Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7367766B2 - Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7367766B2 - Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product - Google Patents

Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product Download PDF

Info

Publication number
JP7367766B2
JP7367766B2 JP2021551143A JP2021551143A JP7367766B2 JP 7367766 B2 JP7367766 B2 JP 7367766B2 JP 2021551143 A JP2021551143 A JP 2021551143A JP 2021551143 A JP2021551143 A JP 2021551143A JP 7367766 B2 JP7367766 B2 JP 7367766B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
formula
resin composition
thermosetting resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021551143A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2021070416A1 (en
Inventor
千佳 峯崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Resonac Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd, Resonac Corp filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of JPWO2021070416A1 publication Critical patent/JPWO2021070416A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7367766B2 publication Critical patent/JP7367766B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/08Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
    • C08F290/14Polymers provided for in subclass C08G
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F212/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、該熱硬化性樹脂組成物を用いた構造体の製造方法、及び該硬化物を含む構造体に関する。 The present invention relates to a thermosetting resin composition, a cured product thereof, a method for producing a structure using the thermosetting resin composition, and a structure containing the cured product.

近年、電子機器及び産業機器に用いられる半導体パッケージには、電子部品の高密度集積化に伴い、高密度配線化、小型化、薄型化、高耐熱化、高放熱化等の性能が求められている。そのためプラスチック材料である封止材にも高耐熱化が求められている。 In recent years, semiconductor packages used in electronic equipment and industrial equipment have been required to have performances such as high-density wiring, miniaturization, thinness, high heat resistance, and high heat dissipation due to the high density integration of electronic components. There is. Therefore, sealing materials that are plastic materials are also required to have high heat resistance.

トランスファー成形は、材料をプランジャー内で加熱軟化させ、加熱軟化した材料をゲート、スプルー、ランナーなどの金型内流路を介して加熱された金型キャビティの中に押し込み、金型キャビティの中で硬化させる方法である。材料を流動性の高い状態でキャビティ内に注入するため、低い圧力での成形が可能である。トランスファー成形は、高い圧力を必要とする他の成形方法と比べてインサート物を損傷しにくいという特徴がある。トランスファー成形は、小型化及び微細加工が可能であり、生産性も高いことから、パワー半導体及びICの封止成形における代表的な成形方法として知られている。 Transfer molding involves heating and softening the material in a plunger, pushing the heated softened material into a heated mold cavity through channels in the mold such as gates, sprues, and runners. This is a method of curing. Since the material is injected into the cavity in a highly fluid state, molding can be performed at low pressure. Transfer molding is characterized by less damage to inserts than other molding methods that require high pressure. Transfer molding is known as a typical molding method for sealing power semiconductors and ICs because it allows miniaturization and fine processing and has high productivity.

トランスファー成形で利用される封止材としては、従来、エポキシ-フェノール系熱硬化性樹脂材料が利用されていた。しかし、近年の高耐熱化の要求に従来の材料で対応することは難しい。高耐熱化の要求に対応するため、樹脂系を種々工夫した封止材、例えば、多官能エポキシ樹脂を多く配合した熱硬化性樹脂組成物、ビスマレイミド、トリアジン骨格、ベンゾオキサジン骨格、シルセスキオキサン骨格などの高耐熱性構造を含む熱硬化性樹脂組成物等が提案されている。 Conventionally, epoxy-phenolic thermosetting resin materials have been used as the sealing material used in transfer molding. However, it is difficult to meet the recent demand for higher heat resistance using conventional materials. In order to meet the demand for high heat resistance, sealing materials with various resin systems are used, such as thermosetting resin compositions containing a large amount of polyfunctional epoxy resin, bismaleimide, triazine skeleton, benzoxazine skeleton, silsesquioxide skeleton, etc. Thermosetting resin compositions containing a highly heat-resistant structure such as a sun skeleton have been proposed.

特許文献1(特開平11-140277号公報)は、(A)分子中にビフェニル誘導体及び/又はナフタレン誘導体を含むノボラック構造のフェノール樹脂を総フェノール樹脂量中に30~100質量部含むフェノール樹脂、(B)分子中にビフェニル誘導体及び/又はナフタレン誘導体を含むノボラック構造のエポキシ樹脂を総エポキシ樹脂量中に30~100質量部含むエポキシ樹脂、(C)無機充填材、(D)硬化促進剤を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物を記載している。 Patent Document 1 (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-140277) discloses (A) a phenol resin containing 30 to 100 parts by mass of a novolac structure phenol resin containing a biphenyl derivative and/or a naphthalene derivative in the molecule, in the total amount of phenol resin; (B) an epoxy resin containing 30 to 100 parts by mass of a novolac structure epoxy resin containing biphenyl derivatives and/or naphthalene derivatives in the molecule, (C) an inorganic filler, and (D) a curing accelerator. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is described, which is characterized in that the composition is an essential component.

特許文献2(特開平5-43630号公報)は、N,N’-(アルキル置換ジフェニルメタン)ビスマレイミドと、サリチルアルデヒドとフェノールの縮合ポリフェノールからのポリアリルフェノールとを含有してなる芳香族ビスマレイミド樹脂組成物を記載している。 Patent Document 2 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-43630) discloses an aromatic bismaleimide containing N,N'-(alkyl-substituted diphenylmethane) bismaleimide and polyallylphenol derived from a condensed polyphenol of salicylaldehyde and phenol. The resin composition is described.

特許文献3(特開平5-6869号公報)は、(A)1分子中に2個以上のマレイミド基を有するマレイミド化合物、(B)特定の繰り返し単位を有するアリル化フェノール樹脂、及び(C)硬化触媒を含有する樹脂組成物を用いて半導体素子を封止してなる半導体装置を記載している。 Patent Document 3 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-6869) discloses (A) a maleimide compound having two or more maleimide groups in one molecule, (B) an allylated phenol resin having a specific repeating unit, and (C) A semiconductor device is described in which a semiconductor element is sealed using a resin composition containing a curing catalyst.

特許文献4(特開平6-93047号公報)は、マレイミド化合物、特定構造のアルケニルフェノール化合物及びエポキシ基含有有機シラン化合物を、特定比率で配合してなる硬化性樹脂組成物を記載している。 Patent Document 4 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-93047) describes a curable resin composition comprising a maleimide compound, an alkenylphenol compound with a specific structure, and an epoxy group-containing organic silane compound in a specific ratio.

特開平11-140277号公報Japanese Patent Application Publication No. 11-140277 特開平5-43630号公報Japanese Patent Application Publication No. 5-43630 特開平5-6869号公報Japanese Patent Application Publication No. 5-6869 特開平6-93047号公報Japanese Patent Application Publication No. 6-93047

従来利用されていたエポキシ-フェノール系熱硬化性樹脂材料と比べ、ビスマレイミド樹脂を用いることで、成形物の耐熱性が向上することが分かっている(特許文献2~4)。しかし、従来のビスマレイミド樹脂を用いた封止材は、エポキシ-フェノール系熱硬化性樹脂材料と比べ、他部材、特に金属材料に対しての密着性が非常に低いという欠点がある。電子デバイスには、導体や冷却を担う銅などの金属部品が内包されており、金属と封止材の間での剥離が生じると内部保護上問題となる。そのため金属と封止材の密着性の向上が課題である。対して、成形金型に対しての密着性が向上すると型離れせずに成形不可となってしまうため生産上問題となる。そのため、成形しやすく、かつ金属に対しての密着力が高い封止材の実現が強く望まれている。 It has been found that the use of bismaleimide resin improves the heat resistance of molded products compared to conventionally used epoxy-phenolic thermosetting resin materials (Patent Documents 2 to 4). However, conventional sealing materials using bismaleimide resin have a drawback that their adhesion to other members, especially metal materials, is extremely low compared to epoxy-phenolic thermosetting resin materials. Electronic devices include metal parts such as copper that play a role in conductor and cooling, and peeling between the metal and the encapsulant poses a problem in terms of internal protection. Therefore, the challenge is to improve the adhesion between the metal and the sealant. On the other hand, if the adhesion to the molding die is improved, it will not separate from the mold and will become impossible to mold, which will pose a problem in production. Therefore, it is strongly desired to realize a sealing material that is easy to mold and has high adhesion to metal.

本開示では、成形性を損なうことなく、金属に対しての密着性及び接着性に優れた熱硬化性樹脂組成物が記載される。 The present disclosure describes a thermosetting resin composition that has excellent adhesion and adhesion to metal without impairing moldability.

本発明は以下の態様を含む。
[1]
ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、式(1)に記載の構造を有する化合物(C)、及びラジカル開始剤(D)を含有する熱硬化性樹脂組成物。

