JP7260811B2 - 表面処理剤 - Google Patents

Description

本開示は、表面処理剤および該表面処理剤で形成された層を有する物品に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。

特開２０１４－２１８６３９号公報

特許文献１に記載の含フッ素シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い摩擦耐久性および耐薬品性を有する表面処理層が求められている。

本開示は、摩擦耐久性、耐薬品性がより高い表面処理層を形成できるフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 下記式（Ｉ）：
Ｒ^Ｆ１－Ｒ^４－（ＯＲ^３）_ｍ－Ｒ^５－ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３－ｎ （Ｉ）
［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｐ－であり；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ－ＳｉＲ^１１ _ｑＲ^１２ _３－ｑであり；
Ｚは、２価の有機基であり；
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑは、１～３の整数であり；
Ｒ^２は、水素原子または１価の有機基であり；
ｎは、２または３であり；
Ｒ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基であり；
ｍは、２～１０の整数であり；
Ｒ^４は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^５は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［２］ Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基である、上記［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］ Ｒ^Ｆは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、上記［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［４］ Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［３］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０または１である。］、
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２～１００の整数である。］、
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］ Ｒ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］ ｍは、２～６の整数である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］ Ｚは、Ｃ_１－６アルキレン基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］ ｑは３である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］ 上記［１］～［９］のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１１］ 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［１０］に記載の表面処理剤。
［１２］ さらに溶媒を含む、上記［１０］または［１１］に記載の表面処理剤。
［１３］ 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、上記［１０］～［１２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１４］ 真空蒸着用である、上記［１０］～［１３］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１５］ 上記［１０］～［１４］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１６］ 基材と、該基材の表面に、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または上記［１０］～［１４］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］ 光学部材である、上記［１６］に記載の物品。

本開示によれば、より良好な摩擦耐久性および耐薬品性を有する表面処理層を有する物品を提供することができる。

以下、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物について説明する。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ｉ）：
Ｒ^Ｆ１－Ｒ^４－（ＯＲ^３）_ｍ－Ｒ^５－ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３－ｎ （Ｉ）
［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｐ－であり；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
Ｒ^１は、－Ｚ－ＳｉＲ^１１ _ｑＲ^１２ _３－ｑであり；
Ｚは、２価の有機基であり；
Ｒ^１１は、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、水素原子または１価の有機基であり；
ｑは、１～３の整数であり；
Ｒ^２は、水素原子または１価の有機基であり；
ｎは、２または３であり；
Ｒ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基であり；
ｍは、２～１０の整数であり；
Ｒ^４は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^５は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。

本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、Ｒ^Ｆ１とＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３－ｎとの間に－（ＯＲ^３）_ｍ－を有することにより、より高い摩擦耐久性および耐薬品性を有する表面処理層を形成することができる。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式において、Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。

上記Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であり得る。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ５）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０または１である。］；
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）におけるＯＣ_３Ｆ_６は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）または（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））であり、より好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_２Ｆ_４）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）または（ＯＣＦ（ＣＦ_３））であり、より好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^１は、－Ｚ－ＳｉＲ^１１ _ｑＲ^１２ _３－ｑである。

上記式中、Ｚは、２価の有機基である。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚは、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚは、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚは、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

上記式中、ｑは、（ＳｉＲ^１１ _ｑＲ^１２ _３－ｑ）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３、より好ましくは３である。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^２は、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

上記式（Ｉ）において、ｎは、２または３である。一の態様において、ｎは２である。別の態様において、ｎは３である。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基である。

Ｒ^３において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

上記Ｒ^３は、好ましくはＣ_１－４アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくは－ＣＨ_２ＣＨ_２－である。Ｒ^３を上記のものとすることにより、基材密着性及び濡れ性が向上し得る。

Ｒ^３において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

上記式（Ｉ）において、ｍは、２～１０の整数であり、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～４の整数である。ｍを上記の範囲にすることにより、基材密着性及び濡れ性が向上し得る。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^４は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基である。

Ｒ^４において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

上記Ｒ^４は、好ましくはＣ_１－６アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくはメチレン基である。

上記式（Ｉ）において、Ｒ^５は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基である。

Ｒ^５において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

上記Ｒ^５は、好ましくはＣ_１－６アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくはメチレン基である。

上記式（Ｉ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量をいい、「平均分子量」は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

上記式（Ｉ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、自体公知の方法により、例えばフルオロポリエーテル基含有アルコールから製造することができる。

次に、本発明の表面処理剤について説明する。

本開示の表面処理剤は、式（Ｉ）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。

本開示の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、摩擦耐久性、耐薬品性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

一の態様において、含フッ素シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

一の態様において、含フッ素シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記アルコール類としては、例えば１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。

