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JP7294438B2 - electron gun - Google Patents
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Description

本発明は、電子銃に関する。 The present invention relates to electron guns.

電子銃として、電子を放出する電子放出面と、電子放出面との間に電場を生じさせ電子放出面から電子を放出させる引出電極と、電子放出面の周囲に電子放出面と同電位の円錐状の電極を配置した、ピアス型電子銃が使用されている(特許文献1)。 As an electron gun, an electron emission surface that emits electrons, an extraction electrode that generates an electric field between the electron emission surface and emits electrons from the electron emission surface, and a cone that has the same potential as the electron emission surface around the electron emission surface. A pierce-type electron gun having electrodes arranged in a shape is used (Patent Document 1).

日本国特開2013-112894号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-112894

第1の態様による電子銃は、電子放出面を有するエミッタと、引出電極としての第1電極と、前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、を備え、前記第2電極の前記第2面は、前記電子放出面の中心からの距離が互いに異なる第1領域と第2領域とを有し、前記第1領域における曲率は、第2領域における曲率と異なる。
第2の態様による電子銃は、電子放出面を有するエミッタと、引出電極としての第1電極と、前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、前記エミッタからの電子が入射する開口を有するシールド電極と、を備え、前記シールド電極の電極面は、前記開口の中心からの距離が互いに異なる第1領域と第2領域とを有し、前記第1領域における曲率は、前記第2領域の曲率と異なる。
第3の態様による電子銃は、電子放出面を有するエミッタと、引出電極としての第1電極と、前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、前記エミッタからの電子が入射する開口を有するシールド電極と、前記エミッタに所定の電圧を供給するエミッタケーブルと、前記第1電極に所定の電圧を供給する第1電極ケーブルと、前記第2電極に所定の電圧を供給する第2電極ケーブルと、前記シールド電極に所定の電圧を供給するシールド電極ケーブルと、を備え、前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルと、前記第1電極ケーブルとの間隔は、前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルの相互間の間隔よりも大きい。
An electron gun according to a first aspect includes an emitter having an electron emission surface, a first electrode as an extraction electrode, and a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode, The second surface of the second electrode has a first region and a second region that are different in distance from the center of the electron emission surface, and the curvature in the first region is different from the curvature in the second region. .
An electron gun according to a second aspect includes an emitter having an electron emitting surface, a first electrode as an extraction electrode, a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode, and an electron beam from the emitter. and a shield electrode having an opening into which electrons are incident, wherein the electrode surface of the shield electrode has a first region and a second region whose distances from the center of the opening are different from each other, and in the first region The curvature is different than the curvature of the second region.
An electron gun according to a third aspect comprises an emitter having an electron emitting surface, a first electrode as an extraction electrode, a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode, and an electron beam from the emitter. an emitter cable that supplies a predetermined voltage to the emitter; a first electrode cable that supplies a predetermined voltage to the first electrode; and a predetermined voltage to the second electrode. and a shielded electrode cable for supplying a predetermined voltage to the shielded electrode, the emitter cable, the second electrode cable, the shielded electrode cable, and the first electrode cable is greater than the spacing between the emitter cable, the second electrode cable and the shield electrode cable.

第1実施形態の電子銃の構成を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the electron gun of the first embodiment; 第1実施形態の電子銃の部分拡大断面図。FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of the electron gun of the first embodiment; 第1実施形態の電子銃のケーブルの一例を示す図。4 is a diagram showing an example of a cable of the electron gun of the first embodiment; FIG.

(第1実施形態の電子銃)
以下、図1および図2を参照しつつ、第1実施形態の電子銃100について説明する。図1は第1実施形態の電子銃100を示す断面図であり、図2は第1実施形態の電子銃100の、図1に破線で示した領域BLの部分を拡大して示した拡大断面図である。
図1および図2に矢印で示したX方向、Y方向、およびZ方向は、その矢印の指し示す方向を+方向とする。X方向、Y方向、およびZ方向は、相互に直交する方向である。
(Electron gun of the first embodiment)
The electron gun 100 of the first embodiment will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the electron gun 100 of the first embodiment, and FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the electron gun 100 of the first embodiment, showing an area BL indicated by a dashed line in FIG. It is a diagram.
As for the X direction, Y direction, and Z direction indicated by arrows in FIGS. 1 and 2, the direction indicated by the arrows is the + direction. The X-direction, Y-direction, and Z-direction are directions perpendicular to each other.

電子銃100は、筐体60の内部に、中心軸であるZ方向に延びる光軸AXに沿って配置されるエミッタ30、第1電極10、第2電極20、シールド電極40、および加速電極50を備えている。加速電極50は、筐体60と同様に電子銃100の外壁の一部を構成するものであっても良い。エミッタ30、第1電極10、第2電極20、シールド電極40、および加速電極50は、いずれもその光軸AXに近い部分は、光軸AXに対して回転対称な形状を有している。そして、エミッタ30、第1電極10、第2電極20、シールド電極40のそれぞれは、それぞれ電気的に絶縁されて筐体60に保持されている。 The electron gun 100 includes an emitter 30, a first electrode 10, a second electrode 20, a shield electrode 40, and an acceleration electrode 50 arranged inside a housing 60 along an optical axis AX extending in the Z direction, which is the central axis. It has The acceleration electrode 50 may form part of the outer wall of the electron gun 100 in the same manner as the housing 60 . The emitter 30, the first electrode 10, the second electrode 20, the shield electrode 40, and the acceleration electrode 50 all have rotationally symmetrical shapes with respect to the optical axis AX at portions near the optical axis AX. Each of the emitter 30 , the first electrode 10 , the second electrode 20 and the shield electrode 40 is electrically insulated and held by the housing 60 .

エミッタ30は、その中心軸が光軸AXと一致する略円柱形状の電極である。エミッタ30の+Z側の端面は電子放出面31(図1では不図示、図2参照)であり、その形状は一例として凹の球面である。電子放出面31の中心32は、電子放出面31の幾何学的な中心位置、または電子放出面31と光軸AXとの交点である。
なお、電子放出面31は平面や凸の球面、凹の放物面、凹の双曲面であっても良い。
The emitter 30 is a substantially cylindrical electrode whose center axis coincides with the optical axis AX. The end surface on the +Z side of the emitter 30 is an electron emission surface 31 (not shown in FIG. 1, see FIG. 2), which has, for example, a concave spherical surface. The center 32 of the electron emission surface 31 is the geometric center position of the electron emission surface 31 or the intersection of the electron emission surface 31 and the optical axis AX.
The electron emission surface 31 may be a flat surface, a convex spherical surface, a concave parabolic surface, or a concave hyperboloid surface.

第1電極10は、電子放出面31との間に電場を形成して電子放出面31から電子を放出させるための引出電極であり、光軸AXの近傍に、電子放出面31から放出された電子を通過させるための開口12を有している。第1電極10のエミッタ30側(-Z側)の端面である第1面11は、一例として、エミッタ30側(-Z側)に凸の、凸面である。
なお、第1面11は、エミッタ30側(-Z側)に凹の凹面であっても良く、平面であっても良い。
第1電極10には、第1電圧源V1(図2では不図示、図1参照)から第1電極ケーブル15を介して、所定の負電圧が印加(供給)されている。
The first electrode 10 is an extraction electrode for forming an electric field between itself and the electron emission surface 31 to emit electrons from the electron emission surface 31. It has an opening 12 for passing electrons. The first surface 11, which is the end surface of the first electrode 10 on the emitter 30 side (−Z side), is, for example, a convex surface that is convex toward the emitter 30 side (−Z side).
The first surface 11 may be a concave surface facing the emitter 30 (-Z side), or may be a flat surface.
A predetermined negative voltage is applied (supplied) to the first electrode 10 from a first voltage source V<b>1 (not shown in FIG. 2 , see FIG. 1 ) through the first electrode cable 15 .

