Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7149983B2 - Products containing base films, composite films, and composite films - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7149983B2 - Products containing base films, composite films, and composite films - Google Patents

Products containing base films, composite films, and composite films Download PDF

Info

Publication number
JP7149983B2
JP7149983B2 JP2020090763A JP2020090763A JP7149983B2 JP 7149983 B2 JP7149983 B2 JP 7149983B2 JP 2020090763 A JP2020090763 A JP 2020090763A JP 2020090763 A JP2020090763 A JP 2020090763A JP 7149983 B2 JP7149983 B2 JP 7149983B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
filler
base film
particles
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020090763A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021109955A (en
Inventor
栄貴 楊
紹禹 徐
兆路 夏
楽 呂
梦丹 蔡
明輝 王
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Radi Cool Advanced Energy Technologies Co Ltd
Original Assignee
Ningbo Radi Cool Advanced Energy Technologies Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201911425218.0A external-priority patent/CN111114031B/en
Priority claimed from CN202010076462.7A external-priority patent/CN111267432A/en
Application filed by Ningbo Radi Cool Advanced Energy Technologies Co Ltd filed Critical Ningbo Radi Cool Advanced Energy Technologies Co Ltd
Publication of JP2021109955A publication Critical patent/JP2021109955A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7149983B2 publication Critical patent/JP7149983B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

<関連出願>
本願は、2019年12月31日に出願された、出願番号が201911425218.0、発明の名称が「放射冷却フィルム、放射冷却複合フィルム、放射冷却製品」である中国特許出願の優先権、及び2020年1月23日に出願された、出願番号が202010076462.7、発明の名称が「放射冷却フィルム」である中国特許出願の優先権を主張しており、その内容全体は引用により本願に組み込まれる。
<Related application>
This application claims priority to a Chinese patent application entitled "Radiative Cooling Film, Radiative Cooling Composite Film, Radiative Cooling Product", filed on December 31, 2019, with Application No. 201911425218.0, and 2020 It claims priority from a Chinese patent application entitled "Radiative Cooling Film", application number 202010076462.7, filed on Jan. 23, 2009, the entire content of which is incorporated herein by reference. .

本願は省エネルギーの技術分野に関し、特にベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品に関する。 TECHNICAL FIELD The present application relates to the technical field of energy saving, and in particular to base films, composite films, and products containing composite films.

省エネルギーの技術分野では、通常、放射冷却機能を有するフィルムを物体の表面に貼着することで、太陽光を反射し、大気の窓の波長域の赤外線で放射する方法により熱を宇宙空間に伝達し、温度低下の目的を実現する。しかしながら、放射冷却機能を有する従来の薄膜は、通常、単一の高分子材料で製造され、又は高分子材料に少量の充填材が添加され、ヘイズはわずか1%前後であり、反射層に適用されると、鏡面反射が顕著であり、光害を引き起こしやすい。 In the field of energy-saving technology, a film with radiative cooling function is usually attached to the surface of an object to reflect sunlight and transmit heat to outer space by radiating infrared rays in the wavelength range of windows in the atmosphere. to achieve the purpose of temperature reduction. However, the conventional thin film with radiative cooling function is usually made of a single polymer material, or a small amount of filler is added to the polymer material, and the haze is only around 1%, which is applied to the reflective layer. If so, the specular reflection is noticeable and tends to cause light pollution.

本願の様々な実施例によれば、ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品を提供する。 According to various embodiments of the present application, base films, composite films, and products including composite films are provided.

前記ベースフィルムは第1層及び前記第1層に分散する第1充填材を含み、前記第1層の材料の屈折率をn(1.3-1.7)とし、前記第1充填材の屈折率をmとし、nとmの差をxとすると、xの絶対値は0.0005以上であり、前記ベースフィルムは7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500nmの波長域での熱反射率が10%以上であり、光沢度が20GU以下である。 The base film includes a first layer and a first filler dispersed in the first layer, wherein n (1.3-1.7) is a refractive index of the material of the first layer, and where m is the refractive index and x is the difference between n and m, the absolute value of x is 0.0005 or more, and the base film has an emissivity of 80% or more at an atmospheric window of 7 μm to 14 μm, It has a heat reflectance of 10% or more in a wavelength range of 300 nm to 2500 nm and a glossiness of 20 GU or less.

上記ベースフィルムにおいて、第1層の材料と第1充填材の屈折率の関係を調整することにより、ベースフィルム内部に入射した入射光がベースフィルムにおいて複数回屈折でき、それにより、ベースフィルムのヘイズを増加させるという目的を実現し、さらにベースフィルムの光沢度を低下させ、光害の発生を回避又は低減することができる。また、ベースフィルムの高い放射率及び優れた温度低下効果を保証する。 In the above base film, by adjusting the refractive index relationship between the material of the first layer and the first filler, the incident light entering the inside of the base film can be refracted multiple times in the base film, thereby reducing the haze of the base film. can achieve the purpose of increasing , and further reduce the glossiness of the base film to avoid or reduce the occurrence of light pollution. It also ensures a high emissivity of the base film and an excellent temperature reduction effect.

一実施例では、前記ベースフィルムは前記第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層をさらに含み、前記第1層、前記第2層、及び前記第3層は共押出成形され、前記第2層と前記第1層の厚みの比は1:1-1:20であり、前記第3層と前記第1層の厚みの比は1:1-1:20である。 In one embodiment, the base film further comprises a second layer and a third layer provided on opposite sides of the first layer, wherein the first layer, the second layer and the third layer are co-extruded, the thickness ratio of said second layer and said first layer is 1:1-1:20, and the thickness ratio of said third layer and said first layer is 1:1-1:20 is.

一実施例では、前記第1層の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the material of the first layer comprises at least one of polyesters, polyacrylates, polyamides, polyurethanes, polyolefins, fluoroplastics.

一実施例では、前記ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステルのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアクリレート類はアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンプラスチック、ポリメチルメタクリレートのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアミド類はナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ナイロン1010のうちの少なくとも1種を含み、前記ポリオレフィン類はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)のうちの少なくとも1種を含み、前記フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体のうちの少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the polyesters include at least one of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate glycol, polyethylene terephthalate-1,4-cyclohexanedimethanol ester, and the polyacrylates are acrylonitrile. -butadiene-styrene plastic, polymethyl methacrylate, said polyamides including at least one of nylon 6, nylon 66, nylon 12, nylon 1010, said polyolefins comprising polyethylene, polypropylene, At least one of poly(4-methyl-1-pentene) is included, and the fluororesin is selected from tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polyvinylidene fluoride, and ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer. At least one type is included.

一実施例では、前記第2層の材料及び前記第3層の材料はいずれも前記第1層の材料と同じである。 In one embodiment, both the material of the second layer and the material of the third layer are the same as the material of the first layer.

一実施例では、前記第1充填材は有機充填材、無機充填材のうちの少なくとも1種を含み、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%-20%である。 In one embodiment, the first filler includes at least one of an organic filler and an inorganic filler, and the mass percentage of the first filler in the first layer is 2%-20%.

一実施例では、前記第1充填材は有機充填材であり、xの絶対値は0.05以上であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%-5%であり、前記有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the first filler is an organic filler, the absolute value of x is greater than or equal to 0.05, and the mass percentage of the first filler in the first layer is 2%-5%. , the organic filler includes at least one of polyacrylate particles, polystyrene particles, polyurethane particles, polymethyl methacrylate particles, and epoxy resin particles.

一実施例では、前記有機充填材の融点は前記第1層の材料の融点より高い。 In one embodiment, the melting point of the organic filler is higher than the melting point of the material of the first layer.

一実施例では、前記有機充填材は中空充填材である。 In one embodiment, the organic filler is a hollow filler.

一実施例では、前記第1充填材は無機充填材であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は3%以上であり、前記無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the first filler is an inorganic filler, the mass percentage of the first filler in the first layer is 3% or more, and the inorganic filler is titanium nitride particles, titanium dioxide particles, It contains at least one of silicon carbide particles, silica particles, barium sulfate particles, calcium sulfate particles, and calcium carbonate particles.

一実施例では、前記第1層はセルを含む。 In one embodiment, the first layer includes cells.

一実施例では、前記第1充填材の粒径は1μm-20μmである。 In one embodiment, the particle size of the first filler is 1 μm-20 μm.

一実施例では、前記第1層の厚みは25μm以上であり、前記第2層及び前記第3層の厚みはいずれも5μm以上である。 In one embodiment, the thickness of the first layer is 25 μm or more, and the thickness of each of the second layer and the third layer is 5 μm or more.

一実施例では、前記第2層に第2充填材がさらに分散し、前記第2層における前記第2充填材の質量百分率は0.5%-2%であり、及び/又は、前記第3層に第3充填材がさらに分散し、前記第3層における前記第3充填材の質量百分率は0.5%-2%である。 In one embodiment, the second layer further comprises a second filler dispersed therein, wherein the mass percentage of the second filler in the second layer is 0.5%-2% and/or the third A third filler is further dispersed in the layer, and the weight percentage of said third filler in said third layer is 0.5%-2%.

一実施例では、前記第2層の光透過率は82%以上であり、前記第2層の水蒸気透過率は10g/(m・24h)以下であり、及び/又は、前記第3層の光透過率は82%以上であり、前記第3層の水蒸気透過率は10g/(m・24h)以下である。 In one embodiment, the light transmittance of the second layer is 82% or more, the water vapor transmission rate of the second layer is 10 g/(m 2 ·24 h) or less, and/or the third layer The light transmittance is 82% or more, and the water vapor transmission rate of the third layer is 10 g/(m 2 ·24 h) or less.

一実施例では、前記第2層は紫外線吸収剤をさらに含み、前記第2層の紫外線遮断率は80%以上であり、及び、前記第2層は酸化防止剤をさらに含み、前記第2層における前記酸化防止剤と前記紫外線吸収剤の質量百分率の合計は0.5%-4%である。 In one embodiment, the second layer further includes an ultraviolet absorber, the second layer has an ultraviolet blocking rate of 80% or more, and the second layer further includes an antioxidant. The sum of the mass percentages of the antioxidant and the UV absorber in is 0.5%-4%.

一実施例では、前記ベースフィルムの光透過率は82%以上である。 In one embodiment, the base film has a light transmittance of 82% or more.

前記複合フィルムは上記ベースフィルムと、前記ベースフィルムに順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層、及び基材層を含み、前記複合フィルムは光沢度が70GU以下であり、7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500nmの波長域での熱反射率が85%以上である。 The composite film includes the base film, a reflective film, a second adhesive layer, and a substrate layer laminated in order on the base film, and the composite film has a glossiness of 70 GU or less, It has an emissivity of 80% or more at a 14 μm atmospheric window and a heat reflectance of 85% or more in the wavelength range of 300 nm to 2500 nm.

上記ベースフィルムを基礎として、反射フィルムを組み合わせることで、取得された複合フィルムに優れた反射率を与え、さらに温度低下効果を向上させることができる。従って、複合フィルムを省エネルギー建材、光起電産業、屋外製品等の分野に適用すると、優れた温度低下効果を有するだけではなく、光沢度が低く、光害の発生を効果的に回避又は低減することができる。 Based on the above base film, the reflective film can be combined to provide the resulting composite film with excellent reflectance and further improve the temperature reduction effect. Therefore, when the composite film is applied to the fields of energy-saving building materials, photovoltaic industry, outdoor products, etc., it not only has excellent temperature reduction effect, but also has low glossiness, effectively avoiding or reducing the occurrence of light pollution. be able to.

