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JP7419976B2 - Vacuum valves, turbomolecular pumps and vacuum vessels - Google Patents
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JP7419976B2 - Vacuum valves, turbomolecular pumps and vacuum vessels - Google Patents

Vacuum valves, turbomolecular pumps and vacuum vessels Download PDF

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Description

本発明は、真空バルブ、ターボ分子ポンプおよび真空容器に関する。 The present invention relates to vacuum valves, turbomolecular pumps and vacuum vessels.

ターボ分子ポンプは、半導体生産等のエッチングプロセスおよび化学気相成長(chemical vapor deposition;CVD)プロセスの際に、これらのプロセスが行われる真空容器の排気において使用される。この真空容器からターボ分子ポンプ内に、これらのプロセスにおける生成物等のパーティクルが流入すると、パーティクルは高速回転するロータにより跳ね飛ばされる場合がある。この跳ね飛ばされたパーティクルを反跳パーティクルと呼ぶ。反跳パーティクルは上記真空容器の内部まで達することがある。 Turbomolecular pumps are used during etching and chemical vapor deposition (CVD) processes, such as in semiconductor production, to evacuate the vacuum vessels in which these processes occur. When particles such as products from these processes flow into the turbomolecular pump from this vacuum vessel, the particles may be blown away by the high-speed rotating rotor. These bounced particles are called recoil particles. The recoil particles may reach the interior of the vacuum vessel.

この問題に対処するため、真空容器とロータとの間に配置された部材により、反跳パーティクルを捕捉することが提案されている。特許文献1では、細線を編み上げて形成され、ターボ分子ポンプの吸気口とロータとの間に配置された円筒状の網目構造体により反跳パーティクルが捕捉される。特許文献2では、処理室と排気ポンプとの間の排気流路に突出自在な弁体に放射状に配置された細板状の阻止部材により、反跳パーティクルが阻止される。 To address this problem, it has been proposed to trap recoil particles with a member placed between the vacuum vessel and the rotor. In Patent Document 1, recoil particles are captured by a cylindrical network structure formed by braiding thin wires and arranged between an intake port and a rotor of a turbo-molecular pump. In Patent Document 2, recoil particles are blocked by thin plate-shaped blocking members arranged radially on a valve body that can freely protrude into an exhaust flow path between a processing chamber and an exhaust pump.

特開2010-223213号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-223213 特開2010-034392号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-034392

しかしながら、上述の特許文献1および2の方法では、反跳パーティクルを捕捉するための部材を流路に配置することにより、流路のコンダクタンスが低下してしまう。 However, in the methods of Patent Documents 1 and 2 described above, the conductance of the flow path is reduced by arranging a member for capturing recoil particles in the flow path.

本発明の第1の態様は、排気流路の開口面積を調節する真空バルブであって、前記排気流路の開口面積を調節し、凹部が形成された弁体と、前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置されている、真空バルブに関する。
本発明の第2の態様は、第1の態様の真空バルブと、前記真空バルブが接続される吸気口が形成されたターボ分子ポンプ本体とを備えるターボ分子ポンプに関する。
本発明の第3の態様は、真空室と、前記真空室の排気側に設けられ、排気流路の下流側の面に凹部が形成された弁体と、前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置されている、真空容器に関する。
A first aspect of the present invention is a vacuum valve that adjusts the opening area of an exhaust flow path, the valve body adjusting the opening area of the exhaust flow path and having a recess formed therein, and an interior of the exhaust flow path. a first trapping member for trapping moving particles, the first trapping member relating to a vacuum valve disposed in the recess.
A second aspect of the present invention relates to a turbo-molecular pump comprising the vacuum valve of the first aspect and a turbo-molecular pump main body formed with an inlet to which the vacuum valve is connected.
A third aspect of the present invention includes a vacuum chamber, a valve body provided on the exhaust side of the vacuum chamber and having a recess formed in a downstream surface of the exhaust flow path, and a valve body that moves inside the exhaust flow path. a first trapping member for trapping particles, the first trapping member being disposed in the recess.

本発明によれば、真空バルブに配置された捕捉部材により反跳パーティクルを捕捉しつつ、流路のコンダクタンスの低下を抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to suppress a decrease in conductance of a flow path while capturing recoil particles by a capturing member disposed in a vacuum valve.

図1は、一実施形態に係る半導体製造装置の構成を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing the configuration of a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment. 図2は、一実施形態の真空バルブが開状態の場合の半導体製造装置を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a semiconductor manufacturing apparatus in an embodiment in which a vacuum valve is in an open state. 図3は、一実施形態の真空バルブが閉状態の場合の半導体製造装置を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a semiconductor manufacturing apparatus in a case where the vacuum valve of one embodiment is in a closed state. 図4は、弁体の凹部を示す半導体製造装置の拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the semiconductor manufacturing apparatus showing the recessed portion of the valve body. 図5は、反跳パーティクルの移動を説明するための概念図である。FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining movement of recoil particles. 図6Aは、第1捕捉部材を示す概念図である。FIG. 6A is a conceptual diagram showing the first capturing member. 図6Bは、第1捕捉部材を構成するネットを示す概念図である。FIG. 6B is a conceptual diagram showing a net constituting the first capturing member. 図7は、変形例に係る弁体の凹部を模式的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a recessed portion of a valve body according to a modification. 図8は、変形例に係る弁体の凹部を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a concave portion of a valve body according to a modification. 図9は、変形例に係るターボ分子ポンプのバッフルを模式的に示す拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a baffle of a turbo-molecular pump according to a modification. 図10は、変形例に係るターボ分子ポンプのバッフルを示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a baffle of a turbomolecular pump according to a modified example. 図11は、バッフルにおける第2捕捉部材の配置を説明するための概念図である。FIG. 11 is a conceptual diagram for explaining the arrangement of the second capturing member in the baffle. 図12は、変形例に係る弁体の凹部を模式的に示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view schematically showing a recessed portion of a valve body according to a modification.

以下、図を参照して本発明を実施するための形態について説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

-実施形態-
本実施形態の真空バルブは、真空容器を排気する真空ポンプの吸気口に設けられ、排気流路の開口面積を調節する真空バルブである。真空バルブは、排気流路の開口面積を調節する弁体を備える。この弁体は、排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉する部材を備える。真空バルブに配置される当該部材を第1捕捉部材と呼ぶ。以下の実施形態では、半導体製造装置において、真空容器の内部の処理室と、当該真空容器を減圧するターボ分子ポンプとの間に真空バルブが配置される例を用いて説明する。真空バルブの真空容器側は吸気側であり、真空ポンプ側が排気側である。
-Embodiment-
The vacuum valve of this embodiment is a vacuum valve that is provided at the intake port of a vacuum pump that evacuates a vacuum container, and that adjusts the opening area of an exhaust flow path. The vacuum valve includes a valve body that adjusts the opening area of the exhaust flow path. This valve body includes a member that captures particles moving inside the exhaust flow path. The member placed on the vacuum valve is called the first capture member. The following embodiments will be described using an example in which a vacuum valve is disposed between a processing chamber inside a vacuum container and a turbo molecular pump that reduces pressure in the vacuum container in a semiconductor manufacturing apparatus. The vacuum container side of the vacuum valve is the intake side, and the vacuum pump side is the exhaust side.

