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JP7305909B2 - semiconductor light emitting device - Google Patents
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Description

本開示は、半導体発光装置に関する。 The present disclosure relates to semiconductor light emitting devices.

半導体発光素子の一つとして、垂直共振器面発光レーザ(Vertical Cavity Surface Emitting Laser:VCSEL)素子が知られている。特許文献1には、VCSEL素子などの半導体レーザチップをパッケージ化した半導体発光装置の一例が開示されている。本開示の半導体発光装置は、半導体レーザチップ、ダイパッド、電極端子、ボンディングワイヤ、および絶縁材を備えている。半導体レーザチップは、ダイパッドに搭載され、ボンディングワイヤで電極端子に接続されている。半導体レーザチップ、ダイパッド、ボンディングワイヤ、および電極端子は、透明樹脂からなる絶縁材で機密封止されている。 A vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) element is known as one of semiconductor light emitting elements. Patent Document 1 discloses an example of a semiconductor light emitting device in which a semiconductor laser chip such as a VCSEL element is packaged. A semiconductor light emitting device of the present disclosure includes a semiconductor laser chip, a die pad, electrode terminals, bonding wires, and an insulating material. A semiconductor laser chip is mounted on a die pad and connected to electrode terminals by bonding wires. The semiconductor laser chip, die pad, bonding wires, and electrode terminals are hermetically sealed with an insulating material made of transparent resin.

近年、半導体発光装置が適用される電子機器の薄型化に伴い、当該半導体発光装置についても、より一層の低背化が要求されている。 2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices to which semiconductor light emitting devices are applied have become thinner, there has been a demand for further reductions in the height of the semiconductor light emitting devices.

特開平9-102650号公報JP-A-9-102650

本開示は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、より低背化が可能な半導体発光装置を提供することをその課題とする。 The present disclosure has been conceived under the circumstances described above, and an object thereof is to provide a semiconductor light-emitting device that can be further reduced in height.

本開示によって提供される半導体発光装置は、発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面とを有する半導体発光素子と、前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材とを備え、前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一である。 A semiconductor light-emitting device provided by the present disclosure includes: a semiconductor light-emitting element having an element main surface having a light-emitting region; and an element back surface facing the side opposite to the element main surface in a thickness direction; a first lead electrically connected to the semiconductor light emitting element, and a back surface of the reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and facing the same side as the element back surface in the thickness direction. the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction, the element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member, The back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member.

本開示によれば、補強部材は、素子主面、素子裏面、および第1リード裏面を露出させた状態で、半導体発光素子および第1リードを覆っている。発光領域を補強部材から露出させたまま半導体発光素子を第1リードに固定することができるので、半導体発光素子をリードや基板に搭載する必要がない。したがって、本開示の半導体発光装置は、半導体発光素子をリードや基板に搭載する従来の半導体発光装置と比較して、低背化が可能である。 According to the present disclosure, the reinforcing member covers the semiconductor light emitting element and the first lead while exposing the main surface of the element, the back surface of the element, and the back surface of the first lead. Since the semiconductor light emitting element can be fixed to the first lead while the light emitting region is exposed from the reinforcing member, there is no need to mount the semiconductor light emitting element on the lead or the substrate. Therefore, the semiconductor light emitting device of the present disclosure can be made thinner than conventional semiconductor light emitting devices in which semiconductor light emitting elements are mounted on leads or substrates.

本開示のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。 Other features and advantages of the present disclosure will become more apparent from the detailed description below with reference to the accompanying drawings.

本開示の第1実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。1 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a first embodiment of the present disclosure; FIG. 図1の半導体発光装置を示す底面図である。2 is a bottom view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; 図1の半導体発光装置を示す右側面図である。FIG. 2 is a right side view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; 図1のV-V線に沿う断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line VV of FIG. 1; FIG. 図1のVI-VI線に沿う断面図である。2 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の半導体発光素子を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a semiconductor light emitting element of the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大平面図である。2 is an enlarged plan view of a main part showing an example of a method for manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大平面図である。2 is an enlarged plan view of a main part showing an example of a method for manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大平面図である。2 is an enlarged plan view of a main part showing an example of a method for manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 図1の半導体発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of a method of manufacturing the semiconductor light emitting device of FIG. 1; FIG. 本開示の第2実施形態に係る半導体発光装置を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a semiconductor light emitting device according to a second embodiment of the present disclosure; 本開示の第3実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a third embodiment of the present disclosure; 本開示の第4実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a fourth embodiment of the present disclosure; 本開示の第5実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a fifth embodiment of the present disclosure; 図23の半導体発光装置を示す断面図である。24 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 23; FIG. 本開示の第6実施形態に係る半導体発光装置を示す底面図である。FIG. 11 is a bottom view showing a semiconductor light emitting device according to a sixth embodiment of the present disclosure; 図25の半導体発光装置を示す断面図である。26 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 25; FIG. 本開示の第7実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a seventh embodiment of the present disclosure; 図27の半導体発光装置を示す断面図である。28 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 27; FIG. 本開示の第8実施形態に係る半導体発光装置を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a semiconductor light emitting device according to an eighth embodiment of the present disclosure; 本開示の第9実施形態に係る半導体発光装置を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a semiconductor light emitting device according to a ninth embodiment of the present disclosure; 図30の半導体発光装置の半導体発光素子を示す要部拡大断面図である。31 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a semiconductor light emitting element of the semiconductor light emitting device of FIG. 30; FIG. 本開示の第10実施形態に係る半導体発光装置を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a semiconductor light emitting device according to a tenth embodiment of the present disclosure; 図32の半導体発光装置を示す断面図である。33 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device of FIG. 32; FIG.

以下、本開示の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。 Preferred embodiments of the present disclosure will be specifically described below with reference to the drawings.

<第1実施形態>
図1~図7に基づき、本開示の第1実施形態に係る半導体発光装置A10について説明する。半導体発光装置A10は、半導体発光素子1、第1リード2、第2リード3、外壁部材4、補強部材5、透光樹脂6、第1ボンディングワイヤ71、および第2ボンディングワイヤ72を備えている。
<First embodiment>
A semiconductor light emitting device A10 according to the first embodiment of the present disclosure will be described based on FIGS. 1 to 7. FIG. The semiconductor light emitting device A10 includes a semiconductor light emitting element 1, a first lead 2, a second lead 3, an outer wall member 4, a reinforcing member 5, a translucent resin 6, first bonding wires 71, and second bonding wires 72. .

図1は、半導体発光装置A10を示す平面図である。図2は、半導体発光装置A10を示す底面図である。図3は、半導体発光装置A10を示す正面図である。図4は、半導体発光装置A10を示す右側面図である。図5は、図1のV-V線に沿う断面図である。図6は、図1のVI-VI線に沿う断面図である。図7は、半導体発光装置A10の半導体発光素子1を示す要部拡大断面図である。なお、図1においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。 FIG. 1 is a plan view showing the semiconductor light emitting device A10. FIG. 2 is a bottom view showing the semiconductor light emitting device A10. FIG. 3 is a front view showing the semiconductor light emitting device A10. FIG. 4 is a right side view showing the semiconductor light emitting device A10. FIG. 5 is a cross-sectional view along line VV in FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view along line VI-VI of FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the semiconductor light emitting element 1 of the semiconductor light emitting device A10. In addition, in FIG. 1, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding.

これらの図に示す半導体発光装置A10は、スマートフォンなどの様々な電子機器の配線基板に表面実装される装置である。半導体発光装置A10の厚さ方向視の形状は長矩形状である。説明の便宜上、半導体発光装置A10の厚さ方向をz方向とし、z方向に直交する半導体発光装置A10の短手方向(図1における左右方向)をx方向、z方向およびx方向に直交する方向(図1における上下方向)をy方向とする。半導体発光装置A10の大きさは特に限定されないが、本実施形態においては、z方向寸法がたとえば0.1mm以上0.2mm以下である。 The semiconductor light-emitting device A10 shown in these figures is a device that is surface-mounted on wiring boards of various electronic devices such as smartphones. The shape of the semiconductor light emitting device A10 when viewed in the thickness direction is a rectangular shape. For convenience of explanation, the thickness direction of the semiconductor light emitting device A10 is defined as the z direction, the short direction of the semiconductor light emitting device A10 (horizontal direction in FIG. 1) orthogonal to the z direction is defined as the x direction, the z direction and the direction orthogonal to the x direction. (vertical direction in FIG. 1) is defined as the y direction. Although the size of the semiconductor light emitting device A10 is not particularly limited, in the present embodiment, the z-direction dimension is, for example, 0.1 mm or more and 0.2 mm or less.

半導体発光素子1は、半導体発光装置A10における光源であり、所定の波長帯の光を発する。本実施形態では、半導体発光素子1は、VCSEL素子である。なお、半導体発光素子1はVCSEL素子に限定されず、LED素子などであってもよい。半導体発光素子1は、z方向視において、半導体発光装置A10の中央に、長辺がy方向に平行に、短辺がx方向に平行になるように配置されている。半導体発光装置A10からの光は、おおむねz方向一方側に出射される。図1および図2に示すように、本実施形態においては、半導体発光素子1は、z方向視矩形状である。 The semiconductor light emitting element 1 is a light source in the semiconductor light emitting device A10 and emits light in a predetermined wavelength band. In this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is a VCSEL device. Note that the semiconductor light emitting device 1 is not limited to a VCSEL device, and may be an LED device or the like. The semiconductor light emitting element 1 is arranged in the center of the semiconductor light emitting device A10 so that its long sides are parallel to the y direction and its short sides are parallel to the x direction when viewed in the z direction. Light from the semiconductor light emitting device A10 is emitted generally to one side in the z direction. As shown in FIGS. 1 and 2, in this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 has a rectangular shape when viewed in the z direction.

半導体発光素子1は、素子本体10、第1電極11、第2電極12、および複数の発光領域14を備えている。半導体発光素子1は、第1電極11と第2電極12との間に電圧が印加されて通電されることにより光を発し、当該光を内部で共振させて、発光領域14からレーザ光として出射する。 A semiconductor light emitting device 1 includes a device body 10 , a first electrode 11 , a second electrode 12 , and a plurality of light emitting regions 14 . The semiconductor light emitting device 1 emits light when a voltage is applied between the first electrode 11 and the second electrode 12 to energize the device, resonates the light internally, and emits laser light from the light emitting region 14 do.

素子本体10は、素子主面1a、素子裏面1b、および素子側面1cを備えている。素子主面1aおよび素子裏面1bは、z方向において互いに反対側を向いている。素子主面1aは、図4~図6の上方を向く面である。素子裏面1bは、図4~図6の下方を向く面である。素子側面1cは、素子主面1aと素子裏面1bとに繋がり、x方向またはy方向を向く面である。素子主面1aには、第1電極11および第2電極12が配置されており、複数の発光領域14が形成されている。図1に示すように、複数の発光領域14は、素子主面1aのうち、第1電極11および第2電極12が配置される領域を除いて、全面に離散配置されている。 The element main body 10 has an element main surface 1a, an element back surface 1b, and an element side surface 1c. The element main surface 1a and the element back surface 1b face opposite sides in the z-direction. The element main surface 1a is a surface facing upward in FIGS. The element back surface 1b is a surface facing downward in FIGS. The element side surface 1c is a surface that is connected to the element main surface 1a and the element back surface 1b and faces the x direction or the y direction. A first electrode 11 and a second electrode 12 are arranged on the element main surface 1a, and a plurality of light emitting regions 14 are formed. As shown in FIG. 1, the plurality of light emitting regions 14 are discretely arranged over the entire main surface 1a of the element except for the regions where the first electrodes 11 and the second electrodes 12 are arranged.

また、素子本体10は、図7に示すように、半導体基板101、第1半導体層102、活性層103、第2半導体層104、絶縁層105、電流狭窄層106、導電層107を備えており、素子主面1aに発光領域14が形成されている。なお、これらの図に示す構成例は、半導体発光素子1としてのVCSEL素子の一例であり、本構成に限定されるものではない。図7は、1つの発光領域14を含む部分を拡大して示している。 7, the element body 10 includes a semiconductor substrate 101, a first semiconductor layer 102, an active layer 103, a second semiconductor layer 104, an insulating layer 105, a current confinement layer 106, and a conductive layer 107. , a light emitting region 14 is formed on the element main surface 1a. The configuration examples shown in these figures are examples of the VCSEL device as the semiconductor light emitting device 1, and are not limited to this configuration. FIG. 7 shows an enlarged portion including one light emitting region 14 .