Figure 0007367766000001
(式中、R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~3のアルキル基、水酸基、カルボキシ基、又はアミノ基であり、R1及びR2の少なくとも一方はアミノ基である。R3は水素原子、炭素原子数1~3のアルキル基、炭素原子数2~3のアルケニル基、又はシアノ基であり、R4は水素原子、又は炭素原子数1~3のアルキル基である。)
[2]
前記化合物(C)は、6-アミノインダゾール、5-アミノインダゾール、6-アミノ-5-メチルインダゾール、6-アミノ-5-エチルインダゾール、6-アミノ-5-ヒドロキシインダゾール、6-アミノ-5-ブロモインダゾール、6-アミノ-5-クロロインダゾール、3-シアノ-5-アミノインダゾール、5-カルボキシ-6-アミノインダゾール、及び5,6-ジアミノインダゾールから選択される少なくとも一種を含む、上記態様1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[3]
前記化合物(C)が5-アミノインダゾール、及び6-アミノインダゾールから選択される少なくとも一種を含む、上記態様2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4]
前記化合物(C)の含有量が前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)と前記ポリマレイミド化合物(B)の合計100質量部に対して0.05質量部~5質量部である、上記態様1~3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[5]
前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)の配合量が前記ポリマレイミド化合物(B)100質量部に対して5~200質量部である、上記態様1~4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[6]
前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)が、式(2)-1:
Figure 0007367766000002
及び任意に式(2)-2:
Figure 0007367766000003
で表される構造単位を有し、式(2)-1及び式(2)-2において、R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、又は炭素原子数1~5のアルコキシ基を表し、R6はそれぞれ独立に式(3):
Figure 0007367766000004
で表される2-アルケニル基を表し、式(3)において、R7、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基であり、式(3)の*は、芳香環を構成する炭素原子との結合部を表し、R5及びR6は各フェノール骨格単位で同じでもよく異なっていてもよく、式(2)-1及び式(2)-2におけるQはそれぞれ独立に式-CR1213-で表されるアルキレン基、炭素原子数5~10のシクロアルキレン基、芳香環を有する二価の有機基、脂環式縮合環を有する二価の有機基、又はこれらを組み合わせた二価の有機基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~6のアルケニル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基を表す、上記態様1~5のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[7]
式(2)-1に示す構造単位の一分子あたりの平均数をp、式(2)-2に示す構造単位の一分子あたりの平均数をqとしたときに、pは1.1~35の実数、p+qは1.1~35の実数であり、かつqは式:p/(p+q)の値が0.4~1となる実数を満たす、上記態様6に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[8]
前記ポリマレイミド化合物(B)が芳香族ビスマレイミド化合物である、上記態様1~7のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[9]
前記ラジカル開始剤(D)が有機過酸化物である、上記態様1~8のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[10]
さらに充填材(E)を含む、上記態様1~9のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[11]
前記充填材(E)が、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム及び固体ゴム粒子からなる群から選択される少なくとも一種である、上記態様10に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[12]
前記充填材(E)の含有量が、前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)、前記ポリマレイミド化合物(B)、前記化合物(C)、及び前記ラジカル開始剤(D)の合計100質量部に対して200~1900質量部である、上記態様10又は11に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[13]
上記態様1~12のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物。
[14]
上記態様1~12のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物をモールディング成形する、構造体の製造方法。
[15]
上記態様13に記載の硬化物を含む構造体。The present invention includes the following aspects.
[1]
A thermosetting resin composition containing a polyalkenylphenol compound (A), a polymaleimide compound (B), a compound (C) having a structure represented by formula (1), and a radical initiator (D).
Figure 0007367766000001
(In the formula, R 1 and R 2 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxy group, or an amino group, and at least one of R 1 and R 2 is an amino group. .R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms, or a cyano group, and R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. be.)
[2]
The compound (C) is 6-aminoindazole, 5-aminoindazole, 6-amino-5-methylindazole, 6-amino-5-ethylindazole, 6-amino-5-hydroxyindazole, 6-amino-5- The above embodiment 1 contains at least one selected from bromoindazole, 6-amino-5-chloroindazole, 3-cyano-5-aminoindazole, 5-carboxy-6-aminoindazole, and 5,6-diaminoindazole. The thermosetting resin composition described.
[3]
The thermosetting resin composition according to the above aspect 2, wherein the compound (C) contains at least one selected from 5-aminoindazole and 6-aminoindazole.
[4]
Embodiments 1 to 3 above, wherein the content of the compound (C) is 0.05 parts by mass to 5 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the polyalkenylphenol compound (A) and the polymaleimide compound (B). The thermosetting resin composition according to any one of the above.
[5]
The thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 4, wherein the polyalkenylphenol compound (A) is blended in an amount of 5 to 200 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymaleimide compound (B). .
[6]
The polyalkenylphenol compound (A) has the formula (2)-1:
Figure 0007367766000002
and optionally formula (2)-2:
Figure 0007367766000003
In formula (2)-1 and formula (2)-2, R 5 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a structural unit having 1 to 5 carbon atoms. 5 represents an alkoxy group, and each R 6 independently represents the formula (3):
Figure 0007367766000004
In formula (3), R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. It is a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * in formula (3) represents a bond with a carbon atom constituting an aromatic ring, and R 5 and R 6 are Each phenol skeleton unit may be the same or different, and Q in formula (2)-1 and formula (2)-2 each independently represents an alkylene group represented by the formula -CR 12 R 13 -, the number of carbon atoms Represents a cycloalkylene group of 5 to 10, a divalent organic group having an aromatic ring, a divalent organic group having an alicyclic condensed ring, or a divalent organic group combining these, and R 12 and R 13 are Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 5 above.
[7]
When the average number of structural units shown in formula (2)-1 per molecule is p, and the average number of structural units shown in formula (2)-2 per molecule is q, p is 1.1 to 1. 35 is a real number, p+q is a real number from 1.1 to 35, and q satisfies a real number such that the value of the formula: p/(p+q) is 0.4 to 1. Composition.
[8]
The thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 7 above, wherein the polymaleimide compound (B) is an aromatic bismaleimide compound.
[9]
The thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 8 above, wherein the radical initiator (D) is an organic peroxide.
[10]
The thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 9 above, further comprising a filler (E).
[11]
The thermosetting resin composition according to aspect 10, wherein the filler (E) is at least one member selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, and solid rubber particles.
[12]
The content of the filler (E) is based on a total of 100 parts by mass of the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), the compound (C), and the radical initiator (D). The thermosetting resin composition according to the above aspect 10 or 11, which contains 200 to 1900 parts by mass.
[13]
A cured product of the thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 12 above.
[14]
A method for producing a structure, comprising molding the thermosetting resin composition according to any one of aspects 1 to 12 above.
[15]
A structure comprising the cured product according to aspect 13 above.

本開示によれば、成形性を損なうことなく、金属に対しての密着性及び接着性に優れた熱硬化性樹脂組成物を得ることができる。本開示の熱硬化性樹脂組成物は適切な時間で硬化することができ、優れた生産性を与える。本開示の熱硬化性樹脂組成物を用いて高信頼性の硬化物を形成することができる。 According to the present disclosure, a thermosetting resin composition having excellent adhesion and adhesion to metal can be obtained without impairing moldability. The thermosetting resin composition of the present disclosure can be cured in an appropriate amount of time and provides excellent productivity. A highly reliable cured product can be formed using the thermosetting resin composition of the present disclosure.

以下に本発明について詳細に説明する。一実施態様の熱硬化性樹脂組成物は、ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、式(1)に記載の構造を有する化合物(C)、及びラジカル開始剤(D)を含む。 The present invention will be explained in detail below. The thermosetting resin composition of one embodiment includes a polyalkenylphenol compound (A), a polymaleimide compound (B), a compound (C) having the structure described in formula (1), and a radical initiator (D). include.

[ポリアルケニルフェノール化合物(A)]
ポリアルケニルフェノール化合物(A)は、分子内に少なくとも2つのフェノール骨格を有し、かつ分子内のフェノール骨格を形成する芳香環の一部又は全部に2-アルケニル基が結合している化合物である。2-アルケニル基としては、式(3)で表される構造の基が好ましい。
[Polyalkenylphenol compound (A)]
The polyalkenylphenol compound (A) is a compound that has at least two phenol skeletons in the molecule, and a 2-alkenyl group is bonded to part or all of the aromatic ring that forms the phenol skeleton in the molecule. . As the 2-alkenyl group, a group having a structure represented by formula (3) is preferable.

Figure 0007367766000005
Figure 0007367766000005

式(3)において、R7、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基である。式(3)の*は、芳香環を構成する炭素原子との結合部を表す。In formula (3), R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or a carbon It is an aryl group having 6 to 12 atoms. * in formula (3) represents a bonding portion with a carbon atom constituting an aromatic ring.

式(3)におけるR7、R8、R9、R10及びR11を構成する炭素原子数1~5のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基等を挙げることができる。炭素原子数5~10のシクロアルキル基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基等を挙げることができる。炭素原子数6~12のアリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。式(3)で表される2-アルケニル基はアリル基、すなわちR7、R8、R9、R10及びR11が全て水素原子であることが好ましい。Specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms constituting R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 in formula (3) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, and isopropyl group. , n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, etc. Specific examples of the cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, and the like. Specific examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, biphenyl group, and naphthyl group. The 2-alkenyl group represented by formula (3) is preferably an allyl group, that is, R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are all hydrogen atoms.

ポリアルケニルフェノール化合物(A)において、フェノール骨格を形成する全芳香環のうち好ましくは40~100%、より好ましくは60~100%、さらに好ましくは80~100%の芳香環に2-アルケニル基が結合されている。 In the polyalkenylphenol compound (A), 2-alkenyl groups are present in preferably 40 to 100%, more preferably 60 to 100%, even more preferably 80 to 100% of all the aromatic rings forming the phenol skeleton. combined.

ポリアルケニルフェノール化合物(A)の基本骨格としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキルフェノール樹脂、フェノール-ジシクロペンタジエン共重合体樹脂等の公知のフェノール樹脂の骨格が挙げられる。中でも下記式(2)-1及び任意に式(2)-2に示す構造単位を有するポリアルケニルフェノール化合物(A)を好ましく使用することができる。 As the basic skeleton of the polyalkenylphenol compound (A), known compounds such as phenol novolac resin, cresol novolac resin, triphenylmethane type phenol resin, phenol aralkyl resin, biphenylaralkyl phenol resin, phenol-dicyclopentadiene copolymer resin, etc. An example is a phenolic resin skeleton. Among them, polyalkenylphenol compounds (A) having structural units shown in the following formula (2)-1 and optionally in the formula (2)-2 can be preferably used.

Figure 0007367766000006
Figure 0007367766000006
Figure 0007367766000007
Figure 0007367766000007

式(2)-1及び式(2)-2に示す構造単位は、ポリアルケニルフェノール化合物(A)を構成する好ましいフェノール骨格単位であり、これらのフェノール骨格単位の結合順序は特に限定されない。式(2)-1及び式(2)-2において、R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、又は炭素原子数1~5のアルコキシ基であり、式(2)-1において、R6はそれぞれ独立に式(3)で表される2-アルケニル基である。R5及びR6は各フェノール骨格単位で同じでもよく異なっていてもよい。式(2)-1及び式(2)-2におけるQはそれぞれ独立に式-CR1213-で表されるアルキレン基、炭素原子数5~10のシクロアルキレン基、芳香環を有する二価の有機基、脂環式縮合環を有する二価の有機基、又はこれらを組み合わせた二価の有機基であり、R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~6のアルケニル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基である。The structural units represented by formulas (2)-1 and (2)-2 are preferred phenol skeleton units constituting the polyalkenylphenol compound (A), and the bonding order of these phenol skeleton units is not particularly limited. In formula (2)-1 and formula (2)-2, R 5 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms; )-1, each R 6 is independently a 2-alkenyl group represented by formula (3). R 5 and R 6 may be the same or different in each phenol skeleton unit. Q in formulas (2)-1 and (2)-2 each independently represents an alkylene group represented by the formula -CR 12 R 13 -, a cycloalkylene group having 5 to 10 carbon atoms, or a divalent group having an aromatic ring. , a divalent organic group having an alicyclic condensed ring, or a combination thereof, and R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, group, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.

式(2)-1に示す構造単位の一分子あたりの平均数をp、式(2)-2に示す構造単位の一分子あたりの平均数をqとしたときに、好ましくはpは1.1~35の実数、p+qは1.1~35の実数であり、かつqは式:p/(p+q)の値が0.4~1となる実数を満たす。 When the average number of structural units shown in formula (2)-1 per molecule is p, and the average number of structural units shown in formula (2)-2 per molecule is q, preferably p is 1. p+q is a real number from 1 to 35, and q satisfies a real number such that the value of the formula: p/(p+q) is from 0.4 to 1.

5を構成する炭素原子数1~5のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基等を挙げることができる。炭素原子数1~5のアルコキシ基の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基等が挙げられる。Specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms constituting R 5 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n -pentyl group, etc. Specific examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentoxy group, etc. Can be mentioned.

式-CR1213-で表されるアルキレン基のR12及びR13において、炭素原子数1~5のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基等を挙げることができ、炭素原子数2~6のアルケニル基の具体例としてはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等を挙げることができ、炭素原子数5~10のシクロアルキル基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基等を挙げることができ、炭素原子数6~12のアリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等を挙げることできる。In R 12 and R 13 of the alkylene group represented by the formula -CR 12 R 13 -, specific examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, Examples include n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, etc. Specific examples of alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms include vinyl group, allyl group, butenyl group, and pentenyl group. Specific examples of the cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms include cyclopentyl group, cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, cycloheptyl group, etc. Specific examples of the 6-12 aryl group include phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, biphenyl group, and naphthyl group.

Qを構成する炭素原子数5~10のシクロアルキレン基の具体例としてはシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、メチルシクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基等を挙げることができる。芳香環を有する二価の有機基の具体例として、フェニレン基、トリレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基、アントラセニレン基、キシリレン基、4,4-メチレンジフェニル基等を挙げることができる。芳香環を有する二価の有機基の炭素原子数は6~20又は6~14とすることができる。脂環式縮合環を有する二価の有機基の具体例として、ジシクロペンタジエニレン基等を挙げることができる。脂環式縮合環を有する二価の有機基の炭素原子数は7~20又は7~10とすることができる。 Specific examples of the cycloalkylene group having 5 to 10 carbon atoms constituting Q include cyclopentylene group, cyclohexylene group, methylcyclohexylene group, and cycloheptylene group. Specific examples of the divalent organic group having an aromatic ring include a phenylene group, tolylene group, naphthylene group, biphenylene group, fluorenylene group, anthracenylene group, xylylene group, and 4,4-methylenediphenyl group. The divalent organic group having an aromatic ring can have 6 to 20 carbon atoms or 6 to 14 carbon atoms. A specific example of the divalent organic group having an alicyclic condensed ring includes a dicyclopentadienylene group. The divalent organic group having an alicyclic condensed ring can have 7 to 20 carbon atoms or 7 to 10 carbon atoms.

