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JP7420610B2 - Curable composition, cured product, and method of using the curable composition - Google Patents
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Curable composition, cured product, and method of using the curable composition Download PDF

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Description

本発明は、硬化性に優れる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法に関する。 The present invention provides a curable composition with excellent curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and an adhesive for an optical element fixing material or a sealant for an optical element fixing material using the curable composition. Concerning how to use it as a material.

従来、硬化性組成物は用途に応じて様々な改良がなされ、光学部品や成形体の原料、接着剤、コーティング剤等として産業上広く利用されてきている。
また、硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤や光素子固定材用封止材等の光素子固定材用組成物としても注目を浴びてきている。
In the past, curable compositions have been variously improved depending on their uses, and have been widely used industrially as raw materials for optical parts and molded bodies, adhesives, coating agents, and the like.
In addition, curable compositions have also attracted attention as compositions for optical device fixing materials, such as adhesives for optical device fixing materials and sealing materials for optical device fixing materials.

光素子には、半導体レーザー(LD)等の各種レーザーや発光ダイオード(LED)等の発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等がある。
近年においては、発光のピーク波長がより短波長である青色光や白色光の光素子が開発され広く使用されてきている。このような発光のピーク波長の短い発光素子の高輝度化が飛躍的に進み、これに伴い、光素子の発熱量がさらに大きくなっていく傾向にある。
Optical elements include various lasers such as semiconductor lasers (LDs), light emitting elements such as light emitting diodes (LEDs), light receiving elements, composite optical elements, optical integrated circuits, and the like.
In recent years, optical elements that emit blue light or white light whose peak wavelength is shorter have been developed and widely used. The brightness of such light-emitting elements with short peak wavelengths of light emission has progressed dramatically, and as a result, the amount of heat generated by optical elements tends to further increase.

ところが、近年における光素子の高輝度化に伴い、光素子固定材用組成物の硬化物が、より高いエネルギーの光や光素子から発生するより高温の熱に長時間さらされ、接着力が低下するという問題が生じた。 However, with the increase in brightness of optical devices in recent years, the cured product of the composition for optical device fixing materials is exposed to higher energy light and higher temperature heat generated from optical devices for a long time, resulting in a decrease in adhesive strength. A problem arose.

この問題を解決するべく、特許文献1~3には、ポリシルセスキオキサン化合物を主成分とする光素子固定材用組成物が提案されている。
光素子固定材用組成物を用いて光素子等を固定する場合、通常、光素子固定材用組成物を加熱して硬化させる。
しかしながら、硬化性に劣る光素子固定材用組成物を用いると、加熱時間を長くしたり、加熱温度を高くしたりする必要があり、光素子や、その周囲の部材の劣化を引き起こしたり、製品の製造効率を低下させたりするおそれがあった。
In order to solve this problem, Patent Documents 1 to 3 propose optical element fixing material compositions containing a polysilsesquioxane compound as a main component.
When fixing an optical element or the like using a composition for an optical element fixing material, the composition for an optical element fixing material is usually heated and cured.
However, when using optical element fixing material compositions with poor curability, it is necessary to lengthen the heating time or increase the heating temperature, which may cause deterioration of the optical element and surrounding components, or cause the product to deteriorate. There was a risk that the manufacturing efficiency of the product would be reduced.

このため、ポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物の硬化性を向上させることが行われてきた。
例えば、特許文献4には、特定のポリシルセスキオキサン化合物と縮合反応触媒とを含有する、縮合反応型シリコーン組成物が記載されている。
特許文献4には、その縮合反応型シリコーン組成物は、種々の特性に優れるとともに、硬化性(初期硬化性)に優れることも記載されている。
For this reason, efforts have been made to improve the curability of curable compositions containing polysilsesquioxane compounds.
For example, Patent Document 4 describes a condensation reaction type silicone composition containing a specific polysilsesquioxane compound and a condensation reaction catalyst.
Patent Document 4 describes that the condensation reaction type silicone composition has excellent various properties as well as excellent curability (initial curability).