第2電極20の+Z側の面である第2面21(図1では不図示、図2参照)は、第1電極10の第1面11と対向するように配置されている。
第2電極20は、ウェネルト電極とも呼ばれる電極であり、ピアス型電子銃において、エミッタ30の電子放出面31から放出される電子を収束させるための電場を形成する電極である。
A second surface 21 (not shown in FIG. 1, see FIG. 2), which is a surface on the +Z side of the second electrode 20, is arranged to face the first surface 11 of the first electrode 10. As shown in FIG.
The second electrode 20 is also called a Wehnelt electrode, and is an electrode that forms an electric field for converging electrons emitted from the electron emission surface 31 of the emitter 30 in the Pierce electron gun.

加速電極50は、エミッタ30から放出された電子を加速するための電場を形成するための電極であり、通常その電位はグランド電位(0V。基準電圧)に設定される。第1実施形態の電子銃100においても、加速電極50は筐体60に保持され、その電位は、筐体60を介して接続されるグランド配線65により、グランド電位に設定されている。加速電極50の光軸AXの近傍には、エミッタ30から放出された電子を通過させるための開口52が形成されている。 The acceleration electrode 50 is an electrode for forming an electric field for accelerating electrons emitted from the emitter 30, and its potential is normally set to the ground potential (0 V, reference voltage). Also in the electron gun 100 of the first embodiment, the acceleration electrode 50 is held in the housing 60 and its potential is set to the ground potential by the ground wiring 65 connected through the housing 60 . An opening 52 is formed in the vicinity of the optical axis AX of the accelerating electrode 50 for passing electrons emitted from the emitter 30 .

エミッタ30には、第3電圧源V3からエミッタケーブル35を介して、一例として-50kVから-100kV程度の負の電圧が印加(供給)されている。この結果、負電圧であるエミッタ30の電子放出面31から放出された電子は、グランド電位(基準電圧)である加速電極50に向かって+Z方向に加速され、加速電極50の開口52を通過して電子銃100の外部に放出される。
筐体60の内部は、加速電極50の開口52を介して、または筐体60に設けられた不図示の排気口を介して、真空ポンプ等の低圧源に接続され、真空に減圧される。
A negative voltage of about -50 kV to -100 kV is applied (supplied) to the emitter 30 from the third voltage source V3 through the emitter cable 35, for example. As a result, the electrons emitted from the electron emitting surface 31 of the emitter 30 with negative voltage are accelerated in the +Z direction toward the acceleration electrode 50 with ground potential (reference voltage), and pass through the opening 52 of the acceleration electrode 50. is emitted to the outside of the electron gun 100.
The inside of the housing 60 is connected to a low-pressure source such as a vacuum pump via the opening 52 of the acceleration electrode 50 or via an exhaust port (not shown) provided in the housing 60, and is decompressed to vacuum.

シールド電極40は、その少なくとも一部が、第1電極10と加速電極50との間に配置されている。シールド電極40には、第4電圧源V4からシールド電極ケーブル45を介して、所定の負電圧が印加(供給)されている。シールド電極40に印加される電圧は、一例としてエミッタ30の電圧よりも2~5kV程度高い電圧(エミッタ30の電圧よりも正側の電圧)である。従って、シールド電極40と加速電極50との間には、概ね50kV程度以上の高電圧が加わっている。 At least part of the shield electrode 40 is arranged between the first electrode 10 and the acceleration electrode 50 . A predetermined negative voltage is applied (supplied) to the shield electrode 40 from the fourth voltage source V4 via the shield electrode cable 45 . The voltage applied to the shield electrode 40 is, for example, a voltage approximately 2 to 5 kV higher than the voltage of the emitter 30 (a voltage on the positive side of the voltage of the emitter 30). Therefore, a high voltage of approximately 50 kV or more is applied between the shield electrode 40 and the acceleration electrode 50 .

シールド電極40の光軸AXの近傍には、エミッタ30から放出された電子を通過させるための開口42が形成されている。なお、シールド電極40はZ方向にも幅を有する電極であり、開口42は、一例として、シールド電極40のうちの+Z側(加速電極50側)の端部の近傍でその径が最小となる。
図1および図2に示したように、第1電極10の少なくとも一部を、エミッタ30とシールド電極40との間に配置しても良い。
An opening 42 is formed near the optical axis AX of the shield electrode 40 to allow electrons emitted from the emitter 30 to pass therethrough. Note that the shield electrode 40 is an electrode having a width in the Z direction as well, and the diameter of the opening 42 is, for example, the smallest near the +Z side (acceleration electrode 50 side) end of the shield electrode 40 . .
At least a portion of the first electrode 10 may be disposed between the emitter 30 and the shield electrode 40, as shown in FIGS.

第2電極20は、略円柱形状のエミッタ30の周面に沿ってエミッタ30を取り囲んで配置されている。第2電極20の+Z側の面である第2面21は、一例として、その曲率中心が+Z側にある凹面である。また、第2電極20の第2面21の内周端のZ方向の位置は、エミッタ30の電子放出面31の球面の形状を外挿した面のZ方向の位置と概ね一致している。
なお、第2電極20の第2面21は、上記の形状に限らず凸面、または平面であっても良い。
The second electrode 20 is arranged along the peripheral surface of the substantially cylindrical emitter 30 so as to surround the emitter 30 . The second surface 21, which is the surface on the +Z side of the second electrode 20, is, for example, a concave surface whose center of curvature is on the +Z side. In addition, the Z-direction position of the inner peripheral end of the second surface 21 of the second electrode 20 approximately coincides with the Z-direction position of a surface obtained by extrapolating the spherical shape of the electron emission surface 31 of the emitter 30 .
In addition, the second surface 21 of the second electrode 20 is not limited to the shape described above, and may be a convex surface or a flat surface.

第2電極20には、第2電圧源V2から第2電極ケーブル25を介して、所定の負電圧が印加(供給)されている。第2電極20には、一例としてエミッタ30の電圧と等しい電圧が印加される。
なお、第2電極20には、エミッタ30の電圧と異なる電圧が印加されても良い。
A predetermined negative voltage is applied (supplied) to the second electrode 20 from the second voltage source V2 via the second electrode cable 25 . A voltage equal to the voltage of the emitter 30 is applied to the second electrode 20 as an example.
A voltage different from the voltage of the emitter 30 may be applied to the second electrode 20 .

第1電極ケーブル15、第2電極ケーブル25、エミッタケーブル35、およびシールド電極ケーブル45は、筐体60の外壁部にそれぞれ設けられた電流導入端子61a~61dを介して、筐体60の外部から内部に導入されている。 The first electrode cable 15, the second electrode cable 25, the emitter cable 35, and the shielded electrode cable 45 are connected from the outside of the housing 60 via current introduction terminals 61a to 61d provided on the outer wall of the housing 60. introduced internally.

従来のピアス型電子銃と同様に、エミッタ30の電子放出面31および第2電極20の第2面21に印加された負電圧は、エミッタ30から第1電極10までの間の概ね光軸AXに沿った空間である領域Eeを含む空間に、電場を形成する。
そして、この電場は、領域Ee内を+Z方向に移動する多数の電子を、光軸AXの近傍に収束させるように作用する。
As with conventional Pierce-type electron guns, a negative voltage applied to the electron emitting surface 31 of the emitter 30 and the second surface 21 of the second electrode 20 is approximately the optical axis AX between the emitter 30 and the first electrode 10. An electric field is created in the space containing the region Ee, which is the space along .
This electric field acts to converge a large number of electrons moving in the +Z direction within the region Ee near the optical axis AX.

