JP7356142B2 - ロジンアルコキシレートの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の一実施形態のロジンアルコキシレートの製造方法1(以下、単に「製造方法1」と称す。)は、図1に示すように、混合物(A)、化合物(B)を出発原料2とするものであり、予め規定された配合比率に基づいて、反応容器3の化合物導入口4から当該出発原料2を導入する化合物導入工程S1と、反応容器3の容器内部を規定の温度及び圧力の反応初期条件RSCに調整する反応初期条件調整工程S2と、調整された反応初期条件RSCで化合物(C)を加え、混合物(A)及び化合物(B)をエーテル化反応条件ERCにてエーテル化するエーテル化反応工程S3と主に具備して構成されている。
一方、本発明の別例構成のロジンアルコキシレートの製造方法1a(以下、単に「製造方法1a」と称する。)は、図2に示すように、混合物(A)及び化合物(B)の第一出発原料2aとするものであり、予め規定された配合比率に基づいて、溶解用容器7の溶解用導入口8から当該第一出発原料2aを導入する溶解用容器導入工程T1と、溶解用容器7の容器内部を規定の溶解温度及び溶解圧力にかかる溶解条件SCに調整する溶解条件調整工程T2と、調整された溶解条件SCで混合物(A)及び化合物(B)を溶解し、溶解混合物9を生成する溶解工程T3とを更に具備して構成されている。
下記表1に示す通り、出発原料として使用する混合物(A)、化合物(B)、及び化合物(C)をそれぞれ組み合わせ、実施例1~5、参考例1~6及び比較例1,2のそれぞれについて、ロジンアルコキシレートの製造(合成)を行った。ここで、実施例1~5、参考例1~2、4~6及び比較例1,2において、混合物(A)のロジンとして中華人民共和国(以下、中国)産の「ガムロジンXグレード」を用いており、参考例3はロジンとして「アビエチン酸」を用いている。なお、上述した通り、ガムロジンX等のロジンは、室温において固体の性状を呈し、軟化点が約75℃~80℃前後であり、融点が100℃程度のものである。
実施例1~5、参考例1~6及び比較例1,2において二つの製造装置を用いてロジンアルコキシレートの製造を行った(図1及び図2参照)。すなわち、溶解用容器と反応容器とを備え、溶解用容器及び反応容器の間を搬送用配管で接続した製造装置PD2(図2参照)と、反応容器のみを用いた製造装置PD1(図1参照)とを用いた。上記表1において、製造装置の項におけるPD1及びPD2はそれぞれ上記の図1及び図2に示した製造装置を使用したことを示している。
実施例1~5及び比較例1は、溶解用容器及び反応容器を備える製造装置PD2を用いてロジンアルコキシレートの製造を行った。かかる場合、混合物(A)及び化合物(B)と48%水酸化カリウム水溶液を混合物(A)及び化合物(B)の合計質量の1%となるように溶解用容器に導入し、溶解温度を120℃及び溶解圧力をゲージ圧-0.05MPaにセットした溶解条件で1時間の溶解・脱水を行った。これにより、軟化点以上に加熱された混合物(A)(=ガムロジンX等)及び室温で液体の化合物(B)が互いに溶解し、脱水混合された状態となる。その結果、溶解混合物が生成される。
参考例1~5及び比較例2は、反応容器(公称容積1000Lのステンレス製耐圧容器)のみからなる製造装置PD1を用いてロジンアルコキシレートの製造を行った。かかる場合、混合物(A)、化合物(B)、及び触媒を反応容器に導入し、120℃でゲージ圧-0.05MPaにて1時間脱水反応を行った。反応容器の容器内部を窒素置換した後、温度120℃、ゲージ圧0.01MPaの反応初期条件とし、化合物(C)を徐々に加え温度155±10℃、ゲージ圧0.4MPaのエーテル化反応条件を維持したまま圧入した。圧入完了後、同一温度及び同一圧力にて1時間熟成を行い、反応の完了後、反応容器の温度を90℃以下まで冷却した後、反応容器から生成されたロジンアルコキシレート等を取り出した。
実施例1~5、参考例1~6及び比較例1,2について、それぞれ上記の製造方法によりロジンアルコキシレートの製造を行った後、反応終了後の製造装置PD1,PD2の溶解用容器、搬送用配管、反応容器、及び取出用配管におけるそれぞれの評価位置P1,P2,P3,P4(図1及び図2参照)の閉塞性(P2,P4のみ)及び洗浄性(P1,P2,P3,P4)について評価を行った。