上記アルコール類は、表面処理剤中、上記金属化合物に対して、モル比で、好ましくは０．１～５倍、より好ましくは０．５～３倍、さらに好ましくは０．８～１．２倍の量で含まれる。アルコール類の含有割合を上記の範囲とすることにより、表面処理層の安定性をより向上させることができる。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本開示の含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の化合物または表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の化合物または表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩擦耐久性と高い耐薬品性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩擦耐久性および耐薬品性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示の物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品および物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本開示のポリエーテル基含有化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。

（合成例１）
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２１、ｎ≒３５）３．０ｇを、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１．５ｇとジエチレングリコールジメチルエーテル３．０ｇに溶解させた。これに水酸化ナトリウム０．４ｇを加え、８０℃で２時間撹拌し、ブロモ酢酸０．３ｇを激しく撹拌しながら加えた後、さらに１１０℃で８時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎＣＨ_２ＯＨの水酸基β位－ＣＦ_２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および^１Ｈ－ＮＭＲによってブロモ酢酸のカルボニル基α位のメチレンプロトンが高磁場にシフトしたことを観察することにより確認した。反応液を室温に冷却し、液相と固相とを分離させた。液相を除去し、固相に１０ｇのＡＫ－２２５を加え、撹拌しながら１０ｇの１Ｎ－塩酸水溶液を加えて３０分撹拌した。次いで、１０ｗｔ％硫酸水溶液１ｍｌを加え、２０分間撹拌後、静置し、下層を分離した。下層を２回水洗後、硫酸マグネシウムにて乾燥し、濾過し、濃縮した。得られた濃縮物をパーフルオロヘキサンに溶解した。該溶液をアセトンで３回洗浄することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ａ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｎＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２ＣＯ_２Ｈ
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例２）
水素化ホウ素ナトリウム０．２ｇと、トリフルオロホウ素ジエチルエーテレート０．２ｇを、１，３-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン３．０ｇとジエチレングリコールジメチルエーテル３．０ｇの混合溶媒に分散し、１３０℃に加熱した。この混合物に１，３-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン５．０ｇに溶解した合成例１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ａ）３．０ｇを滴下した。反応混合液を１３０℃で３時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ_３Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ－のエーテル基β位―ＣＦ_２―のケミカルシフトが高磁場にシフトしたことを観察することにより確認した。反応液を室温に戻し、アセトン３．０ｇを加え１時間撹拌し、１Ｎ－塩酸３ｍｌを加えた。分液した下層を水洗し、硫酸マグネシウムにて乾燥し、濾過し、濃縮した。得られた濃縮物はパーフルオロヘキサンに溶解し、アセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｂ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例３）
合成例２で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｂ）３．０ｇを、１，３-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン６ｇに溶解し、水酸化ナトリウム０．４ｇを加え、８０℃で１時間撹拌した。この溶液にＣＨ_２＝ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＴｆ（Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基）０．５ｇを加え、８０℃で１時間反応した。反応の終点は^１Ｈ－ＮＭＲによって化合物（Ｂ）の末端水酸基α位―ＣＨ_２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたことを観察することにより確認した。反応液を室温に戻し、１Ｎ－塩酸３ｍｌを加えた。分液した下層を水洗し硫酸マグネシウムにて乾燥し、濾過し、濃縮することによりポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例４）
合成例３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｃ）２．５ｇを、１，３-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン５ｇに溶解し、トリアセトキシメチルシラン０．０１ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体２％を含むキシレン溶液０．０４ｍｌを加えた後、トリクロロシラン０．４ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、６０℃に加熱し、４時間撹拌した。^１Ｈ－ＮＭＲでアリル位のプロトンが観測されなくなったことを確認した後、減圧下で揮発分を留去した。この反応液を氷冷しアリルマグネシウムブロマイド（０．７ｍｏｌ／Ｌジエチルエーテル溶液）３．０ｍｌを滴下し、室温で終夜反応させた。反応液に、メタノール１．０ｍｌとパーフルオロヘキサン５ｍｌを加え濾過し、分液して、下層を濃縮した。得られた濃縮物をパーフルオロヘキサンに溶解し、アセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｄ）得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例５）
合成例４で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｄ）２．５ｇを、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５ｍｌに溶解し、トリアセトキシメチルシラン０．０１ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体２％を含むキシレン溶液０．０３ｍｌを加えた後、トリクロロシラン０．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、６０℃に加熱し、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル１．０ｇの混合溶液を加えた後、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｅ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例６）
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２１、ｎ≒３５）３．０ｇを用いた以外は合成例３と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）ｍ（ＯＣＦ_２）ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２
（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例７）
ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）２．５ｇを用いた以外は合成例４と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例８）
ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）２．５ｇを用いた以外は合成例５と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

（合成例９）
メチルジクロロシランを用いた以外は合成例７および合成例８と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）