図1は、本実施形態に係る半導体製造装置1の構成を模式的に示す側面図である。図2および図3は、それぞれ、真空バルブ20が開状態および閉状態の場合の、半導体製造装置1の構成を模式的に示す断面図である。半導体製造装置1は、ターボ分子ポンプ10と、真空バルブ20と、真空容器40とを備える。ターボ分子ポンプ10は、ケーシング11と、ロータ12とを備える。ケーシング11は、ケーシング本体11Aと、フランジ11Bとを備える。真空バルブ20は、弁体駆動部21と、連結部22と、弁体24とを備える。弁体24は、弁体本体240と、第1捕捉部材200とを備え、凹部30が形成されている。真空容器40には、処理室41が形成されている。 FIG. 1 is a side view schematically showing the configuration of a semiconductor manufacturing apparatus 1 according to this embodiment. 2 and 3 are cross-sectional views schematically showing the configuration of the semiconductor manufacturing apparatus 1 when the vacuum valve 20 is in an open state and a closed state, respectively. The semiconductor manufacturing apparatus 1 includes a turbo molecular pump 10, a vacuum valve 20, and a vacuum container 40. The turbomolecular pump 10 includes a casing 11 and a rotor 12. The casing 11 includes a casing main body 11A and a flange 11B. The vacuum valve 20 includes a valve body drive section 21 , a connecting section 22 , and a valve body 24 . The valve body 24 includes a valve body body 240 and a first capture member 200, and has a recess 30 formed therein. A processing chamber 41 is formed in the vacuum container 40 .

ターボ分子ポンプ10は、ケーシング11の内部にARを回転軸として回転自在なロータ12が格納されている。ロータ12は、例えば磁気軸受により非接触支持されたり、玉軸受により支持され、不図示のモータにより高速回転駆動される。 In the turbo molecular pump 10, a rotor 12 is housed inside a casing 11 and is rotatable around AR as a rotation axis. The rotor 12 is supported, for example, in a non-contact manner by a magnetic bearing or by a ball bearing, and is driven to rotate at high speed by a motor (not shown).

ロータ12には、複数段の回転翼(不図示)が形成されている。ケーシング11に固定された固定側には、回転軸ARの軸方向に対して回転翼と交互に配置された複数段の固定翼(不図示)が設けられている。
なお、図示は省略するが、ターボ分子ポンプ10は、ロータ側に円筒状のネジロータ、固定側にネジロータの外周側に設けられたネジステータが設けられていてもよい。
The rotor 12 is formed with multiple stages of rotary blades (not shown). A fixed side fixed to the casing 11 is provided with multiple stages of fixed blades (not shown) arranged alternately with rotary blades in the axial direction of the rotation axis AR.
Although not shown, the turbo molecular pump 10 may include a cylindrical screw rotor on the rotor side and a screw stator provided on the outer circumferential side of the screw rotor on the fixed side.

ターボ分子ポンプ10には、真空処理室41に連通する吸気口13が形成されている。吸気口13には、処理室41を真空排気する排気流路(以下、単に流路ということもある)が形成されている。ロータ12を高速回転駆動することにより、吸気口13から流入した気体分子は回転翼および固定翼の隙間を通って不図示の排気口から排気される。この排気口には、補助ポンプが排気可能に接続される。 The turbo molecular pump 10 is formed with an intake port 13 that communicates with the vacuum processing chamber 41 . An exhaust flow path (hereinafter also simply referred to as a flow path) for evacuating the processing chamber 41 is formed in the intake port 13 . By driving the rotor 12 to rotate at high speed, gas molecules flowing in from the intake port 13 are exhausted from an exhaust port (not shown) through a gap between the rotary blade and the fixed blade. An auxiliary pump is connected to this exhaust port so as to be able to exhaust the air.

以下では、回転軸ARに沿ってz軸をとり、z軸に垂直に、x軸およびy軸を互いに垂直になるように設定した(座標系9参照)。図1~5、7~9、12では、x軸を紙面に垂直に、y軸を紙面に向かって右方向に配置した。また、断面図では、適宜後ろ側にある物体を省略して端面図としている。 In the following, the z-axis is taken along the rotation axis AR, and the x-axis and y-axis are set perpendicular to the z-axis and perpendicular to each other (see coordinate system 9). In FIGS. 1 to 5, 7 to 9, and 12, the x-axis is arranged perpendicularly to the paper surface, and the y-axis is arranged to the right toward the paper surface. Further, in the cross-sectional view, objects on the rear side are omitted as appropriate to provide an end view.

真空バルブ20は、真空容器40の処理室41とターボ分子ポンプ10の吸気口13とを排気可能に接続する排気流路に配置され、当該流路の流量を調節する。排気流路の開口面積とは、排気流路の流れ方向に垂直な断面の面積を指す。真空バルブ20は、弁体24が弁座から、弁座シート面と交差する方向に移動する形式のバルブであることが好ましく、ポペットバルブがより好ましい。ポペットバルブは、弁体24が弁座から、弁座シート面と垂直の方向に移動する形式のバルブである。ポペットバルブは、流路を流れる流体の流れ方向に移動する形式のバルブともいえる。図2の例はポペットバルブであり、連結部22が弁座、連結部22の上面がxy平面に平行な弁座シート面S1に相当する。真空バルブ20の開閉の際、弁体24は弁座シート面S1と垂直な方向(z方向)に往復移動する(矢印A1)。 The vacuum valve 20 is disposed in an exhaust flow path that connects the processing chamber 41 of the vacuum container 40 and the intake port 13 of the turbo-molecular pump 10 so as to enable exhaust, and adjusts the flow rate of the flow path. The opening area of the exhaust flow path refers to the area of the cross section perpendicular to the flow direction of the exhaust flow path. The vacuum valve 20 is preferably a valve in which the valve body 24 moves from the valve seat in a direction intersecting the valve seat surface, and is more preferably a poppet valve. A poppet valve is a type of valve in which the valve body 24 moves from the valve seat in a direction perpendicular to the valve seat seat surface. A poppet valve can also be said to be a type of valve that moves in the flow direction of fluid flowing through a flow path. The example in FIG. 2 is a poppet valve, in which the connecting portion 22 corresponds to a valve seat, and the upper surface of the connecting portion 22 corresponds to a valve seat seat surface S1 parallel to the xy plane. When the vacuum valve 20 is opened and closed, the valve body 24 reciprocates in a direction (z direction) perpendicular to the valve seat surface S1 (arrow A1).

図2および図3はそれぞれ真空バルブ20の全開状態および全閉状態を示す。これらの他、弁体24が開状態での位置と閉状態の位置との中間の任意の位置に停止可能にすることができる。この場合、真空バルブ20は部分的な開状態となる。部分的な開状態での流路のコンダクタンスは、全開状態におけるコンダクタンスと全閉状態のコンダクタンス(ゼロ)との間の値をとる。 2 and 3 show the vacuum valve 20 in a fully open state and a fully closed state, respectively. In addition to these, the valve body 24 can be made to be able to stop at any position intermediate between the open position and the closed position. In this case, the vacuum valve 20 is partially open. The conductance of the channel in the partially open state takes a value between the conductance in the fully open state and the conductance (zero) in the fully closed state.

また、半導体製造装置1において、処理室41の圧力を制御するように、弁体24の位置が自動で調整されることが好ましい。例えば、半導体製造装置1の不図示の制御装置の制御により、入力装置からの入力に基づいて処理室41の圧力が設定され、当該圧力を実現するように流路のコンダクタンスが弁体24の位置により調節される。 Further, in the semiconductor manufacturing apparatus 1, it is preferable that the position of the valve body 24 is automatically adjusted so as to control the pressure in the processing chamber 41. For example, under the control of a control device (not shown) of the semiconductor manufacturing apparatus 1, the pressure in the processing chamber 41 is set based on input from an input device, and the conductance of the flow path is adjusted to the position of the valve body 24 so as to achieve the pressure. Adjusted by.

真空バルブ20の弁体駆動部21は、弁体24を支持しつつ、開状態における位置と閉状態における位置との間を移動させる。弁体駆動部21の駆動機構は、特に限定されず、空気式または電動式等の駆動機構を備える構成にすることができる。図2では、弁体駆動部21と弁体24とが物理的に離れているように見えるが、弁棒等により適宜連結される。本実施形態の図では弁体駆動部21が2つ示されているが、その個数は特に限定されない。 The valve body drive unit 21 of the vacuum valve 20 supports the valve body 24 and moves it between an open position and a closed position. The drive mechanism of the valve body drive unit 21 is not particularly limited, and may be configured to include a pneumatic drive mechanism, an electric drive mechanism, or the like. Although the valve body drive unit 21 and the valve body 24 appear to be physically separated in FIG. 2, they are appropriately connected by a valve stem or the like. Although two valve body actuators 21 are shown in the drawings of this embodiment, the number is not particularly limited.

