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JP7322941B2 - reflective liquid crystal display - Google Patents
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Description

本発明は、反射型液晶表示装置に関し、例えば画素の温度を精度良く計測するのに適し
た反射型液晶表示装置に関する。
The present invention relates to a reflective liquid crystal display device and, for example, to a reflective liquid crystal display device suitable for accurately measuring the temperature of pixels.

液晶表示装置における中間調表示方式の1つとして、サブフレーム駆動方式が知られて
いる。時間軸変調方式の一種であるサブフレーム駆動方式では、所定の期間(例えば、動
画の場合には1画像の表示単位である1フレーム)を複数のサブフレームに分割し、表示
すべき階調に応じたサブフレームの組み合わせにより画素を駆動する。表示される階調は
、所定の期間に占める画素の駆動期間の割合によって決まり、この割合は、サブフレーム
の組み合わせによって特定される。
A sub-frame driving method is known as one of halftone display methods in liquid crystal display devices. In the sub-frame driving method, which is a kind of time-axis modulation method, a predetermined period (for example, one frame, which is the display unit of one image in the case of moving images) is divided into a plurality of sub-frames, and the gradation to be displayed is adjusted. Pixels are driven by a combination of corresponding subframes. The gradation to be displayed is determined by the ratio of the pixel driving period to a predetermined period, and this ratio is specified by the combination of subframes.

サブフレーム駆動方式が採用された液晶表示装置の中には、各画素が、マスターラッチ
及びスレーブラッチと、液晶表示素子と、複数のスイッチングトランジスタと、によって
構成されているものがある。
Among the liquid crystal display devices adopting the sub-frame driving method, each pixel is composed of a master latch and a slave latch, a liquid crystal display element, and a plurality of switching transistors.

この画素では、マスターラッチの入力端子に1ビットの第1のデータが第1のスイッチ
ングトランジスタを通して印加され、行走査線を介して印加される行選択信号がアクティ
ブになると、第1のスイッチングトランジスタがオン状態になり、第1のデータがマスタ
ーラッチに書き込まれる。
In this pixel, 1-bit first data is applied to the input terminal of the master latch through a first switching transistor, and when a row selection signal applied through a row scanning line becomes active, the first switching transistor is It turns on and the first data is written to the master latch.

全ての画素に設けられたマスターラッチへのデータの書き込みが完了すると、そのサブ
フレーム期間内において、全ての画素に設けられた第2のスイッチングトランジスタがオ
ン状態になる。それにより、全ての画素に設けられたマスターラッチのデータが一斉に読
み出されてスレーブラッチに書き込まれるとともに、当該スレーブラッチに書き込まれた
データが液晶表示素子の画素電極に印加される。各サブフレーム期間において、全ての画
素に対して同様の処理が行われる。その結果、各画素は、1フレームを構成する複数のサ
ブフレームの組み合わせにより所望の階調表示を行うことができる。
When data writing to the master latches provided in all pixels is completed, the second switching transistors provided in all pixels are turned on within the subframe period. As a result, the data in the master latches provided for all the pixels are simultaneously read out and written in the slave latches, and the data written in the slave latches are applied to the pixel electrodes of the liquid crystal display element. Similar processing is performed for all pixels in each subframe period. As a result, each pixel can perform a desired gradation display by combining a plurality of sub-frames forming one frame.

なお、1フレームを構成する複数のサブフレームの期間は、それぞれ同一又は異なる所
定の期間に予め割り当てられている。例えば、各画素において、最大階調表示を行う(白
を表示させる)場合には1フレームを構成する複数のサブフレームの全てにおいて表示を
行い、最小階調表示を行う(黒を表示させる)場合には1フレームを構成する複数のサブ
フレームの全てにおいて表示を行わず、それ以外の階調表示を行う場合には、表示する階
調に応じて表示するサブフレームを選択する。この従来からの手法を採用した液晶表示装
置は、階調を示すデジタルデータを入力データとしており、また、2段ラッチ構成のデジ
タル駆動方式を採用している(例えば、特許文献1参照)。
Note that the periods of a plurality of subframes forming one frame are assigned in advance to the same or different predetermined periods. For example, when performing maximum gradation display (displaying white) in each pixel, display is performed in all of a plurality of sub-frames constituting one frame, and when performing minimum gradation display (displaying black) In the case where display is not performed in all of a plurality of sub-frames constituting one frame, and other gradation display is performed, a sub-frame to be displayed is selected according to the gradation to be displayed. A liquid crystal display device employing this conventional technique uses digital data indicating gradation as input data, and employs a digital drive system with a two-stage latch structure (see, for example, Patent Document 1).

特許第5733154号公報Japanese Patent No. 5733154

ところで、液晶表示装置には、画素の温度を検出するための温度センサが設けられるの
が一般的である。液晶表示装置をプロジェクター素子として使用する場合、高輝度なラン
プ光を液晶表示素子に入射するため、液晶表示素子が高温になり誤動作する場合がある。
このため、温度センサによって検出された画素の温度に基づいて冷却用ファンの回転数を
制御することにより、当該液晶表示素子の温度が一定に保たれる。特許文献1の構成にも
、温度センサが設けられていると考えられる。
By the way, a liquid crystal display device is generally provided with a temperature sensor for detecting the temperature of a pixel. When a liquid crystal display device is used as a projector element, high-intensity lamp light is incident on the liquid crystal display element, so the liquid crystal display element may become hot and malfunction.
Therefore, the temperature of the liquid crystal display element is kept constant by controlling the number of revolutions of the cooling fan based on the temperature of the pixel detected by the temperature sensor. It is considered that the configuration of Patent Document 1 is also provided with a temperature sensor.

しかしながら、一般的に、画素の表面は、画像を表示するためのガラスによって覆われ
ており、かつ、画素の裏面は、画素を放熱するためのヒートシンクが取り付けられている
ため、画素近傍に温度センサを設置することができない。ここで、画素の温度とヒートシ
ンクの温度との間には、-5℃~+5℃の温度誤差がある。そのため、特許文献1の構成
では、画素の温度を精度良く計測することができない、という問題があった。
However, in general, the surface of the pixel is covered with glass for displaying an image, and the back surface of the pixel is attached with a heat sink for dissipating heat from the pixel. cannot be installed. Here, there is a temperature error of -5°C to +5°C between the pixel temperature and the heat sink temperature. Therefore, the configuration of Patent Document 1 has a problem that the temperature of the pixel cannot be measured with high accuracy.

本発明は以上の点に鑑みなされたもので、画素の温度を精度良く計測することが可能な
反射型液晶表示装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a reflective liquid crystal display device capable of accurately measuring the temperature of a pixel.

本発明の一態様にかかる反射型液晶表示装置は、複数の画素と、温度センサと、を備え
、前記温度センサは、行列状に区画された複数の画素配置領域のうち一又は複数の領域に
形成されている。
A reflective liquid crystal display device according to an aspect of the present invention includes a plurality of pixels and a temperature sensor, and the temperature sensor is provided in one or more regions of a plurality of pixel arrangement regions partitioned in a matrix. formed.

本発明によれば、画素の温度を精度良く計測することが可能な反射型液晶表示装置を提
供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a reflective liquid crystal display device capable of accurately measuring the temperature of a pixel.

実施の形態1にかかる液晶表示装置を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a liquid crystal display device according to a first embodiment; FIG. 図1に示す液晶表示装置に設けられた画素の具体的構成を示す回路図である。2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a pixel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 1; FIG. 図2に示す画素に設けられた第1データ保持部を構成するインバータの具体的構成を示す回路図である。3 is a circuit diagram showing a specific configuration of an inverter forming a first data holding unit provided in the pixel shown in FIG. 2; FIG. 図2に示す画素の概略断面図である。3 is a schematic cross-sectional view of the pixel shown in FIG. 2; FIG. 図1に示す液晶表示装置の動作を示すタイミングチャートである。2 is a timing chart showing the operation of the liquid crystal display device shown in FIG. 1; 液晶の印加電圧(RMS電圧)と液晶のグレースケール値との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the voltage applied to the liquid crystal (RMS voltage) and the grayscale value of the liquid crystal; 図1に示す液晶表示装置に設けられたダミー画素の温度センサ部分の具体的構成を示す回路図である。2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a temperature sensor portion of a dummy pixel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す液晶表示装置に設けられたダミー画素の概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view of a dummy pixel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す液晶表示装置に設けられたダミー画素の温度センサ部分の概略平面図である。2 is a schematic plan view of a temperature sensor portion of a dummy pixel provided in the liquid crystal display device shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す液晶表示装置の画素配置領域に配置された複数の画素及びダミー画素のそれぞれに用いられている反射電極の概略平面図である。2 is a schematic plan view of a reflective electrode used for each of a plurality of pixels and dummy pixels arranged in a pixel arrangement region of the liquid crystal display device shown in FIG. 1; FIG. 実施の形態2にかかる液晶表示装置の画素配置領域に配置された複数の画素及びダミー画素のそれぞれに用いられている反射電極の概略平面図である。8 is a schematic plan view of reflective electrodes used for each of a plurality of pixels and dummy pixels arranged in a pixel arrangement region of the liquid crystal display device according to the second embodiment; FIG. 実施の形態3にかかる液晶表示装置の画素配置領域に配置された複数の画素及びダミー画素のそれぞれに用いられている反射電極の概略平面図である。FIG. 11 is a schematic plan view of a reflective electrode used for each of a plurality of pixels and dummy pixels arranged in a pixel arrangement region of a liquid crystal display device according to a third embodiment;

<実施の形態1>
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。
<Embodiment 1>
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、実施の形態1に係る反射型液晶表示装置10を示すブロック図である。
図1に示すように、反射型液晶表示装置10は、画像表示部11と、タイミングジェネ
レータ13と、垂直シフトレジスタ14と、データラッチ回路15と、水平ドライバ16
と、を備える。水平ドライバ16は、水平シフトレジスタ161と、ラッチ部162と、
レベルシフタ/画素ドライバ163と、により構成される。
FIG. 1 is a block diagram showing a reflective liquid crystal display device 10 according to Embodiment 1. As shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the reflective liquid crystal display device 10 includes an image display section 11, a timing generator 13, a vertical shift register 14, a data latch circuit 15, and a horizontal driver 16.
And prepare. The horizontal driver 16 includes a horizontal shift register 161, a latch section 162,
and a level shifter/pixel driver 163 .

画像表示部11は、行列状に区画された複数の画素配置領域のそれぞれに規則的に配置
された複数の画素12を有する。ここで、複数の画素配置領域のうちの一部(紙面の左下
)の領域には、画素12の代わりにダミー画素12dが配置されている。ダミー画素12
dは、ダミー液晶表示素子及び回路部によって構成され、その回路部において、画素12
の温度を検出するための温度センサS1が形成されている。温度センサS1により検出さ
れた画素12の温度に基づいて冷却用ファンの回転数を制御することにより、画素12の
温度が一定に保たれる。ダミー画素12dの詳細については、後述する。
The image display unit 11 has a plurality of pixels 12 regularly arranged in each of a plurality of pixel arrangement regions partitioned in a matrix. Here, dummy pixels 12d are arranged instead of the pixels 12 in a part of the plurality of pixel arrangement regions (bottom left of the paper surface). dummy pixel 12
d is composed of a dummy liquid crystal display element and a circuit section, in which the pixels 12
A temperature sensor S1 is formed for detecting the temperature of . The temperature of the pixel 12 is kept constant by controlling the rotation speed of the cooling fan based on the temperature of the pixel 12 detected by the temperature sensor S1. Details of the dummy pixel 12d will be described later.

複数の画素12は、垂直シフトレジスタ14に一端が接続されて行方向(X方向)に延
在するm本(mは2以上の自然数)の行走査線g1~gmと、レベルシフタ/画素ドライ
バ163に一端が接続されて列方向(Y方向)に延在するn本(nは2以上の自然数)の
列データ線d1~dnと、がそれぞれ交差する複数の交差部に二次元マトリクス状に配置
されている。画像表示部11内の全ての画素12は、一端がタイミングジェネレータ13
に接続されたトリガ線trig,trigbに共通接続されている。
The plurality of pixels 12 includes m (m is a natural number equal to or greater than 2) row scanning lines g1 to gm extending in the row direction (X direction) with one end connected to the vertical shift register 14, and a level shifter/pixel driver 163. are arranged in a two-dimensional matrix at a plurality of intersections where n (n is a natural number of 2 or more) column data lines d1 to dn extending in the column direction (Y direction) with one end connected to the It is All the pixels 12 in the image display section 11 have one end connected to the timing generator 13
are connected in common to trigger lines trig and trigb connected to .

なお、正転トリガパルス用トリガ線trigが伝送する正転トリガパルスTRIと、反
転トリガパルス用トリガ線trigbが伝送する反転トリガパルスTRIBとは、常に逆
論理値の関係(相補的な関係)にある。
The forward trigger pulse TRI transmitted by the forward trigger pulse trigger line trig and the reverse trigger pulse TRIB transmitted by the reverse trigger pulse trigger line trigb are always in the opposite logical value relationship (complementary relationship). be.

タイミングジェネレータ13は、上位装置20から出力された垂直同期信号Vst、水
平同期信号Hst、及び、基本クロックCLK等の外部信号を入力信号として受け取り、
これら外部信号に基づいて、交流化信号FR、VスタートパルスVST、Hスタートパル
スHST、クロック信号VCK,HCK、ラッチパルスLT、及び、トリガパルスTRI
,TRIB等の各種の内部信号を生成する。
The timing generator 13 receives external signals such as the vertical synchronizing signal Vst, the horizontal synchronizing signal Hst, and the basic clock CLK output from the host device 20 as input signals,
Based on these external signals, alternating signal FR, V start pulse VST, H start pulse HST, clock signals VCK, HCK, latch pulse LT, and trigger pulse TRI
, TRIB and the like are generated.

