JP7366789B2 - Optical device, exposure device, and article manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、光学装置、露光装置、及び物品の製造方法に関する。 The present invention relates to an optical device, an exposure device, and a method of manufacturing an article.
従来、光学装置において光学素子が光の一部を吸収して発熱することで、光学素子周囲の気体の屈折率が温度変化することによって、光学性能が変化する虞があることが知られている。
また、光学素子が収納されている鏡筒が周囲の熱によって変形したり、装置の外部もしくは内部において発生する振動に伴って光学素子が振動することで、光学性能が変化する虞があることも知られている。
Conventionally, it has been known that in optical devices, when an optical element absorbs a portion of light and generates heat, the refractive index of the gas surrounding the optical element changes with temperature, which may change the optical performance. .
Additionally, there is a risk that the optical performance may change if the lens barrel in which the optical element is housed is deformed by the surrounding heat, or if the optical element vibrates due to vibrations that occur outside or inside the device. Are known.
特許文献1は、光学素子が収納されている鏡筒内に温調気体を供給すると共に、鏡筒の壁面にリブ構造を設けることで、光学性能の変化を抑制すると共に鏡筒の剛性を高めた露光装置を開示している。 Patent Document 1 discloses that by supplying temperature regulating gas into the lens barrel in which optical elements are housed and providing a rib structure on the wall surface of the lens barrel, changes in optical performance are suppressed and the rigidity of the lens barrel is increased. discloses an exposure apparatus.
特許文献1に開示されているように、光学性能の変化を抑制すると共に鏡筒の剛性を高めるために、鏡筒において温調気体の流路とリブ構造とをそれぞれ設けようとすると装置が大型化してしまう。
そこで本発明は、光学性能の変化を抑制すると共に鏡筒の剛性を高めつつ、コンパクトな光学装置を提供することを目的とする。
As disclosed in Patent Document 1, in order to suppress changes in optical performance and increase the rigidity of the lens barrel, if a temperature control gas flow path and a rib structure are provided in the lens barrel, the device becomes large. It turns into
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an optical device that is compact while suppressing changes in optical performance and increasing the rigidity of a lens barrel.
本発明に係る光学装置は、光学素子と、外壁、内壁、及び外壁と内壁との間に設けられると共に、外壁及び内壁の少なくとも一方に結合するリブを有し、光学素子を収納する鏡筒とを備え、鏡筒内において、外壁と内壁との間に気体供給手段から供給される気体の流路が画定されると共に、内壁の内側に光学素子が収納される光学素子収納空間が画定され、気体は、流路及び光学素子収納空間を通過し、リブには、気体が通過する開口が形成されていることを特徴とする。
An optical device according to the present invention includes an optical element, an outer wall, an inner wall, and a rib provided between the outer wall and the inner wall and coupled to at least one of the outer wall and the inner wall, and a lens barrel that houses the optical element. In the lens barrel, a flow path for gas supplied from the gas supply means is defined between the outer wall and the inner wall, and an optical element storage space in which the optical element is stored is defined inside the inner wall, The gas passes through the flow path and the optical element storage space , and the rib is characterized in that an opening through which the gas passes is formed .
本発明によれば、光学性能の変化を抑制すると共に鏡筒の剛性を高めつつ、コンパクトな光学装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a compact optical device while suppressing changes in optical performance and increasing the rigidity of the lens barrel.
以下に、本実施形態に係る光学装置を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている。
また、本実施形態は以下の実施形態に限定されるものではなく、以下では本実施形態の実施に有利な具体例を示しているに過ぎない。
また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本実施形態の課題解決のために必須のものであるとは限らない。
The optical device according to the present embodiment will be described in detail below based on the accompanying drawings. Note that the drawings shown below are drawn on a different scale from the actual scale in order to facilitate understanding of the present embodiment.
Further, this embodiment is not limited to the following embodiments, and the following merely shows specific examples that are advantageous for implementing this embodiment.
Furthermore, not all combinations of features described in the following embodiments are essential for solving the problems of this embodiment.
従来、露光装置の高精細化における一つの課題として温度変化によるパターン像の変化が知られている。具体的には、長時間にわたって露光処理を行うと、光学素子が露光光の一部を吸収することによって光学素子や光学素子保持部材、周辺の空間の温度が上昇する。
そして、この温度上昇に伴って周辺の気体の屈折率が変化することで、基板上に形成されるパターン像が変形してしまう。
Conventionally, changes in pattern images due to temperature changes have been known as one of the issues in achieving higher definition in exposure apparatuses. Specifically, when exposure processing is performed for a long time, the temperature of the optical element, the optical element holding member, and the surrounding space increases as the optical element absorbs a portion of the exposure light.
As the temperature rises, the refractive index of the surrounding gas changes, resulting in deformation of the pattern image formed on the substrate.
