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JP7367586B2 - Conductive paste, conductive film, laminate and electronic device - Google Patents
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JP7367586B2 - Conductive paste, conductive film, laminate and electronic device - Google Patents

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Description

本発明は、耐湿熱性が高く、伸縮可能な電極や配線に好適な導電膜を作製するための導電ペーストに関する。さらに、前記導電ペーストから形成されてなる導電膜、積層体及び電子デバイスに関する。 The present invention relates to a conductive paste for producing a conductive film that has high heat and humidity resistance and is suitable for expandable and contractible electrodes and wiring. Furthermore, the present invention relates to a conductive film, a laminate, and an electronic device formed from the conductive paste.

様々な産業分野において導電材料が用いられており、これらの材料の更なる高機能化に関して種々の提案がなされている。特に近年は、フレキシブル性や伸縮性を備える導電膜の開発が進み、アクチュエータ用途やウェアラブルセンサー用途へ向けた提案がなされている。
特許文献1には、低コストで高い耐久性を有する、伸縮性導電皮膜を得るための導電性ペーストが開示されている。表面処理が施されていない銀被覆粒子を用い、さらに特定の添加材を組み合わせることにより、被膜伸長時に高い導電性が得られることが開示されている。
特許文献2には、ブロック共重合体と、特定の銀粉とを組み合わせることによって、著しく伸縮性が向上した導電体を得ることができる導電性組成物が開示されている。
特許文献3には、塗布又は印刷可能であり、さらに伸縮可能で、しかも高導電率の導電性膜を実現することができる優れた導電性ペーストが開示されている。この導電性ペーストによって形成された導電性膜は、有効な導電性のネットワークを形成するために高導電性であり、また導電材料(金属ナノワイヤ)の高いアスペクト比に起因して、伸長時にも導電性ネットワークが破断しないために、伸長時でもその高導電性を保持できる。
BACKGROUND OF THE INVENTION Conductive materials are used in various industrial fields, and various proposals have been made to further improve the functionality of these materials. Particularly in recent years, the development of flexible and stretchable conductive films has progressed, and proposals have been made for use in actuators and wearable sensors.
Patent Document 1 discloses a conductive paste for obtaining a stretchable conductive film that is low cost and has high durability. It is disclosed that by using silver-coated particles that have not been surface-treated and further combining specific additives, high conductivity can be obtained during film extension.
Patent Document 2 discloses a conductive composition that can obtain a conductor with significantly improved stretchability by combining a block copolymer and a specific silver powder.
Patent Document 3 discloses an excellent conductive paste that can be coated or printed, is stretchable, and can realize a conductive film with high conductivity. The conductive film formed by this conductive paste is highly conductive to form an effective conductive network and is also conductive when stretched due to the high aspect ratio of the conductive material (metal nanowires). Since the conductive network does not break, its high conductivity can be maintained even during elongation.

国際公開第2018/159374号International Publication No. 2018/159374 国際公開第2017/026130号International Publication No. 2017/026130 特許第6319085号公報Patent No. 6319085

生体センシング等のヘルスケア機器、ウェアラブル機器、並びにロボティックス等の分野の進展に伴い、伸縮性に優れた導電材料が求められている。これら用途では、従来求められていた導電性のみならず、加工時又は/及び使用時に曲面部や可動部に追随可能な伸縮性が求められる。 BACKGROUND OF THE INVENTION With advances in the fields of healthcare devices such as biosensing, wearable devices, and robotics, conductive materials with excellent stretchability are required. In these applications, in addition to the conventionally required conductivity, elasticity that can follow curved surfaces and movable parts during processing and/or use is required.

また、曲面部や可動部に導電材料を用いると、繰り返し伸縮に伴う樹脂の構造破壊によって、樹脂自身にクラックが発生しやすいという問題がある。特に、導電材料の場合には導電材を添加する場合がほとんどであり、伸長収縮の変形時に樹脂から導電材が剥離して樹脂中に空隙(ボイド)が発生し、そこを起点としてクラックが生じやすくなる。その結果、伸縮を重ねるごとに導電性が低下してしまう問題がある。
さらにヘルスケア機器、ウェアラブル機器、並びにロボティックス等の分野において、高温高湿等過酷な環境下でも機器が作動し続ける必要があるが、高温高湿環境下では塗膜構造が変化しやすく、導電性を低下してしまう問題もある。
Further, when a conductive material is used for the curved surface portion or the movable portion, there is a problem that cracks are likely to occur in the resin itself due to structural destruction of the resin due to repeated expansion and contraction. In particular, in the case of conductive materials, in most cases, a conductive material is added, and the conductive material peels off from the resin during deformation due to expansion and contraction, creating voids in the resin, and cracks occur from these voids. It becomes easier. As a result, there is a problem in that the conductivity decreases with each expansion and contraction.
Furthermore, in fields such as healthcare equipment, wearable equipment, and robotics, equipment must continue to operate even in harsh environments such as high temperature and high humidity, but the coating film structure tends to change in high temperature and high humidity environments. There is also the problem of reduced conductivity.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、伸縮性に優れ、伸長時にクラックの発生を効果的に抑制でき、高温高湿環境下を経ても導電性を維持する導電ペースト、前記導電ペーストから形成されてなる導電膜、積層体及びこの導電膜を含む電子デバイスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above background, and provides a conductive paste that has excellent stretchability, can effectively suppress the occurrence of cracks during stretching, and maintains conductivity even under high temperature and high humidity environments, and a conductive paste as described above. An object of the present invention is to provide a conductive film formed from a paste, a laminate, and an electronic device including this conductive film.

本発明者が鋭意検討を重ねたところ、以下の態様において、本発明の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の第一の発明は、チオール基を有するエラストマー(A)と、銀粒子又は銀被覆粒子(B)とを含有する導電ペーストであって、前記エラストマー(A)の固形分中のチオール基濃度が、0.001~0.250mmol/gであることを特徴とする導電ペーストに関する。
As a result of extensive studies, the inventors of the present invention have found that the problems of the present invention can be solved in the following embodiments, and have completed the present invention.
That is, the first invention of the present invention is a conductive paste containing an elastomer (A) having a thiol group and silver particles or silver-coated particles (B), wherein the solid content of the elastomer (A) is The present invention relates to a conductive paste having a thiol group concentration of 0.001 to 0.250 mmol/g.

また、第二の発明は、前記エラストマー(A)の数平均分子量が、10,000~500,000であることを特徴とする第一の発明の導電ペーストに関する。 Further, a second invention relates to the conductive paste of the first invention, wherein the elastomer (A) has a number average molecular weight of 10,000 to 500,000.

また、第三の発明は、前記エラストマー(A)が、末端領域にチオール基を有するエラストマー(A1)であることを特徴とする第一又は第二の発明の導電ペーストに関する。 Further, a third invention relates to the conductive paste of the first or second invention, wherein the elastomer (A) is an elastomer (A1) having a thiol group in the terminal region.

また、第四の発明は、前記エラストマー(A)が、ガラス転移温度を20℃以上の温度領域及び20℃未満の温度領域にそれぞれ1つ以上有することを特徴とする第一から第三の発明のいずれかの発明の導電ペーストに関する。 Further, a fourth invention is the first to third inventions characterized in that the elastomer (A) has one or more glass transition temperatures in a temperature range of 20°C or higher and one or more in a temperature range of lower than 20°C. The present invention relates to a conductive paste according to any one of the inventions.

また、第五の発明は、銀粒子又は銀被覆粒子(B)が、連鎖状銀粉であって、タップ密度が2.0g/cm以下あることを特徴とする第一から第四の発明のいずれかの発明の導電ペーストに関する。 Further, a fifth invention is the first to fourth invention, wherein the silver particles or silver-coated particles (B) are chain silver powder and have a tap density of 2.0 g/cm 3 or less. The present invention relates to a conductive paste according to any one of the inventions.

また、第六の発明は、導電ペーストが、さらに沸点が180℃以上270℃以下の溶剤を含有することを特徴とする第一から第五の発明のいずれかの発明の導電ペーストに関する。 Further, a sixth invention relates to the conductive paste according to any one of the first to fifth inventions, characterized in that the conductive paste further contains a solvent having a boiling point of 180° C. or higher and 270° C. or lower.

また、第七の発明は、第一から第六の発明のいずれかの導電ペーストから形成されることを特徴とする導電膜に関する。 Furthermore, a seventh invention relates to a conductive film characterized in that it is formed from the conductive paste according to any one of the first to sixth inventions.

また、第八の発明は、基材上に、第七の発明の導電膜を備える積層体に関する。 Moreover, an eighth invention relates to a laminate comprising the conductive film of the seventh invention on a base material.

また、第九の発明は、前記基材が、伸縮性を有する基材であることを特徴とする第八の積層体に関する。 Further, a ninth invention relates to an eighth laminate, wherein the base material is a stretchable base material.

また、第十の発明は、第七記載の導電膜を有する電子デバイスに関する。 Furthermore, a tenth invention relates to an electronic device having the conductive film according to the seventh aspect.

本発明によれば、伸縮性に優れ、伸長時にクラックの発生を効果的に抑制でき、高温高湿環境下を経ても導電性を維持する導電ペースト、前記導電ペーストから形成されてなる導電膜、積層体及びこの導電膜を含む電子デバイスを提供できるという優れた効果を有する。 According to the present invention, a conductive paste that has excellent stretchability, can effectively suppress the occurrence of cracks during stretching, and maintains conductivity even under high temperature and high humidity environments, a conductive film formed from the conductive paste, This has the excellent effect of providing a laminate and an electronic device including the conductive film.

以下、本発明を適用した導電ペースト、導電膜、積層体及び電子デバイスの製造方法における実施形態の一例について詳細に説明する。本明細書において特定する数値は、実施形態又は実施例に開示した方法により求められる値である。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に含まれる。また、本発明のフィルムは、シート、テープ及びラベルと同義である。また、特に言及しない限り、各種成分は、それぞれ独立に、単独又は2種類以上を併用できる。 Hereinafter, an example of an embodiment of a method for manufacturing a conductive paste, a conductive film, a laminate, and an electronic device to which the present invention is applied will be described in detail. Numerical values specified in this specification are values determined by the methods disclosed in the embodiments or examples. Note that other embodiments are also included within the scope of the present invention as long as they meet the spirit of the present invention. Moreover, the film of the present invention has the same meaning as a sheet, tape, and label. Moreover, unless otherwise mentioned, various components can be used independently or in combination of two or more kinds.

