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JP7220694B2 - FLUX COMPOSITION, SOLDER COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC SUBSTRATE - Google Patents
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FLUX COMPOSITION, SOLDER COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC SUBSTRATE Download PDF

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Description

本発明は、フラックス組成物、およびはんだ組成物、並びに、電子基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a flux composition, a solder composition, and a method for manufacturing an electronic substrate.

はんだ組成物は、はんだ粉末にフラックス組成物(ロジン系樹脂、活性剤および溶剤などを含む組成物)を混練してペースト状にした混合物である。このはんだ組成物においては、はんだ溶融性やはんだが濡れ広がりやすいという性質(はんだ濡れ広がり)などのはんだ付け性が要求されている。そして、これらの要求に対応するために、フラックス組成物中の活性剤などの検討がされている(例えば、特許文献1)。
一方で、スマートフォンなどのモバイル端末は、小型化および多機能化が進んでいる。これらに使用される電子部品も微細化している。このような電子部品の微小面積のランドを少量のはんだ組成物で接合させる必要がある。また、はんだ組成物は、大型基板でも使用される。この大型基板ではんだ組成物を使用する場合には、リフロー工程におけるプリヒートの時間を長くする必要がある。さらに、大型基板の場合、熱容量が大きく、プリヒート温度に到達するまでに時間を要する結果、基板がリフロー炉にて加熱されている時間が長くなる傾向にある。このような場合、低分子量の有機酸のような活性剤は、失活しやすく、微小面積における溶融性が低下する。一方で、活性剤を増量する場合には、銅腐食といった問題が発生しやすい。このように、電子部品の微細化に対応しつつ、大型基板にも対応できるはんだ組成物が求められている。
The solder composition is a paste-like mixture obtained by kneading solder powder with a flux composition (a composition containing a rosin-based resin, an activator, a solvent, and the like). This solder composition is required to have good solderability such as solder meltability and the property that solder easily spreads by wetting (solder wetting and spreading). In order to meet these demands, activators and the like in flux compositions have been studied (for example, Patent Document 1).
On the other hand, mobile terminals such as smartphones are becoming smaller and more functional. Electronic parts used for these are also miniaturized. It is necessary to join the lands with a small area of such electronic parts with a small amount of solder composition. Solder compositions are also used on large substrates. When using a solder composition for such a large substrate, it is necessary to lengthen the preheating time in the reflow process. Furthermore, in the case of a large-sized substrate, the heat capacity is large and it takes time to reach the preheating temperature. In such cases, activators such as low-molecular-weight organic acids are susceptible to deactivation, resulting in poor meltability in small areas. On the other hand, when the amount of activator is increased, problems such as copper corrosion tend to occur. Thus, there is a demand for a solder composition that can be used for large-sized substrates while coping with miniaturization of electronic components.

特開2013-169557号公報JP 2013-169557 A

本発明は、微小面積における溶融性に優れ、かつ、銅腐食を抑制できるフラックス組成物、およびはんだ組成物、並びに、電子基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a flux composition, a solder composition, and a method for manufacturing an electronic substrate, which are excellent in meltability in a small area and capable of suppressing copper corrosion.

本発明の一態様によれば、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、および(D)酸化防止剤を含有するフラックス組成物であって、前記(D)成分が、(D1)下記構造式(D1)で表される化合物を含有し、前記(D)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、4質量%以上であるフラックス組成物が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a flux composition containing (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) an antioxidant, wherein the component (D) is and (D1) a flux composition containing a compound represented by the following structural formula (D1), wherein the component (D) is contained in an amount of 4% by mass or more with respect to 100% by mass of the flux composition provided.

Figure 0007220694000001
Figure 0007220694000001

本発明の一態様に係るフラックス組成物においては、前記(D)成分が、さらに、(D2)ヒンダードフェノール構造を有する酸化防止剤((D1)成分を除く)を含有することが好ましい。
本発明の一態様に係るフラックス組成物においては、前記(B)成分が、(B1)炭素数10以上の有機酸を含有し、前記(B1)の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、8質量%以上20質量%以下であることが好ましい。
本発明の一態様に係るフラックス組成物においては、前記(A)の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、30質量%以上70質量%以下であることが好ましい。
In the flux composition according to one aspect of the present invention, the component (D) preferably further contains (D2) an antioxidant having a hindered phenol structure (excluding component (D1)).
In the flux composition according to one aspect of the present invention, the component (B) contains (B1) an organic acid having 10 or more carbon atoms, and the content of (B1) is 100% by mass of the flux composition. is preferably 8% by mass or more and 20% by mass or less.
In the flux composition according to one aspect of the present invention, the amount of (A) is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.

本発明の一態様によれば、前記本発明の一態様に係るフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有するはんだ組成物が提供される。
本発明の一態様に係るはんだ組成物においては、前記(E)成分におけるはんだ合金が、スズ、銅、亜鉛、銀、アンチモン、鉛、インジウム、ビスマス、ニッケル、金、コバルトおよびゲルマニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
According to one aspect of the present invention, there is provided a solder composition containing the flux composition according to one aspect of the present invention and (E) solder powder.
In the solder composition according to one aspect of the present invention, the solder alloy in the component (E) is tin, copper, zinc, silver, antimony, lead, indium, bismuth, nickel, gold, cobalt and germanium. It is preferable to contain at least one selected.

本発明の一態様によれば、前記本発明の一態様に係るはんだ組成物を用いてはんだ付けを行う電子基板の製造方法であって、前記はんだ組成物上に前記電子部品を配置し、リフロー炉により加熱するリフロー工程を備え、前記リフロー工程における溶融温度の到達時間が330秒間以上である、電子基板の製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an electronic substrate by soldering using the solder composition according to one aspect of the present invention, wherein the electronic component is placed on the solder composition, and reflow is performed. Provided is a method for manufacturing an electronic substrate, comprising a reflow step of heating in a furnace, wherein the time to reach a melting temperature in the reflow step is 330 seconds or longer.

