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JP7263136B2 - Stretching device - Google Patents
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JP7263136B2 - Stretching device - Google Patents

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JP7263136B2 JP2019109265A JP2019109265A JP7263136B2 JP 7263136 B2 JP7263136 B2 JP 7263136B2 JP 2019109265 A JP2019109265 A JP 2019109265A JP 2019109265 A JP2019109265 A JP 2019109265A JP 7263136 B2 JP7263136 B2 JP 7263136B2
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    • B29C55/00Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
    • B29C55/02Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
    • B29C55/10Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial
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    • B29C55/16Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets multiaxial biaxial simultaneously

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  • Mechanical Engineering (AREA)
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Description

本発明は、延伸装置に関する。 The present invention relates to a drawing apparatus.

延伸装置においては、縦延伸と横延伸を行うことができ、これらを順番に行うことを逐次二軸延伸法といい、一度に行うことを同時二軸延伸法という。同時二軸延伸法は、逐次延伸法に比べ、スクラッチが発生しにくい、原料の適応範囲が広く、結晶化速度が速くても延伸可能である、物性の縦横均一性が高いなどのメリットがある。 In the stretching apparatus, longitudinal stretching and transverse stretching can be carried out, and carrying out these in order is called a sequential biaxial stretching method, and carrying out them at once is called a simultaneous biaxial stretching method. Compared to the sequential stretching method, the simultaneous biaxial stretching method has advantages such as less scratching, a wider range of raw materials, the ability to stretch even if the crystallization speed is high, and high uniformity of physical properties in the vertical and horizontal directions. .

例えば特開2014-180779号公報(特許文献1)には、延伸機に関する技術が記載されている。 For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-180779 (Patent Document 1) describes a technique related to a drawing machine.

特開2014-180779号公報JP 2014-180779 A

延伸装置を用いて薄膜を製造する際にも、製造コストを抑制することが望まれる。 When manufacturing a thin film using a stretching apparatus, it is desired to suppress the manufacturing cost.

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 Other problems and novel features will become apparent from the description of the specification and the accompanying drawings.

一実施の形態によれば、熱可塑性樹脂膜の延伸装置は、前記熱可塑性樹脂膜の搬送および延伸を行う一対のリンク装置と、前記一対のリンク装置の中央部を覆い、前記熱可塑性樹脂膜に熱処理を行うための熱処理部と、を含んでいる。前記一対のリンク装置のそれぞれは、支持台と、前記支持台上に配置された、平面視において環状の外側レールおよび前記外側レールの内周側に前記外側レールに対向するように配置された内側レールと、前記内側レールを第1のレール位置に位置決めするための第1の位置決め手段と、前記内側レールを第2のレール位置に位置決めするための第2の位置決め手段と、を有している。前記内側レールが前記第1のレール位置または前記第2のレール位置に配置されることで前記熱可塑性樹脂膜の延伸倍率を可変とすることができる。 According to one embodiment, the thermoplastic resin film stretching device includes a pair of link devices for conveying and stretching the thermoplastic resin film, and a central portion of the pair of link devices covering the thermoplastic resin film. and a heat treatment section for performing heat treatment on. Each of the pair of link devices includes a support base, an annular outer rail arranged on the support base in a plan view, and an inner side arranged on an inner peripheral side of the outer rail so as to face the outer rail. a rail, first positioning means for positioning the inner rail at a first rail position, and second positioning means for positioning the inner rail at a second rail position . By arranging the inner rail at the first rail position or the second rail position, the draw ratio of the thermoplastic resin film can be made variable.

一実施の形態によれば、延伸装置を用いて薄膜を製造する際に、製造コストを抑制することができる。 According to one embodiment, it is possible to reduce manufacturing costs when manufacturing a thin film using a stretching device.

一実施の形態における薄膜の製造システムの構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing the configuration of a thin film manufacturing system according to an embodiment; FIG. 図1に示される延伸装置の構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the stretching device shown in FIG. 1; 図2に示される延伸装置の平面透視図である。FIG. 3 is a plan perspective view of the stretching device shown in FIG. 2; 図3に示されるリンクおよびレールを模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing the link and rails shown in FIG. 3; 図3に示される複数のリンクのうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。FIG. 4 is an enlarged plan view showing one of the plurality of links shown in FIG. 3; 図5に示されるリンクのA1-A2線に沿った断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view along line A1-A2 of the link shown in FIG. 5; 図5に示されるリンクのA1-A3線に沿った断面図である。6 is a cross-sectional view along line A1-A3 of the link shown in FIG. 5; FIG. 一実施の形態の延伸装置におけるレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the arrangement positions of rails in the stretching device of one embodiment. 図8の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 9 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 8; 図8の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 9 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 8; 図8の状態からレールの配置位置を変更した場合のレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing the arrangement position of the rail when the arrangement position of the rail is changed from the state shown in FIG. 8; 図11の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 12 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 11; 図11の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 12 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 11; 図11の場合のリンクの断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view of the link in the case of FIG. 11; 検討例の延伸装置におけるレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing the arrangement positions of rails in the stretching device of the study example. 図15の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 16 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 15; 図15の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 16 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 15; 検討例の延伸装置におけるリンクの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a link in the stretching device of the study example; 他の実施の形態の延伸装置におけるレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the arrangement positions of rails in a stretching device of another embodiment; 図19の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 20 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 19; 図19の一部を拡大して示す部分拡大平面図である。FIG. 20 is a partially enlarged plan view showing an enlarged part of FIG. 19; 他の実施の形態の延伸装置におけるレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the arrangement positions of rails in a stretching device of another embodiment; 他の実施の形態の延伸装置におけるレールの配置位置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing the arrangement positions of rails in a stretching device of another embodiment;

以下、実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施の形態では、特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。 Hereinafter, embodiments will be described in detail based on the drawings. In addition, in all the drawings for describing the embodiments, members having the same functions are denoted by the same reference numerals, and repeated description thereof will be omitted. Also, in the following embodiments, the description of the same or similar parts will not be repeated in principle unless particularly necessary.

(実施の形態1)
<製造システムの全体構成について>
図1は、本実施の形態における薄膜の製造システムの構成を示す模式図である。
(Embodiment 1)
<Regarding the overall configuration of the manufacturing system>
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a thin film manufacturing system according to the present embodiment.

図1に示される本実施の形態の薄膜製造システム1は、押出装置(押出機、混練押出装置)2と、Tダイ(金型)3と、原反冷却装置4と、延伸装置(同時二軸延伸装置)5と、引取り装置(引取り機)6と、巻取り装置(巻取り機)7とを備えている。 A thin film manufacturing system 1 of the present embodiment shown in FIG. An axial stretching device) 5 , a take-up device (take-up device) 6 , and a winding device (winder) 7 are provided.

次に、薄膜製造システム1の動作の概略について説明する。 Next, an outline of the operation of the thin film manufacturing system 1 will be described.

まず、押出装置2の原料供給部(原料投入口)2aから押出装置2内に原料を供給する。押出装置2に供給される原料は、樹脂材料(熱可塑性樹脂材料、ペレット)および添加剤などからなる。押出装置2は、押出装置2に供給された原料を、混練(混合)しながら輸送(搬送)する。例えば、押出装置2内に供給された原料は、押出装置2内でスクリューの回転により前方へ送られながら溶融されて混練される。押出装置2内で混練された混練物(溶融樹脂)は、Tダイ3に供給されてTダイ3内を通過し、Tダイ3のスリットから原反冷却装置4に向かって押し出される。押出装置2からTダイ3に供給された混練物(溶融樹脂)は、Tダイ3を通過することにより所定の断面形状(ここではフィルム状)に成形されている。 First, the raw material is supplied into the extrusion device 2 from the raw material supply portion (raw material inlet) 2 a of the extrusion device 2 . The raw material supplied to the extrusion device 2 consists of a resin material (thermoplastic resin material, pellets), additives, and the like. The extruding device 2 transports (conveys) the raw materials supplied to the extruding device 2 while kneading (mixing) them. For example, the raw material supplied into the extruder 2 is melted and kneaded while being sent forward by the rotation of the screw within the extruder 2 . The kneaded material (molten resin) kneaded in the extruder 2 is supplied to the T-die 3 , passes through the T-die 3 , and is extruded through the slit of the T-die 3 toward the raw fabric cooling device 4 . The kneaded material (molten resin) supplied from the extruder 2 to the T-die 3 passes through the T-die 3 and is formed into a predetermined cross-sectional shape (here, a film shape).

Tダイ3から押し出された混練物(溶融樹脂)は、原反冷却装置4において冷却されて膜(シート、樹脂膜)8になる。膜8は、固化状態(固体状態)の膜である。より特定的には、膜8は、熱可塑性樹脂膜である。膜8は、延伸装置5に供給される。Tダイ3からは、成形された混練物(溶融樹脂)が連続的に押し出されるため、膜8は、延伸装置5に連続的に供給される。 The kneaded product (molten resin) extruded from the T-die 3 is cooled in the original fabric cooling device 4 to form a film (sheet, resin film) 8 . The film 8 is a film in a solid state (solid state). More specifically, membrane 8 is a thermoplastic resin membrane. The membrane 8 is fed to the stretching device 5 . Since the molded kneaded material (molten resin) is continuously extruded from the T-die 3 , the film 8 is continuously supplied to the stretching device 5 .

原反冷却装置4から延伸装置5に供給(搬送)された膜8は、延伸装置5によりMD方向およびTD方向に延伸される。延伸装置5で延伸処理(引き伸ばし処理)を施された膜8は、引取り装置6を介して巻取り装置7に搬送されて、巻取り装置7に巻き取られる。巻取り装置7に巻き取られた膜8は、必要に応じて切断機(図示せず)で切断される。 The film 8 supplied (conveyed) from the raw fabric cooling device 4 to the stretching device 5 is stretched in the MD direction and the TD direction by the stretching device 5 . The film 8 that has been stretched (stretched) by the stretching device 5 is conveyed to the winding device 7 via the take-up device 6 and wound up by the winding device 7 . The film 8 wound on the winding device 7 is cut by a cutter (not shown) as required.

このように、薄膜製造システム1を用いて薄膜を製造することができる。なお、図1に示される薄膜製造システム1は、一例であり、形成する薄膜の特性などに応じて、種々の変更が可能である。例えば、図1に示される引取り装置6の近傍に図示しない抽出層を設けておき、膜8中の可塑剤(例えば、パラフィンなど)を抽出槽で除去する場合もあり得る。 Thus, thin films can be manufactured using the thin film manufacturing system 1 . Note that the thin film manufacturing system 1 shown in FIG. 1 is merely an example, and various modifications are possible according to the characteristics of the thin film to be formed. For example, an extraction layer (not shown) may be provided near the take-up device 6 shown in FIG. 1, and the plasticizer (for example, paraffin) in the film 8 may be removed in an extraction tank.

本実施の形態における延伸装置5は、膜8をMD方向に搬送しながら、その膜8をMD方向およびTD方向に引き延ばす。MD(Machine Direction)方向は、膜の搬送方向であり、縦方向とも言う。また、TD(Transverse Direction)方向は、膜の搬送方向(ここではMD方向)と交差する方向であり、横方向とも言う。MD方向とTD方向とは、互いに交差する方向であり、より特定的には、互いに直交する方向である。互いに交差する二方向(ここではMD方向およびTD方向)に同時に膜を延伸させることが可能な延伸装置5は、同時二軸延伸装置と呼ばれる。 The stretching device 5 in the present embodiment stretches the film 8 in the MD direction and the TD direction while transporting the film 8 in the MD direction. The MD (Machine Direction) direction is the transport direction of the film, and is also called the vertical direction. Also, the TD (Transverse Direction) direction is a direction crossing the transport direction of the film (here, the MD direction), and is also referred to as the lateral direction. The MD direction and the TD direction are directions that cross each other, and more specifically, directions that are orthogonal to each other. A stretching device 5 capable of simultaneously stretching a film in two mutually intersecting directions (here, MD and TD) is called a simultaneous biaxial stretching device.

<延伸装置について>
次に、延伸装置5について説明する。図2は、図1に示される延伸装置5の構成を示す平面図である。図3は、延伸装置5の平面透視図であり、図2において、熱処理部19を透視した場合が示されている。図4は、延伸装置5におけるリンク11およびレール13,14を模式的に示す平面図であるが、図4の(a)には、レール13,14の間隔が大きい領域が示され、図4の(b)には、図4の(a)よりもレール13,14の間隔が小さい領域が示されている。図5は、図3に示される複数のリンク11のうちの一つを拡大して示す拡大平面図である。図6は、図5に示されるリンク11のA1-A2線に沿った断面図であり、図7は、図5に示されるリンク11のA1-A3線に沿った断面図である。
<About stretching equipment>
Next, the stretching device 5 will be described. FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the stretching device 5 shown in FIG. FIG. 3 is a perspective plan view of the stretching device 5, and in FIG. 2, the heat treatment section 19 is shown as seen through. FIG. 4 is a plan view schematically showing the link 11 and the rails 13 and 14 in the stretching device 5. FIG. (b) of FIG. 4 shows an area where the distance between the rails 13 and 14 is smaller than that of FIG. 4(a). FIG. 5 is an enlarged plan view showing one of the plurality of links 11 shown in FIG. 3 in an enlarged manner. 6 is a cross-sectional view of the link 11 shown in FIG. 5 along the line A1-A2, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the link 11 shown in FIG. 5 along the line A1-A3.

図2および図3に示されるように、延伸装置5は、平面視において、互いに離間して配置された一対のリンク装置10を有している。ここで、一対のリンク装置10のうち、一方をリンク装置10Rと称し、他方をリンク装置10Lと称することとする。図2および図3の場合は、搬送方向(MD方向)に対して右側(R側)にリンク装置10Rが配置され、搬送方向(MD方向)に対して左側(L側)にリンク装置10Lが配置されている。リンク装置10Rとリンク装置10Lとは、TD方向に離間しており、膜8を挟んでTD方向に対向している。膜8は、リンク装置10Rとリンク装置10Lとの間に配置され、リンク装置10Rとリンク装置10Lとの間においてMD方向に搬送される。リンク装置10Rとリンク装置10Lとの間の部分は、膜8を搬送するための搬送部として機能することができる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the stretching device 5 has a pair of link devices 10 spaced apart from each other in plan view. Here, one of the pair of link devices 10 is called the link device 10R, and the other is called the link device 10L. 2 and 3, the link device 10R is arranged on the right side (R side) with respect to the transport direction (MD direction), and the link device 10L is arranged on the left side (L side) with respect to the transport direction (MD direction). are placed. The link device 10R and the link device 10L are spaced apart in the TD direction and face each other in the TD direction with the film 8 interposed therebetween. The membrane 8 is arranged between the linking device 10R and the linking device 10L and transported in the MD direction between the linking device 10R and the linking device 10L. A portion between the linking device 10R and the linking device 10L can function as a transport section for transporting the membrane 8. As shown in FIG.

各リンク装置10(10R,10L)は、無端チェーンを構成するように連結された複数のリンク11と、その複数のリンク11にそれぞれ取り付けられた複数のクリップ12と、その複数のリンク11の移動経路となる一対のレール13,14と、その複数のリンク11を駆動するスプロケット16,17,18と、レール13,14を支持する支持台15と、を有している。 Each link device 10 (10R, 10L) includes a plurality of links 11 connected to form an endless chain, a plurality of clips 12 respectively attached to the plurality of links 11, and movement of the plurality of links 11. It has a pair of rails 13 and 14 that serve as paths, sprockets 16, 17 and 18 that drive the plurality of links 11, and a support base 15 that supports the rails 13 and 14.

ここで、リンク装置10Rを構成するリンク11をリンク11Rと称し、リンク装置10Lを構成するリンク11をリンク11Lと称することとする。また、リンク装置10Rを構成するクリップ12をクリップ12Rと称し、リンク装置10Lを構成するクリップ12をクリップ12Lと称することとする。また、リンク装置10Rを構成するレール13をレール13Rと称し、リンク装置10Rを構成するレール14をレール14Rと称し、リンク装置10Lを構成するレール13をレール13Lと称し、リンク装置10Lを構成するレール14をレール14Lと称することとする。また、リンク装置10Rを構成するスプロケット16,17,18を、それぞれスプロケット16R,17R,18Rと称し、リンク装置10Lを構成するスプロケット16,17,18を、それぞれスプロケット16L,17L,18Lと称することとする。また、リンク装置10Rを構成する支持台15を支持台15Rと称し、リンク装置10Lを構成する支持台15を支持台15Lと称することとする。 Here, the link 11 forming the link device 10R is called the link 11R, and the link 11 forming the link device 10L is called the link 11L. Also, the clip 12 forming the link device 10R is called a clip 12R, and the clip 12 forming the link device 10L is called a clip 12L. The rail 13 constituting the link device 10R is called a rail 13R, the rail 14 constituting the link device 10R is called a rail 14R, and the rail 13 constituting the link device 10L is called a rail 13L. The rail 14 will be referred to as rail 14L. The sprockets 16, 17 and 18 forming the link device 10R are called sprockets 16R, 17R and 18R, respectively, and the sprockets 16, 17 and 18 forming the link device 10L are called sprockets 16L, 17L and 18L, respectively. and Also, the support base 15 that constitutes the link device 10R will be referred to as a support base 15R, and the support base 15 that constitutes the link device 10L will be referred to as a support base 15L.