交流化信号FRは、1サブフレーム毎に極性反転する信号であり、画像表示部11を構
成する画素12内の液晶表示素子の共通電極に、後述する共通電極電圧Vcomとして供
給される。
The alternating signal FR is a signal whose polarity is inverted every subframe, and is supplied to the common electrode of the liquid crystal display elements in the pixels 12 forming the image display section 11 as a common electrode voltage Vcom, which will be described later.

スタートパルスVSTは、後述する各サブフレームの開始タイミングで出力されるパル
ス信号であり、このスタートパルスVSTによって、サブフレームの切替わりが制御され
る。
The start pulse VST is a pulse signal output at the start timing of each subframe, which will be described later, and the switching of the subframes is controlled by this start pulse VST.

スタートパルスHSTは、水平シフトレジスタ161の開始タイミングで当該水平シフ
トレジスタ161に対して出力されるパルス信号である。
The start pulse HST is a pulse signal output to the horizontal shift register 161 at the start timing of the horizontal shift register 161 .

クロック信号VCKは、垂直シフトレジスタ14における1水平走査期間(1H)を規
定するシフトクロックであり、クロック信号VCKのタイミングで垂直シフトレジスタ1
4がシフト動作を行う。
The clock signal VCK is a shift clock that defines one horizontal scanning period (1H) in the vertical shift register 14, and the vertical shift register 1 is activated at the timing of the clock signal VCK.
4 performs a shift operation.

クロック信号HCKは、水平シフトレジスタ161におけるシフトクロックであり、3
2ビット幅でデータをシフトさせるための信号である。
A clock signal HCK is a shift clock in the horizontal shift register 161,
This is a signal for shifting data by 2-bit width.

ラッチパルスLTは、水平シフトレジスタ161が水平方向の1行の画素数分のデータ
をシフトし終わったタイミングで出力されるパルス信号である。
The latch pulse LT is a pulse signal output at the timing when the horizontal shift register 161 has finished shifting data for the number of pixels in one row in the horizontal direction.

正転トリガパルスTRI及び反転トリガパルスTRIBは、それぞれトリガ線trig
,trigbを介して、画像表示部11内の全ての画素12に供給されるパルス信号であ
る。
The forward trigger pulse TRI and the reverse trigger pulse TRIB are respectively connected to the trigger line trig
, trigb are pulse signals supplied to all the pixels 12 in the image display unit 11 .

ここで、正転トリガパルスTRI及び反転トリガパルスTRIBは、あるサブフレーム
期間において、画像表示部11内の全ての画素12内の第1データ保持部にデータが書き
込まれた後にタイミングジェネレータ13から出力される。それにより、そのサブフレー
ム期間において、画像表示部11内の全ての画素12内の第1データ保持部に保持された
データが、それぞれ対応する画素12内の第2データ保持部に一斉に転送される。
Here, the forward trigger pulse TRI and the reverse trigger pulse TRIB are output from the timing generator 13 after data is written in the first data holding units in all the pixels 12 in the image display unit 11 in a certain subframe period. be done. As a result, the data held in the first data holding units in all the pixels 12 in the image display unit 11 are simultaneously transferred to the second data holding units in the corresponding pixels 12 in the subframe period. be.

垂直シフトレジスタ14は、各サブフレームの開始タイミングで供給されるVスタート
パルスVSTをクロック信号VCKに従って転送し、行走査信号を行走査線g1~gmに
対して1H単位で順次排他的に供給する。それにより、画像表示部11の最も上にある行
走査線g1から最も下にある行走査線gmにかけて、行走査線が1本ずつ1H単位で順次
選択されていく。
The vertical shift register 14 transfers the V start pulse VST supplied at the start timing of each subframe according to the clock signal VCK, and sequentially and exclusively supplies row scanning signals to the row scanning lines g1 to gm in units of 1H. . As a result, row scanning lines are sequentially selected one by one in units of 1H from the row scanning line g1 at the top of the image display section 11 to the row scanning line gm at the bottom.

データラッチ回路15は、図示しない外部回路から供給される1サブフレーム単位の3
2ビット幅のデータを、上位装置20からの基本クロックCLKに基づいてラッチした後
、基本クロックCLKに同期して水平シフトレジスタ161へ出力する。
The data latch circuit 15 receives 3 subframe units supplied from an external circuit (not shown).
After 2-bit width data is latched based on the basic clock CLK from the host device 20, it is output to the horizontal shift register 161 in synchronization with the basic clock CLK.

なお、反射型液晶表示装置10は、映像信号の1フレームを、その映像信号の1フレー
ム期間より短い表示期間を持つ複数のサブフレームに分割し、これらサブフレームの組み
合わせにて階調表示を行っている。そのため、上記の外部回路は、各画素の階調を示す階
調データを、複数のサブフレームに対応する複数の1ビットのサブフレームデータに変換
している。さらに、上記の外部回路は、同じサブフレームに属する32画素分のサブフレ
ームデータをまとめて32ビット幅のデータとしてデータラッチ回路15に供給している
Note that the reflective liquid crystal display device 10 divides one frame of a video signal into a plurality of sub-frames having display periods shorter than one frame period of the video signal, and performs gradation display by combining these sub-frames. ing. Therefore, the external circuit converts the grayscale data indicating the grayscale of each pixel into a plurality of 1-bit subframe data corresponding to a plurality of subframes. Furthermore, the above external circuit collectively supplies the subframe data for 32 pixels belonging to the same subframe to the data latch circuit 15 as 32-bit width data.

水平シフトレジスタ161は、1ビットシリアルデータの処理系としてみた場合、タイ
ミングジェネレータ13から1Hの初期に供給されるスタートパルスHSTによりシフト
を開始し、データラッチ回路15から供給される32ビット幅のデータをクロック信号H
CKに同期してシフトする。
When viewed as a 1-bit serial data processing system, the horizontal shift register 161 starts shifting with a start pulse HST supplied from the timing generator 13 at the beginning of 1H, and receives 32-bit width data supplied from the data latch circuit 15. to clock signal H
Shift in synchronization with CK.

ラッチ部162は、水平シフトレジスタ161が画像表示部11の1行分の画素数nと
同じnビット分のデータをシフトし終わると、タイミングジェネレータ13から供給され
るラッチパルスLTに同期して、水平シフトレジスタ161から並列に供給されるnビッ
ト分のデータ(即ち、n画素分のサブフレームデータ)をラッチし、レベルシフタ/画素
ドライバ163のレベルシフタへ出力する。なお、ラッチ部162のデータ転送が終了す
ると、タイミングジェネレータ13からスタートパルスHSTが再び出力され、水平シフ
トレジスタ161はクロック信号HCKに従ってデータラッチ回路15からの32ビット
幅のデータのシフトを再開する。
After the horizontal shift register 161 has finished shifting the data of n bits, which is the same as the number of pixels n for one row of the image display section 11, the latch section 162 synchronizes with the latch pulse LT supplied from the timing generator 13, The n-bit data (that is, n-pixel subframe data) supplied in parallel from the horizontal shift register 161 is latched and output to the level shifter of the level shifter/pixel driver 163 . When the data transfer of the latch section 162 is completed, the timing generator 13 outputs the start pulse HST again, and the horizontal shift register 161 resumes shifting the 32-bit width data from the data latch circuit 15 according to the clock signal HCK.

レベルシフタ/画素ドライバ163のレベルシフタは、ラッチ部162から転送された
1行のn画素に対応するn個のサブフレームデータの信号レベルを液晶駆動電圧振幅まで
レベルシフトする。レベルシフタ/画素ドライバ163の画素ドライバは、レベルシフト
後の1行のn画素に対応したn個のサブフレームデータをn本の列データ線d1~dnに
並列に出力する。
The level shifter of the level shifter/pixel driver 163 level-shifts the signal levels of the n subframe data corresponding to the n pixels in one row transferred from the latch unit 162 to the liquid crystal driving voltage amplitude. The pixel driver of the level shifter/pixel driver 163 outputs n subframe data corresponding to n pixels in one row after level shifting to n column data lines d1 to dn in parallel.

水平ドライバ16は、1水平走査期間において、データ書き込み対象として選択されて
いる行の画素に向けたサブフレームデータの出力と、次の1水平走査期間にデータ書き込
み対象として選択される行の画素のためのサブフレームデータのシフトと、を並行して行
っている。そして、ある水平走査期間において、1行のn画素に対応するn個のサブフレ
ームデータが、データ信号としてそれぞれn本の列データ線d1~dnに並列に、かつ、
一斉に出力される。
In one horizontal scanning period, the horizontal driver 16 outputs subframe data to the pixels in the row selected as the data write target, and outputs subframe data to the pixels in the row selected as the data write target in the next one horizontal scanning period. are performed in parallel with the shift of the subframe data for In a certain horizontal scanning period, n subframe data corresponding to n pixels in one row are transmitted in parallel to n column data lines d1 to dn as data signals, and
output simultaneously.

画像表示部11を構成する複数の画素12のうち、垂直シフトレジスタ14からの行走
査信号により選択された1行のn個の画素12は、レベルシフタ/画素ドライバ163か
ら一斉に出力された1行分のn個のサブフレームデータをn本の列データ線d1~dnを
介してサンプリングして各画素12内の後述する第1データ保持部に書き込む。
Among the plurality of pixels 12 forming the image display unit 11, n pixels 12 in one row selected by the row scanning signal from the vertical shift register 14 are output from the level shifter/pixel driver 163 all at once. n sub-frame data are sampled through n column data lines d1 to dn and written into a first data holding section in each pixel 12, which will be described later.

画素12の詳細については後述するが、画素12では、記憶部SM1に保持された入力
データの反転データが反射電極PEに印加される。つまり、画素12は、レベルシフタ/
画素ドライバ163から供給された入力データを反転する機能を有している。
Although the details of the pixel 12 will be described later, in the pixel 12, the inverted data of the input data held in the storage unit SM1 is applied to the reflective electrode PE. That is, pixel 12 is a level shifter/
It has a function of inverting the input data supplied from the pixel driver 163 .

(画素12の具体的構成)
続いて、画素12の具体的構成について説明する。
図2は、画素12の具体的構成を示す回路図である。
(Specific configuration of pixel 12)
Next, a specific configuration of the pixel 12 will be described.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of the pixel 12. As shown in FIG.

図2に示すように、画素12は、行走査線g1~gmの何れか(以下、行走査線gと称
す)と、列データ線d1~dnの何れか(以下、列データ線dと称す)と、が交差する交
差部分に設けられている。
As shown in FIG. 2, the pixels 12 are connected to any one of row scanning lines g1 to gm (hereinafter referred to as row scanning line g) and any one of column data lines d1 to dn (hereinafter referred to as column data line d). ) and are provided at the intersections.

画素12は、SRAMセル201と、DRAMセル202と、液晶表示素子LCと、を
備える。SRAMセル201は、第1スイッチであるスイッチSW1と、第1データ保持
部である記憶部SM1と、により構成されている。DRAMセル202は、第2スイッチ
であるスイッチSW2と、第2データ保持部である記憶部DM2と、により構成されてい
る。液晶表示素子LCは、離間対向配置された光反射特性を有する画素電極である反射電
極PEと、光透過性を有する共通電極CEとの間の空間に、液晶LCMが充填封入された
公知の構造である。
The pixel 12 includes an SRAM cell 201, a DRAM cell 202, and a liquid crystal display element LC. The SRAM cell 201 is composed of a switch SW1, which is a first switch, and a storage section SM1, which is a first data holding section. The DRAM cell 202 is composed of a switch SW2, which is a second switch, and a memory section DM2, which is a second data holding section. The liquid crystal display element LC has a known structure in which a liquid crystal LCM is filled in a space between a reflective electrode PE, which is a pixel electrode having a light-reflecting property, and a common electrode CE having a light-transmitting property and which are arranged to face each other with a space therebetween. is.

(SRAMセル201の構成)
スイッチSW1は、例えばNチャネルMOS型トランジスタ(以下、NMOSトランジ
スタという)MN1により構成されている。スイッチSW1を構成するNMOSトランジ
スタMN1では、ソースが記憶部SM1の入力端子(ノードa)に接続され、ドレインが
列データ線dに接続され、ゲートが行走査線gに接続されている。
(Configuration of SRAM cell 201)
The switch SW1 is composed of, for example, an N-channel MOS transistor (hereinafter referred to as an NMOS transistor) MN1. The NMOS transistor MN1 forming the switch SW1 has a source connected to the input terminal (node a) of the storage unit SM1, a drain connected to the column data line d, and a gate connected to the row scanning line g.

記憶部SM1は、一方の出力端子が他方の入力端子に接続された2つのインバータIN
V11,INV12からなる自己保持型メモリである。より具体的には、インバータIN
V11の入力端子は、インバータINV12の出力端子及びスイッチSW1を構成するN
MOSトランジスタMN1のソースに接続されている。インバータINV12の入力端子
は、スイッチSW2及びインバータINV11の出力端子に接続されている。
The storage unit SM1 includes two inverters IN, one output terminal of which is connected to the other input terminal.
It is a self-holding memory consisting of V11 and INV12. More specifically, the inverter IN
The input terminal of V11 is the output terminal of the inverter INV12 and the N
It is connected to the source of the MOS transistor MN1. The input terminal of the inverter INV12 is connected to the switch SW2 and the output terminal of the inverter INV11.

図3は、インバータINV11の具体的構成を示す回路図である。
図3に示すように、インバータINV11は、直列接続されたPチャネルMOS型トラ
ンジスタ(以下、PMOSトランジスタという)MP11及びNMOSトランジスタMN
11を有し、それぞれのゲートに供給された入力信号を反転してそれぞれのドレインから
出力する公知のCMOSインバータである。同じく、インバータINV12は、直列接続
されたPMOSトランジスタMP12及びNMOSトランジスタMN12を有し、それぞ
れのゲートに供給された入力信号を反転してそれぞれのドレインから出力する公知のCM
OSインバータである。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of the inverter INV11.
As shown in FIG. 3, the inverter INV11 includes a P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as a PMOS transistor) MP11 and an NMOS transistor MN connected in series.
11, and inverts the input signal supplied to each gate and outputs from each drain. Similarly, the inverter INV12 has a PMOS transistor MP12 and an NMOS transistor MN12 connected in series, and inverts the input signal supplied to each gate to output from each drain.
OS inverter.