このようなパターン像の変形を抑制するためには、光学素子の発熱を均一にし、周辺の気体の温度変化を抑制することが求められる。
そのため露光装置では、光学素子が収納されている鏡筒に温度調整された気体を供給することで、光学素子及び露光光路中の気体の温度変化を抑制することが行われている。
In order to suppress such deformation of the pattern image, it is required to make the heat generation of the optical element uniform and to suppress the temperature change of the surrounding gas.
Therefore, in exposure apparatuses, temperature changes in the optical element and the gas in the exposure optical path are suppressed by supplying temperature-controlled gas to the lens barrel in which the optical element is housed.
また、鏡筒自体の熱変形によっても、基板上に形成されるパターン像が変形するため、鏡筒の温度変化を抑制することも求められる。
そのため露光装置では、鏡筒の壁面にリブ構造を設けることで鏡筒の剛性を高めることも行われている。
加えて、鏡筒の壁面上において設けられた各リブ構造の間に断熱材を設けることによって、鏡筒の外部からの熱の吸収を抑制することで、鏡筒の熱変形を抑制することも行われている。
Furthermore, since the pattern image formed on the substrate is also deformed due to thermal deformation of the lens barrel itself, it is also required to suppress temperature changes in the lens barrel.
For this reason, in exposure apparatuses, a rib structure is provided on the wall surface of the lens barrel to increase the rigidity of the lens barrel.
In addition, by providing a heat insulating material between each rib structure provided on the wall surface of the lens barrel, it is possible to suppress the absorption of heat from the outside of the lens barrel, thereby suppressing thermal deformation of the lens barrel. It is being done.
露光装置の高精細化における別の課題として、露光装置の外部若しくは内部において発生する振動の影響によるパターン像の変化も知られている。
具体的には、何らかの要因で露光装置の外部もしくは内部において発生した振動に伴って光学素子が振動すると、パターン像が変化してしまう。
そのため露光装置では、光学素子の鏡筒への固定方法を改善したり、鏡筒の壁を厚くする若しくはリブを多く設けることによって、剛性を高めることが行われている。
Another known problem in increasing the definition of exposure apparatuses is that pattern images change due to the influence of vibrations occurring outside or inside the exposure apparatus.
Specifically, if the optical element vibrates due to vibrations generated outside or inside the exposure apparatus for some reason, the pattern image changes.
For this reason, in exposure apparatuses, rigidity has been increased by improving the method of fixing optical elements to the lens barrel, making the walls of the lens barrel thicker, or providing more ribs.
以上のように、露光装置の高精細化において、鏡筒内の光学素子、光路空間中の気体並びに鏡筒自体の温度変化を抑制するために、光学素子が収納されている鏡筒に温度調整された気体を供給することが行われている。
加えて、露光装置の外部若しくは内部において発生する振動による影響も抑制するために、鏡筒の剛性を高めることが行われている。
As described above, in order to increase the precision of exposure equipment, temperature adjustment is required in the lens barrel in which the optical elements are housed in order to suppress temperature changes in the optical elements in the lens barrel, the gas in the optical path space, and the lens barrel itself. It is currently being carried out to supply the same gas.
In addition, in order to suppress the influence of vibrations occurring outside or inside the exposure apparatus, efforts are being made to increase the rigidity of the lens barrel.
しかしながら、鏡筒の剛性を高めるために鏡筒の壁を厚くしたりリブの数を増加させると、鏡筒において空調用の給気口やダクトを設けるスペースが足りなくなり、鏡筒の温調と剛性との両立が困難となる。
そこで、本実施形態に係る光学装置では、以下に示すような構成を採ることで、鏡筒の剛性を確保すると共に、鏡筒内の光学素子、光路空間中の気体並びに鏡筒自体の温度変化を抑制しつつ小型化を達成している。特に本実施形態は、投影光学系とプレートステージとの間のスペースが狭い露光装置において有効である。
However, if the walls of the lens barrel are made thicker or the number of ribs is increased in order to increase the rigidity of the lens barrel, there will not be enough space in the lens barrel to install air supply ports and ducts for air conditioning, and the temperature control of the lens barrel will become difficult. It becomes difficult to achieve both rigidity and stiffness.
Therefore, in the optical device according to the present embodiment, by adopting the configuration shown below, the rigidity of the lens barrel is ensured, and the optical device in the lens barrel, the gas in the optical path space, and the temperature change of the lens barrel itself are Achieved miniaturization while suppressing This embodiment is particularly effective in an exposure apparatus in which the space between the projection optical system and the plate stage is narrow.
[第一実施形態]
図1は、第一実施形態に係る光学装置を備える露光装置100の模式的側面図を示している。
なお、以下の説明では、ガラスプレート105の感光面に垂直な鉛直方向をZ方向、ガラスプレート105の感光面内において互いに直交する二方向をそれぞれX方向及びY方向とする。
[First embodiment]
FIG. 1 shows a schematic side view of an
In the following description, the vertical direction perpendicular to the photosensitive surface of the
露光装置100は、半導体デバイスや液晶表示装置等の製造工程であるリソグラフィ工程において、原版(レチクル、又はマスク)のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板(表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレート等)に転写する装置である。
また、半導体デバイスや液晶表示装置等では線幅の微細化が求められており、それを製造する露光装置にも高精細化が必要となっている。
The
In addition, there is a demand for finer line widths in semiconductor devices, liquid crystal display devices, etc., and the exposure equipment used to manufacture them also needs to have higher definition.
