JP7145476B2 - 複層ガラス剥離装置及び剥離方法 - Google Patents
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Description
複層ガラス2は、通常、第一のガラス板21aと第2のガラス板21bとを一次シーリング材231によりスペーサー22を介して接着し、その周囲に二次シーリング材232が充填されたものである(以下、一次シーリング材231と二次シーリング材232とを合わせて、単にシーリング材23ともいう)。第一のガラス板21aと第二のガラス板21bとの間は中空層であり、乾燥空気などが密封されている。
一次シーリング材231は、中空層の乾燥度を維持するために、透湿抵抗が高いブチル系接着剤等が用いられる。二次シーリング材232は、複層ガラスが使用される地域の気候、設置場所の環境等により、シリコーン系接着剤、ポリサルファイド系接着剤、ホットメルト系接着剤、ウレタン系接着剤等が用いられるが、取扱性に優れるシリコーン系接着剤とポリサルファイド系接着剤が一般的である。
特許文献2に記載された方法は、レーザー光をスペーサーの幅方向に往復(スキャン)させながら、スペーサーの長さ方向に沿って走査するため、高速化に制限がある。また、光学系が絶えず駆動しているため、複層ガラスを走査するための駆動系や装置外からの振動があると照射位置精度が低くなり、剥離に悪影響が出る可能性がある。さらに、特許文献2では、レーザー強度の指標として「ビーム強度」(以後、一般的な用語である「ピークパワー密度」という)という単位面積あたりのレーザーパルスの高さを使用しているが、本発明者らの検討によれば、複層ガラスの剥離条件に寄与するのはピークパワー密度ではなく、単位面積あたりのエネルギー密度(フルエンス)である。そのため、ピークパワー密度によってレーザー光の照射条件を設定すると、ガラス板が剥離できない場合や、照射エネルギー量が過剰となる場合がある。照射エネルギー量が過剰となると、封着材の分解により発生するガス量が増え、このガスがレーザーの熱で引火、爆発する危険性がある。
1.レーザー発振器と、少なくとも1つのレンズを備える第一の光学系とを有し、
前記第一の光学系が、前記レーザー発振器から出射される第一のレーザー光を複層ガラス内面のシーリング材に照射し、
前記第一のレーザー光が、前記複層ガラスのスペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射されることを特徴とする複層ガラス剥離装置。
2.前記レーザー発振器の発振波長が、330nm以上2800nm以下であることを特徴とする1.に記載の複層ガラス剥離装置。
3.前記第一のレーザー光の複層ガラス表面におけるエネルギー密度が4J/cm2以上840J/cm2以下であることを特徴とする1.または2.に記載の複層ガラス剥離装置。
4.前記第一のレーザー光の前記複層ガラス表面における照射領域の、前記スペーサーの長さ方向と平行な方向の幅をd1、前記スペーサーの幅方向と平行な方向の幅をd2としたとき、d1<d2であることを特徴とする1.~3.のいずれかに記載の複層ガラス剥離装置。
5.前記第一のレーザー光の照射領域の中心が、一次シーリング材上に位置することを特徴とする1.~4.のいずれかに記載の複層ガラス剥離装置。
6.第二の光学系を有し、
前記第二の光学系が、第二のレーザー光を前記複層ガラスの中央側から、前記複層ガラスを構成するガラス板の側面に照射することを特徴とする1.~5.のいずれかに記載の複層ガラス剥離装置。
7.前記第一の光学系による照射領域と、前記第二の光学系による照射領域とが重複しないことを特徴とする1.~6.のいずれかに記載の複層ガラス剥離装置。
8.第一のレーザー光を、複層ガラスの面に対して垂直な方向から、前記複層ガラスのシーリング材に照射し、
前記第一のレーザー光が、前記複層ガラスのスペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射することにより、前記シーリング材の接着力を低下させることを特徴とする複層ガラスからのガラス板剥離方法。
9.第二のレーザー光を前記複層ガラスの中央側から、前記複層ガラスの側面に照射することを特徴とする8.に記載のガラス板剥離方法。
なお、本発明の複層ガラス剥離装置は、レーザー発振器と光学系以外に、搬送装置、シールド、センサ、集塵機、排気装置、装置内部を監視するための窓もしくはカメラ等を備えることができる。