特開2004-359933号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-359933 特開2005-263869号公報Japanese Patent Application Publication No. 2005-263869 特開2006-328231号公報JP2006-328231A WO2017/122762号WO2017/122762

上記のように、特許文献4に記載の縮合反応型シリコーン組成物は、種々の特性に優れるとともに、硬化性にも優れるとされている。
しかしながら、特許文献4の実施例に記載されている硬化条件は、120℃で1時間加熱した後、さらに150℃で3時間加熱するというものであり、さらに硬化性に優れる硬化性組成物が要望されていた。
As mentioned above, the condensation reaction type silicone composition described in Patent Document 4 is said to be excellent in various properties and also in curability.
However, the curing conditions described in the examples of Patent Document 4 are heating at 120°C for 1 hour and then heating at 150°C for 3 hours, and there is a demand for a curable composition with even better curability. It had been.

本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、硬化性に優れる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法を提供することを目的とする。
本発明において「硬化性に優れる」とは、所定の条件で硬化反応を行ったときに、より短時間で粘度が上昇し、最終的に硬化することをいう。
The present invention has been made in view of the above-mentioned state of the prior art, and provides a curable composition with excellent curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and a curable composition comprising: An object of the present invention is to provide a method for use as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.
In the present invention, "excellent curability" means that when a curing reaction is performed under predetermined conditions, the viscosity increases in a shorter time and the material is finally cured.

本発明者らは、上記課題を解決すべく、ポリシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物について鋭意検討を重ねた。
その結果、ポリシルセスキオキサン化合物と、分子内に2以上のカルボキシ基を有するカルボキシ基含有化合物を含有する硬化性組成物は硬化性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。
In order to solve the above problems, the present inventors have conducted extensive studies on curable compositions containing polysilsesquioxane compounds.
As a result, it was discovered that a curable composition containing a polysilsesquioxane compound and a carboxyl group-containing compound having two or more carboxyl groups in the molecule has excellent curability, and the present invention was completed.

かくして本発明によれば、下記〔1〕~〔9〕の硬化性組成物、〔10〕、〔11〕の硬化物、及び〔12〕、〔13〕の硬化性組成物の使用方法が提供される。
〔1〕下記(A)成分、及び、(B)成分を含有する硬化性組成物。
(A)成分:下記式(a-1)で示される繰り返し単位を、1種又は2種以上有するポリシルセスキオキサン化合物
According to the present invention, the following curable compositions [1] to [9], cured products [10] and [11], and methods of using the curable compositions [12] and [13] are provided. be done.
[1] A curable composition containing the following components (A) and (B).
Component (A): polysilsesquioxane compound having one or more repeating units represented by the following formula (a-1)

Figure 0007420610000001
Figure 0007420610000001

〔Rは、無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換基を有する炭素数1~10のアルキル基、無置換の炭素数6~12のアリール基、及び、置換基を有する炭素数6~12のアリール基からなる群から選ばれる基である。〕
(B)成分:分子内に2以上のカルボキシ基を有するカルボキシ基含有化合物
〔2〕(A)成分中の式(a-1)で示される繰り返し単位の量が、(A)成分の全繰り返し単位中70~100mol%である、〔1〕に記載の硬化性組成物。
〔3〕(A)成分の質量平均分子量(Mw)が、500~20,000である、〔1〕又は〔2〕に記載の硬化性組成物。
〔4〕(A)成分の含有量が、硬化性組成物の固形分中40質量%以上、100質量%未満である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔5〕(B)成分の分子量が、90~200である、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔6〕(B)成分が、脂肪族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸、芳香族多価カルボン酸、及びオキシ多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種である、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔7〕(B)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して0質量部超、10質量部以下である、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔8〕さらに、下記(C)成分を含有する、〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
(C)成分:シランカップリング剤
〔9〕さらに溶媒を含有し、固形分濃度が、50質量%以上、100質量%未満である、〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔10〕前記〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。
〔11〕光素子固定材である〔10〕に記載の硬化物。
〔12〕前記〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤として使用する方法。
〔13〕前記〔1〕~〔9〕のいずれかに記載の硬化性組成物を、光素子固定材用封止材として使用する方法。
[R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituent alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent having 6 to 12 carbon atoms; It is a group selected from the group consisting of 6 to 12 aryl groups. ]
(B) Component: Carboxy group-containing compound having two or more carboxy groups in the molecule [2] The amount of the repeating unit represented by formula (a-1) in component (A) is the total number of repeats of component (A). The curable composition according to [1], which is 70 to 100 mol% in units.
[3] The curable composition according to [1] or [2], wherein component (A) has a weight average molecular weight (Mw) of 500 to 20,000.
[4] The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein the content of component (A) is 40% by mass or more and less than 100% by mass based on the solid content of the curable composition.
[5] The curable composition according to any one of [1] to [4], wherein component (B) has a molecular weight of 90 to 200.
[6] Component (B) is at least one selected from the group consisting of aliphatic polycarboxylic acids, alicyclic polycarboxylic acids, aromatic polycarboxylic acids, and oxypolycarboxylic acids, [ The curable composition according to any one of [1] to [5].
[7] The curable composition according to any one of [1] to [6], wherein the content of component (B) is more than 0 parts by mass and 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of component (A). thing.
[8] The curable composition according to any one of [1] to [7], further containing the following component (C).
Component (C): silane coupling agent [9] Curable according to any one of [1] to [8], further containing a solvent and having a solid content concentration of 50% by mass or more and less than 100% by mass. Composition.
[10] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [9] above.
[11] The cured product according to [10], which is an optical element fixing material.
[12] A method of using the curable composition according to any one of [1] to [9] above as an adhesive for an optical element fixing material.
[13] A method of using the curable composition according to any one of [1] to [9] above as a sealing material for an optical element fixing material.