真空バルブ20の連結部22には、開口部23が形成されている。連結部22はxy平面に沿って開口部23を囲むように形成されている。ターボ分子ポンプ10のフランジ11Bの上面は、xy平面に平行となっており、真空バルブ20の連結部22の下面に当接する。これにより、連結部22の開口部23とフランジ11Bの吸気口13とが排気可能に接続される。フランジ11Bの上面には、Oリング等のシール部材(不図示)が配置され、シール部材によりフランジ11Bと連結部22とがシールされる。シール部材によるシールされる連結部22の領域を当接部220という。
なお、図2の例では連結部22の上面に弁体24の弁座を設け、かつ、連結部22の下面にフランジ11Bが当接する当接部220を設ける構成としたが、弁体24の弁座が設けられる部材と、当接部220が設けられる部材とは、別の部材で構成されてもよい。
An opening 23 is formed in the connecting portion 22 of the vacuum valve 20 . The connecting portion 22 is formed so as to surround the opening 23 along the xy plane. The upper surface of the flange 11B of the turbo-molecular pump 10 is parallel to the xy plane and comes into contact with the lower surface of the connecting portion 22 of the vacuum valve 20. As a result, the opening 23 of the connecting portion 22 and the intake port 13 of the flange 11B are connected to enable exhaust. A sealing member (not shown) such as an O-ring is arranged on the upper surface of the flange 11B, and the flange 11B and the connecting portion 22 are sealed by the sealing member. The region of the connecting portion 22 that is sealed by the sealing member is referred to as a contact portion 220.
In the example of FIG. 2, the valve seat of the valve body 24 is provided on the upper surface of the connecting portion 22, and the contact portion 220 with which the flange 11B abuts is provided on the lower surface of the connecting portion 22. The member on which the valve seat is provided and the member on which the abutment portion 220 is provided may be made of different members.

図4は、真空バルブ20が開状態における、弁体24の凹部30を示す拡大断面図である。弁体24は、板状の部材からなり、xy平面に沿って配置されている。弁体24の弁座として機能する連結部22のシート面S1に対向する面である下面S2に、凹部30が形成されている。下面S2は、xy平面に沿って配置されている。凹部30は、弁体24の真空バルブ20の排気側の面において、開口部23に対向する位置に配置されている。凹部30の中心軸ACは、ロータ12の回転軸ARと略一致することが好ましい。凹部30に、第1捕捉部材200が配置されている。第1捕捉部材200は、凹部30の内側に配置され、弁体24の下面S2から突出しないことが好ましい。第1捕捉部材200は、ボルト等の固定具により弁体24に固定され、真空バルブ20の開閉の際に、弁体24と一体となって移動する。 FIG. 4 is an enlarged sectional view showing the recess 30 of the valve body 24 when the vacuum valve 20 is in an open state. The valve body 24 is made of a plate-like member and is arranged along the xy plane. A recess 30 is formed in a lower surface S2, which is a surface facing the seat surface S1 of the connecting portion 22, which functions as a valve seat of the valve body 24. The lower surface S2 is arranged along the xy plane. The recess 30 is disposed at a position facing the opening 23 on the exhaust side surface of the vacuum valve 20 of the valve body 24 . It is preferable that the central axis AC of the recess 30 substantially coincides with the rotation axis AR of the rotor 12. The first capturing member 200 is arranged in the recess 30 . It is preferable that the first capture member 200 is disposed inside the recess 30 and does not protrude from the lower surface S2 of the valve body 24. The first capture member 200 is fixed to the valve body 24 with a fixture such as a bolt, and moves together with the valve body 24 when the vacuum valve 20 is opened or closed.

本実施形態では、弁体24の凹部30を構成する表面は、曲面となっている。これにより、開口部23から飛来したパーティクルを、凹部30の中心軸ACに近い方向に跳ね返すことができ、凹部30の外側、すなわち外周側にある処理室41への流路にパーティクルが進入することを抑制することができる。例えば、回転軸ARに沿って反跳パーティクルが飛来する場合、その進行方向は、矢印A2で示される方向(z方向)となる。このとき、反跳パーティクルは凹部30の内側に向けて反射される可能性が高くなり(矢印A3)、処理室41へと進入することを抑制できる。凹部の形状としては、球面または放物面が好ましい。上記と同様の観点から、凹部30を構成する弁体24の表面は、斜面でもよい。 In this embodiment, the surface constituting the recess 30 of the valve body 24 is a curved surface. Thereby, particles flying from the opening 23 can be bounced in a direction close to the central axis AC of the recess 30, and the particles can be prevented from entering the flow path to the processing chamber 41 located outside the recess 30, that is, on the outer peripheral side. can be suppressed. For example, when recoil particles fly along the rotation axis AR, their traveling direction is the direction (z direction) shown by arrow A2. At this time, the recoil particles are more likely to be reflected toward the inside of the recess 30 (arrow A3), and can be suppressed from entering the processing chamber 41. The shape of the recess is preferably spherical or parabolic. From the same viewpoint as above, the surface of the valve body 24 constituting the recess 30 may be an inclined surface.

凹部30の最大径L3は、凹部30に第1捕捉部材200が配置可能であれば特に限定されない。しかし、凹部30の最大径L3は、ターボ分子ポンプ10の吸気口13の最大径L1、および、真空バルブ20の開口部23の最大径L2の少なくとも一方の1.1倍よりも大きいことが好ましい。これにより、吸気口13または開口部23を覆うように凹部30を配置することができ、処理室41への反跳パーティクルの進入をさらに抑制することができる。凹部30の弁体24に平行な面に沿った形状、すなわち図のxy平面における形状は特に限定されないが、開口部23に合わせた形状が好ましく、円状、楕円状等にすることができる。 The maximum diameter L3 of the recess 30 is not particularly limited as long as the first capturing member 200 can be placed in the recess 30. However, the maximum diameter L3 of the recess 30 is preferably larger than 1.1 times at least one of the maximum diameter L1 of the intake port 13 of the turbo-molecular pump 10 and the maximum diameter L2 of the opening 23 of the vacuum valve 20. . Thereby, the recess 30 can be arranged so as to cover the intake port 13 or the opening 23, and recoil particles can be further suppressed from entering the processing chamber 41. The shape of the concave portion 30 along a plane parallel to the valve body 24, that is, the shape in the xy plane of the figure is not particularly limited, but it is preferably a shape that matches the opening 23, and can be circular, elliptical, or the like.

凹部30の最大径L3とは、中心軸ACに直交し、凹部30の内壁の2点を通る線分のうち、最も長い線分の長さとすることができる。開口部23の最大径L2とは、回転軸ARに直交し、開口部23の内壁の2点を通る線分のうち、最も長い線分の長さとすることができる。吸気口13の最大径L1とは、回転軸ARに直交し、吸気口13の内壁の2点を通る線分のうち、最も長い線分の長さとすることができる。
換言すると、図4の各部材の上面視では、一例として開口部である吸気口13、開口部23、凹部30は円形であり、凹部30の最大径L3が開口部13、23の最大径L1、L2よりも大きく、かつ、凹部30内に吸気口13および開口部23が含まれる。
The maximum diameter L3 of the recess 30 can be the length of the longest line segment among the line segments that are perpendicular to the central axis AC and pass through two points on the inner wall of the recess 30. The maximum diameter L2 of the opening 23 can be the length of the longest line segment among the line segments that are perpendicular to the rotation axis AR and pass through two points on the inner wall of the opening 23. The maximum diameter L1 of the intake port 13 can be the length of the longest line segment among the line segments that are perpendicular to the rotation axis AR and pass through two points on the inner wall of the intake port 13.
In other words, in a top view of each member in FIG. 4, the intake port 13, the opening 23, and the recess 30, which are openings, are circular, and the maximum diameter L3 of the recess 30 is the maximum diameter L1 of the openings 13 and 23. , L2, and includes the intake port 13 and the opening 23 within the recess 30.

