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JP7213155B2 - Hydrogen production equipment - Google Patents
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Description

本発明は、水素製造装置に関する。 The present invention relates to a hydrogen production device.

従来、水素を得るための水素製造装置としては、原料炭化水素を改質装置で改質ガスに改質した後、PSA(Pressure Swing Adsorption)装置へ供給するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1の水素製造装置では、都市ガスと共に改質水を改質器へ供給し、水蒸気改質により水素を含む改質ガスを生成し、当該改質ガスを水素精製器で精製することにより、純度の高い製品水素を製造している。 Conventionally, as a hydrogen production apparatus for obtaining hydrogen, there is known one in which raw hydrocarbon is reformed into a reformed gas in a reformer and then supplied to a PSA (Pressure Swing Adsorption) device (for example, patent Reference 1). In the hydrogen production apparatus of Patent Document 1, reformed water is supplied to the reformer together with city gas, a reformed gas containing hydrogen is generated by steam reforming, and the reformed gas is purified by a hydrogen purifier. , which produces high-purity product hydrogen.

特許5936491号Patent No. 5936491

ところで、製品水素については、高い水素純度が求められており、PSAで精製された水素ガスの水素濃度を測定する場合がある。水素濃度の測定に用いられた水素ガスは、通常大気へ放散されているが、放散される水素ガスが多いと、原料に対して製造できる製品水素水の割合が低くなり、水素製造効率が低下する。 By the way, product hydrogen is required to have high hydrogen purity, and the hydrogen concentration of hydrogen gas purified by PSA may be measured. The hydrogen gas used to measure the hydrogen concentration is normally diffused into the atmosphere, but if there is a large amount of hydrogen gas that is diffused, the ratio of the product hydrogen water that can be produced to the raw material will be low, and the hydrogen production efficiency will decrease. do.

本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであり、水素製造効率の低下を抑制しつつ製品水素の濃度を測定することの可能な水素製造装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a hydrogen production apparatus capable of measuring the concentration of product hydrogen while suppressing a decrease in hydrogen production efficiency.

請求項1に係る水素製造装置は、原料を改質し水素を主成分とした改質ガスを生成する改質器と、前記改質ガスから水素ガスを分離する水素分離器と、前記水素分離器で分離された水素ガスが流入され、前記水素ガスの水素濃度を測定する水素濃度測定器と、前記改質器と前記水素分離器との間の改質ガス流路に設けられ、前記改質ガスを一時貯留する改質ガスタンクと、前記改質ガスタンクよりも下流側、且つ前記水素分離器よりも上流側に設けられ、前記改質ガスを昇圧する圧縮機と、前記水素濃度測定器から送出された濃度測定後水素ガスを前記改質ガスタンクへ供給する改質下流側合流配管を含む製品水素回収部と、前記改質下流側合流配管に設けられ、前記濃度測定後水素ガスを前記改質ガスタンクへ送出するブロワと、を備えている。 A hydrogen production apparatus according to claim 1 comprises a reformer that reforms a raw material to generate a reformed gas containing hydrogen as a main component, a hydrogen separator that separates hydrogen gas from the reformed gas, and the hydrogen separator. A hydrogen concentration measuring device for measuring the hydrogen concentration of the hydrogen gas into which the hydrogen gas separated by the device flows , and a reformed gas flow path between the reformer and the hydrogen separator, the reformer a reformed gas tank for temporarily storing the reformed gas; a compressor provided downstream from the reformed gas tank and upstream from the hydrogen separator for pressurizing the reformed gas; a product hydrogen recovery unit including a reforming downstream junction pipe for supplying the sent concentration-measured hydrogen gas to the reformed gas tank; a blower delivering to the quality gas tank .

請求項1に係る水素製造装置は、改質器と水素分離器を備えている。改質器では、原料を改質して水素を主成分とした改質ガスが生成される。水素分離器では、改質ガスから水素ガスが分離される。水素分離器で分離された水素ガスは、水素濃度測定器へ流入して水素濃度が測定される。水素濃度測定器へ流入する水素ガスは、水素分離器で分離された水素ガスの一部である。水素濃度が測定された後に、水素濃度測定器から水素ガスが送出され(濃度測定後水素ガス)、当該濃度測定後水素ガスは、製品水素回収部によって、直接または間接的に製品水素と合流される。これにより、濃度測定に用いられた水素ガスを製品水素にすることができるため、水素製造効率の低下を抑制しつつ製品水素の濃度を測定することができる。 A hydrogen production apparatus according to claim 1 comprises a reformer and a hydrogen separator. The reformer reforms the raw material to generate a reformed gas containing hydrogen as a main component. The hydrogen separator separates hydrogen gas from the reformed gas. The hydrogen gas separated by the hydrogen separator flows into the hydrogen concentration measuring device and the hydrogen concentration is measured. The hydrogen gas flowing into the hydrogen concentration measuring device is part of the hydrogen gas separated by the hydrogen separator. After the hydrogen concentration is measured, hydrogen gas is delivered from the hydrogen concentration measuring device (post-concentration measurement hydrogen gas), and the post-concentration measurement hydrogen gas is directly or indirectly combined with the product hydrogen by the product hydrogen recovery unit. be. As a result, the hydrogen gas used for the concentration measurement can be used as product hydrogen, so that the concentration of product hydrogen can be measured while suppressing a decrease in hydrogen production efficiency.

請求項1に係る水素製造装置は、前記製品水素回収部は、前記濃度測定後水素ガスを昇圧させるブロワを含んで形成されている。 In the hydrogen production apparatus according to claim 1 , the product hydrogen recovery unit includes a blower for increasing the pressure of the hydrogen gas after the concentration measurement.

請求項1に係る水素製造装置によれば、水素濃度測定器から送出された濃度測定後水素ガスをブロワで昇圧するので、供給先との圧力差があってもスムーズに濃度測定後水素ガスを供給することができる。 According to the hydrogen production apparatus of claim 1 , the hydrogen gas after concentration measurement sent from the hydrogen concentration measuring device is pressurized by the blower, so even if there is a pressure difference with the supply destination, the hydrogen gas after concentration measurement is smoothly supplied can supply.

請求項2に係る水素製造装置は、前記製品水素回収部は、前記濃度測定後水素ガスを前記原料と合流させる原料合流配管を含んでいる。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a hydrogen production apparatus, wherein the product hydrogen recovering section includes a raw material merging pipe for merging the hydrogen gas after the concentration measurement with the raw material.

請求項2に係る水素製造装置によれば、濃度測定後水素ガスを原料として戻すことにより、最終的に製品水素とすることができる。 According to the hydrogen production apparatus according to claim 2 , by returning the hydrogen gas as a raw material after the concentration measurement, the final product hydrogen can be obtained.

