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JP7214376B2 - OPTICAL SYSTEM, IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM INCLUDING THE SAME - Google Patents
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OPTICAL SYSTEM, IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM INCLUDING THE SAME Download PDF

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Description

本発明は、物体からの光束を分光して画像情報を取得する撮像装置に用いられる光学系に関し、例えば農業、食品、医療などの産業分野における評価や検査に好適なものである。 The present invention relates to an optical system used in an imaging apparatus that obtains image information by dispersing a luminous flux from an object, and is suitable for evaluation and inspection in industrial fields such as agriculture, food, and medicine.

従来、被検物(物体)からの光束を互いに波長が異なる複数の光束に分光し、各光束を互いに異なる位置に集光する光学系が知られている。特許文献1には、シリンドリカルミラーにより反射された光束を回折格子により分光し、各光束をレンズによって集光する光学系が記載されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, an optical system is known that splits a light beam from a test object (object) into a plurality of light beams having different wavelengths and converges the light beams at different positions. Patent Literature 1 describes an optical system in which a light beam reflected by a cylindrical mirror is split by a diffraction grating and each light beam is condensed by a lens.

米国特許第7199877号公報U.S. Pat. No. 7,199,877

しかしながら、特許文献1に記載の光学系では、レンズに対する各光束の入射角が互いに異なるため、波長ごとに異なるコマ収差が生じてしまう。このような波長ごとに異なるコマ収差を補正するためには、多数のレンズを用いる必要があり、光学系の構成が複雑になってしまう。 However, in the optical system described in Patent Document 1, since the incident angles of the light beams with respect to the lens are different from each other, different coma aberrations occur for each wavelength. In order to correct such coma aberration that differs for each wavelength, it is necessary to use a large number of lenses, which complicates the configuration of the optical system.

本発明は、簡素な構成でありながら波長ごとに異なる収差を補正することができる光学系、それを備える撮像装置及び撮像システムの提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical system capable of correcting different aberrations for each wavelength with a simple configuration, and an imaging device and an imaging system including the optical system.

上記目的を達成するための、本発明の一側面としての光学系は、物体側から像側へ順に配置された前群、遮光部材、後群から成る光学系であって、前記遮光部材には、第1の方向に長い開口が設けられており、前記前群は、前記第1の方向に平行な第1の断面においては前記開口上に物体を結像せず、前記第1の方向に垂直な第2の断面においては前記開口上に前記物体の中間像を形成しており、前記後群は、前記第2の断面において前記開口を通過した光束を互いに波長が異なる複数の光束に分光する回折面と、前記第2の断面において前記複数の光束を互いに異なる位置に集光するアナモフィック光学面とを有し、前記アナモフィック光学面の原点における法線方向の軸をx軸、前記第1の方向に平行かつ前記原点において前記x軸と直交する軸をy軸、前記x軸及び前記y軸に直交する軸をz軸とし、前記第2の断面における非球面係数をK 及びM jk 、前記第2の断面における前記アナモフィック光学面の前記原点での曲率半径をr、子線変化係数をE 及びE とし、前記第2の断面における前記アナモフィック光学面の形状を所定の式で表すとき、該式で定義される形状の、前記x軸に対して一方の側の曲率は軸外に向かうに従い小さくなり、前記x軸に対して他方の側の曲率は軸外に向かうに従い大きくなることを特徴とする。 An optical system as one aspect of the present invention for achieving the above object is an optical system comprising a front group, a light shielding member, and a rear group arranged in order from an object side to an image side, wherein the light shielding member includes , a long aperture is provided in a first direction, and the front group does not form an image of an object on the aperture in a first cross section parallel to the first direction; An intermediate image of the object is formed on the aperture in the second vertical section, and the rear group disperses the light flux passing through the aperture in the second cross section into a plurality of light fluxes having different wavelengths. and an anamorphic optical surface for condensing the plurality of light beams at different positions on the second cross section, wherein the axis normal to the origin of the anamorphic optical surface is the x axis, and the first and perpendicular to the x -axis at the origin is the y-axis; , the radius of curvature at the origin of the anamorphic optical surface in the second cross section is r, the sagittal change coefficients are E2 and E4 , and the shape of the anamorphic optical surface in the second cross section is given by When expressed by a formula, the curvature on one side with respect to the x-axis of the shape defined by the formula becomes smaller as it goes off-axis, and the curvature on the other side with respect to the x-axis goes off-axis It is characterized by increasing according to

本発明によれば、簡素な構成でありながら波長ごとに異なる収差を補正することができる光学系、それを備える撮像装置及び撮像システムの提供が可能になる。 Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to provide an optical system capable of correcting different aberrations for each wavelength with a simple configuration, and an imaging apparatus and an imaging system having the optical system.

実施形態に係る光学系のXY断面における要部概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of the essential parts in the XY cross section of the optical system according to the embodiment; 実施形態に係る光学系のZX断面における要部概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of a main part in the ZX cross section of the optical system according to the embodiment; 実施形態に係る回折光学素子の要部概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of a main part of a diffractive optical element according to an embodiment; 実施形態に係る第4反射面のzx断面での部分曲率を示す図。The figure which shows the partial curvature in the zx cross section of the 4th reflective surface which concerns on embodiment. 実施形態に係る異なる複数の波長の光束の集光状態を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a condensed state of light beams having different wavelengths according to the embodiment; 比較例に係る異なる複数の波長の光束の集光状態を示す図。FIG. 10 is a diagram showing a condensed state of light beams having different wavelengths according to a comparative example; 実施例1に係る光学系のMTFを示す図。4 is a diagram showing the MTF of the optical system according to Example 1. FIG. 実施例2に係る光学系の要部概略図。FIG. 7 is a schematic diagram of a main part of an optical system according to Example 2; 実施例2に係る光学系のMTFを示す図。FIG. 10 is a diagram showing the MTF of the optical system according to Example 2; 実施例3に係る光学系の要部概略図。FIG. 10 is a schematic diagram of a main part of an optical system according to Example 3; 実施例3に係る光学系のMTFを示す図。FIG. 11 is a diagram showing the MTF of the optical system according to Example 3; 実施例4に係る光学系の要部概略図。FIG. 10 is a schematic diagram of a main part of an optical system according to Example 4; 実施例4に係る光学系のMTFを示す図。FIG. 11 is a diagram showing the MTF of the optical system according to Example 4; 実施形態に係る光学系の使用例1としての撮像システムの要部概略図。1 is a schematic diagram of a principal part of an imaging system as usage example 1 of the optical system according to the embodiment; FIG. 実施形態に係る光学系の使用例2としての撮像システムの要部概略図。FIG. 2 is a schematic diagram of a principal part of an imaging system as usage example 2 of the optical system according to the embodiment;

以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照しながら説明する。各図面は、便宜的に実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。また、各図面において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明を省略する。 Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Each drawing may be drawn on a scale different from the actual scale for the sake of convenience. Moreover, in each drawing, the same reference numerals are given to the same members, and redundant explanations are omitted.

以下の説明においては、絶対座標系としてXYZ座標系を定め、光学面ごとのローカル座標系としてxyz座標系を定めている。ローカル座標系において、x軸は各光学面の頂点(原点)における法線方向の軸(光軸)、y軸はY軸に平行かつ原点においてx軸と直交する軸、z軸はx軸及びy軸に直交する軸である。また、Y方向及びy方向を第1の方向(読取方向)、Z方向及びz方向を第2の方向(分光方向)、XY断面及びxy断面を第1の断面(読取断面)、ZX断面及びzx断面を第2の断面(分光断面)とも呼ぶ。 In the following description, an XYZ coordinate system is defined as an absolute coordinate system, and an xyz coordinate system is defined as a local coordinate system for each optical surface. In the local coordinate system, the x-axis is the normal direction axis (optical axis) at the vertex (origin) of each optical surface, the y-axis is parallel to the Y-axis and perpendicular to the x-axis at the origin, and the z-axis is the x-axis and It is the axis perpendicular to the y-axis. In addition, the Y direction and the y direction are the first direction (reading direction), the Z direction and the z direction are the second direction (spectral direction), the XY section and the xy section are the first section (reading section), the ZX section and The zx section is also called a second section (spectral section).

図1及び図2は、本発明の実施形態に係る光学系10の要部概略図であり、図1は第1の断面を示し、図2は第2の断面を示している。なお、図1及び図2においては、各部材の光軸を含む断面での形状を示しており、図1では便宜的に各部材を同一の紙面内に示している。また、図1及び図2では、便宜的に回折面における回折格子を省略している。本実施形態では、YZ平面に平行な物体面におけるZ=0の近傍の位置に被検物が配置されており、光学系10の像面に撮像素子の受光面7が配置されているものとする。また、被検物は、太陽光などの白色光(複数の波長成分を有する光)により照明されているものとする。 1 and 2 are schematic diagrams of essential parts of an optical system 10 according to an embodiment of the present invention, with FIG. 1 showing a first cross section and FIG. 2 showing a second cross section. 1 and 2 show the shape of each member in a cross section including the optical axis, and in FIG. 1, each member is shown on the same page for the sake of convenience. 1 and 2, the diffraction grating on the diffraction surface is omitted for the sake of convenience. In this embodiment, it is assumed that the test object is placed at a position near Z=0 on the object plane parallel to the YZ plane, and the light receiving surface 7 of the image sensor is placed on the image plane of the optical system 10. do. It is also assumed that the test object is illuminated with white light (light having multiple wavelength components) such as sunlight.

本実施形態に係る光学系10は、物体側から像側へ順に配置された前群11、遮光部材(スリット部材)4、及び後群12で構成される。光学系10は、-X側に位置する不図示の被検物からの光束を集光することで、受光面(像面)7に被検物の像を形成している。前群11は、絞り1、第1反射面2、及び第2反射面3を有する。また、後群12は、第3反射面(回折面)5及び第4反射面6を有する。なお、受光面7の直前にはカバーガラスGが配置されているが、これは結像に寄与しないものとして扱う。 An optical system 10 according to this embodiment includes a front group 11, a light shielding member (slit member) 4, and a rear group 12, which are arranged in order from the object side to the image side. The optical system 10 forms an image of the test object on a light receiving surface (image plane) 7 by condensing a light beam from the test object (not shown) positioned on the -X side. The front group 11 has a stop 1 , a first reflecting surface 2 and a second reflecting surface 3 . The rear group 12 also has a third reflecting surface (diffractive surface) 5 and a fourth reflecting surface 6 . A cover glass G is arranged immediately before the light-receiving surface 7, but it is treated as something that does not contribute to image formation.