第1捕捉部材200は、弁体24が配置される排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための部材である。 The first trapping member 200 is a member for trapping particles moving inside the exhaust flow path in which the valve body 24 is arranged.

図5は、第1捕捉部材200による反跳パーティクルの捕捉を説明するための概念図である。半導体製造装置1の処理室41では、エッチングプロセスおよびCVDプロセス等において、化学反応または機械部品の摺動等により、サブミクロンオーダーの径のパーティクルが発生し得る。これらのパーティクルが吸気口13を介してターボ分子ポンプ10内に流入すると、高速回転するロータ12により跳ね飛ばされる(矢印A4)。凹部30および第1捕捉部材200が無いとすると、反跳パーティクルは弁体24の下面S2および弁座シート面S1の間で反射しながら進み、処理室41に達し得る(破線矢印A5)。これらの反跳パーティクルが処理室41まで達すると、パーティクルがウェハ上に付着し半導体の生産歩留まりの悪化の原因となる。 FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining the capture of recoil particles by the first capture member 200. In the processing chamber 41 of the semiconductor manufacturing apparatus 1, particles with diameters on the order of submicrons may be generated due to chemical reactions or sliding of mechanical parts during etching processes, CVD processes, and the like. When these particles flow into the turbomolecular pump 10 through the intake port 13, they are splashed away by the rotor 12 rotating at high speed (arrow A4). If the recess 30 and the first trapping member 200 are not present, the recoil particles may advance while being reflected between the lower surface S2 of the valve body 24 and the valve seat surface S1, and reach the processing chamber 41 (broken line arrow A5). When these recoil particles reach the processing chamber 41, they adhere to the wafer and cause a deterioration in semiconductor production yield.

一方、本実施形態の真空バルブ20では、反跳パーティクルが第1捕捉部材200により捕捉されるため、処理室41への反跳パーティクルの進入を抑制することができる。また、反跳パーティクルが開口部23から第1捕捉部材200に入射した際に捕捉されなくとも、凹部30により内側に反射される(図4の矢印A2、A3)から、処理室41への流路へと向かいにくい。さらに、凹部30の反射後に再び第1捕捉部材200を通過する可能性が高いため、この通過の際に捕捉される可能性もある。 On the other hand, in the vacuum valve 20 of this embodiment, the recoil particles are captured by the first capture member 200, so that it is possible to suppress the recoil particles from entering the processing chamber 41. Furthermore, even if recoil particles are not captured when they enter the first capturing member 200 from the opening 23, they are reflected inward by the recess 30 (arrows A2 and A3 in FIG. 4), so that the flow toward the processing chamber 41 is prevented. It's hard to get to the road. Furthermore, since there is a high possibility that the light will pass through the first capture member 200 again after being reflected by the recess 30, there is a possibility that it will be captured during this pass.

本実施形態に係る第1捕捉部材200は、網目状の金属の細線からなるシート状の網目構造体である。第1捕捉部材200は、後述するように金属ワイヤ等の細線を編み上げたものからなり、網目の大きさはパーティクルの大きさよりも大きい。そのため、第1捕捉部材200に入射した反跳パーティクルは、一部は表面部分のワイヤに跳ね返されるが、大部分は第1捕捉部材200の内部に侵入し、内部でワイヤとの衝突を繰り返すことになる。衝突を繰り返すことで反跳パーティクルの運動エネルギーは小さくなり、最終的には第1捕捉部材200の内部に捕捉されることになる。 The first capturing member 200 according to the present embodiment is a sheet-like mesh structure made of mesh-like thin metal wires. The first capturing member 200 is made of braided thin wires such as metal wires, as will be described later, and the size of the mesh is larger than the size of the particles. Therefore, although some of the recoil particles that have entered the first trapping member 200 are bounced back by the wire on the surface, most of the particles enter the first trapping member 200 and repeatedly collide with the wire inside. become. By repeating the collision, the kinetic energy of the recoil particles decreases, and eventually they are captured inside the first capturing member 200.

図6Aは、第1捕捉部材200を構成する網目構造体を説明するための概念図である。網目構造体には、特許文献1に記載のように布状のネット2000が用いられる。ネット2000は、図6Bに示すように、ステンレスワイヤ等の金属細線を、編機によりメリヤス編みしたものである。なお、メリヤス編みしたネットを型付けローラで挟んで、波付けしたものをネット2000として用いても良い。金属細線のネットに代えて、アルミナとシリカとから成るアルミナシリカ繊維を編み上げて布状としたものを用いても良い。その場合、適度の柔軟性を得るために、シリカの比率を6~10%とすることが好ましい。さらに、金属細線の編み方はメリヤス編みに限るものではなく平織り等でも良い。 FIG. 6A is a conceptual diagram for explaining the mesh structure that constitutes the first capturing member 200. A cloth-like net 2000 is used as the mesh structure as described in Patent Document 1. As shown in FIG. 6B, the net 2000 is made by knitting thin metal wires such as stainless steel wires using a knitting machine. Note that the net 2000 may be a stockinette knitted net sandwiched between patterning rollers and corrugated. Instead of a net of fine metal wires, a cloth-like material obtained by knitting alumina-silica fibers made of alumina and silica may be used. In that case, in order to obtain appropriate flexibility, the proportion of silica is preferably 6 to 10%. Furthermore, the method of knitting the thin metal wires is not limited to stockinette knitting, but plain weaving or the like may be used.

本実施形態に係る第1捕捉部材200は、金属ワイヤ等を編み上げたネット2000で構成されているため、金属繊維をフェルト状とした捕捉部材に比べて隙間が大きい。そのため、反跳パーティクルは第1捕捉部材200の内部まで侵入しやすく、確実に捕捉されることになる。 Since the first capturing member 200 according to the present embodiment is configured with a net 2000 woven from metal wires or the like, the gap is larger than that of a capturing member made of felt-like metal fibers. Therefore, the recoil particles easily penetrate into the first trapping member 200 and are reliably captured.

なお、本実施の形態では、目の粗いネット2000を積層したシート状の構造とすることで、反跳パーティクルが第1捕捉部材200のより内部まで入り込み易くしている。その場合、同一網目のものを積層しても良いし、表面に近いものは網目を粗くするとともに、パーティクルが捕捉される内部の層の網目についてやや細かくするように、網目の粗さを層に応じて変えても良い。また、金属メッシュ等の比較的平らなネットを積層する場合には、金属メッシュを波折りしてから積層することにより嵩を大きくし、反跳パーティクルを内部にまで入り易くするのが好ましい。 In this embodiment, by forming a sheet-like structure in which coarse nets 2000 are laminated, recoil particles can more easily enter the first trapping member 200 . In that case, layers with the same mesh may be laminated, or the layers near the surface may have coarser meshes, while the inner layers where particles are captured may have slightly finer meshes. You can change it accordingly. In addition, when laminating relatively flat nets such as metal meshes, it is preferable to fold the metal meshes into waves and then stack them to increase the volume so that recoil particles can easily enter the inside.

真空容器40は、半導体生産のエッチングプロセスまたはCVDプロセス等のプロセスを行うための耐圧容器である。真空容器40には、これらのプロセスを内部で行うための処理室41が形成されている。
なお、本実施形態の真空バルブ20は、半導体生産用の真空容器40に接続される他、任意の用途の真空容器に排気可能に接続することができる。
The vacuum container 40 is a pressure-resistant container for performing a process such as an etching process or a CVD process in semiconductor production. A processing chamber 41 is formed in the vacuum container 40 to perform these processes inside.
In addition to being connected to the vacuum container 40 for semiconductor production, the vacuum valve 20 of this embodiment can be connected to a vacuum container for any purpose so as to be evacuated.