露光装置100は、照明光学系101と、マスクステージ103と、投影光学系としての光学素子104a及び104b(第1の光学素子及び第2の光学素子)と、プレートステージ106とを備える。
The
露光装置100では、マスクステージ103に保持されたマスク102に対して、光源を有する照明光学系101から露光光が照射される。
そしてマスク102を通過した露光光は、台形鏡である光学素子104b、凹面鏡である光学素子104a、不図示の凸面鏡、光学素子104a、そして光学素子104bによって計5回反射された後、ガラスプレート105上に到達する。
このようにして、マスク102に形成されたパターンの像が、光学素子104a及び104bを介してプレートステージ106に保持されたガラスプレート105に塗布された感光剤上に投影(転写)される。
そして、露光装置100では、マスク102が載置されるマスクステージ103とガラスプレート105が載置されるプレートステージ106とが、Y方向に沿って互いに同期して走査される。
In the
The exposure light that has passed through the
In this way, the image of the pattern formed on the
In the
図1に示されているように、投影光学系としての光学素子104a及び104bは、鏡筒107内に収納されている。
なお、本実施形態に係る光学装置は、光学素子104a及び104bを含む光学素子と鏡筒107とから構成される。
As shown in FIG. 1,
Note that the optical device according to this embodiment includes an optical element including
図2は、本実施形態に係る光学装置を備える露光装置100を上方から見た一部断面図を示している。
FIG. 2 shows a partial cross-sectional view of the
図2に示されているように、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107内部の気体と光学素子104a及び104bとの温度環境等を制御するために空調機205(気体供給手段)から適切な温度及び湿度に調整された気体が供給される。
As shown in FIG. 2, in the optical device according to this embodiment, an air conditioner 205 (gas supply means) is used to control the temperature environment between the gas inside the
また図2に示されているように、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107は、外壁201と、内壁204と、外壁201及び内壁204に結合された、鏡筒107の剛性を補強するためのリブ202とを備えている。
またリブ202には、空調機205から供給された気体が通過するための開口が形成されている。なお、リブ202は、外壁201及び内壁204の少なくとも一方に結合(固定、接続)されていればよい。
Further, as shown in FIG. 2, in the optical device according to the present embodiment, the
Furthermore, an opening is formed in the
XY断面内においては、外壁201のうちX方向両側面、リブ202及び内壁204によって、空調機205から供給された気体の流路Lとなる閉空間が画定される。換言すると、本実施形態に係る光学装置では、外壁201と内壁204との間に空調機205から供給される気体の流路Lが画定される。
なお図2に示されているように、本実施形態に係る光学装置では、流路Lは、Y方向に延在していると共に、Z方向に垂直なXY断面内において、光学素子104a及び104bを挟んで両側に設けられている。
In the XY section, a closed space serving as a flow path L for gas supplied from the
As shown in FIG. 2, in the optical device according to this embodiment, the flow path L extends in the Y direction, and in the XY cross section perpendicular to the Z direction, the
そして、XY断面内においては、外壁201のうちY方向両端面と内壁204とによって、投影光学系としての光学素子104a及び104bが収納される空間S(光学素子収納空間)が画定される。
換言すると、本実施形態に係る光学装置では、内壁204の内側に光学素子104a及び104bが収納される空間Sが画定される。
In the XY section, a space S (optical element storage space) in which
In other words, in the optical device according to this embodiment, a space S is defined inside the
図2に示されているように、外壁201、リブ202及び内壁204によって画定される流路L内には温度センサ206が設けられている。
そして、温度センサ206の検知結果から流路Lを通過する気体が所定の温度となるように、空調機205によって温度調整された気体が給気ダクト207(供給流路)を通って給気口108から流路Lに供給される。
As shown in FIG. 2, a
Then, the gas whose temperature is adjusted by the
流路Lに供給された気体は、リブ202に形成された開口を通過した後、光学素子104a及び104bが収納されている空間Sへの吹き出し口208に到達する。なお、リブ202が外壁201及び内壁204の一方に結合されている場合には、流路Lに供給された気体は、リブ202の他方側のスペースを通過することもできる。
ここで吹き出し口208には、風速の分布を抑制させるためのメッシュやパンチングメタル等の抵抗体が用いられている。
After passing through the opening formed in the
Here, the
そして、流路L及び空間Sを互いに連通させている吹き出し口208を通って空間Sに供給された気体は、空間S内の気体や光学素子104a及び104bの温調を行う。その後、気体は、排気口109から排出され、排気ダクト209(排出流路)を通って空調機205によって回収される。
なお、吹き出し口208には、気体を光学素子104a及び104bに向ける、光学素子104aと104bとの間の光路に向ける等、気体の進行方向を設定することができるルーバーを設けることもできる。
また、図2に示されているように、本実施形態に係る光学装置では、吹き出し口208は、Z方向及び吹き出し口208に垂直なX方向それぞれに垂直なY方向において光学素子104aと光学素子104bとの間に設けられている。すなわち、吹き出し口208は、流路Lが延在するY方向において光学素子104aと光学素子104bとの間に設けられている。
The gas supplied to the space S through the
Note that the
Further, as shown in FIG. 2, in the optical device according to the present embodiment, the