リンク装置10Rを構成する複数のリンク11Rのそれぞれにクリップ12Rが取り付けられ、リンク装置10Lを構成する複数のリンク11Lのそれぞれにクリップ12Lが取り付けられている。クリップ12(12R,12L)は、膜8を掴んで把持する部材(治具)であり、把持部材または掴み部材とみなすことができる。膜8は、リンク装置10Rの複数のクリップ12Rと、リンク装置10Lの複数のクリップ12Lとにより、把持される。すなわち、膜8の一方の端部(搬送方向に対して右側の端部)が、リンク装置10Rの複数のクリップ12Rにより把持され、膜8の他方の端部(搬送方向に対して左側の端部)が、リンク装置10Lの複数のクリップ12Lにより把持される。別の見方をすると、膜8は、リンク装置10Rの複数のリンク11Rと、リンク装置10Lの複数のリンク11Lとに、クリップ12(12R,12L)を介して把持される。 A clip 12R is attached to each of the plurality of links 11R that constitute the link device 10R, and a clip 12L is attached to each of the plurality of links 11L that constitute the link device 10L. The clip 12 (12R, 12L) is a member (jig) that grips and grips the membrane 8, and can be regarded as a gripping member or a grasping member. Membrane 8 is gripped by a plurality of clips 12R of linkage 10R and a plurality of clips 12L of linkage 10L. That is, one end of the film 8 (right end with respect to the conveying direction) is gripped by the plurality of clips 12R of the link device 10R, and the other end of the film 8 (left end with respect to the conveying direction) is gripped by the plurality of clips 12R. part) is gripped by a plurality of clips 12L of the link device 10L. From another point of view, the membrane 8 is gripped by a plurality of links 11R of the linking device 10R and a plurality of links 11L of the linking device 10L via clips 12 (12R, 12L).

リンク装置10Rを構成する複数のリンク11Rは、無端チェーンを構成するように互いに連結されており、それら互いに連結された複数のリンク11Rは、レール13R,14Rに沿って走行可能な状態で、レール13R,14R上に配置されている。同様に、リンク装置10Lを構成する複数のリンク11Lは、無端チェーンを構成するように互いに連結されており、それら互いに連結された複数のリンク11Lは、レール13L,14Lに沿って走行可能な状態で、レール13L,14L上に配置されている。レール13Rとレール14Rとは、対をなして環状に配置されており、レール13Rは内周側に配置され、レール14Rは外周側に配置されている。同様に、レール13Lとレール14Lとは、対をなして環状に配置されており、レール13Lは内周側に配置され、レール14Lは外周側に配置されている。従って、平面視において環状のレール14Rの内周側に、レール14Rに対向するようにレール13Rが配置され、また、平面視において環状のレール14Lの内周側に、レール14Lに対向するようにレール13Lが配置されている。なお、レール13Rおよびレール13Lを内側レールと呼び、レール14Rおよびレール14Lを外側レールと呼ぶ場合がある。 A plurality of links 11R that constitute the link device 10R are connected to each other so as to form an endless chain, and the plurality of links 11R that are connected to each other can travel along the rails 13R and 14R. 13R and 14R. Similarly, the plurality of links 11L that constitute the link device 10L are connected to each other so as to form an endless chain, and the plurality of links 11L that are connected to each other can travel along the rails 13L and 14L. and are arranged on the rails 13L and 14L. The rail 13R and the rail 14R are paired and arranged in an annular shape, the rail 13R being arranged on the inner peripheral side and the rail 14R being arranged on the outer peripheral side. Similarly, the rail 13L and the rail 14L are paired and arranged in a ring, the rail 13L being arranged on the inner peripheral side and the rail 14L being arranged on the outer peripheral side. Therefore, the rail 13R is arranged on the inner peripheral side of the annular rail 14R so as to face the rail 14R in plan view, and the rail 13R is arranged on the inner peripheral side of the annular rail 14L so as to face the rail 14L in plan view. A rail 13L is arranged. The rails 13R and 13L may be called inner rails, and the rails 14R and 14L may be called outer rails.

延伸装置5は、平面視において、3つの領域20A,20B,20Cを有している。領域20Aは、予熱領域(プレヒート領域)であり、領域20Bは、延伸領域であり、領域20Cは、熱固定領域である。搬送方向(MD方向)において、領域20Aと領域20Bと領域20Cとが順に並んでおり、領域20Aと領域20BとがMD方向に隣り合い、領域20Bと領域20CとがMD方向に隣り合い、MD方向において領域20Aと領域20Cとの間に領域20Bがある。延伸装置5における膜8の入口(図2および図3中に「IN」と示した部分に対応し、以下では「入口」と称する)は、領域20Aに存在し、延伸装置5における膜8の出口(図2および図3中に「OUT」と示した部分に対応し、以下では「出口」と称する)は、領域20Cに存在している。延伸装置5における膜8の入口から出口に向かう方向が、膜8の搬送方向(MD方向)に対応している。 The stretching device 5 has three regions 20A, 20B, and 20C in plan view. Region 20A is a preheating region (preheating region), region 20B is a stretching region, and region 20C is a heat setting region. In the transport direction (MD direction), the regions 20A, 20B, and 20C are arranged in order, the regions 20A and 20B are adjacent in the MD direction, the regions 20B and 20C are adjacent in the MD direction, and the regions 20B and 20C are adjacent in the MD direction. Directionally between regions 20A and 20C is region 20B. The inlet of the membrane 8 in the stretching device 5 (corresponding to the portion indicated as "IN" in FIGS. 2 and 3, hereinafter referred to as the "inlet") is located in the region 20A and is the inlet of the membrane 8 in the stretching device 5. An exit (corresponding to the portion indicated as "OUT" in FIGS. 2 and 3, hereinafter referred to as "exit") exists in region 20C. The direction from the entrance to the exit of the film 8 in the stretching device 5 corresponds to the transport direction (MD direction) of the film 8 .

延伸装置5は、一対のリンク装置10R,10Lの中央部を覆い、膜8に熱処理を行うための熱処理部(熱処理装置)19を更に有している。図2には、熱処理部19としてオーブンを用いた例が示されている。リンク装置10R,10Lのそれぞれの一部分(中央部)は、熱処理部19の庫内に配置される。膜8は、リンク装置10Rおよびリンク装置10Lに保持された状態で、熱処理部19を通過する。 The stretching device 5 further includes a heat treatment section (heat treatment device) 19 that covers the central portion of the pair of link devices 10R and 10L and performs heat treatment on the film 8. As shown in FIG. FIG. 2 shows an example using an oven as the heat treatment section 19 . A portion (central portion) of each of the link devices 10R and 10L is arranged in the chamber of the heat treatment section 19. As shown in FIG. The film 8 passes through the heat treatment section 19 while being held by the linking device 10R and the linking device 10L.

搬送方向(MD方向)において、リンク装置10R,10Lが熱処理部19で覆われるのは、領域20Aの一部と領域20B全体と領域20Cの一部である。このため、領域20B(延伸領域)においては、リンク装置10R,10L全体が熱処理部19で覆われている。膜8は、領域20B(熱処理部19で覆われた領域)でTD方向およびMD方向に引き伸ばされるため、熱処理部19で加熱(熱処理)されながら、膜8の延伸処理(TD方向およびMD方向の延伸処理)が行われることになる。一方、領域20A(プレヒート領域)においては、リンク装置10R,10Lは、熱処理部19で覆われている領域と覆われていない領域とを有し、膜8の入口付近(スプロケット16,17が配置されている付近)では、リンク装置10R,10Lは熱処理部19で覆われていない。また、領域20C(熱固定領域)においては、リンク装置10R,10Lは、熱処理部19で覆われている領域と覆われていない領域とを有し、膜8の出口付近(スプロケット18が配置されている付近)では、リンク装置10R,10Lは熱処理部19で覆われていない。膜8が領域20A,20B,20Cを通過する間、その膜8は熱処理部19を通過することになるため、その膜8を所望の温度の加熱することができる。従って、延伸処理に適した温度で、膜8の延伸処理を行うことができる。 In the conveying direction (MD direction), the linking devices 10R and 10L are covered with the thermal processing section 19 only in part of the area 20A, the entire area 20B, and part of the area 20C. Therefore, the entire link devices 10R and 10L are covered with the heat treatment section 19 in the region 20B (stretching region). Since the film 8 is stretched in the TD and MD directions in the region 20B (the region covered by the heat treatment section 19), the film 8 is subjected to stretching treatment (in the TD and MD directions) while being heated (heat treated) in the heat treatment section 19. Stretching process) is performed. On the other hand, in the area 20A (preheating area), the linking devices 10R and 10L have an area covered with the heat treatment section 19 and an area not covered, near the inlet of the membrane 8 (where the sprockets 16 and 17 are arranged). ), the linking devices 10R and 10L are not covered with the heat treatment section 19. As shown in FIG. In the area 20C (thermal setting area), the linking devices 10R and 10L have areas covered with the heat treatment section 19 and areas not covered, near the outlet of the membrane 8 (where the sprocket 18 is arranged). ), the linking devices 10R and 10L are not covered with the heat treatment section 19. As shown in FIG. While the film 8 passes through the regions 20A, 20B, and 20C, the film 8 passes through the heat treatment section 19, so that the film 8 can be heated to a desired temperature. Therefore, the stretching treatment of the film 8 can be performed at a temperature suitable for the stretching treatment.

リンク装置10Rが備える一対のレール13R,14Rと、リンク装置10Lが備える一対のレール13L,14Lとは、どちらも、領域20A,20B,20Cに亘って環状に配置されている。以下の説明では、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、膜8と対向する側を「膜側」と称し、「膜側」とは反対側を「リターン側」と称することとする。クリップ12(12R,12L)が膜8を把持した状態で、複数のリンク11が入口から出口に向かって搬送されるサイドが「膜側」に対応し、「膜側」の反対に位置し、クリップ12が膜8を把持せず、複数のリンク11が出口から入口に向かって搬送されるサイドが「リターン側」に対応している。 Both the pair of rails 13R, 14R provided in the link device 10R and the pair of rails 13L, 14L provided in the link device 10L are arranged in a ring over the regions 20A, 20B, 20C. In the following description, in each of the link devices 10R and 10L, the side facing the membrane 8 is called the "membrane side", and the side opposite to the "membrane side" is called the "return side". The side where the plurality of links 11 are conveyed from the inlet to the outlet while the clips 12 (12R, 12L) are gripping the membrane 8 corresponds to the "membrane side" and is located opposite to the "membrane side", The side on which the clips 12 do not grip the membrane 8 and the links 11 are conveyed from the outlet toward the inlet corresponds to the "return side".

リンク装置10Rにおいて、スプロケット16R,17R,18Rは、平面視において、環状のレール13R(内側レール)の内側に配置されており、そのうちのスプロケット16R,17Rが入口側(領域20A)に配置され、スプロケット18Rが出口側(領域20C)に配置されている。同様に、リンク装置10Lにおいて、スプロケット16L,17L,18Lは、平面視において、環状のレール13L(内側レール)の内側に配置されており、そのうちのスプロケット16L,17Lが入口側(領域20A)に配置され、スプロケット18Lが出口側(領域20C)に配置されている。スプロケット16R,17R,18Rは、複数のリンク11Rに係合されており、スプロケット16R,17R,18Rが回転することにより、複数のリンク11Rに駆動力が働くことで、リンク装置10Rを構成する複数のリンク11Rがレール13R,14Rに沿って移動することができる。同様に、スプロケット16L,17L,18Lは、複数のリンク11Lに係合されており、スプロケット16L,17L,18Lが回転することにより、複数のリンク11Lに駆動力が働くことで、リンク装置10Lを構成する複数のリンク11Lがレール13L,14Lに沿って移動することができる。 In the link device 10R, the sprockets 16R, 17R, and 18R are arranged inside an annular rail 13R (inner rail) in plan view, of which the sprockets 16R and 17R are arranged on the entrance side (area 20A), A sprocket 18R is located on the exit side (region 20C). Similarly, in the link device 10L, the sprockets 16L, 17L, and 18L are arranged inside an annular rail 13L (inner rail) in plan view, and the sprockets 16L and 17L among them are on the entrance side (region 20A). , and the sprocket 18L is located on the outlet side (region 20C). The sprockets 16R, 17R, and 18R are engaged with a plurality of links 11R, and when the sprockets 16R, 17R, and 18R rotate, a driving force acts on the plurality of links 11R, thereby forming the link device 10R. link 11R can move along the rails 13R and 14R. Similarly, the sprockets 16L, 17L, and 18L are engaged with a plurality of links 11L, and when the sprockets 16L, 17L, and 18L rotate, a driving force acts on the plurality of links 11L, thereby moving the link device 10L. A plurality of links 11L that constitute it can move along the rails 13L and 14L.

リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、複数のリンク11は、隣り合うリンク11のピッチが変更可能な状態で、レール13,14上に配置されている。リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、各リンク11は、一方の端部がレール13上に、レール13に沿って移動可能な状態で配置され、他方の端部がレール14上に、レール14に沿って移動可能な状態で配置されており、各リンク11の一方の端部(レール14上に配置される側の端部)に、それぞれクリップ12が取り付けられている。このため、リンク11が移動すると、リンク11と一緒にクリップ12も移動する。従って、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、隣り合うリンク11のピッチが変わると、それに応じて、隣り合うクリップ12のピッチも変わることになる。すなわち、隣り合うリンク11のピッチが大きくなると、それに応じて、隣り合うクリップ12のピッチも大きくなる。各リンク11の具体的な構造については、後でより詳細に説明する。 In each of the link devices 10R and 10L, the plurality of links 11 are arranged on rails 13 and 14 such that the pitch between adjacent links 11 can be changed. In each of the link devices 10R and 10L, each link 11 has one end on and is movable along the rail 13, and the other end on and along the rail 14. A clip 12 is attached to one end of each link 11 (the end on the side that is placed on the rail 14). Therefore, when the link 11 moves, the clip 12 moves together with the link 11. - 特許庁Therefore, in each of the link devices 10R and 10L, when the pitch of the adjacent links 11 changes, the pitch of the adjacent clips 12 also changes accordingly. That is, when the pitch between adjacent links 11 increases, the pitch between adjacent clips 12 also increases accordingly. A specific structure of each link 11 will be described in more detail later.

リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、互いに隣り合うリンク11間のピッチP1は、レール13とレール14との間の間隔(離間距離)L1に応じて変更可能であり、従って、互いに隣り合うクリップ12のピッチP2も、レール13とレール14との間の間隔(離間距離)L1に応じて変更可能である。このため、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、レール13,14の間隔L1を調整することにより、互いに隣り合うリンク11のピッチP1を調整することができ、それによって、互いに隣り合うクリップ12のピッチP2を調整することができる。なぜなら、図4からも分かるように、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、レール13,14の間隔L1が小さくなるほど、隣り合うリンク11が成す角度が大きくなって、隣り合うリンク11のピッチP1が大きくなるからである。 In each of the link devices 10R and 10L, the pitch P1 between the links 11 adjacent to each other can be changed according to the interval (separation distance) L1 between the rails 13 and 14. The pitch P2 between the rails 13 and 14 can also be changed according to the interval (separation distance) L1 between the rails 13 and 14 . Therefore, by adjusting the interval L1 between the rails 13 and 14 in each of the link devices 10R and 10L, it is possible to adjust the pitch P1 between the links 11 adjacent to each other, thereby adjusting the pitch P1 between the clips 12 adjacent to each other. P2 can be adjusted. This is because, as can be seen from FIG. 4, in each of the link devices 10R and 10L, the smaller the interval L1 between the rails 13 and 14, the larger the angle formed by the adjacent links 11 and the pitch P1 between the adjacent links 11. because it grows.

具体的には、図4の(a)からも分かるように、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、レール13とレール14との間の間隔L1が大きいと、互いに隣り合うリンク11のピッチP1は小さくなり、それに伴って、隣り合うクリップ12のピッチP2も小さくなる。また、図4の(b)からも分かるように、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、レール13とレール14との間の間隔L1が小さいと、互いに隣り合うリンク11のピッチP1は大きくなり、それに伴って、隣り合うクリップ12のピッチP2も大きくなる。このため、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、レール13とレール14との間の間隔L1が小さい領域(図4の(b)に対応)では、レール13とレール14との間の間隔L1が大きい領域(図4の(a)に対応)と比べて、隣り合うリンク11のピッチP1が大きくなり、従って、隣り合うクリップ12のピッチP2も大きくなる。このため、リンク装置10R,10Lのそれぞれにおいて、搬送方向(MD方向)においてレール13,14の間隔L1が徐々に小さくなる領域(領域20Bに対応)を設けておけば、その領域では、互いに隣り合うリンク11のピッチP1が徐々に大きくなり、それに伴い、隣り合うクリップ12のピッチP2も徐々に大きくなる。 Specifically, as can be seen from (a) of FIG. 4, in each of the link devices 10R and 10L, when the distance L1 between the rails 13 and 14 is large, the pitch P1 between the links 11 adjacent to each other is As a result, the pitch P2 between the adjacent clips 12 also becomes smaller. Also, as can be seen from FIG. 4B, in each of the link devices 10R and 10L, when the distance L1 between the rails 13 and 14 is small, the pitch P1 between the links 11 adjacent to each other is large. Accordingly, the pitch P2 between adjacent clips 12 also increases. Therefore, in each of the link devices 10R and 10L, in a region where the distance L1 between the rails 13 and 14 is small (corresponding to (b) of FIG. 4), the distance L1 between the rails 13 and 14 is Compared to the large area (corresponding to (a) of FIG. 4), the pitch P1 between adjacent links 11 is increased, and accordingly the pitch P2 between adjacent clips 12 is also increased. For this reason, in each of the link devices 10R and 10L, if a region (corresponding to region 20B) in which the interval L1 between the rails 13 and 14 is gradually reduced in the conveying direction (MD direction) is provided, then in that region The pitch P1 between the matching links 11 gradually increases, and accordingly the pitch P2 between the adjacent clips 12 also gradually increases.

なお、各リンク11にそれぞれクリップ12が取り付けられているため、隣り合うリンク11のピッチP1と、そのリンク11に取り付けられたクリップ12のピッチP2とは、実質的に同じである。すなわち、図4の(a)においてP1=P2が成り立ち、図4の(b)においてP1=P2が成り立ち、図4の(a)におけるP1およびP2よりも、図4(b)におけるP1およびP2が大きい。 Since the clip 12 is attached to each link 11, the pitch P1 between the adjacent links 11 and the pitch P2 between the clips 12 attached to the link 11 are substantially the same. That is, P1=P2 holds in FIG. 4(a), P1=P2 holds in FIG. 4(b), and P1 and P2 in FIG. is large.

次に、延伸装置5の動作について説明する。 Next, the operation of the stretching device 5 will be described.

