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JP7214550B2 - drying equipment - Google Patents
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JP7214550B2 - drying equipment - Google Patents

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JP7214550B2 JP2019080226A JP2019080226A JP7214550B2 JP 7214550 B2 JP7214550 B2 JP 7214550B2 JP 2019080226 A JP2019080226 A JP 2019080226A JP 2019080226 A JP2019080226 A JP 2019080226A JP 7214550 B2 JP7214550 B2 JP 7214550B2
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Description

本願は、乾燥装置に関する。 The present application relates to a drying apparatus.

従来から、複数の基板に対して一括で乾燥処理を行うバッチ式の基板乾燥装置が提案されている(例えば特許文献1)。これら複数の基板はキャリアに収納された状態で、基板乾燥装置に搬送される。基板乾燥装置は乾燥チャンバ内にキャリア受け部を備えており、このキャリア受け部は、複数の基板を収納したキャリアを受け取って支持する。 2. Description of the Related Art Conventionally, there has been proposed a batch-type substrate drying apparatus that performs a drying process on a plurality of substrates at once (for example, Patent Document 1). The plurality of substrates are transported to the substrate drying apparatus while being accommodated in the carrier. The substrate drying apparatus includes a carrier receiver within the drying chamber that receives and supports a carrier containing a plurality of substrates.

乾燥チャンバの下部には、排気口が設けられている。また乾燥チャンバ内には、上部吹き出し部、ヒータ、および側部吹き出し部が設けられている。上部吹き出し部は、キャリアよりも上側に設けられており、キャリアに向けて乾燥用空気を吹き出す。ヒータは上部吹き出し部とキャリアとの間に設けられており、通気性を有している。ヒータは自身を通過する乾燥用空気を加熱する。側部吹き出し部はキャリアよりも側方に設けられており、キャリアに向けて乾燥用空気を吹き出す。 An exhaust port is provided at the bottom of the drying chamber. Also within the drying chamber are a top blower, a heater, and a side blower. The upper blowout part is provided above the carrier and blows dry air toward the carrier. The heater is provided between the upper blowing part and the carrier and has air permeability. The heater heats the drying air passing through it. The side blowing part is provided on the side of the carrier and blows drying air toward the carrier.

ヒータを通過した乾燥用空気、および、側部吹き出し部から吹き出された乾燥用空気は、キャリア内の複数の基板の相互間を通過する。これにより、基板を乾燥させることができる。複数の基板の相互間を通過した乾燥用空気はキャリア受け部を通過し、その一部は排気口から排気され、残りの一部は再び乾燥チャンバの上部へと循環する。 The drying air that has passed through the heater and the drying air that is blown out from the side blowers pass between the substrates in the carrier. Thereby, the substrate can be dried. The drying air that has passed between the plurality of substrates passes through the carrier receiver, part of which is exhausted from the exhaust port, and the remaining part of which circulates again to the upper part of the drying chamber.

この基板乾燥装置は、イソプロピルアルコール(IPA)を使用しないので、環境負荷が小さく、またIPAを使用できない基板に対しても乾燥処理を行うことができる。 Since this substrate drying apparatus does not use isopropyl alcohol (IPA), the environmental load is small, and it is possible to dry substrates for which IPA cannot be used.

特開2008-244276号公報JP 2008-244276 A

特許文献1では、複数の方向から乾燥用空気が合流するので、乱流等を生じさせ得る。これにより、洗浄液のミストが舞い上がって基板に付着したり、あるいは、パーティクルが舞い上がって基板に付着する可能性がある。 In Patent Literature 1, the drying air merges from a plurality of directions, which may cause turbulence and the like. As a result, there is a possibility that the mist of the cleaning liquid may rise up and adhere to the substrate, or the particles may rise up and adhere to the substrate.

そこで本願は、ミストまたはパーティクルの基板への付着を抑制できる技術を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present application is to provide a technique capable of suppressing attachment of mist or particles to a substrate.

乾燥装置の第1の態様は、複数の基板を乾燥する乾燥装置であって、筐体と、前記複数の基板を収容するキャリアが、前記筐体の内部において載置される載置部と、前記載置部に載置された前記複数の基板よりも上側に設けられた給気口を有し、前記給気口から当該複数の基板に向けて乾燥用の気体を供給する気体供給部と、前記載置部よりも下側に設けられた排気口を有し、前記気体を前記排気口から外部に排気する気体排出部とを備え、前記気体排出部は、前記気体の流れを整流する整流構造を有し、前記排気口は複数設けられて、上側に開口しており、前記気体排出部は、それぞれ前記排気口を有し平面視において2次元的に分散して配置されている複数の排気管と、吸引部と、前記吸引部に接続する主管と、上面と下面と側面とで区画された気液分離部とを含み、前記複数の排気管と前記主管との間に前記気液分離部が配置されているA first aspect of a drying apparatus is a drying apparatus for drying a plurality of substrates, comprising: a housing; a mounting section on which a carrier housing the plurality of substrates is mounted inside the housing; a gas supply unit having an air supply port provided above the plurality of substrates placed on the mounting unit, and supplying a drying gas from the air supply port toward the plurality of substrates; and a gas discharge portion having an exhaust port provided below the mounting portion and discharging the gas to the outside from the exhaust port, the gas discharge portion rectifying the flow of the gas. It has a rectifying structure, a plurality of the exhaust ports are provided and open upward, and a plurality of the gas discharge portions each having the exhaust port are arranged two-dimensionally in a plan view. an exhaust pipe, a suction portion, a main pipe connected to the suction portion, and a gas-liquid separation portion partitioned by an upper surface, a lower surface, and a side surface, and the air between the plurality of exhaust pipes and the main pipe A liquid separator is provided .

乾燥装置の第2の態様は、第1の態様にかかる乾燥装置であって、前記気体排出部は、前記整流構造として、前記気体を整流する排気側整流板を有する。 A second aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to the first aspect, wherein the gas discharge section has, as the straightening structure, an exhaust side straightening plate for straightening the gas.

乾燥装置の第3の態様は、第1または第2の態様にかかる乾燥装置であって、前記複数の排気管が均等間隔で配置されているA third aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to the first or second aspect, wherein the plurality of exhaust pipes are arranged at regular intervals .

乾燥装置の第4の態様は、第1から第3のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記気体排出部は、前記複数の排気管の少なくとも一つに設けられ、前記気体の流量を調整する流量調整部をさらに含む。 A fourth aspect of the drying device is the drying device according to any one of the first to third aspects, wherein the gas discharge part is provided in at least one of the plurality of exhaust pipes, and the gas further includes a flow rate adjustment unit that adjusts the flow rate of

乾燥装置の第5の態様は、第4の態様にかかる乾燥装置であって、前記複数の排気管の少なくとも一つには、前記流量調整部が設けられていない。 A fifth aspect of the drying device is the drying device according to the fourth aspect, wherein at least one of the plurality of exhaust pipes is not provided with the flow rate adjusting section.

乾燥装置の第6の態様は、第から第5のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記気液分離部は、前記複数の排気管から流入される流体から気体と液体とを分離し、前記主管は、前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管を含み、前記気体排出部は、前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管を含み、前記複数の排気管は前記気液分離部の前記上面に接続され、前記排気主管は前記気液分離部の前記下面の中央部に接続される。 A sixth aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the gas-liquid separator separates the fluid flowing from the plurality of exhaust pipes into gas and liquid. The main pipe includes an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside, and the gas discharge unit includes a drain pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside wherein the plurality of exhaust pipes are connected to the upper surface of the gas-liquid separator, and the main exhaust pipe is connected to a central portion of the lower surface of the gas-liquid separator.

乾燥装置の第7の態様は、第4または第5の態様にかかる乾燥装置であって、前記気液分離部は、前記複数の排気管から流入する流体から気体と液体とを分離し、前記主管は、前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管を含み、前記気体排出部は、前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管を含み、前記複数の排気管は前記気液分離部の前記上面に接続され、前記排気主管は前記気液分離部の前記側面に接続される。 A seventh aspect of the drying device is the drying device according to the fourth or fifth aspect, wherein the gas-liquid separation section separates gas and liquid from the fluid flowing in from the plurality of exhaust pipes , and The main pipe includes an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside, the gas discharge unit includes a drain pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside, and the plurality of The exhaust pipe is connected to the upper surface of the gas-liquid separation section, and the main exhaust pipe is connected to the side surface of the gas-liquid separation section.

乾燥装置の第の態様は、第1から第のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記筐体の内部において、前記気体供給部の前記給気口と、前記複数の基板との間に設けられ、前記気体の流れを整流する供給側整流板をさらに備える。 An eighth aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to any one of the first to seventh aspects, wherein the air supply port of the gas supply unit and the plurality of substrates are provided inside the housing. and a supply-side straightening plate for straightening the flow of the gas.

乾燥装置の第の態様は、第1から第のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記給気口は複数設けられており、前記気体供給部は、水平方向に沿って並んで配置された前記給気口を有するバーノズルを含む。 A ninth aspect of the drying device is the drying device according to any one of the first to eighth aspects, wherein a plurality of the air supply ports are provided, and the gas supply unit extends along the horizontal direction. A bar nozzle having said air inlets arranged side by side is included.

乾燥装置の第10の態様は、第1から第のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記載置部は、前記キャリアを傾けた姿勢で載置する。 A tenth aspect of the drying device is the drying device according to any one of the first to ninth aspects, wherein the carrier is placed on the carrier in an inclined posture.

乾燥装置の第11の態様は、第10の態様にかかる乾燥装置であって、前記載置部は、互いに異なる2方向において、前記キャリアを傾けた姿勢で載置する。 An eleventh aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to the tenth aspect, wherein the mounting section mounts the carrier in a tilted posture in two directions different from each other.

乾燥装置の第12の態様は、第1から第11のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記筐体の外壁面に取り付けられた加熱部をさらに備える。 A twelfth aspect of the drying device is the drying device according to any one of the first to eleventh aspects, further comprising a heating section attached to an outer wall surface of the housing.

乾燥装置の第13の態様は、第12の態様にかかる乾燥装置であって、前記加熱部は、帯状の形状を有して前記筐体を囲む複数のラバーヒータを含み、前記複数のラバーヒータは鉛直方向に沿って並んで設けられている。 A thirteenth aspect of the drying device is the drying device according to the twelfth aspect, wherein the heating unit includes a plurality of belt-shaped rubber heaters surrounding the housing, and the plurality of rubber heaters are arranged in the vertical direction.

乾燥装置の第14の態様は、第1から第13のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記筐体の内部に設けられた温度センサと、前記温度センサの温度に基づいて前記筐体の開閉部材の開閉を制御する制御部とをさらに備える。 A fourteenth aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to any one of the first to thirteenth aspects, wherein the temperature sensor provided inside the housing and the temperature of the temperature sensor A control unit for controlling opening/closing of the opening/closing member of the housing is further provided.

乾燥装置の第15の態様は、第1から第14のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記筐体は、密閉筐体である。
乾燥装置の第16の態様は、第1から第15のいずれか一つの態様にかかる乾燥装置であって、前記キャリアは、前記複数の基板を、各基板の厚み方向が水平方向に沿う姿勢で収納する。
乾燥装置の第17の態様は、複数の基板を乾燥する乾燥装置であって、筐体と、前記複数の基板を収容するキャリアが、前記筐体の内部において載置される載置部と、前記載置部に載置された前記複数の基板よりも上側に設けられた給気口を有し、前記給気口から当該複数の基板に向けて乾燥用の気体を供給する気体供給部と、前記載置部よりも下側に設けられた排気口を有し、前記気体を前記排気口から外部に排気する気体排出部とを備え、前記気体排出部は、前記気体の流れを整流する整流構造を有し、前記排気口は複数設けられて、上側に開口しており、前記気体排出部は、前記整流構造として、それぞれ前記排気口を有する複数の排気管を含み、前記複数の排気管の前記排気口は、平面視において2次元的に分散して配置されており、前記気体排出部は、前記複数の排気管から流入される流体から気体と液体とを分離する気液分離部と、前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管と、前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管とを含み、前記複数の排気管は前記気液分離部の上面に接続され、前記排気主管は前記気液分離部の下面の中央部に接続される。
A fifteenth aspect of the drying device is the drying device according to any one of the first to fourteenth aspects, wherein the housing is a closed housing.
A sixteenth aspect of the drying apparatus is the drying apparatus according to any one of the first to fifteenth aspects, wherein the carrier holds the plurality of substrates in a posture in which the thickness direction of each substrate is along the horizontal direction. store.
A seventeenth aspect of the drying device is a drying device for drying a plurality of substrates, comprising: a housing; a gas supply unit having an air supply port provided above the plurality of substrates placed on the mounting unit, and supplying a drying gas from the air supply port toward the plurality of substrates; and a gas discharge portion having an exhaust port provided below the mounting portion and discharging the gas to the outside from the exhaust port, the gas discharge portion rectifying the flow of the gas. a rectifying structure, wherein a plurality of the exhaust ports are provided and open upward; the gas discharge unit includes, as the rectifying structure, a plurality of exhaust pipes each having the exhaust port; The exhaust ports of the pipes are two-dimensionally distributed in plan view, and the gas discharge section is a gas-liquid separation section that separates gas and liquid from the fluid flowing in from the plurality of exhaust pipes. and an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside, and a drain pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside, wherein the plurality of exhaust pipes are connected to the gas-liquid It is connected to the upper surface of the separation section, and the exhaust main pipe is connected to the central portion of the lower surface of the gas-liquid separation section.

乾燥装置の第1、第3および第16の態様によれば、排気側において気体の流れを整流できる。これによれば、ミストまたはパーティクルが舞い上がって基板へ付着する可能性を低減できる。しかも、2次元的に配置された複数の排気口が整流板と同様に機能することができる。よって、排気側の気体の流れを整流できる。 According to the first , third and sixteenth aspects of the drying apparatus, the gas flow can be straightened on the exhaust side. This can reduce the possibility of mist or particles flying up and adhering to the substrate. Moreover, the plurality of two-dimensionally arranged exhaust ports can function in the same manner as the rectifying plate. Therefore, the gas flow on the exhaust side can be rectified.

乾燥装置の第2の態様によれば、簡易に排気側の気体の流れを整流できる。 According to the second aspect of the drying apparatus, the gas flow on the exhaust side can be easily rectified.

乾燥装置の第4の態様によれば、複数の排気管を流れる気体の流速のばらつきを低減することができる。言い換えれば、排気側の気体の流れをさらに整流することができる。 According to the fourth aspect of the drying device, it is possible to reduce variations in the flow velocity of the gas flowing through the plurality of exhaust pipes. In other words, the gas flow on the exhaust side can be further rectified.

乾燥装置の第5の態様によれば、製造コストを低減することができる。 According to the fifth aspect of the drying apparatus, manufacturing costs can be reduced.