半導体基板101は、半導体よりなる。半導体基板101を構成する半導体は、たとえば、アンドープのGaAsである。半導体基板101を構成する半導体は、GaAs以外であってもよい。 The semiconductor substrate 101 is made of a semiconductor. The semiconductor forming semiconductor substrate 101 is, for example, undoped GaAs. The semiconductor forming the semiconductor substrate 101 may be other than GaAs.

活性層103は、自然放出および誘導放出によって、たとえば、980nm帯(以下、「λa」とする)の波長の光を放出する化合物半導体により構成されている。活性層103は、第1半導体層102と第2半導体層104との間に位置している。本実施形態においては、アンドープのGaAs井戸層とアンドープのAlGaAs障壁層(バリア層)とを交互に積層した多重量子井戸構造により構成されている。たとえば、アンドープAl0.35Ga0.65As障壁層とアンドープGaAs井戸層とが交互に繰り返し2~6周期形成されている。 The active layer 103 is made of a compound semiconductor that emits light with a wavelength of, for example, the 980 nm band (hereinafter referred to as "λa") by spontaneous emission and stimulated emission. The active layer 103 is located between the first semiconductor layer 102 and the second semiconductor layer 104 . In this embodiment, a multiple quantum well structure in which undoped GaAs well layers and undoped AlGaAs barrier layers (barrier layers) are alternately laminated. For example, undoped Al 0.35 Ga 0.65 As barrier layers and undoped GaAs well layers are alternately formed for 2 to 6 cycles.

第1半導体層102は、典型的にはDBR(Distributed Bragg Reflector)層であり、半導体基板101に形成されている。第1半導体層102は第1導電型を有する半導体よりなる。本例では第1導電型はn型である。第1半導体層102は、活性層103から発せられる光を効率よく反射させるためのDBRとして構成されている。第1半導体層102は、厚さλa/4のAlGaAs層であってそれぞれ反射率が異なる2層からなるペアを、複数段重ね合わせることにより構成されている。より具体的には、第1半導体層102は、たとえば600Åの厚さを有する相対的にAl組成が低いn型Al0.16Ga0.84As層(低Al組成層)と、たとえば700Åの厚さを有する相対的にAl組成が高いn型Al0.92Ga0.16As層(高Al組成層)とを交互に複数周期(たとえば、20周期)繰り返し積層して構成されている。n型Al0.16Ga0.84As層およびn型Al0.92Ga0.16As層には、それぞれ、たとえば2×1017cm-3~3×1018cm-3および2×1017cm-3~3×1018cm-3の濃度で、n型不純物(たとえば、Si)がドープされている。 The first semiconductor layer 102 is typically a distributed Bragg reflector (DBR) layer and formed on the semiconductor substrate 101 . The first semiconductor layer 102 is made of a semiconductor having a first conductivity type. In this example, the first conductivity type is n-type. The first semiconductor layer 102 is configured as a DBR for efficiently reflecting light emitted from the active layer 103 . The first semiconductor layer 102 is formed by stacking a plurality of pairs of two AlGaAs layers each having a thickness of λa/4 and having different reflectances. More specifically, the first semiconductor layer 102 has an n-type Al 0.16 Ga 0.84 As layer (low Al composition layer) with a relatively low Al composition having a thickness of, for example, 600 Å and a thickness of, for example, 700 Å. An n-type Al 0.92 Ga 0.16 As layer (high Al composition layer) having a relatively high Al composition is alternately stacked repeatedly for a plurality of cycles (for example, 20 cycles). The n-type Al 0.16 Ga 0.84 As layer and the n-type Al 0.92 Ga 0.16 As layer have, for example, 2×10 17 cm −3 to 3×10 18 cm −3 and 2×10 17 cm −3 to 3×10 cm −3 , respectively. It is doped with n-type impurities (eg, Si) at a concentration of 18 cm −3 .

第2半導体層104は、典型的にはDBR層であり、第2導電型を有する半導体よりなる。本例では第2導電型はp型である。本実施形態とは異なり、第1導電型がp型であり、第2導電型がn型であってもよい。第2半導体層104および半導体基板101の間に、第1半導体層102が位置している。第2半導体層104は、活性層103から発せられる光を効率よく反射させるためのDBRとして構成されている。より具体的には、第2半導体層104は、厚さλa/4のAlGaAs層であってそれぞれ反射率が異なる2層からなるペアを、複数段重ね合わせることにより構成されている。第2半導体層104は、たとえば、相対的にAl組成が低いp型Al0.16Ga0.84As層(低Al組成層)と、相対的にAl組成が高いp型Al0.92Ga0.16As層(高Al組成層)とが交互に複数周期(たとえば、20周期)繰り返し積層して構成されている。 The second semiconductor layer 104 is typically a DBR layer and made of a semiconductor having the second conductivity type. In this example, the second conductivity type is p-type. Unlike the present embodiment, the first conductivity type may be p-type and the second conductivity type may be n-type. A first semiconductor layer 102 is located between the second semiconductor layer 104 and the semiconductor substrate 101 . The second semiconductor layer 104 is configured as a DBR for efficiently reflecting light emitted from the active layer 103 . More specifically, the second semiconductor layer 104 is formed by stacking a plurality of pairs of two AlGaAs layers each having a thickness of λa/4 and having different reflectances. The second semiconductor layer 104 includes, for example, a p-type Al 0.16 Ga 0.84 As layer with a relatively low Al composition (low Al composition layer) and a p-type Al 0.92 Ga 0.16 As layer with a relatively high Al composition (high Al composition layer). composition layer) are laminated alternately for a plurality of cycles (for example, 20 cycles).

電流狭窄層106は、第2半導体層104内に位置している。電流狭窄層106はたとえばAlを多く含み、酸化しやすい層からなる。電流狭窄層106は、この酸化しやすい層を酸化することにより形成される。電流狭窄層106は、酸化によって形成される必要は必ずしもなく、その他の方法(たとえばイオン注入)によって形成されてもよい。電流狭窄層106には開口106aが形成されている。開口106aを電流が流れる。 The current confinement layer 106 is located within the second semiconductor layer 104 . The current confinement layer 106 is made of a layer that contains a large amount of Al and is easily oxidized, for example. The current confinement layer 106 is formed by oxidizing this easily oxidizable layer. Current confinement layer 106 does not necessarily have to be formed by oxidation, and may be formed by other methods (eg, ion implantation). An opening 106 a is formed in the current constriction layer 106 . A current flows through the opening 106a.

絶縁層105は第2半導体層104に形成されている。絶縁層105は、たとえば、SiO2よりなる。絶縁層105には、開口105aが形成されている。 The insulating layer 105 is formed on the second semiconductor layer 104 . Insulating layer 105 is made of, for example, SiO 2 . An opening 105 a is formed in the insulating layer 105 .

導電層107は、絶縁層105に形成されている。導電層107は導電材料(たとえば金属)よりなる。導電層107は、絶縁層105の開口105aを通じて第2半導体層104に導通している。導電層107は、開口107aを有する。 Conductive layer 107 is formed on insulating layer 105 . Conductive layer 107 is made of a conductive material (eg, metal). The conductive layer 107 is electrically connected to the second semiconductor layer 104 through the opening 105 a of the insulating layer 105 . The conductive layer 107 has an opening 107a.

発光領域14は、活性層103からの光が直接または反射の後に出射される領域である。本例においては、発光領域14は、平面視円環形状であるが、その形状は特に限定されない。発光領域14は、上述した第2半導体層104、電流狭窄層106、絶縁層105および導電層107が積層され、電流狭窄層106の開口106a、絶縁層105の開口105aおよび導電層107の開口107a等が形成されることにより設けられている。発光領域14においては、活性層103からの光が、導電層107の開口107aを通じて出射される。 Emissive region 14 is the region where light from active layer 103 is emitted directly or after reflection. In this example, the light emitting region 14 has an annular shape in plan view, but the shape is not particularly limited. The second semiconductor layer 104, the current confinement layer 106, the insulating layer 105, and the conductive layer 107 are laminated in the light emitting region 14, and the opening 106a of the current constriction layer 106, the opening 105a of the insulating layer 105, and the opening 107a of the conductive layer 107 are formed. etc. are formed. In light emitting region 14 , light from active layer 103 is emitted through opening 107 a of conductive layer 107 .

第1電極11は、たとえば金属からなり、導電層107に接して、第2半導体層104に導通している。第1電極11は、アノード電極になる。第2電極12は、たとえば金属からなり、半導体基板101の表面(第1半導体層102が形成されている面)に形成され、第1半導体層102に導通している。第2電極12は、カソード電極になる。 The first electrode 11 is made of metal, for example, is in contact with the conductive layer 107 , and is electrically connected to the second semiconductor layer 104 . The first electrode 11 becomes an anode electrode. The second electrode 12 is made of metal, for example, is formed on the surface of the semiconductor substrate 101 (the surface on which the first semiconductor layer 102 is formed), and is electrically connected to the first semiconductor layer 102 . The second electrode 12 becomes a cathode electrode.

半導体発光素子1の素子裏面1b側には、素子裏面1bに接する絶縁層75が形成されている。絶縁層75は、たとえば、絶縁性の樹脂からなる絶縁性ペーストを乾燥および硬化させたものである。絶縁層75は、素子裏面1bの全面および素子側面1cの一部に接して形成されている。図1および図2に示すように、z方向視において、絶縁層75の周縁は、半導体発光素子1の周縁よりも外側に位置する。図2、図5、および図6に示すように、絶縁層75は、z方向において、半導体発光素子1の素子裏面1bと同じ側を向く裏面75bを備えている。裏面75bは、補強部材5から露出して、補強部材5の裏面52(後述)と互いに面一になっている。 An insulating layer 75 is formed on the element back surface 1b side of the semiconductor light emitting element 1 so as to be in contact with the element back surface 1b. The insulating layer 75 is formed by drying and curing an insulating paste made of an insulating resin, for example. The insulating layer 75 is formed in contact with the entire surface of the element back surface 1b and part of the element side surface 1c. As shown in FIGS. 1 and 2, the periphery of the insulating layer 75 is located outside the periphery of the semiconductor light emitting device 1 when viewed in the z direction. As shown in FIGS. 2, 5, and 6, the insulating layer 75 has a back surface 75b facing the same side as the back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 in the z direction. The back surface 75b is exposed from the reinforcing member 5 and is flush with a back surface 52 (described later) of the reinforcing member 5. As shown in FIG.

第1リード2および第2リード3は、金属からなり、好ましくはCuおよびNiのいずれか、またはこれらの合金や42アロイなどからなる。本実施形態においては、第1リード2および第2リード3が、Cuからなる場合を例に説明する。第1リード2および第2リード3の厚さは、たとえば0.05以上0.15mm以下であり、本実施形態においては0.1mmである。第1リード2および第2リード3は、たとえば、金属板にエッチング加工を施すことで形成されている。なお、第1リード2および第2リード3は、金属板に打ち抜き加工や折り曲げ加工等を施すことにより形成されてもよい。 The first lead 2 and the second lead 3 are made of metal, preferably Cu or Ni, or an alloy thereof, 42 alloy, or the like. In this embodiment, an example in which the first lead 2 and the second lead 3 are made of Cu will be described. The thickness of the first lead 2 and the second lead 3 is, for example, 0.05 mm or more and 0.15 mm or less, and is 0.1 mm in this embodiment. The first lead 2 and the second lead 3 are formed, for example, by etching a metal plate. The first lead 2 and the second lead 3 may be formed by punching or bending a metal plate.