請求項1に係る水素製造装置は、前記改質器と前記水素分離器との間の改質ガス流路には、前記改質ガスを一時貯留する改質ガスタンク、及び、前記改質ガスタンクよりも下流側に前記改質ガスを昇圧する圧縮機が設けられ、前記製品水素回収部は、前記改質ガスタンクへ前記濃度測定後水素ガスを供給する、改質下流側合流配管を含んで形成されている。 In the hydrogen production apparatus according to claim 1 , the reformed gas flow path between the reformer and the hydrogen separator includes a reformed gas tank for temporarily storing the reformed gas, and A compressor for pressurizing the reformed gas is provided on the downstream side, and the product hydrogen recovery unit is formed including a reforming downstream confluence pipe for supplying the hydrogen gas after concentration measurement to the reformed gas tank. ing.

請求項1に係る水素製造装置によれば、濃度測定後水素ガスを改質ガスタンクへ供給することにより、最終的に製品水素とすることができる。また、改質ガスタンクの圧力変動を吸収して、安定して改質ガスを圧縮機へ供給することができる。 According to the hydrogen production apparatus of claim 1 , by supplying the hydrogen gas after concentration measurement to the reformed gas tank, it is possible to finally obtain product hydrogen. In addition, it is possible to absorb pressure fluctuations in the reformed gas tank and stably supply the reformed gas to the compressor.

請求項3に係る水素製造装置は、前記製品水素回収部は、前記濃度測定後水素ガスを製品水素が貯留される製品水素タンクへ供給する製品水素タンク配管を含んでいる。 In the hydrogen production apparatus according to claim 3 , the product hydrogen recovery section includes a product hydrogen tank pipe for supplying the concentration-measured hydrogen gas to a product hydrogen tank in which the product hydrogen is stored.

請求項3に係る水素製造装置によれば、製品水素タンク配管を介して濃度測定後水素ガスを製品水素タンクへ供給することにより、直接的に製品水素とすることができる。 According to the hydrogen production apparatus according to claim 3 , by supplying the hydrogen gas after concentration measurement to the product hydrogen tank via the product hydrogen tank piping, it is possible to directly obtain product hydrogen.

本発明によれば、水素製造効率の低下を抑制しつつ製品水素の濃度を測定することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the density|concentration of product hydrogen can be measured, suppressing the fall of hydrogen production efficiency.

第1実施形態に係る水素製造装置を示した概略構成図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic block diagram which showed the hydrogen production apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る水素製造装置を示した概略構成図である。It is a schematic block diagram showing a hydrogen production apparatus according to a second embodiment. 第3実施形態に係る水素製造装置を示した概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a hydrogen production device according to a third embodiment; 第4実施形態に係る水素製造装置を示した概略構成図である。It is a schematic block diagram showing a hydrogen production apparatus according to a fourth embodiment. 第4実施形態に係る水素製造装置の変形例を示した概略構成図である。It is a schematic block diagram which showed the modification of the hydrogen production apparatus which concerns on 4th Embodiment.

<第1実施形態>
本発明の第1実施形態に係る水素製造装置の一例を図1に従って説明する。
<First embodiment>
An example of the hydrogen production apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態に係る水素製造装置10Aは、図1に示されるように、改質器12、圧縮機14、水素精製器16、及び、オフガスタンク18を備えている。また、昇圧前水分離部30、昇圧後水分離部32、及び、燃焼排ガス水分離部34を備えている。さらに、水素濃度測定器としての分析装置52を備えている。この水素製造装置10Aは、炭化水素原料から水素を製造するものであり、本実施形態では、炭化水素原料の一例としてメタンを主成分とする都市ガスが用いられる場合について説明する。なお、図1では、水素製造装置10Aの構成を概略的に示しており、水素製造装置10Aは、他の構成を含んでいてもよい。 A hydrogen production apparatus 10A according to this embodiment includes a reformer 12, a compressor 14, a hydrogen purifier 16, and an offgas tank 18, as shown in FIG. In addition, a pre-pressurization water separation section 30 , a post-pressurization water separation section 32 , and a combustion exhaust gas water separation section 34 are provided. Furthermore, an analysis device 52 is provided as a hydrogen concentration measuring device. 10 A of this hydrogen production apparatus produce hydrogen from a hydrocarbon raw material, and this embodiment demonstrates the case where the city gas which has methane as a main component is used as an example of a hydrocarbon raw material. Note that FIG. 1 schematically shows the configuration of the hydrogen production device 10A, and the hydrogen production device 10A may include other configurations.

(改質器)
改質器12は、原料として供給される都市ガスと改質用の水とを混合しつつ加熱し、混合ガスを発生させる予熱流路22と、水蒸気改質反応によって、混合ガスから水素を主成分とする改質ガスG1を生成する改質触媒層24とを備える。また、改質反応の熱源となる燃焼部28を備える。改質ガスG1には、水素、一酸化炭素、水蒸気、メタンが含まれている。また、改質器12は、改質ガスG1に含まれる一酸化炭素と水蒸気とを反応させて、水素と二酸化炭素とに変換するCO変成触媒層26を備える。改質ガスG2では、改質ガスG1に比べ、一酸化炭素が低減される。改質器12としては、筒状の部材を同心円状に配置して構成される多重筒型改質器等を用いることができる。
(reformer)
The reformer 12 mixes and heats the city gas supplied as a raw material and the water for reforming to generate a mixed gas, and the steam reforming reaction causes hydrogen to be mainly produced from the mixed gas. and a reforming catalyst layer 24 for generating a reformed gas G1 as a component. It also has a combustion section 28 that serves as a heat source for the reforming reaction. The reformed gas G1 contains hydrogen, carbon monoxide, water vapor, and methane. The reformer 12 also includes a CO conversion catalyst layer 26 that reacts carbon monoxide and water vapor contained in the reformed gas G1 to convert them into hydrogen and carbon dioxide. The reformed gas G2 contains less carbon monoxide than the reformed gas G1. As the reformer 12, a multiple cylindrical reformer or the like configured by concentrically arranging cylindrical members can be used.

改質器12の予熱流路22には、原料として都市ガスを供給するための原料供給管P1、及び、改質水を供給するための改質水供給管P9が接続されている。予熱流路22には、原料供給管P1から都市ガスが供給され、改質水供給管P9から改質水が供給される。都市ガス及び改質水は、予熱流路22を流れ、燃焼部28からの熱により加熱され、水が気化され、都市ガス及び気相の改質用水(水蒸気)が混合されることにより、混合ガスが生成される。 To the preheating flow path 22 of the reformer 12, a raw material supply pipe P1 for supplying city gas as a raw material and a reforming water supply pipe P9 for supplying reforming water are connected. City gas is supplied to the preheating flow path 22 from the raw material supply pipe P1, and reforming water is supplied from the reforming water supply pipe P9. The city gas and the reformed water flow through the preheating flow path 22, are heated by the heat from the combustion section 28, the water is vaporized, and the city gas and the gas-phase reforming water (steam) are mixed together. A gas is produced.