本発明によれば、硬化性に優れる硬化性組成物、前記硬化性組成物が硬化してなる硬化物、及び、前記硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法が提供される。 According to the present invention, a curable composition having excellent curability, a cured product obtained by curing the curable composition, and the curable composition can be used as an adhesive for an optical element fixing material or as an optical element fixing material. A method for use as an encapsulant is provided.

以下、本発明を、1)硬化性組成物、2)硬化物、及び、3)硬化性組成物の使用方法、に項分けして詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail by dividing into 1) a curable composition, 2) a cured product, and 3) a method of using the curable composition.

1)硬化性組成物
本発明の硬化性組成物は、下記(A)成分、及び、(B)成分を含有する。
(A)成分:上記式(a-1)で示される繰り返し単位を、1種又は2種以上有するポリシルセスキオキサン化合物
(B)成分:分子内に2以上のカルボキシ基を有するカルボキシ基含有化合物
1) Curable composition The curable composition of the present invention contains the following component (A) and component (B).
(A) Component: Polysilsesquioxane compound having one or more repeating units represented by the above formula (a-1) Component (B): Carboxy group-containing having two or more carboxy groups in the molecule Compound

〔(A)成分〕
本発明の硬化性組成物を構成する(A)成分は、下記式(a-1)で示される繰り返し単位を、1種又は2種以上有するポリシルセスキオキサン化合物(以下、「ポリシルセスキオキサン化合物(A)」と表すことがある。)である。
[(A) component]
Component (A) constituting the curable composition of the present invention is a polysilsesquioxane compound (hereinafter referred to as "polysilsesquioxane compound") having one or more repeating units represented by the following formula (a-1). It is sometimes referred to as "Oxane Compound (A)").

Figure 0007420610000002
Figure 0007420610000002

式(a-1)中、Rは、無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換基を有する炭素数1~10のアルキル基、無置換の炭素数6~12のアリール基、及び、置換基を有する炭素数6~12のアリール基からなる群から選ばれる基である。 In formula (a-1), R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and , a substituent-containing aryl group having 6 to 12 carbon atoms.

で表される「無置換の炭素数1~10のアルキル基」の炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。
「無置換の炭素数1~10のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。
The number of carbon atoms in the "unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms" represented by R 1 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3.
Examples of "unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms" include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n- Examples include pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like.

