JP7325564B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板を処理する装置に関するものであり、より詳細には、ハウジングの内部空間に下降気流を供給しながら基板を処理する装置に関するものである。

半導体素子を製造するためには写真、蒸着、アッシング、蝕刻、そしてイオン注入などのような多様な工程が遂行される。また、このような工程らが遂行される前後には基板上に残留されたパーティクルを洗浄処理する洗浄工程が遂行される。基板の洗浄工程で多様な処理液で基板処理工程を遂行する。

洗浄工程は、スピンヘッドに支持されて回転する基板にケミカルを供給する工程、基板に脱イオン水(Deionized Water;ＤＩＷ)などのような洗浄液を供給して基板上でケミカルを除去する工程、以後に洗浄液より表面張力が低いイソプロピルアルコール(ＩＰＡ)液のような有機溶剤を基板に供給して基板上の洗浄液を有機溶剤に置換する工程、そして、置き換えされた有機溶剤を基板上で除去する工程を含む。

図１は、一般な基板処理装置を示した断面図である。図１を参照すれば、基板処理装置１０００はハウジング内部に基板を支持する支持ユニット１１００を囲む処理容器１２００が提供され、回転する基板に液を供給しながら基板を処理するように提供される。基板を処理する途中に基板処理中に発生される気体を容易に排出するためにハウジングの内部空間に下降気流を提供するファンフィルターユニット１３００が提供される。内部空間内で各処理液で基板処理時発生されるパーティクル、ヒューム(Fume)、気体などは排気装置を通じて下降気流と共に外部に排出される。ファンフィルターユニットは処理容器と対向される位置に設置されるので、ハウジングの側壁近所では気流の渋滞が発生される。これにより排気装置への排気が円滑ではなく、基板処理中に発生した気体が基板に付着されて基板内のパーティクルが形成される。

本発明は、ハウジングの内部空間に下降気流を提供しながら基板を処理する時、ハウジングの内部空間で下降気流による気流渋滞を解消することができる基板処理装置を提供することを一目的とする。

また、本発明は、ハウジングの内部空間に下降気流を提供しながら基板を処理する時、基板上にパーティクルが形成されることを防止する基板処理装置を提供することを一目的とする。
本発明の目的はこれに制限されないし、言及されなかったまた他の目的らは下の記載から当業者に明確に理解されることができるであろう。

本発明は、基板を処理する装置を提供する。

基板を処理する装置は、内部空間を有するハウジング、前記内部空間内に位置して、処理空間を有する処理容器、前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニット、前記基板支持ユニットに支持された基板に液を供給する液供給ユニット、前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニット、前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する気流供給ユニット、そして、前記気流供給ユニットから下の方向に離隔され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出する打孔板を含むが、前記打孔板は、底面と側面を含み、前記側面は第１面を含み、前記第１面は上に向けるほど前記ハウジングの側壁らのうちで前記第１面と隣接した第１側壁を向ける方向に上向き傾いて、前記気体が吐出される第１ホールが形成されることができる。

一実施例によれば、前記打孔板の前記底面には前記気体を吐出する底ホールが形成され、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積と相異に提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１ホールは前記ハウジングの第１側壁を向けて下向き傾いた方向で直接前記気体を吐出するように設けられることができる。

一実施例によれば、前記側面は、前記気体を吐出する第２ホールが形成されて前記第１面と相異な第２面をさらに含むが、前記第２面は上に向けるほど前記ハウジングの側壁らのうちで前記第２面と隣接した第２側壁を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１面の傾斜は前記第２面の傾斜より緩く提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供され、前記第２面の単位面積当たり前記第２ホールの開口面積は前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることができる。

一実施例によれば、前記側面は、前記気体を吐出する第３ホールが形成されて前記第１面及び前記第２面と相異な第３面と、前記気体を吐出する第４ホールが形成されて前記第１面、前記第２面、そして、前記第３面と相異な第４面をさらに含むが、前記第３面は上に向けるほど前記側壁らのうちで前記第３面と隣接した第３側壁を向ける方向に上向き傾くように提供され、前記第４面は上に向けるほど前記側壁らのうちで前記第４面と隣接した第４側壁を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１面の傾斜は前記第２面の傾斜より緩く提供されるが、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供され、前記第２面、第３面、そして、第４面の単位面積当たり前記第２ホール、第３ホール、そして、第４ホールの開口面積それぞれは前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることができる。

一実施例によれば、前記側面は、前記第１面が提供された部分を除いた他の部分は前記ハウジングの側壁に接するように提供されることができる。

一実施例によれば、前記気流供給ユニットは、外部の気体に含まれた不純物を除去するフィルター、前記ハウジング上部面に位置して前記内部空間に下降気流を形成するファンを含むことができる。

一実施例によれば、下向き傾斜方向に撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含むが、前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置するように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることができる。

また、本発明は基板を処理する装置を提供する。基板を処理する装置は内部空間を有して第１側壁及び第２側壁を含むハウジング、前記内部空間内に位置し、処理空間を有する処理容器、前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニット、前記基板支持ユニットに支持された基板で液を供給する液供給ユニット、前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニット、前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する気流供給ユニット、そして、前記気流供給ユニットから下の方向に離隔されて配置され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出する打孔板を具備するが、前記打孔板は、前記支持ユニットに支持された基板と垂直な方向に前記気体を吐出するように形成された底ホールらを含む底面、前記底面から上向き傾くように延長され、前記第１側壁と対向する第１面を含むが、前記第１面には前記第１側壁を直接向かう方向に前記気体を吐出する第１ホールが形成されることができる。

一実施例によれば、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供されることができる。

一実施例によれば、前記打孔板は、前記底から上向き傾くように延長され、前記第２側壁と対向する第２面を含むが、前記第２面には前記第２側壁を直接向かう方向に前記気体を吐出する第２ホールが形成され、前記第１面の傾斜は前記第２面の傾斜より緩く提供されるが、前記第２面の単位面積当たり前記第２ホールの開口面積は前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることができる。

一実施例によれば、下向き傾斜方向に撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含むが、前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置されるように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることができる。

また、本発明は、基板を処理する装置を提供する。基板を処理する装置は内部空間を有して第１側壁、第２側壁、第３側壁、そして、第４側壁を含むハウジング、前記内部空間内に位置し、処理空間を有する処理容器、前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニット、前記基板支持ユニットに支持された基板に液を供給する液供給ユニット、前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニット、前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する気流供給ユニット、そして、前記気流供給ユニットから下の方向に離隔されて配置され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出して前記内部空間の気流渋滞を解消する打孔板を具備するが、前記打孔板は、前記支持ユニットに支持された基板と垂直な方向に前記気体を吐出するように形成された底ホールらを含む底面、前記底面から上向き傾くように延長され、前記第１側壁と対向する第１面を含むが、前記第１面には前記第１側壁を直接向かう方向に前記気体を吐出する第１ホールが形成されることができる。

