JP7220186B2 - Method for producing titanium powder, method for producing sponge titanium, titanium powder and gas collector - Google Patents
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Description
この発明は、たとえばスポンジチタンの製造等における、金属製還元反応容器内での四塩化チタンの還元に際して、チタン粉を製造する方法ならびに、スポンジチタンの製造方法、チタン粉およびガス収集装置に関するものである。特にこの発明は、新規な手法にて、チタン粉を製造することのできる技術を提案するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing titanium powder, a method for producing titanium sponge, a titanium powder and a gas collecting device when reducing titanium tetrachloride in a metallic reduction reaction vessel, for example in the production of titanium sponge. be. In particular, this invention proposes a technique capable of producing titanium powder by a novel method.
スポンジチタンを製造するに当り、たとえば原料鉱石から生成した粗四塩化チタンを連続蒸留して得られる精製四塩化チタン等の四塩化チタンを金属製還元反応容器内に供給し、金属製還元反応容器内で当該四塩化チタンを還元する還元プロセスが行われる。 In producing sponge titanium, for example, titanium tetrachloride such as purified titanium tetrachloride obtained by continuous distillation of crude titanium tetrachloride produced from a raw material ore is supplied into a metal reduction reaction vessel. A reduction process takes place in which the titanium tetrachloride is reduced.
工業的に利用されることが多いクロール法による還元プロセスでは、たとえば、金属製還元反応容器内に予め溶融金属マグネシウムを貯留させ、その溶融金属マグネシウム上に四塩化チタンをある程度の時間をかけて継続的に滴下する。この金属マグネシウムは還元材として働いて、四塩化チタンを金属チタンに還元する。かかる金属チタンはスポンジ状の大塊として得られ、当該スポンジチタン塊を破砕したものは一般にスポンジチタンと称されている。四塩化チタンの還元では副生物として塩化マグネシウムが生成される。 In the reduction process by the Kroll method, which is often used industrially, for example, molten metal magnesium is stored in advance in a metal reduction reaction vessel, and titanium tetrachloride is continued over a certain amount of time on the molten metal magnesium. drop on a regular basis. This magnesium metal acts as a reducing agent to reduce titanium tetrachloride to titanium metal. Such metallic titanium is obtained as a sponge-like large mass, and the crushed sponge titanium mass is generally called sponge titanium. Reduction of titanium tetrachloride produces magnesium chloride as a by-product.
ここで、金属製還元反応容器内では、より詳細には、次のような反応が起こると考えられる。上方側から滴下された四塩化チタンは浴面付近で金属マグネシウムと反応し、そこで金属チタン及び塩化マグネシウムが生成される。浴面付近で生成したこの塩化マグネシウムは金属マグネシウムとの比重の差に起因して浴面より深いほうに沈降する一方で、金属マグネシウムは浴面に向かって浮上する。この結果、通常は、浴面には金属マグネシウムが存在することになり、当該浴面付近で金属マグネシウムによる四塩化チタンの還元反応が継続して起こる。 Here, more specifically, the following reactions are thought to occur within the metal reduction reactor. Titanium tetrachloride dropped from above reacts with metallic magnesium near the bath surface, where metallic titanium and magnesium chloride are produced. The magnesium chloride produced near the bath surface sinks deeper than the bath surface due to the difference in specific gravity from metallic magnesium, while metallic magnesium rises toward the bath surface. As a result, metallic magnesium is usually present on the bath surface, and the reduction reaction of titanium tetrachloride with metallic magnesium occurs continuously near the bath surface.
なお、この種のスポンジチタンの製造に関する技術としては、特許文献1に記載されたもの等がある。特許文献1には、「スポンジチタン塊全体ひいてはスポンジチタンの平均塩素濃度を低減する」ことを目的として、「クロール法にて反応容器中の溶融マグネシウム上に四塩化チタンを供給してスポンジチタン塊を生成させるスポンジチタンの製造方法であって、生成する少なくとも一部のスポンジチタンは、反応浴面の金属マグネシウムが枯渇して塩化マグネシウム中にチタン低級塩化物が溶解し始めた時点からt時間の間、四塩化チタンの供給を続けて生成するスポンジチタンの製造方法」が提案されている。 Incidentally, as a technique related to the production of this kind of titanium sponge, there is one described in Patent Document 1 and the like. In Patent Document 1, for the purpose of "reducing the average chlorine concentration of the entire mass of titanium sponge and thus of the titanium sponge", it is described that "titanium tetrachloride is supplied onto molten magnesium in a reaction vessel by the Kroll method to produce a titanium sponge mass. At least a part of the titanium sponge produced is produced within a period of time t from the time when metallic magnesium on the surface of the reaction bath is depleted and titanium lower chlorides begin to dissolve in magnesium chloride. Meanwhile, a method for producing sponge titanium by continuously supplying titanium tetrachloride has been proposed.
このような四塩化チタンの還元プロセスの詳細なメカニズムについては、これまでに、たとえば特許文献2に記載されているような知見が得られている。 Regarding the detailed mechanism of such a reduction process of titanium tetrachloride, knowledge such as that described in, for example, Patent Document 2 has been obtained so far.
ところで、主として金属チタンを含有するチタン粉は一般に、上記の還元プロセスで得られるスポンジチタンや、チタン切粉から、水素化脱水素法等を用いて製造されている。チタン粉をこれ以外の方法によっても製造することができれば、その製造に由来する特有の性状によっては用途等が広がる可能性もある。 By the way, titanium powder mainly containing metallic titanium is generally produced from sponge titanium obtained by the above-mentioned reduction process or titanium shavings using a hydrodehydrogenation method or the like. If titanium powder can be produced by a method other than this, it may be used in a wider range of applications depending on the unique properties derived from the production.