第1リード2は、図1に示すように、半導体発光素子1のy方向一方側(図1においては上側)に、半導体発光素子1から離間して配置され、半導体発光装置A10のx方向両端部まで広がっている。第1リード2は、z方向視略長矩形状である。z方向視において、第1リード2の各辺は、x方向またはy方向に平行である。第1リード2は、複数の第1ボンディングワイヤ71によって、半導体発光素子1の第1電極11(アノード電極)に電気的に接続されている。これにより、第1リード2は、半導体発光装置A10を外部の配線基板に搭載する際のアノード端子として機能する。第1リード2は、主面21、裏面22、側面23、凹部24、および複数の突出部25を備えている。 As shown in FIG. 1, the first lead 2 is arranged on one side of the semiconductor light emitting element 1 in the y direction (the upper side in FIG. 1) and is spaced apart from the semiconductor light emitting element 1. extends to the department. The first lead 2 has a substantially long rectangular shape when viewed in the z direction. When viewed in the z-direction, each side of the first lead 2 is parallel to the x-direction or the y-direction. The first lead 2 is electrically connected to the first electrode 11 (anode electrode) of the semiconductor light emitting element 1 by a plurality of first bonding wires 71 . Thereby, the first lead 2 functions as an anode terminal when the semiconductor light emitting device A10 is mounted on an external wiring board. The first lead 2 has a main surface 21 , a back surface 22 , side surfaces 23 , recesses 24 and a plurality of protrusions 25 .

主面21および裏面22は、z方向において互いに反対側を向いている。主面21は、図3~図6の上方を向く面である。主面21は、第1ボンディングワイヤ71が接続される面である。主面21には、図示しないAgめっき層が形成されている。裏面22は、図3~図6の下方を向く面である。裏面22は、外壁部材4および補強部材5から露出して、裏面端子になる。裏面22には、図示しないSnを主成分とする合金めっき層が形成されている。本実施形態では、主面21は、裏面22より大きい。これにより、第1リード2が裏面22側から抜け落ちることを防止できる。なお、主面21と裏面22とが同じ大きさであってもよい。 The main surface 21 and the back surface 22 face opposite sides in the z-direction. Principal surface 21 is the surface facing upward in FIGS. Main surface 21 is a surface to which first bonding wire 71 is connected. An Ag plating layer (not shown) is formed on the main surface 21 . The back surface 22 is the surface facing downward in FIGS. The rear surface 22 is exposed from the outer wall member 4 and the reinforcing member 5 and becomes a rear surface terminal. An alloy plating layer containing Sn as a main component (not shown) is formed on the rear surface 22 . In this embodiment, major surface 21 is larger than back surface 22 . As a result, the first lead 2 can be prevented from falling off from the rear surface 22 side. In addition, the main surface 21 and the back surface 22 may have the same size.

側面23は、主面21に繋がり、主面21および裏面22に直交する面である。側面23は、x方向を向く一対の領域と、y方向を向く一対の領域とを備えている。凹部24は、裏面22からz方向に凹む部分であり、たとえばハーフエッチング処理により形成される。凹部24は、z方向視において、側面23に沿って、裏面22の周りを囲むように形成されている。突出部25は、側面23から外側に突出する部分であり、製造時のリードフレームにおいて、他の第1リード2、第2リード3、またはフレームとの間を繋いでいた支持部材を切断して残った部分である。本実施形態では、側面23のy方向の一方(図1においては上方)を向く領域のx方向における中央に1個の突出部25が配置されている。また、側面23のx方向を向く各領域のそれぞれに、突出部25が1個ずつ、それぞれy方向における中央に配置されている。つまり、第1リード2は3個の突出部25を備えている。なお、突出部25の数および配置は限定されない。図4および図5に示すように、各突出部25の外側を向く端面25aは、外壁部材4から露出している。 The side surface 23 is a surface connected to the main surface 21 and perpendicular to the main surface 21 and the back surface 22 . The side surface 23 has a pair of regions facing the x direction and a pair of regions facing the y direction. The recessed portion 24 is a portion recessed in the z-direction from the rear surface 22, and is formed by, for example, half-etching. The concave portion 24 is formed to surround the back surface 22 along the side surface 23 when viewed in the z direction. The protruding portion 25 is a portion that protrudes outward from the side surface 23, and is formed by cutting the support member that has connected the other first lead 2, the second lead 3, or the frame in the lead frame at the time of manufacture. This is the remaining part. In this embodiment, one protruding portion 25 is arranged in the center in the x direction of the region of the side surface 23 facing one side in the y direction (upward in FIG. 1). In addition, one projecting portion 25 is arranged in the center in the y direction in each region of the side surface 23 facing in the x direction. That is, the first lead 2 has three projecting portions 25 . Note that the number and arrangement of the protruding portions 25 are not limited. As shown in FIGS. 4 and 5 , an outward facing end surface 25 a of each protrusion 25 is exposed from the outer wall member 4 .

第2リード3は、図1に示すように、半導体発光素子1のy方向他方側(図1においては下側)に、半導体発光素子1から離間して配置され、半導体発光装置A10のx方向両端部まで広がっている。つまり、第1リード2および第2リード3は、半導体発光素子1をy方向の両側から挟むようにして配置されている。第2リード3は、z方向視略長矩形状である。z方向視において、第2リード3の各辺は、x方向またはy方向に平行である。第2リード3は、複数の第2ボンディングワイヤ72によって、半導体発光素子1の第2電極12(カソード電極)に電気的に接続されている。これにより、第2リード3は、半導体発光装置A10を外部の配線基板に搭載する際のカソード端子として機能する。第2リード3は、主面31、裏面32、側面33、凹部34、および複数の突出部35を備えている。 As shown in FIG. 1, the second lead 3 is arranged on the other side of the semiconductor light emitting element 1 in the y direction (lower side in FIG. 1) and is spaced apart from the semiconductor light emitting element 1. extending to both ends. That is, the first lead 2 and the second lead 3 are arranged so as to sandwich the semiconductor light emitting element 1 from both sides in the y direction. The second lead 3 has a substantially long rectangular shape when viewed in the z direction. When viewed in the z-direction, each side of the second lead 3 is parallel to the x-direction or the y-direction. The second lead 3 is electrically connected to the second electrode 12 (cathode electrode) of the semiconductor light emitting device 1 by a plurality of second bonding wires 72 . Thereby, the second lead 3 functions as a cathode terminal when the semiconductor light emitting device A10 is mounted on an external wiring board. The second lead 3 has a main surface 31 , a back surface 32 , side surfaces 33 , recesses 34 and a plurality of protrusions 35 .

主面31および裏面32は、z方向において互いに反対側を向いている。主面31は、図3~図6の上方を向く面である。主面31は、第2ボンディングワイヤ72が接続される面である。主面31には、図示しないAgめっき層が形成されている。裏面32は、図3~図6の下方を向く面である。裏面32は、外壁部材4および補強部材5から露出して、裏面端子になる。裏面32には、図示しないSnを主成分とする合金めっき層が形成されている。本実施形態では、主面31は、裏面32より大きい。これにより、第2リード3が裏面32側から抜け落ちることを防止できる。なお、主面31と裏面32とが同じ大きさであってもよい。 The main surface 31 and the back surface 32 face opposite sides in the z-direction. Principal surface 31 is the surface facing upward in FIGS. The main surface 31 is the surface to which the second bonding wire 72 is connected. An Ag plating layer (not shown) is formed on the main surface 31 . The back surface 32 is the surface facing downward in FIGS. 3-6. The rear surface 32 is exposed from the outer wall member 4 and the reinforcing member 5 and becomes a rear surface terminal. An alloy plating layer containing Sn as a main component (not shown) is formed on the rear surface 32 . In this embodiment, major surface 31 is larger than back surface 32 . Thereby, the second lead 3 can be prevented from falling off from the rear surface 32 side. In addition, the main surface 31 and the back surface 32 may have the same size.

側面33は、主面31に繋がり、主面31および裏面32に直交する面である。側面33は、x方向を向く一対の領域と、y方向を向く一対の領域とを備えている。凹部34は、裏面32からz方向に凹む部分であり、たとえばハーフエッチング処理により形成される。凹部34は、z方向視において、側面33に沿って、裏面32の周りを囲むように形成されている。突出部35は、側面33から外側に突出する部分であり、製造時のリードフレームにおいて、他の第2リード3、第1リード2、またはフレームとの間を繋いでいた支持部材を切断して残った部分である。本実施形態では、側面33のy方向の一方(図1においては下方)を向く領域のx方向における中央に1個の突出部35が配置されている。また、側面33のx方向を向く各領域のそれぞれに、突出部35が1個ずつ、それぞれy方向における中央に配置されている。つまり、第2リード3は3個の突出部35を備えている。なお、突出部35の数および配置は限定されない。図3~図5に示すように、各突出部35の外側を向く端面35aは、外壁部材4から露出している。 The side surface 33 is a surface connected to the main surface 31 and perpendicular to the main surface 31 and the back surface 32 . The side surface 33 has a pair of regions facing the x direction and a pair of regions facing the y direction. The recessed portion 34 is a portion recessed in the z-direction from the rear surface 32 and is formed by, for example, half-etching. The concave portion 34 is formed along the side surface 33 so as to surround the back surface 32 as viewed in the z direction. The protruding portion 35 is a portion that protrudes outward from the side surface 33, and is formed by cutting the support member that connects the other second lead 3, the first lead 2, or the frame in the lead frame at the time of manufacture. This is the remaining part. In this embodiment, one protruding portion 35 is arranged in the center in the x direction of the region facing one side (downward in FIG. 1) in the y direction of the side surface 33 . In addition, one protruding portion 35 is arranged in the center in the y direction in each region of the side surface 33 facing in the x direction. That is, the second lead 3 has three projecting portions 35 . Note that the number and arrangement of the protruding portions 35 are not limited. As shown in FIGS. 3 to 5, the outward facing end face 35a of each protrusion 35 is exposed from the outer wall member 4. As shown in FIGS.

第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72は、金属からなり、好ましくはAu、Cu、Agなどからなる。本実施形態においては、第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72は、たとえばAuからなる。第1ボンディングワイヤ71は、半導体発光素子1の第1電極11と第1リード2の主面21とに接続されている。第2ボンディングワイヤ72は、半導体発光素子1の第2電極12と第2リード3の主面31とに接続されている。第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72は、全体が補強部材5から露出しており、透光樹脂6によって覆われている。なお、第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72の数は限定されない。 The first bonding wire 71 and the second bonding wire 72 are made of metal, preferably Au, Cu, Ag, or the like. In this embodiment, the first bonding wire 71 and the second bonding wire 72 are made of Au, for example. A first bonding wire 71 is connected to the first electrode 11 of the semiconductor light emitting element 1 and the main surface 21 of the first lead 2 . A second bonding wire 72 is connected to the second electrode 12 of the semiconductor light emitting element 1 and the main surface 31 of the second lead 3 . The first bonding wires 71 and the second bonding wires 72 are entirely exposed from the reinforcing member 5 and covered with the translucent resin 6 . The number of first bonding wires 71 and second bonding wires 72 is not limited.

外壁部材4は、z方向視において、半導体発光素子1の周囲を囲んでいる。外壁部材4は、絶縁性材料からなり、たとえばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等が適宜用いられる。本実施形態では、黒色のエポキシ樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂が用いられている。第1リード2および第2リード3は、外壁部材4によって支持されている。外壁部材4は、z方向視において、長矩形の環形状であり、頂面41、底面42、外周面43、および内周面44を備えている。 The outer wall member 4 surrounds the semiconductor light emitting element 1 when viewed in the z direction. The outer wall member 4 is made of an insulating material such as epoxy resin, silicone resin, or the like. In this embodiment, a thermosetting resin containing black epoxy resin as a main component is used. The first lead 2 and the second lead 3 are supported by the outer wall member 4 . The outer wall member 4 has an elongated rectangular ring shape when viewed in the z direction, and includes a top surface 41 , a bottom surface 42 , an outer peripheral surface 43 and an inner peripheral surface 44 .

頂面41および底面42は、z方向において互いに反対側を向いている。頂面41は、図3~図6の上方を向く面であり、底面42は、図3~図6の下方を向く面である。頂面41および底面42は、z方向視長矩形の環形状である。 The top surface 41 and the bottom surface 42 face opposite sides in the z-direction. The top surface 41 is the upward facing surface in FIGS. 3-6, and the bottom surface 42 is the downward facing surface in FIGS. The top surface 41 and the bottom surface 42 have a ring shape with a rectangular length when viewed in the z direction.

