JP7242567B2 - ヒータへの電力を制御するシステム及び方法 - Google Patents
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Description
異なるタイプの負荷、ヒータ、及び性能基準に適応する異なる状態モデル制御プログラムが作成され得る。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]
少なくとも1つの加熱素子を含むヒータを制御する制御システムであり、前記制御システムは、
前記ヒータに調整可能な電圧出力を供給するように動作可能な電力コンバータであって、電源からの電圧入力を前記電圧入力以下の電圧出力に変換するように構成される前記電力コンバータと、
前記ヒータの加熱素子の電気的特性を測定するように構成されたセンサ回路であって、前記電気的特性は、電流および電圧の少なくとも一方を含む前記センサ回路と、
前記ヒータの基準の基準温度を測定する基準温度センサと、及び、
前記電力コンバータを操作して前記ヒータへの前記電圧出力を制御するように構成されたコントローラと、
を備え、
前記コントローラは、前記電気的特性に基づいて前記加熱素子の一次温度を計算し、前記基準温度と前記一次温度の少なくとも一方に基づいて、前記ヒータに印加される前記電圧出力を決定し、
前記コントローラは、操作モードと学習モードの少なくとも1つで動作し、前記ヒータに前記電圧出力が供給されている時に1つ以上の保護プロトコルを実行するように構成される、制御システム。
[2]
前記コントローラは、前記基準温度と前記一次温度との差が予め設定された閾値よりも大きいことに応じて、前記ヒータへの電力を低減または遮断するように構成される、[1]に記載の制御システム。
[3]
前記基準温度センサは、赤外線カメラ、熱電対、および抵抗温度検出器のうちの1つである、[1]に記載の制御システム。
[4]
前記学習モードにおいて、前記コントローラは、前記ヒータを操作して、前記加熱素子の温度を前記ヒータに配置された負荷の温度に関連付けるヒータ-負荷相関データを生成するように構成される、[1]に記載の制御システム。
[5]
前記学習モードにおいて、前記コントローラは、前記ヒータへの電力を徐々に増加させて、前記ヒータにより生成される熱を増加させ、複数の一次温度を決定し、前記一次温度を前記基準温度センサによって検出されるそれぞれの基準温度と相関させて、ヒータ負荷相関データを生成するように構成される、[4]に記載の制御システム。
[6]
前記コントローラは、前記電力が増加している期間に亘って、前記一次温度および前記基準温度の変化をマッピングするように構成される、[5]に記載の制御システム。
[7]
前記基準温度センサは、前記ヒータ上に配置された負荷および前記ヒータの表面の少なくとも一方の温度を測定するように構成される、[1]に記載の制御システム。
[8]
前記操作モードにおいて、前記コントローラは、ブースト補償を実行して、前記加熱素子が熱を生成して前記基準を所定の設定点温度まで加熱するレートを増加させる、[1]に記載の制御システム。
[9]
前記コントローラは、前記電気的特性に基づいて各加熱素子の一次温度を決定し、隣接ゾーンについて、前記一次温度に基づいて前記隣接ゾーンの一つ以上の加熱素子に供給される電力を調整して、ヒータ全体の温度変動を制御するように構成される、[1]に記載の制御システム。
[10]
前記コントローラは、隣接するゾーンの温度よりも高い温度を有する1つのゾーンに応じて、前記1つのゾーンへの電力を低減するように構成される、[9]に記載の制御システム。
[11]
前記操作モードにおいて、前記コントローラは、前記基準温度及び前記一次温度の少なくとも1つに基づいて、前記ヒータの動作状態として、複数の所定の状態モデル制御の中から、1つの状態モデル制御を選択するように構成される、[1]に記載の制御システム。
[12]
前記複数の所定の状態モデル制御は、パワーアップ制御、ソフトスタート制御、設定レート制御、および定常状態制御のうちの少なくとも1つを含む、[11]に記載の制御システム。
[13]
前記状態モデル制御のそれぞれは、それぞれの状態モデル制御のためのヒータを制御するために、1つ以上の操作設定を定義する、[11]に記載の制御システム。
[14]
前記1つ以上の操作設定は、前記操作状態を終了して他の1つの状態モデル制御へ遷移する条件を定義する遷移条件を含む、[13]に記載の制御システム。
[15]
ヒータと、
[1]に記載の制御システムと、
を備える熱システム。
Claims (14)
- 少なくとも1つの加熱素子を含むヒータを制御する制御システムであり、前記制御システムは、
前記ヒータに調整可能な電圧出力を供給するように動作可能な電力コンバータであって、電源からの電圧入力を前記電圧入力以下の電圧出力に変換するように構成される前記電力コンバータと、
前記ヒータの加熱素子の電気的特性を測定するように構成されたセンサ回路であって、前記電気的特性は、電流および電圧の少なくとも一方を含む前記センサ回路と、
前記ヒータの基準領域の基準温度を測定する基準温度センサと、及び、
前記電力コンバータを操作して前記ヒータへの前記電圧出力を制御するように構成されたコントローラと、
を備え、
前記コントローラは、複数のモードで動作し、前記複数のモードは、操作モード及び学習モードを含み、
前記学習モードでは、前記コントローラは、前記ヒータを駆動して、ヒータ-負荷相関データを作成し、前記ヒータ-負荷相関データは、前記加熱素子の一次温度を前記基準温度に関連づけたものであり、
前記操作モードの際に、前記コントローラは、
前記電気的特性に基づいて前記加熱素子の前記一次温度を計算し、
前記基準温度と前記一次温度の少なくとも一方に基づいて、前記ヒータに印加される前記電圧出力を決定し、
前記ヒータに前記電圧出力が供給されている時に、1つ以上の保護プロトコルを実行する、制御システム。 - 前記コントローラは、前記基準温度と前記一次温度との差が予め設定された閾値よりも大きいことに応じて、前記ヒータへの電力を低減または遮断するように構成される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記基準温度センサは、赤外線カメラ、熱電対、および抵抗温度検出器のうちの1つである、請求項1に記載の制御システム。