本発明によれば、微小面積における溶融性に優れ、かつ、銅腐食を抑制できるフラックス組成物、およびはんだ組成物、並びに、電子基板の製造方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the flux composition which is excellent in the meltability in a micro area, and can suppress copper corrosion, a solder composition, and the manufacturing method of an electronic board can be provided.

[フラックス組成物]
まず、本実施形態に用いるフラックス組成物について説明する。本実施形態に用いるフラックス組成物は、はんだ組成物におけるはんだ粉末以外の成分であり、以下説明する(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、および(D)酸化防止剤を含有するものである。
[Flux composition]
First, the flux composition used in this embodiment will be described. The flux composition used in the present embodiment is a component other than the solder powder in the solder composition, and includes (A) a rosin resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) an antioxidant, which will be described below. contains

[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、重合ロジン、水素添加ロジンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。水素添加ロジンとしては、完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β-不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう)などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(A) component]
The (A) rosin-based resin used in the present embodiment includes rosins and rosin-based modified resins. Rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Examples of rosin-based modified resins include disproportionated rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin and derivatives thereof. Hydrogenated rosins include fully hydrogenated rosins, partially hydrogenated rosins, unsaturated organic acids (aliphatic unsaturated monobasic acids such as (meth)acrylic acid, α,β- Hydrogenated unsaturated organic acid-modified rosin ("hydrogenated acid-modified (also referred to as "rosin"). These rosin-based resins may be used singly or in combination of two or more.

(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、30質量%以上70質量%以下であることが好ましく、34質量%以上60質量%以下であることがより好ましく、35質量%以上50質量%以下であることが特に好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、はんだ付ランドの銅箔面の酸化を防止してその表面に溶融はんだを濡れやすくする、いわゆるはんだ付け性を向上でき、はんだボールを十分に抑制できる。また、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さ量を十分に抑制できる。 The amount of component (A) is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 34% by mass or more and 60% by mass or less, and 35% by mass, based on 100% by mass of the flux composition. % or more and 50 mass % or less is particularly preferable. If the blending amount of component (A) is at least the above lower limit, it is possible to prevent oxidation of the copper foil surface of the soldering land and make it easier for molten solder to wet the surface, so-called solderability can be improved, and solder balls can be sufficiently formed. can be suppressed to Moreover, if the compounding quantity of (A) component is below the said upper limit, the flux residue amount can fully be suppressed.

[(B)成分]
本実施形態に用いる(B)活性剤は、(B1)炭素数10以上(より好ましくは11以上)の有機酸を含有することが好ましい。この(B1)成分は、プリヒート時間が長い場合でも、失活しにくく、微小面積における溶融性を向上できる。また、この(B1)成分は、銅腐食の要因にもなりにくい傾向にある。
[(B) component]
The (B) activator used in the present embodiment preferably contains (B1) an organic acid having 10 or more carbon atoms (more preferably 11 or more carbon atoms). This component (B1) is less likely to be deactivated even when the preheating time is long, and can improve the meltability in a minute area. In addition, this component (B1) tends to be less likely to cause copper corrosion.

(B1)成分としては、ドデカン二酸、エイコサン二酸、ダイマー酸、トリマー酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、および1,4-ジヒドロキシ-2-ナフトエ酸などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Component (B1) includes dodecanedioic acid, eicosanedioic acid, dimer acid, trimer acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, and 1,4-dihydroxy-2-naphthoic acid. etc. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

(B1)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、8質量%以上20質量%以下であることが好ましく、10質量%以上18質量%以下であることがより好ましい。(B1)成分の配合量が前記下限以上であれば、微小面積における溶融性を向上できる傾向にあり、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を維持できる傾向にある。 The amount of component (B1) is preferably 8% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 18% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of component (B1) is at least the lower limit, the meltability in a small area tends to be improved.

(B)成分は、本発明の効果を達成できる範囲内において、(B2)炭素数10未満の有機酸を含有していてもよい。ただし、このような炭素数10未満の低分子量の有機酸は、プリヒート時間が長い場合には、失活しやすく、また、銅腐食の要因になりやすいことから、本実施形態に用いる(B)活性剤としては、この(B2)成分を含有しないことが好ましい。
(B2)成分としては、炭素数10未満であるモノカルボン酸、ジカルボン酸、およびその他の有機酸が挙げられる。
炭素数10未満のモノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、およびブチリック酸などが挙げられる。
炭素数10未満のジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、およびアゼライン酸などが挙げられる。
炭素数10未満のその他の有機酸としては、乳酸、安息香酸、サリチル酸、およびクエン酸などが挙げられる。
Component (B) may contain (B2) an organic acid having less than 10 carbon atoms within the range where the effects of the present invention can be achieved. However, such a low-molecular-weight organic acid having less than 10 carbon atoms is likely to be deactivated when the preheating time is long, and is likely to cause copper corrosion. The activator preferably does not contain this (B2) component.
Component (B2) includes monocarboxylic acids, dicarboxylic acids and other organic acids having less than 10 carbon atoms.
Monocarboxylic acids having less than 10 carbon atoms include formic acid, acetic acid, propionic acid, and butyric acid.
Dicarboxylic acids having less than 10 carbon atoms include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, and azelaic acid.
Other organic acids with less than 10 carbon atoms include lactic acid, benzoic acid, salicylic acid, and citric acid.

