it seems that the current situation is that the problem such as the decrease in the molecular weight of the olefin polymer cannot be sufficiently solved. A decrease in molecular weight may lead to various negative factors such as a decrease in strength as a material.
一方、オレフィン重合体の用途によっては、オレフィン重合体からなる粒子や成形体の表面だけ変性されていれば良い場合がある。例えば、接着剤、塗料、接着用原体、塗装用原体の他、ワイパーやウェザーストリップなどの自動車用材料に用いられる摺動性改良粒子などがある。本発明者らは、オレフィン重合体粒子における主として表面または特定の部位を変性できれば、粒子としての強度の低下を抑制しつつ、当該粒子を各種材料に添加したときの材料改質効果を高めることが可能となることが期待できると考えた。 On the other hand, depending on the application of the olefin polymer, there are cases in which only the surface of particles or moldings made of the olefin polymer may be modified. For example, there are adhesives, paints, base materials for bonding, base materials for coating, and slidability-improving particles used in automotive materials such as wipers and weather strips. The present inventors have found that if the surface or a specific site of the olefin polymer particles can be modified, the material modification effect can be enhanced when the particles are added to various materials while suppressing the decrease in the strength of the particles. I thought it would be possible.
そこで、本発明は、オレフィン重合体粒子を、効率よく、主として表面または特定の部位を変性した材料改質用変性粒子の製造方法を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing modified particles for material modification by modifying olefin polymer particles efficiently mainly at the surface or at specific sites.
前記の課題を達成するために、本発明者らが研究を進めた結果、以下に示すような手段によって、オレフィン重合体粒子の主として表面または特定の部分を変性させることが可能となり、新たな材料改質用オレフィン重合体粒子を提供することが可能となった。すなわち本発明は、以下の通りである。 As a result of the research conducted by the present inventors in order to achieve the above objects, it has become possible to modify mainly the surface or a specific portion of the olefin polymer particles by the means shown below, and a new material has been developed. It has become possible to provide modifying olefin polymer particles. That is, the present invention is as follows.
[1]1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子数比で原子(α):原子(β)=1:1~4:1の割合で含むラジカルに光を照射する工程1を含む、平均粒子径が1~200μmのオレフィン重合体粒子を変性してなる材料改質用変性粒子の製造方法。
[2]前記工程1が、前記オレフィン重合体粒子と前記ラジカルとが共存する環境において、前記ラジカルに光を照射して前記オレフィン重合体粒子を変性する工程である前記[1]に記載の材料改質用変性粒子の製造方法。
[3]前記工程1が、前記オレフィン重合体粒子および前記ラジカルに光を照射する工程である前記[2]に記載の材料改質用変性粒子の製造方法。
[4]前記オレフィン重合体粒子の平均粒子径が、1~60μmである前記[1]~[3]のいずれかに記載の材料改質用変性粒子の製造方法。
[5]前記ラジカルが、二酸化塩素ラジカルである前記[1]~[4]のいずれかに記載の材料改質用変性粒子の製造方法。
[6]前記材料改質用変性粒子が、塗料改質用変性粒子である前記[1]~[5]のいずれかに記載の改質材料の製造方法。
[1] In one molecule, an atom (α) of an element selected from Group 15 elements and Group 16 elements and an atom (β) of a Group 17 element are added in an atomic number ratio of atom (α): atom (β) = A method for producing modified particles for material modification, comprising step 1 of irradiating radicals contained in a ratio of 1:1 to 4:1 with light, by modifying olefin polymer particles having an average particle size of 1 to 200 μm.
[2] The material according to [1], wherein the step 1 is a step of modifying the olefin polymer particles by irradiating the radicals with light in an environment where the olefin polymer particles and the radicals coexist. A method for producing modified particles for modification.
[3] The method for producing modified particles for material modification according to [2], wherein the step 1 is a step of irradiating the olefin polymer particles and the radicals with light.
[4] The method for producing modified particles for material modification according to any one of [1] to [3], wherein the olefin polymer particles have an average particle size of 1 to 60 μm.
[5] The method for producing modified particles for material modification according to any one of [1] to [4], wherein the radical is a chlorine dioxide radical.
[6] The method for producing a modified material according to any one of [1] to [5], wherein the material modifying modified particles are paint modifying modified particles.
本発明の製造方法によれば、オレフィン重合体粒子の主として表面または特定の部位を変性することが可能であることが期待される。それゆえ、基材であるオレフィン重合体の分子量の低下を抑制出来、粒子本来の特性を生かしつつ、材料改質性に優れたオレフィン重合体粒子を提供することができると考えられる。 According to the production method of the present invention, it is expected that it will be possible to modify mainly the surface or specific sites of the olefin polymer particles. Therefore, it is thought that it is possible to suppress the decrease in the molecular weight of the olefin polymer, which is the base material, and to provide olefin polymer particles that are excellent in material modification properties while making the best use of the inherent properties of the particles.
以下、本発明について、例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
≪材料改質用変性粒子の製造方法≫
本発明に係る材料改質用変性粒子の製造方法(以下「本方法」ともいう。)は、
1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子数比で原子(α):原子(β)=1:1~4:1の割合で含むラジカルに光を照射する工程1を含む、
平均粒子径が1~200μmのオレフィン重合体粒子を変性してなる材料改質用変性粒子の製造方法である。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the invention is not limited by the following description.
<<Method for producing modified particles for material modification>>
The method for producing modified particles for material modification according to the present invention (hereinafter also referred to as "this method") comprises:
Atoms (α) of elements selected from Group 15 and Group 16 elements and atoms (β) of Group 17 elements are contained in one molecule in an atomic number ratio of atoms (α): atoms (β) = 1:1. Including step 1 of irradiating light to the radicals contained in a ratio of ~4: 1,
A method for producing modified particles for material modification, which is obtained by modifying olefin polymer particles having an average particle size of 1 to 200 μm.
前記工程1は、好ましくは、前記オレフィン重合体粒子と前記ラジカルとが共存する環境において、前記ラジカルに光を照射して前記オレフィン重合体粒子を変性する工程である。 The step 1 is preferably a step of modifying the olefin polymer particles by irradiating the radicals with light in an environment where the olefin polymer particles and the radicals coexist.
前記工程1において、好ましくは、前記オレフィン重合体粒子および前記ラジカルに光が照射される。「前記オレフィン重合体粒子および前記ラジカルに光が照射される」とは、前記オレフィン重合体粒子、前記ラジカルに対してそれぞれ独立に光を照射することを意図したものではなく、たとえば1つの光源からの光によって前記オレフィン重合体粒子および前記ラジカルが照射されることを意味する。また、前記オレフィン重合体粒子と、前記ラジカルへの光照射は同時に行われることが好ましい。 In step 1, the olefin polymer particles and the radicals are preferably irradiated with light. The phrase "the olefin polymer particles and the radicals are irradiated with light" does not mean that the olefin polymer particles and the radicals are irradiated with light independently, for example, from one light source. means that the olefin polymer particles and the radicals are irradiated with the light of . Moreover, it is preferable that the olefin polymer particles and the radicals are irradiated with light at the same time.
本発明の製造方法としては、前記ラジカルを含む系に光を照射した後、この系と前記オレフィン重合体粒子とを接触させて前記オレフィン重合体粒子を変性するという態様も挙げられる。 As the production method of the present invention, there is also an embodiment in which the radical-containing system is irradiated with light, and then the system is brought into contact with the olefin polymer particles to modify the olefin polymer particles.
以下、本方法で得られる材料改質用変性粒子を単に「本発明の変性粒子」または「本発明の改質剤粒子」ということがある。
このような本方法によれば、オレフィン重合体粒子の主として表面または特定の部位を効率よく変性することができる。本方法によれば、オレフィン重合体粒子の主として表面または特定の部位を変性できるため、変性が必要な箇所を効率よく変性できるといえるし、このように変性することで、変性前の粒子を構成するオレフィン重合体の分子量の低下を抑制しつつ、変性効果を高めることができる。
Hereinafter, the modified particles for material modification obtained by this method may be simply referred to as "modified particles of the present invention" or "modifier particles of the present invention".