この発明の目的は、新規な手法にて、チタン粉を製造することのできるチタン粉の製造方法、スポンジチタンの製造方法、チタン粉および、ガス収集装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a method for producing titanium powder, a method for producing sponge titanium, a titanium powder, and a gas collecting device by a novel technique.
発明者は、金属製還元反応容器内での四塩化チタンの還元反応メカニズムについて各種の調査を行った。その結果、還元反応を行う工程の間に金属製還元反応容器内の浴面上の内部空間から内部ガスを収集し、この内部ガスに存在する粉体からチタン粉が得られることを発明者は見出した。 The inventor conducted various investigations on the reduction reaction mechanism of titanium tetrachloride in a metal reduction reaction vessel. As a result, the inventors found that the internal gas is collected from the internal space above the bath surface in the metal reduction reactor during the step of conducting the reduction reaction, and the titanium powder is obtained from the powder present in this internal gas. Found it.
かかる知見の下、この発明のチタン粉の製造方法は、金属製還元反応容器内で四塩化チタンを還元するプロセスにおいて、前記金属製還元反応容器の内部空間から粉体を含む内部ガスを収集するガス収集工程と、前記内部ガスに存在するチタン粉を含む粉体を該内部ガスから分離する粉体分離工程と、を有するものである。 Based on this knowledge, the method for producing titanium powder of the present invention collects an internal gas containing powder from the internal space of the metal reduction reaction vessel in the process of reducing titanium tetrachloride in the metal reduction reaction vessel. It has a gas collection step and a powder separation step of separating powder containing titanium powder present in the internal gas from the internal gas.
ここで、粉体分離工程では、前記内部ガスの移送中に該内部ガス中の前記粉体を捕集する乾式分離を用いることが好ましい。 Here, in the powder separation step, it is preferable to use dry separation in which the powder in the internal gas is captured during transfer of the internal gas.
またここで、この発明のチタン粉の製造方法は、粉体分離工程の後、前記粉体を酸で処理し、チタン粉と異なる別種粉末の少なくとも一部を溶解して除去する酸処理工程をさらに有することが好ましい。
この場合、前記別種粉末は、金属マグネシウム及び塩化マグネシウムのうちの一種以上を含むことがある。
またこの場合、前記酸を、硝酸、塩酸及び硫酸からなる群から選択される少なくとも一種とすることが好ましい。
Here, the method for producing titanium powder of the present invention further includes an acid treatment step of treating the powder with an acid after the powder separation step, and dissolving and removing at least a part of the different powder different from the titanium powder. It is preferable to further have.
In this case, the different powder may contain one or more of metallic magnesium and magnesium chloride.
In this case, the acid is preferably at least one selected from the group consisting of nitric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid.
この発明のチタン粉の製造方法は、前記金属製還元反応容器内での四塩化チタンの還元によるスポンジチタン塊の製造とともに行うことができる。 The method for producing titanium powder according to the present invention can be carried out together with the production of sponge titanium lumps by reduction of titanium tetrachloride in the metal reduction reactor.
また、この発明のスポンジチタンの製造方法は、上記のいずれかのチタン粉の製造方法を伴うものである。 Further, a method for producing titanium sponge according to the present invention involves any one of the methods for producing titanium powder described above.
この発明のチタン粉は、平均粒子径d50が5.0μm以下であるものである。 The titanium powder of the present invention has an average particle size d50 of 5.0 μm or less.
ここで、この発明のチタン粉は、10%粒子径d10が0.7μm~1.0μmであることが好ましい。
またここで、この発明のチタン粉は、平均粒子径d50が2.5μm以下であり、90%粒子径d90が3.0μm~12.0μmであることが好ましい。
Here, the titanium powder of the present invention preferably has a 10% particle size d10 of 0.7 μm to 1.0 μm.
Here, the titanium powder of the present invention preferably has an average particle size d50 of 2.5 μm or less and a 90% particle size d90 of 3.0 μm to 12.0 μm.
この発明のガス収集装置は、四塩化チタンを還元する金属製還元反応容器の内部空間から、内部ガスを収集するものであって、前記内部空間に連通し、該内部空間からの内部ガスを通すガス流路と、前記ガス流路の一部に設けられて、内部ガス中の粉体を捕集する粉体捕集部とを有してなるものである。 The gas collection device of the present invention collects internal gas from the internal space of a metal reduction reaction vessel for reducing titanium tetrachloride, communicates with the internal space, and passes the internal gas from the internal space. It has a gas flow path and a powder collecting section provided in a part of the gas flow path for collecting powder in the internal gas.
ここで、この発明のガス収集装置は、金属製還元反応容器に接続され、内部に前記ガス流路が形成された管状流路部材を有し、前記管状流路部材の軸線方向の一部に、前記粉体捕集部が設けられていることが好ましい。 Here, the gas collection device of the present invention has a tubular flow path member connected to a metal reduction reaction vessel and having the gas flow path formed therein, and a part of the tubular flow path member in the axial direction has , it is preferable that the powder collector is provided.
この発明によれば、新規な手法にて、チタン粉を製造することができる。 According to this invention, titanium powder can be produced by a novel technique.
以下に、この発明の実施の形態について説明する。
この発明の一の実施形態に係るチタン粉の製造方法は、金属チタン(Ti)を含有するチタン粉を製造する方法であって、金属製還元反応容器内で四塩化チタンを還元する際に、金属製還元反応容器の内部空間から粉体を含む内部ガスを収集するガス収集工程と、その内部ガスに存在するチタン粉を含む粉体を、該内部ガスから分離する粉体分離工程とを有する。
Embodiments of the present invention will be described below.
A method for producing a titanium powder according to one embodiment of the present invention is a method for producing a titanium powder containing metallic titanium (Ti), wherein when titanium tetrachloride is reduced in a metal reduction reactor, It has a gas collection step of collecting internal gas containing powder from the internal space of the metal reduction reaction vessel, and a powder separation step of separating powder containing titanium powder present in the internal gas from the internal gas. .