<導電ペースト>
本発明の導電性ペーストは、チオール基を有するエラストマー(A)と、銀粒子又は銀被覆粒子(B)とを含有し、前記チオール基を有するエラストマー(A)の固形分中のチオール基濃度は、0.001~0.250mmol/gである。さらに本発明の導電ペーストに溶剤を加えてもよい。銀粒子又は銀被覆粒子(B)がエラストマー(A)及び/又は溶剤(S)中の全体にわたり、分散されていることを特徴とする。
<Conductive paste>
The conductive paste of the present invention contains an elastomer (A) having a thiol group and silver particles or silver-coated particles (B), and the thiol group concentration in the solid content of the elastomer (A) having a thiol group is , 0.001 to 0.250 mmol/g. Furthermore, a solvent may be added to the conductive paste of the present invention. It is characterized in that silver particles or silver-coated particles (B) are dispersed throughout the elastomer (A) and/or the solvent (S).

<チオール基を有するエラストマー(A)>
本発明で使用するチオール基を有するエラストマー(A)は、エラストマー(A)の固形分中のチオール基濃度が、0.001~0.25mmol/gであれば、エラストマーの種類は特に限定されず、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、ニトリルゴム(NBR)、エチレンプロピレンゴム(EPDM)、スチレン・ブタジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、クロロプレンゴム(CR)等の炭化水素系エラストマーやその水添エラストマー、シリコーンエラストマー、フッ素エラストマー、ウレタンエラストマー、アクリルエラストマー、ポリエステルエラストマー、ポリアミドエラストマー、ポリイミドエラストマー等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。又は2種以上のエラストマーを化学的に結合した複合エラストマーでもよい。
これらのなかでは、伸縮性の点からシリコーンエラストマー、ウレタンエラストマー、アクリルエラストマーが好ましく、さらに基材との密着性の点から、ウレタンエラストマー及びアクリルエラストマーが好ましい。
なお、ここで言うエラストマーとは、弾性の顕著な高分子物質のことであり、張力を受けるとエネルギーの散逸に伴う発熱等がなく迅速に伸長し、張力を除くと元の長さに戻る材料のことである。
<Elastomer (A) having thiol group>
The type of elastomer (A) having a thiol group used in the present invention is not particularly limited as long as the thiol group concentration in the solid content of the elastomer (A) is 0.001 to 0.25 mmol/g. For example, hydrocarbon elastomers such as natural rubber, isoprene rubber, nitrile rubber (NBR), ethylene propylene rubber (EPDM), styrene-butadiene rubber (SBR), butadiene rubber (BR), chloroprene rubber (CR), and their water. Examples include additive elastomers, silicone elastomers, fluorine elastomers, urethane elastomers, acrylic elastomers, polyester elastomers, polyamide elastomers, and polyimide elastomers. These may be used alone or in combination of two or more. Alternatively, it may be a composite elastomer in which two or more types of elastomers are chemically bonded.
Among these, silicone elastomers, urethane elastomers, and acrylic elastomers are preferred from the viewpoint of stretchability, and urethane elastomers and acrylic elastomers are further preferred from the viewpoint of adhesion to the base material.
The term elastomer referred to here refers to a highly elastic polymeric material, which is a material that quickly stretches when subjected to tension without generating heat due to energy dissipation, and returns to its original length when the tension is removed. It is about.

上記ウレタンエラストマー(A)は、少なくともポリオール成分とイソシアネート成分とが反応して得られる樹脂の末端イソシアネート基に対して、チオール基とアミノ基を有する化合物のアミノ基、又は、チオール基と水酸基を有する化合物の水酸基、を反応させることにより、合成することができる。
チオール基とアミノ基を有する化合物としては、例えば、システアミンやシステイン、11-アミノー1-ウンデカンチオール、8-アミノー1-オクタンチオール、6-アミノー1-ヘキサンチオール等が挙げられ、チオール基と水酸基を有する化合物としては、メルカプトエタノール、1-チオグリセロール、2-チオグリセロール等が挙げられる。
The urethane elastomer (A) has an amino group of a compound having a thiol group and an amino group, or a thiol group and a hydroxyl group, relative to the terminal isocyanate group of the resin obtained by reacting at least a polyol component and an isocyanate component. It can be synthesized by reacting the hydroxyl group of a compound.
Examples of compounds having a thiol group and an amino group include cysteamine, cysteine, 11-amino-1-undecanethiol, 8-amino-1-octanethiol, and 6-amino-1-hexanethiol. Examples of compounds having this include mercaptoethanol, 1-thioglycerol, 2-thioglycerol, and the like.

ウレタンエラストマーとしては、例えば、オレフィン系ポリオールをポリオール成分とするオレフィン系ウレタンエラストマー、エステル系ポリオールをポリオール成分とするエステル系ウレタンエラストマー、エーテル系ポリオールをポリオール成分とするエーテル系ウレタンエラストマー、カーボネート系ポリオールをポリオール成分とするカーボネート系ウレタンエラストマー、ひまし油系ポリオールをポリオール成分とするひまし油系ウレタンエラストマー等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
また、上記ウレタンエラストマーは、2種以上の上記ポリオール成分を併用したものであってもよい。
Examples of urethane elastomers include olefin urethane elastomers containing olefin polyols as the polyol component, ester urethane elastomers containing ester polyols as the polyol component, ether urethane elastomers containing ether polyols as the polyol component, and carbonate polyols. Examples include carbonate-based urethane elastomers having a polyol component, castor oil-based urethane elastomers having a castor oil-based polyol as a polyol component, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Further, the urethane elastomer may be a combination of two or more of the polyol components.

上記ポリオール成分としては、例えば、
エポール(出光興産社製)等のオレフィン系ポリオール;
ポリライトRX―4800等のポリライトシリーズ(DIC社製)や、P-1010やP-2050、F-2010等のクラレポリオールシリーズ(クラレ社製)等のエステル系ポリオール;
Pシリーズや、Gシリーズ、EDPシリーズ等のADEKAポリエーテル(ADEKA社製)や、PTGやPTG-Lシリーズ(保土谷化学工業社製)、プレミノールシリーズやプレミノールSシリーズ(旭硝子社製)等のエーテル系ポリオール;
ベネビオールシリーズ(三菱化学社製)や、クラレポリオールCシリーズ等のカーボネート系ポリオール;
URICシリーズ各種、POLYCASTORシリーズ等のひまし油系ポリオール等が挙げられる。
Examples of the polyol component include:
Olefin polyols such as Epol (manufactured by Idemitsu Kosan);
Ester polyols such as the Polylite series (manufactured by DIC Corporation) such as Polylite RX-4800, and the Kuraray Polyol series (manufactured by Kuraray Corporation) such as P-1010, P-2050, and F-2010;
ADEKA polyethers (manufactured by ADEKA) such as P series, G series, and EDP series, PTG and PTG-L series (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), Preminol series and Preminol S series (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc. Ether polyol;
Carbonate polyols such as Beneviol series (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and Kuraray Polyol C series;
Examples include castor oil-based polyols such as various URIC series and POLYCASTOR series.

イソシアネート成分としては、例えば、
1,3-及び1,4-フェニレンジイソシアネート、2,4-及び2,6-トリレンジイソシアネート(以下においてTDIと略記することがある。)、粗製TDI、2,4’-及び4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート(以下においてMDIと略記することがある。)、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート(粗製MDI)、ナフチレン-1,5-ジイソシアネート並びにトリフェニルメタン-4,4’,4’’-トリイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート;
1,6-ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネート等の直鎖又は分岐脂肪族ポリイソシアネート;イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート;
キシリレンジイソシアネート及びα,α,α’,α’-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート;
上記イソシアネート成分のウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビューレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物等の変性物が挙げられる。
イソシアネート成分は1種を用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
As the isocyanate component, for example,
1,3- and 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and 2,6-tolylene diisocyanate (hereinafter sometimes abbreviated as TDI), crude TDI, 2,4'- and 4,4' -Diphenylmethane diisocyanate (hereinafter sometimes abbreviated as MDI), polymethylene polyphenylene polyisocyanate (crude MDI), naphthylene-1,5-diisocyanate, triphenylmethane-4,4',4''-triisocyanate, etc. aromatic polyisocyanate;
Linear or branched aliphatic polyisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate and cycloaliphatic polyisocyanates such as norbornane diisocyanate;
Aroaliphatic polyisocyanates such as xylylene diisocyanate and α, α, α', α'-tetramethylxylylene diisocyanate;
Examples include modified products of the isocyanate component containing a urethane group, a carbodiimide group, an allophanate group, a urea group, a biuret group, an isocyanurate group, and an oxazolidone group.
One type of isocyanate component may be used, or two or more types may be used in combination.

上記アクリルエラストマーは、エチレン性不飽和単量体を熱重合開始剤により重合させて得られる重合体であるが、チオール基は、例えば以下2つの方法で導入することができる。 The acrylic elastomer is a polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer with a thermal polymerization initiator, and a thiol group can be introduced, for example, by the following two methods.

1つ目は、イソシアネート基を含有するエチレン性不飽和単量体を重合して得られる重合体中のイソシアネート基に対して、チオール基とアミノ基を有する化合物のアミノ基、又は、チオール基と水酸基を有する化合物の水酸基、を反応させることにより、チオール基を含有するアクリルエラストマーを合成することができる。 The first is that the amino group of a compound having a thiol group and an amino group, or the thiol group An acrylic elastomer containing a thiol group can be synthesized by reacting the hydroxyl group of a compound having a hydroxyl group.

2つ目は、キサントゲン酸エステルを含有するエチレン性不飽和単量体を重合して得られる重合体中のキサントゲン酸エステル基に対して、アミンを作用させることによりチオール基を含有するアクリルエラストマーを合成することができる。 The second method is to form an acrylic elastomer containing a thiol group by reacting an amine with the xanthate group in the polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer containing a xanthate ester. Can be synthesized.

イソシアネート基を含有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、2-イソシアナトエチル(メタ)アクリレート、2-(2-メタクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート等が挙げられる。ここで(メタ)アクリレートとは、メタクリレート又はアクリレートを意味する。
チオール基とアミノ基を有する化合物及びチオール基と水酸基を有する化合物は、上述と同様の化合物を使用することができる。
Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing an isocyanate group include 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate, 2-(2-methacryloyloxyethyloxy)ethyl isocyanate, and the like. Here, (meth)acrylate means methacrylate or acrylate.
As the compound having a thiol group and an amino group and the compound having a thiol group and a hydroxyl group, the same compounds as mentioned above can be used.