第1実施形態の電子銃100においては、第2電極20の第2面21は、曲率中心が+Z側にある凹面であり、かつ、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっている。第1実施形態の電子銃100においては、第2面21のこの面形状により、エミッタ30から放出された多数の電子を、より高精度に収束させることができる。 In the electron gun 100 of the first embodiment, the second surface 21 of the second electrode 20 is a concave surface whose center of curvature is on the +Z side, and which has different distances from the center 32 of the electron emission surface 31 . The surface curvature is different between the region 21a and the second region 21b. In the electron gun 100 of the first embodiment, this surface shape of the second surface 21 allows a large number of electrons emitted from the emitter 30 to be focused with higher accuracy.

電子放出面31からは多数の電子が放出されるため、それらの電子は空間電荷効果により領域Ee内で相互に反発する。仮に、第2面21の曲率が電子放出面31の中心32からの距離に依らず一定であった場合には、この電子同士の反発力を押さえる力が十分でないため、電子を高精度に収束させることができない。
一方、第1実施形態の電子銃100においては、第2面21の曲率が電子放出面31の中心32からの距離に応じて異なる2つの領域を有するため、領域Ee内に、空間電荷効果による反発力を相殺する電場を形成することができ、電子を高精度に収束させることができる。
Since a large number of electrons are emitted from the electron emitting surface 31, the electrons repel each other within the region Ee due to the space charge effect. If the curvature of the second surface 21 were constant regardless of the distance from the center 32 of the electron emission surface 31, the force to suppress the repulsive force between the electrons would not be sufficient, so the electrons would be converged with high accuracy. I can't let you.
On the other hand, in the electron gun 100 of the first embodiment, since the second surface 21 has two regions with different curvatures depending on the distance from the center 32 of the electron emission surface 31, the space charge effect causes An electric field that cancels the repulsive force can be formed, and the electrons can be focused with high accuracy.

一例として、電子放出面31の中心32から第2領域21bまでの距離が、電子放出面31の中心32から第1領域21aまでの距離より大きいとき、第2領域21bの曲率を、第1領域21aの曲率より大きく設定しても良い。例えば、第2領域21bの曲率は、第1領域21aの曲率の2.5倍以上であっても良い。この構成により、電子をさらに高精度に収束させることができる。 As an example, when the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 to the second region 21b is greater than the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 to the first region 21a, the curvature of the second region 21b is It may be set larger than the curvature of 21a. For example, the curvature of the second region 21b may be 2.5 times or more the curvature of the first region 21a. With this configuration, electrons can be focused with higher accuracy.

あるいは、第2領域21bの曲率を、第1領域21aの曲率より小さくしても良い。
また、第2面21は、曲率が異なる2つの領域を有する面に限られるわけではなく、第2面21の各部の曲率が、電子放出面31の中心32からその部分までの距離に応じて変化する面であっても良い。この構成により、電子をさらに高精度に収束させることができる。
この場合、第2面21の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて増加しても良い。この構成により、電子を一層高精度に収束させることができる。逆に、第2面21の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて減少しても良い。
Alternatively, the curvature of the second region 21b may be smaller than the curvature of the first region 21a.
In addition, the second surface 21 is not limited to a surface having two regions with different curvatures. It may be a variable aspect. With this configuration, electrons can be focused with higher accuracy.
In this case, the curvature of the second surface 21 may increase according to the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 . With this configuration, electrons can be focused with higher accuracy. Conversely, the curvature of the second surface 21 may decrease according to the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 .

第2電極20の第2面21と対向する第1電極10の第1面11についても、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第3領域11aと第4領域11bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっていても良い。第1面11の形状(曲率)をこの形状とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。 Also on the first surface 11 of the first electrode 10 facing the second surface 21 of the second electrode 20, each of the third region 11a and the fourth region 11b having different distances from the center 32 of the electron emitting surface 31 Regions may have different surface curvatures. By setting the shape (curvature) of the first surface 11 to this shape, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be focused with higher accuracy.

一例として、電子放出面31の中心32から第4領域11bまでの距離が、電子放出面31の中心32から第3領域11aまでの距離より大きいとき、第4領域11bの曲率を、第3領域11aの曲率より大きくしても良い。例えば、第4領域11bの曲率は、第3領域11aの曲率の2.5倍以上であっても良い。
あるいは、第4領域11bの曲率を、第3領域11aの曲率より小さくしても良い。
As an example, when the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 to the fourth region 11b is greater than the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 to the third region 11a, the curvature of the fourth region 11b is It may be larger than the curvature of 11a. For example, the curvature of the fourth region 11b may be 2.5 times or more the curvature of the third region 11a.
Alternatively, the curvature of the fourth region 11b may be made smaller than the curvature of the third region 11a.

また、第1面11は、曲率が異なる2つの領域を有する面に限られるわけではなく、第1面11の各部の曲率が、電子放出面31の中心32からその部分までの距離に応じて変化する面であっても良い。
この場合、第1面11の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて増加しても良い。逆に、第1面11の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて減少しても良い。
以上の構成において、電子放出面31の中心からの距離の代わりに、光軸AXからの距離に応じて、第2面21の各領域の曲率または第1面11の各領域の曲率が設定されていても良い。
Also, the first surface 11 is not limited to a surface having two regions with different curvatures, and the curvature of each portion of the first surface 11 varies depending on the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 to that portion. It may be a variable aspect.
In this case, the curvature of the first surface 11 may increase according to the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 . Conversely, the curvature of the first surface 11 may decrease according to the distance from the center 32 of the electron emission surface 31 .
In the above configuration, the curvature of each region of the second surface 21 or the curvature of each region of the first surface 11 is set according to the distance from the optical axis AX instead of the distance from the center of the electron emission surface 31. It's okay to be there.

第1実施形態の電子銃100においては、上述のとおり、シールド電極40と加速電極50との間に、概ね50kV以上程度の高電圧が加わっている。従って、シールド電極40または加速電極50の一方であって他方と対抗する面に曲率の大きな凸部が存在すると、その凸部に電場が集中することにより、その凸部から他方の電極に放電が生じる恐れがある。
この放電を防ぐために、シールド電極40のうち加速電極50と対向する電極面である第3面41は、シールド電極40の開口52からの距離が互いに異なる第5領域41aと第6領域41bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっていても良い。
In the electron gun 100 of the first embodiment, a high voltage of approximately 50 kV or more is applied between the shield electrode 40 and the acceleration electrode 50 as described above. Therefore, if there is a convex portion with a large curvature on the surface of one of the shield electrode 40 and the acceleration electrode 50 facing the other, the electric field is concentrated on the convex portion, causing discharge from the convex portion to the other electrode. may occur.
In order to prevent this discharge, the third surface 41 of the shield electrode 40, which is the electrode surface facing the acceleration electrode 50, is divided into fifth regions 41a and sixth regions 41b having different distances from the opening 52 of the shield electrode 40. Each region may have a different surface curvature.