外周面43は、頂面41および底面42を繋ぐ面であり、外側を向く面である。外周面43は、x方向の互いに反対側を向く一対の領域と、y方向の互いに反対側を向く一対の領域とを有する。外周面43の各領域は、それぞれ頂面41および底面42に直交しており、z方向に平行である。 The outer peripheral surface 43 is a surface that connects the top surface 41 and the bottom surface 42 and faces outward. The outer peripheral surface 43 has a pair of regions facing opposite sides in the x direction and a pair of regions facing opposite sides in the y direction. Each region of the outer peripheral surface 43 is orthogonal to the top surface 41 and the bottom surface 42 and parallel to the z-direction.

内周面44は、頂面41および底面42を繋ぐ面であり、内側を向く面である。内周面44は、x方向において互いに向かい合う一対の領域と、y方向において互いに向かい合う一対の領域とを有する。内周面44の各領域は、z方向に対して傾斜している。内周面44に囲まれる空間のz方向に直交する断面積は、頂面41に近づくほど大きくなっている。 The inner peripheral surface 44 is a surface that connects the top surface 41 and the bottom surface 42 and faces inward. The inner peripheral surface 44 has a pair of regions facing each other in the x direction and a pair of regions facing each other in the y direction. Each region of the inner peripheral surface 44 is inclined with respect to the z direction. A cross-sectional area perpendicular to the z-direction of the space surrounded by the inner peripheral surface 44 increases toward the top surface 41 .

本実施形態においては、第1リード2の主面21、側面23、凹部24、および突出部25のそれぞれ一部ずつと、裏面22の全部とが外壁部材4から露出している。裏面22と底面42とは互いに面一になっている。また、突出部25の各端面25aと、外周面43とは互いに面一になっている。第2リード3の主面31、側面33、凹部34、および突出部35のそれぞれ一部ずつと、側面33の全部とが外壁部材4から露出している。裏面32と底面42とは互いに面一になっている。また、突出部35の各端面35aと外周面43とは互いに面一になっている。 In this embodiment, each of the main surface 21 , the side surface 23 , the concave portion 24 , the projecting portion 25 and the entire rear surface 22 of the first lead 2 are exposed from the outer wall member 4 . The back surface 22 and the bottom surface 42 are flush with each other. Each end surface 25a of the projecting portion 25 and the outer peripheral surface 43 are flush with each other. Part of each of the main surface 31 , the side surface 33 , the concave portion 34 and the projecting portion 35 of the second lead 3 , and the entire side surface 33 are exposed from the outer wall member 4 . The back surface 32 and the bottom surface 42 are flush with each other. Each end surface 35a of the projecting portion 35 and the outer peripheral surface 43 are flush with each other.

また、外壁部材4は、一対の第1側部46、一対の第2側部47、および開口部45を備えている。図5に示すように、一対の第1側部46は、x方向に延び、y方向において互いに離間している。また、図6に示すように、一対の第2側部47は、y方向に延び、x方向において互いに離間している。一対の第1側部46および一対の第2側部47は、z方向視において、半導体発光素子1を取り囲み、第1リード2および第2リード3を支持している。開口部45は、一対の第1側部46および一対の第2側部47によって囲まれた中空領域であり、z方向に貫通している。また、開口部45は、内周面44の4つの領域に囲まれている。開口部45は、z方向視における外縁が長矩形状である。開口部45のz方向に直交する断面積は、頂面41と面一の位置で最大であり、底面42側に近づくほど小さくなっている。 The outer wall member 4 also includes a pair of first side portions 46 , a pair of second side portions 47 and an opening 45 . As shown in FIG. 5, the pair of first side portions 46 extend in the x-direction and are spaced apart from each other in the y-direction. Also, as shown in FIG. 6, the pair of second side portions 47 extend in the y direction and are separated from each other in the x direction. The pair of first side portions 46 and the pair of second side portions 47 surround the semiconductor light emitting element 1 and support the first lead 2 and the second lead 3 when viewed in the z direction. The opening 45 is a hollow area surrounded by a pair of first side portions 46 and a pair of second side portions 47 and penetrates in the z direction. Also, the opening 45 is surrounded by four regions of the inner peripheral surface 44 . The opening 45 has an elongated rectangular outer edge when viewed in the z direction. The cross-sectional area of the opening 45 orthogonal to the z-direction is maximum at a position flush with the top surface 41 and decreases toward the bottom surface 42 side.

補強部材5は、z方向視において、半導体発光素子1の周囲を囲んでいる。補強部材5は、絶縁性材料からなり、たとえばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等が適宜用いられる。補強部材5の材料は、外壁部材4と同じ材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。本実施形態では、補強部材5は、外壁部材4より強度の高い、黒色のエポキシ樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂が用いられている。補強部材5は、第1リード2、第2リード3、および外壁部材4と、半導体発光素子1との間に介在しており、半導体発光素子1を第1リード2、第2リード3、および外壁部材4に固定している。また、補強部材5は、外壁部材4の開口部45の底面42側に形成されることで、半導体発光装置A10の強度を確保している。図5および図6に示すように、補強部材5は、半導体発光素子1の素子側面1cに接している。一方、半導体発光素子1の素子主面1aおよび素子裏面1bは、補強部材5から露出している。また、第1リード2の主面21および裏面22と、第2リード3の主面31および裏面32とは、補強部材5から露出している。補強部材5は、主面51および裏面52を備えている。主面51および裏面52は、z方向において互いに反対側を向いている。主面51は、図3~図6の上方を向く面であり、裏面52は、図3~図6の下方を向く面である。本実施形態において、補強部材5の裏面52は、絶縁層75の裏面75b、第1リード2の裏面22、第2リード3の裏面32、および外壁部材4の底面42と面一である。 The reinforcing member 5 surrounds the semiconductor light emitting element 1 when viewed in the z direction. The reinforcing member 5 is made of an insulating material such as an epoxy resin, a silicone resin, or the like, as appropriate. The material of the reinforcing member 5 may be the same material as that of the outer wall member 4, or may be a different material. In this embodiment, the reinforcing member 5 is made of a thermosetting resin whose main component is a black epoxy resin, which is stronger than the outer wall member 4 . The reinforcing member 5 is interposed between the semiconductor light emitting element 1 and the first lead 2, the second lead 3, the outer wall member 4, and supports the semiconductor light emitting element 1 with the first lead 2, the second lead 3, and the outer wall member 4. It is fixed to the outer wall member 4 . Further, the reinforcing member 5 is formed on the bottom surface 42 side of the opening 45 of the outer wall member 4, thereby ensuring the strength of the semiconductor light emitting device A10. As shown in FIGS. 5 and 6, the reinforcing member 5 is in contact with the device side surface 1c of the semiconductor light emitting device 1. As shown in FIGS. On the other hand, the element main surface 1 a and the element back surface 1 b of the semiconductor light emitting element 1 are exposed from the reinforcing member 5 . Principal surface 21 and rear surface 22 of first lead 2 and principal surface 31 and rear surface 32 of second lead 3 are exposed from reinforcing member 5 . The reinforcing member 5 has a main surface 51 and a back surface 52 . The main surface 51 and the back surface 52 face opposite sides in the z-direction. The main surface 51 is the surface facing upward in FIGS. 3 to 6, and the back surface 52 is the surface facing downward in FIGS. In this embodiment, the back surface 52 of the reinforcing member 5 is flush with the back surface 75 b of the insulating layer 75 , the back surface 22 of the first lead 2 , the back surface 32 of the second lead 3 , and the bottom surface 42 of the outer wall member 4 .

透光樹脂6は、外壁部材4の開口部45に形成され、半導体発光素子1の素子主面1a、第1ボンディングワイヤ71、第2ボンディングワイヤ72、第1リード2、第2リード3、および補強部材5の主面51を覆っている。透光樹脂6は、透光性かつ電気絶縁性を有する。透光樹脂6は、波長が800nm以上の光を透過させる。透光樹脂6の弾性係数は、外壁部材4および補強部材5の弾性係数より低い。本実施形態において、透光樹脂6の構成材料は、たとえばシリコーン樹脂である。なお、弾性係数の低いエポキシ樹脂などの他の材料であってもよい。透光樹脂6は、補強部材5が形成された後の外壁部材4の開口部45に、液体状態の構成材料を注入し、その後硬化させることで形成される。半導体発光素子1の素子主面1aから出射されたレーザ光は、透光樹脂6を通過して、外部に出射される。 The translucent resin 6 is formed in the opening 45 of the outer wall member 4, and covers the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1, the first bonding wire 71, the second bonding wire 72, the first lead 2, the second lead 3, and the element main surface 1a. It covers the main surface 51 of the reinforcing member 5 . The translucent resin 6 has translucency and electrical insulation. The translucent resin 6 transmits light with a wavelength of 800 nm or more. The modulus of elasticity of the translucent resin 6 is lower than that of the outer wall member 4 and the reinforcing member 5 . In this embodiment, the constituent material of the translucent resin 6 is silicone resin, for example. Other materials such as epoxy resin having a low elastic modulus may also be used. The translucent resin 6 is formed by injecting a constituent material in a liquid state into the opening 45 of the outer wall member 4 after the reinforcing member 5 is formed, and then curing the material. Laser light emitted from the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 passes through the translucent resin 6 and is emitted to the outside.

次に、半導体発光装置A10の製造方法の一例について、図8~図19を参照しつつ以下に説明する。図8、図9、図11~図13、図15、図16、図18、図19は、半導体発光装置A10の製造方法に係る工程を示す要部拡大断面図であり、図5に対応する断面図である。図10、図14、図17は、半導体発光装置A10の製造方法に係る工程を示す要部拡大平面図である。 Next, an example of a method for manufacturing the semiconductor light emitting device A10 will be described below with reference to FIGS. 8 to 19. FIG. 8, 9, 11 to 13, 15, 16, 18, and 19 are enlarged cross-sectional views of essential parts showing the steps relating to the method of manufacturing the semiconductor light emitting device A10, corresponding to FIG. It is a sectional view. 10, 14, and 17 are enlarged plan views of essential parts showing steps related to the method of manufacturing the semiconductor light emitting device A10.

まず、図8に示すように、z方向において互いに反対側を向く主面911および裏面912を有する金属板91を準備する。金属板91から、半導体発光装置A10の第1リード2および第2リード3が形成される。金属板91は、たとえばCuからなる薄板である。金属板91の厚さは、たとえば0.1mmである。主面911および裏面912は、ともに一様な平坦面である。主面911には、図示しないAgめっき層が形成されている。 First, as shown in FIG. 8, a metal plate 91 is prepared which has a main surface 911 and a back surface 912 facing opposite to each other in the z direction. The metal plate 91 forms the first lead 2 and the second lead 3 of the semiconductor light emitting device A10. Metal plate 91 is a thin plate made of Cu, for example. The thickness of metal plate 91 is, for example, 0.1 mm. Both the main surface 911 and the back surface 912 are uniform flat surfaces. An Ag plating layer (not shown) is formed on the main surface 911 .

次いで、図9および図10に示すように、ウェットエッチングにより金属板91の一部を除去する。具体的には、まず、裏面912にフォトリソグラフィによりマスクを形成した後、裏面912からハーフエッチングにより金属板91の一部を除去する。エッチング液は、たとえば、硫酸(H2SO4)および過酸化水素(H22)の混合溶液である。次に、主面911にフォトリソグラフィによりマスクを形成した後、主面911からエッチングを行い、z方向において金属板91の一部を貫通させる。本工程によって、金属板91に、裏面912から主面911側に凹む凹部913、および、裏面912から主面911に貫通した貫通部914が形成される。 Then, as shown in FIGS. 9 and 10, a portion of the metal plate 91 is removed by wet etching. Specifically, first, after forming a mask on the back surface 912 by photolithography, part of the metal plate 91 is removed from the back surface 912 by half etching. The etchant is, for example, a mixed solution of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and hydrogen peroxide (H 2 O 2 ). Next, after forming a mask on the main surface 911 by photolithography, etching is performed from the main surface 911 to partially penetrate the metal plate 91 in the z direction. Through this step, the metal plate 91 is formed with a concave portion 913 recessed from the back surface 912 toward the main surface 911 and a through portion 914 penetrating from the back surface 912 to the main surface 911 .

次いで、図11に示すように、金属板91の裏面912に基材92を貼り付ける。基材92は、電気絶縁性を有する部材であり、たとえばポリイミドテープである。 Next, as shown in FIG. 11, the base material 92 is attached to the back surface 912 of the metal plate 91 . The base material 92 is an electrically insulating member, such as a polyimide tape.