キサントゲン酸エステルを含有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、O-エチル-S-(メタ)アクリロイルオキシエチルカルボジチオエート、O-エチル-S-アクリロイルオキシエチルカルボジチオエート等が挙げられる。ここで(メタ)アクリロイルとは、メタクリロイル又はアクリロイルを意味する。 Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing a xanthate ester include O-ethyl-S-(meth)acryloyloxyethylcarbodithioate, O-ethyl-S-acryloyloxyethylcarbodithioate, etc. . Here, (meth)acryloyl means methacryloyl or acryloyl.

重合体中のキサントゲン酸エステル基に対して作用させるアミンとしては、例えば、トリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエチルアミン、フェネチルアミンが挙げられる。 Examples of amines that act on the xanthate groups in the polymer include triethylamine, diazabicycloundecene, tributylamine, dimethylbenzylamine, diethylamine, and phenethylamine.

イソシアネート基を含有するエチレン性不飽和単量体又はキサントゲン酸エステルを含有するエチレン性不飽和単量体は、単独で重合してもよいし、その他のエチレン性不飽和単量体と共重合してもよい。
共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;
フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート類;
(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有(メタ)アクリレート類;
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エチル-α-(ヒドロキシメチル)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート類;
グリシジル(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート等の複素環式(メタ)アクリレート類;
メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート類;
N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基含有(メタ)アクリレート類;
(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、イソブチル(メタ)アクリルアミド、t-ブチル(メタ)アクリルアミド、及びt-オクチル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のN 置換型(メタ)アクリルアミド類;
N-メチレンアリルアミン、N-(2,2-ジメチルプロピリデン)アリルアミン、N-(2-フリルメチレン)アリルアミン、N-ベンジリデンアリルアミン、N-(4-メチルベンジリデン)アリルアミン、N-(4-クロロベンジリデン)アリルアミン等のN- アルキレンアリルアミン;
(メタ)アクリロニトリル等のニトリル類;並びに、
片末端メタクリロイル化ポリメチルメタクリレートオリゴマー、片末端メタクリロイル化ポリスチレンオリゴマー、及び片末端メタクリロイル化ポリエチレングリコール等の重合性オリゴマー等があげられる。
The ethylenically unsaturated monomer containing an isocyanate group or the ethylenically unsaturated monomer containing a xanthate ester may be polymerized alone or copolymerized with other ethylenically unsaturated monomers. It's okay.
Examples of copolymerizable ethylenically unsaturated monomers include:
Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, 2- Alkyl (meth)acrylates such as ethylhexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate;
Aromatic (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate;
Carboxyl group-containing (meth)acrylates such as (meth)acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid;
2-Hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl ( Hydroxyl group-containing (meth)acrylates such as meth)acrylate, ethyl-α-(hydroxymethyl)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and 1,4-cyclohexanedimethanol mono(meth)acrylate;
Heterocyclic (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate, oxetane (meth)acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate;
Alkoxypolyalkylene glycol (meth)acrylates such as methoxypolypropylene glycol (meth)acrylate and ethoxypolyethylene glycol (meth)acrylate;
Amino group-containing (meth)acrylates such as N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate and N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate;
(meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, N-butyl(meth)acrylamide, isobutyl(meth)acrylamide, t-butyl (meth)acrylamide, and N-substituted (meth)acrylamides such as t-octyl (meth)acrylamide, diacetone (meth)acrylamide, and acryloylmorpholine;
N-methyleneallylamine, N-(2,2-dimethylpropylidene)allylamine, N-(2-furylmethylene)allylamine, N-benzylideneallylamine, N-(4-methylbenzylidene)allylamine, N-(4-chlorobenzylidene) ) N-alkyleneallylamine such as allylamine;
Nitriles such as (meth)acrylonitrile; and
Examples include polymerizable oligomers such as polymethyl methacrylate oligomers having one end methacryloylated, polystyrene oligomers having one end methacryloylated, and polyethylene glycol having one end methacryloylated.

更に、スチレン、α-メチルスチレン、p-ヒドロキシスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、インデン等のスチレン類、エチルビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類があげられる。 Furthermore, styrenes such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxystyrene, chloromethylstyrene, vinyltoluene, and indene, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, and 2-hydroxyethyl. Examples include vinyl ethers such as vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and 4-hydroxybutyl vinyl ether, and fatty acid vinyls such as vinyl acetate and vinyl propionate.

重合の際、エチレン性不飽和単量体(f)100重量部に対して、任意に0.001~5重量部の重合開始剤を使用することができる。重合開始剤としては、アゾ系化合物及び有機過酸化物を用いることができる。
また、分子量分布やブロック共重合体を合成することを目的にリビング重合によりアクリルエラストマーを得てもよい。リビング重合としては、例えば、原子移動ラジカルリビング重合、可逆的付加開裂連鎖移動型リビング重合、有機テルル化合物を用いたリビング重合、ヨウ素化合物等の有機触媒を用いたリビングラジカル重合等が挙げられる。
リビング重合を用いることで一次構造が制御されたブロック共重合体や星型ポリマー、くし形ポリマー等を合成することができる。
During polymerization, 0.001 to 5 parts by weight of a polymerization initiator can be optionally used per 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated monomer (f). As the polymerization initiator, an azo compound and an organic peroxide can be used.
Furthermore, an acrylic elastomer may be obtained by living polymerization for the purpose of improving the molecular weight distribution and synthesizing a block copolymer. Examples of living polymerization include atom transfer radical living polymerization, reversible addition-fragmentation chain transfer living polymerization, living polymerization using an organic tellurium compound, and living radical polymerization using an organic catalyst such as an iodine compound.
By using living polymerization, it is possible to synthesize block copolymers, star-shaped polymers, comb-shaped polymers, etc. with controlled primary structures.

溶液重合の場合には、重合溶媒として、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、シクロヘキサノン、イソホロン等が用いられるが特にこれらに限定されるものではない。これらの重合溶媒は、2種類以上混合して用いてもよいが、最終用途で使用する溶剤であることが好ましい。 In the case of solution polymerization, the polymerization solvent includes ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, xylene, acetone, hexane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, Diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, tetraethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, cyclohexanone, isophorone and the like are used, but are not particularly limited thereto. Although two or more of these polymerization solvents may be used as a mixture, it is preferable to use a solvent for final use.

本発明で使用するエラストマー(A)の数平均分子量Mnは、後述する実施例に記載の方法で求められる値である。Mnは、10,000~500,000が好ましい。この範囲とすることにより、エラストマー(A)を例えばフィルムに成型した場合、伸縮性と強度を両立することができる。Mnの好ましい範囲は10,000~400,000であり、より好ましい範囲は30,000~300,000である。 The number average molecular weight Mn of the elastomer (A) used in the present invention is a value determined by the method described in the Examples below. Mn is preferably 10,000 to 500,000. By setting it as this range, when elastomer (A) is shape|molded into a film, for example, elasticity and strength can be made compatible. The preferred range of Mn is 10,000 to 400,000, and the more preferred range is 30,000 to 300,000.

本発明で使用するエラストマー(A)は、ガラス転移温度Tgを、20℃以上の温度領域及び20℃未満の温度領域にそれぞれ1つ以上有することが、伸縮性に優れ、伸長時にクラックの発生を効果的に抑制できる点から好ましい。
より好ましくは、Tgが、60℃以上180℃以下と、-70℃以上0℃以下の温度領域に1つずつあることが好ましく、さらに好ましくは90℃以上180℃以下と、-60℃以上-30℃以下の温度領域に1つずつあることが好ましい。
The elastomer (A) used in the present invention has one or more glass transition temperatures Tg in the temperature range of 20°C or higher and one or more in the temperature range of lower than 20°C, so that it has excellent elasticity and prevents the occurrence of cracks during elongation. This is preferable because it can be effectively suppressed.
More preferably, there is one Tg in the temperature range of 60°C or more and 180°C or less and -70°C or more and 0°C or less, and even more preferably 90°C or more and 180°C or less and -60°C or more - Preferably, there is one in each temperature range of 30° C. or lower.

本発明で使用するエラストマーは、可塑剤、酸化防止剤、老化防止剤、着色剤等の添加剤を含有してもよい。 The elastomer used in the present invention may contain additives such as plasticizers, antioxidants, anti-aging agents, and colorants.

本発明で使用するエラストマー(A)の固形分中のチオール基濃度は0.001~0.250mmol/gである。チオール基濃度が0.001mmol/g未満であれば、湿熱耐性が得られず、0.250mmol/gより大きくなると、銀の分散性が悪化し、さらに臭気がひどい。さらに好ましくは、0.015~0.100mmol/gである。 The thiol group concentration in the solid content of the elastomer (A) used in the present invention is 0.001 to 0.250 mmol/g. If the thiol group concentration is less than 0.001 mmol/g, wet heat resistance cannot be obtained, and if it is greater than 0.250 mmol/g, silver dispersibility deteriorates and the odor becomes worse. More preferably, it is 0.015 to 0.100 mmol/g.

エラストマー(A)中のチオール基は、エラストマーの化学構造の末端領域にあることが好ましい。チオール基が末端領域にあることで、導電塗膜の伸縮性が向上することがある。ここでいう末端領域とは、末端の元素から30原子以内の領域であることを意味する。 The thiol groups in elastomer (A) are preferably located in the terminal regions of the elastomer's chemical structure. The presence of the thiol group in the terminal region may improve the elasticity of the conductive coating. The terminal region here means a region within 30 atoms from the terminal element.

<銀粒子又は銀被覆粒子(B)>
次に、本発明で使用する銀粒子又は銀被覆粒子(B)を説明する。銀粒子又は銀被覆粒子(B)とは、銀からなる粒子状物質又は銀により被覆された導電粒子又は非導電粒子であればよい。
上記導電粒子としては、例えば、
金、白金、銅、パラジウム、コバルト、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、鉛、錫等の金属;黄銅、青銅、白銅、半田等の合金;
カーボン、グラファイト、グラフェン、カーボンナノチューブ等の導電性カーボン;
ITO、IZO等の導電性セラミックフィラー;
ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリアニリン等の導電性高分子;が挙げられる。
上記非導電粒子としては、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチック粒子が挙げられ、ゴムのように変形可能な柔らかくても、硬くてもよい。
これら導電粒子又は非導電粒子に銀をコートしたりめっきすることにより、銀被覆粒子を得ることができる。
<Silver particles or silver coated particles (B)>
Next, the silver particles or silver-coated particles (B) used in the present invention will be explained. The silver particles or silver-coated particles (B) may be particulate matter made of silver or conductive particles or non-conductive particles coated with silver.
Examples of the conductive particles include:
Metals such as gold, platinum, copper, palladium, cobalt, nickel, aluminum, zinc, lead, tin; alloys such as brass, bronze, cupronickel, solder;
Conductive carbon such as carbon, graphite, graphene, carbon nanotubes;
Conductive ceramic fillers such as ITO and IZO;
Examples include conductive polymers such as polyacetylene, polythiophene, poly(3,4-ethylenedioxythiophene), and polyaniline.
Examples of the non-conductive particles include plastic particles such as acrylic, polyester, polyurethane, polyimide, and polyamide, and they may be soft or hard and deformable like rubber.
Silver-coated particles can be obtained by coating or plating these conductive particles or non-conductive particles with silver.