According to this method, mainly the surface or specific sites of the olefin polymer particles can be efficiently modified. According to this method, it is possible to modify mainly the surface or a specific site of the olefin polymer particles, so it can be said that the sites requiring modification can be efficiently modified. It is possible to enhance the modification effect while suppressing the decrease in the molecular weight of the olefin polymer.
本方法によれば、前記ラジカルに光照射するのみの極めて簡便な方法で、また、例えば、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、オレフィン重合体粒子を効率よく変性(例:酸化処理)することができる。さらに、本方法によれば、例えば、取扱い温度において不安定な場合がある過酸化物やアゾ化合物などのラジカル発生剤を用いずに、オレフィン重合体粒子を効率よく変性(例:酸化反応)することができる。 According to this method, the olefin polymer particles can be efficiently modified (e.g., oxidized treatment) by a very simple method of only irradiating the radicals with light, and even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure. )can do. Furthermore, according to the present method, the olefin polymer particles are efficiently modified (eg, oxidized reaction) without using radical generators such as peroxides and azo compounds, which may be unstable at handling temperatures. be able to.
<工程1>
前記工程1は、1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを、原子数比で原子(α):原子(β)=1:1~4:1の割合で含むラジカルに光を照射する工程である。
<Step 1>
In step 1, an atom (α) of an element selected from group 15 elements and group 16 elements and an atom (β) of a group 17 element are added to one molecule in an atomic number ratio of atom (α): atom (β )=1:1 to 4:1 in the step of irradiating the radicals with light.
前記工程1では、少なくとも前記ラジカルに光が照射されればよく、前記オレフィン重合体粒子には、光が照射されても、されなくてもよい。
本発明において、光を前記オレフィン重合体粒子に照射することは、直接的に前記オレフィン重合体粒子への変性反応に関わらない可能性がある。しかしながら、一般的なラジカルの寿命や前記オレフィン重合体粒子の特定部位への変性を行う場合などを考慮すると、実質的に光を前記オレフィン重合体粒子にも照射することが好ましい方法となる。
In step 1, at least the radicals are irradiated with light, and the olefin polymer particles may or may not be irradiated with light.
In the present invention, irradiating the olefin polymer particles with light may not directly involve the modification reaction of the olefin polymer particles. However, considering the general lifetime of radicals and the case of modifying a specific site of the olefin polymer particles, it is a preferable method to substantially irradiate the olefin polymer particles with light.
前記工程1は、前記ラジカルを含む水相および/または有機相に前記粒子を浸漬または接触させて行う、液相方法でもよく、前記ラジカルを含む水相および/または有機相と、前記粒子とを接触させずに行う、気相方法でもよく、前記ラジカルおよび前記粒子を含む気相で行う、気相方法でもよい。例えば、水や溶媒の残留による影響が厳しく制限される用途の場合は、気相での反応が好ましい。 The step 1 may be a liquid phase method in which the particles are immersed in or brought into contact with an aqueous phase and/or organic phase containing the radicals, and the aqueous phase and/or organic phase containing the radicals and the particles are A gas phase method without contact may be used, or a gas phase method may be performed in a gas phase containing the radicals and the particles. For example, in applications where the influence of residual water or solvent is strictly limited, reaction in the gas phase is preferred.
前記ラジカルは、1分子中に、15族元素および16族元素から選ばれる元素の原子(α)と17族元素の原子(β)とを特定の組成比で含む。
前記ラジカルは、15族元素の原子を2種以上含んでいてもよく、16族元素の原子を2種以上含んでいてもよく、15族元素および16族元素の原子をそれぞれ1種以上含んでいてもよく、17族元素の原子を2種以上含んでいてもよい。ただし、これらの場合、前記原子数比は、15族元素および16族元素の原子の合計数と17族元素の原子の合計数との比である。
The radical contains atoms (α) of elements selected from group 15 and group 16 elements and atoms (β) of group 17 elements in a specific composition ratio in one molecule.
The radical may contain two or more Group 15 element atoms, may contain two or more Group 16 element atoms, and may contain one or more Group 15 element and Group 16 element atoms. It may contain two or more Group 17 element atoms. However, in these cases, the atomic number ratio is the ratio between the total number of atoms of group 15 and group 16 elements and the total number of atoms of group 17 elements.
原子(α)としては、好ましくは、窒素、酸素、硫黄が挙げられ、特に好ましくは酸素である。
原子(β)としては、好ましくは、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、塩素、臭素がより好ましい。これらの中でも、塩素を含むラジカルが、入手ないし発生が容易であるため、塩素がより好ましい。塩素を含むラジカルを用いる場合、照射する光としては、紫外線を含む光が好ましく、臭素やヨウ素を含むラジカルを用いる場合、紫外線より長波長の光も用いることができると考えられる。従って、光の選択自由度や、原料となる重合体に光劣化の可能性がある場合等、状況によっては臭素、ヨウ素が好ましい。
Atom (α) is preferably nitrogen, oxygen or sulfur, with oxygen being particularly preferred.
The atom (β) is preferably chlorine, bromine or iodine, more preferably chlorine or bromine. Among these, chlorine is more preferable because chlorine-containing radicals are readily available or easily generated. When radicals containing chlorine are used, light containing ultraviolet rays is preferable as irradiation light, and when radicals containing bromine or iodine are used, it is considered that light with a longer wavelength than ultraviolet rays can also be used. Therefore, bromine and iodine are preferable depending on the degree of freedom of light selection and the possibility of photodegradation of the raw material polymer.
前記ラジカルにおける前記原子数比(原子(α):原子(β))は、好ましくは1:1~2:1、より好ましくは2:1である。
前記ラジカルとしては、二酸化塩素ラジカルが好ましい。例えば、二酸化塩素ラジカルに光が照射されることで、塩素ラジカル(Cl・)および酸素分子(O2)が発生すると考えられる。
The atomic number ratio (atom (α):atom (β)) in the radical is preferably 1:1 to 2:1, more preferably 2:1.
A chlorine dioxide radical is preferable as the radical. For example, it is considered that chlorine radicals (Cl.) and oxygen molecules (O 2 ) are generated by irradiating chlorine dioxide radicals with light.
本発明の製造方法において、例えば、原料の位置づけとなるオレフィン重合体粒子は、公知のものを制限なく用いることができる。オレフィン重合体粒子を構成するオレフィン重合体としては、具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン、4-メチル-1-ペンテン、ヘキセン、オクテンなどの1種または2種以上のオレフィンから得られる単独または共重合体を例示することができる。 In the production method of the present invention, for example, known olefin polymer particles can be used without limitation as raw materials. Specific examples of the olefin polymer constituting the olefin polymer particles include ethylene, propylene, butene, 4-methyl-1-pentene, hexene, octene, and the like, which are obtained singly or in combination of two or more olefins. A copolymer can be exemplified.
前記オレフィン重合体としては、エチレン系重合体、プロピレン系重合体、ブテン系重合体、4-メチル-1-ペンテン系重合体を好ましい例として挙げることができ、それらの中でもエチレン系重合体、プロピレン系重合体が好ましい例である。 Preferred examples of the olefin polymer include ethylene-based polymers, propylene-based polymers, butene-based polymers, and 4-methyl-1-pentene-based polymers. Among them, ethylene-based polymers and propylene is a preferred example.
