JP7380185B2 - ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム - Google Patents
ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7380185B2 JP7380185B2 JP2019232589A JP2019232589A JP7380185B2 JP 7380185 B2 JP7380185 B2 JP 7380185B2 JP 2019232589 A JP2019232589 A JP 2019232589A JP 2019232589 A JP2019232589 A JP 2019232589A JP 7380185 B2 JP7380185 B2 JP 7380185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block copolymer
- block
- polymer block
- group
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Adhesive Tapes (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
例えば、A1―B―A2型のアクリル系トリブロック重合体で、A1およびA2はメタクリル酸アルキルエステル重合体ブロック、およびBはアクリル酸アルキルエステル重合体ブロックからなる、トリブロック重合体を用いた粘着剤が提案されている。(特許文献1)
また、環状構造を有する単量体単位およびカルボキシ基含有単量体単位を含むブロックと、アクリル酸エステル単位を70質量%以上含むブロックとからなるブロック共重合体、および軟化点が120℃以上であり、かつ環状構造を有する粘着付与剤(Y)を含有する粘着剤が提案されている。(特許文献2)
また、極性基を有する(メタ)アクリル酸エステルランダム共重合体と、(メタ)アクリルトリブロック共重合体と粘着付与樹脂とを含有した粘着剤組成物が提案されている。(特許文献3)
なお、上記においては粘着材料における課題について述べたが、それ以外の用途の樹脂組成物に対しても同様の課題が生じ得る。
一般式(1)
一般式(2)
[式中、実線と点線の二重線は、それぞれ独立に二重結合または単結合を表し、R1は水素原子またはメチル基、Lは水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選ばれる任意の組合せからなる分子量400以下の連結基をそれぞれ表す。]
一般式(3)
一般式(4)
一般式(5)
[式中、実線と点線の二重線は、それぞれ独立に二重結合または単結合を表し、R1、R2は水素原子またはメチル基、R3、R4は水素原子またはカルボキシル基を表し、Lは水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選ばれる任意の組合せからなる分子量400以下の連結基をそれぞれ表す。]
一般式(6)
一般式(7)
一般式(8)
一般式(9)
[式中、実線と点線の二重線は、それぞれ独立に二重結合または単結合を表し、R1~R3は水素原子またはメチル基、Lは水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選ばれる任意の組合せからなる分子量400以下の連結基を、R4は酸素原子または水素原子、炭素原子、酸素原子から選ばれる任意の組合せからなる分子量200以下の置換基をそれぞれ表す。]
本発明に係るブロック共重合体(C)は、エチレン性不飽和単量体に由来する構造単位を主体とするブロック共重合体(C)であって、数平均分子量が5,000~500,000であり、ブロック構造が、重合体ブロックA-重合体ブロックB-重合体ブロックAのトリブロック構造、または[重合体ブロックA-重合体ブロックB]qXの星形ブロック構造であり、但し、qは2以上6以下の整数であり、前記トリブロック構造の場合の重合体ブロックBのガラス転移温度が20℃未満であり、重合体ブロック(A)のガラス転移温度は120℃以上であり、前記星形ブロック構造の場合の[重合体ブロックB]qXのガラス転移温度が20℃未満であり、Xは開始剤残基または/およびカップリング剤残基、またはその誘導体であり、ブロック共重合体(C)の120℃での引張試験の破断時の強度が0.1MPa以上かつ伸度が400%以上であることを特徴とする。
なお、以降の説明において重合体ブロック(A),重合体ブロック(B)をそれぞれ、単にA,Bと表記することがある。
1/(TgA+273.15)=Σ[Wa/(Tga+273.15)] ・・・(1)
式(1)中、TgAは重合体ブロック(A)のTg(℃)であり、Waは重合体ブロック(A)を構成する単量体aの質量分率であり、Tgaは単量体aの単独重合体(ホモポリマー)のTg(℃)である。なお、Tgaはホモポリマーの特性値として広く知られており、例えば、「POLYMERHANDBOOK、THIRDEDITION」に記載されている値や、メーカのカタログ値を用いることができる。
<重合体ブロック(B)[X]>のTgは、ブロック共重合体(C)が得られた段階でDSC測定して得られた曲線において認められる<重合体ブロック(B)[X]>のTgであり、JIS K 7121:2012プラスチックの転移温度測定方法に基づき測定を行い、当該JIS 9.3記載の補外ガラス転移開始温度(Tig)により求められる値とする。<重合体ブロック(B)[X]>のTgは、同様の化学構造を有する重合体のTgと同一または近傍の数値となるので重合体ブロック(A)に由来するTgと容易に区別が付けられる。
重合体ブロック(A)のTgは120℃以上であることを特徴とし、エチレン性不飽和単量体に由来する構造単位を主体とする、ハードセグメントとして機能するブロックである。
重合体ブロック(A)のTgの上限値は特に限定されないが、例えば300℃、250℃または200℃とすることができる。この重合体ブロック(A)のTgは、前述したように<重合体ブロック(A)>TotalのTgに読み替えられる(以降においても同様とする。)。即ち、<重合体ブロック(A)>Totalは120℃以上であることが好ましい。
同様に、<重合体ブロック(A)>Totalの上限値は特に限定されないが、例えば300℃、または250℃とすることができる。
メタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステルとしては、炭素数が1~35、炭素数1~20、炭素数1~16、炭素数1~12、炭素数1~8または炭素数1~4のアルキル基、もしくは、ジシクロペンタジエン骨格・アダマンタン骨格・ステロイド骨格を側鎖に有するメタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステルが例示できる。
中でも、ジシクロペンタジエン骨格、アダマンタン骨格、ステロイド骨格を側鎖に有するメタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステルが好ましい。
また、スチレン誘導体としては、α-メチルスチレン、t-ブチルスチレン、p-クロロスチレン、クロロメチルスチレンおよびビニルトルエンが例示できる。また、次に説明する重合体ブロック(B)で例示する単量体をその一部に好適に含むことができる。
一般式(1)
一般式(4)
一般式(5)
一般式(6)
一般式(7)
一般式(8)
一般式(9)
