JP7417191B2 - 液体噴射装置 - Google Patents
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Description
上記課題を解決するための本発明の第1の態様の液体噴射装置は、液体を噴射するノズルと、液体に対して気流を導入する気流導入部材と、液体の圧力を調整する送液ポンプと、前記気流導入部材による気流の導入圧力を調整する圧力ポンプと、前記送液ポンプ及び前記圧力ポンプの駆動を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、液体の噴射圧力に対する前記気流の導入圧力の比率が0.005以上0.11以下となることを特徴とする。
最初に、実施例1の液体噴射装置1の概要について図1を参照して説明する。図1に示す液体噴射装置1は、液体4を連続的に噴射するノズル23を有する噴射部2と、液体4を貯留する液体容器6と、ノズル23から噴射される連続状態の液体4aに対して気流を導入する気流導入部材33を有する気流発生部3と、制御部5と、を備えている。なお、図1では、内部構成がわかりやすいように、気流導入部材33を断面図として表している。
液体噴射装置1の噴射部2は、ノズル23と、液体搬送管21と、送液ポンプ22と、を備えている。このうち、ノズル23は、液体4を対象物に向けて噴射させる。また、液体搬送管21は、液体容器6からノズル23までの液体4の流路である。そして、送液ポンプ22は、ノズル23から噴射方向Dに噴射される液体4の噴射圧力を調整する。
液体容器6は、液体4を貯留する。液体容器6に貯留された液体4は、液体搬送管21を介してノズル23に供給される。液体4としては、例えば水が好ましく用いられるが、有機溶剤等であってもよい。また、水や有機溶剤には、任意の溶質が溶解していてもよく、任意の分散質が分散していてもよい。液体容器6は、密閉された容器であってもよく、開放された容器であってもよい。
気流発生部3は、気流導入部材33と、気流導入部材33に繋がる気流導入管31と、圧力ポンプ32と、を備えている。このうち、気流導入部材33は、ノズル23から噴射される連続状態の液体4aに対して気流を導入する。また、気流導入管31は、気流導入部材33に向けて気流方向F2に気体を供給するための気体の流路である。そして、圧力ポンプ32は、気流導入管31を介して気流導入部材33に気流を導入するためのポンプであり、気流導入部材33による気流の導入圧力を調整する。
制御部5は、配線72を介して送液ポンプ22と電気的に接続されている。また、制御部5は、配線73を介して圧力ポンプ32と電気的に接続されている。制御部5は、送液ポンプ22を制御する送液ポンプ制御部52と、圧力ポンプ32を制御する圧力ポンプ制御部53と、送液ポンプ22及び圧力ポンプ32の制御プログラムなど様々なデータを記憶している記憶部51と、を有している。
次に、本実施例の液体噴射装置1を用いてどのように制御部5が送液ポンプ22及び圧力ポンプ32の駆動を制御するかについて、図2から図7を参照して説明する。
4b…液滴、4c…液滴化位置、5…制御部、6…液体容器、21…液体搬送管、
22…送液ポンプ、23…ノズル、31…気流導入管、32…圧力ポンプ、
33…気流導入部材、33a…気体流路、33b…気体流路、33c…気体室、
33d…排出口、51…記憶部、52…送液ポンプ制御部、53…圧力ポンプ制御部、
72…配線、73…配線
Claims (4)
- 液体を噴射するノズルと、
液体に対して気流を導入する気流導入部材と、
液体の圧力を調整する送液ポンプと、
前記気流導入部材による気流の導入圧力を調整する圧力ポンプと、
前記送液ポンプ及び前記圧力ポンプの駆動を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、液体の噴射圧力に対する前記気流の導入圧力の比率が0.005以上0.11以下とするとともに、液体の噴射圧力に応じて、かつ、前記ノズル中の液体が層流となるレイノルズ数のときよりも前記ノズル中の液体が乱流となるレイノルズ数のときのほうが低くなるように、前記気流の導入圧力を調整することを特徴とする液体噴射装置。 - 請求項1に記載の液体噴射装置において、
前記制御部は、前記ノズル中の液体が層流となるレイノルズ数の場合、前記ノズル中の液体のレイノルズ数が閾値以下か前記閾値を超えるかに基づいて、前記気流の導入圧力を調整することを特徴とする液体噴射装置。 - 液体を噴射するノズルと、
液体に対して気流を導入する気流導入部材と、
液体の圧力を調整する送液ポンプと、
前記気流導入部材による気流の導入圧力を調整する圧力ポンプと、
前記送液ポンプ及び前記圧力ポンプの駆動を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、液体の噴射圧力に対する前記気流の導入圧力の比率が0.005以上0.11以下とするとともに、液体の噴射圧力に応じて、かつ、前記ノズル中の液体が層流となるレイノルズ数の場合、前記ノズル中の液体のレイノルズ数が閾値以下か前記閾値を超えるかに基づいて、前記気流の導入圧力を調整することを特徴とする液体噴射装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の液体噴射装置において、
前記制御部は、前記気流の導入圧力が0.01[MPa]以上0.15[MPa]以下の範囲となるように前記圧力ポンプを駆動することを特徴とする液体噴射装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020013694A JP7417191B2 (ja) | 2020-01-30 | 2020-01-30 | 液体噴射装置 |
| CN202110108572.1A CN113199866B (zh) | 2020-01-30 | 2021-01-27 | 液体喷射装置 |
| US17/161,646 US11351795B2 (en) | 2020-01-30 | 2021-01-28 | Liquid ejection device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020013694A JP7417191B2 (ja) | 2020-01-30 | 2020-01-30 | 液体噴射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021120545A JP2021120545A (ja) | 2021-08-19 |
| JP7417191B2 true JP7417191B2 (ja) | 2024-01-18 |
Family
ID=77025242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020013694A Active JP7417191B2 (ja) | 2020-01-30 | 2020-01-30 | 液体噴射装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11351795B2 (ja) |
| JP (1) | JP7417191B2 (ja) |
| CN (1) | CN113199866B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023160204A (ja) * | 2022-04-21 | 2023-11-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
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| JP2017170511A (ja) | 2016-03-25 | 2017-09-28 | Jfeスチール株式会社 | デスケーリング装置およびデスケーリング方法 |
| JP2020006557A (ja) | 2018-07-06 | 2020-01-16 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置及び液体噴射装置のメンテナンス方法 |
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| JP2717241B2 (ja) * | 1995-03-28 | 1998-02-18 | 工業技術院長 | ハイドロジェットによる材料の処理方法 |
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| JP5909317B2 (ja) * | 2010-08-12 | 2016-04-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
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-
2020
- 2020-01-30 JP JP2020013694A patent/JP7417191B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-27 CN CN202110108572.1A patent/CN113199866B/zh active Active
- 2021-01-28 US US17/161,646 patent/US11351795B2/en active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113199866A (zh) | 2021-08-03 |
| JP2021120545A (ja) | 2021-08-19 |
| US20210237463A1 (en) | 2021-08-05 |
| CN113199866B (zh) | 2022-11-29 |
| US11351795B2 (en) | 2022-06-07 |
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Legal Events
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|
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