上述の実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)本実施形態の真空バルブは、真空容器40を排気する真空ポンプ10の吸気口13に設けられ、排気流路の開口面積を調節する真空バルブ20である。真空バルブ20は、排気流路の開口面積を調節し、真空ポンプ10側に凹部30が形成された弁体24と、排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材200とを備え、第1捕捉部材200は、凹部30に配置されている。これにより、反跳パーティクルを捕捉しつつ、流路のコンダクタンスの低下を抑制することができる。
According to the embodiment described above, the following effects can be obtained.
(1) The vacuum valve of this embodiment is the vacuum valve 20 that is provided at the intake port 13 of the vacuum pump 10 that evacuates the vacuum container 40 and adjusts the opening area of the exhaust flow path. The vacuum valve 20 includes a valve body 24 that adjusts the opening area of the exhaust flow path and has a recess 30 formed on the side of the vacuum pump 10, and a first trapping member 200 that traps particles moving inside the exhaust flow path. The first capturing member 200 is disposed in the recess 30. Thereby, it is possible to trap recoil particles while suppressing a decrease in the conductance of the flow path.

(2)本実施形態の真空バルブにおいて、第1捕捉部材200は、真空バルブ20が全開状態または一部開状態のときに、排気流路と接続される開口部23に対向する位置に配置される。これにより、効率よく反跳パーティクルを捕捉することができる。 (2) In the vacuum valve of this embodiment, the first trapping member 200 is arranged at a position facing the opening 23 connected to the exhaust flow path when the vacuum valve 20 is fully open or partially open. Ru. Thereby, recoil particles can be efficiently captured.

次のような変形も本発明の範囲内であり、上述の実施形態と組み合わせることが可能である。以下の変形例において、上述の実施形態と同様の構造、機能を示す部位等に関しては、同一の符号で参照し、適宜説明を省略する。 The following modifications are also within the scope of the invention and can be combined with the embodiments described above. In the following modified examples, parts having the same structures and functions as those in the above-described embodiment will be referred to with the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted as appropriate.

(変形例1)
上述の実施形態において、凹部の側面を弁体の下面に略垂直な面としてもよい。
(Modification 1)
In the embodiments described above, the side surfaces of the recess may be substantially perpendicular to the lower surface of the valve body.

図7は、本変形例に係る弁体24Aを模式的に示す断面図である。弁体24Aは、弁体本体240Aと、第1捕捉部材200とを備え、凹部30Aが形成されている。第1捕捉部材200は、凹部30Aに配置されている。凹部30Aの側面31は、円筒状に形成されている。側面31は、z軸方向に伸び、弁体24Aにおいて弁座と対向する面である下面S2に略垂直な面となっている。これにより、凹部30Aを容易に加工することができる。
なお、凹部30Aの弁体24Aに平行な面に沿った形状、すなわち図のxy平面における形状は特に限定されないが、開口部23に合わせた形状が好ましく、円状、楕円状等にすることができる。
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a valve body 24A according to this modification. The valve body 24A includes a valve body 240A and a first capture member 200, and has a recess 30A formed therein. The first capturing member 200 is placed in the recess 30A. The side surface 31 of the recess 30A is formed into a cylindrical shape. The side surface 31 extends in the z-axis direction and is a surface substantially perpendicular to the lower surface S2, which is a surface facing the valve seat of the valve body 24A. Thereby, the recessed portion 30A can be easily processed.
Note that the shape of the recess 30A along a plane parallel to the valve body 24A, that is, the shape in the xy plane of the figure, is not particularly limited, but it is preferably a shape that matches the opening 23, and may be circular, elliptical, etc. can.

(変形例2)
上述の実施形態において、複数の第1捕捉部材を凹部に配置してもよい。
(Modification 2)
In the embodiments described above, a plurality of first capture members may be arranged in the recess.

図8は、本変形例に係る凹部を模式的に示す断面図である。弁体24Bは、弁体本体240と、第1捕捉部材200Aおよび200Bと、支持部材245とを備え、凹部30が形成されている。第1捕捉部材200Aおよび200Bは、互いに略平行に凹部30に配置されている。第1捕捉部材200Aおよび200Bは、弁体24Bに沿ってxy平面に略平行に広がるシート状の構造を有する。xy平面に沿った、第1捕捉部材200Aの幅と第2捕捉部材200Bの幅は異なる。第1捕捉部材200Aおよび200Bは、それぞれ、配置された位置における凹部30の幅に応じた幅を有する。 FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a recess according to this modification. The valve body 24B includes a valve body body 240, first capture members 200A and 200B, and a support member 245, and has a recess 30 formed therein. The first capturing members 200A and 200B are arranged in the recess 30 substantially parallel to each other. The first capture members 200A and 200B have a sheet-like structure that extends substantially parallel to the xy plane along the valve body 24B. The width of the first capturing member 200A and the width of the second capturing member 200B along the xy plane are different. The first capturing members 200A and 200B each have a width that corresponds to the width of the recess 30 at the position where the first capturing members 200A and 200B are arranged.

支持部材245は、第1捕捉部材200Aおよび200Bを支持するための部材である。支持部材245による第1捕捉部材200Aおよび200Bの支持の態様は特に限定されない。本変形例では、支持部材245を、弁体24Bの下面S2に略垂直に伸びる柱状の構造体とする。第1捕捉部材200Aおよび200Bは支持部材245にボルト等の固定具により固定されている。支持部材245の材料は支持に十分な強度があれば特に限定されず、金属等とすることができる。 Support member 245 is a member for supporting first capture members 200A and 200B. The manner in which the first capturing members 200A and 200B are supported by the supporting member 245 is not particularly limited. In this modification, the support member 245 is a columnar structure extending substantially perpendicularly to the lower surface S2 of the valve body 24B. The first capture members 200A and 200B are fixed to the support member 245 with fasteners such as bolts. The material of the support member 245 is not particularly limited as long as it has sufficient strength for support, and may be metal or the like.

本変形例では、凹部30に複数のシート状の第1捕捉部材200Aおよび200Bが配置されている。これにより、凹部30の各深さにおける幅に合わせた第1捕捉部材を配置することができ、その結果、第1捕捉部材を凹部30により稠密に配置でき効率よくパーティクルを捕捉することができる。 In this modification, a plurality of sheet-shaped first capturing members 200A and 200B are arranged in the recess 30. Thereby, the first trapping members can be arranged in accordance with the width at each depth of the recess 30, and as a result, the first trapping members can be arranged more densely in the recess 30 and particles can be captured efficiently.

(変形例3)
上述の実施形態において、ターボ分子ポンプの吸気口とロータとの間の流路に、パーティクルを捕捉するための第2捕捉部材を配置してもよい。本変形例の半導体製造装置は、ターボ分子ポンプが第2捕捉部材を支持するためのバッフルを備える点で上述の実施形態とは異なっている。
(Modification 3)
In the embodiments described above, a second trapping member for trapping particles may be arranged in the flow path between the intake port and the rotor of the turbomolecular pump. The semiconductor manufacturing apparatus of this modification differs from the above-described embodiment in that the turbo-molecular pump includes a baffle for supporting the second capture member.

