JP7306300B2 - 推定器および真空バルブ - Google Patents
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Description
本発明の第2の態様による真空バルブは、真空チャンバとその真空チャンバを排気する真空ポンプとの間に設けられ、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する真空バルブにおいて、前記推定器で演算された前記チャンバ容積に基づいて、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する。
-第1の実施の形態-
図1は、実施の形態の推定器1が設けられた真空排気システムの一例を示す図である。真空排気システムは、プロセス処理が行われるチャンバ2を備えている。チャンバ2には、チャンバ2を真空排気するための排気系100として、自動圧力調整バルブ3(以下では、単にバルブと称することにする)、ターボ分子ポンプ4および補助ポンプ5が接続されている。高真空用の真空ポンプであるターボ分子ポンプ4には、補助ポンプ5が排気側に接続されている。
Qin=V×(dP/dt)+Se×P …(1)
式(1)から分かるように、圧力Pが変化している状況((dP/dt) ≠0)では、圧力Pはチャンバ容積Vの影響を受ける。また、チャンバ2の圧力Pが平衡状態((dP/dt) =0)の場合には、そのときの圧力Pと流量Qinとから排気系100の実効排気速度Se(=Qin/P)が算出できる。
推定器1におけるガス種特性値a0およびチャンバ容積推定値V0の推定原理について説明する。推定器1における推定演算は、チャンバ2の圧力Pが変化している状況(圧力応答時)における圧力計測値Pmに基づいて行われる。上述したように、圧力Pに関して排気の式(1)が成立する。バルブ3のコンダクタンスは弁体開度θに応じて変化するので、弁体開度θの変化に対して排気系100の実効排気速度Seは、例えば、図2に示すような単調増加曲線で表される。
Se校正(θ)=a×Se基準(θ) …(2)
式(2)における係数aは、校正用ガスの実効排気速度と基準ガスの実効排気速度との比を表しており、以下では係数aをガス種特性値と呼ぶことにする。校正用ガスとして基準ガスと同一のガス種を用いた場合、ガス種特性値aはa=1となる。上述したように、Se校正(θ)およびSe基準(θ)のいずれも、バルブ3のコンダクタンスとターボ分子ポンプ4の排気速度とから合成計算される排気系単体の実効排気速度であり、排気の式(1)における実効排気速度Seのように、接続されているチャンバ2の構造までは考慮されていない。
Qin=V×(dP/dt)+a×Se基準(θ)×P …(1A)
圧力計測値Pmkは圧力応答期間中の計測値であればよいので、図4の応答初期期間Δt0は圧力応答期間内に任意に設定することができる。例えば、開度θ2における時定数τ(=V/Se(θ2))の1倍程度以下の短い期間でよい。ただし、推定開始時点では、ガス種およびチャンバ容積は未知であって時定数τも未知なので、十分に大きい分子量を想定したガス種特性値aminと、想定されるチャンバ2の容積上限値Vmaxとを用いて、時定数τの上限τmax(=Vmax/{amin×Se基準(θ2)})を予め定めておき、これを最長時間(タイムアウト時間)とする。
次に、第1の実施の形態における校正動作について説明する。前述したように、排気系100の校正動作には、一般的に、チャンバ容積推定値V1を演算する第1校正処理と、実効排気速度Seを演算する第2校正処理とがある。第1の実施の形態では、推定器1で推定演算されたチャンバ容積推定値V0をチャンバ容積推定値V1に適用することで第1校正処理は省略し、実効排気速度Seを演算する第2校正処理を行う。
P(t)=[Qin/Se+(P0-Qin/Se)×exp{-(Se/V)×t}] …(3)
τj=V0/{a0×Se基準(θj)} …(4)
前述したように、バルブ3の校正動作には、チャンバ容積推定値V1を演算により求める第1校正処理と、実効排気速度Seを演算する第2校正処理とがあり、第1の実施の形態では、推定器1で推定されたチャンバ容積推定値V0をチャンバ容積推定値V1に適用することで、第1校正処理を省略した。一方、以下に説明する第2の実施の形態では、校正動作として第1校正処理および第2校正処理を行う。そして、第1および第2校正処理を行う前に、推定器1によるガス種特性値a0およびチャンバ容積推定値V0の推定演算を行い、第1および第2校正処理において弁体31を駆動停止させる動作を行う際の固定時間Δtを、推定値(a0、V0)を用いて算出される時定数τに基づいて最適設定するようにした。第2の実施の形態における第2校正処理は第1の実施の形態の場合と同一であり、処理方法については説明を省略する。
先ず、チャンバ容積推定値V1を演算により求める第1校正処理について説明する。第2の実施の形態においても第1の実施の形態と同様に、校正用ガスのガス種は上述した基準ガスに限定されず、ユーザの状況に応じたガス種を用いることができる。図9で説明した場合のように、弁体開度θを開度位置θ0へステップ変化した場合の圧力応答は式(5)で表される。Se(θ0)は、開度位置θ0における実効排気速度である。
P(t)=[Qin/Se(θ0)+(P0-Qin/Se(θ0))×exp{-(Se(θ0)/V)×t}]
…(5)
V1=Se(θ0)×(t2-t1)/ln{(Pm1-Pend)/(Pm2-Pend)} …(6)
このように、式(6)を用いることで、校正用ガスのガス種に関係なくチャンバ容積推定値V1を算出することができる。
τmin=V0/{a0×Se基準(θmin)} …(7)
第3の実施の形態では、チャンバ容積推定値V1を演算する第1校正処理期間の初期において推定器1による推定演算を行い、第1および第2校正処理において弁体31を駆動停止させる動作を行う際の固定時間Δtを、推定値(a0、V0)を用いて算出される時定数τに基づいて最適設定するようにした。すなわち、図10に示したステップS100における推定値(a0,V0)の演算処理を、第1校正処理期間において行うようにした。第2校正処理に関しては、第1および第2の実施の形態の場合と同様である。
Qin=V×(dP/dt)+a×Se基準(θ)×P …(1A)
そのため、真空排気装置である排気系100が排気しているガスのガス種が未知であっても、第1のチャンバ容積推定値V0を推定演算することができる。
Claims (6)