Qがジシクロペンタジエニレン基、フェニレン基、メチルフェニレン基、キシリレン基、又はビフェニレン基であることが、硬化物の機械強度が高い点で好ましい。ポリアルケニルフェノール化合物(A)の粘度が低く、ポリマレイミド化合物(B)との混合に有利であることから、Qが-CH2-であることが好ましい。It is preferable that Q is a dicyclopentadienylene group, a phenylene group, a methylphenylene group, a xylylene group, or a biphenylene group from the viewpoint of high mechanical strength of the cured product. Q is preferably -CH 2 - because the polyalkenylphenol compound (A) has a low viscosity and is advantageous for mixing with the polymaleimide compound (B).

pは好ましくは1.1~35の実数であり、より好ましくは2~30の実数であり、さらに好ましくは3~10の実数である。pが1.1以上であれば、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を高温環境に置いたときの熱分解開始温度が適切であり、35以下であれば、熱硬化性樹脂組成物の粘度が成形時の加工により好適な範囲となる。 p is preferably a real number from 1.1 to 35, more preferably from 2 to 30, still more preferably from 3 to 10. If p is 1.1 or more, the temperature at which thermal decomposition starts when the cured product of the thermosetting resin composition is placed in a high-temperature environment is appropriate, and if p is 35 or less, the viscosity of the thermosetting resin composition is is in a suitable range depending on the processing during molding.

p+qは好ましくは1.1~35の実数であり、より好ましくは2~30の実数であり、さらに好ましくは3~10の実数である。p+qが1.1以上であれば、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を高温環境に置いたときの熱分解開始温度が適切であり、35以下であれば、熱硬化性樹脂組成物の粘度が成形時の加工により好適な範囲となる。 p+q is preferably a real number from 1.1 to 35, more preferably from 2 to 30, still more preferably from 3 to 10. If p+q is 1.1 or more, the temperature at which thermal decomposition starts when the cured product of the thermosetting resin composition is placed in a high-temperature environment is appropriate, and if it is 35 or less, the viscosity of the thermosetting resin composition is appropriate. is in a suitable range depending on the processing during molding.

qは、好ましくは式:p/(p+q)の値が0.4~1となる実数であり、より好ましくは式:p/(p+q)の値が0.6~1となる実数であり、さらに好ましくは式:p/(p+q)の値が0.8~1となる実数である。式:p/(p+q)の値が1となる場合、qは0である。すなわち、この実施態様ではポリアルケニルフェノール化合物(A)は、式(2)-2に示す構造単位を含まない。ポリアルケニルフェノール化合物(A)は、式(2)-1に示す構造単位からなることができる。qが上記条件を満たす値であれば、熱硬化性樹脂組成物の硬化度を用途に応じて十分なものとすることができる。 q is preferably a real number such that the value of the formula: p/(p+q) is 0.4 to 1, more preferably a real number such that the value of the formula: p/(p+q) is 0.6 to 1, More preferably, the value of the formula: p/(p+q) is a real number of 0.8 to 1. When the value of the formula: p/(p+q) is 1, q is 0. That is, in this embodiment, the polyalkenylphenol compound (A) does not contain the structural unit represented by formula (2)-2. The polyalkenylphenol compound (A) can consist of a structural unit shown in formula (2)-1. If q has a value that satisfies the above conditions, the degree of curing of the thermosetting resin composition can be made sufficient depending on the application.

ポリアルケニルフェノール化合物(A)の好ましい数平均分子量Mnは300~5000であり、より好ましくは400~4000であり、さらに好ましくは500~3000である。数平均分子量Mnが300以上であれば、熱硬化性樹脂組成物の硬化物を高温環境に置いたとき熱分解開始温度が適切であり、5000以下であれば、熱硬化性樹脂組成物の粘度が成形時の加工により好適な範囲となる。 The polyalkenylphenol compound (A) preferably has a number average molecular weight Mn of 300 to 5,000, more preferably 400 to 4,000, and even more preferably 500 to 3,000. If the number average molecular weight Mn is 300 or more, the thermal decomposition initiation temperature is appropriate when the cured product of the thermosetting resin composition is placed in a high temperature environment, and if it is 5000 or less, the viscosity of the thermosetting resin composition is is in a suitable range depending on the processing during molding.

ポリアルケニルフェノール化合物(A)は、原料となるフェノール樹脂の水酸基の一部をアルケニルエーテル化した後、クライゼン転位反応により、2-アルケニル基を転位させることにより得ることができる。原料フェノール樹脂として、好ましくは下記式(2)-2で表される構造単位を有する公知のフェノール樹脂を使用することができる。

Figure 0007367766000008
The polyalkenylphenol compound (A) can be obtained by alkenyl etherifying a portion of the hydroxyl groups of a phenol resin as a raw material, and then rearranging the 2-alkenyl groups by Claisen rearrangement reaction. As the raw material phenol resin, a known phenol resin preferably having a structural unit represented by the following formula (2)-2 can be used.
Figure 0007367766000008

ポリアルケニルフェノール化合物(A)の原料フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂、フェノール-ジシクロペンタジエン共重合体樹脂等を挙げることができる。 Specific examples of the raw material phenol resin for the polyalkenylphenol compound (A) include phenol novolak resin, cresol novolak resin, triphenylmethane type phenol resin, phenol aralkyl resin, biphenylaralkyl resin, phenol-dicyclopentadiene copolymer resin, etc. can be mentioned.

原料フェノール樹脂の2-アルケニルエーテル化反応としては、(i)塩化アリル、塩化メタリル、臭化アリル等のハロゲン化2-アルケニル化合物とフェノール化合物を反応させる公知の方法、及び(ii)酢酸アリルのようなカルボン酸2-アルケニル化合物とフェノール化合物を反応させる公知の方法の2つの方法を例示することができる。ハロゲン化2-アルケニル化合物を用いた2-アルケニルエーテル化反応は、例えば特開平2-91113号公報に記載の方法を使用することができる。カルボン酸2-アルケニル化合物とフェノール樹脂を反応させる方法は、例えば特開2011-26253号公報に記載の方法を使用することができる。 The 2-alkenyl etherification reaction of the raw material phenolic resin includes (i) a known method of reacting a halogenated 2-alkenyl compound such as allyl chloride, methallyl chloride, allyl bromide, etc. with a phenol compound, and (ii) a method of reacting allyl acetate with a phenol compound. Two known methods for reacting such a 2-alkenyl carboxylic acid compound with a phenol compound can be exemplified. For the 2-alkenyl etherification reaction using a halogenated 2-alkenyl compound, for example, the method described in JP-A-2-91113 can be used. As a method for reacting a 2-alkenyl carboxylic acid compound and a phenol resin, for example, the method described in JP-A No. 2011-26253 can be used.

フェノール性水酸基に対するハロゲン化2-アルケニル化合物又はカルボン酸2-アルケニル化合物の使用量は0.4~5.0当量が好ましく、より好ましくは0.6~4.0当量である。0.4当量以上であると、クライゼン転位した後のポリマレイミド化合物(B)との反応部位の量がより適切であり、より耐熱性に優れた硬化物を得ることができる。2-アルケニルエーテル化反応は、2-アルケニル化合物を原料フェノール樹脂と混合し、4~40時間反応させることにより実施する。2-アルケニルエーテル化反応において、原料フェノール樹脂が溶解する溶媒を用いることができる。原料フェノール樹脂を溶解可能なカルボン酸2-アルケニル化合物を用いて、無溶媒で反応を実施することもできる。原料フェノール樹脂の2-アルケニルエーテル化率は、ハロゲン化2-アルケニル化合物又はカルボン酸2-アルケニル化合物の使用量を前記使用量より多く使用し、かつ反応時間を前記反応時間より短く調整することにより2-アルケニル化合物の反応率(転化率)を低く抑制することでも制御することができる。 The amount of the halogenated 2-alkenyl compound or carboxylic acid 2-alkenyl compound to be used relative to the phenolic hydroxyl group is preferably 0.4 to 5.0 equivalents, more preferably 0.6 to 4.0 equivalents. When the amount is 0.4 equivalent or more, the amount of reaction sites with the polymaleimide compound (B) after Claisen rearrangement is more appropriate, and a cured product with more excellent heat resistance can be obtained. The 2-alkenyl etherification reaction is carried out by mixing the 2-alkenyl compound with the raw material phenol resin and reacting for 4 to 40 hours. In the 2-alkenyl etherification reaction, a solvent in which the raw material phenol resin is dissolved can be used. The reaction can also be carried out without a solvent using a 2-alkenyl carboxylic acid compound that can dissolve the raw material phenol resin. The 2-alkenyl etherification rate of the raw material phenol resin can be determined by using a halogenated 2-alkenyl compound or a carboxylic acid 2-alkenyl compound in a larger amount than the above-mentioned amount, and by adjusting the reaction time to be shorter than the above-mentioned reaction time. It can also be controlled by keeping the reaction rate (conversion rate) of the 2-alkenyl compound low.

目的とするポリアルケニルフェノール化合物(A)は、前記(i)又は(ii)に記載の方法により製造されたポリアルケニルエーテル化合物にクライゼン転位反応を行うことにより得ることができる。クライゼン転位反応は、ポリアルケニルエーテル化合物を100~250℃の温度に加熱し、1~20時間反応させることにより行うことができる。クライゼン転位反応は高沸点の溶剤を用いて行ってもよく、無溶媒で行うこともできる。転位反応を促進するため、チオ硫酸ナトリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩を添加することもできる。詳細は例えば特開平2-91113号公報に開示されている。 The desired polyalkenylphenol compound (A) can be obtained by subjecting the polyalkenyl ether compound produced by the method described in (i) or (ii) to a Claisen rearrangement reaction. The Claisen rearrangement reaction can be carried out by heating the polyalkenyl ether compound to a temperature of 100 to 250°C and reacting for 1 to 20 hours. The Claisen rearrangement reaction may be carried out using a high boiling point solvent, or may be carried out without a solvent. In order to promote the rearrangement reaction, inorganic salts such as sodium thiosulfate and sodium carbonate can also be added. Details are disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-91113.

[ポリマレイミド化合物(B)]
ポリマレイミド化合物(B)は、式(4)で表されるマレイミド基を2つ以上有する化合物である。

Figure 0007367766000009
[Polymaleimide compound (B)]
The polymaleimide compound (B) is a compound having two or more maleimide groups represented by formula (4).
Figure 0007367766000009

式(4)において、*は、芳香環又は直鎖、分岐鎖若しくは環状脂肪族炭化水素基を含む有機基との結合部を表す。 In formula (4), * represents a bonding portion with an aromatic ring or an organic group containing a linear, branched, or cyclic aliphatic hydrocarbon group.

ポリマレイミド化合物(B)としては、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン等のビスマレイミド、トリス(4-マレイミドフェニル)メタン等のトリスマレイミド、ビス(3,4-ジマレイミドフェニル)メタン等のテトラキスマレイミド及びポリ(4-マレイミドスチレン)等のポリマレイミドが挙げられる。ポリマレイミド化合物としては、芳香族ポリマレイミド化合物及び脂肪族ポリマレイミド化合物が挙げられ、得られる硬化物の難燃性が特に優れる点で、芳香族ポリマレイミド化合物が好ましい。 Examples of the polymaleimide compound (B) include bismaleimides such as bis(4-maleimidophenyl)methane, trismaleimides such as tris(4-maleimidophenyl)methane, and tetrakismaleimides such as bis(3,4-dimaleimidophenyl)methane. and polymaleimides such as poly(4-maleimidostyrene). Examples of the polymaleimide compound include aromatic polymaleimide compounds and aliphatic polymaleimide compounds, and aromatic polymaleimide compounds are preferred since the resulting cured product has particularly excellent flame retardancy.

芳香族ポリマレイミド化合物は、式(4)で表されるマレイミド基を2つ以上有し、これらのマレイミド基が同一又は異なる芳香環に結合している化合物である。芳香環の具体例としては、ベンゼン等の単環、ナフタレン、アントラセン等の縮合環等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物中で良好に混合することから、ポリマレイミド化合物(B)は芳香族ビスマレイミド化合物及び脂肪族ビスマレイミド化合物であることが好ましく、芳香族ビスマレイミド化合物であることがより好ましい。芳香族ビスマレイミド化合物の具体例としては、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジメチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-エチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジエチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-プロピル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジプロピル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-ブチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジブチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-エチル-4-マレイミド-5-メチルフェニル)メタン、2,2-ビス(4-マレイミドフェニル)プロパン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェニルオキシ)フェニル]プロパン、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(3-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(3-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(3-マレイミドフェニル)スルホン、ビス[4-(4-マレイミドフェニルオキシ)フェニル]スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(3-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホキシド、ビス(3-マレイミドフェニル)スルホキシド、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-ジマレイミドナフタレン、2,3-ジマレイミドナフタレン、1,5-ジマレイミドナフタレン、1,8-ジマレイミドナフタレン、2,6-ジマレイミドナフタレン、2,7-ジマレイミドナフタレン、4,4’-ジマレイミドビフェニル、3,3’-ジマレイミドビフェニル、3,4’-ジマレイミドビフェニル、2,5-ジマレイミド-1,3-キシレン、2,7-ジマレイミドフルオレン、9,9-ビス(4-マレイミドフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-マレイミド-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(3-エチル-4-マレイミドフェニル)フルオレン、3,7-ジマレイミド-2-メトキシフルオレン、9,10-ジマレイミドフェナントレン、1,2-ジマレイミドアントラキノン、1,5-ジマレイミドアントラキノン、2,6-ジマレイミドアントラキノン、1,2-ジマレイミドベンゼン、1,3-ジマレイミドベンゼン、1,4-ジマレイミドベンゼン、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)ベンゼン、2-メチル-1,4-ジマレイミドベンゼン、2,3-ジメチル-1,4-ジマレイミドベンゼン、2,5-ジメチル-1,4-ジマレイミドベンゼン、2,6-ジメチル-1,4-ジマレイミドベンゼン、4-エチル-1,3-ジマレイミドベンゼン、5-エチル-1,3-ジマレイミドベンゼン、4,6-ジメチル-1,3-ジマレイミドベンゼン、2,4,6-トリメチル-1,3-ジマレイミドベンゼン、2,3,5,6-テトラメチル-1,4-ジマレイミドベンゼン、4-メチル-1,3-ジマレイミドベンゼン等が挙げられる。脂肪族ビスマレイミド化合物の具体例としては、ビス(4-マレイミドシクロヘキシル)メタン、ビス(3-マレイミドシクロヘキシル)メタン等が挙げられる。中でも、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン及び2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェニルオキシ)フェニル]プロパンが好ましい。市販品としては例えば、BMI(商品名、大和化成工業株式会社製)シリーズ等が挙げられる。 An aromatic polymaleimide compound is a compound having two or more maleimide groups represented by formula (4), and these maleimide groups are bonded to the same or different aromatic rings. Specific examples of the aromatic ring include monocyclic rings such as benzene, and fused rings such as naphthalene and anthracene. In order to mix well in the thermosetting resin composition, the polymaleimide compound (B) is preferably an aromatic bismaleimide compound and an aliphatic bismaleimide compound, and more preferably an aromatic bismaleimide compound. . Specific examples of aromatic bismaleimide compounds include bis(4-maleimidophenyl)methane, bis(3-maleimidophenyl)methane, bis(3-methyl-4-maleimidophenyl)methane, and bis(3,5-dimethyl- 4-Maleimidophenyl)methane, bis(3-ethyl-4-maleimidophenyl)methane, bis(3,5-diethyl-4-maleimidophenyl)methane, bis(3-propyl-4-maleimidophenyl)methane, bis( 3,5-dipropyl-4-maleimidophenyl)methane, bis(3-butyl-4-maleimidophenyl)methane, bis(3,5-dibutyl-4-maleimidophenyl)methane, bis(3-ethyl-4-maleimide) -5-methylphenyl)methane, 2,2-bis(4-maleimidophenyl)propane, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenyloxy)phenyl]propane, bis(4-maleimidophenyl)ether, bis (3-Maleimidophenyl)ether, bis(4-maleimidophenyl)ketone, bis(3-maleimidophenyl)ketone, bis(4-maleimidophenyl)sulfone, bis(3-maleimidophenyl)sulfone, bis[4-(4 -maleimidophenyloxy)phenyl] sulfone, bis(4-maleimidophenyl) sulfide, bis(3-maleimidophenyl) sulfide, bis(4-maleimidophenyl) sulfoxide, bis(3-maleimidophenyl) sulfoxide, 1,4-bis (4-Maleimidophenyl)cyclohexane, 1,4-dimaleimidnaphthalene, 2,3-dimaleimidnaphthalene, 1,5-dimaleimidnaphthalene, 1,8-dimaleimidonaphthalene, 2,6-dimaleimidnaphthalene, 2, 7-dimaleimidonaphthalene, 4,4'-dimaleimidobiphenyl, 3,3'-dimaleimidobiphenyl, 3,4'-dimaleimidobiphenyl, 2,5-dimalimido-1,3-xylene, 2,7-dimaleimidobiphenyl Maleimidofluorene, 9,9-bis(4-maleimidophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-maleimido-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(3-ethyl-4-maleimidophenyl)fluorene, 3,7-dimalimido-2-methoxyfluorene, 9,10-dimalimidophenanthrene, 1,2-dimalimidoanthraquinone, 1,5-dimalimidoanthraquinone, 2,6-dimalimidoanthraquinone, 1,2-dimalimidobenzene , 1,3-dimaleimidobenzene, 1,4-dimaleimidobenzene, 1,4-bis(4-maleimidophenyl)benzene, 2-methyl-1,4-dimaleimidobenzene, 2,3-dimethyl-1, 4-dimalimidobenzene, 2,5-dimethyl-1,4-dimaleimidobenzene, 2,6-dimethyl-1,4-dimalimidobenzene, 4-ethyl-1,3-dimaleimidobenzene, 5-ethyl- 1,3-dimaleimidobenzene, 4,6-dimethyl-1,3-dimaleimidobenzene, 2,4,6-trimethyl-1,3-dimaleimidobenzene, 2,3,5,6-tetramethyl-1 , 4-dimaleimidobenzene, 4-methyl-1,3-dimaleimidobenzene, and the like. Specific examples of aliphatic bismaleimide compounds include bis(4-maleimidocyclohexyl)methane, bis(3-maleimidocyclohexyl)methane, and the like. Among them, bis(4-maleimidophenyl)methane and 2,2-bis[4-(4-maleimidophenyloxy)phenyl]propane are preferred. Examples of commercially available products include the BMI (trade name, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.) series.

ポリマレイミド化合物(B)を100質量部としたとき、ポリアルケニルフェノール化合物(A)の配合量は5~200質量部とすることが好ましく、10~150質量部とすることがより好ましく、20~130質量部であることがさらに好ましい。上記配合量が5質量部以上であれば成形時の流動性がより良好である。一方、上記配合量が200質量部以下であれば硬化物の耐熱性がより良好である。 When the polymaleimide compound (B) is 100 parts by mass, the amount of the polyalkenylphenol compound (A) is preferably 5 to 200 parts by mass, more preferably 10 to 150 parts by mass, and 20 to 200 parts by mass. More preferably, the amount is 130 parts by mass. If the above blending amount is 5 parts by mass or more, fluidity during molding will be better. On the other hand, if the above blending amount is 200 parts by mass or less, the heat resistance of the cured product will be better.

[化合物(C)]
化合物(C)は、式(1)

Figure 0007367766000010
(式中、R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~3のアルキル基、水酸基、カルボキシ基、又はアミノ基であり、R1及びR2の少なくとも一方はアミノ基である。R3は水素原子、炭素原子数1~3のアルキル基、炭素原子数2~3のアルケニル基、又はシアノ基であり、R4は水素原子、又は炭素原子数1~3のアルキル基である。)で表される化合物である。このうちR1及びR2の一方が水素原子であることが好ましく、R3、R4はいずれも水素原子であることが望ましい。[Compound (C)]
Compound (C) has the formula (1)
Figure 0007367766000010
(In the formula, R 1 and R 2 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxy group, or an amino group, and at least one of R 1 and R 2 is an amino group. .R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms, or a cyano group, and R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. ) is a compound represented by Among these, it is preferable that one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom, and it is desirable that both R 3 and R 4 are hydrogen atoms.

1又はR2を構成するハロゲン原子の具体例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。炭素原子数1~3のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等を挙げることができる。
アミノ基以外のR1又はR2としては、水素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、水酸基、カルボキシ基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、水酸基、カルボキシ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
Specific examples of the halogen atom constituting R 1 or R 2 include a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like. Specific examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, and isopropyl group.
R 1 or R 2 other than the amino group is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, or a carboxy group, and more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a hydroxyl group, or a carboxy group. , a hydrogen atom is more preferred.

3を構成する炭素原子数1~3のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等を挙げることができる。炭素原子数2~3のアルケニル基の具体例としては、ビニル基、アリル基等を挙げることができる。
3としては、水素原子、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、シアノ基が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、シアノ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
Specific examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms constituting R 3 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, and isopropyl group. Specific examples of alkenyl groups having 2 to 3 carbon atoms include vinyl groups and allyl groups.
R 3 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, an allyl group, or a cyano group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a cyano group, and even more preferably a hydrogen atom.

4を構成する炭素原子数1~3のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基等を挙げることができる。
4としては、水素原子、メチル基、エチル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
Specific examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms constituting R 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, and isopropyl group.
R 4 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and even more preferably a hydrogen atom.

化合物(C)としては例えば、6-アミノインダゾール、5-アミノインダゾール、6-アミノ-5-メチルインダゾール、6-アミノ-5-エチルインダゾール、6-アミノ-5-ヒドロキシインダゾール、6-アミノ-5-ブロモインダゾール、6-アミノ-5-クロロインダゾール、3-シアノ-5-アミノインダゾール、5-カルボキシ-6-アミノインダゾール、5,6-ジアミノインダゾールが挙げられる。中でも、ゲルタイムの調整及び金属表面、特に銅に対しての親和性により優れる点で、6-アミノインダゾール、5-アミノインダゾールが好ましい。ゲルタイムを適切な範囲に制御することで、熱硬化性樹脂組成物の基材に対する濡れを向上させることができると考えられる。 Examples of compound (C) include 6-aminoindazole, 5-aminoindazole, 6-amino-5-methylindazole, 6-amino-5-ethylindazole, 6-amino-5-hydroxyindazole, 6-amino-5 -bromoindazole, 6-amino-5-chloroindazole, 3-cyano-5-aminoindazole, 5-carboxy-6-aminoindazole, and 5,6-diaminoindazole. Among these, 6-aminoindazole and 5-aminoindazole are preferred in terms of their excellent gel time adjustment and affinity for metal surfaces, especially copper. It is thought that by controlling the gel time within an appropriate range, it is possible to improve the wetting of the thermosetting resin composition to the base material.

1及びR2の少なくとも一方がアミノ基であることで、ラジカル重合による硬化反応において化合物(C)は硬化速度を調整することができる。いかなる理論に拘束されるものではないが、化合物(C)のアニリン部分がラジカルを一時的に捕捉し安定化することで熱硬化性樹脂組成物の硬化速度が調整されると考えられる。ラジカル重合速度はラジカル重合開始剤の量により調整することが一般的である。組成物のラジカル重合反応速度が早すぎる場合、基材に対しての濡れが十分確保できない状態で例えば成形硬化開始0秒~30秒の初期硬化が進行してしまい、硬化物と基材間の十分な密着力が出ない。しかしラジカル重合を遅くするためにラジカル重合開始剤量を減らすと初期硬化だけでなく、例えば成形硬化開始30秒~180秒の硬化中期の反応速度が遅くなり、型から成形物を取り出すための十分な硬度に達するための時間が長くなり生産性が落ちる。化合物(C)を添加することで、基材に対しての濡れを十分確保しながら硬化速度の遅延による生産性の低下を防ぐことができる。なお、ピラゾール環は、類似した複素環構造であるイミダゾール環と比べて化学的安定性が高く、イミダゾール環に触媒されて重合反応を起こすポリマレイミド化合物(B)に対しての重合活性が非常に低い。この点も硬化速度調整の点で優れている。Since at least one of R 1 and R 2 is an amino group, the curing rate of compound (C) can be adjusted in the curing reaction by radical polymerization. Without being bound by any theory, it is believed that the aniline moiety of compound (C) temporarily captures and stabilizes radicals, thereby adjusting the curing rate of the thermosetting resin composition. The rate of radical polymerization is generally adjusted by the amount of radical polymerization initiator. If the radical polymerization reaction rate of the composition is too fast, the initial curing, for example, from 0 seconds to 30 seconds after the start of molding and curing, will proceed without sufficient wettability to the substrate, and the gap between the cured product and the substrate will progress. There is not enough adhesion force. However, if the amount of radical polymerization initiator is reduced in order to slow down radical polymerization, not only the initial curing but also the reaction rate in the middle of curing, for example from 30 seconds to 180 seconds after the start of molding curing, will slow down, and the reaction rate will be slow enough to take out the molded product from the mold. It takes longer to reach the desired hardness, which reduces productivity. By adding the compound (C), it is possible to prevent a decrease in productivity due to a delay in the curing speed while ensuring sufficient wetting to the base material. The pyrazole ring has higher chemical stability than the imidazole ring, which has a similar heterocyclic structure, and has very high polymerization activity toward the polymaleimide compound (B) that undergoes a polymerization reaction catalyzed by the imidazole ring. low. This point is also excellent in terms of curing speed adjustment.

さらに化合物(C)は金属に対しての親和性が高く、かつ、R1及びR2の少なくとも一方であるアミノ基が、ポリマレイミド化合物(B)のマレイミド基に含まれるエチレン性不飽和結合とマイケル付加反応することで、化合物(C)が共有結合的に成形物中に固定される。これらの働きにより、化合物(C)が樹脂と金属表面のカップリング剤としての働きをすることができ、硬化物と金属基材間の強い密着力を発現させることができる。Furthermore, the compound (C) has a high affinity for metals, and the amino group that is at least one of R 1 and R 2 is bonded to an ethylenically unsaturated bond contained in the maleimide group of the polymaleimide compound (B). The Michael addition reaction causes compound (C) to be covalently fixed in the molded product. Due to these functions, the compound (C) can function as a coupling agent between the resin and the metal surface, and can develop strong adhesion between the cured product and the metal base material.

化合物(C)の含有量については、用途に応じて適宜決定することができるが、ポリアルケニルフェノール化合物(A)とポリマレイミド化合物(B)の合計100質量部に対して0.05質量部~5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.2質量部~3質量部であり、さらに好ましくは0.3質量部~2.5質量部である。0.05質量部以上あれば、銅に対しての密着性がより良好であり、5質量部以下であれば硬化速度調整の機能を十分に発揮したうえで速硬化性を保つことができる。これにより成形物の外観及び熱硬化性樹脂組成物の成形性を改善することができる。 The content of compound (C) can be determined as appropriate depending on the application, but it is 0.05 parts by mass to 100 parts by mass of the total of polyalkenylphenol compound (A) and polymaleimide compound (B). The amount is preferably 5 parts by weight, more preferably 0.2 parts by weight to 3 parts by weight, and even more preferably 0.3 parts by weight to 2.5 parts by weight. When it is 0.05 parts by mass or more, the adhesion to copper is better, and when it is 5 parts by mass or less, it is possible to sufficiently exhibit the function of adjusting the curing rate and maintain fast curing properties. Thereby, the appearance of the molded product and the moldability of the thermosetting resin composition can be improved.

[ラジカル開始剤(D)]
熱硬化性樹脂組成物にラジカル開始剤(D)を配合することで熱硬化性樹脂組成物の硬化を促進することができる。ラジカル開始剤(D)は好ましくは熱ラジカル開始剤である。熱ラジカル開始剤としては、有機過酸化物を挙げることができる。有機過酸化物は、10時間半減期温度が100~170℃の有機過酸化物であることが好ましく、具体的にはジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、及びクメンハイドロパーオキサイドを挙げることができる。ラジカル開始剤(D)の好ましい使用量は、ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、及び化合物(C)の合計100質量部に対して、0.01~10質量部であり、より好ましくは0.05~7.5質量部であり、さらに好ましくは0.1~5質量部である。ラジカル開始剤(D)の使用量が0.01質量部以上であれば十分に硬化反応が進行し、10質量部以下であれば熱硬化性樹脂組成物の保存安定性がより良好である。
[Radical initiator (D)]
By blending the radical initiator (D) into the thermosetting resin composition, curing of the thermosetting resin composition can be promoted. The radical initiator (D) is preferably a thermal radical initiator. Examples of thermal radical initiators include organic peroxides. The organic peroxide is preferably an organic peroxide with a 10-hour half-life temperature of 100 to 170°C, and specifically, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert- Mention may be made of (butylperoxy)hexane, tert-butylcumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, and cumene hydroperoxide. The preferable amount of the radical initiator (D) used is 0.01 to 10 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), and the compound (C). , more preferably 0.05 to 7.5 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 5 parts by weight. If the amount of the radical initiator (D) used is 0.01 parts by mass or more, the curing reaction will proceed sufficiently, and if it is 10 parts by mass or less, the storage stability of the thermosetting resin composition will be better.

[充填材(E)]
熱硬化性樹脂組成物はさらに充填材(E)を含んでもよい。充填材(E)の種類に特に制限はなく、例として固体シリコーンゴム粒子等の固体ゴム粒子、シリコーンパウダー等の有機充填材、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、窒化ホウ素等の無機充填材などが挙げられ、用途により適宜選択することができる。充填材(E)は、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、及び固体ゴム粒子からなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましい。
[Filler (E)]
The thermosetting resin composition may further contain a filler (E). There is no particular restriction on the type of filler (E), and examples include solid rubber particles such as solid silicone rubber particles, organic fillers such as silicone powder, and inorganic fillers such as silica, alumina, magnesium oxide, and boron nitride. It can be selected as appropriate depending on the purpose. The filler (E) is preferably at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, and solid rubber particles.

例えば、熱硬化性樹脂組成物を半導体封止用途に使用する場合には、熱膨張係数の低い硬化物を得るために絶縁性である無機充填材を配合することが好ましい。無機充填材は特に限定されず、公知のものを使用することができる。無機充填材として、具体的には、非晶質シリカ、結晶性シリカなどのシリカ、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの粒子が挙げられる。低粘度化の観点からは真球状の非晶質シリカが望ましい。無機充填材は、シランカップリング剤などで表面処理が施されたものであってもよいが、表面処理が施されていなくてもよい。 For example, when a thermosetting resin composition is used for semiconductor encapsulation, it is preferable to include an insulating inorganic filler in order to obtain a cured product with a low coefficient of thermal expansion. The inorganic filler is not particularly limited, and any known inorganic filler can be used. Specific examples of the inorganic filler include particles of silica such as amorphous silica and crystalline silica, alumina, boron nitride, aluminum nitride, and silicon nitride. From the viewpoint of lowering the viscosity, true spherical amorphous silica is desirable. The inorganic filler may be surface-treated with a silane coupling agent or the like, but may not be surface-treated.

充填材(E)の平均粒径は0.1~30μmが好ましく、最大粒径が100μm以下、特に75μm以下のものがより好ましい。平均粒径がこの範囲にあると熱硬化性樹脂組成物の粘度が使用時に適切であり、狭ピッチ配線部又は狭ギャップ部への注入性も適切である。ここでいう平均粒径とは、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される体積累積粒径D50である。The average particle size of the filler (E) is preferably 0.1 to 30 μm, and the maximum particle size is preferably 100 μm or less, particularly 75 μm or less. When the average particle size is within this range, the viscosity of the thermosetting resin composition is appropriate during use, and the injectability into narrow pitch wiring portions or narrow gap portions is also appropriate. The average particle size here refers to the volume cumulative particle size D 50 measured by a laser diffraction scattering particle size distribution analyzer.

熱硬化性樹脂組成物の充填材(E)の含有量は、用途に応じて適宜決定することができる。熱硬化性樹脂組成物の充填材(E)の含有量は、ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、化合物(C)、及びラジカル開始剤(D)の合計100質量部に対して、好ましくは200~1900質量部、より好ましくは300~1000質量部、さらに好ましくは300~600質量部である。 The content of the filler (E) in the thermosetting resin composition can be determined as appropriate depending on the application. The content of the filler (E) in the thermosetting resin composition is 100 parts by mass in total of the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), the compound (C), and the radical initiator (D). On the other hand, it is preferably 200 to 1,900 parts by weight, more preferably 300 to 1,000 parts by weight, and even more preferably 300 to 600 parts by weight.

その他の添加剤として、消泡剤、着色剤、蛍光体、変性剤、レベリング剤、光拡散剤、難燃剤、接着付与剤、離型剤、カップリング剤などを熱硬化性樹脂組成物に配合することも可能である。 Other additives include antifoaming agents, colorants, phosphors, modifiers, leveling agents, light diffusing agents, flame retardants, adhesion agents, mold release agents, coupling agents, etc., added to the thermosetting resin composition. It is also possible to do so.

例えば、離型剤としてはカルナバワックス、モンタン酸エステルワックスなどのエステル系や、ラウリン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、N-ステアリルエルカ酸アマイドなどのアマイド系、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等種々のワックスを適宜選択することができる。 For example, as a mold release agent, various waxes such as ester-based waxes such as carnauba wax and montanic acid ester wax, amide-based waxes such as lauric acid amide, stearic acid amide, and N-stearyl erucic acid amide, polyethylene, and polyethylene oxide may be appropriately selected. can do.

例えば、カップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤などが挙げられる。カップリング剤は、単独で用いられてもよく、二種以上が併用されてもよい。熱硬化性樹脂組成物中のカップリング剤の配合量は0.1~5質量%が好ましい。上記配合量が0.1質量%以上であれば、カップリング剤の効果が十分発揮され、5質量%以下であれば、溶融粘度、硬化物の吸湿性及び強度がより良好である。 For example, coupling agents include vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3 Examples include silane coupling agents such as -aminopropyltrimethoxysilane. The coupling agents may be used alone or in combination of two or more. The content of the coupling agent in the thermosetting resin composition is preferably 0.1 to 5% by mass. When the amount is 0.1% by mass or more, the effect of the coupling agent is fully exhibited, and when it is 5% by mass or less, the melt viscosity, hygroscopicity and strength of the cured product are better.

[熱硬化性樹脂組成物の調製方法]
熱硬化性樹脂組成物の調製方法は、ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、化合物(C)、ラジカル開始剤(D)、及びその他の任意成分が均一に混合及び分散できれば特に限定されない。ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、及び化合物(C)を先に溶融混合させ、その後にラジカル開始剤(D)及び任意の添加剤を加える方法は、各材料を均一に混合しやすいため好ましい。
[Method for preparing thermosetting resin composition]
The method for preparing the thermosetting resin composition is as follows, if the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), the compound (C), the radical initiator (D), and other optional components can be uniformly mixed and dispersed. Not particularly limited. The method of first melt-mixing the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), and the compound (C), and then adding the radical initiator (D) and any additives is to uniformly mix each material. It is preferred because it is easy to mix.

各成分の混合方法は特に限定されない。各成分を所定の配合割合で反応容器、ポットミル、二本ロールミル、三本ロールミル、回転式混合機、二軸ミキサー、ディスパー、単軸又は二軸(同方向又は異方向)押出機、ニーダーなどの混合機に投入し、撹拌又は混練することにより混合することができる。ラボスケールでは回転式混合機が容易に撹拌条件を変更できるため好ましく、工業的には生産性の観点から二軸ミキサーが好ましい。各混合機は撹拌条件を適宜変更して用いることができる。 The method of mixing each component is not particularly limited. Mix each component in a predetermined proportion in a reaction vessel, pot mill, two-roll mill, three-roll mill, rotary mixer, twin-screw mixer, disper, single-screw or twin-screw (same direction or different directions) extruder, kneader, etc. Mixing can be achieved by charging the mixture into a mixer and stirring or kneading. On a laboratory scale, a rotary mixer is preferred because stirring conditions can be easily changed, and on an industrial scale, a twin-shaft mixer is preferred from the viewpoint of productivity. Each mixer can be used by changing the stirring conditions as appropriate.

熱硬化性樹脂組成物の粉末化を行う場合は作業工程により発生した熱により樹脂が溶融しない方法であれば特に限定されないが、少量であればメノウ乳鉢を用いるのが簡便である。市販の粉砕機を利用する場合、粉砕に際して発生する熱量が少ないものが混合物の溶融を抑制するために好ましい。粉末の粒径については1mm以下とすることが好ましい。 When powderizing a thermosetting resin composition, there is no particular limitation as long as the method does not melt the resin due to the heat generated during the work process, but if the amount is small, it is convenient to use an agate mortar. When using a commercially available pulverizer, one that generates a small amount of heat during pulverization is preferred in order to suppress melting of the mixture. The particle size of the powder is preferably 1 mm or less.

[構造体の作製方法]
熱硬化性樹脂組成物は加熱することにより溶融させることができる。溶融した熱硬化性樹脂組成物を任意の好ましい形状に成形し、必要に応じて硬化させ、脱型することにより、構造体を作製することができる。構造体の作製方法としては、モールディング成形、特にトランスファー成形及びコンプレッション成形が好ましい。トランスファー成形での好ましい条件として、例えばサイズが10mm×75mm×3mm厚の金型の場合、天板及び金型の温度を170~190℃、保持圧力を50~150kg/cm2、及び保持時間を1.5~10分間とすることができる。コンプレッション成形での好ましい条件として、例えばサイズが100mm×75mm×3mm厚の金型の場合、天板及び金型の温度を170~190℃、成形圧力を5~20MPa、及び加圧時間を1.5~10分間とすることができる。
[Method for manufacturing structure]
The thermosetting resin composition can be melted by heating. A structure can be produced by molding a molten thermosetting resin composition into any desired shape, curing it as necessary, and removing the mold. As a method for producing the structure, molding, particularly transfer molding and compression molding is preferred. Preferred conditions for transfer molding include, for example, in the case of a mold with a size of 10 mm x 75 mm x 3 mm thick, the temperature of the top plate and mold should be 170 to 190°C, the holding pressure should be 50 to 150 kg/cm 2 , and the holding time. The time can be 1.5 to 10 minutes. Preferred conditions for compression molding are, for example, in the case of a mold with a size of 100 mm x 75 mm x 3 mm thick, the temperature of the top plate and the mold is 170 to 190°C, the molding pressure is 5 to 20 MPa, and the pressing time is 1. It can be for 5 to 10 minutes.

[硬化物の作製方法]
熱硬化性樹脂組成物は、加熱することにより硬化させることができる。硬化温度は、好ましくは130~300℃、より好ましくは150~230℃であり、さらに好ましくは150~200℃である。硬化温度が130℃以上であれば、硬化前の熱硬化性樹脂組成物を十分溶融させて、金型へ容易に充填することができ、硬化後の脱型も容易である。硬化温度が300℃以下であれば、材料の熱劣化又は揮発を避けることができる。加熱時間は熱硬化性樹脂組成物及び硬化温度に応じて適宜変更することができるが、生産性の観点から0.1~24時間が好ましい。この加熱は、複数回に分けて行ってもよい。特に高い硬化度を求める場合には、過度に高温で硬化させずに、例えば硬化の進行とともに昇温させて、最終的な硬化温度を250℃以下とすることが好ましく、230℃以下とすることがより好ましい。
[Method for producing cured product]
The thermosetting resin composition can be cured by heating. The curing temperature is preferably 130 to 300°C, more preferably 150 to 230°C, even more preferably 150 to 200°C. When the curing temperature is 130° C. or higher, the thermosetting resin composition before curing can be sufficiently melted and easily filled into a mold, and it can also be easily demolded after curing. If the curing temperature is 300° C. or lower, thermal deterioration or volatilization of the material can be avoided. The heating time can be changed as appropriate depending on the thermosetting resin composition and curing temperature, but from the viewpoint of productivity, it is preferably 0.1 to 24 hours. This heating may be performed in multiple steps. When a particularly high degree of curing is desired, it is preferable to raise the temperature as the curing progresses, without curing at an excessively high temperature, so that the final curing temperature is 250°C or lower, preferably 230°C or lower. is more preferable.

[硬化物の用途]
熱硬化性樹脂組成物の硬化物は例えば半導体封止材、プリプレグ、層間絶縁樹脂、ソルダーレジスト、ダイアタッチなどの用途に用いることができる。
[Applications of cured product]
The cured product of the thermosetting resin composition can be used for applications such as semiconductor encapsulants, prepregs, interlayer insulation resins, solder resists, and die attach.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこの実施例に限定されない。 The present invention will be specifically described below based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例及び比較例で用いた分析方法及び特性評価方法は以下のとおりである。 The analysis methods and characteristic evaluation methods used in Examples and Comparative Examples are as follows.

[特性評価方法]
[分子量]
GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:JASCO LC-2000 plus(日本分光株式会社製)
カラム:Shodex(登録商標)LF-804(昭和電工株式会社製)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:JASCO RI-2031 plus(日本分光株式会社製)
温度:40℃
上記測定条件で、ポリスチレンの標準物質を使用して作成した検量線を用いて数平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwを算出する。
[Characteristic evaluation method]
[Molecular weight]
The GPC measurement conditions are as follows.
Device name: JASCO LC-2000 plus (manufactured by JASCO Corporation)
Column: Shodex (registered trademark) LF-804 (manufactured by Showa Denko K.K.)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min
Detector: JASCO RI-2031 plus (manufactured by JASCO Corporation)
Temperature: 40℃
Under the above measurement conditions, the number average molecular weight Mn and the weight average molecular weight Mw are calculated using a calibration curve created using a polystyrene standard material.

[重合度]
重合度PはGPCより算出した数平均分子量をMn、ポリアルケニルフェノール化合物(A)の繰り返し構造の分子量をMとした時、以下の式で求められる。
P=Mn/M
[Degree of polymerization]
The degree of polymerization P is determined by the following formula, where Mn is the number average molecular weight calculated by GPC, and M is the molecular weight of the repeating structure of the polyalkenylphenol compound (A).
P=Mn/M

[ゲルタイム]
表面温度を180℃に調整した銅基板の上に、粉体状の熱硬化性樹脂組成物1gを載せ、へらで固まるまでこねる。材料のタック性が失われるまでにかかる時間(秒)をストップウォッチで測定し、ゲルタイムとする。
[Gel time]
1 g of a powdered thermosetting resin composition is placed on a copper substrate whose surface temperature has been adjusted to 180° C., and kneaded with a spatula until it hardens. The time (seconds) it takes for the material to lose its tackiness is measured with a stopwatch and is defined as the gel time.

[硬化時間]
コンプレッションモールドで180℃にて30s、60sと15sずつ成形時間を長くした30mm×30mm×5mmtの構造体をそれぞれ作製し、JIS K 7215(1986)に準拠したタイプD デュロメータを用いて得られた構造体の硬度を180℃で測定した。硬度が85を超えるまでにかかった時間(秒)を硬化時間とする。
[Curing time]
Structures of 30 mm x 30 mm x 5 mm were fabricated using compression molding at 180°C with longer molding times of 30 s, 60 s, and 15 s, respectively, and the structures obtained using a type D durometer in accordance with JIS K 7215 (1986). The hardness of the body was measured at 180°C. The time (seconds) required until the hardness exceeds 85 is defined as the curing time.

[せん断接着力]
金属に対しての接着性をせん断接着力の観点から評価する。被着基材として、無酸素銅(C1020)の、18mm×14mm×1.6mmtの基材を用いる。被着基材をアセトンに浸漬して5分、5質量%硫酸に浸漬して5分間処理したのちイオン交換水で2回以上洗浄して、50℃で10分間乾燥させてから用いる。被着基材表面に、トランスファー成形機を用いて熱硬化性樹脂組成物を円錐塔形(接地部分が3mmφの円、高さが3mm、上部部分が1.5mmφ)に成形する。成形条件は、金型温度180℃、保持圧力100kg/cm、及び保持時間3分間である。
[Shear adhesive strength]
Evaluate adhesion to metal from the perspective of shear adhesive strength. A base material of oxygen-free copper (C1020) measuring 18 mm x 14 mm x 1.6 mm is used as the adherend base material. The substrate to be adhered is immersed in acetone for 5 minutes, immersed in 5% by mass sulfuric acid for 5 minutes, washed twice or more with ion-exchanged water, and dried at 50° C. for 10 minutes before use. A thermosetting resin composition is molded onto the surface of the adherent substrate using a transfer molding machine into a conical tower shape (a circle with a grounding part of 3 mm in diameter, a height of 3 mm, and an upper part of 1.5 mm in diameter). The molding conditions were a mold temperature of 180° C., a holding pressure of 100 kg/cm 2 and a holding time of 3 minutes.

得られた試験片について被着基材をしっかりと固定し、円錐塔形の構造体を横方向から2mm/sのスピードで被着面に沿って加圧し、円錐塔形の構造体が被着基材から剥離する際の付加圧力を測定する。この測定を1つの熱硬化性樹脂組成物についてN=6で行い、それぞれ測定された付加圧力を被着面積で割り返した値を平均した値(MPa)をその熱硬化性樹脂組成物のせん断接着力とする。
[成形後密着率]
金属に対しての密着性を成形後密着率の観点から評価する。素材が圧延無酸素銅(C1020)であり、外寸は、横52mm、縦38mm、厚み0.5mmであり、ベッドが中央に縦横18mmで存在するリードフレームを用いる。リードフレームの前処理はせん断接着力試験における被着基材の前処理と同条件にて行う。リードフレームの中央を中心に、熱硬化性樹脂組成物により、縦30mm、横30mm、厚さ3mmの外寸でベッドを囲う封止を行う。封止は、金型温度180℃、保持圧力100kg/cm、及び保持時間3分間の条件にてトランスファー成形機を用いて熱硬化性樹脂組成物を成形することにより行い、得られた試験片を200℃、5時間で後硬化する。後硬化した試験片について、超音波探傷映像装置(本多電子株式会社製HA-60A)を用い、リードフレームと熱硬化性樹脂組成物の硬化物との界面の剥離状況を観察する。Image-Jソフトを用いて、剥離していない部分の面積を全体の面積で割り返した値を成形後密着率として決定する。
[耐リフロー性]
金属に対しての密着性を耐リフロー性の観点からも評価する。成型後密着率試験において観察した試験片を用い、IPC/JEDEC J-STD-020Dのレベル3の条件に準拠して、株式会社マルコム製リフローシミュレーターSRS-1を用いてリフロー試験を行う。リフロー試験後の試験片について、成形後密着率試験と同様に解析し、得られた値をリフロー後密着率として決定する。
For the obtained test piece, the substrate to be adhered was firmly fixed, and the conical tower-shaped structure was pressurized from the lateral direction at a speed of 2 mm/s along the adhered surface, so that the conical tower-shaped structure was adhered. Measure the applied pressure when peeling from the base material. This measurement is performed for one thermosetting resin composition with N=6, and the average value (MPa) of the measured applied pressure divided by the adhesion area is calculated as the shear of the thermosetting resin composition. Adhesive force.
[Adhesion rate after molding]
Adhesion to metal is evaluated from the viewpoint of adhesion rate after molding. The material is rolled oxygen-free copper (C1020), the external dimensions are 52 mm in width, 38 mm in length, and 0.5 mm in thickness, and a lead frame with a bed of 18 mm in length and width in the center is used. The pretreatment of the lead frame is performed under the same conditions as the pretreatment of the adherend substrate in the shear adhesion test. A thermosetting resin composition is used to enclose the bed with outer dimensions of 30 mm in length, 30 mm in width, and 3 mm in thickness around the center of the lead frame. The sealing was performed by molding the thermosetting resin composition using a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 180°C, a holding pressure of 100 kg/cm 2 , and a holding time of 3 minutes. was post-cured at 200°C for 5 hours. Regarding the post-cured test piece, the state of peeling at the interface between the lead frame and the cured product of the thermosetting resin composition is observed using an ultrasonic flaw detection imaging device (HA-60A manufactured by Honda Electronics Co., Ltd.). Using Image-J software, the value obtained by dividing the area of the unpeeled portion by the total area is determined as the adhesion rate after molding.
[Reflow resistance]
Adhesion to metal is also evaluated from the viewpoint of reflow resistance. Using the test piece observed in the post-molding adhesion rate test, a reflow test is performed using a reflow simulator SRS-1 manufactured by Malcolm Co., Ltd. in accordance with the conditions of level 3 of IPC/JEDEC J-STD-020D. The test piece after the reflow test is analyzed in the same manner as the post-molding adhesion rate test, and the obtained value is determined as the post-reflow adhesion rate.

[原材料]
[ポリアルケニルフェノール化合物(A)]
・BRG-APO(式(2)-1のR5=水素原子、Q=-CR1213-、R12及びR13=水素原子、式(3)のR7~R11=水素原子)
フェノールノボラック樹脂ショウノール(登録商標)BRG-556及びBRG-558(アイカ工業株式会社)の1:1混合物を用い、フェノール性水酸基のオルト位又はパラ位をアリル化した樹脂(水酸基当量154、数平均分子量Mn1000、重量平均分子量Mw3000、重合度6.6、p=6.6、q=0、p/(p+q)=0)を製造した。製造方法は特開2016-28129号公報の実施例1を参照。
[raw materials]
[Polyalkenylphenol compound (A)]
・BRG-APO (R 5 in formula (2)-1 = hydrogen atom, Q = -CR 12 R 13 -, R 12 and R 13 = hydrogen atom, R 7 to R 11 in formula (3) = hydrogen atom)
Using a 1:1 mixture of phenol novolak resins Shonol (registered trademark) BRG-556 and BRG-558 (Aica Kogyo Co., Ltd.), a resin in which the ortho or para position of the phenolic hydroxyl group was allylated (hydroxyl equivalent: 154, number Average molecular weight Mn 1000, weight average molecular weight Mw 3000, degree of polymerization 6.6, p=6.6, q=0, p/(p+q)=0) was produced. For the manufacturing method, see Example 1 of JP-A No. 2016-28129.

・HE100C-APO(式(2)-1及び式(2)-2のR5=水素原子、式(3)のR7~R11=水素原子、Q=p-キシリレン基)
フェノールアラルキル樹脂HE100C-10-15(エア・ウォーター株式会社)を用い、特開2016-28129号公報の実施例1に準じた方法でフェノール性水酸基のオルト位又はパラ位をアリル化した樹脂(水酸基当量222、数平均分子量Mn900、重量平均分子量Mw1900、重合度4.0、p=3.8、q=0.2、p/(p+q)=0.95)を製造した。
・HE100C-APO (R 5 in formula (2)-1 and formula (2)-2 = hydrogen atom, R 7 to R 11 in formula (3) = hydrogen atom, Q = p-xylylene group)
Using phenolic aralkyl resin HE100C-10-15 (Air Water Co., Ltd.), a resin in which the ortho or para position of the phenolic hydroxyl group was allylated (hydroxyl group Equivalent weight: 222, number average molecular weight Mn: 900, weight average molecular weight: Mw: 1900, degree of polymerization: 4.0, p=3.8, q=0.2, p/(p+q)=0.95).

[ポリマレイミド化合物(B)]
・BMI-4000(2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェニルオキシ)フェニル]プロパン、大和化成工業株式会社)
・BMI-1100H(ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、大和化成工業株式会社)
[Polymaleimide compound (B)]
・BMI-4000 (2,2-bis[4-(4-maleimidophenyloxy)phenyl]propane, Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
・BMI-1100H (bis(4-maleimidophenyl)methane, Daiwa Chemical Industries, Ltd.)

[化合物(C)]
・6-アミノインダゾール(東京化成株式会社製 試薬)
・5-アミノインダゾール(東京化成株式会社製 試薬)
[Compound (C)]
・6-aminoindazole (reagent manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・5-aminoindazole (reagent manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)

[ラジカル開始剤(D)]
・パークミル(登録商標)D(ジクミルパーオキサイド、日油株式会社)
[Radical initiator (D)]
・Percmil (registered trademark) D (dicumyl peroxide, NOF Corporation)

[充填材(E)]
・シリカフィラーMSR5100(球状シリカ、平均粒径22.7μm、株式会社龍森製)をシランカップリング剤KBM-603(信越化学工業株式会社製)0.5質量%を用いて処理した。
[Filler (E)]
- Silica filler MSR5100 (spherical silica, average particle size 22.7 μm, manufactured by Ryumori Co., Ltd.) was treated with 0.5% by mass of a silane coupling agent KBM-603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

その他の成分として以下の添加物を用いた。
・インダゾール(東京化成株式会社製 試薬)
・5-ヒドロキシインダゾール(東京化成株式会社製)
・5-ニトロインダゾール(東京化成株式会社製)
・ピラゾリン(東京化成株式会社製)
・5-アミノ-2-(4-アミノフェニル)ベンゾイミダゾール(東京化成株式会社製)
・6-アミノ-1-H-ベンゾイミダゾール(東京化成株式会社製)
The following additives were used as other components.
・Indazole (reagent manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・5-Hydroxyindazole (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・5-Nitroindazole (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・Pyrazoline (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・5-Amino-2-(4-aminophenyl)benzimidazole (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)
・6-amino-1-H-benzimidazole (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)

[熱硬化性樹脂組成物の製造]
実施例1
ポリアルケニルフェノール化合物(A)としてBRG-APOを35質量部、ポリマレイミド化合物(B)としてBMI-4000を65質量部、ラジカル開始剤(D)としてパークミルDを1.5質量部、充填材(E)としてKBM-603でカップリング剤処理したMSR5100を400質量部、化合物(C)として5-アミノインダゾールを0.35質量部混合し、溶融混練(株式会社東洋精機製作所製2本ロール(ロール径8インチ)にて、110℃、10分)を行った。室温(25℃)にて1時間放冷して固化したのち、ミルミキサー(大阪ケミカル株式会社製、型式WB-1、25℃、30秒)を用いて粉砕することにより、粉末状の熱硬化性樹脂組成物を得た。トランスファー成形の原料としては、粉末状の熱硬化性樹脂組成物を打錠機(株式会社富士薬品機械製)によりタブレット状に押し固めたものを用いた。粉末状又はタブレット状の熱硬化性樹脂組成物を用いて、前述の各試験片の作製及び評価を行った。
[Manufacture of thermosetting resin composition]
Example 1
35 parts by mass of BRG-APO as the polyalkenylphenol compound (A), 65 parts by mass of BMI-4000 as the polymaleimide compound (B), 1.5 parts by mass of Percyl D as the radical initiator (D), filler ( 400 parts by mass of MSR5100 treated with a coupling agent with KBM-603 as E) and 0.35 parts by mass of 5-aminoindazole as compound (C) were mixed and melt-kneaded (using two rolls manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.). 8 inches in diameter) at 110°C for 10 minutes). After solidifying by cooling at room temperature (25°C) for 1 hour, it is pulverized using a mill mixer (manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd., model WB-1, 25°C, 30 seconds) to form a thermoset powder. A synthetic resin composition was obtained. As a raw material for transfer molding, a powdered thermosetting resin composition was pressed into a tablet shape using a tablet press (manufactured by Fuji Yakuhin Kikai Co., Ltd.). Each of the above-mentioned test pieces was prepared and evaluated using a powdered or tablet-shaped thermosetting resin composition.

実施例2~6、比較例1~7
成分の種類及び量を表1のとおり変更した以外は、実施例1と同様に熱硬化性樹脂組成物の製造及びその評価を行った。
Examples 2 to 6, Comparative Examples 1 to 7
A thermosetting resin composition was produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the types and amounts of the components were changed as shown in Table 1.

Figure 0007367766000011
Figure 0007367766000011

実施例1~6は構造体を容易に脱型することができ、成形性は良好であった。実施例1~6はせん断接着力、成形後密着率及びリフロー後密着率が高く、金属に対しての密着性及び接着性に優れていた。実施例1~6のゲルタイムは適切な範囲であった。実施例1~6の硬化時間は適切な範囲であり、生産性にも優れていた。一方、比較例1~5については、せん断接着力及び成形後密着率、特にリフロー後密着率が低く、金属に対しての接着性及び密着性、特にリフロー試験後の密着性が悪かった。比較例6、7については、せん断接着力が低く、金属に対しての接着性が悪かった。また、イミダゾール骨格を有するその他の添加物が重合反応を過度に促進してしまい、比較的大きいサイズである成形後密着率及びリフロー後密着率評価用の試験片を作製することができなかった。 In Examples 1 to 6, the structures could be easily demolded and had good moldability. Examples 1 to 6 had high shear adhesive strength, high adhesion rate after molding, and high adhesion rate after reflow, and were excellent in adhesion and adhesion to metal. The gel times of Examples 1 to 6 were within appropriate ranges. The curing times of Examples 1 to 6 were within an appropriate range, and the productivity was also excellent. On the other hand, for Comparative Examples 1 to 5, the shear adhesive strength and adhesion rate after molding, especially the adhesion rate after reflow, were low, and the adhesion and adhesion to metals, especially the adhesion after reflow test, were poor. Comparative Examples 6 and 7 had low shear adhesive strength and poor adhesion to metal. In addition, other additives having an imidazole skeleton excessively promoted the polymerization reaction, making it impossible to prepare comparatively large test pieces for evaluating the adhesion rate after molding and the adhesion rate after reflow.