で表される「置換基を有する炭素数1~10のアルキル基」の炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。なお、この炭素数は、置換基を除いた部分(アルキル基の部分)の炭素数を意味するものである。したがって、Rが「置換基を有する炭素数1~10のアルキル基」である場合、Rの炭素数は10を超える場合もあり得る。
「置換基を有する炭素数1~10のアルキル基」のアルキル基としては、「無置換の炭素数1~10のアルキル基」として示したものと同様のものが挙げられる。
The carbon number of "the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a substituent" represented by R 1 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3. Note that this number of carbon atoms means the number of carbon atoms in the portion excluding substituents (alkyl group portion). Therefore, when R 1 is "a substituent-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms", the number of carbon atoms in R 1 may exceed 10.
Examples of the alkyl group of the "substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms" include those shown as "unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms".

「置換基を有する炭素数1~10のアルキル基」の置換基の原子数(ただし水素原子の数を除く)は、通常1~30、好ましくは1~20である。
「置換基を有する炭素数1~10のアルキル基」の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;シアノ基;式:OGで表される基;等が挙げられる。
ここで、Gは水酸基の保護基を表す。水酸基の保護基としては、特に制約はなく、水酸基の保護基として知られている公知の保護基が挙げられる。例えば、アシル系の保護基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基等のシリル系の保護基;メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、1-エトキシエチル基、テトラヒドロピラン-2-イル基、テトラヒドロフラン-2-イル基等のアセタール系の保護基;t-ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル系の保護基;メチル基、エチル基、t-ブチル基、オクチル基、アリル基、トリフェニルメチル基、ベンジル基、p-メトキシベンジル基、フルオレニル基、トリチル基、ベンズヒドリル基等のエーテル系の保護基;等が挙げられる。
The number of atoms of the substituent in the "substituent-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms" (excluding the number of hydrogen atoms) is usually 1 to 30, preferably 1 to 20.
Examples of the substituent of the "substituent-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms" include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, and bromine atom; cyano group; group represented by the formula: OG; and the like.
Here, G represents a hydroxyl protecting group. There are no particular restrictions on the hydroxyl-protecting group, and examples thereof include known protecting groups known as hydroxyl-protecting groups. For example, acyl-based protecting groups; silyl-based protecting groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group; methoxymethyl group, methoxyethoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group , tetrahydropyran-2-yl group, tetrahydrofuran-2-yl group, etc.; alkoxycarbonyl-based protecting groups such as t-butoxycarbonyl group; methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group , allyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, fluorenyl group, trityl group, benzhydryl group; and the like.

で表される「無置換の炭素数6~12のアリール基」の炭素数は6が好ましい。
「無置換の炭素数6~12のアリール基」としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等が挙げられる。
The number of carbon atoms in the "unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms" represented by R 1 is preferably 6.
Examples of the "unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms" include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, and the like.

で表される「置換基を有する炭素数6~12のアリール基」の炭素数は6が好ましい。なお、この炭素数は、置換基を除いた部分(アリール基の部分)の炭素数を意味するものである。したがって、Rが「置換基を有する炭素数6~12のアリール基」である場合、Rの炭素数は12を超える場合もあり得る。
「置換基を有する炭素数6~12のアリール基」のアリール基としては、「無置換の炭素数6~12のアリール基」として示したものと同様のものが挙げられる。
The number of carbon atoms in "aryl group having 6 to 12 carbon atoms and having a substituent" represented by R 1 is preferably 6. Note that this number of carbon atoms means the number of carbon atoms in the portion excluding substituents (the aryl group portion). Therefore, when R 1 is "an aryl group having a substituent and having 6 to 12 carbon atoms", the number of carbon atoms in R 1 may exceed 12.
Examples of the aryl group of the "substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms" include those shown as "unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms".

「置換基を有する炭素数6~12のアリール基」の置換基の原子数(ただし水素原子の数を除く)は、通常1~30、好ましくは1~20である。
「置換基を有する炭素数6~12のアリール基」の置換基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基等のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;等が挙げられる。
The number of atoms of the substituent in the "substituent-containing aryl group having 6 to 12 carbon atoms" (excluding the number of hydrogen atoms) is usually 1 to 30, preferably 1 to 20.
Examples of the substituent for "aryl group having 6 to 12 carbon atoms having a substituent" include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, t-butyl group. Alkyl groups such as n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, and isooctyl; halogen atoms such as fluorine, chlorine, and bromine; alkoxy such as methoxy and ethoxy groups; group; etc.