上記原反冷却装置4から延伸装置5に供給(搬送)された膜8は、延伸装置5の入口において、リンク装置10R,10Lのそれぞれが備えるリンク11(11R,11L)に取り付けられたクリップ12(12R,12L)により把持される。すなわち、膜8の一方の端部(搬送方向に対して右側の端部)が、リンク装置10Rのクリップ12Rにより把持され、膜8の他方の端部(搬送方向に対して左側の端部)が、リンク装置10Lのクリップ12Lにより把持される。そして、クリップ12R,12Lで把持された膜8は、クリップ12R,12Lと一緒に延伸装置5の入口から出口に向かってMD方向に搬送されるため、領域20A(予熱領域)と領域20B(延伸領域)と領域20C(熱固定領域)とを順に通過する。クリップ12R,12Lで把持された膜8は、領域20A,20B,20Cを通過している間、加熱されるとともに、領域20Bを通過する際にMD方向およびTD方向に引き伸ばされる。そして、クリップ12R,12Lで把持された膜8は、延伸装置5の出口に到達し、そこでクリップ12R,12Lから外される。クリップ12R,12Lから外された膜8は、延伸装置5の出口から上記引取り装置6に搬送され、上記引取り装置6から上記巻取り装置7に搬送されて巻き取られる。 The film 8 supplied (conveyed) from the raw fabric cooling device 4 to the stretching device 5 is clipped 12 attached to the link 11 (11R, 11L) provided in each of the link devices 10R, 10L at the entrance of the stretching device 5. It is gripped by (12R, 12L). That is, one end of the film 8 (the right end with respect to the conveying direction) is gripped by the clip 12R of the link device 10R, and the other end of the film 8 (the left end with respect to the conveying direction) is gripped. is gripped by the clip 12L of the link device 10L. Since the film 8 gripped by the clips 12R and 12L is conveyed in the MD direction from the inlet to the outlet of the stretching device 5 together with the clips 12R and 12L, the region 20A (preheating region) and the region 20B (stretching region) and region 20C (heat setting region). The membrane 8 gripped by the clips 12R, 12L is heated while passing through the regions 20A, 20B, 20C and stretched in the MD and TD directions when passing through the region 20B. The membrane 8 gripped by the clips 12R, 12L then reaches the outlet of the stretching device 5 and is removed from the clips 12R, 12L there. The film 8 removed from the clips 12R and 12L is transported from the outlet of the stretching device 5 to the take-up device 6, and transported from the take-up device 6 to the take-up device 7 to be taken up.

領域20A(予熱領域)における延伸装置5の動作について説明する。 The operation of the stretching device 5 in the area 20A (preheating area) will be described.

領域20Aにおいては、リンク装置10Rのレール14Rとリンク装置10Lのレール14Lとの間の間隔(TD方向の間隔)L2は、ほぼ一定である。このため、領域20Aにおいては、膜8に対するTD方向の延伸処理は行われない。従って、領域20Aにおいては、搬送される膜8の幅(TD方向の寸法)は変化せず、一定のままである。 In the region 20A, the interval (interval in the TD direction) L2 between the rail 14R of the link device 10R and the rail 14L of the link device 10L is substantially constant. Therefore, the film 8 is not stretched in the TD direction in the region 20A. Therefore, in the region 20A, the width (dimension in the TD direction) of the transported film 8 does not change and remains constant.

また、領域20Aにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるレール13Rとレール14Rとの間の間隔(L1)は、ほぼ一定である。このため、領域20Aにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)はほぼ一定であり、従って、リンク装置10Rの膜側におけるクリップ12Rのピッチ(P2)もほぼ一定である。つまり、領域20Aにおいては、膜8を把持するクリップ12Rのピッチ(P2)は、ほぼ一定である。また、領域20Aにおいては、リンク装置10Lの膜側におけるレール13Lとレール14Lとの間の間隔(L1)は、ほぼ一定である。このため、領域20Aにおいては、リンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)はほぼ一定であり、従って、リンク装置10Lの膜側におけるクリップ12Lのピッチ(P2)もほぼ一定である。つまり、領域20Aにおいては、膜8を把持するクリップ12Lのピッチ(P2)は、ほぼ一定である。このため、領域20Aにおいては、膜8に対するMD方向の延伸処理は行われない。従って、領域20Aにおいては、TD方向にもMD方向にも、膜8に対する延伸処理は行われない。 Also, in the region 20A, the distance (L1) between the rail 13R and the rail 14R on the membrane side of the linkage 10R is substantially constant. Therefore, in the region 20A, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R is substantially constant, and therefore the pitch (P2) of the clips 12R on the membrane side of the linking device 10R is also substantially constant. That is, in the region 20A, the pitch (P2) of the clip 12R that grips the membrane 8 is substantially constant. Also, in the region 20A, the distance (L1) between the rails 13L and 14L on the membrane side of the linkage 10L is substantially constant. Therefore, in the region 20A, the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L is substantially constant, and therefore the pitch (P2) of the clips 12L on the membrane side of the linking device 10L is also substantially constant. That is, in the region 20A, the pitch (P2) of the clip 12L that grips the membrane 8 is substantially constant. Therefore, the film 8 is not stretched in the MD direction in the region 20A. Therefore, in the region 20A, the film 8 is not stretched in either the TD or MD direction.

領域20B(延伸領域)における延伸装置5の動作について説明する。 The operation of the stretching device 5 in the area 20B (stretching area) will be described.

領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、リンク装置10Rのレール14Rとリンク装置10Lのレール14Lとの間の間隔(TD方向の間隔)L2は、徐々に大きくなっている。このため、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8の一方の端部を把持するクリップ12Rと、膜8の他方の端部を把持するクリップ12Lとの間の距離(TD方向における距離)が、徐々に大きくなる。これにより、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8は、クリップ12R,12LによってTD方向に引っ張られて引き伸ばされるため、膜8はTD方向に延伸されることになる。従って、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8の幅(TD方向の寸法)は徐々に大きくなる。 In the region 20B, the interval (interval in the TD direction) L2 between the rail 14R of the linking device 10R and the rail 14L of the linking device 10L gradually increases in the conveying direction (MD direction). Therefore, in the area 20B, the distance ( distance in the TD direction) gradually increases. Accordingly, in the region 20B, the film 8 is pulled and stretched in the TD direction by the clips 12R and 12L as it advances in the transport direction (MD direction), so the film 8 is stretched in the TD direction. Therefore, in the region 20B, the width (dimension in the TD direction) of the film 8 gradually increases as it progresses in the transport direction (MD direction).

また、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、リンク装置10Rの膜側におけるレール13Rとレール14Rとの間の間隔(L1)は、徐々に小さくなっており、また、リンク装置10Lの膜側におけるレール13Lとレール14Lとの間の間隔(L1)も、徐々に小さくなっている。このため、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)が徐々に大きくなり、それに伴い、リンク装置10Rの膜側におけるクリップ12Rのピッチ(P2)も徐々に大きくなる。つまり、領域20Bにおいては、膜8を把持するクリップ12Lのピッチ(P2)は、徐々に大きくなる。また、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、リンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)が徐々に大きくなり、それに伴い、リンク装置10Lの膜側におけるクリップ12Lのピッチ(P2)も徐々に大きくなる。つまり、領域20Bにおいては、膜8を把持するクリップ12Rのピッチ(P2)は、徐々に大きくなる。これにより、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8は、クリップ12RによってMD方向に引っ張られて引き伸ばされ、また、クリップ12LによってMD方向に引っ張られて引き伸ばされるため、膜8はMD方向に延伸されることになる。 Further, in the area 20B, the distance (L1) between the rail 13R and the rail 14R on the film side of the link device 10R is gradually reduced as it progresses in the transport direction (MD direction). The spacing (L1) between rails 13L and 14L on the membrane side of 10L is also gradually reduced. Therefore, in the region 20B, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R gradually increases in the conveying direction (MD direction). The pitch (P2) of is also gradually increased. That is, in the region 20B, the pitch (P2) of the clip 12L that grips the membrane 8 gradually increases. Further, in the region 20B, the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L gradually increases along the conveying direction (MD direction). The pitch (P2) also gradually increases. That is, in the region 20B, the pitch (P2) of the clip 12R that grips the membrane 8 gradually increases. Accordingly, in the region 20B, the film 8 is pulled in the MD direction by the clips 12R and stretched in the MD direction by the clips 12R as it advances in the transport direction (MD direction), and is stretched in the MD direction by the clips 12L. 8 will be stretched in the MD direction.

従って、領域20Bにおいては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8は、TD方向およびMD方向に引き伸ばされる(延伸される)。すなわち、領域20Bにおいては、TD方向およびMD方向の延伸処理が、膜8に対して施される。 Therefore, in the region 20B, the film 8 is stretched (stretched) in the TD and MD directions as it advances in the transport direction (MD direction). That is, in the region 20B, the film 8 is stretched in the TD and MD directions.

領域20C(熱固定領域)における延伸装置5の動作について説明する。 The operation of the stretching device 5 in the area 20C (heat setting area) will be described.

領域20Cにおいては、リンク装置10Rのレール14Rとリンク装置10Lのレール14Lとの間の間隔(TD方向の間隔)L2は、ほぼ一定である。このため、領域20Cにおいては、膜8に対するTD方向の延伸処理は行われない。従って、領域20Cにおいては、搬送される膜8の幅(TD方向の寸法)は変化せず、一定のままである。 In the region 20C, the interval (interval in the TD direction) L2 between the rail 14R of the link device 10R and the rail 14L of the link device 10L is substantially constant. Therefore, the film 8 is not stretched in the TD direction in the region 20C. Therefore, in the region 20C, the width (dimension in the TD direction) of the transported film 8 does not change and remains constant.

また、領域20Cにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるレール13Rとレール14Rとの間の間隔(L1)は、ほぼ一定である。このため、領域20Cにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)はほぼ一定であり、従って、リンク装置10Rの膜側におけるクリップ12Rのピッチ(P2)もほぼ一定である。つまり、領域20Cにおいては、膜8を把持するクリップ12Rのピッチ(P2)は、ほぼ一定である。また、領域20Cにおいては、リンク装置10Lの膜側におけるレール13Lとレール14Lとの間の間隔(L1)は、ほぼ一定である。このため、領域20Cにおいては、リンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)はほぼ一定であり、従って、リンク装置10Lの膜側におけるクリップ12Lのピッチ(P2)もほぼ一定である。つまり、領域20Cにおいては、膜8を把持するクリップ12Lのピッチ(P2)は、ほぼ一定である。このため、領域20Cにおいては、膜8に対するMD方向の延伸処理は行われない。従って、領域20Cにおいては、TD方向にもMD方向にも、膜8に対する延伸処理は行われない。 Also, in the region 20C, the distance (L1) between the rail 13R and the rail 14R on the membrane side of the linkage 10R is substantially constant. Therefore, in the region 20C, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R is substantially constant, and therefore the pitch (P2) of the clips 12R on the membrane side of the linking device 10R is also substantially constant. That is, in the region 20C, the pitch (P2) of the clip 12R that grips the membrane 8 is substantially constant. Also, in the region 20C, the distance (L1) between the rails 13L and 14L on the membrane side of the linkage 10L is substantially constant. Therefore, in the region 20C, the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L is substantially constant, and therefore the pitch (P2) of the clips 12L on the membrane side of the linking device 10L is also substantially constant. That is, in the region 20C, the pitch (P2) of the clip 12L that grips the membrane 8 is substantially constant. Therefore, the film 8 is not stretched in the MD direction in the region 20C. Therefore, in the region 20C, the film 8 is not stretched in either the TD or MD directions.

上述のように、領域20Aにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)は一定であり、かつ、リンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)も一定であり、領域20Bにおいて、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)とリンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)とを徐々に大きくしている。そして、領域20Cにおいては、リンク装置10Rの膜側におけるリンク11Rのピッチ(P1)は一定であり、かつ、リンク装置10Lの膜側におけるリンク11Lのピッチ(P1)も一定である。このため、リンク装置10R,10Lのそれぞれの膜側において、領域20Cにおけるリンク11Rのピッチ(P1)は、領域20Aにおけるリンク11Rのピッチ(P1)よりも大きく、かつ、領域20Cにおけるリンク11Lのピッチ(P1)は、領域20Aにおけるリンク11Lのピッチ(P1)よりも大きい。別の見方をすると、リンク装置10R,10Lのそれぞれの膜側において、領域20Cにおけるクリップ12Rのピッチ(P2)は、領域20Aにおけるクリップ12Rのピッチ(P2)よりも大きく、かつ、領域20Cにおけるクリップ12Lのピッチ(P2)は、領域20Aにおけるクリップ12Lのピッチ(P2)よりも大きい。更に別の見方をすると、リンク装置10R,10Lのそれぞれの膜側において、領域20Cにおけるレール13R,14Rの間隔(L1)は、領域20Aにおけるレール13R,14Rの間隔(L1)よりも小さく、かつ、領域20Cにおけるレール13L,14Lの間隔(L1)は、領域20Aにおけるレール13L,14Lの間隔(L1)よりも小さい。 As described above, in the region 20A, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R is constant, and the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L is also constant, In the region 20B, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R and the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L are gradually increased. In the region 20C, the pitch (P1) of the links 11R on the membrane side of the linking device 10R is constant, and the pitch (P1) of the links 11L on the membrane side of the linking device 10L is also constant. Therefore, on the film side of each of the link devices 10R and 10L, the pitch (P1) of the links 11R in the region 20C is greater than the pitch (P1) of the links 11R in the region 20A, and the pitch (P1) of the links 11L in the region 20C (P1) is greater than the pitch (P1) of the links 11L in the region 20A. From another point of view, the pitch (P2) of the clips 12R in the region 20C is greater than the pitch (P2) of the clips 12R in the region 20A on the membrane side of each of the linking devices 10R and 10L. The pitch (P2) of 12L is greater than the pitch (P2) of clips 12L in region 20A. From another point of view, on the membrane side of each of the link devices 10R and 10L, the interval (L1) between the rails 13R and 14R in the region 20C is smaller than the interval (L1) between the rails 13R and 14R in the region 20A, and , the spacing (L1) between the rails 13L and 14L in the region 20C is smaller than the spacing (L1) between the rails 13L and 14L in the region 20A.

<リンク11およびクリップ12の構造について>
次に、リンク11およびクリップ12の構造について説明する。
以下の説明は、リンク装置10Rを構成するリンク11、クリップ12およびレール13,14(すなわちリンク11R、クリップ12Rおよびレール13R,14R)に適用することができ、また、リンク装置10Lを構成するリンク11、クリップ12およびレール13,14(すなわちリンク11L、クリップ12Lおよびレール13L,14L)に適用することができる。
<Structures of Link 11 and Clip 12>
Next, structures of the link 11 and the clip 12 will be described.
The following description is applicable to the link 11, clip 12 and rails 13, 14 (i.e., link 11R, clip 12R and rails 13R, 14R) that make up the linkage 10R, and also to the links that make up the linkage 10L. 11, clip 12 and rails 13, 14 (ie link 11L, clip 12L and rails 13L, 14L).

図5~図7に示されるように、各リンク11は、上段側リンクプレート22と、下段側リンクプレート23と、レールホルダ24,25とを備えている。上段側リンクプレート22および下段側リンクプレート23のそれぞれは、平面視において直線的に延びる板状の部材である。上段側リンクプレート22の一方の端部と、下段側リンクプレート23とには、共通のシャフト26が挿入されており、上段側リンクプレート22と、下段側リンクプレート23とは、シャフト26の中心を回転軸として、回転自在な状態でシャフト26を介して連結されている。下段側リンクプレート23の一方の端部には、クリップ12が取り付けられている。下段側リンクプレート23において、シャフト26は、クリップ12が取り付けられる一方の端部と他方の端部との間に挿入されている。 As shown in FIGS. 5 to 7, each link 11 includes an upper link plate 22, a lower link plate 23, and rail holders 24 and 25. As shown in FIGS. Each of the upper-stage side link plate 22 and the lower-stage side link plate 23 is a plate-shaped member extending linearly in plan view. A common shaft 26 is inserted between one end of the upper link plate 22 and the lower link plate 23 . as a rotation axis, and are connected through a shaft 26 in a freely rotatable state. A clip 12 is attached to one end of the lower-stage link plate 23 . In the lower-stage link plate 23, the shaft 26 is inserted between one end to which the clip 12 is attached and the other end.

各クリップ12は、本体部31と、本体部31に対して上下に動作することが可能な把持部32と、把持部32を上下に動作させるためのバネ部33などを有しており、バネ部33などの力により把持部32が上下に動作することで、本体部31と把持部32とにより膜8を挟んで把持することができる。 Each clip 12 has a body portion 31, a gripping portion 32 capable of moving up and down with respect to the body portion 31, a spring portion 33 for moving the gripping portion 32 up and down, and the like. By moving the grasping portion 32 up and down by the force of the portion 33 and the like, the film 8 can be grasped while being sandwiched between the main body portion 31 and the grasping portion 32 .

上段側リンクプレート22の他方の端部(シャフト26が挿入された側とは反対側の端部)には、シャフト27が挿入されている。シャフト27は、互いに隣り合うリンク11を連結する。具体的には、互いに隣り合うリンク11のうち、一方のリンク11の上段側リンクプレート22と、他方のリンク11の下段側リンクプレート23とに、共通のシャフト27が挿入されている。これにより、互いに隣り合うリンク11のうち、一方のリンク11の上段側リンクプレート22と他方のリンク11の下段側リンクプレート23とは、シャフト27の中心を回転軸として回転自在な状態で、シャフト27を介して連結される。また、上段側リンクプレート22の他方の端部には、上記スプロケット16,17,18に係合される係合部28が取り付けられている。 A shaft 27 is inserted into the other end of the upper-stage link plate 22 (the end opposite to the side where the shaft 26 is inserted). The shaft 27 connects the links 11 adjacent to each other. Specifically, a common shaft 27 is inserted in the upper link plate 22 of one link 11 and the lower link plate 23 of the other link 11 among the links 11 adjacent to each other. As a result, the upper link plate 22 of one of the links 11 adjacent to each other and the lower link plate 23 of the other link 11 are rotatable about the center of the shaft 27 as the rotation axis. 27. An engaging portion 28 that engages with the sprockets 16 , 17 , 18 is attached to the other end of the upper-stage link plate 22 .