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ノルマルブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ターシャリブチルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、ペンチルメタクリレート、ノルマルヘキシルメタクリレート、イソヘキシルメタクリレート、イソヘプチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、ノルマルオクチルメタクリレート、イソノニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、テトラデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、べへニルメタクリレート、イソステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、t-ブチルシクロヘキシルメチルメタクリレート、イソボロニルメタアクリレート、トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロデシルメタクリレート、シクロデシルメチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、t-ブチルベンゾトリアゾールフェニルエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アリルメタクリレートなどの、脂肪族、脂環族、芳香族アルキルメタクリレート類が例示できる。また、メトキシメチルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレート、メトキシプロピルメタクリレート、エトキシメチルメタクリレート、エトキシエチルメタクリレート、エトキシプロピルメタクリレートなどのアルコキシ基の炭素数が1~4であり、アルキル基の炭素数が1~4であるアルコキシアルキルメタクリレートなどのアルコキシアルキルメタクリレート類;(ポリアルキレン)グリコールモノアルキル、アルキレン、アルキンエーテルまたはエステルのモノメタクリレート類;酸素原子含有のメタクリル酸系モノマー類;窒素原子含有のメタクリル酸系モノマー類等を用いることができる。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ノルマルブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ターシャリブチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ペンチルアクリレート、ノルマルヘキシルアクリレート、イソヘキシルアクリレート、イソヘプチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ノルマルオクチルアクリレート、イソノニルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、テトラデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、べへニルアクリレート、イソステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、t-ブチルシクロヘキシルメチルアクリレート、イソボロニルアクリレート、トリメチルシクロヘキシルアクリレート、シクロデシルアクリレート、シクロデシルメチルアクリレート、ベンジルアクリレート、t-ブチルベンゾトリアゾールフェニルエチルアクリレート、フェニルアクリレート、ナフチルアクリレート、アリルアクリレートなどの、脂肪族、脂環族、芳香族アルキルアクリレート類が例示できる。
重合体ブロック(B)Tgは20℃未満であることを特徴とし、エチレン性不飽和単量体に由来する構造単位を主体とする、ソフトセグメントとして機能するブロックである。
重合体ブロック(B)のTgの下限値は特に限定されないが、例えば-100℃、-90℃または-80℃とすることができる。この重合体ブロック(B)のTgは、前述したように<重合体ブロック(B)>TotalのTgに読み替えられる(以降においても同様とする。)。即ち、<重合体ブロック(B)>Totalは20℃未満であることが好ましい。
ブロック共重合体(C)は、前述のような重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)とを有することで、ミクロ相分離構造を形成し、応力緩和点を含む構造を形成し得る物理架橋を形成することができる。さらに、ブロック共重合体(C)が、ミクロ相分離構造を有し、且つ物理架橋を形成することによって、ブロック共重合体(C)の伸縮性を優れたものとすることができる。また、自己組織化(セグメントの集合)によって官能基を互いに接近させることができ、官能基の分布によって凝集力と応力緩和を更に付与し、ブロック共重合体(C)自体に自己粘着性を付与することができる。
GPC(商品名:GPCV-2000、日本ウォーターズ社製、カラム:TSKgel、α-3000、移動相:10mMトリエチルアミン/ジメチルホルムアミド溶液)を用い、標準物質としてポリスチレン(分子量427,000、190,000、96,400、37,400、10,200、2,630、440、92)を使用して検量線を作製し、重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)を測定した。この測定値から多分散度(PDI=Mw/Mn)を算出した。
ブロック共重合体(C)は、少なくとも1以上の官能基を有していてもよい。官能基は、重合体ブロック(A)または/および重合体ブロック(B)の主鎖に直結する側基、主鎖の側鎖、開始剤残基、カップリング剤残基、分子末端の少なくともいずれかに導入できる。ここで分子末端とは、ブロック共重合体(C)の分子末端部をいい、重合体ブロック(A)の連鎖末端に結合する態様の他、重合体ブロック(A)と結合する重合開始剤残基などの分子末端部も含む。また、分子末端の少なくとも一部とは、トリブロック構造または星型ブロック構造に由来して2~6有する分子末端の少なくとも1つに官能基が、または官能基を含む基が導入されていることをいう。
ブロック共重合体(C)に官能基を導入する方法としては、官能基を有する単量体を用いて直接官能基を導入する方法、官能基の保護基を有する単量体を用いて前記保護基を導入し、任意のタイミングで官能基に変換する方法がある。また、官能基を有する重合開始剤を用いて単量体を共重合する方法、官能基を有するカップリング剤を用いてブロック共重合体(C)を製造する方法、変性(化学変換)により官能基を導入する方法が挙げられる。変性による導入方法は、官能基に応じて適宜選択すればよい。変性により官能基を導入する方法は、後述する。
ブロック共重合体(C)における重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の合計の含有比率は特に限定されないが、ミクロ相分離構造を容易に得る観点からは、ブロック共重合体(C)の全質量に対して、重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)全体の含有率が90.0~99.9質量%であることが好ましく、98.0~99.9質量%であることがより好ましい。
ブロック共重合体(C)がミクロ相分離構造を形成することによって、優れた伸縮性を持つことは先に述べた通りであるが、重合体ブロック(A)のTg以上の温度下ではブロック共重合体が溶融状態となり、伸縮性が損なわれ、引張試験を行った際も十分な引張応力を示すことなく、弱い応力のまま伸び続ける。