一実施例では、前記反射フィルムの材料は金属材料及び/又はセラミック材料である。 In one embodiment, the material of the reflective film is metallic material and/or ceramic material.

上記複合フィルムを含む前記製品は、基体と、前記基体の表面に順に積層して設けられた第1貼着層及び複合フィルムとを含む。 The product including the composite film includes a substrate, and a first adhesive layer and a composite film laminated in order on the surface of the substrate.

上記複合フィルムを含む製品は、優れた温度低下効果を有するとともに、光沢度が低く、光害の発生を効果的に回避又は低減することができる。 The product containing the above composite film has excellent temperature lowering effect, low glossiness, and can effectively avoid or reduce the occurrence of light pollution.

一実施例では、前記基体は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the substrate comprises at least one of metal, plastic, glass, rubber, pitch, cement, fabric.

本明細書に開示されている発明の実施例及び/又は例をよりよく説明し図示するために、1つ以上の添付図面を参照してもよい。添付図面を説明するために使用される追加の詳細又は例は、開示された発明、現在説明されている実施例及び/又は例及びこれらの発明を理解する最良の形態の1つの範囲を限定するものとして考えられるべきではない。
本願のベースフィルムの第1実施形態の構造模式図である。 本願のベースフィルムの第2実施形態の構造模式図である。 本願のベースフィルムの第3実施形態の構造模式図である。 本願の複合フィルムの構造模式図である。 本願の複合フィルムを含む製品の構造模式図である。 本願の産業応用事例1のボックス型電気変圧器における高圧キャビネットの中央部の温度試験の比較図である。 本願の産業応用事例1のボックス型電気変圧器における変圧器の中央部の温度試験の比較図である。 本願の産業応用事例1のボックス型電気変圧器における低電圧配電キャビネットの中央部の温度試験の比較図である。 本願の産業応用事例2のモデルハウスの模式図である。 本願の産業応用事例2の温度試験の比較図である。
Reference may be made to one or more of the accompanying drawings to better describe and illustrate the inventive embodiments and/or examples disclosed herein. Additional details or examples used to explain the accompanying drawings limit the scope of the disclosed invention, the presently described embodiments and/or examples, and one of the best modes of understanding these inventions. should not be considered as
1 is a structural schematic diagram of a first embodiment of a base film of the present application; FIG. FIG. 4 is a structural schematic diagram of the second embodiment of the base film of the present application; FIG. 3 is a structural schematic diagram of the third embodiment of the base film of the present application; 1 is a structural schematic diagram of a composite film of the present application; FIG. 1 is a structural schematic diagram of a product containing the composite film of the present application; FIG. FIG. 4 is a comparison diagram of a temperature test of the central portion of the high-voltage cabinet in the box-type electric transformer of Industrial Application Example 1 of the present application; FIG. 4 is a comparison diagram of a temperature test of the central portion of the box type electric transformer of Industrial Application Example 1 of the present application. FIG. 4 is a comparison diagram of the temperature test of the central part of the low-voltage distribution cabinet in the box-type electric transformer of Industrial Application Example 1 of the present application; It is a schematic diagram of the model house of the industrial application example 2 of this application. It is a comparison diagram of the temperature test of the industrial application example 2 of this application.

以下、本願により提供されるベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品をさらに説明する。 The base films, composite films, and products containing the composite films provided by the present application are further described below.

本願では、光沢度の測定は研磨ガラスを参照標準として光の表面反射に基づいて行われる。表面で反射される光は、入射角と表面の性質に依存する。光沢度は低光沢度、半光沢度又は高光沢度に分類される。 In the present application, gloss measurements are based on surface reflection of light using polished glass as a reference standard. Light reflected from a surface depends on the angle of incidence and the nature of the surface. Gloss is classified as low gloss, semi-gloss or high gloss.

本願では、国家標準GB/T13891-2008に準拠して各製品又はサンプルの光沢度をテストし、60°の幾何学的条件でサンプルをテストし、テスト結果が70GUより大きい場合、20°の幾何学的条件でさらにテストしてその解像度を向上させる。それに応じて、テスト結果が10GUより小さい場合、85°の幾何学的条件でさらにテストしてその解像度を向上させる。60°の幾何学的条件でサンプルをテストした結果が10GU-70GUである場合、「半光沢度」と呼ばれ、結果が10GUより小さい場合、「低光沢度」と呼ばれ、結果が70GUより大きい場合、「高光沢度」と呼ばれる。 In this application, we test the gloss of each product or sample according to the national standard GB/T13891-2008, test the sample at 60° geometric condition, and if the test result is greater than 70GU, 20° geometric further test in scientific conditions to improve its resolution. Accordingly, if the test result is less than 10 GU, further test at 85° geometric condition to improve its resolution. If the sample is tested at 60° geometry and the result is 10GU-70GU, it is called "semi-gloss" and if the result is less than 10GU, it is called "low gloss" and the result is less than 70GU. If it is large, it is called "high gloss".

図1に示すとおり、本願により提供される第1実施形態のベースフィルム21は、第1層211及び第1層211に分散する第1充填材212を含む。第1層211の材料の屈折率をn(1.3-1.7)とし、第1充填材212の屈折率をmとし、nとmの差をxとすると、xの絶対値は0.0005以上である。ベースフィルム21は、7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500nmの波長域での熱反射率が10%以上であり、光沢度が20GU以下である。 As shown in FIG. 1 , the base film 21 of the first embodiment provided by the present application includes a first layer 211 and a first filler 212 dispersed in the first layer 211 . If the refractive index of the material of the first layer 211 is n (1.3-1.7), the refractive index of the first filler 212 is m, and the difference between n and m is x, the absolute value of x is 0. 0.0005 or greater. The base film 21 has an emissivity of 80% or more at an atmospheric window of 7 μm to 14 μm, a heat reflectance of 10% or more in a wavelength range of 300 nm to 2500 nm, and a glossiness of 20 GU or less.

なお、第1層211の材料の屈折率nは第1充填材212の屈折率mより大きくてもよく、第1充填材212の屈折率mより小さくてもよいが、両者の差xの絶対値は0.0005以上でなければならない。 The refractive index n of the material of the first layer 211 may be larger than the refractive index m of the first filler 212 or smaller than the refractive index m of the first filler 212. The value must be greater than or equal to 0.0005.

従って、第1層211の材料と第1充填材212との屈折率の関係を調整することにより、ベースフィルム21の内部に入射した入射光がベースフィルム21において複数回屈折でき、それにより、ベースフィルム21のヘイズを増加させるという目的を実現し、さらにベースフィルム21の光沢度を低下させ、光害の発生を回避又は低減することができる。また、ベースフィルム21の高い放射率及び優れた温度低下効果を保証することができる。 Therefore, by adjusting the refractive index relationship between the material of the first layer 211 and the first filler 212, the incident light entering the inside of the base film 21 can be refracted multiple times in the base film 21, thereby The purpose of increasing the haze of the film 21 can be achieved, and the glossiness of the base film 21 can be reduced to avoid or reduce the occurrence of light pollution. In addition, a high emissivity of the base film 21 and an excellent temperature lowering effect can be guaranteed.

1つ又は複数の実施例において、第1層211の材料と第1充填材212との屈折率の関係をさらに選択することにより、そのマッチング効果がよくなり、ベースフィルム21の光沢度は9GU-20GUになる。 In one or more embodiments, by further selecting the refractive index relationship between the material of the first layer 211 and the first filler 212, the matching effect is better, and the glossiness of the base film 21 is 9 GU- It becomes 20 GU.

ベースフィルム21の光透過率、放射率、及び成膜性等の観点から、第1層211の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも1種を含む。具体的には、ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステル(PCTG)のうちの少なくとも1種を含み、ポリアクリレート類はアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンプラスチック(ABS)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)のうちの少なくとも1種を含み、ポリアミド類はナイロン6(PA6)、ナイロン66(PA66)、ナイロン12(PA12)、ナイロン1010(PA1010)のうちの少なくとも1種を含み、ポリオレフィン類はポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)(TPX)のうちの少なくとも1種を含み、フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)のうちの少なくとも1種を含む。 From the viewpoint of the light transmittance, emissivity, film-forming property, etc. of the base film 21, the material of the first layer 211 is at least one of polyesters, polyacrylates, polyamides, polyurethanes, polyolefins, and fluororesins. Contains seeds. Specifically, polyesters include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate glycol (PETG), and polyethylene terephthalate-1,4-cyclohexanedimethanol ester (PCTG). Polyacrylates include at least one of acrylonitrile-butadiene-styrene plastic (ABS) and polymethyl methacrylate (PMMA), and polyamides include nylon 6 (PA6), nylon 66 (PA66 ), nylon 12 (PA12), nylon 1010 (PA1010), and polyolefins are polyethylene (PE), polypropylene (PP), poly (4-methyl-1-pentene) (TPX) , and the fluororesin includes at least one of tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), polyvinylidene fluoride (PVDF), and ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE). include.

1つ又は複数の実施例において、第1充填材212は、有機充填材及び無機充填材のうちの少なくとも1種を含み、第1層211における質量百分率は2%-20%である。 In one or more embodiments, the first filler 212 includes at least one of an organic filler and an inorganic filler, and the weight percentage in the first layer 211 is 2%-20%.

1つ又は複数の実施例において、第1充填材212は、有機充填材であり、xの絶対値は0.05以上であり、xが大きいほど、入射光が屈折する能力が高く、ヘイズの増加がより顕著になる。 In one or more embodiments, the first filler 212 is an organic filler, the absolute value of x is greater than or equal to 0.05, and the greater the x, the greater the ability to refract incident light and reduce the haze. increase becomes more pronounced.

1つ又は複数の実施例において、有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも1種を含む。 In one or more embodiments, the organic filler comprises at least one of polyacrylate particles, polystyrene particles, polyurethane particles, polymethylmethacrylate particles, epoxy resin particles.

ベースフィルム21のヘイズ限界が90%-95%であることを考慮すると、ベースフィルム21における有機充填材の含有量が高すぎると、ベースフィルム21のヘイズを顕著に増加させるとともに、ベースフィルム21の表面粗さ及び光透過率に影響を与える。また、有機充填材の含有量が高すぎると、ベースフィルム21の加工性にも影響を与える。従って、ベースフィルム21における有機充填材の質量百分率は2%-5%である。 Considering that the haze limit of the base film 21 is 90%-95%, if the content of the organic filler in the base film 21 is too high, the haze of the base film 21 will be significantly increased and the Affects surface roughness and light transmittance. Moreover, if the content of the organic filler is too high, the workability of the base film 21 is also affected. Therefore, the weight percentage of the organic filler in the base film 21 is 2%-5%.