次いで、外壁部材93を形成する。まず、図12に示すように、基材92の金属板91が貼り付けられている側の面である主面921に、金型94を配置する。そして、外壁部材93の液体状態の構成材料が、金型94と基材92の主面921との間に形成されている空間941に充填され熱硬化される。なお、金型94と基材92の主面921との間に形成されている空間のうち、金型94、基材92、および金属板91で囲まれて、空間941に繋がっていない空間942には、構成材料が充填されない。熱硬化後、金型94を離型することで、図13および図14に示すように、外壁部材93が形成される。また、外壁部材93には、z方向に貫通して基材92および金属板91を露出させる開口931が形成されている。 Next, the outer wall member 93 is formed. First, as shown in FIG. 12, the mold 94 is arranged on the main surface 921 of the substrate 92, which is the surface on which the metal plate 91 is attached. Then, the liquid constituent material of the outer wall member 93 is filled in the space 941 formed between the mold 94 and the main surface 921 of the base material 92 and is thermally cured. Of the space formed between the mold 94 and the main surface 921 of the base material 92, a space 942 surrounded by the mold 94, the base material 92, and the metal plate 91 and not connected to the space 941 is not filled with constituent material. After thermal curing, the mold 94 is released to form the outer wall member 93 as shown in FIGS. 13 and 14 . Further, the outer wall member 93 is formed with an opening 931 that penetrates in the z-direction and exposes the base material 92 and the metal plate 91 .

次いで、図15に示すように、外壁部材93の開口931から露出する基材92の主面921に、半導体発光素子1を搭載した後、半導体発光素子1と金属板91の主面911とを導通させる複数の第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72を形成する。半導体発光素子1の搭載にあたっては、まず、基材92の主面921に接合材を塗布する。接合材は、たとえば絶縁性ペーストである。次いで、コレットなどで吸着した半導体発光素子1を基材92の上に移送して、接合材に接着する。最後に、接合材をキュア炉などで熱硬化させる。熱硬化した接合材が、半導体発光装置A10の絶縁層75になる。 Next, as shown in FIG. 15, after the semiconductor light emitting element 1 is mounted on the main surface 921 of the base material 92 exposed from the opening 931 of the outer wall member 93, the semiconductor light emitting element 1 and the main surface 911 of the metal plate 91 are bonded together. A plurality of conductive first bonding wires 71 and second bonding wires 72 are formed. When mounting the semiconductor light emitting device 1 , first, a bonding material is applied to the main surface 921 of the base material 92 . The bonding material is, for example, an insulating paste. Next, the semiconductor light emitting device 1 adsorbed by a collet or the like is transferred onto the base material 92 and adhered to the bonding material. Finally, the bonding material is thermally cured in a curing furnace or the like. The thermoset bonding material becomes the insulating layer 75 of the semiconductor light emitting device A10.

次いで、図16および図17に示すように、補強部材5を形成する。補強部材5は、外壁部材93の開口931から、金属板91の貫通部914と半導体発光素子1の素子側面1cとの間の空間に、補強部材5の液体状態の構成材料を注入し、その後熱硬化させることで形成される。液体状態の構成材料は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させるように注入される。 Next, as shown in FIGS. 16 and 17, reinforcing members 5 are formed. For the reinforcing member 5, the liquid constituent material of the reinforcing member 5 is injected from the opening 931 of the outer wall member 93 into the space between the through portion 914 of the metal plate 91 and the element side surface 1c of the semiconductor light emitting element 1, and then Formed by thermosetting. A constituent material in a liquid state is injected so as to expose the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 .

次いで、図18に示すように、透光樹脂6を形成する。透光樹脂6は、外壁部材93の開口931から、半導体発光素子1、第1ボンディングワイヤ71、第2ボンディングワイヤ72、および金属板91を覆うように、透光樹脂6の液体状態の構成材料を注入し、その後硬化させることで形成される。 Next, as shown in FIG. 18, translucent resin 6 is formed. The light-transmitting resin 6 is a constituent material of the light-transmitting resin 6 in a liquid state so as to cover the semiconductor light emitting element 1 , the first bonding wires 71 , the second bonding wires 72 and the metal plate 91 from the opening 931 of the outer wall member 93 . is injected and then cured.

次いで、図19に示すように、金属板91から基材92を剥離する。金属板91の裏面912、絶縁層75の裏面75b、補強部材5の裏面52、および外壁部材93の裏面932は、互いに面一になっている。次いで、金属板91の裏面912に、図示しない合金めっき層を形成する。次いで、金属板91および外壁部材93を、x方向およびy方向に沿って切断する。切断にあたっては、たとえばダイシングソーを用いて金属板91の裏面912が向く方から切断する。たとえば、x方向に沿って切断する際は、図19に示す切断線CLに沿って切断する。本工程において分割された個片が半導体発光装置A10となる。このとき、金属板91には端面25aおよび端面35aが形成され、金属板91が第1リード2および第2リード3となる。また、外壁部材93には外周面43が形成され、外壁部材93が外壁部材4となる。以上の工程を経ることにより、上述した半導体発光装置A10が得られる。 Next, as shown in FIG. 19, the base material 92 is peeled off from the metal plate 91 . The back surface 912 of the metal plate 91, the back surface 75b of the insulating layer 75, the back surface 52 of the reinforcing member 5, and the back surface 932 of the outer wall member 93 are flush with each other. Next, an alloy plating layer (not shown) is formed on the rear surface 912 of the metal plate 91 . Next, the metal plate 91 and the outer wall member 93 are cut along the x-direction and the y-direction. For cutting, for example, a dicing saw is used to cut from the direction in which the back surface 912 of the metal plate 91 faces. For example, when cutting along the x direction, cut along the cutting line CL shown in FIG. The individual pieces divided in this process become the semiconductor light emitting devices A10. At this time, the end surface 25 a and the end surface 35 a are formed on the metal plate 91 , and the metal plate 91 becomes the first lead 2 and the second lead 3 . Further, the outer wall member 93 is formed with the outer peripheral surface 43 , and the outer wall member 93 becomes the outer wall member 4 . Through the above steps, the semiconductor light emitting device A10 described above is obtained.

次に、半導体発光装置A10の作用について説明する。 Next, the operation of the semiconductor light emitting device A10 will be described.

本実施形態によれば、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていない。したがって、半導体発光装置A10は、半導体発光素子1がリードまたは基板に搭載されている従来の半導体発光装置と比較して、厚さ(z方向の寸法)を薄くすることができ、低背化が可能である。また、補強部材5は、強度の高い構成材料により形成されており、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。半導体発光素子1は、補強部材5によって、第1リード2および第2リード3に固定されるので、リードまたは基板に搭載されていなくても、安定して配置可能である。また、半導体発光素子1は、各発光領域14が補強部材5から露出しているので、レーザ光の出射を妨げられない。 According to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on leads or substrates. Therefore, the semiconductor light emitting device A10 can be made thinner in thickness (dimension in the z direction) than a conventional semiconductor light emitting device in which the semiconductor light emitting element 1 is mounted on a lead or a substrate. It is possible. Further, the reinforcing member 5 is made of a high-strength constituent material, and supports the semiconductor light-emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light-emitting element 1 exposed. covering. Since the semiconductor light emitting element 1 is fixed to the first lead 2 and the second lead 3 by the reinforcing member 5, it can be stably arranged even if it is not mounted on the lead or the substrate. In addition, since each light emitting region 14 of the semiconductor light emitting device 1 is exposed from the reinforcing member 5, the emission of laser light is not hindered.

また、本実施形態によれば、半導体発光素子1の素子主面1aは、透光性を有し、かつ、弾性係数が低い透光樹脂6によって覆われている。透光樹脂6は、半導体発光素子1が出射したレーザ光を透過し、かつ、メサ構造をなす発光領域14にかかる応力を抑制することができる。 Further, according to the present embodiment, the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6 having translucency and a low elastic modulus. The light-transmitting resin 6 transmits the laser light emitted by the semiconductor light-emitting element 1 and can suppress the stress applied to the light-emitting region 14 having the mesa structure.

図20~図33は、本開示の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。 20-33 illustrate another embodiment of the present disclosure. In these figures, the same or similar elements as in the above embodiment are denoted by the same reference numerals as in the above embodiment.

<第2実施形態>
図20は、本開示の第2実施形態に係る半導体発光装置A20を示す断面図であり、図5に対応する図である。本実施形態の半導体発光装置A20は、補強部材5が第1リード2の主面21および第2リード3の主面31と、第1ボンディングワイヤ71および第2ボンディングワイヤ72の一部ずつを覆っている点で、第1実施形態と異なっている。
<Second embodiment>
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a semiconductor light emitting device A20 according to the second embodiment of the present disclosure, corresponding to FIG. In the semiconductor light emitting device A20 of this embodiment, the reinforcing member 5 covers the main surface 21 of the first lead 2 and the main surface 31 of the second lead 3, and also partially covers the first bonding wire 71 and the second bonding wire 72. It differs from the first embodiment in that the

本実施形態においては、第1リード2および第2リード3の厚さ(z方向の寸法)が、第1実施形態に係る第1リード2および第2リード3より薄くなっている。そして、補強部材5は、第1リード2の主面21および第2リード3の主面31を覆っている。また、補強部材5は、第1ボンディングワイヤ71のうち、第1リード2の主面21に接合している部分、および、第2ボンディングワイヤ72のうち、第2リード3の主面31に接合している部分も、覆っている。 In this embodiment, the thicknesses (dimensions in the z direction) of the first leads 2 and the second leads 3 are thinner than those of the first leads 2 and the second leads 3 according to the first embodiment. The reinforcing member 5 covers the principal surface 21 of the first lead 2 and the principal surface 31 of the second lead 3 . Further, the reinforcing member 5 is bonded to the main surface 21 of the first lead 2 of the first bonding wire 71 and to the main surface 31 of the second lead 3 of the second bonding wire 72 . It also covers the part where it is.

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A20は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A20は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A20 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to this embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A20 can emit laser light, Stress can be suppressed.

<第3実施形態>
図21は、本開示の第3実施形態に係る半導体発光装置A30を示す平面図であり、図1に対応する図である。なお、図21においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。本実施形態の半導体発光装置A30は、外壁部材4が第2側部47を備えていない点で、第1実施形態と異なっている。
<Third Embodiment>
FIG. 21 is a plan view showing a semiconductor light emitting device A30 according to the third embodiment of the present disclosure, which corresponds to FIG. In addition, in FIG. 21, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding. The semiconductor light emitting device A30 of this embodiment differs from the first embodiment in that the outer wall member 4 does not have the second side portion 47 .

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A30は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A30は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A30 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A30 can emit laser light and the light emitting region 14 is covered. Stress can be suppressed.

<第4実施形態>
図22は、本開示の第4実施形態に係る半導体発光装置A40を示す平面図であり、図1に対応する図である。なお、図22においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。本実施形態の半導体発光装置A40は、外壁部材4が第1側部46を備えていない点で、第1実施形態と異なっている。
<Fourth Embodiment>
FIG. 22 is a plan view showing a semiconductor light emitting device A40 according to the fourth embodiment of the present disclosure, which corresponds to FIG. In addition, in FIG. 22, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding. The semiconductor light emitting device A40 of this embodiment differs from that of the first embodiment in that the outer wall member 4 does not have the first side portion 46 .

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A30は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A30は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A30 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A30 can emit laser light and the light emitting region 14 is covered. Stress can be suppressed.

<第5実施形態>
図23および図24は、本開示の第5実施形態に係る半導体発光装置A50を説明するための図である。図23は、半導体発光装置A50を示す平面図であり、図1に対応する図である。図24は、半導体発光装置A50を示す断面図であり、図5に対応する図である。なお、図23においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。本実施形態の半導体発光装置A50は、外壁部材4を備えていない点で、第1実施形態と異なっている。
<Fifth Embodiment>
23 and 24 are diagrams for explaining the semiconductor light emitting device A50 according to the fifth embodiment of the present disclosure. FIG. 23 is a plan view showing the semiconductor light emitting device A50, corresponding to FIG. FIG. 24 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device A50, corresponding to FIG. In addition, in FIG. 23, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding. The semiconductor light emitting device A50 of this embodiment differs from that of the first embodiment in that the outer wall member 4 is not provided.