ここで、インバータINV11,INV12の駆動能力は異なる。具体的には、記憶部
SM1を構成するインバータINV11,INV12のうち、スイッチSW1から見て入
力側となるインバータINV11内のトランジスタMP11,MN11の駆動能力は、ス
イッチSW1から見て出力側となるインバータINV12内のトランジスタMP12,M
N12の駆動能力よりも大きい。それにより、列データ線dからスイッチSW1を介して
記憶部SM1にデータが伝搬しやすくなり、一方で、スイッチSW2を介して記憶部DM
2から記憶部SM1にデータが伝搬しにくくなる。
Here, the drive capabilities of the inverters INV11 and INV12 are different. Specifically, among the inverters INV11 and INV12 forming the storage unit SM1, the driving capability of the transistors MP11 and MN11 in the inverter INV11 that is on the input side when viewed from the switch SW1 is the same as that of the inverter on the output side when viewed from the switch SW1. Transistor MP12,M in INV12
It is larger than the driving capacity of N12. This makes it easier for data to propagate from the column data line d to the memory unit SM1 via the switch SW1, while the data is transmitted to the memory unit DM via the switch SW2.
2 to the storage unit SM1.

さらに、スイッチSW1を構成するNMOSトランジスタMN1の駆動能力は、インバ
ータINV12を構成するNMOSトランジスタMN12の駆動能力よりも大きい。それ
により、例えば、列データ線d上でHレベルを示すデータを記憶部SM1に記憶させる場
合、列データ線dからスイッチSW1を介して記憶部SM1の入力端子(ノードa)に流
れる電流が、記憶部SM1の入力端子からNMOSトランジスタMN12を介して接地電
圧端子GNDに流れる電流よりも大きくなるため、データを正確に記憶部SM1に記憶さ
せることができる。
Furthermore, the drive capability of the NMOS transistor MN1 that configures the switch SW1 is greater than the drive capability of the NMOS transistor MN12 that configures the inverter INV12. As a result, for example, when data indicating H level on the column data line d is stored in the storage unit SM1, the current flowing from the column data line d to the input terminal (node a) of the storage unit SM1 through the switch SW1 is Since it is larger than the current flowing from the input terminal of the storage unit SM1 to the ground voltage terminal GND via the NMOS transistor MN12, the data can be accurately stored in the storage unit SM1.

(DRAMセル202の構成)
スイッチSW2は、並列接続されたNMOSトランジスタMN2及びPMOSトランジ
スタMP2からなる公知のトランスミッションゲートである。より具体的には、NMOS
トランジスタMN2及びPMOSトランジスタMP2では、それぞれのソースが記憶部S
M1の出力端子に共通接続され、それぞれのドレインが記憶部DM2の入力端子及び液晶
表示素子LCの反射電極PEに共通接続されている。そして、NMOSトランジスタMN
2のゲートは、正転トリガパルス用トリガ線trigに接続され、PMOSトランジスタ
MP2のゲートは、反転トリガパルス用トリガ線trigbに接続されている。
(Structure of DRAM cell 202)
Switch SW2 is a known transmission gate consisting of NMOS transistor MN2 and PMOS transistor MP2 connected in parallel. More specifically, NMOS
The sources of the transistor MN2 and the PMOS transistor MP2 are connected to the storage unit S
They are connected in common to the output terminal of M1, and their respective drains are connected in common to the input terminal of the memory section DM2 and the reflective electrode PE of the liquid crystal display element LC. And NMOS transistor MN
2 is connected to the forward trigger pulse trigger line trig, and the gate of the PMOS transistor MP2 is connected to the reverse trigger pulse trigger line trigb.

例えば、スイッチSW2は、トリガ線trigを介して供給される正転トリガパルスが
Hレベル(トリガ線trigbを介して供給される反転トリガパルスがLレベル)の場合
にオン状態となり、記憶部SM1から読み出されたデータを記憶部DM2及び反射電極P
Eへ転送する。また、スイッチSW2は、トリガ線trigを介して供給される正転トリ
ガパルスがLレベル(トリガ線trigbを介して供給される反転トリガパルスがHレベ
ル)の場合にオフ状態となり、記憶部SM1の記憶データの読み出しは行わない。
For example, the switch SW2 is turned on when the forward trigger pulse supplied through the trigger line trig is at H level (the inverted trigger pulse supplied through the trigger line trigb is at L level). The read data are stored in the storage section DM2 and the reflective electrode P
Transfer to E. Further, the switch SW2 is turned off when the forward trigger pulse supplied through the trigger line trig is at L level (the inverted trigger pulse supplied through the trigger line trigb is at H level). Reading of stored data is not performed.

スイッチSW2は、公知のトランスミッションゲートであるため、オン状態において接
地電圧GNDから電源電圧VDDまでの広範囲の電圧を転送することができる。より具体
的には、記憶部SM1からトランジスタMN2,MP2のソースに印加される電圧が接地
電圧GNDレベル(Lレベル)の場合、PMOSトランジスタMP2のソース・ドレイン
が導通しない代わりに、NMOSトランジスタMN2のソース・ドレインは低抵抗で導通
することができる。一方、記憶部SM1からトランジスタMN2,MP2のソースに印加
される電圧が電源電圧VDDレベル(Hレベル)の場合、NMOSトランジスタMN2の
ソース・ドレインが導通しない代わりに、PMOSトランジスタMP2のソース・ドレイ
ンは低抵抗で導通することができる。このように、スイッチSW2では、トランスミッシ
ョンゲートのソース・ドレインが低抵抗で導通することができるため、オン状態において
接地電圧GNDから電源電圧VDDまでの広範囲の電圧を転送することができる。
Since switch SW2 is a known transmission gate, it can transfer a wide range of voltages from ground voltage GND to power supply voltage VDD in the ON state. More specifically, when the voltage applied from the storage unit SM1 to the sources of the transistors MN2 and MP2 is at the ground voltage GND level (L level), the source/drain of the PMOS transistor MP2 does not conduct, but the NMOS transistor MN2 The source/drain can be made conductive with low resistance. On the other hand, when the voltage applied from the storage unit SM1 to the sources of the transistors MN2 and MP2 is at the power supply voltage VDD level (H level), the source/drain of the NMOS transistor MN2 does not become conductive, but the source/drain of the PMOS transistor MP2 becomes It can conduct with low resistance. Thus, in the switch SW2, since the source/drain of the transmission gate can be made conductive with low resistance, a wide range of voltages from the ground voltage GND to the power supply voltage VDD can be transferred in the ON state.

記憶部DM2は、容量C1により構成されている。容量C1には、例えば、配線間で容
量を形成するMIM(Metal Insulator Metal)容量、基板-ポリ
シリコン間で容量を形成するDiffusion容量、又は、2層ポリシリコン間で容量
を形成するPIP(Poly Insulator Poly)容量等を用いることがで
きる。
The storage unit DM2 is composed of a capacitor C1. The capacitor C1 is, for example, an MIM (Metal Insulator Metal) capacitor that forms a capacitor between wirings, a diffusion capacitor that forms a capacitor between a substrate and polysilicon, or a PIP (Poly-Si) capacitor that forms a capacitor between two layers of polysilicon. Insulator Poly) capacity or the like can be used.

スイッチSW2がオンすると、記憶部SM1に記憶されたデータが読み出され、スイッ
チSW2を介して、記憶部DM2内の容量C1及び反射電極PEへ転送される。それによ
り、記憶部DM2に記憶されたデータが書き換えられる。
When the switch SW2 is turned on, the data stored in the memory SM1 is read out and transferred to the capacitor C1 and the reflective electrode PE in the memory DM2 via the switch SW2. Thereby, the data stored in the storage unit DM2 is rewritten.

ここで、スイッチSW2がオンしている場合、容量C1に保持されたデータは記憶部S
M1を構成するインバータINV12の入力ゲートにも影響を与える。しかしながら、イ
ンバータINV11の駆動能力をインバータINV12の駆動能力より大きくしているた
め、インバータINV12が容量C1のデータの影響を受ける前に、インバータINV1
1が容量C1のデータを書き換えてしまう。したがって、容量C1の保持データによって
記憶部SM1のデータが意図せず書き換えられてしまうことはない。
Here, when the switch SW2 is on, the data held in the capacitor C1 is stored in the storage unit S
It also affects the input gate of the inverter INV12 forming M1. However, since the drive capability of the inverter INV11 is set to be greater than the drive capability of the inverter INV12, the inverter INV1 is set before the inverter INV12 is affected by the data of the capacitor C1.
1 overwrites the data in the capacitor C1. Therefore, the data held in the capacitor C1 does not unintentionally overwrite the data in the storage unit SM1.

このように、本実施の形態に係る反射型液晶表示装置10は、SRAMセル及びDRA
Mセルを1つずつ備えた画素12を用いることにより、SRAMセルを2つ備えた画素を
用いる場合よりも、画素を構成するトランジスタの数を少なくして、画素の小型化を実現
している。
As described above, the reflective liquid crystal display device 10 according to the present embodiment includes an SRAM cell and a DRA.
By using the pixel 12 having one M cell, the number of transistors constituting the pixel is reduced compared to the case of using a pixel having two SRAM cells, and the size of the pixel is reduced. .

本実施の形態では、スイッチSW2がPMOSトランジスタMP2及びNMOSトラン
ジスタMN2により構成される場合について説明したが、これに限られない。スイッチS
W2は、PMOSトランジスタMP2及びNMOSトランジスタMN2の何れか一つが設
けられた構成に適宜変更可能である。その場合、トリガ線trig,trigbの一方の
みが設けられることとなる。
Although the case where the switch SW2 is composed of the PMOS transistor MP2 and the NMOS transistor MN2 has been described in the present embodiment, the present invention is not limited to this. switch S
W2 can be appropriately changed to a configuration in which either one of the PMOS transistor MP2 and the NMOS transistor MN2 is provided. In that case, only one of the trigger lines trig and trigb is provided.

なお、反射型液晶表示装置10は、画素を構成するトランジスタの数を少なくすること
で画素の小型化を実現できるだけでなく、以下に説明するように記憶部SM1,DM2及
び反射電極PEを素子の高さ方向に有効に配置することによっても画素の小型化を実現す
ることができる。以下、図4を用いて、詳細に説明する。
Note that the reflective liquid crystal display device 10 can not only achieve miniaturization of the pixels by reducing the number of transistors forming the pixels, but also the storage units SM1 and DM2 and the reflective electrodes PE as described below. By effectively arranging the pixels in the height direction, it is also possible to reduce the size of the pixels. A detailed description will be given below with reference to FIG.

(画素12の断面構造)
図4は、画素12の要部を示す概略断面図である。また、図4では、容量C1が配線間
で容量を形成するMIMにより構成された場合を例に説明する。
(Cross-sectional structure of pixel 12)
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the essential parts of the pixel 12. As shown in FIG. In addition, in FIG. 4, a case where the capacitor C1 is configured by an MIM that forms a capacitor between wirings will be described as an example.

図4に示すように、シリコン基板100上にはNウエル101及びPウエル102が形
成されている。
As shown in FIG. 4, an N well 101 and a P well 102 are formed on a silicon substrate 100 .

Nウエル101上には、スイッチSW2のPMOSトランジスタMP2、及び、インバ
ータINV11のPMOSトランジスタMP11が形成されている。より具体的には、N
ウエル101上には、PMOSトランジスタMP2,MP11のそれぞれのソースとなる
共通拡散層、及び、ドレインとなる2つの拡散層が形成され、共通拡散層と2つの拡散層
との間のチャネル領域上には、PMOSトランジスタMP2,MP11のそれぞれのゲー
トとなるポリシリコンがゲート酸化膜を介して形成されている。
Formed on the N well 101 are a PMOS transistor MP2 of the switch SW2 and a PMOS transistor MP11 of the inverter INV11. More specifically, N
On the well 101, a common diffusion layer serving as sources and two diffusion layers serving as drains of the PMOS transistors MP2 and MP11 are formed. , polysilicon, which serves as the gates of the PMOS transistors MP2 and MP11, is formed through a gate oxide film.

Pウエル102上には、スイッチSW2のNMOSトランジスタMN2、及び、インバ
ータINV11のNMOSトランジスタMN11が形成されている。より具体的には、P
ウエル102上には、NMOSトランジスタMN2,MN11のそれぞれのソースとなる
共通拡散層、及び、ドレインとなる2つの拡散層が形成され、共通拡散層と2つの拡散層
との間のチャネル領域上には、NMOSトランジスタMN2,MN11のそれぞれのゲー
トとなるポリシリコンがゲート酸化膜を介して形成されている。
On the P-well 102, an NMOS transistor MN2 of the switch SW2 and an NMOS transistor MN11 of the inverter INV11 are formed. More specifically, P
On the well 102, a common diffusion layer serving as sources and two diffusion layers serving as drains of the NMOS transistors MN2 and MN11 are formed. , polysilicon, which serves as the gates of the NMOS transistors MN2 and MN11, is formed through a gate oxide film.

なお、Nウエル上の活性領域(拡散層及びチャネル領域)と、Pウエル上の活性領域と
、の間には、素子分離酸化膜103が形成されている。
An element isolation oxide film 103 is formed between the active region (diffusion layer and channel region) on the N-well and the active region on the P-well.

トランジスタMP2,MP11,MN2,MN11の上方には、層間絶縁膜105をメ
タル間に介在させて第1メタル106、第2メタル108、第3メタル110、MIM電
極112、第4メタル114、及び、第5メタル116が積層されている。
A first metal 106, a second metal 108, a third metal 110, an MIM electrode 112, a fourth metal 114 and a A fifth metal 116 is laminated.

第5メタル116は、画素毎に形成される反射電極PEを構成している。 The fifth metal 116 constitutes a reflective electrode PE formed for each pixel.