1つ又は複数の実施例において、ベースフィルム21は溶融混合法によって製造され、具体的なステップは、第1層211の材料及び有機充填材を混合装置で混合して、溶融して混合してベースフィルム21が製造されることである。 In one or more embodiments, the base film 21 is manufactured by a melt mixing method, and the specific steps include mixing the material of the first layer 211 and the organic filler in a mixing device to melt and mix. The base film 21 is manufactured.

なお、ベースフィルム21において、光線がベースフィルム21で複数回屈折するために、有機充填材は粒子の形態で存在する必要がある。従って、ベースフィルム21を溶融混合法によって製造する時に有機充填材が溶融しないことを保証するために、有機充填材の融点は第1層211の材料の融点より高い必要がある。 In addition, in the base film 21, since light rays are refracted at the base film 21 multiple times, the organic filler must exist in the form of particles. Therefore, the melting point of the organic filler should be higher than the melting point of the material of the first layer 211 in order to ensure that the organic filler does not melt when the base film 21 is manufactured by the melt mixing method.

具体的には、溶融混合温度は、(1)第1層211の材料が完全に溶融できるが分解しないこと、(2)有機充填材が溶融しないことを満たす必要がある。 Specifically, the melt-mixing temperature must satisfy (1) that the material of the first layer 211 can be completely melted but not decomposed, and (2) that the organic filler is not melted.

第1層211の材料及び有機充填材は屈折率と融点の関係を同時に満たすことを可能にするために、できるだけ分子材料を選択する。しかしながら、高分子材料において、分子量、重合度等の要素の影響を受け、又は高分子材料を改質した後、同じモノマーの高分子材料も本願における第1層211の材料及び有機充填材の屈折率と融点の関係を満たす場合、第1層211の材料及び有機充填材も同じモノマーの高分子材料を選択することができる。 Molecular materials are selected as much as possible for the material of the first layer 211 and the organic filler so as to simultaneously satisfy the relationship between the refractive index and the melting point. However, in the polymer material, it is affected by factors such as molecular weight, degree of polymerization, etc., or after modifying the polymer material, the polymer material of the same monomer can also be the material of the first layer 211 in this application and the organic filler. The material of the first layer 211 and the organic filler can also be selected from the same monomer polymer material if the relationship between the modulus and the melting point is satisfied.

1つ又は複数の実施例において、有機充填材が中空充填材である場合、入射光は、有機充填材を透過する時に、複数回屈折でき、それにより、さらにベースフィルム21のヘイズを増加させ、ベースフィルム21の光沢度をさらに低下させる。 In one or more embodiments, if the organic filler is a hollow filler, incident light can be refracted multiple times when passing through the organic filler, thereby further increasing the haze of the base film 21; The glossiness of the base film 21 is further reduced.

同様に、第1層211がセルを含む場合、入射光が第1層211において複数回屈折し、それにより、ベースフィルム21のヘイズをさらに増加させ、光沢度を低下させることができる。 Similarly, if the first layer 211 contains cells, the incident light will be refracted multiple times in the first layer 211, which can further increase the haze of the base film 21 and reduce the glossiness.

1つ又は複数の実施例において、セルのサイズは2μm-6μmであり、好ましくは3μm-5μmである。 In one or more embodiments, the cell size is 2 μm-6 μm, preferably 3 μm-5 μm.

1つ又は複数の実施例において、セルは製造工程中に孔形成剤を添加することによって取得され、孔形成剤は炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等の易分解性材料を含み、溶融混合時に分解しかつ第1層211にセルを保留する。 In one or more embodiments, the cells are obtained by adding a pore-forming agent during the manufacturing process, the pore-forming agent comprising a readily degradable material such as ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, etc., which decomposes during melt mixing. And the cells are reserved in the first layer 211 .

1つ又は複数の実施例において、第1充填材212は無機充填材であり、xの絶対値は0.2より大きい。 In one or more embodiments, first filler 212 is an inorganic filler and the absolute value of x is greater than 0.2.

1つ又は複数の実施例において、無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも1種を含む。 In one or more embodiments, the inorganic filler includes at least one of titanium nitride particles, titanium dioxide particles, silicon carbide particles, silica particles, barium sulfate particles, calcium sulfate particles, calcium carbonate particles.

第1層における第1充填材212が無機充填材である場合、入射光が第1層で屈折する能力は有機充填材よりも高いが、入射光は無機充填材を透過できず、それにより、ベースフィルム21における散乱光を低減し、ヘイズは散乱光と光束の比であるので、ベースフィルム21のヘイズの増加程度が対応して弱められる。 When the first filler 212 in the first layer is an inorganic filler, the ability of the incident light to refract in the first layer is higher than the organic filler, but the incident light cannot pass through the inorganic filler, thereby Since the scattered light in the base film 21 is reduced and the haze is the ratio of the scattered light to the luminous flux, the degree of increase in the haze of the base film 21 is correspondingly attenuated.

ベースフィルム21のヘイズを保証するために、1つ又は複数の実施例において、ベースフィルム21における無機充填材の質量百分率は3%以上であり、ベースフィルム21のヘイズは35%以上である。さらに、ベースフィルム21における無機充填材の質量百分率は好ましくは5%以上であり、それにより、ベースフィルム21のヘイズが50%以上になるようにする。 To ensure the haze of the base film 21, in one or more embodiments, the weight percentage of the inorganic filler in the base film 21 is 3% or more, and the haze of the base film 21 is 35% or more. Furthermore, the mass percentage of the inorganic filler in the base film 21 is preferably 5% or more so that the base film 21 has a haze of 50% or more.

無機充填材の質量百分率を高めることでベースフィルム21のヘイズを増加させる時、ベースフィルム21の吸熱量を減少させ、それにより、より多くの熱を反射し、反射率を高めるために、ベースフィルム21における光透過率を82%以上とする必要がある。 When the haze of the base film 21 is increased by increasing the mass percentage of the inorganic filler, the heat absorption of the base film 21 is reduced, thereby reflecting more heat and increasing the reflectance. The light transmittance at 21 must be 82% or more.

しかしながら、無機充填材の含有量が高すぎると、基体材料の流動性に影響を与え、第1層211の成膜性が低下すると考えられるため、第1層211における無機充填材の質量百分率はより好ましくは5%-20%である。 However, if the content of the inorganic filler is too high, the fluidity of the substrate material is affected, and the film-forming properties of the first layer 211 are considered to be reduced. More preferably 5%-20%.

また、第1充填材212の添加量が高く、特に第1充填材212が無機充填材である場合、ベースフィルム21の力学的性質、特に耐衝撃性が低下し、ベースフィルム21は加工工程中に破断しやすく、加工難度が高く、製造効率が低い。その主な原因は、第1充填材212と第1層211の材料が非相溶である場合、加工工程中にベースフィルム21に欠陥が発生し、さらに急速延伸工程中にクラックが発生し、ベースフィルム21が破断することである。特に、第1充填材212の添加量が5%以上である場合、ベースフィルム21が加工工程中に破断するという問題が深刻になる。 In addition, when the amount of the first filler 212 added is high, particularly when the first filler 212 is an inorganic filler, the mechanical properties of the base film 21, especially the impact resistance, are lowered, and the base film 21 is in the process of being processed. It is easy to break easily, the processing difficulty is high, and the manufacturing efficiency is low. The main reason for this is that if the materials of the first filler 212 and the first layer 211 are incompatible, defects will occur in the base film 21 during the processing process, and cracks will occur during the rapid stretching process. That is, the base film 21 breaks. In particular, when the amount of the first filler 212 added is 5% or more, the problem that the base film 21 breaks during the processing process becomes serious.

これに対して、図2に示すとおり、本願により提供される第2実施形態のベースフィルム21は、第1実施形態に基づき、第1層211の対向する両側の表面に設けられた第2層213及び第3層215をさらに含み、第1層211、第2層213、及び第3層215は共押出成形される。 On the other hand, as shown in FIG. 2, the base film 21 of the second embodiment provided by the present application has second layers provided on both opposing surfaces of the first layer 211 based on the first embodiment. 213 and a third layer 215, wherein the first layer 211, the second layer 213 and the third layer 215 are co-extruded.

第1層211、第2層213、及び第3層215を一次共押出成形可能にするために、第2層213の材料、第3層215の材料、及び第1層211の材料はいずれも同じである。 To enable the first layer 211, the second layer 213, and the third layer 215 to be primarily coextruded, the material of the second layer 213, the material of the third layer 215, and the material of the first layer 211 are all are the same.

従って、第1層211はベースフィルム21の主な機能層であり、ベースフィルム21の放射冷却効果及びヘイズを決定する。第2層213及び第3層215は共押出成形の加工工程中に第1層211を支持し、ベースフィルム21の力学的性質を向上させ、ベースフィルム21が加工工程中に破断しないことを保証する。 Therefore, the first layer 211 is the main functional layer of the base film 21 and determines the radiative cooling effect and haze of the base film 21 . The second layer 213 and the third layer 215 support the first layer 211 during the coextrusion process, improve the mechanical properties of the base film 21, and ensure that the base film 21 does not break during the process. do.

なお、共押出成形工程中において、第1層211には依然としてクラックが発生するが、第2層20及び第3層30にはクラックが入らず、急速延伸工程中に第1層211を支持する。 It should be noted that the first layer 211 still cracks during the co-extrusion process, but the second layer 20 and the third layer 30 do not crack, supporting the first layer 211 during the rapid drawing process. .

第1充填材212を第1層211に均一に分散させるために、まず、第1層211の材料と第1充填材212を造粒することを理解することができる。 It can be understood that the material of the first layer 211 and the first filler 212 are first granulated in order to evenly distribute the first filler 212 in the first layer 211 .

第2層213及び第3層215がベースフィルム21の性能に影響を与えることなく第1層211を十分に支持するために、第2層213及び第3層215の厚みの選択は第1層211の厚みの変化によって独立して変化し得る。そして、それぞれ1:1-1:20の範囲内、好ましくは、1:1.5-1:20の範囲内である。 The selection of the thicknesses of the second layer 213 and the third layer 215 is such that the second layer 213 and the third layer 215 sufficiently support the first layer 211 without affecting the performance of the base film 21. It can be varied independently by changing the thickness of 211 . They are within the range of 1:1-1:20, preferably within the range of 1:1.5-1:20, respectively.

第1層211が薄すぎる場合、ベースフィルム21のヘイズ及び放射冷却効果が大きく改善されないことを考慮すると、第1層211の厚みは好ましくは25μm以上である。一方、第1層211が厚すぎると、ベースフィルム21の柔軟性に影響が与え、使用する場合、折り目が発生しやすいため、効果に影響を与える。従って、第1層211の厚みはより好ましくは25μm-100μmである。 Considering that if the first layer 211 is too thin, the haze and radiative cooling effect of the base film 21 are not greatly improved, the thickness of the first layer 211 is preferably 25 μm or more. On the other hand, if the first layer 211 is too thick, the flexibility of the base film 21 is affected, and creases are likely to occur during use, thus affecting the effect. Therefore, the thickness of the first layer 211 is more preferably 25 μm-100 μm.

