JP7386135B2 - プラズマ照射装置 - Google Patents

Description

本発明は、プラズマ照射装置に関するものである。

特許文献１には、沿面放電型のプラズマ放電を行うプラズマ表面処理装置が開示されている。この装置は、反応部構成体にプラズマ生成用ガスの流路が設けられており、この流路の壁面に沿面放電用電極が配置される。沿面放電用電極は、プラズマ生成用ガスの進行方向の側面に配置される放電電極と誘電体と介して放電電極と対向する誘導電極とによって構成される。

特開２００５－５０７２３号公報

沿面放電型のプラズマ照射装置は、放電電極又は接地電極の一方が直接又は他部材を介して流路内の空間に面するように沿面放電部が構成されるが、流路を流れるガスは必ずしも沿面放電部側に効率的に供給されるというわけではなかった。つまり、ガスの流れ方によっては、流路のうち沿面放電部から遠い側に逃げた形でガスの流量が多量に流れることもあり、このような場合にはプラズマ放電が効率的になされない虞があった。

本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、沿面放電部を備えるプラズマ照射装置において、沿面放電部側に効率的にガスを供給しながら沿面放電を行い得る技術を提供することを目的とする。

本発明の一つであるプラズマ照射装置は、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路内の前記空間に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備えるプラズマ照射装置であって、
前記流路は、少なくとも前記沿面放電部が設けられた領域において第１方向に沿ってガスを流すように配置され、
前記第１方向と直交する第２方向において、前記空間の一方側に前記沿面放電部が配置されており、
前記沿面放電部の位置で前記第１方向と直交する方向に切断した切断面での前記流路の内周面は、前記第２方向において前記空間の前記一方側に配置された第１面よりも他方側に配置された第２面のほうが狭くなっており且つ前記第１方向及び前記第２方向と直交する第３方向において前記空間の両側にそれぞれ配置された第３面及び第４面の前記第３方向の間隔が前記第２方向の少なくとも一部領域で前記第２面側に向かって狭くなっている。

上記のプラズマ照射装置は、流路内で第１方向に沿ってガスが流れる際に、第２方向の他方側（沿面放電部とは反対側）に逃げるガスの量を抑え、一方側（沿面放電部側）を流れるガスの量を増やすことができる。よって、流路内において沿面放電部付近の内面近傍にガスが供給されやすくなり、沿面放電がより効率的に行われやすくなる。

上記のプラズマ照射装置では、導入口からの沿面放電部までの少なくとも一部範囲において、第１方向と直交する切断面での流路の内周面は、第１面よりも第２面のほうが狭くなっていてもよく、第３面及び第４面の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域で第２面側に向かって狭くなっていてもよい。
このように、導入口からの沿面放電部までの少なくとも一部範囲において第１面側よりも第２面側のほうが狭くなっていれば、導入口から入り込んだガスが沿面放電部付近に達するまでに第２方向一方側に導かれやすくなる。よって、沿面放電部付近の内面近傍にガスが一層供給されやすくなり、沿面放電がより一層効率的に行われやすくなる。

上記のプラズマ照射装置において、放出口の内縁を第１方向と直交する仮想平面に投影したときの第１の環状図形が、沿面放電部の位置で第１方向と直交する方向に切断した切断面での流路の内周面を仮想平面に投影したときの第２の環状図形の内部に配置される位置関係となっていてもよい。
このように構成されていれば、沿面放電部付近で第１方向に沿って流れるガスが放出口に向かってより大きな流速で円滑に流れやすくなる。よって、沿面放電部で発生したプラズマが放出口からより一層効率的に排出されやすくなる。

上記のプラズマ照射装置は、導入口の開口の第２方向の高さよりも放出口の開口の第２方向の高さのほうが小さくてもよく、流路の少なくとも一部領域において、放出口に向かって空間の第２方向の高さが次第に小さくなる高さ縮小部を有していてもよい。
このように構成されていれば、高さ縮小部によってガスの流れを高さ方向において絞ることができ、放出口側のガスの流れをより速めることができる。よって、沿面放電部で発生したプラズマがより一層効率的に排出されやすくなる。

上記のプラズマ照射装置において、誘電体層は、第２方向において空間の一方側に配置される第１誘電体層と空間の他方側に配置される第２誘電体層とを有していてもよい。更に、第１誘電体層の一部を介在させて放電電極と接地電極とが互いに対向して配置されていてもよく、第１誘電体層の第２方向の厚さよりも第２誘電体層の第２方向の厚さのほうが小さくてもよい。
このプラズマ照射装置は、厚さが相対的に大きい第１誘電体層によって放電電極が外部へ及ぼす電気的な悪影響を抑えることができ、沿面放電への影響が比較的小さい第２誘電体層の厚さを相対的に小さくしているため、サイズの低減が図られる。よって、上記プラズマ照射装置は、外部への電気的な悪影響を抑制する効果とサイズを低減する効果を両立することができる。

本発明は、沿面放電部側に効率的にガスを供給しながら沿面放電を行うことができる。

図１は、第１実施形態のプラズマ照射装置を備える先端デバイス及び手術用装置を概略的に示す概略図である。 図２は、図１の先端デバイスにおける作用部付近の一部を拡大して概念的に示す拡大図である。 図３は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を概念的に示す斜視図である。 図４は、図３の構造体を三分割した構成を概念的に示す分解斜視図である。 図５は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を第３方向（幅方向）中心位置にて第３方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図６は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を第２方向（厚さ方向）中心位置にて第２方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図７は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を図６のＡ－Ａ位置（沿面放電部の位置）にて第１方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図８は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を図６のＢ－Ｂ位置（導入口近傍）にて第１方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図９は、第１実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を図６のＣ－Ｃ位置（導入口近傍）にて第１方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図１０は、放出口の内縁を第１方向と直交する仮想平面に投影したときの第１の環状図形と、沿面放電部の位置で第１方向と直交する方向に切断した切断面での流路の内周面を上記仮想平面に投影したときの第２の環状図形と、を示す説明図である。 図１１は、第２実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を第３方向（幅方向）中心位置にて第３方向と直交する方向に切断した切断面の断面構成を概略的に示す断面概略図である。 図１２は、第２実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を三分割した構成を概念的に示す分解斜視図である。 図１３は、第２実施形態のプラズマ照射装置を構成する構造体を概念的に示す斜視図である。 図１４は、第１実施形態と同様のプラズマ照射装置を図１とは異なるプラズマ照射システムに適用した例を示す説明図である。