予熱流路22を経た混合ガスは、改質触媒層24へ供給される。改質触媒層24には、都市ガスを水蒸気改質して水素を主成分とする改質ガスを生成するための触媒が設けられている。予熱流路22にて生成された混合ガスは、改質触媒層24で燃焼部28からの熱により加熱され、水蒸気改質反応、二酸化炭素改質反応によって、水素を主成分とする改質ガスG1が生成される。 The mixed gas that has passed through the preheating flow path 22 is supplied to the reforming catalyst layer 24 . The reforming catalyst layer 24 is provided with a catalyst for steam reforming city gas to generate a reformed gas containing hydrogen as a main component. The mixed gas generated in the preheating flow path 22 is heated in the reforming catalyst layer 24 by heat from the combustion section 28, and is converted into a reformed gas containing hydrogen as a main component by a steam reforming reaction and a carbon dioxide reforming reaction. G1 is generated.

改質触媒層24で生成された改質ガスG1は、CO変成触媒層26へ送出される。CO変成触媒層26では、改質ガスに含まれる一酸化炭素と水蒸気が反応して、水素と二酸化炭素に変換され、一酸化炭素が低減される。なお、CO変成触媒層26よりも下流に、更に一酸化炭素を除去するためのCO選択酸化触媒層を設けてもよい。CO変成触媒層26、またはCO変成触媒層26及びCO選択酸化触媒層を経た改質ガスG2は、改質ガス排出管P3へ送出される。 The reformed gas G<b>1 produced in the reforming catalyst layer 24 is sent to the CO conversion catalyst layer 26 . In the CO conversion catalyst layer 26, carbon monoxide contained in the reformed gas reacts with water vapor to be converted into hydrogen and carbon dioxide, thereby reducing carbon monoxide. A CO selective oxidation catalyst layer for removing carbon monoxide may be further provided downstream of the CO conversion catalyst layer 26 . The reformed gas G2 that has passed through the CO conversion catalyst layer 26 or the CO conversion catalyst layer 26 and the CO selective oxidation catalyst layer is sent to the reformed gas discharge pipe P3.

燃焼部28には、オフガス管P7が接続されており、後述するオフガスがオフガス管P7から燃料として供給される。さらに、この燃焼部28の上端部には、燃焼用空気を供給するための空気供給管P2が接続されている。また、燃焼部28には、さらに原料供給管P1から分岐された原料分岐管P1Aが接続されている。原料分岐管P1Aには、空気供給管P2から分岐された空気分岐管P2Aが接続されている。燃焼部28には、都市ガスに空気が混合された気体が、オフガスとは別に供給される。燃焼用のオフガスと都市ガスは、いずれか一方、または両方が、必要に応じて供給される。 An off-gas pipe P7 is connected to the combustion unit 28, and off-gas, which will be described later, is supplied as fuel from the off-gas pipe P7. Furthermore, an air supply pipe P2 for supplying combustion air is connected to the upper end of the combustion section 28 . A raw material branch pipe P1A branched from the raw material supply pipe P1 is also connected to the combustion section 28 . An air branch pipe P2A branched from the air supply pipe P2 is connected to the raw material branch pipe P1A. A gas obtained by mixing city gas with air is supplied to the combustion unit 28 separately from the off-gas. Either one or both of off-gas and town gas for combustion are supplied as required.

燃焼部28からの燃焼排ガスは、改質器12内での熱交換のための流路(不図示)へ送出される。熱交換後の燃焼排ガスは、改質器12の外のガス排出管P10へ排出される。 The combustion exhaust gas from the combustion section 28 is sent to a flow path (not shown) for heat exchange within the reformer 12 . The combustion exhaust gas after heat exchange is discharged to the gas discharge pipe P10 outside the reformer 12 .

改質器12から改質ガス排出管P3へ送出された改質ガスは、図1に示すように、昇圧前水分離部30、圧縮機14、昇圧後水分離部32、及び水素精製器16をこの順番で流れる。つまり、ガスの流れ方向において、上流側から下流側に、改質器12、昇圧前水分離部30、圧縮機14、昇圧後水分離部32、及び水素精製器16がこの順番で配置されている。 As shown in FIG. 1, the reformed gas sent from the reformer 12 to the reformed gas discharge pipe P3 passes through the pre-pressurization water separator 30, the compressor 14, the post-pressurization water separator 32, and the hydrogen purifier 16. flow in this order. That is, the reformer 12, the pre-pressurization water separator 30, the compressor 14, the post-pressurization water separator 32, and the hydrogen purifier 16 are arranged in this order from the upstream side to the downstream side in the gas flow direction. there is

(昇圧前分離部)
昇圧前水分離部30は、上部が気体室30Aとされ、下部が液体室30Bとされている。気体室30Aには、改質ガス排出管P3の下流端が接続されている。また、気体室30Aには、連絡流路管P4の上流端が接続されている。液体室30Bの底部には、改質ガス水配管P8Aが接続されている。改質ガス中の水蒸気は、昇圧前水分離部30の上流に配置された熱交換器HE1において冷却されることによって凝縮される。凝縮により改質ガスから分離された水は、液体室30Bに貯留され、改質ガス水配管P8Aへ送出される。
(separation section before boosting)
The pre-pressurization water separation unit 30 has a gas chamber 30A in the upper portion and a liquid chamber 30B in the lower portion. A downstream end of a reformed gas discharge pipe P3 is connected to the gas chamber 30A. The gas chamber 30A is also connected to the upstream end of the communication channel pipe P4. A reformed gas water pipe P8A is connected to the bottom of the liquid chamber 30B. The water vapor in the reformed gas is cooled and condensed in the heat exchanger HE<b>1 arranged upstream of the pre-pressurization water separation section 30 . The water separated from the reformed gas by condensation is stored in the liquid chamber 30B and sent to the reformed gas water pipe P8A.

(圧縮機)
圧縮機14には、昇圧前水分離部30からの改質ガスが流れる連絡流路管P4と、昇圧後水分離部32へ供給される改質ガスが流れる連絡流路管P5とが接続されている。圧縮機14は、昇圧前水分離部30から供給された改質ガスを圧縮して昇圧し、昇圧後水分離部32へ供給する。
(compressor)
Connected to the compressor 14 are a communication channel pipe P4 through which the reformed gas from the pre-pressurization water separation unit 30 flows, and a communication channel pipe P5 through which the reformed gas supplied to the post-pressurization water separation unit 32 flows. ing. The compressor 14 compresses and pressurizes the reformed gas supplied from the pre-pressurization water separation unit 30 , and supplies the pressurized pressurized gas to the post-pressurization water separation unit 32 .