それに応じて、第2層213及び第3層215が薄すぎると、第1層211を支持する効果はより良好な状態に到達できないため、第2層213及び第3層215の厚みはいずれも好ましくは5μm以上である。一方、第2層213及び第3層215が所定の厚みになると、第1層211を支持する効果があまり向上しないが、ベースフィルム21の放射冷却効果、柔軟性に影響を与えるため、第2層213及び第3層215の厚みはより好ましくは5μm-25μmであり、第1層211との厚みの比は1:1-1:20の範囲内であり、好ましくは1:1.5-1:20の範囲内である。 Accordingly, if the second layer 213 and the third layer 215 are too thin, the effect of supporting the first layer 211 cannot reach a better state, so the thickness of the second layer 213 and the third layer 215 are both It is preferably 5 μm or more. On the other hand, when the second layer 213 and the third layer 215 have a predetermined thickness, the effect of supporting the first layer 211 does not improve so much, but the radiative cooling effect and flexibility of the base film 21 are affected. The thickness of the layer 213 and the third layer 215 is more preferably 5 μm-25 μm, and the thickness ratio with the first layer 211 is in the range of 1:1-1:20, preferably 1:1.5-1:20. It is in the range of 1:20.

また、本願で共押出成形される第2層213及び第3層215は、第1層211の表面粗さをカバーするという役割を果たす。具体的には、第1充填材212の添加により、第1層211の表面粗さが0.8μm前後になり、第1充填材212の添加量の増加に伴ってさらに増大し、第2層213及び第3層215でカバーされると、ベースフィルム21の表面粗さは0.04μm前後に低下し、それにより、後のコーティング等の加工工程中に優れた加工性及び外観等の性能上の利点をベースフィルム21に与える。 In addition, the second layer 213 and the third layer 215 co-extruded in the present application play a role of covering the surface roughness of the first layer 211 . Specifically, the addition of the first filler 212 causes the surface roughness of the first layer 211 to be around 0.8 μm, and further increases with an increase in the amount of the first filler 212 added. 213 and the third layer 215, the surface roughness of the base film 21 is reduced to around 0.04 μm, thereby providing excellent processability and appearance during subsequent processing steps such as coating. provides the base film 21 with the advantages of

第1層211の表面粗さは、さらに第1充填材212の粒径に関連する。第1充填材212の粒径が大きいほど、第1層211の表面粗さが大きくなることを理解することができる。しかしながら、第1充填材212の粒径が小さいほど、第1層211で凝集しやすくなり、ヘイズの増加効果を低下させる。従って、第1充填材の粒径は好ましくは0.1μm-20μmであり、より好ましくは0.5μm-10μmであり、さらに好ましくは2μm-6μmであり、よりさらに好ましくは3μm-5μmである。 The surface roughness of first layer 211 is further related to the grain size of first filler 212 . It can be understood that the surface roughness of the first layer 211 increases as the particle size of the first filler 212 increases. However, the smaller the particle size of the first filler 212, the more likely it is to agglomerate in the first layer 211, reducing the effect of increasing the haze. Therefore, the particle size of the first filler is preferably 0.1 μm-20 μm, more preferably 0.5 μm-10 μm, even more preferably 2 μm-6 μm, even more preferably 3 μm-5 μm.

なお、本願の第1充填材212の粒径とは平均粒径である。 It should be noted that the particle size of the first filler 212 in the present application is the average particle size.

1つ又は複数の実施例において、第1充填材212は有機充填材と無機充填材の混合物であり、これら2つの利点を組み合わせて、ベースフィルム21を改善する時に、さらにベースフィルム21の反射率及び放射率を高める。 In one or more embodiments, the first filler 212 is a mixture of organic and inorganic fillers, which combine the advantages of these two to improve the base film 21 while also improving the reflectance of the base film 21 . and increase emissivity.

図3に示すとおり、本願により提供される第3実施形態のベースフィルム21は、第2実施形態に基づき、第2層213に第2充填材214も分散し、また、第2充填材214は第2層213に遮断ネットを形成し、水分が第1層211に入る通路を遮断及び延長し、それにより、水分の浸透を効果的に阻止し、ベースフィルム21の耐用年数を延ばすことができる。 As shown in FIG. 3, the base film 21 of the third embodiment provided by the present application also has a second filler 214 dispersed in the second layer 213 according to the second embodiment, and the second filler 214 is A blocking net is formed on the second layer 213 to block and extend the passage of moisture entering the first layer 211, thereby effectively blocking moisture penetration and extending the service life of the base film 21. .

1つ又は複数の実施例において、第3層215に第3充填材216がさらに分散し、同様に第3層215に遮断ネットを形成し、さらにベースフィルム21の耐用年数を延ばす。 In one or more embodiments, the third layer 215 is further dispersed with a third filler 216 to also form an isolation net in the third layer 215 and further extend the service life of the base film 21 .

勿論、第2充填材214及び第3充填材216は水分が第1層211に浸透することを遮断するとともに、光線の一部が第2層213を透過して第1層211に入ることを阻止し、ベースフィルム21の放射冷却効果に影響を与える。従って、両者をバランスさせるために、第2充填材214と第3充填材216の添加量及び分散して形成される遮断ネット等の条件を制御することにより、第2層213及び第3層215の光透過率を82%以上にするとともに、水蒸気透過率を10g/(m・24h)以下にする。 Of course, the second filler 214 and the third filler 216 block the penetration of moisture into the first layer 211 and also prevent part of the light from entering the first layer 211 through the second layer 213 . block and affect the radiative cooling effect of the base film 21 . Therefore, in order to balance the two, the second layer 213 and the third layer 215 are controlled by controlling the addition amount of the second filler 214 and the third filler 216 and the conditions such as the shielding net formed dispersedly. The light transmittance of 82% or more and the water vapor transmission rate of 10 g/(m 2 ·24 h) or less.

実際の加工工程では、好ましくは第2充填材214と第3充填材216の添加量を制御することにより、第2層213と第3層215の光透過率及び水蒸気透過率を制御し、加工難度を低下させる。また、第2層213及び第3層215の表面粗さを保証するため、第2層213における第2充填材214の質量百分率及び第3層215における第3充填材216の質量百分率はいずれも好ましくは0.5%-2%である。 In an actual processing step, preferably, by controlling the addition amount of the second filler 214 and the third filler 216, the light transmittance and the water vapor transmission rate of the second layer 213 and the third layer 215 are controlled, and the processing is performed. Reduce difficulty. In addition, in order to ensure the surface roughness of the second layer 213 and the third layer 215, the mass percentage of the second filler 214 in the second layer 213 and the mass percentage of the third filler 216 in the third layer 215 are both Preferably 0.5%-2%.

1つ又は複数の実施例において、第2充填材214及び第3充填材216はナノスケールの水酸化アルミニウム粒子、水酸化カルシウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化セリウム粒子、アルミナ粒子のうちの少なくとも1種から独立して選択され、形状はシート状、棒状のうちの少なくとも1種であり、好ましくはシート状である。さらに、第2充填材214及び第3充填材216のサイズは10nm-750nmから独立して選択される。 In one or more embodiments, second filler material 214 and third filler material 216 are at least one of nanoscale aluminum hydroxide particles, calcium hydroxide particles, zirconium oxide particles, cerium oxide particles, and alumina particles. and the shape is at least one of sheet-like and rod-like, preferably sheet-like. Additionally, the size of the second filler 214 and the third filler 216 are independently selected from 10 nm-750 nm.

同様に、加工工程中に、第2充填材214を第2層213に均一に分散させ、第3充填材216を第3層215に均一に分散させるために、第2層213の材料及び第2充填材214を造粒し、第3層215の材料及び第3充填材216を造粒する必要がある。 Similarly, the material of the second layer 213 and the third filler 216 may be uniformly distributed in the second layer 213 and the third filler 216 in the third layer 215 during the processing steps. Two fillers 214 need to be granulated, and third layer 215 material and third filler 216 need to be granulated.

従って、ベースフィルム21を使用する場合、第2層213又は第3層215を照射面として任意に選択できる。 Therefore, when using the base film 21, the second layer 213 or the third layer 215 can be optionally selected as the irradiation surface.

1つ又は複数の実施例において、第2層213は紫外線吸収剤をさらに含み、前記紫外線吸収剤を制御することで第2層213の紫外線遮断率を80%以上にし、ベースフィルム21の光老化を抑制し、さらに、第2層213の紫外光遮断を90%以上にする。 In one or more embodiments, the second layer 213 further includes a UV absorber, and the UV absorber is controlled to make the UV blocking rate of the second layer 213 80% or more, and prevent photoaging of the base film 21. is suppressed, and further, the second layer 213 blocks ultraviolet light by 90% or more.

また、第2層213は酸化防止剤をさらに含んでもよく、紫外線吸収剤とともに第2層213の紫外線遮断率を高める。具体的には、第2層213における酸化防止剤と紫外線防止剤の質量百分率の合計は0.5%-4%である。 In addition, the second layer 213 may further include an antioxidant to enhance the UV blocking rate of the second layer 213 together with the UV absorber. Specifically, the sum of the weight percentages of the antioxidant and UV inhibitor in the second layer 213 is 0.5%-4%.

なお、第2層213は第2充填材214、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤を同時に含むことができる。この時、ベースフィルム21を使用する場合、第2層213を照射面とする。 In addition, the second layer 213 may include the second filler 214, the UV absorber, and the antioxidant at the same time. At this time, when the base film 21 is used, the second layer 213 is used as the irradiation surface.

図4に示すとおり、本願により提供される複合フィルム2は、上記ベースフィルム21と、ベースフィルム21に順に積層して設けられた反射フィルム22、第2貼着層23及び基材層24を含み、複合フィルム2は、光沢度が70GU以下であり、7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500nmの波長域での熱反射率が85%以上である。 As shown in FIG. 4, the composite film 2 provided by the present application includes the base film 21, a reflective film 22 laminated on the base film 21 in order, a second adhesive layer 23 and a base layer 24. The composite film 2 has a glossiness of 70 GU or less, an emissivity of 80% or more at an atmospheric window of 7 μm-14 μm, and a heat reflectance of 85% or more in a wavelength range of 300 nm-2500 nm.

1つ又は複数の実施例において、ベースフィルム21の光沢度の変化により、複合フィルム2の光沢度は50GU以下になる。従って、ベースフィルム21に基づき、放射冷却効果に優れ、表面粗さの低い複合フィルム2を取得できる。 In one or more embodiments, the change in gloss of base film 21 results in a gloss of composite film 2 of 50 GU or less. Therefore, based on the base film 21, the composite film 2 with excellent radiative cooling effect and low surface roughness can be obtained.

いくつかの好ましい実施例において、ベースフィルム21の光沢度の変化により、複合フィルム2の光沢度は30GU以下になり、具体的には、複合フィルム2の好ましい光沢度は10GU-30GUである。 In some preferred embodiments, the glossiness of the base film 21 varies so that the composite film 2 has a glossiness of 30 GU or less, specifically, the preferred glossiness of the composite film 2 is 10GU-30GU.

1つ又は複数の実施例において、反射フィルム22の厚みは50nm-400nmであり、基材層24の厚みは15μm-50μmであり、第2貼着層2の厚みは2μm-15μmである。 In one or more embodiments, the thickness of the reflective film 22 is 50 nm-400 nm, the thickness of the base layer 24 is 15 μm-50 μm, and the thickness of the second adhesive layer 2 is 2 μm-15 μm.