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A30は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A30は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A30 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A30 can emit laser light and the light emitting region 14 is covered. Stress can be suppressed.

<第6実施形態>
図25および図26は、本開示の第6実施形態に係る半導体発光装置A60を説明するための図である。図25は、半導体発光装置A60を示す底面図であり、図2に対応する図である。図26は、半導体発光装置A60を示す断面図であり、図5に対応する図である。本実施形態の半導体発光装置A60は、絶縁層75を備えていない点で、第1実施形態と異なっている。
<Sixth embodiment>
25 and 26 are diagrams for explaining a semiconductor light emitting device A60 according to the sixth embodiment of the present disclosure. FIG. 25 is a bottom view of the semiconductor light emitting device A60, corresponding to FIG. FIG. 26 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device A60, corresponding to FIG. The semiconductor light emitting device A60 of this embodiment differs from the first embodiment in that the insulating layer 75 is not provided.

本実施形態においては、半導体発光装置A60は、絶縁層75を備えておらず、半導体発光素子1の素子裏面1bが補強部材5から露出している。半導体発光素子1の素子裏面1bは、補強部材5の裏面52と面一である。 In this embodiment, the semiconductor light emitting device A60 does not include the insulating layer 75, and the element back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 is exposed from the reinforcing member 5. As shown in FIG. The element back surface 1 b of the semiconductor light emitting element 1 is flush with the back surface 52 of the reinforcing member 5 .

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A60は、低背化が可能である。さらに、本実施形態によると、半導体発光素子1の素子裏面1bに絶縁層75が配置されていないので、さらなる低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A60は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, since the semiconductor light emitting element 1 is not mounted on a lead or substrate, the semiconductor light emitting device A60 can be made low profile. Furthermore, according to the present embodiment, since the insulating layer 75 is not arranged on the device back surface 1b of the semiconductor light emitting device 1, it is possible to further reduce the height. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A60 can emit laser light and the light emitting region 14 is covered. Stress can be suppressed.

<第7実施形態>
図27および図28は、本開示の第7実施形態に係る半導体発光装置A70を説明するための図である。図27は、半導体発光装置A70を示す平面図であり、図1に対応する図である。図28は、半導体発光装置A70を示す断面図であり、図5に対応する図である。なお、図27においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。本実施形態の半導体発光装置A70は、第1リード2および第2リード3の形状が、第1実施形態と異なっている。
<Seventh Embodiment>
27 and 28 are diagrams for explaining a semiconductor light emitting device A70 according to the seventh embodiment of the present disclosure. FIG. 27 is a plan view showing the semiconductor light emitting device A70, corresponding to FIG. FIG. 28 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device A70, corresponding to FIG. In addition, in FIG. 27, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding. The semiconductor light emitting device A70 of this embodiment differs from that of the first embodiment in the shapes of the first lead 2 and the second lead 3 .

本実施形態に係る第1リード2は、y方向の一方(図27においては上方)側に、突出部25を備えておらず、凹部24は、y方向の一方(図27においては上方)を向く領域を備えていない。代わりに、第1リード2は、端面26を備えている、端面26は、主面21および裏面22に直交し、y方向の一方(図27においては上方)側、すなわち、半導体発光素子1とは反対側を向く面である。端面26は、外壁部材4の外周面43から露出しており、外壁部材4の底面42から露出する裏面22と繋がっている。また、本実施形態では、端面26は、外壁部材4の外周面43と面一である。 The first lead 2 according to the present embodiment does not have the projecting portion 25 on one side in the y direction (upward in FIG. 27), and the concave portion 24 is provided on one side in the y direction (upward in FIG. 27). It does not have a facing area. Instead, the first lead 2 has an end surface 26 which is orthogonal to the main surface 21 and the back surface 22 and extends toward one side (upward in FIG. 27) in the y direction, that is, the semiconductor light emitting element 1 and is the opposite side. The end surface 26 is exposed from the outer peripheral surface 43 of the outer wall member 4 and connected to the back surface 22 exposed from the bottom surface 42 of the outer wall member 4 . Moreover, in this embodiment, the end surface 26 is flush with the outer peripheral surface 43 of the outer wall member 4 .

本実施形態に係る第2リード3は、y方向の他方(図27においては下方)側に、突出部35を備えておらず、凹部34は、y方向の他方(図27においては下方)を向く領域を備えていない。代わりに、第2リード3は、端面36を備えている、端面36は、主面31および裏面32に直交し、y方向の他方(図27においては下方)側、すなわち、半導体発光素子1とは反対側を向く面である。端面36は、外壁部材4の外周面43から露出しており、外壁部材4の底面42から露出する裏面32と繋がっている。また、本実施形態では、端面36は、外壁部材4の外周面43と面一である。 The second lead 3 according to the present embodiment does not have the projecting portion 35 on the other side in the y direction (downward in FIG. 27), and the concave portion 34 faces the other side in the y direction (downward in FIG. 27). It does not have a facing area. Instead, the second lead 3 has an end surface 36 which is orthogonal to the main surface 31 and the back surface 32 and extends toward the other (lower in FIG. is the opposite side. The end surface 36 is exposed from the outer peripheral surface 43 of the outer wall member 4 and connected to the rear surface 32 exposed from the bottom surface 42 of the outer wall member 4 . Moreover, in this embodiment, the end surface 36 is flush with the outer peripheral surface 43 of the outer wall member 4 .

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A70は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A70は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。さらに、第1リード2の端面26および第2リード3の端面36は、外壁部材4から露出している。したがって、半導体発光装置A70は、配線基板に実装されたときに、端面26および端面36にはんだフィレットが形成されるので、実装後の接合状態を外観検査により容易に判断できる。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A70 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to this embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A70 can emit laser light, Stress can be suppressed. Furthermore, the end face 26 of the first lead 2 and the end face 36 of the second lead 3 are exposed from the outer wall member 4 . Therefore, when the semiconductor light emitting device A70 is mounted on the wiring board, solder fillets are formed on the end faces 26 and 36, so that the bonding state after mounting can be easily determined by visual inspection.

<第8実施形態>
図29は、本開示の第8実施形態に係る半導体発光装置A80を示す断面図であり、図5に対応する図である。本実施形態の半導体発光装置A80は、透光樹脂6を備えておらず、蓋65を備えている点で、第1実施形態と異なっている。
<Eighth embodiment>
FIG. 29 is a cross-sectional view showing a semiconductor light emitting device A80 according to the eighth embodiment of the present disclosure, which corresponds to FIG. The semiconductor light-emitting device A80 of the present embodiment differs from the first embodiment in that it does not include the translucent resin 6 but includes a lid 65 .

半導体発光装置A80は、外壁部材4の開口部45に、透光樹脂6が形成されていない。代わりに、半導体発光装置A80は、外壁部材4の開口部45を塞ぐ蓋65を備えている。蓋65は、z方向視長矩形状の板状であり、図示しない接合材によって外壁部材4の頂面41に接合され、開口部45を塞いでいる。また、蓋65は、半導体発光素子1が出射するレーザ光を透過させる。本実施形態においては、蓋65の材料は、ガラスである。なお、蓋65の形状および材料は限定されない。 In the semiconductor light emitting device A80, the translucent resin 6 is not formed in the opening 45 of the outer wall member 4. As shown in FIG. Instead, the semiconductor light emitting device A80 includes a lid 65 that closes the opening 45 of the outer wall member 4. As shown in FIG. The lid 65 has a rectangular plate-like shape when viewed in the z direction, and is joined to the top surface 41 of the outer wall member 4 by a joining material (not shown) to close the opening 45 . Also, the lid 65 allows the laser light emitted by the semiconductor light emitting device 1 to pass therethrough. In this embodiment, the material of the lid 65 is glass. Note that the shape and material of the lid 65 are not limited.

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A80は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によると、半導体発光素子1の素子主面1aは樹脂に接していないので、発光領域14に応力がかからない。また、素子主面1aに対向する位置にレーザ光を透過させる蓋65が配置されているので、半導体発光装置A80は、素子主面1aを保護しつつ、レーザ光を出射可能である。 Also according to this embodiment, the semiconductor light emitting device 1 is not mounted on a lead or substrate, so the semiconductor light emitting device A80 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is not in contact with the resin, the light emitting region 14 is not stressed. Further, since the lid 65 that transmits the laser light is arranged at a position facing the element main surface 1a, the semiconductor light emitting device A80 can emit laser light while protecting the element main surface 1a.

<第9実施形態>
図30および図31は、本開示の第9実施形態に係る半導体発光装置A90を説明するための図である。図30は、半導体発光装置A90を示す断面図であり、図5に対応する図である。図31は、半導体発光装置A90の半導体発光素子1を示す要部拡大断面図であり、図7に対応する図である。本実施形態の半導体発光装置A90は、第1リード2および第2リード3がアノード端子として機能し、半導体発光素子1の素子裏面1bに接する導電層76がカソード端子として機能する点で、第1実施形態と異なっている。
<Ninth Embodiment>
30 and 31 are diagrams for explaining a semiconductor light emitting device A90 according to the ninth embodiment of the present disclosure. FIG. 30 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device A90, corresponding to FIG. FIG. 31 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing the semiconductor light emitting element 1 of the semiconductor light emitting device A90, corresponding to FIG. In the semiconductor light emitting device A90 of this embodiment, the first lead 2 and the second lead 3 function as anode terminals, and the conductive layer 76 in contact with the back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 functions as a cathode terminal. It differs from the embodiment.

本実施形態においては、半導体発光素子1の素子本体10が備える半導体基板101を構成する半導体は、たとえば、Siがドーピングされたn型のGaAsである。なお、半導体基板101を構成する半導体は、GaAs以外であってもよい。また、図31に示すように、素子本体10の素子裏面1bには、裏面電極13が配置されている。裏面電極13は、半導体基板101の裏面(表面とは反対側を向く面)に形成されており、たとえば金属からなる。裏面電極13は、半導体基板101を介して、第1半導体層102に導通している。裏面電極13は、カソード電極になる。 In this embodiment, the semiconductor forming the semiconductor substrate 101 included in the element body 10 of the semiconductor light emitting element 1 is, for example, Si-doped n-type GaAs. The semiconductor forming the semiconductor substrate 101 may be other than GaAs. Further, as shown in FIG. 31, a rear surface electrode 13 is arranged on the element rear surface 1b of the element main body 10. As shown in FIG. The back surface electrode 13 is formed on the back surface (the surface facing away from the front surface) of the semiconductor substrate 101, and is made of metal, for example. The back electrode 13 is electrically connected to the first semiconductor layer 102 through the semiconductor substrate 101 . The back electrode 13 becomes a cathode electrode.

また、半導体発光装置A90は、絶縁層75に代えて導電層76を備えている。導電層76は、たとえば、銀(Ag)などの金属粒子が含有されたダイアタッチペーストを乾燥および硬化させたものである。このように、導電層76には金属粒子が含有されているため、導電層76は、導電性を有する。また、導電層76の熱伝導率は比較的大である。図30に示すように、導電層76は、z方向において、半導体発光素子1の素子裏面1bと同じ側を向く裏面76bを備えている。裏面76bは、補強部材5から露出して、補強部材5の裏面52(後述)と互いに面一になっており、裏面端子として機能する。導電層76は、半導体発光素子1の素子裏面1bに配置されている裏面電極13(カソード電極)に接して導通しているので、カソード端子として機能する。 In addition, the semiconductor light emitting device A90 includes a conductive layer 76 instead of the insulating layer 75. As shown in FIG. Conductive layer 76 is formed by drying and hardening a die attach paste containing metal particles such as silver (Ag), for example. Since the conductive layer 76 contains metal particles in this way, the conductive layer 76 has conductivity. Also, the thermal conductivity of the conductive layer 76 is relatively high. As shown in FIG. 30, the conductive layer 76 has a back surface 76b facing the same side as the element back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 in the z direction. The rear surface 76b is exposed from the reinforcing member 5 and flush with a rear surface 52 (described later) of the reinforcing member 5, and functions as a rear surface terminal. Since the conductive layer 76 is in contact with the back surface electrode 13 (cathode electrode) arranged on the back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 and is electrically connected, it functions as a cathode terminal.