そして、回収された気体は空調機205において適切な温度に調整された後、鏡筒107に再び供給される。
このように、本実施形態に係る光学装置では、空調機205によって鏡筒107内を温調するように気体が閉循環されている。
ここで、空調機205から供給される気体と鏡筒107との間の熱交換の大きさは、流路Lの表面積に依存しているため、流路Lは、鏡筒107の想定される温度に応じて設計すればよい。
The recovered gas is then adjusted to an appropriate temperature in the
In this way, in the optical device according to the present embodiment, gas is circulated in a closed manner so as to control the temperature inside the
Here, since the magnitude of heat exchange between the gas supplied from the
以上のように、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107内においてリブ202及び内壁204を設けるためのスペースと空調機205から鏡筒107に供給される気体の流路Lのためのスペースとを共通のスペースで兼ねることができる。
これにより、鏡筒107の剛性を確保し、鏡筒107内の光学素子104a及び104bとそれらが収納される空間S内の気体との温調を行いつつ、鏡筒107の小型化を達成することができる。
As described above, in the optical device according to the present embodiment, there is a space in the
This ensures the rigidity of the
また、上記のように本実施形態に係る光学装置を備える露光装置100では、露光処理における温度上昇に伴って鏡筒107に熱変形が生じることで光学性能が変化してしまうため、鏡筒107の温度変化を抑制することが求められる。
そのため、本実施形態に係る光学装置を備える露光装置100では、空調機205から供給された気体が鏡筒107の外壁201、リブ202及び内壁204によって画定された流路Lを通過することで、鏡筒107と供給気体との間で熱交換が行われる。
Further, in the
Therefore, in the
その際、露光処理によって蓄積された鏡筒107の熱が供給気体に移動するため、鏡筒107の温度上昇を抑制することが可能となる。
それにより、露光処理によって熱が発生しても光学性能の変化を抑制することができる、安定性の高い露光装置100を提供することができる。
At this time, the heat accumulated in the
Thereby, it is possible to provide a highly
またその際、空調機205から供給された気体は、鏡筒107から熱を受け取ることによって温度上昇する。
従って、温度上昇した気体が空調機205によって回収されるため、空調機205の加熱ヒーターの出力を抑えることが可能となり、空調機205の消費電力を抑えることができる。
At this time, the temperature of the gas supplied from the
Therefore, since the gas whose temperature has increased is recovered by the
以上のように、本実施形態に係る光学装置では、空調機205から給気口108を介して鏡筒107に供給される気体が鏡筒107内の外壁201、開口が形成されたリブ202及び内壁204によって画定された流路Lを通過する。その後、気体は吹き出し口208から空間Sに流入し、空間Sを通過した後、排気口109から排気されることで空調機205によって回収される。
これにより、リブ202及び内壁204を用いて鏡筒107の剛性を確保すると共に、鏡筒107内の光学素子104a及び104b、光路空間中の気体並びに鏡筒107自体の温度変化を抑制しつつ、光学装置の小型化を達成している。
As described above, in the optical device according to the present embodiment, gas supplied from the
As a result, the rigidity of the
なお、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107の空間SのX方向両側にそれぞれ吹き出し口208が設けられていると共に、Y方向一端部に排気口109が設けられているが、吹き出し口208及び排気口109の位置や個数はこれに限られない。特に、吹き出し口208及び排気口109の位置は、鏡筒107の形状や光学素子104a及び104bの配置によって変化する。
また、本実施形態に係る光学装置では、流路Lと給気ダクト207とを互いに連通させるように給気口108を設ける一方で、空間Sと排気ダクト209とを互いに連通させるように排気口109が設けられているが、これに限られない。
すなわち、空間Sと給気ダクト207とを互いに連通させるように給気口108を設ける一方で、流路Lと排気ダクト209とを互いに連通させるように排気口109を設けてもよい。
そして、空調機205から給気口108を介して鏡筒107に供給される気体が空間Sを通過した後、吹き出し口208から流路Lに流入し、そして、気体が流路Lを通過した後、排気口109から排気されてもよい。
In the optical device according to the present embodiment,
Further, in the optical device according to the present embodiment, the
That is, the
After the gas supplied from the
[第二実施形態]
図3は、第二実施形態に係る光学装置を備える露光装置200を上方から見た一部断面図を示している。
なお、本実施形態に係る光学装置は、鏡筒107の構造が異なること以外は、第一実施形態に係る光学装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の付番を付して説明を省略する。
[Second embodiment]
FIG. 3 shows a partial cross-sectional view of an
Note that the optical device according to this embodiment has the same configuration as the optical device according to the first embodiment except that the structure of the
第一実施形態において述べたように、空調機205から供給された気体が鏡筒107の外壁201、リブ202及び内壁204によって画定された流路Lを通過するため、鏡筒107と供給気体との間で熱交換が行われる。
その際、供給気体が接触する鏡筒107の表面積が広くなるほど、鏡筒107と供給気体との間の熱交換量は大きくなる。
As described in the first embodiment, since the gas supplied from the
At this time, the larger the surface area of the