1つ又は複数の実施例において、反射フィルム22の材料は金属材料及び/又はセラミック材料である。金属材料は銀、銀合金、アルミニウム、アルミニウム合金、金、金合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種であり、セラミック材料は金属酸化物、金属窒素化物、非金属窒素化物、半導体ドーピング化合物のうちの少なくとも1種であり、金属酸化物はY、ZnO、SnO、Ta、Nb、ZrO、HfOのうちの少なくとも1種を含み、金属窒素化物はTi、AlNのうちの少なくとも1種を含み、非金属窒素化物はSiを含み、半導体ドーピング化合物はAZO、ITO、IZO、ZTO、GZOのうちの少なくとも1種を含む。 In one or more embodiments, the material of reflective film 22 is a metallic material and/or a ceramic material. The metal material is at least one of silver, silver alloys, aluminum, aluminum alloys, gold, gold alloys, copper, copper alloys, and the ceramic material is metal oxides, metal nitrides, non-metal nitrides, semiconductor doping compounds. wherein the metal oxide includes at least one of Y2O3 , ZnO, SnO, Ta2O5 , Nb2O5 , ZrO2 , HfO2 , and the metal nitride is Ti 3 N 4 , AlN, the non-metallic nitride comprising Si 3 N 4 , and the semiconductor doping compound comprising at least one of AZO, ITO, IZO, ZTO, GZO.

1つ又は複数の実施例において、基材層24の材料はポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-酢酸エステル、ポリカーボネート、アクリロニトリルスチレン共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンの三元共重合体、ポリ塩化ビニル、エチレンプロピレンゴム、ポリオレフィン、ポリアミド、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-メチルアクリレート共重合体のうちの少なくとも1種を含む。 In one or more embodiments, the material of substrate layer 24 is polyethylene naphthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene terephthalate glycol, polyethylene terephthalate-acetic acid ester, polycarbonate, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene. It contains at least one of terpolymer, polyvinyl chloride, ethylene propylene rubber, polyolefin, polyamide, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-methyl acrylate copolymer.

図5に示すとおり、本願により提供される複合フィルムを含む製品は、基体1と、基体1の表面に順に積層して設けられた第1貼着層3及び複合フィルム2を含み、複合フィルム2における基材層24は第1貼着層3に貼着される。 As shown in FIG. 5, a product including a composite film provided by the present application includes a substrate 1, a first adhesive layer 3 and a composite film 2 which are laminated in order on the surface of the substrate 1, and the composite film 2 The base material layer 24 in is attached to the first adhesive layer 3 .

基体1は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも1種を含む。 Substrate 1 includes at least one of metal, plastic, glass, rubber, pitch, cement, and fabric.

1つ又は複数の実施例において、第1貼着層3及び第2貼着層23の材料はエチレンアクリル酸共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、無水マレイン酸グラフト物、水素化スチレン-ブタジエンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、ポリスチレン/ブタジエン共重合体、ポリウレタン、水素化石油樹脂、ロジン樹脂、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-オクテン共重合体、ポリウレタン類、ポリアクリレート類、有機シリコン類、ゴム類、エポキシ樹脂類のうちの少なくとも1種から独立して選択される。 In one or more embodiments, the materials of the first adhesive layer 3 and the second adhesive layer 23 are ethylene acrylic acid copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polymethyl methacrylate, maleic anhydride graft, Hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, polystyrene/butadiene copolymer, polyurethane, hydrogenated petroleum resin, rosin resin, ethylene-butene copolymer, ethylene-octene copolymer , polyurethanes, polyacrylates, organosilicones, rubbers, and epoxy resins.

従って、国家標準GB/T13891-2008のテスト標準に準拠し、複合フィルム2を含む製品は半光沢度レベルであり、使用工程の製品の光害を効果的に低下させ、また、放射冷却効果に優れる。 Therefore, in accordance with the test standard of the national standard GB/T13891-2008, the product containing the composite film 2 has a semi-gloss level, which effectively reduces the light pollution of the product in the use process, and also has a radiative cooling effect. Excellent.

以下、以下の具体的な実施例によって前記ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品をさらに説明する。 The following specific examples further illustrate the base film, the composite film, and the products comprising the composite film.

実施例1
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、第1充填材の屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
Example 1
In the base film of this example, the material of the first layer is PMMA, and the first filler is PS microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.49, the refractive index m of the first filler is 1.58 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.09. The thickness of the base film is 50 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 2%.

実施例2
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が5μmであり、質量百分率は5%である。
Example 2
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The base film has a thickness of 50 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 5 μm and a mass percentage of 5%.

実施例3
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.43であり、屈折率差xの絶対値は0.11である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
Example 3
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is polyacrylate microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.43 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.11. The base film has a thickness of 50 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%.

実施例4
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、第1充填材の屈折率mは1.59であり、屈折率差xの絶対値は0.10である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
Example 4
In the base film of this example, the material of the first layer is PMMA, and the first filler is PS microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.49, the refractive index m of the first filler is 1.59 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.10. The thickness of the base film is 50 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 2%.

実施例5
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは25μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
Example 5
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The base film has a thickness of 25 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%.

実施例6
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは75μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
Example 6
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The base film has a thickness of 75 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%.

実施例7
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは100μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
Example 7
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The base film has a thickness of 100 μm, and the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%.

実施例8
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、ベースフィルムには3μmサイズのセルが含まれる。
Example 8
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The thickness of the base film is 50 μm, the first filler in the base film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%, and the base film contains cells of 3 μm size.

実施例9
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、第1充填材は中空充填材である。
Example 9
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The thickness of the base film is 50 μm, the first filler in the base film has a particle size of 3 μm, a mass percentage of 3%, and the first filler is a hollow filler.

実施例10
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、第1充填材は中空充填材であり、ベースフィルムにはさらに3μmサイズのセルが含まれる。
Example 10
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is PMMA microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.48 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.06. The thickness of the base film is 50 μm, the first filler in the base film has a particle size of 3 μm, the mass percentage is 3%, the first filler is a hollow filler, and the base film further has a size of 3 μm. cells are included.

実施例11
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.43であり、屈折率差xの絶対値は0.11である。薄膜の厚みは15μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
Example 11
In the base film of this example, the material of the first layer is PETG and the first filler is polyacrylate microspheres, which are manufactured by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.43 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.11. The thin film has a thickness of 15 μm, and the first filler in the thin film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 3%.

比較例1
本比較例のベースフィルムの材料は100%PETGであり、厚みは50μmである。
Comparative example 1
The material of the base film of this comparative example is 100% PETG, and the thickness is 50 μm.

比較例2
本比較例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPCであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.59であり、第1充填材の屈折率mは1.58であり97、屈折率差xの絶対値は0.0003である。薄膜の厚みは50μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
Comparative example 2
In the base film of this comparative example, the material of the first layer is PC and the first filler is PS microspheres, which are manufactured by a melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.59, the refractive index m of the first filler is 1.58 which is 97 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.0003. The thickness of the thin film is 50 μm, and the first filler in the thin film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 2%.

比較例3
本比較例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.5404であり、屈折率差xの絶対値は0.0004である。薄膜の厚みは50μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
Comparative example 3
In the base film of this comparative example, the material of the first layer is PETG, and the first filler is PS microspheres, which are manufactured by a melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.54, the refractive index m of the first filler is 1.5404 and the absolute value of the refractive index difference x is 0.0004. The thickness of the thin film is 50 μm, and the first filler in the thin film has a particle size of 3 μm and a mass percentage of 2%.

実施例1-11及び比較例1-3のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表1に示す。 Performance tests were performed on the base films of Examples 1-11 and Comparative Examples 1-3, and the results are shown in Table 1.

Figure 0007149983000001
Figure 0007149983000001

実施例12
本実施例は、実施例1のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
Example 12
This example is a composite film comprising the base film of Example 1, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 100 nm.

実施例13
本実施例は、実施例2のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
Example 13
This example is a composite film comprising the base film of Example 2, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 100 nm.

実施例14
本実施例は、実施例3のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
Example 14
This example is a composite film comprising the base film of Example 3, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in this order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 100 nm.

実施例15
本実施例は、実施例4のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが200nmである。
Example 15
This example is a composite film comprising the base film of Example 4, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 200 nm.

実施例16
本実施例は、実施例5のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
Example 16
This example is a composite film comprising the base film of Example 5, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in this order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 100 nm.

実施例17
本実施例は実施例6のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが150nmである。
Example 17
This example is a composite film comprising the base film of Example 6, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material, Its thickness is 150 nm.

実施例18
本実施例は、実施例7のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが400nmである。
Example 18
This example is a composite film comprising the base film of Example 7, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the reflective film is made of metallic silver material. , and a thickness of 400 nm.

実施例19
本実施例は、実施例8のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが400nmである。
Example 19
This example is a composite film comprising the base film of Example 8, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , and a thickness of 400 nm.

実施例20
本実施例は、実施例9のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Example 20
This example is a composite film comprising the base film of Example 9, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in this order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

実施例21
本実施例は、実施例10のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Example 21
This example is a composite film comprising the base film of Example 10, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

実施例22
本実施例は、実施例11のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Example 22
This example is a composite film comprising the base film of Example 11, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

比較例4
本比較例は、比較例1のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Comparative example 4
This comparative example is a composite film including the base film of Comparative Example 1, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

比較例5
本比較例は、比較例2のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Comparative example 5
This comparative example is a composite film including the base film of Comparative Example 2, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

比較例6
本比較例は、比較例3のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
Comparative example 6
This comparative example is a composite film including the base film of Comparative Example 3, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer which are laminated in order, and the material of the reflective film is a metallic silver material. , with a thickness of 250 nm.

実施例12-22及び比較例4-6の複合フィルムに対して性能テストを行い、結果を表2に示す。 Performance tests were performed on the composite films of Examples 12-22 and Comparative Examples 4-6, and the results are shown in Table 2.

Figure 0007149983000002
Figure 0007149983000002

実施例23
本ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmの炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は3%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 23
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded molded. The first layer comprises a polyethylene terephthalate (PET) layer and silicon carbide particles with an average particle size of 3 μm dispersed in the polyethylene terephthalate (PET) layer, the mass percentage of the silicon carbide particles in the first layer being 3%, Both the second layer and the third layer are polyethylene terephthalate (PET) layers, the thickness of the first layer is 75 μm, and the thickness of both the second layer and the third layer is 25 μm.

実施例24
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)層及びポリメチルメタクリレート(PMMA)層に分散している平均粒径5μmの硫酸バリウム粒子を含み、第1層における硫酸バリウム粒子の質量百分率は5%であり、第2層及び第3層はいずれもポリメチルメタクリレート(PMMA)であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 24
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. The first layer includes a polymethyl methacrylate (PMMA) layer and barium sulfate particles with an average particle size of 5 μm dispersed in the polymethyl methacrylate (PMMA) layer, and the mass percentage of the barium sulfate particles in the first layer is 5%. Both the second and third layers are polymethyl methacrylate (PMMA), the thickness of the first layer is 75 μm, and the thickness of both the second and third layers is 25 μm.