- 前記学習モードにおいて、前記コントローラは、前記ヒータへの電力を徐々に増加させて、前記ヒータにより生成される熱を増加させ、複数の一次温度を決定し、前記一次温度を前記基準温度センサによって検出されるそれぞれの基準温度と相関させて、ヒータ負荷相関データを生成するように構成される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記コントローラは、前記電力が増加している期間に亘って、前記一次温度および前記基準温度の変化をマッピングするように構成される、請求項4に記載の制御システム。
- 前記基準温度センサは、前記ヒータ上に配置された負荷および前記ヒータの表面の少なくとも一方の温度を測定するように構成される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記操作モードにおいて、前記コントローラは、ブースト補償を実行して、所定の設定点温度まで、負荷が加熱される時間のレートを増加させる、請求項1に記載の制御システム。
- 前記少なくとも1つの加熱素子は、所望のゾーンに設けられ、少なくとも1つの追加加熱素子は、前記所望のゾーンに隣接する1つ以上のゾーンに設けられ、
前記コントローラは、前記電気的特性に基づいて、前記所望のゾーンの少なくとも1つの加熱素子のそれぞれの一次温度を決定するように構成され、前記隣接するゾーンについて、前記コントローラは、前記一次温度に基づいて、前記隣接するゾーンの一つ以上の前記追加加熱素子に供給される電力を調整して、ヒータ全体の温度変動を制御するように構成される、請求項1に記載の制御システム。 - 前記コントローラは、前記隣接する1つ以上のゾーンのうち、隣接するゾーンの温度よりも高い温度を有する1つのゾーンに応じて、前記1つのゾーンへの電力を低減するように構成される、請求項8に記載の制御システム。
- 前記操作モードにおいて、前記コントローラは、前記基準温度及び前記一次温度の少なくとも1つに基づいて、前記ヒータの動作状態として、複数の所定の状態モデル制御の中から、1つの状態モデル制御を選択するように構成される、請求項1に記載の制御システム。
- 前記複数の所定の状態モデル制御は、パワーアップ制御、ソフトスタート制御、設定レート制御、および定常状態制御のうちの少なくとも1つを含む、請求項10に記載の制御システム。
- 前記状態モデル制御のそれぞれは、それぞれの状態モデル制御のためのヒータを制御するために、1つ以上の操作設定を定義する、請求項10に記載の制御システム。
- 前記1つ以上の操作設定は、前記動作状態を終了して他の1つの状態モデル制御へ遷移する条件を定義する遷移条件を含む、請求項12に記載の制御システム。
- ヒータと、
請求項1に記載の制御システムと、
を備える熱システム。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20240168048A (ko) * | 2023-05-22 | 2024-11-29 | 김현우 | 세라믹 히터의 온도 제어 방법 및 장치 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12334316B2 (en) * | 2020-04-21 | 2025-06-17 | Hitachi High-Tech Corporation | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
| WO2022027003A1 (en) * | 2020-07-27 | 2022-02-03 | Watlow Electric Manufacturing Company | Systems and methods for using intermediate data to improve system control and diagnostics |
| US11769658B2 (en) * | 2020-07-28 | 2023-09-26 | Trojan Technologies Group Ulc | Lamp with temperature control |
| US12225635B2 (en) * | 2020-08-12 | 2025-02-11 | Watlow Electric Manufacturing Company | Method and system for providing variable ramp-up control for an electric heater |
| CN112512138B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-04-08 | 珠海格力电器股份有限公司 | 加热器及其控制方法、用电器 |
| TWI841942B (zh) * | 2021-07-09 | 2024-05-11 | 日商歐姆龍股份有限公司 | 異常判定裝置、異常判定方法以及異常判定系統 |
| JP7847550B2 (ja) * | 2023-02-16 | 2026-04-17 | 愛三工業株式会社 | 熱交換装置 |
| KR102821396B1 (ko) * | 2023-07-18 | 2025-06-17 | 주식회사 제이오텍 | Sic 히터의 구동 제어 시스템 |
| CN116759347B (zh) * | 2023-08-17 | 2023-12-12 | 浙江求是创芯半导体设备有限公司 | 外延工艺的控制方法及控制装置、半导体加工设备 |
| CN117572912B (zh) * | 2024-01-16 | 2024-04-09 | 南京实点电子科技有限公司 | 基于运行环境的多信道协调温度控制方法 |
| CN119854989B (zh) * | 2025-03-19 | 2025-06-24 | 中山市合硕高品电器有限公司 | 一种烹饪区域可调的控制方法及系统 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001128361A (ja) | 1999-10-22 | 2001-05-11 | Tokyo Electron Ltd | 電源装置、加熱処理装置、電圧制御方法及び温度制御方法 |
| JP2001523041A (ja) | 1997-11-06 | 2001-11-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | セラミックウェハ支持ペデスタル内の温度勾配を減少する装置と方法 |