図9および図10は、バッフル15を説明する図である。図9は、本変形例のターボ分子ポンプにおいて、バッフル15が設けられている部分の拡大図である。図10は、バッフル15の斜視図である。ターボ分子ポンプ10Aは、固定翼16と回転翼120が回転軸方向(z軸方向)に沿って交互に配置されている。バッフル15は、ケーシング11のフランジ11Bに取り付けられている。図10に示すように、バッフル15は、円盤150、支柱151、枠152、第2捕捉部材300を備えている。枠152はリブ構造を有しており、内側リング152Aと、外側リング152Bと、リング152Aおよび152Bを接続する放射状リブ152Cとを備えている。 9 and 10 are diagrams illustrating the baffle 15. FIG. 9 is an enlarged view of a portion where the baffle 15 is provided in the turbomolecular pump of this modification. FIG. 10 is a perspective view of the baffle 15. In the turbo molecular pump 10A, fixed blades 16 and rotary blades 120 are arranged alternately along the rotation axis direction (z-axis direction). Baffle 15 is attached to flange 11B of casing 11. As shown in FIG. 10, the baffle 15 includes a disk 150, a support 151, a frame 152, and a second capture member 300. The frame 152 has a rib structure and includes an inner ring 152A, an outer ring 152B, and a radial rib 152C connecting the rings 152A and 152B.

複数の支柱151は内側リング152Aの内周面に等間隔で固定されており、各支柱151の下端には円盤150が固定されている。支柱151の長さは、図9に示すように、円盤150がロータ12の上面の近傍に配置されるように設定される。磁気浮上型の場合、ロータ12は磁気浮上されて高速で回転するが、ガス負荷に応じて回転軸方向に僅かに上下する。そのため、円盤150は、ロータ12が上下に移動してもロータ12と接触しない程度の位置に配置される。また、円盤150が回転翼120の上方を塞がないように、円盤150の外径寸法は、回転翼120の付け根部分の直径寸法以下に設定される。 A plurality of columns 151 are fixed to the inner peripheral surface of the inner ring 152A at equal intervals, and a disk 150 is fixed to the lower end of each column 151. The length of the support column 151 is set so that the disk 150 is placed near the top surface of the rotor 12, as shown in FIG. In the case of the magnetic levitation type, the rotor 12 is magnetically levitated and rotates at high speed, but it moves up and down slightly in the direction of the rotation axis depending on the gas load. Therefore, the disk 150 is placed at a position where it does not come into contact with the rotor 12 even if the rotor 12 moves up and down. Further, so that the disk 150 does not block the upper part of the rotor blade 120, the outer diameter of the disk 150 is set to be less than or equal to the diameter of the root portion of the rotor blade 120.

板状の第2捕捉部材300は、符号300A~300Cで示すように、内側リング152Aの外周面、外側リング152Bの内周面、および放射状リブ152Cの一方の面を覆うように設けられている。なお、図10に示す第2捕捉部材300Cの配置は、ロータ12が、吸気口側から見て時計回りに回転する構成の場合に適用される。ロータ12が反時計回りに回転する構成の場合には、第2捕捉部材300を、放射状リブ152Cの反対側の面が覆われるように取り付けるのが好ましい。第2捕捉部材300は、全体の形状が異なる他は、第1捕捉部材200と同様の構造、材料を有するものとでき、第2捕捉部材300は、金属の網目構造体であることが好ましい。 The plate-shaped second capturing member 300 is provided to cover the outer circumferential surface of the inner ring 152A, the inner circumferential surface of the outer ring 152B, and one surface of the radial rib 152C, as indicated by symbols 300A to 300C. . Note that the arrangement of the second capturing member 300C shown in FIG. 10 is applied when the rotor 12 is configured to rotate clockwise when viewed from the intake port side. In the case of a configuration in which the rotor 12 rotates counterclockwise, it is preferable to attach the second capture member 300 so that the opposite surface of the radial rib 152C is covered. The second trapping member 300 can have the same structure and material as the first trapping member 200 except for the overall shape, and the second trapping member 300 is preferably a metal mesh structure.

図11は、吸気口側から見たバッフル15を示す。破線は、ロータ12の一段目の回転翼120を示す。吸気口13からポンプ内に落下し、バッフル15を通過したパーティクルは、中央部分の円盤150の上に落下するか、または、円盤150よりも外周側の回転翼120の上に落下する。円盤150上に落下したパーティクルは円盤上に留まるので、装置側に戻ることはない。 FIG. 11 shows the baffle 15 viewed from the intake port side. The broken line indicates the first stage rotor blade 120 of the rotor 12. Particles that fall into the pump from the intake port 13 and pass through the baffle 15 fall onto the disk 150 in the center or onto the rotor blade 120 on the outer peripheral side of the disk 150. Particles that have fallen onto the disk 150 remain on the disk and do not return to the apparatus side.

一方、回転翼120上に落下したパーティクルは、高速回転する回転翼120により跳ね飛ばされる。図11では、回転翼120は矢印Rのように時計回りに回転している。回転翼120に落下したパーティクルは、接線方向に力を受けるので、接線方向に跳ね飛ばされる傾向が大きい。図11では、パーティクルが単純に接線方向に跳ね飛ばされた場合の軌跡Pをいくつか示した。このように接線方向に跳ね飛ばされることから、反跳パーティクルは、外周側の第2捕捉部材300により多く入射すると考えられる。第2捕捉部材300に入射した反跳パーティクルは捕捉され、真空バルブへの進入が抑制される。 On the other hand, particles that have fallen onto the rotary blade 120 are splashed away by the rotary blade 120 that rotates at high speed. In FIG. 11, the rotor 120 is rotating clockwise as indicated by arrow R. Particles that have fallen onto the rotary blade 120 are subjected to a force in the tangential direction, and therefore have a strong tendency to be blown away in the tangential direction. FIG. 11 shows several trajectories P when particles are simply bounced off in the tangential direction. Since the particles are thus bounced off in the tangential direction, it is considered that more of the recoil particles are incident on the second trapping member 300 on the outer peripheral side. Recoil particles that have entered the second capture member 300 are captured and prevented from entering the vacuum valve.

第2捕捉部材300により捕捉されなかった反跳パーティクルは、吸気口13に対して垂直(図のz方向)に近い方向に進むものが多くなる。これらの反跳パーティクルは、吸気口13に対向する位置に配置されている凹部30に入射し、第1捕捉部材200により捕捉される。従って、本変形例では、第1捕捉部材200および第2捕捉部材300の組合せにより、反跳パーティクルをさらに効率的に捕捉することができる。 Many of the recoil particles that are not captured by the second capturing member 300 move in a direction close to perpendicular to the intake port 13 (the z direction in the figure). These recoil particles enter the recess 30 located opposite the intake port 13 and are captured by the first capture member 200 . Therefore, in this modification, the combination of the first capturing member 200 and the second capturing member 300 allows recoil particles to be captured more efficiently.

(変形例4)
上述の実施形態において、真空バルブ20は、ターボ分子ポンプの一部として構成されていてもよい。この場合、上述のターボ分子ポンプ10がターボ分子ポンプ本体に相当し、ターボ分子ポンプ本体と真空バルブ20がターボ分子ポンプを構成する。あるいは、真空バルブ20は、真空容器の一部として構成されていてもよい。この場合、上述の真空容器40は真空容器本体に相当し、真空容器本体40と真空バルブ20が真空容器を構成する。他の態様として、弁体24を真空容器の一部として構成し、弁体駆動部22を弁体駆動装置として着脱可能に構成してもよい。
(Modification 4)
In the embodiments described above, the vacuum valve 20 may be configured as part of a turbomolecular pump. In this case, the above-mentioned turbo-molecular pump 10 corresponds to the turbo-molecular pump body, and the turbo-molecular pump body and the vacuum valve 20 constitute the turbo-molecular pump. Alternatively, the vacuum valve 20 may be configured as part of a vacuum vessel. In this case, the vacuum container 40 described above corresponds to a vacuum container main body, and the vacuum container main body 40 and the vacuum valve 20 constitute the vacuum container. As another embodiment, the valve body 24 may be configured as a part of the vacuum container, and the valve body drive unit 22 may be configured to be detachable as a valve body drive device.