オレフィン重合体粒子としては、エチレン系重合体粒子が特に好ましく、それらの中でも摺動性の改善等に優れた効果を示す、超高分子量エチレン系重合体の粒子が好ましい。前記超高分子量エチレン系重合体は、135℃、デカリン中で測定される極限粘度[η]が好ましくは4~35dl/g、より好ましくは5~25dl/g、さらに好ましくは5~20dl/g、特に好ましくは5~18dl/gの範囲にある。 As the olefin polymer particles, ethylene-based polymer particles are particularly preferable, and among them, ultra-high-molecular-weight ethylene-based polymer particles are preferable because they exhibit excellent effects such as improvement of slidability. The ultra-high molecular weight ethylene-based polymer preferably has an intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135°C of 4 to 35 dl/g, more preferably 5 to 25 dl/g, and still more preferably 5 to 20 dl/g. , particularly preferably in the range from 5 to 18 dl/g.
また本発明に用いられるオレフィン重合体粒子の平均粒子径は1~200μm、好ましくは1~60μmである。粒子径が小さい方が後述する塗料などのための改質剤としては好ましい場合が多い傾向がある。このような基材となるオレフィン重合体としては、三井化学からは、エチレン系重合体としては、ハイゼックス(登録商標)、ハイゼックスミリオン(登録商標)、ミペロン(登録商標)などの商標名で市販されている。特にミペロンは、その粒子径が小さい(平均粒子径が60μm以下)ことを特徴とする製品である。 The average particle size of the olefin polymer particles used in the present invention is 1-200 μm, preferably 1-60 μm. Smaller particle sizes tend to be preferable as modifiers for paints and the like, which will be described later. Olefin polymers that serve as such base materials are commercially available from Mitsui Chemicals under trade names such as HI-ZEX (registered trademark), HI-ZEX MILLION (registered trademark), and MIPELON (registered trademark) as ethylene-based polymers. ing. In particular, Miperon is a product characterized by its small particle size (average particle size of 60 μm or less).
本発明でのオレフィン重合体粒子の平均粒子径は、常法により求められる。
前記平均粒子径は、具体的には、60μm以上の粒子径領域であれば、多段に組んだ目開き径の異なる篩を用いて粒度分布をもとめ、その中央値(d50)とする。例えば、以下のような方法である。目開き径45μm~850μmの7種の篩を用い、帯電防止剤として極少量のカーボンブラックを混合したオレフィン重合体粒子5gを分級して粒度分布を求め、その中央値(d50)を平均粒子径とする。
The average particle size of the olefin polymer particles in the present invention is determined by a conventional method.
Specifically, for the average particle size, in the particle size range of 60 μm or more, the particle size distribution is determined using multistage sieves with different opening sizes, and the median value (d50) is taken. For example, the method is as follows. 5 g of olefin polymer particles mixed with a very small amount of carbon black as an antistatic agent are classified using 7 kinds of sieves with an opening diameter of 45 μm to 850 μm to determine the particle size distribution, and the median value (d50) is taken as the average particle size. and
一方、前記平均粒子径について、60μm以下の粒子径領域の場合は、コールターカウンター法が好ましくは用いられる。具体的には、ベックマン社製マルチサイザー3型装置を用いて、常法により決定される。(上記の機種と同様の結果となることが確認されている装置であれば、別の機種の測定結果を用いてもよいことは言うまでもない。)
このようなオレフィン重合体粒子を得る手段としては多くの報告があり、それらを制限なく採用することができる。例えば、分子量の高いエチレン重合体粒子を提供する方法は、国際公開第2008/013144号、国際公開第2016/136540号などに開示がある。
On the other hand, when the average particle size is in the particle size range of 60 μm or less, the Coulter counter method is preferably used. Specifically, it is determined by a conventional method using a multisizer model 3 manufactured by Beckman. (It goes without saying that the measurement results of another model may be used as long as it is confirmed that the results are similar to those of the above model.)
There are many reports on means for obtaining such olefin polymer particles, and these can be employed without restriction. For example, methods for providing ethylene polymer particles with a high molecular weight are disclosed in WO2008/013144, WO2016/136540, and the like.
本方法において、例えば、前記オレフィン重合体粒子の原料におけるオレフィンとして、スチレンなどの芳香族ビニル化合物や、(メタ)アクリル酸およびそのエステル類等が用いられてもよい。 In this method, for example, aromatic vinyl compounds such as styrene, (meth)acrylic acid and its esters, and the like may be used as the olefin in the raw material of the olefin polymer particles.
オレフィン重合体は通常、遷移金属を含む触媒を用いた低圧重合法で製造されることが多くなっているが、上記のような共重合体を得る方法としては、高圧ラジカル法も有力な方法である。 Olefin polymers are usually produced by a low-pressure polymerization method using a catalyst containing a transition metal, but a high-pressure radical method is also an effective method for obtaining such copolymers. be.
オレフィン重合体粒子は、本発明の目的を損なわない範囲で、他の重合体、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐光安定剤、耐候安定剤などの各種安定剤、帯電防止剤、親水剤、撥水剤、核剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、抗菌剤、難燃剤などの添加剤を含んでいてもよい。 The olefin polymer particles may contain other polymers, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weather stabilizers and other stabilizers, antistatic agents, hydrophilic agents, repellents, etc., as long as the objects of the present invention are not compromised. Additives such as liquid agents, nucleating agents, slip agents, anti-blocking agents, anti-fogging agents, lubricants, dyes, pigments, natural oils, synthetic oils, antibacterial agents and flame retardants may be included.
前記光照射に使用する光(の波長)は、用いるラジカルによって適宜選択すればよい。具体的には、赤外線領域から紫外線領域まで幅広い領域を選択可能であるが、例えば200nm以上であり、例えば800nm以下である。光照射時間は特に限定されないが、例えば1分以上であり、例えば1000時間以下である。 The light (wavelength) used for the light irradiation may be appropriately selected according to the radicals to be used. Specifically, it is possible to select a wide range from the infrared region to the ultraviolet region, and it is, for example, 200 nm or more and, for example, 800 nm or less. Although the light irradiation time is not particularly limited, it is, for example, 1 minute or more and, for example, 1000 hours or less.
前記光照射における光源は特に限定されないが、簡便さの点から、例えば、太陽光等の自然光が挙げられる。また、例えば、前記自然光に代えて、またはこれに加え、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、水銀ランプ等の光源を適宜用いてもよい。さらに、必要により、必要波長以外の波長をカットするフィルターを適宜用いてもよい。 The light source for the light irradiation is not particularly limited, but natural light such as sunlight can be used from the viewpoint of convenience. Further, for example, instead of or in addition to the natural light, a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a fluorescent lamp, or a mercury lamp may be appropriately used. Furthermore, if necessary, a filter that cuts wavelengths other than the required wavelength may be used as appropriate.
前記工程1を行う際の温度、圧力、雰囲気も特に制限されないが、反応温度は、例えば0℃以上であり、例えば100℃以下であり、圧力は、例えば0.1MPa以上であり、100MPa以下であり、雰囲気は、例えば、空気雰囲気、不活性ガス雰囲気が挙げられる。 The temperature, pressure, and atmosphere in performing Step 1 are not particularly limited, but the reaction temperature is, for example, 0° C. or higher and, for example, 100° C. or lower, and the pressure is, for example, 0.1 MPa or higher and 100 MPa or lower. The atmosphere includes, for example, an air atmosphere and an inert gas atmosphere.
本方法は、例えば、後述の実施例に示すように、加熱、加圧、減圧等を一切行わずに、大気中、常温(例:5~35℃)および常圧(大気圧)下で行なうことも可能である。
前記光照射は、例えば、水相、有機相および/または気相中に存在する前記ラジカルに対して行われる。環境への負荷や人体への影響を低減させる等の点を重視する場合は、水相や気相に存在するラジカルに対して行うことが好ましい。工程1は、一実施態様では、水相、有機相および気相のうちの二相以上の層が存在する環境下であってもよい。また、例えば、前記ラジカルが液相に存在している場合、前記変性の対象となるオレフィン重合体粒子も液相に存在していてもよいが、それ以外の相、例えば気相に存在していてもよい。
For example, as shown in the examples below, this method is carried out in the atmosphere at normal temperature (eg, 5 to 35° C.) and normal pressure (atmospheric pressure) without any heating, pressurization, pressure reduction, etc. is also possible.