そのため、本実施形態に係る光学装置では、供給気体が接触する鏡筒107の表面積を増加させる、すなわち、流路Lが長くなるように鏡筒107を設計している。
具体的には、図3に示されているように、外壁201と内壁204との間において、それぞれ異なる位置に開口が形成された第1のリブ202aと第2のリブ202bとがY方向に沿って交互に配置されるように整列している。
Therefore, in the optical device according to the present embodiment, the
Specifically, as shown in FIG. 3, between the
換言すると、本実施形態に係る光学装置では、鉛直方向に垂直なXY断面内の流路Lに垂直なX方向においてそれぞれ互いに異なる位置に開口が形成された第1のリブ202a及び第2のリブ202bが流路Lに沿って交互に配置されるように整列している。これにより、流路Lに供給された気体は、ジグザグに蛇行して流路L内を流れることになる。
なお、本実施形態に係る光学装置では、第1のリブ202aでは開口がX方向中央に形成されている一方で、第2のリブ202bでは開口がX方向内壁204側端部に形成されているが、これに限られない。
In other words, in the optical device according to the present embodiment, the
Note that in the optical device according to this embodiment, the
以上のように、本実施形態に係る光学装置では、空調機205から鏡筒107に供給される気体が鏡筒107内の外壁201、開口が形成された第1のリブ202a及び第2のリブ202b、及び内壁204によって画定された流路Lを通過する。その後、気体は吹き出し口208から空間Sに流入し、空間Sを通過した後、排気口109から排気されることで空調機205によって回収される。
これにより第1のリブ202a、第2のリブ202b及び内壁204を用いて鏡筒107の剛性を確保すると共に、鏡筒107内の光学素子104a及び104b、光路空間中の気体並びに鏡筒107自体の温度変化を抑制しつつ、光学装置の小型化を達成している。
As described above, in the optical device according to the present embodiment, the gas supplied from the
This ensures the rigidity of the
加えて、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107、具体的には流路Lを上記のように設計することによって、供給気体がXY断面内においてジグザグに蛇行して進行するように流路Lが長くなる。そのため、供給気体が接触する鏡筒107の表面積を増加させることができる。
これにより、鏡筒107と供給気体との間の熱交換量が増加し、鏡筒107の温度上昇をより効率的に抑制することが可能となる。
また、鏡筒107と供給気体との間の熱交換量が増加することで、空調機205の加熱ヒーターの出力、すなわち空調機205の消費電力をより抑えることができる。
In addition, in the optical device according to this embodiment, by designing the
This increases the amount of heat exchange between the
Further, by increasing the amount of heat exchange between the
[第三実施形態]
図4は、第三実施形態に係る光学装置を備える露光装置300を上方から見た一部断面図を示している。
なお、本実施形態に係る光学装置は、制御部305を設けると共に鏡筒107の構造が異なること以外は、第一実施形態に係る光学装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の付番を付して説明を省略する。
[Third embodiment]
FIG. 4 shows a partial sectional view of an
Note that the optical device according to the present embodiment has the same configuration as the optical device according to the first embodiment, except that the
図4に示されているように、本実施形態に係る光学装置では、外壁201、リブ202及び内壁204によって画定される流路が分断部材308によって分断されている。それにより、相対的に長い(表面積が大きい)流路L1(第1の流路)と相対的に短い(表面積が小さい)流路L2(第2の流路)とが設けられている。
そして、流路L1及びL2の合流地点、すなわち分断部材308のY方向両端部にそれぞれ切り換え弁301及び302(切り換え手段)が設けられている。
As shown in FIG. 4, in the optical device according to this embodiment, a flow path defined by an
Switching
このとき、鏡筒107の温度が大きく上昇している、具体的には所定の温度以上である場合には、制御部305は、空調機205によって供給された気体が流路L1を通るように切り換え弁301及び302を制御する。
一方、鏡筒107の温度が大きく上昇していない、具体的には所定の温度未満である場合には、制御部305は、空調機205によって供給された気体が流路L2を通るように切り換え弁301及び302を制御する。
ここで、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107の温度を測定するために温度センサ306が設けられている。
At this time, if the temperature of the
On the other hand, if the temperature of the
Here, in the optical device according to this embodiment, a
すなわち、本実施形態に係る光学装置では、流路を長さが互いに異なる流路L1と流路L2とに分断する分断部材308が設けられている。
そして、流路L1と流路L2との合流地点には、気体が流路L1及び流路L2の一方を進行するように流路を切り換える切り換え弁301及び302が設けられている。
そして、制御部305は、鏡筒107の温度を検出する温度センサ306の検出結果に基づいて切り換え弁301及び302を制御する。
That is, the optical device according to this embodiment is provided with a dividing
At the confluence point of the flow path L1 and the flow path L2, switching
Then, the
このとき、供給気体を流路L1で通過させる場合には、流路L1内において大きい圧力損失が発生するため、空調機205においてファンの出力を増加させる必要がある。
一方、流路L1では、流路L2と比べて供給気体が接触する鏡筒107の表面積が大きくなるため、鏡筒107と供給気体との間の熱交換量が増大し、鏡筒107の温度上昇をより効率的に抑制することが可能となる。
At this time, when the supply gas is passed through the flow path L1, a large pressure loss occurs within the flow path L1, so it is necessary to increase the output of the fan in the