本発明で使用する銀粒子又は銀被覆粒子(B)の形状は、特に限定されず、例えば、球状、連鎖・球状、フレーク(鱗片)状、樹枝(デンドライト)状、コイル状(螺旋形状、スパイラル形状含む)が挙げられる。樹枝状とは、棒状の主枝から分岐枝が2次元又は3次元方向に延びた形状をいう。導電性粒子の形状は、導電性粒子同士の接触しやすさの観点からフレーク状及び/又は球状粒子が連鎖状になっていることが好ましい。 The shape of the silver particles or silver-coated particles (B) used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include spherical, chain/spherical, flake, dendrite, coiled (helical, spiral) shape. (including shape). Dendritic refers to a shape in which branched branches extend in two or three dimensions from a rod-shaped main branch. The shape of the conductive particles is preferably a chain of flakes and/or spherical particles from the viewpoint of ease of contact between the conductive particles.

本発明で使用する銀粒子又は銀被覆粒子(B)のタップ密度は、2.0g/cm以下であることが好ましい。タップ密度が2.0g/cm以下であると、導電膜中の銀粉の占有体積が大きくなるので、銀粒子又は銀被覆粒子(B)同士の接触点が増え、より導通しやすくなる。 The tap density of the silver particles or silver-coated particles (B) used in the present invention is preferably 2.0 g/cm 3 or less. When the tap density is 2.0 g/cm 3 or less, the volume occupied by the silver powder in the conductive film becomes large, so the number of points of contact between the silver particles or silver-coated particles (B) increases, and conduction becomes easier.

本発明で使用する銀粒子又は銀被覆粒子(B)の平均粒子径D50は、例えば0.5~50μm程度とすることができる。導電性粒子同士の接触しやすさの観点からは、1~12μmが好ましく、フィルムの厚みを薄くする観点からは1~6μmが好ましい。 The average particle diameter D50 of the silver particles or silver-coated particles (B) used in the present invention can be, for example, about 0.5 to 50 μm. From the viewpoint of ease of contact between conductive particles, the thickness is preferably 1 to 12 μm, and from the viewpoint of reducing the thickness of the film, the thickness is preferably 1 to 6 μm.

本発明の導電性ペーストは、銀粒子又は銀被覆粒子(B)に加え、さらに導電性粒子を添加してもよく、例えば、金、白金、銅、パラジウム、コバルト、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、鉛、錫等の金属;
黄銅、青銅、白銅、半田等の合金;
カーボン、グラファイト、グラフェン、カーボンナノチューブ等の導電性カーボン;
ITO、IZO等の導電性セラミックフィラー;
ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリアニリン等の導電性高分子;が挙げられる。
In addition to the silver particles or silver-coated particles (B), the conductive paste of the present invention may further contain conductive particles, such as gold, platinum, copper, palladium, cobalt, nickel, aluminum, zinc, and lead. , metals such as tin;
Alloys such as brass, bronze, cupronickel, and solder;
Conductive carbon such as carbon, graphite, graphene, carbon nanotubes;
Conductive ceramic fillers such as ITO and IZO;
Examples include conductive polymers such as polyacetylene, polythiophene, poly(3,4-ethylenedioxythiophene), and polyaniline.

銀粒子又は銀被覆粒子(B)、さらに加えてもよい導電性粒子は、単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。 The silver particles or silver-coated particles (B), and the conductive particles that may be added may be used alone or in combination of two or more.

本発明で使用する導電ペーストは、所望の印刷方式に応じた印刷適性を付与するため、溶剤を含むことができる。
溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、シクロヘキサノン、イソホロンが挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。これらの溶剤は、2種類以上混合して用いてもよい。
中でもシルクスクリーン印刷に応じたペーストにするためには、印刷版のメッシュ内部で乾燥し、メッシュが塞がれてしまうことを抑制するため、沸点が180℃以上270℃以下の溶剤を使用することが好ましい。
The conductive paste used in the present invention can contain a solvent in order to impart printing suitability according to a desired printing method.
Examples of the solvent include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, xylene, acetone, hexane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, Examples include, but are not limited to, diethylene glycol monoethyl ether acetate, tetraethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, cyclohexanone, and isophorone. Two or more of these solvents may be used in combination.
Above all, in order to make a paste suitable for silk screen printing, it is necessary to use a solvent with a boiling point of 180°C or higher and 270°C or lower to prevent it from drying inside the mesh of the printing plate and clogging the mesh. is preferred.

本発明の導電ペーストは、必要に応じてさらに他の成分を含有してもよい。このような他の成分としては、架橋剤、分散剤、耐摩擦向上剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、芳香剤、酸化防止剤、有機顔料、無機顔料、消泡剤、シランカップリング剤、可塑剤、難燃剤、保湿剤等が挙げられる。 The conductive paste of the present invention may further contain other components as necessary. Such other components include crosslinking agents, dispersants, friction improvers, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, fragrances, antioxidants, organic pigments, inorganic pigments, antifoaming agents, silane coupling agents, Examples include plasticizers, flame retardants, humectants, and the like.

架橋剤は、前記エラストマー(A)を架橋するために用いられ、例えば、前記エラストマー(A)が有するチオール基と架橋形成しうる反応性官能基を1分子中に2つ以上有するものの中から適宜選択して用いることができる。このような反応性官能基としては、例えば、エポキシ基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。
架橋剤を用いる場合、エラストマー(A)100質量部に対して、0.05質量部以上、30質量部以下用いることが好ましく、1質量部以上、25質量部以下用いることがより好ましい。
The crosslinking agent is used to crosslink the elastomer (A), and is selected from among those having two or more reactive functional groups in one molecule that can form a crosslink with the thiol group of the elastomer (A). It can be used selectively. Examples of such reactive functional groups include epoxy groups, isocyanate groups, blocked isocyanate groups, (meth)acryloyl groups, and the like.
When using a crosslinking agent, it is preferably used in an amount of 0.05 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and more preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the elastomer (A).

本発明の導電ペーストの製造方法は、前記エラストマー(A)と、銀粒子又は銀被覆粒子(B)と必要により用いられるその他の成分とを、溶剤中に混合又は分散する方法であればよく、公知の混合手段により混合することにより製造することができる。 The method for producing the conductive paste of the present invention may be a method in which the elastomer (A), silver particles or silver-coated particles (B), and other components used as necessary are mixed or dispersed in a solvent. It can be manufactured by mixing using a known mixing means.

<導電膜、積層体、電子デバイス>
本発明の導電膜は、上記本発明の導電ペーストから形成されるものであり、具体的には、基材上に該導電ペーストを塗布し、必要に応じて乾燥を行うことで形成することができる。
導電ペーストの塗布方法は特に制限されず、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、コーティング法等の印刷法が挙げられ、乾燥は、熱風オーブン及び赤外線ヒーター等公知の乾燥機を使用することができる。
<Conductive film, laminate, electronic device>
The conductive film of the present invention is formed from the conductive paste of the present invention, and specifically, it can be formed by applying the conductive paste on a base material and drying it as necessary. can.
The method of applying the conductive paste is not particularly limited, and printing methods such as screen printing, offset printing, inkjet printing, flexographic printing, gravure printing, and coating methods may be used.Drying may be performed using a known dryer such as a hot air oven or an infrared heater. can be used.

導電ペーストが塗布される基材としては特に制限されず、例えば、熱可塑性エラストマー、プラスチック、繊維、不織布、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、スチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、クロロピレンゴム、ウレタンゴム、ブチルゴム、エチレンゴム、プロピレンゴム、エチレンプロピレンゴム、エポキシゴム、ブタジエンゴム、天然ゴムが挙げられる。 The base material to which the conductive paste is applied is not particularly limited, and includes, for example, thermoplastic elastomer, plastic, fiber, nonwoven fabric, silicone rubber, fluororubber, nitrile rubber, acrylic rubber, styrene rubber, styrene-butadiene rubber, and chloropyrene rubber. , urethane rubber, butyl rubber, ethylene rubber, propylene rubber, ethylene propylene rubber, epoxy rubber, butadiene rubber, and natural rubber.

前記熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエステル系、塩化ビニル系、スチレン系ブロックポリマー、アクリル系ブロックポリマーが挙げられる。 Examples of the thermoplastic elastomer include polyurethane-based, polyester-based, polyolefin-based, polyamide-based, polyimide-based, polyester-based, vinyl chloride-based, styrene-based block polymers, and acrylic-based block polymers.

前記プラスチックとしては、例えば、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、エチレン-酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリアリレート、ポリアクリル、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリアミド、およびポリイミドが挙げられる。 Examples of the plastic include polyolefins such as polyvinyl alcohol, triacetylcellulose, polypropylene, polyethylene, polycycloolefin, and ethylene-vinyl acetate copolymer; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polycarbonate, Includes polynorbornene, polyarylate, polyacrylic, polyphenylene sulfide, polystyrene, epoxy resin, polyamide, and polyimide.

基材は、導電膜の伸縮性を生かすために伸縮性基材を用いてもよい。伸縮性基材としては、例えば、伸縮性プラスチックフィルム、伸縮性繊維が挙げられ、伸縮性繊維はテキスタイル生地でもよい。 As the base material, a stretchable base material may be used to take advantage of the stretchability of the conductive film. Examples of the stretchable base material include stretchable plastic films and stretchable fibers, and the stretchable fibers may be textile fabrics.

また本発明における積層体は、基材上に該導電膜を備えるものであり、支持体に設けられた凹部に導電膜が埋設されている構成も含む。本明細書において、基材として伸縮性基材を用いた場合、積層体を伸縮性導体を言う場合がある。 Further, the laminate in the present invention includes the conductive film on a base material, and also includes a structure in which the conductive film is embedded in a recess provided in a support. In this specification, when a stretchable base material is used as a base material, the laminate may be referred to as a stretchable conductor.