(変形例5)
上述の実施形態では、真空バルブ20が閉状態において、第1捕捉部材200が開口部23に対向する位置に配置されている。しかし、真空バルブ20が全開状態および一部開状態の少なくとも一方において、凹部30が開口部23と対向する位置に配置されていれば、閉状態において凹部30が開口部23と対向する位置に配置されていなくともよい。
(Modification 5)
In the embodiment described above, the first capture member 200 is disposed at a position facing the opening 23 when the vacuum valve 20 is in the closed state. However, if the recess 30 is located at a position facing the opening 23 when the vacuum valve 20 is in at least one of the fully open state and the partially open state, the recess 30 is located at a position facing the opening 23 when the vacuum valve 20 is in the closed state. It doesn't have to be done.

(変形例6)
上述の実施形態では、第1捕捉部材を金属の網目構造体としたが、第1捕捉部材は、パーティクルを捕捉可能であればその構造および材料は特に限定されない。例えば、第1捕捉部材には、繊維を圧縮してフェルト状にしたもの、例えばステンレスフェルトまたはフッ素樹脂のフェルトを用いてもよいし、ゴム材、スポンジ材、コットン材等の柔軟性を有する素材を用いてもよい。
(Modification 6)
In the embodiments described above, the first trapping member is made of a metal mesh structure, but the structure and material of the first trapping member are not particularly limited as long as they can trap particles. For example, the first trapping member may be made of felt made by compressing fibers, such as stainless steel felt or fluororesin felt, or may be made of a flexible material such as rubber material, sponge material, or cotton material. may also be used.

(変形例7)
上述の実施形態では、ポペットバルブの例を用いて説明したが、スライドバルブの弁体に凹部を形成し、当該凹部に第1捕捉部材を配置してもよい。スライドバルブは、弁体が排気流路に直交する方向に移動するバルブである。スライドバルブの場合、一部開状態において、特に効率よく反跳パーティクルを捕捉することができる。
(Modification 7)
Although the above-described embodiment has been described using an example of a poppet valve, a recess may be formed in the valve body of the slide valve, and the first capturing member may be disposed in the recess. A slide valve is a valve whose valve body moves in a direction perpendicular to the exhaust flow path. In the case of a slide valve, recoil particles can be captured particularly efficiently in a partially open state.

(変形例8)
上述の実施形態において、弁体における凹部と反対側の面は平面としたが、凸部が形成されていてもよい。これにより、凹部が形成された部分の強度が減少することを抑制することができる。
(Modification 8)
In the embodiments described above, the surface of the valve body opposite to the recessed portion is flat, but a convex portion may be formed thereon. Thereby, it is possible to suppress the strength of the portion where the recessed portion is formed from decreasing.

図12は、本変形例における弁体24Cを模式的に示す断面図である。弁体24Cは、弁体本体240Bと、第1捕捉部材200とを備える。弁体24Cには、開口部23に向かい合う下面S2に凹部30が形成されている他、弁体24Cにおける凹部30の反対側の上面S3に凸部60が形成されている。凸部60の形状は特に限定されない。図12では、弁体24Cの中心部において、開口部23の開口面積と同程度の大きさの領域に、逆さまにしたお椀状の形状の凸部60が形成されている。凸部60の上面の形状は、凹部30を構成する弁体24Cの表面の形状と略同一の形状にすることができる。 FIG. 12 is a sectional view schematically showing a valve body 24C in this modification. The valve body 24C includes a valve body 240B and a first capture member 200. In the valve body 24C, a recess 30 is formed on the lower surface S2 facing the opening 23, and a convex portion 60 is formed on the upper surface S3 of the valve body 24C on the opposite side of the recess 30. The shape of the convex portion 60 is not particularly limited. In FIG. 12, an upside-down bowl-shaped convex portion 60 is formed in a region approximately the same size as the opening area of the opening 23 at the center of the valve body 24C. The shape of the upper surface of the convex portion 60 can be made substantially the same as the shape of the surface of the valve body 24C that constitutes the concave portion 30.

(態様)
上述した複数の例示的な実施形態またはその変形は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
(mode)
It will be appreciated by those skilled in the art that the exemplary embodiments described above, or variations thereof, are specific examples of the following aspects.

(第1項)一態様に係る真空バルブは、排気流路の開口面積を調節する真空バルブであって、前記排気流路の開口面積を調節し、凹部が形成された弁体と、前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置されている。これにより、真空バルブに配置された捕捉部材により反跳パーティクルを捕捉しつつ、流路のコンダクタンスの低下を抑制することができる。 (Section 1) A vacuum valve according to one embodiment is a vacuum valve that adjusts the opening area of an exhaust flow path, and includes a valve body that adjusts the opening area of the exhaust flow path and has a recess formed therein; and a first trapping member for trapping particles moving inside the flow path, the first trapping member being disposed in the recess. Thereby, the recoil particles can be captured by the capturing member disposed in the vacuum valve, and a decrease in the conductance of the flow path can be suppressed.

(第2項)他の一態様に係る真空バルブでは、第1項の態様の真空バルブにおいて、前記凹部を構成する前記弁体の表面は、斜面、曲面、球面または放物面のいずれかとすることができる。これにより、入射した反跳パーティクルを所望の方向に反射させ、より効率よく捕捉することができる。 (Section 2) In the vacuum valve according to another aspect, in the vacuum valve according to the aspect of Item 1, the surface of the valve body constituting the recess is one of an inclined surface, a curved surface, a spherical surface, or a paraboloid. be able to. Thereby, the incident recoil particles can be reflected in a desired direction and captured more efficiently.

(第3項)他の一態様に係る真空バルブでは、第1項の態様の真空バルブにおいて、前記凹部の側面は、前記弁体における弁座に対向する面に略垂直とすることができる。これにより、凹部を容易に加工することができる。 (Section 3) In the vacuum valve according to another aspect, in the vacuum valve according to the aspect of Item 1, the side surface of the recess may be substantially perpendicular to the surface of the valve body that faces the valve seat. Thereby, the recessed portion can be easily processed.

(第4項)他の一態様に係る真空バルブでは、第1項から第3項までのいずれかの態様の真空バルブにおいて、前記凹部は、前記真空バルブが全開状態または一部開状態のときに、前記排気流路の下流側の開口部に対向する位置に配置することができる。これにより、真空バルブの開口部から飛来するパーティクルをさらに効率よく捕捉することができる。 (Section 4) In the vacuum valve according to another aspect, in the vacuum valve according to any of the aspects from paragraphs 1 to 3, the recessed portion is formed when the vacuum valve is in a fully open state or a partially open state. In addition, the exhaust flow path may be disposed at a position facing the downstream opening of the exhaust flow path. Thereby, particles flying from the opening of the vacuum valve can be captured more efficiently.

(第5項)他の一態様に係る真空バルブでは、第1項から第4項までいずれかの態様の真空バルブにおいて、前記真空バルブは、前記弁体が前記排気流路に直交する方向に移動するか、または、前記弁体が前記排気流路を流れる流体の流れ方向に移動する形式のバルブとすることができる。これらの真空バルブでは、第1捕捉部材によるコンダクタンスの低下への影響が特に小さい。 (Section 5) In the vacuum valve according to another aspect, in the vacuum valve according to any one of the aspects from paragraphs 1 to 4, the vacuum valve is configured such that the valve body is oriented in a direction perpendicular to the exhaust flow path. Alternatively, the valve body may move in the flow direction of the fluid flowing through the exhaust flow path. In these vacuum valves, the influence of the first capture member on the conductance reduction is particularly small.