- 真空チャンバを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプの吸気口側に設けられて前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する真空バルブとを備える真空排気装置に対して、
排気しているガスに関する前記真空排気装置の第1実効排気速度と所定既知ガスに関する前記真空排気装置の第2実効排気速度との比であるガス種特性値、および、前記真空チャンバの第1チャンバ容積推定値を推定する推定器であって、
前記真空バルブの弁体開度とその弁体開度における前記チャンバ圧力とから成るデータ対を、複数取得する取得部と、
前記第2実効排気速度、前記真空チャンバに導入されるガスの流量、チャンバ容積およびチャンバ圧力の間の関係を表す排気の式と、前記取得部で取得した複数のデータ対と、前記所定既知ガスに関する前記弁体開度と前記第2実効排気速度との相関データとに基づいて、前記ガス種特性値および前記第1チャンバ容積推定値を演算する演算部と、を備える推定器。 - 真空チャンバとその真空チャンバを排気する真空ポンプとの間に設けられ、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する真空バルブにおいて、
請求項1に記載の推定器で演算された前記第1チャンバ容積推定値に基づいて、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する、真空バルブ。 - 請求項2に記載の真空バルブにおいて、
真空バルブの開度を所定開度値に固定し、前記所定開度値において計測される前記真空チャンバのチャンバ圧力に基づいて前記真空チャンバの第2チャンバ容積推定値を演算する、第1校正部を備え、
前記第1校正部は、前記弁体開度が前記所定開度値に固定される時間を、前記推定器で演算された前記ガス種特性値および前記第1チャンバ容積推定値に基づく前記真空チャンバの圧力応答特性に基づいて設定する、真空バルブ。 - 真空チャンバとその真空チャンバを排気する真空ポンプとの間に設けられ、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整する真空バルブであって、
真空バルブの開度を所定開度値に固定し、前記所定開度値において計測される前記真空チャンバのチャンバ圧力に基づいて前記真空チャンバの第2チャンバ容積推定値を演算する、第1校正部を備え、
前記第1校正部にて演算された前記第2チャンバ容積推定値に基づいて、前記真空チャンバのチャンバ圧力を調整し、
前記第1校正部は、前記弁体開度が前記所定開度値に固定される時間を、請求項1に記載の推定器で演算された前記ガス種特性値および前記第1チャンバ容積推定値に基づく前記真空チャンバの圧力応答特性に基づいて設定する、真空バルブ。 - 請求項3または4に記載の真空バルブにおいて、
前記推定器による前記ガス種特性値および前記第1チャンバ容積推定値の演算に用いられる前記複数のデータ対は、前記所定開度値の期間において取得される、真空バルブ。 - 請求項2から請求項5までのいずれか一項に記載の真空バルブにおいて、
前記弁体開度を複数の開度値に順に固定し、前記複数の開度値の各開度値において計測される前記真空チャンバのチャンバ圧力に基づいて、前記第1実効排気速度を演算する第2校正部を備え、
前記第2校正部は、前記推定器で演算された前記ガス種特性値および前記第1チャンバ容積推定値に基づいて前記真空チャンバの圧力応答特性を算出し、算出された圧力応答特性に基づいて前記弁体開度が前記複数の開度値の各々に固定される時間をそれぞれ設定する、真空バルブ。
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Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7517109B2 (ja) * | 2020-11-26 | 2024-07-17 | 株式会社島津製作所 | 真空バルブおよび推定装置 |
| CN114003065B (zh) * | 2021-10-15 | 2024-03-19 | 湖北三江航天红林探控有限公司 | 一种基于气压预测的双压力变送器冗余设计方法 |
| CN114251602B (zh) * | 2022-01-12 | 2024-10-15 | 湖南三重理想储能科技有限公司 | 一种气体吸附仪调压系统及其调压方法 |
| CN121028897B (zh) * | 2025-10-27 | 2026-02-17 | 成都中科唯实仪器有限责任公司 | 一种插板阀的压力控制方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5087073B2 (ja) | 2006-03-21 | 2012-11-28 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 性能を最適化した圧力制御システム |
| JP2018112932A (ja) | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社島津製作所 | バルブ制御装置 |
| JP2019165117A (ja) | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 株式会社島津製作所 | 目標開度推定器および圧力調整真空バルブ |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5989929A (en) * | 1997-07-22 | 1999-11-23 | Matsushita Electronics Corporation | Apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| US6022483A (en) * | 1998-03-10 | 2000-02-08 | Intergrated Systems, Inc. | System and method for controlling pressure |
| US6041817A (en) * | 1998-08-21 | 2000-03-28 | Fairchild Semiconductor Corp. | Processing system having vacuum manifold isolation |