一実施例によれば、前記打孔板は第２面、第３面、そして、第４面をさらに含み、前記第２面、第３面、そして、第４面にはそれぞれの面と隣接した前記ハウジングの第２側壁、第３側壁、そして、第４側壁を向ける方向に上向き傾くように延長され、それぞれに前記気体を吐出するホールらが形成されるが、前記第１面の傾斜は前記第２面、前記第３面、そして、前記第４面の傾斜より緩く提供されることができる。

一実施例によれば、前記第１面に形成された前記第１ホールの単位面積当たり開口面積が前記底面、前記第２面、前記第３面、そして、前記第４面に形成されたホールの単位面積当たり開口面積より小さく提供されることができる。

一実施例によれば、下向き傾斜方向に撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含むが、前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置するように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることができる。

本発明の実施例によれば、ハウジングの内部空間に下降気流を提供しながら基板を処理する時、ハウジングの内部空間で気流が停滞されることを防止することができる。

また、本発明の実施例によれば、ハウジングの内部空間に下降気流を提供しながら基板を処理する時、基板上にパーティクルが形成されることを防止することができる。

また、本発明の実施例によれば、下降気流を提供するための打孔板が提供された構造で、撮像ユニットが設置される空間を提供しながらそれと同時にハウジングの内部空間全体領域で下降気流を提供することができる。
本発明の効果が上述した効果らに限定されるものではなくて、言及されない効果らは本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者に明確に理解されることができるであろう。

一般な基板処理装置の工程チャンバを概略的に見せてくれる断面図である。 本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に見せてくれる平面図である。 図２の基板処理装置の工程チャンバに対する一実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図３の打孔板を工程チャンバの正面から眺めた図面である。 図３の打孔板を工程チャンバの側面から眺めた図面である。 図３の打孔板に対する変形例を概略的に見せてくれる図面である。 同じく、図３の打孔板に対する変形例を概略的に見せてくれる図面である。 同じく、図３の打孔板に対する変形例を概略的に見せてくれる図面である。 図３の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 打孔板が傾いた側面を具備しないで底面のみを有する場合に工程チャンバ内部の気流の流れを概略的に見せてくれる図面である。 打孔板が底面及び傾いた側面を具備した場合に工程チャンバ内部の気流流れを概略的に見せてくれる図面である。 図２の基板処理装置の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図１２の打孔板を概略的に示した図面である。 図２の基板処理装置の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図１２の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。 図１４の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。

以下、本発明の実施例を添付された図面らを参照してより詳細に説明する。本発明の実施例はさまざまな形態で変形されることができるし、本発明の範囲が下で敍述する実施例によって限定されることで解釈されてはいけない。本実施例は当業界で平均的な知識を有した者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面での構成要素の形状などはより明確な説明を強調するために誇張されたものである。

本実施例には基板上に洗浄液のような液を供給して基板を液処理する工程を例で説明する。しかし、本実施例は洗浄工程に限定されないで、蝕刻工程、アッシング工程、現像工程などのように処理液を利用して基板を処理する多様な工程に適用可能である。

以下、図２乃至図１６を参照して本発明の一例を詳しく説明する。

図２は、本発明の実施例による基板処理装置を概略的に見せてくれる平面図である。図２を参照すれば、基板処理装置１はインデックスモジュール１０と工程処理モジュール２０を有する。インデックスモジュール１０はロードポート１２０及び移送フレーム１４０を有する。ロードポート１２０、移送フレーム１４０、そして、工程処理モジュール２０は順次に一列に配列される。以下、ロードポート１２０、移送フレーム１４０、そして、工程処理モジュール２０が配列された方向を第１方向１２といって、上部から眺める時、第１方向１２と垂直な方向を第２方向１４といって、第１方向１２と第２方向１４を含んだ平面に垂直である方向を第３方向１６と称する。

ロードポート１２０には基板(Ｗ)が収納された容器１８が安着される。ロードポート１２０は複数個が提供されてこれらは第２方向１４に沿って一列で配置される。ロードポート１２０の個数は工程処理モジュール２０の工程効率及びフットプリント条件などによって増加するか、または減少することもある。容器１８には基板(Ｗ)らを地面に対して水平に配置した状態で収納するための複数のスロット(図示せず)が形成される。容器１８としては、前面解放一体型ポッド(Front Opening Unifed Pod：ＦＯＵＰ)が使用されることができる。

工程処理モジュール２０はバッファーユニット２２０、移送チャンバ２４０、そして、工程チャンバ３００を有する。移送チャンバ２４０はその長さ方向が第１方向１２と平行に配置される。移送チャンバ２４０の両側にはそれぞれ工程チャンバら３００が配置される。移送チャンバ２４０の一側及び他側で工程チャンバら３００は移送チャンバ２４０を基準に対称されるように提供される。移送チャンバ２４０の一側には複数個の工程チャンバ３００らが提供される。工程チャンバら３００のうちで一部は移送チャンバ２４０の長さ方向に沿って配置される。また、工程チャンバら３００のうちで一部は、お互いに積層されるように配置される。すなわち、移送チャンバ２４０の一側には工程チャンバら２６０がＡＸＢの配列で配置されることができる。ここで、Ａは第１方向１２に沿って一列に提供された工程チャンバ３００の数であり、Ｂは第３方向１６に沿って一列に提供された工程チャンバ３００の数である。移送チャンバ２４０の一側に工程チャンバ３００が４個または６個提供される場合、工程チャンバ３００らは２Ｘ２または３Ｘ２の配列で配置されることができる。工程チャンバ３００の個数は増加するか、または減少することもある。前述したところと異なり、工程チャンバ３００は移送チャンバ２４０の一側だけに提供されることができる。また、工程チャンバ３００は移送チャンバ２４０の一側及び両側に断層で提供されることができる。

バッファーユニット２２０は移送フレーム１４０と移送チャンバ２４０との間に配置される。バッファーユニット２２０は移送チャンバ２４０と移送フレーム１４０との間に基板(Ｗ)が返送される前に基板(Ｗ)がとどまる空間を提供する。バッファーユニット２２０の内部には基板(Ｗ)が置かれるスロット(図示せず)が提供される。スロット(図示せず)らはお互いの間に第３方向１６に沿って離隔されるように複数個が提供される。バッファーユニット２２０から移送フレーム１４０と見合わせる面及び移送チャンバ２４０と見合わせる面は開放される。