本発明の導電膜は、伸縮性に優れるため、例えば、伸縮性配線、伸縮性電極として好適である。また、導電膜は、伸縮性電磁波シールド層、伸縮性放熱層等のフィルム、並びに、所望の形状の導電性を有する成形体に利用可能である。
また本発明の積層体は、導電膜の基材と反対側(表側)に絶縁層(誘電層)を介してクロストークノイズを除去するためのシールド電極層が検出部を覆うように形成されていてもよい。また、最外層に電極層(表側電極層や裏側電極層、シールド電極層)を保護するためのオーバーコート層を備えていてもよい。
Since the conductive film of the present invention has excellent stretchability, it is suitable for use as stretchable wiring and stretchable electrodes, for example. Further, the conductive film can be used for films such as a stretchable electromagnetic shielding layer and a stretchable heat dissipation layer, as well as molded bodies having desired shapes and having conductivity.
Furthermore, in the laminate of the present invention, a shield electrode layer for removing crosstalk noise is formed on the opposite side (front side) of the conductive film base material to cover the detection part via an insulating layer (dielectric layer). It's okay. Further, the outermost layer may include an overcoat layer for protecting the electrode layer (the front electrode layer, the back electrode layer, and the shield electrode layer).

本発明の電子デバイスは、導電膜を有する。伸縮性に優れる本発明の導電膜を用いることにより、導電部に屈曲性、可撓性、伸縮性を付与できる。このため、本発明の導電膜は、導電部に屈曲性、可撓性及び/又は伸縮性が求められる電子デバイス全般に好適に用いられ、例えば、身体やロボットに貼付するセンサー、衣服に内装するウェアラブルセンサー、生体情報取得デバイスに好適である。 The electronic device of the present invention has a conductive film. By using the conductive film of the present invention which has excellent stretchability, flexibility, flexibility, and stretchability can be imparted to the conductive portion. Therefore, the conductive film of the present invention is suitable for use in general electronic devices in which conductive parts are required to have bendability, flexibility, and/or stretchability, such as sensors attached to the body or robots, and internally attached to clothing. Suitable for wearable sensors and biological information acquisition devices.

また、本発明の導電膜は、エレクトロニクス分野において、フレキシブルディスプレイ、フレキシブル配線板、柔軟なトランスデューサ、屈曲性のあるモバイル機器への利用が好適である。また、電磁気で駆動するモータやアクチュエータ、圧電効果を利用したスピーカ、バイブレータ、超音波発生装置等に適用可能である。 Further, the conductive film of the present invention is suitable for use in flexible displays, flexible wiring boards, flexible transducers, and flexible mobile devices in the electronics field. Further, it is applicable to motors and actuators driven by electromagnetism, speakers using piezoelectric effects, vibrators, ultrasonic generators, etc.

電子デバイスにおける導電膜は、導電性が要求される部材に制限無く利用できる。例えば、配線、電極、導電性接着剤、ビア、電磁波シールドフィルム、熱伝導性フィルムに用いられる。 A conductive film in an electronic device can be used without limitation for members that require conductivity. For example, it is used for wiring, electrodes, conductive adhesives, vias, electromagnetic shielding films, and thermally conductive films.

従来、電極を金属層により構成すると導電性は優れるものの、伸縮性がないため、その利用が限定されていた。一方、導電体として伸縮性導電膜を用いることにより、伸縮性を顕著に改善できる。更に、柔軟性を有しており人体の動きにもフィットしやすいという優位点がある。 Conventionally, electrodes made of metal layers have excellent conductivity, but their use has been limited due to their lack of elasticity. On the other hand, by using a stretchable conductive film as a conductor, stretchability can be significantly improved. Furthermore, it has the advantage of being flexible and easily adapting to the movements of the human body.

なお、電子デバイスにおいて、伸縮性、屈曲性又は/及び可撓性が求められる粘着層、保護層等を用いてもよい。 Note that in electronic devices, adhesive layers, protective layers, etc. that require stretchability, bendability, and/or flexibility may be used.

以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以降の説明において特に断りが無い場合には、「部」とあるのは「質量部」を、「%」とあるのは「質量%」を意味するものとする。また、溶剤以外は不揮発分換算値である。 EXAMPLES The present invention will be specifically explained below using Examples, but the present invention is not limited thereto. In the following description, unless otherwise specified, "part" means "part by mass" and "%" means "% by mass." In addition, values other than the solvent are non-volatile content equivalent values.

[数平均分子量(Mn)]
GPC(商品名:GPCV-2000、日本ウォーターズ社製、カラム:TSKgel、α-3000、移動相:10mMトリエチルアミン/ジメチルホルムアミド溶液)を用い、標準物質としてポリスチレン(分子量427,000、190,000、96,400、37,400、10,200、2,630、440、92)を使用して検量線を作成し、数平均分子量(Mn)を測定した。
[Number average molecular weight (Mn)]
Using GPC (product name: GPCV-2000, manufactured by Nippon Waters Co., Ltd., column: TSKgel, α-3000, mobile phase: 10mM triethylamine/dimethylformamide solution), polystyrene (molecular weight 427,000, 190,000, 96 , 400, 37,400, 10,200, 2,630, 440, 92) to create a calibration curve and measure the number average molecular weight (Mn).

[ガラス転移温度の測定]
ガラス転移温度は、JIS K 7121(2012)プラスチックの転移温度測定方法に準拠して測定を行い、当該JIS 9.3記載の補外ガラス転移開始温度(Tig)により求められる温度でガラス転移温度を求めた。測定には、示差走査熱量計(TAインスツルメント社製、DSC Q2000)を用いた。
[Measurement of glass transition temperature]
The glass transition temperature is measured in accordance with JIS K 7121 (2012) plastic transition temperature measurement method, and the glass transition temperature is determined by the extrapolated glass transition initiation temperature (Tig) described in JIS 9.3. I asked for it. A differential scanning calorimeter (manufactured by TA Instruments, DSC Q2000) was used for the measurement.

[チオール基濃度の測定]
乾燥固化した樹脂約1gを予め重量が精秤し、その樹脂が溶解した1.2wt%-ヨウ化カリウム水溶液を100ml、トルエン400ml、ピリジン600mlの混合液を、0.05Nヨウ素のトルエン溶液にて滴定を行った。溶液が黄色になった時点を終点として、以下計算式によりチオール基濃度を求めた。
チオール基濃度(mmol/g)=0.05×(滴定量)×(ヨウ素のトルエン溶液のファクター)/サンプル重量(g)
[Measurement of thiol group concentration]
Approximately 1 g of dried and solidified resin was accurately weighed in advance, and a mixed solution of 100 ml of a 1.2 wt% potassium iodide aqueous solution in which the resin was dissolved, 400 ml of toluene, and 600 ml of pyridine was added to a 0.05 N iodine solution in toluene. Titration was performed. The end point was when the solution turned yellow, and the thiol group concentration was determined using the following formula.
Thiol group concentration (mmol/g) = 0.05 x (titration amount) x (factor of iodine toluene solution) / sample weight (g)

[タップ密度の測定]
タップ密度とは、一定容器中に一定量の粉体を上下に加振しながら入れた後の体積当たりの質量のことであり、JIS Z 2512:2006法に基づいて測定した。具体的には、目盛り付きガラス容器(容量100ml)に、導電性微粒子(粉体量100g)を採取し、所定のタッピング装置にてタップストローク3mm、タップ回数100回/分の条件にてタップした。
[Measurement of tap density]
The tap density refers to the mass per volume after a certain amount of powder is placed in a certain container while being shaken up and down, and was measured based on the JIS Z 2512:2006 method. Specifically, conductive fine particles (powder amount 100 g) were collected in a graduated glass container (capacity 100 ml), and tapped with a predetermined tapping device under the conditions of a tap stroke of 3 mm and a number of taps of 100 times/min. .

<エラストマーの製造>
(エラストマー製造例1)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)783部とイソホロンジイソシアネート(IPDI)200部とを仕込み、徐々に昇温し、90℃にて6時間反応させた。その後50℃まで冷却した後、システアミン17部及びメチルイソブチルケトン(沸点116℃)333部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにメチルイソブチルケトンを添加することにより、数平均分子量が45,000、チオール基濃度が0.22mmol/g、ガラス転移温度が-55℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A1)を得た。
<Manufacture of elastomer>
(Elastomer production example 1)
783 parts of polytetramethylene ether glycol (molecular weight 1,000) and 200 parts of isophorone diisocyanate (IPDI) were charged into a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction pipe, a thermometer, and a dropping funnel, and gradually The temperature was raised to 90° C. and the reaction was continued for 6 hours. Thereafter, after cooling to 50°C, 17 parts of cysteamine and 333 parts of methyl isobutyl ketone (boiling point 116°C) were added, and the reaction was carried out at 50 °C for 1 hour. confirmed. By adding methyl isobutyl ketone so that the solid content is 30%, thiol is added only to the terminal region with a number average molecular weight of 45,000, a thiol group concentration of 0.22 mmol/g, and a glass transition temperature of -55°C. An elastomer (A1) having groups was obtained.

(エラストマー製造例2)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)692部とイソホロンジイソシアネート(IPDI)231部とを仕込み、徐々に昇温し、90℃にて6時間反応させた。その後50℃まで冷却した後、システアミン15部と、ジブチルアミン63部と、メチルイソブチルケトン(沸点116℃)333部とを添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにメチルイソブチルケトンを添加することにより、数平均分子量が9,300、チオール基濃度が0.19mmol/g、ガラス転移温度が-57℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A2)を得た。
(Elastomer production example 2)
692 parts of polytetramethylene ether glycol (molecular weight 1,000) and 231 parts of isophorone diisocyanate (IPDI) were charged into a four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction pipe, a thermometer, and a dropping funnel, and gradually The temperature was raised to 90° C. and the reaction was continued for 6 hours. After cooling to 50°C, 15 parts of cysteamine, 63 parts of dibutylamine, and 333 parts of methyl isobutyl ketone (boiling point 116°C) were added and reacted at 50°C for 1 hour. The disappearance of the peak at 2270 cm −1 was confirmed. By adding methyl isobutyl ketone so that the solid content is 30%, thiol is added only to the terminal region with a number average molecular weight of 9,300, a thiol group concentration of 0.19 mmol/g, and a glass transition temperature of -57°C. An elastomer (A2) having groups was obtained.