| US20130287377A1 (en) | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Applied Materials, Inc. | Direct current lamp driver for substrate processing |
| JP2014522565A (ja) | 2011-05-20 | 2014-09-04 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プロセスチャンバ内の複数区域ヒータの温度を制御するための方法および装置 |
| US20160345384A1 (en) | 2015-05-22 | 2016-11-24 | Applied Materials, Inc. | Azimuthally tunable multi-zone electrostatic chuck |
Family Cites Families (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1425917A (en) * | 1972-08-19 | 1976-02-25 | Solartron Electronic Group | Rms converter |
| JPS59103292A (ja) * | 1982-12-03 | 1984-06-14 | 三洋電機株式会社 | 誘導加熱調理器 |
| US4788398A (en) * | 1987-09-30 | 1988-11-29 | General Electric Company | Temperature sensor failure detection arrangement using a heater energy counter |
| DE19548909A1 (de) | 1995-12-27 | 1997-07-03 | Siemens Ag | Verfahren zur Regelung eines verzögerungsbehafteten Prozesses mit Ausgleich sowie Regeleinrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| JP3986598B2 (ja) * | 1996-10-08 | 2007-10-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板温度制御機構 |
| US6084224A (en) * | 1997-03-03 | 2000-07-04 | Chrysler Corporation | In-situ closed loop temperature control for induction tempering |
| GB2325533B (en) * | 1997-05-22 | 2001-08-08 | Ceramaspeed Ltd | Method and apparatus for controlling an electric heater |
| JPH11174895A (ja) * | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Canon Inc | 画像形成装置の定着装置および制御方法並びに定着制御プログラムを記録した記録媒体 |
| JPH11345030A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-14 | Komatsu Ltd | ゾーン分割ヒータの温度制御装置 |
| JP2000339039A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-12-08 | Tokyo Electron Ltd | 加熱手段の温度制御方法、その装置及び熱処理装置 |
| JP2001085339A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-30 | Toshiba Mach Co Ltd | 温度制御方法 |
| WO2001052602A1 (en) * | 2000-01-13 | 2001-07-19 | Electric Power Research Institute, Inc. | Apparatus and method for inductive heating |
| GB2358971B (en) * | 2000-02-01 | 2005-02-23 | Strix Ltd | Electric heaters |
| JP3497450B2 (ja) | 2000-07-06 | 2004-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | バッチ式熱処理装置及びその制御方法 |
| JP2002130961A (ja) | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置の校正方法及び熱処理装置の数学モデル生成・校正方法 |
| JP4241737B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2009-03-18 | 株式会社デンソー | ガス濃度センサのヒータ制御装置 |
| US7666052B2 (en) * | 2001-10-01 | 2010-02-23 | Lionel L.L.C. | Variable-heat smoke unit for model vehicle |
| US7015439B1 (en) * | 2001-11-26 | 2006-03-21 | Illinois Tool Works Inc. | Method and system for control of on-site induction heating |
| US6783080B2 (en) * | 2002-05-16 | 2004-08-31 | Advanced Thermal Sciences Corp. | Systems and methods for controlling temperatures of process tools |
| JP4737233B2 (ja) | 2002-08-09 | 2011-07-27 | オムロン株式会社 | 温度調節器および熱処理装置 |