移送フレーム１４０はロードポート１２０に安着された容器１８とバッファーユニット２２０との間に基板(Ｗ)を返送する。移送フレーム１４０にはインデックスレール１４２とインデックスロボット１４４が提供される。インデックスレール１４２はその長さ方向が第２方向１４とそろって並んでいるように提供される。インデックスロボット１４４はインデックスレール１４２上に設置され、インデックスレール１４２に沿って第２方向１４に直線移動される。インデックスロボット１４４はベース１４４a、胴体１４４b、そしてインデックスアーム１４４cを有する。ベース１４４aはインデックスレール１４２に沿って移動可能になるように設置される。胴体１４４bはベース１４４aに結合される。胴体１４４bはベース１４４a上で第３方向１６に沿って移動可能になるように提供される。また、胴体１４４bはベース１４４a上で回転可能になるように提供される。インデックスアーム１４４cは胴体１４４bに結合され、胴体１４４bに対して前進及び後進移動可能になるように提供される。インデックスアーム１４４cは複数個提供されてそれぞれ個別駆動されるように提供される。インデックスアーム１４４cらは第３方向１６に沿ってお互いに離隔された状態で積層されるように配置される。インデックスアーム１４４cらのうちで一部は工程処理モジュール２０から容器１８に基板(Ｗ)を返送する時に使用され、これの他の一部は、容器１８から工程処理モジュール２０に基板(Ｗ)を返送する時使用されることができる。これはインデックスロボット１４４が基板(Ｗ)を搬入及び搬出する過程で工程処理前の基板(Ｗ)から発生されたパーティクルが工程処理後の基板(Ｗ)に付着されることを防止することができる。

移送チャンバ２４０はバッファーユニット２２０と工程チャンバ３００との間に、そして、工程チャンバ３００らの間に基板(Ｗ)を返送する。移送チャンバ２４０にはガイドレール２４２とメインロボット２４４が提供される。ガイドレール２４２はその長さ方向が第１方向１２と並んでいるように配置される。メインロボット２４４はガイドレール２４２上に設置され、ガイドレール２４２上で第１方向１２に沿って直線移動される。メインロボット２４４はベース２４４a、胴体２４４b、そして、メインアーム２４４cを有する。ベース２４４aはガイドレール２４２に沿って移動可能になるように設置される。胴体２４４bはベース２４４aに結合される。胴体２４４bはベース２４４a上で第３方向１６に沿って移動可能になるように提供される。また、胴体２４４bはベース２４４a上で回転可能になるように提供される。メインアーム２４４cは胴体２４４bに結合され、これは胴体２４４bに対して前進及び後進移動可能になるように提供される。メインアーム２４４cは複数個提供されてそれぞれ個別駆動されるように提供される。メインアーム２４４cらは第３方向１６に沿ってお互いに離隔された状態で積層されるように配置される。

工程チャンバ３００は基板(Ｗ)に対して液を供給して液処理工程を遂行する液処理チャンバであることができる。例えば、液処理工程は洗浄液で基板を洗浄する洗浄工程であることができる。工程チャンバ内で基板に対してケミカル処理、リンス処理、そして、乾燥処理がすべて遂行されることができる。選択的に、基板を乾燥処理する乾燥チャンバは液処理チャンバと別に提供されることができる。

図３は、図２の工程チャンバの一実施例を概略的に見せてくれる断面図である。図４及び図５は、それぞれ図３の打孔板を工程チャンバの正面と側面から眺めた図面らである。図３乃至図５を参照すれば、工程チャンバ３００はハウジング３１０、処理容器３２０、基板支持ユニット３４０、液供給ユニット３７０a、排気ユニット３８０、気流供給ユニット４００、そして、打孔板５００を含む。

ハウジング３１０は内部に空間を形成する。ハウジング３１０は上部壁３１１、底壁、そして、側壁らを有する。一例によれば、ハウジングは概して直方体形状を有して、ハウジングの側壁は第１側壁３１２、第２側壁３１３、第３側壁３１４、第４側壁３１５を有する。第１側壁３１２は第２側壁３１３と対向され、第３側壁３１４は第４側壁３１５と対向されるように位置する。第１側壁３１２から基板までの直線距離は第２側壁３１３、第３側壁３１４、そして、第４側壁３１５から基板までの直線距離より大きく提供されることができる。

処理容器３２０はハウジング３１０の内部に位置される。処理容器３２０は基板(Ｗ)を処理する処理空間を有する。処理容器３２０は案内壁３２１、内部回収筒３２２、中間回収筒３２４、そして、外部回収筒３２６を有する。それぞれの回収筒３２２、３２４、３２６は工程に使用された処理液のうちでお互いに相異な処理液を分離回収する。案内壁３２１は基板支持ユニット３４０を囲む環形のリング形状で提供され、内部回収筒３２２は案内壁３２１を囲む環形のリング形状で提供される。中間回収筒３２４は内部回収筒３２２を囲む環形のリング形状で提供され、外部回収筒３２６は中間回収筒３２４を囲む環形のリング形状で提供される。内部回収筒３２２と案内壁３２１の間空間は３２２aは処理液が流入される第１流入口で機能する。内部回収筒３２２と中間回収筒３２４の間空間３２４aは処理液が流入される第２流入口で機能する。中間回収筒３２４と外部回収筒３２６の間空間３２６aは処理液が流入される第３流入口で機能する。また、案内壁３２１の下端と内部回収筒３２２の間空間３４２cは処理液から発生されたヒューム(Fumeと気流を排出される第１排出口で機能する。内部回収筒３２２の下端と中間回収筒３２４の間空間３２４cは処理液から発生されたヒュームと気流を排出される第２排出口で機能する。中間回収筒３２４の下端と外部回収筒３２６の間空間３２６cは処理液から発生されたヒュームと気流を排出される第３排出口で機能する。それぞれの回収筒にはお互いに相異な種類の処理液が流入されることができる。それぞれの回収筒３２２、３２４、３２６にはその底面の下方向に垂直するように延長される回収ライン３２２b、３２４b、３２６bが連結される。それぞれの回収ライン３２２b、３２４b、３２６bはそれぞれの回収筒３２２、３２４、３２６を通じて流入された処理液、ヒューム、そして、気流を排出する。排出された処理液は外部の処理液再生システム(図示せず)を通じて再使用されることができる。