The light irradiation is performed, for example, on the radicals present in an aqueous phase, an organic phase and/or a gas phase. When emphasis is placed on reducing the load on the environment and the effects on the human body, it is preferable to perform the treatment on radicals present in the water phase or the gas phase. Step 1, in one embodiment, may be in an environment in which two or more phases of aqueous, organic and gaseous phases are present. Further, for example, when the radicals exist in the liquid phase, the olefin polymer particles to be modified may also exist in the liquid phase, but may exist in other phases such as the gas phase. may
一実施態様において、前記水相および/または有機相中における、原子(α)および原子(β)を含むラジカルの濃度は特に限定されないが、例えば0.0001mol/L以上であり、例えば1mol/L以下である。 In one embodiment, the concentration of radicals containing atoms (α) and atoms (β) in the aqueous phase and/or organic phase is not particularly limited, but is, for example, 0.0001 mol/L or more, such as 1 mol/L. It is below.
工程1は、一実施態様では、前記オレフィン重合体粒子と前記ラジカルとを含む液相(水相および/または有機相)に光照射してもよい。前記液相中における、原料(基質)であるオレフィン重合体粒子の濃度は、特に限定されないが、例えば、1g/L以上であってもよく、10g/L以下であってもよい。 In step 1, in one embodiment, the liquid phase (aqueous phase and/or organic phase) containing the olefin polymer particles and the radicals may be irradiated with light. The concentration of the raw material (substrate) olefin polymer particles in the liquid phase is not particularly limited, but may be, for example, 1 g/L or more and 10 g/L or less.
前記水相は、水を含めば特に制限されない。
前記有機相は、有機溶媒を含めば特に制限されない。
前記有機溶媒は特に制限されないが、例えば、炭化水素溶媒、ハロゲン化溶媒が挙げられる。
The aqueous phase is not particularly limited as long as it contains water.
The organic phase is not particularly limited as long as it contains an organic solvent.
Although the organic solvent is not particularly limited, examples thereof include hydrocarbon solvents and halogenated solvents.
前記有機溶媒は、1種類でもよく、2種類以上でもよい。
前記炭化水素溶媒としては特に限定されないが、例えば、n-ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレンが挙げられる。
One kind of the organic solvent may be used, or two or more kinds thereof may be used.
Examples of the hydrocarbon solvent include, but are not limited to, n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene.
前記ハロゲン化溶媒としては特に限定されないが、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、フルオラス溶媒が挙げられる。
前記フルオラス溶媒は、炭化水素の水素原子の全てまたは大部分がフッ素原子に置換された溶媒をいう。前記フルオラス溶媒は、例えば、炭化水素の水素原子数の50%以上、60%以上、70%以上、80%以上または90%以上がフッ素原子に置換された溶媒であってもよい。
Examples of the halogenated solvent include, but are not limited to, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, and fluorous solvents.
The fluorous solvent refers to a solvent in which all or most of the hydrogen atoms of a hydrocarbon are substituted with fluorine atoms. The fluorous solvent may be, for example, a solvent in which 50% or more, 60% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more of the hydrogen atoms in the hydrocarbon are substituted with fluorine atoms.
前記フルオラス溶媒としては、例えば、CF3-(CF2)n-CF3(nは4~7)、N-((CF2)nCF3)3(nは1または4)、ヘキサフルオロベンゼン、1-(トリフルオロメチル)ウンデカフルオロシクロヘキサン、1-(トリフルオロメチル)ペンタフルオロベンゼン、オクタデカフルオロデカヒドロナフタレンが挙げられ、その中でも、例えば、CF3(CF2)4CF3が好ましい。 Examples of the fluorous solvent include CF 3 —(CF 2 ) n —CF 3 (n is 4 to 7), N—((CF 2 ) n CF 3 ) 3 (n is 1 or 4), hexafluorobenzene , 1-(trifluoromethyl)undecafluorocyclohexane, 1-(trifluoromethyl)pentafluorobenzene, octadecafluorodecahydronaphthalene, among which CF 3 (CF 2 ) 4 CF 3 is preferred. .
フルオラス溶媒は、例えば、溶媒自体の反応性が低いために、副反応を抑制または防止できるという利点がある。前記副反応としては、例えば、溶媒の酸化反応、ラジカルによる溶媒の水素引き抜き反応や塩素化反応、前記原料(基質)由来のラジカルと溶媒との反応が挙げられる。 A fluorous solvent has the advantage of suppressing or preventing side reactions, for example, because the solvent itself has low reactivity. Examples of the side reaction include oxidation reaction of the solvent, hydrogen abstraction reaction and chlorination reaction of the solvent by radicals, and reaction between radicals derived from the raw material (substrate) and the solvent.
前記水相および/または有機相は、前記ラジカル以外の他の成分を含んでいてもよい。なお、他の成分は前記水相および/または有機相中に分散したり沈殿したりしていてもよい。 The aqueous phase and/or the organic phase may contain components other than the radicals. Other components may be dispersed or precipitated in the aqueous phase and/or organic phase.
前記他の成分としては、特に限定されないが、例えば、前記ラジカルの発生源、ブレンステッド酸、ルイス酸、酸素(O2)が挙げられる。
これらはそれぞれ、1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
Examples of the other component include, but are not particularly limited to, the radical generating source, Bronsted acid, Lewis acid, and oxygen (O 2 ).
Each of these may be used alone or in combination of two or more.
前記他の成分は、水相および/または有機相に溶解してもよいが、溶解していなくてもよい。
なお、1つの物質がルイス酸およびブレンステッド酸を兼ねていてもよい。「ルイス酸」は、前記ラジカルの発生源に対してルイス酸として働く物質をいう。
Said other ingredients may be dissolved in the aqueous phase and/or the organic phase, but they do not have to be dissolved.
In addition, one substance may serve as both the Lewis acid and the Bronsted acid. The term "Lewis acid" refers to a substance that acts as a Lewis acid against the above radical generation source.
前記ラジカルの発生源は特に限定されないが、前記ラジカルが二酸化塩素ラジカルである場合、例えば、亜塩素酸(HClO2)またはその塩が挙げられる。亜塩素酸の塩としては特に限定されないが、例えば、金属塩が挙げられる。該金属塩は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、希土類塩が挙げられる。 The source of the radical is not particularly limited, but when the radical is a chlorine dioxide radical, for example, chlorous acid (HClO 2 ) or a salt thereof may be used. Salts of chlorous acid are not particularly limited, and examples thereof include metal salts. Examples of the metal salt include alkali metal salts, alkaline earth metal salts and rare earth salts.
前記二酸化塩素ラジカルの発生源は、より具体的には、例えば、亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)、亜塩素酸リチウム(LiClO2)、亜塩素酸カリウム(KClO2)、亜塩素酸マグネシウム(Mg(ClO2)2)、亜塩素酸カルシウム(Ca(ClO2)2)が挙げられる。これらの中でも、コスト、取扱い易さ等の点から、亜塩素酸ナトリウムが好ましい。 More specifically, the chlorine dioxide radical generation source is, for example, sodium chlorite (NaClO 2 ), lithium chlorite (LiClO 2 ), potassium chlorite (KClO 2 ), magnesium chlorite (Mg (ClO 2 ) 2 ) and calcium chlorite (Ca(ClO 2 ) 2 ). Among these, sodium chlorite is preferable from the viewpoint of cost, ease of handling, and the like.
前記水相および/または有機相中における、前記ラジカルの発生源の濃度は特に限定されないが、例えば0.0001mol/L以上であり、例えば1mol/L以下である。
前記ルイス酸は特に制限されず、例えば、有機物質でも、無機物質でもよい。
Although the concentration of the radical generation source in the aqueous phase and/or organic phase is not particularly limited, it is, for example, 0.0001 mol/L or more and 1 mol/L or less.