一例として、シールド電極40の開口42から第6領域41bまでの距離が、シールド電極40の開口42から第5領域41aまでの距離より大きいとき、第6領域41bの曲率を、第5領域41aの曲率より大きく設定しても良い。例えば、第6領域41bの曲率は、第5領域41aの曲率の2.5倍以上であっても良い。あるいは、第6領域41bの曲率を、第5領域41aの曲率より小さくしても良い。
シールド電極40の第3面41の第5領域41aと第6領域41bのそれぞれは、シールド電極40の開口42に対するエミッタ30側に曲率中心を有する曲面であっても良い。
以上の構成において、開口42の中心からの距離の代わりに、光軸AXからの距離に応じて、第3面41の各領域の曲率が設定されていても良い。
As an example, when the distance from the opening 42 of the shield electrode 40 to the sixth region 41b is greater than the distance from the opening 42 of the shield electrode 40 to the fifth region 41a, the curvature of the sixth region 41b is set to that of the fifth region 41a. It may be set larger than the curvature. For example, the curvature of the sixth region 41b may be 2.5 times or more the curvature of the fifth region 41a. Alternatively, the curvature of the sixth region 41b may be smaller than the curvature of the fifth region 41a.
Each of the fifth region 41 a and the sixth region 41 b of the third surface 41 of the shield electrode 40 may be a curved surface having a center of curvature on the emitter 30 side of the opening 42 of the shield electrode 40 .
In the above configuration, the curvature of each area of the third surface 41 may be set according to the distance from the optical axis AX instead of the distance from the center of the aperture 42 .

上述のとおり、第1電極10には、第1電圧源V1から第1電極ケーブル15を介して、所定の負電圧が供給されている。従来の電子銃と同様に、第1実施形態の電子銃100においても、第1電極10の電圧を制御することにより電子放出面31からの電子の放出および抑止を制御する。すなわち、第1電圧源V1から第1電極10に、エミッタ30の電圧よりも一例として2kV以上高い電圧(エミッタ30の電圧よりも正側の電圧)を供給することにより電子放出面31から電子を放出させる。また、第1電圧源V1から第1電極10に、エミッタ30の電圧よりも一例として2kV以上低い電圧(より負の電圧)を供給することにより電子放出面31からの電子の放出を抑止する。 As described above, the first electrode 10 is supplied with a predetermined negative voltage from the first voltage source V1 via the first electrode cable 15 . Similarly to the conventional electron gun, in the electron gun 100 of the first embodiment as well, the voltage of the first electrode 10 is controlled to control the emission and suppression of electrons from the electron emission surface 31 . That is, by supplying a voltage higher than the voltage of the emitter 30 by 2 kV or more (a voltage on the positive side of the voltage of the emitter 30) from the first voltage source V1 to the first electrode 10, electrons are emitted from the electron emission surface 31. let it release. Further, the emission of electrons from the electron emission surface 31 is suppressed by supplying a voltage lower than the voltage of the emitter 30 by, for example, 2 kV or more (more negative voltage) from the first voltage source V1 to the first electrode 10 .

電子放出面31から電子の放出および抑止を高速に制御するためには、第1電圧源V1から第1電極ケーブル15を介して第1電極10に、高周波(限定されないが、ここでは例えば5MHz)で変動する電圧を供給する必要がある。この場合、第1電極ケーブル15の周囲には、電圧の変動に伴う電磁波が放射される。この電磁波が、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、またはシールド電極ケーブル45のいずれかに吸収されると、エミッタ30、第2電極20、またはシールド電極40の電圧が変動し、電子銃100の特性が変動する恐れがある。 In order to control the emission and suppression of electrons from the electron emission surface 31 at high speed, a high frequency (not limited to, but here for example 5 MHz) is applied from the first voltage source V1 to the first electrode 10 via the first electrode cable 15. It is necessary to supply a voltage that fluctuates at In this case, electromagnetic waves are radiated around the first electrode cable 15 due to voltage fluctuations. When this electromagnetic wave is absorbed by either the emitter cable 35, the second electrode cable 25, or the shield electrode cable 45, the voltage of the emitter 30, the second electrode 20, or the shield electrode 40 fluctuates, and the electron gun 100 Characteristics may change.

第1電極ケーブル15から放射される電磁波による悪影響を低減するために、第1電極ケーブル15は、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45とは、離れた位置に配線しても良い。すなわち、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45と、第1電極ケーブル15との間隔L1を、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45の相互間の間隔L2、L3、L4よりも大きく設定しても良い。 In order to reduce the adverse effects of electromagnetic waves radiated from the first electrode cable 15, the first electrode cable 15 is routed away from the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45. Also good. That is, the distance L1 between the emitter cable 35, the second electrode cable 25, the shielded electrode cable 45, and the first electrode cable 15 is the distance between the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45. It may be set larger than L2, L3, and L4.

図3は、図1に破線で示した領域W1および領域W2における、第1電極ケーブル15、第2電極ケーブル25、エミッタケーブル35、およびシールド電極ケーブル45の構成の一例を示す図である。
図3に示したように、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45は多芯シールドケーブル26内に配置され、第1電極ケーブル15は、多芯シールドケーブル26とは異なるシールドケーブル16内に配置されていても良い。
FIG. 3 is a diagram showing an example configuration of the first electrode cable 15, the second electrode cable 25, the emitter cable 35, and the shielded electrode cable 45 in the regions W1 and W2 indicated by broken lines in FIG.
As shown in FIG. 3, the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45 are arranged within the multicore shielded cable 26, and the first electrode cable 15 has a different shield than the multicore shielded cable 26. It may be arranged within the cable 16 .

多芯シールドケーブル26において、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45は、一例として網状の導体によるシールド27で覆われており、外部からの電磁波はシールド27により遮断される。
一方、シールドケーブル16において、第1電極ケーブル15は、網状の導体によるシールド17で覆われており、シールド17により外部への電磁波の漏洩が低減される。
In the multi-core shielded cable 26, the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45 are covered with a shield 27 made of a net-like conductor, for example, and electromagnetic waves from the outside are blocked by the shield 27.
On the other hand, in the shielded cable 16, the first electrode cable 15 is covered with a shield 17 made of a mesh conductor, and the shield 17 reduces the leakage of electromagnetic waves to the outside.

以上の第1実施形態の電子銃100において、エミッタ30、第1電極10、第2電極20、シールド電極40、および加速電極50のそれぞれは、必ずしも光軸AXを回転中心とする回転対称な形状でなくても良い。 In the electron gun 100 of the first embodiment described above, each of the emitter 30, the first electrode 10, the second electrode 20, the shield electrode 40, and the acceleration electrode 50 is necessarily rotationally symmetrical with the optical axis AX as the center of rotation. It doesn't have to be

上述した第1実施形態の電子銃によれば、次の作用効果が得られる。
(1)第1実施形態の電子銃100は、電子放出面31を有するエミッタ30と、引出電極としての第1電極10と、第1電極10の第1面11と対向する第2面21を有する第2電極20と、を備え、第2電極20の第2面21は、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとを有し、第1領域21aにおける曲率は、第2領域21bにおける曲率と異なる。
この構成により、第1実施形態の電子銃100は、エミッタ30から放出された多数の電子を、空間電荷効果による相互の反発を押さえて、より高精度に収束させることができる。
これにより、より空間電荷密度の高い電子銃、すなわち、より大電流を放出する電子銃、あるいは、より小口径の電子銃を実現することができる。
According to the electron gun of the first embodiment described above, the following effects are obtained.
(1) The electron gun 100 of the first embodiment includes an emitter 30 having an electron emission surface 31, a first electrode 10 as an extraction electrode, and a second surface 21 facing the first surface 11 of the first electrode 10. The second surface 21 of the second electrode 20 has a first region 21a and a second region 21b whose distances from the center 32 of the electron emission surface 31 are different from each other. The curvature in the region 21a is different from the curvature in the second region 21b.
With this configuration, the electron gun 100 of the first embodiment can converge a large number of electrons emitted from the emitter 30 with higher accuracy by suppressing mutual repulsion due to the space charge effect.
As a result, an electron gun with a higher space charge density, that is, an electron gun that emits a larger current, or an electron gun with a smaller aperture can be realized.