＜第１実施形態＞
１－１．手術用装置の概要
図１で示される手術用装置１は、施術対象の生体組織に対して切開、剥離又は止血を行い得る処置装置として構成されている。手術用装置１は、先端デバイス３と、超音波振動部１２（駆動部）を制御する装置である制御装置５と、先端デバイス３内のガス誘導路３０（図５）に対してガスを供給するガス供給装置７と、プラズマ照射装置２０に対して電圧を印加し得る電源装置９とを備える。

制御装置５は、超音波振動部１２に対して超音波振動を発生させるための電気信号を与える装置である。制御装置５は、先端デバイス３と制御装置５との間に介在する図示しない可撓性の信号ケーブルを介して超音波振動部１２に電気信号を与え得る構成となっている。

ガス供給装置７は、ヘリウムガスやアルゴンガスなどの不活性ガス（以下、単にガスともいう）を供給する装置である。ガス供給装置７は、例えば、先端デバイス３とガス供給装置７との間に介在する可撓性の通気部材（図１では図示を省略）を介して後述するガス誘導路３０に不活性ガスを供給する。ガス供給装置７は、例えばボンベ等から供給される高圧ガスを減圧するレギュレータと、流量制御を行う制御部とを含む。

電源装置９は、高周波電圧発生回路１１に電力を供給する装置であり、昇圧トランスなどを含む回路である。高周波電圧発生回路１１は、後述する放電電極４２（図５）と接地電極４４（図５）との間に所望の電圧を印加する装置であり、接地電極４４をグラウンド電位に保ちつつ、放電電極４２と接地電極４４との間に所定周波数の交流電圧を印加する。高周波電圧発生回路１１は、高周波数（例えば、２０ｋＨｚ～３００ｋＨｚ程度）の高電圧（例えば、振幅が０．５ｋＶ～１０ｋＶの高電圧）を生成し得る回路であれば、公知の様々な回路を採用し得る。なお、高周波電圧発生回路１１が発生させる高電圧の周波数は、一定値に固定された周波数であってもよく、変動してもよい。また、高周波電圧発生回路１１が接地電極４４と放電電極４２との間に印加する電圧は、周期的に変化する電圧であればよく、正弦波の交流電圧であってもよく、非正弦波（例えば、矩形波、三角波など）の交流電圧であってもよい。

図１では、高周波電圧発生回路１１がケース体１４の内部に設けられた先端デバイス３及び手術用装置１が例示されているが、高周波電圧発生回路１１がケース体１４の外部（例えば、先端デバイス３の外部）に設けられていてもよい。

先端デバイス３は、手術を行う術者によって把持されて使用される装置であり、主に、ケース体１４、把持器具１５、プラズマ照射装置２０、超音波振動部１２、などを備える。ケース体１４、把持器具１５、プラズマ照射装置２０、及び超音波振動部１２は、使用者に把持される把持ユニットとして一体的に構成されており、可撓性を有する部材を介して不活性ガスや電力が供給されるようになっている。

ケース体１４は、円筒状に構成され所定方向に延びており、主として、基部１４Ｂと、基部１４Ｂと一体的に構成されるとともに所定方向に延びる円筒状の延出部１４Ａとを備える。基部１４Ｂの内部には、超音波振動部１２などが収容され、延出部１４Ａにはプラズマ照射装置２０が固定又は一体化されている。

超音波振動部１２は、公知の超音波振動子として構成され、上述した制御装置５によって所定の電気信号が与えられたときに駆動して超音波振動を発生させ、後述する作用部材１６に対して超音波振動を伝達するように動作する。超音波振動部１２は、駆動部の一例に相当し、作用部１６Ａ付近において生体組織を切開、剥離又は熱凝固止血する作用が生じるように作用部材１６を駆動する。

把持部６０は、先端デバイス３を使用する使用者によって把持される部分であり、公知の可動機構を採用した可動部材変位機構として構成されている。把持部６０は、ケース体１４の基部１４Ｂに固定されてケース体１４と一体化された固定把持部６２と、固定把持部６２に対して相対移動可能に取り付けられる軸状の作用部材６４とによって構成されている。

把持器具１５は、生体組織を挟んで把持するように使用し得る器具であり、作用部材１６と作用部材６４とを有する。

作用部材１６は、軸状の部材であり、生体組織に作用する作用部１６Ａを自身の先端側に備える部材である。作用部１６Ａは、作用部材１６の先端部付近において固定刃として機能する部位である。作用部材１６は、作用部１６Ａと、超音波振動部１２から与えられた振動を作用部１６Ａに伝達する軸部１６Ｂとを有し、超音波振動部１２で発生した振動が軸部１６Ｂを介して作用部１６Ａに伝達されることにより作用部１６Ａが振動する。作用部材１６は、作用部１６Ａが生体組織に接近又は接触している状態で作用部１６Ａが振動することにより生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせるように動作する。

作用部材６４は、可動部材として機能する軸状の部材であり、生体組織に作用する作用部６４Ａを自身の先端側（一端側）に備える部材である。作用部６４Ａは、可動刃として機能する部位である。作用部材６４は、自身の後端側（他端側）の端部付近に可動把持部６４Ｃを備えている。把持器具１５では、軸状の作用部材６４が延出部１４Ａの先端部付近の回動軸Ｚを中心として回動可能とされ、作用部１６Ａと作用部６４Ａとが接近及び離間自在に構成されている。把持器具１５は、可動把持部６４Ｃを固定把持部６２側に近づけようとする操作がなされることに応じて作用部６４Ａ（可動刃）が作用部１６Ａ（固定刃）に近づくように作用部材６４が回動する。逆に、可動把持部６４Ｃを固定把持部６２から離間させようとする操作がなされることに応じて作用部６４Ａが作用部１６Ａから離れるように作用部材６４が回動する。