圧縮機14よりも上流側、昇圧前水分離部30よりも下流側には、バッファタンク35が設けられている。バッファタンク35は、昇圧前水分離部30から供給される改質ガスを蓄積する。バッファタンク35で一旦蓄積された改質ガスが、圧縮機14へ送出される。また、バッファタンク35には、後述する、濃度測定後水素ガス排出管P14が接続されている。 A buffer tank 35 is provided upstream of the compressor 14 and downstream of the pre-pressurization water separator 30 . The buffer tank 35 accumulates the reformed gas supplied from the pre-pressurization water separator 30 . The reformed gas temporarily accumulated in the buffer tank 35 is delivered to the compressor 14 . The buffer tank 35 is also connected to a post-concentration measurement hydrogen gas discharge pipe P14, which will be described later.

(昇圧後分離部)
昇圧後水分離部32は、上部が気体室32Aとされ、下部が液体室32Bとされている。気体室32Aには、連絡流路管P5の下流端が接続されている。また、気体室32Aには、連絡流路管P6の上流端が接続されている。液体室32Bの底部には、改質ガス水配管P8Bが接続されている。改質ガス中の水蒸気は、昇圧後水分離部32の上流に配置された熱交換器HE2において冷却されることによって凝縮される。凝縮により改質ガスから分離された水は、液体室32Bに貯留され、改質ガス水配管P8Bへ送出される。
(separation section after boosting)
The post-pressurization water separation section 32 has a gas chamber 32A in the upper portion and a liquid chamber 32B in the lower portion. The gas chamber 32A is connected to the downstream end of the communication channel pipe P5. The gas chamber 32A is also connected to the upstream end of the communication flow path pipe P6. A reformed gas water pipe P8B is connected to the bottom of the liquid chamber 32B. The steam in the reformed gas is condensed by being cooled in the heat exchanger HE2 arranged upstream of the water separator 32 after pressurization. The water separated from the reformed gas by condensation is stored in the liquid chamber 32B and sent to the reformed gas water pipe P8B.

昇圧後水分離部32よりも下流側、水素精製器16よりも上流側には、バッファタンク36が設けられている。バッファタンク36は、昇圧後水分離部32から供給される改質ガスを蓄積する。バッファタンク36で一旦蓄積された改質ガスは、水素精製器16へ送出される。 A buffer tank 36 is provided downstream of the post-pressurization water separator 32 and upstream of the hydrogen purifier 16 . The buffer tank 36 accumulates the reformed gas supplied from the post-pressurization water separator 32 . The reformed gas once accumulated in the buffer tank 36 is sent to the hydrogen purifier 16 .

(水素精製器)
水素分離器としての水素精製器16には、昇圧後水分離部32から送出された改質ガスが流れる連絡流路管P6の下流端が接続されている。水素精製器16には、一例として、PSA装置が使用される。この水素精製器16により改質ガスが水素ガス(製品水素ガス)と水素以外の不純物を含むオフガスに分離される。水素精製器16には、製品水素配管P11が接続されており、精製された製品水素ガスは製品水素配管P11へ送出される。オフガスは、後述するオフガス管P7へ送出される。
(hydrogen purifier)
To the hydrogen purifier 16 as a hydrogen separator, the downstream end of a communication flow path pipe P6 through which the reformed gas sent out from the water separator 32 after pressurization flows is connected. A PSA device is used as an example of the hydrogen purifier 16 . The hydrogen purifier 16 separates the reformed gas into hydrogen gas (product hydrogen gas) and off-gas containing impurities other than hydrogen. A product hydrogen pipe P11 is connected to the hydrogen purifier 16, and the refined product hydrogen gas is sent to the product hydrogen pipe P11. The off-gas is delivered to an off-gas pipe P7, which will be described later.

製品水素配管P11は、2分岐されており、一方の製品水素本配管P11Aは、製品水素タンク50と接続されている。他方の製品水素分析用配管P11Bは、水素濃度測定器としての分析装置52と接続されている。製品水素分析用配管P11Bには、流量調整バルブ48が設けられている。流量調整バルブ48により、分析装置52へ送出される製品水素ガスの流量が調整される。 The product hydrogen pipe P11 is branched into two, and one main product hydrogen pipe P11A is connected to the product hydrogen tank 50 . The other product hydrogen analysis pipe P11B is connected to an analysis device 52 as a hydrogen concentration measuring device. A flow control valve 48 is provided in the product hydrogen analysis pipe P11B. The flow rate control valve 48 adjusts the flow rate of the product hydrogen gas sent to the analyzer 52 .

(分析装置)
分析装置52は、水素濃度を測定可能な装置であり、例えば、薄膜円筒の共振周波数が周囲のガス密度により変化することを原理として用いた水素純度計や、光学的に水素の純度を測定するセンサ等、水素濃度が測定可能であれば何れの装置を用いてもよい。また、水素濃度測定は、対象気体から直接水素濃度を測定してもよいし、対象気体における水素以外の不純物を測定することにより行ってもよい。流量調整バルブ48では、分析装置52で濃度測定に必要とされる製品水素ガスの流量が分析装置52へ送出されるように製品水素分析用配管P11Bへ分岐させる流量が調整される。分析装置52での水素濃度の測定は、常時行ってもよいし、一定時間毎に間欠的に行ってもよい。
(Analysis equipment)
The analysis device 52 is a device capable of measuring hydrogen concentration. For example, a hydrogen purity meter that uses the principle that the resonance frequency of a thin film cylinder changes depending on the surrounding gas density, or an optical hydrogen purity meter. Any device such as a sensor may be used as long as the hydrogen concentration can be measured. Further, the hydrogen concentration measurement may be performed by directly measuring the hydrogen concentration from the target gas, or by measuring impurities other than hydrogen in the target gas. The flow rate control valve 48 adjusts the flow rate branched to the product hydrogen analysis pipe P11B so that the flow rate of the product hydrogen gas required for concentration measurement by the analysis device 52 is delivered to the analysis device 52 . The measurement of the hydrogen concentration by the analysis device 52 may be performed all the time, or may be performed intermittently at regular time intervals.

分析装置52の出口側には、水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスが送出される濃度測定後水素ガス排出管P14の一端側が接続されている。濃度測定後水素ガス排出管P14の他端側は、バッファタンク35に接続されている。濃度測定後水素ガス排出管P14には、ブロワ56が設けられている。ブロワ56により、濃度測定に用いられた後の製品水素ガスに所定の圧力が加えられ、バッファタンク35へ送出される。 One end of a post-concentration measurement hydrogen gas discharge pipe P14 through which product hydrogen gas after being used for hydrogen concentration measurement is delivered is connected to the outlet side of the analyzer 52 . The other end of the post-concentration-measurement hydrogen gas discharge pipe P14 is connected to the buffer tank 35 . A blower 56 is provided in the post-concentration-measurement hydrogen gas discharge pipe P14. The blower 56 applies a predetermined pressure to the product hydrogen gas after it has been used for concentration measurement, and sends it to the buffer tank 35 .