(エラストマー製造例3)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)690部と、ブタノール11部と、イソホロンジイソシアネート(IPDI)97部と、IPDIのイソシアヌレート三量体194部と、シクロヘキサノン(沸点156℃)1000部とを仕込み、徐々に昇温し、90℃にて10時間反応させた。その後50℃まで冷却した後、システアミン11部及びシクロヘキサノン(沸点156℃)200部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が50,000、チオール基濃度が0.11mmol/g、ガラス転移温度が-10℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A3)を得た。
(Elastomer production example 3)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, gas inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 690 parts of polytetramethylene ether glycol (molecular weight 1,000), 11 parts of butanol, and 97 parts of isophorone diisocyanate (IPDI) were added. 194 parts of isocyanurate trimer of IPDI, and 1000 parts of cyclohexanone (boiling point 156°C) were charged, the temperature was gradually raised, and the mixture was reacted at 90°C for 10 hours. After cooling to 50°C, 11 parts of cysteamine and 200 parts of cyclohexanone (boiling point 156°C) were added and reacted at 50°C for 1 hour, and disappearance of the peak at 2270 cm -1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. . By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, thiol groups are added only to the terminal region with a number average molecular weight of 50,000, a thiol group concentration of 0.11 mmol/g, and a glass transition temperature of -10°C. An elastomer (A3) having the following properties was obtained.

(エラストマー製造例4)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリカーボネートジオールC2090(クラレ社製)854部と、1,4-ブタンジオール7部と、ジフェニルメタンジイソシアネート135部と、シクロヘキサノン1000部を仕込み、徐々に昇温し、90℃にて8時間反応させた。その後50℃まで冷却した後、システアミン4部及びシクロヘキサノン200部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が40,000、チオール基濃度が0.05mmol/g、ガラス転移温度が30℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A4)を得た。
(Elastomer production example 4)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, gas inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 854 parts of polycarbonate diol C2090 (manufactured by Kuraray), 7 parts of 1,4-butanediol, and 135 parts of diphenylmethane diisocyanate were added. Then, 1000 parts of cyclohexanone were charged, the temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 90°C for 8 hours. After cooling to 50° C., 4 parts of cysteamine and 200 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was allowed to react at 50° C. for 1 hour, and disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, it has a number average molecular weight of 40,000, a thiol group concentration of 0.05 mmol/g, and a thiol group only in the terminal region with a glass transition temperature of 30 ° C. An elastomer (A4) was obtained.

(エラストマー製造例5)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、アセトン(沸点56℃)2000部を仕込み、徐々に昇温し56℃にて還流を開始した。そこに、ブチルアクリレート(BA)837部と、メチルメタクリレート(MMA)127部と、2-イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)36部と、アゾイソブチロニトリル(AIBN)2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間後にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、アセトンの還流温度でさらに3時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、システアミン16部及びシクロヘキサノン300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が150,000、チオール基濃度が0.21mmol/g、ガラス転移温度が-40℃であるチオール基を有するエラストマー(A5)を得た。
(Elastomer production example 5)
A four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction tube, a thermometer, and a dropping funnel was charged with 2,000 parts of acetone (boiling point 56°C), and the temperature was gradually raised to start refluxing at 56°C. About 3 parts of a mixed solution of 837 parts of butyl acrylate (BA), 127 parts of methyl methacrylate (MMA), 36 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI), and 2 parts of azoisobutyronitrile (AIBN) was added thereto. It dripped over time. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added three times every hour, and the reaction was further carried out at the reflux temperature of acetone for 3 hours. After cooling to 50° C., 16 parts of cysteamine and 300 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was reacted at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, an elastomer (A5) having a number average molecular weight of 150,000, a thiol group concentration of 0.21 mmol/g, and a glass transition temperature of -40°C. ) was obtained.

(エラストマー製造例6)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、アセトン(沸点56℃)2000部を仕込み、徐々に昇温し56℃にて還流を開始した。そこに、BA 837部と、MMA 144部と、MOI 12部と、AIBN 2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、アセトンの還流温度でさらに3時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、システアミン5部及びシクロヘキサノン300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が140,000、チオール基濃度が0.07mmol/g、ガラス転移温度が-38℃であるチオール基を有するエラストマー(A6)を得た。
(Elastomer production example 6)
A four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction tube, a thermometer, and a dropping funnel was charged with 2,000 parts of acetone (boiling point 56°C), and the temperature was gradually raised to start refluxing at 56°C. A mixed solution of 837 parts of BA, 144 parts of MMA, 12 parts of MOI, and 2 parts of AIBN was dropped therein over about 3 hours. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added 3 times every hour, and the reaction was further carried out at the reflux temperature of acetone for 3 hours. After cooling to 50° C., 5 parts of cysteamine and 300 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was reacted at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, an elastomer (A6 ) was obtained.

(エラストマー製造例7)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、アセトン(沸点56℃)2000部を仕込み、徐々に昇温し56℃にて還流が開始した。そこに、BA 706部と、MMA 229部と、MOI 36部と、AIBN 2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、アセトンの還流温度でさらに3時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、システアミン16部及びシクロヘキサノン300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が145,000、チオール基濃度が0.21mmol/g、ガラス転移温度が-20℃であるチオール基を有するエラストマー(A7)を得た。
(Elastomer production example 7)
A four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction tube, a thermometer, and a dropping funnel was charged with 2,000 parts of acetone (boiling point 56°C), and the temperature was gradually raised until reflux started at 56°C. A mixed solution of 706 parts of BA, 229 parts of MMA, 36 parts of MOI, and 2 parts of AIBN was added dropwise thereto over about 3 hours. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added 3 times every hour, and the reaction was further carried out at the reflux temperature of acetone for 3 hours. After cooling to 50° C., 16 parts of cysteamine and 300 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was reacted at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, an elastomer (A7) having a number average molecular weight of 145,000, a thiol group concentration of 0.21 mmol/g, and a glass transition temperature of -20°C ) was obtained.

(エラストマー製造例8)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、RAFT開始剤としてメチル4-シアノ-4-(ドデシルチオカルボノチオイルチオ)ペンタノエートを1.6部と、AIBNを1部と、MMAを52部と、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点218℃)100部とを仕込み、80℃にて8時間反応させた。更に、AIBNを0.15部と、BAを146部と、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(沸点247℃)150部とを添加し、80℃で12時間反応させた。
その後、50℃まで冷却した後、ジブチルアミン2部を添加することによりRAFT開始剤残基をチオール基へと変換することにより、数平均分子量が15,000、チオール基濃度が0.01mmol/g、ガラス転移温度が-57℃と102℃との2つである末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A8)を得た。
(Elastomer production example 8)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, gas inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 1.6 parts of methyl 4-cyano-4-(dodecylthiocarbonothioylthio)pentanoate was added as a RAFT initiator. , 1 part of AIBN, 52 parts of MMA, and 100 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 218°C) were charged and reacted at 80°C for 8 hours. Furthermore, 0.15 parts of AIBN, 146 parts of BA, and 150 parts of diethylene glycol monobutyl ether (boiling point 247°C) were added, and the mixture was reacted at 80°C for 12 hours.
Then, after cooling to 50°C, the RAFT initiator residue was converted to a thiol group by adding 2 parts of dibutylamine, resulting in a number average molecular weight of 15,000 and a thiol group concentration of 0.01 mmol/g. An elastomer (A8) having a thiol group only in the terminal region and having two glass transition temperatures of -57°C and 102°C was obtained.

(エラストマー製造例9)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点218℃)1000部を仕込み、徐々に80℃まで昇温した。そこに、BA 454部と、MMA 319部と、MOI 10部と、分子量6,000のポリスチレンマクロマー(東亜合成社製)212部と、AIBN 2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、その後80℃で3時間反応させ、さらに110℃で2時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、システアミン5部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを添加することにより、数平均分子量が80,000、チオール基濃度が0.06mmol/g、ガラス転移温度が-5℃と105℃との2つであるチオール基を有するエラストマー(A9)を得た。
(Elastomer production example 9)
1000 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 218°C) was charged into a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction pipe, a thermometer, and a dropping funnel, and the temperature was gradually raised to 80°C. A mixed solution of 454 parts of BA, 319 parts of MMA, 10 parts of MOI, 212 parts of polystyrene macromer having a molecular weight of 6,000 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and 2 parts of AIBN was added dropwise thereto over about 3 hours. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added three times every hour, followed by reaction at 80°C for 3 hours, and further reaction at 110°C for 2 hours. After cooling to 50° C., 5 parts of cysteamine and 300 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added and reacted at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding diethylene glycol monoethyl ether acetate so that the solid content is 30%, the number average molecular weight is 80,000, the thiol group concentration is 0.06 mmol/g, and the glass transition temperature is -5°C and 105°C. An elastomer (A9) having two thiol groups was obtained.

(エラストマー製造例10)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、酸変性ポリオレフィン(日本製紙社製、アウローレン550S)150部と、イソホロン(沸点215℃)679部と、メチルエチルケトン(MEK、沸点79℃)170部とを仕込み、70℃で2時間攪拌することにより酸変性ポリオレフィンを溶解させた。その後、50℃まで冷却した後システアミン2部と、MEK 10部とを添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにて酸無水物基に基づく1780cm-1のピークの消失を確認した。固形分が15%になるようにMEKを添加することにより、数平均分子量が86,000、チオール基濃度が0.09mmol/g、ガラス転移温度が5℃のチオール基を有するエラストマー(A10)を得た。
(Elastomer production example 10)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel, 150 parts of acid-modified polyolefin (Aurelen 550S, manufactured by Nippon Paper Industries) and 679 parts of isophorone (boiling point 215°C) were added. , 170 parts of methyl ethyl ketone (MEK, boiling point 79°C) were charged, and the acid-modified polyolefin was dissolved by stirring at 70°C for 2 hours. Thereafter, after cooling to 50°C, 2 parts of cysteamine and 10 parts of MEK were added, and the mixture was reacted at 50°C for 1 hour, and the disappearance of the peak at 1780 cm -1 based on the acid anhydride group was confirmed by IR. By adding MEK so that the solid content is 15%, an elastomer (A10) having a number average molecular weight of 86,000, a thiol group concentration of 0.09 mmol/g, and a glass transition temperature of 5°C. Obtained.