シャフト26の下端には、レールホルダ25が、シャフト26の中心を回転軸として回転可能な状態で取り付けられている。また、シャフト27の下端には、レールホルダ24が、シャフト27の中心を回転軸として回転可能な状態で取り付けられている。レールホルダ24はレール13を覆うように配置され、レールホルダ25はレール14を覆うように配置されている。レールホルダ24は、一対の軸受けローラ34,35を有しており、軸受けローラ34と軸受けローラ35とでレール13を両側から挟み込んでいる。また、レールホルダ25は、一対の軸受けローラ36,37を有しており、軸受けローラ36と軸受けローラ37とでレール14を両側から挟み込んでいる。このため、レールホルダ24は、レール13に沿って移動可能な状態で、レール13を覆うように配置されている。また、レールホルダ25は、レール14に沿って移動可能な状態で、レール14を覆うように配置されている。 A rail holder 25 is attached to the lower end of the shaft 26 so as to be rotatable around the center of the shaft 26 as a rotation axis. A rail holder 24 is attached to the lower end of the shaft 27 so as to be rotatable about the center of the shaft 27 as a rotation axis. The rail holder 24 is arranged to cover the rail 13 and the rail holder 25 is arranged to cover the rail 14 . The rail holder 24 has a pair of bearing rollers 34 and 35, and the rail 13 is sandwiched between the bearing rollers 34 and 35 from both sides. Moreover, the rail holder 25 has a pair of bearing rollers 36 and 37, and the rail 14 is sandwiched between the bearing rollers 36 and 37 from both sides. Therefore, the rail holder 24 is arranged to cover the rail 13 while being movable along the rail 13 . Moreover, the rail holder 25 is arranged so as to cover the rail 14 while being movable along the rail 14 .

スプロケット16,17,18の回転による駆動力がリンク11に働くことにより、レール13,14に沿ってレールホルダ24,25が移動するため、リンク11はレール13,14に沿って移動する。リンク11がレール13,14に沿って移動しているときに、レール13,14の間隔(L1)が変化すると、その変化に追従して上段側リンクプレート22および下段側リンクプレート23が回転して、上段側リンクプレート22と下段側リンクプレート23とが成す角度θが変化する。その結果、隣り合うリンク11のピッチ(P1)は、レール13,14の間隔(L1)に対応して変化する。隣り合うリンク11のピッチ(P1)は、シャフト26の中心を基準として規定することができる。すなわち、隣り合うリンク11のピッチ(P1)とは、互いに隣り合うリンク11のそれぞれが備えるシャフト26の中心間距離として規定することができる。隣り合うクリップ12のピッチ(P1)は、隣り合うリンク11のピッチ(P2)と実質的に同じである。 The link 11 moves along the rails 13 , 14 because the rail holders 24 , 25 move along the rails 13 , 14 when the driving force due to the rotation of the sprockets 16 , 17 , 18 acts on the link 11 . When the interval (L1) between the rails 13 and 14 changes while the link 11 is moving along the rails 13 and 14, the upper and lower link plates 22 and 23 rotate following the change. As a result, the angle θ between the upper link plate 22 and the lower link plate 23 changes. As a result, the pitch (P1) between the adjacent links 11 changes according to the spacing (L1) between the rails 13,14. The pitch (P1) between adjacent links 11 can be defined with the center of shaft 26 as a reference. That is, the pitch (P1) between adjacent links 11 can be defined as the center-to-center distance between shafts 26 of adjacent links 11 . The pitch (P1) of adjacent clips 12 is substantially the same as the pitch (P2) of adjacent links 11 .

<レール13,14および支持台15について>
次に、レール13,14とそれを支持する支持台15について、図6~図14を参照して説明する。
<Regarding Rails 13, 14 and Support Base 15>
Next, the rails 13 and 14 and the support base 15 that supports them will be described with reference to FIGS. 6 to 14. FIG.

図8は、レール13,14の配置位置を示す平面図であり、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール14がレール位置71に配置され、レール13がレール位置72に配置された状態が示されている。図9は、図8の二点鎖線で囲まれた領域RG1を拡大して示す部分拡大平面図であり、図10は、図8の二点鎖線で囲まれた領域RG2を拡大して示す部分拡大平面図である。図8~図10において、レール位置73は点線で示してある。図11は、図8の状態からレール13の配置位置を変更した場合のレール13,14の配置位置を示す平面図であり、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール14がレール位置71に配置され、レール13がレール位置73に配置された状態が示されている。図12は、図11の二点鎖線で囲まれた領域RG3を拡大して示す部分拡大平面図であり、図13は、図11の二点鎖線で囲まれた領域RG4を拡大して示す部分拡大平面図である。図11~図13において、レール位置72は点線で示してある。図14は、上記図6と同様のリンク11の断面図であるが、上記図6は、レール13がレール位置72に配置されている場合(図8~図10の場合)の断面図に対応しているのに対して、図14は、レール13がレール位置73に配置されている場合(図11~図13の場合)の断面図に対応している。 FIG. 8 is a plan view showing the arrangement positions of the rails 13 and 14, and shows a state where the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 in each of the link devices 10L and 10R. It is 9 is a partially enlarged plan view showing an enlarged region RG1 surrounded by a two-dot chain line in FIG. 8, and FIG. 10 is an enlarged portion showing a region RG2 surrounded by a two-dot chain line in FIG. It is an enlarged plan view. In FIGS. 8-10, rail locations 73 are indicated by dashed lines. FIG. 11 is a plan view showing the arrangement position of the rails 13 and 14 when the arrangement position of the rail 13 is changed from the state shown in FIG. , and rail 13 is shown positioned at rail position 73 . 12 is a partially enlarged plan view showing an enlarged region RG3 surrounded by a two-dot chain line in FIG. 11, and FIG. 13 is an enlarged portion showing a region RG4 surrounded by a two-dot chain line in FIG. It is an enlarged plan view. 11-13, rail locations 72 are indicated by dashed lines. FIG. 14 is a cross-sectional view of the link 11 similar to FIG. 6 above, but FIG. 6 above corresponds to a cross-sectional view when the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 8 to 10). 14 corresponds to the cross-sectional view when the rail 13 is arranged at the rail position 73 (case of FIGS. 11 to 13).

リンク装置10R,10Lは、それぞれ、支持台15を備えている。なお、図8および図11では、リンク装置10R用の支持台15(すなわちレール13R,14Rを支持する支持台15R)とリンク装置10L用の支持台15(すなわちレール13L,14Lを支持する支持台15L)とを、別々に設けており、以下では、この場合に基づいて説明する。 The link devices 10R and 10L each have a support base 15. As shown in FIG. 8 and 11, the support base 15 for the link device 10R (that is, the support base 15R that supports the rails 13R and 14R) and the support base 15 for the link device 10L (that is, the support base that supports the rails 13L and 14L) 15L) are provided separately, and the following description will be based on this case.

リンク装置10Rのレール13,14(すなわちレール13R,14R)は、リンク装置10Rの支持台15(すなわち支持台15R)上に配置され、ネジ41(図6参照)などの固定部材により、その支持台15(15R)に保持または固定されている。リンク装置10Lのレール13,14(すなわちレール13L,14L)は、リンク装置10Lの支持台15(すなわち支持台15L)上に配置され、ネジ41(図6参照)などの固定部材により、その支持台15(15L)に保持または固定されている。 The rails 13, 14 (that is, the rails 13R, 14R) of the link device 10R are arranged on the support base 15 (that is, the support base 15R) of the link device 10R, and are supported by fixing members such as screws 41 (see FIG. 6). It is held or fixed to the base 15 (15R). The rails 13, 14 (ie, rails 13L, 14L) of the link device 10L are arranged on the support base 15 (ie, support base 15L) of the link device 10L, and are supported by fixing members such as screws 41 (see FIG. 6). It is held or fixed to the base 15 (15L).

以下の説明は、リンク装置10Rを構成する支持台15およびレール13,14(すなわち支持台15Rおよびレール13R,14R)に適用することができ、また、リンク装置10Lを構成する支持台15およびレール13,14(すなわち支持台15Lおよびレール13L,14L)に適用することができる。 The following description can be applied to the support base 15 and the rails 13, 14 (that is, the support base 15R and the rails 13R, 14R) that constitute the linkage device 10R, and the support base 15 and the rails that constitute the linkage device 10L. 13, 14 (ie support 15L and rails 13L, 14L).

支持台15は、レール13,14を支持する部材であり、例えば板状(平板状)の部材(金属板など)からなる。図6に示されるように、支持台15には、複数の穴部(ネジ穴部)51が設けられている。各穴部51の内側面には、必要に応じてネジ溝が形成されている。 The support base 15 is a member that supports the rails 13 and 14, and is made of, for example, a plate-like (flat plate-like) member (such as a metal plate). As shown in FIG. 6, the support base 15 is provided with a plurality of holes (screw hole portions) 51 . A screw groove is formed on the inner surface of each hole portion 51 as necessary.

レール14には、レール14を貫通する複数の穴部(ネジ穴部)61が設けられており、また、レール13には、レール13を貫通する複数の穴部(ネジ穴部)62が設けられている。各穴部61,62の内側面には、必要に応じてネジ溝が形成されている。レール14の上面側からレール14の穴部61と支持台15の穴部51とにネジ41を挿入することにより、レール14を位置決めし、支持台15にレール14を固定または保持している。また、レール13の上面側からレール13の穴部62と支持台15の穴部51とにネジ41を挿入することにより、レール13を位置決めし、支持台15にレール13を固定または保持している。また、レール13の穴部62に挿入されたネジ41を抜く(外す)ことにより、レール13を支持台15から取り外すことができる。また、レール14の穴部61に挿入されたネジ41を抜く(外す)ことにより、レール14を支持台15から取り外すことができる。 The rail 14 is provided with a plurality of holes (screw holes) 61 passing through the rail 14, and the rail 13 is provided with a plurality of holes (screw holes) 62 passing through the rail 13. It is Thread grooves are formed on the inner side surfaces of the holes 61 and 62 as necessary. The rail 14 is positioned by inserting the screw 41 into the hole 61 of the rail 14 and the hole 51 of the support base 15 from the upper surface side of the rail 14 , and the rail 14 is fixed or held on the support base 15 . By inserting the screws 41 into the holes 62 of the rail 13 and the holes 51 of the support base 15 from the upper surface side of the rail 13, the rail 13 is positioned, and the rail 13 is fixed or held on the support base 15. there is Also, the rail 13 can be removed from the support base 15 by pulling out (removing) the screw 41 inserted into the hole 62 of the rail 13 . Also, the rail 14 can be removed from the support base 15 by pulling out (removing) the screw 41 inserted into the hole 61 of the rail 14 .

なお、レール13,14がネジ41により支持台15に固定された状態で、レール13,14上に配置されたリンク11(レールホルダ24,25)にネジ41が接触しないようにすることが好ましく、そのためには、ネジ41がレール13,14の上面から突出しないことが好ましい。これにより、リンク11の移動にネジ41が邪魔になるのを、的確に防止することができる。 It is preferable to prevent the screws 41 from contacting the links 11 (rail holders 24, 25) arranged on the rails 13, 14 while the rails 13, 14 are fixed to the support base 15 by the screws 41. Therefore, it is preferable that the screws 41 do not protrude from the upper surfaces of the rails 13 and 14 . As a result, it is possible to accurately prevent the screw 41 from interfering with the movement of the link 11 .

また、図6の場合は、穴部51は、支持台15の上面側に形成されており、支持台15の上面から支持台15の厚さの途中まで到達しているが、穴部51は支持台15を貫通してはいない。他の形態として、穴部51が支持台15を貫通する場合もあり得るが、その場合は、ネジ41としてボルトを用いることもでき、ボルトとナットによりレール13,14を支持台15に固定することができる。 Further, in the case of FIG. 6, the hole 51 is formed on the upper surface side of the support base 15 and reaches halfway through the thickness of the support base 15 from the upper surface of the support base 15. It does not penetrate the support base 15 . As another form, the holes 51 may pass through the support base 15. In this case, bolts may be used as the screws 41, and the rails 13 and 14 are fixed to the support base 15 with bolts and nuts. be able to.

支持台15に形成された複数の穴部51は、レール14を所定のレール位置71に位置決めするための複数の穴部51aと、レール13を所定のレール位置72に位置決めするための複数の穴部51bと、を含んでいるが、更に、レール13を他のレール位置73に位置決めするための複数の穴部51cも含んでいる。 A plurality of holes 51 formed in the support base 15 include a plurality of holes 51a for positioning the rail 14 at a predetermined rail position 71 and a plurality of holes 51a for positioning the rail 13 at a predetermined rail position 72. , but also includes a plurality of holes 51c for locating rail 13 in other rail locations 73. As shown in FIG.

レール14は、レール14の穴部61が支持台15の穴部51aと整合する位置に配置され、レール14の穴部61と支持台15の穴部51aとにネジ41が挿入されることで、レール14が支持台15に固定されており、このレール14の配置位置を、レール位置71と称することとする。支持台15の穴部51aは、その支持台15上に配置するレール14の位置を決める位置決め手段(位置決め部)として機能することができ、その穴部51aを利用することにより、レール14は、レール位置71に位置決めされて固定されている。支持台15において、穴部51aは、レール位置71に沿って並ぶように、複数配置されている。 The rail 14 is arranged at a position where the hole 61 of the rail 14 is aligned with the hole 51a of the support base 15, and the screw 41 is inserted into the hole 61 of the rail 14 and the hole 51a of the support base 15. , the rail 14 is fixed to the support base 15 , and the arrangement position of the rail 14 is referred to as a rail position 71 . The hole portion 51a of the support table 15 can function as a positioning means (positioning portion) for determining the position of the rail 14 arranged on the support table 15. By using the hole portion 51a, the rail 14 can be It is positioned and fixed to the rail position 71 . In the support base 15 , a plurality of holes 51 a are arranged along the rail position 71 .

レール13は、レール13の穴部62が支持台15の穴部51bと整合する位置に配置され、レール13の穴部62と支持台15の穴部51bとにネジ41が挿入されることで、レール13が支持台15に固定されており、このレール13の配置位置を、レール位置72と称することとする。支持台15の穴部51bは、その支持台15上に配置するレール13の位置を決める位置決め手段(位置決め部)として機能することができ、その穴部51bを利用することにより、レール13は、レール位置72に位置決めされて固定されている。支持台15において、穴部51bは、レール位置72に沿って並ぶように、複数配置されている。 The rail 13 is arranged at a position where the hole 62 of the rail 13 is aligned with the hole 51b of the support base 15, and the screw 41 is inserted into the hole 62 of the rail 13 and the hole 51b of the support base 15. , the rail 13 is fixed to the support base 15 , and the arrangement position of the rail 13 is called a rail position 72 . The hole portion 51b of the support table 15 can function as a positioning means (positioning portion) for determining the position of the rail 13 arranged on the support table 15. By using the hole portion 51b, the rail 13 can be It is positioned and fixed to the rail position 72 . In the support base 15 , a plurality of holes 51 b are arranged along the rail position 72 .

レール13,14のそれぞれは、平面視において環状のレールである。レール13,14のそれぞれは、連続的(一体的)な環状のレールとすることも可能であるが、複数に分割されたレール部材を環状につながるように配置(配列)させることで、環状のレール(13,14)を形成することができる。これにより、レール部材の製造が容易になり、環状のレール(13,14)を準備しやすくなる。 Each of the rails 13 and 14 is an annular rail in plan view. Each of the rails 13 and 14 can be a continuous (integral) annular rail. Rails (13, 14) may be formed. This facilitates the manufacture of the rail members and facilitates the preparation of the annular rails (13, 14).

本実施の形態では、支持台15上のレール13の配置位置は変更可能である。すなわち、支持台15上において、レール13はレール位置72に配置されているが、レール13の配置位置は、レール位置72からレール位置73に変更可能である。すなわち、図6および図8~図10の状態から図11~図14の状態に変更可能である。このため、支持台15には、レール14をレール位置71に位置決めするための複数の穴部51aと、レール13をレール位置72に位置決めするための複数の穴部51bとに加えて、更に、レール13をレール位置73に位置決めするための複数の穴部51cも形成されている。 In this embodiment, the arrangement position of the rails 13 on the support base 15 can be changed. That is, the rail 13 is arranged at the rail position 72 on the support base 15 , but the arrangement position of the rail 13 can be changed from the rail position 72 to the rail position 73 . That is, the states of FIGS. 6 and 8-10 can be changed to the states of FIGS. 11-14. Therefore, in addition to a plurality of holes 51a for positioning the rail 14 at the rail position 71 and a plurality of holes 51b for positioning the rail 13 at the rail position 72, the support base 15 further includes: A plurality of holes 51c for positioning the rail 13 at the rail position 73 are also formed.

レール13を、レール13の穴部62が支持台15の穴部51cと整合する位置に配置し、レール13の穴部62と支持台15の穴部51cとにネジ41を挿入することで、レール13を支持台15に固定することもでき、そのときのレール13の配置位置を、レール位置73と称することとする。支持台15の穴部51cは、その支持台15上に配置するレール13の位置を決める位置決め手段(位置決め部)として機能することができ、その穴部51cを利用することにより、レール13をレール位置73に位置決めして固定することができる。支持台15において、穴部51cは、レール位置73に沿って並ぶように、複数配置されている。 By arranging the rail 13 at a position where the hole 62 of the rail 13 is aligned with the hole 51c of the support base 15, and inserting the screw 41 into the hole 62 of the rail 13 and the hole 51c of the support base 15, The rail 13 can also be fixed to the support base 15 , and the arrangement position of the rail 13 at that time is called a rail position 73 . The hole portion 51c of the support table 15 can function as a positioning means (positioning portion) for determining the position of the rail 13 arranged on the support table 15. By using the hole portion 51c, the rail 13 can be positioned as a rail. It can be positioned and fixed at position 73 . In the support base 15 , a plurality of holes 51 c are arranged along the rail position 73 .