(B)成分は、本発明の効果を阻害しない範囲において、(B1)成分以外に、その他の活性剤((B3)ハロゲン系活性剤、および(B4)アミン系活性剤など)をさらに含有してもよい。ただし、(B3)成分は銅腐食の要因となりやすいことから、(B)成分は、(B1)成分のみからなることが好ましい。また、(B1)成分の配合量の合計は、(B)成分100質量%に対して、85質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることが特に好ましい。 In addition to component (B1), component (B) further contains other activators ((B3) halogen-based activator, (B4) amine-based activator, etc.) to the extent that the effects of the present invention are not impaired. may However, since the (B3) component is likely to cause copper corrosion, it is preferable that the (B) component consists only of the (B1) component. The total amount of component (B1) blended is preferably 85% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and more preferably 95% by mass or more with respect to 100% by mass of component (B). It is particularly preferred to have

(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、8質量%以上25質量%以下であることが好ましく、10質量%以上20質量%以下であることがより好ましく、12質量%以上18質量%以下であることが特に好ましい。(B)成分の配合量が前記下限以上であれば、活性作用を向上できる傾向にあり、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を維持できる傾向にある。 The blending amount of component (B) is preferably 8% by mass or more and 25% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 20% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that the content is not less than 18% by mass and not more than 18% by mass. If the blending amount of component (B) is at least the above lower limit, the activity tends to be improved, while if it is at most the above upper limit, the insulating properties of the flux composition tend to be maintained.

[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)溶剤としては、公知の溶剤を適宜用いることができる。このような溶剤としては、沸点170℃以上の溶剤を用いることが好ましい。
このような溶剤としては、例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、1,5-ペンタンジオール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、2-エチルヘキシルジグリコール、オクタンジオール、フェニルグリコール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(DEH)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(MTEM)、およびジブチルマレイン酸などが挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(C) component]
As the (C) solvent used in the present embodiment, a known solvent can be used as appropriate. As such a solvent, it is preferable to use a solvent having a boiling point of 170° C. or higher.
Examples of such solvents include diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, 1,5-pentanediol, methyl carbitol, butyl carbitol, 2-ethylhexyl diglycol, octanediol, phenyl glycol, Diethylene glycol monohexyl ether (DEH), tetraethylene glycol dimethyl ether (MTEM), dibutyl maleate, and the like. One type of these solvents may be used alone, or two or more types may be mixed and used.

(C)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることがより好ましい。溶剤の配合量が前記範囲内であれば、得られるはんだ組成物の粘度を適正な範囲に適宜調整できる。 The amount of component (C) is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the blending amount of the solvent is within the above range, the viscosity of the resulting solder composition can be appropriately adjusted to an appropriate range.

[(D)成分]
本実施形態に用いる(D)酸化防止剤は、(D1)下記構造式(D1)で表される化合物を含有することが必要である。この(D1)成分により、微小面積における溶融性を向上でき、また、(B)成分による銅腐食を抑制できる。この(D1)成分は、N,N’-ビス{3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル}ヒドラジンである。
[(D) component]
The (D) antioxidant used in this embodiment must contain (D1) a compound represented by the following structural formula (D1). This (D1) component can improve the meltability in a small area and can suppress copper corrosion due to the (B) component. This (D1) component is N,N'-bis{3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl}hydrazine.

Figure 0007220694000002
Figure 0007220694000002

(D1)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以上2質量%以下であることが特に好ましい。(D1)成分の配合量が前記範囲内であれば、微小面積における溶融性を向上でき、また、銅腐食を抑制できる。 The amount of component (D1) is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. It is preferably 0.5% by mass or more and 2% by mass or less, particularly preferably. If the blending amount of the component (D1) is within the above range, the meltability in a small area can be improved, and copper corrosion can be suppressed.

(D)成分は、微小面積における溶融性および銅腐食の抑制の観点から、さらに、(D2)ヒンダードフェノール構造を有する酸化防止剤((D1)成分を除く)を含有することが好ましい。
(D2)成分としては、ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、および、N,N’-ビス[2-[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル]オキサミドなどが挙げられる。
Component (D) preferably further contains (D2) an antioxidant having a hindered phenol structure (excluding component (D1)) from the viewpoint of meltability in a small area and suppression of copper corrosion.
(D2) components include pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], bis[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methyl phenyl)propionic acid][ethylenebis(oxyethylene)] and N,N'-bis[2-[2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethylcarbonyloxy]ethyl] oxamide and the like.

(D2)成分を使用する場合、はんだ溶融性と他の物性とのバランスの観点から、(D1)成分に対する(D2)成分の質量比((D2)/(D1))は、1以上10以下であることが好ましく、2以上9以下であることがより好ましく、4以上8以下であることが特に好ましい。 When using component (D2), the mass ratio of component (D2) to component (D1) ((D2)/(D1)) is 1 or more and 10 or less, from the viewpoint of the balance between solder meltability and other physical properties. is preferably 2 or more and 9 or less, and particularly preferably 4 or more and 8 or less.

(D)成分は、本発明の効果を阻害しない範囲において、(D1)成分および(D2)成分以外に、その他の酸化防止剤(以下、(D3)成分という)をさらに含有してもよい。ただし、(D)成分は、(D1)成分のみ、或いは、(D1)成分および(D2)成分のみからなることが好ましい。また、(D1)成分および(D2)成分の合計の配合量の合計は、(D)成分100質量%に対して、85質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることが特に好ましい。 Component (D) may further contain other antioxidants (hereinafter referred to as component (D3)) in addition to components (D1) and (D2) to the extent that the effects of the present invention are not impaired. However, the (D) component preferably consists of only the (D1) component, or only the (D1) component and the (D2) component. In addition, the total amount of component (D1) and component (D2) is preferably 85% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, relative to 100% by mass of component (D). It is preferably 95% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more.

(D3)成分としては、硫黄化合物(3,3’-チオジプロピオン酸ジドデシルなど)、ベンゾトリアゾール化合物(1,2,3-ベンゾトリアゾールなど)、およびホスファイト化合物などが挙げられる。 Component (D3) includes sulfur compounds (didodecyl 3,3'-thiodipropionate, etc.), benzotriazole compounds (1,2,3-benzotriazole, etc.), and phosphite compounds.