トランジスタMN2,MP2の各ドレインを構成する各拡散層は、コンタクト118、
第1メタル106、スルーホール119a、第2メタル108、スルーホール119b、
第3メタル110、スルーホール119c、第4メタル114、及び、スルーホール11
9eを介して、第5メタル116に電気的に接続されている。さらに、トランジスタMN
2,MP2の各ドレインを構成する各拡散層は、コンタクト118、第1メタル106、
スルーホール119a、第2メタル108、スルーホール119b、第3メタル110、
スルーホール119c、第4メタル114、及び、スルーホール119dを介してMIM
電極112に電気的に接続されている。即ち、スイッチSW2を構成するトランジスタM
N2,MP2の各ソースは、反射電極PE及びMIM電極112に電気的に接続されてい
る。
Diffusion layers forming the drains of the transistors MN2 and MP2 are connected to contacts 118,
First metal 106, through hole 119a, second metal 108, through hole 119b,
Third metal 110, through hole 119c, fourth metal 114, and through hole 11
It is electrically connected to the fifth metal 116 via 9e. Furthermore, the transistor MN
2 and MP2, the diffusion layers forming the drains of the contacts 118, the first metal 106,
Through hole 119a, second metal 108, through hole 119b, third metal 110,
MIM through the through hole 119c, the fourth metal 114, and the through hole 119d
It is electrically connected to electrode 112 . That is, the transistor M
Each source of N2 and MP2 is electrically connected to the reflective electrode PE and MIM electrode 112 .

反射電極PE(第5メタル116)は、その上面に形成された保護膜であるパッシベー
ション膜(PSV)117を介して、透明電極である共通電極CEに離間対向配置されて
いる。反射電極PEと共通電極CEとの間には、液晶LCMが充填封止されている。反射
電極PE、共通電極CE、及び、それらの間の液晶LCMによって液晶表示素子LCが構
成される。
The reflective electrode PE (fifth metal 116) is spaced and opposed to the common electrode CE, which is a transparent electrode, via a passivation film (PSV) 117, which is a protective film formed on its upper surface. A liquid crystal LCM is filled and sealed between the reflective electrode PE and the common electrode CE. A liquid crystal display element LC is composed of the reflective electrode PE, the common electrode CE, and the liquid crystal LCM therebetween.

ここで、MIM電極112は、第3メタル110上に層間絶縁膜105を介して形成さ
れている。このMIM電極112、第3メタル110、及び、それらの間の層間絶縁膜1
05によって容量C1が構成される。そのため、スイッチSW1,SW2及び記憶部SM
1が、第1,2層配線である第1メタル106及び第2メタル108と、トランジスタと
、を用いて形成されるのに対し、記憶部DM2は、それらの上層である第3メタル110
及びMIM電極112を用いて形成されることとなる。つまり、スイッチSW1,SW2
及び記憶部SM1と、記憶部DM2とは、それぞれ異なる層にて形成されることとなる。
Here, the MIM electrode 112 is formed on the third metal 110 with the interlayer insulating film 105 interposed therebetween. The MIM electrode 112, the third metal 110, and the interlayer insulating film 1 therebetween
05 constitutes a capacitor C1. Therefore, the switches SW1 and SW2 and the storage unit SM
1 is formed using a first metal 106 and a second metal 108, which are first and second layer wirings, and a transistor, while the memory part DM2 is formed using a third metal 110, which is an upper layer thereof.
and the MIM electrode 112 are used. That is, the switches SW1, SW2
Also, the memory section SM1 and the memory section DM2 are formed in different layers.

図示しない光源からの光は、共通電極CE及び液晶LCMを透過して反射電極PE(第
5メタル116)に入射して反射され、元の入射経路を逆進して共通電極CEを通して出
射される。
Light from a light source (not shown) passes through the common electrode CE and the liquid crystal LCM, is incident on the reflective electrode PE (fifth metal 116), is reflected, travels backward along the original incident path, and is emitted through the common electrode CE. .

このように、反射型液晶表示装置10は、第5層配線である第5メタル116を反射電
極PEとして用い、第3層配線である第3メタル110を記憶部DM2の一部として用い
、第1,2層配線である第1メタル106及び第2メタル108とトランジスタとを記憶
部SM1等として用いることで、記憶部SM1、記憶部DM2及び反射電極PEを高さ方
向に有効に配置することが可能になるため、画素をさらに小型化することができる。それ
により、例えば、3μm以下のピッチの画素を電源電圧3.3Vのトランジスタで構成で
きる。この3μm以下のピッチの画素を用いることで、対角の長さ0.55インチの横方
向4000画素、縦方向2000画素の液晶表示パネルを実現できる。
As described above, the reflective liquid crystal display device 10 uses the fifth metal 116, which is the fifth layer wiring, as the reflective electrode PE, uses the third metal 110, which is the third layer wiring, as part of the memory section DM2, By using the first metal 106 and the second metal 108, which are first and second layer wiring, and the transistors as the memory part SM1 and the like, the memory part SM1, the memory part DM2, and the reflective electrode PE can be effectively arranged in the height direction. can be made, the pixel can be further miniaturized. As a result, for example, pixels with a pitch of 3 μm or less can be configured with transistors having a power supply voltage of 3.3V. By using pixels with a pitch of 3 μm or less, a liquid crystal display panel having a diagonal length of 0.55 inches and 4000 pixels in the horizontal direction and 2000 pixels in the vertical direction can be realized.

(反射型液晶表示装置10の動作)
次に、図5を用いて、反射型液晶表示装置10の動作について説明する。
図5は、反射型液晶表示装置10の動作を示すタイミングチャートである。
(Operation of reflective liquid crystal display device 10)
Next, the operation of the reflective liquid crystal display device 10 will be described with reference to FIG.
FIG. 5 is a timing chart showing the operation of the reflective liquid crystal display device 10. FIG.

前述したように、反射型液晶表示装置10では、垂直シフトレジスタ14からの行走査
信号により、行走査線g1~gmが1本ずつ1H単位で順次選択されていくため、画像表
示部11を構成する複数の画素12には、選択された行走査線に共通に接続された1行の
n個の画素単位でデータが書き込まれる。そして、画像表示部11を構成する複数の画素
12の全てにデータが書き込まれると、その後、トリガパルスTRI,TRIBに基づき
、全ての画素12のデータが一斉に読み出される(より具体的には、全ての画素12内の
記憶部SM1のデータが一斉に記憶部DM2及び反射電極PEに転送される)。
As described above, in the reflective liquid crystal display device 10, the row scanning lines g1 to gm are sequentially selected one by one in 1H units by the row scanning signal from the vertical shift register 14, so that the image display section 11 is configured. Data is written into the plurality of pixels 12 in units of n pixels in one row commonly connected to the selected row scanning line. After data is written in all of the plurality of pixels 12 forming the image display section 11, the data of all the pixels 12 are read out simultaneously based on the trigger pulses TRI and TRIB (more specifically, The data in the storage section SM1 in all the pixels 12 are transferred to the storage section DM2 and the reflective electrode PE all at once).

図5の(A)は、各画素12に記憶されるサブフレームデータの変化を示している。な
お、縦軸が行番号を表し、横軸が時間を表している。図5の(A)に示すように、サブフ
レームデータの境界線は右下がりとなっている。これは、行番号の大きな画素ほどサブフ
レームデータが遅れて書き込まれることを表している。この境界線の一端から他端までの
期間がサブフレームデータの書き込み期間に相当する。なお、B0b,B1b,B2bは
、それぞれビットB0,B1,B2のサブフレームデータの反転データを示している。
FIG. 5A shows changes in subframe data stored in each pixel 12. FIG. The vertical axis represents line numbers, and the horizontal axis represents time. As shown in FIG. 5A, the boundary line of the subframe data slopes downward to the right. This means that subframe data is written later for pixels with larger row numbers. The period from one end to the other end of this boundary line corresponds to the write period of the subframe data. B0b, B1b, and B2b indicate inverted data of the subframe data of bits B0, B1, and B2, respectively.

図5の(B)は、トリガパルスTRIの出力タイミング(立ち上がりタイミング)を示
している。なお、トリガパルスTRIBは、常にトリガパルスTRIを論理反転した値を
示すため、省略されている。図5の(C)は、反射電極PEに印加されるサブフレームデ
ータのビットを模式的に示している。図5の(D)は、共通電極電圧Vcomの値の変化
を示している。図5の(E)は、液晶LCMに印加される電圧の変化を示している。
FIG. 5B shows the output timing (rising timing) of the trigger pulse TRI. Note that the trigger pulse TRIB is omitted because it always indicates a value obtained by logically inverting the trigger pulse TRI. FIG. 5C schematically shows bits of subframe data applied to the reflective electrode PE. (D) of FIG. 5 shows changes in the value of the common electrode voltage Vcom. (E) of FIG. 5 shows changes in the voltage applied to the liquid crystal LCM.

まず、行走査信号により選択された画素12では、スイッチSW1がオンするため、水
平ドライバ16から列データ線dに出力されたビットB0の正転サブフレームデータが、
スイッチSW1によりサンプリングされて記憶部SM1に書き込まれる。同様にして、画
像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビットB0の正転サブフ
レームデータが書き込まれる。その後、画像表示部11を構成する全ての画素12に対し
てHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給
される(時刻T1)。
First, in the pixel 12 selected by the row scanning signal, the switch SW1 is turned on, so that the normal subframe data of bit B0 output from the horizontal driver 16 to the column data line d is
The data is sampled by the switch SW1 and written to the storage unit SM1. Similarly, the non-inverted subframe data of bit B0 is written in the memory SM1 of all the pixels 12 forming the image display section 11 . After that, the H-level trigger pulse TRI (and the L-level trigger pulse TRIB) are simultaneously supplied to all the pixels 12 forming the image display section 11 (time T1).

これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶さ
れているビットB0の正転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に
一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB0の正転サブフレームデータが反射電極
PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビ
ットB0の正転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB0の正転サブ
フレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T1
)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T2)の1サブフレーム期間である。
As a result, the switches SW2 of all the pixels 12 are turned on, so that the non-inverted subframe data of bit B0 stored in the storage unit SM1 are transferred all at once to the storage unit DM2 through the switch SW2 and held therein. The normal subframe data of B0 is applied to the reflective electrode PE. Here, as can be seen from FIG. 5C, the period during which the non-inverting subframe data of bit B0 is held by the memory section DM2 (the period in which the non-inverting subframe data of bit B0 is applied to the reflective electrode PE). after the trigger pulse TRI becomes H level (time T1
), and then it is one subframe period until it becomes H level again (time T2).

ここで、サブフレームデータのビット値が「1」、すなわちHレベルのときには反射電
極PEには電源電圧VDD(ここでは3.3V)が印加され、ビット値が「0」、すなわ
ちLレベルのときには反射電極PEには接地電圧GND(0V)が印加される。一方、共
通電極CEには、接地電圧GND及び電源電圧VDDに制限されることなく、自由な電圧
が共通電極電圧Vcomとして印加できるようになっており、Hレベルの正転トリガパル
スTRIの入力に同期して共通電極電圧Vcomが所定電圧に切り替わるように制御され
る。本例では、共通電極電圧Vcomは、ビットB0の正転サブフレームデータが反射電
極PEに印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、0Vよりも液晶の閾
値電圧Vttだけ低い電圧に設定される。
Here, when the bit value of the subframe data is "1", ie, H level, the power supply voltage VDD (here, 3.3 V) is applied to the reflective electrode PE, and when the bit value is "0", ie, L level, A ground voltage GND (0 V) is applied to the reflective electrode PE. On the other hand, to the common electrode CE, a free voltage can be applied as the common electrode voltage Vcom without being restricted by the ground voltage GND and the power supply voltage VDD. Control is performed so that the common electrode voltage Vcom is synchronously switched to a predetermined voltage. In this example, the common electrode voltage Vcom is higher than 0 V by the liquid crystal threshold voltage Vtt as shown in FIG. Set to low voltage.

液晶表示素子LCは、反射電極PEの印加電圧と共通電極電圧Vcomとの差電圧の絶
対値である液晶LCMの印加電圧に応じた階調表示を行う。したがって、ビットB0の正
転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T1~T2)
では、液晶LCMの印加電圧は、図5(E)に示すように、サブフレームデータのビット
値が「1」のときは3.3V+Vtt(=3.3V-(-Vtt))となり、サブフレー
ムデータのビット値が「0」のときは+Vtt(=0V-(-Vtt))となる。
The liquid crystal display element LC performs gradation display according to the voltage applied to the liquid crystal LCM, which is the absolute value of the voltage difference between the voltage applied to the reflective electrode PE and the common electrode voltage Vcom. Therefore, the subframe period (time T1 to T2) during which the normal subframe data of bit B0 is applied to the reflective electrode PE
Then, as shown in FIG. 5E, the voltage applied to the liquid crystal LCM is 3.3V+Vtt (=3.3V-(-Vtt)) when the bit value of the subframe data is "1". When the bit value of the data is "0", it becomes +Vtt (=0V-(-Vtt)).

図6は、液晶の印加電圧(RMS電圧)と液晶のグレースケール値との関係を示す。
図6を参照すると、グレースケール値曲線は、黒のグレースケール値が液晶の閾値電圧
VttのRMS電圧に対応し、かつ、白のグレースケール値が液晶の飽和電圧Vsat(
=3.3V+Vtt)のRMS電圧に対応するようにシフトされる。グレースケール値を
液晶応答曲線の有効部分に一致させることが可能である。したがって、液晶表示素子LC
は上記のように液晶LCMの印加電圧が(3.3V+Vtt)のときは白を表示し、+V
ttのときは黒を表示する。
FIG. 6 shows the relationship between the voltage applied to the liquid crystal (RMS voltage) and the grayscale value of the liquid crystal.
Referring to FIG. 6, the grayscale value curve shows that the black grayscale value corresponds to the RMS voltage of the liquid crystal threshold voltage Vtt, and the white grayscale value corresponds to the liquid crystal saturation voltage Vsat (
=3.3V+Vtt). It is possible to match the grayscale values to the useful part of the liquid crystal response curve. Therefore, the liquid crystal display element LC
displays white when the voltage applied to the liquid crystal LCM is (3.3V+Vtt) as described above, and +V
When tt, black is displayed.