基板支持ユニット３４０は工程が進行のうちで基板(Ｗ)を支持して基板(Ｗ)を回転させる。基板支持ユニット３４０は胴体３４２、支持ピン３４４、チェックピン３４６、支持軸３４８、そして、駆動部(図示せず)を有する。胴体３４２は上部から眺める時概して円形で提供される上部面を有する。胴体３４２の底面には支持軸３４８が固定結合され、支持軸３４８は駆動部３４９によって回転可能になるように提供される。

支持ピン３４４は複数個提供される。支持ピン３４４は胴体３４２の上部面の縁部に所定間隔で離隔されるように配置されて胴体３４２で上部に突き出される。支持ピン３４４らはお互いの間に組合によって全体的に環形のリング形状を有するように配置される。支持ピン３４４は胴体３４２の上部面から基板(Ｗ)が一定距離で離隔されるように基板(Ｗ)の後面縁を支持する。

チェックピン３４６は複数個提供される。チェックピン３４６は胴体３４２の中心で支持ピン３４４より遠く離れるように配置される。チェックピン３４６は胴体３４２で上部に突き出されるように提供される。チェックピン３４６は基板(Ｗ)が回転される時に正位置から側方向に離脱されないように基板(Ｗ)の側部を支持する。チェックピン３４６は胴体３４２の半径方向に沿って待機位置と支持位置との間に直線移動が可能になるように提供される。待機位置は支持位置に比べて胴体３４２の中心から遠く離れた位置である。基板(Ｗ)が基板支持ユニット３４０にローディングまたはオンロディング時チェックピン３４６は待機位置に位置され、基板(Ｗ)に対して工程遂行時チェックピン３４６は支持位置に位置される。支持位置でチェックピン３４６は基板(Ｗ)の側部と接触される。

昇降ユニット３６０は処理容器３２０を上下方向に直線移動させる。処理容器３２０が上下に移動されることによってスピンヘッド３４０に対する処理容器３２０の相対高さが変更される。昇降ユニット３６０はブラケット３６２、移動軸３６４、そして、駆動機３６６を有する。ブラケット３６２は処理容器３２０の外壁に固定設置され、ブラケット３６２には駆動機３６６によって上下方向に移動される移動軸３６４が固定結合される。基板(Ｗ)がスピンヘッド３４０に置かれるか、またはスピンヘッド３４０から持ち上げられる時スピンヘッド３４０が処理容器３２０の上部に突き出されるように処理容器３２０は下降される。また、工程が進行される時には基板(Ｗ)に供給された処理液の種類によって処理液が既設定された回収筒に流入されることができるように処理容器３２０の高さが調節する。選択的に、昇降ユニット３６０はスピンヘッド３４０を上下方向に移動させることができる。

液供給ユニット３７０aは基板(Ｗ)上に処理液を供給する。液供給ユニット３７０aは複数個で提供され、それぞれはお互いに相異な種類の処理液らを供給する。一例によれば、液供給ユニット３７０aは第１処理液供給部材３７０a及び第２処理液供給部材３７０bを含む。

第１処理液供給部材３７０aは支持軸３７６、アーム３７２、駆動機３７８、そして、ノズル３７４を含む。支持軸３７６は処理容器３２０の一側に位置される。支持軸３７６はその長さ方向が第３方向を向けるロード形状を有する。支持軸３７６は駆動機３７８によって回転可能になるように提供される。アーム３７２は支持軸３７６の上端に結合される。アーム３７２は支持軸３７６から垂直するように延長される。アーム３７２の末端にはノズル３７４が固定結合される。支持軸３７６が回転されることによってノズル３７４はアーム３７２と共にスイング移動可能である。ノズル３７４はスイング移動されて工程位置及び待機位置に移動されることができる。ここで、工程位置はノズル３７４が基板支持ユニット３４０に支持された基板(Ｗ)と対向される位置であり、待機位置はノズル３７４が工程位置を脱した位置である。

選択的に、アーム３７２はその長さ方向を向けて前進及び後進移動が可能になるように提供されることができる。上部から眺める時ノズル３７４はスイング移動されて基板(Ｗ)の中心軸と一致するように移動されることができる。

第２処理液供給部材３７０bは基板支持ユニット３４０に支持された基板(Ｗ)上に第２処理液を供給する。第２処理液供給部材３７０bは第１処理液供給部材３７０aと等しい形状を有するように提供される。これによって第２処理液供給部材３７０bに対する詳細な説明は略する。

第１処理液と第２処理液はケミカル、リンス液、そして、有機溶剤のうちで何れか一つであることができる。ケミカルは硝酸、リン酸または硫酸を含むことができる。リンス液は水を含むことができる。有機イソプロピルアルコールのようなアルコールを含むことができる。

排気ユニット３８０は処理空間に発生されたヒューム(Fumeと気体を排気する。排気ユニット３８０は基板を液処理時に発生されるヒュームと気体を排気する。排気ユニット３８０は処理容器３２０の底面に結合されることができる。

排気ダクト３８１はハウジング３１０の内部空間に発生されたヒューム(Fumeと気体を排気する。排気ダクト３８１は基板を液処理時処理空間で飛散されたヒュームと気体を排気する。排気ダクト３８１はハウジング３１０の底壁に結合されることができる。

基板を液処理する間にヒュームと気体は排気ユニット３８０と排気ダクト３８１のうちで排気ユニット３８０を通じて排気されることができる。選択的に、基板を液処理する間にヒュームと気体は排気ユニット３８０と排気ダクト３８１を通じて同時に排気されることができる。この場合、排気ダクト３８１は基板を液処理時排気圧力を排気ユニット３８０の排気圧力より低く設定して排気ユニット３８０より少量の排気を進行することができる。これにより、処理空間に発生したヒュームが処理空間外部に逆流することを防止することができる。

気流供給ユニット４００はハウジング３１０の内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する。気流供給ユニット４００はハウジング３１０の上部壁３１１に結合する。気流供給ユニット４００を通じてハウジング３１０の内部空間に供給された気体は内部空間で下降気流を形成する。処理空間内で処理工程によって発生された気体副産物は下降気流によって排気ユニット３８０を通じてハウジング３１０外部に排出される。気流供給ユニット４００はファンフィルターユニットに提供されることができる。

打孔板５００は気流供給ユニット４００によって供給された気体をハウジング３１０の内部空間で均一に吐出する。打孔板５００は気流供給ユニット４００と処理容器３４０の間に配置される。打孔板５００は気流供給ユニット４００及び処理容器３４０と離隔された高さに配置されることができる。