ここで、多くの場合は、スポンジチタンを製造する際の四塩化チタンの還元プロセスの間に、上記のチタン粉の製造方法を好適に行うことができる。それ故に、ここではまず四塩化チタンの還元プロセスについて詳説する。 Here, in many cases, the above-described method for producing titanium powder can be suitably carried out during the reduction process of titanium tetrachloride when producing titanium sponge. Therefore, the reduction process of titanium tetrachloride is first described in detail here.
(四塩化チタンの還元プロセス)
この還元プロセスでは、一般に、金属製還元反応容器内に四塩化チタンを供給し、金属製還元反応容器内で四塩化チタンを還元してスポンジチタン塊が製造される。
(Reduction process of titanium tetrachloride)
In this reduction process, generally, titanium tetrachloride is supplied into a metal reduction reaction vessel, and the titanium tetrachloride is reduced in the metal reduction reaction vessel to produce a sponge titanium mass.
四塩化チタン(TiCl4)は、たとえば、精留塔にて精製された後の液体状の四塩化チタン(「精製四塩化チタン」ともいう。)とすることができる。この精製四塩化チタンは、たとえば、チタン鉱石等の原料鉱石を還元して生成される粗四塩化チタンを精留塔で精製して得られるものである。具体的には、原料鉱石をコークスによって高温で還元し、原料鉱石中の酸化チタンを塩素と反応させて粗四塩化チタンとする。粗四塩化チタンは揮発性の他の塩化物等を不純物として含むので、精留塔内で連続蒸留により精製する。それにより、かかる不純物のほとんどが低減された高純度の精製四塩化チタンが得られる。 Titanium tetrachloride (TiCl 4 ) can be, for example, liquid titanium tetrachloride (also referred to as “purified titanium tetrachloride”) after being purified in a rectification column. This refined titanium tetrachloride is obtained, for example, by purifying crude titanium tetrachloride produced by reducing raw material ore such as titanium ore in a rectifying column. Specifically, the raw material ore is reduced with coke at a high temperature, and titanium oxide in the raw material ore is reacted with chlorine to obtain crude titanium tetrachloride. Since crude titanium tetrachloride contains other volatile chlorides and the like as impurities, it is purified by continuous distillation in a rectifying column. Thereby, high purity purified titanium tetrachloride with most of such impurities reduced is obtained.
還元プロセスにて四塩化チタンの還元に用いる金属製還元反応容器は、これまでに同様の還元で用いられている公知のものとすることができる。たとえば、図1に模式的に示す金属製還元反応容器1は、内部に溶融金属マグネシウム等の還元材を貯留させる容器本体2と、容器本体2の上方側開口部に取り付けられる蓋部材3と、上方側から浴面Sbに向けて四塩化チタンを供給できるように、蓋部材3に設けられた原料供給管4と、四塩化チタンの還元反応により生成される塩化マグネシウム等を排出する副生物排出管5とを備える。
The metal reduction reaction vessel used for the reduction of titanium tetrachloride in the reduction process can be a known one that has been used for similar reductions. For example, a metal reduction reaction vessel 1 schematically shown in FIG. A raw
さらにこの金属製還元反応容器1では、蓋部材3に、金属製還元反応容器1の内部空間Siから、後述する内部ガスGiを採取するためのガス採取管6を設けている。ガス採取管6は、圧抜き配管としても機能し得るものである。即ち、圧抜き配管は蓋部材3に別途設けられてもよいしガス採取管6が圧抜き機能を兼ね備えてもよい。
金属製還元反応容器1は通常、図示は省略するが、その周囲に加熱機構や冷却機構等が設けられており、それにより内部が適切な温度に調整される。金属製還元反応容器1は、ステンレスもしくは鋼等からなるものとすることが一般的である。
Furthermore, in this metallic reduction reaction vessel 1, the
Although not shown, the metal reduction reaction vessel 1 is usually provided with a heating mechanism, a cooling mechanism, and the like around it, so that the inside is adjusted to an appropriate temperature. The metal reduction reaction vessel 1 is generally made of stainless steel, steel, or the like.
還元プロセスでは、金属製還元反応容器1内に、原料供給管4から上記の四塩化チタンを供給し、ここで四塩化チタンを還元することにより、スポンジチタン塊TSが得られる。
還元プロセスの一例について詳説すると、はじめに、内部を所定の高温に維持した金属製還元反応容器1内に、液体状の溶融金属マグネシウムを貯留させる。そして、この溶融金属マグネシウムより上方側から、その浴面Sb上に、四塩化チタンを滴下すること等により供給する。
In the reduction process, the above-mentioned titanium tetrachloride is supplied from the raw
An example of the reduction process will be described in detail. First, liquid molten metallic magnesium is stored in a metallic reduction reaction vessel 1 whose interior is maintained at a predetermined high temperature. Then, titanium tetrachloride is dropped onto the bath surface Sb from the upper side of the molten magnesium metal to supply it.
これにより、浴面Sb付近で、四塩化チタンと金属マグネシウムとが接触し、金属チタンが、副生物としての塩化マグネシウムとともに生成される。浴である溶融マグネシウムと四塩化チタンとの反応(下記式(a))が生じると考えられるが、このとき、浴面Sbより上の領域にて気体どうしの反応もある割合で起こっていると推測される。なお、生成する金属チタンは微粉として金属製還元反応容器1内の内部空間Si中を浮遊しうる。
TiCl4(気、液)+Mg(液)→Ti(固)+MgCl2(液) (a)
TiCl4(気)+Mg(気)→Ti(固)+MgCl2(液) (b)
As a result, titanium tetrachloride and metallic magnesium come into contact with each other near the bath surface Sb, and metallic titanium is produced together with magnesium chloride as a by-product. It is thought that a reaction (formula (a) below) occurs between molten magnesium in the bath and titanium tetrachloride. At this time, it is assumed that a certain proportion of reaction between gases occurs in the region above the bath surface Sb. guessed. The produced metallic titanium can float in the internal space Si inside the metallic reduction reactor 1 as fine powder.