（合成例１０）
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒２１）４．０ｇを、１，３-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン８ｇに溶解し、水酸化ナトリウム０．４ｇを加え８０℃で１時間撹拌した。この溶液にＣＨ_２＝ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＴｆ１．０ｇを加え８０℃で１時間反応した。反応の終点は^１Ｈ－ＮＭＲによって化合物（Ｂ）の末端水酸基α位―ＣＨ_２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を室温に戻し１Ｎ－塩酸３ｍｌを加えた。分液した下層を水洗し硫酸マグネシウムにて乾燥、濾過、濃縮することによりポリエーテル基含有化合物（Ｊ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２
（ｍ≒２２、ｎ≒２１）

（合成例１１）
ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）２．５ｇを用いた以外は合成例４および合成例５と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）

（ｍ≒２２、ｎ≒２１）

（合成例１２）
ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒２１）３．０ｇを用いた以外は合成例６、合成例７および合成例８と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）

（ｍ≒２２、ｎ≒２１）

（合成例１３）
メチルジクロロシランを用いた以外は合成例１２と同様に処理することにより、ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）

（ｍ≒２２、ｎ≒２１）

（実施例１）
上記合成例５で得たポリエーテル基含有化合物（Ｅ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。

（実施例２）
上記合成例７で得たポリエーテル基含有化合物（Ｈ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。

（実施例３）
上記合成例８で得たポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。

（実施例４）
上記合成例１１で得たポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。

（実施例５）
上記合成例１２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｌ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（５）を調製した。

（実施例６）
上記合成例１３で得たポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を、濃度０．１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（６）を調製した。

（比較例１および２）
ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）の代わりに、下記対照化合物（１）および（２）を用いた以外は、実施例２と同様に行い、比較表面処理剤（１）および（２）をそれぞれ調製した。

対照化合物（１）

対照化合物（２）

（硬化膜の形成）
表面処理剤（１）～（６）、および比較表面処理剤（１）～（２）をそれぞれ用いて、以下のように硬化膜を形成した。
表面処理剤または比較表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。

［硬化膜の特性評価］
得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。

＜静的接触角＞
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。

（静的接触角の測定方法）
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。

（初期評価）
まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。

（エタノール拭き後の評価）
次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。

＜指紋付着性および拭き取り性＞
（指紋付着性）
表面処理剤または比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。

（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。

上記の一連の評価結果を以下の表１にまとめた。

表面処理剤（１）～（６）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）および（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）または（２）で形成された硬化膜では、ケミカル耐性（耐溶剤性）が悪いためと考えられる。

＜硬化膜の耐摩耗性評価＞
得られた硬化膜の耐摩耗性を以下のように評価した。

（耐消しゴム摩耗性試験）
ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に耐水接触角を測定し、１００００回もしくは１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨである。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

上記の評価結果を以下の表２にまとめた。

上記の結果から、フルオロポリエーテル基と加水分解性基を有するＳｉ原子との間にポリエーテル構造を有する本発明の化合物を含む表面処理剤は、高い摩耗耐久性を示すことが確認された。

本開示の物品は、種々多様な用途、例えばタッチパネル等の光学部材として好適に利用され得る。

Claims (14)

1. 下記式（Ｉ）：
   Ｒ^Ｆ１－Ｒ^４－（ＯＲ^３）_ｍ－Ｒ^５－ＳｉＲ^１ _ｎＲ^２ _３－ｎ （Ｉ）
   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｐ－であり；
   Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
   Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｐは、０または１であり；
   Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ－ＳｉＲ^１１ _ｑＲ^１２ _３－ｑであり；
   Ｚは、Ｃ _１－６ アルキレン基であり；
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または－ＯＲ ^ｈ 、－ＯＣＯＲ ^ｈ 、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ ^ｈ _２ 、－ＮＲ ^ｈ _２ 、－ＮＨＲ ^ｈ 、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ ^ｈ は、置換または非置換のＣ _１－４ アルキル基を示す）であり；
   Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の炭化水素基またはその誘導体であり；
   ｑは、１～３の整数であり；
   Ｒ^２は、水素原子または１価の炭化水素基またはその誘導体であり；
   ｎは、２または３であり；
   Ｒ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基であり；
   ｍは、２～６の整数であり；
   Ｒ^４は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基であり；
   Ｒ^５は、単結合またはＣ_１－６アルキレン基である。］
   で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
2. Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
3. Ｒ^Ｆは、式：
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
   ［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子または塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅおよびｆの少なくとも１つは、１以上である。］
   で表される基である、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
4. Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項３に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
5. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
   －（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
   ［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０または１である。］、
   －（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
   ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
   ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
   ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
   添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
   ｇは、２～１００の整数である。］、
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
6. ｑは３である、請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
7. 請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
8. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項７に記載の表面処理剤。
9. さらに溶媒を含む、請求項７または８に記載の表面処理剤。
10. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項７～９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
11. 真空蒸着用である、請求項７～１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
12. 請求項７～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
13. 基材と、該基材の表面に、請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または請求項７～１１のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
14. 光学部材である、請求項１３に記載の物品。