Claims (13)

ポリアルケニルフェノール化合物(A)、ポリマレイミド化合物(B)、式(1)に記載の構造を有する化合物(C)、及びラジカル開始剤(D)を含有し、
前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)の配合量が前記ポリマレイミド化合物(B)100質量部に対して20~130質量部であり、
前記化合物(C)の含有量が前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)と前記ポリマレイミド化合物(B)の合計100質量部に対して0.3質量部~2.5質量部である、熱硬化性樹脂組成物。
(式中、R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~3のアルキル基、水酸基、カルボキシ基、又はアミノ基であり、R1及びR2の少なくとも一方はアミノ基である。R3は水素原子、炭素原子数1~3のアルキル基、炭素原子数2~3のアルケニル基、又はシアノ基であり、R4は水素原子、又は炭素原子数1~3のアルキル基である。)
Contains a polyalkenylphenol compound (A), a polymaleimide compound (B), a compound (C) having the structure described in formula (1), and a radical initiator (D),
The amount of the polyalkenylphenol compound (A) is 20 to 130 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymaleimide compound (B),
Thermosetting, wherein the content of the compound (C) is 0.3 parts by mass to 2.5 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyalkenylphenol compound (A) and the polymaleimide compound (B). Resin composition.
(In the formula, R 1 and R 2 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxy group, or an amino group, and at least one of R 1 and R 2 is an amino group. .R 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms, or a cyano group, and R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. be.)
前記化合物(C)は、6-アミノインダゾール、5-アミノインダゾール、6-アミノ-5-メチルインダゾール、6-アミノ-5-エチルインダゾール、6-アミノ-5-ヒドロキシインダゾール、6-アミノ-5-ブロモインダゾール、6-アミノ-5-クロロインダゾール、3-シアノ-5-アミノインダゾール、5-カルボキシ-6-アミノインダゾール、及び5,6-ジアミノインダゾールから選択される少なくとも一種を含む、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The compound (C) is 6-aminoindazole, 5-aminoindazole, 6-amino-5-methylindazole, 6-amino-5-ethylindazole, 6-amino-5-hydroxyindazole, 6-amino-5- Claim 1 comprising at least one selected from bromoindazole, 6-amino-5-chloroindazole, 3-cyano-5-aminoindazole, 5-carboxy-6-aminoindazole, and 5,6-diaminoindazole. The thermosetting resin composition described. 前記化合物(C)が5-アミノインダゾール、及び6-アミノインダゾールから選択される少なくとも一種を含む、請求項2に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 2, wherein the compound (C) contains at least one selected from 5-aminoindazole and 6-aminoindazole. 前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)が、式(2)-1:
及び任意に式(2)-2:
で表される構造単位を有し、式(2)-1及び式(2)-2において、R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、又は炭素原子数1~5のアルコキシ基を表し、R6はそれぞれ独立に式(3):
で表される2-アルケニル基を表し、式(3)において、R7、R8、R9、R10及びR11はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基であり、式(3)の*は、芳香環を構成する炭素原子との結合部を表し、R5及びR6は各フェノール骨格単位で同じでもよく異なっていてもよく、式(2)-1及び式(2)-2におけるQはそれぞれ独立に式-CR1213-で表されるアルキレン基、炭素原子数5~10のシクロアルキレン基、芳香環を有する二価の有機基、脂環式縮合環を有する二価の有機基、又はこれらを組み合わせた二価の有機基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~5のアルキル基、炭素原子数2~6のアルケニル基、炭素原子数5~10のシクロアルキル基、又は炭素原子数6~12のアリール基を表す、請求項1~のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
The polyalkenylphenol compound (A) has the formula (2)-1:
and optionally formula (2)-2:
In formula (2)-1 and formula (2)-2, R 5 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a structural unit having 1 to 5 carbon atoms. 5 represents an alkoxy group, and each R 6 independently represents the formula (3):
In formula (3), R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. It is a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and * in formula (3) represents a bond with a carbon atom constituting an aromatic ring, and R 5 and R 6 are Each phenol skeleton unit may be the same or different, and Q in formula (2)-1 and formula (2)-2 each independently represents an alkylene group represented by the formula -CR 12 R 13 -, the number of carbon atoms Represents a cycloalkylene group of 5 to 10, a divalent organic group having an aromatic ring, a divalent organic group having an alicyclic condensed ring, or a divalent organic group combining these, and R 12 and R 13 are Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3 .
式(2)-1に示す構造単位の一分子あたりの平均数をp、式(2)-2に示す構造単位の一分子あたりの平均数をqとしたときに、pは1.1~35の実数、p+qは1.1~35の実数であり、かつqは式:p/(p+q)の値が0.4~1となる実数を満たす、請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 When the average number of structural units shown in formula (2)-1 per molecule is p, and the average number of structural units shown in formula (2)-2 per molecule is q, p is 1.1 to 1. The thermosetting resin according to claim 4 , wherein p+q is a real number of 1.1 to 35, and q is a real number such that the value of the formula: p/(p+q) is 0.4 to 1. Composition. 前記ポリマレイミド化合物(B)が芳香族ビスマレイミド化合物である、請求項1~のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the polymaleimide compound (B) is an aromatic bismaleimide compound. 前記ラジカル開始剤(D)が有機過酸化物である、請求項1~のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the radical initiator (D) is an organic peroxide. さらに充填材(E)を含む、請求項1~のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7 , further comprising a filler (E). 前記充填材(E)が、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、及び固体ゴム粒子からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項に記載の熱硬化性樹脂組成物。 The thermosetting resin composition according to claim 8 , wherein the filler (E) is at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, and solid rubber particles. 前記充填材(E)の含有量が、前記ポリアルケニルフェノール化合物(A)、前記ポリマレイミド化合物(B)、前記化合物(C)、及び前記ラジカル開始剤(D)の合計100質量部に対して200~1900質量部である、請求項又はに記載の熱硬化性樹脂組成物。 The content of the filler (E) is based on a total of 100 parts by mass of the polyalkenylphenol compound (A), the polymaleimide compound (B), the compound (C), and the radical initiator (D). The thermosetting resin composition according to claim 8 or 9 , wherein the amount is 200 to 1900 parts by mass. 請求項1~10のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 10 . 請求項1~10のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物をモールディング成形する、構造体の製造方法。 A method for manufacturing a structure, comprising molding the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 10 . 請求項11に記載の硬化物を含む構造体。 A structure comprising the cured product according to claim 11 .
JP2021551143A 2019-10-09 2020-06-16 Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product Active JP7367766B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019185745 2019-10-09
JP2019185745 2019-10-09
PCT/JP2020/023639 WO2021070416A1 (en) 2019-10-09 2020-06-16 Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structural body including said cured product

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021070416A1 JPWO2021070416A1 (en) 2021-04-15
JP7367766B2 true JP7367766B2 (en) 2023-10-24

Family

ID=75437105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021551143A Active JP7367766B2 (en) 2019-10-09 2020-06-16 Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7367766B2 (en)
TW (1) TWI747338B (en)
WO (1) WO2021070416A1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016028129A (en) 2014-07-08 2016-02-25 昭和電工株式会社 Production method of polyalkenyl phenol compound
WO2018047417A1 (en) 2016-09-09 2018-03-15 昭和電工株式会社 Curable resin mixture and method for producing curable resin composition
JP2018095690A (en) 2016-12-09 2018-06-21 昭和電工株式会社 Thermosetting resin composition
JP2019048933A (en) 2017-09-08 2019-03-28 昭和電工株式会社 Curable resin composition, cured article thereof, manufacturing method of structure using the curable resin composition, and structure containing the cured article

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5767610A (en) * 1980-10-15 1982-04-24 Semedain Kk Anaerobic curable composition
JPS62161820A (en) * 1986-01-10 1987-07-17 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition
CN106256175B (en) * 2014-04-25 2021-01-08 太阳油墨制造株式会社 Resin composition for permanent insulating film, permanent insulating film, multilayer printed wiring board, and method for producing the same
WO2018193852A1 (en) * 2017-04-19 2018-10-25 昭和電工株式会社 Curable resin composition, cured product thereof, and structure including cured product thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016028129A (en) 2014-07-08 2016-02-25 昭和電工株式会社 Production method of polyalkenyl phenol compound
WO2018047417A1 (en) 2016-09-09 2018-03-15 昭和電工株式会社 Curable resin mixture and method for producing curable resin composition
JP2018095690A (en) 2016-12-09 2018-06-21 昭和電工株式会社 Thermosetting resin composition
JP2019048933A (en) 2017-09-08 2019-03-28 昭和電工株式会社 Curable resin composition, cured article thereof, manufacturing method of structure using the curable resin composition, and structure containing the cured article

Also Published As

Publication number Publication date
TWI747338B (en) 2021-11-21
TW202116908A (en) 2021-05-01
WO2021070416A1 (en) 2021-04-15
JPWO2021070416A1 (en) 2021-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4793565B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP7153635B2 (en) Curable resin composition, cured product thereof, and structure containing cured product
CN107636071B (en) Epoxy molding compound with high adhesion to nickel surface, method for its preparation and use
JP7363821B2 (en) thermosetting resin composition
JP6832938B2 (en) Method for Producing Curable Resin Mixture and Curable Resin Composition
JP2015147849A (en) Resin composition and semiconductor device
SG191462A1 (en) Epoxy resin composition for electronic parts encapsulation and electronic parts-equipped device using the same
JPWO2018193850A1 (en) Curable resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product
JP7367766B2 (en) Thermosetting resin composition, cured product thereof, and structure containing the cured product
JP7593402B2 (en) Thermosetting resin composition
JP7593401B2 (en) Thermosetting resin composition
JP2021059651A (en) Curable resin composition, cured product of the same, and structure including the cured product
JP2012241177A (en) Epoxy resin composition for compression molding and semiconductor device
JP2019048933A (en) Curable resin composition, cured article thereof, manufacturing method of structure using the curable resin composition, and structure containing the cured article
TWI681991B (en) Curable resin composition, cured product thereof, method for manufacturing structure using the curable resin composition, and structure including the cured product
JPWO2019240092A1 (en) Thermosetting resin compositions for semiconductor encapsulation materials, semiconductor encapsulation materials, and semiconductor devices
WO2020070531A1 (en) Curable resin composition, cured object therefrom, method for producing structure using said curable resin composition, and structure including said cured object
KR102052198B1 (en) Compound comprising amide bonding connected with cycle and alkoxysilan group, epoxy resin composition comprising the same and apparatus prepared using the same
JPH06322121A (en) Resin composition for sealing semiconductor and resin-sealed semiconductor device
JP2023070490A (en) thermosetting composition
KR101768303B1 (en) Phosphonium compound, epoxy resin composition comprising the same and semiconductor device prepared from using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221220

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20230131

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20230202

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20230307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230808

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230901

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230925

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7367766

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S801 Written request for registration of abandonment of right

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311801

ABAN Cancellation due to abandonment
R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350