TiCl 4 (gas, liquid) + Mg (liquid) → Ti (solid) + MgCl 2 (liquid) (a)
TiCl 4 (gas) + Mg (gas) → Ti (solid) + MgCl 2 (liquid) (b)
このうち、塩化マグネシウムは、金属マグネシウムに比して比重が大きいことに起因して、浴面Sbから下方側に沈降する。一方、浴中の金属マグネシウムは、相対的に小さな比重の故に、浴面Sbに向かって浮上する。このような塩化マグネシウムと金属マグネシウムとの間の比重差により、浴流れが生じて浴面Sbには金属マグネシウムが位置し、この金属マグネシウムと、滴下される四塩化チタンとの間で反応が継続して起こり、主として浴中でスポンジチタン塊TSが成長する。 Of these, magnesium chloride settles downward from the bath surface Sb due to its higher specific gravity than metallic magnesium. On the other hand, metallic magnesium in the bath floats toward the bath surface Sb due to its relatively small specific gravity. Due to such a difference in specific gravity between magnesium chloride and metallic magnesium, a bath flow occurs, metallic magnesium is positioned on the bath surface Sb, and the reaction continues between this metallic magnesium and the dropped titanium tetrachloride. A titanium sponge mass TS grows mainly in the bath.
還元プロセスの序盤及び中盤では、上記式(a)及び(b)の反応が良好に起こるので、金属製還元反応容器1内への四塩化チタンの供給速度をある程度速くすることができる。
一方、還元プロセスで上記の反応が進行して、還元プロセスの終盤になると、浴中の金属マグネシウムが消費されてその量が減少する。また、図1に例示するように、浴中でスポンジチタン塊TSが大きく成長し、このスポンジチタン塊TSの頂部が、四塩化チタンを滴下している浴面Sbに達することがある。これによって、金属マグネシウムがスポンジチタン塊TSにトラップされやすくなるので、金属マグネシウムの量の減少とも相俟って、先述した浴流れによる金属マグネシウムの浮上が妨げられ、金属マグネシウムが浴面Sbに到達するまでに時間がかかる。その結果として、浴面Sb付近での金属マグネシウムによる四塩化チタンの還元反応の速度が低下することがある。それ故に、終盤では、金属製還元反応容器1内への四塩化チタンの供給速度を低下させる必要がある場合がある。
Since the reactions of the above formulas (a) and (b) occur favorably at the beginning and middle of the reduction process, the supply rate of titanium tetrachloride into the metallic reduction reaction vessel 1 can be increased to some extent.
On the other hand, the above reaction proceeds in the reduction process, and at the end of the reduction process, metallic magnesium in the bath is consumed and its amount decreases. Further, as illustrated in FIG. 1, the titanium sponge mass TS grows large in the bath, and the top of the titanium sponge mass TS may reach the bath surface Sb onto which titanium tetrachloride is dripped. This makes it easier for metallic magnesium to be trapped in the sponge titanium mass TS, and together with the decrease in the amount of metallic magnesium, the floating of metallic magnesium due to the above-described bath flow is prevented, and metallic magnesium reaches the bath surface Sb. It takes time to do so. As a result, the speed of the reduction reaction of titanium tetrachloride with metallic magnesium in the vicinity of the bath surface Sb may decrease. Therefore, in the final stage, it may be necessary to reduce the supply rate of titanium tetrachloride into the metallic reduction reactor 1 .
発明者は、このような還元反応の詳細なメカニズムについて調査したところ、金属製還元反応容器1内で四塩化チタンを還元している間に、金属製還元反応容器1内の浴面Sbよりも上方側の内部空間Siから採取した粉体を含む内部ガスGiに、チタン粉が含まれるとの新たな知見を得た。そして発明者は、このような知見に基いて、次に詳細に述べるようなチタン粉の製造方法を案出した。 As a result of investigating the detailed mechanism of such a reduction reaction, the inventor found that while reducing titanium tetrachloride in the metal reduction reaction vessel 1, the bath surface Sb in the metal reduction reaction vessel 1 A new knowledge was obtained that titanium powder is contained in the internal gas Gi containing powder collected from the internal space Si on the upper side. Based on such knowledge, the inventor devised a method for producing titanium powder as described in detail below.
(チタン粉の製造方法)
この発明の一の実施形態に係るチタン粉の製造方法は、金属製還元反応容器1内で四塩化チタンを還元している間に、その内部空間Siから、粉体を含む内部ガスGiを得るガス収集工程を有する。そして、この内部ガスGiには、チタン粉を含む粉体が存在するので、ガス収集工程の後に、当該粉体を内部ガスGiから分離する粉体分離工程を行う。
(Method for producing titanium powder)
In the method for producing titanium powder according to one embodiment of the present invention, an internal gas Gi containing powder is obtained from the internal space Si while titanium tetrachloride is being reduced in the metal reduction reactor 1. It has a gas collection step. Since the internal gas Gi contains powder containing titanium powder, a powder separation step for separating the powder from the internal gas Gi is performed after the gas collection step.