絞り1は、被検物からの光束の第2の方向における幅を規制するための部材であり、その開口面がX方向に垂直になるように配置されている。ただし、絞り1は光学系10の外部に設けられていてもよい。なお、図1及び図2に示すように、光学系10における光束の入射口(絞り1)と出射口(受光面7)を、各光学面を挟んで互いに反対側に配置することが望ましい。これにより、光学系10を撮像装置に適用した際に、被検物からの光束が撮像素子や配線等によって遮られることを回避し易くすることができる。 The diaphragm 1 is a member for regulating the width in the second direction of the light flux from the test object, and is arranged so that its aperture surface is perpendicular to the X direction. However, the diaphragm 1 may be provided outside the optical system 10 . As shown in FIGS. 1 and 2, it is desirable that the entrance (aperture 1) and exit (light-receiving surface 7) of the optical system 10 are arranged on opposite sides of each optical surface. As a result, when the optical system 10 is applied to an imaging apparatus, it is possible to easily avoid blocking of the light flux from the subject by the imaging element, wiring, or the like.

遮光部材4には、第1の方向に長い開口(スリット)が設けられている。遮光部材4は、光学系10の第2の断面における画角を制限して不要光を遮光しつつ、光束の第1の方向における幅を規制する絞りとしての役割を果たしている。なお、遮光部材4の開口の幅は、求められる光量や解像度などに応じて決定される。遮光部材4の開口の第2の方向における幅は、第1の方向における幅(数mm)よりも短く、数μm~数100μmであることが望ましい。遮光部材4の開口の第2の方向における幅について、大き過ぎる場合は受光面7での解像度が低下してしまい、小さすぎる場合は結像に寄与する有効光束が遮光され易くなってしまうため、10μm以上0.2mm以下であることがより好ましい。 The light shielding member 4 is provided with an opening (slit) elongated in the first direction. The light blocking member 4 functions as a diaphragm that limits the width of the light beam in the first direction while limiting the angle of view in the second section of the optical system 10 to block unnecessary light. The width of the opening of the light shielding member 4 is determined according to the required light amount, resolution, and the like. The width of the opening of the light shielding member 4 in the second direction is shorter than the width (several millimeters) in the first direction, and is preferably several μm to several hundred μm. If the width of the opening of the light shielding member 4 in the second direction is too large, the resolution on the light receiving surface 7 will be reduced. It is more preferably 10 μm or more and 0.2 mm or less.

絞り1及び遮光部材4における開口以外の領域は、少なくとも光学系10の使用波長帯域(設計波長帯域)の光が透過しない遮光面となっている。絞り1及び遮光部材4としては、板金に穴を開けたものや、ガラス板の表面にクロム蒸着を施したものなどを採用することができる。このような遮光部材4を採用することにより、光学系10は第1の方向に長いライン状の読取領域(被検領域)の像を形成することができる。 Areas other than the apertures of the diaphragm 1 and the light shielding member 4 are light shielding surfaces through which at least light in the wavelength band used (designed wavelength band) of the optical system 10 does not pass. As the diaphragm 1 and the light shielding member 4, it is possible to adopt a plate metal with a hole or a glass plate whose surface is vapor-deposited with chromium. By adopting such a light shielding member 4, the optical system 10 can form an image of a linear reading area (test area) long in the first direction.

第1反射面2、第2反射面3、及び第4反射面6は、自由曲面形状を有するベース面に反射コーティングを施すことで得られる反射面である。各反射面のベース面は、ガラス、樹脂、金属などから成るブロック材を加工(切削、研磨、型によるモールド成形など)することによって形成される。反射コーティングは、使用波長帯域において十分なエネルギー効率(光利用効率)を実現することができる分光反射特性を有していることが望ましい。なお、ベース面が使用波長帯域において十分な反射率を有する場合は、反射コーティングを省略してもよい。 The first reflecting surface 2, the second reflecting surface 3, and the fourth reflecting surface 6 are reflecting surfaces obtained by applying a reflecting coating to a base surface having a free-form surface shape. The base surface of each reflective surface is formed by processing (cutting, polishing, molding with a mold, etc.) a block material made of glass, resin, metal, or the like. The reflective coating desirably has spectral reflection characteristics that enable sufficient energy efficiency (light utilization efficiency) to be achieved in the wavelength band used. Note that the reflective coating may be omitted if the base surface has a sufficient reflectance in the wavelength band used.

本実施形態において、第1反射面2、第2反射面3、及び第4反射面6の夫々は、第1の断面と第2の断面とで曲率(パワー)が異なるアナモフィック光学面(アナモフィック反射面)である。これにより、第1の断面と第2の断面とで異なる光学的作用を生じさせることができる。特に、第4反射面6は、第2の断面において、光軸に対して一方の側の曲率が軸外に向かうに従い小さくなり、光軸に対して他方の側の曲率が軸外に向かうに従い大きくなるような形状を有している。これにより、波長ごとに異なるコマ収差を良好に補正することができる(詳細は後述)。 In this embodiment, each of the first reflecting surface 2, the second reflecting surface 3, and the fourth reflecting surface 6 is an anamorphic optical surface (anamorphic reflection surface) having a different curvature (power) between the first cross section and the second cross section. surface). Thereby, different optical actions can be produced between the first cross section and the second cross section. In particular, in the second cross section, the fourth reflecting surface 6 has a smaller curvature on one side of the optical axis toward the off-axis direction, and a curvature on the other side of the optical axis toward the off-axis direction. It has a shape that makes it bigger. This makes it possible to satisfactorily correct coma aberration that differs for each wavelength (details will be described later).

なお、前群11の各反射面はアナモフィック光学面でなくてもよく、例えば各反射面を球面として、代わりにアナモフィック屈折面を設けてもよい。ただし、前群11における光学面の数を減らすためには、第1反射面2及び第2反射面3の少なくとも一方をアナモフィック光学面とすることが望ましい。また、後群12は少なくとも一つの回折面とその像側に配置された少なくとも一つのアナモフィック光学面を有していればよい。 Each reflecting surface of the front group 11 may not be an anamorphic optical surface. For example, each reflecting surface may be spherical and an anamorphic refractive surface may be provided instead. However, in order to reduce the number of optical surfaces in the front group 11, it is desirable that at least one of the first reflecting surface 2 and the second reflecting surface 3 be an anamorphic optical surface. Also, the rear group 12 may have at least one diffractive surface and at least one anamorphic optical surface arranged on the image side thereof.

ただし、光学面同士でパワーを分担することで収差の発生を抑制するためには、前群11及び後群12の全ての光学面をアナモフィック光学面とすることがより好ましい。なお、回折面5を前群11に設けた場合、一部の波長の光束しか遮光部材4の開口を通過できなくなってしまう。よって、回折面5は後群12に設けることが必要である。 However, in order to suppress the occurrence of aberration by sharing the power between the optical surfaces, it is more preferable to make all the optical surfaces of the front group 11 and the rear group 12 anamorphic optical surfaces. If the diffractive surface 5 is provided in the front group 11 , only part of the wavelengths of light can pass through the opening of the light shielding member 4 . Therefore, it is necessary to provide the diffractive surface 5 in the rear group 12 .

本実施形態においては、全ての光学面を反射面とすることで、光路を折り曲げて光学系10の小型化を実現しつつ、色収差の発生を抑制している。このとき、光学系10の小型化のためには、図2に示すように、前群11及び後群12の夫々において光路が交差するように(4の字になるように)各反射面を配置することが望ましい。なお、必要に応じて少なくとも一つの光学面を屈折面(透過面)としてもよい。 In the present embodiment, all the optical surfaces are made reflecting surfaces, so that the optical path is bent and the size of the optical system 10 is reduced while suppressing the occurrence of chromatic aberration. At this time, in order to reduce the size of the optical system 10, as shown in FIG. Placement is desirable. At least one optical surface may be a refractive surface (transmissive surface) as required.

ただし、特に後群12においては、不図示の保持部材や配線などが遮光部材4や受光面7の周りに配置されるため、屈折光学素子を配置するための十分なスペースを確保することが難しい。仮に十分なスペースを確保できたとしても、色収差を良好に補正するためには複数の屈折光学素子を配置することが必要になるため、全系が大型化してしまう。よって、少なくとも後群12に含まれる全ての光学面を反射面とすることが望ましい。さらに、前群11に含まれる全ての光学面を反射面とすることがより好ましい。 However, especially in the rear group 12, since a holding member and wiring (not shown) are arranged around the light shielding member 4 and the light receiving surface 7, it is difficult to secure a sufficient space for arranging the refractive optical element. . Even if sufficient space could be secured, a plurality of refracting optical elements would need to be arranged in order to correct chromatic aberration satisfactorily, resulting in an increase in the size of the entire system. Therefore, it is desirable that at least all optical surfaces included in the rear group 12 are reflecting surfaces. Furthermore, it is more preferable that all the optical surfaces included in the front group 11 are reflecting surfaces.

このように、光学系10の構成は本実施形態に限られず、例えば前群11を一つ又は三つ以上の光学面で構成したり、後群12を三つ以上の光学面で構成したりしてもよい。すなわち、前群11は少なくとも一つの反射面又は屈折面を有していればよく、後群12は少なくとも二つの反射面又は屈折面(うち一つは回折面)を有していればよい。このとき、必要に応じて反射面と屈折面とを組み合わせた構成としてもよい。ただし、全系の小型化と部品点数の削減を実現するためには、本実施形態のように前群11及び後群12の夫々を二つの反射面で構成することが望ましい。 As described above, the configuration of the optical system 10 is not limited to the present embodiment. For example, the front group 11 may be configured with one or three or more optical surfaces, or the rear group 12 may be configured with three or more optical surfaces. You may That is, the front group 11 should have at least one reflecting surface or refractive surface, and the rear group 12 should have at least two reflecting surfaces or refractive surfaces (one of which is a diffractive surface). At this time, a configuration in which a reflective surface and a refracting surface are combined may be used as necessary. However, in order to reduce the size of the entire system and reduce the number of parts, it is desirable to configure each of the front group 11 and the rear group 12 with two reflecting surfaces as in this embodiment.

図3は、本実施形態に係る回折面5を含む回折光学素子(反射光学素子)50の要部概略図であり、図3(a)は斜視図、図3(b)は正面図(+x方向から見た図)を示している。回折面5は、ベース面51と、ベース面51に設けられた回折格子52とで構成されている。なお、図3においては、便宜的に回折格子52のうち一部のみを拡大して示している。 3A and 3B are schematic diagrams of essential parts of a diffractive optical element (reflective optical element) 50 including the diffractive surface 5 according to the present embodiment. FIG. 3A is a perspective view and FIG. 3B is a front view (+x direction). The diffraction surface 5 is composed of a base surface 51 and a diffraction grating 52 provided on the base surface 51 . In FIG. 3, only a portion of the diffraction grating 52 is shown enlarged for the sake of convenience.