(D)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、4質量%以上であることが必要である。(D)成分の配合量が4質量%未満であると、微小面積における溶融性が不十分となるか、或いは、銅腐食が発生してしまう。また、はんだ溶融性と他の物性とのバランスの観点から(D)成分の配合量は、4質量%以上15質量%以下であることが好ましく、4.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。 Component (D) should be added in an amount of 4% by mass or more based on 100% by mass of the flux composition. If the amount of component (D) is less than 4% by mass, the meltability in a small area will be insufficient, or copper corrosion will occur. Further, from the viewpoint of balance between solder meltability and other physical properties, the amount of component (D) is preferably 4% by mass or more and 15% by mass or less, and is 4.5% by mass or more and 10% by mass or less. is more preferable, and it is particularly preferable to be 5% by mass or more and 8% by mass or less.

[チクソ剤]
本実施形態のフラックス組成物においては、印刷性などの観点から、さらにチクソ剤を含有することが好ましい。ここで用いるチクソ剤としては、硬化ひまし油、アミド類、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、およびガラスフリットなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[Thixotropic agent]
From the viewpoint of printability, the flux composition of the present embodiment preferably further contains a thixotropic agent. The thixotropic agent used here includes hydrogenated castor oil, amides, kaolin, colloidal silica, organic bentonite, and glass frit. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

チクソ剤の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、2質量%以上12質量%以下であることがより好ましい。配合量が前記下限未満では、チクソ性が得られず、ダレが生じやすくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、チクソ性が高すぎて、印刷不良となりやすい傾向にある。 The amount of the thixotropic agent is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 12% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. If the amount is less than the above lower limit, thixotropic properties cannot be obtained and sagging tends to occur.

[他の成分]
本実施形態に用いるフラックス組成物には、(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、およびチクソ剤の他に、必要に応じて、その他の添加剤、更には、その他の樹脂を加えることができる。その他の添加剤としては、消泡剤、改質剤、つや消し剤、および発泡剤などが挙げられる。これらの添加剤の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。その他の樹脂としては、アクリル系樹脂、およびポリブタジエンなどが挙げられる。
[Other ingredients]
The flux composition used in the present embodiment contains components (A), (B), (C), (D), and a thixotropic agent, and optionally other additives and further , and other resins can be added. Other additives include defoamers, modifiers, matting agents, blowing agents, and the like. The blending amount of these additives is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. Other resins include acrylic resins and polybutadiene.

[はんだ組成物]
次に、本実施形態のはんだ組成物について説明する。本実施形態のはんだ組成物は、前述の本実施形態のフラックス組成物と、以下説明する(E)はんだ粉末とを含有するものである。
フラックス組成物の配合量は、はんだ組成物100質量%に対して、5質量%以上35質量%以下であることが好ましく、7質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、8質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。フラックス組成物の配合量が5質量%未満の場合(はんだ粉末の配合量が95質量%を超える場合)には、バインダーとしてのフラックス組成物が足りないため、フラックス組成物とはんだ粉末とを混合しにくくなる傾向にあり、他方、フラックス組成物の配合量が35質量%を超える場合(はんだ粉末の配合量が65質量%未満の場合)には、得られるはんだ組成物を用いた場合に、十分なはんだ接合を形成できにくくなる傾向にある。
[Solder composition]
Next, the solder composition of this embodiment will be described. The solder composition of the present embodiment contains the flux composition of the present embodiment described above and (E) solder powder described below.
The amount of the flux composition is preferably 5% by mass or more and 35% by mass or less, more preferably 7% by mass or more and 15% by mass or less, and 8% by mass with respect to 100% by mass of the solder composition. More than 12% by mass or less is particularly preferable. When the amount of the flux composition is less than 5% by mass (when the amount of the solder powder is more than 95% by mass), the flux composition and the solder powder are mixed because the flux composition as a binder is insufficient. On the other hand, when the amount of the flux composition exceeds 35% by mass (when the amount of the solder powder is less than 65% by mass), when the resulting solder composition is used, It tends to be difficult to form a good solder joint.

[(E)成分]
本発明に用いる(E)はんだ粉末は、鉛フリーはんだ粉末のみからなることが好ましいが、有鉛のはんだ粉末であってもよい。また、このはんだ粉末におけるはんだ合金は、スズ(Sn)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、銀(Ag)、アンチモン(Sb)、鉛(Pb)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)、ニッケル(Ni)、金(Au)、コバルト(Co)およびゲルマニウム(Ge)からなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
このはんだ粉末におけるはんだ合金としては、スズを主成分とする合金が好ましい。また、このはんだ合金は、スズ、銀および銅を含有することがより好ましい。さらに、このはんだ合金は、添加元素として、アンチモン、ビスマスおよびニッケルのうちの少なくとも1つを含有してもよい。本実施形態のフラックス組成物によれば、アンチモン、ビスマスおよびニッケルなどの酸化しやすい添加元素を含むはんだ合金を用いた場合でも、ボイドの発生を抑制できる。
ここで、鉛フリーはんだ粉末とは、鉛を添加しないはんだ金属または合金の粉末のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ粉末中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、300質量ppm以下であることが好ましい。
[(E) component]
The (E) solder powder used in the present invention preferably consists of only lead-free solder powder, but lead-containing solder powder may also be used. The solder alloy in this solder powder includes tin (Sn), copper (Cu), zinc (Zn), silver (Ag), antimony (Sb), lead (Pb), indium (In), bismuth (Bi), It preferably contains at least one selected from the group consisting of nickel (Ni), gold (Au), cobalt (Co) and germanium (Ge).
As the solder alloy in this solder powder, an alloy containing tin as a main component is preferable. Also, the solder alloy more preferably contains tin, silver and copper. Furthermore, the solder alloy may contain at least one of antimony, bismuth and nickel as additive elements. According to the flux composition of the present embodiment, even when a solder alloy containing easily oxidizable additive elements such as antimony, bismuth and nickel is used, the generation of voids can be suppressed.
Here, the lead-free solder powder means powder of solder metal or alloy to which lead is not added. However, the presence of lead as an unavoidable impurity in lead-free solder powder is allowed, but in this case, the amount of lead is preferably 300 ppm by mass or less.