高温でも引張試験における弾性挙動・破断時の伸度・応力を保つためには、重合体ブロック(A)にTgの高い原料を用いることが好ましい。
具体的には、Tgが120℃以上のメタクリル酸エステル由来の構造単位もしくはアクリル酸エステル由来の構造単位を用いることができる。重合体ブロック(A)のTgが120℃以上であればよく、重合体ブロック(A)の構造単位として、Tgが120℃以上の構造単位と120℃以下の構造単位を併せて用いても良い。
120℃での引張試験で破断時の強度が0.1MPa以上、および伸度が400%以上のブロック共重合体(C)を得るためには、重合体ブロック(A)のTgが120℃以上かつ重合体ブロック(C)のTgが20℃以下であり、ブロック共重合体(C)の数平均分子量が5,000~500,000であり、ブロック共重合体(C)の全量に対して、重合体ブロック(A)が1~50質量%の割合で含まれることが好ましい。
より具体的には、重合体ブロック(A)がジシクロペンタニルメタクリレート、重合体ブロック(B)がブチルアクリレートからなり、重合体ブロック(A)がブロック共重合体(C)の全量に対して、30質量%の割合で含まれたブロック共重合体(C)が挙げられる。
破断伸度(%)=((破断時の伸び―初期の長さ)/初期の長さ)×100
破断強度(MPa)=破断時の引張荷重(N)/断面積(mm2)
ブロック共重合体(C)の120℃での引張試験において、高温下で弾性を示すという観点から、破断時の強度が0.1MPa以上50MPa以下かつ破断時の伸度が400%以上5000%以下であることが好ましく、破断時の強度が0.2MPa以上かつ破断時の伸度が500%以上であることがより好ましく、破断時の強度が0.4MPa以上かつ破断時の伸度が800%以上であることが更に好ましい。
以下、本実施形態のブロック共重合体(C)の製造方法の一例について、ヨウ素移動RCMP法(又はRTCP法)を中心に説明するが、本発明のブロック共重合体(C)は以下の製造方法に限定されるものではない。ブロック共重合体(C)の製造方法としては、ヨウ素移動RCMP法(又はRTCP法)、RAFT法、ATRP法、NMP法、TERP法、リビングアニオン重合などが挙げられる。
一般式(10)
一般式(11)
一般式(12)
Yはp価の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、
pは2~6の整数であり、
R2、R5およびR6はそれぞれ独立に、一般式(6)の場合にはYからの分岐毎にそれぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい1価の炭化水素基であり、
R3およびR7はそれぞれ独立に、一般式(6)の場合にはYからの分岐毎にそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい1価の炭化水素基または-COR8であり、
R4は置換基を有していてもよい1価の炭化水素基、-COR8、シアノ基またはニトロ基であり、
R2とR3、R3とR4、R2とR4およびR6とR7はそれぞれ独立に、一般式(6)の場合にはYからの分岐毎にそれぞれ独立に、互いに結合して環を形成していてもよく、
R8は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基または置換基を有していてもよい1価の炭化水素基であり、
R11は置換基を有していてもよい2価の炭化水素基であり、
R12はアルキレン基、アリーレン基およびアルキレンオキシ基からなる群より選ばれる2価の炭化水素基、または直接結合であり、
前記炭化水素基は、複素環を有していてもよく、それぞれ独立に、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基の少なくともいずれかを有する。一般式(10)、一般式(11)は、ヨウ素-炭素結合を1つ有する例であり、一般式(12)はヨウ素-炭素結合が2~6つ有する例である。所望とするブロック共重合体(C)の構造に応じて、適切な重合開始剤(XI)を選定すればよい。
また、特開2018-111806号公報に開示の有機ヨウ素化合物を好適に利用できる。重合開始剤のヨウ素に直結する炭素は、第3級炭素、第2級炭素または電子吸引基と直結している第1級炭素が好ましい。
とも1つの中心元素と、当該中心元素に結合した少なくとも1つのヨウ素原子とを含む化
合物が挙げられ、具体的には、ヨウ化リンなどのハロゲン化リン;ヨウ化ホスフィンなどのホスファイト系化合物;エトキシフェニルフォスフィネート、フェニルフェノキシフォ
スフィネートなどのホスフィネート系化合物;ヨウ化窒素、ヨウ化亜リン酸、ヨウ化アミ
ン、ヨードスクシンイミドなどのヨウ化イミド誘導体; ヒダントイン系化合物などが挙げ
られる(国際公開第2008/139980号参照)。これらの触媒は1種単独または2種類以上を併用できる。
1-ヨードベンゼン、2,4,6-トリメチルヨードベンゼン、3-シアノヨードベンゼ
ン、4-シアノヨードベンゼン、4-ヨードアニソール、テトラヨードメタン、トリフルオロヨードメタン、ジフルオロジヨードメタン、1,4-シクロヘキサジエン、ジフェニルメタン、ジメシチルメタン、キサンテン、チオキサンテン、マロン酸ジエチル、フルオレン;アセチルアセトンなどのアセトアセチル系化合物が例示できる。これらの触媒は1種単独または2種類以上を併用できる。
ドオキシフェニル化合物;ビタミンEなどのビタミン類や、N-コハク酸イミドなどが例示できる。これらの触媒は1種単独または2種以上を併用できる。
一般式(13)
一般式(14)
一般式(15)
Qは1価の分子末端基であり、Yからの分岐毎にそれぞれ独立に、前記分子末端基は、官能基を有していてもよい炭化水素基またはヨード基であり、その他の記号は、一般式(10)~(12)で説明した通りである。ブロック共重合体(C)は、一般式(13)~(15)で示される重合体の構造単位としてエチレン性不飽和単量体由来の構造単位に限定されず、その他のラジカル重合性単量体が含まれていてもよい。
(製造例1:ハードセグメントにTgの高い単量体を有するブロック共重合体(C))
図1に、方法(I)により、Tgの高い単量体を有するブロック共重合体(C)の製造法の一例を示す。まず、重合体ブロック(B)を形成するための単量体1に、炭素-ヨウ素結合が2つある重合開始剤3および触媒4を加えて重合を行う。単量体1の種類は1種単独または2種以上とすることができる。当該重合により、開始剤残基Xおよび単量体1由来の構造単位1*を有する重合体ブロック(B)並びにその連鎖末端にドーマント種としてのヨウ素が結合された重合体5が得られる。
重合体ブロック(A)もしくは重合体ブロック(B)、または重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の両者に官能基を導入してもよい。
官能基を導入する方法としては以下が挙げられる。官能基を有する単量体を用いて官能基を導入する方法、また、重合体ブロック(A)または/および重合体ブロック(B)と合わせて、重合開始剤残基または/およびカップリング剤残基に官能基を導入してもよい。
また、製造例1では、開始剤を1種用いる例について説明したが、2種以上を用いてもよい。2種以上用いる場合において、炭素-ヨウ素結合部位の数が同一のものを用いる他、炭素-ヨウ素結合部位の数が異なる開始剤を併用してもよい。
(製造例2)
方法(II)により、ブロック共重合体(C)の末端に官能基を有するブロック共重合体(C)の製造法の一例を示す。