| AU2003265567B2 (en) * | 2002-08-21 | 2007-08-02 | Watlow Electric Manufacturing Company | Variable wattage control system |
| JP3824984B2 (ja) * | 2002-09-06 | 2006-09-20 | 三菱電機株式会社 | 排気ガスセンサの温度制御装置 |
| JP4384538B2 (ja) | 2003-06-16 | 2009-12-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| US7196295B2 (en) | 2003-11-21 | 2007-03-27 | Watlow Electric Manufacturing Company | Two-wire layered heater system |
| JPWO2006019056A1 (ja) * | 2004-08-19 | 2008-05-08 | 株式会社国際電気セミコンダクターサービス | 供給電力調節装置、半導体製造装置、ヒータへの電力制御方法、及び半導体装置の製造方法 |
| US8236255B2 (en) * | 2004-12-02 | 2012-08-07 | Lab Vision Corporation | Slide treatment apparatus and methods for use |
| DE102005010470A1 (de) * | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Ilse Talle | Inverter als Stromzuführungselement mit einer Technologie für Schutzkleinspannung zur Beheizung von Flächenwiderstands-Heizsystemen |
| KR20070051605A (ko) * | 2005-12-15 | 2007-05-18 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 베이킹 장치 |
| US7932480B2 (en) * | 2006-04-05 | 2011-04-26 | Mks Instruments, Inc. | Multiple heater control system with expandable modular functionality |
| JP4391518B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2009-12-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度制御方法、調整装置、温度調節器、プログラム、記録媒体および加熱処理装置 |
| US20080228308A1 (en) | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Limited | Critical dimension uniformity optimization |
| US7848840B2 (en) * | 2008-01-04 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Method of controlling process parameters for semiconductor manufacturing apparatus |
| US8770152B2 (en) | 2008-10-21 | 2014-07-08 | Honeywell International Inc. | Water Heater with partially thermally isolated temperature sensor |
| JP2010116081A (ja) | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Autonetworks Technologies Ltd | 水分除去装置 |
| US8389908B2 (en) * | 2009-02-10 | 2013-03-05 | Honeywell International Inc. | Systems and methods for sourcing a heater |
| US8422870B2 (en) * | 2009-02-13 | 2013-04-16 | General Electric Company | Residential heat pump water heater |
| CN101726034A (zh) * | 2009-12-15 | 2010-06-09 | 青岛福润德自动化技术有限公司 | 电磁温控供热系统 |
| KR101036542B1 (ko) * | 2010-01-12 | 2011-05-24 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조 장치용 히터 시스템 |
| US8548312B2 (en) * | 2010-02-19 | 2013-10-01 | Applied Materials, Inc. | High efficiency high accuracy heater driver |
| WO2012165174A1 (ja) | 2011-06-01 | 2012-12-06 | シャープ株式会社 | 抵抗加熱ヒータの劣化検出装置および方法 |
| AU2012301903B2 (en) | 2011-08-30 | 2015-07-09 | Watlow Electric Manufacturing Company | High definition heater system having a fluid medium |
| US9008528B2 (en) * | 2011-12-13 | 2015-04-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Induction heating fusing device and image forming apparatus |
| JP2013161857A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置及び熱処理装置の制御方法 |