レール13の穴部62を支持台15の穴部51bに整合させて、その穴部62,51bにネジ41を挿入してレール13を支持台15にネジ止めした場合には、レール13は、レール位置72に配置された状態になり、図6および図8~図10はこの状態に対応している。一方、レール13の穴部62を支持台15の穴部51cに整合させて、その穴部62,51cにネジ41を挿入してレール13を支持台15にネジ止めした場合には、レール13は、レール位置73に配置された態になり、図11~図14はこの状態に対応している。このため、レール13をレール位置72に配置することと、レール13をレール位置73に配置することとを、選択することができる。そして、支持台15上におけるレール13の配置位置を、レール位置72からレール位置73に変更することができ、また、レール位置73からレール位置72に変更することができる。 When the holes 62 of the rail 13 are aligned with the holes 51b of the support base 15 and the screws 41 are inserted into the holes 62 and 51b to screw the rail 13 to the support base 15, the rail 13 is 6 and 8-10 correspond to this state. On the other hand, when the hole 62 of the rail 13 is aligned with the hole 51c of the support base 15 and the screws 41 are inserted into the holes 62 and 51c to screw the rail 13 to the support base 15, the rail 13 is positioned at the rail position 73, and FIGS. 11-14 correspond to this state. Therefore, placing the rail 13 at the rail position 72 or placing the rail 13 at the rail position 73 can be selected. Then, the arrangement position of the rail 13 on the support table 15 can be changed from the rail position 72 to the rail position 73, and can be changed from the rail position 73 to the rail position 72.

一方、支持台15上のレール14の配置位置は、固定されている。すなわち、支持台15上に配置されたレール14の位置は、変更しない。このため、レール14の位置決め用の穴部51として、レール14をレール位置71に配置するための穴部51aは設けられているが、レール14をレール位置71以外の位置に配置するための穴部51は、支持台15には設けられていない。但し、メンテナンスなどの際には、レール14をネジ止めしているネジ41を外す(抜く)ことにより、レール14を支持台15から取り外すことができる。 On the other hand, the arrangement position of the rail 14 on the support base 15 is fixed. That is, the position of the rail 14 placed on the support base 15 is not changed. For this reason, a hole portion 51 a for arranging the rail 14 at the rail position 71 is provided as the hole portion 51 for positioning the rail 14 . The portion 51 is not provided on the support base 15 . However, during maintenance or the like, the rail 14 can be removed from the support base 15 by removing (pulling out) the screw 41 with which the rail 14 is screwed.

レール14はレール位置71に配置され、レール13はレール位置72とレール位置73とのどちらかに配置されるため、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)とが、あり得る。レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)とで、膜8のMD方向における延伸倍率を変えることができる。すなわち、膜8のMD方向における延伸倍率を変える必要が生じたときに、支持台15上におけるレール13の配置位置を、レール位置72からレール位置73に変更する。 Since rail 14 is located at rail position 71 and rail 13 is located at either rail position 72 or rail position 73, rail 14 is located at rail position 71 and rail 13 is located at rail position 72. 6 and 8 to 10), and the case in which the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 73 (in the case of FIGS. 11 to 14). could be. When the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 6 and 8 to 10), and when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is placed at the rail position 73 (in the case of FIGS. 11 to 14), the stretching ratio of the film 8 in the MD direction can be changed. That is, when it becomes necessary to change the stretching ratio of the film 8 in the MD direction, the arrangement position of the rail 13 on the support table 15 is changed from the rail position 72 to the rail position 73 .

支持台15上におけるレール13の配置位置を、レール位置72からレール位置73に変更するのは、次のようにして行うことができる。すなわち、まず、レール位置72にネジ止めされたレール部材(レール13)からネジ41を外して(抜いて)から、そのレール部材(レール13)をレール位置73に移動させた後、そのレール部材(レール13)の穴部62と支持台15の穴部51cとにネジ41を挿入して、レール位置73にレール部材(レール13)をネジ止めする。この場合は、レール位置72に配置されるレール13と、レール位置73に配置されるレール13とを、同じ(共通の)レール部材を用いて形成することができるため、レール位置73用のレール部材を別個に用意せずに済む。このため、延伸装置5の製造コストを抑制することができる。 The arrangement position of the rail 13 on the support base 15 can be changed from the rail position 72 to the rail position 73 as follows. That is, first, the screw 41 is removed (pulled out) from the rail member (rail 13) screwed to the rail position 72, the rail member (rail 13) is moved to the rail position 73, and then the rail member The rail member (rail 13) is screwed to the rail position 73 by inserting the screw 41 into the hole 62 of (the rail 13) and the hole 51c of the support base 15. As shown in FIG. In this case, the rail 13 arranged at the rail position 72 and the rail 13 arranged at the rail position 73 can be formed using the same (common) rail member. There is no need to separately prepare the parts. Therefore, the manufacturing cost of the stretching device 5 can be suppressed.

他の形態として、レール位置72に配置されるレール部材とは別に、レール位置73用のレール部材を予め用意しておく場合もあり得る。この場合は、レール位置72にネジ止めされたレール部材(レール13)からネジ41を外し(抜き)、そのレール部材を支持台15上から取り除いてから、別に用意していたレール部材(レール13)をレール位置73に配置して、そのレール部材(レール13)の穴部62と支持台15の穴部51cとにネジ41を挿入して、レール位置73にレール部材(レール13)をネジ止めする。 As another form, a rail member for the rail position 73 may be prepared in advance separately from the rail member arranged at the rail position 72 . In this case, the screw 41 is removed (pulled out) from the rail member (rail 13) screwed to the rail position 72, the rail member is removed from the support base 15, and then a separately prepared rail member (rail 13) is removed. ) is placed at the rail position 73, the screw 41 is inserted into the hole 62 of the rail member (rail 13) and the hole 51c of the support base 15, and the rail member (rail 13) is screwed to the rail position 73. stop.

上述のように、レール13,14の間隔(L1)に応じて、リンク11のピッチ(P1)が変わり、それに伴い、膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)も変わる。延伸装置5の入口において、膜8がクリップ12により把持されるが、そのときのクリップ12のピッチ(P2)を、α1と仮定する。領域20A(予熱領域)において、膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)は、α1となっている。上述のように、領域20B(延伸領域)においては、搬送方向(MD方向)に進むに従って、膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)は、徐々に大きくなる。領域20B(延伸領域)で延伸処理が行われた後の膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)、すなわち、領域20C(熱固定領域)における膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)を、α2と仮定する。α2はα1よりも大きく、α1<α2が成り立つ。膜8を把持するクリップ12のピッチ(P2)は、領域20Aでは、ほぼ一定であり、α1となっており、領域20Bでは、α1からα2へ徐々に大きくなり、領域20Cでは、はほぼ一定であり、α2となっている。α1に対するα2の比(すなわちα2/α1)が、膜8のMD方向における延伸処理の倍率(延伸倍率)に対応している。例えば、α2がα1の7倍(すなわちα2/α1=7)であれば、延伸装置5によって膜8は、MD方向に7倍に引き伸ばされることになり、また、α2がα1の5倍(すなわちα2/α1=5)であれば、延伸装置5によって膜8は、MD方向に5倍に引き伸ばされることになる。 As described above, the pitch (P1) of the links 11 varies according to the spacing (L1) between the rails 13 and 14, and accordingly the pitch (P2) of the clips 12 that grip the membrane 8 also varies. At the entrance of the stretching device 5, the membrane 8 is gripped by the clips 12, and the pitch (P2) of the clips 12 at that time is assumed to be α1. In the region 20A (preheating region), the pitch (P2) of the clip 12 that grips the membrane 8 is α1. As described above, in the region 20B (stretching region), the pitch (P2) of the clip 12 that grips the film 8 gradually increases as it progresses in the transport direction (MD direction). The pitch (P2) of the clips 12 that grip the film 8 after the stretching process has been performed in the region 20B (stretching region), that is, the pitch (P2) of the clips 12 that grip the film 8 in the region 20C (thermal setting region). be α2. α2 is greater than α1, and α1<α2. The pitch (P2) of the clip 12 that grips the membrane 8 is substantially constant and α1 in the region 20A, gradually increases from α1 to α2 in the region 20B, and is substantially constant in the region 20C. Yes, and α2. The ratio of α2 to α1 (that is, α2/α1) corresponds to the stretching ratio (stretch ratio) of the film 8 in the MD direction. For example, if α2 is 7 times as large as α1 (i.e., α2/α1=7), the film 8 will be stretched 7 times in the MD direction by the stretching device 5, and α2 will be 5 times as large as α1 (i.e., If α2/α1=5), the film 8 will be stretched five times in the MD direction by the stretching device 5 .

レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)とで、膜8のMD方向における延伸倍率が相違する。例えば、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)は、膜8のMD方向における延伸倍率(α2/α1)は、7倍であり、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)は、膜8のMD方向における延伸倍率(α2/α1)は、5倍となる。このため、膜8のMD方向における延伸倍率を7倍にしたいときには、支持台15上におけるレール13の配置位置をレール位置72とし、膜8のMD方向における延伸倍率を5倍にしたいときには、支持台15上におけるレール13の配置位置をレール位置73に変更すればよい。なお、ここで示したMD方向の延伸倍率の数値は、一例であり、これに限定されるものではない。 When the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 6 and 8 to 10), and when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is placed at the rail position 73 (in the case of FIGS. 11 to 14), the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is different. For example, when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 6 and 8 to 10), the stretching ratio of the film 8 in the MD direction (α2/α1 ) is 7 times, and when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 73 (in the case of FIGS. 11 to 14), the stretching ratio of the film 8 in the MD direction ( α2/α1) becomes five times. Therefore, when it is desired to increase the stretching ratio of the film 8 in the MD direction to 7 times, the position of the rail 13 on the support table 15 is set to the rail position 72, and when it is desired to increase the stretching ratio of the film 8 in the MD direction to 5 times, the supporting position is set to the rail position 72. The arrangement position of the rail 13 on the base 15 may be changed to the rail position 73 . In addition, the numerical value of the draw ratio of MD direction shown here is an example, and is not limited to this.

また、延伸装置5の入口において、膜8がクリップ12により把持されるが、そのときの膜8の幅(TD方向の寸法)を幅β1と仮定する。膜8の幅は、その膜8を把持するリンク装置10Rのクリップ12Rとリンク装置10Lのクリップ12Lとの間の間隔(TD方向の間隔)とほぼ一致している。上述のように、膜8は、領域20B(延伸領域)でMD方向およびTD方向に引き伸ばされるため、膜8の幅(TD方向の寸法)は、領域20B(延伸領域)で徐々に大きくなる。領域20B(延伸領域)で延伸処理が行われた後の膜8の幅、すなわち、領域20C(熱固定領域)における膜8の幅(TD方向の寸法)を、β2と仮定する。β2はβ1よりも大きく、β1<β2が成り立つ。膜8の幅は、領域20A(予熱領域)では、ほぼ一定であり、β1となっており、領域20B(延伸領域)では、β1からβ2へ徐々に大きくなり、領域20C(熱固定領域)では、はほぼ一定であり、β2となっている。β1に対するβ2の比(すなわちβ2/β1)が、膜8のTD方向における延伸処理の倍率(延伸倍率)に対応している。例えば、β2がβ1の7倍(すなわちβ2/β1=7)であれば、延伸装置5によって膜8は、TD方向に7倍に引き伸ばされることになる。 Also, the film 8 is gripped by the clip 12 at the entrance of the stretching device 5, and the width of the film 8 (dimension in the TD direction) at that time is assumed to be width β1. The width of the film 8 substantially matches the distance (the distance in the TD direction) between the clip 12R of the linking device 10R and the clip 12L of the linking device 10L that grip the film 8. As shown in FIG. As described above, the film 8 is stretched in the MD and TD directions in the region 20B (stretching region), so the width (dimension in the TD direction) of the film 8 gradually increases in the region 20B (stretching region). Assume that the width of the film 8 after the stretching treatment is performed in the region 20B (stretching region), that is, the width (dimension in the TD direction) of the film 8 in the region 20C (heat setting region) is β2. β2 is greater than β1, and β1<β2 holds. The width of the membrane 8 is almost constant and β1 in the region 20A (preheating region), gradually increases from β1 to β2 in the region 20B (stretching region), and , is almost constant and is β2. The ratio of β2 to β1 (ie, β2/β1) corresponds to the stretching ratio (stretch ratio) of the film 8 in the TD direction. For example, if β2 is 7 times β1 (ie, β2/β1=7), the film 8 will be stretched 7 times in the TD direction by the stretching device 5 .

レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)とで、膜8のTD方向における延伸倍率は同じである。なぜなら、レール13の配置位置をレール位置72からレール位置73に変更しても、レール14の配置位置は、レール位置71から変更されないためである。膜8を把持するリンク装置10Rのクリップ12Rとリンク装置10Lのクリップ12Lとの間の間隔(TD方向の間隔)は、リンク装置10Rのレール14R(外側レール)とリンク装置10Lのレール14L(外側レール)との間の間隔(TD方向の間隔)によって規定される。このため、膜8のTD方向における延伸倍率に影響を与えるのは、リンク装置10Rにおけるレール13R,14Rの間隔(L1)やリンク装置10Lにおけるレール13L,14Lの間隔(L1)ではなく、リンク装置10Rのレール14Rとリンク装置10Lのレール14Lとの間の間隔(L2)である。従って、リンク装置10Rのレール14Rの位置とリンク装置10Lのレール14Lの位置とを変更しなければ、膜8のTD方向における延伸倍率は変更されない。例えば、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合(図6および図8~図10の場合)と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合(図11~図14の場合)のどちらも、膜8のTD方向における延伸倍率(β2/β1)は、7倍である。なお、ここで示したTD方向の延伸倍率の数値は、一例であり、これに限定されるものではない。 When the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 6 and 8 to 10), and when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is placed at the rail position 73 (in the case of FIGS. 11 to 14), the stretching ratio of the film 8 in the TD direction is the same. This is because even if the arrangement position of the rail 13 is changed from the rail position 72 to the rail position 73 , the arrangement position of the rail 14 is not changed from the rail position 71 . The distance between the clip 12R of the linkage 10R and the clip 12L of the linkage 10L that grip the membrane 8 (the distance in the TD direction) is the rail 14R (outer rail) of the linkage 10R and the rail 14L (outer rail) of the linkage 10L. rail) (interval in the TD direction). Therefore, it is not the spacing (L1) between the rails 13R and 14R in the linking device 10R or the spacing (L1) between the rails 13L and 14L in the linking device 10L that affects the draw ratio of the membrane 8 in the TD direction, but the linking device The distance (L2) between the rail 14R of 10R and the rail 14L of the linkage 10L. Therefore, unless the position of the rail 14R of the linking device 10R and the position of the rail 14L of the linking device 10L are changed, the draw ratio of the film 8 in the TD direction is not changed. For example, when the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 (in the case of FIGS. 6 and 8 to 10), the rail 14 is arranged at the rail position 71 and In both cases where the rail 13 is placed at the rail position 73 (cases of FIGS. 11 to 14), the draw ratio (β2/β1) of the film 8 in the TD direction is 7 times. In addition, the numerical value of the draw ratio of the TD direction shown here is an example, and is not limited to this.

ここで、リンク装置10Rにおけるレール位置71、レール位置72およびレール位置73を、それぞれレール位置71R、レール位置72Rおよびレール位置73Rと称し、リンク装置10Lにおけるレール位置71、レール位置72およびレール位置73を、それぞれレール位置71L、レール位置72Lおよびレール位置73Lと称することとする。 Here, rail position 71, rail position 72 and rail position 73 in link device 10R are referred to as rail position 71R, rail position 72R and rail position 73R, respectively, and rail position 71, rail position 72 and rail position 73 in link device 10L. are referred to as rail position 71L, rail position 72L, and rail position 73L, respectively.

リンク装置10Rにおいて、レール14Rをレール位置71Rに配置し、かつ、レール13Rをレール位置72Rに配置しているときには、リンク装置10Lにおいて、レール14Lをレール位置71Lに配置し、かつ、レール13Lをレール位置72Lに配置する。一方、リンク装置10Rにおいて、レール14Rをレール位置71Rに配置し、かつ、レール13Rをレール位置73Rに配置しているときには、リンク装置10Lにおいて、レール14Lをレール位置71Lに配置し、かつ、レール13Lをレール位置73Lに配置する。つまり、リンク装置10Rにおいて、レール13Rの配置位置をレール位置72Rからレール位置73Rに変更するときには、リンク装置10Lにおいて、レール13Lの配置位置をレール位置72Lからレール位置73Lに変更する。これにより、膜8の左側(リンク装置10L側)におけるMD方向の延伸倍率(α2/α1)と、膜8の右側(リンク装置10R側)におけるMD方向の延伸倍率(α2/α1)とを、一致させることができるため、膜8の延伸処理を的確に行うことができる。 When the rail 14R is placed at the rail position 71R and the rail 13R is placed at the rail position 72R in the link device 10R, the rail 14L is placed at the rail position 71L and the rail 13L is placed at the rail position 71L in the link device 10L. It is placed at the rail position 72L. On the other hand, when the rail 14R is arranged at the rail position 71R and the rail 13R is arranged at the rail position 73R in the link device 10R, the rail 14L is arranged at the rail position 71L and the rail 13L at rail position 73L. That is, when the arrangement position of the rail 13R is changed from the rail position 72R to the rail position 73R in the link device 10R, the arrangement position of the rail 13L is changed from the rail position 72L to the rail position 73L in the link device 10L. As a result, the MD stretch ratio (α2/α1) on the left side of the film 8 (link device 10L side) and the MD stretch ratio (α2/α1) on the right side of the film 8 (link device 10R side) are Since they can be matched, the stretching process of the film 8 can be performed accurately.

膜8の延伸処理を的確に行うためには、MD方向の位置が同じ場合に、リンク装置10Rにおけるリンク11のピッチP1とリンク装置10Lにおけるリンク11のピッチP1とが同じになることが好ましく、従って、MD方向の位置が同じ場合に、リンク装置10Rにおけるクリップ12のピッチP2とリンク装置10Lにおけるクリップ12のピッチP2とが同じになることが好ましい。これにより、リンク装置10Rにおけるα2/α1(MD方向における延伸倍率)とリンク装置10Lにおけるα2/α1(MD方向における延伸倍率)とを同じにすることができる。従って、これを実現できるように、リンク装置10Rにおけるレール位置71R,72R,73Rとリンク装置10Lにおけるレール位置71L,72L,73Lとを設定しておくことが好ましい。 In order to perform the stretching process of the membrane 8 accurately, it is preferable that the pitch P1 of the links 11 in the linking device 10R and the pitch P1 of the links 11 in the linking device 10L are the same when the positions in the MD direction are the same. Therefore, when the positions in the MD direction are the same, it is preferable that the pitch P2 of the clips 12 in the link device 10R and the pitch P2 of the clips 12 in the link device 10L are the same. Thereby, α2/α1 (stretch ratio in the MD direction) in the link device 10R and α2/α1 (stretch ratio in the MD direction) in the link device 10L can be made the same. Therefore, it is preferable to set the rail positions 71R, 72R, 73R in the link device 10R and the rail positions 71L, 72L, 73L in the link device 10L so as to realize this.