まず、方法(I)と同様の方法でブロック共重合体(C)を得る。
次いで、ブロック共重合体(C)に対して鎖状末端変換反応を行ってメルカプト基・水酸基・アミノ基を導入する。
メルカプト基を導入するメルカプト化試薬として、下記一般式(16)の化合物を好適に用いることができる。
また、水酸基を導入する水酸基化試薬として、下記一般式(17)の化合物を、アミノ基を導入するアミノ基化試薬として、下記一般式(18)の化合物を好適に用いることができる。
H2N-R13-SH 一般式(16)
H2N-R13-ОH 一般式(17)
H2N-R13-H2N 一般式(18)
但し、R13は、2価の有機基である。好適な例として、置換基を有していてもよい、アルキレン基、アリーレン基、複素環基およびアルキレンオキサイド基の少なくとも1つを有し、2価の有機基である。この2価の有機基は好ましくは2~20であり、より好ましくは2~12である。
式(19)
(製造例3):カップリング剤残基Xを有する星型ブロック構造を有するブロック共重合体(C))
図2に、方法(III)の一例を示す。図2に示すように、まず、重合体ブロック(A)を形成するための単量体2に、炭素-ヨウ素結合が1つある重合開始剤7および必要に応じて触媒4を加えて重合を行う。図2の例では、重合開始剤7として2-ヨード-2-メチルプロピオニトリルを用いた例を示しているが、例えば前述したヨウ素-炭素結合を1つ有するヨウ素系重合開始剤を好適に用いることができる。当該重合により、開始剤残基Xを有する重合体ブロック(A)およびその連鎖末端にヨウ素Iが結合された重合体8が得られる。
樹脂組成物(D)は、少なくともブロック共重合体(C)を含む樹脂組成物であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で他の化合物を含有できる。溶剤を含んでいてもよいし、無溶剤でもよい。
(e)、その他のアクリル樹脂が例示できる。また、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリエステルアミド、ポリブタジエン、セルロース、ポリウレタンポリウレア、粘着付与樹脂等の樹脂が例示できる。
ク共重合体(C)および他の成分を考慮して1種単独または2種以上を併用して用いる。具体的には、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶剤;ジエチルエーテル、メトキシトルエン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、その他の炭化水素系溶剤等の有機溶剤がある。
印刷方法は、特に限定されないが、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、コーティング法などの印刷法が挙げられる。
官能基がカルボキシ基の場合には、架橋剤は金属キレート化合物、イソシアネート化合物が好ましい。
トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(別名:HMDI)、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2-プロピレンジイソシアネート、2,3-ブチレンジイソシアネート、1,3-ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート類;
ω,ω’-ジイソシアネート-1,3-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジメチルベンゼン、ω,ω’-ジイソシアネート-1,4-ジエチルベンゼン、1,4-テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート類;
3-イソシアネートメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキシルイソシアネート(別名:IPDI、イソホロンジイソシアネート)、1,3-シクロペンタンジイソシアネート、1,3-シクロヘキサンジイソシアネート、1,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,4-シクロヘキサンジイソシアネート、メチル-2,6-シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,4-ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ポリイソシアネート類が挙げられる。
前記ヌレート体は、イソシアネートモノマーの3量体をいい、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートの3量体イソホロンジイソシアネートの3量体トリレンジイソシアネートの3量体などが挙げられる。
前記アダクト体は、イソシアネートモノマーと2官能以上の低分子活性水素含有化合物が反応した2官能以上のイソシアネート化合物をいい、例えば、トリメチロールプロパンとヘキサメチレンジイソシアネートとを反応させた化合物(トリメチロールプロパンとトリレンジイソシアネートとを反応させた化合物、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアネートとを反応させた化合物、トリメチロールプロパンとイソホロンジイソシアネートとを反応させた化合物、1,6-ヘキサンジオールとヘキサメチレンジイソシアネートとを反応させた化合物などが挙げられる。
具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂類;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂類;
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、N,N,N',N'-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、1、3-ビス(N、N’-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'-テトラグリシジルアミノフェニルメタン、トリグリシジルアミノフェノール、ビフェニルジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ポリグリシジル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートとこれと共重合可能なビニル単量体との共重合体等のグリシジル基を有する化合物類が挙げられる。
KR-85、KR-614、KE-100、KE-311、PE-590、KE-359、KE-604、KR-120、D-6011、KM-1500、KR-50M、ME-D、ME-G、ME-H、ME-GH、ME-T、ME-GD(荒川化学製)
などのロジン誘導体が挙げられる。
(単量体)
MMA:メチルメタクリレート(住友化学社製)
HEMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチル(日本触媒社製)
BA:ブチルアクリレート(日本触媒社製)
MAA:メタクリル酸(三菱ケミカル)
St:スチレン(中央化成品社製)
2EHA:2-エチルヘキシルアクリレート(日本触媒社製)
FA513M:ジシクロペンタニルメタクリレート
ADMA:メタクリル酸1-アダマンチル
フィトステロールMOI変性:下記化合式(20)で表されるもの