The Lewis acid is not particularly limited, and may be, for example, an organic substance or an inorganic substance.
前記有機物質としては、例えば、アンモニウムイオン、有機酸(例:カルボン酸)が挙げられる。
前記無機物質は、金属イオンおよび非金属イオンの一方または両方を含んでいてもよい。前記金属イオンは、典型金属イオンおよび遷移金属イオンの一方または両方を含んでいてもよい。
Examples of the organic substances include ammonium ions and organic acids (eg, carboxylic acids).
The inorganic substance may contain one or both of metal ions and non-metal ions. The metal ions may contain one or both of typical metal ions and transition metal ions.
前記無機物質は、例えば、アルカリ土類金属イオン(例えばCa2+等)、希土類イオン、Mg2+、Sc3+、Li+、Fe2+、Fe3+、Al3+、ケイ酸イオンおよびホウ酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。 The inorganic substance includes, for example, alkaline earth metal ions (e.g. Ca 2+ etc.), rare earth ions, Mg 2+ , Sc 3+ , Li + , Fe 2+ , Fe 3+ , Al 3+ , silicate ions and It may be at least one selected from the group consisting of borate ions.
前記アルカリ土類金属イオンとしては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウムまたはラジウムのイオンが挙げられ、より具体的には、Ca2+、Sr2+、Ba2+およびRa2+が挙げられる。 The alkaline earth metal ions include, for example, calcium, strontium, barium or radium ions, more specifically Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ and Ra 2+ .
前記「希土類」は、スカンジウム、イットリウムの2元素と、ランタンからルテチウムまでの15元素(ランタノイド)の計17元素の総称である。希土類イオンとしては、例えば、3価の陽イオンが挙げられる。 The "rare earth" is a general term for a total of 17 elements, including two elements of scandium and yttrium and 15 elements (lanthanides) from lanthanum to lutetium. Examples of rare earth ions include trivalent cations.
また、前記ルイス酸がイオンである場合、前記ルイス酸は、該イオンのカウンターイオンを有する物質であってもよく、該カウンターイオンとしては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸イオン(CF3SO3 -)、トリフルオロ酢酸イオン(CF3COO-)、酢酸イオン、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオンが挙げられる。 Further, when the Lewis acid is an ion, the Lewis acid may be a substance having a counter ion of the ion, and the counter ion is, for example, trifluoromethanesulfonate ion (CF 3 SO 3 − ). , trifluoroacetate ion (CF 3 COO − ), acetate ion, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, sulfite ion, nitrate ion, nitrite ion, phosphate ion , phosphite ion.
また、前記ルイス酸は、AlCl3、AlMeCl2、AlMe2Cl、BF3、BPh3、BMe3、TiCl4、SiF4およびSiCl4からなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。なお、これらのうち、「Ph」はフェニル基を表し、「Me」はメチル基を表す。 Also, the Lewis acid may be at least one selected from the group consisting of AlCl 3 , AlMeCl 2 , AlMe 2 Cl, BF 3 , BPh 3 , BMe 3 , TiCl 4 , SiF 4 and SiCl 4 . In addition, among these, "Ph" represents a phenyl group, and "Me" represents a methyl group.
前記ルイス酸のルイス酸性度は、例えば、0.4eV以上であるが、これには限定されない。前記ルイス酸性度の上限値は特に限定されないが、例えば、20eV以下である。なお、前記ルイス酸性度は、例えば、Ohkubo, K.; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532、J. AM. CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271、またはJ. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726に記載の方法により測定することができる。 The Lewis acidity of the Lewis acid is, for example, 0.4 eV or more, but is not limited thereto. Although the upper limit of the Lewis acidity is not particularly limited, it is, for example, 20 eV or less. The Lewis acidity is described, for example, in Ohkubo, K.; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532, J. AM. CHEM. SOC. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726.
前記ブレンステッド酸としては特に限定されないが、例えば、無機酸、有機酸が挙げられ、具体的には、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、亜リン酸が挙げられる。 The Bronsted acid is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids and organic acids. Specific examples include trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, acetic acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, bromo Hydrochloric acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, sulfurous acid, nitric acid, nitrous acid, phosphoric acid, phosphorous acid.
前記ブレンステッド酸の酸解離定数pKaは、例えば10以下である。前記pKaの下限値は、特に限定されないが、例えば、-10以上である。
前記水相および/または有機相中における、前記ルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方の濃度は特に限定されず、適宜設定することができるが、例えば1mg/L以上であり、例えば1g/L以下である。
The acid dissociation constant pK a of the Bronsted acid is, for example, 10 or less. Although the lower limit of the pK a is not particularly limited, it is -10 or more, for example.
The concentration of at least one of the Lewis acid and Bronsted acid in the aqueous phase and/or the organic phase is not particularly limited and can be set as appropriate. is.
例えば、水相および/または有機相に、空気または酸素ガスを吹き込むことにより、水相および/または有機相中に酸素(O2)を溶解させることができる。このとき、例えば、水相および/または有機相を、酸素(O2)で飽和させてもよい。水相および/または有機相が前記酸素(O2)を含むことで、例えば、オレフィン重合体粒子の変性(酸化反応)を促進させることができる。 For example, oxygen (O 2 ) can be dissolved in the aqueous and/or organic phase by blowing air or oxygen gas through the aqueous and/or organic phase. At this point, for example, the aqueous phase and/or the organic phase may be saturated with oxygen (O 2 ). When the aqueous phase and/or the organic phase contain oxygen (O 2 ), for example, the modification (oxidation reaction) of the olefin polymer particles can be promoted.
<ラジカル生成工程>
本方法は、前記ラジカルを生成する工程(ラジカル生成工程)を含んでいてもよく、具体的には、前記ラジカル発生源から前記ラジカルを生成する工程が挙げられる。
<Radical generation step>
The method may include a step of generating the radicals (radical generation step), and specifically includes a step of generating the radicals from the radical generation source.
前記ラジカル生成工程は特に限定されないが、例えば、水相が前記ラジカル発生源を含み、前記ラジカル発生源から前記ラジカルを生成させてもよい。具体的には、前記ラジカル発生源(例:亜塩素酸またはその塩)を水に溶解させて静置し、ラジカル発生源から前記ラジカルを自然発生させることで行なうことができる。このとき、例えば、前記水中に前記ルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、前記ラジカルの生成を促進することができる。また、例えば、前記ラジカル発生源を水に溶解させた水相に光照射することで前記ラジカルを生成させることもできる。この光照射は、前記工程1における光照射であってもよく、つまり、ラジカルを生成させながら、そのラジカルに光照射してもよい。 Although the radical generation step is not particularly limited, for example, the water phase may contain the radical generation source, and the radicals may be generated from the radical generation source. Specifically, the radical-generating source (eg, chlorous acid or a salt thereof) is dissolved in water and allowed to stand, so that the radicals are spontaneously generated from the radical-generating source. At this time, for example, the presence of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid in the water can promote the generation of the radicals. Further, for example, the radicals can be generated by irradiating an aqueous phase in which the radical generating source is dissolved in water with light. This light irradiation may be the light irradiation in step 1, that is, the light irradiation may be performed on the radicals while generating the radicals.
例えば、亜塩素酸イオンから二酸化塩素ラジカルが発生するメカニズム(機構)は、例えば、下記スキーム1のように推測される。ただし、下記スキーム1は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。 For example, a mechanism (mechanism) for generating chlorine dioxide radicals from chlorite ions is presumed as shown in Scheme 1 below. However, Scheme 1 below is an example of a presumed mechanism and does not limit the present invention in any way.
下記スキーム1の第1の(上段の)反応式は、亜塩素酸イオン(ClO2 -)の不均化反応を示し、この反応系中にルイス酸およびブレンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、平衡が右側に移動しやすくなると考えられる。 The first (upper) reaction formula in Scheme 1 below shows the disproportionation reaction of chlorite ion (ClO 2 − ), and at least one of Lewis acid and Bronsted acid is present in this reaction system. , the equilibrium tends to shift to the right.