図5に戻り、液晶表示素子LCがビットB0の正転サブフレームデータを表示している
サブフレーム期間(時刻T1~T2)において、画像表示部11を構成する全ての画素1
2の記憶部SM1に対するビットB0の反転サブフレームデータの書き込みが順次開始さ
れる。そして、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビット
B0の反転サブフレームデータが書き込まれると、その後、画像表示部11を構成する全
ての画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTR
IB)が同時に供給される(時刻T2)。
Returning to FIG. 5, during the subframe period (time T1 to T2) in which the liquid crystal display element LC displays the normal subframe data of bit B0, all the pixels 1 forming the image display section 11
Writing of the inverted subframe data of the bit B0 to the storage unit SM1 of No. 2 is sequentially started. Then, when the inverted subframe data of bit B0 is written to the memory SM1 of all the pixels 12 forming the image display section 11, all the pixels 12 forming the image display section 11 are set at H level. Trigger pulse TRI (and L level trigger pulse TR
IB) are supplied at the same time (time T2).

これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶さ
れているビットB0の反転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に
一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB0の反転サブフレームデータが反射電極
PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビ
ットB0の反転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB0の反転サブ
フレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T2
)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T3)の1サブフレーム期間である。ここで、ビ
ットB0の反転サブフレームデータはビットB0の正転サブフレームデータと常に逆論理
値の関係にあるため、ビットB0の正転サブフレームデータが「1」のときは「0」、ビ
ットB0の正転サブフレームデータが「0」のときは「1」である。
As a result, the switches SW2 of all the pixels 12 are turned on, so that the inverted subframe data of the bit B0 stored in the storage unit SM1 are transferred all at once to the storage unit DM2 through the switch SW2 and held therein. is applied to the reflective electrode PE. Here, as can be seen from FIG. 5C, the period during which the memory section DM2 holds the inverted subframe data of the bit B0 (the period during which the inverted subframe data of the bit B0 is applied to the reflective electrode PE) is After the trigger pulse TRI becomes H level (time T2
), and then it is one subframe period until it becomes H level again (time T3). Here, since the inverted subframe data of bit B0 and the normal subframe data of bit B0 always have a relationship of opposite logical values, when the normal subframe data of bit B0 is "1", it is "0". It is "1" when the normal subframe data of B0 is "0".

一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB0の反転サブフレームデータが反射電極PE
に印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、3.3Vよりも液晶の閾値
電圧Vttだけ高い電圧に設定される。したがって、ビットB0の反転サブフレームデー
タが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T2~T3)では、液晶LCMの
印加電圧は、サブフレームデータのビット値が「1」のときは-Vtt(=3.3V-(
3.3V+Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは-3.3
V-Vtt(=0V-(3.3V+Vtt))となる。
On the other hand, the common electrode voltage Vcom is such that the inverted subframe data of bit B0 is the reflective electrode PE.
is set to a voltage higher than 3.3 V by the threshold voltage Vtt of the liquid crystal, as shown in FIG. 5(D). Therefore, in the subframe period (time T2 to T3) in which the inverted subframe data of bit B0 is applied to the reflective electrode PE, the voltage applied to the liquid crystal LCM is -Vtt when the bit value of the subframe data is "1". (=3.3V-(
3.3V+Vtt)), and -3.3 when the bit value of the subframe data is "0".
V−Vtt (=0V−(3.3V+Vtt)).

例えば、ビットB0の正転サブフレームデータのビット値が「1」であった場合には続
いて印加されるビットB0の反転サブフレームデータのビット値は「0」となる。このと
き、液晶LCMの印加電圧は、-(3.3V+Vtt)となり、ビットB0の正転サブフ
レームデータが印加されたときと比較して、電位の方向が逆になるが絶対値が同じになる
。そのため、画素12は、ビットB0の反転サブフレームデータが印加されたときも、ビ
ットB0の正転フレームデータが印加されたときと同様に、白を表示する。また、ビット
B0の正転サブフレームデータのビット値が「0」であった場合には続いて印加されるビ
ットB0の反転サブフレームデータのビット値は「1」となる。このとき、液晶LCMの
印加電圧は、-Vttとなり、ビットB0の正転サブフレームデータが印加されたときと
比較して、電位の方向が逆になるが絶対値が同じになる。そのため、画素12は、ビット
B0の反転サブフレームデータが印加されたときも、ビットB0の正転フレームデータが
印加されたときと同様に、黒を表示する。
For example, when the bit value of the normal subframe data of bit B0 is "1", the bit value of the inverted subframe data of bit B0 to be applied subsequently becomes "0". At this time, the voltage applied to the liquid crystal LCM becomes −(3.3V+Vtt), and the direction of the potential is reversed compared to when the normal subframe data of bit B0 is applied, but the absolute value is the same. . Therefore, the pixel 12 displays white even when the inverted subframe data of bit B0 is applied, similarly to when the non-inverted frame data of bit B0 is applied. When the bit value of the normal subframe data of bit B0 is "0", the bit value of the inverted subframe data of bit B0 to be applied subsequently becomes "1". At this time, the voltage applied to the liquid crystal LCM becomes -Vtt, and the direction of the potential is reversed, but the absolute value is the same as when the normal subframe data of bit B0 is applied. Therefore, the pixel 12 displays black when the inverted subframe data of bit B0 is applied as well as when the non-inverted frame data of bit B0 is applied.

したがって、画素12は、図5の(E)に示すように、時刻T1~T3の2サブフレー
ム期間中、ビットB0とビットB0の相補ビットB0bとで同じ階調を表示するとともに
、液晶LCMの電位方向がサブフレーム毎に反転する交流駆動を行うため、液晶LCMの
焼き付きを防止することができる。
Therefore, as shown in (E) of FIG. 5, the pixel 12 displays the same gradation for the bit B0 and the complementary bit B0b of the bit B0 during the two subframe periods from time T1 to T3. Since AC driving is performed in which the potential direction is reversed for each subframe, burn-in of the liquid crystal LCM can be prevented.

続いて、液晶表示素子LCがビットB0の反転サブフレームデータを表示しているサブ
フレーム期間(時刻T2~T3)において、全ての画素12の記憶部SM1に対するビッ
トB1の正転サブフレームデータの書き込みが順次開始される。そして、画像表示部11
の全画素12の記憶部SM1に対してビットB1の正転サブフレームデータが書き込まれ
ると、その後、画像表示部11を構成するすべての画素12に対してHレベルのトリガパ
ルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給される(時刻T3)。
Subsequently, during the subframe period (time T2 to T3) during which the liquid crystal display element LC displays the inverted subframe data of bit B0, the non-inverted subframe data of bit B1 is written to the storage unit SM1 of all the pixels 12. are started sequentially. And the image display unit 11
When the forward subframe data of bit B1 is written to the storage unit SM1 of all the pixels 12 of the image display unit 11, the H level trigger pulse TRI (and the L level trigger pulse TRIB) is supplied at the same time (time T3).

これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶さ
れているビットB1の正転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に
一斉に転送されて保持されるととともに、ビットB1の正転サブフレームデータが反射電
極PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2による
ビットB1の正転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB1の正転サ
ブフレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T
3)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T4)の1サブフレーム期間である。
As a result, the switches SW2 of all the pixels 12 are turned on, so that the non-inverted subframe data of the bit B1 stored in the memory SM1 are simultaneously transferred to the memory DM2 through the switches SW2 and held therein. The normal subframe data of bit B1 is applied to the reflective electrode PE. Here, as can be seen from (C) of FIG. 5, the period during which the non-inverted subframe data of bit B1 is held by the memory section DM2 (the period in which the non-inverted subframe data of bit B1 is applied to the reflective electrode PE). after the trigger pulse TRI becomes H level (time T
3), it is one subframe period until it becomes H level again (time T4).

一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB1の正転サブフレームデータが反射電極PE
に印加されるサブフレーム期間は、図5(D)に示すように、0Vよりも液晶の閾値電圧
Vttだけ低い電圧に設定される。したがって、ビットB1の正転サブフレームデータが
反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T3~T4)では、液晶LCMの印加
電圧は、図5(E)に示すように、サブフレームデータのビット値が「1」のときは3.
3V+Vtt(=3.3V-(-Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「
0」のときは+Vtt(=0V-(-Vtt))となる。
On the other hand, the common electrode voltage Vcom is such that the non-inverted subframe data of bit B1 is the reflective electrode PE.
is set to a voltage lower than 0 V by the liquid crystal threshold voltage Vtt, as shown in FIG. 5(D). Therefore, in the subframe period (time T3 to T4) in which the normal subframe data of bit B1 is applied to the reflective electrode PE, the voltage applied to the liquid crystal LCM is as shown in FIG. If the bit value is "1",3.
3V+Vtt (=3.3V-(-Vtt)), and the bit value of the subframe data becomes "
0”, +Vtt (=0V-(-Vtt)).

続いて、液晶表示素子LCがビットB1の正転サブフレームデータを表示しているサブ
フレーム期間(時刻T3~T4)において、画像表示部11を構成する全ての画素12の
記憶部SM1に対するビットB1の反転サブフレームデータの書き込みが順次開始される
。そして、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビットB1
の反転サブフレームデータが書き込まれると、その後、画像表示部11を構成する全ての
画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB
)が同時に供給される(時刻T4)。
Subsequently, during the subframe period (time T3 to T4) in which the liquid crystal display element LC displays the normal subframe data of bit B1, the bit B1 for the storage unit SM1 of all the pixels 12 constituting the image display unit 11 is displayed. , the writing of the inverted subframe data is started sequentially. Then, the bit B1 is stored in the memory SM1 of all the pixels 12 forming the image display unit 11.
is written, thereafter, an H level trigger pulse TRI (and an L level trigger pulse TRIB
) are supplied at the same time (time T4).

これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶さ
れているビットB1の反転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に
一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB1の反転サブフレームデータが反射電極
PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビ
ットB1の反転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB1の反転サブ
フレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T4
)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T5)の1サブフレーム期間である。ここで、ビ
ットB1の反転サブフレームデータはビットB1の正転サブフレームデータと常に逆論理
値の関係にある。
As a result, the switches SW2 of all the pixels 12 are turned on, so that the inverted subframe data of the bit B1 stored in the memory SM1 are transferred all at once to the memory DM2 through the switch SW2 and held therein. is applied to the reflective electrode PE. Here, as can be seen from FIG. 5C, the period during which the memory section DM2 holds the inverted subframe data of the bit B1 (the period during which the inverted subframe data of the bit B1 is applied to the reflective electrode PE) is After the trigger pulse TRI becomes H level (time T4
), and then it is one subframe period until it becomes H level again (time T5). Here, the inverted subframe data of bit B1 always has a relationship of opposite logical values with the normal inverted subframe data of bit B1.

一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB1の反転サブフレームデータが反射電極PE
に印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、3.3Vよりも液晶の閾値
電圧Vttだけ高い電圧に設定される。したがって、ビットB1の反転サブフレームデー
タが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T4~T5)では、液晶LCMの
印加電圧は、サブフレームデータのビット値が「1」のときは-Vtt(=3.3V-(
3.3V+Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは-3.3
V-Vtt(=0V-(3.3V+Vtt))となる。
On the other hand, the common electrode voltage Vcom is such that the inverted subframe data of bit B1 is the reflective electrode PE.
is set to a voltage higher than 3.3 V by the threshold voltage Vtt of the liquid crystal, as shown in FIG. 5(D). Therefore, in the subframe period (time T4 to T5) in which the inverted subframe data of bit B1 is applied to the reflective electrode PE, the voltage applied to the liquid crystal LCM is -Vtt when the bit value of the subframe data is "1". (=3.3V-(
3.3V+Vtt)), and -3.3 when the bit value of the subframe data is "0".
V−Vtt (=0V−(3.3V+Vtt)).

これにより、画素12は、図5の(E)に示すように、時刻T3~T5の2サブフレー
ム期間中、ビットB1とビットB1の相補ビットB1bとで同じ階調を表示するとともに
、液晶LCMの電位方向がサブフレーム毎に反転する交流駆動を行うため、液晶LCMの
焼き付きを防止することができる。ビットB2以降についても同様の動作が繰り返される
As a result, as shown in FIG. 5(E), the pixel 12 displays the same gradation for the bit B1 and the complementary bit B1b of the bit B1 during the two subframe periods from time T3 to T5, and the liquid crystal LCM Since AC driving is performed in which the potential direction of is reversed for each subframe, burn-in of the liquid crystal LCM can be prevented. The same operation is repeated for bit B2 and after.

このようにして、反射型液晶表示装置10は、複数のサブフレームの組み合わせにて階
調表示を行っている。
Thus, the reflective liquid crystal display device 10 performs gradation display by combining a plurality of subframes.

なお、ビットB0と相補ビットB0bの各表示期間は同じ第1のサブフレーム期間であ
り、また、ビットB1と相補ビットB1bの各表示期間も同じ第2のサブフレーム期間で
あるが、第1のサブフレーム期間と第2のサブフレーム期間とは同一であるとは限らない
。ここでは、一例として第2のサブフレーム期間は第1のサブフレーム期間の2倍に設定
されている。また、図5(E)に示すように、ビットB2と相補ビットB2bの各表示期
間である第3のサブフレーム期間は、第2のサブフレーム期間の2倍に設定されている。
他のサブフレーム期間についても同様のことが言える。システムの仕様等に応じて、各サ
ブフレーム期間の長さ、及び、サブフレーム数を任意に設定することができる。
The display periods of the bit B0 and the complementary bit B0b are the same first subframe period, and the display periods of the bit B1 and the complementary bit B1b are also the same second subframe period. The subframe period and the second subframe period are not always the same. Here, as an example, the second subframe period is set to be twice as long as the first subframe period. Further, as shown in FIG. 5(E), the third subframe period, which is the display period of the bit B2 and the complementary bit B2b, is set twice as long as the second subframe period.
The same can be said for other subframe periods. The length of each subframe period and the number of subframes can be arbitrarily set according to system specifications and the like.

(ダミー画素12d及びそれに設けられた温度センサS1の詳細な説明)
続いて、ダミー画素12d及びそれに設けられた温度センサS1の詳細について説明す
る。上記のように、ダミー画素12dは、ダミー液晶表示素子及び回路部によって構成さ
れ、その回路部において、画素12の温度を検出するための温度センサS1が形成されて
いる。
(Detailed description of dummy pixel 12d and temperature sensor S1 provided therein)
Next, details of the dummy pixel 12d and the temperature sensor S1 provided therein will be described. As described above, the dummy pixel 12d is composed of a dummy liquid crystal display element and a circuit portion, and the temperature sensor S1 for detecting the temperature of the pixel 12 is formed in the circuit portion.

ダミー画素12d(換言すると、温度センサS1)は、平面視して矩形状に設けられた
複数の画素配置領域のうちの一部の領域に、画素12の代わりに配置(形成)されている
。図1の例では、ダミー画素12d(換言すると、温度センサS1)は、平面視して矩形
状に設けられた複数の画素配置領域のうち、角部に位置する一つの領域(紙面の左下の角
部の領域)に、画素12の代わりに配置されている。
The dummy pixels 12d (in other words, the temperature sensors S1) are arranged (formed) instead of the pixels 12 in a partial area of a plurality of rectangular pixel arrangement areas in plan view. In the example of FIG. 1, the dummy pixel 12d (in other words, the temperature sensor S1) is located in one of the plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in a plan view (lower left corner of the paper). corner regions) instead of the pixels 12 .

図7は、温度センサS1の具体的構成を示す回路図である。
図7に示すように、温度センサS1は、例えば、PNP型バイポーラトランジスタのベ
ース電極及びコレクタ電極間を短絡することによって構成されたPN接合ダイオードであ
る。例えば、上位装置20は、PN接合ダイオードのアノード及びカソード(PNP型バ
イポーラトランジスタのエミッタ-コレクタ)間に定電流を流し、そのときの両電極間の
電位差を計測することにより、画素12の温度を算出することができる。ここで、温度セ
ンサS1は、画素12に隣接して設けられているため、画素12の温度を精度良く、かつ
、リアルタイムに検出することができる。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a specific configuration of the temperature sensor S1.
As shown in FIG. 7, the temperature sensor S1 is, for example, a PN junction diode configured by shorting the base and collector electrodes of a PNP bipolar transistor. For example, the host device 20 flows a constant current between the anode and cathode of a PN junction diode (emitter-collector of a PNP bipolar transistor), and measures the potential difference between the two electrodes at that time to measure the temperature of the pixel 12. can be calculated. Here, since the temperature sensor S1 is provided adjacent to the pixel 12, the temperature of the pixel 12 can be detected accurately and in real time.

(ダミー画素12dの断面構造)
図8は、ダミー画素12dの要部を示す概略断面図である。
図8に示すダミー画素12dは、図4に示す画素12と比較して、第1メタル106以
下の下層において異なる構造を有し、それ以外では、基本的には同一構造となっている。
(Cross-sectional structure of dummy pixel 12d)
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a main part of the dummy pixel 12d.
A dummy pixel 12d shown in FIG. 8 has a different structure from the pixel 12 shown in FIG.

温度センサS1は、第1メタル106以下の下層において形成されている。
まず、温度センサS1に用いられるPNP型バイポーラトランジスタは、Nウエル10
1、Pウエル102、及び、拡散電極P1,N1,P2によって形成されている。具体的
には、Nウエル101上に形成されたP型拡散電極P1及びN型拡散電極N1は、それぞ
れエミッタ電極(P1)及びベース電極(N1)として用いられ、Pウエル102上に形
成されたP型拡散電極P2は、コレクタ電極(P2)として用いられる。ここで、エミッ
タ電極P1とベース電極N1とは、Nウエル101を介してPN接合され、コレクタ電極
P2とベース電極N1とは、Pウエル102及びNウエル101を介してPN接合されて
いる。係る構成により、PNP型バイポーラトランジスタが形成される。また、ベース電
極N1及びコレクタ電極P2間は、コンタクト118及び第1メタル106を介して短絡
される。係る構成により、PN接合ダイオード、即ち、温度センサS1が形成される。P
N接合ダイオードのアノード及びカソード(エミッタ電極P1及びコレクタ電極P2)は
、何れもコンタクト118、第1メタル101、ボンディングワイヤ(不図示)等を介し
て、外部の上位装置(不図示)20に接続される。
The temperature sensor S1 is formed in a layer below the first metal 106 .
First, the PNP type bipolar transistor used for the temperature sensor S1 is an N well 10
1, a P-well 102, and diffusion electrodes P1, N1, P2. Specifically, a P-type diffusion electrode P1 and an N-type diffusion electrode N1 formed on the N-well 101 are used as an emitter electrode (P1) and a base electrode (N1), respectively, and formed on the P-well 102. The P-type diffusion electrode P2 is used as a collector electrode (P2). Here, the emitter electrode P1 and the base electrode N1 are PN-junctioned through the N-well 101, and the collector electrode P2 and the base electrode N1 are PN-junctioned through the P-well 102 and the N-well 101. FIG. With such a configuration, a PNP bipolar transistor is formed. Also, the base electrode N1 and the collector electrode P2 are short-circuited via the contact 118 and the first metal 106. FIG. With such a configuration, a PN junction diode, that is, a temperature sensor S1 is formed. P.
The anode and cathode (emitter electrode P1 and collector electrode P2) of the N-junction diode are both connected to an external host device (not shown) 20 via contacts 118, first metal 101, bonding wires (not shown), etc. be done.

(温度センサS1の平面構造)
図9は、温度センサS1に用いられるPNP型バイポーラトランジスタの各電極の概略
平面図である。
(Planar structure of temperature sensor S1)
FIG. 9 is a schematic plan view of each electrode of the PNP-type bipolar transistor used for the temperature sensor S1.

図9に示すように、温度センサS1に用いられるPNP型バイポーラトランジスタの各
電極は、1つの画素配置領域内に形成されている。具体的には、エミッタ電極として用い
られるP型拡散電極P1と、ベース電極として用いられるN型拡散電極N1と、コレクタ
電極として用いられるN型拡散電極P2とが、1つの画素配置領域内に形成されている。
なお、このPNP型バイポーラトランジスタのベース電極N1及びコレクタ電極間を、第
1メタル106等を介して短絡することにより、PN接合ダイオードが構成される。PN
接合ダイオードのアノード及びカソード(エミッタ電極P1及びコレクタ電極P2)は、
何れもコンタクト118、第1メタル106、ボンディングワイヤ(不図示)等を介して
、上位装置(不図示)20に接続されている。
As shown in FIG. 9, each electrode of the PNP bipolar transistor used for the temperature sensor S1 is formed within one pixel arrangement region. Specifically, a P-type diffusion electrode P1 used as an emitter electrode, an N-type diffusion electrode N1 used as a base electrode, and an N-type diffusion electrode P2 used as a collector electrode are formed in one pixel arrangement region. It is
A PN junction diode is formed by short-circuiting the base electrode N1 and the collector electrode of this PNP bipolar transistor via the first metal 106 or the like. PN
The anode and cathode (emitter electrode P1 and collector electrode P2) of the junction diode are
Both are connected to a host device (not shown) 20 via contacts 118, first metal 106, bonding wires (not shown), and the like.

なお、温度センサS1から上位装置20に向けてチップのパッドまで延びる2本の配線
は、互いに隣接した状態で並行に配線されることが好ましい。それにより、ノイズが発生
した場合でも、2本の配線のそれぞれに同程度の大きさのノイズが発生するため、2本の
配線間の電位差の測定時にそれらのノイズはキャンセルされる。その結果、温度センサS
1を用いた本構成は、より精度良く画素12の温度を計測することができる。
It is preferable that the two wires extending from the temperature sensor S1 to the pad of the chip toward the host device 20 are wired in parallel while being adjacent to each other. As a result, even if noise occurs, noise of the same magnitude occurs in each of the two wirings, so the noise is canceled when the potential difference between the two wirings is measured. As a result, the temperature sensor S
1 can measure the temperature of the pixel 12 with higher accuracy.

図9の例では、温度センサS1がダイオード接続されたPNP型バイポーラトランジス
タである場合について説明したが、これに限られない。温度センサS1は、ダイオード接
続されたNPN型バイポーラトランジスタであってもよいし、一般的なダイオードであっ
てもよい。
In the example of FIG. 9, the case where the temperature sensor S1 is a diode-connected PNP bipolar transistor has been described, but the present invention is not limited to this. The temperature sensor S1 may be a diode-connected NPN bipolar transistor or a general diode.

ダミー画素12dの第2メタル以上の上層のパターン形状は、基本的には画素12のパ
ターン形状と同様である。そのため、基板上部から入射される光のうち、反射電極PE(
第5メタル116)の間隙から基板内に侵入する光の量は、画素12と同程度となる。そ
れにより、ダミー画素12d内に設けられた温度センサS1は、画素内部に入射される光
の量も画素12と同じ環境にして温度検出することができるため、画素12の温度をより
正確に検出することが可能となる。つまり、本構成は、ヒートシンク上に貼り付けられた
温度センサを用いて温度計測した場合と比較して、より精度良く画素12の温度を計測す
ることができる。
The pattern shape of the second metal and above of the dummy pixel 12 d is basically the same as the pattern shape of the pixel 12 . Therefore, of the light incident from above the substrate, the reflective electrode PE (
The amount of light that penetrates into the substrate through the gaps of the fifth metal 116) is about the same as that of the pixels 12. FIG. As a result, the temperature sensor S1 provided in the dummy pixel 12d can detect the temperature of the pixel 12 in the same environment as the amount of light incident on the inside of the pixel, so the temperature of the pixel 12 can be detected more accurately. It becomes possible to That is, with this configuration, the temperature of the pixel 12 can be measured with higher accuracy than when the temperature is measured using the temperature sensor attached on the heat sink.

なお、絵柄の違いによって表示パターンが変化すると、図1に示すタイミングジェネレ
ータ13、垂直シフトレジスタ14、水平ドライバ16等の各回路ブロックの動作内容が
表示パターンに応じて変化するため、各回路ブロックの消費電流も表示パターンに応じて
変化する。ここで、消費電流が増大した回路ブロックでは、IRドロップが発生し、電源
電圧が降下したり、接地電圧が持ち上がったりする可能性がある。このIRドロップの発
生箇所は表示パターンに応じて変化するため、電源電圧及び接地電圧が変動する箇所も表
示パターンに応じて変化してしまう。したがって、複数の画素により構成されるパネルを
取り囲む領域の空きスペースに温度センサを取り付けた場合、そのIRドロップの影響を
受けてしまい、精度良くかつリアルタイムに画素12の温度を計測することができない。
When the display pattern changes due to the difference in picture pattern, the operation contents of each circuit block such as the timing generator 13, the vertical shift register 14, and the horizontal driver 16 shown in FIG. 1 change according to the display pattern. The current consumption also changes according to the display pattern. Here, in a circuit block with increased current consumption, there is a possibility that an IR drop will occur, causing the power supply voltage to drop or the ground voltage to rise. Since the location where the IR drop occurs changes according to the display pattern, the location where the power supply voltage and the ground voltage fluctuate also changes according to the display pattern. Therefore, when a temperature sensor is attached to an empty space in an area surrounding a panel composed of a plurality of pixels, it will be affected by the IR drop, and the temperature of the pixels 12 cannot be measured accurately and in real time.

それに対し、本実施の形態の反射型液晶表示装置は、画素配置領域内に温度センサS1
を配置することにより、画素12を駆動するための周辺回路の影響を受けることなく、画
素12と同じ環境で温度検出することができるため、精度良くかつリアルタイムに画素1
2の温度を計測することができる。
On the other hand, the reflective liquid crystal display device of this embodiment has the temperature sensor S1 in the pixel arrangement region.
By arranging the
2 temperature can be measured.

(ダミー液晶表示素子LCdの断面構造)
図8に戻り、説明を続ける。ダミー画素12dの回路部の上層には、画素12の場合と
同様に、反射電極PE、PSV117、液晶LCM、及び、共通電極CEが順に形成され
、それらにより、ダミー液晶表示素子LCdが構成されている。ここで、ダミー液晶表示
素子LCdの反射電極PEは、ダミー画素12dと隣接する画素12に設けられた液晶表
示素子LCの反射電極PEに接続されている。以下、具体的に説明する。
(Cross-sectional structure of dummy liquid crystal display element LCd)
Returning to FIG. 8, the description is continued. In the upper layer of the circuit portion of the dummy pixel 12d, similarly to the case of the pixel 12, the reflective electrode PE, the PSV 117, the liquid crystal LCM, and the common electrode CE are formed in this order, and these constitute the dummy liquid crystal display element LCd. there is Here, the reflective electrode PE of the dummy liquid crystal display element LCd is connected to the reflective electrode PE of the liquid crystal display element LC provided in the pixel 12 adjacent to the dummy pixel 12d. A specific description will be given below.

(画素12及びダミー画素12dの平面構造)
図10は、複数の画素12及びダミー画素12dのそれぞれに用いられている反射電極
PEの一部を示す概略平面図である。
(Planar structure of pixel 12 and dummy pixel 12d)
FIG. 10 is a schematic plan view showing part of the reflective electrode PE used for each of the plurality of pixels 12 and dummy pixels 12d.