このように構成された先端デバイス３は、超音波振動を用いた生体組織の切開処置、剥離処置、止血処置を行いうる。例えば、作用部１６Ａ（固定刃）と作用部６４Ａとによって生体組織が挟み込まれたときに作用部１６Ａに超音波振動が伝達されることにより生体組織を切除することができる。また、超音波振動が伝達される作用部１６Ａを生体組織に接触させて摩擦熱を生じさせ、止血を行うこともできる。作用部材１６に対して超音波振動を与えながら、又は与えずに、作用部１６Ａと作用部６４Ａとによって生体組織を挟持し、剥離処置を行うこともできる。このように、先端デバイス３では、超音波振動による切開、剥離又は熱凝固止血が可能となっており、更に、後述するプラズマ照射装置２０からの低温プラズマの照射によって低侵襲な止血を併用することもできる。

１－２．プラズマ照射装置の基本構成
図１に示されるように、プラズマ照射装置２０は先端デバイス３の一部として組み込まれ、先端デバイス３の内部で誘電体バリア放電を生じさせる装置として構成されている。なお、図１の例では、プラズマ照射装置２０は、保持部１８によって保持された構成でケース体１４に固定されている。図２に示されるように、プラズマ照射装置２０の内部で発生した低温プラズマＰは、作用部材１６の先端部に設けられた作用部１６Ａ付近に照射される。なお、図２では、作用部１６Ａと作用部６４Ａとが接触するときの作用部材６４の位置が二点鎖線によって概念的に示されている。

図３で示されるように、プラズマ照射装置２０は、所定の立体形状（例えば、板状且つ直方体状）として構成された構造体２０Ａを有し、構造体２０Ａの長手方向の端部に形成された放出口３４から低温プラズマＰを照射するように構成されている。

図４にて概念的に示されるように、構造体２０Ａは、厚さ方向中央部に誘電体層５３が設けられ、誘電体層５３よりも厚さ方向一方側に誘電体層５４が設けられている。更に、構造体２０Ａは、誘電体層５３よりも厚さ方向他方側に誘電体層５１及び誘電体層５２が設けられている。誘電体層５１及び誘電体層５２によって構成された誘電体領域の内部には、放電電極４２及び接地電極４４が埋め込まれている。図４では、構造体２０Ａが３分割された構成が分解斜視図として概念的に示されているが、実際の構成は、誘電体層５１、誘電体層５２、誘電体層５３、及び誘電体層５４の各々が、一体的な誘電体部５０（図７）の一部として構成されている。

図５に示されるように、構造体２０Ａは、ガス誘導路３０と、沿面放電部４０とを備える。

ガス誘導路３０は、ガスを導入する導入口３２と、ガスを放出する放出口３４と、導入口３２と放出口３４との間に設けられる流路３６と、を有する。放出口３４は、流路３６の先端側において流路３６を流れたガスを放出するように機能する。流路３６は、先端側に配された放出口３４に向かってガスを流すように機能し、少なくとも沿面放電部４０が設けられた領域において第１方向に沿ってガスを流すように配置される。ガス誘導路３０は、先端デバイス３の外部に設けられたガス供給装置７（図１）から管路７Ａを介して供給される不活性ガスを導入口３２から導入し、導入口３２側から導入されたガスを流路３６内の空間を通して放出口３４に誘導する誘導路となっている。なお、図５では、導入口３２に向けてガスを供給するための管路７Ａが二点鎖線によって概念的に示されている。ガス誘導路３０は、放出口３４から作用部１６Ａ（図２）側にガスを放出する流路構成となっており、ガスと共に低温プラズマＰ（図２）を放出口３４から作用部１６Ａ側に放出するように機能する。

図５で示されるように、本明細書では、プラズマ照射装置２０においてガス誘導路３０が延びる方向が第１方向であり、第１方向と直交する方向のうち誘電体部５０の厚さ方向が第２方向であり、第１方向及び第２方向と直交する方向が第３方向（図７）である。図５の構成では、誘電体部５０と放電電極４２と接地電極４４とが一体的に設けられた構造体２０Ａの長手方向が第１方向である。そして、構造体２０Ａを第１方向と直交する平面方向に切断した切断面（図７）での構造体２０Ａの短手方向が第２方向であり、この切断面の長手方向が第３方向（図７）である。第３方向（図７）は構造体２０Ａの幅方向であり、第２方向は構造体２０Ａの高さ方向又は厚さ方向である。なお、以下の説明では、第１方向において放出口３４側が構造体２０Ａの先端側であり、第１方向において導入口３２側が構造体２０Ａの後端側である。

図５で示されるように、構造体２０Ａは、所定方向（第１方向）に沿ってガスを流すようにガス誘導路３０が構成され、この所定方向（第１方向）と直交する第２方向を積層方向とする構成で放電電極４２と接地電極４４と誘電体部５０とが積層された構成をなす。

沿面放電部４０は、誘電体層５１と、誘電体層５１を介在させて互いに対向して配置される放電電極４２及び接地電極４４と、を有する。沿面放電部４０は、放電電極４２と接地電極４４との電位差に基づく電界をガス誘導路３０内で発生させて沿面放電による低温プラズマ放電を発生させるように機能する。具体的には、沿面放電部４０は、接地電極４４の電位を一定の基準電位（例えば、０Ｖのグラウンド電位）に保ちつつ、周期的に変化する電圧が放電電極４２に印加されることに応じて流路３６内で沿面放電を発生させ、低温プラズマを生じさせる。

沿面放電部４０は、放電電極４２又は接地電極４４の一方が直接又は他部材を介して流路３６の空間に面しつつ、周期的に変化する電圧が放電電極４２に印加されることに応じて流路３６内で沿面放電を発生させるものである。なお、「放電電極４２又は接地電極４４の一方が直接流路３６に面する構成」とは、放電電極４２又は接地電極４４の一方が流路３６内の空間に露出し当該一方が流路の内壁の一部をなすような構成が該当する。また、「放電電極４２又は接地電極４４の一方が他部材を介して流路３６に面する構成」とは、放電電極４２又は接地電極４４のうちの一方が流路３６に近い位置に配置されるとともに当該一方の一部又は全部が他部材によって覆われる構成が該当する。このように他部材を介する構成では、当該他部材が流路の内壁の一部をなし、上記の「一方」の主面が流路３６に向いて配置される。なお、図５で示される構成は、放電電極４２が上記の「一方」に該当し、「放電電極４２が他部材を介して流路３６に面する構成」であるが、図５では、他部材の一例に相当する誘電体層５２が省略された形で示されている（図６、図７参照）。

１－３．ガス誘導路及び沿面放電部の具体的構成
図６で示されるように、ガス誘導路３０を構成する流路３６は、第２方向（図５）両側及び第３方向両側が囲まれた空間が第１方向に続くように構成されている。流路３６は、第１方向に沿って延びる第１流路３６Ａと、第１流路３６Ａの下流側に設けられる第２流路３６Ｂと、第１流路３６Ａの上流側に設けられる第３流路３６Ｃとを備える。第１流路３６Ａは、構造体２０Ａにおいて第１方向の第１領域ＡＲ１に設けられている。第２流路３６Ｂは、構造体２０Ａにおいて第１方向の第２領域ＡＲ２に設けられ、縮幅流路３７Ａと一定流路３７Ｂとを備える。第３流路３６Ｃは、構造体２０Ａにおいて第１方向の第３領域ＡＲ３に設けられ、拡幅流路３８Ａと一定流路３８Ｂとを備える。図６では、第１方向において第１流路３６Ａが設けられる範囲が第１領域ＡＲ１として表され、第１方向において第２流路３６Ｂが設けられる範囲が第２領域ＡＲ２として表され、第１方向において第３流路３６Ｃが設けられる範囲が第３領域ＡＲ３として表されている。

図６で示される第１流路３６Ａは、第１方向における第１領域ＡＲ１のいずれの位置でも、第１方向と直交する切断面における自身の内壁面の形状がほぼ一定形状（図７）とされている。つまり、なお、第１流路３６Ａの内壁面の詳細については後述する。

図６のように、第２流路３６Ｂは、第１流路３６Ａと放出口３４との間において第１流路３６Ａよりも狭い幅で構成されている。第２流路３６Ｂにおいて縮幅流路３７Ａは、第１方向において第２領域ＡＲ２の一部領域ＡＲ２１にわたって設けられている。そして、縮幅流路３７Ａは、放出口３４に近づくにつれて内壁面の幅が次第に狭くなっており、第１方向と直交する切断面における自身の内壁面の大きさが放出口３４に近づくにつれて次第に小さくなっている。縮幅流路３７Ａの高さは、領域ＡＲ２１の全範囲にわたって一定である。一定流路３７Ｂは、第１方向において第２領域ＡＲ２の一部領域ＡＲ２２にわたって設けられ、第１方向における一部領域ＡＲ２２のいずれの位置でも、第１方向と直交する切断面における自身の内壁面の形状がほぼ一定形状（図９）とされている。なお、一定流路３７Ｂの内壁面の詳細については後述する。

図６のように、第３流路３６Ｃは、導入口３２と第１流路３６Ａとの間において第１流路３６Ａよりも狭い幅で構成されている。第３流路３６Ｃにおいて拡幅流路３８Ａは、第１方向において第３領域ＡＲ３の一部領域ＡＲ３１にわたって設けられ、第１流路３６Ａに近づくにつれて内壁面の幅が次第に大きくなっており、第１方向と直交する切断面における自身の内壁面の大きさが第１流路３６Ａに近づくにつれて次第に大きくなっている。拡幅流路３８Ａの高さは、領域ＡＲ３１の全範囲にわたって一定である。一定流路３８Ｂは、第１方向において第３領域ＡＲ３の一部領域ＡＲ３２にわたって設けられ、第１方向における一部領域ＡＲ３２のいずれの位置でも、第１方向と直交する切断面における自身の内壁面の形状がほぼ一定形状（図８）とされている。なお、一定流路３８Ｂの内壁面の詳細については後述する。

このように構成された流路３６に対して、接地電極４４は、流路３６に沿うように第１方向に直線状に延びており、第１方向の所定領域に配置されている。接地電極４４は、自身の先端側の一部が放電電極４２よりも放出口３４側に配置されている。接地電極４４の一部は、第１方向において第２流路３６Ｂの配置領域ＡＲ２に位置しており、図６の例では、接地電極４４の先端が縮幅流路３７Ａの先端（後述する一定流路３７Ｂの後端）よりも先端側に位置し、第１方向において一定流路３７Ｂの配置領域ＡＲ２２に位置している。接地電極４４の後端は、第１流路３６Ａの先端よりも後端側に位置し、放電電極４２の先端よりも後端側且つ放電電極４２の後端よりも先端側に位置している。接地電極４４は、第３方向において第１流路３６Ａの配置領域ＡＲ１内に自身の少なくとも一部（図６では自身の全部）が位置する。より具体的には、接地電極４４は、第３方向において一定流路３７Ｂの配置領域ＡＲ４内に自身の少なくとも一部（図６では自身の一部）が位置し、第３方向において放出口３４の形成領域内に自身の少なくとも一部（図６では自身の一部）が位置する。

図６のように、放電電極４２は、直線状に構成された複数本（具体的には、３本）の直線状電極部４２Ａを備え、これら直線状電極部４２Ａが流路３６に沿うように第１方向に直線状に延びており、各々の直線状電極部４２Ａがライン状の電極として機能する。各々の直線状電極部４２Ａは、一定の幅且つ一定の厚さの導体によって構成され、第１方向の所定領域に配置されている。複数本の直線状電極部４２Ａは後端部で連結され、互いに電気的に接続され、互いに同電位とされる。放電電極４２は、第１方向において第１流路３６Ａの配置領域（第１領域ＡＲ１）及び第３流路３６Ｃの配置領域（第３領域ＡＲ３）に跨るように位置する。即ち、放電電極４２の先端は、第１流路３６Ａの先端よりも後端側に位置し、放電電極４２の後端は第１流路３６Ａの後端よりも後端側（具体的には、第３流路３６Ｃの先端と後端との間）に位置する。更に、各々の直線状電極部４２Ａの幅（第３方向の長さ）は、接地電極４４の幅（第３方向の長さ）よりも小さくなっている。放電電極４２の全体は、第３方向において接地電極４４の配置領域ＡＲ５内に収まっている。

図７で示されるように、誘電体部５０は、誘電体層５１、誘電体層５２、誘電体層５３、誘電体層５４を備え、全体として中空状に構成されている。

誘電体層５１は、流路３６の空間よりも第２方向（厚さ方向）一方側に配置されるとともに接地電極４４が埋め込まれるように構成される。誘電体層５２は、セラミック材料によって放電電極４２を覆うように構成されたセラミック保護層であり、誘電体層５１よりも流路空間側において放電電極４２を覆うように配置される。誘電体層５１及び誘電体層５２は、流路３６における第２方向一方側の内壁部を構成する。図７の例では、放電電極４２及び接地電極４４が誘電体層５１を介して互いに対向している。放電電極４２は、誘電体層５２を介して流路３６に面しており、誘電体部５０内において第２方向の第１位置に第１の厚さで配置されている。接地電極４４は、誘電体部５０内において第２方向の第２位置に第２の厚さで配置されており、放電電極４２に対して流路３６とは反対側に設けられるとともに放電電極４２よりも流路３６から離れている。このような構成により、流路３６内の空間の第２方向一方側に沿面放電部４０が配置されている。

誘電体層５４は、流路３６の空間よりも第２方向（厚さ方向）他方側に配置され、流路３６における第２方向他方側の内壁部を構成する。誘電体層５３は、第２方向において誘電体層５１と誘電体層５４との間に配置され、流路３６における第３方向一方側の側壁部及び第３方向他方側の側壁部を構成する。このように、流路３６は、誘電体層５１、誘電体層５２、誘電体層５３、及び誘電体層５４により画成されている。

誘電体層５１、誘電体層５２、誘電体層５３、及び誘電体層５４の材料は、例えばアルミナなどのセラミック、ガラス材料や樹脂材料を好適に用いることができる。なお、機械的強度が高いアルミナを誘電体として用いることで、沿面放電部４０の小型化を図りやすくなる。

１－４．流路の詳細構成
図７のように、構造体２０Ａにおける沿面放電部４０の位置における第１方向（図６）と直交する方向の切断面での流路３６の内周面１１０は、流路３６の空間１０２の第２方向一方側に配置された第１面１１１よりも第２方向他方側に配置された第２面１１２のほうが狭い。第２方向一方側は、第２方向において空間１０２を基準とする沿面放電部４０側であり、第２方向他方側は、第２方向において空間１０２を基準とする沿面放電部４０とは反対側である。そして、上記切断面での内周面１１０は、第３方向において流路３６の空間１０２の両側にそれぞれ配置された第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域で第２面１１２側に向かって狭くなっている。図７の例では、上記切断面において、構造体２０Ａの内周面１１０の形状が台形状となるように構成されるとともに構造体２０Ａの外周面１２０の形状も台形状となるように構成されている。また、図７の例では、上記切断面における第３面１１３と第４面１１４との第３方向の間隔は、内周面１１０における第２方向の全領域で第２面１１２側に向かって狭くなっている。

具体的には、上述の第１方向（図６）における放電電極４２及び接地電極４４が配置される重なり領域ＡＲ１１（図６）のいずれの位置でも、第１方向と直交する方向に切断した切断面での流路３６の内周面１１０は、図７のような台形状の形状となっている。そして、上記重なり領域ＡＲ１１（図６）のいずれの位置でも上記切断面（第１方向と直交する方向の切断面）での上記内周面１１０は、第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭い。即ち、重なり領域ＡＲ１１（図６）における上記切断面では、第１面１１１の第３方向の幅Ｚａ１よりも第２面１１２の第３方向の幅Ｚａ２ほうが小さい。第２面１１２の第３方向の幅Ｚａ２は、第３面１１３の第２方向の大きさ（図７の例では高さＹａ２）よりも大きく、第４面１１４の第２方向の大きさ（図７の例では高さＹａ２）よりも大きい。更に、重なり領域ＡＲ１１（図６）のいずれの位置でも、上記切断面における上記内周面１１０は、第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域で第２面１１２側に向かって狭くなっている。具体的には、重なり領域ＡＲ１１（図６）のいずれの位置でも、第３面１１３及び第４面１１４が設けられた領域の全領域で、第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２面１１２側に向かって狭くなっている。

更に、重なり領域ＡＲ１１（図６）のいずれの位置でも、図７のように、第１方向と直交する方向の切断面での構造体２０Ａの外周面１２０は、空間１０２の第２方向一方側に配置された第１外面１２１よりも第２方向他方側に配置された第２外面１２２のほうが狭い。また、上記切断面での外周面１２０は、空間１０２の第３方向両側に配置された第３外面１２３及び第４外面１２４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（図７では、構造体２０Ａの第２方向全領域）で第２外面１２２側に向かって狭くなっている。このようにして、第２外面１２２側の小型化、軽量化が図られている。

更に、図７のように、少なくとも重なり領域ＡＲ１１（図６）において、構造体２０Ａの誘電体部５０（誘電体層）は、空間１０２に対して第２方向一方側に配置される第１誘電体層（誘電体層５１、誘電体層５２）と空間１０２に対して第２方向他方側に配置される第２誘電体層（誘電体層５４）とを有する。そして、第１誘電体層（具体的には、誘電体層５１の一部）を介在させて放電電極４２と接地電極４４とが互いに対向して配置されている。このような構成において、第１誘電体層（誘電体層５１及び誘電体層５２）の第２方向の厚さＴａ１よりも第２誘電体層（誘電体層５４）の第２方向の厚さＴａ２のほうが小さくなっている。なお、厚さＴａ１は、第１誘電体層（誘電体層５１及び誘電体層５２）のうちの空間１０２に面する部分（第１面１１１が設けられた部分）において第２方向の厚さが最も小さい位置での厚さである。また、厚さＴａ２は、第２誘電体層（誘電体層５４）のうちの空間１０２に面する部分（第２面１１２が設けられた部分）において厚さが最も小さい位置での厚さである。

図８には、一定流路３８Ｂ（図６）における導入口３２（図６）近傍で第１方向と直交する方向に切断した切断面が示されている。図８で示されるように、導入口３２（図６）からの沿面放電部４０（図６）までの少なくとも一部範囲においても、第１方向（図６）と直交する切断面での流路３６の内周面１１０は第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭い。具体的には、一定流路３８Ｂ（図６）のいずれの位置でも上記切断面（第１方向と直交する方向の切断面）での流路３６の内周面１１０は、図８のような台形状の形状であり、第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭い。即ち、この切断面でも、第１面１１１の第３方向の幅Ｚｂ１よりも第２面１１２の第３方向の幅Ｚｂ２ほうが小さい。第２面１１２の第３方向の幅Ｚｂ２は、図８の切断面における第３面１１３の第２方向の大きさ（図８の例では高さＹｂ２）よりも大きく、第４面１１４の第２方向の大きさ（図８の例では高さＹｂ２）よりも大きい。更に、一定流路３８Ｂ（図６）のいずれの位置の上記切断面でも、内周面１１０は、第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（具体的には、第３面１１３及び第４面１１４が設けられた領域の全領域）で第２面１１２側に向かって狭くなっている。

更に、一定流路３８Ｂ（図６）のいずれの位置の上記切断面（第１方向と直交する方向の切断面）でも、構造体２０Ａの外周面１２０は、空間１０２の第２方向一方側に配置された第１外面１２１よりも第２方向他方側に配置された第２外面１２２のほうが狭い。更に、上記切断面での外周面１２０は、空間１０２の第３方向両側に配置された第３外面１２３及び第４外面１２４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（図８では、構造体２０Ａの第２方向全領域）で第２外面１２２側に向かって狭くなっている。このようにして、第２外面１２２側の小型化、軽量化が図られている。

図９には、一定流路３７Ｂ（図６）における放出口３４（図６）近傍で第１方向と直交する方向に切断した切断面が示されている。図９で示されるように、放出口３４（図６）からの沿面放電部４０（図６）までの少なくとも一部範囲においても、第１方向（図６）と直交する切断面での流路３６の内周面１１０は第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭い。具体的には、一定流路３７Ｂ（図６）のいずれの位置でも上記切断面（第１方向と直交する方向の切断面）での流路３６の内周面１１０は、図９のような台形状の形状であり、第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭い。即ち、この切断面でも、第１面１１１の第３方向の幅Ｚｃ１よりも第２面１１２の第３方向の幅Ｚｃ２ほうが小さい。第２面１１２の第３方向の幅Ｚｃ２は、図９の切断面における第３面１１３の第２方向の大きさ（図９の例では高さＹｃ２）よりも大きく、第４面１１４の第２方向の大きさ（図９の例では高さＹｃ２）よりも大きい。更に、一定流路３７Ｂ（図６）のいずれの位置の上記切断面でも、内周面１１０は、第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（具体的には、第３面１１３及び第４面１１４が設けられた領域の全領域）で第２面１１２側に向かって狭くなっている。

更に、一定流路３７Ｂ（図６）のいずれの位置の上記切断面（第１方向と直交する方向の切断面）でも、構造体２０Ａの外周面１２０は、空間１０２の第２方向一方側に配置された第１外面１２１よりも第２方向他方側に配置された第２外面１２２のほうが狭い。更に、上記切断面での外周面１２０は、空間１０２の第３方向両側に配置された第３外面１２３及び第４外面１２４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（図８では、構造体２０Ａの第２方向全領域）で第２外面１２２側に向かって狭くなっている。このようにして、第２外面１２２側の小型化、軽量化が図られている。

図１０には、放出口３４（図６）の内縁（図９で示す内周面１１０）を第１方向（図６）と直交する仮想平面に投影したときの第１の環状図形が二点鎖線で示されるとともに符号３４Ｚが付されて示されている。更に、沿面放電部４０の位置で第１方向と直交する方向に切断した切断面での流路３６の内周面１１０を上記仮想平面に投影したときの第２の環状図形が太線の実線で示されるとともに符号４０Ｚが付されて示されている。プラズマ照射装置２０では、図１０のように仮想平面に投影したときに、第１の環状図形３４Ｚの過半領域（望ましくは全領域）が第２の環状図形４０Ｚの内部に配置される位置関係となり、第１の環状図形３４Ｚの内側の面積は、第２の環状図形４０Ｚの内側の面積よりも小さくなる。図１０の例では、第１の環状図形３４Ｚにおける所定方向（長手方向）両側の端部（傾斜部）１３４Ｃ，１３４Ｄがいずれも、当該所定方向において第２の環状図形４０Ｚにおける上記所定方向（長手方向）両側の端部（傾斜部）１４０Ｃ，１４０Ｄの間に配置されている。そして、第１の環状図形３４Ｚにおける上記所定方向と直交する直交方向（短手方向）両側の端部１３４Ａ，１３４Ｂがいずれも、当該直交方向において第２の環状図形４０Ｚの上記直交方向（短手方向）両側の端部１４０Ａ，１４０Ｂの間に配置されている。

１－５．本構成の効果の例示
本構成のプラズマ照射装置２０は、流路３６内で第１方向に沿ってガスが流れる際に、第２方向他方側（沿面放電部４０とは反対側）に逃げるガスの流量を抑え、第２方向一方側（沿面放電部４０側）を流れるガスの流量を増やすことができる。よって、流路３６内において沿面放電部４０付近の内面近傍にガスが供給されやすくなり、沿面放電がより効率的に行われやすくなる。

プラズマ照射装置２０では、導入口３２からの沿面放電部４９までの少なくとも一部範囲（例えば、全範囲）において、第１方向と直交する切断面での流路３６の内周面１１０は、第１面１１１よりも第２面１１２のほうが狭くなっている。そして、第３面１１３及び第４面１１４の第３方向の間隔が第２方向の少なくとも一部領域（例えば、第３面１１３及び第４面１１４が設けられた領域の全領域）で第２面１１２側に向かって狭くなっている。このように、導入口３２からの沿面放電部４０までの少なくとも一部範囲において第１面１１１側よりも第２面１１２側のほうが狭くなっていれば、導入口３２から入り込んだガスが沿面放電部４０付近に達するまでに第２方向一方側に導かれやすくなる。よって、沿面放電部４０付近の内面近傍にガスが一層供給されやすくなり、沿面放電がより一層効率的に行われやすくなる。

更に、プラズマ照射装置２０では、放出口３４の内縁を第１方向と直交する仮想平面に投影したときの第１の環状図形３４Ｚが、沿面放電部４０の位置で第１方向と直交する方向に切断した切断面での流路３６の内周面１１０を上記仮想平面に投影したときの第２の環状図形４０Ｚの内部に配置される位置関係となっている。このように構成されていれば、沿面放電部４０付近で第１方向に沿って流れるガスが放出口３４に向かってより大きな流速で円滑に流れやすくなる。よって、沿面放電部４０で発生したプラズマが放出口３４からより一層効率的に排出されやすくなる。

更に、誘電体部５０（誘電体層）は、第２方向において流路３６の空間１０２の一方側に配置される第１誘電体層（誘電体層５１，５２）と流路３６の空間１０２の他方側に配置される第２誘電体層（誘電体層５４）とを有する。更に、第１誘電体層の一部を介在させて放電電極４２と接地電極４４とが互いに対向して配置され、第１誘電体層の第２方向の厚さＴａ１よりも第２誘電体層の第２方向の厚さＴａ２のほうが小さくなっている。このプラズマ照射装置２０は、厚さが相対的に大きい第１誘電体層によって放電電極４２が外部へ及ぼす電気的な悪影響を抑えることができ、沿面放電への影響が比較的小さい第２誘電体層の厚さを相対的に小さくしているため、サイズの低減が図られる。よって、プラズマ照射装置２０は、外部への電気的な悪影響を抑制する効果とサイズを低減する効果を両立することができる。

＜第２実施形態＞
次に、図１１等を参照して第２実施形態のプラズマ照射装置２２０について説明する。
第２実施形態のプラズマ照射装置２２０は、誘電体部５０（誘電体層）の形状を若干変更して流路３６の形状を若干変更した点のみが第１実施形態のプラズマ照射装置２０と異なり、その他の点は第１実施形態のプラズマ照射装置２０と同一である。よって、以下の説明では、誘電体部５０及び流路３６に関連する構成について詳述し、その他の点については、プラズマ照射装置２０の各部分と同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。

図１１等で示される第２実施形態のプラズマ照射装置２２０は、図１で示す手術用装置１及び先端デバイス３においてプラズマ照射装置２０に代えて設けることができ、このようにすれば、プラズマ照射装置２２０を備えた先端デバイス及び手術用装置を構成し得る。以下では、図１の先端デバイス３及び手術用装置１においてプラズマ照射装置２０に代えてプラズマ照射装置２２０が適用された場合を前提として説明する。

図１１のように、プラズマ照射装置２２０は、導入口３２の開口の第２方向の高さＹｄ２よりも放出口３４の開口の第２方向の高さＹｅ２のほうが小さくなっている。そして、流路３６の少なくとも一部領域（図１１では、流路３６の第１方向全領域）において、放出口３４に向かって空間１０２の第２方向の高さが次第に小さくなる高さ縮小部２３６を有する。なお、図１１の例では、流路３６の全体が高さ縮小部２３６として構成されているが、流路３６の一部のみが高さ縮小部として構成されていてもよい。この例では、図１２のように、第３誘電体層５３の厚さ（第２方向の長さ）が、第１方向先端側（図１１で示す放出口３４側）に近づくにつれて次第に小さくなっている。なお、図１２の構成は、図４の構成から第３誘電体層５３の厚さのみが変更されたものである。そして、図１３のように、構造体２０Ａの厚さ（第２方向の長さ）も、第１方向先端側（放出口３４側）に近づくにつれて次第に小さくなっており、構造体２０Ａの後端部（第１方向における導入口３２側の端部）の厚さＹｄ１（図１１）よりも先端部（第１方向における放出口３４側の端部）の厚さＹｅ１（図１１）のほうが小さくなっている。

第２実施形態のプラズマ照射装置２２０は、導入口３２の開口の第２方向の高さＹｄ２よりも放出口３４の開口の第２方向の高さＹｅ２のほうが小さい。そして、流路３６の少なくとも一部領域において、放出口３４に向かって空間１０２の第２方向の高さが次第に小さくなる高さ縮小部２３６を有する。このように構成されていれば、高さ縮小部２３６によってガスの流れを高さ方向において絞ることができ、放出口３４側のガスの流れをより速めることができる。よって、沿面放電部４０で発生したプラズマがより一層効率的に排出されやすくなる。

＜他の実施形態＞
本発明は、上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述又は後述の実施形態の特徴は、矛盾しない範囲であらゆる組み合わせが可能である。また、上述又は後述の実施形態のいずれの特徴も、必須のものとして明示されていなければ省略することもできる。更に、上述した実施形態を、次のように変更してもよい。

上述した実施形態では、超音波振動を行い得る先端デバイスにプラズマ照射装置が組み込まれた構成を例示したが、他の電気的機能を有する先端デバイスに上述したいずれかの構成のプラズマ照射装置が組み込まれた構成であってもよい。例えば、図１で開示されるデバイス３とは異なる構造、機能を有する電気メスに上述したいずれかの構成のプラズマ照射装置が組み込まれていてもよい。或いは、電気的な機能を有さない既知の手術用器具（例えば、鉗子等）として構成される先端デバイスに上述したいずれかの構成のプラズマ照射装置が組み込まれた構成であってもよい。

上述した実施形態では、プラズマ照射装置が組み込まれた先端デバイスの一例を示したが、プラズマ照射装置は上記実施形態とは異なる先端デバイスに組み込まれていてもよく、先端デバイスに組み込まれていなくてもよい。
例えば、図１で示す構成から一部を省略し、図１４で示すように、プラズマ照射装置２０と制御装置５とガス供給装置７と電源装置９とを備えた構成でプラズマ照射システム３０１を構築してもよい。このプラズマ照射システム３０１は、手術用のシステムとして用いてもよく、手術以外の用途で用いてもよい。図１４の例では、第１実施形態と同様のプラズマ照射装置２０とケース体３１４とを備えるとともにプラズマ照射装置２０がケース体３１４に組み込まれた構成で先端デバイス３０３が構成されている。この先端デバイス３０３は、ケース体３１４、プラズマ照射装置２０、高周波電圧発生回路１１、その他の部品が一体化した形で把持ユニット（ユーザによって把持される手持ち部）が構成されている。この場合、制御装置５には、超音波振動部１２の制御に代えて他の制御を行う機能をもたせればよい。

第２実施形態では、流路３６において、放出口３４に向かって空間１０２の第２方向の高さが次第に小さくなる高さ縮小部２３６が設けられていたが、流路の少なくとも一部領域（例えば第１方向全領域）において放出口に向かって流路空間の第２方向の高さが次第に大きくなる高さ拡大部が設けられていてもよい。

上記実施形態では、接地電極４４の先端部が放電電極４２の先端部よりも先端側（第１方向において放出口３４側）に設けられた例が示された。しかし、いずれの実施形態のいずれの例でも、接地電極４４の先端部が放電電極４２の先端部よりも後端側（第１方向において導入口３２側）に設けられていてもよい。或いは、いずれの実施形態のいずれの例でも、接地電極４４の先端部と放電電極４２の先端部とが第１方向において同一であってもよい。

上記実施形態では、接地電極４４の後端部が放電電極４２の後端部よりも先端側（第１方向において放出口３４側）に設けられた例が示された。しかし、いずれの実施形態のいずれの例でも、接地電極４４の後端部が放電電極４２の後端部よりも後端側（第１方向において導入口３２側）に設けられていてもよい。或いは、いずれの実施形態のいずれの例でも、接地電極４４の後端部と放電電極４２の後端部とが第１方向において同一であってもよい。

明細書において、「生体組織に作用する」とは、作用部材が生体組織に影響を及ぼし、切開と剥離と止血との少なくとも１つを為すことを意味する。上述した実施形態で例示された作用部材はあくまで一例であり、作用部材が生体組織に影響を及ぼし、切開、剥離、止血の少なくとも１つを行い得るようになっていれば、上述した実施形態以外の様々な構成を採用することができる。

なお、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、今回開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示された範囲内又は特許請求の範囲と均等の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

２０，２２０…プラズマ照射装置
３０…ガス誘導路
３４…放出口
３６…流路
４０…沿面放電部
４２…放電電極
４４…接地電極
５０…誘電体部（誘電体層）
５１，５２…誘電体層（第１誘電体層）
５４…誘電体層（第２誘電体層）
１０２…空間
１１０…内周面
１１１…第１面
１１２…第２面
１１３…第３面
１１４…第４面
２３６…高さ縮小部

Claims (5)

1. ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
   誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路内の前記空間に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
   を備えるプラズマ照射装置であって、
   前記流路は、少なくとも前記沿面放電部が設けられた領域において第１方向に沿ってガスを流すように配置され、
   前記第１方向と直交する第２方向において、前記空間の一方側に前記沿面放電部が配置されており、
   前記沿面放電部の位置で前記第１方向と直交する方向に切断した切断面での前記流路の内周面は、前記第２方向において前記空間の前記一方側に配置された第１面よりも他方側に配置された第２面のほうが狭くなっており且つ前記第１方向及び前記第２方向と直交する第３方向において前記空間の両側にそれぞれ配置された第３面及び第４面の前記第３方向の間隔が前記第２方向の少なくとも一部領域で前記第２面側に向かって狭くなっている
   プラズマ照射装置。
2. 前記導入口からの前記沿面放電部までの少なくとも一部範囲において、前記第１方向と直交する切断面での前記流路の内周面は、前記第１面よりも前記第２面のほうが狭くなっており且つ前記第３面及び前記第４面の前記第３方向の間隔が前記第２方向の少なくとも一部領域で前記第２面側に向かって狭くなっている
   請求項１に記載のプラズマ照射装置。
3. 前記放出口の内縁を前記第１方向と直交する仮想平面に投影したときの第１の環状図形が、前記沿面放電部の位置で前記第１方向と直交する方向に切断した切断面での前記流路の内周面を前記仮想平面に投影したときの第２の環状図形の内部に配置される位置関係となっている
   請求項１又は請求項２に記載のプラズマ照射装置。
4. 前記導入口の開口の前記第２方向の高さよりも前記放出口の開口の前記第２方向の高さのほうが小さく、
   前記流路の少なくとも一部領域において、前記放出口に向かって前記空間の前記第２方向の高さが次第に小さくなる高さ縮小部を有する
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。
5. 前記誘電体層は、前記第２方向において前記空間の前記一方側に配置される第１誘電体層と前記空間の前記他方側に配置される第２誘電体層とを有し、
   前記第１誘電体層の一部を介在させて前記放電電極と前記接地電極とが互いに対向して配置されており、
   前記第１誘電体層の前記第２方向の厚さよりも前記第２誘電体層の前記第２方向の厚さのほうが小さい
   請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。

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