回折面5におけるベース面51は、他の反射面と同様に自由曲面形状を有している。回折格子52は、サブミクロンからミクロンのオーダのピッチで配置された複数の格子(凸部)から成り、その各格子の高さもサブミクロンからミクロンのオーダとなっている。回折格子52としては、zx断面での形状が、階段形状、矩形凹凸形状、ブレーズ形状、SIN波形状であるものなどを採用することができる。回折格子52の形状は、求められる回折効率及び製造の容易性を考慮して選択される。 The base surface 51 of the diffractive surface 5 has a free-form surface shape like the other reflecting surfaces. The diffraction grating 52 is composed of a plurality of gratings (projections) arranged at a pitch on the order of submicrons to microns, and the height of each grating is also on the order of submicrons to microns. As the diffraction grating 52, the shape of the zx cross section can be a stepped shape, a rectangular uneven shape, a blaze shape, a SIN wave shape, or the like. The shape of the diffraction grating 52 is selected in consideration of the required diffraction efficiency and ease of manufacture.

本実施形態では回折効率の向上及び製造の容易化の両立が比較的容易であるブレーズ形状を採用している。ブレーズ形状の回折格子において、ベース面51に対してx方向に最も離れた部分を格子頂点、入射光を反射させる(回折させる)部分をブレーズ面(格子面)、ブレーズ面に隣接する回折に寄与しない部分を格子壁面と呼ぶ。本実施形態に係る回折面5は、受光面7の側(像側)にブレーズ面が向かい、物体側に格子壁面が向かうように配置されている。これにより、図2における受光面7の+Z側に短波長の光束が入射し、-Z側に長波長の光束が入射することになる。 In the present embodiment, a blaze shape is adopted, which relatively easily achieves both improvement in diffraction efficiency and simplification of manufacturing. In the blaze-shaped diffraction grating, the part farthest in the x-direction from the base surface 51 is the grating vertex, the part that reflects (diffracts) the incident light is the blaze surface (grating surface), and the adjacent blaze surface contributes to the diffraction. The part not covered is called the lattice wall surface. The diffraction surface 5 according to this embodiment is arranged so that the blaze surface faces the light receiving surface 7 side (image side) and the grating wall surface faces the object side. As a result, the short-wavelength light flux is incident on the +Z side of the light-receiving surface 7 in FIG. 2, and the long-wavelength light flux is incident on the -Z side.

ベース面51は、上述した他の反射面と同様の方法で形成される。回折格子52は、ベース面51を切削や研磨などによって加工することで形成することができるが、ベース面51を形成する際に同時に回折格子52を形成してもよい。例えば、金型を構成する鏡面駒の表面に微細な凹凸構造を設け、その金型を用いたモールド成形によって回折格子52が設けられた回折光学素子50を製造してもよい。なお、回折効率を向上させるために、回折格子52の表面に反射コーティングを施してもよい。 Base surface 51 is formed in a manner similar to the other reflective surfaces described above. The diffraction grating 52 can be formed by processing the base surface 51 by cutting or polishing, but the diffraction grating 52 may be formed at the same time as the base surface 51 is formed. For example, the diffractive optical element 50 provided with the diffraction grating 52 may be manufactured by forming a fine concave-convex structure on the surface of a mirror piece forming a mold, and molding using the mold. In addition, in order to improve the diffraction efficiency, the surface of the diffraction grating 52 may be coated with a reflective coating.

また、図3(b)に示すように、zx断面での各格子の頂点に対応する複数の稜線が互いに平行になるように回折格子52を構成することが望ましい。さらに、回折格子52の各稜線の間隔を一定とすることがより好ましい。これにより、切削や研磨によるベース面51の加工を容易にすることができる。ただし、必要に応じて各稜線の間隔を非一定としてもよい。例えば、光学系10におけるより高度な収差補正を実現するために、z方向において各稜線の間隔を変化させてもよい。 Further, as shown in FIG. 3B, it is desirable to configure the diffraction grating 52 so that a plurality of ridgelines corresponding to the vertices of each grating on the zx cross section are parallel to each other. Furthermore, it is more preferable to keep the intervals between the ridge lines of the diffraction grating 52 constant. Thereby, processing of the base surface 51 by cutting or polishing can be facilitated. However, if necessary, the intervals between the ridges may be non-constant. For example, in order to achieve a higher degree of aberration correction in the optical system 10, the distance between each ridge line may be changed in the z direction.

なお、回折面5のベース面51は、xy断面とzx断面とで曲率が異なるアナモフィック面であることが望ましい。これにより、他のアナモフィック光学面とともにパワーを分担することができるため、収差の補正が容易になる。本実施形態においては、回折面5のベース面51をアナモフィック面としているが、回折格子52の製造の容易性を重視して、ベース面51を平面や球面で構成してもよい。 The base surface 51 of the diffraction surface 5 is desirably an anamorphic surface having different curvatures in the xy section and the zx section. This makes it possible to share the power with other anamorphic optical surfaces, thereby facilitating correction of aberrations. In this embodiment, the base surface 51 of the diffractive surface 5 is an anamorphic surface, but the base surface 51 may be formed of a flat surface or a spherical surface, emphasizing ease of manufacturing the diffraction grating 52 .

図1及び図2を用いて、光学系10の作用について説明する。 The operation of the optical system 10 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

被検物から出射した光束は、絞り1の開口を通過した後、第1反射面2及び第2反射面3で反射されて遮光部材4に到達する。このとき、前群11は、第1の断面(XY断面)においては遮光部材4の開口上に被検物を結像せず、第2の断面(ZX断面)においては遮光部材4の開口上に被検物の中間像を形成している。すなわち、前群11は第1の断面において焦点位置が物体面と一致しないように構成されている。これにより、遮光部材4の開口上には、第1の方向に長いライン状の中間像(線像)が形成されることになる。なお、ここでの「開口上」とは、厳密な開口の位置に限らず、開口の位置から光軸方向に微小に離れた開口の近傍(略開口上)も含むものとする。 A luminous flux emitted from the object to be inspected passes through the opening of the stop 1 , is reflected by the first reflecting surface 2 and the second reflecting surface 3 , and reaches the light shielding member 4 . At this time, the front group 11 does not form an image of the test object on the opening of the light shielding member 4 in the first cross section (XY cross section), and does not form an image on the opening of the light shielding member 4 in the second cross section (ZX cross section). forms an intermediate image of the object. That is, the front group 11 is constructed so that the focal position does not coincide with the object plane in the first cross section. As a result, a linear intermediate image (line image) long in the first direction is formed on the opening of the light shielding member 4 . Here, "on the aperture" is not limited to the exact position of the aperture, but includes the vicinity of the aperture (substantially above the aperture) that is slightly away from the position of the aperture in the optical axis direction.

遮光部材4の開口を通過した光束は、第2の断面において回折面5によって互いに波長が異なる複数の光束に分光される。このとき、図3に示したように、回折面5における回折格子52はz方向に配列された複数の格子(稜線)から成るため、回折面5に入射した光束はz方向においてのみ分光作用を受け、y方向においては分光作用を受けない。 The luminous flux that has passed through the opening of the light shielding member 4 is split into a plurality of luminous fluxes with different wavelengths by the diffraction surface 5 on the second cross section. At this time, as shown in FIG. 3, since the diffraction grating 52 on the diffraction surface 5 is composed of a plurality of gratings (ridge lines) arranged in the z direction, the light flux incident on the diffraction surface 5 undergoes spectral action only in the z direction. It receives no spectroscopic effect in the y-direction.

そして、回折面5からの複数の光束は、第4反射面6で反射されて像面に配置された受光面7に入射する。このとき、互いに波長が異なる複数の光束は、第2の断面において受光面7における互いに異なる位置に集光される。すなわち、本実施形態に係る光学系10によれば、受光面7に波長ごとの複数の像を形成することができるため、受光面7は波長ごとの複数の画像情報を取得することができる。 A plurality of light beams from the diffraction surface 5 are reflected by the fourth reflecting surface 6 and enter the light receiving surface 7 arranged on the image plane. At this time, the plurality of light beams having different wavelengths are condensed at different positions on the light receiving surface 7 in the second cross section. That is, according to the optical system 10 according to the present embodiment, since a plurality of images can be formed on the light receiving surface 7 for each wavelength, the light receiving surface 7 can acquire a plurality of image information for each wavelength.

このように、本実施形態に係る光学系10は、読取方向を含む第1の断面と分光方向を含む第2の断面とで異なる光学的作用を生じている。具体的には、第1の断面では被検物を遮光部材4の開口上に一旦結像せずに受光面7に結像しているが、第2の断面では被検物を遮光部材4の開口上に一旦結像してから受光面7に再結像している。すなわち、第1の断面では被検物を1回結像する一方で、第2の断面では被検物を2回結像している。 As described above, the optical system 10 according to the present embodiment produces different optical effects between the first cross section including the reading direction and the second cross section including the spectroscopic direction. Specifically, in the first cross section, the object to be inspected is not once imaged on the opening of the light shielding member 4, but is imaged on the light receiving surface 7, but in the second cross section, the object to be inspected is imaged on the light shielding member 4. image is once formed on the aperture of , and then imaged again on the light-receiving surface 7 . That is, the first cross-section images the test object once, while the second cross-section images the test object twice.

この構成によれば、第1の断面においては遮光部材4の開口を通過する際の光束の収束状態が制限されないため、光学系10の設計自由度を向上させることができる。よって、前群11と後群12とでパワーを適切に分担して受光面7に被検物を結像することができ、諸収差の補正が容易になるため、広画角化(読取領域の広域化)と撮像画像の高精細化を両立することができる。 According to this configuration, since the convergence state of the light flux passing through the opening of the light shielding member 4 is not restricted in the first cross section, the degree of freedom in designing the optical system 10 can be improved. Therefore, the power can be appropriately shared between the front group 11 and the rear group 12 to form an image of the test object on the light receiving surface 7, which facilitates correction of various aberrations. It is possible to achieve both widening of the area and high definition of the captured image.

具体的には、第1の断面における焦点位置が物体面と一致しないように前群11を構成することで、遮光部材4の開口を通過する際の光束を非平行光とすることができる。これにより、第1の断面における広画角化を実現することが容易になる。仮に、遮光部材4の開口を通過する際の光束が平行光である場合、光学系10を広画角化するためには後群12に多数の光学素子を配置することが必要になり、全系が大型化してしまう。本実施形態においては、遮光部材4の開口を通過する際の光束を発散光とすることで広画角化を実現しているが、必要に応じて遮光部材4の開口を通過する際の光束を収束光としてもよい。 Specifically, by configuring the front group 11 so that the focal position in the first cross section does not coincide with the object plane, the luminous flux passing through the opening of the light shielding member 4 can be non-parallel. This makes it easier to achieve a wide angle of view in the first cross section. If the luminous flux passing through the aperture of the light shielding member 4 were parallel rays, it would be necessary to dispose a large number of optical elements in the rear group 12 in order to widen the angle of view of the optical system 10. The system becomes large. In this embodiment, a wide angle of view is achieved by diverging the light flux passing through the opening of the light shielding member 4. However, if necessary, the light flux passing through the opening of the light shielding member 4 may be regarded as convergent light.