| JP6034231B2 (ja) | 2012-07-25 | 2016-11-30 | 株式会社Kelk | 半導体製造装置用温度調整装置、半導体製造におけるpid定数演算方法、及び半導体製造装置用温度調整装置の運転方法 |
| CN202975799U (zh) * | 2012-12-12 | 2013-06-05 | 潍柴动力股份有限公司 | 一种进气加热系统故障诊断系统 |
| JP6009976B2 (ja) * | 2013-03-07 | 2016-10-19 | 株式会社東芝 | エネルギー管理システム、エネルギー管理方法、プログラムおよびサーバ |
| US20160352322A1 (en) * | 2013-07-31 | 2016-12-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Digital pulse width modulation control for load switch circuits |
| DE102013109155A1 (de) * | 2013-08-23 | 2015-02-26 | Aixtron Se | Substratbehandlungsvorrichtung |
| US20150330648A1 (en) * | 2014-05-19 | 2015-11-19 | Lennox Industries Inc. | Hvac system, an hvac controller and a method of heating an lcd display of an hvac controller |
| KR102026964B1 (ko) | 2014-06-16 | 2019-09-30 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 및 기판처리장치의 온도제어방법 |
| CN104198527B (zh) * | 2014-09-28 | 2016-05-18 | 广电计量检测(武汉)有限公司 | 车厢传热系数测试系统以及车厢内温度控制系统 |
| JP5795822B2 (ja) | 2014-12-08 | 2015-10-14 | カルソニックカンセイ株式会社 | 温水加熱装置 |
| US9871379B2 (en) * | 2015-02-18 | 2018-01-16 | Cyboenergy, Inc. | Smart microgrids and dual-output off-grid power inverters with DC source flexibility |
| JP6442339B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2018-12-19 | 株式会社Screenホールディングス | 熱処理装置および熱処理方法 |
| TW201717247A (zh) * | 2015-06-02 | 2017-05-16 | 蘭姆研究公司 | 電漿處理系統之大動態範圍射頻電壓感測器及電壓模式射頻偏壓施加方法 |
| TWI606242B (zh) * | 2015-09-17 | 2017-11-21 | 旺矽科技股份有限公司 | 溫度控制系統及其方法 |
| US9812342B2 (en) | 2015-12-08 | 2017-11-07 | Watlow Electric Manufacturing Company | Reduced wire count heater array block |
| CN105627582A (zh) * | 2016-03-24 | 2016-06-01 | 苏州路之遥科技股份有限公司 | 一种基于物联网技术的终端感温电热水器 |
-
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-
2023
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-
2024
- 2024-10-31 JP JP2024191344A patent/JP7771330B2/ja active Active
-
2025
- 2025-11-05 JP JP2025186069A patent/JP2026027339A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001523041A (ja) | 1997-11-06 | 2001-11-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | セラミックウェハ支持ペデスタル内の温度勾配を減少する装置と方法 |
| JP2001128361A (ja) | 1999-10-22 | 2001-05-11 | Tokyo Electron Ltd | 電源装置、加熱処理装置、電圧制御方法及び温度制御方法 |
| JP2014522565A (ja) | 2011-05-20 | 2014-09-04 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プロセスチャンバ内の複数区域ヒータの温度を制御するための方法および装置 |
| US20130287377A1 (en) | 2012-04-25 | 2013-10-31 | Applied Materials, Inc. | Direct current lamp driver for substrate processing |
| US20160345384A1 (en) | 2015-05-22 | 2016-11-24 | Applied Materials, Inc. | Azimuthally tunable multi-zone electrostatic chuck |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20240168048A (ko) * | 2023-05-22 | 2024-11-29 | 김현우 | 세라믹 히터의 온도 제어 방법 및 장치 |
| KR102849173B1 (ko) | 2023-05-22 | 2025-08-21 | 김현우 | 세라믹 히터의 온도 제어 방법 및 장치 |
Also Published As
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