実施例25
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径6μmのシリカ粒子を含み、第1層におけるシリカ粒子の質量百分率は10%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 25
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. The first layer contains a polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer and silica particles with an average particle size of 6 μm dispersed in the polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, the mass percentage of the silica particles in the first layer is 10%, Both the second layer and the third layer are polyethylene terephthalate glycol (PETG) layers, the thickness of the first layer is 75 μm, and the thickness of both the second layer and the third layer is 25 μm.

実施例26
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリプロピレン(PC)層及びポリプロピレン(PC)層に分散している平均粒径0.8μmの二酸化チタン粒子を含み、第1層における二酸化チタン粒子の質量百分率は15%であり、第2層及び第3層はいずれもポリプロピレン(PC)であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 26
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. the first layer comprises a polypropylene (PC) layer and titanium dioxide particles with an average particle size of 0.8 μm dispersed in the polypropylene (PC) layer, the mass percentage of the titanium dioxide particles in the first layer being 15%; Both the second layer and the third layer are polypropylene (PC), the thickness of the first layer is 75 μm, and the thickness of both the second layer and the third layer is 25 μm.

実施例27
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)(TPX)層及びポリ(4-メチル-1-ペンテン)(TPX)層に分散している平均粒径2μmの炭化カルシウム粒子を含み、第1層における炭化カルシウム粒子の質量百分率は20%であり、第2層及び第3層はいずれもポリ(4-メチル-1-ペンテン)(TPX)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 27
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. the first layer comprises a poly(4-methyl-1-pentene) (TPX) layer and calcium carbide particles with an average particle size of 2 μm dispersed in the poly(4-methyl-1-pentene) (TPX) layer; The mass percentage of calcium carbide particles in the first layer is 20%, the second and third layers are both poly(4-methyl-1-pentene) (TPX) layers, and the thickness of the first layer is 75 μm. and the thickness of each of the second layer and the third layer is 25 μm.

実施例28
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが25μmであり、第2層の厚みが5μmであり、第3層の厚みが15μmであることにある。
Example 28
This example differs from Example 25 in that the thickness of the first layer is 25 μm, the thickness of the second layer is 5 μm, and the thickness of the third layer is 15 μm.

実施例29
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが50μmであり、第2層の厚みが10μmであり、第3層の厚みが20μmであることにある。
Example 29
This example differs from Example 25 in that the thickness of the first layer is 50 μm, the thickness of the second layer is 10 μm, and the thickness of the third layer is 20 μm.

実施例30
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが100μmであり、第2層の厚みが5μmであり、第3層の厚みが25μmであることにある。
Example 30
This example differs from Example 25 in that the thickness of the first layer is 100 μm, the thickness of the second layer is 5 μm, and the thickness of the third layer is 25 μm.

比較例7
本比較例は、ポリエチレンナフタレート(PEN)層及びポリエチレンナフタレート(PEN)層に分散している平均粒径3μmの窒化チタン粒子を含む通常の単層ベースフィルムであり、窒化チタン粒子は質量百分率が1%であり、厚みが75μmである。
Comparative example 7
This comparative example is a conventional single-layer base film comprising a polyethylene naphthalate (PEN) layer and titanium nitride particles with an average particle size of 3 μm dispersed in the polyethylene naphthalate (PEN) layer, wherein the titanium nitride particles are is 1% and the thickness is 75 μm.

比較例8
本比較例の実施例25との違いは、第1層における平均粒径6μmのシリカ粒子の質量百分率が1%であることにある。
Comparative example 8
The difference between this comparative example and Example 25 is that the mass percentage of silica particles having an average particle size of 6 μm in the first layer is 1%.

比較例9
本比較例の実施例25との違いは、第1層の厚みが75μmであり、第2層及び第3層の厚みがいずれも3μmであることにある。
Comparative example 9
The difference between this comparative example and Example 25 is that the thickness of the first layer is 75 μm, and the thickness of each of the second and third layers is 3 μm.

実施例23-30及び比較例7-9のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表3に示す。 Performance tests were performed on the base films of Examples 23-30 and Comparative Examples 7-9, and the results are shown in Table 3.

Figure 0007149983000003
Figure 0007149983000003

実施例31
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径100nmのシート状の水酸化カルシウム粒子を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率がいずれも0.5%であることにある。
Example 31
The difference between this example and Example 25 is that both the second layer and the third layer are polyethylene terephthalate glycol (PETG) and polyethylene terephthalate glycol (PETG) layers dispersed in a sheet-like sheet having an average particle size of 100 nm. Calcium hydroxide particles are included, and the mass percentage of the calcium hydroxide particles is 0.5%.

実施例32
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径200nmのシート状のアルミナ粒子を含み、アルミナ粒子の質量百分率がいずれも0.5%であり、第2層にはさらにUV-P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168が含まれ、UV-P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が2%であることにある。
Example 32
The difference between this example and Example 25 is that both the second layer and the third layer are polyethylene terephthalate glycol (PETG) and polyethylene terephthalate glycol (PETG) layers dispersed in a sheet-like sheet having an average particle size of 200 nm. containing alumina particles, the mass percentage of alumina particles is 0.5%, the second layer further contains UV-P ultraviolet absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168, The total weight percentage of the ultraviolet absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168 is 2%.

実施例33
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の酸化セリウム粒子を含み、酸化セリウム粒子の質量百分率がいずれも1%であり、第2層にはさらにUV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168が含まれ、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が1.5%であることにある。
Example 33
The difference between this example and Example 25 is that both the second layer and the third layer are polyethylene terephthalate glycol (PETG) and polyethylene terephthalate glycol (PETG) layers dispersed in a sheet-like sheet having an average particle size of 300 nm. containing cerium oxide particles, the mass percentage of the cerium oxide particles being 1%; the second layer further comprising UV531 UV absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168; The total mass percentage of antioxidant 1010 and antioxidant 168 is 1.5%.

実施例34
本実施例の実施例25との違いは、第2層がポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の水酸化アルミニウム、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168を含み、水酸化アルミニウムの質量百分率が1%であり、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が1%であり、第3層にはポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の酸化ジルコニウムが含まれ、酸化ジルコニウムの質量百分率が2%であることにある。
Example 34
The difference between this example and Example 25 is that the second layer is a polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, a sheet-like aluminum hydroxide with an average particle size of 300 nm dispersed in the polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, and UV531 ultraviolet rays. Absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168, with a weight percentage of aluminum hydroxide of 1%, and a sum of weight percentages of UV531 ultraviolet absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168 of 1 %, and the third layer contains a polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer and sheet-like zirconium oxide with an average particle diameter of 300 nm dispersed in the polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, and the mass percentage of zirconium oxide is 2 %.

実施例35
本実施例の実施例25との違いは、第2層がポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径600nmのシート状の水酸化カルシウム粒子、UV-P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率が1%であり、UV-P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が0.5%であり、第3層にはポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径750nmのシート状のアルミナ粒子が含まれ、アルミナ粒子の質量百分率が1%であることにある。
Example 35
The difference between this example and Example 25 is that the second layer is a polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, sheet-like calcium hydroxide particles with an average particle size of 600 nm dispersed in the polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer, UV -P UV absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168, with a mass percentage of calcium hydroxide particles of 1%, and UV-P UV absorber, antioxidant 1010, and antioxidant 168 The total mass percentage is 0.5%, and the third layer contains a polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer and sheet-like alumina particles with an average particle size of 750 nm dispersed in the polyethylene terephthalate glycol (PETG) layer. , the mass percentage of alumina particles is 1%.

実施例31-35のベースフィルムに対して性能テストを行った。第2層及び第3層の光透過率、水蒸気透過率、及び第2層の紫外線遮断率は、いずれも実施例31-35の第2層及び第3層の成分と厚み等のパラメータを参照し、同じ方法によって単層となる第2層及び第3層を押出して測定されたデータの結果を表4に示す。 Performance tests were performed on the base films of Examples 31-35. For the light transmittance, water vapor transmittance, and UV blocking rate of the second layer and the third layer, refer to the parameters such as the components and thickness of the second layer and the third layer in Examples 31-35. Table 4 shows the results of the data measured by extruding the second and third layers, which are monolayers, by the same method.

Figure 0007149983000004
Figure 0007149983000004

実施例36
本実施例は、実施例25のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
Example 36
This example provides a composite film comprising the base film of Example 25, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer laminated in order, wherein the reflective film is made of metallic silver material. and has a thickness of 100 nm.

実施例37
本実施例は、実施例32のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料がZrOであり、厚みが200nmである。
Example 37
This example provides a composite film comprising the base film of Example 32, a reflective film, a second adhesive layer and a base layer laminated in order, wherein the material of the reflective film is ZrO2. , with a thickness of 200 nm.

実施例38
本実施例は、実施例32のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が銀合金であり、厚みが50nmである。
Example 38
This example provides a composite film comprising the base film of Example 32, a reflective film, a second adhesive layer and a substrate layer laminated in order, wherein the reflective film is made of silver alloy. , with a thickness of 50 nm.

実施例36-38の複合フィルムに対して熱反射率、7μm-14μmの大気の窓での放射率、紫外線遮断率、耐用年数を含む性能テストを行った。 The composite films of Examples 36-38 were subjected to performance tests including thermal reflectance, 7 μm-14 μm atmospheric window emissivity, UV blocking rate, and service life.

Figure 0007149983000005
Figure 0007149983000005

実施例39
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は1%である。
Example 39
In the base film of this example, the material of the first layer is PMMA, and the first filler is a mixture of PS microspheres and silicon carbide particles, which is produced by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.49, the refractive index m of the PS microspheres is 1.58, and the absolute value of the refractive index difference x is 0.09. The thickness of the base film is 50 μm, the particle size of the first filler in the base film is 3 μm, the mass percentage of PS microspheres in the first filler is 2%, and the mass percentage of silicon carbide particles is 1%. is.

実施例40
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は1%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は1%である。
Example 40
In the base film of this example, the material of the first layer is PMMA, and the first filler is a mixture of PS microspheres and silicon carbide particles, which is produced by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.49, the refractive index m of the PS microspheres is 1.58, and the absolute value of the refractive index difference x is 0.09. The thickness of the base film is 50 μm, the particle size of the first filler in the base film is 3 μm, the mass percentage of PS microspheres in the first filler is 1%, and the mass percentage of silicon carbide particles is 1%. is.

実施例41
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。本ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は2%である。
Example 41
In the base film of this example, the material of the first layer is PMMA, and the first filler is a mixture of PS microspheres and silicon carbide particles, which is produced by melt mixing method. The refractive index n of the material of the first layer is 1.49, the refractive index m of the PS microspheres is 1.58, and the absolute value of the refractive index difference x is 0.09. The thickness of this base film is 50 μm, the particle size of the first filler in the base film is 3 μm, the mass percentage of PS microspheres in the first filler is 2%, and the mass percentage of silicon carbide particles is 2%. %.