また、第1の断面においても遮光部材4の開口上に被検物を一旦結像する場合は、前群11及び後群12の夫々が単独で収差を補正しなくてはならない。よって、各光学面のパワーを大きくすることが必要になるなど、各光学面の設計自由度が低下し、光学系10の広画角化が難しくなる。一方、第2の断面においては、広画角化の必要がないため、遮光部材4の開口上に被検物を一旦結像することで高NA化が可能になる。 Further, when the subject is once imaged on the opening of the light shielding member 4 in the first cross section as well, each of the front group 11 and the rear group 12 must correct aberrations independently. Therefore, it becomes difficult to widen the angle of view of the optical system 10 because the degree of freedom in designing each optical surface is reduced, such as the need to increase the power of each optical surface. On the other hand, since it is not necessary to widen the angle of view in the second cross section, it is possible to increase the NA by forming an image of the test object once on the opening of the light shielding member 4 .

上述した構成において、前群11及び後群12の夫々は、第1の断面と第2の断面とで互いに異なるパワーを有することになる。この構成を実現するためには、前群11及び後群12の夫々にアナモフィック光学面を設けることが必要になる。このとき、前群11に含まれるアナモフィック光学面には、第2の断面だけでなく第1の断面にも積極的にパワーを持たせること(曲率の絶対値を0よりも大きくすること)が望ましい。 In the configuration described above, the front group 11 and the rear group 12 have different powers in the first section and the second section. In order to realize this configuration, it is necessary to provide anamorphic optical surfaces in each of the front group 11 and the rear group 12 . At this time, the anamorphic optical surfaces included in the front group 11 should positively have power (the absolute value of the curvature should be larger than 0) not only in the second cross section but also in the first cross section. desirable.

なお、第2の断面においては、被検物を遮光部材4の開口上に一旦結像してから受光面7に再結像するために、前群11及び後群12に正のパワーを持たせる必要がある。一方、第1の断面では、被検物を遮光部材4の開口上に一旦結像する必要がないため、更なる広画角化を実現するために、前群11に負のパワーを持たせ、後群12に正のパワーを持たせることが望ましい。これにより、第1の断面においては光学系10がレトロフォーカスタイプになるため、全系の焦点距離が短くなり広画角化を実現することができる。ただし、被検物が光学系10から十分に離れている場合は、前群11に正のパワーを持たせ、後群12に負のパワーを持たせることで、光学系10を望遠光学系としてもよい。 In the second section, the front group 11 and the rear group 12 have positive power in order to form an image of the subject once on the opening of the light shielding member 4 and then re-image it on the light receiving surface 7. need to let On the other hand, in the first cross section, it is not necessary to form an image of the test object on the opening of the light shielding member 4. Therefore, in order to further widen the angle of view, the front group 11 is provided with negative power. , the rear group 12 preferably has positive power. As a result, the optical system 10 becomes a retrofocus type in the first section, so that the focal length of the entire system is shortened and a wide angle of view can be achieved. However, if the subject is sufficiently far away from the optical system 10, the front group 11 is given positive power and the rear group 12 is given negative power, so that the optical system 10 can be used as a telescopic optical system. good too.

図2を用いて、回折面5によって光束が分光される様子を説明する。ここでは、被検物の1点から発された白色光束が、λ1[nm]、λ2[nm]、λ3[nm](λ2<λ1<λ3)の各波長の光束に分光される場合を考える。ただし、図2においては各光束のうち主光線及びマージナル光線のみを示している。 A state in which a light beam is dispersed by the diffraction surface 5 will be described with reference to FIG. Here, it is assumed that a white luminous flux emitted from one point of the object is divided into luminous fluxes of wavelengths λ1 [nm], λ2 [nm], and λ3 [nm] (λ2 < λ1 < λ3). . However, FIG. 2 shows only the chief ray and the marginal ray among the respective light beams.

被検物から発された白色光束における主光線L1P及びマージナル光線L1U,L1Lは、絞り1、第1反射面2、及び第2反射面3を介して遮光部材4の開口上にライン状の中間像を形成する。遮光部材4の開口を通過した主光線L2P及びマージナル光線L2U,L2Lは、回折面5によって、波長λ1の光線L3P,L3U,L3Lと、波長λ2の光線L4P,L4U,L4Lと、波長λ3の光線L5P,L5U,L5Lに分光される。そして、波長λ1、波長λ2、及びの波長λ3の各光線の夫々は、受光面7における第1の位置73、第2の位置74、及び第3の位置75に集光される。 The principal ray L1P and the marginal rays L1U and L1L in the white light beam emitted from the test object pass through the diaphragm 1, the first reflecting surface 2, and the second reflecting surface 3 and form a line-shaped intermediate beam on the opening of the light shielding member 4. form an image. The principal ray L2P and the marginal rays L2U and L2L that have passed through the opening of the light shielding member 4 are divided by the diffraction surface 5 into light rays L3P, L3U and L3L of wavelength λ1, light rays L4P, L4U and L4L of wavelength λ2, and light rays of wavelength λ3. It is split into L5P, L5U, and L5L. The light beams of wavelength λ1, wavelength λ2, and wavelength λ3 are condensed at a first position 73, a second position 74, and a third position 75 on the light receiving surface 7, respectively.

次に、第4反射面6の形状及び作用について詳細に説明する。 Next, the shape and action of the fourth reflecting surface 6 will be described in detail.

図4は、第2の断面における第4反射面6の部分曲率(非球面量)を示している。図4において、横軸は第4反射面6のローカル座標系における原点に対するz方向での位置[mm]を示し、縦軸は第4反射面6の部分曲率1/R[1/mm]を示している。なお、Rは、第2の断面における第4反射面6の部分曲率半径である。また、図4において、実線、破線、一点鎖線の夫々は、ローカル座標系におけるy=0.0[mm]、y=-6.0[mm]、y=-10.0[mm]の各位置でのグラフを示している。 FIG. 4 shows the partial curvature (aspheric amount) of the fourth reflecting surface 6 in the second cross section. In FIG. 4, the horizontal axis indicates the position [mm] in the z direction with respect to the origin of the local coordinate system of the fourth reflecting surface 6, and the vertical axis indicates the partial curvature 1/R z [1/mm] of the fourth reflecting surface 6. is shown. Rz is the partial radius of curvature of the fourth reflecting surface 6 in the second cross section. In FIG. 4, the solid line, dashed line, and dashed-dotted line represent y = 0.0 [mm], y = -6.0 [mm], and y = -10.0 [mm] in the local coordinate system. It shows a graph at position.

図4を見てわかるように、部分曲率1/Rは光軸(x軸)に対して-z側と+z側とで非対称である。具体的に、部分曲率1/Rは、+z側よりも-z側の方で大きくなっている。更に、部分曲率1/Rは、光軸に対して-z側と+z側とで異なる変化(非対称な変化)をしている。本実施形態において、部分曲率1/Rは、-z側においては軸外に向かうに従い大きくなり、+z側においては軸外に向かうに従い小さくなっている。また、部分曲率1/Rは、y=0[mm]の位置から離れるほど大きくなっている。 As can be seen from FIG. 4, the partial curvature 1/R z is asymmetric on the -z side and +z side with respect to the optical axis (x-axis). Specifically, the partial curvature 1/R z is larger on the −z side than on the +z side. Furthermore, the partial curvature 1/ Rz changes differently (asymmetrically) on the -z side and the +z side with respect to the optical axis. In this embodiment, the partial curvature 1/R z increases off-axis on the -z side and decreases off-axis on the +z side. Also, the partial curvature 1/ Rz increases with increasing distance from the position of y=0 [mm].

図5は、本実施形態に係る異なる複数の波長の光束の、光軸を含む第2の断面(y=0[mm])における受光面7での集光状態を示している。図5(a)、図5(b)、図5(c)の夫々は、λ1=700nm、λ2=400nm、λ3=1000nmの各波長の光束の主光線及びマージナル光線が受光面7に至るまでの光路を示している。本実施形態においては、波長λ1=700nmの主光線が第4反射面6の光軸(x軸)上に入射するように設計している。なお、図5において、各波長の光線の符号は図2に示したものと同様であり、図2と同様に回折面5における回折格子を省略している。 FIG. 5 shows how light beams of different wavelengths according to the present embodiment are condensed on the light receiving surface 7 in the second cross section (y=0 [mm]) including the optical axis. 5(a), 5(b), and 5(c), the principal ray and marginal ray of each wavelength of λ1=700 nm, λ2=400 nm, and λ3=1000 nm reach the light receiving surface 7. shows the optical path of In this embodiment, it is designed so that the chief ray with wavelength λ1=700 nm is incident on the optical axis (x-axis) of the fourth reflecting surface 6 . In FIG. 5, the symbols of the light rays of each wavelength are the same as those shown in FIG. 2, and the diffraction grating on the diffraction surface 5 is omitted as in FIG.

図5(a)、図5(b)、図5(c)の夫々に示すように、第4反射面6の光軸に対して+z側、すなわち回折面5のベース面の頂点54と同じ側(近い側)の曲率は、軸外に向かうに従い小さくなっている。一方、第4反射面6の光軸に対して-z側、すなわち回折面5のベース面の頂点54とは反対側(遠い側)の曲率は、軸外に向かうに従い大きくなっている。これにより、第4反射面6の+z側に入射するマージナル光線L3L及び第4反射面6の-z側に入射するマージナル光線L3Uの夫々が、主光線L3Pへ近づくよう反射される。図5を見てわかるように、何れの波長の光束についても、受光面7におけるコマ収差が良好に補正されている。 5(a), 5(b), and 5(c), the +z side with respect to the optical axis of the fourth reflecting surface 6, that is, the same as the vertex 54 of the base surface of the diffraction surface 5 The curvature on the side (closer side) decreases toward the off-axis direction. On the other hand, the curvature of the -z side of the fourth reflecting surface 6 with respect to the optical axis, that is, the side opposite to the vertex 54 of the base surface of the diffractive surface 5 (far side) increases toward the off-axis direction. As a result, the marginal ray L3L incident on the +z side of the fourth reflecting surface 6 and the marginal ray L3U incident on the -z side of the fourth reflecting surface 6 are each reflected so as to approach the principal ray L3P. As can be seen from FIG. 5, the coma aberration on the light receiving surface 7 is well corrected for the light beams of any wavelength.

ここで、本実施形態に係る第4反射面6の効果を説明するために、光学系10のうち第4反射面6のみを変更した比較例を考える。 Here, in order to explain the effect of the fourth reflecting surface 6 according to this embodiment, consider a comparative example in which only the fourth reflecting surface 6 in the optical system 10 is changed.