打孔板５００は底面５１０と側面を有する。側面は第１面５２０、第２面５３０、第３面５４０、そして、第４面５５０を含む。第１面５２０は第２面５３０と対向されるように位置し、第３面５４０は第４面５５０と対向されるように位置する。第１面５２０はハウジング３１０の第１側壁３１２と対向されるように位置し、第２面５３０はハウジング３１０の第２側壁３１３と対向されるように位置する。また、第３面５４０はハウジング３１０の第３側壁３１４と対向されるように位置し、第４面５５０はハウジング３１０の第４側壁３１５と対向されるように位置する。

第１面５２０は底面５１０の一側末端から第１側壁３１２まで延長される。第１面５２０は上に向けるほど第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供される。第１面５２０は上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第１面５２０と隣接した第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。第２面５３０は底面５１０の一側末端から第２側壁３１３まで延長される。第２面５３０は上に向けるほど第２側壁３１３を向ける方向に上向き傾くように提供される。第２面５３０は上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第２面５３０と隣接した第２側壁３１３を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。第３面５４０は底面５１０の一側末端から第３側壁３１４まで延長される。第３面５４０は上に向けるほど第３側壁３１４を向ける方向に上向き傾くように提供される。第３面５４０は上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第３面５４０と隣接した第３側壁３１４を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。第４面５５０は底面５１０の一側末端から第４側壁３１５まで延長される。第４面５５０は上に向けるほど第４側壁３１５を向ける方向に上向き傾くように提供される。第４面５５０は上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第４面５５０と隣接した第４側壁３１５を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。

第１面５２０、第２面５３０、第３面５４０、そして、第４面５５０のうちで少なくとも２面は傾斜が相異に提供されることができる。一例によれば、第１面５２０の傾斜は第２面５３０、第３面５４０、そして、第４面５５０の傾斜より緩く提供される。一例で第１面５２０の傾斜(Ａ１)は第２面５３０の傾斜(Ａ２)より小さく提供されることができる。

第１面５２０には第１ホール５２１が形成される。気流供給ユニット４００から供給された気体は第１ホール５２１を通じて内部空間に吐出される。第１ホール５２１はハウジング３１０の第１側壁３１２を向けて下向き傾いた方向に提供される。これにより、気流供給ユニット４００から供給された気体が内部空間内縁領域に直接吐出されることができる。第２面５３０には気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される第２ホール５３１が形成される。第２ホール５３１はハウジング３１０の第２側壁３１３を向けて下向き傾いた方向に気流供給ユニット４００から供給された気体を直接吐出するように提供されることができる。第３面５４０には気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される第３ホール５４１が形成される。第３ホール５４１はハウジング３１０の第３側壁３１４を向けて下向き傾いた方向に気流供給ユニット４００から供給された気体を直接吐出するように提供されることができる。第４面５５０には気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される第４ホール５５１が形成される。第４ホール５５１はハウジング３１０の第４側壁３１５を向けて下向き傾いた方向に気流供給ユニット４００から供給された気体を直接吐出するように提供されることができる。底面５１０には気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される底ホール５１１が形成される。

打孔板５００の全体面積に対する第１ホール５２１、第２ホール５３１、第３ホール５４１、そして、第４ホール５５１の面積は３０％以下で形成されることができる。第１ホール５２１、第２ホール５３１、第３ホール５４１、第４ホール５５１、そして、底ホール５１１の直径は４mm乃至１２mmで形成されることができる。打孔板５００と気流供給ユニット４００の離隔距離は１０mm乃至８０mmで形成されることができる。第１ホール５２１、第２ホール５３１、第３ホール５４１、そして、第４ホール５５１によって吐出される気体がそれぞれ第１側壁３１２、第２側壁３１３、第３側壁３１４、そして、第４側壁３１５に沿って下降することでハウジング３１０の内部空間内で下降気流の間の衝突を防止することができる。これにより内部空間で気流干渉を最小化することができる。

第１面５２０の単位面積当たり第１ホール５２１の開口面積、第２面５３０の単位面積当たり第２ホール５３１の開口面積、第３面５４０の単位面積当たり第３ホール５４１の開口面積、第４面５５０の単位面積当たり第４ホール５５１の開口面積、そして、底面５１０の単位面積当たり底ホール５１１の開口面積のうちで少なくとも一部は相異に提供される。第１ホール５２１のホール間の離隔距離(d１)、第２ホール５３１のホール間の離隔距離(d３)、第３ホール５４１のホール間の離隔距離(d４)、第４ホール５５１のホール間の離隔距離(d５)、底ホール５１１のホール間の離隔距離(d２)はそれぞれ相異に提供される。第１面５２０の単位面積当たり第１ホール５２１の開口面積は底面５１０の単位面積当たり底ホール５１１の開口面積より小さく提供されることができる。第２面５３０の単位面積当たり第２ホール５３１の開口面積は底面５１０の単位面積当たり底ホール５１１の開口面積より小さく、第１面５２０の単位面積当たり第１ホール５２１の開口面積より大きく提供されることができる。第１ホール５２１のホール間の離隔距離(d１)は底ホール５１１のホール間の離隔距離(d２)より小さく提供されることができる。第２ホール５３１のホール間の離隔距離(d３)は第１ホール５２１のホール間の離隔距離(d１)より大きくて、底ホール５１１のホール間の離隔距離(d２)より小さく提供されることができる。第３ホール５４１のホール間の離隔距離(d４)及び第４ホール５５１のホール間の離隔距離(d５)は底ホール５１１のホール間の離隔距離(d２)より小さく提供されることができる。これにより相対的に大きい内部空間を有する第１側壁３１２と隣接した領域に下降気流密集度を大きく形成することができる。それぞれの側壁と隣接した領域に提供される内部空間の大きさと比例するように下降気流密集度を選択することができる。

前述した実施例と異なり、図３の打孔板に対する変形例を示した図６のように第１面５２０bの傾斜は第２面５３０bの傾斜と等しく提供されることができる。選択的に、第１面５２０b、第２面５３０b、第３面５４０b、そして、第４面５５０bの傾斜はそれぞれ等しく提供されることができる。選択的に、第１面５２０b及び第２面５３０bの傾斜は等しくて、第３面５４０b及び第４面５５０bの傾斜は第１面５２０bの傾斜と相異に提供されることができる。
第１面５２０bの単位面積当たり第１ホール５２１bの開口面積、第２面５３０bの単位面積当たり第２ホール５３１bの開口面積、第３面５４０bの単位面積当たり第３ホール５４１bの開口面積、そして、第４面５５０bの単位面積当たり第４ホール５５１bの開口面積はすべて等しく提供され、底面５１０bの単位面積当たり底ホール５１１bの開口面積より小さく提供されることができる。第１ホール５２１b、第２ホール５３１b、第３ホール５４１b、そして、第４ホール５５１bそれぞれのホール間の離隔距離はすべて等しく提供され、底ホール５１１bのホール間の離隔距離とは相異に提供されることができる。