ガス収集工程では、上記の還元プロセスで、金属製還元反応容器1内に四塩化チタンを供給したときから、四塩化チタンの供給を停止してスポンジチタン塊の回収が終了するまでの間の所定の時期に、内部空間Siから内部ガスGiを収集することができる。
特に、反応序盤及び中盤で、内部空間Siから内部ガスGiを収集することが好ましい。これにより、後述するような小さな粒径のチタン粉を製造しやすくなる。ここで、より具体的には、反応序盤とは、四塩化チタンの累計供給量(質量基準)が総供給予定量の0%~64%のタイミングを指し、反応中盤とは、65%~75%のタイミングを指すこととしてよい。したがって、内部ガスGiは、四塩化チタンの累計供給量が75%になるまで収集してよい。
In the gas collection step, in the reduction process described above, a predetermined amount of gas is collected during the period from when titanium tetrachloride is supplied into the metallic reduction reaction vessel 1 to when the supply of titanium tetrachloride is stopped and the collection of titanium sponge lumps is completed. , the internal gas Gi can be collected from the internal space Si.
In particular, it is preferable to collect the internal gas Gi from the internal space Si at the beginning and middle of the reaction. This facilitates production of titanium powder having a small particle size as described later. Here, more specifically, the early stage of the reaction refers to the timing when the cumulative supply amount (mass basis) of titanium tetrachloride is 0% to 64% of the total planned supply amount, and the middle stage of the reaction is 65% to 75%. % timing. Therefore, the internal gas Gi may be collected until the cumulative supply of titanium tetrachloride is 75%.
内部ガスGiを収集するに当って具体的には、たとえば、ガス供給管12等で金属製還元反応容器1の内部空間Siにアルゴンガス等の不活性ガスGaを供給して、該不活性ガスで内部ガスGiをガス採取管6から押し出すことができる。
Specifically, in collecting the internal gas Gi, for example, an inert gas Ga such as argon gas is supplied to the internal space Si of the metal reduction reactor 1 through the
金属製還元反応容器1の内部空間Siから収集した内部ガスGiは、図2に例示するようなガス収集装置7に送ることができる。
図示のガス収集装置7は、内部空間Siに連通し、内部空間Siからの内部ガスGiを通すガス流路が形成された管状流路部材としてのガス採取管6と、そのガス流路の一部に設けられて、内部ガスGi中の粉体を捕集する粉体捕集部6aとを有するものである。
The internal gas Gi collected from the internal space Si of the metallic reduction reaction vessel 1 can be sent to a
The illustrated
ここで、粉体捕集部6aは、たとえば、ガス採取管6の所定の領域にわたるステンレス製のフレキシブルホース等とすることができる。粉体捕集部6aは、内部ガスGiに含まれる粉体を捉えることができるものであれば特に限定されず、たとえば、粉体導入部とガス排出部を有する単純な鋼製容器や、フィルターのようなものや、気流分級機のようなものとすることもできる。粉体捕集部は、容器状のもので、内部ガスGiが送り込まれて、そのうちの粉体を蓄積させるとともに、気体を排出させることができる単純なものであってもよい。つまり、外気と遮断できて、所定の高温に耐え得るものであればよい。
これにより、液体を用いない乾式分離として、内部ガスGiがガス採取管6の粉体捕集部6aを通過するに際し、その粉体捕集部6aで内部ガスGi中の粉体が捕集される。
Here, the
As a result, when the internal gas Gi passes through the
なお、このガス収集装置7はガス採取管6の他さらに、内部ガスGiの所要の分析等を行うための、ガス採取管6が接続されるタンク状等の液体接触部8と、液体接触部8の上方側から水を噴出させるノズル部9と、ノズル部9から噴出されて液体接触部8に溜まった液体を、ノズル部9に循環させる液体循環パイプ10と、残りのガスを排出させるガス排出管11とを有する。但し、このような追加の構成は必ずしも必要ではない。
In addition to the
あるいは、湿式分離により、内部ガスGiから粉体を分離してもよい。湿式分離の一例としては、上記の液体接触部8に流入した内部ガスGiを、ノズル部9から噴出される液体と接触させる。これにより、内部ガスGiの粉体が液体接触部8にも蓄積するので、液体から粉体を取り出すことにより、粉体を分離することができる。なお、この液体は、たとえば水、具体的には、水道水、工業用水、蒸留水、精製水、イオン交換水、純水、超純水等とすることができるが、水道水もしくは工業用水で十分である。湿式分離により得られた粉体には、Mg等を含有する後述の別種粉末が比較的多く含まれ得るので、これを除去すること等を目的として、湿式分離で用いる液体を酸性にするか、当該粉体に対して後述する酸処理工程を行ってもよい。但し、このような湿式分離では、チタン粉の水素濃度が高くなる傾向がある。それ故に、用途等によっては、先述の乾式分離のほうが好ましいことがある。また、乾式分離は、湿式分離に比して、粉体中の別種粉末の量が少なくなる点でも優れている。
Alternatively, the powder may be separated from the internal gas Gi by wet separation. As an example of wet separation, the internal gas Gi that has flowed into the
上記の粉体捕集部6aで捕集された粉体には、金属チタンを含有するチタン粉の他、金属マグネシウム及び塩化マグネシウムのうちの一種以上の別種粉末が含まれることがある。これは、還元プロセスにおける金属マグネシウムによる四塩化チタンの還元は発熱反応であり、金属製還元反応容器1内のマグネシウムが蒸発しやすくなったことによるものと考えられる。なお粉体には、場合によっては、水素化チタン(TiH)の粉末が含まれることもある。
The powder collected by the
粉体捕集部6aで捕集した粉体に、金属マグネシウム(Mg)及び塩化マグネシウム(MgCl2)のうちの一種以上の別種粉末が含まれる場合は、粉体分離工程の後に、粉体を酸で処理し、当該別種粉末の少なくとも一部を溶解させて除去する酸処理工程を行うことが好ましい。
このときに用いる酸としては、硝酸、塩酸及び硫酸からなる群から選択される少なくとも一種とすることができるが、なかでも、硝酸が、酸化性の酸であることから好ましい。酸化性の酸であれば、チタン粉の表面に安定な酸化被膜が形成されるためである。塩酸もしくは硫酸を用いる場合は、希薄(たとえば濃度5質量%以下)とし、できる限り常温を保持することが望ましい。
If the powder collected by the
The acid used at this time may be at least one selected from the group consisting of nitric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid. Among them, nitric acid is preferred because it is an oxidizing acid. This is because an oxidizing acid forms a stable oxide film on the surface of the titanium powder. When hydrochloric acid or sulfuric acid is used, it is desirable to dilute it (for example, a concentration of 5% by mass or less) and keep it at room temperature as much as possible.