(エラストマー製造例11)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、プリポール1009(クローダ社製ダイマー酸)408部と、アジピン酸25部と、プリアミン1074(クローダ社製ダイマージアミン)535部と、180℃にて12時間反応させた。その後、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート500部を添加した後100℃まで冷却し、IPDIを23部添加し、100℃にて3時間反応させた。更に50℃まで冷却した後、システアミン8部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート500部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを添加することにより、数平均分子量が8,200、チオール基濃度が0.10mmol/g、ガラス転移温度が-15℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A11)を得た。
(Elastomer production example 11)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel, 408 parts of Pripol 1009 (dimer acid manufactured by Croda), 25 parts of adipic acid, and Priamine 1074 (dimer acid manufactured by Croda) were placed. diamine) for 12 hours at 180°C. Thereafter, 500 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was added and then cooled to 100°C, 23 parts of IPDI was added, and the mixture was reacted at 100°C for 3 hours. After further cooling to 50°C, 8 parts of cysteamine and 500 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added and reacted at 50°C for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm -1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding diethylene glycol monoethyl ether acetate so that the solid content is 30%, the terminal region has a number average molecular weight of 8,200, a thiol group concentration of 0.10 mmol/g, and a glass transition temperature of -15°C. An elastomer (A11) having only thiol groups was obtained.

(エラストマー製造例12)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)783部とIPDI 200部とを仕込み、徐々に昇温し、90℃にて6時間反応させた。その後、固形分が30%になるようにメチルイソブチルケトンを添加することにより、数平均分子量が43,000、ガラス転移温度が-59℃であるチオール基を有さないエラストマー(A12)を得た。
(Elastomer production example 12)
783 parts of polytetramethylene ether glycol (molecular weight 1,000) and 200 parts of IPDI were charged into a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction pipe, a thermometer, and a dropping funnel, and the temperature was gradually raised. , and reacted at 90°C for 6 hours. Thereafter, methyl isobutyl ketone was added so that the solid content was 30%, thereby obtaining an elastomer (A12) having no thiol group and having a number average molecular weight of 43,000 and a glass transition temperature of -59°C. .

(エラストマー製造例13)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)581部と、ブタノール19部と、イソホロンジイソシアネート(IPDI)97部と、IPDIのイソシアヌレート三量体194部と、シクロヘキサノン1000部を仕込み、徐々に昇温し、90℃にて10時間反応させた。その後50℃まで冷却した後、システアミン25部及びシクロヘキサノン200部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が43,000、チオール基濃度が0.36mmol/g、ガラス転移温度が-5℃である末端領域にのみチオール基を有するエラストマー(A13)を得た。
(Elastomer production example 13)
In a 4-neck flask equipped with a stirrer, reflux condenser, gas inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 581 parts of polytetramethylene ether glycol (molecular weight 1,000), 19 parts of butanol, and 97 parts of isophorone diisocyanate (IPDI) were added. 194 parts of isocyanurate trimer of IPDI, and 1000 parts of cyclohexanone were charged, the temperature was gradually raised, and the mixture was reacted at 90° C. for 10 hours. After cooling to 50°C, 25 parts of cysteamine and 200 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was allowed to react at 50°C for 1 hour, and disappearance of the peak at 2270 cm -1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content is 30%, thiol groups are added only to the terminal region with a number average molecular weight of 43,000, a thiol group concentration of 0.36 mmol/g, and a glass transition temperature of -5°C. An elastomer (A13) having the following properties was obtained.

(エラストマー製造例14)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、アセトン(沸点56℃)2000部を仕込み、徐々に昇温し56℃にて還流が開始した。そこに、ブチルアクリレート(BA)813部と、メチルメタクリレート(MMA)127部と、2-イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)60部と、アゾイソブチロニトリル(AIBN)2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、アセトンの還流温度でさらに3時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、ブチルアミン28部及びシクロヘキサノン300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにシクロヘキサノンを添加することにより、数平均分子量が146,000、ガラス転移温度が-35℃であるチオール基を有さないエラストマー(A14)を得た。
(Elastomer production example 14)
A four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas introduction tube, a thermometer, and a dropping funnel was charged with 2,000 parts of acetone (boiling point 56°C), and the temperature was gradually raised until reflux started at 56°C. Add about 3 parts of a mixed solution of 813 parts of butyl acrylate (BA), 127 parts of methyl methacrylate (MMA), 60 parts of 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI), and 2 parts of azoisobutyronitrile (AIBN) to it. It dripped over time. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added 3 times every hour, and the reaction was further carried out at the reflux temperature of acetone for 3 hours. After cooling to 50° C., 28 parts of butylamine and 300 parts of cyclohexanone were added, and the mixture was allowed to react at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding cyclohexanone so that the solid content was 30%, an elastomer (A14) having no thiol group and having a number average molecular weight of 146,000 and a glass transition temperature of -35°C was obtained.

(エラストマー製造例15)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート1000部を仕込み、徐々に80℃まで昇温した。そこに、BA 454部と、MMA 291部と、MOI 50部と、分子量6,000のポリスチレンマクロマー(東亜合成社製)212部と、AIBN 2部の混合液を約3時間かけて滴下した。滴下終了後1時間にAIBN 1部を添加し、その後1時間ごとにAIBN 1部を3回添加し、その後80℃で3時間反応させ、さらに110℃で2時間反応を行った。その後50℃まで冷却した後、システアミン25部及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート300部を添加し、50℃にて1時間反応させ、IRにてイソシアネート基に基づく2270cm-1のピークの消失を確認した。固形分が30%になるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを添加することにより、数平均分子量が78,000、チオール基濃度が0.32mmol/g、ガラス転移温度が-7℃と102℃との2つであるチオール基を有するエラストマー(A15)を得た。
(Elastomer production example 15)
1000 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate was charged into a four-neck flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel, and the temperature was gradually raised to 80°C. A mixed solution of 454 parts of BA, 291 parts of MMA, 50 parts of MOI, 212 parts of polystyrene macromer having a molecular weight of 6,000 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and 2 parts of AIBN was added dropwise thereto over about 3 hours. 1 part of AIBN was added 1 hour after the completion of the dropwise addition, and then 1 part of AIBN was added three times every hour, followed by reaction at 80°C for 3 hours, and further reaction at 110°C for 2 hours. After cooling to 50° C., 25 parts of cysteamine and 300 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added and reacted at 50° C. for 1 hour, and the disappearance of the peak at 2270 cm −1 based on isocyanate groups was confirmed by IR. By adding diethylene glycol monoethyl ether acetate so that the solid content is 30%, the number average molecular weight is 78,000, the thiol group concentration is 0.32 mmol/g, and the glass transition temperature is -7°C and 102°C. An elastomer (A15) having two thiol groups was obtained.

(エラストマー製造例16)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、酸変性ポリオレフィン(日本製紙社製、アウローレン550S)150部と、イソホロン(沸点215℃)679部と、メチルエチルケトン(MEK、沸点79℃)170部とを仕込み、70℃で2時間攪拌することにより酸変性ポリオレフィンを溶解させた。その後、固形分が15%になるようにMEKを添加することにより数平均分子量が85,000、ガラス転移温度が5℃のチオール基を有さないエラストマー(A16)を得た。
(Elastomer production example 16)
In a 4-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a gas inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel, 150 parts of acid-modified polyolefin (Aurelen 550S, manufactured by Nippon Paper Industries) and 679 parts of isophorone (boiling point 215°C) were added. , 170 parts of methyl ethyl ketone (MEK, boiling point 79°C) were charged, and the acid-modified polyolefin was dissolved by stirring at 70°C for 2 hours. Thereafter, by adding MEK so that the solid content was 15%, an elastomer (A16) having a number average molecular weight of 85,000 and a glass transition temperature of 5° C. and having no thiol group was obtained.

(エラストマー製造例17)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、チオコールLP-2(東レファインケミカル社製)150部と、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート350部とを仕込み、50℃で1時間攪拌することにより、固形分が30%、数平均分子量が4,000、チオール基濃度が0.50mmol/g、ガラス転移温度が-61℃のチオール基を有するエラストマー(A17)を得た。
(Elastomer production example 17)
Into a 4-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, gas inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 150 parts of Thiokol LP-2 (manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.) and 350 parts of diethylene glycol monoethyl ether acetate were charged. By stirring at ℃ for 1 hour, a thiol group-containing elastomer (A17) with a solid content of 30%, a number average molecular weight of 4,000, a thiol group concentration of 0.50 mmol/g, and a glass transition temperature of -61 ℃ was obtained. Obtained.

<導電ペーストの製造>
(実施例1)
固形分30%のエラストマー(A1)2.25部と、銀粒子又は銀被覆粒子(B1)2.7部とを十分混合することで実施例1の導電ペーストを得た。
<Manufacture of conductive paste>
(Example 1)
The conductive paste of Example 1 was obtained by thoroughly mixing 2.25 parts of an elastomer (A1) with a solid content of 30% and 2.7 parts of silver particles or silver-coated particles (B1).

(実施例2~16及び比較例1~8)
表1に示された導電ペースト処方以外は、実施例1と同様にして、導電ペーストを得た。
(Examples 2 to 16 and Comparative Examples 1 to 8)
A conductive paste was obtained in the same manner as in Example 1 except for the conductive paste formulation shown in Table 1.

<導電ペーストの評価>
得られた導電ペーストを用いて以下の評価を行った。結果を表1及び表2に示す。
<Evaluation of conductive paste>
The following evaluations were performed using the obtained conductive paste. The results are shown in Tables 1 and 2.