水素精製器16のオフガスを排出する側には、オフガス管P7の上流端が接続されている。オフガス管P7の下流端は、改質器12の燃焼部28と接続されている。水素精製器16からは、水素精製により分離されたオフガスが、オフガス管P7へ送出される。オフガス管P7には、オフガスタンク18が設けられている。オフガスは、オフガスタンク18に一時貯留される。 An upstream end of an offgas pipe P7 is connected to the side of the hydrogen purifier 16 from which offgas is discharged. A downstream end of the offgas pipe P7 is connected to the combustion section 28 of the reformer 12 . From the hydrogen purifier 16, the off-gas separated by hydrogen purification is sent to the off-gas pipe P7. An offgas tank 18 is provided in the offgas pipe P7. The offgas is temporarily stored in the offgas tank 18 .

オフガスタンク18の出口側に接続されたオフガス管P7は、改質器12の燃焼部28と接続されており、オフガス管P7を流れるオフガスは、燃焼部28へ供給される。 The offgas pipe P7 connected to the outlet side of the offgas tank 18 is connected to the combustion section 28 of the reformer 12, and the offgas flowing through the offgas pipe P7 is supplied to the combustion section 28.

(燃焼排ガス水分離部)
燃焼排ガス水分離部34は、上部が気体室34Aとされ、下部が液体室34Bとされている。気体室34Aには、ガス排出管P10の下流端が接続されている。また、気体室34Aには、外部排出管P12が接続されている。液体室34B底部には、燃焼排ガス水配管P8Cが接続されている。
(Combustion exhaust gas water separator)
The combustion exhaust gas water separator 34 has a gas chamber 34A at its upper portion and a liquid chamber 34B at its lower portion. A downstream end of a gas discharge pipe P10 is connected to the gas chamber 34A. An external discharge pipe P12 is connected to the gas chamber 34A. A combustion exhaust gas water pipe P8C is connected to the bottom of the liquid chamber 34B.

燃焼排ガスは、燃焼部28からガス排出管P10へ送出される。燃焼排ガス中の水蒸気は、燃焼排ガス水分離部34の上流に配置された熱交換器HE3において冷却されることによって凝縮される。凝縮により燃焼排ガスから分離された水は、液体室34Bに貯留され、燃焼排ガス水配管P8Cへ送出される。水が分離された後の燃焼排ガスは、外部排出管P12から外部へ排出される。 Combustion exhaust gas is delivered from the combustion section 28 to the gas discharge pipe P10. Water vapor in the flue gas is condensed by being cooled in the heat exchanger HE3 arranged upstream of the flue gas water separator 34 . The water separated from the flue gas by condensation is stored in the liquid chamber 34B and sent to the flue gas water pipe P8C. The combustion exhaust gas from which the water has been separated is discharged to the outside through the external discharge pipe P12.

水素製造装置10Aの底部には、水タンク40が配置されている。水タンク40には、水流入口40Aが形成されており、改質ガス水配管P8A、P8B、及び燃焼排ガス水配管P8Cは、合流後に水流入口40Aと接続されている。合流後の配管を水流入管P8と称する。水流入管P8の内径は、燃焼排ガス水配管P8Cの内径よりも大径とされている。 A water tank 40 is arranged at the bottom of the hydrogen production device 10A. A water inlet 40A is formed in the water tank 40, and the reformed gas water pipes P8A and P8B and the combustion exhaust gas water pipe P8C are connected to the water inlet 40A after joining. The pipe after joining is called a water inflow pipe P8. The inner diameter of the water inflow pipe P8 is larger than the inner diameter of the combustion exhaust gas water pipe P8C.

水タンク40は、昇圧前水分離部30、昇圧後水分離部32、及び燃焼排ガス水分離部34において貯留可能な水の総量よりも大容量とされており、昇圧前水分離部30、昇圧後水分離部32、及び燃焼排ガス水分離部34よりも鉛直方向下側に配置されている。ここで、「水タンク40が昇圧前水分離部30、昇圧後水分離部32、及び、燃焼排ガス水分離部34よりも鉛直方向下側に配置されている」とは、液体室30Bの底部、液体室32Bの底部、及び液体室34Bの底部が、水タンク40の水流入口40Aよりも鉛直方向上側に配置されていることを意味する。 The water tank 40 has a larger capacity than the total amount of water that can be stored in the pre-pressurization water separation unit 30, the post-pressurization water separation unit 32, and the combustion exhaust gas water separation unit 34. It is arranged below the post-water separation section 32 and the combustion exhaust gas water separation section 34 in the vertical direction. Here, "the water tank 40 is arranged vertically below the pre-pressurization water separation section 30, the post-pressurization water separation section 32, and the combustion exhaust gas water separation section 34" means the bottom portion of the liquid chamber 30B. , the bottom of the liquid chamber 32B and the bottom of the liquid chamber 34B are arranged above the water inlet 40A of the water tank 40 in the vertical direction.

水タンク40には、改質水供給管P9の上流端が接続されている。改質水供給管P9には、溶存イオン成分を除去するための水処理器(イオン交換樹脂)42が設けられている。また、改質水供給管P9には、ポンプ44が設けられており、ポンプ44の駆動により、水タンク40に貯留された水が水処理器42を経て改質器12へ供給される。改質水供給管P9の水処理器42よりも下流側、ポンプ44よりも上流側には、純水供給管P13が接続されている。純水供給管P13からは改質器12へ、改質水供給管P9を経て、必要に応じ純水が供給される。 The upstream end of the reforming water supply pipe P9 is connected to the water tank 40 . The reformed water supply pipe P9 is provided with a water treatment device (ion exchange resin) 42 for removing dissolved ion components. A pump 44 is provided in the reformed water supply pipe P9, and the water stored in the water tank 40 is supplied to the reformer 12 through the water treatment device 42 by driving the pump 44. A pure water supply pipe P13 is connected to the reformed water supply pipe P9 downstream of the water treatment device 42 and upstream of the pump 44 . Pure water is supplied from the pure water supply pipe P13 to the reformer 12 through the reformed water supply pipe P9 as required.

(作用)
次に、水素製造装置10Aの作用について説明する。
(action)
Next, the action of the hydrogen production device 10A will be described.

水素製造運転時には、原料供給管P1から改質器12へ都市ガスが供給され、改質水供給管P9から改質器12へ改質水が供給される。予熱流路22で都市ガス、改質水が混合されつつ加熱され、混合ガスとなって改質触媒層24へ供給される。 During the hydrogen production operation, city gas is supplied to the reformer 12 from the raw material supply pipe P1, and reformed water is supplied to the reformer 12 from the reformed water supply pipe P9. The town gas and the reforming water are mixed and heated in the preheating passage 22 , and the mixed gas is supplied to the reforming catalyst layer 24 .