比較例に係る第4反射面6は、本実施形態に係る第4反射面6の第2の断面の形状を表す表現式における非球面係数の一部をゼロにしたものである。具体的には、後述する式(数2)における非球面係数M01,M21,M41,M03,M23,M43,M05,M25,M45の値ゼロにしたものである。ただし、M01,M05,M25,M45の値は本実施形態においてもゼロである。これらの非球面係数は、第4反射面6の光軸に対する対称性に関するものである。すなわち、比較例に係る第4反射面6の部分曲率1/Rzは、本実施形態とは異なり光軸に対して対象である。 The fourth reflecting surface 6 according to the comparative example is obtained by setting a part of the aspheric coefficients in the expression representing the shape of the second cross section of the fourth reflecting surface 6 according to this embodiment to zero. Specifically, the values of the aspheric coefficients M01, M21, M41, M03, M23, M43, M05, M25, and M45 in the later-described formula (Formula 2) are set to zero. However, the values of M01, M05, M25 and M45 are also zero in this embodiment. These aspheric coefficients relate to the symmetry of the fourth reflecting surface 6 with respect to the optical axis. That is, the partial curvature 1/Rz of the fourth reflecting surface 6 according to the comparative example is symmetrical with respect to the optical axis, unlike the present embodiment.

図6は、比較例に係る異なる複数の波長の光束の、光軸を含む第2の断面における受光面7での集光状態を、図5と同様に示したものである。図6(a)、図6(b)、図6(c)の夫々は、λ1=700nm、λ2=400nm、λ3=1000nmの各波長の光束の主光線及びマージナル光線が受光面7に至るまでの光路を示している。図6(a)、図6(b)、図6(c)の夫々に示すように、比較例においては、受光面7における各波長の主光線及びマージナル光線の集光位置が一致しておらず、コマ収差が良好に補正されていない。 FIG. 6 shows, in the same manner as FIG. 5, the state of convergence of light beams of different wavelengths on the light receiving surface 7 in the second cross section including the optical axis according to the comparative example. 6(a), 6(b), and 6(c) show that the principal ray and the marginal ray of each wavelength of λ1=700 nm, λ2=400 nm, and λ3=1000 nm reach the light receiving surface 7. shows the optical path of As shown in FIGS. 6(a), 6(b), and 6(c), in the comparative example, the condensing positions of the principal ray and the marginal ray of each wavelength on the light-receiving surface 7 do not coincide. and coma is not well corrected.

このように、本実施形態では、第2の断面において、回折面5の像側に配置されたアナモフィック光学面を、光軸に対して一方の側の曲率が軸外に向かうに従い小さくなり、光軸に対して他方の側の曲率が軸外に向かうに従い大きくなるような形状としている。これにより、各波長の光束のマージナル光線を主光線に近づくように集光することができるため、波長ごとに異なるコマ収差を良好に補正することが可能になる。 As described above, in this embodiment, in the second cross section, the curvature of the anamorphic optical surface arranged on the image side of the diffraction surface 5 decreases as the curvature on one side of the optical axis goes off-axis. The shape is such that the curvature on the other side with respect to the axis increases toward the outside of the axis. As a result, since the marginal rays of the light beams of each wavelength can be condensed so as to approach the principal ray, coma aberration which differs for each wavelength can be satisfactorily corrected.

具体的に、本実施形態においては、第4反射面6を、光軸に対して回折面5のベース面の頂点と同じ側の曲率が軸外に向かうに従い小さくなり、光軸に対して回折面5のベース面の頂点とは反対側の曲率が軸外に向かうに従い大きくなるように構成している。なお、回折面5や第4反射面6による光束の偏向方向(各光学面の向き)に応じて、第4反射面6の光軸に対する両側の曲率の変化の仕方を本実施形態とは反対の関係になるように構成してもよい。ただし、第2の断面において遮光部材4から回折面5に至る光路と第4反射面6から受光面7に至る光路とが交差するように構成した方が全系の小型化に有利であるため、本実施形態のように構成することが望ましい。 Specifically, in the present embodiment, the curvature of the fourth reflecting surface 6 on the same side as the vertex of the base surface of the diffractive surface 5 with respect to the optical axis becomes smaller as it goes off-axis, and diffracts with respect to the optical axis. The curvature of the surface 5 on the side opposite to the vertex of the base surface is configured to increase toward the off-axis direction. Note that the curvature of both sides of the fourth reflecting surface 6 with respect to the optical axis changes according to the direction of deflection of the light flux by the diffraction surface 5 and the fourth reflecting surface 6 (orientation of each optical surface). It may be configured to have the relationship of However, in the second cross section, the optical path from the light shielding member 4 to the diffraction surface 5 and the optical path from the fourth reflection surface 6 to the light receiving surface 7 should intersect, which is advantageous for miniaturization of the entire system. , it is desirable to configure as in this embodiment.

以上、本実施形態に係る光学系10によれば、簡素な構成でありながら波長ごとに異なる収差を補正することができる。 As described above, according to the optical system 10 according to the present embodiment, it is possible to correct different aberrations for each wavelength with a simple configuration.

[実施例1]
以下、本発明の実施例1に係る光学系10について説明する。本実施例に係る光学系10は、上述した実施形態に係る光学系10と同等の構成を採っている。
[Example 1]
An optical system 10 according to Example 1 of the present invention will be described below. The optical system 10 according to this example has the same configuration as the optical system 10 according to the embodiment described above.

本実施例において、被検物から絞り1までの距離(物体距離)は300mm、読取領域の第1の方向における幅は300mm、第1の断面での画角は±24.17°である。また、本実施例において、使用波長帯域は400nm~1000nmであり、受光面7における光束の結像領域(入射領域)の第2の方向での幅は2.7mmである。 In this embodiment, the distance from the object to the diaphragm 1 (object distance) is 300 mm, the width of the reading area in the first direction is 300 mm, and the angle of view on the first cross section is ±24.17°. In this embodiment, the wavelength band used is 400 nm to 1000 nm, and the width in the second direction of the imaging region (incidence region) of the light flux on the light receiving surface 7 is 2.7 mm.

本実施例に係る前群11及び後群12の第1の断面での合成焦点距離は各々-16.27mm、28.30mmであり、前群11及び後群12の第2の断面での合成焦点距離は各々19.99mm、25.76mmである。このように、本実施例に係る光学系10は、第2の断面では中間を行うことで結像性能を向上させつつ、第1の断面ではレトロフォーカスタイプを採ることで広画角化(読取領域の広域化)を実現している。 The combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the first cross section according to this embodiment are −16.27 mm and 28.30 mm, respectively, and the combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the second cross section are The focal lengths are 19.99 mm and 25.76 mm, respectively. As described above, the optical system 10 according to the present embodiment improves the imaging performance by performing intermediate processing in the second cross section, while widening the angle of view (reading) by adopting the retrofocus type in the first cross section. area) has been achieved.

ここで、本実施例に係る光学系10の各光学面の面形状の表現式について説明する。なお、各光学面の面形状の表現式は後述のものに限られず、必要に応じて他の表現式を用いて各光学面を設計してもよい。 Here, expressions of the surface shape of each optical surface of the optical system 10 according to the present embodiment will be described. The expressions for the surface shape of each optical surface are not limited to those described later, and each optical surface may be designed using another expression if necessary.

本実施例に係る第1反射面2、第2反射面3、第3反射面(回折面)5、及び第4反射面6の夫々のベース面の第1の断面での形状(母線形状)は、夫々のローカル座標系において以下の式で表される。 Shapes (generatrix shapes) of base surfaces of the first reflecting surface 2, the second reflecting surface 3, the third reflecting surface (diffraction surface) 5, and the fourth reflecting surface 6 according to the present embodiment in the first cross section is represented by the following formula in each local coordinate system.

Figure 0007214376000001
Figure 0007214376000001

但し、Rはxy断面での曲率半径(母線曲率半径)であり、K,B,B,Bはxy断面での非球面係数である。非球面係数B,B,Bについて、必要に応じてx軸の両側(-y側と+y側)で互いに数値を異ならせてもよい。これにより、母線形状をx軸に対してy方向に非対称な形状とすることができる。なお、本実施例では2次~6次の非球面係数を用いているが、必要に応じてより高次の非球面係数を用いてもよい。 However, R y is the radius of curvature (radius of curvature of the generatrix) in the xy section, and K y , B 2 , B 4 and B 6 are the aspherical coefficients in the xy section. The aspherical coefficients B 2 , B 4 and B 6 may have different numerical values on both sides of the x-axis (−y side and +y side), if necessary. As a result, the generatrix shape can be made asymmetrical in the y direction with respect to the x axis. Although second to sixth order aspherical coefficients are used in this embodiment, higher order aspherical coefficients may be used if necessary.

また、本実施例に係る各光学面の夫々のベース面の、y方向における任意の位置の第2の断面での形状(子線形状)は、以下の式で表される。 Further, the shape (sagittal line shape) of the base surface of each optical surface according to the present embodiment in the second cross section at an arbitrary position in the y direction is represented by the following formula.

Figure 0007214376000002
Figure 0007214376000002

但し、K,Mjkはzx断面での非球面係数である。また、r´は、y方向において光軸からyだけ離れた位置におけるzx断面での曲率半径(子線曲率半径)であり、以下の式で表される。 However, K z and M jk are the aspheric coefficients on the zx section. Also, r' is the radius of curvature (sagittal curvature radius) in the zx cross section at a position away from the optical axis by y in the y direction, and is expressed by the following equation.

Figure 0007214376000003
Figure 0007214376000003

但し、rは光軸上での子線曲率半径であり、E,Eは子線変化係数である。式(数3)においてr=0である場合は、式(数2)の右辺の第1項はゼロとして扱うものとする。なお、子線変化係数E,Eについて、必要に応じて-y側と+y側で互いに数値を異ならせてもよい。これにより、子線形状の非球面量をy方向において非対称にすることができる。また、式(数3)は偶数項のみを含んでいるが、必要に応じて奇数項を加えてもよい。また、必要に応じてより高次の子線変化係数を用いてもよい。 However, r is the sagittal curvature radius on the optical axis, and E 2 and E 4 are sagittal variation coefficients. If r=0 in the formula (3), the first term on the right side of the formula (2) is treated as zero. Note that the sagittal line variation coefficients E 2 and E 4 may have different numerical values on the -y side and the +y side, if necessary. This makes it possible to make the sagittal shape aspheric amount asymmetrical in the y direction. Also, although the formula (Formula 3) includes only even terms, odd terms may be added as necessary. Also, higher order sagittal variation coefficients may be used if desired.

なお、式(数2)におけるzの1次の項は、zx断面での光学面のチルト量(子線チルト量)に寄与する項である。よって、Mjkを-y側と+y側で互いに異なる数値とすることで、子線チルト量をy方向において非対称に変化させることができる。ただし、奇数項用いることで子線チルト量を非対称に変化させてもよい。また、式(数2)におけるzの2次の項は、光学面の子線曲率半径に寄与する項である。よって、各光学面の設計を簡単にするために、式(数3)ではなく式(数2)におけるzの2次の項のみを用いて光学面に子線曲率半径を与えてもよい。 Note that the first-order term of z in the formula (Equation 2) is a term that contributes to the amount of tilt of the optical surface (the amount of sagittal line tilt) in the zx section. Therefore, by setting M jk to different numerical values on the -y side and the +y side, the sagittal line tilt amount can be changed asymmetrically in the y direction. However, the sagittal beam tilt amount may be changed asymmetrically by using an odd term. Also, the second-order term of z in the formula (Equation 2) is a term that contributes to the sagittal curvature radius of the optical surface. Therefore, in order to simplify the design of each optical surface, only the quadratic term of z in Equation (2) instead of Equation (3) may be used to give the optical surface the sagittal radius of curvature.