酸処理工程での酸処理は、たとえば、室温、好ましくは30℃以下で、処理時間15~60分により行うことができる。 The acid treatment in the acid treatment step can be performed, for example, at room temperature, preferably 30° C. or less, for 15 to 60 minutes.
上述したガス収集工程及び、粉体分離工程、さらに必要に応じて酸処理工程を経ることにより、チタン粉を製造することができる。チタン粉の詳細については後述する。
このようなチタン粉の製造方法は、金属製還元反応容器1内での四塩化チタンの還元による、スポンジチタン塊の製造とともに行うことが好適である。言い換えれば、金属製還元反応容器1内で四塩化チタンを還元して、スポンジチタン塊の製造とともにチタン粉を製造できる。これにより、四塩化チタンの還元により、スポンジチタン塊のみならず、チタン粉も製造することができる。
Titanium powder can be produced through the above-described gas collection step, powder separation step, and, if necessary, acid treatment step. Details of the titanium powder will be described later.
Such a method for producing titanium powder is preferably carried out together with the production of sponge titanium lumps by reduction of titanium tetrachloride in the metallic reduction reactor 1 . In other words, by reducing titanium tetrachloride in the metal reduction reaction vessel 1, it is possible to produce titanium sponge lumps and titanium powder. As a result, not only sponge titanium lumps but also titanium powder can be produced by reduction of titanium tetrachloride.
(チタン粉)
以上に述べたようにして製造されたチタン粉は、理由は必ずしも明らかではないが、その粒径が、他の製造方法によるものに比して小さいことが解かった。
具体的には、チタン粉の平均粒子径d50は、5.0μm以下であり、好ましくは3.0μm以下であり、より好ましくは2.5μm以下である。このような小径のチタン粉は、所定の既存の用途又は、新たな用途で有効に用いることができる可能性がある。一方、かかるチタン粉の平均粒子径d50は、たとえば1.0μm以上、典型的には1.5μm以上となることがある。
(Titanium powder)
Although the reason is not necessarily clear, the titanium powder produced as described above has a smaller particle size than those produced by other production methods.
Specifically, the average particle size d50 of the titanium powder is 5.0 µm or less, preferably 3.0 µm or less, and more preferably 2.5 µm or less. Such small-diameter titanium powder may be effectively used in certain existing applications or new applications. On the other hand, the average particle diameter d50 of such titanium powder may be, for example, 1.0 μm or more, typically 1.5 μm or more.
また、チタン粉の10%粒子径d10は、0.7μm~1.0μmであることが好ましい。また、チタン粉の90%粒子径d90は、3.0μm~12.0μmであることが好ましい。また、90%粒子径d90は3.0μm~7.0μmとすることも好ましく、3.0μm~5.0μmとすることも好ましい。 Also, the 10% particle size d10 of the titanium powder is preferably 0.7 μm to 1.0 μm. Also, the 90% particle size d90 of the titanium powder is preferably 3.0 μm to 12.0 μm. Also, the 90% particle diameter d90 is preferably 3.0 μm to 7.0 μm, more preferably 3.0 μm to 5.0 μm.
ここでいう平均粒子径d50は、いわゆるメジアン径とも称され得るものである。チタン粉の平均粒子径d50、10%粒子径d10及び90%粒子径d90の測定はそれぞれ、レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置で測定して得られる粒子径分布グラフで、体積基準の頻度の累積が50%、10%及び90%になる粒子径を求めることにより行う。 The average particle diameter d50 referred to here can also be referred to as a so-called median diameter. Measurement of the average particle size d50, 10% particle size d10 and 90% particle size d90 of titanium powder is a particle size distribution graph obtained by measurement with a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device, and the volume-based frequency is determined by determining the particle size at which the accumulation of 50%, 10% and 90%.
なお、チタン粉の組成として、金属チタンの純度は、たとえば97.0質量%~99.0質量%、典型的には98.0質量%~99.0質量%である場合がある。
チタン粉に含まれる可能性のある不純物としては、鉄、マグネシウム、塩素、水素及び酸素からなる群から選択される少なくとも一種がある。これらの不純物の含有量は、複数種の場合はそれらの合計で、一般に3質量%以下、場合によっては1質量%以下であることがある。これらの元素のうち、鉄およびマグネシウム濃度は誘導結合プラズマ発光分光法(ICP-OES)、塩素濃度は硝酸銀滴定法、水素濃度は不活性ガス融解-ガスクロマトグラフ法、酸素濃度は不活性ガス融解-赤外線吸収法によってそれぞれ測定できる。
As for the composition of the titanium powder, the purity of metallic titanium may be, for example, 97.0% by mass to 99.0% by mass, typically 98.0% by mass to 99.0% by mass.
Impurities that may be contained in the titanium powder include at least one selected from the group consisting of iron, magnesium, chlorine, hydrogen and oxygen. The total content of these impurities is generally 3% by mass or less, and in some cases 1% by mass or less in some cases. Among these elements, iron and magnesium concentrations are measured by inductively coupled plasma emission spectroscopy (ICP-OES), chlorine concentration is measured by silver nitrate titration method, hydrogen concentration is measured by inert gas fusion - gas chromatography, oxygen concentration is measured by inert gas fusion - Each can be measured by an infrared absorption method.