下記スキーム1中の第2の(中段の)反応式は、二量化反応を示し、不均化反応で生成した次亜塩素酸イオン(ClO-)と亜塩素酸イオンとが反応して二酸化二塩素(Cl2O2)が生成する。この反応は、水中にプロトンH+が多いほど、すなわち酸性であるほど進行しやすいと考えられる。 The second (middle) reaction formula in Scheme 1 below shows a dimerization reaction, in which hypochlorite ions (ClO − ) generated in the disproportionation reaction react with chlorite ions to form dioxide. Chlorine (Cl 2 O 2 ) is produced. This reaction is thought to proceed more easily as the amount of protons H + in the water increases, that is, as the water becomes more acidic.
下記スキーム1中の第3の(下段の)反応式は、ラジカル生成を表す。この反応では、二量化反応で生成した二酸化二塩素が、亜塩素酸イオンと反応して二酸化塩素ラジカルを生成する。 The third (lower) reaction scheme in Scheme 1 below represents radical generation. In this reaction, dichlorine dioxide produced in the dimerization reaction reacts with chlorite ions to produce chlorine dioxide radicals.
以下、前記ラジカル生成工程に使用する反応系として、有機相と水相とを含む二相反応系を例にあげて説明するが、本方法はこの系に限定されるわけではない。まず、前記工程1を行なうに先立ち、水相と有機相との二相を接触させる。このとき、水相と有機相とを混合してエマルジョン等の状態にしてもよく、撹拌等をしながら反応を行なうこともできる。また、単に、水層(前記水相)と有機層(前記有機相)との二層が分離し、互いに界面のみで接触した状態でもよい。 A two-phase reaction system including an organic phase and an aqueous phase will be described below as an example of the reaction system used in the radical generation step, but the present method is not limited to this system. First, prior to performing step 1, the two phases of the aqueous phase and the organic phase are brought into contact. At this time, the aqueous phase and the organic phase may be mixed to form an emulsion or the like, and the reaction may be carried out while stirring or the like. Alternatively, the two layers of the aqueous layer (the aqueous phase) and the organic layer (the organic phase) may simply be separated and in contact with each other only at the interface.
ここでは、亜塩素酸イオン(ClO2 -)および酸を含む水層と、オレフィン重合体粒子を含む有機層とからなる二層分離の態様を説明するが、本方法はこの態様に限定されるわけではない。反応系は、反応容器中において、水層(前記水相)と有機層(前記有機相)との二層が分離し、互いに界面のみで接触している。一方の層が水層(前記水相)であり、他方の層が有機層(前記有機相)である。水層(水相)中の亜塩素酸イオン(ClO2 -)が酸と反応して、二酸化塩素ラジカル(ClO2・)が発生する。二酸化塩素ラジカル(ClO2・)は水に難溶であるため、有機層中に溶解する。 Here, an embodiment of two-layer separation consisting of an aqueous layer containing chlorite ions (ClO 2 − ) and acid and an organic layer containing olefin polymer particles is described, but the method is limited to this embodiment. Do not mean. In the reaction vessel, the reaction system is divided into two layers, an aqueous layer (the aqueous phase) and an organic layer (the organic phase), which are in contact with each other only at the interface. One layer is the aqueous layer (said aqueous phase) and the other layer is the organic layer (said organic phase). Chlorite ions (ClO 2 − ) in the aqueous layer (aqueous phase) react with acid to generate chlorine dioxide radicals (ClO 2 .). Chlorine dioxide radicals (ClO 2 ·) are sparingly soluble in water and dissolve in the organic layer.
つぎに、二酸化塩素ラジカル(ClO2・)を含む有機層に少なくとも光照射することで、有機層中の二酸化塩素ラジカル(ClO2・)が分解して塩素ラジカル(Cl・)および酸素分子(O2)が発生する。これにより、有機層(有機相)中の基質(オレフィン重合体粒子)が酸化される。 Next, by irradiating at least the organic layer containing chlorine dioxide radicals (ClO 2 ·) with light, the chlorine dioxide radicals (ClO 2 ·) in the organic layer are decomposed into chlorine radicals (Cl ·) and oxygen molecules (O 2 ) occurs. This oxidizes the substrate (olefin polymer particles) in the organic layer (organic phase).
ただし、上記過程は推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。
なお、前記工程1において、有機相のみを含む一相反応系を使用する場合は、例えば、二酸化塩素ラジカルの発生源を含む水相で前記二酸化塩素ラジカルを発生させ、発生した前記二酸化塩素ラジカルを前記有機相に抽出した後、前記水相を除去し、前記二酸化塩素ラジカルを含む前記有機相を前記一相反応系として、前記工程1に供すればよい。この態様において、オレフィン重合体粒子(基質)は、前記二酸化塩素ラジカルの抽出に先立ち前記有機相中に添加してもよく、前記二酸化塩素ラジカルの抽出と同時に、または、抽出後に前記有機相中に添加してもよい。その後、前記水相と前記有機相とが分離され(前記有機相単独の)、かつ、例えば、前記有機相が前記オレフィン重合体粒子および前記二酸化塩素ラジカルを含む状態で、前述のように光照射を行なう。
However, the above process is an example of a presumed mechanism and does not limit the present invention.
In step 1, when a one-phase reaction system containing only an organic phase is used, for example, the chlorine dioxide radicals are generated in an aqueous phase containing a chlorine dioxide radical generation source, and the generated chlorine dioxide radicals are After extraction into the organic phase, the aqueous phase may be removed, and the organic phase containing the chlorine dioxide radical may be subjected to the step 1 as the one-phase reaction system. In this embodiment, olefin polymer particles (substrate) may be added into the organic phase prior to the extraction of the chlorine dioxide radicals, into the organic phase simultaneously with or after the extraction of the chlorine dioxide radicals. may be added. Thereafter, the aqueous phase and the organic phase are separated (the organic phase alone), and, for example, in a state in which the organic phase contains the olefin polymer particles and the chlorine dioxide radicals, light irradiation is performed as described above. do
便宜上、エタンの酸化反応を例としてエタノールが生成される推定メカニズム(機構)は、以下のように考えられる。まず、二酸化塩素ラジカルが光照射により分解されて塩素ラジカル(Cl・)と酸素分子(O2)が発生する。前記塩素ラジカルは、エタンに対して水素引き抜き剤として働いてエチルラジカル(CH3CH2・)を発生させる。そして、前記酸素分子が、前記エチルラジカルを酸化してエタノールを生成させる。ただし、これは、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。 For the sake of convenience, the presumed mechanism (mechanism) by which ethanol is produced is considered as follows, taking the oxidation reaction of ethane as an example. First, chlorine dioxide radicals are decomposed by light irradiation to generate chlorine radicals (Cl.) and oxygen molecules (O 2 ). The chlorine radical acts as a hydrogen abstracting agent for ethane to generate an ethyl radical ( CH3CH2 .). The oxygen molecules then oxidize the ethyl radicals to produce ethanol. However, this is an example of a presumed mechanism and does not limit the present invention.
本発明では、上記メカニズムにおける前記原料(基質)は、オレフィン重合体粒子であり、前記オレフィン重合体は、エタンなどと同様、炭素-水素単結合を有する構造を持つので、前述と同様の機構で反応が進行するものと推測出来る。しかも本発明に用いられる反応は、光を介して進行するので、光の当たった場所、すなわち主としてオレフィン重合体粒子表面を反応させることが期待される。この性質を利用すれば、仮に変性反応によってオレフィン重合体分子の切断や架橋が起こったとしても粒子表面付近にとどまり、オレフィン重合体粒子の強度等の性能に関わる粒子内部の性能への影響は最小限とできる可能性があるので、粒子強度などを保持するうえで有利である。 In the present invention, the raw material (substrate) in the above mechanism is olefin polymer particles, and the olefin polymer, like ethane, has a structure having a carbon-hydrogen single bond. It can be assumed that the reaction proceeds. Moreover, since the reaction used in the present invention proceeds via light, the reaction is expected to occur mainly at the sites exposed to light, that is, mainly at the surfaces of the olefin polymer particles. If this property is used, even if the olefin polymer molecule is cut or crosslinked by the modification reaction, it will remain near the particle surface, and the impact on the performance inside the particle, such as the strength of the olefin polymer particle, will be minimal. This is advantageous in terms of maintaining particle strength, etc.