(2)さらに、電子放出面31の中心32からの第2領域21bの距離は、電子放出面31の中心32からの第1領域21aの距離より大きく、第2領域21bの曲率は、第1領域21aの曲率より大きい構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(3)さらに、第2面21の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて変化する構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(2) Furthermore, the distance of the second region 21b from the center 32 of the electron emission surface 31 is greater than the distance of the first region 21a from the center 32 of the electron emission surface 31, and the curvature of the second region 21b is the first By making the configuration larger than the curvature of the region 21a, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be focused with higher accuracy.
(3) Furthermore, by configuring the curvature of the second surface 21 to change according to the distance from the center 32 of the electron emitting surface 31, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be converged with higher accuracy. can be made

(4)さらに、第2面21の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて増加する構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、一層高精度に収束させることができる。
(5)さらに、第1電極10の第1面11は、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第3領域11aと第4領域11bとを有し、第3領域11aにおける曲率は、第4領域11bにおける曲率と異なる構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(4) Further, the curvature of the second surface 21 is configured to increase according to the distance from the center 32 of the electron emission surface 31, thereby converging a large number of electrons emitted from the emitter 30 with higher accuracy. can be made
(5) Furthermore, the first surface 11 of the first electrode 10 has a third region 11a and a fourth region 11b that are different in distance from the center 32 of the electron emission surface 31, and the curvature of the third region 11a is , and the curvature different from that of the fourth region 11b, it is possible to focus a large number of electrons emitted from the emitter 30 with higher accuracy.

(6)さらに、電子放出面31の中心32からの第4領域11bの距離は、電子放出面31の中心32からの第3領域11aの距離より大きく、第4領域11bの曲率は、第3領域11aの曲率より大きい構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(7)さらに、第1電極10の第1面11の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて変化する構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(6) Furthermore, the distance of the fourth region 11b from the center 32 of the electron emission surface 31 is greater than the distance of the third region 11a from the center 32 of the electron emission surface 31, and the curvature of the fourth region 11b is the third By making the configuration larger than the curvature of the region 11a, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be focused with higher accuracy.
(7) Furthermore, the curvature of the first surface 11 of the first electrode 10 changes according to the distance from the center 32 of the electron emitting surface 31, so that a large number of electrons emitted from the emitter 30 Furthermore, it can be converged with high accuracy.

(8)さらに、第1電極10の第1面11の曲率は、電子放出面31の中心32からの距離に応じて増加する構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(9)さらに、第2電極20の第2面21は凹面である構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(10)さらに、第2電極20の第2面21にはエミッタ30に印加される電圧と同じ電圧が印加される構成とすることで、エミッタ30から放出された多数の電子を、さらに高精度に収束させることができる。
(8) Furthermore, the curvature of the first surface 11 of the first electrode 10 is configured to increase according to the distance from the center 32 of the electron emitting surface 31, so that a large number of electrons emitted from the emitter 30 Furthermore, it can be converged with high accuracy.
(9) Furthermore, by configuring the second surface 21 of the second electrode 20 as a concave surface, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be focused with higher accuracy.
(10) Furthermore, by applying the same voltage as the voltage applied to the emitter 30 to the second surface 21 of the second electrode 20, a large number of electrons emitted from the emitter 30 can be detected with higher accuracy. can be converged to

(電子銃の第2実施形態)
第2実施形態の電子銃100の構成は、上述の第1実施形態の電子銃100の構成と、ほとんど共通する。従って、以下では、第2実施形態の電子銃と第1実施形態の電子銃との相違点のみを説明する。また、第2実施形態の電子銃と第1実施形態の電子銃とで共通する構成については、同一の符号を付して説明する。
(Second Embodiment of Electron Gun)
The configuration of the electron gun 100 of the second embodiment is almost the same as the configuration of the electron gun 100 of the first embodiment described above. Therefore, only the differences between the electron gun of the second embodiment and the electron gun of the first embodiment will be described below. Further, the same reference numerals are given to the structures common to the electron gun of the second embodiment and the electron gun of the first embodiment.

上述の第1実施形態の電子銃100においては、第2電極20の第2面21は、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっているものとした。
第2実施形態の電子銃100においては、第2電極20の第2面21は、必ずしも、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっていなくても良い。
In the electron gun 100 of the first embodiment described above, the second surface 21 of the second electrode 20 has a first region 21a and a second region 21b that are different in distance from the center 32 of the electron emission surface 31. It is assumed that the curvature of the surface is different in the region.
In the electron gun 100 of the second embodiment, the second surface 21 of the second electrode 20 does not necessarily consist of the first region 21a and the second region 21b that are different in distance from the center 32 of the electron emission surface 31. The regions do not have to have different surface curvatures.

第2実施形態の電子銃は、シールド電極40のうち加速電極50と対向する電極面である第3面41は、シールド電極40の開口52からの距離が互いに異なる第5領域41aと第6領域41bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっている。
なお、第2実施形態の電子銃におけるシールド電極40の電極面(第3面41)の構成は、上述した第1実施形態の電子銃100におけるシールド電極40の電極面(第3面41)の構成の構成と同様であるため、詳細の説明は省略する。
In the electron gun of the second embodiment, the third surface 41 of the shield electrode 40, which is the electrode surface facing the accelerating electrode 50, has a fifth area 41a and a sixth area having different distances from the opening 52 of the shield electrode 40. 41b and 41b have different surface curvatures.
The configuration of the electrode surface (third surface 41) of the shield electrode 40 in the electron gun of the second embodiment is similar to that of the electrode surface (third surface 41) of the shield electrode 40 in the electron gun 100 of the first embodiment. Since it is the same as the configuration of the configuration, detailed description is omitted.

なお、第2実施形態の電子銃においては、シールド電極40の電極面である第3面41の、上述の第1領域21aではなく上述の第5領域41aを「第1領域」と解釈しても良く、上述の第2領域21bではなく上述の第6領域41bを「第2領域」と解釈しても良い。 In the electron gun of the second embodiment, the above-described fifth area 41a, not the above-described first area 21a, of the third surface 41, which is the electrode surface of the shield electrode 40, is interpreted as the "first area". Alternatively, the sixth region 41b may be interpreted as the "second region" instead of the second region 21b.

上述した第2実施形態の電子銃100によれば、次の作用効果が得られる。
(11)第2実施形態の電子銃は、電子放出面31を有するエミッタ30と、引出電極としての第1電極10と、第1電極10の第1面11と対向する第2面21を有する第2電極20と、エミッタ30からの電子が入射する開口42を有するシールド電極40と、を備え、シールド電極40の電極面(第3面41)は、開口42の中心からの距離が互いに異なる第1領域(第5領域41a)と第2領域(第6領域41b)とを有し、第1領域(第5領域41a)における曲率は、第2領域(第6領域41b)の曲率と異なる。
この構成により、第2実施形態の電子銃100は、シールド電極40の近傍における局所的な電場の集中を緩和し、シールド電極40からの放電を防止することができる。
According to the electron gun 100 of the second embodiment described above, the following effects are obtained.
(11) The electron gun of the second embodiment has an emitter 30 having an electron emission surface 31, a first electrode 10 as an extraction electrode, and a second surface 21 facing the first surface 11 of the first electrode 10. It comprises a second electrode 20 and a shield electrode 40 having an opening 42 into which electrons from the emitter 30 enter, and the electrode surface (third surface 41) of the shield electrode 40 differs in distance from the center of the opening 42. It has a first region (fifth region 41a) and a second region (sixth region 41b), and the curvature in the first region (fifth region 41a) is different from the curvature in the second region (sixth region 41b) .
With this configuration, the electron gun 100 of the second embodiment can reduce local electric field concentration in the vicinity of the shield electrode 40 and prevent discharge from the shield electrode 40 .