(導電ペーストの保存安定性)
得られた導電ペーストを、40℃にて3日保管した後の流動性を確認した。
・流動性の評価基準:
+:流動性に変化がなく、40℃にて3日間保管後もスクリーン印刷が可能
NG:流動性が低下し、40℃にて3日間保管後はスクリーン印刷が不可能
(Storage stability of conductive paste)
The fluidity of the obtained conductive paste after being stored at 40° C. for 3 days was checked.
・Liquidity evaluation criteria:
+: No change in fluidity, screen printing is possible even after storage at 40℃ for 3 days NG: Fluidity decreases, screen printing is not possible after storage at 40℃ for 3 days

<導電膜を備える積層体の作製>
得られた導電ペーストを、以下の基材C1又は基材C2上に、スクリーン印刷で塗布し、80℃で30分間熱処理して、厚みが25μmの導電膜を備える積層体を作製した。
伸縮性基材C1:伸縮可能なウレタンフィルム(株式会社武田産業社製タフグレイスフィルム、厚み80μm)
基材C2:PETフィルム(東洋紡株式会社性コスモシャインA4100、厚み100μm)
<Production of laminate including conductive film>
The obtained conductive paste was applied by screen printing onto the following base material C1 or base material C2, and heat treated at 80° C. for 30 minutes to produce a laminate having a conductive film with a thickness of 25 μm.
Stretchable base material C1: stretchable urethane film (Tough Grace film manufactured by Takeda Sangyo Co., Ltd., thickness 80 μm)
Base material C2: PET film (Toyobo Co., Ltd. Cosmoshine A4100, thickness 100 μm)

(臭気評価)
得られた積層体について、以下の基準で臭気を官能評価した。
++:無臭
+:わずかに臭気を感じる
NG:強烈な臭気を感じる
(Odor evaluation)
The odor of the obtained laminate was sensory evaluated using the following criteria.
++: No odor +: Slight odor NG: Strong odor

(初期の体積抵抗率)
積層体を幅10mm、長さ140mmにカットして試験片を作製した。表面抵抗測定器(品番:ロレスタAP MCP-T400、プローブ:ASPプローブ(4探針プローブ、三菱化学社製)を用い、温度が25℃及び相対湿度が50%の雰囲気中で、JIS K7194に準拠して試験片の初期の体積抵抗率を測定し、以下の基準により評価した。
+++:2.0×10-4Ω・cm未満
++:2.0×10-4Ω・cm以上、9.9×10-4Ω・cm未満
+:9.9×10-4Ω・cm以上、9.9×10-3Ω・cm未満
NG:9.9×10-3Ω・cm以上
(Initial volume resistivity)
A test piece was prepared by cutting the laminate to a width of 10 mm and a length of 140 mm. Using a surface resistance measuring device (product number: Loresta AP MCP-T400, probe: ASP probe (4-probe probe, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), in an atmosphere with a temperature of 25°C and a relative humidity of 50%, in accordance with JIS K7194 The initial volume resistivity of the test piece was measured and evaluated according to the following criteria.
+++: less than 2.0×10 −4 Ω・cm ++: 2.0×10 −4 Ω・cm or more, less than 9.9×10 −4 Ω・cm +: 9.9×10 −4 Ω・cm or more, less than 9.9×10 -3 Ω・cm NG: 9.9×10 −3 Ω・cm or more

(湿熱環境下での体積抵抗率の変化率)
積層体を用いて、85℃、相対湿度85%の湿熱環境下で10日経過後(湿熱後)の体積抵抗率を、初期と同様の方法で測定し、初期からの変化率を算出し、以下の基準により評価した。
[変化率(%)]
=[(初期の体積抵抗率)-(湿熱後の体積抵抗率)]÷[(初期の体積抵抗率)]
+++:変化率が20%以下
++:変化率が20%を超えて、50%以下
+:変化率が50%を超えて、100%以下
NG:変化率が100%を超える
(Change rate of volume resistivity under humid heat environment)
Using the laminate, the volume resistivity after 10 days (after moist heat) in a moist heat environment of 85 ° C. and 85% relative humidity was measured in the same manner as the initial stage, and the rate of change from the initial stage was calculated. Evaluation was made based on the following criteria.
[Rate of change(%)]
= [(Initial volume resistivity) - (Volume resistivity after moist heat)] ÷ [(Initial volume resistivity)]
+++: Rate of change is 20% or less ++: Rate of change is more than 20% and less than 50% +: Rate of change is more than 50% and less than 100% NG: Rate of change is more than 100%

(伸縮試験後の体積抵抗率の変化率及び外観評価)
伸縮性基材C1を用いた積層体を20mm×60mmサイズに切り取りサンプルとし、その端部をテンシロン引張試験装置に固定して、25℃、相対湿度50%、速度4mm/sの速さで50%まで伸長し、その後2秒間保持し、そしてその後4mm/sの速さで除荷し、2秒間保持する伸縮サイクルを1000回繰り返した後に、初期と同様の方法で体積抵抗率を測定した。伸縮サイクル前後の体積抵抗率の変化率を以下の式により算出し、以下の基準により評価した。
[変化率(%)]=[(R1000)-(R0)]÷[(R0)]×100
(ここで、R1000は伸縮サイクル直後の体積抵抗率、R0は伸縮サイクル前の同積層体を用いた体積抵抗率を示す。)
+++:変化率が20%以下
++:変化率が20%を超えて、50%以下
+:変化率が50%を超えて、100%以下
NG:変化率が100%を超える
(Change rate of volume resistivity and appearance evaluation after expansion/contraction test)
A laminate using the stretchable base material C1 was cut into a sample of 20 mm x 60 mm, the end of which was fixed in a Tensilon tensile tester, and tested at 25° C., relative humidity 50%, and a speed of 4 mm/s for 50 minutes. %, then held for 2 seconds, and then unloaded at a speed of 4 mm/s and held for 2 seconds, after which the volume resistivity was measured 1000 times in the same manner as the initial one. The rate of change in volume resistivity before and after the stretching cycle was calculated using the following formula, and evaluated using the following criteria.
[Change rate (%)] = [(R1000) - (R0)] ÷ [(R0)] x 100
(Here, R1000 indicates the volume resistivity immediately after the expansion/contraction cycle, and R0 indicates the volume resistivity using the same laminate before the expansion/contraction cycle.)
+++: Rate of change is 20% or less ++: Rate of change is more than 20% and less than 50% +: Rate of change is more than 50% and less than 100% NG: Rate of change is more than 100%

また、上記1000回収縮後の積層体の外観について、試験前の状態と比較して以下の基準により評価した。
++:外観に変化が見られない
+:外観に一部クラック等の亀裂が僅かに生じている
NG:外観にひび割れやクラックが完全に生じている
Further, the appearance of the laminate after shrinking 1000 times was compared with the state before the test and evaluated based on the following criteria.
++: No change in appearance +: Slight cracks or other cracks have occurred on the appearance NG: Cracks or cracks have completely formed on the appearance

Figure 0007367586000001
Figure 0007367586000001

Figure 0007367586000002
Figure 0007367586000002

表1、2で使用した銀粒子又は銀被覆粒子は、以下のとおりである。
銀粒子又は銀被覆粒子(B1):タップ密度1.4g/cmの連鎖状銀(福田金属箔粉工業株式会社社製、AgC-G)
銀粒子又は銀被覆粒子(B2):タップ密度3.3g/cmのフレーク状銀(福田金属箔粉工業株式会社社製、AgC-A)
銀粒子又は銀被覆粒子(B3):タップ密度1.1g/cmの箔状銀(福田金属箔粉工業株式会社製、Ag-XF301S)
銀粒子又は銀被覆粒子(B4):タップ密度3.3g/cmのフレーク粉(三井金属鉱業株式会社製、1000YP)
The silver particles or silver-coated particles used in Tables 1 and 2 are as follows.
Silver particles or silver-coated particles (B1): chain silver with a tap density of 1.4 g/cm 3 (manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd., AgC-G)
Silver particles or silver-coated particles (B2): flaky silver with a tap density of 3.3 g/cm 3 (manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd., AgC-A)
Silver particles or silver-coated particles (B3): foil-like silver with a tap density of 1.1 g/cm 3 (manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd., Ag-XF301S)
Silver particles or silver-coated particles (B4): flake powder with a tap density of 3.3 g/cm 3 (manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd., 1000YP)

表1に示すように、本発明の導電ペーストを用いて作成した実施例1~19の導電ペーストは保存安定性に優れ、該導電ペーストから形成された導電膜を備える積層体は導電性、伸縮性に優れ、高温高湿環境下を経ても抵抗値の上昇がなく、臭気もなかったのに対し、表2の比較例1~8はそのいずれかが不良であり、全てが良好となるものは得られなかった。このように実施例1~19の導電ペースト及びその導電ペーストから得られた導電膜、積層体は有用であることが分かった。
As shown in Table 1, the conductive pastes of Examples 1 to 19 prepared using the conductive paste of the present invention have excellent storage stability, and the laminates comprising conductive films formed from the conductive pastes have good conductivity and elasticity. In contrast, Comparative Examples 1 to 8 in Table 2 had one of the defects and all of them were good. was not obtained. As described above, the conductive pastes of Examples 1 to 19 and the conductive films and laminates obtained from the conductive pastes were found to be useful.

Claims (10)

チオール基を有するエラストマー(A)と、銀粒子又は銀被覆粒子(B)とを含有する導電ペーストであって、
前記エラストマー(A)の固形分中のチオール基濃度が、0.001~0.250mmol/gであることを特徴とする導電ペースト。
A conductive paste containing an elastomer (A) having a thiol group and silver particles or silver-coated particles (B),
A conductive paste characterized in that the thiol group concentration in the solid content of the elastomer (A) is 0.001 to 0.250 mmol/g.
前記エラストマー(A)の数平均分子量が、10,000~500,000であることを特徴とする請求項1記載の導電ペースト。 The conductive paste according to claim 1, wherein the elastomer (A) has a number average molecular weight of 10,000 to 500,000. 前記エラストマー(A)が、末端領域にチオール基を有するエラストマー(A1)であることを特徴とする請求項1又は2記載の導電ペースト。 3. The conductive paste according to claim 1, wherein the elastomer (A) is an elastomer (A1) having a thiol group in its terminal region. 前記エラストマー(A)が、ガラス転移温度を20℃以上の温度領域及び20℃未満の温度領域にそれぞれ1つ以上有することを特徴とする請求項1~3のいずれか記載の導電ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the elastomer (A) has one or more glass transition temperatures in a temperature range of 20°C or higher and one or more in a temperature range of lower than 20°C. 銀粒子又は銀被覆粒子(B)が、連鎖状銀粉であって、タップ密度が2.0g/cm以下であることを特徴とする請求項1~4のいずれか記載の導電ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 4, wherein the silver particles or silver-coated particles (B) are chain silver powder and have a tap density of 2.0 g/cm 3 or less. 導電ペーストが、さらに沸点が180℃以上270℃以下の溶剤を含有することを特徴とする請求項1~5のいずれか記載の導電ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the conductive paste further contains a solvent having a boiling point of 180°C or more and 270°C or less. 請求項1~6のいずれか記載の導電ペーストから形成されることを特徴とする導電膜。 A conductive film formed from the conductive paste according to any one of claims 1 to 6. 基材上に、請求項7記載の導電膜を備える積層体。 A laminate comprising the conductive film according to claim 7 on a base material. 前記基材が、伸縮性を有する基材であることを特徴とする請求項8記載の積層体。 The laminate according to claim 8, wherein the base material is a stretchable base material. 請求項7記載の導電膜を有する電子デバイス。 An electronic device comprising the conductive film according to claim 7.
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