また、光を粒子の片側だけに照射すれば、表面の半分だけ変性した粒子や、フォトマスクを使用すれば、特定の粒子だけ変性することも可能となり、変性粒子と未変性粒子の比率を自由に制御することもできると期待される。 In addition, if only one side of the particle is irradiated with light, it is possible to modify only half of the surface of the particle, or if a photomask is used, it is possible to modify only a specific particle. It is expected that it can also be controlled to
本発明の製造方法を用いれば、変性粒子を得ることが出来る(制御できる)割合は、ある特定の範囲の粒子全体を100%(個数基準または面積基準)として、好ましい下限値は、1%、5%、10%、20%、30%、50%の順に好ましく、好ましい上限値は100%であり、より好ましくは90%である。変性された粒子の範囲や、一粒子中の変性された面積は、例えば、極性を持つインクと前記粒子とを接触させた後、電子顕微鏡にて任意の数か所を観察し、インクが付着した粒子の数や、粒子中のインクが付着した面積を測定することで評価することができる。 By using the production method of the present invention, the proportion of modified particles that can be obtained (controlled) is 100% (number basis or area basis) of all particles in a certain range, and the preferred lower limit is 1%. The order of 5%, 10%, 20%, 30% and 50% is preferred, and the preferred upper limit is 100%, more preferably 90%. The range of denatured particles and the denatured area in one particle can be determined, for example, by contacting the particles with a polar ink and then observing any number of points with an electron microscope. It can be evaluated by measuring the number of particles and the area of the particles to which the ink adheres.
前記変性は、前記ラジカルに光が当たって発生する17族元素のラジカルを起点に反応が進行すると考えられる。当然ながら、当該ラジカルが原料である前記オレフィン重合体粒子と接触した部分で変性が起こると考えられる。 It is considered that the modification progresses with radicals of the group 17 element generated when the radicals are exposed to light as a starting point. As a matter of course, it is considered that modification occurs at the portion where the radical comes into contact with the raw material olefin polymer particles.
<回収工程>
さらに、前記工程1後、必要に応じて、前記変性粒子の回収工程を行なう。前記回収工程は、常法によって行われる。すなわち、変性粒子をろ過や遠心分離法で、他の成分や分散媒などから分離し、さらに前記の水または有機溶媒を用いて、数回洗浄操作を行ったのち、乾燥工程を経て目的物を得るのが好ましい方法である。
<Recovery process>
Further, after step 1, the step of recovering the modified particles is performed as necessary. The recovery step is performed by a conventional method. That is, the modified particles are separated from other components, dispersion medium, etc. by filtration or centrifugation, washed several times with water or an organic solvent, and then dried to obtain the desired product. It is the preferred method to obtain
《変性粒子》
前記変性により、前記ラジカルに含まれる原子(α)を含む官能基がオレフィン重合体粒子に導入される場合もあるが、空気中の酸素などの15族、16族元素を含む官能基が導入される場合もある。この際に、前記ラジカルに含まれる原子(β)もオレフィン重合体粒子に導入される可能性がある。本方法によれば、このように原子(β)もオレフィン重合体粒子に導入される場合があると考えられるため、本発明の変性粒子には、原子(β)の有する効果も期待できる場合がある。
《Modified Particle》
In some cases, the modification introduces a functional group containing the atom (α) contained in the radical into the olefin polymer particles. sometimes At this time, the atoms (β) contained in the radicals may also be introduced into the olefin polymer particles. According to this method, it is thought that the atom (β) may also be introduced into the olefin polymer particles in this way. Therefore, the effect of the atom (β) may also be expected in the modified particles of the present invention. be.
前記原子(α)を含む官能基としては、前記ラジカルが酸素を含む場合、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、-C(=O)OOH、および-O-O-が挙げられる。 As the functional group containing the atom (α), when the radical contains oxygen, for example, a hydroxy group, a carboxyl group, an aldehyde group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, -C(=O)OOH, and - OO- is included.
本方法を用いれば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルデヒド基、カルボニル基等に限定されず、17族元素、代表例として塩素も同時に基質であるオレフィン重合体粒子に導入させることができることがある。もちろん使用するラジカルの種類を変えることで、塩素だけでなく臭素やヨウ素の導入も可能である。前記ラジカルを用いて、アルカンなどの低分子炭化水素化合物を変性する場合、17族元素の導入が抑制されることが報告されているが、本方法によれば、17族元素も15,16族元素と併せて、オレフィン重合体粒子に導入できる場合がある。これは、メタンやエタンなどの低分子を変性する場合に比して、オレフィン重合体の炭素-水素結合の存在密度が高くなる傾向にあると考えられることや、ラジカルが重合体と相互作用を持つことで安定して寿命が長くなる可能性がその一因ではないかと本発明者らは考えている。ただ、この推測によって、本発明は制限されない。 If this method is used, it may be possible to simultaneously introduce not only a hydroxyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, a carbonyl group, etc. but also a group 17 element, typically chlorine, into the substrate olefin polymer particles. Of course, by changing the type of radical used, it is possible to introduce not only chlorine but also bromine and iodine. It has been reported that the introduction of group 17 elements is suppressed when modifying low-molecular-weight hydrocarbon compounds such as alkanes using the radicals. In some cases, it can be introduced into the olefin polymer particles together with the element. This is thought to be due to the fact that the existence density of carbon-hydrogen bonds in olefin polymers tends to be higher than in the case of modifying low-molecular substances such as methane and ethane, and that radicals do not interact with polymers. The present inventors believe that one of the reasons for this is the possibility that having a battery will stably extend its life. However, this speculation does not limit the present invention.
前記オレフィン重合体粒子に原子(β)が導入される場合、前記オレフィン重合体粒子に導入される、原子(α)の合計量[Cα]と、原子(β)の合計量[Cβ]との比率([Cα]/[Cβ])の下限値は、好ましくは、ゼロを超え、より好ましくは0.01、さらに好ましくは0.1、特に好ましくは0.5であり、上限値は、好ましくは5000、より好ましくは100、さらに好ましくは20である。前記の[Cα]、[Cβ]値は、XPS法によって特定される値である。測定は、製品名AXIS-Nova(KRATOS社製)を用い常法で実施される。 When the atoms (β) are introduced into the olefin polymer particles, the total amount [Cα] of the atoms (α) introduced into the olefin polymer particles and the total amount [Cβ] of the atoms (β) The lower limit of the ratio ([Cα]/[Cβ]) is preferably greater than zero, more preferably 0.01, still more preferably 0.1, particularly preferably 0.5, and the upper limit is preferably is 5000, more preferably 100, even more preferably 20. The above [Cα] and [Cβ] values are values specified by the XPS method. The measurement is carried out by a conventional method using the product name AXIS-Nova (manufactured by KRATOS).
前記表面とは、前記変性粒子の表面からの深さがその直径の1/10以下、より好ましくは1/20以下の領域をいう。この変性される部分の深さは、例えば、XPS法で確認することができる。 The surface refers to a region whose depth from the surface of the modified particle is 1/10 or less, more preferably 1/20 or less of the diameter. The depth of this denatured portion can be confirmed by, for example, the XPS method.