また、回折面5における回折格子の形状は、既知の回折光学理論に基づく位相関数で表されるものであれば、特に限定されるものではない。本実施例では、基本波長(設計波長)をλ[mm]、zx断面における位相係数をC1とするとき、回折面5における回折格子の形状を以下の位相関数φで定義している。但し、本実施形態では回折格子の回折次数が1であるとする。
φ=(2π/λ)×(C1×z)
Moreover, the shape of the diffraction grating on the diffraction surface 5 is not particularly limited as long as it can be represented by a phase function based on a known diffractive optical theory. In this embodiment, when the fundamental wavelength (design wavelength) is λ [mm] and the phase coefficient in the zx section is C1, the shape of the diffraction grating on the diffraction surface 5 is defined by the following phase function φ. However, in this embodiment, it is assumed that the diffraction grating has one diffraction order.
φ=(2π/λ)×(C1×z)

なお、ここでの基本波長は、回折格子の高さを決めるための波長であり、被検物に対する照明光の分光特性、回折面5以外の反射面の分光反射率、受光面7を含む撮像素子の分光受光感度、要求される回折効率などに基づいて決定される。すなわち、基本波長は、受光面7による検知の際に重視したい波長に対応する。本実施例においては、基本波長λを542nmとすることで、使用波長帯域における可視域を重点的に観察できるようにしている。ただし、例えば基本波長を850nm程度とすることで近赤外域を重点的に観察できるようにしたり、基本波長を700nm程度とすることで可視域から近赤外域をバランス良く観察できるようにしたりしてもよい。 The fundamental wavelength here is the wavelength for determining the height of the diffraction grating, and the spectral characteristics of the illumination light with respect to the test object, the spectral reflectance of the reflecting surfaces other than the diffraction surface 5, and the imaging including the light receiving surface 7 It is determined based on the spectral sensitivity of the element, the required diffraction efficiency, and the like. In other words, the fundamental wavelength corresponds to the wavelength to be emphasized in detection by the light-receiving surface 7 . In this embodiment, by setting the fundamental wavelength λ to 542 nm, it is possible to focus on observation in the visible region in the working wavelength band. However, for example, by setting the fundamental wavelength to about 850 nm, it is possible to focus on observing the near-infrared region, and by setting the fundamental wavelength to about 700 nm, it is possible to observe the visible region to the near-infrared region in a well-balanced manner. good too.

表1に、本実施例に係る光学系10の各光学面の頂点の位置、頂点における法線の方向、及び各断面での曲率半径を示す。表1において、各光学面の頂点の位置は絶対座標系における原点からの距離X,Y,Z[mm]で示し、法線(x軸)の方向は光軸を含むZX断面でのX軸に対する角度θ[deg]で示している。また、d[mm]は各光学面同士の間隔(面間隔)を示し、d´[mm]は各光学面における主光線の反射点同士の間隔を示し、R,R[mm]の夫々は主光線の反射点におけるXY断面及びZX断面での曲率半径を示している。なお、各反射面の曲率半径の値が正のときは凹面を示し、負のときは凸面を示す。 Table 1 shows the position of the vertex of each optical surface of the optical system 10 according to this embodiment, the direction of the normal line at the vertex, and the radius of curvature at each cross section. In Table 1, the position of the vertex of each optical surface is indicated by the distance X, Y, Z [mm] from the origin in the absolute coordinate system, and the direction of the normal (x-axis) is the X-axis in the ZX cross section including the optical axis. is indicated by an angle θ [deg] with respect to . Further, d [mm] indicates the interval (surface interval) between the optical surfaces, d′ [mm] indicates the interval between the reflection points of the principal rays on each optical surface, and R y and R z [mm] Each indicates the radius of curvature in the XY section and the ZX section at the reflection point of the principal ray. When the value of the radius of curvature of each reflecting surface is positive, it indicates a concave surface, and when it is negative, it indicates a convex surface.

Figure 0007214376000004
Figure 0007214376000004

表2に、本実施例に係る光学系10の各光学面の面形状を示す。表2において、R,r,λの夫々の単位は[mm]である。表2に示すように、本実施例に係る第4反射面6は、y方向においてはzx断面に対して対称な非球面形状となっており、z方向においてはxy断面に対して非対称な非球面形状となっている。 Table 2 shows the surface shape of each optical surface of the optical system 10 according to this embodiment. In Table 2, each unit of R y , r, and λ is [mm]. As shown in Table 2, the fourth reflecting surface 6 according to the present embodiment has an aspheric shape that is symmetrical with respect to the zx section in the y direction, and an aspherical shape that is asymmetrical with respect to the xy section in the z direction. It has a spherical shape.

Figure 0007214376000005
Figure 0007214376000005

表3に、絞り1の開口、遮光部材4の開口、及び受光面7のy方向及びz方向における径[mm]を示す。本実施例においては、絞り1の開口、遮光部材4の開口、及び受光面7の何れもが矩形である。 Table 3 shows the diameters [mm] of the aperture of the diaphragm 1, the aperture of the light shielding member 4, and the light receiving surface 7 in the y direction and z direction. In this embodiment, the aperture of the diaphragm 1, the aperture of the light blocking member 4, and the light receiving surface 7 are all rectangular.

Figure 0007214376000006
Figure 0007214376000006

図7は、本実施例に係る光学系10のMTF(Modulated Transfer Function)を示す。図7では、700nm(frq1),400nm(frq2),1000nm(frq3)の各波長に対するMTFを、読取領域における物体高[mm]がY=0,30,60,90,120,150である場合の夫々について示している。図7に示すように、受光面7を含む撮像素子の各波長に対する空間周波数[本/mm]は、27.8,41.7,55.6である。図7を見てわかるように、読取領域の全域にわたって収差が良好に補正され、焦点深度が十分に確保されている。 FIG. 7 shows the MTF (Modulated Transfer Function) of the optical system 10 according to this embodiment. In FIG. 7, the MTF for each wavelength of 700 nm (frq1), 400 nm (frq2), and 1000 nm (frq3) is obtained when the object height [mm] in the reading area is Y = 0, 30, 60, 90, 120, 150 are shown for each of the As shown in FIG. 7, the spatial frequencies [lines/mm] for each wavelength of the imaging element including the light receiving surface 7 are 27.8, 41.7, and 55.6. As can be seen from FIG. 7, aberrations are well corrected over the entire reading area, and a sufficient depth of focus is ensured.

[実施例2]
以下、本発明の実施例2に係る光学系10について説明する。本実施例に係る光学系10において、上述した実施例1に係る光学系10と同等の構成については説明を省略する。
[Example 2]
An optical system 10 according to Example 2 of the present invention will be described below. In the optical system 10 according to the present embodiment, description of the same configuration as that of the optical system 10 according to the first embodiment is omitted.

図8は、本発明の実施形態に係る光学系10の要部概略図であり、図8(a)は第1の断面を示し、図8(b)は第2の断面を示している。本実施例に係る光学系10は、実施例1に係る光学系10に対して、絞り1から受光面7に至る光路長が短く、全系の更なる小型化を実現している。 8A and 8B are schematic diagrams of essential parts of an optical system 10 according to an embodiment of the present invention, in which FIG. 8A shows a first cross section and FIG. 8B shows a second cross section. Compared with the optical system 10 according to the first embodiment, the optical system 10 according to the present embodiment has a shorter optical path length from the stop 1 to the light receiving surface 7, and further miniaturization of the entire system is realized.

本実施例において、被検物から絞り1までの距離は300mm、読取領域の第1の方向における幅は300mm、第1の断面での画角は±24.46°である。また、本実施例においては、使用波長帯域が400nm~1000nmであり、受光面7における第2の方向での結像領域の幅は2.7mmである。本実施例に係る前群11及び後群12の第1の断面での合成焦点距離は各々-14.21mm、16.69mmであり、前群11及び後群12の第2の断面での合成焦点距離は各々19.33mm、11.01mmである。 In this embodiment, the distance from the object to the diaphragm 1 is 300 mm, the width of the reading area in the first direction is 300 mm, and the angle of view on the first cross section is ±24.46°. Further, in this embodiment, the wavelength band used is 400 nm to 1000 nm, and the width of the imaging region in the second direction on the light receiving surface 7 is 2.7 mm. The combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the first cross section according to this embodiment are −14.21 mm and 16.69 mm, respectively, and the combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the second cross section are The focal lengths are 19.33 mm and 11.01 mm, respectively.

実施例1と同様に、表4に本実施例に係る光学系10の各光学面の頂点の位置、頂点における法線の方向、及び各断面での曲率半径を示し、表5に各光学面の面形状を示し、表6に絞り1の開口、遮光部材4の開口、及び受光面7の径を示す。但し、第3反射面5の第2の断面における形状については、式(数1)で表される母線上の各位置での法線とx軸とが一致するように、位置ごとに異なるローカル座標系を定めた上で、上述の式(数2)で表している。なお、表4と表5とで曲率半径Rの値が一致していないのは、表4における曲率半径の値が第2の断面におけるチルト角を考慮したものであるためである。 As in Example 1, Table 4 shows the position of the vertex of each optical surface of the optical system 10 according to this example, the direction of the normal line at the vertex, and the radius of curvature at each cross section. , and Table 6 shows the aperture of the diaphragm 1, the aperture of the light shielding member 4, and the diameter of the light receiving surface 7. However, regarding the shape of the second cross section of the third reflecting surface 5, the local After defining the coordinate system, it is represented by the above-described formula (Equation 2). The reason why the values of the radius of curvature Ry in Tables 4 and 5 do not match is that the values of the radius of curvature in Table 4 take into consideration the tilt angle in the second cross section.

Figure 0007214376000007
Figure 0007214376000007

Figure 0007214376000008
Figure 0007214376000008

Figure 0007214376000009
Figure 0007214376000009

図9は、図7と同様に本実施例に係る光学系10のMTFを示したものである。図9を見てわかるように、読取領域の全域にわたって収差が良好に補正され、焦点深度が十分に確保されている。 FIG. 9, like FIG. 7, shows the MTF of the optical system 10 according to this embodiment. As can be seen from FIG. 9, aberrations are well corrected over the entire reading area and a sufficient depth of focus is ensured.

[実施例3]
以下、本発明の実施例3に係る光学系10について説明する。本実施例に係る光学系10において、上述した実施例1に係る光学系10と同等の構成については説明を省略する。
[Example 3]
An optical system 10 according to Example 3 of the present invention will be described below. In the optical system 10 according to the present embodiment, description of the same configuration as that of the optical system 10 according to the first embodiment is omitted.

図10は、本発明の実施形態に係る光学系10の要部概略図であり、図10(a)は第1の断面を示し、図10(b)は第2の断面を示している。本実施例に係る光学系10は、実施例1に係る光学系10に対して、射出側(像側)のFnoが小さい(明るい)構成となっている。具体的には、実施例1に係る光学系10の射出側のFnoが、第1及び第2の断面において各々4.7及び4.0であるのに対して、本実施例に係る光学系10の射出側のFnoは、第1及び第2の断面において各々4.1及び3.5となっている。 10A and 10B are schematic diagrams of essential parts of an optical system 10 according to an embodiment of the present invention, in which FIG. 10A shows a first cross section and FIG. 10B shows a second cross section. The optical system 10 according to the present embodiment has a smaller (brighter) Fno on the exit side (image side) than the optical system 10 according to the first embodiment. Specifically, while the Fno on the exit side of the optical system 10 according to Example 1 is 4.7 and 4.0 in the first and second cross sections, respectively, the optical system according to this example The exit side Fno of 10 is 4.1 and 3.5 in the first and second cross sections, respectively.

本実施例において、被検物から絞り1までの距離は300mm、読取領域の第1の方向における幅は300mm、第1の断面での画角は±24.44°である。また、本実施例においては、使用波長帯域が400nm~1000nmであり、受光面7における第2の方向での結像領域の幅は2.64mmである。本実施例に係る前群11及び後群12の第1の断面での合成焦点距離は各々-14.46mm、26.85mmであり、前群11及び後群12の第2の断面での合成焦点距離は各々19.34mm、24.98mmである。 In this embodiment, the distance from the object to the diaphragm 1 is 300 mm, the width of the reading area in the first direction is 300 mm, and the angle of view on the first cross section is ±24.44°. In this embodiment, the wavelength band used is 400 nm to 1000 nm, and the width of the imaging area in the second direction on the light receiving surface 7 is 2.64 mm. The combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the first cross section according to this embodiment are −14.46 mm and 26.85 mm, respectively, and the combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the second cross section are The focal lengths are 19.34 mm and 24.98 mm, respectively.

実施例1と同様に、表7に本実施例に係る光学系10の各光学面の頂点の位置、頂点における法線の方向、及び各断面での曲率半径を示し、表8に各光学面の面形状を示し、表9に絞り1の開口、遮光部材4の開口、及び受光面7の径を示す。 As in Example 1, Table 7 shows the position of the vertex of each optical surface of the optical system 10 according to this example, the direction of the normal line at the vertex, and the radius of curvature at each cross section. , and Table 9 shows the aperture of the diaphragm 1, the aperture of the light shielding member 4, and the diameter of the light receiving surface 7.

Figure 0007214376000010
Figure 0007214376000010

Figure 0007214376000011
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Figure 0007214376000012
Figure 0007214376000012

図11は、図7と同様に本実施例に係る光学系10のMTFを示したものである。図11を見てわかるように、読取領域の全域にわたって収差が良好に補正され、焦点深度が十分に確保されている。 FIG. 11, like FIG. 7, shows the MTF of the optical system 10 according to this example. As can be seen from FIG. 11, aberrations are well corrected over the entire reading area and a sufficient depth of focus is ensured.

[実施例4]
以下、本発明の実施例4に係る光学系10について説明する。本実施例に係る光学系10において、上述した実施例1に係る光学系10と同等の構成については説明を省略する。
[Example 4]
An optical system 10 according to Example 4 of the present invention will be described below. In the optical system 10 according to the present embodiment, description of the same configuration as that of the optical system 10 according to the first embodiment is omitted.

図12は、本発明の実施形態に係る光学系10の要部概略図であり、図12(a)は第1の断面を示し、図12(b)は第2の断面を示している。本実施例に係る光学系10は、実施例1に係る光学系10に対して、絞り1から受光面7に至る光路長が短く、全系の更なる小型化を実現している。 12A and 12B are schematic diagrams of essential parts of an optical system 10 according to an embodiment of the present invention, FIG. 12(a) showing a first cross section and FIG. 12(b) showing a second cross section. Compared with the optical system 10 according to the first embodiment, the optical system 10 according to the present embodiment has a shorter optical path length from the stop 1 to the light receiving surface 7, and further miniaturization of the entire system is realized.

本実施例において、被検物から絞り1までの距離は300mm、読取領域の第1の方向における幅は300mm、第1の断面での画角は±24.49°である。また、本実施例においては、使用波長帯域が400nm~1000nmであり、受光面7における第2の方向での結像領域の幅は2.37mmである。本実施例に係る前群11及び後群12の第1の断面での合成焦点距離は各々-13.23mm、16.78mmであり、前群11及び後群12の第2の断面での合成焦点距離は各々17.53mm、11.25mmである。 In this embodiment, the distance from the object to the diaphragm 1 is 300 mm, the width of the reading area in the first direction is 300 mm, and the angle of view on the first cross section is ±24.49°. In this embodiment, the wavelength band used is 400 nm to 1000 nm, and the width of the imaging area in the second direction on the light receiving surface 7 is 2.37 mm. The combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the first cross section according to this embodiment are −13.23 mm and 16.78 mm, respectively, and the combined focal lengths of the front group 11 and the rear group 12 in the second cross section are The focal lengths are 17.53 mm and 11.25 mm, respectively.

実施例1と同様に、表10に本実施例に係る光学系10の各光学面の頂点の位置、頂点における法線の方向、及び各断面での曲率半径を示し、表11に各光学面の面形状を示し、表12に絞り1の開口、遮光部材4の開口、及び受光面7の径を示す。なお、表10と表11とで曲率半径Rの値が一致していないのは、表10における曲率半径の値が第2の断面におけるチルト角を考慮したものであるためである。 As in Example 1, Table 10 shows the position of the vertex of each optical surface of the optical system 10 according to the present example, the direction of the normal line at the vertex, and the radius of curvature at each cross section. , and Table 12 shows the aperture of the diaphragm 1, the aperture of the light shielding member 4, and the diameter of the light receiving surface 7. The reason why the values of the radius of curvature Ry do not match between Tables 10 and 11 is that the values of the radius of curvature in Table 10 take into account the tilt angle in the second cross section.

Figure 0007214376000013
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Figure 0007214376000014
Figure 0007214376000014

Figure 0007214376000015
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なお、本実施例において、第1反射面2、第2反射面3、第3反射面5、及び第4反射面6の子線形状は、上述した式(数3)の代わりに以下の式を用いて表される。また、第3反射面5の子線形状については、実施例2と同様に母線上の位置ごとに異なるローカル座標系を定めた上で、上述の式(数2)で表している。
r´=r(1+E+E
In this embodiment, the sagittal shape of the first reflecting surface 2, the second reflecting surface 3, the third reflecting surface 5, and the fourth reflecting surface 6 is expressed by the following equation instead of the above-described equation (equation 3). is represented using Further, the sagittal line shape of the third reflecting surface 5 is represented by the above-described formula (Equation 2) after determining different local coordinate systems for each position on the generatrix as in the second embodiment.
r'=r( 1 + E2y2 + E4y4 )

図13は、図7と同様に本実施例に係る光学系10のMTFを示したものである。図13を見てわかるように、読取領域の全域にわたって収差が良好に補正され、焦点深度が十分に確保されている。 FIG. 13, like FIG. 7, shows the MTF of the optical system 10 according to this example. As can be seen from FIG. 13, aberrations are well corrected over the entire reading area and a sufficient depth of focus is ensured.

[撮像システム]
以下、上述した実施形態に係る光学系10の使用例としての撮像装置(分光読取装置)及び撮像システム(分光読取システム)について説明する。
[Imaging system]
An imaging device (spectral reading device) and an imaging system (spectral reading system) will be described below as examples of using the optical system 10 according to the above-described embodiment.

図14及び図15は、本発明の実施形態に係る撮像システム100,200の要部概略図である。撮像システム100,200は、光学系10及び光学系10により形成された像を受光する撮像素子を有する撮像装置101,201と、各撮像装置及び被検物103,203の相対位置を変更する搬送部102,202とを備える。なお、各撮像システムは、撮像素子から得られる画像情報に基づいて画像を生成する画像処理部を有することが望ましい。画像処理部は、例えばCPUなどのプロセッサであり、各撮像装置の内部又は外部の何れに設けられていてもよい。 14 and 15 are schematic diagrams of essential parts of imaging systems 100 and 200 according to embodiments of the present invention. The imaging systems 100 and 200 include an imaging device 101 and 201 having an optical system 10 and an imaging device for receiving an image formed by the optical system 10, and a transport device for changing the relative positions of each imaging device and the subject 103 and 203. and a portion 102, 202. Note that each imaging system preferably has an image processing section that generates an image based on image information obtained from the imaging device. The image processing unit is, for example, a processor such as a CPU, and may be provided inside or outside each imaging device.

撮像装置101,201によれば、第1の方向(Y方向)に長いライン状の読取領域104,204を1回撮像することで、複数の波長に対応する複数の画像情報(一次元画像)を取得することができる。このとき、各撮像装置を、一般的なカメラよりも多い4種類以上の波長に対応する画像情報を取得できるマルチスペクトルカメラとして構成することが望ましい。さらに、各撮像装置を、100種類以上の波長に対応する画像情報を取得できるハイパースペクトルカメラとして構成することがより好ましい。 According to the imaging devices 101 and 201, a plurality of image information (one-dimensional images) corresponding to a plurality of wavelengths are obtained by once imaging the linear reading regions 104 and 204 long in the first direction (Y direction). can be obtained. At this time, it is desirable to configure each imaging device as a multispectral camera capable of acquiring image information corresponding to four or more wavelengths, which is more than a general camera. Furthermore, it is more preferable to configure each imaging device as a hyperspectral camera capable of acquiring image information corresponding to 100 or more wavelengths.

各撮像装置における撮像素子としては、CCD(Charge Coupled Device)センサやCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサなどを採用することができる。撮像素子は、可視光に限らず赤外光(近赤外光や遠赤外線光)などを光電変換できるように構成されていてもよい。具体的には、使用波長帯域に応じてInGaAsやInAsSbなどの材料を用いた撮像素子を採用してもよい。また、撮像素子の画素数は、読取方向及び分光方向において求められる分解能に基づいて決定することが望ましい。 A CCD (Charge Coupled Device) sensor, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensor, or the like can be employed as an imaging element in each imaging device. The imaging element may be configured to photoelectrically convert not only visible light but also infrared light (near-infrared light and far-infrared light). Specifically, an imaging element using materials such as InGaAs and InAsSb may be employed depending on the wavelength band used. Moreover, it is desirable to determine the number of pixels of the imaging device based on the required resolution in the reading direction and the spectral direction.