On the other hand, in the flow path L1, the surface area of the
以上のように、本実施形態に係る光学装置では、空調機205から給気口108を介して鏡筒107に供給される気体が鏡筒107内の外壁201、開口が形成されたリブ202及び内壁204によって画定された流路L1又はL2を通過する。その後、気体は吹き出し口208から空間Sに流入し、空間Sを通過した後、排気口109から排気されることで空調機205によって回収される。
これにより、リブ202及び内壁204を用いて鏡筒107の剛性を確保すると共に、鏡筒107内の光学素子104a及び104b、光路空間中の気体並びに鏡筒107自体の温度変化を抑制しつつ、光学装置の小型化を達成している。
As described above, in the optical device according to the present embodiment, gas supplied from the
As a result, the rigidity of the
加えて、本実施形態に係る光学装置では、分断部材308によって設けられた、互いに長さが異なる流路L1及びL2を鏡筒107の温度に応じて切り換えることによって、鏡筒107の温度上昇をより効率的に抑制することができる。
In addition, in the optical device according to the present embodiment, the temperature rise in the
なお、本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107の温度に応じて流路を切り換えていたが、これに限られない。例えば、光学装置の運転時間から鏡筒107の温度が推定できる場合には、鏡筒107の運転時間が所定の時間を経過した際に流路を切り換えてもよい。
また、本実施形態に係る光学装置では、外壁201、リブ202及び内壁204によって画定される流路を二つの流路L1及びL2に分割したが、これに限らず三つ以上の流路に分割しても構わない。
また、本実施形態に係る光学装置では、分断部材308のY方向両端部にそれぞれ切り換え弁301及び302を設けているが、これに限らず、三つ以上の合流地点を設けてそれぞれに切り換え弁を設けても構わない。
Note that in the optical device according to the present embodiment, the flow path is switched depending on the temperature of the
Further, in the optical device according to the present embodiment, the flow path defined by the
Further, in the optical device according to the present embodiment, the switching
[第四実施形態]
図5は、第四実施形態に係る光学装置を備える露光装置400を上方から見た一部断面図を示している。
なお、本実施形態に係る光学装置は、鏡筒107の構造が異なること以外は、第一実施形態に係る光学装置と同一の構成であるため、同一の部材には同一の付番を付して説明を省略する。
[Fourth embodiment]
FIG. 5 shows a partial sectional view of an
Note that the optical device according to this embodiment has the same configuration as the optical device according to the first embodiment except that the structure of the
図5に示されているように、空調機205は、冷却器402、加熱ヒーター403及びファン404を備えている。
そして空調機205では、まず冷却器402において気体が所定の温度まで冷却された後、加熱ヒーター403によって所定の温度まで加温され、ファン404によって鏡筒107に供給される。
As shown in FIG. 5, the
In the
本実施形態に係る光学装置では、空調機205から鏡筒107に供給される気体と、鏡筒107から空調機205に排出される気体とが互いに熱交換を行うことができる構成を採っている。
The optical device according to this embodiment has a configuration in which the gas supplied from the
具体的には、図5に示されているように、光学素子104a及び104bが収納される空間Sと排気口109との間に、新たに熱交換用の空間S’(熱交換用空間)が設けられている。
そして、空間S’のX方向両側にはそれぞれ、熱交換用の壁401(熱交換用壁)が設けられている。また、空間S’に流入した気体が熱交換用の壁401に接触し易くなるように、空間S’の中央部には流路形成部材408が設けられている。
Specifically, as shown in FIG. 5, a new heat exchange space S' (heat exchange space) is created between the space S where the
Heat exchange walls 401 (heat exchange walls) are provided on both sides of the space S' in the X direction. Further, a flow
上記で述べたように、空調機205から供給された気体と鏡筒107や光学素子104a及び104bとの間で熱交換が行われる。
そのため、露光処理によって蓄積された鏡筒107や光学素子104a及び104bの熱が供給気体に移動することで、鏡筒107から排出される気体の温度は上昇している。
すなわち本実施形態に係る光学装置では、鏡筒107へ供給される気体の温度より鏡筒107から排出される気体の温度の方が高いため、鏡筒107から排出される気体から鏡筒107へ供給される気体へ熱交換用の壁401を介して熱が移動する。
As described above, heat exchange is performed between the gas supplied from the
Therefore, the heat accumulated in the
That is, in the optical device according to the present embodiment, since the temperature of the gas discharged from the
これにより、鏡筒107へ供給される気体の温度は上昇するため、空調機205に設けられた加熱ヒーター403の出力を抑えることができる。
加えて、鏡筒107から排出される気体の温度は低下するため、空調機205に設けられた冷却器402の出力も抑えることができる。
このため、本実施形態に係る光学装置では、空調機205の消費電力を削減することができる。
As a result, the temperature of the gas supplied to the
In addition, since the temperature of the gas discharged from the