改質触媒層24では、燃焼部28からの燃焼排ガスにより加熱されて、混合ガスが水蒸気改質され、水素を主成分とする改質ガスが生成される。CO変成触媒層26へ供給され、改質ガスに含まれる一酸化炭素と水蒸気が反応して、水素と二酸化炭素に変換され、一酸化炭素が低減される。CO変成触媒層26を通過した改質ガスは、改質ガス排出管P3へ送出される。 In the reforming catalyst layer 24, the mixed gas is heated by the combustion exhaust gas from the combustion section 28, steam reforming the mixed gas, and a reformed gas containing hydrogen as a main component is generated. The carbon monoxide and water vapor contained in the reformed gas supplied to the CO conversion catalyst layer 26 react with each other and are converted into hydrogen and carbon dioxide, thereby reducing carbon monoxide. The reformed gas that has passed through the CO conversion catalyst layer 26 is delivered to the reformed gas discharge pipe P3.

改質ガスは、改質ガス排出管P3に設けられた熱交換器HE1を経て、昇圧前水分離部30の気体室30Aへ供給される。気体室30Aへ供給された改質ガスに含まれる水は、熱交換器HE1での冷却により凝縮されて液体室30Bへ貯留され、改質ガス水配管P8Aを経て水タンク40へ送出される。気体室30Aから、水が分離された改質ガスが、連絡流路管P4を流れてバッファタンク35へ供給される。バッファタンク35では、改質器12からの改質ガスを一時貯留して圧力変動を緩和し、当該改質ガスを圧縮機14へ供給する。圧縮機14では、改質ガスが圧縮される。 The reformed gas is supplied to the gas chamber 30A of the pre-pressurization water separation section 30 through the heat exchanger HE1 provided in the reformed gas discharge pipe P3. Water contained in the reformed gas supplied to the gas chamber 30A is condensed by cooling in the heat exchanger HE1, stored in the liquid chamber 30B, and delivered to the water tank 40 through the reformed gas water pipe P8A. The reformed gas from which water has been separated flows from the gas chamber 30A through the communication flow pipe P4 and is supplied to the buffer tank 35 . The buffer tank 35 temporarily stores the reformed gas from the reformer 12 to reduce pressure fluctuations, and supplies the reformed gas to the compressor 14 . The compressor 14 compresses the reformed gas.

圧縮された改質ガスは、連絡流路管P6を流れ熱交換器HE2を経て昇圧後水分離部32の気体室32Aへ供給される。気体室32Aへ供給された改質ガスに含まれる水蒸気は、熱交換器HE2での冷却により凝縮されて液体室32Bへ貯留され、改質ガス水配管P8Bを経て水タンク40へ送出される。気体室32Aから、水が分離された改質ガスが、連絡流路管P6を流れて水素精製器16へ供給される。 The compressed reformed gas flows through the connecting flow pipe P6, passes through the heat exchanger HE2, and is supplied to the gas chamber 32A of the water separator 32 after being pressurized. The water vapor contained in the reformed gas supplied to the gas chamber 32A is condensed by cooling in the heat exchanger HE2, stored in the liquid chamber 32B, and delivered to the water tank 40 through the reformed gas water pipe P8B. From the gas chamber 32A, the reformed gas from which water has been separated flows through the connecting flow pipe P6 and is supplied to the hydrogen purifier 16. As shown in FIG.

水素精製器16では、改質ガスが水素ガス(製品水素ガス)と、不純物を含むオフガスと、に分離され、製品水素ガスは水素供給配管P11へ送出される。送出された製品水素ガスは、製品水素本配管P11Aと製品水素分析用配管P11Bに分流される。製品水素本配管P11Aを経た製品水素ガスは、製品水素タンク50に貯留される。製品水素分析用配管P11Bへ分岐された製品水素ガスは、分析装置52へ供給される。分析装置52では、供給された製品水素ガスの水素濃度が測定される。測定された水素濃度値は出力され、例えば、ディスプレイに表示することができる。また、コントローラへ製品水素濃度データとして出力してもよい。 In the hydrogen purifier 16, the reformed gas is separated into hydrogen gas (product hydrogen gas) and off-gas containing impurities, and the product hydrogen gas is sent to the hydrogen supply pipe P11. The sent product hydrogen gas is divided into a product hydrogen main pipe P11A and a product hydrogen analysis pipe P11B. The product hydrogen gas that has passed through the product hydrogen main pipe P11A is stored in the product hydrogen tank 50 . The product hydrogen gas branched to the product hydrogen analysis pipe P<b>11</b>B is supplied to the analyzer 52 . The analyzer 52 measures the hydrogen concentration of the supplied product hydrogen gas. The measured hydrogen concentration values are output and can be displayed, for example, on a display. Alternatively, it may be output to the controller as product hydrogen concentration data.

水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、濃度測定後水素ガス排出管P14へ送出され、ブロワ56によりバッファタンク35に供給される。 The product hydrogen gas used for hydrogen concentration measurement is sent to the hydrogen gas discharge pipe P14 after the concentration measurement, and supplied to the buffer tank 35 by the blower 56. FIG.

一方、改質ガスから分離された水素以外の不純物を含むオフガスは、オフガス管P7を流れてオフガスタンク18へ一時貯留される。オフガスタンク18から送出されたオフガスは、オフガス管P7を経て、燃料として改質器12の燃焼部28へ供給される。 On the other hand, the off-gas separated from the reformed gas and containing impurities other than hydrogen flows through the off-gas pipe P7 and is temporarily stored in the off-gas tank 18 . The offgas delivered from the offgas tank 18 is supplied as fuel to the combustion section 28 of the reformer 12 through the offgas pipe P7.

改質器12の燃焼部28では、オフガスが燃焼され、燃焼排ガスがガス排出管P10を介して燃焼排ガス水分離部34の気体室34Aへ供給される。気体室34Aへ供給された燃焼排ガスに含まれる水蒸気は、熱交換器HE3での冷却により凝縮されて液体室34Bへ貯留され、燃焼排ガス水配管P8Cを経て水タンク40へ送出される。水が分離された燃焼排ガスは、外部排出管P12を経て外部へ排出される。 In the combustion section 28 of the reformer 12, the off-gas is combusted, and the combustion exhaust gas is supplied to the gas chamber 34A of the combustion exhaust gas water separation section 34 through the gas discharge pipe P10. Water vapor contained in the flue gas supplied to the gas chamber 34A is condensed by cooling in the heat exchanger HE3, stored in the liquid chamber 34B, and delivered to the water tank 40 through the flue gas water pipe P8C. The combustion exhaust gas from which water has been separated is discharged to the outside through an external discharge pipe P12.

本実施形態の水素製造装置10Aでは、水素精製器16から送出された製品水素ガスの水素濃度を、分析装置52で測定することができる。また、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスは、バッファタンク35へ供給される。バッファタンク35で改質ガスと合流され、再度、圧縮機14を経て、水素精製器16へ送出され、精製後に製品水素ガスとして、製品水素タンク50へ貯留することができる。これにより、水素製造効率の低下を抑制しつつ、製品水素の濃度を測定することができる。 In the hydrogen production apparatus 10A of this embodiment, the hydrogen concentration of the product hydrogen gas sent from the hydrogen purifier 16 can be measured by the analyzer 52 . Also, the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration is supplied to the buffer tank 35 . It is combined with the reformed gas in the buffer tank 35, sent again to the hydrogen purifier 16 via the compressor 14, and can be stored in the product hydrogen tank 50 as product hydrogen gas after purification. This makes it possible to measure the concentration of product hydrogen while suppressing a decrease in hydrogen production efficiency.