ADA:アクリル酸1-アダマンチル
FA513AS:ジシクロペンタニルアクリレート
(式20)
合成2:4分岐有機ヨウ素系リビングラジカル重合開始剤
CP-I:2-ヨード-2-メチルプロピオニトリル(東京化成工業社製)
BM1448: 4-シアノ-4-[(ドデシルスルファニルチオカルボニル)スルファニル]ペンタンサンメチル(BORON MOLECULAR社製)
EMA-II:エチレンビス(2-ヨードイソブチレート)(合同資源社製)
EMA-III:グリセロールトリス(2-ヨードイソブチレート)(合同資源社製)
HO-BriBu:2-ブロモイソ酪酸2-ヒドロキシエチル(Aldrich社製、No. 723150)
AIBN:2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)(和光純薬社製)
V65:2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬社製)
2C-(a)(2官能イソシアネート(a)):ヘキサメチレンジイソシアネート(東ソー社製)
3C-(b)(3官能イソシアネート(b)):TDI-TMPアダクト体(日本ポリウレタン工業社製)
4C-(c)(4官能イソシアネート(c)):合成7
6C-(d)(6官能イソシアネート(d)):合成8
合成2:4分岐有機ヨウ素系リビングラジカル重合開始剤
窒素ガス導入管、撹拌機を備えた200mLフラスコに、4f-BiB:Pentaerythritol tetrakis(2-bromoisobutyrate)(Aldrich社製、No. 723193)5.19g(7.1mmol)、ヨウ化ナトリウム(和光純薬社製)5.09g(34mmol)をアセトニトリル20mLに溶解させ、窒素置換後、80℃で8時間加熱攪拌した。反応終了後、濾過精製し、減圧下で溶媒を濃縮し、白色固体物4.98g(収率87.2%)の合成2の化合物を得た。目的物の生成は、1H-NMRより確認した。
窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、EMA-IIを0.93g、ヨウ素を0.001g、テトラブチルアンモニウムヨージドを16.1gおよびBAを140g混合し、110℃で24時間反応させてプレポリマーを得た。1H-NMRから算出したBAの転化率は100%であった。
次いで、2段目モノマーとしてFA513Mを60g、トルエン溶媒200gをプレポリマー溶液全量に加え、110℃で更に12時間反応させた。1H-NMRから算出した2段目モノマーFA513Mの転化率も100%であった。
その後、室温まで冷却後、アルミナ粉(Aldrich社製)を添加し、1時間攪拌した後、濾過、洗浄および乾燥によって、2分岐の[A-B]2Xの星形ブロック構造を有するブロック共重合体(C1)を得た。目的物の生成は、1H-NMRより確認した。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)
また、実施例F1のブロック共重合体(C1)のMn、Mw/Mn、重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の仕込み量に対する重合体ブロック(A)の含有率(質量%)を求めた。これらの結果を表1に示す。
ブロック共重合体(C)中の重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)に対して、重合体ブロック(A)の含有率を算出した。具体的には、重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)を構成するエチレン性不飽和単量体の合計仕込み量に対する、重合体ブロック(A)の含有率を求めた。
以下に記載する実施例中では、
重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)に用いるモノマー全量を200gとし、
重合体ブロック(A)の仕込み量=200g×重合体ブロック(A)の含有率
重合体ブロック(B)の仕込み量=200g-重合体ブロック(A)の仕込み量
となるように仕込み量を求めた。
実施例1と同様RCMP法により、表1に示す条件で、表1に示した重合体ブロック(A)の比率になるような仕込み量で重合し、分岐構造の[A-B]2Xの星形ブロック構造を得た。表1に実施例1と同様の特性値を示す(以下に示す実施例においても、表1に実施例1と同様の特性値を示す)。
開始剤をEMA-IIIに変更した他は実施例F1と同様にRCMP法により、表6に示す条件で重合し、分岐構造の[A-B]3Xの星形ブロック構造を得た。また、得られた重合体の1H―NMR分析により目的物の生成を確認した。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)
実施例F1と同様RCMP法により、多分岐重合開始剤に合成2を用い、単量体の仕込み比等を表1に示す条件で重合し、4分岐の[A-B]4Xの星形ブロック構造を有するブロック共重合体(C7)を得た。また、得られた重合体の1H―NMR分析により目的物の生成を確認した。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)
RAFT法によりブロック共重合体(C9)を合成した。具体的には、窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、RAFT開始剤としてBM1448を0.82g、AIBNを0.52gおよびFA513Mを24.3g、トルエン溶媒50gを混合し、80℃で6時間反応させてプレポリマーを得た。1H-NMRから算出したFA513Mの転化率はどちらも99.0%以上であった。
次いで、AIBNを0.50gおよびBAを146.0g、トルエン溶媒150gをプレポリマー溶液全量に加え、80℃で更に12時間反応させた。1H-NMRから算出した2段目モノマーBAの転化率は99.5%以上であった。
更に、AIBNを0.15gおよびFA513Mを24.3g、トルエン溶媒50gを混合し、80℃で6時間反応させた。1H-NMRから算出した3段目モノマーFA513Mの転化率はどちらも99.5%以上であった。その後、室温まで冷却後、濾過、洗浄および乾燥によってA-B-Aトリブロック構造を有するブロック共重合体(C9)を得た。目的物の生成は、1H-NMRより確認した。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)
カップリング反応によりブロック共重合体(J1)を合成した。具体的には、窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、CP-Iを0.46g、ヨウ素を0.002g、テトラブチルアンモニウムヨージド6.2g、FA513Mを60.0g、トルエン溶媒50g中で、75℃で12時間反応させることにより重合体ブロック(A)を得た。1H-NMRから算出したFA513Mの転化率はどちらも100%であった。次いで、BA140.0gをプレポリマー溶液全量に加え、110℃で24時間反応させ、室温まで冷却後、アルミナ粉(Aldrich社製)を添加し、1時間攪拌した後、濾過、洗浄、および乾燥によってA-Bジブロックポリマーを得た。1H-NMRから算出したBAの転化率はどちらも100%であった。
(実施例F14)