前述した実施例と異なり、図３の打孔板に対する変形例を示した図７のように第１面５２０cの傾斜は第２面５３０cの傾斜と等しく提供されることができる。選択的に、第１面５２０c、第２面５３０c、第３面５４０c、そして、第４面５５０cの傾斜はそれぞれ等しく提供されることができる。選択的に、第１面５２０c及び第２面５３０cの傾斜は等しくて、第３面５４０c及び第４面５５０cの傾斜は第１面５２０cの傾斜と相異に提供されることができる。

第１面５２０c、第２面５３０c、第３面５４０c、第４面５５０c、そして、底面５５０cの単位面積当たり各ホールの開口面積は相異に提供されることができる。一例で、第１面５２０cの単位面積当たり第１ホール５２１cの開口面積は底面５１０cの単位面積当たり底ホール５１１cの開口面積より小さく提供されることができる。第２面５３０c、第３面５４０c、そして、第４面５５０cの単位面積当たり第２ホール５３１c、第３ホール５４１c、そして、第４ホール５５１cの開口面積はそれぞれ底面５１０cの単位面積当たり底ホール５１１cの開口面積より小さく、第１面５２０cの単位面積当たり第１ホール５２１cの開口面積より大きく提供されることができる。選択的に、第２面５３０cの単位面積当たり第２ホール５３１cの開口面積は第１面５２０cの単位面積当たり第１ホール５２１cの開口面積より大きくて、底面５１０cの単位面積当たり底ホール５１１cの開口面積、第３面５４c０の単位面積当たり第３ホール５４１cの開口面積、そして、第４面５５０cの単位面積当たり第４ホール５５１cの開口面積より小さく提供されることができる。

第１ホール５２１c、第２ホール５３１c、第３ホール５４１c、第４ホール５５１c、そして、底ホール５１１cそれぞれのホール間の離隔距離は相異に提供されることができる。一例で、第１ホール５２１cのホール間の離隔距離は底ホール５１１cのホール間の離隔距離より小さく提供されることができる。第２ホール５３１cのホール間の離隔距離は第１ホール５２１cのホール間の離隔距離より大きくて、底ホール５１１cのホール間の離隔距離より小さく提供されることができる。第３ホール５４１cのホール間の離隔距離及び第４ホール５５１cのホール間の離隔距離は底ホール５１１cのホール間の離隔距離より小さく提供されることができる。

前述した実施例と異なり、図３の打孔板に対する変形例を示した図８のように第１面５２０d、第２面５３０d、第３面５４０d、そして、第４面５５０dの傾斜はそれぞれ相異に提供されることができる。一例で、第１面５２０dの傾斜は第２面５３０d、第３面５４０d、そして、第４面５５０dの傾斜より緩く提供されることができる。

第１面５２０dの単位面積当たり第１ホール５２１dの開口面積、第２面５３０dの単位面積当たり第２ホール５３１dの開口面積、第３面５４０dの単位面積当たり第３ホール５４１dの開口面積、そして、第４面５５０dの単位面積当たり第４ホール５５１dの開口面積はすべて等しく提供され、底面５１０dの単位面積当たり底ホール５１１dの開口面積より小さく提供されることができる。第１ホール５２１d、第２ホール５３１d、第３ホール５４１d、そして、第４ホール５５１dそれぞれのホール間の離隔距離はすべて等しく提供され、底ホール５１１dのホール間の離隔距離とは相異に提供されることができる。

図９は、図３の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる断面図である。図９は図３の実施例の工程チャンバ３００を等しく提供し、撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニット７００をさらに含むことができる。図９を参照すれば、撮像ユニット７００は下向き傾斜方向に撮影対象物を撮影することができる。一例で、撮影対象物は基板支持ユニット３４０に支持された基板または液供給ユニット３７０aのノズル３７４であることができる。撮像ユニット７００はハウジング３１０の第１側壁３１２に設置されることができる。撮像ユニット７００は打孔板５００の第１面５２０に隣接した位置で第１面５２０の傾いた面と相応する高さで提供されることができる。これにより下降気流を提供するための打孔板が提供された構造で撮像ユニット７００の設置空間を確保し、撮像ユニット７００の画角を保存することができるし、それと共に内部空間全体領域で下降気流を提供することができる。

図１０及び図１１は、それぞれ打孔板が傾いた側面を具備しないで底面のみを有する場合と打孔板が底面及び傾いた側面を具備した場合に工程チャンバ内部の気流の流れを概略的に見せてくれる図面らである。前述した実施例らの打孔板５００は側面が傾くように提供されることで記載した。打孔板５００が傾いた側面なしに底面のみを有する場合、図１０に示されたように内部空間のうちで処理容器３２０の外側領域で下降中の気流と下降後昇降する気流の衝突によって気流が停滞される。

しかし、打孔板５００が底面５１０と傾いた側面を有する場合、図１１に示されたところと傾いた側面を通じて気体が吐出されることで、処理容器３２０の外側領域での下降気流と下降後上昇する気流の衝突を最小化することができる。したがって、処理容器３２０の外側領域で下降後昇降する気流と干渉されることがある下降中の気流の量が少なくて気流の渋滞が発生されない。

図１２は、図２の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。図１２を参照すれば、打孔板５００eは底面５１０eと側面を有する。側面はハウジング３１０の第１側壁３１２と対向される第１面５２０eを有する。第１面５２０eは底面５１０eの一側末端から第１側壁３１２まで延長される。第１面５２０eは上に向けるほど第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供される。第１面５２０eは上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第１面５２０eと隣接した第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。

第１面５２０eには第１ホール５２１が形成される。気流供給ユニット４００から供給された気体は第１ホール５２１eを通じて内部空間に吐出される。第１ホール５２１eはハウジング３１０の第１側壁３１２を向けて下向き傾いた方向に提供される。これにより、気流供給ユニット４００から供給された気体は内部空間内縁領域に直接吐出されることができる。底面５１０eには底ホール５１１eが形成される。気流供給ユニット４００から供給された気体は底ホール５１１eを通じて処理空間を向けて直接吐出されることができる。