特に、分析装置52で水素濃度測定に用いられる製品水素ガスの流量が、水素製造装置10Aの定常運転時に製造される製造水素ガスの流量(水素精製器16から製品水素配管P11へ送出される製品水素ガスの流量)の10%以上となる場合に、水素製造装置10Aの運転効率の低下の抑制に、寄与する。水素製造装置10Aが、比較的小規模な分散型である場合が想定される。 In particular, the flow rate of the product hydrogen gas used for hydrogen concentration measurement in the analyzer 52 is the flow rate of the product hydrogen gas produced during the steady operation of the hydrogen production device 10A (the product sent from the hydrogen purifier 16 to the product hydrogen pipe P11 of 10% or more of the flow rate of the hydrogen gas), it contributes to suppressing a decrease in the operating efficiency of the hydrogen production device 10A. It is assumed that the hydrogen production device 10A is a relatively small-scale distributed type.

また、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスが、バッファタンク35へ供給されるので、バッファタンク35の圧力変動が吸収され、改質ガスを安定して圧縮機14へ送出することができる。 Further, since the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration is supplied to the buffer tank 35, pressure fluctuations in the buffer tank 35 are absorbed, and the reformed gas can be stably sent to the compressor 14. .

なお、本実施形態では、バッファタンク35へ濃度測定後水素ガス排出管P14の他端側を接続したが、バッファタンク35よりも上流側かつ昇圧前水分離部30よりも下流側の連絡流路管P4に接続させてもよい。 In the present embodiment, the other end of the post-concentration-measurement hydrogen gas discharge pipe P14 is connected to the buffer tank 35, but the connecting flow path is upstream of the buffer tank 35 and downstream of the pre-pressurization water separator 30. It may be connected to pipe P4.

また、本実施形態では、濃度測定後水素ガス排出管P14にブロワ56を設けたが、本実施形態のように、比較的低圧のバッファタンク35へ水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスを送出する場合、ブロワ56は必ずしも必要ではない。ブロワ56を設けることにより、供給先との圧力差があってもスムーズに水素濃度の測定に用いられた後の製品水素ガスを供給することができる。 In this embodiment, the blower 56 is provided in the post-concentration-measurement hydrogen gas discharge pipe P14. Blower 56 is not necessarily required for delivery. By providing the blower 56, it is possible to smoothly supply the product hydrogen gas after it has been used to measure the hydrogen concentration even if there is a pressure difference with the supply destination.

<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第1実施形態と同様の部分については、同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the invention will be described. Parts similar to those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施形態の水素製造装置10Bは、図2に示されるように、濃度測定後水素ガス排出管P14の他端が、バッファタンク35ではなく、原料供給管P1に接続されている。水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、濃度測定後水素ガス排出管P14へ送出され、ブロワ56により所定の圧力で原料供給管P1を流通している都市ガスと合流され、都市ガスと共に改質器12の予熱流路22に供給される。 In the hydrogen production apparatus 10B of the present embodiment, as shown in FIG. 2, the other end of the post-concentration-measurement hydrogen gas discharge pipe P14 is connected not to the buffer tank 35 but to the raw material supply pipe P1. The product hydrogen gas used for hydrogen concentration measurement is sent to the hydrogen gas discharge pipe P14 after the concentration measurement, and is combined with the city gas flowing through the raw material supply pipe P1 at a predetermined pressure by the blower 56 to be the city gas. is supplied to the preheating flow path 22 of the reformer 12 together with the gas.

本実施形態の水素製造装置10Bでは、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスは、原料供給管P1で都市ガスと合流され、都市ガスと共に改質器12の予熱流路22に供給される。そして、再度、改質器12、圧縮機14を経て、水素精製器16へ送出され、精製後に製品水素ガスとして、製品水素タンク50へ貯留することができる。これにより、水素製造効率の低下を抑制しつつ、製品水素の濃度を測定することができる。 In the hydrogen production apparatus 10B of the present embodiment, the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration is merged with the city gas in the raw material supply pipe P1 and supplied to the preheating flow path 22 of the reformer 12 together with the city gas. . Then, it is sent again to the hydrogen purifier 16 via the reformer 12 and the compressor 14, and can be stored in the product hydrogen tank 50 as product hydrogen gas after purification. This makes it possible to measure the concentration of product hydrogen while suppressing a decrease in hydrogen production efficiency.

<第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態について説明する。第1、第2実施形態と同様の部分については、同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the invention will be described. Parts similar to those in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施形態の水素製造装置10Cは、図3に示されるように、濃度測定後水素ガス排出管P14の他端が、製品水素タンク50に接続されている。水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、濃度測定後水素ガス排出管P14へ送出され、ブロワ56により所定の圧力で製品水素タンク50に供給される。 In the hydrogen production apparatus 10C of this embodiment, the other end of the post-concentration measurement hydrogen gas discharge pipe P14 is connected to the product hydrogen tank 50, as shown in FIG. The product hydrogen gas used for hydrogen concentration measurement is sent to the hydrogen gas discharge pipe P14 after the concentration measurement, and is supplied to the product hydrogen tank 50 at a predetermined pressure by the blower 56. FIG.

本実施形態の水素製造装置10Cでは、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスは、製品水素タンク50に供給されるので、水素製造効率の低下を抑制しつつ、製品水素の濃度を測定することができる。 In the hydrogen production apparatus 10C of the present embodiment, the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration is supplied to the product hydrogen tank 50, so the concentration of the product hydrogen can be measured while suppressing a decrease in hydrogen production efficiency. be able to.

<第4実施形態>
次に、本発明の第3実施形態について説明する。第1~第3実施形態と同様の部分については、同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
<Fourth Embodiment>
Next, a third embodiment of the invention will be described. Parts similar to those of the first to third embodiments are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

本実施形態の水素製造装置10Dは、図4に示されるように、ブロワ56の下流側において、濃度測定後水素ガス排出管P14が、三方バルブ58Aを介して第1排出管P14Aと第2排出管P14Dに分岐されている。また、第1排出管P14Aの下流端は、三方バルブ58Bを介して第1-1排出管P14Bと第1-2排出管P14Cに分岐されている。 In the hydrogen production apparatus 10D of the present embodiment, as shown in FIG. 4, on the downstream side of the blower 56, the post-concentration hydrogen gas discharge pipe P14 is connected to the first discharge pipe P14A and the second discharge pipe P14A via the three-way valve 58A. It branches into pipe P14D. Further, the downstream end of the first discharge pipe P14A is branched into a first-first discharge pipe P14B and a first-second discharge pipe P14C via a three-way valve 58B.