(スポンジチタンの製造方法)
一例として、クロール法におけるスポンジチタンの製造方法は、還元プロセスと、真空分離プロセスと、破砕プロセスとを含む。還元プロセスでは、先に述べたように、金属製還元反応容器1内に不活性条件下で装入された溶融金属マグネシウムに対して、先述した四塩化チタンを滴下し、スポンジチタン塊を生成する。次の真空分離プロセスでは、金属製還元反応容器1内から、副生物である溶融塩化マグネシウムと、残存する場合は溶融金属マグネシウムとを金属製パイプを介して抜き出した後、スポンジチタン塊に対して真空分離処理を施す。破砕プロセスでは、スポンジチタン塊を破砕する。これにより、スポンジチタンが得られる。
(Method for manufacturing sponge titanium)
As an example, a method for producing titanium sponge in the Kroll method includes a reduction process, a vacuum separation process, and a crushing process. In the reduction process, as described above, the aforementioned titanium tetrachloride is added dropwise to the molten metallic magnesium charged into the metal reduction reaction vessel 1 under inert conditions to form sponge titanium lumps. . In the next vacuum separation process, molten magnesium chloride as a by-product and, if remaining, molten magnesium chloride are extracted from the metal reduction reaction vessel 1 through a metal pipe, and then the sponge titanium mass is extracted. Apply a vacuum separation process. The crushing process crushes the titanium sponge chunks. Thereby, sponge titanium is obtained.
次に、この発明を試験的に実施し、その効果を確認したので以下に説明する。但し、ここでの説明は単なる例示を目的としたものであり、それに限定されることを意図するものではない。 Next, the present invention was implemented on a trial basis, and its effects were confirmed, which will be described below. However, the description herein is for illustrative purposes only and is not intended to be limiting.
図1に示すような金属製還元反応容器内で、溶融金属マグネシウムを貯留させ、そこに四塩化チタンを滴下して供給する還元プロセスを行い、スポンジチタン塊を製造した。その際に、図2に示すような構成を備えるガス収集装置を用いて、金属製還元反応容器の内部空間から内部ガスを収集するガス収集工程を行い、この内部ガスに対して、粉体分離工程及び酸処理工程を順次に行った。 A reduction process was performed by storing molten metal magnesium in a metal reduction reaction vessel as shown in FIG. At that time, using a gas collection device having a configuration as shown in FIG. The steps and acid treatment steps were performed sequentially.
還元プロセスでの四塩化チタンの総滴下量に対する滴下量が、25%になる時点(反応序盤に当たる)、67%になる時点(反応中盤に当たる)および、92%になる時点(反応終盤に当たる)で、内部ガスを収集するガス収集工程を行った。この還元プロセスより、8tのスポンジチタン塊を製造した。なお、再現性確認のため、滴下量25%時点でのガス収集は、同一条件で反応させた三つの反応容器A、B、Cから、それぞれ行なった。 When the amount of titanium tetrachloride added to the total amount of titanium tetrachloride dropped in the reduction process reaches 25% (at the beginning of the reaction), 67% (at the middle of the reaction), and 92% (at the end of the reaction). , performed a gas collection step to collect the internal gas. From this reduction process, an 8t sponge titanium mass was produced. In order to confirm the reproducibility, the gas collection at the time of 25% of the dropping amount was performed from each of the three reactors A, B, and C which were reacted under the same conditions.
そして、上記のガス収集工程で収集した内部ガスに対し、粉体分離工程及び酸処理工程を行い、チタン粉を製造した。ガス収集工程では、金属製還元反応容器内にアルゴンガスを100L/min~200L/minで導入することにより、金属製還元反応容器の内部空間からガス収集装置に向けて、ガス採取管を介して、内部ガスを3分間送り込んだ。この際に、ガス採取管の途中に設けた粉体捕集部としてのSUS製フレキシブルホース(口径10A)で、内部ガスに含まれる粉体を捕集した(乾式分離)。酸処理工程は、粉体:2g、3質量%の希硝酸:150ml、溶解時間:60min、温度:常温の条件で行った。 Then, the internal gas collected in the gas collection process was subjected to a powder separation process and an acid treatment process to produce titanium powder. In the gas collection step, argon gas is introduced into the metal reduction reaction vessel at a rate of 100 L/min to 200 L/min, and is directed from the internal space of the metal reduction reaction vessel to the gas collection device through the gas collection pipe. , the internal gas was pumped in for 3 minutes. At this time, powder contained in the internal gas was collected (dry separation) with a SUS flexible hose (caliber 10A) as a powder collector provided in the middle of the gas sampling pipe. The acid treatment step was performed under the conditions of powder: 2 g, 3% by mass diluted nitric acid: 150 ml, dissolution time: 60 min, and temperature: room temperature.
粉体分離工程後かつ酸処理工程前の粉体について、XRD及びSEMその他各種の分析を行ったところ、滴下量25%時点、滴下量67%時点及び滴下量92%時点のいずれで得られた粉体も、MgCl2及びTiが主要相であること、滴下量92%時点の粉体はTiのX線回折のピークが比較的小さいことが解かった。なお、滴下量92%時点の粉体はMgCl2のX線回折のピークが大きかった。 XRD, SEM, and other analyzes were performed on the powder after the powder separation process and before the acid treatment process, and it was found that the powder was obtained at any of the dripping amount of 25%, the dripping amount of 67%, and the dripping amount of 92%. It was also found that the main phases of the powder were MgCl 2 and Ti, and that the X-ray diffraction peak of Ti was relatively small in the powder when the amount of dropping was 92%. The X-ray diffraction peak of MgCl 2 was large for the powder when the amount of drop was 92%.