第１面５２０eの単位面積当たり第１ホール５２１eの開口面積は、底面５１０eの単位面積当たり底ホール５１１eの開口面積と相異に提供される。打孔板５００eの全体面積に対する底ホール５１１e及び第１ホール５２１eの面積は３０％以下で形成されることができる。打孔板５００eと気流供給ユニット４００の離隔距離は１０mm乃至８０mmで形成されることができる。第１ホール５２１e及び底ホール５１１eの直径は４mm乃至１２mmで形成されることができる。傾いた第１面５２０eに形成された第１ホール５２１eによって吐出される気体が第１側壁３１２に沿って下降することで、ハウジング３１０の内部空間内から下降気流による気流干渉を最小化することができる。

図１３は、図１２の打孔板を概略的に示した図面である。図１３を参照すれば、第１面５２０eの単位面積当たり第１ホール５２１eの開口面積は底面５１０eの単位面積当たり底ホール５１１eの開口面積より小さく提供されることができる。第１ホール５２１eのホール間の離隔距離(d１)は底ホール５１１eのホール間の離隔距離(d２)より小さく提供される。これにより相対的に大きい内部空間を有する第１側壁３１２と隣接した領域に下降気流密集度を相対的に大きく形成することができる。選択的に、第１面５２０eの単位面積当たり第１ホール５２１eの開口面積は底面５１０eの単位面積当たり底ホール５１１eの開口面積と等しく提供されることができる。選択的に、第１ホール５２１eのホール間の離隔距離(d１)と底ホール５１１eのホール間の離隔距離(d２)は等しく提供されることができる。

図１４は、図２の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。図１４を参照すれば、打孔板５００fは気流供給ユニット４００によって供給された気体をハウジング３１０の内部空間に均一に吐出する。打孔板５００fは気流供給ユニット４００から下の方向に離隔され、処理容器３２０より上に配置される。打孔板５００fは底面５１０fと側面を有する。側面はハウジング３１０の第１側壁３１２と対向される第１面５２０fを有する。第１面５２０fは底面５１０fの一側末端から第１側壁３１２まで延長される。第１面５２０fは上に向けるほど第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供される。第１面５２０fは上に向けるほどハウジング３１０の側壁らのうちで第１面５２０fと隣接した第１側壁３１２を向ける方向に上向き傾くように提供されることができる。底面５１０fらのうちで第１面５２０fと面接触しない他の側末端らはハウジング３１０の第２側壁３１３、第３側壁３１４、そして、第４側壁３１５に接触される。

第１面５２０fには気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される第１ホール５２１fが形成される。第１ホール５２１fはハウジング３１０の第１側壁３１２を向けて下向き傾いた方向に気流供給ユニット４００から供給された気体を直接吐出するように提供されることができる。底面５１０fには気流供給ユニット４００から供給された気体が吐出される底ホール５１１fが形成される。打孔板５００fの全体面積に対する底ホール５１１f及び第１ホール５２１fの面積は３０％以下で形成されることができる。第１ホール５２１f及び底ホール５１１fの直径は、４mm乃至１２mmで形成されることができる。打孔板５００fと気流供給ユニット４００の離隔距離は、１０mm乃至８０mmで形成されることができる。第１ホール５２１fによって吐出される気体が第１側壁３１２に沿って下降することで、ハウジング３１０の内部空間内で下降気流による気流干渉を最小化することができる。

第１面５２０fの単位面積当たり第１ホール５２１fの開口面積は、底面５１０fの単位面積当たり底ホール５１１fの開口面積と相異に提供される。一例で、第１面５２０fの単位面積当たり第１ホール５２１fの開口面積は底面５１０fの単位面積当たり底ホール５１１fの開口面積より小さく提供されることができる。第１ホール５２１fのホール間の離隔距離は底ホール５１１fのホール間の離隔距離より小さく提供される。相対的に大きい内部空間を有する第１側壁３１２と隣接した領域に下降気流密集度を相対的に大きく形成することができる。

前述した実施例では、打孔板の側面が第１面を具備した場合と第１面、第２面、第３面、そして、第４面をすべて具備した場合を例に挙げて説明した。しかし、これと異なり打孔板の側面が２個の面または３個の面を具備することができる。前述した実施例では、打孔板に形成されたホールの開口面積と離隔距離を多様な実施形態で説明したが、本発明の実施形態はこれに限定されないで多様に変形されて実施することができる。

図１５は、図１２の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。図１５は、図１２の実施例の工程チャンバ３００を等しく提供し、撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニット７００をさらに含むことができる。図１５を参照すれば、撮像ユニット７００は下向き傾斜方向に撮影対象物を撮影することができる。一例で、撮像ユニット７００は基板支持ユニット３４０に支持された基板または液供給ユニット３７０aのノズル３７４を撮影対象物にして撮影することができる。撮像ユニット７００はハウジング３１０の第１側壁３１２に設置されることができる。撮像ユニット７００は打孔板５００eの第１面５２０eに隣接した位置で第１面５２０eの傾いた面と相応する高さに提供されることができる。これにより下降気流を提供するための打孔板が提供された構造で撮像ユニット７００の設置空間を確保し、撮像ユニット７００の画角を保存することができるし、それと共に内部空間全体領域で下降気流を提供することができる。

図１６は、図１４の工程チャンバに対する他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。図１６は、図１４の実施例の工程チャンバ３００を等しく提供し、撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニット７００をさらに含むことができる。図１６を参照すれば、撮像ユニット７００は下向き傾斜方向に撮影対象物を撮影することができる。一例で、撮像ユニット７００は基板支持ユニット３４０に支持された基板または液供給ユニット３７０aのノズル３７４を撮影対象物にして撮影することができる。撮像ユニット７００はハウジング３１０の第１側壁３１２に設置されることができる。撮像ユニット７００は打孔板５００fの第１面５２０fに隣接した位置で第１面５２０fの傾いた面と相応する高さに提供されることができる。これにより下降気流を提供するための打孔板が提供された構造で撮像ユニット７００の設置空間を確保し、撮像ユニット７００の画角を保存することができるし、それと共に内部空間全体領域で下降気流を提供することができる。

以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の望ましい実施形態を示して説明するものであり、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で使用することができる。すなわち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、著述した開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。著述した実施例は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明するものであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態で本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むことで解釈されなければならない。

３１０ ハウジング
３２０ 処理容器
３４０ 基板支持ユニット
３８０ 排気ユニット
４００ 気流供給ユニット
５００ 打孔板

Claims (20)