実施例42
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は3%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 42
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. The first layer comprises a polyethylene terephthalate (PET) layer, and PS microspheres with an average particle size of 3 μm and silicon carbide particles dispersed in the polyethylene terephthalate (PET) layer, and the mass percentage of the silicon carbide particles in the first layer is 3%, the mass percentage of PS microspheres is 2%, the second and third layers are both polyethylene terephthalate (PET) layers, the thickness of the first layer is 75 μm, the second layer and Each third layer has a thickness of 25 μm.

実施例43
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は5%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 43
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. The first layer comprises a polyethylene terephthalate (PET) layer, and PS microspheres with an average particle size of 3 μm and silicon carbide particles dispersed in the polyethylene terephthalate (PET) layer, and the mass percentage of the silicon carbide particles in the first layer is 5%, the mass percentage of PS microspheres is 2%, the second and third layers are both polyethylene terephthalate (PET) layers, the thickness of the first layer is 75 μm, the second layer and Each third layer has a thickness of 25 μm.

実施例44
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子であり、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は8%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は1%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
Example 44
The base film comprises a first layer and second and third layers provided on opposite sides of the first layer, wherein the first, second and third layers are three-layer coextruded be done. The first layer is a polyethylene terephthalate (PET) layer, and PS microspheres with an average particle size of 3 μm and silicon carbide particles dispersed in the polyethylene terephthalate (PET) layer, and the mass percentage of the silicon carbide particles in the first layer is 8%, the mass percentage of PS microspheres is 1%, the second and third layers are both polyethylene terephthalate (PET) layers, the thickness of the first layer is 75 μm, the second layer and Each third layer has a thickness of 25 μm.

実施例39-44のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表6に示す。 Performance tests were performed on the base films of Examples 39-44 and the results are shown in Table 6.

Figure 0007149983000006
Figure 0007149983000006

実施例45
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例39のベースフィルムであることにある。
Example 45
The difference of this example from Example 12 is that the base film is the base film of Example 39.

実施例46
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例40のベースフィルムであることにある。
Example 46
The difference of this example from Example 12 is that the base film is the base film of Example 40. FIG.

実施例47
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例41のベースフィルムであることにある。
Example 47
The difference of this example from Example 12 is that the base film of Example 41 is used.

実施例48
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例42のベースフィルムであることにある。
Example 48
The difference of this example from Example 12 is that the base film is the base film of Example 42.

実施例49
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例43のベースフィルムであることにある。
Example 49
The difference of this example from Example 12 is that the base film is the base film of Example 43.

実施例50
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例44のベースフィルムであることにある。
Example 50
The difference of this example from Example 12 is that the base film is the base film of Example 44.

実施例45-50の複合フィルムに対して性能テストを行い、結果を表7に示す。 Performance tests were performed on the composite films of Examples 45-50 and the results are shown in Table 7.

Figure 0007149983000007
Figure 0007149983000007

<産業応用事例1> <Industrial Application Example 1>

複合フィルムがボックス式変電所に適用される場合のボックス式変電所内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、5.58m×2.38m×2.68m(長さ×幅×高さ)のボックス式変電所A及びBを提供した。Aの5つの外面に実施例38の複合フィルムを適用し、Bの外面に対しては何も処理しなかった。 A box of 5.58 m × 2.38 m × 2.68 m (length × width × height) was used to simulate the temperature reduction effect on the inside of the box type substation when the composite film is applied to the box type substation. Type substations A and B were provided. The composite film of Example 38 was applied to the 5 outer surfaces of A, while the outer surface of B was left untreated.

ボックス式変電所内部の高圧キャビネットの中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点A1、B1の温度データを連続的に収集した。図6における温度曲線に示すとおり、図中、C1は温度差曲線であり、図6から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の高圧キャビネットの温度を効果的に低下させることができる。 A temperature measurement point for environmental temperature was set at the center of a high-voltage cabinet inside a box-type substation, and temperature data at temperature measurement points A1 and B1 were continuously collected. As shown in the temperature curve in FIG. 6, C1 is the temperature difference curve, as can be seen from FIG. 6, the composite film can effectively reduce the temperature of the high pressure cabinet of the box substation.

ボックス式変電所内部の変圧器の中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点A2、B2の温度データを連続的に収集した。図7における温度曲線に示すとおり、図中、C2は温度差曲線であり、図7から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の変圧器の温度を効果的に低下させることができる。 A temperature measurement point for environmental temperature was set at the center of the transformer inside the box-type substation, and temperature data at temperature measurement points A2 and B2 were continuously collected. As shown in the temperature curve in FIG. 7, C2 is the temperature difference curve, as can be seen from FIG. 7, the composite film can effectively reduce the temperature of the transformer of the box substation.

ボックス式変電所内部の低電圧配電キャビネットの中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点A3、B3の温度データを連続的に収集した。図8における温度曲線に示すとおり、図中、C3は温度差曲線であり、図8から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の低電圧装置の温度を効果的に低下させることができる。 A temperature measurement point for environmental temperature was set in the middle of the low-voltage distribution cabinet inside the box-type substation, and the temperature data of temperature measurement points A3 and B3 were continuously collected. As shown in the temperature curve in FIG. 8, C3 is the temperature difference curve, as can be seen from FIG. 8, the composite film can effectively reduce the temperature of the low voltage equipment of the box substation.

<産業応用事例2>
太陽光反射フィルムが建物に適用される場合の建物内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、図9に示すようなD、Eの2つのモデルハウスを提供した。モデルハウスは占用面積4m×3m、屋根の高さ2m、屋根の棟の高さ2.5mであり、主な建材は主に鋼材及びプラスチック板材を含む。モデルハウスDの外面が実施例38の複合フィルムで完全に被覆され、モデルハウスEの外面に対しては何も処理しなかった。
<Industrial Application Example 2>
Two model houses D and E as shown in FIG. 9 were provided in order to simulate the temperature reduction effect on the inside of the building when the solar reflective film is applied to the building. The model house has a occupied area of 4m x 3m, a roof height of 2m and a roof ridge height of 2.5m, and the main building materials mainly include steel and plastic plates. The exterior surface of model house D was completely covered with the composite film of Example 38, and the exterior surface of model house E was left untreated.

モデルハウス内の地面からの1.2mの中間位置に温度測定点を設定し、2つのモデルハウス内の温度変化情報を収集した。得られたデータは図10に示すとおり、図中、Fは温度差曲線である。図10から分かるように、複合フィルムはモデルハウスの内部温度を効果的に低下させることができる。 A temperature measurement point was set at an intermediate position 1.2 m from the ground in the model house, and temperature change information in the two model houses was collected. The obtained data are shown in FIG. 10, where F is a temperature difference curve. As can be seen from FIG. 10, the composite film can effectively reduce the internal temperature of the model house.

なお、本願のテスト結果において、「光透過率」とは400nm-760nmの可視波長に対する透過率であり、熱反射率とは300nm-2500のnm波長域に対する反射率である。 In the test results of the present application, "light transmittance" means transmittance for visible wavelengths of 400 nm to 760 nm, and heat reflectance means reflectance for a wavelength range of 300 nm to 2500 nm.

上記実施例の各技術的特徴は任意に組み合わせてもよい。説明を簡潔にするために、上記実施例の各技術的特徴のすべての可能な組み合わせが説明されているわけではない。しかしながら、これらの技術的特徴の組み合わせに矛盾がない限り、すべてが本明細書の範囲であると考えるべきである。 Each technical feature of the above embodiments may be combined arbitrarily. In order to simplify the description, not all possible combinations of each technical feature of the above embodiments have been described. However, as long as there is no contradiction in the combination of these technical features, all should be considered within the scope of this specification.

上記実施例は本願のいくつかの実施形態を表現しているに過ぎず、その説明はより具体的で詳細であるが、本出願特許の範囲を限定すると解釈すべきではない。当業者の場合、本願の概念から逸脱することなく、いくつかの変形及び改善を行ってもよく、これらはすべて本願の保護範囲内にあることに留意するべきである。したがって、本発明の保護範囲は、添付の特許請求の範囲に制約されるものとする。 Although the above examples merely represent some embodiments of the present application, and the description thereof is more specific and detailed, they should not be construed as limiting the scope of the present patent application. It should be noted that those skilled in the art may make some modifications and improvements without departing from the concept of the present application, which are all within the protection scope of the present application. Therefore, the protection scope of the present invention shall be restricted by the attached claims.

図中:1、基体 2、複合フィルム 3、第1貼着層 21、ベースフィルム 22、反射フィルム 23、第2貼着層 24、基材層 211、第1層 212、第1充填材 213、第2層 214、第2充填材 215、第3層 216、第3充填材 In the figure: 1, substrate 2, composite film 3, first adhesive layer 21, base film 22, reflective film 23, second adhesive layer 24, substrate layer 211, first layer 212, first filler 213, Second layer 214, second filler 215, third layer 216, third filler

Claims (21)