また、本実施形態においては、図31に示すように、半導体発光素子1の第2電極12は、第1電極11と同様、導電層107に接して、第2半導体層104に導通している。したがって、第2電極12も、アノード電極になる。また、第2リード3は、第2ボンディングワイヤ72を介して第2電極12に電気的に接続されているので、第1リード2と同様に、アノード端子として機能する。 Further, in this embodiment, as shown in FIG. 31, the second electrode 12 of the semiconductor light emitting device 1 is in contact with the conductive layer 107 and electrically connected to the second semiconductor layer 104, like the first electrode 11. . Therefore, the second electrode 12 also becomes an anode electrode. Also, the second lead 3 is electrically connected to the second electrode 12 via the second bonding wire 72 , and thus functions as an anode terminal in the same manner as the first lead 2 .

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A90は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1、第1リード2、および第2リード3を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A90は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。 Also according to this embodiment, since the semiconductor light emitting element 1 is not mounted on a lead or substrate, the semiconductor light emitting device A90 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1, the first lead 2, and the second lead 3 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A90 can emit laser light, Stress can be suppressed.

なお、半導体発光装置A90は、第6実施形態と同様に、導電層76を備えなくてもよい。この場合、半導体発光素子1の素子裏面1bに形成された裏面電極13が補強部材5から露出し、カソード端子として機能する。 The semiconductor light emitting device A90 does not have to include the conductive layer 76, as in the sixth embodiment. In this case, the back surface electrode 13 formed on the element back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 is exposed from the reinforcing member 5 and functions as a cathode terminal.

<第10実施形態>
図32および図33は、本開示の第10実施形態に係る半導体発光装置A100を説明するための図である。図32は、半導体発光装置A100を示す平面図であり、図1に対応する図である。図33は、半導体発光装置A100を示す断面図であり、図5に対応する図である。なお、図32においては、理解の便宜上、透光樹脂6を透過している。本実施形態の半導体発光装置A100は、第2リード3を備えておらず、半導体発光素子1の素子裏面1bに接する導電層76がカソード端子として機能する点で、第1実施形態と異なっている。
<Tenth Embodiment>
32 and 33 are diagrams for explaining the semiconductor light emitting device A100 according to the tenth embodiment of the present disclosure. FIG. 32 is a plan view showing the semiconductor light emitting device A100, corresponding to FIG. FIG. 33 is a cross-sectional view showing the semiconductor light emitting device A100, corresponding to FIG. In addition, in FIG. 32, the light is transmitted through the translucent resin 6 for convenience of understanding. The semiconductor light emitting device A100 of this embodiment is different from the first embodiment in that the second lead 3 is not provided and the conductive layer 76 in contact with the element back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1 functions as a cathode terminal. .

本実施形態に係る半導体発光素子1は、第9実施形態に係る半導体発光素子1(図31参照)と同様である。本実施形態において、半導体発光装置A100は、半導体発光装置A90と同様、絶縁層75に代えて導電層76を備えている。導電層76は、半導体発光素子1の素子裏面1bに配置されている裏面電極13に電気的に接続されているので、導電層76は、カソード端子として機能する。また、半導体発光装置A100は、第2リード3を備えていない。つまり、半導体発光装置A100は、半導体発光装置A90において、第2リード3を備えていないものである。 The semiconductor light emitting device 1 according to this embodiment is the same as the semiconductor light emitting device 1 (see FIG. 31) according to the ninth embodiment. In this embodiment, the semiconductor light emitting device A100 includes a conductive layer 76 instead of the insulating layer 75, like the semiconductor light emitting device A90. Since the conductive layer 76 is electrically connected to the back surface electrode 13 arranged on the element back surface 1b of the semiconductor light emitting element 1, the conductive layer 76 functions as a cathode terminal. Moreover, the semiconductor light emitting device A100 does not have the second lead 3 . In other words, the semiconductor light emitting device A100 does not have the second lead 3 in the semiconductor light emitting device A90.

本実施形態によっても、半導体発光素子1はリードまたは基板に搭載されていないので、半導体発光装置A100は、低背化が可能である。また、補強部材5は、半導体発光素子1の素子主面1aを露出させた状態で、半導体発光素子1および第1リード2を覆っている。したがって、半導体発光素子1は、安定して配置可能であり、また、レーザ光の出射も妨げられない。また、本実施形態によっても、半導体発光素子1の素子主面1aが透光樹脂6によって覆われているので、半導体発光装置A100は、レーザ光を出射可能であり、かつ、発光領域14にかかる応力を抑制可能である。さらに、半導体発光装置A100は、第2リード3を備えていないので、y方向の寸法を小さくすることができる。 Also according to this embodiment, since the semiconductor light emitting element 1 is not mounted on a lead or substrate, the semiconductor light emitting device A100 can be made low profile. Further, the reinforcing member 5 covers the semiconductor light emitting element 1 and the first lead 2 with the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 exposed. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 can be stably arranged, and the emission of laser light is not hindered. Further, according to the present embodiment as well, since the element main surface 1a of the semiconductor light emitting element 1 is covered with the translucent resin 6, the semiconductor light emitting device A100 can emit laser light, Stress can be suppressed. Furthermore, since the semiconductor light emitting device A100 does not have the second lead 3, the dimension in the y direction can be reduced.

本開示に係る半導体発光装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。本開示に係る半導体発光装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。 The semiconductor light emitting device according to the present disclosure is not limited to the embodiments described above. The specific configuration of each part of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure can be changed in various ways.

〔付記1〕
発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
を備え、
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
半導体発光装置。
〔付記2〕
前記素子裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
付記1に記載の半導体発光装置。
〔付記3〕
前記素子裏面に接して設けられ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く絶縁層裏面を有し、かつ、絶縁性の樹脂からなる絶縁層をさらに備え、
前記絶縁層裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
付記1に記載の半導体発光装置。
〔付記4〕
前記素子裏面に接して設けられ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く導電層裏面を有し、かつ、金属粒子が含有された導電層をさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子裏面に配置された裏面電極をさらに備え、
前記導電層裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
付記1に記載の半導体発光装置。
〔付記5〕
前記半導体発光素子と前記第1リードとを導通させる第1ボンディングワイヤをさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子主面に配置された第1電極をさらに備え、
前記第1ボンディングワイヤは、前記第1電極と前記第1リードとに接続されている、
付記1ないし4のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記6〕
前記第1ボンディングワイヤは、全体が前記補強部材から露出している、
付記5に記載の半導体発光装置。
〔付記7〕
前記半導体発光素子および前記第1リードから離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第2リードと、
前記半導体発光素子と前記第2リードとを導通させる第2ボンディングワイヤと、
をさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子主面に配置された第2電極をさらに備え、
前記第2ボンディングワイヤは、前記第2電極と前記第2リードとに接続されている、
付記1ないし6のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記8〕
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材をさらに備える、
付記1ないし7のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記9〕
前記外壁部材は、前記厚さ方向に直交する第1方向において互いに離間して配置される一対の第1側部を備える、
付記8に記載の半導体発光装置。
〔付記10〕
前記外壁部材は、前記厚さ方向および前記第1方向に直交する第2方向において互いに離間して配置される一対の第2側部をさらに備える、
付記9に記載の半導体発光装置。
〔付記11〕
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記第1リード裏面とは反対側を向く第1リード主面をさらに備え、
前記第1リード主面の少なくとも一部は、前記外壁部材から露出している、
付記8ないし10のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記12〕
前記第1リードは、前記第1リード主面および前記第1リード裏面に繋がり、かつ、前記半導体発光素子とは反対側を向く第1リード端面をさらに備え、
前記第1リード端面は、前記外壁部材から露出している、
付記11に記載の半導体発光装置。
〔付記13〕
前記補強部材の構成材料は、前記外壁部材より強度の高いエポキシ樹脂である、
付記8ないし12のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記14〕
前記開口部を塞ぎ、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる蓋をさらに備える、
付記8ないし13のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記15〕
前記蓋は、ガラス板である、
付記14に記載の半導体発光装置。
〔付記16〕
前記素子主面を覆い、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる透光樹脂をさらに備える、
付記1ないし13のいずれかに記載の半導体発光装置。
〔付記17〕
前記透光樹脂は、前記補強部材より弾性係数が低い、
付記16に記載の半導体発光装置。
〔付記18〕
前記透光樹脂の構成材料は、シリコーンである、
付記16または17に記載の半導体発光装置。
[Appendix 1]
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
with
the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
The back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member,
Semiconductor light emitting device.
[Appendix 2]
The back surface of the element is flush with the back surface of the reinforcing member,
1. The semiconductor light emitting device according to Appendix 1.
[Appendix 3]
further comprising an insulating layer provided in contact with the element back surface, having an insulating layer back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction, and made of an insulating resin,
The back surface of the insulating layer is flush with the back surface of the reinforcing member,
1. The semiconductor light emitting device according to Appendix 1.
[Appendix 4]
further comprising a conductive layer provided in contact with the element back surface, having a conductive layer back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction, and containing metal particles;
The semiconductor light emitting device further comprises a back surface electrode arranged on the back surface of the device,
The back surface of the conductive layer is flush with the back surface of the reinforcing member,
1. The semiconductor light emitting device according to Appendix 1.
[Appendix 5]
further comprising a first bonding wire that electrically connects the semiconductor light emitting element and the first lead;
The semiconductor light emitting device further comprises a first electrode arranged on the main surface of the device,
The first bonding wire is connected to the first electrode and the first lead,
5. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 1 to 4.
[Appendix 6]
The first bonding wire is entirely exposed from the reinforcing member,
The semiconductor light emitting device according to appendix 5.
[Appendix 7]
a second lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and the first lead and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a second bonding wire that electrically connects the semiconductor light emitting element and the second lead;
further comprising
The semiconductor light emitting device further comprises a second electrode arranged on the main surface of the device,
The second bonding wire is connected to the second electrode and the second lead,
7. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 1 to 6.
[Appendix 8]
Further comprising an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction,
8. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 1 to 7.
[Appendix 9]
The outer wall member includes a pair of first side portions spaced apart from each other in a first direction orthogonal to the thickness direction,
The semiconductor light-emitting device according to appendix 8.
[Appendix 10]
The outer wall member further comprises a pair of second side portions spaced apart from each other in a second direction orthogonal to the thickness direction and the first direction,
9. The semiconductor light emitting device according to appendix 9.
[Appendix 11]
the first lead further includes a first lead main surface facing away from the back surface of the first lead in the thickness direction;
At least part of the first lead main surface is exposed from the outer wall member,
11. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 8 to 10.
[Appendix 12]
the first lead further includes a first lead end surface connected to the first lead main surface and the first lead back surface and facing away from the semiconductor light emitting element;
The first lead end surface is exposed from the outer wall member,
12. The semiconductor light emitting device according to Appendix 11.
[Appendix 13]
A constituent material of the reinforcing member is an epoxy resin having a higher strength than the outer wall member,
13. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 8 to 12.
[Appendix 14]
further comprising a lid that closes the opening and transmits the laser light emitted by the semiconductor light emitting element;
14. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 8 to 13.
[Appendix 15]
The lid is a glass plate,
14. The semiconductor light emitting device according to appendix 14.
[Appendix 16]
further comprising a translucent resin that covers the main surface of the device and transmits laser light emitted from the semiconductor light emitting device;
14. The semiconductor light emitting device according to any one of Appendices 1 to 13.
[Appendix 17]
The translucent resin has an elastic modulus lower than that of the reinforcing member,
16. The semiconductor light emitting device according to appendix 16.
[Appendix 18]
The constituent material of the translucent resin is silicone,
18. The semiconductor light emitting device according to appendix 16 or 17.