(12)さらに、シールド電極40の開口42の中心からの第2領域(第6領域41b)の距離は、シールド電極40の開口42の中心からの第1領域(第5領域41a)の距離より大きく、シールド電極40の電極面(第3面41)における第2領域(第6領域41b)の曲率は、シールド電極40の電極面(第3面41)における第1領域(第5領域41a)の曲率より大きい構成とすることで、シールド電極40の近傍における局所的な電場の集中をさらに緩和することができる。 (12) Furthermore, the distance of the second region (sixth region 41b) from the center of the opening 42 of the shield electrode 40 is greater than the distance of the first region (fifth region 41a) from the center of the opening 42 of the shield electrode 40. Largely, the curvature of the second region (sixth region 41b) on the electrode surface (third surface 41) of the shield electrode 40 is larger than that of the first region (fifth region 41a) on the electrode surface (third surface 41) of the shield electrode 40. , the local electric field concentration in the vicinity of the shield electrode 40 can be further alleviated.

(電子銃の第3実施形態)
第3実施形態の電子銃100の構成は、上述の第1実施形態の電子銃の構成と、ほとんど共通する。従って、以下では、第3実施形態の電子銃と第1実施形態の電子銃との相違点のみを説明する。また、第3実施形態の電子銃と第1実施形態の電子銃とで共通する構成については、同一の符号を付して説明する。
(Third Embodiment of Electron Gun)
The configuration of the electron gun 100 of the third embodiment is almost the same as that of the electron gun of the first embodiment described above. Therefore, only the differences between the electron gun of the third embodiment and the electron gun of the first embodiment will be described below. Also, the same reference numerals are assigned to the structures common to the electron gun of the third embodiment and the electron gun of the first embodiment.

上述の第1実施形態の電子銃100においては、第2電極20の第2面21は、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっているものとした。
第3実施形態の電子銃100においては、第2電極20の第2面21は、必ずしも、電子放出面31の中心32からの距離が互いに異なる第1領域21aと第2領域21bとのそれぞれの領域で、面の曲率が異なっていなくても良い。
In the electron gun 100 of the first embodiment described above, the second surface 21 of the second electrode 20 has a first region 21a and a second region 21b that are different in distance from the center 32 of the electron emission surface 31. It is assumed that the curvature of the surface is different in the region.
In the electron gun 100 of the third embodiment, the second surface 21 of the second electrode 20 does not necessarily consist of the first region 21a and the second region 21b that are different in distance from the center 32 of the electron emission surface 31. The regions do not have to have different surface curvatures.

第3実施形態の電子銃100は、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45と、第1電極ケーブル15との間隔L1が、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45の相互間の間隔L2、L3、L4よりも大きい。 In the electron gun 100 of the third embodiment, the distance L1 between the emitter cable 35, the second electrode cable 25, the shield electrode cable 45 and the first electrode cable 15 is the distance between the emitter cable 35, the second electrode cable 25 and the shield. greater than the spacings L2, L3, L4 between the electrode cables 45;

なお、第3実施形態の電子銃における第1電極ケーブル15、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45の構成は、第1実施形態の電子銃100における各ケーブル(15、35、25、45)の構成と同様であるため、詳細の説明は省略する。 The configurations of the first electrode cable 15, the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45 in the electron gun of the third embodiment are the same as those of each cable (15, 35) in the electron gun 100 of the first embodiment. , 25, 45), detailed description thereof will be omitted.

上述した第3実施形態の電子銃100によれば、次の作用効果が得られる。
(13)第3実施形態の電子銃は、電子放出面31を有するエミッタ30と、引出電極としての第1電極10と、第1電極10の第1面11と対向する第2面21を有する第2電極20と、エミッタ30からの電子が入射する開口42を有するシールド電極40と、エミッタ30に所定の電圧を供給するエミッタケーブル35と、第1電極10に所定の電圧を供給する第1電極ケーブル15と、第2電極20に所定の電圧を供給する第2電極ケーブル25と、シールド電極40に所定の電圧を供給するシールド電極ケーブル45と、を備え、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45と、第1電極ケーブル15との間隔L1は、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45の相互間の間隔L2、L3、L4よりも大きい。
この構成により、高周波で変動する電圧を印加した際に第1電極ケーブル15から放射される電磁波が、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45に与える悪影響を低減することができる。その結果、第1電極ケーブル15および第1電極10に高周波で変動する電圧を印加する際の、エミッタ30、第2電極20、またはシールド電極40の電圧の変動も低減される。従って、電子銃100の特性を変動させることなく、第1電極の電圧を高速に変動させることができ、電子銃100からの電子の放出および抑止を、高速で切り替えることができる。
According to the electron gun 100 of the third embodiment described above, the following effects are obtained.
(13) The electron gun of the third embodiment has an emitter 30 having an electron emitting surface 31, a first electrode 10 as an extraction electrode, and a second surface 21 facing the first surface 11 of the first electrode 10. a second electrode 20; a shield electrode 40 having an opening 42 into which electrons from the emitter 30 enter; an emitter cable 35 that supplies a predetermined voltage to the emitter 30; Equipped with an electrode cable 15, a second electrode cable 25 that supplies a predetermined voltage to the second electrode 20, and a shield electrode cable 45 that supplies a predetermined voltage to the shield electrode 40, an emitter cable 35 and a second electrode cable 25 and the shielded electrode cable 45 and the first electrode cable 15 are greater than the distances L2, L3 and L4 between the emitter cable 35, the second electrode cable 25 and the shielded electrode cable 45. FIG.
With this configuration, it is possible to reduce the adverse effects of electromagnetic waves radiated from the first electrode cable 15 on the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45 when a voltage that fluctuates at high frequencies is applied. . As a result, fluctuations in the voltage of the emitter 30, the second electrode 20, or the shield electrode 40 are also reduced when a voltage that fluctuates at high frequency is applied to the first electrode cable 15 and the first electrode 10. FIG. Therefore, the voltage of the first electrode can be changed at high speed without changing the characteristics of the electron gun 100, and the emission and suppression of electrons from the electron gun 100 can be switched at high speed.

(14)さらに、エミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45は、多芯シールドケーブル26に配置され、第1電極ケーブル15は、その多芯シールドケーブル26とは異なるシールドケーブル16内に配置されている構成とすることで、第1電極ケーブル15から放射される電磁波によるエミッタケーブル35、第2電極ケーブル25、およびシールド電極ケーブル45への悪影響を一層低減することができる。 (14) Furthermore, the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45 are arranged in the multicore shielded cable 26, and the first electrode cable 15 is a shielded cable 16 different from the multicore shielded cable 26. By arranging it inside, it is possible to further reduce the adverse effects of the electromagnetic waves radiated from the first electrode cable 15 on the emitter cable 35, the second electrode cable 25, and the shielded electrode cable 45.

上述では、種々の実施形態を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。また、各実施形態は、それぞれ単独で適用しても良いし、組み合わせて用いても良い。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。 Although various embodiments have been described above, the present invention is not limited to these contents. Moreover, each embodiment may be applied independently, or may be used in combination. Other aspects conceivable within the scope of the technical idea of the present invention are also included in the scope of the present invention.