(第6項)一態様に係るターボ分子ポンプは、第1項から第5項までいずれかの態様の真空バルブと、前記真空バルブが接続される吸気口が形成されたターボ分子ポンプ本体とを備える。これにより、ターボ分子ポンプの吸気口側の真空容器に反跳パーティクルが進入するのを低減しつつ、コンダクタンスの低下により排気効率が落ちることを抑制することができる。 (Section 6) A turbomolecular pump according to one embodiment includes the vacuum valve according to any one of the embodiments from Sections 1 to 5, and a turbomolecular pump main body in which an intake port to which the vacuum valve is connected is formed. Be prepared. Thereby, it is possible to reduce recoil particles from entering the vacuum container on the intake port side of the turbo-molecular pump, and to suppress a decrease in exhaust efficiency due to a decrease in conductance.

(第7項)他の一態様に係るターボ分子ポンプでは、第6項の態様のターボ分子ポンプにおいて、前記ターボ分子ポンプ本体は、前記吸気口とロータとの間の流路に、パーティクルを捕捉するための第2捕捉部材を備えることができる。これにより、ターボ分子ポンプの吸気口側の真空容器に反跳パーティクルが進入することをさらに低減することができる。 (Section 7) In the turbo-molecular pump according to another aspect, in the turbo-molecular pump according to the aspect of Item 6, the turbo-molecular pump main body traps particles in the flow path between the intake port and the rotor. A second capture member may be provided for the capture. Thereby, it is possible to further reduce recoil particles from entering the vacuum container on the intake port side of the turbomolecular pump.

(第8項)一態様に係る真空容器は、真空室と、前記真空室の排気側に設けられ、排気流路の下流側の面に凹部が形成された弁体と、前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置されている。これにより、真空容器の排気側からの反跳パーティクルの進入を抑制しつつ、排気効率の低下を抑制することができる。 (Section 8) A vacuum container according to one embodiment includes a vacuum chamber, a valve body provided on the exhaust side of the vacuum chamber and having a recess formed in a downstream surface of the exhaust flow path, and and a first trapping member for trapping particles moving inside, the first trapping member being disposed in the recess. Thereby, it is possible to suppress recoil particles from entering from the exhaust side of the vacuum container and to suppress a decrease in exhaust efficiency.

本発明は上記実施形態の内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。 The present invention is not limited to the contents of the above embodiments. Other embodiments considered within the technical spirit of the present invention are also included within the scope of the present invention.

1…半導体製造装置、9…座標系、10,10A…ターボ分子ポンプ、11…ケーシング、11A…ケーシング本体、11B…フランジ、12…ロータ、13…吸気口、15…バッフル、16…固定翼、20…真空バルブ、21…弁体駆動部、22…連結部、23…開口部、24,24A,24B,24C…弁体、30,30A…凹部、31…弁体の側面、40…真空容器、41…処理室、60…凸部、120…回転翼、200,200A,200B…第1捕捉部材、220…当接部、240,240A,240B…弁体本体、245…支持部材、300,300A,300B,300C…第2捕捉部材、2000…ネット、AC…凹部の中心軸、AR…ロータの回転軸、S1…弁座シート面、S2…弁体の下面、S3…弁体の上面。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Semiconductor manufacturing equipment, 9... Coordinate system, 10, 10A... Turbo molecular pump, 11... Casing, 11A... Casing body, 11B... Flange, 12... Rotor, 13... Intake port, 15... Baffle, 16... Fixed blade, DESCRIPTION OF SYMBOLS 20... Vacuum valve, 21... Valve body drive part, 22... Connection part, 23... Opening part, 24, 24A, 24B, 24C... Valve body, 30, 30A... Recessed part, 31... Side surface of valve body, 40... Vacuum container , 41... Processing chamber, 60... Convex portion, 120... Rotor blade, 200, 200A, 200B... First capture member, 220... Contact portion, 240, 240A, 240B... Valve body body, 245... Support member, 300, 300A, 300B, 300C...second capture member, 2000...net, AC...center axis of recess, AR...rotor rotation axis, S1...valve seat surface, S2...bottom surface of valve body, S3...top surface of valve body.

Claims (8)

排気流路の開口面積を調節する真空バルブであって、
前記排気流路の開口面積を調節し、凹部が形成された弁体と、
前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、
前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置された、網目状の金属の細線からなるシート状の網目構造体である、真空バルブ。
A vacuum valve that adjusts the opening area of an exhaust flow path,
a valve body that adjusts the opening area of the exhaust flow path and has a recess formed therein;
a first trapping member for trapping particles moving inside the exhaust flow path,
The first trapping member is a vacuum valve that is a sheet-like mesh structure made of mesh-like thin metal wires arranged in the recess.
請求項1に記載の真空バルブにおいて、
前記凹部を構成する前記弁体の表面は、斜面、曲面、球面または放物面のいずれかである、真空バルブ。
The vacuum valve according to claim 1,
In the vacuum valve, the surface of the valve body constituting the recess is any one of an inclined surface, a curved surface, a spherical surface, or a paraboloid.
請求項1に記載の真空バルブにおいて、
前記凹部の側面は、前記弁体における弁座に対向する面に略垂直である、真空バルブ。
The vacuum valve according to claim 1,
In the vacuum valve, a side surface of the recess is substantially perpendicular to a surface of the valve body that faces the valve seat.
請求項1から3までのいずれか一項に記載の真空バルブにおいて、
前記凹部は、前記真空バルブが全開状態または一部開状態のときに、前記排気流路の下流側の開口部に対向する位置に配置される、真空バルブ。
The vacuum valve according to any one of claims 1 to 3,
A vacuum valve, wherein the recess is disposed at a position facing an opening on the downstream side of the exhaust flow path when the vacuum valve is in a fully open state or a partially open state.
請求項1から4までのいずれか一項に記載の真空バルブにおいて、
前記真空バルブは、前記弁体が前記排気流路に直交する方向に移動するか、または、前記弁体が前記排気流路を流れる流体の流れ方向に移動する形式のバルブである、真空バルブ。
The vacuum valve according to any one of claims 1 to 4,
The vacuum valve is a vacuum valve in which the valve body moves in a direction perpendicular to the exhaust flow path, or in which the valve body moves in the flow direction of fluid flowing through the exhaust flow path.
請求項1から5までのいずれか一項に記載の真空バルブと、
前記真空バルブが接続される吸気口が形成されたターボ分子ポンプ本体とを備えるターボ分子ポンプ。
A vacuum valve according to any one of claims 1 to 5,
A turbo-molecular pump comprising: a turbo-molecular pump main body having an inlet to which the vacuum valve is connected.
排気流路の開口面積を調節する真空バルブと、
前記真空バルブが接続される吸気口が形成されたターボ分子ポンプ本体と、を備え、
前記真空バルブは、
前記排気流路の開口面積を調節し、凹部が形成された弁体と、
前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材と、
を備え、
前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置されており、
前記ターボ分子ポンプ本体は、前記吸気口とロータとの間の流路に、パーティクルを捕捉するための第2捕捉部材を備える
ターボ分子ポンプ。
a vacuum valve that adjusts the opening area of the exhaust flow path;
a turbomolecular pump body formed with an intake port to which the vacuum valve is connected;
The vacuum valve is
a valve body that adjusts the opening area of the exhaust flow path and has a recess formed therein;
a first trapping member for trapping particles moving inside the exhaust flow path;
Equipped with
the first capturing member is disposed in the recess,
The turbo molecular pump main body includes a second trapping member for trapping particles in a flow path between the intake port and the rotor .
Turbomolecular pump.
真空室と、
前記真空室の排気側に設けられ、排気流路の下流側の面に凹部が形成された弁体と、
前記排気流路の内部を移動するパーティクルを捕捉するための第1捕捉部材とを備え、
前記第1捕捉部材は、前記凹部に配置された、網目状の金属の細線からなるシート状の網目構造体である、真空容器。
a vacuum chamber,
a valve body provided on the exhaust side of the vacuum chamber and having a recess formed in a downstream surface of the exhaust flow path;
a first trapping member for trapping particles moving inside the exhaust flow path,
The first capturing member is a vacuum container , which is a sheet-like mesh structure made of mesh-like thin metal wires arranged in the recess.
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