| JP2001060578A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Nec Corp | 真空処理装置 |
| KR100452318B1 (ko) * | 2002-01-17 | 2004-10-12 | 삼성전자주식회사 | 압력조절시스템 및 이를 이용하는 압력조절방법 |
| JP5264039B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2013-08-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
| KR100697280B1 (ko) * | 2005-02-07 | 2007-03-20 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 설비의 압력 조절 방법 |
| KR20060093611A (ko) * | 2005-02-22 | 2006-08-25 | 삼성전자주식회사 | 화학기상증착설비와 잔류가스 배기방법 |
| CN100517626C (zh) * | 2005-03-16 | 2009-07-22 | 东京毅力科创株式会社 | 真空装置、其泄漏率测量方法及测量用程序和存储介质 |
| JP4648098B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-03-09 | シーケーディ株式会社 | 流量制御機器絶対流量検定システム |
| JP5467007B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-04-09 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 |
| JP5538119B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2014-07-02 | 株式会社フジキン | ガス供給装置用流量制御器の校正方法及び流量計測方法 |
| JP2012060104A (ja) * | 2010-08-11 | 2012-03-22 | Toshiba Corp | 電源制御装置、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 |
| JP5337185B2 (ja) * | 2011-03-11 | 2013-11-06 | 株式会社東芝 | 圧力制御装置 |
| JP6043546B2 (ja) * | 2011-10-21 | 2016-12-14 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム |
| JP5951443B2 (ja) * | 2011-12-09 | 2016-07-13 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム |
| JP5854335B2 (ja) * | 2013-11-20 | 2016-02-09 | プログレッシオ合同会社 | 処理チャンバの圧力制御方法及び処理チャンバの圧力制御装置 |
| JP6996289B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2022-01-17 | 株式会社島津製作所 | バルブ装置 |
| JP6828446B2 (ja) * | 2017-01-12 | 2021-02-10 | 株式会社島津製作所 | バルブ制御装置 |
| JP6841201B2 (ja) * | 2017-10-06 | 2021-03-10 | 株式会社島津製作所 | ガス推定装置および真空排気装置 |
| JP2020024638A (ja) * | 2018-08-08 | 2020-02-13 | 株式会社島津製作所 | 真空バルブ、バルブシステム、バルブシステムの制御装置および校正装置 |
| JP7014123B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2022-02-01 | 株式会社島津製作所 | 推定装置およびバルブ制御装置 |
| JP7517109B2 (ja) * | 2020-11-26 | 2024-07-17 | 株式会社島津製作所 | 真空バルブおよび推定装置 |
| CN114790993B (zh) * | 2021-01-25 | 2024-05-14 | 株式会社岛津制作所 | 推断装置、真空阀及真空泵 |
-
2020
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-
2021
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- 2021-03-08 US US17/194,593 patent/US11809205B2/en active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5087073B2 (ja) | 2006-03-21 | 2012-11-28 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 性能を最適化した圧力制御システム |
| JP2018112932A (ja) | 2017-01-12 | 2018-07-19 | 株式会社島津製作所 | バルブ制御装置 |
| JP2019165117A (ja) | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 株式会社島津製作所 | 目標開度推定器および圧力調整真空バルブ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20210286384A1 (en) | 2021-09-16 |
| CN113391655A (zh) | 2021-09-14 |
| US11809205B2 (en) | 2023-11-07 |
| JP2021145101A (ja) | 2021-09-24 |
| CN113391655B (zh) | 2024-01-09 |
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