図10の例では、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、角部に位
置する領域に、ダミー画素12dが配置され、それ以外の複数の領域に、複数の画素12
が配置されている。また、複数の画素配置領域の周辺領域には額縁電極が配置されている
。なお、額縁電極には、複数の画素12及びダミー画素12dのそれぞれの共通電極CE
と共に、交流化信号FRが共通電極電圧Vcomとして供給される。それにより、額縁電
極と共通電極CEとの間の電位差が0Vとなるため、額縁電極には黒が表示される。
In the example of FIG. 10, among a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view, dummy pixels 12d are arranged in regions located at corners, and a plurality of pixels are arranged in a plurality of regions other than the corner regions. 12
are placed. Further, frame electrodes are arranged in peripheral regions of the plurality of pixel arrangement regions. Note that the common electrode CE of each of the plurality of pixels 12 and the dummy pixels 12d is used as the frame electrode.
At the same time, the alternating signal FR is supplied as the common electrode voltage Vcom. As a result, the potential difference between the frame electrode and the common electrode CE becomes 0 V, so black is displayed on the frame electrode.

ここで、ダミー画素12dに設けられたダミー液晶表示素子LCdの反射電極PEは、
ダミー画素12dと隣接する画素12(紙面上、ダミー画素12dの一つ上の画素12)
に設けられた液晶表示素子LCの反射電極PEに接続されている。なお、ダミー画素12
dの反射電極PEと、それより下層の回路部との間は、コンタクトやスルーホールのパタ
ーンを調整することで電気的に分離されている。そのため、ダミー画素12dの反射電極
PEと、隣接する画素12の反射電極PEと、には、同電圧が印加されるようになってい
る。
Here, the reflective electrode PE of the dummy liquid crystal display element LCd provided in the dummy pixel 12d is
Pixel 12 adjacent to dummy pixel 12d (pixel 12 one above dummy pixel 12d on the paper surface)
is connected to the reflective electrode PE of the liquid crystal display element LC provided in the . Note that dummy pixels 12
The reflective electrode PE of d and the circuit section below it are electrically isolated by adjusting the patterns of contacts and through holes. Therefore, the same voltage is applied to the reflective electrode PE of the dummy pixel 12 d and the reflective electrode PE of the adjacent pixel 12 .

それにより、ダミー画素12dには、当該ダミー画素12dに接続された隣接画素12
の絵柄(画像)と同じ絵柄が表示されることになる。しかしながら、例えば4K×2K解
像度のパネルの場合、角部の一つのダミー画素12dのみ隣接画素12の絵柄と同じ絵柄
が表示されるにすぎないため、それによる画面全体の画像の乱れは無視できる程度に小さ
い。また、全画面黒表示、又は、全画面白表示を行ったとしても、1画素のみ光る輝点や
黒点になることもない。さらに、この場合、不良として認識されるのは1ラインおき横線
の場合であるが、ダミー画素12dは、画面の角部の1画素のみであるため、ほとんど認
識されることはない。
As a result, adjacent pixels 12 connected to the dummy pixel 12d are connected to the dummy pixel 12d.
The same pattern (image) as the pattern (image) of is displayed. However, in the case of, for example, a 4K×2K resolution panel, only one dummy pixel 12d at the corner displays the same pattern as that of the adjacent pixel 12, so that the image disturbance of the entire screen is negligible. to small. Moreover, even if a full-screen black display or a full-screen white display is performed, a bright spot or a black spot where only one pixel shines does not occur. Furthermore, in this case, it is the case of every other horizontal line that is recognized as defective, but the dummy pixel 12d is only one pixel in the corner of the screen, so it is hardly recognized as defective.

なお、ダミー画素12dとそれに接続される隣接画素12とは、反射電極間を直接ショ
ートさせる場合に限られず、下層のメタル、スルーホール、コンタクトなどを介してショ
ートさせてもよい。この場合、ダミー画素12dの反射電極PEの形状を、画素12の反
射電極PEの形状と同じにすることができるため、ダミー画素12dと画素12とで開口
率を同じにすることができる。
Note that the dummy pixel 12d and the adjacent pixel 12 connected thereto are not limited to direct short-circuiting between the reflective electrodes, and may be short-circuited via an underlying metal, through hole, contact, or the like. In this case, the shape of the reflective electrode PE of the dummy pixel 12d can be made the same as the shape of the reflective electrode PE of the pixel 12, so that the dummy pixel 12d and the pixel 12 can have the same aperture ratio.

また、ダミー画素12dが画面の角部に配置されているため、温度センサS1から上位
装置20に向けてチップのパッドまで延びる2本の配線の引き回しが容易である。
In addition, since the dummy pixels 12d are arranged at the corners of the screen, it is easy to route two wires extending from the temperature sensor S1 to the pads of the chip toward the host device 20. FIG.

本実施の形態では、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、角部に
位置する領域にダミー画素12dが配置された場合を例に説明したが、これに限られない
。ダミー画素12dは、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、外周
辺に沿って設けられた領域の何れかに配置されてもよい。この場合、温度センサS1から
上位装置20に向けてチップのパッドまで延びる2本の配線の引き回しが容易である。あ
るいは、ダミー画素12dは、温度センサS1による温度検出精度を向上させるため、平
面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、内部領域の何れかに配置されて
もよい。
In the present embodiment, the case where the dummy pixels 12d are arranged in the regions located at the corners of the plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view has been described as an example, but the present invention is not limited to this. do not have. The dummy pixels 12d may be arranged in any one of the regions provided along the outer periphery of a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view. In this case, it is easy to route two wirings extending from the temperature sensor S1 to the pads of the chip toward the host device 20 . Alternatively, the dummy pixels 12d may be arranged in any one of the internal regions among a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view in order to improve the accuracy of temperature detection by the temperature sensor S1.

また、本実施の形態では、複数の画素配置領域のうちの一つの領域にダミー画素12d
が配置された場合を例に説明したが、これに限られない。ダミー画素12dは、複数の画
素配置領域のうちの複数の領域に配置されてもよい。それにより、温度センサS1の面積
を大きくすることができるため、温度センサS1による温度検出精度を向上させることが
できる。以下、実施の形態2において詳細に説明する。
Further, in the present embodiment, the dummy pixels 12d are arranged in one of the plurality of pixel arrangement regions.
is arranged, but the present invention is not limited to this. The dummy pixels 12d may be arranged in a plurality of regions among the plurality of pixel arrangement regions. As a result, the area of the temperature sensor S1 can be increased, so that the accuracy of temperature detection by the temperature sensor S1 can be improved. The second embodiment will be described in detail below.

<実施の形態2>
図11は、実施の形態2にかかる液晶表示装置における、複数の画素12及びダミー画
素12dのそれぞれに用いられている反射電極PEの一部を示す概略平面図である。
<Embodiment 2>
FIG. 11 is a schematic plan view showing part of the reflective electrode PE used for each of the plurality of pixels 12 and dummy pixels 12d in the liquid crystal display device according to the second embodiment.

図11の例では、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、互いに隣
接する2×2(合計4個分)の画素配置領域のそれぞれに4個のダミー画素12dが配置
され、それ以外の複数の領域に、複数の画素12が配置されている。
In the example of FIG. 11, four dummy pixels 12d are provided in each of 2×2 (a total of four) pixel arrangement regions adjacent to each other among a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view. A plurality of pixels 12 are arranged in a plurality of other regions.

なお、温度センサS1は、4個のダミー画素12dのそれぞれに形成された4個のPN
P型バイポーラトランジスタを並列接続することにより構成されてもよいし、4個のダミ
ー画素12dの回路部に拡大形成された1個のPNP型バイポーラトランジスタにより構
成されてもよい。複数のダミー画素12dが配置される場合、1つのダミー画素12dが
配置される場合よりも高い自由度で温度センサS1用のPN接合ダイオードを形成するこ
とが可能となる。複数のダミー画素12dを配置して、複数の温度センサS1を並列接続
したり、1つの大きな温度センサS1を配置したりすることにより、測定温度の精度を向
上させることが可能となる。
Note that the temperature sensor S1 includes four PN sensors formed in each of the four dummy pixels 12d.
It may be configured by connecting P-type bipolar transistors in parallel, or may be configured by one PNP-type bipolar transistor enlarged and formed in the circuit portion of the four dummy pixels 12d. When a plurality of dummy pixels 12d are arranged, it is possible to form the PN junction diode for the temperature sensor S1 with a higher degree of freedom than when one dummy pixel 12d is arranged. By arranging a plurality of dummy pixels 12d, connecting a plurality of temperature sensors S1 in parallel, or by arranging one large temperature sensor S1, it is possible to improve the accuracy of the measured temperature.

また、複数の画素配置領域の周辺領域には額縁電極が配置されている。なお、額縁電極
には、複数の画素12及び4個のダミー画素12dのそれぞれの共通電極CEと共に、交
流化信号FRが共通電極電圧Vcomとして供給される。それにより、額縁電極と共通電
極CEとの間の電位差が0Vとなるため、額縁電極には黒が表示される。
Further, frame electrodes are arranged in peripheral regions of the plurality of pixel arrangement regions. The frame electrode is supplied with the alternating signal FR as a common electrode voltage Vcom together with the common electrode CE of each of the plurality of pixels 12 and the four dummy pixels 12d. As a result, the potential difference between the frame electrode and the common electrode CE becomes 0 V, so black is displayed on the frame electrode.

ここで、2×2の画素配置領域のそれぞれに配置された合計4個のダミー画素12dの
反射電極PEは、それぞれ、隣接する4個の画素12の反射電極PEに接続されている。
なお、ダミー画素12dの反射電極PEと、それより下層の回路部との間は、コンタクト
やスルーホールのパターンを調整することで電気的に分離されている。そのため、ダミー
画素12dの反射電極PEと、隣接する画素12の反射電極PEと、には、同電圧が印加
されるようになっている。
Here, the reflective electrodes PE of a total of four dummy pixels 12d arranged in each of the 2×2 pixel arrangement regions are connected to the reflective electrodes PE of four adjacent pixels 12, respectively.
The reflective electrode PE of the dummy pixel 12d and the underlying circuit section are electrically isolated by adjusting the patterns of contacts and through holes. Therefore, the same voltage is applied to the reflective electrode PE of the dummy pixel 12 d and the reflective electrode PE of the adjacent pixel 12 .

それにより、4個のダミー画素12dには、それらに接続された4個の隣接画素12の
絵柄と同じ絵柄(画像)が表示されることになる。しかしながら、例えば4K×2K解像
度のパネルの場合、4個のダミー画素12dのみ隣接画素12の絵柄と同じ絵柄が表示さ
れるにすぎないため、それによる画面全体の画像の乱れは無視できる程度に小さい。また
、全画面黒表示、又は、全画面白表示を行ったとしても、4画素のみ光る輝点や黒点にな
ることもない。
As a result, the same pattern (image) as that of the four adjacent pixels 12 connected thereto is displayed on the four dummy pixels 12d. However, in the case of, for example, a 4K×2K resolution panel, only the four dummy pixels 12d display the same pattern as that of the adjacent pixels 12, so that the image disturbance of the entire screen is negligibly small. . Further, even if an all-screen black display or an all-screen white display is performed, there will be no luminescent spots or black spots where only four pixels are illuminated.

また、図11の例では、4個のダミー画素12dの反射電極PEは、共通の隣接画素1
2の反射電極PEに接続されるのではなく、それぞれ異なる隣接画素12の反射電極PE
に接続されている。それにより、4個のダミー画素12dには、それぞれ異なる隣接画素
12の絵柄(画像)が表示されるため、画面全体の画像の乱れをより分かりにくくするこ
とができる。
Further, in the example of FIG. 11, the reflective electrodes PE of the four dummy pixels 12d are connected to the common adjacent pixel 1
2 reflective electrodes PE of different adjacent pixels 12, respectively.
It is connected to the. As a result, different patterns (images) of the adjacent pixels 12 are displayed on the four dummy pixels 12d, so that it is possible to make the disturbance of the image on the entire screen less noticeable.

なお、ダミー画素12dとそれに接続される隣接画素12とは、反射電極間を直接ショ
ートさせる場合に限られず、下層のメタル、スルーホール、コンタクトなどを介してショ
ートさせてもよい。この場合、ダミー画素12dの反射電極PEの形状を、画素12の反
射電極PEの形状と同じにすることができるため、ダミー画素12dと画素12とで開口
率を同じにすることができる。
Note that the dummy pixel 12d and the adjacent pixel 12 connected thereto are not limited to direct short-circuiting between the reflective electrodes, and may be short-circuited via an underlying metal, through hole, contact, or the like. In this case, the shape of the reflective electrode PE of the dummy pixel 12d can be made the same as the shape of the reflective electrode PE of the pixel 12, so that the dummy pixel 12d and the pixel 12 can have the same aperture ratio.

本実施の形態では、互いに隣接する2×2の合計4個のダミー画素12dが配置された
場合について説明したが、これに限られない。許容される範囲内で任意の数のダミー画素
12dが配置されてよい。また、複数のダミー画素12dは、互いに隣接している必要も
ない。
In the present embodiment, a case where a total of four dummy pixels 12d of 2×2 are arranged adjacent to each other has been described, but the present invention is not limited to this. Any number of dummy pixels 12d may be arranged within a permissible range. Also, the plurality of dummy pixels 12d need not be adjacent to each other.

<実施の形態3>
図12は、実施の形態3にかかる液晶表示装置における、複数の画素12及びダミー画
素12dのそれぞれに用いられている反射電極PEの一部を示す概略平面図である。
<Embodiment 3>
FIG. 12 is a schematic plan view showing part of the reflective electrode PE used for each of the plurality of pixels 12 and dummy pixels 12d in the liquid crystal display device according to the third embodiment.

図12の例では、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、外周辺の
一辺に沿って配置された複数の領域のそれぞれに複数のダミー画素12dが配置され、そ
れ以外の複数の領域に、複数の画素12が配置されている。
In the example of FIG. 12, among a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view, a plurality of dummy pixels 12d are arranged in each of a plurality of regions arranged along one side of the outer periphery. A plurality of pixels 12 are arranged in a plurality of regions other than the region.

なお、温度センサS1は、複数のダミー画素12dのそれぞれに形成された複数のPN
P型バイポーラトランジスタを並列接続することにより構成されてもよいし、複数のダミ
ー画素12dの回路部に拡大形成された1個のPNP型バイポーラトランジスタにより構
成されてもよい。複数のダミー画素12dが配置される場合、1つのダミー画素12dが
配置される場合よりも高い自由度で温度センサS1用のPN接合ダイオードを形成するこ
とが可能となる。複数のダミー画素12dを配置して、複数の温度センサS1を並列接続
したり、1つの大きな温度センサS1を配置したりすることにより、測定温度の精度を向
上させることが可能となる。
Note that the temperature sensor S1 includes a plurality of PNs formed in each of the plurality of dummy pixels 12d.
It may be configured by connecting P-type bipolar transistors in parallel, or may be configured by one PNP-type bipolar transistor enlarged and formed in the circuit portion of the plurality of dummy pixels 12d. When a plurality of dummy pixels 12d are arranged, it is possible to form the PN junction diode for the temperature sensor S1 with a higher degree of freedom than when one dummy pixel 12d is arranged. By arranging a plurality of dummy pixels 12d, connecting a plurality of temperature sensors S1 in parallel, or by arranging one large temperature sensor S1, it is possible to improve the accuracy of the measured temperature.

また、複数の画素配置領域の周辺領域には額縁電極が配置されている。なお、額縁電極
には、複数の画素12及び複数のダミー画素12dのそれぞれの共通電極CEと共に、交
流化信号FRが共通電極電圧Vcomとして供給される。それにより、額縁電極と共通電
極CEとの間の電位差が0Vとなるため、額縁電極には黒が表示される。
Further, frame electrodes are arranged in peripheral regions of the plurality of pixel arrangement regions. The frame electrode is supplied with the alternating signal FR as a common electrode voltage Vcom together with the common electrode CE of each of the plurality of pixels 12 and the plurality of dummy pixels 12d. As a result, the potential difference between the frame electrode and the common electrode CE becomes 0 V, so black is displayed on the frame electrode.

ここで、全体画面の外周辺の一辺に沿って配置された複数のダミー画素12dの反射電
極PEは、何れも額縁電極に接続されている。なお、ダミー画素12dの反射電極PEと
、それより下層の回路部との間は、コンタクトやスルーホールのパターンを調整すること
で電気的に分離されている。そのため、ダミー画素12dの反射電極PE及び額縁電極に
は、同電圧が印加されるようになっている。
Here, the reflective electrodes PE of the plurality of dummy pixels 12d arranged along one side of the outer periphery of the entire screen are all connected to the frame electrode. The reflective electrode PE of the dummy pixel 12d and the underlying circuit section are electrically isolated by adjusting the patterns of contacts and through holes. Therefore, the same voltage is applied to the reflective electrode PE and the frame electrode of the dummy pixel 12d.

それにより、全体画面の外周辺の一辺に沿って配置された複数のダミー画素12dには
、ダミーの絵柄(画像)が表示される代わりに、額縁電極と同じ黒が表示されることにな
る。しかしながら、これら複数のダミー画素12dによって表示される黒は、額縁電極に
よって表示される黒と連続しているため、画面全体の画像のうち画素一列分の画像が表示
されなくなるにすぎず、同じ絵柄が表示される等の画像の乱れはない。
As a result, a plurality of dummy pixels 12d arranged along one side of the outer periphery of the entire screen display black, which is the same as the frame electrode, instead of displaying a dummy pattern (image). However, since the black displayed by the plurality of dummy pixels 12d is continuous with the black displayed by the frame electrode, only one column of the image of the entire screen is not displayed, and the same pattern is displayed. There is no image disturbance such as is displayed.

なお、ダミー画素12dの反射電極PEと、それに接続される額縁電極とは、直接ショ
ートさせる場合に限られず、下層のメタル、スルーホール、コンタクトなどを介してショ
ートさせてもよい。この場合、ダミー画素12dの反射電極PEの形状を、画素12の反
射電極PEの形状と同じにすることができるため、ダミー画素12dと画素12とで開口
率を同じにすることができる。
Note that the reflective electrode PE of the dummy pixel 12d and the frame electrode connected thereto are not limited to being directly short-circuited, and may be short-circuited via an underlying metal, through hole, contact, or the like. In this case, the shape of the reflective electrode PE of the dummy pixel 12d can be made the same as the shape of the reflective electrode PE of the pixel 12, so that the dummy pixel 12d and the pixel 12 can have the same aperture ratio.

本実施の形態では、平面視して矩形状に設けられた複数の画素配置領域のうち、外周辺
の一辺に沿って一列分の複数のダミー画素12dが配置された場合について説明したが、
これに限られない。許容される範囲内で任意の列分の複数のダミー画素12dが配置され
てもよい。また、外周辺の一辺に限られず、2辺以上のそれぞれに沿って複数のダミー画
素12dが配置されてもよい。
In the present embodiment, a case has been described in which a plurality of dummy pixels 12d for one row are arranged along one side of the outer periphery in a plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view.
It is not limited to this. A plurality of dummy pixels 12d for arbitrary columns may be arranged within a permissible range. Also, the plurality of dummy pixels 12d may be arranged along each of two or more sides, not limited to one side of the outer periphery.

以上のように、上記実施の形態1~3にかかる反射型液晶表示装置は、複数の画素配置
領域のうちの一部に、温度センサS1を有するダミー画素12dを配置することにより、
精度良くかつリアルタイムに画素12の温度を計測することができる。また、上記実施の
形態1~3にかかる反射型液晶表示装置は、ダミー画素12dの回路部を用いて温度セン
サを形成することができ、温度センサを個別に用意して設置する必要が無いため、温度セ
ンサの材料費や設置コストを削減することができる。
As described above, in the reflective liquid crystal display devices according to the first to third embodiments, by arranging the dummy pixels 12d having the temperature sensors S1 in part of the plurality of pixel arrangement regions,
The temperature of the pixel 12 can be measured accurately and in real time. Further, in the reflective liquid crystal display devices according to the first to third embodiments, the temperature sensor can be formed using the circuit portion of the dummy pixel 12d, and there is no need to separately prepare and install the temperature sensor. , the material cost and installation cost of the temperature sensor can be reduced.

なお、ダミー画素12dの反射電極PEと、画素12の反射電極PE又は額縁電極と、
の接続手段は、上記した内容に限られず、趣旨を逸脱しない範囲で任意の接続手段を用い
ることができる。
Note that the reflective electrode PE of the dummy pixel 12d, the reflective electrode PE or the frame electrode of the pixel 12,
The connecting means is not limited to the above-described contents, and any connecting means can be used without departing from the scope.

10 液晶表示装置
11 画像表示部
12 画素
12d ダミー画素
13 タイミングジェネレータ
14 垂直シフトレジスタ
15 データラッチ回路
16 水平ドライバ
20 上位装置
100 シリコン基板
101 Nウエル
102 Pウエル
103 素子分離酸化膜
105 層間絶縁膜
106 第1メタル
108 第2メタル
110 第3メタル
112 MIM電極
114 第4メタル
116 第5メタル
117 パッシベーション膜(PSV)
118 コンタクト
119a~119e スルーホール
161 水平シフトレジスタ
162 ラッチ部
163 レベルシフタ/画素ドライバ
164 ラッチ回路
1641~1643 ラッチ回路群
201 SRAMセル
202 DRAMセル
d1~dn 列データ線
dL,dM,dR 列データ線群
g1~gm 行走査線
trig,trigb トリガ線
BF1 バッファ
C1 容量
CE 共通電極
D1L,D1bL,D2L,D2bL 遅延バッファ
D1R,D1bR,D2R,D2bR 遅延バッファ
DM2 記憶部
INV11,INV12 インバータ
IV1 インバータ
IV21,IV22 インバータ
LC 液晶表示素子
LCd ダミー液晶表示素子
LCM 液晶
MN1,MN2 NMOSトランジスタ
MN11,MN12 NMOSトランジスタ
MN21,MN22 NMOSトランジスタ
MP2 PMOSトランジスタ
MP11,MP12 PMOSトランジスタ
MP21,MP22 PMOSトランジスタ
PE 反射電極
S1 温度センサ
SM1 記憶部
SW1,SW2 スイッチ
SW21,SW22 スイッチ
REFERENCE SIGNS LIST 10 liquid crystal display device 11 image display unit 12 pixel 12d dummy pixel 13 timing generator 14 vertical shift register 15 data latch circuit 16 horizontal driver 20 host device 100 silicon substrate 101 N well 102 P well 103 element isolation oxide film 105 interlayer insulating film 106 th 1st metal 108 2nd metal 110 3rd metal 112 MIM electrode 114 4th metal 116 5th metal 117 Passivation film (PSV)
118 contact 119a-119e through-hole 161 horizontal shift register 162 latch unit 163 level shifter/pixel driver 164 latch circuit 1641-1643 latch circuit group 201 SRAM cell 202 DRAM cell d1-dn column data lines dL, dM, dR column data line group g1 ~gm Row scanning line trig, trigb Trigger line BF1 Buffer C1 Capacitor CE Common electrode D1L, D1bL, D2L, D2bL Delay buffer D1R, D1bR, D2R, D2bR Delay buffer DM2 Storage unit INV11, INV12 Inverter IV1 Inverter IV21, IV22 Inverter LC Liquid crystal Display element LCd Dummy liquid crystal display element LCM Liquid crystal MN1, MN2 NMOS transistor MN11, MN12 NMOS transistor MN21, MN22 NMOS transistor MP2 PMOS transistor MP11, MP12 PMOS transistor MP21, MP22 PMOS transistor PE Reflective electrode S1 Temperature sensor SM1 Storage section SW1, SW2 Switch SW21, SW22 switch

Claims (4)

複数の画素と、
温度センサと、を備え、
前記温度センサは、行列状に区画された複数の画素配置領域のうち一又は複数の領域に形成されており、
前記各画素は、
共通電極、反射電極及びそれらの間に封入された液晶により構成された液晶表示素子と、
前記反射電極に対し、表示させる画像に応じた電圧を印加する回路部と、
を有し、
前記温度センサを覆うようにダミー液晶表示素子が形成されており、
前記温度センサは、前記各画素が画像を表示している期間の温度を前記回路部と異なる配線により任意の時間にリアルタイムに出力可能に設けられている、
反射型液晶表示装置。
a plurality of pixels;
a temperature sensor;
The temperature sensor is formed in one or more regions of a plurality of pixel arrangement regions partitioned in a matrix,
Each pixel is
a liquid crystal display element composed of a common electrode, a reflective electrode, and a liquid crystal sealed between them;
a circuit unit that applies a voltage corresponding to an image to be displayed to the reflective electrode;
has
A dummy liquid crystal display element is formed so as to cover the temperature sensor,
The temperature sensor is provided so as to be capable of outputting the temperature of the period during which each pixel displays an image in real time at any time through a wiring different from that of the circuit unit.
A reflective liquid crystal display device.
前記温度センサは、平面視して矩形状に設けられた前記複数の画素配置領域のうち、外周辺に沿って設けられた複数の領域の何れかに形成されている、 The temperature sensor is formed in one of a plurality of regions provided along the outer periphery of the plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view,
請求項1に記載の反射型液晶表示装置。 2. The reflective liquid crystal display device according to claim 1.
前記ダミー液晶表示素子の反射電極は、前記ダミー液晶表示素子に隣接する前記画素に設けられた液晶表示素子の反射電極と短絡するように形成されている、 The reflective electrode of the dummy liquid crystal display element is formed so as to be short-circuited with the reflective electrode of the liquid crystal display element provided in the pixel adjacent to the dummy liquid crystal display element,
請求項1又は2に記載の反射型液晶表示装置。 3. The reflective liquid crystal display device according to claim 1.
前記温度センサは、平面視して矩形状に設けられた前記複数の画素配置領域のうち、外周辺に沿って設けられた複数の領域に形成され、 The temperature sensors are formed in a plurality of regions provided along the outer periphery of the plurality of pixel arrangement regions provided in a rectangular shape in plan view,
前記ダミー液晶表示素子の反射電極は、平面視して前記複数の画素配置領域を囲む額縁電極と短絡するように形成されている、 The reflective electrode of the dummy liquid crystal display element is formed so as to be short-circuited with a frame electrode surrounding the plurality of pixel arrangement regions in plan view,
請求項1又は2に記載の反射型液晶表示装置。 3. The reflective liquid crystal display device according to claim 1.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007065076A (en) 2005-08-29 2007-03-15 Sony Corp Display device
JP2008040130A (en) 2006-08-07 2008-02-21 Seiko Epson Corp Light modulation device and image display device using the same
JP2008170536A (en) 2007-01-09 2008-07-24 Seiko Epson Corp Display driving device, display device, and electronic apparatus
JP2008256821A (en) 2007-04-03 2008-10-23 Sony Corp Display device, optical module, and projection display device
JP2010078942A (en) 2008-09-26 2010-04-08 Seiko Epson Corp Electrooptical device and electronic equipment
JP2011085619A (en) 2009-10-13 2011-04-28 Seiko Epson Corp Electro-optical device and electronic apparatus
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Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007065076A (en) 2005-08-29 2007-03-15 Sony Corp Display device
JP2008040130A (en) 2006-08-07 2008-02-21 Seiko Epson Corp Light modulation device and image display device using the same
JP2008170536A (en) 2007-01-09 2008-07-24 Seiko Epson Corp Display driving device, display device, and electronic apparatus
JP2008256821A (en) 2007-04-03 2008-10-23 Sony Corp Display device, optical module, and projection display device
JP2010078942A (en) 2008-09-26 2010-04-08 Seiko Epson Corp Electrooptical device and electronic equipment
JP2011085619A (en) 2009-10-13 2011-04-28 Seiko Epson Corp Electro-optical device and electronic apparatus
JP2015114375A (en) 2013-12-09 2015-06-22 株式会社ジャパンディスプレイ Liquid crystal display device

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