ATRP法のカップリング反応によりブロック共重合体(C14)を合成した。具体的には、窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、ATRPの水酸基開始剤として、HO-BriBuを0.51g、臭化銅(I)1.2g、N,N,N’、N’’,N’’-ペンタメチルジエチレントリアミン1.6g、およびBAを142g、トルエン溶媒150gを混合し、90℃で20時間反応させてプレポリマーを得た。1H-NMRから算出したBAの転化率は99.5%以上であった。
次いで、FA513M 58g、トルエン溶媒50gをプレポリマー溶液全量に加え、90℃で10時間反応させた。その後、室温まで冷却後、アルミナ粉(Aldrich社製)を添加し、1時間攪拌した後、濾過、洗浄および乾燥によって重合体ブロック(B)の主鎖中にカルボキシル基を含み、重合体ブロック(B)の末端(開始剤残基)に水酸基を有するA-Bジブロックポリマーを得た。1H-NMRから算出したFA513Mの転化率は99.5%以上であった。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)。
実施例F14と同様のATRP法のカップリングにより、単量体、カップリング剤を表2に示す条件で重合し、[A-B]qXの星形構造を有するブロック共重合体(C17)、(J8)を得た。
カップリング反応によりブロック共重合体(C15)を合成した。具体的には、窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、CP-Iを0.46g、ヨウ素を0.002g、テトラブチルアンモニウムヨージド6.2g、FA513M60.0gをトルエン溶媒50g中で、75℃で12時間反応させることにより重合体ブロック(A)を得た。1H-NMRから算出したFA513Mの転化率はどちらも100%であった。次いで、BA140.0gをプレポリマー溶液全量に加え、110℃で24時間反応させ、室温まで冷却後、アルミナ粉(Aldrich社製)を添加し、1時間攪拌した後、濾過、洗浄、および乾燥によってA-Bジブロックポリマーを得た。1H-NMRから算出したBAの転化率は100%であった。
得られたジブロックポリマー100.0gに2-アミノエタノール6.2g、ジグライム150.0gを添加し、110℃で8時間反応させ、室温まで冷却した後、濾過、洗浄、および乾燥によって重合体ブロック(B)の末端に水酸基を有するA-Bジブロックポリマーを得た。
1H-NMR(400MHz、重クロロホルム溶媒)δppm:4.42、4.03、2.28、2.04、1.88、1.75、1.59、1.35、1.25、0.95
(シグナルは全てブロード)
実施例F15と同様のRCMP法のカップリングにより、単量体、カップリング剤を表2に示す条件で重合し、[A-B]qXの星形構造を有するブロック共重合体(C)を得た。
(実施例F19)
実施例F8で合成したブロック共重合体(C8)を末端変換し、末端官能基を有するブロック共重合体(C19)を合成した。具体的には、窒素ガス導入管、撹拌機を備えた2Lフラスコに、実施例F8で合成したブロック共重合体(C8)を200g、DMF溶媒318g、4-アミノ-1-ブタノールを12.5g加え、室温で24時間攪拌を行った。
その後、濾過、洗浄および乾燥によってA-B-Aトリブロック構造の末端に官能基を有するブロック共重合体(C19)を得た。
実施例F19と同様の手順でブロック共重合体(C)の末端に官能基を有するブロック共重合体(C)を得た。末端変換剤として、実施例F20では2-アミノエタンチオールを、実施例F21では1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを用いた。
各実施例および比較例に係るブロック共重合体(C)100部を300mLのトルエンに加えた樹脂組成物を得た。そして、各実施例および比較例に係る樹脂組成物をそれぞれ、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート製剥離性フィルム基材(製品名「SP-PET382050」、リンテック社製)の剥離処理面上に、ドクターブレードにて乾燥後の厚みが65μmと、1mmの2水準のサンプルが得られるようにそれぞれ塗工した。次いで、25℃で100時間乾燥することにより、樹脂フィルムを有する2水準の積層体を得た。
厚み1mmの各実施例および比較例に係る積層体を、250mm×700mmのサイズにカットし、ダンベル3号型試験片を繰り出すことで試験片αを作製した。そして、試験片αから剥離性フィルムを剥がした樹脂フィルムに対し、引張試験機(RTG1310、AND社製)を用いて、23℃湿度50%、サンプルのチャック間距離40mm、速度50mm/minの条件で引張試験を行うことにより、樹脂フィルムの引張破断強度および引張破断伸度を測定した。測定によって樹脂フィルムが破断した際の強度を引張破断強度とし、破断した際の伸度を引張破断伸度とした。引張破断強度においては0.05MPa未満をNG、引張破断伸度においては100%未満をNGとした。NGの基準値は、以下の評価でも同様とした。
引張試験機に恒温槽(TCE-N300-CE、島津製作所製)を取り付け、120℃で引張破断伸度を測定した以外は、室温引張試験と同様のサンプル作成方法、測定方法で試験を行った。測定によって樹脂フィルムが破断した際の強度を引張破断強度とし、破断した際の伸度を引張破断伸度とした。評価結果を表4に示す。
厚みが65μmの各実施例および比較例に係る積層体を、25mm×100mmのサイズにカットして試験片βを作製した。次いで、JIS G4305及びJIS B0601に準拠したステンレス板(SUS304、表面仕上げBA、表面粗さ50nm、サイズ50mm×125mm)上に、樹脂フィルムがステンレス板と対向した状態となるように載せた。次いで、試験片β上に300mm/分の速度で2kgのゴムローラーを一往復させることにより、試験片βとステンレス板とを貼り合わせた。更に、試験片βから剥離性フィルムを剥がし、JIS Z0237に準じて、樹脂フィルム上に厚さ25μmのJIS C2318に規定するポリエチレンテレフタレートフィルムを重ねた。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に300mm/分の速度で2kgのゴムローラーをもう一往復させることにより、180°剥離強度評価用サンプルγを得た。続いて、引張試験機(RTG1250A、AND社製)を用いて、温度23℃、湿度50%で24時間静置し、JIS Z0237に準じて、剥離速度300mm/分で180°方向の引張試験を行い、180°剥離強度(N/25mm)を測定した。
試験片βを、上述するJIS G4305及びJIS B0601に準拠したステンレス板に25mm×25mmで貼り付け、試験片β上に300mm/分の速度で2kgのゴムローラーを一往復させることにより、試験片βとステンレス板とを貼り合わせた。更に、試験片βから剥離性フィルムを剥がし、JIS Z0237に準じて、樹脂フィルム上に厚さ25μmのJIS C2318に規定するポリエチレンテレフタレートフィルムを重ねた。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に300mm/分の速度で2kgのゴムローラーをもう一往復させた。その後、温度23℃、湿度50%で24時間静置し、保持力評価用サンプルδを作製した。そして、保持力評価用サンプルδを120℃、相対湿度50%の条件で、荷重1kgの重りを吊り下げ、おもりが落下するまでの時間から求めた。20時間後で重りが落下しない場合は、20時間後の試験片βとステンレス板のずれ距離を測長し、以下の基準により保持力を評価した。また、150℃の保持力試験の場合は、試験温度を150℃、荷重を200gに変えた以外は120℃の保持力試験の場合と同様の条件で試験を行った。