三方バルブ58A、58Bは、不図示の制御部により開閉が制御されている。三方バルブ58Aは、第1排出管P14A側又は第2排出管P14D側のいずれかが開放され、第1排出管P14A側が開放される場合には、三方バルブ58Bの第1-1排出管P14B又は第1-2排出管P14Dのいずれかが開放される。 The opening and closing of the three-way valves 58A and 58B are controlled by a control unit (not shown). The three-way valve 58A is opened on either the first discharge pipe P14A side or the second discharge pipe P14D side, and when the first discharge pipe P14A side is opened, the first-first discharge pipe P14B of the three-way valve 58B or the Either of the first-second discharge pipes P14D is opened.

三方バルブ58Aの第2排出管P14D側が開放される場合には、水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、第2排出管P14Dを通って製品水素タンク50に供給される。三方バルブ58Aの第1排出管P14A側が開放され、三方バルブ58Bの第1-1排出管P14B側が開放される場合には、水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、原料供給管P1を流通している都市ガスと合流され、都市ガスと共に改質器12の予熱流路22に供給される。三方バルブ58Aの第1排出管P14A側が開放され、三方バルブ58Bの第1-2排出管P14C側が開放される場合には、水素濃度測定に用いられた後の製品水素ガスは、バッファタンク35へ供給される。 When the second discharge pipe P14D side of the three-way valve 58A is opened, the product hydrogen gas after being used for hydrogen concentration measurement is supplied to the product hydrogen tank 50 through the second discharge pipe P14D. When the first discharge pipe P14A side of the three-way valve 58A is opened and the 1-1 discharge pipe P14B side of the three-way valve 58B is opened, the product hydrogen gas after being used for hydrogen concentration measurement is supplied to the raw material supply pipe P1 is merged with the city gas that is circulating, and supplied to the preheating flow path 22 of the reformer 12 together with the city gas. When the first discharge pipe P14A side of the three-way valve 58A is opened and the first-second discharge pipe P14C side of the three-way valve 58B is opened, the product hydrogen gas after being used for hydrogen concentration measurement flows into the buffer tank 35. supplied.

本実施形態の水素製造装置10Dでは、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスを、製品水素タンク50、改質器12、バッファタンク35のいずれか、または複数箇所、またはすべてに、選択的に供給することができる。水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスの供給先については、水素製造装置10Dの状態や、求められる製品水素ガス量等に応じて、決定することができる。水素製造装置10Dでも、水素製造効率の低下を抑制しつつ、製品水素の濃度を測定することができる。 In the hydrogen production apparatus 10D of the present embodiment, the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration is selectively supplied to any one of the product hydrogen tank 50, the reformer 12, and the buffer tank 35, a plurality of locations, or all of them. can be supplied to The supply destination of the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration can be determined according to the state of the hydrogen production device 10D, the desired amount of product hydrogen gas, and the like. The hydrogen production device 10D can also measure the concentration of the product hydrogen while suppressing the decrease in hydrogen production efficiency.

なお、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスは、図5に示されるように、流量調整バルブ49により流量を調整して、オフガスタンク18へも送出するようにしてもよい。また、水素濃度の測定に用いられた製品水素ガスのオフガスタンク18への送出は、第1~第3実施形態において行ってもよい。 As shown in FIG. 5, the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration may also be sent to the offgas tank 18 after adjusting the flow rate with a flow control valve 49 . Further, the delivery of the product hydrogen gas used for measuring the hydrogen concentration to the offgas tank 18 may be performed in the first to third embodiments.

10A、10B、10C、10D 水素製造装置
12 改質器
14 圧縮機
16 水素精製器(水素分離器)
35 バッファタンク(改質ガスタンク)
52 分析装置(水素濃度測定器)
56 ブロワ
P1 原料供給管
P3 改質ガス排出管(改質ガス流路)
P14 濃度測定後水素ガス排出管
10A, 10B, 10C, 10D hydrogen production device 12 reformer 14 compressor 16 hydrogen purifier (hydrogen separator)
35 buffer tank (reformed gas tank)
52 analyzer (hydrogen concentration measuring instrument)
56 Blower P1 Raw material supply pipe P3 Reformed gas discharge pipe (reformed gas flow path)
P14 Hydrogen gas discharge pipe after concentration measurement

Claims (3)

原料を改質し水素を主成分とした改質ガスを生成する改質器と、
前記改質ガスから水素ガスを分離する水素分離器と、
前記水素分離器で分離された水素ガスの一部が流入され、前記水素ガスの水素濃度を測定する水素濃度測定器と、
前記改質器と前記水素分離器との間の改質ガス流路に設けられ、前記改質ガスを一時貯留する改質ガスタンクと、
前記改質ガスタンクよりも下流側、且つ前記水素分離器よりも上流側に設けられ、前記改質ガスを昇圧する圧縮機と、
前記水素濃度測定器から送出された濃度測定後水素ガスを前記改質ガスタンクへ供給する改質下流側合流配管を含む製品水素回収部と、
前記改質下流側合流配管に設けられ、前記濃度測定後水素ガスを前記改質ガスタンクへ送出するブロワと、
を備えた水素製造装置。
a reformer that reforms the raw material to generate a reformed gas containing hydrogen as a main component;
a hydrogen separator for separating hydrogen gas from the reformed gas;
a hydrogen concentration measuring device into which a part of the hydrogen gas separated by the hydrogen separator is flowed and which measures the hydrogen concentration of the hydrogen gas;
a reformed gas tank provided in a reformed gas flow path between the reformer and the hydrogen separator for temporarily storing the reformed gas;
a compressor provided downstream of the reformed gas tank and upstream of the hydrogen separator for pressurizing the reformed gas;
a product hydrogen recovery unit including a reforming downstream junction pipe for supplying the hydrogen gas after concentration measurement sent from the hydrogen concentration measuring device to the reformed gas tank;
a blower provided in the reforming downstream confluence pipe for sending the hydrogen gas after concentration measurement to the reformed gas tank;
Hydrogen production equipment with
前記製品水素回収部は、前記濃度測定後水素ガスを前記原料と合流させる原料合流配管を含んでいる、請求項1に記載の水素製造装置。 2. The hydrogen production apparatus according to claim 1 , wherein said product hydrogen recovery unit includes a raw material merging pipe for merging said hydrogen gas after concentration measurement with said raw material. 前記製品水素回収部は、前記濃度測定後水素ガスを製品水素が貯留される製品水素タンクへ供給する製品水素タンク配管を含んでいる、請求項1または請求項2に記載の水素製造装置。

3. The hydrogen production apparatus according to claim 1, wherein said product hydrogen recovery unit includes a product hydrogen tank pipe for supplying said concentration-measured hydrogen gas to a product hydrogen tank in which product hydrogen is stored.

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