また、レール位置72とレール位置73とは、全てが相違している訳ではなく、一部は共通している。すなわち、図8および図11において、符号81を付した矢印で指し示された位置81よりも手前(MD方向における手前)では、レール位置72とレール位置73とは相違しているが、位置81でレール位置72とレール位置73とが重なり、位置81よりも先(MD方向における先)では、レール位置72とレール位置73とは一致している。この位置81は、MD方向において、領域20Bの途中に存在している。このため、リンク装置10L,10Rのそれぞれの膜側において、MD方向に見ると、領域20Aと領域20Bの途中(位置81)までは、レール位置72とレール位置73とは相違しているが、領域20Bの途中(位置81)から先と、領域20Cでは、レール位置72とレール位置73とは一致している。レール位置72とレール位置73とが相違している領域は、穴部51bと穴部51cとが別々に設けられているが、レール位置72とレール位置73とが一致している領域では、穴部51bと穴部51cとが共通化されており、穴部51bが穴部51cも兼ねている。このため、リンク装置10L,10Rのそれぞれの膜側において、MD方向に見て、領域20Aと領域20Bの途中(位置81)までは、穴部51bと穴部51cとが別々に設けられているが、領域20Bの途中(位置81)から先と、領域20Cでは、穴部51bと穴部51cとが共通化されており、穴部51bが穴部51cも兼ねている。従って、穴部51bとは別に穴部51cを設ける必要があるのは、領域20Aと領域20Bの途中(位置81)までであり、領域20Bの途中(位置81)から先と、領域20Cでは、穴部51bとは別に穴部51cを設けなくともよい。このため、レール13の配置位置をレール位置72からレール位置73に変更するときは、領域20Aと領域20Bの途中(位置81)までにおいて、レール13の配置位置を変更すればよく、領域20Bの途中(位置81)から先と、領域20Cでは、レール13の配置位置は変更しなくてよい。 In addition, the rail positions 72 and 73 are not entirely different, and some of them are common. That is, in FIGS. 8 and 11, the rail position 72 and the rail position 73 are different before the position 81 indicated by the arrow with the reference numeral 81 (this side in the MD direction), but the position 81 , the rail position 72 and the rail position 73 overlap each other, and the rail position 72 and the rail position 73 coincide with each other ahead of the position 81 (in the MD direction). This position 81 exists in the middle of the region 20B in the MD direction. Therefore, on the film side of each of the link devices 10L and 10R, when viewed in the MD direction, the rail positions 72 and 73 are different up to the middle of the regions 20A and 20B (position 81). From the middle of the region 20B (position 81) onwards, and in the region 20C, the rail positions 72 and 73 match. In the region where the rail positions 72 and 73 are different, the hole portions 51b and 51c are provided separately. The portion 51b and the hole portion 51c are shared, and the hole portion 51b also serves as the hole portion 51c. Therefore, on the film side of each of the link devices 10L and 10R, the hole 51b and the hole 51c are separately provided up to the middle of the regions 20A and 20B (position 81) when viewed in the MD direction. However, in the area 20C from the middle (position 81) of the area 20B, the hole 51b and the hole 51c are shared, and the hole 51b also serves as the hole 51c. Therefore, it is necessary to provide the hole portion 51c separately from the hole portion 51b up to the middle of the region 20A and the region 20B (position 81). It is not necessary to provide the hole portion 51c separately from the hole portion 51b. Therefore, when changing the arrangement position of the rail 13 from the rail position 72 to the rail position 73, it is sufficient to change the arrangement position of the rail 13 between the regions 20A and 20B (position 81). It is not necessary to change the arrangement position of the rail 13 from the middle (position 81) to the region 20C.

<検討例について>
図15~図18を参照して、本発明者が検討した検討例の延伸装置について説明する。図15は、検討例の延伸装置におけるレール13,14の配置位置を示す平面図であり、上記図8に相当するものである。図16は、図15の二点鎖線で囲まれた領域RG101を拡大して示す部分拡大平面図であり、上記図9に相当するものである。図17は、図15の二点鎖線で囲まれた領域RG102を拡大して示す部分拡大平面図であり、上記図10に相当するものである。図18は、検討例の延伸装置におけるリンク11の断面図であり、上記図6に対応するものである。
<Consideration example>
15 to 18, the stretching apparatus of the study example examined by the present inventors will be described. FIG. 15 is a plan view showing the arrangement positions of the rails 13 and 14 in the stretching device of the study example, and corresponds to FIG. 8 above. FIG. 16 is a partially enlarged plan view showing an enlarged region RG101 surrounded by a two-dot chain line in FIG. 15, and corresponds to FIG. 9 above. FIG. 17 is a partially enlarged plan view showing an enlarged region RG102 surrounded by a two-dot chain line in FIG. 15, and corresponds to FIG. 10 above. FIG. 18 is a cross-sectional view of the link 11 in the stretching device of the study example, and corresponds to FIG. 6 above.

図15に示される検討例の延伸装置も、上記リンク装置10Rに相当するリンク装置110Rと、上記リンク装置10Lに相当するリンク装置110Lとを有している。図15に示されるように、リンク装置110L,110Rのそれぞれは、上記支持台15に相当する支持台115とその上に配置されたレール13,14とを有している。なお、図15には示されないが、リンク装置110L,110Rのそれぞれは、上記リンク装置10L,10Rと同様に、上記複数のリンク11と、その複数のリンク11にそれぞれ取り付けられた上記複数のクリップ12と、その複数のリンク11を駆動する上記スプロケット16,17,18も有している。 15 also has a linking device 110R corresponding to the linking device 10R and a linking device 110L corresponding to the linking device 10L. As shown in FIG. 15, each of the link devices 110L and 110R has a support base 115 corresponding to the support base 15 and rails 13 and 14 arranged thereon. Although not shown in FIG. 15, each of the link devices 110L and 110R includes the plurality of links 11 and the plurality of clips attached to the plurality of links 11, respectively, in the same manner as the link devices 10L and 10R. 12 and the sprockets 16, 17, 18 driving the links 11 thereof.

検討例の延伸装置におけるリンク装置110L,110Rが、本実施の形態の延伸装置5におけるリンク装置10L,10Rと相違しているのは、以下の点である。すなわち、図15~図18からも分かるように、リンク装置110L,110Rのそれぞれが備える支持台115は、レール14をレール位置71に位置決めするための複数の穴部51aと、レール13をレール位置72に位置決めするための複数の穴部51bとを有しているが、レール13を上記レール位置73に位置決めするための上記複数の穴部51cは有していない。このため、レール14はレール位置71に配置され、レール13はレール位置72に配置されており、支持台15上におけるレール13,14の配置位置は、変更できず、固定されている。レール14は、レール位置71に配置され、レール14の穴部61と支持台15の穴部51aとにネジ41が挿入されることで、レール14が支持台15に固定されている。また、レール13は、レール位置72に配置され、レール13の穴部62と支持台15の穴部51bとにネジ41が挿入されることで、レール13が支持台15に固定されている。 The link devices 110L and 110R in the stretching device of the study example differ from the link devices 10L and 10R in the stretching device 5 of the present embodiment in the following points. That is, as can be seen from FIGS. 15 to 18, the support base 115 provided in each of the link devices 110L and 110R has a plurality of holes 51a for positioning the rail 14 at the rail position 71 and a plurality of holes 51a for positioning the rail 13 at the rail position 71. 72 are provided, but the plurality of holes 51c for positioning the rail 13 at the rail position 73 are not provided. Therefore, the rail 14 is arranged at the rail position 71, the rail 13 is arranged at the rail position 72, and the arrangement positions of the rails 13 and 14 on the support base 15 cannot be changed and are fixed. The rail 14 is arranged at the rail position 71 , and the rail 14 is fixed to the support base 15 by inserting the screw 41 into the hole 61 of the rail 14 and the hole 51 a of the support base 15 . The rail 13 is arranged at the rail position 72 , and the rail 13 is fixed to the support base 15 by inserting the screw 41 into the hole 62 of the rail 13 and the hole 51 b of the support base 15 .

このため、検討例の延伸装置(図15~図18)の場合は、リンク装置110L,110Rは、レール13,14の配置位置が変更できないため、膜の延伸倍率を変更することが困難である。例えば、延伸装置の各リンク装置110L,110Rにおけるレール13,14の配置位置を、膜の延伸倍率がTD方向に7倍、MD方向に7倍となるように設定していた場合は、その延伸装置を用いて、膜の延伸倍率がTD方向に7倍、MD方向に5倍となるような延伸処理を行うことは困難である。このため、検討例の場合は、既に使用している延伸装置で可能な延伸倍率とは異なる延伸倍率の延伸処理が必要になったときには、別の延伸装置を用意するか、あるいは、既に使用している延伸装置において大掛かりな変更を行うことで、対処する必要がある。これは、延伸装置を用いて薄膜を製造する際に、製造コストを増加させてしまう。 Therefore, in the case of the stretching device of the study example (FIGS. 15 to 18), it is difficult to change the stretching ratio of the film because the arrangement positions of the rails 13 and 14 of the link devices 110L and 110R cannot be changed. . For example, if the positions of the rails 13 and 14 in the link devices 110L and 110R of the stretching device are set so that the stretching ratio of the film is 7 times in the TD direction and 7 times in the MD direction, the stretching It is difficult to perform a stretching process using an apparatus such that the film is stretched at a stretch ratio of 7 times in the TD direction and 5 times in the MD direction. For this reason, in the case of the study example, when it becomes necessary to perform a stretching process with a different stretching ratio than that possible with the stretching device that is already in use, another stretching device is prepared, or the stretching device that is already in use is used. This needs to be addressed by making major changes in the drawing equipment that is used. This increases the production cost when producing a thin film using a stretching device.

また、リンク装置110L,110Rのそれぞれにおいて、レール13の位置を動かす機構(可動機構)を設けることも考えられるが、これは、延伸装置の構造を複雑化し、延伸装置の製造コストの増大を招いてしまう。これも、延伸装置を用いて薄膜を製造する際に、製造コストを増加させてしまう。 It is also conceivable to provide a mechanism (moving mechanism) for moving the position of the rail 13 in each of the link devices 110L and 110R, but this complicates the structure of the stretching device and increases the manufacturing cost of the stretching device. I will stay. This also increases the manufacturing cost when manufacturing a thin film using a stretching device.

<主要な特徴と効果について>
本実施の形態における延伸装置5は、膜(熱可塑性樹脂膜)8の搬送および延伸を行う一対のリンク装置10L,10Rと、その一対のリンク装置10L,10Rの中央部を覆い、膜8に熱処理を行うための熱処理部19と、を含んでいる。一対のリンク装置10L,10Rのそれぞれは、支持台15と、支持台15上に配置された、平面視において環状のレール(外側レール)14およびレール14の内周側にレール14に対向するように配置されたレール(内側レール)13と、を有している。
<Main features and effects>
The stretching device 5 in the present embodiment includes a pair of link devices 10L and 10R for transporting and stretching the film (thermoplastic resin film) 8, and a central portion of the pair of link devices 10L and 10R that covers the film 8. and a heat treatment section 19 for performing heat treatment. Each of the pair of link devices 10L and 10R includes a support base 15, an annular rail (outer rail) 14 arranged on the support base 15 in a plan view, and an inner peripheral side of the rail 14 so as to face the rail 14. and a rail (inner rail) 13 arranged on the .

本実施の形態の主要な特徴は、一対のリンク装置10L,10Rのそれぞれが、レール13をレール位置72に位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51b)と、レール13をレール位置73に位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51c)と、を有していることである。レール13がレール位置72またはレール位置73に配置されることで、膜8の延伸倍率を可変とすることができる。 The main feature of this embodiment is that each of the pair of link devices 10L and 10R includes positioning means (here, a plurality of holes 51b) for positioning the rail 13 at the rail position 72, and positioning the rail 13 at the rail position 72. 73 and positioning means (here, a plurality of holes 51c). By arranging the rail 13 at the rail position 72 or the rail position 73, the stretching ratio of the film 8 can be made variable.

具体的には、支持台15Lが、レール13Lをレール位置72Lに位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51b)と、レール13Lをレール位置73Lに位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51c)と、を有している。また、支持台15Rが、レール13Rをレール位置72Rに位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51b)と、レール13Rをレール位置73Rに位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51c)と、を有している。レール13Lは、レール位置72Lとレール位置73Lのいずれかに配置され、レール13Rは、レール位置72Rとレール位置73Rのいずれかに配置されている。 Specifically, the support base 15L includes positioning means (here, a plurality of holes 51b) for positioning the rail 13L at the rail position 72L, and positioning means (here, a plurality of holes 51b) for positioning the rail 13L at the rail position 73L. a plurality of holes 51c). Further, the support base 15R includes positioning means (here, a plurality of holes 51b) for positioning the rail 13R at the rail position 72R, and positioning means (here, a plurality of holes) for positioning the rail 13R at the rail position 73R. 51c). The rail 13L is arranged at either the rail position 72L or the rail position 73L, and the rail 13R is arranged at either the rail position 72R or the rail position 73R.

リンク装置10Lが、レール13Lをレール位置72Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置73Lに位置決めするための位置決め手段とを有しているため、レール13Lは、レール位置72Lとレール位置73Lのどちらにも位置決めして配置することができる。レール位置72L用の位置決め手段とレール位置73L用の位置決め手段とがあるため、レール13Lをレール位置72Lに配置していたとしても、レール13Lの配置位置は、レール位置72Lからレール位置73Lに変更可能であり、また、レール13Lをレール位置73Lに配置していたとしても、レール13Lの配置位置は、レール位置73Lからレール位置72Lに変更可能である。また、リンク装置10Rが、レール13Rをレール位置72Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置73Rに位置決めするための位置決め手段とを有しているため、レール13Rは、レール位置72Rとレール位置73Rのどちらにも位置決めして配置することができる。レール位置72R用の位置決め手段とレール位置73R用の位置決め手段とがあるため、レール13Rをレール位置72Rに配置していたとしても、レール13Rの配置位置は、レール位置72Rからレール位置73Rに変更可能であり、また、レール13Rをレール位置73Rに配置していたとしても、レール13Rの配置位置は、レール位置73Rからレール位置72Rに変更可能である。 Since the link device 10L has positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 72L and positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 73L, the rail 13L is positioned at the rail position 72L and at the rail position 72L. It can be positioned and placed in either position 73L. Since there are positioning means for the rail position 72L and positioning means for the rail position 73L, even if the rail 13L is arranged at the rail position 72L, the arrangement position of the rail 13L is changed from the rail position 72L to the rail position 73L. Moreover, even if the rail 13L is arranged at the rail position 73L, the arrangement position of the rail 13L can be changed from the rail position 73L to the rail position 72L. Further, since the link device 10R has positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 72R and positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 73R, the rail 13R is positioned at the rail position 72R. and rail position 73R. Since there are positioning means for the rail position 72R and positioning means for the rail position 73R, even if the rail 13R is arranged at the rail position 72R, the arrangement position of the rail 13R is changed from the rail position 72R to the rail position 73R. Moreover, even if the rail 13R is arranged at the rail position 73R, the arrangement position of the rail 13R can be changed from the rail position 73R to the rail position 72R.

このため、本実施の形態の延伸装置5の場合は、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおけるレール13,14の配置位置が変更可能であるため、膜の延伸倍率を変更することが容易である。すなわち、レール13Lとレール13Rの配置位置が変更可能であるため、レール13Lをレール位置72Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置72Rに配置した場合と、レール13Lをレール位置73Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置73Rに配置した場合とで、膜8のMD方向における延伸倍率を異ならせることができる。レール13Lとレール13Rの配置位置を変更することにより、膜8のMD方向における延伸倍率を変更することができるため、容易かつ的確に、膜8の延伸倍率の変更を行うことができる。このため、1台の延伸装置を用いて、延伸倍率が異なる複数の延伸処理を行うことが可能になる。延伸装置5を用いて延伸処理を行っていて、その延伸処理とは異なる延伸倍率の延伸処理が必要になったときには、その延伸装置5においてレール13L,13Rの配置位置を変更すればよいため、別の延伸装置を用意する必要がなく、また、延伸装置5において大掛かりな変更を行う必要もない。また、必要な延伸装置の台数を低減することができる。このため、延伸装置を用いて薄膜を製造する際に、製造コストを抑制(低減)することができる。 Therefore, in the case of the stretching device 5 of the present embodiment, it is possible to change the arrangement positions of the rails 13 and 14 in each of the link devices 10L and 10R, so that it is easy to change the stretching ratio of the film. That is, since the arrangement positions of the rail 13L and the rail 13R can be changed, the rail 13L is arranged at the rail position 72L and the rail 13R is arranged at the rail position 72R, and the rail 13L is arranged at the rail position 73L. Moreover, the draw ratio of the film 8 in the MD direction can be made different between when the rail 13R is arranged at the rail position 73R. By changing the arrangement positions of the rails 13L and 13R, the draw ratio of the film 8 in the MD direction can be changed. Therefore, the draw ratio of the film 8 can be easily and accurately changed. Therefore, it is possible to perform a plurality of stretching processes with different stretching ratios using one stretching apparatus. When the stretching process is performed using the stretching device 5 and a stretching process with a different stretching ratio from the stretching process is required, the arrangement positions of the rails 13L and 13R in the stretching device 5 can be changed. There is no need to provide a separate drawing device and no major modifications to the drawing device 5 are required. In addition, the number of required drawing apparatuses can be reduced. Therefore, the production cost can be suppressed (reduced) when producing a thin film using a stretching device.