鉛フリーのはんだ粉末の合金系としては、具体的には、Sn-Ag-Cu系、Sn-Cu系、Sn-Ag系、Sn-Bi系、Sn-Ag-Bi系、Sn-Ag-Cu-Bi系、Sn-Ag-Cu-Ni系、Sn-Ag-Cu-Bi-Sb系、Sn-Ag-Bi-In系、Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb系などが挙げられる。 Specific examples of lead-free solder powder alloy systems include Sn--Ag--Cu, Sn--Cu, Sn--Ag, Sn--Bi, Sn--Ag--Bi, and Sn--Ag--Cu. -Bi system, Sn-Ag-Cu-Ni system, Sn-Ag-Cu-Bi-Sb system, Sn-Ag-Bi-In system, Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb system and the like.

(E)成分の平均粒子径は、通常1μm以上40μm以下であるが、はんだ付けパッドのピッチが狭い電子基板にも対応するという観点から、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、2μm以上35μm以下であることがさらにより好ましく、3μm以上32μm以下であることが特に好ましい。なお、平均粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定できる。 The average particle size of the component (E) is usually 1 μm or more and 40 μm or less, but from the viewpoint of compatibility with electronic substrates with a narrow pitch of soldering pads, it is more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and 2 μm or more and 35 μm. It is even more preferably 3 μm or more and 32 μm or less, particularly preferably 3 μm or more and 32 μm or less. The average particle size can be measured with a dynamic light scattering particle size measuring device.

[はんだ組成物の製造方法]
本実施形態のはんだ組成物は、上記説明したフラックス組成物と上記説明した(E)はんだ粉末とを上記所定の割合で配合し、撹拌混合することで製造できる。
[Method for producing solder composition]
The solder composition of the present embodiment can be produced by blending the flux composition described above and the solder powder (E) described above at the predetermined ratio and stirring and mixing them.

[電子基板の製造方法]
次に、本実施形態の電子基板の製造方法について説明する。本実施形態の電子基板の製造方法は、以上説明したはんだ組成物を用いることを特徴とするものである。本実施形態の電子基板の製造方法によれば、前記はんだ組成物を用いて電子部品を電子基板(プリント配線基板など)に実装することで、電子基板を製造できる。
前述した本実施形態のはんだ組成物は、微小面積における溶融性に優れ、かつ、銅腐食を抑制できる。そのため、電子部品の微細化に対応しつつ、大型基板にも対応できる。
ここで用いる塗布装置としては、スクリーン印刷機、メタルマスク印刷機、ディスペンサー、およびジェットディスペンサーなどが挙げられる。
また、前記塗布装置にて塗布したはんだ組成物上に電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱して、前記電子部品をプリント配線基板に実装するリフロー工程により、電子部品を電子基板に実装できる。
[Method for manufacturing electronic substrate]
Next, a method for manufacturing the electronic substrate of this embodiment will be described. The method for manufacturing an electronic substrate according to the present embodiment is characterized by using the solder composition described above. According to the method for manufacturing an electronic board of the present embodiment, an electronic board can be manufactured by mounting an electronic component on an electronic board (printed wiring board, etc.) using the solder composition.
The solder composition of the present embodiment described above has excellent meltability in a small area and can suppress copper corrosion. Therefore, it is possible to cope with the miniaturization of electronic components and also with large-sized substrates.
Examples of coating devices used here include screen printers, metal mask printers, dispensers, jet dispensers, and the like.
Further, an electronic component is placed on the solder composition applied by the coating device, heated under predetermined conditions in a reflow furnace, and the electronic component is mounted on the printed wiring board by a reflow process to mount the electronic component on the electronic board. can be implemented in