以下、本発明の複層ガラス剥離装置と、ガラス板剥離方法を、図1、2に示す一実施態様である複層ガラス剥離装置1を例に説明する。
一実施態様である複層ガラス剥離装置において、第一の光学系13は、凸レンズ131とシリンドリカルレンズ132とを備える。凸レンズ131とシリンドリカルレンズ132は、光軸方向に別々に移動可能であり、それぞれを移動させることにより、第一のレーザー光L1の照射領域の大きさや扁平率を調整することができる。
一実施態様である複層ガラス剥離装置において、第二の光学系14は、ミラー143と凸レンズ141とシリンドリカルレンズ142を備える。凸レンズ141とシリンドリカルレンズ142は、光軸方向に別々に移動可能であり、それぞれを移動させることにより、第二のレーザー光L2の照射領域の大きさや扁平率を調整することができる。
レーザー加工で一般的に使用される3つの波長(10.6μm(CO2レーザー)、1064nm(YAGレーザー)、532nm(YAGレーザーの第2高調波))のレーザー光を、一次シーリング材がブチルゴム、二次シーリング材がポリサルファイドであるタイプAのフロートガラスをガラス板とする複層ガラスのシーリング材に、 エネルギー密度3J/cm2の条件で照射した。
ガラスの下に5mJ/cm2以上のエネルギー密度で照射痕が残るバーンペーパーを敷いて、ガラス越しに10.6μmの波長のレーザー光を120J/cm2のエネルギー密度で照射したところ、バーンペーパーに照射痕は残らず、10.6μmの波長のレーザーは、120J/cm2のエネルギー密度で照射しても、5mJ/cm2すら透過しないことが確認できた。
フロートガラス(厚さ:3mm)、熱線吸収ガラス(グリーン)(厚さ:5mm)、Low-Eガラス(厚さ:5mm)の、532nmと1064nmの波長のレーザー光の透過率をパワーメーター(FL250A-BB-35、株式会社オフィールジャパン)で測定した。透過率は、出力を1Wに固定したレーザーをパワーメーターに照射し、ガラスの有無による測定値から計算した。
結果を表1に示す。
それに対し、波長1064nmのレーザー光は、熱線吸収ガラスとLow-Eガラスでの透過率が40%以下と小さかった。
波長1064nmのレーザー光を第一のレーザー光として、複層ガラスの面に対して垂直な方向からシーリング材に照射した。実験に使用した複層ガラスは、ガラス板がフロートガラス、一次シーリング材がブチルゴム、二次シーリング材がポリサルファイドのタイプAである。照射条件は、レーザー1発当たりの複層ガラス表面におけるエネルギー密度を74J/cm2~1.7kJ/cm2(ピークパワー密度は368kW/cm2~1.7MW/cm2)まで変化させ、シーリング材にドット形状で1列のみ照射し、照射時のシーリング材の様子を目視で観察した。
実験の結果、エネルギー密度74J/cm2~840J/cm2のレーザー光を照射すると、エネルギー密度が高くなるにつれて、ススや分解ガスの発生が多くなることが視認できた。エネルギー密度が1.7kJ/cm2のレーザー光を照射すると、数発照射した後に発生したガスに引火したのが確認できた。
このことから、レーザー光の840J/cm2以下であることが、引火、爆発を防ぐために好ましいことが確認できた。
波長1064nm、532nmのレーザー光を第一のレーザー光として、様々な複層ガラスの面に対して垂直な方向から、複層ガラスのシーリング材に照射して、ガラス板の剥離を行った。
実験に使用した複層ガラスは、10cm角のサンプルであり、一次シーリング材がブチルゴム、二次シーリング材がポリサルファイドのタイプAと、一次シーリング材がブチルゴム、二次シーリング材がシリコーンのタイプBである。
532nmのレーザー光は、エネルギー密度1~17J/cm2として、パルス幅10ns、周波数20kHz、照射間隔50μm、照射形状直径39μmの円形で、スペーサーの幅方向に50μm間隔で照射した後、スペーサーの長さ方向に50μmずらして全面に照射した。
複層ガラスからは、アルミやゼオライトが付着することなくガラス板を剥離することができた。剥離したままの状態でのガラス板の重量を測定し、残留有機物を取り除いた後のガラス板の重量を測定し、この重量差から算出した残留有機物量は1m角のガラス換算で波長1064nmのレーザー光照射時に236ppm以下、波長532nmのレーザー光照射時に200ppm以下であった。なお、剥離したガラスには、有機物として主にシーリング材の加熱で生じたスス、接着部に残留したシーリング、ガラス板側面に付着した二次シーリング材が付着しているが、そのほとんどがガラス板側面に付着した二次シーリング材であった。