+++:ずれ距離が1.0mm以下。
++:ずれ距離が1.0mmを超えて、10.0mm以下。
+:ずれ距離が10.0mmを超えて、20.0mm以下。
NG:ずれ距離が20.0mmを超える、又は重りが落下。
<樹脂組成物および粘着フィルムの作製および特性評価>
表5に示す各ブロック共重合体(C)100部に、表5に示す配合量で架橋剤・添加剤を加えることにより、実施例Y1~Y15および比較例Y1~Y2に係る樹脂組成物(D)を得た。また、これらの樹脂組成物から粘着層を形成し、膜物性および粘着物性を評価した。評価結果を表5に示す。
各実施例および比較例に係る架橋剤としては、IPDIヌレート(イソホロンジイソシアネートのヌレート体、Degussa AG社製、T1890)、アルミキレートD(アルミニウム有機化合物、川研ファインケミカル社製)を用いた。
また、粘着付与剤としては、KE311(パインクリスタルKE311( 荒川化学工業社製))、ME-D(パインクリスタルME-D(荒川化学工業社製))を用いた。
各実施例および比較例に係る樹脂組成物をそれぞれ厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート製剥離性フィルム基材(製品名「SP-PET382050」、リンテック社製)の剥離処理面上に、ドクターブレードにて乾燥後の厚みが65μmと、1mmになるように塗工した2水準のフィルムを準備した。そして、両フィルムを25℃で100時間乾燥することにより各膜厚の粘着層(樹脂フィルム)を有する積層体である粘着フィルムを得た。
上述した樹脂フィルムと同様の方法により上記樹脂組成物(D1)で形成した厚み1mmの粘着層を用いて測定した。具体的には、ポリエチレンテレフタレート製剥離性フィルム基材を剥離してから試験を行った。
ゲル分率は、ポリエチレンテレフタレート製剥離性フィルム基材を剥離した粘着層に対し、トルエン浸漬前、およびトルエンに室温下で24時間浸漬した後、80℃で5時間乾燥した後の質量をそれぞれ求め、下記の式から求めた。
ゲル分率(%)=[A/B]×100
A:粘着層のトルエン浸漬後における乾燥質量(トルエンの質量は含まない)
B:粘着層のトルエン浸漬前の質量
粘着フィルムの粘着層に対し、上述した樹脂フィルムと同様の方法により上記樹脂組成物(D1)で形成した厚み65μmの粘着層(フィルム)を用いて測定した。
また、以下の基準により粘着層の保持力を評価した。樹脂フィルムと同様の方法により120℃、150℃での保持力を測定した。
+++:ずれ距離が1.0mm以下。
++:ずれ距離が1.0mmを超えて、10.0mm以下。
+:ずれ距離が10.0mmを超えて、20.0mm以下。
NG:ずれ距離が20.0mmを超える、又は重りが落下する。
3、7:重合開始剤、
4:触媒、
5、8:重合体
9、10:ジブロック構造、
11:カップリング剤
6、12:構造体、
Claims (12)
- エチレン性不飽和単量体に由来する構造単位を主体とするブロック共重合体(C)であって、
数平均分子量が5,000~500,000であり、
ブロック構造が、重合体ブロックA-重合体ブロックB-重合体ブロックAのトリブロック構造、または[重合体ブロックA-重合体ブロックB]qXの星形ブロック構造であり、
但し、qは2以上6以下の整数であり、前記トリブロック構造の場合の重合体ブロックBのガラス転移温度が20℃未満であり、前記重合体ブロックAのガラス転移温度は120℃以上であり、前記星形ブロック構造の場合の[重合体ブロックB]qXのガラス転移温度が20℃未満であり、
Xは開始剤残基および/またはカップリング剤残基、またはその誘導体であり、
ブロック共重合体(C)の120℃での引張試験の破断時の強度が0.1MPa以上かつ伸度が400%以上であり、
前記重合体ブロックAが、ジシクロペンタジエン骨格を有する単量体由来の構成単位を含有する、ブロック共重合体(C)。 - ジシクロペンタジエン骨格を有する単量体が、メタクリル酸エステル単量体および/またはアクリル酸エステル単量体を含む請求項1に記載のブロック共重合体(C)。
- ジシクロペンタジエン骨格を有する単量体が下記一般式(1)および(2)で示される単量体からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項2に記載のブロック共重合体(C)。
一般式(1)
一般式(2)
[式中、実線と点線の二重線は、それぞれ独立に二重結合または単結合を表し、R1は水素原子またはメチル基、Lは水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選ばれる任意の組合せからなる分子量400以下の連結基をそれぞれ表す。] - ブロック共重合体(C)が、水酸基、およびカルボキシ基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有する請求項1~3いずれか記載のブロック共重合体(C)。
- ブロック共重合体(C)の全重量に対して、重合体ブロックAの含有率が、1~50質量%であることを特徴とする請求項1~4いずれか記載のブロック共重合体(C)。
- 重合体ブロックAが、メタクリル酸エステル由来の構造単位を50質量%以上含み、重合体ブロックBがアクリル酸エステル由来の構造単位を70質量%以上含むことを特徴とする、請求項1~5いずれかに記載のブロック共重合体。
- 分子量分布(Mw/Mn)が2.5以下であることを特徴とする請求項1~6いずれか記載のブロック共重合体(C)。
- リビングラジカル重合法により得られたことを特徴とする、請求項1~7いずれかに記載のブロック共重合体。
- リビングラジカル重合法が、ヨウ素移動重合であることを特徴とする、請求項8記載のブロック共重合体。
- 請求項1~9いずれかに記載のブロック共重合体を含有する樹脂組成物。
- 請求項1~10いずれかに記載のブロック共重合体と架橋剤とを含有する樹脂組成物。
- 請求項10または11いずれかに記載の樹脂組成物から形成された粘着層を有する粘着フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019232589A JP7380185B2 (ja) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019232589A JP7380185B2 (ja) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021100996A JP2021100996A (ja) | 2021-07-08 |
| JP7380185B2 true JP7380185B2 (ja) | 2023-11-15 |
Family
ID=76651206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019232589A Active JP7380185B2 (ja) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7380185B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102024110804B4 (de) * | 2024-04-17 | 2026-04-02 | Tesa Se | Haftklebmasse, ihre Verwendung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008169290A (ja) | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Kuraray Co Ltd | 耐熱性に優れる重合体 |