リフロー工程においては、前記はんだ組成物上に前記電子部品を配置し、リフロー炉により所定条件にて加熱する。このリフロー工程により、電子部品およびプリント配線基板の間に十分なはんだ接合を行うことができる。その結果、電子部品をプリント配線基板などに実装することができる。
リフロー条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、プリヒート温度は、140℃以上200℃以下であることが好ましい。プリヒート時間は、大型基板に対応するという観点から、100秒間以上250秒間以下であることが好ましく、120秒間以上200秒間以下であることがより好ましい。ピーク温度は、230℃以上270℃以下であることが好ましく、240℃以上255℃以下であることがより好ましい。また、220℃以上の温度の保持時間は、大型基板に対応するという観点から、40秒間以上160秒間以下であることが好ましく、100秒間以上150秒間以下であることがより好ましい。
また、プリヒート温度(例えば140℃)の到達時間は、大型基板に対応するという観点から、180秒間以上であることが好ましく、200秒間以上であることがより好ましく、220秒間以上500秒間以下であることが特に好ましい。溶融温度(例えば、220℃)の到達時間は、大型基板に対応するという観点から、330秒間以上であることが好ましく、350秒間以上であることがより好ましく、360秒間以上700秒間以下であることが特に好ましい。
なお、上記のようなリフロー条件のように、リフロー炉内で曝される時間が長くなるほど、はんだ粉末の酸化は進み、はんだ溶融性は劣化する傾向にある。これに対し、前述した本実施形態のはんだ組成物は、このようなリフロー条件にも対応できる。
In the reflow process, the electronic component is placed on the solder composition and heated under predetermined conditions in a reflow furnace. This reflow process provides good solder joints between the electronic component and the printed wiring board. As a result, the electronic component can be mounted on a printed wiring board or the like.
Reflow conditions may be appropriately set according to the melting point of solder. For example, the preheat temperature is preferably 140° C. or higher and 200° C. or lower. The preheat time is preferably 100 seconds or more and 250 seconds or less, more preferably 120 seconds or more and 200 seconds or less, from the viewpoint of coping with a large substrate. The peak temperature is preferably 230° C. or higher and 270° C. or lower, more preferably 240° C. or higher and 255° C. or lower. In addition, the holding time at a temperature of 220° C. or higher is preferably 40 seconds or more and 160 seconds or less, more preferably 100 seconds or more and 150 seconds or less, from the viewpoint of coping with large substrates.
In addition, the time to reach the preheat temperature (for example, 140 ° C.) is preferably 180 seconds or more, more preferably 200 seconds or more, and 220 seconds or more and 500 seconds or less, from the viewpoint of handling large substrates. is particularly preferred. The time to reach the melting temperature (for example, 220° C.) is preferably 330 seconds or more, more preferably 350 seconds or more, and 360 seconds or more and 700 seconds or less, from the viewpoint of compatibility with large substrates. is particularly preferred.
As in the reflow conditions described above, the longer the solder powder is exposed to in the reflow furnace, the more the solder powder is oxidized and the solder meltability tends to deteriorate. On the other hand, the solder composition of the present embodiment described above can cope with such reflow conditions.

また、本実施形態のはんだ組成物および電子基板は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明に含まれるものである。
例えば、前記電子基板では、リフロー工程により、プリント配線基板と電子部品とを接着しているが、これに限定されない。例えば、リフロー工程に代えて、レーザー光を用いてはんだ組成物を加熱する工程(レーザー加熱工程)により、プリント配線基板と電子部品とを接着してもよい。この場合、レーザー光源としては、特に限定されず、金属の吸収帯に合わせた波長に応じて適宜採用できる。レーザー光源としては、例えば、固体レーザー(ルビー、ガラス、YAGなど)、半導体レーザー(GaAs、およびInGaAsPなど)、液体レーザー(色素など)、並びに、気体レーザー(He-Ne、Ar、CO、およびエキシマーなど)が挙げられる。
Moreover, the solder composition and the electronic substrate of the present embodiment are not limited to the above-described embodiments, and modifications and improvements within the range that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, in the electronic board, the printed wiring board and the electronic component are bonded by a reflow process, but the present invention is not limited to this. For example, instead of the reflow process, the printed wiring board and the electronic component may be bonded by a process of heating the solder composition using a laser beam (laser heating process). In this case, the laser light source is not particularly limited, and can be appropriately employed depending on the wavelength matched to the absorption band of the metal. Examples of laser light sources include solid lasers (ruby, glass, YAG, etc.), semiconductor lasers (GaAs, InGaAsP, etc.), liquid lasers (dyes, etc.), and gas lasers (He—Ne, Ar, CO 2 , and excimer, etc.).

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
ロジン系樹脂:水添酸変性ロジン、商品名「パインクリスタルKE-604」、荒川化学工業社製
((B1)成分)
有機酸A:3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸
有機酸B:ドデカン二酸
有機酸C:ダイマー酸、商品名「UNIDYME14」、アリゾナケミカル社製
有機酸D:トリマー酸(トリマー酸90質量%以上)、商品名「Floradyme 6500」、Florachem社製
((B2)成分)
有機酸E:コハク酸
有機酸F:グルタル酸
有機酸G:アジピン酸
有機酸H:スベリン酸
((C)成分)
溶剤A:ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(DEH、ヘキシルジグルコール)
溶剤B:テトラエチレングリコールジメチルエーテル、商品名「ハイソルブMTEM」、東邦化学工業社製
((D1)成分)
酸化防止剤A:N,N’-ビス{3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル}ヒドラジン、商品名「イルガノックスMD1024」、BASFジャパン社製
((D2)成分)
酸化防止剤B:ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]、商品名「イルガノックス245」、BASF社製
酸化防止剤C:ペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、商品名「ANOX20」
酸化防止剤D:N,N’-ビス[2-[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル]オキサミド、商品名「ナウガードXL-1」、白石カルシウム社製
((D2)成分)
酸化防止剤E:1,2,3-ベンゾトリアゾール、商品名「VERZONE Crysta」、大和化成社製
(他の成分)
チクソ剤:商品名「スリパックスH」、日本化成社製
((E)成分)
はんだ粉末:合金組成はSn-3.0Ag-0.5Cu、粒子径分布は15~25μm、はんだ融点は217~220℃
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. Materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
((A) component)
Rosin-based resin: Hydrogenated acid-modified rosin, trade name “Pine Crystal KE-604”, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. ((B1) component)
Organic acid A: 3-hydroxy-2-naphthoic acid Organic acid B: Dodecanedioic acid Organic acid C: Dimer acid, trade name "UNIDYME14", manufactured by Arizona Chemical Company Organic acid D: Trimer acid (90% by mass or more of trimer acid) , trade name “Floradyme 6500”, manufactured by Florachem ((B2) component)
Organic acid E: Succinic acid Organic acid F: Glutaric acid Organic acid G: Adipic acid Organic acid H: Suberic acid (component (C))
Solvent A: diethylene glycol monohexyl ether (DEH, hexyl diglucol)
Solvent B: tetraethylene glycol dimethyl ether, trade name "Hisolve MTEM", manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. (component (D1))
Antioxidant A: N,N'-bis{3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl}hydrazine, trade name "Irganox MD1024", manufactured by BASF Japan ((D2) component)
Antioxidant B: bis [3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylene bis (oxyethylene)], trade name "Irganox 245", BASF Antioxidant Agent C: pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], trade name "ANOX20"
Antioxidant D: N,N'-bis[2-[2-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)ethylcarbonyloxy]ethyl]oxamide, trade name "Naugard XL-1", Shiraishi Calcium Co., Ltd. ((D2) component)
Antioxidant E: 1,2,3-benzotriazole, trade name "VERZONE Crysta", manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd. (other ingredients)
Thixotropic agent: trade name "Slipax H", manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. ((E) component)
Solder powder: alloy composition Sn-3.0Ag-0.5Cu, particle size distribution 15-25 μm, solder melting point 217-220°C

[実施例1]
ロジン系樹脂35質量%、有機酸A4質量%、有機酸B4質量%、有機酸C4質量%、溶剤A32.5質量%、溶剤B8質量%、酸化防止剤A0.5質量%、酸化防止剤B4質量%、およびチクソ剤8質量%を容器に投入し、プラネタリーミキサーを用いて混合してフラックス組成物を得た。
その後、得られたフラックス組成物11.8質量%およびはんだ粉末88.2質量%(合計で100質量%)を容器に投入し、プラネタリーミキサーにて混合することではんだ組成物を調製した。
[Example 1]
Rosin resin 35% by mass, organic acid A 4% by mass, organic acid B 4% by mass, organic acid C 4% by mass, solvent A 32.5% by mass, solvent B 8% by mass, antioxidant A 0.5% by mass, antioxidant B4 % by mass and 8% by mass of the thixotropic agent were put into a container and mixed using a planetary mixer to obtain a flux composition.
After that, 11.8% by mass of the flux composition and 88.2% by mass of solder powder (total 100% by mass) were put into a container and mixed by a planetary mixer to prepare a solder composition.

[実施例2~6]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[比較例1~11]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[Examples 2 to 6]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
[Comparative Examples 1 to 11]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.

<はんだ組成物の評価>
はんだ組成物の評価(微小ランドの溶融性、銅腐食、はんだボール、ボイド)を以下のような方法で行った。得られた結果を表1に示す。なお、性状に問題があったはんだ組成物については、粘度安定性およびぬれ性についての評価を、一部省略した。
(1)微小ランドの溶融性
基板上に、厚み0.08mmのメタルマスクを用いて、はんだ組成物を印刷した。なお、直径が0.28mm、0.26mm、0.24mm、0.22mm、および0.20mmの銅箔パッドの試験パターン各100個を印刷した。その後、プリヒート温度を140~200℃で160秒間(140℃の到達時間235秒)、220℃以上の保持時間を120秒間(220℃(溶融温度)の到達時間413秒)、ピーク温度を250℃とする条件でリフローを行い、試験基板を作製した。試験基板を顕微鏡にて観察して、最小溶融パッドの直径(単位:mmφ)を測定した。直径が小さいほど、溶融性が優れる。なお、微小面積における溶融性に優れるという観点からは、最小溶融パッドの直径は、0.20mmであることが好ましい。
(2)銅腐食
IPC TM650 2.6.15Cに記載の方法に準拠して、銅箔腐食試験を行い、銅腐食を評価した。そして、銅箔腐食試験の結果が、合格となる場合には「○」と判定し、それ以外の場合には「×」と判定した。
(3)はんだボール
基板上に、厚み0.08mmのメタルマスクを用いて、はんだ組成物を印刷し、0.8mmピッチのQFP(Quad Flat Package)を実装し、さらに、微小ランドの溶融性の評価と同様の条件にて、リフロー処理を行い、評価用基板を作製した。QFPのスリット部分を拡大鏡にて観察し、スリット間におけるはんだボールの発生数をカウントした。そして、以下の基準に従って、はんだボールを評価した。
〇:1ピンあたりのボール発生数が、10個以下である。
△:1ピンあたりのボール発生数が、10個超30個以下である。
×:1ピンあたりのボール発生数が、30個超である。
(4)ボイド
基板上に、厚み0.08mmのメタルマスクを用いて、はんだ組成物を印刷し、0.5mmピッチのQFN(Quad Flat Non-leaded package)を実装し、さらに、微小ランドの溶融性の評価と同様の条件にて、リフロー処理を行い、評価用基板を作製した。そして、X線検査装置として、名古屋電機工業社製の「NLX-5000」を使用して、ボイドを測定し、装置の標準アプリケーションを用いて、QFNのバッド部におけるボイド面積率[(総ボイド面積/総ランド面積)×100]を算出した。そして、以下の基準に従って、ボイドを評価した。
○:ボイド面積率が、20%以下である。
△:ボイド面積率が、20%超25%以下である。
×:ボイド面積率が、25%超である。
<Evaluation of Solder Composition>
Evaluation of the solder composition (meltability of minute lands, copper corrosion, solder balls, voids) was performed by the following methods. Table 1 shows the results obtained. In addition, evaluation of viscosity stability and wettability was partly omitted for solder compositions that had problems with their properties.
(1) Meltability of Micro Land A solder composition was printed on a substrate using a metal mask with a thickness of 0.08 mm. 100 test patterns each of copper foil pads with diameters of 0.28 mm, 0.26 mm, 0.24 mm, 0.22 mm and 0.20 mm were printed. After that, the preheat temperature is set to 140 to 200°C for 160 seconds (time to reach 140°C is 235 seconds), the holding time at 220°C or higher is 120 seconds (time to reach 220°C (melting temperature) is 413 seconds), and the peak temperature is 250°C. A test substrate was produced by performing reflow under the following conditions. The test substrate was observed under a microscope to measure the minimum melt pad diameter (unit: mmφ). The smaller the diameter, the better the meltability. From the viewpoint of excellent meltability in a small area, the minimum melt pad diameter is preferably 0.20 mm.
(2) Copper corrosion A copper foil corrosion test was performed according to the method described in IPC TM650 2.6.15C to evaluate copper corrosion. Then, when the result of the copper foil corrosion test was acceptable, it was judged as "O", and in other cases, it was judged as "X".
(3) Solder ball On the substrate, using a metal mask with a thickness of 0.08 mm, print a solder composition, mount a QFP (Quad Flat Package) with a pitch of 0.8 mm, further improve the meltability of the micro lands A reflow treatment was performed under the same conditions as the evaluation, and a substrate for evaluation was produced. The slit portion of the QFP was observed with a magnifying glass, and the number of solder balls generated between the slits was counted. Then, the solder balls were evaluated according to the following criteria.
◯: The number of balls generated per pin is 10 or less.
Δ: The number of balls generated per pin is more than 10 and 30 or less.
x: The number of balls generated per pin is more than 30.
(4) On the void substrate, using a metal mask with a thickness of 0.08 mm, printed a solder composition, mounted a 0.5 mm pitch QFN (Quad Flat Non-leaded package), further, melting of the micro land A reflow treatment was performed under the same conditions as in the evaluation of the properties, and a substrate for evaluation was produced. Then, as an X-ray inspection device, "NLX-5000" manufactured by Nagoya Electric Industry Co., Ltd. is used to measure voids, and using the standard application of the device, the void area ratio [(total void area /total land area)×100]. Voids were evaluated according to the following criteria.
○: The void area ratio is 20% or less.
Δ: The void area ratio is more than 20% and 25% or less.
x: The void area ratio is more than 25%.

Figure 0007220694000003
Figure 0007220694000003

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のはんだ組成物(実施例1~6)は、微小ランドの溶融性、銅腐食、はんだボール、およびボイドの全ての結果が良好であることが確認された。
従って、本発明のはんだ組成物によれば、微小面積における溶融性に優れ、かつ、銅腐食を抑制できることが確認された。
As is clear from the results shown in Table 1, the solder compositions of the present invention (Examples 1 to 6) are excellent in all of the meltability of micro lands, copper corrosion, solder balls, and voids. was confirmed.
Therefore, it was confirmed that the solder composition of the present invention has excellent meltability in a small area and can suppress copper corrosion.

本発明のはんだ組成物は、電子機器のプリント配線基板などの電子基板に電子部品を実装するための技術として好適に用いることができる。
The solder composition of the present invention can be suitably used as a technique for mounting electronic components on electronic substrates such as printed wiring boards of electronic devices.

Claims (4)

(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、および(D)酸化防止剤を含有するフラックス組成物であって、
前記(A)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、30質量%以上70質量%以下であり、
前記(B)成分が、(B1)炭素数10以上の有機酸を含有し、
前記(B1)の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、8質量%以上20質量%以下であり、
前記(B1)成分の配合量の合計が、前記(B)成分100質量%に対して、85質量%以上であり、
前記(B)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、8質量%以上25質量%以下であり、
前記(C)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、10質量%以上60質量%以下であり、
前記(D)成分が、(D1)下記構造式(D1)で表される化合物、および、(D2)ヒンダードフェノール構造を有する酸化防止剤((D1)成分を除く)を含有し、
前記(D1)成分に対する前記(D2)成分の質量比((D2)/(D1))が、1以上10以下であり、
前記(D1)成分および前記(D2)成分の合計の配合量の合計が、前記(D)成分100質量%に対して、85質量%以上であり
前記(D)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、4.5質量%以上15質量%以下である、
フラックス組成物。
Figure 0007220694000004
A flux composition containing (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) an antioxidant,
The content of component (A) is 30% by mass or more and 70% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition,
The component (B) contains (B1) an organic acid having 10 or more carbon atoms,
The content of (B1) is 8% by mass or more and 20% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition,
The total amount of the component (B1) blended is 85% by mass or more with respect to 100% by mass of the component (B),
The content of component (B) is 8% by mass or more and 25% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition,
The content of component (C) is 10% by mass or more and 60% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition,
The (D) component contains (D1) a compound represented by the following structural formula (D1) and (D2) an antioxidant having a hindered phenol structure (excluding the (D1) component) ,
The mass ratio of the (D2) component to the (D1) component ((D2)/(D1)) is 1 or more and 10 or less,
The total amount of the component (D1) and the component (D2) is 85% by mass or more with respect to 100% by mass of the component (D),
The content of component (D) is 4.5% by mass or more and 15% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.
Flux composition.
Figure 0007220694000004
請求項1に記載のフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有する、
はんだ組成物。
containing the flux composition according to claim 1 and (E) a solder powder,
solder composition.
請求項に記載のはんだ組成物において、
前記(E)成分におけるはんだ合金が、スズ、銅、亜鉛、銀、アンチモン、鉛、インジウム、ビスマス、ニッケル、金、コバルトおよびゲルマニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含有する、
はんだ組成物。
In the solder composition according to claim 2 ,
The solder alloy in the component (E) contains at least one selected from the group consisting of tin, copper, zinc, silver, antimony, lead, indium, bismuth, nickel, gold, cobalt and germanium.
solder composition.
請求項または請求項に記載のはんだ組成物を用いてはんだ付けを行う電子基板の製造方法であって、
前記はんだ組成物上に電子部品を配置し、リフロー炉により加熱するリフロー工程を備え、
前記リフロー工程における溶融温度の到達時間が330秒間以上である、電子基板の製造方法。
A method for manufacturing an electronic substrate for soldering using the solder composition according to claim 2 or 3 ,
A reflow step of placing an electronic component on the solder composition and heating it in a reflow furnace,
A method for manufacturing an electronic substrate, wherein the time to reach the melting temperature in the reflow step is 330 seconds or longer.
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