上記実施例4と同様にして、波長1064nmのレーザー光を第一のレーザー光として、複層ガラス表面におけるエネルギー密度5.7J/cm2で複層ガラス(タイプA、フロートガラス)にスペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射した(n=10)。
さらに、前記第一のレーザー光に加え、波長1064nmのレーザー光を第二のレーザー光として複層ガラス表面におけるエネルギー密度9.7J/cm2(ガラス板側面でのエネルギー密度2.8J/cm2)、パルス幅0.5ms、周波数10Hz、照射間隔3mm、走査速度30mm/s、照射形状直径7.5mmの円形(光軸と垂直な断面での形状)、照射角度垂直方向から60°で、スペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射した(n=10)。なお、第二のレーザー光は、斜めからの入射と、界面での屈折により、ガラス板側面での照射領域は楕円となっている。
11 レーザー発振器
12 ビームスプリッタ
13 第一の光学系
131 凸レンズ
132 シリンドリカルレンズ
14 第二の光学系
141 凸レンズ
142 シリンドリカルレンズ
143 ミラー
L0 レーザー光
L1 第一のレーザー光
L2 第二のレーザー光
2 複層ガラス
21a 第一のガラス板
21b 第二のガラス板
22 スペーサー
23 シーリング材
231 一次シーリング材
232 二次シーリング材
Claims (5)
- レーザー発振器と、少なくとも1つのレンズを備える第一の光学系と、第二の光学系とを有し、
前記第一の光学系が、前記レーザー発振器から出射される第一のレーザー光を複層ガラス内面のシーリング材に照射し、
前記第二の光学系が、前記レーザー発振器と同一または異なるレーザー発振器から照射され、光軸と垂直な断面での形状が円形である第二のレーザー光を前記複層ガラスの中央側から、前記複層ガラスを構成するガラス板の側面の二次シーリング材に照射し、
前記第一及び第二のレーザー光が、前記複層ガラスのスペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射され、
前記第一のレーザー光の前記複層ガラス表面における照射領域の、前記スペーサーの長さ方向と平行な方向の幅をd1、前記スペーサーの幅方向と平行な方向の幅をd2としたとき、d1<d2であり、
前記第一の光学系による照射領域と、前記第二の光学系による照射領域とが重複しないことを特徴とする複層ガラス剥離装置。 - 前記レーザー発振器の発振波長が、330nm以上2800nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の複層ガラス剥離装置。
- 前記第一のレーザー光の複層ガラス表面におけるエネルギー密度が4J/cm2以上840J/cm2以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の複層ガラス剥離装置。
- 前記第一のレーザー光の照射領域の中心が、複層ガラスのガラス板とスペーサーとの間に位置する一次シーリング材上に位置することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の複層ガラス剥離装置。
- 第一のレーザー光を、複層ガラスの面に対して垂直な方向から、前記複層ガラスのシーリング材に照射し、
光軸と垂直な断面での形状が円形である第二のレーザー光を前記複層ガラスの中央側から、前記複層ガラスを構成するガラス板の側面の二次シーリング材に照射し、
前記第一及び第二のレーザー光が、前記複層ガラスのスペーサーの長さ方向と平行な1軸方向にのみ走査しながら照射することにより、前記シーリング材及び前記二次シーリング材の接着力を低下させ、
前記第一のレーザー光の前記複層ガラス表面における照射領域の、前記スペーサーの長さ方向と平行な方向の幅をd1、前記スペーサーの幅方向と平行な方向の幅をd2としたとき、d1<d2であり、
前記第一の光学系による照射領域と、前記第二の光学系による照射領域とが重複しないことを特徴とする複層ガラスからのガラス板剥離方法。
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