1. 基板を処理する装置において、
   内部空間を有するハウジングと、
   前記内部空間内に位置し、処理空間を有する処理容器と、
   前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニットと、
   前記基板支持ユニットに支持された基板に液を供給する液供給ユニットと、
   前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニットと、
   前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する気流供給ユニットと、及び
   前記気流供給ユニットから下の方向に離隔され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出する打孔板を含み、
   前記打孔板は、
   底面と側面を含み、
   前記側面は第１面を含み、
   前記第１面は、前記ハウジングの複数の側壁のうちで前記第１面と隣接した第１側壁に向かう方向に上向きに傾いて、前記気体が吐出される第１ホールが形成されることを特徴とする基板処理装置。
2. 前記打孔板の前記底面には前記気体を吐出する底ホールが形成され、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たりの前記底ホールの開口面積と異なるように提供されることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供されることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記第１ホールは前記ハウジングの第１側壁を向けて下向き傾いた方向に直接前記気体を吐出するように設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
5. 前記側面は、
   前記気体を吐出する第２ホールが形成されて前記第１面と異なる第２面をさらに含み、
   前記第２面は、前記ハウジングの複数の側壁のうちで前記第２面と隣接した第２側壁に向かう方向に上向きに傾くように提供されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の基板処理装置。
6. 前記第１面の傾斜は前記第２面の傾斜より緩く提供されることを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供され、
   前記第２面の単位面積当たり前記第２ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて、前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
8. 前記側面は、
   前記気体を吐出する第３ホールが形成されて前記第１面及び前記第２面と異なる第３面と、前記気体を吐出する第４ホールが形成されて前記第１面、前記第２面、及び前記第３面と異なる第４面をさらに含み、
   前記第３面は、前記ハウジングの複数の側壁のうちで前記第３面と隣接した第３側壁に向かう方向に上向きに傾くように提供され、
   前記第４面は、前記ハウジングの複数の側壁のうちで前記第４面と隣接した第４側壁に向かう方向に上向きに傾くように提供されることを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
9. 前記第１面の傾斜は、前記第２面、第３面、及び第４面の傾斜より緩く提供され、
   前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供され、
   前記第２面、第３面、及び第４面の単位面積当たり前記第２ホール、第３ホール、及び第４ホールの開口面積のそれぞれは、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
10. 前記側面は、
    前記第１面が提供された部分を除いた他の部分は、前記ハウジングの側壁に接するように提供されることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
11. 前記気流供給ユニットは、
    外部の気体に含まれた不純物を除去するフィルターと、
    前記ハウジングの上部面に位置して前記内部空間に下降気流を形成するファンを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
12. 下向き傾斜方向の撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含み、
    前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置するように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
13. 基板を処理する装置において、
    内部空間を有して第１側壁及び第２側壁を含むハウジングと、
    前記内部空間内に位置し、処理空間を有する処理容器と、
    前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニットと、
    前記基板支持ユニットに支持された基板に液を供給する液供給ユニットと、
    前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニットと、
    前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向き気流を形成する気体を供給する気流供給ユニットと、及び
    前記気流供給ユニットから下の方向に離隔されて配置され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出する打孔板と、を具備し、
    前記打孔板は、
    前記支持ユニットに支持された基板と垂直な方向に前記気体を吐出するように形成された底ホールを含む底面と、
    前記底面から上向きに傾くように延長され、前記第１側壁と対向する第１面を含み、
    前記第１面には前記第１側壁に直接向かう方向に前記気体を吐出する第１ホールが形成される基板処理装置。
14. 前記第１面の単位面積当たりの前記第１ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さく提供されることを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
15. 前記打孔板は、
    前記底面から上向きに傾くように延長され、前記第２側壁と対向する第２面を含み、
    前記第２面には前記第２側壁に直接向かう方向に前記気体を吐出する第２ホールが形成され、
    前記第１面の傾斜は前記第２面の傾斜より緩く提供され、
    前記第２面の単位面積当たりの前記第２ホールの開口面積は、前記底面の単位面積当たり前記底ホールの開口面積より小さくて前記第１面の単位面積当たり前記第１ホールの開口面積より大きく提供されることを特徴とする請求項１４に記載の基板処理装置。
16. 下向き傾斜方向の撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含み、
    前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置するように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることを特徴とする請求項１３乃至請求項１５のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
17. 基板を処理する装置において、
    内部空間を有して第１側壁、第２側壁、第３側壁、及び第４側壁を含むハウジングと、
    前記内部空間内に位置し、処理空間を有する処理容器と、
    前記処理空間で基板を支持する基板支持ユニットと、
    前記基板支持ユニットに支持された基板に液を供給する液供給ユニットと、
    前記処理空間で発生されるヒュームを排気する排気ユニットと、
    前記ハウジングの上部面に結合され、前記内部空間に下向きに気流を形成する気体を供給する気流供給ユニットと、及び
    前記気流供給ユニットから下の方向に離隔されて配置され、前記処理容器より上に配置され、前記内部空間で前記気体を吐出して前記内部空間の気流渋滞を解消する打孔板と、を具備し、
    前記打孔板は、
    前記支持ユニットに支持された基板と垂直な方向に前記気体を吐出するように形成された底ホールを含む底面と、
    前記底面から上向きに傾くように延長され、前記第１側壁と対向する第１面を含み、
    前記第１面には前記第１側壁に直接向かう方向に前記気体を吐出する第１ホールが形成される基板処理装置。
18. 前記打孔板は、第２面、第３面、及び第４面をさらに含み、
    前記第２面、第３面、及び第４面は、それぞれの面と隣接した前記ハウジングの第２側壁、第３側壁、及び第４側壁に向かう方向に上向きに傾くように延長され、それぞれに前記気体を吐出するホールが形成され、
    前記第１面の傾斜は、前記第２面、前記第３面、及び前記第４面の傾斜より緩く提供されることを特徴とする請求項１７に記載の基板処理装置。
19. 前記第１面に形成された前記第１ホールの単位面積当たり開口面積が、前記底面、前記第２面、前記第３面、及び前記第４面に形成されたホールの単位面積当たり開口面積より小さく提供されることを特徴とする請求項１８に記載の基板処理装置。
20. 下向き傾斜方向に撮影を通じて撮影対象物の映像を獲得する撮像ユニットを含み、
    前記撮像ユニットは前記ハウジングの第１側壁に設置するように提供され、前記第１面の隣接した位置で前記第１面の傾いた面と相応する高さに提供されることを特徴とする請求項１７乃至請求項１９のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
    

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