A: 特別な操作を行うことなく搬送可能
B: 低圧蒸気で配管を熱する操作を行うことで搬送可能
C: 低圧蒸気で配管を熱する操作及び振動を加えても搬送不可
である。
A: 水洗のみにより付着物の洗浄が可能
B: 1%苛性カリ水溶液により付着物の洗浄が可能
C: メタノールにより付着物の洗浄が可能
である。
Claims (7)
- ロジンで構成される混合物(A)、前記ロジンとともにエーテル化可能な化合物であって、分子中に活性水素を有し、40℃で液体の性状を呈し、下記の化1で示される化合物で構成される化合物(B)をそれぞれ所定の配合比率で溶解用容器に導入する溶解用容器導入工程と、
前記溶解用容器の内部を予め規定された温度及び圧力の溶解条件に調整する溶解条件調整工程と、
前記溶解条件に調整された前記溶解用容器で、前記混合物(A)及び前記化合物(B)を溶解させ、溶解混合物を生成する溶解工程と、
生成された前記溶解混合物を反応容器に導入する化合物導入工程と、
前記反応容器の内部を予め規定された温度及び圧力の反応初期条件に調整する反応初期条件調整工程と、
前記反応初期条件に調整された前記反応容器を用い、前記溶解混合物にアルキレンオキシドで構成される化合物(C)を加え、規定の温度及び圧力のエーテル化反応条件でエーテル化反応させ、ロジンアルコキシレートを生成するエーテル化反応工程と
を具備するロジンアルコキシレートの製造方法。
(R 1 は、水酸基、炭素数1~30のアルキルアルコールから活性水素を除いた残基、炭素数2~30のアルケニルアルコールから活性水素を除いた残基、炭素数6~30のフェノール類から活性水素を除いた残基、及び炭素数3~30の多価アルコールから活性水素を除いた残基、窒素原子、炭素数1~22のアルキル基を有するアミンから活性水素を除いた残基のいずれか一つを示し、AOは炭素数2~18のオキシアルキレン基であり、全体の50mol%以上がエチレンオキシドであることを示すものであり、mは0~20の整数を示し、nは1~6の整数を示し、m×nが0~20を示し、R 1 が、窒素原子または炭素数1~22のアルキル基を有するアミンから活性水素を除いた残基の場合、mが0、m×nが0を除く。) - 前記化1において、R 1 は炭素数6~20のアルキルアルコールから活性水素を除いた残基、炭素数6~20のアルケニルアルコールから活性水素を除いた残基、炭素数6~30のフェノール類から活性水素を除いた残基、及び炭素数6~20のアルキル基を有するアミンから活性水素を除いた残基のいずれか一つまたは二つ以上である請求項1に記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
- 前記エーテル化反応工程は、エーテル化触媒存在下で行われる請求項1または2に記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
- 前記エーテル化触媒が、アルカリ触媒である請求項3に記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
- 前記化1において、前記AOはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドのみによって構成され、前記エチレンオキシドが90mol%以上である請求項1~4のいずれか一つの項記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
- 前記エーテル化触媒は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムターシャリブトキシドから選ばれる一つまたは二つ以上である請求項3~5のいずれか一つの項記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
- 前記混合物(A)として使用されるロジンは、
ガムロジンである請求項1~6のいずれか一つの項記載のロジンアルコキシレートの製造方法。
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