| WO2017073287A1 (ja) | 2015-10-27 | 2017-05-04 | 東亞合成株式会社 | ブロック共重合体及びその製造方法、並びに、その利用 |
| WO2018151034A1 (ja) | 2017-02-14 | 2018-08-23 | 東亞合成株式会社 | 粘着剤組成物及びその製造方法 |
-
2019
- 2019-12-24 JP JP2019232589A patent/JP7380185B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008169290A (ja) | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Kuraray Co Ltd | 耐熱性に優れる重合体 |
| WO2017073287A1 (ja) | 2015-10-27 | 2017-05-04 | 東亞合成株式会社 | ブロック共重合体及びその製造方法、並びに、その利用 |
| WO2018151034A1 (ja) | 2017-02-14 | 2018-08-23 | 東亞合成株式会社 | 粘着剤組成物及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| ANA CASTRO-HERNANDEZ, et al.,Thermo/pH Responsive Star and Linear Copolymers Containing a Cholic Acid-Derived Monomer, N-Isopropylacrylamide and Acrylic Acid: Synthesis and Solution Properties,Poly,ers,2019年11月11日,11,1859 |
| KENJI TAKADA, et al.,Synthesis of Homopolymers, Diblock Copolymers, and Multiblock Polymers by Organocatalyzed Group Transfer Polymerization of Various Acrylate Monomers,Macromolecules,2015年,48,511-519 |
| SHINGO KOBAYASHI, et al.,Synthesis and Properties of New Thermoplastic Elastomers Containing Poly[4-(1-adamantyl) stylene] Hard Segments,Macromolecules,2008年,41,5502-5508 |
| WEI LU, et al.,All acrylic-based thermoplastic elastomers with high upper service temperature and superior mechanical properties,The Royal Society of Chemistry,2017年,8,5741-5748 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021100996A (ja) | 2021-07-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6945692B2 (ja) | ブロック共重合体、組成物およびフィルム | |
| KR101824275B1 (ko) | 아크릴계 점착제 조성물 및 아크릴계 점착 테이프 | |
| WO2001046328A1 (en) | Acrylic polymer compositions, acrylic pressure-sensitive adhesion tapes and process for producing the same | |
| CN103013398A (zh) | 再剥离用粘合剂组合物、再剥离用粘合剂层以及粘合片 | |
| JP2017095659A (ja) | 粘着剤組成物、粘着シートおよび画像表示装置 | |
| TWI491694B (zh) | A photohardenable adhesive composition, a photohardenable adhesive layer, and a photohardenable adhesive sheet | |
| JP2017095660A (ja) | 粘着剤組成物、その製造方法、粘着シートおよび画像表示装置 | |
| KR20160142286A (ko) | 측쇄 결정성 폴리머, 감온성 점착제, 감온성 점착 시트 및 감온성 점착 테이프 | |
| JP5671500B2 (ja) | 樹脂組成物、粘着剤および重合体の製造方法 | |
| CN109312139A (zh) | 树脂组合物、树脂层、以及层叠片 | |
| CN102146269B (zh) | 粘合剂组合物、粘合片、以及粘合片的制造方法 | |
| CN102648261A (zh) | 光固化型粘合粘接剂组合物、光固化型粘合粘接剂层、和光固化型粘合粘接片 | |
| TW201425507A (zh) | 光學薄膜用黏著劑組成物及表面保護薄膜 | |
| US8124706B2 (en) | Adhesive composition comprising end-reactive acrylic polymer and uses thereof | |
| JP7380185B2 (ja) | ブロック共重合体、樹脂組成物および粘着フィルム | |
| TW202319498A (zh) | 黏著片材 | |
| KR20170089765A (ko) | 점착제 조성물, 점착 부재, 광학 부재, 및 전자 부재 | |
| JP7256809B2 (ja) | 粘着剤組成物および粘着テープ | |
| CN110546223B (zh) | 粘接剂及结构体 | |
| CN112840005A (zh) | 粘合剂组合物、包含其的光学膜、以及均包含其的有机电子元件和显示装置 | |
| TW202405117A (zh) | 黏著片材 | |
| JP7372544B2 (ja) | 粘着剤組成物 | |
| JP7319572B1 (ja) | 粘着剤組成物 | |
| JP5791235B2 (ja) | 光硬化型粘接着剤組成物、光硬化型粘接着剤層、および光硬化型粘接着シート | |
| WO2026079290A1 (ja) | 粘着剤組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220805 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230530 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230706 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231016 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7380185 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |