JP7405576B2 - 光学異方性膜 - Google Patents

Description

本発明は、光学異方性膜、並びに、これを含む光学フィルム、楕円偏光板、積層体及び有機ＥＬ表示装置に関する。

楕円偏光板は、偏光フィルムと位相差フィルムとが積層された光学部材であり、例えば、有機ＥＬ画像表示装置等の平面状態で画像を表示する装置において、該装置を構成する電極での光反射を防止するために用いられている。この楕円偏光板を構成する位相差フィルムとしては、一般に、いわゆるλ／４板が用いられる。

可視光の広い波長範囲で一様の位相差性能を発揮しやすい点で、楕円偏光板を構成する位相差フィルムとしては逆波長分散性を示すものが好適である。そのような位相差フィルムとして、所望の配向方向に延伸した延伸フィルムや、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を位相差フィルムの平面に対して水平方向に配向させた状態で重合し、硬化させた水平配向液晶硬化膜から構成される位相差フィルムが知られている。

特開２０１５－１６３９３５号公報

しかしながら、従来の逆波長分散性を示す位相差フィルムでは、時間の経過とともに位相差フィルムの位相差値が変化することがある。位相差フィルムの位相差値は、位相差フィルムを楕円偏光板に組み込んだ際に該楕円偏光板の反射色相に大きく影響する。このため、このような経時的な位相差値の変化が生じると、該位相差フィルムを含む楕円偏光板を組み込んだ画像表示装置において所望の反射色相を得ることが難しくなり、経時的な光学特性の低下や外観品質上の欠陥を生じる一因となる。

本発明は、経時的な位相差値の変化が生じ難く、画像表示装置に組み込んだ際に優れた光学特性を長期間にわたり発揮し得る光学異方性膜、並びにこれを含む光学フィルム、楕円偏光板、積層体及び有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の態様を包含する。
［１］式（１）：
１．００２≦ｎｙＡ（４５０）／ｎｚＡ（４５０）≦１．０１０ （１）
［式（１）中、ｎｙＡ（４５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（４５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表す］
及び、式（２）：
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ （２）
［式（２）中、ＲｅＡ（λ）は波長λｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表し、ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）－ｎｙＡ（λ））×ｄＡである〔式中、ｎｘＡ（λ）は光学異方性膜面内における波長λｎｍでの屈折率を表し、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡと同一面内でｎｘＡの方向に対して直交する方向の波長λｎｍでの屈折率を表し、ｄＡは光学異方性膜の膜厚を示す〕］
を満たす、光学異方性膜。
［２］式（３）：
１．００２≦ｎｙＡ（５５０）／ｎｚＡ（５５０）≦１．０１０ （３）
［式（３）中、ｎｙＡ（５５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（５５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表す］
を満たす、前記［１］に記載の光学異方性膜。
［３］少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物である、前記［１］又は［２］に記載の光学異方性膜。
［４］少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物であって、前記重合性液晶化合物が光学異方性膜平面に対して水平方向に配向した状態で硬化してなる、前記［１］～［３］のいずれかに記載の光学異方性膜。
［５］式（４）：
１２０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１７０ｎｍ （４）
［式（４）中、ＲｅＡ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表す］
を満たす、前記［１］～［４］のいずれかに記載の光学異方性膜。
［６］前記［１］～［５］のいずれかに記載の光学異方性膜を含む光学フィルム。
［７］前記［１］～［５］のいずれかに記載の光学異方性膜と偏光フィルムとを含む、楕円偏光板。
［８］光学異方性膜の遅相軸と、偏光フィルムの吸収軸との成す角が４５±５°である、前記［７］に記載の楕円偏光板。
［９］前記［７］又は［８］に記載の楕円偏光板と前面板と含む積層体。
［１０］前記［７］又は［８］に記載の楕円偏光板とタッチセンサーパネルとを含む積層体。
［１１］前記［９］又は［１０］に記載の積層体を含む有機ＥＬ表示装置。

本発明によれば、経時的な位相差値の変化が生じ難く、画像表示装置に組み込んだ際に優れた光学特性を長期間にわたり発揮し得る光学異方性膜、並びにこれを含む光学フィルム、楕円偏光板、積層体及び有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

本発明の光学異方性膜は、式（１）を満たす。
１．００２≦ｎｙＡ（４５０）／ｎｚＡ（４５０）≦１．０１０ （１）
式（１）中、ｎｙＡ（４５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（４５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表す。
式（１）を満たすことにより、位相差値の経時的な変化が生じ難く、初期の光学特性を長期間にわたり維持することが可能な光学異方性膜となり得る。

本発明の光学異方性膜は、式（１）に加えて式（２）を満たす。
ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ （２）
式（２）中、ＲｅＡ（λ）は波長λｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表し、ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）－ｎｙＡ（λ））×ｄＡである。前記式中、ｎｘＡ（λ）は光学異方性膜面内における波長λｎｍでの屈折率を表し、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡと同一面内でｎｘＡの方向に対して直交する方向の波長λｎｍでの屈折率を表し、ｄＡは光学異方性膜の膜厚を示す。
式（１）に加えて、いわゆる逆波長分散性を示す式（２）を満たすことにより可視光の広い波長範囲で一様の位相差性能を発揮し得るため、長期間にわたり優れた光学特性／表示特性を維持する画像表示装置の構成部材として好適に使用し得る光学異方性膜となる。逆波長分散性が向上し、光学異方性膜の正面方向の反射色相の向上効果をより高めることができるため、ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）は、好ましくは０．７０以上、より好ましくは０．７８以上であり、また、好ましくは０．９５以下、より好ましくは０．９２以下、さらに好ましくは０．９０以下、特に好ましくは０．８７以下、とりわけ好ましくは０．８５以下である。

上記面内位相差値は、光学異方性膜の厚みｄＡによって、調整することができる。面内位相差値は、上記式ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）－ｎｙＡ（λ））×ｄＡによって決定されることから、所望の面内位相差値（ＲｅＡ（λ）：波長λ（ｎｍ）における光学異方性膜の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄＡとを調整すればよい。

本発明の光学異方性膜は、式（３）をさらに満たすことが好ましい。
１．００２≦ｎｙＡ（５５０）／ｎｚＡ（５５０）≦１．０１０ （３）
式（３）中、ｎｙＡ（５５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（５５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表す。
式（３）を満たすことにより、位相差値の経時的な変化に対する抑制効果がより向上する傾向にあり、初期の光学特性を長期間にわたり発揮し得る光学異方性膜となり得る。

また、本発明の光学異方性膜は式（４）を満たすことが好ましい。
１２０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１７０ｎｍ （４）
式（４）中、ＲｅＡ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表す。
光学異方性膜の面内位相差値ＲｅＡ（５５０）が式（４）の範囲内であると、該光学異方性膜を表示装置に適用した場合の正面反射色相を向上させる効果（着色を抑制する効果）が顕著になる。面内位相差値のさらに好ましい範囲は、１３０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１５０ｎｍである。なお、以下、本明細書における「正面反射色相の向上」に関する効果は、本発明の光学異方性膜を含む楕円偏光板を表示装置に適用した際の正面反射色相における向上効果を意味する。

本発明の光学異方性膜は、式（５）を満たすことが好ましい。
ｎｘＡ（４５０）＞ｎｙＡ（４５０）＞ｎｚＡ（４５０） （５）
式（５）中、ｎｘＡ（４５０）、ｎｙＡ（４５０）及びｎｚＡ（４５０）は、それぞれ上記と同じ意味である。
式（５）を満たすと、光学異方性膜の波長分散性がより向上する〔すなわち、ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）の値がより小さくなる〕傾向にあるため、該光学異方性膜を画像表示装置に適用した場合に、より良好な正面反射色相を得ることができる。

また、本発明の光学異方性膜は、式（６）を満たすことが好ましい。
ｎｘＡ（５５０）＞ｎｙＡ（５５０）＞ｎｚＡ（５５０） （６）
式（６）中、ｎｘＡ（５５０）、ｎｙＡ（５５０）及びｎｚＡ（５５０）は、それぞれ上記と同じ意味である。
式（６）を満たすと、光学異方性膜の波長分散性がより向上する傾向にあるため、該光学異方性膜を画像表示装置に適用した場合に、より良好な正面反射色相を得ることができる。特に、式（５）とともに上記式（６）を満たすことにより、該光学異方性膜を画像表示装置に適用した場合の正面反射色相を向上させる効果が顕著になり得る。

本発明の光学異方性膜は、式（１）及び（２）で示される光学特性を満たすように形成されたものであればよい。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミドなどの透光性樹脂から形成される基材を延伸することにより得られる延伸フィルムや、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物（硬化膜）などであってよい。中でも、膜面内方向に対して水平方向に配向した位相差性能を有する光学異方性膜であることが好ましく、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物であって、前記重合性液晶化合物が光学異方性膜平面に対して水平方向に配向した状態で硬化してなる硬化物（以下、「水平配向液晶硬化膜」ともいう）がより好ましい。

本発明の光学異方性膜が水平配向液晶硬化膜である場合、該光学異方性膜は、短波長での面内位相差値が長波長での面内位相差値よりも小さくなる、いわゆる逆波長分散性を示す重合性液晶化合物から形成され得る。このような逆波長分散性を発現する重合性液晶化合物は、通常、化合物の主鎖となる長軸方向と、該長軸方向に対して交差する方向とに構成分子が配置したＴ字構造を有している（以下、重合性液晶化合物の長軸方向を構成する分子構造部を「メソゲン部」、該長軸方向に対して交差する方向を構成する分子構造部を「コア部」ともいう）。従来、逆波長分散性を示す水平配向液晶硬化膜において、重合性液晶化合物がその配向により形成する屈折率楕円体における３方向の屈折率ｎｘＡ、ｎｙＡ及びｎｚＡは、ｎｘＡ＞ｎｙＡ≒ｎｚＡ（ポジティブＡプレート）の関係となる。上記ポジティブＡプレートにおいては、Ｔ字構造を有する重合性液晶化合物の長軸方向と交差する方向に配置される構成分子の方向性（配向）は制御されておらず、液晶硬化膜の平面内でｎｘＡの方向に対して直交する方向の屈折率であるｎｙＡと、液晶硬化膜の平面に対して垂直方向の屈折率ｎｚＡとは理論上同じ大きさとなる（ｎｙＡ≒ｎｚＡ）。

これに対して、本発明は、Ｔ字構造を有する重合性液晶化合物の長軸方向と交差する方向に配置される構成分子の方向性（配向）を制御し、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向の屈折率ｎｙＡと、光学異方性膜の平面に対して膜厚方向（垂直方向）の屈折率ｎｚＡとの比率〔ｎｙＡ（λ）／ｎｚＡ（λ）〕を特定の範囲にするものである。すなわち、本発明の光学異方性膜は、式（１）：
１．００２≦ｎｙＡ（４５０）／ｎｚＡ（４５０）≦１．０１０ （１）
を満たす。
本発明において、光学異方性膜が式（１）を満たすことにより位相差値の経時的な変化を抑制し得る効果について、その原理は必ずしも明らかではないが以下のように推測される。ｎｙＡ（λ）とｎｚＡ（λ）との比率が上記特定の範囲にあると、光学異方性膜は、その膜平面内で重合性液晶化合物のメソゲン部がｘ方向に、コア部が同一面内でｘ方向に対して直交するｙ方向に選択的に配向した状態で重合し、硬化した液晶硬化膜となる。このような液晶硬化膜は、製膜後初期の状態で液晶硬化膜を構成する各重合性液晶化合物のコア部間で一定の方向性をもったスタッキングを生じており、構造的に高い安定性を有する。このため、等方的に分布するコア部の方向性が経時的に変化しやすい従来のポジティブＡプレートと比較して、式（１）を満たすように重合性液晶化合物の構成分子の方向性（配向）を制御した本発明の光学異方性膜は、重合性液晶化合物の配向状態に変化が生じ難く、配向状態が変化することに起因する位相差値の経時的な変化を抑制することが可能となる。

光学異方性膜を形成するための、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物としては、上記式（１）及び（２）を満たす液晶硬化膜を形成し得るものであれば特に限定されず、位相差フィルムの分野において従来公知の重合性液晶化合物を用いることができる。

重合性基とは、重合反応に関与し得る基を意味する。本発明の光学異方性膜を形成する重合性液晶化合物は、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る光重合性基を重合性基として有することが好ましい。光重合性基としては、例えばビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

重合性液晶化合物が示す液晶性はサーモトロピック性液晶であってもよいし、リオトロピック性液晶であってもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物は単独又は二種以上を組み合わせて使用できる。

重合性液晶化合物としては、一般に正波長分散性を示す重合性液晶化合物と逆波長分散性を示す重合性液晶化合物とが挙げられ、得られる光学異方性膜が式（２）を満たす光学特性を有する（すなわち、逆波長分散性を示す）限り、どちらか一方の種類の重合性液晶化合物のみを使用することもできるし、両方の種類の重合性液晶化合物を複数種混合して用いることもできる。得られる光学異方性膜を組み込んだ画像表示装置において正面反射色相を向上させやすく、本発明における耐久性向上効果が顕著に得られやすいことから、重合性液晶化合物を単独で特定方向に配向した状態で重合することにより得られる重合体が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含むことが好ましい。重合性液晶化合物として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物としては、下記（Ａ）～（Ｄ）の特徴を有する化合物であることが好ましい。
（Ａ）ネマチック相又はスメクチック相を形成し得る化合物である。
（Ｂ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（Ｃ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（Ｄ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ） （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ） （ｉｉ）
とが、式（ｉｉｉ）
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕＜１ （ｉｉｉ）
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。また、上記記載のように長軸及びそれに対して交差方向上にπ電子を有する重合性液晶化合物は、一般にＴ字構造となりやすい。

上記（Ａ）～（Ｄ）の特徴において、長軸方向（ａ）及びπ電子数Ｎは以下のように定義される。
・長軸方向（ａ）は、例えば棒状構造を有する化合物であれば、その棒状の長軸方向である。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、長軸上のπ電子及びこれと共役するπ電子の合計数であり、例えば長軸方向（ａ）上に存在する環であって、ヒュッケル則を満たす環に存在するπ電子の数が含まれる。
・交差方向（ｂ）に存在するπ電子数Ｎ（πｂ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
上記を満たす重合性液晶化合物は、長軸方向にメソゲン構造を有している。このメソゲン構造によって、液晶相（ネマチック相、スメクチック相）を発現する。

上記（Ａ）～（Ｄ）を満たす重合性液晶化合物を、液晶硬化膜を形成する膜（層）上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相やスメクチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相又はスメクチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相又はスメクチック相の配向方向となる。このような重合性液晶化合物を膜状とし、ネマチック相又はスメクチック相の状態で重合させると、長軸方向（ａ）に配向した状態で重合した重合体からなる重合体膜を形成することができる。この重合体膜は、長軸方向（ａ）上のπ電子と交差方向（ｂ）上のπ電子により紫外線を吸収する。ここで、交差方向（ｂ）上のπ電子により吸収される紫外線の吸収極大波長をλｂｍａｘとする。λｂｍａｘは通常３００ｎｍ～４００ｎｍである。π電子の密度は、上記式（ｉｉｉ）を満足していて、交差方向（ｂ）のπ電子密度が長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きいので、交差方向（ｂ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収が、長軸方向（ａ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収よりも大きな重合体膜となる。その比（直線偏光紫外線の交差方向（ｂ）の吸光度／長軸方向（ａ）の吸光度の比）は、例えば１．０超、好ましくは１．２以上、通常３０以下であり、例えば１０以下である。

上記特徴を有する重合性液晶化合物は、一般に、一方向に配向した状態で重合させたときにその重合体の複屈折率が逆波長分散性を示すものであることが多い。具体的には、例えば、下記式（Ｘ）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｘ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を有する二価の基を表す。ここでいう芳香族基とは、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをさし、例えば後述する（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）で例示されるようなＡｒ基を、二価の連結基を介して２個以上有していてもよい。ここでｎは整数を表す。－Ｎ＝や－Ｓ－等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。芳香族基が１つである場合、二価の基Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基であってもよい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ^１及びＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１、Ｌ^２、Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１及びＢ^２、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。また、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳｉＨ_２－、－Ｃ（＝Ｏ）－で置換されていてもよい。
Ｐ^１及びＰ^２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１又はＬ^２に結合するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２－、－Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４－、－Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６－、－Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ－、又は－Ｃ≡Ｃ－である。ここで、Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは炭素数１～４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^ａ２－１－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^ａ４－１－、又は－ＯＣＯＲ^ａ６－１－である。ここで、Ｒ^ａ２－１、Ｒ^ａ４－１、Ｒ^ａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、又は－ＯＣＯ－である。

Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０－、－Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２－、－Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４－、又は－Ｒ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６－である。ここで、Ｒ^ａ９～Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^{ａ１０－１}－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^{ａ１２－１}－、又は－ＯＣＯＲ^{ａ１４－１}－である。ここで、Ｒ^{ａ１０－１}、Ｒ^{ａ１２－１}、Ｒ^{ａ１４－１}はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－、又は－ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２－である。

ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｐ^１又はＰ^２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基及びビニルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｘ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３２以下であり、より好ましくは３０以下であり、さらに好ましくは２６以下であり、特に好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基又は炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。また、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、－ＣＲ^２’Ｒ^３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ^２’－、－ＣＯ－又は－Ｏ－を表し、Ｒ^２’及びＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

Ｊ^１及びＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１及びＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。また、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１及びＱ^２は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。

式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）及び式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

上記（Ａ）～（Ｄ）の特性を満たす化合物として、上記式（Ｘ）におけるＡｒが下記構造を有する基（ＩＩ）である化合物も例示される。

式（ＩＩ）中、＊印はＬ^１又はＬ^２との連結部を表す。
Ｄ^１及びＤ^２はそれぞれ独立して、下記一般式（Ｄ－１）から選ばれる基を表す。
置換基Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられてもよい炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されてもよい。

一般式（Ｄ－１）中、Ｍ^１は水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。当該アルキル基は、１つ以上の置換基Ｘ^３によって置換されていてもよいし、無置換であってもよい。置換基Ｘ^３としては、前記置換基Ｘ^１及びＸ^２として挙げたものと同様の基が挙げられる。
Ｕ^１は、芳香族炭化水素基を有する炭素数２～３０の有機基を表す。当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていてもよい。芳香族炭化水素基は、１つ以上の前記置換基Ｘ^３によって置換されていてもよいし、無置換であってもよい。
Ｔ^１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－Ｏ－、－ＮＵ^２－、－Ｎ＝ＣＵ^２－、－ＣＯ－ＮＵ^２－、－ＯＣＯ－ＮＵ^２－又は－Ｏ－ＮＵ^２－を表す。Ｕ^２は水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数３～１２のシクロアルケニル基、又は芳香族炭化水素基（当該芳香族炭化水素基の任意の炭素原子はヘテロ原子に置換されていてもよい）を有する炭素数２～３０の有機基を表す。当該アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、及び芳香族炭化水素基はそれぞれ、１つ以上の前記置換基Ｘ^３によって置換されていてもよいし、無置換であってもよい。当該アルキル基は当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基によって置換されていてもよい。当該アルキル基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は、各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－に置き換えられていてもよい。当該シクロアルキル基又はシクロアルケニル基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられていてもよい。Ｕ^１とＵ^２は結合して環を構成していてもよい。

一般式（Ｄ－１）中、Ｍ^１は水素原子又は、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～６のアルキル基が好ましく、水素原子であることがより好ましい。

Ｕ^１は、波長分散性が良好になる点から、炭素原子の１つ以上がヘテロ原子に置換されている、芳香族複素環を有する有機基であることが好ましい。Ｕ^１は、波長分散性が良好で、高い複屈折を示すようになる点から、５員環と６員環との縮合環である芳香族複素環を有する有機基であることがより好ましい。

具体的にＵ^１としては、以下の式で表される基を有するものであることが好ましい。なお、下記式においてこれらの基は任意の位置にＴ^１との結合手を有している。

Ｔ^１は、複屈折が良好で合成が容易な点から、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ＝ＣＵ^２－又は－ＮＵ^２－であることが好ましい。Ｔ^１は、波長分散性と複屈折とが良好な点から、－Ｏ－、－Ｓ－、又は－ＮＵ^２－であることがより好ましい。

ここでＵ^２は、１つ以上の前記置換基Ｘ^３によって置換されていてもよく、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－に置き換えられてもよい、炭素数１～２０のアルキル基若しくはアルケニル基、炭素原子数３～１２のシクロアルキル基、又は炭素数３～１２のシクロアルケニル基、或いは、当該シクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はアリール基によって置換されていてもよい前記アルキル基若しくはアルケニル基であることが好ましい。

中でもＵ^２は、複屈折、及び溶剤溶解性の点から、水素原子がフッ素原子に置換されてもよく、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい炭素原子数２～２０の直鎖状アルキル基であることがより好ましい。

Ｕ^１とＵ^２は結合して環を構成していてもよい。その場合、例えば、－ＮＵ^１Ｕ^２で表される環状基、又は－Ｎ＝ＣＵ^１Ｕ^２で表される環状基が挙げられる。

原料が入手しやすく、溶解性が良好で高い複屈折率を示す点から、Ｄ^１及びＤ^２はそれぞれ、下記の式（Ｄ－１）から式（Ｄ－４７）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

光学異方性膜を形成する少なくとも１種の重合性液晶化合物は、波長３００～４００ｎｍの間に極大吸収波長を有する重合性液晶化合物であることが好ましい。重合性液晶組成物に光重合開始剤が含まれる場合、長期保管時に重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化が進行するおそれがある。しかし、重合性液晶化合物の極大吸収波長が３００～４００ｎｍであれば保管中に紫外光が曝露されても、光重合開始剤からの反応活性種の発生及び該反応活性種による重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化の進行を有効に抑制できる。従って、重合性液晶組成物の長期安定性の点で有利となり、得られる光学異方性膜の配向及び膜厚の均一性を向上できる。なお、重合性液晶化合物の極大吸収波長は、溶媒中で紫外可視分光光度計を用いて測定できる。該溶媒は重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒であり、例えばクロロホルム等が挙げられる。

本発明において光学異方性膜を形成する重合性液晶化合物として、得られる光学異方性膜が式（２）を満たす光学特性を有する限り、一般にいわゆる正波長分散性を示す傾向にある、下記式（Ｙ）で表される構造を含む化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ｙ）」ともいう）を用いることもできる。

Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｙ）
［式（Ｙ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表わす。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－又は単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２及びＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ_２－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｈ、－Ｃ≡Ｎ又は単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］

Ａ１１の芳香族炭化水素基及び脂環式炭化水素基の炭素数は、３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ１１で表される２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基及び該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、１，４－フェニレン基が好ましい。

Ｅ１１としては、直鎖状の炭素数１～１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基及びドデカン－１，１２－ジイル基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－及び－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－等が挙げられる。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２及びＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。

Ｐ１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基であることが好ましい。

［式（Ｐ－１１）～（Ｐ－１５）中、
Ｒ^１７～Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基又は水素原子を表わす。］

式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ－１６）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。

Ｐ１１は、式（Ｐ－１４）～式（Ｐ－２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基又はオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。

重合性液晶化合物（Ｙ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）又は式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
［式中、
Ａ１１、Ｂ１１～Ｂ１３及びＰ１１は上記と同義であり、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７はＢ１１と同義であり、Ｅ１２はＥ１１と同義であり、Ｐ１２はＰ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表わし、該アルキル基及びアルコキシ基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。］

重合性液晶化合物（Ｙ）の具体例としては、例えば、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報及び特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８５～９８質量部であり、さらに好ましくは９０～９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であると、得られる光学異方性膜の配向秩序が向上しやすいため有利である。なお、重合性液晶組成物が複数の重合性液晶化合物を含む場合、重合性液晶組成物に含まれる全重合性液晶化合物の総質量が上記含有量の範囲内であることが好ましい。また、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶媒等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。

光学異方性膜の形成に用いる重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物に加えて、溶媒、光重合開始剤、レベリング剤、酸化防止剤、光増感剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

光学異方性膜形成用の重合性液晶組成物は、通常、溶媒に溶解した状態で基材等に塗布されるため、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、用いる重合性液晶化合物に対する溶解性が高く、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１－メトキシ－２－プロパノール、２－ブトキシエタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒が好ましい。

重合性液晶組成物中の溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０～９８質量部、より好ましくは７０～９５重量部である。従って、重合性液晶組成物１００質量部に占める固形分は、２～５０質量部が好ましい。固形分が５０質量部以下であると、重合性液晶組成物の粘度が低くなる傾向があるため、膜の厚みが略均一になり、ムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする液晶硬化膜の厚みを考慮して適宜定めることができる。

重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル又はカチオン又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ－６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ－１５２、アデカオプトマーＳＰ－１７０、アデカオプトマーＮ－１７１７、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ－Ａ、ＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ－１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。
光学異方性膜形成用の重合性液晶組成物において、光重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ～４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ～３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α－アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α－アセトフェノン化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－（４－メチルフェニルメチル）ブタン－１－オン等が挙げられ、より好ましくは２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オンが挙げられる。α－アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってフェニルラジカルやメチルラジカル等のラジカルを生成させる。このラジカルにより重合性液晶化合物の重合が好適に進行するが、中でもメチルラジカルを発生させるオキシム系光重合開始剤は重合反応の開始効率が高い点で好ましい。また、重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を含むトリアジン化合物やカルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル構造を含むカルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル構造を含むカルバゾール化合物としては、１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル系光重合開始剤の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ－０１、イルガキュアＯＸＥ－０２、イルガキュアＯＸＥ－０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１～３０質量部であり、好ましくは１～２０質量部であり、より好ましくは１～１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

レベリング剤とは、重合性液晶組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる塗膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シリコーン系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。レベリング剤として市販品を用いてもよく、具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－３５２、ＢＹＫ－３５３及びＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１～５質量部が好ましく、０．０５～３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜がより平滑となる傾向にあるため好ましい。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、例えば、ＢＨＴなどのフェノール系化合物、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル補足剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類等が挙げられる。

重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合する観点から、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．１～５質量部であり、さらに好ましくは０．１～３質量部である。重合禁止剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。

光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部であり、好ましくは０．０５～５質量部であり、さらに好ましくは０．１～３質量部である。

重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、溶媒や光重合開始剤などの重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより調製できる。

本発明において、水平配向液晶硬化膜からなる光学異方性膜は、例えば、
光学異方性膜形成用の重合性液晶組成物の塗膜を形成し、該塗膜平面に対して前記重合性液晶化合物を所望の方向（水平方向）に配向させる工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう）、
前記塗膜を乾燥させて乾燥塗膜を形成する工程（以下、「乾燥工程」ともいう）、
乾燥塗膜に活性エネルギー線を照射し、重合性液晶化合物の配向状態を保持したまま重合性液晶組成物を硬化させて液晶硬化膜を得る工程（以下、「硬化工程」ともいう）、及び、
得られた液晶硬化膜を溶媒に浸漬する工程（以下、「溶媒浸漬工程」ともいう）
を含む方法により製造することができる。

重合性液晶組成物の塗膜は、基材上又は後述する配向膜上などに重合性液晶組成物を塗布することにより形成することができる。
基材としては、例えば、ガラス基材やフィルム基材等が挙げられるが、加工性の観点から樹脂フィルム基材が好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びノルボルネン系ポリマーのようなポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、及びセルロースアセテートプロピオネートのようなセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドのようなプラスチックが挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して基材とすることができる。基材表面には、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等から形成される保護層を有していてもよく、シリコーン処理のような離型処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理が施されていてもよい。

基材として市販の製品を用いてもよい。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、フジタックフィルムのような富士写真フィルム株式会社製のセルロースエステル基材；「ＫＣ８ＵＸ２Ｍ」、「ＫＣ８ＵＹ」、及び「ＫＣ４ＵＹ」のようなコニカミノルタオプト株式会社製のセルロースエステル基材などが挙げられる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、例えば、「Ｔｏｐａｓ（登録商標）」のようなＴｉｃｏｎａ社（独）製の環状オレフィン系樹脂；「アートン（登録商標）」のようなＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂；「ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）（登録商標）」、及び「ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）（登録商標）」のような日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂；「アペル」（登録商標）のような三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、「エスシーナ（登録商標）」及び「ＳＣＡ４０（登録商標）」のような積水化学工業株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材；「ゼオノアフィルム（登録商標）」のようなオプテス株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材；「アートンフィルム（登録商標）」のようなＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材が挙げられる。

光学異方性膜を含む光学フィルムの薄型化、基材の剥離容易性、基材のハンドリング性等の観点から、基材の厚みは、通常、５～３００μｍであり、好ましくは１０～１５０μｍである。

重合性液晶組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法等の公知の方法が挙げられる。

配向膜上に重合性液晶化合物の塗膜を形成することにより、重合性液晶化合物を精度よく配向させることができる。配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。例えば、重合性液晶化合物を水平方向に配向させる配向規制力を有する配向膜（以下、「水平配向膜」ともいう）を用いることにより、重合性液晶化合物が膜平面に水平な方向に配向した光学異方性膜を得ることができる。配向規制力は、配向膜の種類、表面状態やラビング条件等によって任意に調整することが可能であり、配向膜が光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。

配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や後述する重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、配向角の精度及び品質の観点から光配向膜が好ましい。

配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある）を基材に塗布し、溶媒を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶媒に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０％が好ましく、０．１～１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、重合性液晶組成物を基材へ塗布する方法として例示したものと同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶媒を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビング処理を行うことができる（ラビング法）。ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ともいう）を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる点でも有利である。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レーザーなどが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

配向膜（配向性ポリマーを含む配向膜又は光配向膜）の厚みは、通常１０～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０～１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは１０～５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０～３００ｎｍ、特に好ましくは５０～２５０ｎｍの範囲である。

塗膜形成工程において得られた塗膜から溶媒を乾燥等により除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。この際、重合性液晶組成物から得られた塗膜を加熱することにより、塗膜から溶媒を乾燥除去させるとともに、重合性液晶化合物を塗膜平面に対して所望する方向（水平方向）に配向させることができる。塗膜の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物及び塗膜を形成する基材等の材質などを考慮して適宜決定し得るが、重合性液晶化合物を液晶相状態へ相転移させるために液晶相転移温度以上の温度であることが通常必要である。重合性液晶組成物に含まれる溶媒を除去しながら、重合性液晶化合物を水平配向状態とするため、例えば、前記重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の液晶相転移温度（スメクチック相転移温度又はネマチック相転移温度）程度以上の温度まで加熱することができる。
なお、液晶相転移温度は、例えば、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡や、示差走査熱量計（ＤＳＣ）、熱重量示差熱分析装置（ＴＧ－ＤＴＡ）等を用いて測定することができる。また、重合性液晶化合物として２種以上を組み合わせて用いる場合、上記相転移温度は、重合性液晶組成物を構成する全重合性液晶化合物を重合性液晶組成物における組成と同じ比率で混合した重合性液晶化合物の混合物を用いて、１種の重合性液晶化合物を用いる場合と同様にして測定される温度を意味する。なお、一般に前記重合性液晶組成物中における重合性液晶化合物の液晶相転移温度は、重合性液晶化合物単体としての液晶相転移温度よりも下がる場合もあることが知られている。

加熱時間は、加熱温度、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点及びその量等に応じて適宜決定し得るが、通常、１５秒～１０分であり、好ましくは０．５～５分である。

塗膜からの溶媒の除去は、重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱と同時に行ってもよいし、別途で行ってもよいが、生産性向上の観点から同時に行うことが好ましい。重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱を行う前に、重合性液晶組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で塗膜中の溶媒を適度に除去させるための予備乾燥工程を設けてもよい。かかる予備乾燥工程における乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられ、該乾燥工程における乾燥温度（加熱温度）は、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点及びその量等に応じて適宜決定し得る。

乾燥工程により得られた乾燥塗膜において、重合性液晶化合物の配向状態を保持したまま重合性液晶化合物を重合させることにより液晶硬化膜が形成される。重合方法としては、熱重合法や光重合法が挙げられるが、重合反応を制御しやすい観点から光重合法が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）及びその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線及びγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線の活性エネルギー線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら光照射することで重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、比較的耐熱性が低い基材を用いたとしても、適切に液晶硬化膜を形成できる。また、光照射時の熱による不具合（基材の熱による変形等）が発生しない範囲で重合温度を高くすることにより重合反応を促進することも可能である。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた硬化膜を得ることもできる。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０～３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは０．１秒～５分、より好ましくは０．１秒～３分、さらに好ましくは０．１秒～１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０～３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

硬化工程で得られた液晶硬化膜を溶媒に浸漬する工程は、得られる光学異方性膜の平面内でｎｘＡの方向に対して直交する方向の屈折率ｎｙＡと、該光学異方性膜の平面に対して垂直方向の屈折率ｎｚＡとの比率が、式（１）を満たすように重合性液晶化合物の配向を制御するために有効な処理方法の１つである。かかる工程により、液晶硬化膜を構成する重合性液晶化合物、特に、硬化した際に逆波長分散性を示し得る上述したようなＴ字構造を有する重合性液晶化合物に関して、重合性液晶化合物の分子に動きが生じやすくなり、重合性液晶化合物の長軸方向と交差する方向に配置される構成分子が一定の方向を向きやすくなるものと考えられる。これにより、重合性液晶化合物の構成分子の方向性（配向）を制御し、屈折率ｎｙＡ（λ）と屈折率ｎｚＡ（λ）との比率を上記特定の範囲とすることが可能となる。

溶媒浸漬工程で用いる溶媒は、用いる重合性液晶化合物や基材の種類等に応じて適宜決定し得る。具体的には、光学異方性膜形成用の重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示したものと同様の溶媒が挙げられる。中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒が好ましく、ケトン溶媒を含むことがより好ましく、環状構造を含むケトン溶媒を含むことがさらに好ましく、環状アノンを含むことが特に好ましく、シクロヘキサノンを含むことがとりわけ好ましい。溶媒浸漬工程用の溶媒として、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。溶媒浸漬工程で用いる溶媒と、重合性液晶組成物を構成する溶媒とは同じであっても、異なっていてもよい。重合性液晶組成物を構成する溶媒と同じ溶媒を溶媒浸漬工程で用いることは、重合性液晶化合物に対する溶解性の点で好ましい。一方で、溶媒浸漬工程用の溶媒としては、光学異方性膜の形成に用いる基材に対する影響を考慮して、用いる重合性液晶化合物に対して適度な溶解性を有しながら、用いる基材に対して影響を及ぼし難い（基材を溶解しない）溶媒を選択することが好ましい。

溶媒浸漬工程における溶媒温度や浸漬時間等の各条件は、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類、液晶硬化膜の重合度等に応じて、得られる光学異方性膜の屈折率ｎｙＡ（λ）とｎｚＡ（λ）との比率が式（１）を満たすよう適宜決定することができる。例えば、光学異方性膜を連続的に製造する場合、溶媒温度は、好ましくは１０℃以上、より好ましくは１５℃以上であり、さらに好ましくは２０℃以上であり、また、好ましくは５０℃以下、より好ましくは４５℃以下、さらに好ましくは３５℃以下である。また、浸漬時間は、好ましくは１０秒以上、より好ましくは２０秒以上、さらに好ましくは３０秒以上であり、また、好ましくは６００秒以下、より好ましくは５５０秒以下、さらに好ましくは５００秒以下である。

溶媒浸漬工程後、溶媒中に浸漬した液晶硬化膜を乾燥して溶媒を除去することにより、液晶硬化膜からなる光学異方性膜を得ることができる。液晶硬化膜の乾燥は、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等により行うことができる。

光学異方性膜の厚さは、適用される表示装置に応じて適宜選択できる。例えば０．１～３００μｍであってよく、好ましくは０．５μｍ以上１００μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上５０μｍ以下である。光学異方性膜が水平配向液晶硬化膜からなる場合、その厚さは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは０．８μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上であり、また、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは４μｍ以下、特に好ましくは３．５μｍ以下である。

本発明は、本発明の光学異方性膜を含む光学フィルムを包含する。態様において、本発明の光学フィルムは、基材及び、該基材上に配向膜を介して、又は配向膜を介さずに積層される本発明の光学異方性膜を含んで構成される。本発明の光学フィルムにおいて、基材は剥離可能なものであってよい。

本発明の光学フィルムは、本発明の効果に影響を及ぼさない範囲において、本発明の光学異方性膜、基材及び配向膜以外の層を含んでいてもよい。そのような他の層としては、例えば、垂直配向位相差層、液晶硬化膜の機械的強度を高めたり、補強したりすることを目的とした硬化樹脂層、ハードコート層、オーバーコート層、粘接着層、プライマー層などが挙げられる。

本発明は、本発明の光学異方性膜と偏光フィルムとを含む楕円偏光板を包含する。
偏光フィルムは、偏光機能を有するフィルムであり、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムや吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として含むフィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５～１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１,０００～１０,０００程度であり、好ましくは１,５００～５,０００の範囲である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、１０～１５０μｍ程度とすることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３～８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。

二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性の有機染料としては、Ｃ．Ｉ．ＤＩＲＥＣＴ ＲＥＤ ３９などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常、０.０１～１質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常、０．５～２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０～４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０～１,８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常、１×１０^－４～１０質量部程度であり、好ましくは１×１０^－３～１質量部であり、さらに好ましくは１×１０^－３～１×１０^－２質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０～８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０～１,８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２～１５質量部程度であり、好ましくは５～１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０.１～１５質量部程度であり、好ましくは５～１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常６０～１,２００秒程度であり、好ましくは１５０～６００秒、さらに好ましくは２００～４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０～８５℃、さらに好ましくは６０～８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５～４０℃程度である。また浸漬時間は、通常１～１２０秒程度である。

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０～１００℃程度であり、好ましくは５０～８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０～６００秒程度であり、好ましくは１２０～６００秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常５～２０質量％程度であり、好ましくは８～１５質量％である。水分率が上記範囲内であると、適度な可撓性を有し、かつ、熱安定性に優れる偏光子を得られる。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは好ましくは５～４０μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。当該保護フィルムとしては、水平配向液晶硬化膜の製造に用い得る基材として先に例示した樹脂フィルムと同一のものが挙げられる。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５～３μｍである。

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２－３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

このようにして得られた偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光フィルムが得られる。透明保護フィルムとしては、光学異方性膜の製造に用い得る基材として先に例示した樹脂フィルムと同様の透明フィルムを好ましく用いることができる。

本発明の楕円偏光板は、本発明の光学異方性膜と偏光フィルムとを含んで構成されるものであり、例えば、本発明の光学異方性膜と偏光フィルムとを接着剤層等を介して積層させることにより本発明の楕円偏光板を得ることができる。また、本発明の光学フィルムから基材を取り除いた積層体と偏光フィルムとを貼合させることにより本発明の楕円偏光板を得ることができる。

本発明の一実施態様において、本発明の光学異方性膜と偏光フィルムとを積層する場合、光学異方性膜の遅相軸（光軸）と偏光フィルムの吸収軸との成す角が４５±５°となるように積層することが好ましい。

本発明の楕円偏光板は、従来の一般的な楕円偏光板、又は偏光フィルム及び位相差フィルムが備えるような構成を有していてよい。そのような構成としては、例えば、楕円偏光板を有機ＥＬ等の表示素子に貼合するための粘着剤層（シート）、偏光フィルムや位相差フィルムの表面を傷や汚れから保護する目的で用いられるプロテクトフィルム等が挙げられる。

本発明の楕円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の楕円偏光板は、有機ＥＬ表示装置に好適に用いることができる。

本発明の一態様において、本発明の楕円偏光板と前面板又はタッチセンサーパネルとを含む積層体と、有機ＥＬ表示パネルとから有機ＥＬ表示装置が構成される。したがって、本発明は、本発明の楕円偏光板と前面板とを含む積層体、本発明の楕円偏光板とタッチセンサーパネルとを含む積層体、及び、前記積層体を含む有機ＥＬ表示装置も対象とする。

本発明の楕円偏光板と前面板とを含む積層体を構成する前面板は、有機ＥＬ表示装置の視認側に配置され、表示装置を構成する他の構成部材を外部からの衝撃や温湿度等の環境変化から保護する役割を担う。前面板は、ガラス、強化ガラス等の無機材料や高分子フィルムなどから構成されることが好ましい。特に、フレキシブルな特性を有する高分子フィルムは、折り曲げが可能なフレキシブル表示装置用の積層体を構成する前面板として好適である。

前記高分子フィルムは、通常、透明な高分子フィルムであり、その可視光線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上である。具体的には、透明性及び耐熱性に優れるポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルム等が挙げられる。

高分子フィルムにシリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶媒などを配合してもよい。

前面板は、傷付き防止、反射防止、防汚、電磁波遮蔽、近赤外線遮蔽、色調整又はガラス飛散防止等の機能を有していてもよい。かかる機能を付与するため、これらの機能を有する少なくとも１つの層（例えばハードコート層など）を前面板の少なくとも一方の面に積層し得る。

本発明の楕円偏光板とタッチセンサーパネルとを含む積層体は、本発明の楕円偏光板と前面板に加えてタッチセンサーを含む。前面板としては、本発明の楕円偏光板と前面板とを含む積層体において先に例示したものと同様の前面板を用いることができる。

タッチセンサーは入力手段として用いられる。タッチセンサーとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式があり、いずれの方式であってもよい。タッチセンサーはフレキシブルな特性を有する基板と；該基板において使用者のタッチが感知される活性領域に形成された感知パターンと；前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含み得る。

本発明の積層体において、本発明の楕円偏光板、前面板及び／又はタッチセンサーの積層は、各部材を必要に応じて接着剤層を介して貼合することにより行い得る。本発明の積層体が接着剤層を含む場合、前面板と楕円偏光板との界面における反射や光の散乱を抑え、視認性を向上させるために、接着剤層の屈折率が前面板の屈折率に近く、光学的に透明である接着剤を選択することが好ましい。

接着剤としては、例えば、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等の当該分野で広く使用されているものを使用できる。

本発明の積層体における本発明の楕円偏光板、前面板及びタッチセンサーの積層順は特に限定されず、例えば、視認側から、
前面板／接着剤層／楕円偏光板／接着剤層／タッチセンサー
前面板／接着剤層／タッチセンサー／接着剤層／楕円偏光板
などであってよい。
上記積層体において、積層体の前面板とは反対側の最外層（すなわち、タッチセンサーまたは楕円偏光板）と有機ＥＬ表示パネルとを貼合することにより、本発明の有機ＥＬ表示装置を製造することができる。本発明の有機ＥＬ表示装置は、位相差値の経時的な変化が生じ難く、可視光の広い波長範囲で正面反射色相に優れる本発明の光学異方性膜を備えることにより、長期間にわたり良好な画像表示特性を発現することができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、それぞれ質量％及び質量部を意味する。

１．実施例１
（１）重合性液晶組成物の調製
下記式で示される重合性液晶化合物（Ａ－１）（分子量：１１５６）、重合性液晶化合物（Ｂ－１）（分子量：６６４）及び重合性液晶化合物（Ｃ－１）（分子量：１０８３）を調製した。

重合性液晶化合物（Ａ－１）：

重合性液晶化合物（Ａ－１）は特開２０１１－２０７７６５号公報に記載の方法で合成した。

重合性液晶化合物（Ｂ－１）：

重合性化合物（Ｂ－１）は特開２０１０－２４４３８号公報に記載の方法で合成した。

重合性液晶化合物（Ｃ－１）：

重合性化合物（Ｃ－１）は特開２０１１－２０７７６５号公報に記載の方法で合成した。

重合性液晶化合物（Ａ－１）８３質量部、重合性液晶化合物（Ｂ－１）３質量部、及び、重合性液晶化合物（Ｃ－１）１４質量部を混合し、液晶混合物（１）（合計量１００質量部）を得た。

特許文献（特開２０１７－１７９３６７）を参考にして、表１に記載の組成に従い、液晶混合物（１）と、重合開始剤、レベリング剤、重合禁止剤及び溶媒とを混合し、重合性液晶組成物（１）を調製した。なお、表１に示す重合開始剤、レベリング剤及び重合禁止剤の量は、液晶混合物（１）１００質量部に対する仕込み量である。また、溶媒の配合量は、液晶混合物（１）の質量％が重合性液晶組成物（１）の全量に対して１０質量％となるように設定した。具体的には、重合性液晶組成物（１）１０００質量部中に、液晶混合物（１）１００質量部が含まれるように溶媒を加えた。

重合開始剤：２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア（登録商標）３６９；ＢＡＳＦジャパン社製）
レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ビックケミージャパン製）
重合禁止剤：ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ；和光純薬工業株式会社製）
溶媒：Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ；関東化学株式会社製）

（２）光配向膜形成用組成物の調製
下記構造の光配向性材料５質量部とシクロペンタノン（溶媒）９５質量部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。下記式で示される光配向性材料は、特開２０１３－３３２４８号公報記載の方法で合成した。
光配向性材料

（３）光学フィルムの作製
以下のように光学フィルムを作製した。シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ－１４、日本ゼオン株式会社製、厚み２３μｍ）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、前記光配向膜形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施し、配向膜付き基材を得た。得られた配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、温度２５℃、湿度３０％ＲＨ環境下において、調製した重合性液晶組成物（１）を孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通した後、該重合性液晶組成物（１）を２５℃に保温した配向膜付き基材上にバーコーターを用いて塗布した。塗膜を１２０℃で１分間乾燥した。高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、乾燥後の塗膜に対して紫外線を照射することにより、重合性液晶化合物を重合させて光学フィルムを作製した。照射した紫外線の波長３６５ｎｍにおける積算光量は、１０００ｍＪ／ｃｍ^２とした。なお、紫外線の照射は、窒素雰囲気下でおこなった。光学フィルムは、基材、配向膜、及び光学異方性膜がこの順に積層されてなる。得られた光学異方性膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。

次いで、得られた光学フィルムを、温度２５℃の環境下において、シクロヘキサノンへ６０秒間浸漬させた（溶媒浸漬工程）。光学フィルムを取り出したのち温度２５℃の環境下で終夜静置することにより溶媒を乾燥させた。

（４）光学フィルムの物性／特性評価
溶媒乾燥後、下記評価方法に準じて三次元屈折率、位相差値、並びに耐久評価における位相差値変化（ΔＲｅ）の測定を行った。評価結果を表２に示す。

（ｉ）光学異方性膜の３次元屈折率、並びに、位相差値の計算
５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍのコーニングガラス板に、リンテック株式会社製の厚み２５μｍの感圧式粘着剤を介して、光学フィルムの光学異方性膜面（基材とは反対側の面）を貼合したのち、基材を剥離した。その後、さらに同様の感圧式粘着剤を介し２３μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ－１４、日本ゼオン株式会社製、厚み２３μｍ）を貼合し、位相差値の評価用試料とした。なお、ここで用いるＣＯＰは波長５５０ｎｍにおける位相差値が１ｎｍ以下の光学的に等方なフィルムであり、位相差値の評価に影響が出ないことを確認した。

上記位相差値の評価用試料について、測定機（王子計測機器株式会社製「ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ」）を用いて、試料への光の入射角を変化させて光学異方性膜の面内位相差値、及び進相軸を中心に４０°傾斜させたときの位相差値を測定した。各波長における平均屈折率は日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ－２２０を用いて測定した。また、膜厚は浜松ホトニクス株式会社製のＯｐｔｉｃａｌ ＮａｎｏＧａｕｇｅ膜厚計Ｃ１２５６２－０１を使用して測定した。

前述の面内位相差値、進相軸を中心に４０°傾斜させたときの位相差値、平均屈折率、及び膜厚の値から、王子計測機器株式会社が公開する技術資料（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｏｊｉ－ｋｅｉｓｏｋｕ．ｃｏ．ｊｐ／ｐｒｏｄｕｃｔｓ／ｋｏｂｒａ／ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ．ｈｔｍｌ）を参考にして、３次元屈折率を算出した。得られた３次元屈折率から、以下の式に従って光学異方性膜の光学特性を計算した。

（ｉｉ）耐久試験における位相差値変化量（ΔＲｅ）の測定
前述の位相差値の評価用試料について、耐久試験として１０５℃に管理したエアオーブン（エスペック社製ＰＨ－２０１）へ３０分間投入したのち、取り出して２５℃５５％ＲＨ環境下で６時間以上静置した。その後、上述のＫＯＢＲＡ－ＷＰＲを用い、再び面内位相差値の測定を行った。
耐久試験前後の位相差値から、下式に基づいて位相差値の変化量（｜ΔＲｅ｜）を算出した。

２．実施例２
シクロヘキサノンへ浸漬する時間を２４０秒間としたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製し、評価した。評価結果を表２に記す。

３．実施例３
シクロヘキサノンへ浸漬する時間を４２０秒間としたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製し、評価した。評価結果を表２に記す。

４．比較例１
紫外線照射後、溶媒浸漬工程を経なかったこと以外は実施例１と同様にして光学フィルムを作製し、評価した。評価結果を表２に記す。

実施例で作製された光学フィルムにおいては、位相差値の変化量（｜ΔＲｅＡ｜）が小さく、長期使用時の信頼性に優れる光学フィルムであることが確認された。

Claims (10)

1. 重合性液晶組成物の硬化物からなる光学異方性膜であって、式（１）：
   １．００２≦ｎｙＡ（４５０）／ｎｚＡ（４５０）≦１．０１０ （１）
   ［式（１）中、ｎｙＡ（４５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（４５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝４５０ｎｍでの屈折率を表す］、
   式（２）：
   ＲｅＡ（４５０）／ＲｅＡ（５５０）＜１．００ （２）
   ［式（２）中、ＲｅＡ（λ）は波長λｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表し、ＲｅＡ（λ）＝（ｎｘＡ（λ）－ｎｙＡ（λ））×ｄＡである〔式中、ｎｘＡ（λ）は光学異方性膜面内における波長λｎｍでの屈折率を表し、ｎｙＡ（λ）はｎｘＡと同一面内でｎｘＡの方向に対して直交する方向の波長λｎｍでの屈折率を表し、ｄＡは光学異方性膜の膜厚を示す〕］、及び、
   式（４）：
   １２０ｎｍ≦ＲｅＡ（５５０）≦１７０ｎｍ （４）
   ［式（４）中、ＲｅＡ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内位相差値を表す］
   を満たす、光学異方性膜。
2. 式（３）：
   １．００２≦ｎｙＡ（５５０）／ｎｚＡ（５５０）≦１．０１０ （３）
   ［式（３）中、ｎｙＡ（５５０）は、面内主屈折率のうち最も高い屈折率を示す方向ｘ（遅相軸方向）に対して同一面内で直交する方向ｙにおける波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表し、ｎｚＡ（５５０）は光学異方性膜の膜厚方向の波長λ＝５５０ｎｍでの屈折率を表す］
   を満たす、請求項１に記載の光学異方性膜。
3. 少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物である、請求項１又は２に記載の光学異方性膜。
4. 少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物であって、前記重合性液晶化合物が光学異方性膜平面に対して水平方向に配向した状態で硬化してなる、請求項１～３のいずれかに記載の光学異方性膜。
5. 請求項１～４のいずれかに記載の光学異方性膜を含む光学フィルム。
6. 請求項１～４のいずれかに記載の光学異方性膜と偏光フィルムとを含む、楕円偏光板。
7. 光学異方性膜の遅相軸と、偏光フィルムの吸収軸との成す角が４５±５°である、請求項６に記載の楕円偏光板。
8. 請求項６又は７に記載の楕円偏光板と前面板と含む積層体。
9. 請求項６又は７に記載の楕円偏光板とタッチセンサーパネルとを含む積層体。
10. 請求項８又は９に記載の積層体を含む有機ＥＬ表示装置。