乾燥装置の第6および第17の態様によれば、排気主管が気液分離部の下面の中央部に接続されているので、排気主管と複数の排気管の各々との間の距離のばらつきを低減できる。よって、気体の流速のばらつきを低減できる。つまり、排気側において気体の流れをさらに整流することができる。 According to the sixth and seventeenth aspects of the drying apparatus, since the main exhaust pipe is connected to the central portion of the lower surface of the gas-liquid separation section, variations in the distance between the main exhaust pipe and each of the plurality of exhaust pipes can be reduced. can be reduced. Therefore, variations in gas flow velocity can be reduced. That is, the gas flow can be further rectified on the exhaust side.

乾燥装置の第7の態様によれば、排気主管が気液分離部の側面に接続されているので、排気主管と複数の排気管の各々との間の距離のばらつきが大きい。しかるに、複数の排気管には、流量調整部が設けられているので、気体の流速のばらつきを低減することができる。つまり、排気側において気体の流れを適切に整流することができる。 According to the seventh aspect of the drying apparatus, since the main exhaust pipe is connected to the side surface of the gas-liquid separation section, the distance between the main exhaust pipe and each of the plurality of exhaust pipes varies greatly. However, since the plurality of exhaust pipes are provided with the flow rate adjusting units, it is possible to reduce variations in gas flow velocity. That is, it is possible to properly rectify the gas flow on the exhaust side.

乾燥装置の第の態様によれば、供給側においても気体の流れを整流することができるので、ミストまたはパーティクルが舞い上がって基板に付着する可能性をさらに低減することができる。 According to the eighth aspect of the drying apparatus, it is possible to rectify the gas flow even on the supply side, so that the possibility of mist or particles flying up and adhering to the substrate can be further reduced.

乾燥装置の第の態様によれば、供給側において、気体の流速分布のばらつきを低減することができる。言い換えれば、気体の流れを整流することができる。よって、ミストまたはパーティクルが舞い上がって基板に付着する可能性をさらに低減することができる。 According to the ninth aspect of the drying apparatus, it is possible to reduce variations in gas flow velocity distribution on the supply side. In other words, gas flow can be rectified. Therefore, it is possible to further reduce the possibility that mist or particles will rise up and adhere to the substrate.

乾燥装置の第10の態様によれば、キャリアの上端面の上に残留した処理液の少なくとも一部を落下させることができる。 According to the tenth aspect of the drying apparatus, at least part of the processing liquid remaining on the upper end surface of the carrier can be dropped.

乾燥装置の第11の態様によれば、キャリアの上端面から落下する処理液の量を増大できる。 According to the eleventh aspect of the drying apparatus, it is possible to increase the amount of treatment liquid falling from the upper end surface of the carrier.

乾燥装置の第12の態様によれば、筐体の内部温度を向上することができる。 According to the twelfth aspect of the drying apparatus, the internal temperature of the housing can be improved.

乾燥装置の第13の態様によれば、筐体の内部空間の全体を加熱できる。 According to the thirteenth aspect of the drying apparatus, the entire internal space of the housing can be heated.

乾燥装置の第14の態様によれば、筐体の内部温度に応じて開閉部材の開閉を制御するので、例えば内部温度が高いときのみ、キャリアの搬入のために開閉部材を開くことができる。これによれば、内部温度が低い状態でキャリアが搬入されることに起因した乾燥不良を回避できる。 According to the fourteenth aspect of the drying apparatus, the opening and closing of the opening/closing member is controlled according to the internal temperature of the housing. Therefore, the opening/closing member can be opened to carry in the carrier only when the internal temperature is high, for example. According to this, it is possible to avoid poor drying due to the carrier being carried in with the internal temperature being low.

乾燥装置の第15の態様によれば、外気が筐体の内部に流入しにくい。よって、筐体の内部温度の低下を抑制でき、また筐体の内部へのパーティクルの混入を抑制できる。 According to the fifteenth aspect of the drying apparatus, outside air is less likely to flow into the housing. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the internal temperature of the housing, and it is possible to suppress the entry of particles into the interior of the housing.

乾燥装置の構成の一例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly an example of a structure of a drying apparatus. 気体排出部の構成の一例を概略的に示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view schematically showing an example of a configuration of a gas discharge section; 気体排出部の構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing another example of the configuration of the gas discharge section; 気体排出部の構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing another example of the configuration of the gas discharge section; 乾燥装置の上部の構成の一例を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly an example of a structure of the upper part of a drying apparatus. 乾燥装置の上部の構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly another example of a structure of the upper part of a drying apparatus. 乾燥装置の構成の他の一例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly another example of a structure of a drying apparatus. 載置部の構成の一例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly an example of a structure of a mounting part. 乾燥装置の構成の他の一例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly another example of a structure of a drying apparatus. 乾燥装置の構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly another example of a structure of a drying apparatus. 乾燥装置の構成の他の一例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly another example of a structure of a drying apparatus. キャリアの搬出入時の乾燥装置の動作の一例を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing an example of the operation of the drying device when carrying in/out a carrier.

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は概略的に示されており、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされ得る。また、図面にそれぞれ示される構成などの大きさおよび位置の相互関係は必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。 Embodiments will be described below with reference to the attached drawings. Note that the drawings are shown schematically, and for convenience of explanation, the configuration may be omitted or simplified as appropriate. Also, the mutual relationship between the sizes and positions of the configurations shown in the drawings is not necessarily described accurately, and can be changed as appropriate.

第1の実施の形態.
<乾燥装置の構成>
図1は、乾燥装置1の構成の一例を概略的に示す図である。乾燥装置1は乾燥槽とも呼ばれる。この乾燥装置1は、複数の基板W1に対して一括して乾燥処理を行うことができるバッチ式の乾燥装置である。基板W1は、例えば、半導体基板であり、略円板形状を有している。乾燥装置1は、例えば25枚または50枚等の複数の基板W1に対して一括して乾燥処理を行うことができる。
First embodiment.
<Configuration of drying device>
FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a drying device 1. As shown in FIG. The drying device 1 is also called a drying bath. This drying apparatus 1 is a batch-type drying apparatus capable of collectively performing a drying process on a plurality of substrates W1. The substrate W1 is, for example, a semiconductor substrate and has a substantially disk shape. The drying apparatus 1 can collectively dry a plurality of substrates W1 such as 25 or 50 substrates.

複数の基板W1は所定のキャリア90に収納されており、このキャリア90が不図示の搬送装置によって乾燥装置1の内部に搬入される。キャリア90は、各基板W1の厚み方向が略水平方向に沿う姿勢で、複数の基板W1を収納する。複数の基板W1はキャリア90の内部において、厚み方向に沿って間隔を空けて並んで収納される。以下では、複数の基板W1が並ぶ方向を前後方向とも呼び、前後方向および鉛直方向に垂直な方向を左右方向とも呼ぶ。 A plurality of substrates W1 are housed in a predetermined carrier 90, and this carrier 90 is carried into the drying apparatus 1 by a transport device (not shown). The carrier 90 accommodates the plurality of substrates W1 in a posture in which the thickness direction of each substrate W1 is substantially along the horizontal direction. A plurality of substrates W1 are stored side by side in the thickness direction inside the carrier 90 at intervals. Hereinafter, the direction in which the plurality of substrates W1 are arranged is also referred to as the front-rear direction, and the direction perpendicular to the front-rear direction and the vertical direction is also referred to as the left-right direction.

乾燥装置1へのキャリア90の搬入時において、複数の基板W1およびキャリア90には、処理液が付着している。処理液は例えば純水である。この処理液は乾燥装置1よりも前の工程において、基板W1およびキャリア90に付着する。当該工程の具体的な一例として、複数の基板W1に対するバッチ式の洗浄処理を例示できる。この洗浄処理においては、複数の基板W1を収納したキャリア90を、貯留槽に貯留された純水に浸漬させる。これにより、複数の基板W1を一括して純水で洗浄することができる。キャリア90を純水から引き上げた状態では、複数の基板W1およびキャリア90には、純水が付着しており、これらの乾燥が望まれる。そこで、搬送装置は、このキャリア90を乾燥装置1に搬入する。 When the carrier 90 is loaded into the drying apparatus 1, the processing liquid is attached to the plurality of substrates W1 and the carrier 90. As shown in FIG. The processing liquid is pure water, for example. This processing liquid adheres to the substrate W1 and the carrier 90 in a step prior to the drying apparatus 1. FIG. As a specific example of the process, a batch-type cleaning process for a plurality of substrates W1 can be exemplified. In this cleaning process, the carrier 90 housing a plurality of substrates W1 is immersed in pure water stored in a storage tank. As a result, the plurality of substrates W1 can be cleaned with pure water all at once. Pure water adheres to the plurality of substrates W1 and the carrier 90 when the carrier 90 is lifted out of the pure water, and it is desired to dry these. Therefore, the carrier device carries the carrier 90 into the drying device 1 .

図1を参照して、乾燥装置1は、筐体10と、載置部20と、気体供給部30と、気体排出部40と、制御部50とを含んでいる。 Referring to FIG. 1 , drying apparatus 1 includes housing 10 , mounting section 20 , gas supply section 30 , gas discharge section 40 and control section 50 .

筐体10はチャンバとも呼ばれ、その内部に処理空間を形成する。図1の例では、筐体10は、筐体本体11と、開閉部材12とを含んでいる。筐体本体11は例えば上側に開口する箱型の部材であり、開閉部材12はその筐体本体11の開口を閉じるように設けられている。図1の例では、開閉部材12は略板状の形状を有しており、その一端がヒンジ部13を介して筐体本体11に連結されている。開閉部材12はヒンジ部13を中心として開くことができる。開閉部材12が開くことによって、筐体本体11は開口する。ここでは、ヒンジ部13の回転を駆動する不図示の駆動部(例えばモータ)が設けられ、当該駆動部は制御部50によって制御される。言い換えれば、制御部50は開閉部材12の開閉を制御する。 The enclosure 10, also called a chamber, defines a processing space within it. In the example of FIG. 1 , the housing 10 includes a housing body 11 and an opening/closing member 12 . The housing body 11 is, for example, a box-shaped member that opens upward, and the opening/closing member 12 is provided so as to close the opening of the housing body 11 . In the example of FIG. 1 , the opening/closing member 12 has a substantially plate-like shape, and one end of the opening/closing member 12 is connected to the housing body 11 via a hinge portion 13 . The opening/closing member 12 can be opened around the hinge portion 13 . The housing main body 11 is opened by opening the opening/closing member 12 . Here, a drive section (for example, a motor) (not shown) that drives rotation of the hinge section 13 is provided, and the drive section is controlled by the control section 50 . In other words, the controller 50 controls opening and closing of the opening/closing member 12 .

外部の搬送装置は、未乾燥の複数の基板W1を収納したキャリア90を、筐体本体11の当該開口を介して筐体10の内部へと搬入する。乾燥装置1は開閉部材12を閉じ、この状態で複数の基板W1に対して乾燥処理を行う。乾燥処理が終了すると、乾燥装置1は開閉部材12を再び開く。搬送装置は筐体本体11の開口を介して、筐体10の内部から外部へとキャリア90を搬出する。これにより、乾燥済みの基板W1およびキャリア90が乾燥装置1から搬出される。 An external transport device carries the carrier 90 containing a plurality of undried substrates W1 into the inside of the housing 10 through the opening of the housing body 11 . The drying apparatus 1 closes the opening/closing member 12, and in this state, performs the drying process on the plurality of substrates W1. After the drying process is completed, the drying device 1 opens the opening/closing member 12 again. The conveying device carries out the carrier 90 from the inside of the housing 10 to the outside through the opening of the housing main body 11 . As a result, the dried substrate W<b>1 and carrier 90 are unloaded from the drying device 1 .

なお、開閉部材12および筐体本体11には、それぞれ係止構造(不図示)が設けられてもよい。開閉部材12が閉じた状態で係止構造が互いに係止することにより、開閉部材12がロックされる。この係止構造の係止/解除は制御部50によって制御される。 Note that the opening/closing member 12 and the housing body 11 may each be provided with a locking structure (not shown). The opening/closing member 12 is locked by engaging the locking structures with each other when the opening/closing member 12 is closed. Locking/unlocking of this locking structure is controlled by the controller 50 .

載置部20は筐体10の内部に設けられており、キャリア90を載置する。図1の例では、載置部20は、載置板21と、囲い部22とを含んでいる。囲い部22は筒状の形状を有しており、その中空軸が鉛直方向に沿う姿勢で配置される。囲い部22は平面視において(つまり鉛直方向に沿って見て)、例えば、中空部を囲む略矩形状の形状を有する。囲い部22の平面視における一辺は例えば前後方向に沿う。 The mounting section 20 is provided inside the housing 10 and mounts the carrier 90 thereon. In the example of FIG. 1 , the mounting section 20 includes a mounting plate 21 and a surrounding section 22 . The enclosing part 22 has a cylindrical shape, and is arranged with its hollow shaft extending in the vertical direction. The enclosing part 22 has, for example, a substantially rectangular shape surrounding the hollow part in plan view (that is, when viewed along the vertical direction). One side of the enclosing part 22 in a plan view extends, for example, in the front-rear direction.

載置板21はその厚み方向が鉛直方向に沿う姿勢で設けられる。載置板21は通気性を有しており、自身よりも上側の空間と、自身よりも下側の空間とを繋げる。例えば載置板21は網状の形状を有していてもよい。載置板21の周縁は略矩形状の形状を有しており、囲い部22の内周面に連結されている。 The mounting plate 21 is provided in a posture in which its thickness direction is along the vertical direction. The mounting plate 21 has air permeability, and connects a space above itself and a space below itself. For example, the mounting plate 21 may have a mesh shape. The peripheral edge of the mounting plate 21 has a substantially rectangular shape and is connected to the inner peripheral surface of the enclosing portion 22 .

図1の例では、キャリア90が載置板21の上に載置された状態で、囲い部22の上端は基板W1の上端よりも高くに位置している。つまり、囲い部22は複数の基板W1およびキャリア90を囲っている。 In the example of FIG. 1, with the carrier 90 placed on the mounting plate 21, the upper end of the enclosing portion 22 is positioned higher than the upper end of the substrate W1. That is, the enclosure 22 surrounds the multiple substrates W1 and the carrier 90 .

気体供給部30は、載置部20よりも上側に設けられた給気口31aを有し、給気口31aから載置部20に向けて乾燥用の気体を供給する。乾燥用の気体としては、例えば窒素またはアルゴン等の不活性ガスを採用することができる。ここでいう不活性ガスとは、基板W1との反応性が低いガスをいう。乾燥用の気体の温度は高く、例えば、給気口31aにおける気体の温度は90℃以上である。 The gas supply unit 30 has an air supply port 31a provided above the mounting unit 20, and supplies drying gas toward the mounting unit 20 from the air supply port 31a. As the drying gas, an inert gas such as nitrogen or argon can be used. The inert gas here means a gas having low reactivity with the substrate W1. The temperature of the drying gas is high, for example, the temperature of the gas at the air supply port 31a is 90° C. or higher.

図1の例では、気体供給部30は、ノズル31と、給気管32と、給気バルブ33と、加熱部34と、気体供給源35とを含んでいる。ノズル31は筐体10の内部において、載置部20よりも上側に設けられている。図1の例では、一対のノズル31が設けられており、これらは水平方向において向かい合っている。言い換えれば、一対のノズル31は略同じ高さ位置に設けられる。 In the example of FIG. 1 , the gas supply section 30 includes a nozzle 31 , an air supply pipe 32 , an air supply valve 33 , a heating section 34 and a gas supply source 35 . The nozzle 31 is provided above the mounting portion 20 inside the housing 10 . In the example of FIG. 1, a pair of nozzles 31 are provided, facing each other in the horizontal direction. In other words, the pair of nozzles 31 are provided at substantially the same height position.

図1の例では、一対のノズル31は、前後方向に沿って見て、複数の基板W1の中心を通り鉛直方向に延在する基準線Q1に対して、互いに反対側に位置している。具体的な一例として、一対のノズル31は、基準線Q1に対して略対称となるそれぞれ位置に設けられる。 In the example of FIG. 1, the pair of nozzles 31 are positioned on opposite sides of a reference line Q1 extending vertically through the centers of the plurality of substrates W1 when viewed in the front-rear direction. As a specific example, the pair of nozzles 31 are provided at positions substantially symmetrical with respect to the reference line Q1.

各ノズル31は給気口31aを有している。各ノズル31は、例えば複数の給気口31aを有するバーノズルであってもよい。図1の例では、ノズル31は、略円筒形状を有するバーノズルである。例えばノズル31は前後方向に沿って延在しており、複数の給気口31aはこの前後方向に沿って並んで配置される。各給気口31aの開口軸は、基板W1に向けて斜め下方向に沿うように設定される。各ノズル31は給気口31aから基板W1に向けて斜め下方向に気体を吐出する。 Each nozzle 31 has an air supply port 31a. Each nozzle 31 may be, for example, a bar nozzle having a plurality of air supply openings 31a. In the example of FIG. 1, the nozzle 31 is a bar nozzle having a substantially cylindrical shape. For example, the nozzle 31 extends along the front-rear direction, and the plurality of air supply ports 31a are arranged side by side along the front-rear direction. The opening axis of each air supply port 31a is set to extend obliquely downward toward the substrate W1. Each nozzle 31 discharges gas obliquely downward from the air supply port 31a toward the substrate W1.

ノズル31は給気管32を介して気体供給源35に接続されている。気体供給源35は乾燥用の気体として、不活性ガスを給気管32に供給する。加熱部34は給気管32の途中に設けられており、給気管32の内部を流れる気体を加熱する。加熱部34は制御部50によって制御される。加熱部34の出口において気体の温度は例えば200[℃]程度である。気体の温度は給気管32を流れるにしたがって低下し、ノズル31の給気口31aにおいて例えば100[℃]程度となる。 The nozzle 31 is connected to a gas supply source 35 via an air supply line 32 . A gas supply source 35 supplies an inert gas to the air supply pipe 32 as a drying gas. The heating unit 34 is provided in the middle of the air supply pipe 32 and heats the gas flowing inside the air supply pipe 32 . The heating section 34 is controlled by the control section 50 . The temperature of the gas at the exit of the heating unit 34 is, for example, about 200[°C]. The temperature of the gas decreases as it flows through the air supply pipe 32 and reaches, for example, about 100 [° C.] at the air supply port 31 a of the nozzle 31 .

給気バルブ33は給気管32の途中に設けられており、給気管32の内部の流路の開閉を切り替える。給気バルブ33は制御部50によって制御される。給気バルブ33が給気管32の流路を開くことにより、気体供給源35からの気体が給気管32の内部の流路を流れてノズル31の給気口31aから吐出される。給気バルブ33は気体の流量を調整可能であってもよい。気体の流量は例えば200[L/min]程度に設定される。 The air supply valve 33 is provided in the middle of the air supply pipe 32 and switches opening and closing of the flow path inside the air supply pipe 32 . The air supply valve 33 is controlled by the controller 50 . When the air supply valve 33 opens the flow path of the air supply pipe 32 , the gas from the gas supply source 35 flows through the flow path inside the air supply pipe 32 and is discharged from the air supply port 31 a of the nozzle 31 . The air supply valve 33 may be capable of adjusting the gas flow rate. The gas flow rate is set to, for example, about 200 [L/min].

各ノズル31の給気口31aから吐出された高温の気体は基板W1へ向かって流れる。キャリア90の内部空間は上側にも下側にも開口しているので、当該気体はキャリア90の上側から複数の基板W1の相互間を経由してキャリア90の下側へと通過する。キャリア90の内部を通過した気体は続いて載置部20の載置板21を通過する。 The high-temperature gas discharged from the air supply port 31a of each nozzle 31 flows toward the substrate W1. Since the inner space of the carrier 90 is open to both the upper and lower sides, the gas passes from the upper side of the carrier 90 to the lower side of the carrier 90 via the space between the plurality of substrates W1. The gas that has passed through the inside of the carrier 90 subsequently passes through the mounting plate 21 of the mounting section 20 .

気体排出部40は載置板21よりも下側に設けられた排気口(図1では不図示)を有し、筐体10内の気体を当該排気口から外部へと排気する。気体排出部40は、排気主管46と、吸引部48を有している。排気主管46の内部の流路には、筐体10内の当該排気口から流入した気体が流れる。吸引部48は排気主管46の途中に設けられており、筐体10内の気体を吸引して外部へと排気する。吸引部48は例えば吸引ポンプを含んでいる。吸引部48は制御部50によって制御される。図1の例では、気体排出部40は排液管47(後述)も含んでいる。 The gas exhaust part 40 has an exhaust port (not shown in FIG. 1) provided below the mounting plate 21, and exhausts the gas inside the housing 10 to the outside through the exhaust port. The gas exhaust section 40 has an exhaust main pipe 46 and a suction section 48 . Gas that has flowed in from the exhaust port in the housing 10 flows through the flow path inside the exhaust main pipe 46 . The suction part 48 is provided in the middle of the exhaust main pipe 46, sucks the gas inside the housing 10, and exhausts it to the outside. The suction unit 48 includes, for example, a suction pump. The suction unit 48 is controlled by the control unit 50 . In the example of FIG. 1, the gas exhaust 40 also includes a drain pipe 47 (described below).

また、気体排出部40は、気体の流れを整流する整流構造41を有している。整流構造41の具体的な例については後に詳述する。 Further, the gas discharge part 40 has a straightening structure 41 that straightens the flow of gas. A specific example of the rectifying structure 41 will be detailed later.

制御部50は乾燥装置1を統括的に制御することができる。例えば制御部50は開閉部材12、気体供給部30の給気バルブ33、加熱部34、吸引部48を制御することができる。 The control unit 50 can control the drying apparatus 1 in an integrated manner. For example, the control unit 50 can control the opening/closing member 12 , the gas supply valve 33 of the gas supply unit 30 , the heating unit 34 and the suction unit 48 .

制御部50のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部50は、各種演算処理を行うCPU(Central Processing Unit)、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるROM(Read Only Memory)、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAM(Random Access Memory)および制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスクなどを備えて構成される。制御部50のCPUが所定の処理プログラムを実行することによって、乾燥装置1の各動作機構が制御部50によって制御される。なお制御部50の機能の一部または全部は、専用のハードウェア回路によって実現されてもよい。 The hardware configuration of the control unit 50 is similar to that of a general computer. That is, the control unit 50 includes a CPU (Central Processing Unit) that performs various arithmetic processing, a ROM (Read Only Memory) that is a read-only memory that stores basic programs, and a RAM that is a readable and writable memory that stores various information ( Random Access Memory) and a magnetic disk for storing control software and data. Each operating mechanism of the drying device 1 is controlled by the control unit 50 by the CPU of the control unit 50 executing a predetermined processing program. A part or all of the functions of the control unit 50 may be realized by a dedicated hardware circuit.

<乾燥装置の動作の概要>
次に乾燥装置1の動作について概説する。まず制御部50は気体供給部30および気体排出部40を制御して、筐体10内の上部の給気口31aから高温の気体を供給させつつ、筐体10内の下部の排気口から気体を外部に排気させる。筐体10内には高温の気体が供給されるので、筐体10の内部温度は上昇する。筐体10の内部温度が十分に上昇すると、制御部50は開閉部材12の駆動部を制御して開閉部材12を開く。次に、外部の搬送装置は、未乾燥の複数の基板W1を収納したキャリア90を筐体10内に搬入して、載置板21の上に載置させる。次に、制御部50は開閉部材12の駆動部を制御して開閉部材12を閉じる。なお、制御部50は開閉部材12が開いている期間において、気体供給部30による給気および気体排出部40による排気を停止させてもよい。
<Outline of the operation of the drying device>
Next, the operation of the drying device 1 will be outlined. First, the control unit 50 controls the gas supply unit 30 and the gas discharge unit 40 to supply high-temperature gas from the upper air supply port 31 a in the housing 10 and to supply the gas from the lower exhaust port in the housing 10 . is exhausted to the outside. Since high-temperature gas is supplied into the housing 10, the internal temperature of the housing 10 rises. When the internal temperature of the housing 10 rises sufficiently, the control section 50 controls the driving section of the opening/closing member 12 to open the opening/closing member 12 . Next, the external transport device carries the carrier 90 containing a plurality of undried substrates W1 into the housing 10 and places them on the mounting plate 21 . Next, the control section 50 controls the driving section of the opening/closing member 12 to close the opening/closing member 12 . Note that the control unit 50 may stop the air supply by the gas supply unit 30 and the exhaust by the gas discharge unit 40 while the opening/closing member 12 is open.

筐体10内において、給気口31aから吐出された高温の気体はキャリア90の内部を鉛直方向に沿って通過する。つまり、当該気体は複数の基板W1の相互間の空間を鉛直方向に沿って流れて、キャリア90の内部を通過する。キャリア90の内部を通過した気体は載置板21を通過し、気体排出部40によって筐体10の外部に排気される。 In the housing 10, the high-temperature gas discharged from the air supply port 31a passes through the inside of the carrier 90 along the vertical direction. That is, the gas flows vertically through the spaces between the substrates W1 and passes through the carrier 90 . The gas that has passed through the inside of the carrier 90 passes through the mounting plate 21 and is exhausted to the outside of the housing 10 by the gas exhaust section 40 .

高温の乾燥用の気体は基板W1およびキャリア90に付着した処理液を蒸発させ、あるいは、吹き飛ばすことができる。これにより、基板W1およびキャリア90を乾燥することができる。 The high-temperature drying gas can evaporate or blow off the processing liquid adhering to the substrate W1 and carrier 90 . Thereby, substrate W1 and carrier 90 can be dried.

しかも、乾燥装置1においては、気体排出部40は整流構造41を有している。よって、基板W1よりも下流側(排気側)において気体の流れが整流する。気体の流れは空間的に連続するので、基板W1よりも下流側において気体の流れが整流すると、その上流側の基板W1の付近においても気体の流れを整えることができる。つまり、特に基板W1の付近および基板W1よりも下流側における気体の流れを層流に近づける、あるいは、層流にすることができる。さらに言い換えれば、平面視における気体の流速分布のばらつきを、特に基板W1の付近および基板W1の下流側において、低減することができる。 Moreover, in the drying apparatus 1 , the gas discharge section 40 has the rectifying structure 41 . Therefore, the gas flow is straightened on the downstream side (exhaust side) of the substrate W1. Since the flow of gas is spatially continuous, if the flow of gas is rectified on the downstream side of the substrate W1, the flow of gas can also be adjusted in the vicinity of the substrate W1 on the upstream side. That is, the gas flow in the vicinity of the substrate W1 and on the downstream side of the substrate W1 can be brought closer to a laminar flow, or can be made a laminar flow. Furthermore, in other words, the variation in the flow velocity distribution of the gas in plan view can be reduced particularly in the vicinity of the substrate W1 and on the downstream side of the substrate W1.

これによれば、基板W1またはキャリア90に付着していた処理液(例えばリンス液)が吹き飛ばされてミストとなったとしても、当該ミストが舞い上がって再び基板W1に付着する可能性を低減することができる。あるいは、筐体10の内部にパーティクルが混入したとしても、そのパーティクルが舞い上がって基板W1に付着する可能性を低減することができる。 According to this, even if the processing liquid (for example, the rinse liquid) adhering to the substrate W1 or the carrier 90 is blown away and becomes mist, the possibility that the mist rises up and adheres to the substrate W1 again can be reduced. can be done. Alternatively, even if particles enter the interior of the housing 10, the possibility of the particles flying up and adhering to the substrate W1 can be reduced.

<気体排出部の整流構造>
次に、整流構造41の具体的な例について説明する。図2は、気体排出部40の具体的な内部構成の一例を概略的に示す斜視図である。図2では、筐体10の内部を透過的に示している。気体排出部40は排気口42aを有しており、筐体10内の気体を排気口42aから外部へと排出する。図2の例では、排気口42aは筐体10の底面に設けられている。
<Rectification structure of gas discharge part>
Next, a specific example of the rectifying structure 41 will be described. FIG. 2 is a perspective view schematically showing an example of a specific internal configuration of the gas discharge section 40. As shown in FIG. FIG. 2 transparently shows the inside of the housing 10 . The gas exhaust part 40 has an exhaust port 42a, and exhausts the gas inside the housing 10 to the outside from the exhaust port 42a. In the example of FIG. 2, the exhaust port 42a is provided on the bottom surface of the housing 10. As shown in FIG.

図2の例では、気体排出部40は整流構造41として、整流板(排気側整流板)44を含んでいる。整流板44は排気口42aよりも上側に設けられている。より具体的には、整流板44は載置部20(図2において不図示)と排気口42aとの間において、載置部20と鉛直方向で対向する位置に設けられる。整流板44は板状の形状を有しており、その厚み方向が鉛直方向に沿う姿勢で設けられている。図2の例では、整流板44の平面視における周縁は略矩形状の形状を有しており、整流板44の当該周縁は筐体10の内周側面に当接している。 In the example of FIG. 2 , the gas discharge section 40 includes a straightening plate (exhaust side straightening plate) 44 as the straightening structure 41 . The straightening plate 44 is provided above the exhaust port 42a. More specifically, the current plate 44 is provided at a position facing the mounting portion 20 in the vertical direction between the mounting portion 20 (not shown in FIG. 2) and the exhaust port 42a. The rectifying plate 44 has a plate-like shape, and is provided in a posture in which the thickness direction thereof extends along the vertical direction. In the example of FIG. 2 , the peripheral edge of the straightening plate 44 in plan view has a substantially rectangular shape, and the peripheral edge of the straightening plate 44 is in contact with the inner peripheral side surface of the housing 10 .

整流板44には、複数の貫通孔44aが形成されている。複数の貫通孔44aは厚み方向に整流板44を貫通する。図2の例では、各貫通孔44aは平面視において略円形の形状を有している。貫通孔44aの直径は例えば1~5[mm]程度に設定される。複数の貫通孔44aは平面視において2次元的に配置されている。ここでいう「2次元的な配置」とは、複数の配置対象物が1軸方向のみに沿って並ぶのではなく、平面的に分散して配置されていることを意味する。図2の例では、複数の貫通孔44aはマトリクス状に配置されている。図2では、4×7個の貫通孔44aが設けられているものの、貫通孔44aの個数は適宜に変更可能である。 A plurality of through holes 44 a are formed in the current plate 44 . A plurality of through-holes 44a pass through the current plate 44 in the thickness direction. In the example of FIG. 2, each through-hole 44a has a substantially circular shape in plan view. The diameter of the through hole 44a is set to, for example, about 1 to 5 [mm]. The plurality of through holes 44a are two-dimensionally arranged in plan view. The term "two-dimensional arrangement" as used herein means that a plurality of objects to be arranged are not arranged only along one axis but are arranged in a planarly distributed manner. In the example of FIG. 2, the plurality of through holes 44a are arranged in a matrix. Although 4×7 through-holes 44a are provided in FIG. 2, the number of through-holes 44a can be changed as appropriate.

キャリア90の内部および載置板21を通過した乾燥用の気体は整流板44の各貫通孔44aを通過し、排気口42aから外部に排出される。当該気体が複数の貫通孔44aを通過することにより、当該気体の流れを整流することができる。言い換えれば、平面視における気体の流速分布のばらつきを低減することができる。 The drying gas that has passed through the inside of the carrier 90 and the mounting plate 21 passes through the through holes 44a of the straightening plate 44 and is discharged to the outside through the exhaust port 42a. The flow of the gas can be rectified by passing the gas through the plurality of through-holes 44a. In other words, it is possible to reduce variations in gas flow velocity distribution in plan view.

図2の例では、気体排出部40は、複数の排気管42と、複数の流量調整部43とを含んでいる。複数の排気管42および複数の流量調整部43は後述のように、整流構造41としても機能する。また、気体排出部40は、気液分離部45と、排気主管46と、排液管47とを含んでいる。 In the example of FIG. 2 , the gas discharge section 40 includes multiple exhaust pipes 42 and multiple flow rate adjustment sections 43 . The plurality of exhaust pipes 42 and the plurality of flow rate adjusting units 43 also function as a rectifying structure 41 as described later. Further, the gas discharge section 40 includes a gas-liquid separation section 45 , an exhaust main pipe 46 and a liquid discharge pipe 47 .

各排気管42の一端は筐体10の底面において、排気口42aとして上側に開口している。つまり、図2の例では、複数の排気口42aが設けられている。複数の排気口42aのうち少なくとも1つ以上の排気口42aは、載置部20と鉛直方向において対向する位置に設けられる。 One end of each exhaust pipe 42 opens upward as an exhaust port 42 a on the bottom surface of the housing 10 . That is, in the example of FIG. 2, a plurality of exhaust ports 42a are provided. At least one or more exhaust ports 42a among the plurality of exhaust ports 42a are provided at positions facing the mounting portion 20 in the vertical direction.

図2の例では、複数の排気口42aは平面視において2次元的に配置されている。図2の例では、排気口42aの平面視における面積は、整流板44の貫通孔44aの面積よりも大きい。また図2の例では、排気管42の個数(つまり排気口42aの個数)は整流板44の貫通孔44aの個数よりも少ない。具体的な一例としては図2においては、排気管42の個数は5つである。図2の例では、1つの排気管42の排気口42aは整流板44の略中央部と鉛直方向において対向している。残りの4つの排気管42の排気口42aは整流板44の4つの角部と鉛直方向においてそれぞれ対向している。なお、排気口42aの個数および配置態様は適宜に変更可能である。 In the example of FIG. 2, the plurality of exhaust ports 42a are two-dimensionally arranged in plan view. In the example of FIG. 2, the area of the exhaust port 42a in a plan view is larger than the area of the through hole 44a of the current plate 44. In the example of FIG. Further, in the example of FIG. 2, the number of exhaust pipes 42 (that is, the number of exhaust ports 42a) is smaller than the number of through holes 44a of the rectifying plate 44. As shown in FIG. As a specific example, in FIG. 2, the number of exhaust pipes 42 is five. In the example of FIG. 2, the exhaust port 42a of one exhaust pipe 42 vertically faces the substantially central portion of the current plate 44. In the example of FIG. The exhaust ports 42a of the remaining four exhaust pipes 42 vertically face the four corners of the current plate 44, respectively. The number and layout of the exhaust ports 42a can be changed as appropriate.

排気管42の途中には、流量調整部43が設けられている。流量調整部43は排気管42の内部を流れる気体の流量を調整することができる。流量調整部43は例えばダンパである。なおダンパはバルブの一種とみなすことができる。 A flow rate adjusting section 43 is provided in the middle of the exhaust pipe 42 . The flow rate adjusting unit 43 can adjust the flow rate of the gas flowing inside the exhaust pipe 42 . The flow rate adjusting unit 43 is, for example, a damper. A damper can be regarded as a kind of valve.

気液分離部45は複数の排気管42の他端(以下、接続端42bと呼ぶ)に接続されており、複数の排気管42から流入する流体から気体および水分を分離する。図2の例では、気液分離部45は筐体10よりも下側において筐体10と鉛直方向で対向する位置に設けられている。気液分離部45は上面45aと下面45bと側面45cとを有している。上面45aおよび下面45bは鉛直方向において向かい合っており、側面45cは上面45aの周縁と下面45bの周縁とを連結する。図2の例では、気液分離部45は略直方体形状を有しているので、上面45aおよび下面45bは略矩形状の形状を有している。図2の例では、複数の排気管42の接続端42bは気液分離部45の上面45aに接続されている。 The gas-liquid separator 45 is connected to the other ends (hereinafter referred to as connection ends 42b) of the plurality of exhaust pipes 42, and separates gas and moisture from the fluid flowing from the plurality of exhaust pipes 42. FIG. In the example of FIG. 2 , the gas-liquid separator 45 is provided below the housing 10 at a position facing the housing 10 in the vertical direction. The gas-liquid separator 45 has an upper surface 45a, a lower surface 45b, and a side surface 45c. The upper surface 45a and the lower surface 45b face each other in the vertical direction, and the side surface 45c connects the peripheral edge of the upper surface 45a and the peripheral edge of the lower surface 45b. In the example of FIG. 2, since the gas-liquid separation section 45 has a substantially rectangular parallelepiped shape, the upper surface 45a and the lower surface 45b have a substantially rectangular shape. In the example of FIG. 2 , the connection ends 42 b of the plurality of exhaust pipes 42 are connected to the upper surface 45 a of the gas-liquid separator 45 .

排気主管46の一端(以下、接続端46aと呼ぶ)は気液分離部45に接続されており、気液分離部45から流入された気体を外部へと排出する。図2の例では、排気主管46の接続端46aは気液分離部45の側面45cに接続されている。 One end of the exhaust main pipe 46 (hereinafter referred to as a connection end 46a) is connected to the gas-liquid separation section 45 and discharges the gas introduced from the gas-liquid separation section 45 to the outside. In the example of FIG. 2 , the connection end 46 a of the exhaust main pipe 46 is connected to the side surface 45 c of the gas-liquid separator 45 .

排液管47の一端は気液分離部45に接続されており、気液分離部45から流入された液体を外部へと排出する。図2の例では、排液管47の一端は気液分離部45の下面45bに接続されている。 One end of the drain pipe 47 is connected to the gas-liquid separation section 45 and discharges the liquid flowing in from the gas-liquid separation section 45 to the outside. In the example of FIG. 2 , one end of the drain pipe 47 is connected to the lower surface 45 b of the gas-liquid separator 45 .

図2の例では、上述のように、排気管42の接続端42bは気液分離部45の上面45aに接続され、排気主管46の接続端46aは気液分離部45の側面45cに接続されている。この構造では、排気管42の接続端42bと排気主管46の接続端46aとの間の距離Dが、複数の排気管42の間においてばらつく。つまり、排気主管46に最も近い排気管42と排気主管46との間の距離Dと、排気主管46から最も遠い排気管42と排気主管46との間の距離Dとの差は大きくなる。 In the example of FIG. 2, the connection end 42b of the exhaust pipe 42 is connected to the upper surface 45a of the gas-liquid separation section 45, and the connection end 46a of the main exhaust pipe 46 is connected to the side surface 45c of the gas-liquid separation section 45, as described above. ing. In this structure, the distance D between the connection end 42b of the exhaust pipe 42 and the connection end 46a of the exhaust main pipe 46 varies among the plurality of exhaust pipes 42. As shown in FIG. That is, the difference between the distance D between the exhaust pipe 42 closest to the exhaust main pipe 46 and the exhaust main pipe 46 and the distance D between the exhaust pipe 42 furthest from the exhaust main pipe 46 and the exhaust main pipe 46 increases.

よって、流量調整部43が気体の流量を制御しなければ、排気主管46に最も近い排気管42の内部を流れる気体の流速が、排気主管46から最も遠い排気管42の内部を流れる気体の流速に比べて、大きくなる。これによれば、気体の流速分布のばらつきが増大し得る。 Therefore, if the flow rate adjustment unit 43 does not control the flow rate of the gas, the flow velocity of the gas flowing inside the exhaust pipe 42 closest to the main exhaust pipe 46 is the flow velocity of the gas flowing inside the exhaust pipe 42 furthest from the main exhaust pipe 46. becomes larger than This may increase the variability of the gas flow velocity distribution.

しかるに、図2の例では、各排気管42には流量調整部43が設けられている。この流量調整部43は各排気管42を流れる気体の流速のばらつきが所定の基準値よりも小さくなるように、各気体の流量を調整する。したがって、筐体10内の下部空間(排気側)を流れる気体の流速分布のばらつきをより高い精度で低減することができる。言い換えれば、排気側において気体の流れをより高い精度で整流することができる。 However, in the example of FIG. 2, each exhaust pipe 42 is provided with a flow rate adjusting section 43 . The flow rate adjusting unit 43 adjusts the flow rate of each gas so that the variation in the flow velocity of the gas flowing through each exhaust pipe 42 is smaller than a predetermined reference value. Therefore, variations in the flow velocity distribution of the gas flowing through the lower space (exhaust side) in the housing 10 can be reduced with higher accuracy. In other words, the gas flow can be rectified with higher accuracy on the exhaust side.

なお、図2の例では、複数の排気管42の全てに流量調整部43が設けられているものの、必ずしもこれに限らない。少なくとも1つの排気管42に流量調整部43が設けられていれば、全ての排気管42に流量調整部43が設けられていない場合に比して、流速分布のばらつきを低減できる。そして、流量調整部43を有さない排気管42を使用することにより、製造コストを低減することができる。より具体的な一例として、排気主管46から最も遠い排気管42に対して流量調整部43が設けられていなくてもよい。これにより、製造コストを低減できる。しかもこの場合には、他の排気管42における気体の流量を調整することにより、全ての排気管42における気体の流速のばらつきを低減することもできる。つまり、製造コストを低減しつつも流速分布のばらつきを低減できる。 In addition, in the example of FIG. 2, although the flow rate adjusting units 43 are provided in all of the plurality of exhaust pipes 42, the present invention is not necessarily limited to this. If at least one exhaust pipe 42 is provided with the flow rate adjusting portion 43 , variations in the flow velocity distribution can be reduced compared to the case where none of the exhaust pipes 42 are provided with the flow rate adjusting portion 43 . By using the exhaust pipe 42 that does not have the flow rate adjusting portion 43, the manufacturing cost can be reduced. As a more specific example, the flow rate adjusting section 43 may not be provided for the exhaust pipe 42 that is the farthest from the main exhaust pipe 46 . Thereby, the manufacturing cost can be reduced. Moreover, in this case, by adjusting the flow rate of the gas in the other exhaust pipes 42, variations in the flow velocity of the gas in all the exhaust pipes 42 can be reduced. That is, it is possible to reduce variations in flow velocity distribution while reducing manufacturing costs.

また、図2の例において、複数の排気管42および流量調整部43によって十分に気体を整流できる場合には、整流板44は設けられなくてもよい。逆に、整流板44によって十分に気体を整流できる場合には、排気管42の個数は1つであってもよく、また、流量調整部43が設けられていなくてもよい。 In addition, in the example of FIG. 2, when the gas can be sufficiently rectified by the plurality of exhaust pipes 42 and the flow rate adjusting units 43, the rectifying plate 44 may not be provided. Conversely, when the gas can be sufficiently rectified by the rectifying plate 44, the number of exhaust pipes 42 may be one, and the flow rate adjusting section 43 may not be provided.

図3は、気体排出部40の内部構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。図3の例でも、筐体10の内部を透過的に示している。気体排出部40は整流構造41として、複数の排気管42を含んでいる。ただし、複数の排気管42のいずれにも流量調整部43が設けられていない。また気体排出部40は、図2と同様に、気液分離部45と、排気主管46と、排液管47とを含んでいる。 FIG. 3 is a perspective view schematically showing another example of the internal configuration of the gas discharge section 40. As shown in FIG. The example of FIG. 3 also transparently shows the inside of the housing 10 . The gas exhaust part 40 includes a plurality of exhaust pipes 42 as a straightening structure 41 . However, none of the plurality of exhaust pipes 42 is provided with the flow rate adjusting section 43 . 2, the gas discharge section 40 includes a gas-liquid separation section 45, an exhaust main pipe 46, and a liquid discharge pipe 47. As shown in FIG.

図3の例では、各排気管42の一端である排気口42aは、図2と同様に、筐体10の底面において上側に開口している。複数の排気口42aは平面視において2次元的に配置されており、図3の例では、マトリクス状に配置されている。各排気口42aは例えば平面視において略円形の形状を有しており、その直径は、例えば20~50[mm]程度に設定され得る。排気口42aの個数は任意に設定できるものの、例えば9以上に設定される。各排気管42の接続端42bは気液分離部45の例えば上面45aに接続される。 In the example of FIG. 3, an exhaust port 42a, which is one end of each exhaust pipe 42, opens upward on the bottom surface of the housing 10, as in FIG. The plurality of exhaust ports 42a are two-dimensionally arranged in plan view, and are arranged in a matrix in the example of FIG. Each exhaust port 42a has, for example, a substantially circular shape in plan view, and its diameter can be set to, for example, about 20 to 50 [mm]. Although the number of exhaust ports 42a can be set arbitrarily, it is set to nine or more, for example. A connection end 42 b of each exhaust pipe 42 is connected to, for example, an upper surface 45 a of the gas-liquid separator 45 .

図3の例では、排気主管46の接続端46aは気液分離部45の下面45bに接続されている。排気主管46の接続端46aは、例えば、気液分離部45の下面の中央部に接続されていてもよい。これによれば、排気主管46の接続端46aは、複数の排気管42のうち比較的中央に位置する排気管42の接続端42bに最も近づく。よって、排気主管46の接続端46aと排気管42の接続端42bとの間の距離Dの、複数の排気管42におけるばらつきは、図2の態様に比して低減する。 In the example of FIG. 3 , the connection end 46 a of the exhaust main pipe 46 is connected to the lower surface 45 b of the gas-liquid separator 45 . The connection end 46 a of the exhaust main pipe 46 may be connected to the central portion of the lower surface of the gas-liquid separation section 45 , for example. According to this, the connection end 46a of the exhaust main pipe 46 is closest to the connection end 42b of the exhaust pipe 42 located relatively in the center among the plurality of exhaust pipes 42 . Therefore, variations in the distance D between the connection end 46a of the exhaust main pipe 46 and the connection end 42b of the exhaust pipe 42 among the plurality of exhaust pipes 42 are reduced compared to the embodiment of FIG.

したがって、気体が排気主管46へと吸引されることによる、排気管42の内部の気体の流速のばらつきを低減することができる。しかも、この構造によれば、10個以上の排気口42aが2次元的に配置されているので、複数の排気管42が整流板として機能することができる。したがって、この構造によっても、筐体10内の下部空間(排気側)において気体の流れを整流することができる。言い換えれば、平面視における気体の流速分布のばらつきを低減することができる。 Therefore, it is possible to reduce variations in the flow velocity of the gas inside the exhaust pipe 42 due to the gas being sucked into the main exhaust pipe 46 . Moreover, according to this structure, since ten or more exhaust ports 42a are arranged two-dimensionally, the plurality of exhaust pipes 42 can function as rectifying plates. Therefore, this structure can also rectify the gas flow in the lower space (exhaust side) inside the housing 10 . In other words, it is possible to reduce variations in gas flow velocity distribution in plan view.

図4は、気体排出部40の内部構成の他の一例を概略的に示す斜視図である。図4の例では、載置部20よりも下側に位置する筐体10の下部(以下、筐体下部と呼ぶ)14は、筐体10の底面に向かって先細となる形状を有している。ここで、筐体下部14の開口面積を導入して説明する。ここでいう開口面積とは、筐体下部14の内周側面が水平断面において囲む面積を意味する。筐体下部14は、その開口面積が、筐体10の底面に向かって低減する形状を有している。 FIG. 4 is a perspective view schematically showing another example of the internal configuration of the gas discharge section 40. As shown in FIG. In the example of FIG. 4, a lower portion 14 of the housing 10 located below the mounting portion 20 (hereinafter referred to as a lower housing portion) 14 has a shape that tapers toward the bottom surface of the housing 10. there is Here, the opening area of the housing lower part 14 will be introduced and explained. The opening area referred to here means the area surrounded by the inner peripheral side surface of the lower housing portion 14 in a horizontal cross section. The housing lower portion 14 has a shape whose opening area decreases toward the bottom surface of the housing 10 .

気体排出部40は、排気管42と、気液分離部45と、排気主管46と、排液管47と、邪魔板49とを含んでいる。 The gas exhaust section 40 includes an exhaust pipe 42 , a gas-liquid separator 45 , an exhaust main pipe 46 , a liquid drain pipe 47 and a baffle plate 49 .

排気管42の排気口42aは筐体10の底面において上側に開口している。この排気口42aは、例えば、載置部20と鉛直方向において対向する位置に設けられる。排気管42の接続端42bは気液分離部45に接続されている。排気主管46および排液管47は気液分離部45に接続されている。 An exhaust port 42 a of the exhaust pipe 42 opens upward at the bottom surface of the housing 10 . The exhaust port 42a is provided, for example, at a position facing the mounting section 20 in the vertical direction. A connection end 42 b of the exhaust pipe 42 is connected to the gas-liquid separator 45 . The main exhaust pipe 46 and the drain pipe 47 are connected to the gas-liquid separator 45 .

邪魔板49は排気口42aよりも上側に設けられており、排気口42aと鉛直方向において対向している。この邪魔板49は載置部20と筐体10の底面との間に設けられる。邪魔板49は板状の形状を有しており、その厚み方向が鉛直方向に沿う姿勢で配置されている。邪魔板49は例えば平面視において略円形の形状を有している。邪魔板49の平面視における面積は、排気口42aの面積よりも大きくてもよい。 The baffle plate 49 is provided above the exhaust port 42a and faces the exhaust port 42a in the vertical direction. This baffle plate 49 is provided between the mounting portion 20 and the bottom surface of the housing 10 . The baffle plate 49 has a plate-like shape, and is arranged with its thickness direction along the vertical direction. The baffle plate 49 has, for example, a substantially circular shape in plan view. The area of the baffle plate 49 in plan view may be larger than the area of the exhaust port 42a.

筐体下部14の形状によれば、気体を排気口42aに導きやすい。その一方で、邪魔板49が設けられていなければ、排気口42aの中心を通り鉛直方向に沿って延在する中心軸に近い気体の流速が、当該中心軸から遠い気体の流速よりも高くなる。しかるに、図4の例では、邪魔板49が設けられているので、中心軸側の気体は邪魔板49の上面に衝突し、邪魔板49の周縁を回り込んで排気口42aへと流れる。これによれば、中心軸側の気体の流速が低下する。よって、平面視における流速分布のばらつきを低減することができる。言い換えれば、筐体10内の下部空間(排気側)において気体の流れを整流することができる。 The shape of the housing lower portion 14 facilitates guiding the gas to the exhaust port 42a. On the other hand, if the baffle plate 49 is not provided, the flow velocity of the gas near the center axis extending along the vertical direction through the center of the exhaust port 42a becomes higher than the flow velocity of the gas far from the center axis. . However, in the example of FIG. 4, since the baffle plate 49 is provided, the gas on the central axis side collides with the upper surface of the baffle plate 49, goes around the periphery of the baffle plate 49, and flows to the exhaust port 42a. According to this, the flow velocity of the gas on the central axis side decreases. Therefore, it is possible to reduce variations in the flow velocity distribution in plan view. In other words, the gas flow can be rectified in the lower space (exhaust side) inside the housing 10 .

この構造において、気体排出部40の整流構造41は、実質的に、筐体下部14の形状、邪魔板49および排気管42によって構成される。 In this structure, the rectifying structure 41 of the gas discharge section 40 is substantially constituted by the shape of the housing lower portion 14 , the baffle plate 49 and the exhaust pipe 42 .

なお、図3および図4の気体排出部40においても、必要に応じて整流板44が設けられてもよい。 3 and 4 may also be provided with a rectifying plate 44 if necessary.

<供給側の整流>
次に、筐体10内の上部空間(供給側)の気体の流れについて述べる。図1の例では、気体供給部30は2つのノズル31を含んでおり、当該2つのノズル31は水平方向で隣り合う位置に設けられている。これによれば、単一のノズル31が気体を基板W1に向けて吐出する場合に比して、平面視における気体の流速分布のばらつきを低減することができる。
<Rectification on supply side>
Next, the gas flow in the upper space (supply side) inside the housing 10 will be described. In the example of FIG. 1, the gas supply unit 30 includes two nozzles 31, and the two nozzles 31 are horizontally adjacent to each other. According to this, compared with the case where the single nozzle 31 discharges the gas toward the substrate W1, variations in the flow velocity distribution of the gas in plan view can be reduced.

また上述の例では、ノズル31は前後方向に沿って延在するバーノズルである。ノズル31は、前後方向に沿って並ぶ複数の給気口31aを有している。これによっても、平面視における気体の流速分布のばらつきを低減することができる。 Further, in the above example, the nozzle 31 is a bar nozzle extending along the front-rear direction. The nozzle 31 has a plurality of air supply ports 31a arranged along the front-rear direction. This also makes it possible to reduce variations in gas flow velocity distribution in a plan view.

以上のように、図1の例では、筐体10内の上部空間(供給側)においても、気体の流れを整流することができる。気体の流れは空間的に連続するので、基板W1よりも上側および下側において気体の流れが整流すると、筐体10の全体において、気体の流れを整流することができる。言い換えれば、平面視における気体の流速分布のばらつきを、筐体10の全体において低減することができる。 As described above, in the example of FIG. 1, the gas flow can be rectified even in the upper space (supply side) inside the housing 10 . Since the gas flow is spatially continuous, if the gas flow is rectified above and below the substrate W1, the gas flow can be rectified throughout the housing 10 . In other words, variations in gas flow velocity distribution in plan view can be reduced throughout the housing 10 .

したがって、基板W1またはキャリア90に付着していた処理液が吹き飛ばされてミストとなったとしても、当該ミストが舞い上がって再び基板W1に付着する可能性をさらに低減できる。あるいは、筐体10の内部にパーティクルが混入したとしても、そのパーティクルが舞い上がって基板W1に付着する可能性をさらに低減することができる。 Therefore, even if the processing liquid adhering to the substrate W1 or the carrier 90 is blown off and turned into mist, the possibility that the mist rises up and adheres to the substrate W1 again can be further reduced. Alternatively, even if particles enter the interior of the housing 10, the possibility of the particles flying up and adhering to the substrate W1 can be further reduced.

なお、キャリア90と水平方向(例えば左右方向)で隣り合う領域において、乾燥用の気体を供給するノズル(つまり給気口)が設けられていなくてもよい。なぜなら、このようなノズルが設けられると、当該ノズルから基板W1へ向かって吐出される気体が、基板W1よりも上側のノズル31から供給される気体と衝突し、気流の乱れが生じ得るからである。 Nozzles (that is, air supply ports) for supplying the drying gas may not be provided in a region adjacent to the carrier 90 in the horizontal direction (for example, the left-right direction). This is because if such a nozzle is provided, the gas discharged from the nozzle toward the substrate W1 collides with the gas supplied from the nozzle 31 above the substrate W1, which may cause turbulence in the airflow. be.

図5は、乾燥装置1の上部の構成の一例を概略的に示す斜視図である。図5の例でも、筐体10の内部を透過的に示している。図5の例では、乾燥装置1は、整流板(供給側整流板)38をさらに含んでいる。整流板38は気体供給部30の給気口31aよりも下側に設けられている。より具体的には、整流板38は給気口31aと載置部20との間において、載置部20と鉛直方向において対向する位置に設けられる。整流板38の構成は整流板44と同様である。 FIG. 5 is a perspective view schematically showing an example of the configuration of the upper part of the drying device 1. As shown in FIG. The example of FIG. 5 also transparently shows the inside of the housing 10 . In the example of FIG. 5, the drying device 1 further includes a rectifying plate (supply-side rectifying plate) 38 . The straightening plate 38 is provided below the air supply port 31 a of the gas supply section 30 . More specifically, the straightening plate 38 is provided at a position facing the mounting section 20 in the vertical direction between the air supply port 31a and the mounting section 20 . The configuration of the straightening plate 38 is similar to that of the straightening plate 44 .

図5の例では、気体供給部30は単一のノズル31を有している。ノズル31は整流板38の略中央部と鉛直方向において対向する位置に設けられている。ノズル31の下端には給気口31aが形成されている。ノズル31は給気口31aから下側へと乾燥用の気体を吐出する。ノズル31は平面視において略等方的に気体が広がるように、当該気体を吐出してもよい。 In the example of FIG. 5, the gas supply section 30 has a single nozzle 31 . The nozzle 31 is provided at a position facing the substantially central portion of the current plate 38 in the vertical direction. An air supply port 31 a is formed at the lower end of the nozzle 31 . The nozzle 31 discharges the drying gas downward from the air supply port 31a. The nozzle 31 may discharge the gas so that the gas spreads substantially isotropically in plan view.

気体供給部30のノズル31から吐出された気体は整流板38の貫通孔38aを通過して複数の基板W1へ向かって流れる。これによって、筐体10内の上部空間(供給側)においても、気体の流れを整流することができる。したがって、筐体10の全体において気体の流れを整流することができる。 The gas discharged from the nozzle 31 of the gas supply unit 30 passes through the through holes 38a of the current plate 38 and flows toward the plurality of substrates W1. As a result, the gas flow can be rectified even in the upper space (supply side) inside the housing 10 . Therefore, the flow of gas can be rectified throughout the housing 10 .

なお、図1の態様においても、整流板38が設けられても構わない。 It should be noted that the current plate 38 may be provided in the embodiment of FIG. 1 as well.

<載置部>
次に載置部20の囲い部22について説明する。上述の例では、囲い部22の上端は基板W1の上端よりも高い位置にあり、囲い部22は複数の基板W1およびキャリア90を囲っている。これによれば、例えば筐体10の内周側面で跳ね返った気体が基板W1へ向かって流れたとしても、その気体は囲い部22の外周面で跳ね返って囲い部22の外側を流れる。つまり、囲い部22の外側の側方から囲い部22の内部へと気体が流れることを阻止できる。これによれば、囲い部22内の気流の乱れ、つまり、複数の基板W1の近傍での気流の乱れを抑制することができる。
<Placement section>
Next, the surrounding portion 22 of the mounting portion 20 will be described. In the example described above, the upper end of the enclosure 22 is positioned higher than the upper ends of the substrates W1, and the enclosure 22 surrounds the plurality of substrates W1 and the carrier 90. FIG. According to this, for example, even if the gas bounces off the inner peripheral side surface of the housing 10 and flows toward the substrate W1, the gas bounces off the outer peripheral surface of the enclosure 22 and flows outside the enclosure 22 . That is, it is possible to prevent the gas from flowing from the outside of the enclosing part 22 to the inside of the enclosing part 22 . According to this, the turbulence of the airflow in the enclosure 22, that is, the turbulence of the airflow in the vicinity of the plurality of substrates W1 can be suppressed.

<密閉筐体>
次に、筐体10についてさらに説明する。この筐体10は密閉筐体であってもよい。この場合、開閉部材12と筐体本体11との間は気密に封止される。例えば開閉部材12と筐体本体11との間には、Oリングなどの封止部材が設けられる。
<Sealed housing>
Next, the housing 10 will be further described. This housing 10 may be a closed housing. In this case, the opening/closing member 12 and the housing body 11 are airtightly sealed. For example, a sealing member such as an O-ring is provided between the opening/closing member 12 and the housing body 11 .

これによれば、乾燥処理において、外気が筐体10の内部にほとんど流入しない。よって、外気の流入に起因した筐体10内の気流の乱れを抑制することができる。したがって、ミストまたはパーティクルが舞い上がって基板W1に付着する可能性をさらに低減することができる。 According to this, outside air hardly flows into the inside of the housing 10 in the drying process. Therefore, turbulence of the airflow inside the housing 10 caused by the inflow of outside air can be suppressed. Therefore, it is possible to further reduce the possibility that mist or particles will rise up and adhere to the substrate W1.

また、外気の温度は筐体10の内部温度に比べて低い。よって、低温の外気が筐体10内に流入すれば、筐体10の内部温度が低下する。これに対して、筐体10が密閉筐体であれば、低温の外気の流入に起因した内部温度の低下を抑制できる。したがって、内部温度の低下に起因した乾燥不良または乾燥時間の延長を抑制できる。 Also, the temperature of the outside air is lower than the internal temperature of the housing 10 . Therefore, when low-temperature outside air flows into the housing 10, the internal temperature of the housing 10 is lowered. On the other hand, if the housing 10 is a sealed housing, it is possible to suppress the decrease in the internal temperature caused by the inflow of low-temperature outside air. Therefore, it is possible to suppress the drying failure or the extension of the drying time due to the decrease in the internal temperature.

また、外気が筐体10の内部に流入すれば、外部のパーティクルが筐体10の内部に混入する可能性がある。これに対して、筐体10が密閉筐体であれば、外部から筐体10の内部に混入するパーティクルも低減することができる。 Also, if outside air flows into the housing 10 , there is a possibility that external particles will enter the housing 10 . On the other hand, if the housing 10 is a closed housing, it is possible to reduce particles entering the housing 10 from the outside.

<給気管の配置態様>
図6は、乾燥装置1の上部の構成の一例を概略的に示す斜視図である。開閉部材12は板状の形状を有しており、その下面には、気体供給部30の一対のノズル31が取り付けられる。一対のノズル31の前後方向における長さは互いに略等しい。また気体供給部30の給気管32は配管321~324を含んでいる。配管321は筐体10の内部において一対のノズル31の一方側(後方側)の端部同士を接続し、配管322は筐体10の内部において一対のノズル31の他方側(前方側)の端部同士を接続する。配管321および配管322は左右方向に沿って延在している。
<Arrangement of air supply pipe>
FIG. 6 is a perspective view schematically showing an example of the configuration of the upper part of the drying device 1. As shown in FIG. The opening/closing member 12 has a plate-like shape, and a pair of nozzles 31 of the gas supply section 30 are attached to the lower surface thereof. The lengths of the pair of nozzles 31 in the front-rear direction are substantially equal. The air supply pipe 32 of the gas supply unit 30 includes pipes 321-324. A pipe 321 connects ends on one side (rear side) of the pair of nozzles 31 inside the housing 10 , and a pipe 322 connects ends on the other side (front side) of the pair of nozzles 31 inside the housing 10 . connect the parts. The pipe 321 and the pipe 322 extend along the left-right direction.

配管323は開閉部材12をその厚み方向に沿って貫通しており、その一端が配管321の左右方向の中央部に接続される。配管324は開閉部材12をその厚み方向に沿って貫通しており、その一端が配管322の左右方向の中央部に接続される。 The pipe 323 passes through the opening/closing member 12 along its thickness direction, and one end thereof is connected to the central portion of the pipe 321 in the left-right direction. The pipe 324 passes through the opening/closing member 12 along its thickness direction, and one end thereof is connected to the central portion of the pipe 322 in the left-right direction.

配管323の内部を流れる気体は配管321の中央部へ流入し、当該中央部から分岐して、それぞれ一対のノズル31の後方端に向かって配管321の内部を流れる。配管324を流れる気体は配管322の中央部へ流入し、当該中央部から分岐して、それぞれ一対のノズル31の前方端に向かって配管322の内部を流れる。各ノズル31はその両端から流入した気体を給気口31a(図6において不図示)から吐出する。 The gas flowing inside the pipe 323 flows into the central portion of the pipe 321 , branches from the central portion, and flows inside the pipe 321 toward the rear ends of the pair of nozzles 31 . The gas flowing through the pipe 324 flows into the central portion of the pipe 322 , branches from the central portion, and flows inside the pipe 322 toward the front ends of the pair of nozzles 31 . Each nozzle 31 discharges the gas that has flowed in from both ends thereof from an air supply port 31a (not shown in FIG. 6).

以上のように、給気管32は開閉部材12をその厚み方向に貫通してノズル31に接続されている。よって、この給気管32は開閉部材12と筐体本体11との間に介在していない。したがって、開閉部材12と筐体本体11との間を封止しやすい。 As described above, the air supply pipe 32 is connected to the nozzle 31 through the opening/closing member 12 in its thickness direction. Therefore, the air supply pipe 32 is not interposed between the opening/closing member 12 and the housing body 11 . Therefore, it is easy to seal between the opening/closing member 12 and the housing body 11 .

なお、図5の例でも、給気管32は開閉部材12をその厚み方向に貫通するので、開閉部材12と筐体本体11との間に介在していない。よって、図5の態様においても、開閉部材12と筐体本体11との間を封止しやすい。 5, the air supply pipe 32 passes through the opening/closing member 12 in the thickness direction thereof, so that it is not interposed between the opening/closing member 12 and the housing body 11. As shown in FIG. Therefore, even in the mode of FIG. 5, it is easy to seal between the opening/closing member 12 and the housing body 11 .

第2の実施の形態.
図7は、乾燥装置1Aの構成の一例を概略的に示す図であり、図8は、乾燥装置1Aの載置部20の構成を拡大して示す図である。図7では、前後方向に沿って見た乾燥装置1Aの構成が示され、図8では、左右方向に沿って見た載置部20の構成が示されている。
Second embodiment.
FIG. 7 is a diagram schematically showing an example of the configuration of the drying apparatus 1A, and FIG. 8 is an enlarged diagram showing the configuration of the mounting section 20 of the drying apparatus 1A. 7 shows the configuration of the drying apparatus 1A viewed along the front-rear direction, and FIG. 8 shows the configuration of the placing section 20 viewed along the left-right direction.

乾燥装置1Aは、載置部20の構成を除いて、乾燥装置1と同様の構成を有している。乾燥装置1Aにおいては、載置部20はキャリア90を傾けた姿勢でキャリア90を支持する。図7および図8の例では、載置部20の載置板21の上面には、段差211および段差212が形成されている。段差211および段差212を構成する部材は載置板21の上面に固定される。段差211の高さは段差212の高さと異なっている。 The drying device 1A has the same configuration as the drying device 1 except for the configuration of the mounting section 20. As shown in FIG. In the drying apparatus 1A, the mounting section 20 supports the carrier 90 in an inclined posture. In the examples of FIGS. 7 and 8, a step 211 and a step 212 are formed on the upper surface of the mounting plate 21 of the mounting section 20. As shown in FIG. Members forming the steps 211 and 212 are fixed to the upper surface of the mounting plate 21 . The height of step 211 is different from the height of step 212 .

キャリア90は、例えば、フッ素樹脂によって構成されており、キャリア本体91と、支持脚92とを含んでいる。キャリア本体91は、複数の基板W1を収容する部材である。キャリア本体91は上側に開口しており、複数の基板W1は上側からキャリア本体91に挿入される。キャリア本体91は下側にも開口している。ただし、キャリア本体91は複数の基板W1を支持しており、複数の基板W1はキャリア本体91の下側の開口から落下することはない。 The carrier 90 is made of fluorine resin, for example, and includes a carrier body 91 and supporting legs 92 . The carrier main body 91 is a member that accommodates a plurality of substrates W1. The carrier body 91 is open upward, and the plurality of substrates W1 are inserted into the carrier body 91 from above. The carrier main body 91 also opens downward. However, the carrier main body 91 supports the plurality of substrates W1, and the plurality of substrates W1 will not drop from the lower opening of the carrier main body 91. FIG.

支持脚92はキャリア本体91の下端から下側に延在している。図7の例では、一対の支持脚92が設けられており、これらは左右方向において間隔を空けて設けられている。以下では、一方の支持脚92および他方の支持脚92を区別する場合には、一方の支持脚92を支持脚92aと呼び、他方の支持脚92を支持脚92bと呼ぶ。図7の例では、支持脚92aが左側に位置し、支持脚92bが右側に位置する。図8の例では、支持脚92は前後方向に沿って延在しており、その前後方向における長さはキャリア本体91の長さに略等しい。 The support leg 92 extends downward from the lower end of the carrier body 91 . In the example of FIG. 7, a pair of support legs 92 are provided and are spaced apart in the left-right direction. Hereinafter, when distinguishing between the one support leg 92 and the other support leg 92, the one support leg 92 is referred to as the support leg 92a, and the other support leg 92 is referred to as the support leg 92b. In the example of FIG. 7, the support leg 92a is positioned on the left side and the support leg 92b is positioned on the right side. In the example of FIG. 8 , the support leg 92 extends along the front-rear direction, and its length in the front-rear direction is substantially equal to the length of the carrier body 91 .

段差211および段差212は例えば支持脚92bに対応して設けられている。段差211および段差212は前後方向において間隔を空けて並んで設けられている。段差211は段差212よりも前方側に設けられている。支持脚92bの前方端部は段差211の上に載置され、後方端部は段差212の上に載置される。段差211の高さは段差212の高さと異なっているので、左右方向に沿って見て、キャリア90は傾斜した姿勢で載置板21の上に載置される。図8の例では、段差211は段差212によりも低いので、キャリア90は、後方上端よりも前方上端が低くなる傾斜姿勢で載置される。左右方向に沿って見たキャリア90の傾斜角度(つまり前後方向に対する傾斜角)は例えば数度程度(例えば1.2度)に設定される。 The step 211 and the step 212 are provided corresponding to the support leg 92b, for example. The step 211 and the step 212 are arranged side by side with a space therebetween in the front-rear direction. The step 211 is provided on the front side of the step 212 . The front end of the support leg 92 b rests on the step 211 and the rear end rests on the step 212 . Since the height of the step 211 is different from the height of the step 212, the carrier 90 is mounted on the mounting plate 21 in an inclined posture when viewed along the horizontal direction. In the example of FIG. 8, the step 211 is lower than the step 212, so the carrier 90 is placed in an inclined posture in which the front upper end is lower than the rear upper end. The tilt angle of the carrier 90 viewed along the left-right direction (that is, the tilt angle with respect to the front-rear direction) is set to, for example, several degrees (eg, 1.2 degrees).

支持脚92aは、段差211および段差212の両方が設けられていない位置で載置板21の上に載置されている。よって、前後方向に沿って見ても、キャリア90は傾斜した姿勢で載置板21の上に載置される。具体的には、キャリア90は、左側上端が右側上端よりも低くなる傾斜姿勢で載置される。前後方向に沿って見たキャリア90の傾斜角度(つまり左右方向に対する傾斜角)は、例えば数度程度(例えば6度)に設定される。 The support leg 92a is mounted on the mounting plate 21 at a position where neither the step 211 nor the step 212 is provided. Therefore, the carrier 90 is mounted on the mounting plate 21 in an inclined posture even when viewed along the front-rear direction. Specifically, the carrier 90 is placed in an inclined posture such that the left upper end is lower than the right upper end. The tilt angle of the carrier 90 viewed along the front-rear direction (that is, the tilt angle with respect to the left-right direction) is set to, for example, several degrees (eg, 6 degrees).

以上のように、図7および図8の例では、キャリア90は、互いに異なる2つの方向において傾斜した姿勢で、載置部20の載置板21の上に載置される。 As described above, in the examples of FIGS. 7 and 8, the carrier 90 is mounted on the mounting plate 21 of the mounting section 20 in a posture inclined in two different directions.

この載置姿勢による作用効果を説明するにあたって、まず、キャリア本体91の形状の一例について説明する。キャリア本体91は、前壁部911と、後壁部912と、側壁部913および側壁部914を有している。前壁部911および後壁部912は前後方向において互いに対向する。図7の例において、側壁部913は前壁部911の左側の端部と後壁部912の左側の端部とを連結し、側壁部914は前壁部911の右側の端部と後壁部912の右側の端部とを連結する。前壁部911、後壁部912、側壁部913および側壁部914によって囲まれた空間がキャリア90の内部空間に相当する。 Before describing the effect of this mounting posture, an example of the shape of the carrier main body 91 will be described first. The carrier body 91 has a front wall portion 911 , a rear wall portion 912 , and side wall portions 913 and 914 . The front wall portion 911 and the rear wall portion 912 face each other in the front-rear direction. In the example of FIG. 7, side wall 913 connects the left end of front wall 911 and the left end of rear wall 912, and side wall 914 connects the right end of front wall 911 to the rear wall. The right end of the portion 912 is connected. A space surrounded by the front wall portion 911 , the rear wall portion 912 , the side wall portion 913 and the side wall portion 914 corresponds to the internal space of the carrier 90 .

キャリア90が傾斜せずに載置されている状態において、側壁部913の上端面913aおよび側壁部914の上端面914aは前後方向に沿って延在する。乾燥装置1Aにおいては、キャリア90は左右方向に沿って見て傾斜した姿勢で載置されるので、この状態では、側壁部913の上端面913aおよび側壁部914の上端面914aも傾斜する(図8参照)。よって、上端面913aの上に残留した処理液はその傾斜に沿って上端面913aの上を流れ、その一部は上端面913aから落下する。処理液の残りの一部は上端面913aの上に残留するものの、その流れの軌跡上に残留する処理液の厚みは薄くなる。これによれば、処理液と周囲の空気との接触面積を向上することができ、処理液の蒸発を促進することができる。上端面914aも同様である。 In a state in which the carrier 90 is placed without being inclined, the upper end surface 913a of the side wall portion 913 and the upper end surface 914a of the side wall portion 914 extend along the front-rear direction. In the drying apparatus 1A, the carrier 90 is placed in an inclined posture when viewed in the left-right direction, so in this state, the upper end surface 913a of the side wall portion 913 and the upper end surface 914a of the side wall portion 914 are also inclined (Fig. 8). Therefore, the processing liquid remaining on the upper end surface 913a flows over the upper end surface 913a along the slope, and part of it falls from the upper end surface 913a. Although the remaining part of the processing liquid remains on the upper end surface 913a, the thickness of the processing liquid remaining on the trajectory of the flow becomes thin. According to this, the contact area between the processing liquid and the surrounding air can be increased, and the evaporation of the processing liquid can be promoted. The same applies to the upper end surface 914a.

前壁部911の上端面911aは、上側に開口する略U字状の形状を有している。キャリア90が傾斜せずに載置されている状態において、上端面911aのU字状の中央部(底部)は左右方向に沿って延在する。乾燥装置1Aにおいては、キャリア90は前後方向に沿って見て傾斜した姿勢で載置されるので、この状態では、上端面911aの中央部も傾斜する。よって、上端面911aの中央部の上に残留した処理液は、その傾斜に沿って中央部の上を流れる。これにより、処理液の一部は上端面911aの中央部から落下する。また上端面911aの中央部の上に残留した処理液は中央部の一方の端(図7の例では左側の端)に集まる。 An upper end surface 911a of the front wall portion 911 has a substantially U-shaped shape that opens upward. In a state in which the carrier 90 is placed without being tilted, the U-shaped center portion (bottom portion) of the upper end surface 911a extends along the left-right direction. In the drying apparatus 1A, the carrier 90 is placed in an inclined posture when viewed along the front-rear direction, so in this state, the central portion of the upper end surface 911a is also inclined. Therefore, the processing liquid remaining on the central portion of the upper end face 911a flows along the slope of the central portion. As a result, part of the treatment liquid drops from the central portion of the upper end surface 911a. Further, the processing liquid remaining on the central portion of the upper end surface 911a gathers at one end (the left end in the example of FIG. 7) of the central portion.

さて、乾燥装置1Aが乾燥処理を終了すると、そのキャリア90は搬出されて、未乾燥の次のキャリア90が乾燥装置1Aに搬入される。以後、乾燥装置1Aは同様の動作により、順次に基板W1およびキャリア90を乾燥させる。このように複数のキャリア90が乾燥装置1Aに搬入される。この乾燥装置1Aの搬入時において、各キャリア90に残留する処理液の量および位置はばらつく。 When the drying apparatus 1A completes the drying process, the carrier 90 is carried out, and the next undried carrier 90 is carried into the drying apparatus 1A. After that, the drying device 1A sequentially dries the substrate W1 and the carrier 90 by the same operation. Thus, a plurality of carriers 90 are carried into the drying apparatus 1A. When the drying apparatus 1A is carried in, the amount and position of the processing liquid remaining in each carrier 90 varies.

しかしながら、キャリア90が乾燥装置1A内の載置部20の載置板21の上に載置されると、上述のようにキャリア90が傾斜した姿勢で載置される。これにより、キャリア90の上端面911aの中央部の上の処理液の一部は落下しつつ、残りの一部は当該中央部の一方の端に集まる。したがって、上端面911aの中央部の上に残留する位置を、複数のキャリア90間において、より均一にすることができる。これによれば、複数のキャリア90間における乾燥の不均一を低減することができる。 However, when the carrier 90 is placed on the placing plate 21 of the placing section 20 in the drying apparatus 1A, the carrier 90 is placed in an inclined posture as described above. As a result, part of the processing liquid on the central portion of the upper end surface 911a of the carrier 90 drops, while the remaining portion gathers at one end of the central portion. Therefore, the positions remaining on the central portion of the upper end surface 911a can be made more uniform among the plurality of carriers 90. FIG. According to this, it is possible to reduce non-uniform drying among the plurality of carriers 90 .

キャリア90の後壁部912の上端面も上側に開口する略U字状の形状を有していてもよい。この場合、後壁部912の上端面の上に残留する処理液は、前壁部911の上端面911aの上に残留する処理液と同様である。 The upper end surface of the rear wall portion 912 of the carrier 90 may also have a substantially U-shaped shape opening upward. In this case, the processing liquid remaining on the upper end surface of the rear wall portion 912 is the same as the processing liquid remaining on the upper end surface 911 a of the front wall portion 911 .

図7および図8の例では、側壁部913,914の上端面913a,914aは処理液が流れる方向に沿って直線的に延在しているのに対して、前壁部911の上端面911aは略U字状の形状を有している。よって、前壁部911の上端面911a上の処理液は側壁部913,914の上端面913a,914a上の処理液に比して落下しにくい。そこで、前後方向に沿って見たキャリア90の傾斜角度を、左右方向に沿って見たキャリア90の傾斜角度よりも高く設定してもよい。これにより、キャリア90をより安定に載置しつつも、処理液をより効果的に落下させることができる。 7 and 8, the upper end surfaces 913a and 914a of the side wall portions 913 and 914 extend linearly along the direction in which the processing liquid flows, whereas the upper end surface 911a of the front wall portion 911 extends in the direction in which the processing liquid flows. has a substantially U-shaped shape. Therefore, the processing liquid on the upper end surface 911a of the front wall portion 911 is less likely to drop than the processing liquid on the upper end surfaces 913a and 914a of the side wall portions 913 and 914. FIG. Therefore, the tilt angle of the carrier 90 viewed along the front-rear direction may be set higher than the tilt angle of the carrier 90 viewed along the left-right direction. As a result, the processing liquid can be dropped more effectively while the carrier 90 is placed more stably.

第3の実施の形態.
図9は、乾燥装置1Bの構成の一例を概略的に示す図であり、図10は、乾燥装置1Bの構成の一例を概略的に示す斜視図である。乾燥装置1Bは加熱部60の有無を除いて、乾燥装置1と同様の構成を有している。加熱部60は筐体10の外壁面に取り付けられており、筐体10を介して筐体10の内部空間を加熱する。加熱部60は制御部50によって制御される。
Third embodiment.
FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the configuration of the drying device 1B, and FIG. 10 is a perspective view schematically showing an example of the configuration of the drying device 1B. The drying device 1B has the same configuration as the drying device 1 except for the presence or absence of the heating unit 60. As shown in FIG. The heating unit 60 is attached to the outer wall surface of the housing 10 and heats the internal space of the housing 10 through the housing 10 . The heating section 60 is controlled by the control section 50 .

加熱部60は例えば複数のラバーヒータ61を含んでいる。図9および図10の例では、各ラバーヒータ61は帯状の形状を有している。ラバーヒータ61は、柔軟性を有する帯状の絶縁素材と、当該絶縁素材の内部で配策された発熱用の抵抗線とを含んでいる。図10の例では、ラバーヒータ61は筐体本体11の側壁部を外側から囲んでいる。ラバーヒータ61は筐体本体11の側壁部の外周面に密着しているとよい。これにより、筐体本体11へと熱を効率的に伝達できる。 The heating unit 60 includes a plurality of rubber heaters 61, for example. In the examples of FIGS. 9 and 10, each rubber heater 61 has a belt-like shape. The rubber heater 61 includes a flexible strip-shaped insulating material and a resistance wire for heat generation routed inside the insulating material. In the example of FIG. 10, the rubber heater 61 surrounds the side wall of the housing body 11 from the outside. The rubber heater 61 is preferably in close contact with the outer peripheral surface of the side wall of the housing body 11 . Thereby, heat can be efficiently transmitted to the housing main body 11 .

図9および図10の例では、複数のラバーヒータ61は鉛直方向に沿って間隔を空けて並んで設けられている。少なくとも1つのラバーヒータ61は、基板W1を囲む高さ位置に設けられるとよい。これにより、当該ラバーヒータ61は筐体10の内部空間のうち特に基板W1の周縁を加熱することができる。また、他の少なくとも1つのラバーヒータ61は基板W1よりも上側の位置に設けられてもよく、他の少なくとも1つのラバーヒータ61は基板W1よりも下側の位置に設けられてもよい。このようにラバーヒータ61が基板W1に対して上側および下側の両方の位置に設けられていれば、乾燥対象となる基板W1の周縁の空間を効果的に加熱できる。 In the examples of FIGS. 9 and 10, a plurality of rubber heaters 61 are provided side by side at intervals along the vertical direction. At least one rubber heater 61 is preferably provided at a height position surrounding the substrate W1. Thereby, the rubber heater 61 can heat the inner space of the housing 10, particularly the peripheral edge of the substrate W1. At least one other rubber heater 61 may be provided above the substrate W1, and at least one other rubber heater 61 may be provided below the substrate W1. If the rubber heaters 61 are provided above and below the substrate W1 in this manner, the peripheral space of the substrate W1 to be dried can be effectively heated.

開閉部材12が閉じており、かつ、気体供給部30が高温の気体を供給していない状態において、加熱部60は筐体10の内部温度を例えば60度以上(例えば70度程度)に昇温する。 In a state in which the opening/closing member 12 is closed and the gas supply unit 30 is not supplying high-temperature gas, the heating unit 60 raises the internal temperature of the housing 10 to, for example, 60 degrees or higher (for example, about 70 degrees). do.

さて、キャリア90の搬出時の開閉部材12の開動作によって、低温の外気が筐体10の内部に流入する。もし加熱部60が設けられていない場合には、キャリア90の搬出時において筐体10の内部温度は50度程度以下まで低下する。これに対して、加熱部60が筐体10の内部空間を加熱している場合には、キャリア90の搬出時における筐体10の内部温度は70度程度まで低下する。つまり、加熱部60により、キャリア90の搬出時における筐体10の内部温度の低下を抑制することができる。 When the carrier 90 is unloaded, the opening operation of the opening/closing member 12 allows low-temperature outside air to flow into the housing 10 . If the heating unit 60 were not provided, the internal temperature of the housing 10 would drop to about 50 degrees or less when the carrier 90 was unloaded. On the other hand, when the heating unit 60 heats the internal space of the housing 10, the internal temperature of the housing 10 drops to about 70 degrees when the carrier 90 is unloaded. That is, the heating unit 60 can suppress a decrease in the internal temperature of the housing 10 when the carrier 90 is unloaded.

よって、次の未乾燥のキャリア90を搬入して開閉部材12を閉じたときには、筐体10の内部温度は比較的高い値(例えば70度程度)から昇温する。これにより、乾燥処理時において適した温度に達するまでの時間を短縮することができる。言い換えれば、乾燥処理のスループットを向上することができる。 Therefore, when the next undried carrier 90 is carried in and the opening/closing member 12 is closed, the internal temperature of the housing 10 rises from a relatively high value (for example, about 70 degrees). As a result, the time required to reach a suitable temperature during the drying process can be shortened. In other words, it is possible to improve the throughput of the drying process.

しかも、加熱部60は筐体10の内部に設けられておらず、筐体10の外部に設けられている。これによれば、加熱部60に起因したパーティクル(例えば絶縁素材の剥離)が発生したとしても、その発生個所が筐体10の外部なので、当該パーティクルが筐体10の内部の基板W1に付着する可能性は低い。つまり、加熱部60が筐体10の内部に設けられている場合に比べて、パーティクルが基板W1に付着する可能性を低減することができる。 Moreover, the heating unit 60 is not provided inside the housing 10 but is provided outside the housing 10 . According to this, even if particles (for example, peeling of an insulating material) are generated due to the heating unit 60, the particles adhere to the substrate W1 inside the housing 10 because the generation location is outside the housing 10. Unlikely. That is, compared with the case where the heating unit 60 is provided inside the housing 10, the possibility of particles adhering to the substrate W1 can be reduced.

図11は、乾燥装置1Cの構成の一例を概略的に示す図である。乾燥装置1Cは温度センサ70の有無を除いて、乾燥装置1Bと同様の構成を有している。 FIG. 11 is a diagram schematically showing an example of the configuration of the drying device 1C. The drying device 1C has the same configuration as the drying device 1B except for the presence or absence of the temperature sensor 70. As shown in FIG.

温度センサ70は筐体10の内部温度を測定する。図11の例では、温度センサ70は筐体10の内部に設けられており、より具体的な一例として、温度センサ70は水平方向において載置部20と隣り合う位置に設けられる。これにより、温度センサ70は、複数の基板W1の近傍における内部温度を測定することができる。なお温度センサ70は囲い部22の内部に設けられてもよい。これによれば、複数の基板W1の近傍の内部温度を測定することができる。温度センサ70は測定した内部温度を示す測定情報を制御部50に出力する。 A temperature sensor 70 measures the internal temperature of the housing 10 . In the example of FIG. 11, the temperature sensor 70 is provided inside the housing 10, and as a more specific example, the temperature sensor 70 is provided at a position adjacent to the mounting section 20 in the horizontal direction. Thereby, the temperature sensor 70 can measure the internal temperature in the vicinity of the plurality of substrates W1. Note that the temperature sensor 70 may be provided inside the enclosure 22 . According to this, it is possible to measure the internal temperature in the vicinity of a plurality of substrates W1. The temperature sensor 70 outputs measurement information indicating the measured internal temperature to the control unit 50 .

温度センサ70は複数設けられていても構わない。制御部50は、複数の温度センサ70から入力された測定情報に基づいて、各位置の内部温度を平均して筐体10の内部温度を算出してもよい。 A plurality of temperature sensors 70 may be provided. The control unit 50 may calculate the internal temperature of the housing 10 by averaging the internal temperature of each position based on the measurement information input from the plurality of temperature sensors 70 .

制御部50は、温度センサ70によって測定した内部温度に基づいて、次のキャリア90の搬入の許可/禁止を判断する。制御部50は、キャリア90の搬入を許可したときには、開閉部材12を開き、キャリア90の搬入を禁止したときには、開閉部材12を閉じる。つまり、制御部50は、温度センサ70によって測定された内部温度に基づいて、開閉部材12の開閉を制御する。 Based on the internal temperature measured by the temperature sensor 70 , the control unit 50 determines whether to permit/prohibit introduction of the next carrier 90 . The control unit 50 opens the opening/closing member 12 when the carrying-in of the carrier 90 is permitted, and closes the opening/closing member 12 when the carrying-in of the carrier 90 is prohibited. That is, the controller 50 controls opening and closing of the opening/closing member 12 based on the internal temperature measured by the temperature sensor 70 .

図12は、乾燥装置1Cの動作の一例を示すフローチャートである。図12では、キャリア90の搬出入時の制御部50の動作の一例が示されている。この一連の処理は、乾燥装置1Cがキャリア90に対する乾燥処理を終了したときに実行される。まずステップS1にて、制御部50は開閉部材12の駆動部を制御して開閉部材12を開く。これにより、低温の外気が筐体10の内部に流入し、筐体10の内部温度は低下する。次にステップS2にて、外部の搬送装置は乾燥済みのキャリア90を乾燥装置1Cの外部に搬出する。 FIG. 12 is a flow chart showing an example of the operation of the drying device 1C. FIG. 12 shows an example of the operation of the control section 50 when the carrier 90 is carried in and out. This series of processes is executed when the drying device 1C finishes drying the carrier 90 . First, in step S<b>1 , the control section 50 controls the driving section of the opening/closing member 12 to open the opening/closing member 12 . As a result, low-temperature outside air flows into the housing 10, and the internal temperature of the housing 10 decreases. Next, in step S2, the external conveying device carries out the dried carrier 90 to the outside of the drying device 1C.

次にステップS3にて、制御部50は、温度センサ70によって測定された筐体10の内部温度が第1目標値以上であるか否かを判断する。内部温度が第1目標値以上であるときには、ステップS7にて、外部の搬送装置は次のキャリア90を乾燥装置1Cの内部に搬入する。つまり、筐体10の内部温度が第1目標値以上であるときには、内部温度が十分に高いので、制御部50は次のキャリア90の搬入を許可して乾燥処理を行う。 Next, in step S3, the control unit 50 determines whether the internal temperature of the housing 10 measured by the temperature sensor 70 is equal to or higher than the first target value. When the internal temperature is equal to or higher than the first target value, the external transport device carries the next carrier 90 inside the drying device 1C in step S7. That is, when the internal temperature of the housing 10 is equal to or higher than the first target value, the internal temperature is sufficiently high, so the controller 50 permits the loading of the next carrier 90 and performs the drying process.

一方で、内部温度が第1目標値未満であるときには、ステップS4にて、制御部50は開閉部材12の駆動部を制御して、開閉部材12を閉じる。開閉部材12が閉じると、加熱部60による加熱、さらには給気口31aからの高温の気体の吐出により、筐体10の内部温度は上昇する。つまり、内部温度が低い場合には、乾燥に適した温度に達するまでの時間が長くかかり、乾燥不良が生じる可能性があるので、制御部50は次のキャリア90の搬入を許可せずに、開閉部材12を閉じて内部温度の上昇を図る。 On the other hand, when the internal temperature is less than the first target value, the control section 50 controls the driving section of the opening/closing member 12 to close the opening/closing member 12 in step S4. When the opening/closing member 12 is closed, the internal temperature of the housing 10 rises due to heating by the heating unit 60 and discharge of high-temperature gas from the air supply port 31a. In other words, when the internal temperature is low, it takes a long time to reach the temperature suitable for drying, and there is a possibility that the drying failure may occur. The opening/closing member 12 is closed to raise the internal temperature.

次にステップS5にて、制御部50は、温度センサ70によって測定された筐体10の内部温度が第2目標値以上であるか否かを判断する。第2目標値は第1目標値以上の値である。筐体10の内部温度が第2目標値未満であるときには、制御部50は再びステップS5を実行する。筐体10の内部温度が第2目標値以上であるときには、ステップS6にて、制御部50は開閉部材12の駆動部を制御して開閉部材12を開く。次にステップS7にて、外部の搬送装置は次のキャリア90を乾燥装置1Cの内部に搬入する。 Next, in step S5, the controller 50 determines whether the internal temperature of the housing 10 measured by the temperature sensor 70 is equal to or higher than the second target value. A 2nd target value is a value more than a 1st target value. When the internal temperature of housing 10 is less than the second target value, controller 50 executes step S5 again. When the internal temperature of the housing 10 is equal to or higher than the second target value, the control section 50 controls the driving section of the opening/closing member 12 to open the opening/closing member 12 in step S6. Next, in step S7, the external transport device carries the next carrier 90 inside the drying device 1C.

以上のように、乾燥装置1Cによれば、温度センサ70によって測定された筐体10の内部温度が高いときのみ、キャリア90が乾燥装置1Cの内部に搬入されて、乾燥処理が行われる。よって、乾燥処理により、複数の基板W1およびキャリア90をより確実に乾燥させることができる。 As described above, according to the drying apparatus 1C, only when the internal temperature of the housing 10 measured by the temperature sensor 70 is high, the carrier 90 is carried into the drying apparatus 1C and the drying process is performed. Therefore, the plurality of substrates W1 and carrier 90 can be dried more reliably by the drying process.

また乾燥装置1Cにおいては加熱部60が設けられているので、ステップS3の時点において筐体10の内部温度が第1目標値未満となる可能性を低減することができる。またたとえステップS3の時点において筐体10の内部温度が第1目標値未満となったとしても、開閉部材12を閉じてから筐体10の内部温度が第2目標値以上となるまでの時間を短縮することができる。 Moreover, since the heating unit 60 is provided in the drying apparatus 1C, it is possible to reduce the possibility that the internal temperature of the housing 10 becomes less than the first target value at the time of step S3. Even if the internal temperature of the housing 10 becomes less than the first target value at the time of step S3, the time from closing the opening/closing member 12 until the internal temperature of the housing 10 becomes equal to or higher than the second target value is can be shortened.

基板処理装置は詳細に示され記述されたが、上記の記述は全ての態様において例示であって限定的ではない。したがって、基板処理装置は、その開示の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。また上述の実施の形態は適宜に組み合わせることが可能である。 Although the substrate processing apparatus has been shown and described in detail, the above description is illustrative in all aspects and not restrictive. Therefore, the substrate processing apparatus can be appropriately modified or omitted from the embodiments within the scope of the disclosure. Also, the above-described embodiments can be appropriately combined.

1 乾燥装置
10 筐体
12 開閉部材
14 筐体下部
20 載置部
30 気体供給部
31 バーノズル(ノズル)
31a 給気口
38 給気側整流板(整流板)
40 気体排出部
41 整流構造
42 排気管
42a 排気口
43 流量調整部
44 排気側整流板(整流板)
45 気液分離部
46 排気主管
47 排液管
49 邪魔板
50 制御部
60 加熱部
61 ラバーヒータ
70 温度センサ
90 キャリア
W1 基板
REFERENCE SIGNS LIST 1 drying device 10 housing 12 opening/closing member 14 lower housing portion 20 mounting section 30 gas supply section 31 bar nozzle (nozzle)
31a Air supply port 38 Air supply side straightening plate (rectifying plate)
40 Gas discharge part 41 Straightening structure 42 Exhaust pipe 42a Exhaust port 43 Flow rate adjustment part 44 Exhaust side straightening plate (rectifying plate)
45 gas-liquid separation unit 46 exhaust main pipe 47 drain pipe 49 baffle plate 50 control unit 60 heating unit 61 rubber heater 70 temperature sensor 90 carrier W1 substrate

Claims (17)

複数の基板を乾燥する乾燥装置であって、
筐体と、
前記複数の基板を収容するキャリアが、前記筐体の内部において載置される載置部と、
前記載置部に載置された前記複数の基板よりも上側に設けられた給気口を有し、前記給気口から当該複数の基板に向けて乾燥用の気体を供給する気体供給部と、
前記載置部よりも下側に設けられた排気口を有し、前記気体を前記排気口から外部に排気する気体排出部と
を備え、
前記気体排出部は、前記気体の流れを整流する整流構造を有し、
前記排気口は複数設けられて、上側に開口しており、
前記気体排出部は、
それぞれ前記排気口を有し平面視において2次元的に分散して配置されている複数の排気管と、
吸引部と、
前記吸引部に接続する主管と、
上面と下面と側面とで区画された気液分離部と
を含み、
前記複数の排気管と前記主管との間に前記気液分離部が配置されている、乾燥装置。
A drying device for drying a plurality of substrates,
a housing;
a carrier on which the plurality of substrates are accommodated is placed inside the housing;
a gas supply unit having an air supply port provided above the plurality of substrates placed on the mounting unit, and supplying a drying gas from the air supply port toward the plurality of substrates; ,
a gas discharge part having an exhaust port provided below the mounting part and exhausting the gas to the outside from the exhaust port;
The gas discharge part has a rectifying structure that rectifies the flow of the gas ,
A plurality of the exhaust ports are provided and open upward,
The gas discharge part is
a plurality of exhaust pipes each having the exhaust port and arranged two-dimensionally in a plan view;
a suction unit;
a main pipe connected to the suction unit;
a gas-liquid separation section partitioned by an upper surface, a lower surface, and a side surface;
including
The drying device , wherein the gas-liquid separator is arranged between the plurality of exhaust pipes and the main pipe .
請求項1に記載の乾燥装置であって、
前記気体排出部は、前記整流構造として、前記気体を整流する排気側整流板を有する、乾燥装置。
A drying apparatus according to claim 1,
The drying device, wherein the gas discharge section has an exhaust-side straightening plate for straightening the gas as the straightening structure.
請求項1または請求項2に記載の乾燥装置であって、 A drying apparatus according to claim 1 or claim 2,
前記複数の排気管が均等間隔で配置されている、乾燥装置。 The drying apparatus, wherein the plurality of exhaust pipes are arranged at regular intervals.
請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記気体排出部は、前記複数の排気管の少なくとも一つに設けられ、前記気体の流量を調整する流量調整部をさらに含む、乾燥装置。
The drying apparatus according to any one of claims 1 to 3 ,
The drying device, wherein the gas discharge part further includes a flow rate adjustment part that is provided in at least one of the plurality of exhaust pipes and that adjusts the flow rate of the gas.
請求項4に記載の乾燥装置であって、
前記複数の排気管の少なくとも一つには、前記流量調整部が設けられていない、乾燥装置。
A drying apparatus according to claim 4,
The drying device, wherein at least one of the plurality of exhaust pipes is not provided with the flow rate adjusting section.
請求項から請求項5のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記気液分離部は、前記複数の排気管から流入される流体から気体と液体とを分離し、
前記主管は、前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管を含み、
前記気体排出部は、前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管を含み、
前記複数の排気管は前記気液分離部の前記上面に接続され、
前記排気主管は前記気液分離部の前記下面の中央部に接続される、乾燥装置。
The drying apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The gas-liquid separator separates gas and liquid from the fluid flowing in from the plurality of exhaust pipes ,
The main pipe includes an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside,
The gas discharge unit includes a drain pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside,
The plurality of exhaust pipes are connected to the upper surface of the gas-liquid separation unit,
The drying device, wherein the exhaust main pipe is connected to a central portion of the lower surface of the gas-liquid separation section.
請求項4または請求項5に記載の乾燥装置であって、
前記気液分離部は、前記複数の排気管から流入する流体から気体と液体とを分離し、
前記主管は、前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管を含み、
前記気体排出部は、前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管を含み、
前記複数の排気管は前記気液分離部の前記上面に接続され、
前記排気主管は前記気液分離部の前記側面に接続に接続される、乾燥装置。
を含む、乾燥装置。
The drying apparatus according to claim 4 or claim 5,
The gas-liquid separator separates gas and liquid from the fluid flowing from the plurality of exhaust pipes ,
The main pipe includes an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside,
The gas discharge unit includes a drain pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside,
The plurality of exhaust pipes are connected to the upper surface of the gas-liquid separation unit,
The drying device, wherein the exhaust main pipe is connected to the side surface of the gas-liquid separation unit.
drying equipment.
請求項1から請求項のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記筐体の内部において、前記気体供給部の前記給気口と、前記複数の基板との間に設けられ、前記気体の流れを整流する供給側整流板をさらに備える、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 7 ,
The drying apparatus further includes a supply-side straightening plate provided between the air supply port of the gas supply unit and the plurality of substrates inside the housing to straighten the flow of the gas.
請求項1から請求項のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記給気口は複数設けられており、
前記気体供給部は、水平方向に沿って並んで配置された前記給気口を有するバーノズルを含む、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 8 ,
A plurality of the air supply ports are provided,
The drying device, wherein the gas supply unit includes bar nozzles having the air supply ports arranged in a horizontal direction.
請求項1から請求項のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記載置部は、前記キャリアを傾けた姿勢で載置する、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 9 ,
The drying device, wherein the carrier is placed in an inclined posture on the carrier.
請求項10に記載の乾燥装置であって、
前記載置部は、互いに異なる2方向において、前記キャリアを傾けた姿勢で載置する、乾燥装置。
A drying apparatus according to claim 10 ,
The drying device, wherein the mounting section mounts the carrier in an inclined posture in two directions different from each other.
請求項1から請求項11のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記筐体の外壁面に取り付けられた加熱部をさらに備える、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 11 ,
A drying apparatus further comprising a heating unit attached to an outer wall surface of the housing.
請求項12に記載の乾燥装置であって、
前記加熱部は、帯状の形状を有して前記筐体を囲む複数のラバーヒータを含み、
前記複数のラバーヒータは鉛直方向に沿って並んで設けられている、乾燥装置。
13. A drying apparatus according to claim 12 ,
The heating unit includes a plurality of rubber heaters having a belt-like shape and surrounding the housing,
The drying device, wherein the plurality of rubber heaters are arranged in a vertical direction.
請求項1から請求項13のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記筐体の内部に設けられた温度センサと、
前記温度センサの温度に基づいて前記筐体の開閉部材の開閉を制御する制御部と
をさらに備える、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 13 ,
a temperature sensor provided inside the housing;
A drying apparatus, further comprising a control unit that controls opening and closing of the opening/closing member of the housing based on the temperature of the temperature sensor.
請求項1から請求項14のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、
前記筐体は、密閉筐体である、乾燥装置。
A drying apparatus according to any one of claims 1 to 14 ,
The drying device, wherein the housing is a closed housing.
請求項1から請求項15のいずれか一つに記載の乾燥装置であって、 A drying apparatus according to any one of claims 1 to 15,
前記キャリアは、前記複数の基板を、各基板の厚み方向が水平方向に沿う姿勢で収納する、乾燥装置。 The drying device, wherein the carrier stores the plurality of substrates in a posture in which the thickness direction of each substrate is along the horizontal direction.
複数の基板を乾燥する乾燥装置であって、 A drying device for drying a plurality of substrates,
筐体と、 a housing;
前記複数の基板を収容するキャリアが、前記筐体の内部において載置される載置部と、 a carrier on which the plurality of substrates are accommodated is placed inside the housing;
前記載置部に載置された前記複数の基板よりも上側に設けられた給気口を有し、前記給気口から当該複数の基板に向けて乾燥用の気体を供給する気体供給部と、 a gas supply unit having an air supply port provided above the plurality of substrates placed on the mounting unit, and supplying a drying gas from the air supply port toward the plurality of substrates; ,
前記載置部よりも下側に設けられた排気口を有し、前記気体を前記排気口から外部に排気する気体排出部と a gas discharge unit having an exhaust port provided below the mounting unit and discharging the gas to the outside from the exhaust port;
を備え、with
前記気体排出部は、前記気体の流れを整流する整流構造を有し、 The gas discharge part has a rectifying structure that rectifies the flow of the gas,
前記排気口は複数設けられて、上側に開口しており、 A plurality of the exhaust ports are provided and open upward,
前記気体排出部は、前記整流構造として、それぞれ前記排気口を有する複数の排気管を含み、 The gas discharge unit includes a plurality of exhaust pipes each having the exhaust port as the rectifying structure,
前記複数の排気管の前記排気口は、平面視において2次元的に分散して配置されており、 The exhaust ports of the plurality of exhaust pipes are two-dimensionally dispersed and arranged in a plan view,
前記気体排出部は、 The gas discharge part is
前記複数の排気管から流入される流体から気体と液体とを分離する気液分離部と、 a gas-liquid separation unit for separating gas and liquid from the fluid flowing in from the plurality of exhaust pipes;
前記気液分離部からの前記気体を外部に排出する排気主管と、 an exhaust main pipe for discharging the gas from the gas-liquid separation unit to the outside;
前記気液分離部からの前記液体を外部に排出する排液管と a drainage pipe for discharging the liquid from the gas-liquid separation unit to the outside;
を含み、including
前記複数の排気管は前記気液分離部の上面に接続され、 The plurality of exhaust pipes are connected to the upper surface of the gas-liquid separation unit,
前記排気主管は前記気液分離部の下面の中央部に接続される、乾燥装置。 The drying device, wherein the exhaust main pipe is connected to a central portion of the lower surface of the gas-liquid separation section.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019054112A (en) 2017-09-15 2019-04-04 株式会社Screenホールディングス Wafer drying method and wafer drying device

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6469015A (en) * 1987-09-10 1989-03-15 Nec Corp Wafer drying apparatus
JP2551123B2 (en) * 1988-11-04 1996-11-06 富士通株式会社 Continuous surface treatment equipment
JPH02132942U (en) * 1989-04-12 1990-11-05
JPH0827045B2 (en) * 1989-05-09 1996-03-21 富士電機株式会社 Clean room system
JP3098547B2 (en) * 1990-12-28 2000-10-16 東京エレクトロン株式会社 Carrier stocker
JP2567703Y2 (en) * 1991-11-28 1998-04-02 武蔵工業株式会社 Steam drying equipment
JPH06221635A (en) * 1993-01-22 1994-08-12 Sony Corp Clean room structure
JPH0917736A (en) * 1995-06-30 1997-01-17 Hitachi Ltd Semiconductor manufacturing method and apparatus
JP3193327B2 (en) * 1996-09-27 2001-07-30 東京エレクトロン株式会社 Cleaning equipment
JP3194036B2 (en) * 1997-09-17 2001-07-30 東京エレクトロン株式会社 Drying treatment apparatus and drying treatment method
JP2006066501A (en) * 2004-08-25 2006-03-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd Spin cleaning drying apparatus and spin cleaning drying method
JP4145905B2 (en) * 2005-08-01 2008-09-03 セイコーエプソン株式会社 Vacuum dryer
JP2010272551A (en) * 2009-05-19 2010-12-02 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP6909617B2 (en) * 2016-09-30 2021-07-28 東京エレクトロン株式会社 Decompression drying device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019054112A (en) 2017-09-15 2019-04-04 株式会社Screenホールディングス Wafer drying method and wafer drying device

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