例えば、レール13Lをレール位置72Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置72Rに配置した場合に、膜8のMD方向における延伸倍率が7倍になるように、レール位置72L,72Rを設定しておく。そして、レール13Lをレール位置73Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置73Rに配置した場合に、膜8のMD方向における延伸倍率が5倍になるように、レール位置73L,73Rを設定しておく。これにより、MD方向における延伸倍率が7倍の延伸処理と、MD方向における延伸倍率が5倍の延伸処理とを、1台の延伸装置5を用いて行うことができ、延伸倍率の変更も、容易かつ的確に行うことができる。なお、ここで言及した延伸倍率の数値は一例である。 For example, the rail positions 72L and 72R are set so that when the rail 13L is placed at the rail position 72L and the rail 13R is placed at the rail position 72R, the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is 7 times. Keep The rail positions 73L and 73R are set so that the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is 5 times when the rail 13L is placed at the rail position 73L and the rail 13R is placed at the rail position 73R. Keep As a result, the stretching process with a draw ratio of 7 times in the MD direction and the stretching process with a draw ratio of 5 times in the MD direction can be performed using one stretching device 5, and the change in the draw ratio can be It can be done easily and accurately. In addition, the numerical value of the draw ratio mentioned here is an example.

また、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール13の位置を動かす機構(可動機構)を設けなくともよく、レール13の配置位置を手動で変更することができる。その際、レール位置72L用の位置決め手段とレール位置73L用の位置決め手段とによって、レール13Lを位置決めし、レール位置72R用の位置決め手段とレール位置73R用の位置決め手段とによって、レール13Rを位置決めすることができる。このため、延伸装置の構造を簡略化でき、延伸装置の製造コストを抑制することができる。また、延伸装置の小型化を図ることもできる。 Moreover, in each of the link devices 10L and 10R, there is no need to provide a mechanism (moving mechanism) for moving the position of the rail 13, and the arrangement position of the rail 13 can be changed manually. At that time, the rail 13L is positioned by the positioning means for the rail position 72L and the positioning means for the rail position 73L, and the rail 13R is positioned by the positioning means for the rail position 72R and the positioning means for the rail position 73R. be able to. Therefore, the structure of the stretching device can be simplified, and the manufacturing cost of the stretching device can be suppressed. Also, the size of the stretching device can be reduced.

また、1台の延伸装置において、MD方向の延伸処理の倍率を変更できるため、延伸処理を行う膜8に合わせて、MD方向の延伸処理の倍率を選択することができる。このため、製造された薄膜(延伸処理後の膜)の特性を向上させることができる。 In addition, since the stretching magnification in the MD direction can be changed in one stretching apparatus, the stretching magnification in the MD direction can be selected according to the film 8 to be stretched. Therefore, the properties of the produced thin film (film after stretching) can be improved.

また、レール13Lをレール位置72Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置73Lに位置決めするための位置決め手段とは、それぞれ、支持台15Lに設けられた複数の穴部51とすることができる。また、レール13Rをレール位置72Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置73Rに位置決めするための位置決め手段とは、それぞれ、支持台15Rに設けられた複数の穴部51とすることができる。これにより、簡単な構成で、レール13L,13Rを位置決めして固定することができるため、延伸装置の構造を簡略化でき、延伸装置の製造コストを抑制することができる。 The positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 72L and the positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 73L are each a plurality of holes 51 provided in the support base 15L. can be done. The positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 72R and the positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 73R are each a plurality of holes 51 provided in the support base 15R. can be done. As a result, the rails 13L and 13R can be positioned and fixed with a simple configuration, so that the structure of the stretching device can be simplified and the manufacturing cost of the stretching device can be suppressed.

また、リンク装置10Lにおいて、レール位置72Lとレール位置73Lとは、互いに相違する部分と、互いに共通する部分とを有し、また、リンク装置10Rにおいて、レール位置72Rとレール位置73Rとは、互いに相違する部分と、互いに共通する部分とを有している。これにより、延伸倍率を変更する際に、レール位置72Lとレール位置73Lとが互いに共通する部分では、レール13Lを動かさずに済み、また、レール位置72Rとレール位置73Rとが互いに共通する部分では、レール13Rを動かさずに済むため、レール13L,13Rの配置位置の変更に伴う労力を低減することができる。 Further, in the link device 10L, the rail positions 72L and 73L have different parts and common parts, and in the link device 10R, the rail positions 72R and 73R It has parts that are different and parts that are common to each other. As a result, when changing the draw ratio, it is not necessary to move the rails 13L at the portions where the rail positions 72L and 73L are common, and at the portions where the rail positions 72R and 73R are common. Since it is not necessary to move the rail 13R, it is possible to reduce labor involved in changing the arrangement positions of the rails 13L and 13R.

具体的には、レール位置72Lとレール位置73Lとが互いに相違する部分は、領域20Aおよび領域20Bに存在し、レール位置72Rとレール位置73Rとが互いに相違する部分は、領域20Aおよび領域20Bに存在している。領域20Cでは、レール位置72Lとレール位置73Lとは互いに共通し、かつ、レール位置72Rとレール位置73Rとは互いに共通している。このため、延伸倍率を変更する際に、領域20Cでは、レール13L,13Rの配置位置を変更する必要はなく、その分、レール13L,13Rの配置位置の変更に伴う労力を低減することができる。 Specifically, the portions where the rail positions 72L and 73L differ from each other exist in the regions 20A and 20B, and the portions where the rail positions 72R and 73R differ from each other exist in the regions 20A and 20B. Existing. In the region 20C, the rail positions 72L and 73L are common, and the rail positions 72R and 73R are common. Therefore, when changing the draw ratio, it is not necessary to change the arrangement positions of the rails 13L and 13R in the region 20C, and the labor involved in changing the arrangement positions of the rails 13L and 13R can be reduced accordingly. .

(実施の形態2)
上記実施の形態1では、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール13の配置可能な位置は、レール位置72とレール位置73の2つであったが、レール13の配置可能な位置は、3つ以上とすることもでき、その場合が本実施の形態2に対応している。
(Embodiment 2)
In the first embodiment described above, in each of the link devices 10L and 10R, there are two positions where the rail 13 can be arranged, that is, the rail position 72 and the rail position 73. However, there are three positions where the rail 13 can be arranged. It is also possible to have more than one, and that case corresponds to the second embodiment.

図19は、本実施の形態2におけるレール13,14の配置位置を示す平面図であり、上記図8に対応するものであり、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール14がレール位置71に配置され、レール13がレール位置72に配置された状態が示されている。図20は、図19の二点鎖線で囲まれた領域RG5を拡大して示す部分拡大平面図であり、図21は、図19の二点鎖線で囲まれた領域RG6を拡大して示す部分拡大平面図である。図19~図21において、レール位置73とレール位置74は、それぞれ点線で示してある。 FIG. 19 is a plan view showing the arrangement positions of the rails 13 and 14 in the second embodiment, and corresponds to FIG. 8 above. positioned and shown with rail 13 positioned at rail position 72 . 20 is a partially enlarged plan view showing an enlarged region RG5 surrounded by a two-dot chain line in FIG. 19, and FIG. 21 is a portion showing an enlarged region RG6 surrounded by a two-dot chain line in FIG. It is an enlarged plan view. In FIGS. 19-21, rail position 73 and rail position 74 are indicated by dashed lines.

本実施の形態2においては、図19~図21からも分かるように、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール13は、レール位置72とレール位置73とレール位置73のいずれにも配置可能である。すなわち、図19~図21では、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール13はレール位置72に配置されているが、レール13の配置位置は、レール位置73およびレール位置74のいずれにも変更可能である。なお、リンク装置10Lにおけるレール位置74をレール位置74Lと称し、リンク装置10Rにおけるレール位置74をレール位置74Rと称する。リンク装置10Rにおいて、レール14Rをレール位置71Rに配置し、かつ、レール13Rをレール位置74Rに配置しているときには、リンク装置10Lにおいて、レール14Lをレール位置71Lに配置し、かつ、レール13Lをレール位置74Lに配置する。 In the second embodiment, as can be seen from FIGS. 19 to 21, the rails 13 can be arranged at any of the rail positions 72, 73, and 73 in each of the link devices 10L and 10R. be. 19 to 21, the rail 13 is arranged at the rail position 72 in each of the link devices 10L and 10R. It is possible. The rail position 74 in the link device 10L is called a rail position 74L, and the rail position 74 in the link device 10R is called a rail position 74R. When the rail 14R is placed at the rail position 71R and the rail 13R is placed at the rail position 74R in the link device 10R, the rail 14L is placed at the rail position 71L and the rail 13L is placed at the rail position 71L in the link device 10L. Place at rail position 74L.

このため、支持台15には、レール14をレール位置71に位置決めするための複数の穴部51aと、レール13をレール位置72に位置決めするための複数の穴部51bと、レール13をレール位置73に位置決めするための複数の穴部51cとに加えて、更に、レール13をレール位置74に位置決めするための複数の穴部51dも形成されている。このため、支持台15に形成された複数の穴部51は、複数の穴部51aと、複数の穴部51bと、複数の穴部51cと、複数の穴部51dとを含んでいる。 For this reason, the support base 15 has a plurality of holes 51a for positioning the rail 14 at the rail position 71, a plurality of holes 51b for positioning the rail 13 at the rail position 72, and a plurality of holes 51b for positioning the rail 13 at the rail position 72. In addition to the plurality of holes 51c for positioning the rail 73, a plurality of holes 51d for positioning the rail 13 at the rail position 74 are also formed. Therefore, the plurality of holes 51 formed in the support base 15 includes a plurality of holes 51a, a plurality of holes 51b, a plurality of holes 51c, and a plurality of holes 51d.

支持台15において、穴部51dは、レール位置74に沿って並ぶように、複数配置されている。レール13をレール位置74に配置したときには、レール13の上記穴部62と支持台15の穴部51dとに上記ネジ41を挿入することで、レール13を支持台15に固定することができる。支持台15の穴部51dは、その支持台15上に配置するレール13の位置を決める位置決め手段(位置決め部)として機能することができ、その穴部51dを利用することにより、レール13をレール位置74に位置決めして固定することができる。 In the support base 15 , a plurality of holes 51 d are arranged along the rail position 74 . When the rail 13 is arranged at the rail position 74 , the rail 13 can be fixed to the support base 15 by inserting the screw 41 into the hole 62 of the rail 13 and the hole 51 d of the support base 15 . The hole portion 51d of the support base 15 can function as a positioning means (positioning portion) for determining the position of the rail 13 arranged on the support base 15. By using the hole portion 51d, the rail 13 can be positioned as a rail. It can be positioned and fixed at position 74 .

このため、レール13をレール位置72に配置することと、レール13をレール位置73に配置することと、レール13をレール位置74に配置することとを、選択することができる。そして、支持台15上におけるレール13の配置位置を、レール位置72からレール位置73またはレール位置74に変更することができ、また、レール位置73からレール位置72またはレール位置74に変更することができ、また、レール位置74からレール位置72またはレール位置73に変更することができる。 Thus, placing rail 13 at rail position 72 , placing rail 13 at rail position 73 , and placing rail 13 at rail position 74 can be selected. Then, the arrangement position of the rail 13 on the support table 15 can be changed from the rail position 72 to the rail position 73 or the rail position 74, or from the rail position 73 to the rail position 72 or the rail position 74. and can be changed from rail position 74 to rail position 72 or rail position 73.

それ以外については、本実施の形態2の延伸装置5も、上記実施の形態1の延伸装置5とほぼ同様であるので、ここでは繰り返しの説明は省略する。 Other than that, the stretching device 5 of the second embodiment is also substantially the same as the stretching device 5 of the first embodiment, and thus repeated explanations are omitted here.

レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置72に配置した場合と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置73に配置した場合と、レール14をレール位置71に配置し、かつ、レール13をレール位置74に配置した場合とで、膜8のMD方向における延伸倍率は互いに異なっている。すなわち、レール13をレール位置72に配置した場合と、レール13をレール位置73に配置した場合と、レール13をレール位置74に配置した場合とで、膜8のMD方向における延伸倍率が変わるように、レール位置71,72,73,74が設定されている。このため、膜8のMD方向における延伸倍率を変える必要が生じたときに、支持台15上におけるレール13の配置位置を変更する。 The case where the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72, the case where the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 73, and the rail 14 is placed at the rail position 71 and the rail 13 is placed at the rail position 74, the stretching ratios of the film 8 in the MD direction are different from each other. That is, the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is changed depending on whether the rail 13 is arranged at the rail position 72, the rail 13 is arranged at the rail position 73, or the rail 13 is arranged at the rail position 74. , rail positions 71, 72, 73, and 74 are set. Therefore, when it becomes necessary to change the stretching ratio of the film 8 in the MD direction, the arrangement position of the rails 13 on the support table 15 is changed.

本実施の形態2では、支持台15Lは、レール13Lをレール位置74Lに位置決めするための決め手段(ここでは複数の穴部51d)を更に有し、支持台15Rは、レール13Rをレール位置74Rに位置決めするための位置決め手段(ここでは複数の穴部51d)を更に有している。このため、本実施の形態2では、1台の延伸装置を用いて、延伸倍率が異なる3種類の延伸処理を行うことができる。 In Embodiment 2, the support base 15L further has a determining means (here, a plurality of holes 51d) for positioning the rail 13L at the rail position 74L, and the support base 15R positions the rail 13R at the rail position 74R. It further has positioning means (here, a plurality of holes 51d) for positioning. Therefore, in Embodiment 2, three types of stretching processes with different stretching ratios can be performed using one stretching apparatus.

例えば、レール13Lをレール位置72Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置72Rに配置した場合に、膜8のMD方向における延伸倍率が7倍になるように、レール位置72L,72Rを設定しておく。また、レール13Lをレール位置73Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置73Rに配置した場合に、膜8のMD方向における延伸倍率が5倍になるように、レール位置73L,73Rを設定しておく。そして、レール13Lをレール位置74Lに配置し、かつ、レール13Rをレール位置74Rに配置した場合に、膜8のMD方向における延伸倍率が9倍になるように、レール位置74L,74Rを設定しておく。これにより、MD方向における延伸倍率が7倍の延伸処理と、MD方向における延伸倍率が5倍の延伸処理と、MD方向における延伸倍率が9倍の延伸処理とを、1台の延伸装置5を用いて行うことができ、延伸倍率の変更も、容易かつ的確に行うことができる。なお、ここで言及した延伸倍率の数値は一例である。 For example, the rail positions 72L and 72R are set so that when the rail 13L is placed at the rail position 72L and the rail 13R is placed at the rail position 72R, the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is 7 times. Keep Further, the rail positions 73L and 73R are set so that the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is 5 times when the rail 13L is placed at the rail position 73L and the rail 13R is placed at the rail position 73R. Keep The rail positions 74L and 74R are set so that the stretching ratio of the film 8 in the MD direction is 9 times when the rail 13L is placed at the rail position 74L and the rail 13R is placed at the rail position 74R. Keep As a result, the stretching process with a draw ratio of 7 times in the MD direction, the stretching process with a draw ratio of 5 times in the MD direction, and the stretching process with a draw ratio of 9 times in the MD direction can be performed by one stretching device 5. The stretching ratio can be changed easily and accurately. In addition, the numerical value of the draw ratio mentioned here is an example.

また、更に他の形態として、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール13の配置可能な位置を、4つ以上とすることもできる。この場合、支持台15には、レール13を配置可能な4つ以上のレール位置のそれぞれに対して、レール13を位置決めするための複数の穴部51を設けておけばよい。この場合も、レール13の配置位置を変えることで、膜8のMD方向における延伸倍率を変えることができる。 Further, as another form, the number of positions where the rails 13 can be arranged can be four or more in each of the link devices 10L and 10R. In this case, the support base 15 may be provided with a plurality of holes 51 for positioning the rail 13 with respect to each of four or more rail positions where the rail 13 can be arranged. Also in this case, by changing the arrangement position of the rails 13, the draw ratio of the film 8 in the MD direction can be changed.

(実施の形態3)
上記実施の形態1,2では、リンク装置10R用の支持台15(すなわちレール13R,14Rを支持する支持台15R)とリンク装置10L用の支持台15(すなわちレール13L,14Lを支持する支持台15L)とを、別々に設けていた。それに対して、本実施の形態3では、リンク装置10R用の支持台15(すなわちレール13R,14Rを支持する支持台15)とリンク装置10L用の支持台15(すなわちレール13L,14Lを支持する支持台15)とは共通化されており、共通の支持台15である支持台15C上に、リンク装置10R用のレール13R,14Rと、リンク装置10L用のレール13L,14Lとが配置されて支持されている。それ以外については、本実施の形態3も、上記実施の形態1または上記実施の形態2と同様である。
(Embodiment 3)
In Embodiments 1 and 2 above, the support base 15 for the link device 10R (that is, the support base 15R that supports the rails 13R and 14R) and the support base 15 for the link device 10L (that is, the support base that supports the rails 13L and 14L) 15L) were provided separately. On the other hand, in the third embodiment, the support base 15 for the link device 10R (that is, the support base 15 that supports the rails 13R and 14R) and the support base 15 for the link device 10L (that is, the rails 13L and 14L are supported) The rails 13R and 14R for the link device 10R and the rails 13L and 14L for the link device 10L are arranged on the support stand 15C which is the common support stand 15). Supported. Other than that, the third embodiment is also the same as the first or second embodiment.

図22は、本実施の形態3を上記実施の形態1に適用した場合におけるレール13,14の配置位置を示す平面図であり、上記図8に対応するものである。図22には、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール14がレール位置71に配置され、レール13がレール位置72に配置された状態が示されている。図22において、レール位置73は点線で示してある。図22における領域RG1の拡大図は、上記図9と同様であり、図22における領域RG2の拡大図は、上記図10と同様であるので、ここでは繰り返しの図示は省略する。 FIG. 22 is a plan view showing the arrangement positions of the rails 13 and 14 when the third embodiment is applied to the first embodiment, and corresponds to FIG. 8 above. FIG. 22 shows a state in which the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 in each of the link devices 10L and 10R. In FIG. 22, rail locations 73 are indicated by dashed lines. The enlarged view of the region RG1 in FIG. 22 is the same as in FIG. 9 above, and the enlarged view of the region RG2 in FIG. 22 is the same as in FIG.