Therefore, in the optical device according to this embodiment, the power consumption of the
以上のように、本実施形態に係る光学装置では、空調機205から給気口108を介して鏡筒107に供給される気体が鏡筒107内の外壁201、開口が形成されたリブ202及び内壁204によって画定された流路Lを通過する。その後、気体は吹き出し口208から空間Sに流入し、空間S及びS’を通過した後、排気口109から排気されることで空調機205によって回収される。
これにより、リブ202及び内壁204を用いて鏡筒107の剛性を確保すると共に、鏡筒107内の光学素子104a及び104b、光路空間中の気体並びに鏡筒107自体の温度変化を抑制しつつ、光学装置の小型化を達成している。
As described above, in the optical device according to the present embodiment, gas supplied from the
As a result, the rigidity of the
加えて、本実施形態に係る光学装置では、空間Sと排気口109との間に熱交換用の空間S’を設けると共に、空間S’内の気体と流路L内の気体との間における熱交換量が内壁204よりも大きい熱交換用の壁401が設けられている。すなわち、内壁204の一部である熱交換用の壁401は、内壁204の他の部分よりも高い伝熱性能を有している。
これにより、空調機205に設けられた加熱ヒーター403及び冷却器402の出力を抑えることができ、空調機205の消費電力を削減することが可能となる。
In addition, in the optical device according to this embodiment, a space S' for heat exchange is provided between the space S and the
Thereby, the output of the
なお本実施形態に係る光学装置では、熱交換用の壁401において、熱交換が促進されるようにヒートシンクを設置したり、表面を凸凹な形状を有するように構成しても構わない。
また、本実施形態に係る光学装置では、熱交換用の空間S’を設けて熱交換用の壁401を介して鏡筒107から排出される気体と鏡筒107へ供給される気体との間で熱交換を行っていたが、これに限られない。例えば、鏡筒107外の給気ダクト207と排気ダクト209とを熱接触させることで、鏡筒107から排出される気体と鏡筒107へ供給される気体との間で熱交換を行うことも可能である。
Note that in the optical device according to this embodiment, a heat sink may be installed on the
Furthermore, in the optical device according to the present embodiment, a heat exchange space S' is provided between the gas discharged from the
以上、好ましい実施形態について説明したが、これらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。 Although preferred embodiments have been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist thereof.
[物品の製造方法]
次に、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光学装置を備える露光装置を用いた物品の製造方法について説明する。
[Method for manufacturing articles]
Next, a method for manufacturing an article using an exposure apparatus including an optical device according to any one of the first to fourth embodiments will be described.
物品は、半導体デバイス、表示デバイス、カラーフィルタ、光学部品、MEMS等である。
例えば、半導体デバイスは、ウエハに回路パターンを作るための前工程と、前工程で作られた回路チップを製品として完成させるための、加工工程を含む後工程とを経ることにより製造される。
前工程は、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光学装置を備える露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する露光工程と、感光剤を現像する現像工程とを含む。
現像された感光剤のパターンをマスクとしてエッチング工程やイオン注入工程等が行われ、ウエハ上に回路パターンが形成される。
これらの露光、現像、エッチング等の工程を繰り返して、ウエハ上に複数の層からなる回路パターンが形成される。
後工程で、回路パターンが形成されたウエハに対してダイシングを行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。
The articles include semiconductor devices, display devices, color filters, optical components, and MEMS.
For example, semiconductor devices are manufactured through a pre-process to create a circuit pattern on a wafer, and a post-process including a processing step to complete the circuit chip produced in the pre-process as a product.
The pre-process includes an exposure process of exposing a wafer coated with a photosensitive agent using an exposure apparatus equipped with an optical device according to any of the first to fourth embodiments, and a development process of developing the photosensitive agent. .
Using the developed photosensitive material pattern as a mask, an etching process, an ion implantation process, etc. are performed to form a circuit pattern on the wafer.
By repeating these steps of exposure, development, etching, etc., a circuit pattern consisting of a plurality of layers is formed on the wafer.
In the post-process, the wafer on which the circuit pattern has been formed is diced, and chip mounting, bonding, and inspection steps are performed.