100:電子銃、10:第1電極、11:第1面、11a:第3領域、11b:第4領域、20:第2電極、21:第2面、21a:第1領域、21b:第2領域、30:エミッタ、31:電子放出面、40:シールド電極、41:第3面(電極面)、41a:第5領域、41b:第6領域、50:加速電極、60:筐体、15:第1電極ケーブル、25:第2電極ケーブル、35:エミッタケーブル、45:シールド電極ケーブル、V1:第1電圧源、V2:第2電圧源、V3:第3電圧源、V4:第4電圧源、61a~61d:電流導入端子、16:単芯シールドケーブル、26:多芯シールドケーブル 100: electron gun, 10: first electrode, 11: first surface, 11a: third area, 11b: fourth area, 20: second electrode, 21: second surface, 21a: first area, 21b: third 2 area, 30: emitter, 31: electron emission surface, 40: shield electrode, 41: third surface (electrode surface), 41a: fifth area, 41b: sixth area, 50: acceleration electrode, 60: housing, 15: first electrode cable, 25: second electrode cable, 35: emitter cable, 45: shielded electrode cable, V1: first voltage source, V2: second voltage source, V3: third voltage source, V4: fourth Voltage source, 61a to 61d: current introduction terminals, 16: single-core shielded cable, 26: multi-core shielded cable

Claims (33)