図14に示す通り、撮像システム100における搬送部102は、被検物103を第2の方向(Z方向)へ移動させる手段である。搬送部102としてはベルトコンベアなどを採用することができる。一方、図15に示す通り、撮像システム200における搬送部202は、撮像装置201を第2の方向へ移動させる手段である。搬送部202としては、マルチコプタ、飛行機、人工衛星等を採用することができる。搬送部202を用いることで、ベルトコンベアなどでは搬送できない大型の被検物や、移動が困難な被検物などに対しても、第2の方向における複数の位置での撮像を行うことができる。 As shown in FIG. 14, the transport unit 102 in the imaging system 100 is means for moving the test object 103 in the second direction (Z direction). A belt conveyor or the like can be employed as the transport unit 102 . On the other hand, as shown in FIG. 15, the transport unit 202 in the imaging system 200 is means for moving the imaging device 201 in the second direction. A multicopter, an airplane, an artificial satellite, or the like can be used as the transport unit 202 . By using the transport unit 202, it is possible to perform imaging at a plurality of positions in the second direction even for a large test object that cannot be transported by a belt conveyor or the like, or for a test object that is difficult to move. .

撮像システム100,200によれば、各搬送部に各撮像装置及び各被検物の相対位置を変更させながら、各撮像装置に読取領域を順次撮像させることで、第2の方向における複数の位置に対応する複数の画像情報を取得することができる。画像処理部によってこの複数の撮像画像の並び替えや演算処理などを行うことで、特定の波長に対応する二次元画像を生成することができる。なお、各画像情報は第1の方向における濃淡情報を表すため、第2の方向における特定の位置での波長ごとの濃淡情報に基づいて、画像処理部によりスペクトル分布を生成してもよい。 According to the imaging systems 100 and 200, each imaging device sequentially images the reading region while changing the relative position of each imaging device and each test object in each transport unit, thereby obtaining a plurality of positions in the second direction. can acquire a plurality of image information corresponding to . A two-dimensional image corresponding to a specific wavelength can be generated by performing rearrangement, arithmetic processing, and the like on the plurality of picked-up images by the image processing unit. Since each piece of image information represents grayscale information in the first direction, the spectral distribution may be generated by the image processing unit based on the grayscale information for each wavelength at a specific position in the second direction.

なお、各搬送部を、各撮像装置及び各被検物の両方を移動させるように構成してもよい。また、各搬送部によって各撮像装置と各被検物との光軸方向(X方向)における相対位置を調整することができるようにしてもよい。あるいは、光学系10の内部又は外部に駆動可能な光学部材(フォーカス部材)を配置し、その光学部材の位置を調整することで、被検物に対するフォーカシングを行うことができるようにしてもよい。 Note that each transport unit may be configured to move both each imaging device and each test object. Further, each transportation unit may be configured to be able to adjust the relative position between each imaging device and each test object in the optical axis direction (X direction). Alternatively, a drivable optical member (focusing member) may be placed inside or outside the optical system 10, and the position of the optical member may be adjusted so that the subject can be focused.

以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及び実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の組合せ、変形及び変更が可能である。 Although preferred embodiments and examples of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments and examples, and various combinations, modifications, and changes are possible within the scope of the gist.

4 遮光部材
5 第3反射面(回折面)
6 第4反射面(アナモフィック光学面)
7 受光面(像面)
10 光学系
11 前群
12 後群
4 light shielding member 5 third reflecting surface (diffraction surface)
6 fourth reflecting surface (anamorphic optical surface)
7 Light-receiving surface (image surface)
10 optical system 11 front group 12 rear group

Claims (20)

物体側から像側へ順に配置された前群、遮光部材、後群から成る光学系であって、
前記遮光部材には、第1の方向に長い開口が設けられており、
前記前群は、前記第1の方向に平行な第1の断面においては前記開口上に物体を結像せず、前記第1の方向に垂直な第2の断面においては前記開口上に前記物体の中間像を形成しており、
前記後群は、前記第2の断面において前記開口を通過した光束を互いに波長が異なる複数の光束に分光する回折面と、前記第2の断面において前記複数の光束を互いに異なる位置に集光するアナモフィック光学面とを有し、
前記アナモフィック光学面の原点における法線方向の軸をx軸、前記第1の方向に平行かつ前記原点において前記x軸と直交する軸をy軸、前記x軸及び前記y軸に直交する軸をz軸とし、前記第2の断面における非球面係数をK 及びM jk 、前記第2の断面における前記アナモフィック光学面の前記原点での曲率半径をr、子線変化係数をE 及びE とし、前記第2の断面における前記アナモフィック光学面の形状を
Figure 0007214376000016

Figure 0007214376000017

なる式で表すとき、該式で定義される形状の、前記x軸に対して一方の側の曲率は軸外に向かうに従い小さくなり、前記x軸に対して他方の側の曲率は軸外に向かうに従い大きくなることを特徴とする光学系。
An optical system comprising a front group, a light shielding member, and a rear group arranged in order from the object side to the image side,
The light shielding member is provided with an opening long in a first direction,
The front group does not image an object on the opening in a first cross section parallel to the first direction, and the object is imaged on the opening in a second cross section perpendicular to the first direction. forms an intermediate image of
The rear group includes a diffraction surface that disperses the light flux passing through the aperture on the second cross section into a plurality of light fluxes having different wavelengths, and a diffraction surface that converges the plurality of light fluxes on different positions on the second cross section. an anamorphic optical surface;
The axis normal to the origin of the anamorphic optical surface is the x-axis, the axis parallel to the first direction and orthogonal to the x-axis at the origin is the y-axis, and the axis orthogonal to the x-axis and the y-axis is Let the z-axis be the aspheric coefficients in the second section, Kz and Mjk be the aspheric coefficients , r be the radius of curvature at the origin of the anamorphic optical surface in the second section, and E2 and E4 be the sagittal change coefficients. and the shape of the anamorphic optical surface in the second cross section is
Figure 0007214376000016

Figure 0007214376000017

When expressed by the following formula, the curvature on one side with respect to the x-axis of the shape defined by the formula becomes smaller as it goes off-axis, and the curvature on the other side with respect to the x-axis becomes off-axis An optical system characterized by increasing in size as it goes.
前記第2の断面において、前記アナモフィック光学面の、x軸に対して前記回折面のベース面の頂点と同じ側の曲率は軸外に向かうに従い小さくなり、x軸に対して前記頂点とは反対側の曲率は軸外に向かうに従い大きくなることを特徴とする請求項1に記載の光学系。 In the second cross section, the curvature of the anamorphic optical surface on the same side as the vertex of the base surface of the diffractive surface with respect to the x -axis decreases as it goes off-axis, and is opposite to the vertex with respect to the x-axis . 2. The optical system according to claim 1, wherein the curvature of the side increases toward off-axis. 前記第2の断面において、前記アナモフィック光学面の曲率は、前記回折面からの光束のマージナル光線が主光線に近づくように変化することを特徴とする請求項1又は2に記載の光学系。 3. The optical system according to claim 1, wherein the curvature of said anamorphic optical surface changes in said second cross section so that a marginal ray of a light beam from said diffractive surface approaches a principal ray. 前記アナモフィック光学面は、反射面であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の光学系。 4. The optical system according to any one of claims 1 to 3, wherein said anamorphic optical surface is a reflective surface. 前記回折面のベース面は、アナモフィック面であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の光学系。 5. The optical system according to claim 1, wherein the base surface of said diffraction surface is an anamorphic surface. 前記回折面の回折格子における複数の稜線は、互いに平行であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の光学系。 6. The optical system according to any one of claims 1 to 5, wherein a plurality of ridgelines of the diffraction grating of said diffraction surface are parallel to each other. 前記複数の稜線の間隔は一定であることを特徴とする請求項6に記載の光学系。 7. The optical system according to claim 6, wherein intervals between the plurality of ridge lines are constant. 前記回折面は、反射面であることを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の光学系。 8. The optical system according to claim 1, wherein said diffraction surface is a reflecting surface. 前記前群及び前記後群に含まれる全ての光学面は反射面であることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の光学系。 9. The optical system according to claim 1, wherein all optical surfaces included in said front group and said rear group are reflecting surfaces. 前記第2の断面において、前記前群及び前記後群は正のパワーを有することを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載の光学系。 10. The optical system according to claim 1 , wherein said front group and said rear group have positive power in said second section . 前記第1の断面において、前記前群は負のパワーを有し、前記後群は正のパワーを有することを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載の光学系。 11. The optical system according to any one of claims 1 to 10, wherein the front group has negative power and the rear group has positive power in the first cross section. 前記遮光部材は、前記物体からの光束の前記第1の方向における幅を規制することを特徴とする請求項1乃至11の何れか一項に記載の光学系。 12. The optical system according to any one of claims 1 to 11, wherein the light shielding member restricts the width of the light flux from the object in the first direction. 前記前群は、前記物体からの光束の前記第1の方向に垂直な第2の方向における幅を規制する絞りを有することを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載の光学系。 13. The optical system according to any one of claims 1 to 12, wherein the front group has a diaphragm that regulates the width of the light flux from the object in a second direction perpendicular to the first direction. system. 請求項1乃至13の何れか一項に記載の光学系と、該光学系により形成された像を受光する撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。 An imaging apparatus comprising: the optical system according to any one of claims 1 to 13; and an imaging device for receiving an image formed by the optical system. 前記撮像素子から得られる画像情報に基づいて画像を生成する画像処理部を有することを特徴とする請求項14に記載の撮像装置。 15. The imaging apparatus according to claim 14, further comprising an image processing section that generates an image based on image information obtained from the imaging device. 請求項14又は15に記載の撮像装置と、該撮像装置及び前記物体の相対位置を変更する搬送部とを備えることを特徴とする撮像システム。 16. An imaging system comprising: the imaging device according to claim 14 or 15; and a conveying unit that changes the relative positions of the imaging device and the object. 前記搬送部は、前記物体を前記第1の方向に垂直な方向へ移動させることを特徴とする請求項16に記載の撮像システム。 17. The imaging system according to claim 16, wherein said transporter moves said object in a direction perpendicular to said first direction. 前記搬送部は、前記撮像装置を前記第1の方向に垂直な方向へ移動させることを特徴とする請求項16に記載の撮像システム。 17. The imaging system according to claim 16, wherein the transport section moves the imaging device in a direction perpendicular to the first direction. 前記搬送部に前記撮像装置及び前記物体の相対位置を変更させながら前記撮像装置に前記物体の撮像を行わせることで取得された複数の画像情報に基づいて、前記物体の画像を生成する画像処理部を備えることを特徴とする請求項16乃至18の何れか一項に記載の撮像システム。 Image processing for generating an image of the object based on a plurality of pieces of image information acquired by causing the imaging device to image the object while changing the relative positions of the imaging device and the object by the transport unit. 19. An imaging system according to any one of claims 16 to 18, comprising a unit. 前記画像処理部は、前記複数の光束に対応する波長ごとの画像を生成することを特徴とする請求項19に記載の撮像システム。 20. The imaging system according to claim 19, wherein the image processing section generates an image for each wavelength corresponding to the plurality of luminous fluxes.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002092928A (en) 2000-09-20 2002-03-29 Minolta Co Ltd Light source unit and optical pickup
US20060082772A1 (en) 2004-10-20 2006-04-20 Resonon Inc. Scalable imaging spectrometer
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