《用途》
本方法で得られる材料改質用変性粒子は、各種の用途に好ましく適用できることが期待される。本発明の変性粒子は、例えば、ウレタン系塗料、アクリル系塗料、スチレン系塗料等の塗料に、主として摺動性や耐久性を付与する改質剤として好適であると考えられる。また、本発明の変性粒子は、特に環境負荷の少ないとされる水系の塗料に用いても好適な分散性を示すことが期待できると共に、他の成分との界面強度の改善も期待できる。また、本発明の変性粒子を構成するオレフィン重合体の分子量低下が少なく、耐久性などの面での改善も期待できる。
《Application》
The modified particles for material modification obtained by this method are expected to be preferably applied to various uses. The modified particles of the present invention are considered to be suitable as modifiers that mainly impart slidability and durability to paints such as urethane paints, acrylic paints and styrene paints. In addition, the modified particles of the present invention can be expected to exhibit suitable dispersibility even when used in water-based paints, which are considered to have a low environmental load, and can also be expected to improve the interfacial strength with other components. In addition, the molecular weight of the olefin polymer constituting the modified particles of the present invention is small, and improvement in terms of durability can be expected.
本発明の変性粒子の他の期待される用途としては、ワイパーブレードのゴムやウェザーストリップスポンジ、グラスランチャネルなどのゴム製品やブレーキパッド材料と併用する改質剤がある。これらの材料は、主材であるゴム成分のほかに色素やフィラー等の多種類の成分を併用する場合が多い。本発明の変性粒子は、これらの成分との親和性に優れ、分散性や界面強度にも優れることが期待される。 Other anticipated uses for the modified particles of the present invention include modifiers for wiper blade rubber, weatherstrip sponges, rubber products such as glass run channels, and brake pad materials. These materials often contain various components such as pigments and fillers in addition to the main rubber component. The modified particles of the present invention are expected to have excellent affinity with these components, as well as excellent dispersibility and interfacial strength.
また、本発明の製造方法で得られる変性粒子は、粒子自身同士の相互作用も改善される可能性が高いので、焼結フィルターなどのフィルターの原料としても好適であると期待される。 In addition, since the modified particles obtained by the production method of the present invention are highly likely to have improved interaction between particles themselves, it is expected to be suitable as a raw material for filters such as sintered filters.
以下、本発明の実施例について説明する。ただし、本発明は、以下の実施例には限定されない。
[ポリエチレン粉体の酸化]
スターラーバーを入れた110mLスクリュー管に、亜塩素酸ナトリウム(Sigma-Aldrich社製)0.4gと、超純水25mLとを入れ、亜塩素酸ナトリウムを超純水に溶解させた。次いで、パーフルオロヘキサン(Oakwood chemical社製)25mLと35~37%塩酸水溶液(富士フイルム和光純薬社製)60μLとを加えた。この条件で二酸化塩素ラジカルが発生することは事前にESR法で確認しておいた。この混合液にポリエチレン粉体(ミペロン(登録商標)、三井化学社製)1gをさらに加え、スターラーで全体を攪拌した。本実施例で用いたミペロンは、コールターカウンター法で測定した平均粒子径が25μm、135℃、デカリン中で測定した極限粘度[η]は13dl/gであった。撹拌後、図1に示すように、スクリュー管内の液は水層と有機層との2層に層分離していた。このポリエチレン粉体を含む溶液に対して、パイフォトニクス(株)製ホロライト・カク DC12Vで波長365nmの光を5分間、20mW/cm2の条件で、図1に示すように前記スクリュー管の横から照射した。その後、ポリエチレン粉体を含む液体を濾紙を設置した漏斗で濾過し、水と分離するパーフルオロヘキサン及び混合液によって着色した黄色が目視で落ちるまでポリエチレン粉体を超純水で洗浄した。次いで、ポリエチレン粉体を減圧乾燥し、実施例1の酸化ポリエチレン粉体を得た。
Examples of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the following examples.
[Oxidation of polyethylene powder]
0.4 g of sodium chlorite (manufactured by Sigma-Aldrich) and 25 mL of ultrapure water were added to a 110 mL screw tube containing a stirrer bar to dissolve sodium chlorite in the ultrapure water. Then, 25 mL of perfluorohexane (manufactured by Oakwood Chemical) and 60 μL of 35-37% hydrochloric acid aqueous solution (manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added. It was previously confirmed by the ESR method that chlorine dioxide radicals were generated under these conditions. 1 g of polyethylene powder (Mipelon (registered trademark), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was further added to this mixed solution, and the whole was stirred with a stirrer. The miperone used in this example had an average particle size of 25 μm as measured by the Coulter counter method, a temperature of 135° C., and an intrinsic viscosity [η] of 13 dl/g as measured in decalin. After stirring, as shown in FIG. 1, the liquid in the screw tube was separated into two layers, an aqueous layer and an organic layer. The solution containing the polyethylene powder was irradiated with light of a wavelength of 365 nm at 20 mW/cm 2 for 5 minutes at Hololite Kaku manufactured by Pi Photonics Co., Ltd. from the side of the screw tube as shown in FIG. irradiated. Thereafter, the liquid containing the polyethylene powder was filtered through a funnel equipped with filter paper, and the polyethylene powder was washed with ultrapure water until the yellow colored by the mixed liquid and perfluorohexane separated from water disappeared visually. Then, the polyethylene powder was dried under reduced pressure to obtain the polyethylene oxide powder of Example 1.
[ポリエチレン粉体の電子線照射]
ポリエチレン粉体(ミペロン(登録商標)、三井化学社製)100gに照射線量200kGyの電子線を照射することによって、電子線を照射したポリエチレン粉体(電子線照射品)を得た。
[Electron beam irradiation of polyethylene powder]
By irradiating 100 g of polyethylene powder (Mipelon (registered trademark), manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) with an electron beam at an irradiation dose of 200 kGy, an electron beam-irradiated polyethylene powder (electron beam irradiated product) was obtained.
[ポリエチレン粉体の親水性評価]
未処理のポリエチレン粉体(参考例1)、電子線を照射したポリエチレン粉体(参考例2)、および酸化ポリエチレン粉体(実施例1)をそれぞれ水が入ったスクリュー管に入れ、攪拌直後のポリエチレン粉体の分散状態(図2参照)を目視で確認した。結果を表1に示す。尚、用いたポリエチレン紛体は、いずれも前記のミペロンである。
[Hydrophilic evaluation of polyethylene powder]
Untreated polyethylene powder (Reference Example 1), electron beam-irradiated polyethylene powder (Reference Example 2), and oxidized polyethylene powder (Example 1) were each placed in a screw tube containing water, and immediately after stirring. The state of dispersion of the polyethylene powder (see FIG. 2) was visually confirmed. Table 1 shows the results. In addition, the polyethylene powder used was the above-mentioned MIPELON.
Claims (5)
前記15族元素および16族元素から選ばれる元素が酸素であり、
前記17族元素が塩素、臭素またはヨウ素であり、
前記工程1が、
平均粒子径が1~200μmのオレフィン重合体粒子と前記ラジカルとが共存する環境において、
前記ラジカルに光を照射して前記オレフィン重合体粒子を変性する工程を含む
材料改質用変性粒子の製造方法。 Atoms (α) of elements selected from Group 15 and Group 16 elements and atoms (β) of Group 17 elements are contained in one molecule in an atomic number ratio of atoms (α): atoms (β) = 1:1. comprising a step 1 of irradiating light to the radicals contained in a ratio of ~4:1;
the element selected from the group 15 elements and group 16 elements is oxygen,
The Group 17 element is chlorine, bromine or iodine,
The step 1 is
In an environment where olefin polymer particles having an average particle size of 1 to 200 μm and the radicals coexist,
a step of modifying the olefin polymer particles by irradiating the radicals with light;
A method for producing modified particles for material modification.
The method for producing modified particles for material modification according to any one of claims 1 to 4 , wherein the modified particles for material modification are paint modification modified particles.
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