電子放出面を有するエミッタと、
引出電極としての第1電極と、
前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、を備え、
前記第2電極の前記第2面は、前記電子放出面の中心からの距離が互いに異なる第1領域と第2領域とを有し、前記第1領域における曲率は、第2領域における曲率と異なる、電子銃。
an emitter having an electron emitting surface;
a first electrode as an extraction electrode;
a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode;
The second surface of the second electrode has a first region and a second region that are different in distance from the center of the electron emission surface, and the curvature in the first region is different from the curvature in the second region. , electron gun.
請求項1に記載の電子銃において、
前記電子放出面の中心からの前記第2領域の距離は、前記電子放出面の中心からの前記第1領域の距離より大きく、
前記第2領域の曲率は、前記第1領域の曲率より大きい、電子銃。
The electron gun of claim 1, wherein
the distance of the second region from the center of the electron emission surface is greater than the distance of the first region from the center of the electron emission surface;
The electron gun, wherein the curvature of the second region is greater than the curvature of the first region.
請求項1または請求項2に記載の電子銃において、
前記第2面の曲率は、前記電子放出面の中心からの距離に応じて変化する、電子銃。
The electron gun according to claim 1 or claim 2,
The electron gun, wherein the curvature of the second surface changes according to the distance from the center of the electron emission surface.
請求項3に記載の電子銃において、
前記第2面の曲率は、前記電子放出面の中心からの距離に応じて増加する、電子銃。
The electron gun according to claim 3,
The electron gun, wherein the curvature of the second surface increases with distance from the center of the electron emitting surface.
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記電子放出面は凹面であり、
前記第1面は凸面である、電子銃。
In the electron gun according to any one of claims 1 to 4,
the electron emission surface is concave;
The electron gun, wherein the first surface is convex.
請求項5に記載の電子銃において、
前記電子放出面は球面である、電子銃。
The electron gun according to claim 5,
The electron gun, wherein the electron emitting surface is spherical.
請求項5または請求項6に記載の電子銃において、
前記第1電極の前記第1面は、前記電子放出面の中心からの距離が互いに異なる第3領域と第4領域とを有し、前記第3領域における曲率は、前記第4領域における曲率と異なる、電子銃。
The electron gun according to claim 5 or claim 6,
The first surface of the first electrode has a third region and a fourth region having different distances from the center of the electron emission surface, and the curvature of the third region is the same as the curvature of the fourth region. Different, electron gun.
請求項7に記載の電子銃において、
前記電子放出面の中心からの前記第4領域の距離は、前記電子放出面の中心からの前記第3領域の距離より大きく、
前記第4領域の曲率は、前記第3領域の曲率より大きい、電子銃。
An electron gun according to claim 7, wherein
the distance of the fourth region from the center of the electron emission surface is greater than the distance of the third region from the center of the electron emission surface;
The electron gun, wherein the curvature of the fourth region is greater than the curvature of the third region.
請求項7または8に記載の電子銃において、
前記第1電極の前記第1面の曲率は、前記電子放出面の中心からの距離に応じて変化する、電子銃。
The electron gun according to claim 7 or 8,
The electron gun, wherein the curvature of the first surface of the first electrode changes according to the distance from the center of the electron emission surface.
請求項9に記載の電子銃において、
前記第1電極の前記第1面の曲率は、前記電子放出面の中心からの距離に応じて増加する、電子銃。
The electron gun according to claim 9,
The electron gun, wherein the curvature of the first surface of the first electrode increases with distance from the center of the electron emitting surface.
請求項1から請求項10までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第2電極の前記第2面は凹面である、電子銃。
In the electron gun according to any one of claims 1 to 10,
The electron gun, wherein the second surface of the second electrode is concave.
請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第2電極には、前記エミッタに印加される電圧と同じ電圧が印加される、電子銃。
In the electron gun according to any one of claims 1 to 11,
The electron gun, wherein the second electrode is applied with the same voltage as the voltage applied to the emitter.
請求項1から請求項12までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記エミッタからの電子が入射する開口を有するシールド電極、を備え、
前記シールド電極の電極面は、前記開口の中心からの距離が互いに異なる第5領域と第6領域とを有し、前記第5領域における曲率は、前記第6領域の曲率と異なる、電子銃。
In the electron gun according to any one of claims 1 to 12,
a shield electrode having an opening through which electrons from the emitter are incident;
The electron gun, wherein the electrode surface of the shield electrode has a fifth region and a sixth region that are different in distance from the center of the opening, and the curvature in the fifth region is different from the curvature in the sixth region.
請求項13に記載の電子銃において、
前記シールド電極の前記開口の中心からの前記第6領域の距離は、前記シールド電極の前記開口の中心からの前記第5領域の距離より大きく、
前記第6領域の曲率は、前記第5領域の曲率より大きい、電子銃。
14. The electron gun of claim 13, wherein
the distance of the sixth region from the center of the opening of the shield electrode is greater than the distance of the fifth region from the center of the opening of the shield electrode;
The electron gun, wherein the curvature of the sixth region is greater than the curvature of the fifth region.
請求項13または請求項14に記載の電子銃において、
前記第5領域と前記第6領域のそれぞれは、前記開口に対して前記エミッタ側に曲率中心を有する曲面である、電子銃。
The electron gun according to claim 13 or 14,
The electron gun, wherein each of the fifth region and the sixth region is a curved surface having a center of curvature on the emitter side with respect to the opening.
請求項13から請求項15までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第1電極の少なくとも一部は、前記エミッタと前記シールド電極との間に配置される、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 13 to 15,
An electron gun, wherein at least a portion of the first electrode is positioned between the emitter and the shield electrode.
請求項13から請求項16までのいずれか一項に記載の電子銃において、
加速電極を備え、
前記シールド電極の少なくとも一部は、前記第1電極と前記加速電極との間に配置され、
前記シールド電極の前記電極面は、前記加速電極側の面である、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 13 to 16,
Equipped with accelerating electrodes,
at least part of the shield electrode is disposed between the first electrode and the acceleration electrode;
The electron gun, wherein the electrode surface of the shield electrode is a surface on the acceleration electrode side.
請求項13から請求項17までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記エミッタに所定の電圧を供給するエミッタケーブルと、
前記第1電極に所定の電圧を供給する第1電極ケーブルと、
前記第2電極に所定の電圧を供給する第2電極ケーブルと、
前記シールド電極に所定の電圧を供給するシールド電極ケーブルと、
を備え、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルと、前記第1電極ケーブルとの間隔は、前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルの相互間の間隔よりも大きい、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 13 to 17,
an emitter cable that supplies a predetermined voltage to the emitter;
a first electrode cable that supplies a predetermined voltage to the first electrode;
a second electrode cable that supplies a predetermined voltage to the second electrode;
a shield electrode cable that supplies a predetermined voltage to the shield electrode;
with
The distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable and the first electrode cable is greater than the distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable. , electron gun.
請求項18に記載の電子銃において、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルは、多芯シールドケーブルに配置され、
前記第1電極ケーブルは、前記多芯シールドケーブルとは異なるシールドケーブル内に配置されている、電子銃。
19. The electron gun of claim 18, wherein
the emitter cable, the second electrode cable, and the shielded electrode cable are arranged in a multicore shielded cable;
The electron gun, wherein the first electrode cable is arranged in a shielded cable different from the multicore shielded cable.
請求項18または請求項19に記載の電子銃において、
前記第1電極は、前記第1電極ケーブルを介して、高周波で変動する電圧が供給される、電子銃。
20. The electron gun according to claim 18 or 19,
The electron gun, wherein the first electrode is supplied with a voltage that fluctuates at high frequency via the first electrode cable.
電子放出面を有するエミッタと、
引出電極としての第1電極と、
前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、
前記エミッタからの電子が入射する開口を有するシールド電極と、を備え、
前記シールド電極の電極面は、前記開口の中心からの距離が互いに異なる第1領域と第2領域とを有し、前記第1領域における曲率は、前記第2領域の曲率と異なる、電子銃。
an emitter having an electron emitting surface;
a first electrode as an extraction electrode;
a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode;
a shield electrode having an opening into which electrons from the emitter are incident;
The electron gun, wherein the electrode surface of the shield electrode has a first region and a second region that are different in distance from the center of the opening, and the curvature in the first region is different from the curvature in the second region.
請求項21に記載の電子銃において、
前記シールド電極の前記開口の中心からの前記第2領域の距離は、前記シールド電極の前記開口の中心からの前記第1領域の距離より大きく、
前記シールド電極の前記電極面における前記第2領域の曲率は、前記シールド電極の前記電極面における前記第1領域の曲率より大きい、電子銃。
22. The electron gun of claim 21, wherein
the distance of the second region from the center of the opening of the shield electrode is greater than the distance of the first region from the center of the opening of the shield electrode;
The electron gun, wherein the curvature of the second region on the electrode surface of the shield electrode is greater than the curvature of the first region on the electrode surface of the shield electrode.
請求項21または請求項22に記載の電子銃において、
前記第1領域と前記第2領域のそれぞれは、前記開口に対して前記エミッタ側に曲率中心を有する曲面である、電子銃。
23. The electron gun according to claim 21 or 22,
The electron gun, wherein each of the first region and the second region is a curved surface having a center of curvature on the emitter side with respect to the opening.
請求項21から請求項23までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第1電極の少なくとも一部は、前記エミッタと前記シールド電極との間に配置される、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 21 to 23,
An electron gun, wherein at least a portion of the first electrode is positioned between the emitter and the shield electrode.
請求項21から請求項24までのいずれか一項に記載の電子銃において、
加速電極を備え、
前記シールド電極の少なくとも一部は、前記第1電極と前記加速電極との間に配置され、
前記シールド電極の前記電極面は、前記加速電極側の面である、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 21 to 24,
Equipped with accelerating electrodes,
at least part of the shield electrode is disposed between the first electrode and the acceleration electrode;
The electron gun, wherein the electrode surface of the shield electrode is a surface on the acceleration electrode side.
請求項21から請求項25までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記エミッタに所定の電圧を供給するエミッタケーブルと、
前記第1電極に所定の電圧を供給する第1電極ケーブルと、
前記第2電極に所定の電圧を供給する第2電極ケーブルと、
前記シールド電極に所定の電圧を供給するシールド電極ケーブルと、
を備え、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルと、前記第1電極ケーブルとの間隔は、前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルの相互間の間隔よりも大きい、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 21 to 25,
an emitter cable that supplies a predetermined voltage to the emitter;
a first electrode cable that supplies a predetermined voltage to the first electrode;
a second electrode cable that supplies a predetermined voltage to the second electrode;
a shield electrode cable that supplies a predetermined voltage to the shield electrode;
with
The distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable and the first electrode cable is greater than the distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable. , electron gun.
請求項26に記載の電子銃において、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルは、多芯シールドケーブルに配置され、
前記第1電極ケーブルは、前記多芯シールドケーブルとは異なるシールドケーブル内に配置されている、電子銃。
27. The electron gun of claim 26, wherein
the emitter cable, the second electrode cable, and the shielded electrode cable are arranged in a multicore shielded cable;
The electron gun, wherein the first electrode cable is arranged in a shielded cable different from the multicore shielded cable.
請求項26または請求項27に記載の電子銃において、
前記第1電極は、前記第1電極ケーブルを介して、高周波で変動する電圧が供給される、電子銃。
28. The electron gun according to claim 26 or 27,
The electron gun, wherein the first electrode is supplied with a voltage that fluctuates at high frequency through the first electrode cable.
電子放出面を有するエミッタと、
引出電極としての第1電極と、
前記第1電極の第1面と対向する第2面を有する第2電極と、
前記エミッタからの電子が入射する開口を有するシールド電極と、
前記エミッタに所定の電圧を供給するエミッタケーブルと、
前記第1電極に所定の電圧を供給する第1電極ケーブルと、
前記第2電極に所定の電圧を供給する第2電極ケーブルと、
前記シールド電極に所定の電圧を供給するシールド電極ケーブルと、
を備え、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルと、前記第1電極ケーブルとの間隔は、前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルの相互間の間隔よりも大きい、電子銃。
an emitter having an electron emitting surface;
a first electrode as an extraction electrode;
a second electrode having a second surface facing the first surface of the first electrode;
a shield electrode having an opening into which electrons from the emitter are incident;
an emitter cable that supplies a predetermined voltage to the emitter;
a first electrode cable that supplies a predetermined voltage to the first electrode;
a second electrode cable that supplies a predetermined voltage to the second electrode;
a shield electrode cable that supplies a predetermined voltage to the shield electrode;
with
The distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable and the first electrode cable is greater than the distance between the emitter cable, the second electrode cable and the shielded electrode cable. , electron gun.
請求項29に記載の電子銃において、
前記エミッタケーブル、前記第2電極ケーブル、および前記シールド電極ケーブルは、多芯シールドケーブルに配置され、
前記第1電極ケーブルは、前記多芯シールドケーブルとは異なるシールドケーブル内に配置されている、電子銃。
30. The electron gun of claim 29, wherein
the emitter cable, the second electrode cable, and the shielded electrode cable are arranged in a multicore shielded cable;
The electron gun, wherein the first electrode cable is arranged in a shielded cable different from the multicore shielded cable.
請求項29または請求項30に記載の電子銃において、
前記第1電極は、前記第1電極ケーブルを介して、高周波で変動する電圧が供給される、電子銃。
31. An electron gun according to claim 29 or 30,
The electron gun, wherein the first electrode is supplied with a voltage that fluctuates at high frequency via the first electrode cable.
請求項1から請求項31までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第1電極の第1面は、前記エミッタの前記電子放出面と対向する、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 1 to 31,
The electron gun, wherein the first surface of the first electrode faces the electron emitting surface of the emitter.
請求項1から請求項32までのいずれか一項に記載の電子銃において、
前記第2電極の第2面は、前記エミッタの前記電子放出面の外周に沿って前記電子放出面を囲んで配置されている、電子銃。
An electron gun according to any one of claims 1 to 32,
The electron gun, wherein the second surface of the second electrode is arranged along the perimeter of the electron emitting surface of the emitter surrounding the electron emitting surface.
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