本実施の形態3を上記実施の形態1に適用した場合は、図22と上記図9および図10とからも分かるように、レール14Lをレール位置71Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置72Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置73Lに位置決めするための位置決め手段と、レール14Rをレール位置71Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置72Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置73Rに位置決めするための位置決め手段とが、共通の支持台15Cに設けられている。具体的には、レール位置71L用の複数の穴部51aと、レール位置72L用の複数の穴部51bと、レール位置73L用の複数の穴部51cと、レール位置71R用の複数の穴部51aと、レール位置72R用の複数の穴部51bと、レール位置73R用の複数の穴部51cとが、共通の支持台15Cに設けられている。それ以外については、上記実施の形態1と同様である。 When the third embodiment is applied to the first embodiment, as can be seen from FIG. 22 and FIGS. 9 and 10, the positioning means for positioning the rail 14L at the rail position 71L and the rail 13L at the rail position 72L, positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 73L, positioning means for positioning the rail 14R at the rail position 71R, and positioning the rail 13R at the rail position 72R. Positioning means for positioning and positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 73R are provided on a common support base 15C. Specifically, a plurality of holes 51a for the rail position 71L, a plurality of holes 51b for the rail position 72L, a plurality of holes 51c for the rail position 73L, and a plurality of holes for the rail position 71R. 51a, a plurality of holes 51b for the rail position 72R, and a plurality of holes 51c for the rail position 73R are provided in a common support base 15C. Other than that, it is the same as the first embodiment.

図23は、本実施の形態3を上記実施の形態2に適用した場合におけるレール13,14の配置位置を示す平面図であり、上記図19に対応するものである。図23には、リンク装置10L,10Rのそれぞれにおいて、レール14がレール位置71に配置され、レール13がレール位置72に配置された状態が示されている。図23において、レール位置73とレール位置74は、それぞれ点線で示してある。図23における領域RG5の拡大図は、上記図20と同様であり、図23における領域RG6の拡大図は、上記図21と同様であるので、ここでは繰り返しの図示は省略する。 FIG. 23 is a plan view showing the arrangement positions of the rails 13 and 14 when the third embodiment is applied to the second embodiment, and corresponds to FIG. 19 above. FIG. 23 shows a state in which the rail 14 is arranged at the rail position 71 and the rail 13 is arranged at the rail position 72 in each of the link devices 10L and 10R. In FIG. 23, rail position 73 and rail position 74 are indicated by dashed lines. The enlarged view of the region RG5 in FIG. 23 is the same as in FIG. 20 above, and the enlarged view of the region RG6 in FIG. 23 is the same as in FIG. 21 above.

本実施の形態3を上記実施の形態2に適用した場合は、図23と上記図20および図21とからも分かるように、レール14Lをレール位置71Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置72Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置73Lに位置決めするための位置決め手段と、レール13Lをレール位置74Lに位置決めするための位置決め手段と、レール14Rをレール位置71Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置72Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置73Rに位置決めするための位置決め手段と、レール13Rをレール位置74Rに位置決めするための位置決め手段とが、共通の支持台15Cに設けられている。具体的には、レール位置71L用の複数の穴部51aと、レール位置72L用の複数の穴部51bと、レール位置73L用の複数の穴部51cと、レール位置74L用の複数の穴部51dと、レール位置71R用の複数の穴部51aと、レール位置72R用の複数の穴部51bと、レール位置73R用の複数の穴部51cと、レール位置74R用の複数の穴部51dとが、共通の支持台15Cに設けられている。それ以外については、上記実施の形態2と同様である。 When the third embodiment is applied to the second embodiment, as can be seen from FIG. 23 and FIGS. 20 and 21, positioning means for positioning the rail 14L at the rail position 71L and rail 13L at the rail position 72L, positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 73L, positioning means for positioning the rail 13L at the rail position 74L, and positioning the rail 14R at the rail position 71R. positioning means for positioning, positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 72R, positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 73R, and positioning means for positioning the rail 13R at the rail position 74R means are provided on a common support base 15C. Specifically, a plurality of holes 51a for rail position 71L, a plurality of holes 51b for rail position 72L, a plurality of holes 51c for rail position 73L, and a plurality of holes for rail position 74L. 51d, a plurality of holes 51a for rail position 71R, a plurality of holes 51b for rail position 72R, a plurality of holes 51c for rail position 73R, and a plurality of holes 51d for rail position 74R. are provided on a common support base 15C. Other than that, it is the same as the second embodiment.

上記実施の形態1,2のように、レール13R,14Rを配置する支持台15Rと、レール13L,14Lを配置する支持台15Lとを、別々に設ける場合は、支持台15L,15Rを小型化(小面積化)することができるため、延伸装置の小型化に有利となる。 When the support base 15R for arranging the rails 13R and 14R and the support base 15L for arranging the rails 13L and 14L are provided separately as in the first and second embodiments, the support bases 15L and 15R are downsized. (area reduction), which is advantageous for miniaturization of the stretching apparatus.

一方、本実施の形態3のように、共通の支持台15C上にレール13L,13R,14L,14Rを配置する場合は、リンク装置10L用のレール14Lとリンク装置10R用のレール14Rとの間の間隔(L2)を、所定の設計値通りに設定しやすくなる。 On the other hand, when the rails 13L, 13R, 14L, 14R are arranged on the common support base 15C as in the third embodiment, there is a gap between the rail 14L for the link device 10L and the rail 14R for the link device 10R. (L2) can be easily set according to a predetermined design value.

以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the above embodiment, and can be variously modified without departing from the gist of the invention. Needless to say.

1 薄膜製造システム
2 押出装置
2a 原料供給部
3 Tダイ
4 原反冷却装置
5 延伸装置
6 引取り装置
7 巻取り装置
8 膜
10,10L,10R リンク装置
11,11L,11R リンク
12,12L,12R クリップ
13,13L,13R,14,14L,14R レール
15,15L,15R 支持台
16,16L,16R,17,17L,17R,18,18L,18R スプロケット
19 熱処理部
20A,20B,20C 領域
22 上段側リンクプレート
23 下段側リンクプレート
24,25 レールホルダ
26,27 シャフト
28 係合部
31 本体部
32 把持部
33 バネ部
34,35,36,37 軸受けローラ
41 ネジ
51,51a,51b,51c,51d,61,62 穴部
71,71L,71R,72,72L,72R,73,73L,73R,74,74L,74R レール位置
P1,P2 ピッチ
L1,L2 間隔
1 Thin film manufacturing system 2 Extruder 2a Raw material supply unit 3 T die 4 Original fabric cooling device 5 Stretching device 6 Take-up device 7 Winding device 8 Films 10, 10L, 10R Link devices 11, 11L, 11R Links 12, 12L, 12R Clips 13, 13L, 13R, 14, 14L, 14R Rails 15, 15L, 15R Support bases 16, 16L, 16R, 17, 17L, 17R, 18, 18L, 18R Sprocket 19 Heat treatment sections 20A, 20B, 20C Area 22 Upper side Link plate 23 Lower side link plates 24, 25 Rail holders 26, 27 Shaft 28 Engagement portion 31 Body portion 32 Grip portion 33 Spring portions 34, 35, 36, 37 Bearing roller 41 Screws 51, 51a, 51b, 51c, 51d, 61, 62 holes 71, 71L, 71R, 72, 72L, 72R, 73, 73L, 73R, 74, 74L, 74R rail positions P1, P2 pitches L1, L2 intervals

Claims (16)

以下を含む、熱可塑性樹脂膜の延伸装置:
前記熱可塑性樹脂膜の搬送および延伸を行う一対のリンク装置;および
前記一対のリンク装置の中央部を覆う、前記熱可塑性樹脂膜に熱処理を行うための熱処理部、
ここで、前記一対のリンク装置のそれぞれは、
支持台;
前記支持台上に配置された、平面視において環状の外側レールおよび前記外側レールの内周側に前記外側レールに対向するように配置された内側レール;
前記内側レールを第1のレール位置に位置決めするための第1の位置決め手段;
前記内側レールを第2のレール位置に位置決めするための第2の位置決め手段、
を有し、
前記熱可塑性樹脂膜は、前記熱可塑性樹脂膜の搬送方向である第1方向と、前記第1方向に交差する第2方向とに延伸され、
前記外側レールの配置位置は固定され、前記内側レールが前記第1のレール位置または前記第2のレール位置に配置されることで前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率を可変とすることができ
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第1のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第2のレール位置に配置した場合とで、前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率が異なり、
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて、前記第1の位置決め手段および前記第2の位置決め手段は、それぞれ前記支持台に設けられた複数の穴部である。
Apparatus for stretching thermoplastic resin films, including:
a pair of link devices for conveying and stretching the thermoplastic resin film; and a heat treatment unit for heat-treating the thermoplastic resin film, covering the central portion of the pair of link devices,
Here, each of the pair of linking devices:
support base;
an outer rail arranged on the support base and having an annular shape in a plan view and an inner rail arranged on the inner peripheral side of the outer rail so as to face the outer rail;
first positioning means for positioning said inner rail at a first rail position;
second positioning means for positioning the inner rail at a second rail position;
has
The thermoplastic resin film is stretched in a first direction, which is a conveying direction of the thermoplastic resin film, and in a second direction that intersects with the first direction,
The arrangement position of the outer rail is fixed, and the draw ratio of the thermoplastic resin film in the first direction is made variable by arranging the inner rail at the first rail position or the second rail position. can ,
In each of the pair of link devices, the inner rail is arranged at the first rail position, and in each of the pair of link devices, the inner rail is arranged at the second rail position. Different draw ratios in the first direction of the thermoplastic resin film,
In each of the pair of link devices, the first positioning means and the second positioning means are a plurality of holes respectively provided in the support base.
請求項1記載の延伸装置において、
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて、前記第1のレール位置と前記第2のレール位置とは、互いに相違する部分と、互いに共通する部分とを有している、延伸装置。
The stretching apparatus according to claim 1,
The stretching device, wherein the first rail position and the second rail position of each of the pair of linkages have portions that are different from each other and portions that are common to each other.
請求項1記載の延伸装置において、
前記一対のリンク装置のそれぞれは、
無端チェーンを構成するように連結され、前記外側レールおよび前記内側レールに沿って移動可能な複数のリンクと、
前記複数のリンクにそれぞれ取り付けられた、前記熱可塑性樹脂膜を把持するための複数のクリップと、
を更に有する、延伸装置。
The stretching apparatus according to claim 1,
Each of the pair of linking devices includes:
a plurality of links connected to form an endless chain and movable along the outer rail and the inner rail;
a plurality of clips for gripping the thermoplastic resin film respectively attached to the plurality of links;
A drawing device, further comprising:
請求項記載の延伸装置において、
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて、前記熱可塑性樹脂膜を把持する前記複数のクリップのピッチは、前記内側レールと前記外側レールとの間の間隔に応じて変化可能である、延伸装置。
In the drawing apparatus according to claim 3 ,
The stretching device, wherein in each of the pair of link devices, a pitch of the plurality of clips for gripping the thermoplastic resin film is variable according to the distance between the inner rail and the outer rail.
請求項1記載の延伸装置において、
前記内側レールの配置位置は、前記第1のレール位置と前記第2のレール位置のいずれにも変更可能である、延伸装置。
The stretching apparatus according to claim 1,
The stretching device, wherein the arrangement position of the inner rail can be changed to either the first rail position or the second rail position.
請求項1記載の延伸装置において、
前記一対のリンク装置のそれぞれは、前記内側レールを第3のレール位置に位置決めするための第3の位置決め手段を更に有し、
前記内側レールが前記第1のレール位置、前記第2のレール位置または前記第3のレール位置に配置されることで前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率を可変とすることができる、延伸装置。
The stretching apparatus according to claim 1,
each of said pair of linkages further comprising third positioning means for positioning said inner rail at a third rail position;
By arranging the inner rail at the first rail position, the second rail position, or the third rail position, the draw ratio of the thermoplastic resin film in the first direction can be made variable. , stretching equipment.
請求項記載の延伸装置において、
前記内側レールの配置位置は、前記第1のレール位置と前記第2のレール位置と前記第3のレール位置のいずれにも変更可能である、延伸装置。
In the drawing apparatus according to claim 6 ,
The stretching device, wherein the arrangement position of the inner rail can be changed to any of the first rail position, the second rail position, and the third rail position.
請求項記載の延伸装置において
記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第1のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第2のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第3のレール位置に配置した場合とで、前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率が互いに異なる、延伸装置。
In the drawing apparatus according to claim 6 ,
a case where the inner rail is arranged at the first rail position in each of the pair of link devices; a case where the inner rail is arranged at the second rail position in each of the pair of link devices; A stretching device, wherein the stretching ratio of the thermoplastic resin film in the first direction is different between when the inner rail is arranged at the third rail position in each of the pair of link devices.
以下を含む、熱可塑性樹脂膜の延伸装置:
支持台;
前記熱可塑性樹脂膜の搬送および延伸を行う一対のリンク装置;および
前記一対のリンク装置の中央部を覆う、前記熱可塑性樹脂膜に熱処理を行うための熱処理部、
ここで、前記一対のリンク装置のそれぞれは、
前記支持台上に配置された、平面視において環状の外側レールおよび前記外側レールの内周側に前記外側レールに対向するように配置された内側レール;
前記内側レールを第1のレール位置に位置決めするための第1の位置決め手段;
前記内側レールを第2のレール位置に位置決めするための第2の位置決め手段、
を有し、
前記熱可塑性樹脂膜は、前記熱可塑性樹脂膜の搬送方向である第1方向と、前記第1方向に交差する第2方向とに延伸され、
前記外側レールの配置位置は固定され、前記内側レールが前記第1のレール位置または前記第2のレール位置に配置されることで前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率を可変とすることができ
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第1のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第2のレール位置に配置した場合とで、前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率が異なり、
前記一対のリンク装置のそれぞれの前記第1の位置決め手段および前記第2の位置決め手段は、それぞれ前記支持台に設けられた複数の穴部である。
Apparatus for stretching thermoplastic resin films, including:
support base;
a pair of link devices for conveying and stretching the thermoplastic resin film; and a heat treatment unit for heat-treating the thermoplastic resin film, covering the central portion of the pair of link devices,
Here, each of the pair of linking devices:
an outer rail arranged on the support base and having an annular shape in a plan view and an inner rail arranged on the inner peripheral side of the outer rail so as to face the outer rail;
first positioning means for positioning said inner rail at a first rail position;
second positioning means for positioning the inner rail at a second rail position;
has
The thermoplastic resin film is stretched in a first direction, which is a conveying direction of the thermoplastic resin film, and in a second direction that intersects with the first direction,
The arrangement position of the outer rail is fixed, and the draw ratio of the thermoplastic resin film in the first direction is made variable by arranging the inner rail at the first rail position or the second rail position. can ,
In each of the pair of link devices, the inner rail is arranged at the first rail position, and in each of the pair of link devices, the inner rail is arranged at the second rail position. Different draw ratios in the first direction of the thermoplastic resin film,
The first positioning means and the second positioning means of each of the pair of link devices are a plurality of holes respectively provided in the support base.
請求項記載の延伸装置において、
前記内側レールの配置位置は、前記第1のレール位置と前記第2のレール位置のいずれにも変更可能である、延伸装置。
In the drawing apparatus according to claim 9 ,
The stretching device, wherein the arrangement position of the inner rail can be changed to either the first rail position or the second rail position.
請求項9記載の延伸装置において、In the drawing apparatus according to claim 9,
前記一対のリンク装置のそれぞれの前記第1のレール位置と前記第2のレール位置とは、互いに相違する部分と、互いに共通する部分とを有している、延伸装置。The stretching device, wherein the first rail position and the second rail position of each of the pair of linkages have portions that are different from each other and portions that are common to each other.
請求項9記載の延伸装置において、In the drawing apparatus according to claim 9,
前記一対のリンク装置のそれぞれは、Each of the pair of linking devices includes:
無端チェーンを構成するように連結され、前記外側レールおよび前記内側レールに沿って移動可能な複数のリンクと、a plurality of links connected to form an endless chain and movable along the outer rail and the inner rail;
前記複数のリンクにそれぞれ取り付けられた、前記熱可塑性樹脂膜を把持するための複数のクリップと、a plurality of clips for gripping the thermoplastic resin film respectively attached to the plurality of links;
を更に有する、延伸装置。A stretching device, further comprising:
請求項12記載の延伸装置において、The stretching apparatus of claim 12, wherein
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて、前記熱可塑性樹脂膜を把持する前記複数のクリップのピッチは、前記内側レールと前記外側レールとの間の間隔に応じて変化可能である、延伸装置。The stretching device, wherein in each of the pair of link devices, a pitch of the plurality of clips for gripping the thermoplastic resin film is variable according to the distance between the inner rail and the outer rail.
請求項9記載の延伸装置において、In the drawing apparatus according to claim 9,
前記一対のリンク装置のそれぞれは、前記内側レールを第3のレール位置に位置決めするための第3の位置決め手段を更に有し、each of said pair of linkages further comprising third positioning means for positioning said inner rail at a third rail position;
前記内側レールが前記第1のレール位置、前記第2のレール位置または前記第3のレール位置に配置されることで前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率を可変とすることができる、延伸装置。By arranging the inner rail at the first rail position, the second rail position, or the third rail position, the draw ratio of the thermoplastic resin film in the first direction can be made variable. , stretching equipment.
請求項14記載の延伸装置において、15. The drawing apparatus of claim 14,
前記内側レールの配置位置は、前記第1のレール位置と前記第2のレール位置と前記第3のレール位置のいずれにも変更可能である、延伸装置。The stretching device, wherein the arrangement position of the inner rail can be changed to any of the first rail position, the second rail position, and the third rail position.
請求項14記載の延伸装置において、15. The drawing apparatus of claim 14,
前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第1のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第2のレール位置に配置した場合と、前記一対のリンク装置のそれぞれにおいて前記内側レールを前記第3のレール位置に配置した場合とで、前記熱可塑性樹脂膜の前記第1方向における延伸倍率が互いに異なる、延伸装置。A case where the inner rail is arranged at the first rail position in each of the pair of link devices; a case where the inner rail is arranged at the second rail position in each of the pair of link devices; 2. A stretching device in which the stretch ratio of the thermoplastic resin film in the first direction is different from that in the case where the inner rail is arranged at the third rail position in each of the link devices.
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