A10~A100:半導体発光装置
1 :半導体発光素子
1a :素子主面
1b :素子裏面
1c :素子側面
10 :素子本体
101 :半導体基板
102 :第1半導体層
103 :活性層
104 :第2半導体層
105 :絶縁層
105a :開口
106 :電流狭窄層
106a :開口
107 :導電層
107a :開口
11 :第1電極
12 :第2電極
13 :裏面電極
14 :発光領域
2 :第1リード
21 :主面
22 :裏面
23 :側面
24 :凹部
25 :突出部
25a :端面
26 :端面
3 :第2リード
31 :主面
32 :裏面
33 :側面
34 :凹部
35 :突出部
35a :端面
36 :端面
4 :外壁部材
41 :頂面
42 :底面
43 :外周面
44 :内周面
45 :開口部
46 :第1側部
47 :第2側部
5 :補強部材
51 :主面
52 :裏面
6 :透光樹脂
65 :蓋
71 :第1ボンディングワイヤ
72 :第2ボンディングワイヤ
75 :絶縁層
75b :裏面
76 :導電層
76b :裏面
91 :金属板
911 :主面
912 :裏面
913 :凹部
914 :貫通部
92 :基材
921 :主面
93 :外壁部材
931 :開口
932 :裏面
94 :金型
941,942:空間
A10 to A100: semiconductor light emitting device 1: semiconductor light emitting element 1a: element main surface 1b: element back surface 1c: element side surface 10: element body 101: semiconductor substrate 102: first semiconductor layer 103: active layer 104: second semiconductor layer 105 : Insulating layer 105a : Opening 106 : Current constriction layer 106a : Opening 107 : Conductive layer 107a : Opening 11 : First electrode 12 : Second electrode 13 : Back electrode 14 : Light emitting region 2 : First lead 21 : Main surface 22 : Back surface 23 : Side surface 24 : Recessed portion 25 : Protruding portion 25 a : End surface 26 : End surface 3 : Second lead 31 : Main surface 32 : Back surface 33 : Side surface 34 : Recessed portion 35 : Projecting portion 35 a : End surface 36 : End surface 4 : Outer wall member 41 : Top surface 42 : Bottom surface 43 : Outer peripheral surface 44 : Inner peripheral surface 45 : Opening 46 : First side 47 : Second side 5 : Reinforcing member 51 : Main surface 52 : Back surface 6 : Translucent resin 65 : Lid 71 : first bonding wire 72 : second bonding wire 75 : insulating layer 75b : back surface 76 : conductive layer 76b : back surface 91 : metal plate 911 : main surface 912 : back surface 913 : concave portion 914 : through portion 92 : base material 921 : Main surface 93: Outer wall member 931: Opening 932: Back surface 94: Molds 941, 942: Space

Claims (25)

発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
前記素子裏面に接して設けられ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く絶縁層裏面を有し、かつ、絶縁性の樹脂からなる絶縁層と、
を備え、
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面および前記絶縁層裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
半導体発光装置。
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
an insulating layer provided in contact with the element back surface, having an insulating layer back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction, and made of an insulating resin;
with
the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
The back surface of the first lead and the back surface of the insulating layer are flush with the back surface of the reinforcing member,
Semiconductor light emitting device.
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材をさらに備える、
請求項1に記載の半導体発光装置。
Further comprising an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction,
The semiconductor light emitting device according to claim 1 .
前記外壁部材は、前記厚さ方向に直交する第1方向において互いに離間して配置される一対の第1側部を備える、
請求項に記載の半導体発光装置。
The outer wall member includes a pair of first side portions spaced apart from each other in a first direction orthogonal to the thickness direction,
3. The semiconductor light emitting device according to claim 2 .
前記外壁部材は、前記厚さ方向および前記第1方向に直交する第2方向において互いに離間して配置される一対の第2側部をさらに備える、
請求項に記載の半導体発光装置。
The outer wall member further comprises a pair of second side portions spaced apart from each other in a second direction orthogonal to the thickness direction and the first direction,
4. The semiconductor light emitting device according to claim 3 .
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記第1リード裏面とは反対側を向く第1リード主面をさらに備え、
前記第1リード主面の少なくとも一部は、前記外壁部材から露出している、
請求項ないしのいずれかに記載の半導体発光装置。
the first lead further includes a first lead main surface facing away from the back surface of the first lead in the thickness direction;
At least part of the first lead main surface is exposed from the outer wall member,
5. The semiconductor light emitting device according to claim 2 .
前記第1リードは、前記第1リード主面および前記第1リード裏面に繋がり、かつ、前記半導体発光素子とは反対側を向く第1リード端面をさらに備え、
前記第1リード端面は、前記外壁部材から露出している、
請求項に記載の半導体発光装置。
the first lead further includes a first lead end surface connected to the first lead main surface and the first lead back surface and facing away from the semiconductor light emitting element;
The first lead end surface is exposed from the outer wall member,
6. The semiconductor light emitting device according to claim 5 .
前記補強部材の構成材料は、前記外壁部材より強度の高いエポキシ樹脂である、
請求項ないしのいずれかに記載の半導体発光装置。
A constituent material of the reinforcing member is an epoxy resin having a higher strength than the outer wall member,
7. The semiconductor light emitting device according to claim 2 .
前記開口部を塞ぎ、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる蓋をさ
らに備える、
請求項ないしのいずれかに記載の半導体発光装置。
further comprising a lid that closes the opening and transmits the laser light emitted by the semiconductor light emitting element;
8. The semiconductor light emitting device according to claim 2 .
前記蓋は、ガラス板である、
請求項に記載の半導体発光装置。
The lid is a glass plate,
9. The semiconductor light emitting device according to claim 8 .
前記素子主面を覆い、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる透光樹脂をさらに備える、
請求項ないしのいずれかに記載の半導体発光装置。
further comprising a translucent resin that covers the main surface of the device and transmits laser light emitted from the semiconductor light emitting device;
8. The semiconductor light emitting device according to claim 2 .
前記透光樹脂は、前記補強部材より弾性係数が低い、
請求項10に記載の半導体発光装置。
The translucent resin has an elastic modulus lower than that of the reinforcing member,
11. The semiconductor light emitting device according to claim 10 .
前記透光樹脂の構成材料は、シリコーンである、
請求項10または11に記載の半導体発光装置。
The constituent material of the translucent resin is silicone,
12. The semiconductor light emitting device according to claim 10 or 11 .
発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材と、
を備え、
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一であり、
前記外壁部材は、
前記厚さ方向に直交する第1方向において互いに離間して配置される一対の第1側部と、
前記厚さ方向および前記第1方向に直交する第2方向において互いに離間して配置される一対の第2側部と、
を備える、
半導体発光装置。
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction;
with
the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
the back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member;
The outer wall member is
a pair of first side portions spaced apart from each other in a first direction orthogonal to the thickness direction;
a pair of second side portions spaced apart from each other in a second direction orthogonal to the thickness direction and the first direction;
comprising
Semiconductor light emitting device.
発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材と、
を備え、
前記第1リードは、
前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面と、
前記厚さ方向において前記第1リード裏面とは反対側を向く第1リード主面と、
前記第1リード主面および前記第1リード裏面に繋がり、かつ、前記半導体発光素子とは反対側を向く第1リード端面と、
を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一であり、
前記第1リード主面の少なくとも一部および前記第1リード端面は、前記外壁部材から露出している、
半導体発光装置。
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction;
with
The first lead is
a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction ;
a first lead main surface facing away from the back surface of the first lead in the thickness direction;
a first lead end surface connected to the first lead main surface and the first lead back surface and facing away from the semiconductor light emitting element;
with
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
the back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member;
at least part of the first lead main surface and the first lead end surface are exposed from the outer wall member;
Semiconductor light emitting device.
発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材と、
を備え、
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一であり、
前記補強部材の構成材料は、前記外壁部材より強度の高いエポキシ樹脂である、
半導体発光装置。
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction;
with
the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
the back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member;
A constituent material of the reinforcing member is an epoxy resin having a higher strength than the outer wall member,
Semiconductor light emitting device.
前記素子主面を覆い、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる透光樹脂をさらに備える、
請求項13ないし15のいずれかに記載の半導体発光装置。
further comprising a translucent resin that covers the main surface of the device and transmits laser light emitted from the semiconductor light emitting device;
16. The semiconductor light emitting device according to claim 13 .
前記透光樹脂は、前記補強部材より弾性係数が低い、
請求項16に記載の半導体発光装置。
The translucent resin has an elastic modulus lower than that of the reinforcing member,
17. The semiconductor light emitting device according to claim 16.
前記透光樹脂の構成材料は、シリコーンである、
請求項16または17に記載の半導体発光装置。
The constituent material of the translucent resin is silicone,
18. The semiconductor light emitting device according to claim 16 or 17.
発光領域を有する素子主面と、厚さ方向において前記素子主面とは反対側を向く素子裏面と、を有する半導体発光素子と、
前記半導体発光素子から離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第1リードと、
前記半導体発光素子および前記第1リードを覆い、かつ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く補強部材裏面を有する補強部材と、
前記厚さ方向視において前記半導体発光素子を囲み、かつ、前記厚さ方向に貫通する開口部を有する外壁部材と、
前記開口部を塞ぎ、かつ、前記半導体発光素子が出射するレーザ光を透過させる蓋と、を備え、
前記第1リードは、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く第1リード裏面を備え、
前記素子主面および前記素子裏面は、前記補強部材から露出し、
前記第1リード裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
半導体発光装置。
A semiconductor light-emitting device having a device main surface having a light-emitting region and a device back surface facing in a thickness direction opposite to the device main surface;
a first lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a reinforcing member covering the semiconductor light emitting element and the first lead and having a reinforcing member back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
an outer wall member surrounding the semiconductor light emitting element when viewed in the thickness direction and having an opening penetrating in the thickness direction;
a lid that closes the opening and transmits the laser light emitted by the semiconductor light emitting element ;
the first lead has a first lead back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction;
The element main surface and the element back surface are exposed from the reinforcing member,
The back surface of the first lead is flush with the back surface of the reinforcing member,
Semiconductor light emitting device.
前記蓋は、ガラス板である、
請求項19に記載の半導体発光装置。
The lid is a glass plate,
20. The semiconductor light emitting device according to claim 19 .
前記素子裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
請求項13ないし20のいずれかに記載の半導体発光装置。
The back surface of the element is flush with the back surface of the reinforcing member,
21. The semiconductor light emitting device according to claim 13 .
前記素子裏面に接して設けられ、前記厚さ方向において前記素子裏面と同じ側を向く導電層裏面を有し、かつ、金属粒子が含有された導電層をさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子裏面に配置された裏面電極をさらに備え、
前記導電層裏面は、前記補強部材裏面と面一である、
請求項13ないし20のいずれかに記載の半導体発光装置。
further comprising a conductive layer provided in contact with the element back surface, having a conductive layer back surface facing the same side as the element back surface in the thickness direction, and containing metal particles;
The semiconductor light emitting device further comprises a back surface electrode arranged on the back surface of the device,
The back surface of the conductive layer is flush with the back surface of the reinforcing member,
21. The semiconductor light emitting device according to claim 13 .
前記半導体発光素子と前記第1リードとを導通させる第1ボンディングワイヤをさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子主面に配置された第1電極をさらに備え、
前記第1ボンディングワイヤは、前記第1電極と前記第1リードとに接続されている、請求項1ないし22のいずれかに記載の半導体発光装置。
further comprising a first bonding wire that electrically connects the semiconductor light emitting element and the first lead;
The semiconductor light emitting device further comprises a first electrode arranged on the main surface of the device,
23. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein said first bonding wire is connected to said first electrode and said first lead.
前記第1ボンディングワイヤは、全体が前記補強部材から露出している、
請求項23に記載の半導体発光装置。
The first bonding wire is entirely exposed from the reinforcing member,
24. The semiconductor light emitting device according to claim 23 .
前記半導体発光素子および前記第1リードから離間して配置され、かつ、前記半導体発光素子に導通する第2リードと、
前記半導体発光素子と前記第2リードとを導通させる第2ボンディングワイヤと、
をさらに備え、
前記半導体発光素子は、前記素子主面に配置された第2電極をさらに備え、
前記第2ボンディングワイヤは、前記第2電極と前記第2リードとに接続されている、請求項1ないし24のいずれかに記載の半導体発光装置。
a second lead that is spaced apart from the semiconductor light emitting element and the first lead and electrically connected to the semiconductor light emitting element;
a second bonding wire that electrically connects the semiconductor light emitting element and the second lead;
further comprising
The semiconductor light emitting device further comprises a second electrode arranged on the main surface of the device,
25. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein said second bonding wire is connected to said second electrode and said second lead.
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