表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラスウエハに感光剤を塗布する工程と、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光学装置を備える露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラスウエハを露光する工程とを含む。また、透明電極を形成する工程は、露光された感光剤を現像する工程を含む。 Display devices are manufactured through a process of forming transparent electrodes. The step of forming a transparent electrode includes a step of applying a photosensitive agent to a glass wafer on which a transparent conductive film has been deposited, and a step of applying a photosensitive agent to a glass wafer on which a transparent conductive film has been deposited. and exposing the glass wafer coated with light. Further, the step of forming the transparent electrode includes the step of developing the exposed photosensitizer.
本実施形態に係る物品の製造方法によれば、従来よりも高品位且つ高生産性の物品を製造することができる。 According to the method for manufacturing an article according to the present embodiment, it is possible to manufacture an article with higher quality and higher productivity than ever before.
104a、104b 光学素子
107 鏡筒
201 外壁
202 リブ
204 内壁
205 気体供給手段(空調機)
L 流路
S 光学素子収納空間
104a, 104b
L Flow path S Optical element storage space
Claims (11)
外壁、内壁、及び該外壁と該内壁との間に設けられると共に、該外壁及び該内壁の少なくとも一方に結合するリブを有し、該光学素子を収納する鏡筒と、
を備え、
前記鏡筒内において、前記外壁と前記内壁との間に気体供給手段から供給される気体の流路が画定されると共に、前記内壁の内側に前記光学素子が収納される光学素子収納空間が画定され、
前記気体は、前記流路及び前記光学素子収納空間を通過し、
前記リブには、前記気体が通過する開口が形成されていることを特徴とする光学装置。 an optical element;
a lens barrel that houses the optical element and has an outer wall, an inner wall, and a rib provided between the outer wall and the inner wall and coupled to at least one of the outer wall and the inner wall;
Equipped with
In the lens barrel, a flow path for gas supplied from a gas supply means is defined between the outer wall and the inner wall, and an optical element storage space in which the optical element is housed is defined inside the inner wall. is,
The gas passes through the flow path and the optical element storage space,
An optical device characterized in that the rib has an opening through which the gas passes .
前記第1の流路と前記第2の流路との合流地点には、前記気体が前記第1の流路及び前記第2の流路の一方を進行するように流路を切り換える切り換え手段が設けられており、
前記光学装置は、前記鏡筒の温度を検出する温度センサと、該温度センサの検出結果に基づいて前記切り換え手段を制御する制御部とを備えることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The flow path is provided with a dividing member that divides the flow path into the first flow path and the second flow path having different lengths,
A switching means is provided at a confluence point of the first flow path and the second flow path to switch the flow path so that the gas travels through one of the first flow path and the second flow path. It is provided,
The optical device according to claim 1 , wherein the optical device includes a temperature sensor that detects the temperature of the lens barrel, and a control section that controls the switching means based on the detection result of the temperature sensor. .
前記鏡筒に供給された気体は、前記流路、前記光学素子収納空間及び前記熱交換用空間の順に通過した後、前記排気口から排気され、
前記流路を画定している前記内壁の一部が前記熱交換用空間の一部を画定しており、
前記内壁の該一部は、前記内壁の他の部分よりも高い伝熱性能を有していることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 The lens barrel has a heat exchange space provided between the optical element storage space and the exhaust port,
The gas supplied to the lens barrel passes through the flow path, the optical element storage space, and the heat exchange space in this order, and then is exhausted from the exhaust port,
A part of the inner wall defining the flow path defines a part of the heat exchange space,
The optical device according to claim 1 , wherein the part of the inner wall has higher heat transfer performance than other parts of the inner wall.
前記内壁には、前記流路及び前記光学素子収納空間を互いに連通させる吹き出し口が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光学装置。 The lens barrel includes an air supply port that communicates one of the flow path and the optical element storage space with a supply flow path from the gas supply means, and a discharge flow path that connects the other to the gas supply means. An exhaust port is provided to communicate with each other.
5. The optical device according to claim 1 , wherein the inner wall is provided with an outlet that allows the flow path and the optical element storage space to communicate with each other.
前記パターンの像を前記基板に投影する投影光学系を収納する請求項1乃至8のいずれか一項に記載の光学装置を備えることを特徴とする露光装置。 An exposure device that projects an image of a pattern of an original onto a substrate and exposes the substrate,
An exposure apparatus comprising the optical device according to claim 1 , which houses a projection optical system that projects an image of the pattern onto the substrate.
前記温度センサの検出結果に基づいて温調された前記気体を前記光学装置に供給する前記気体供給手段と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。 a temperature sensor that is provided in the lens barrel of the optical device and detects the temperature of the gas supplied from the gas supply means;
the gas supply means for supplying the gas whose temperature is controlled based on the detection result of the temperature sensor to the optical device;
10. The exposure apparatus according to claim 9 , comprising:
露光された前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板を加工して物品を得る工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 exposing the substrate using the exposure apparatus according to claim 9 or 10 ;
Developing the exposed substrate;
processing the developed substrate to obtain an article;
A method for manufacturing an article characterized by having the following.
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