また、酸処理工程後の粉体について、同様の分析を行った。その結果、酸処理工程後の粉体は、メインがTiであり、わずかにTiHも検出された。滴下量25%時点で反応容器B及びCのそれぞれから得られた酸処理工程後の粉体中の不純物濃度(質量%)を表1に示す。Ti純度は、100質量%から表1中に記載の各元素の含有量を差し引いて求め、滴下量25%時点の容器Bでは97.2質量%程度、滴下量25%時点の容器Cでは98.1質量%程度であった。
また、滴下量25%時点の反応容器A及びB、滴下量67%時点の反応容器Aならびに、滴下量92%時点の反応容器Aのそれぞれから得られた酸処理工程後の粉体の平均粒子径d50、10%粒子径d10及び90%粒子径d90を、表2に示す。粒度に関して、一次粒子は平均2μm程度であった。10μm~20μmの二次粒子も存在していた。なお、滴下量92%時点のものは二次粒子の割合が多かった。
Moreover, the same analysis was performed on the powder after the acid treatment step. As a result, the powder after the acid treatment process was mainly Ti, and a small amount of TiH was also detected. Table 1 shows the impurity concentration (% by mass) in the powder after the acid treatment step obtained from each of the reaction vessels B and C at the time of 25% of the dropping amount. The Ti purity is obtained by subtracting the content of each element listed in Table 1 from 100% by mass. 0.1% by mass.
In addition, the average particle size of the powder after the acid treatment process obtained from each of the reaction vessels A and B at the time of 25% of the dropping amount, the reaction vessel A at the time of 67% of the dropping amount, and the reaction vessel A at the time of 92% of the dropping amount. Table 2 shows the diameter d50, the 10% particle size d10 and the 90% particle size d90. Regarding the particle size, the primary particles were about 2 μm on average. Secondary particles of 10 μm to 20 μm were also present. In addition, the rate of the secondary particles was large at the time of 92% of the dropping amount.
1 金属製還元反応容器
2 容器本体
3 蓋部材
4 原料供給管
5 副生物排出管
6 ガス採取管(管状流路部材)
6a 粉体捕集部
7 ガス収集装置
8 液体接触部
9 ノズル部
10 液体循環パイプ
11 ガス排出管
12 ガス供給管
Sb 浴面
TS スポンジチタン塊
Gi 内部ガス
Ga 不活性ガス
REFERENCE SIGNS LIST 1 metal reduction reaction vessel 2
6a
Claims (9)
前記金属製還元反応容器の内部空間から粉体を含む内部ガスを収集するガス収集工程と、
前記内部ガスに存在するチタン粉を含む粉体を該内部ガスから分離する粉体分離工程と
を有し、
前記ガス収集工程での前記内部ガスの収集を、四塩化チタンの累積供給量(質量基準)が総供給予定量の0%~75%の間の少なくとも一部の時期に行う、チタン粉の製造方法。 In the process of supplying titanium tetrachloride to molten metal magnesium stored in a metal reduction reaction vessel and reducing titanium tetrachloride by the Kroll method ,
a gas collection step of collecting internal gas containing powder from the internal space of the metal reduction reaction vessel;
a powder separation step of separating powder containing titanium powder present in the internal gas from the internal gas ;
has _
Manufacture of titanium powder, wherein the collection of the internal gas in the gas collection step is performed at least partly when the cumulative supply amount (mass basis) of titanium tetrachloride is between 0% and 75% of the total planned supply amount. Method.
請求項1~6のいずれか一項に記載のチタン粉の製造方法を伴う、スポンジチタンの製造方法。 A method for producing sponge titanium, comprising:
A method for producing sponge titanium, which involves the method for producing titanium powder according to any one of claims 1 to 6.
前記内部空間に連通し、該内部空間からの内部ガスを通すガス流路と、前記ガス流路の一部に設けられて、内部ガス中の粉体を捕集する粉体捕集部とを有してなる、ガス収集装置。 A gas collecting device that is used in the method for producing titanium powder according to any one of claims 1 to 6 and collects internal gas from the internal space of a metal reduction reaction vessel that reduces titanium tetrachloride,
a gas flow path communicating with the internal space to pass the internal gas from the internal space; A gas collection device, comprising:
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2019034962A Division JP6750056B2 (en) | 2019-02-27 | 2019-02-27 | Titanium powder manufacturing method, sponge titanium manufacturing method, titanium powder, and gas collecting device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020180380A JP2020180380A (en) | 2020-11-05 |
| JP7220186B2 true JP7220186B2 (en) | 2023-02-09 |
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ID=73023404
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2020135919A Active JP7220186B2 (en) | 2020-08-11 | 2020-08-11 | Method for producing titanium powder, method for producing sponge titanium, titanium powder and gas collector |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7220186B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN120989414B (en) * | 2025-10-22 | 2025-12-30 | 北票合兴实业有限公司 | Intelligent control system and method for multi-sensor fused fine iron powder titanium reduction process |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181752A (en) | 1999-12-17 | 2001-07-03 | Toho Titanium Co Ltd | Method for producing sponge titanium |
| JP2004169139A (en) | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Toho Titanium Co Ltd | Production method for high-purity titanium |
| JP2005179757A (en) | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Sumitomo Titanium Corp | Method for producing sponge-titanium particle |
| JP2010516893A (en) | 2007-01-22 | 2010-05-20 | マテリアルズ アンド エレクトロケミカル リサーチ コーポレイション | Continuous production of titanium by metal thermal reduction of TiCl4 |
-
2020
- 2020-08-11 JP JP2020135919A patent/JP7220186B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181752A (en) | 1999-12-17 | 2001-07-03 | Toho Titanium Co Ltd | Method for producing sponge titanium |
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| JP2010516893A (en) | 2007-01-22 | 2010-05-20 | マテリアルズ アンド エレクトロケミカル リサーチ コーポレイション | Continuous production of titanium by metal thermal reduction of TiCl4 |
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|---|---|
| JP2020180380A (en) | 2020-11-05 |
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