ベースフィルムであって、第1層及び第1充填材を含み、前記第1充填材は前記第1層に分散し、前記第1層の材料の屈折率をn(1.3-1.7)とし、前記第1充填材の屈折率をmとし、nとmの差をxとすると、xの絶対値は0.0005以上であり、前記ベースフィルムは7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500のnm波長域での熱反射率が10%以上であり、光沢度が20GU以下であり、前記ベースフィルムは、前記第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層をさらに含み、前記第2層に第2充填材がさらに分散し前記第3層に第3充填材がさらに分散し前記第2充填材及び前記第3充填材は水分が前記第1層に浸透することを遮断することができ、前記第2充填材は前記第2層内の水分の浸透の一部を阻止し、前記第3充填材は前記第3層内の水分の浸透の一部を阻止することを特徴とするベースフィルム。 A base film comprising a first layer and a first filler, the first filler dispersed in the first layer, wherein the refractive index of the material of the first layer is n(1.3-1.7 ), the refractive index of the first filler is m, the difference between n and m is x, the absolute value of x is 0.0005 or more, and the base film has a refractive index of 7 μm to 14 μm at an atmospheric window. It has an emissivity of 80% or more, a heat reflectance of 10% or more in the nm wavelength range of 300 nm to 2500, and a glossiness of 20 GU or less, and the base film is provided on both opposite sides of the first layer. Further comprising a second layer and a third layer provided on the surface, the second layer further dispersed with a second filler , the third layer further dispersed with a third filler , the second filler and The third filler is capable of blocking moisture from penetrating the first layer, the second filler blocks a portion of moisture penetration in the second layer, and the third filler is blocks a portion of the penetration of moisture in said third layer . 前記第1層、前記第2層、及び前記第3層は共押出成形され、前記第2層と前記第1層の厚みの比は1:1-1:20であり、前記第3層と前記第1層の厚みの比は1:1-1:20であることを特徴とする請求項1に記載のベースフィルム。 The first layer, the second layer, and the third layer are co-extruded, the thickness ratio of the second layer to the first layer is 1:1-1:20, and the third layer and The base film of claim 1, wherein the first layer has a thickness ratio of 1:1-1:20. 前記第1層の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。 3. The base film according to claim 1, wherein the material of the first layer contains at least one of polyesters, polyacrylates, polyamides, polyurethanes, polyolefins and fluororesins. 前記ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステルのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアクリレート類はアクリロニトリル-ブタジエン-スチレンプラスチック、ポリメチルメタクリレートのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアミド類はナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ナイロン1010のうちの少なくとも1種を含み、前記ポリオレフィン類はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(4-メチル-1-ペンテン)のうちの少なくとも1種を含み、前記フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項3に記載のベースフィルム。 The polyesters include at least one of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate glycol, polyethylene terephthalate-1,4-cyclohexanedimethanol ester, and the polyacrylates are acrylonitrile-butadiene-styrene plastics. , polymethyl methacrylate, said polyamides comprising at least one of nylon 6, nylon 66, nylon 12, nylon 1010, said polyolefins comprising polyethylene, polypropylene, poly(4-methyl -1-pentene), and the fluorine resin contains at least one of tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, polyvinylidene fluoride, and ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer. The base film according to claim 3, characterized in that: 前記第2層の材料及び前記第3層の材料はいずれも前記第1層の材料と同じであることを特徴とする請求項3に記載のベースフィルム。 4. The base film of claim 3, wherein the material of the second layer and the material of the third layer are the same as the material of the first layer. 前記第1充填材は有機充填材、無機充填材のうちの少なくとも1種を含み、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%-20%であることを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。 The first filler comprises at least one of an organic filler and an inorganic filler, and the mass percentage of the first filler in the first layer is 2%-20%. 3. The base film according to 1 or 2. 前記第1充填材は有機充填材であり、xの絶対値は0.05以上であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%-5%であり、前記有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項6に記載のベースフィルム。 The first filler is an organic filler, the absolute value of x is 0.05 or more, the mass percentage of the first filler in the first layer is 2%-5%, and the organic filler is 7. The base film of claim 6, wherein the base film comprises at least one of polyacrylate particles, polystyrene particles, polyurethane particles, polymethylmethacrylate particles, epoxy resin particles. 前記有機充填材の融点は前記第1層の材料の融点より高いことを特徴とする請求項7に記載のベースフィルム。 8. The base film of claim 7, wherein the melting point of the organic filler is higher than the melting point of the material of the first layer. 前記有機充填材は中空充填材であることを特徴とする請求項7に記載のベースフィルム。 8. The base film of claim 7, wherein the organic filler is a hollow filler. 前記第1充填材は無機充填材であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は3%以上であり、前記無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項6に記載のベースフィルム。 The first filler is an inorganic filler, the mass percentage of the first filler in the first layer is 3% or more, and the inorganic filler is titanium nitride particles, titanium dioxide particles, silicon carbide particles, silica 7. The base film of claim 6, comprising at least one of particles, barium sulfate particles, calcium sulfate particles, calcium carbonate particles. 前記第1層はセルを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。 3. The base film of claim 1 or 2, wherein the first layer comprises cells. 前記第1充填材の粒径は0.1μm-20μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。 3. The base film according to claim 1, wherein the particle size of the first filler is 0.1 μm-20 μm. 前記第1層の厚みは25μm以上であり、前記第2層の厚み及び前記第3層の厚みはいずれも5μm以上であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。 3. The base film according to claim 2, wherein the thickness of the first layer is 25 [mu]m or more, and the thickness of the second layer and the thickness of the third layer are both 5 [mu]m or more. 前記第2層における前記第2充填材の質量百分率は0.5%-2%であり、
及び/又は、前記第3層における前記第3充填材の質量百分率は0.5%-2%であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。
The mass percentage of the second filler in the second layer is 0.5%-2%,
and/or wherein the mass percentage of said third filler in said third layer is 0.5%-2%.
前記第2層の光透過率は82%以上であり、前記第2層の水蒸気透過率は10g/(m・24h)以下であり、
及び/又は、前記第3層の光透過率は82%以上であり、前記第3層の水蒸気透過率は10g/(m・24h)以下であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。
The light transmittance of the second layer is 82% or more, and the water vapor transmission rate of the second layer is 10 g/(m 2 ·24 h) or less,
and/or, the third layer has a light transmittance of 82% or more and a water vapor transmission rate of 10 g/(m 2 ·24 h) or less, according to claim 2. base film.
前記第2層は紫外線吸収剤をさらに含み、前記第2層の紫外線遮断率は80%以上であり、
及び、前記第2層は酸化防止剤をさらに含み、前記第2層における前記酸化防止剤と前記紫外線吸収剤の質量百分率の合計が0.5%-4%であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。
The second layer further contains an ultraviolet absorber, and the ultraviolet blocking rate of the second layer is 80% or more,
And, the second layer further comprises an antioxidant, and the sum of the mass percentages of the antioxidant and the ultraviolet absorber in the second layer is 0.5%-4%. 2. The base film according to 2.
前記ベースフィルムの光透過率は82%以上であることを特徴とする請求項1に記載のベースフィルム。 The base film of claim 1, wherein the base film has a light transmittance of 82% or more. 複合フィルムであって、請求項1-17のいずれか1項に記載のベースフィルムと、前記ベースフィルムに順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層、及び基材層を含み、前記複合フィルムは光沢度が70GU以下であり、7μm-14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm-2500のnm波長域での熱反射率が85%以上であることを特徴とする複合フィルム。 A composite film comprising the base film according to any one of claims 1 to 17, and a reflective film, a second adhesive layer, and a base layer laminated in order on the base film, The composite film has a glossiness of 70 GU or less, an emissivity of 80% or more at an atmospheric window of 7 μm to 14 μm, and a heat reflectance of 85% or more in a wavelength range of 300 nm to 2500 nm. A composite film characterized by: 前記反射フィルムの材料は金属材料及び/又はセラミック材料であることを特徴とする請求項18に記載の複合フィルム。 19. The composite film according to claim 18, characterized in that the material of said reflective film is metallic material and/or ceramic material. 請求項18-19のいずれか1項に記載の複合フィルムを含む製品であって、基体と、前記基体の表面に順に積層して設けられた第1貼着層及び複合フィルムを含み、前記複合フィルムにおける基材層が前記第1貼着層に貼着されることを特徴とする製品。 A product comprising the composite film according to any one of claims 18 to 19, comprising a substrate, and a first adhesive layer and a composite film laminated in order on the surface of the substrate, wherein the composite A product, wherein a base layer of a film is attached to the first adhesive layer. 前記基体は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項20に記載の複合フィルムを含む製品。 21. The article of manufacture, including composite film, of claim 20, wherein the substrate comprises at least one of metal, plastic, glass, rubber, pitch, cement, and fabric.
JP2020090763A 2019-12-31 2020-05-25 Products containing base films, composite films, and composite films Active JP7149983B2 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911425218.0A CN111114031B (en) 2019-12-31 2019-12-31 Radiation refrigeration film, radiation refrigeration composite film and radiation refrigeration product
CN201911425218.0 2019-12-31
CN202010076462.7A CN111267432A (en) 2020-01-23 2020-01-23 Radiation refrigerating film
CN202010076462.7 2020-01-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021109955A JP2021109955A (en) 2021-08-02
JP7149983B2 true JP7149983B2 (en) 2022-10-07

Family

ID=77059197

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020090763A Active JP7149983B2 (en) 2019-12-31 2020-05-25 Products containing base films, composite films, and composite films

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7149983B2 (en)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001348989A (en) 2000-06-09 2001-12-21 Asahi Fiber Glass Co Ltd Low emissivity ceiling material
JP2012056138A (en) 2010-09-07 2012-03-22 Toyo Hozai Kk Heat shielding insulation film
JP2014040035A (en) 2012-08-22 2014-03-06 Hiraoka & Co Ltd Heat control sheet
WO2016208331A1 (en) 2015-06-22 2016-12-29 富士フイルム株式会社 Heat ray shielding material, building member using same, cage member, and lateral-surface wall
JP2017030235A (en) 2015-07-31 2017-02-09 富士フイルム株式会社 Heat-shielding material, heat-insulating material and window glass
JP2018183972A (en) 2017-04-27 2018-11-22 大日本印刷株式会社 Thermal-insulating and moisture-permeable waterproof sheet and laminate for building material using the same
JP2019059180A (en) 2017-09-27 2019-04-18 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material using the same
CN110103559A (en) 2019-05-13 2019-08-09 宁波瑞凌新能源科技有限公司 A kind of radiation cooling material and its preparation method and application

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001348989A (en) 2000-06-09 2001-12-21 Asahi Fiber Glass Co Ltd Low emissivity ceiling material
JP2012056138A (en) 2010-09-07 2012-03-22 Toyo Hozai Kk Heat shielding insulation film
JP2014040035A (en) 2012-08-22 2014-03-06 Hiraoka & Co Ltd Heat control sheet
WO2016208331A1 (en) 2015-06-22 2016-12-29 富士フイルム株式会社 Heat ray shielding material, building member using same, cage member, and lateral-surface wall
JP2017030235A (en) 2015-07-31 2017-02-09 富士フイルム株式会社 Heat-shielding material, heat-insulating material and window glass
JP2018183972A (en) 2017-04-27 2018-11-22 大日本印刷株式会社 Thermal-insulating and moisture-permeable waterproof sheet and laminate for building material using the same
JP2019059180A (en) 2017-09-27 2019-04-18 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material using the same
CN110103559A (en) 2019-05-13 2019-08-09 宁波瑞凌新能源科技有限公司 A kind of radiation cooling material and its preparation method and application
WO2020228098A1 (en) 2019-05-13 2020-11-19 宁波瑞凌新能源科技有限公司 Radiation cooling material, preparation method therefor and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021109955A (en) 2021-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111114031B (en) Radiation refrigeration film, radiation refrigeration composite film and radiation refrigeration product
JP4791490B2 (en) Solar cell backsheet
US8199406B2 (en) Optical element and method for manufacturing the same
CN103153616B (en) Fluoropolymer composition
CN110972467A (en) Composite radiation refrigeration film, composite radiation refrigeration film material and application thereof
CN103921519B (en) A kind of solar cell backboard film and preparation method thereof
KR102701535B1 (en) Radiative cooling multi-layer film
CN112385050B (en) Near infrared reflective multilayer material sheet
CN108767041A (en) A kind of method and device improving photovoltaic optoelectronic transformation efficiency
CN111806020B (en) Refrigeration film, article comprising refrigeration film
CN106626645A (en) Polyester film, solar cell back plate and preparation method of solar cell back plate
JPH11240112A (en) Anti-fog laminate
CN210390369U (en) Oxidation-resistant radiation refrigeration film
CN109572114A (en) A kind of oxidation resistant radiation refrigeration film
CN103153615B (en) multilayer components
KR101350557B1 (en) Back sheet for solar cell module and solar cell module comprising the same
JP7149983B2 (en) Products containing base films, composite films, and composite films
CN106611802B (en) A kind of E-film for solar back panel material
CN111923536B (en) Radiation refrigeration film, method of manufacture, and article
KR20220071613A (en) Radiative cooling multi-layer film
US11561332B2 (en) Infrared shielding film and method for manufacturing the same
KR20230074367A (en) Radiative cooling multi-layer film
JP5705769B2 (en) Protective sheet for solar cell and method for manufacturing the same, back sheet for solar cell, and solar cell module
CN204955576U (en) Ray radiation separation film
JP7816893B2 (en) Transparent plastic sheet for blocking ultraviolet and infrared rays

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210525

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210820

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211116

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220531

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220830

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220927

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7149983

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250