これらの中でも、Rとしては、無置換の炭素数1~10のアルキル基、フッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基、シアノ基を有する炭素数1~10のアルキル基、又は無置換の炭素数6~12のアリール基が好ましい。 Among these, R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a cyano group, or an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. An aryl group having 6 to 12 carbon atoms is preferred.

が無置換の炭素数1~10のアルキル基であるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、耐熱性及び接着性により優れる硬化物を与える硬化性組成物が得られ易くなる。
本明細書において、「接着性に優れる硬化物」とは、「接着強度が高い硬化物」を意味する。
By using a polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, it becomes easier to obtain a curable composition that provides a cured product with better heat resistance and adhesive properties. .
In this specification, "cured product with excellent adhesiveness" means "cured product with high adhesive strength".

がフッ素原子を有する炭素数1~10のアルキル基であるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、屈折率が低い硬化性組成物や硬化物が得られ易くなる。 By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom, a curable composition or cured product with a low refractive index can be easily obtained.

がシアノ基を有する炭素数1~10のアルキル基であるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、高極性被着体に対する接着性に優れる硬化物を与える硬化性組成物が得られ易くなる。 By using a polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a cyano group, a curable composition that provides a cured product with excellent adhesiveness to highly polar adherends can be obtained. It becomes easier to obtain.

が無置換の炭素数6~12のアリール基であるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、屈折率が高い硬化性組成物や硬化物が得られ易くなる。 By using the polysilsesquioxane compound (A) in which R 1 is an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a curable composition or cured product with a high refractive index can be easily obtained.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)中の前記式(a-1)で示される繰り返し単位の含有割合は、全繰り返し単位に対して、70~100mol%が好ましく、80~100mol%がより好ましく、90~100mol%がさらに好ましい。
ポリシルセスキオキサン化合物(A)中の前記式(a-1)で示される繰り返し単位の含有割合は、後述するように、29Si-NMRを測定することにより求めることができる。
The content of the repeating unit represented by the formula (a-1) in the polysilsesquioxane compound (A) is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, based on all repeating units. More preferably 90 to 100 mol%.
The content ratio of the repeating unit represented by the formula (a-1) in the polysilsesquioxane compound (A) can be determined by measuring 29 Si-NMR, as described below.

前記式(a-1)で示される繰り返し単位は、下記式(a-2)で示されるものである。本明細書において、O1/2とは、酸素原子が隣接する繰り返し単位と共有されていることを表す。 The repeating unit represented by the formula (a-1) is represented by the following formula (a-2). In this specification, O 1/2 represents that an oxygen atom is shared with an adjacent repeating unit.

Figure 0007420610000003
Figure 0007420610000003

式(a-2)で示されるように、ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、一般にTサイトと総称される、ケイ素原子に酸素原子が3つ結合し、それ以外の基(R)が1つ結合してなる部分構造を有する。
ポリシルセスキオキサン化合物(A)に含まれるTサイトとしては、下記式(a-3)~(a-5)で示されるものが挙げられる。
As shown in formula (a-2), the polysilsesquioxane compound (A) has three oxygen atoms bonded to a silicon atom, which are generally collectively referred to as T sites, and other groups (R 1 ). It has a partial structure in which one is combined.
Examples of the T site contained in the polysilsesquioxane compound (A) include those represented by the following formulas (a-3) to (a-5).

Figure 0007420610000004
Figure 0007420610000004

式(a-3)~(a-5)中、Rは、前記と同じ意味を表す。Rは、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表す。Rの炭素数1~10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基等が挙げられる。複数のR同士は、すべて同一であっても相異なっていてもよい。また、上記式(a-3)~(a-5)中、*には、Si原子が結合している。 In formulas (a-3) to (a-5), R 1 represents the same meaning as above. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, s-butyl group, isobutyl group, and t-butyl group. All of the plurality of R2s may be the same or different. Furthermore, in the above formulas (a-3) to (a-5), * is bonded to a Si atom.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、アセトン等のケトン系溶媒;ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;ジメチルスルホキシド等の含硫黄系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;クロロホルム等の含ハロゲン系溶媒;及びこれらの2種以上からなる混合溶媒;等の各種有機溶媒に可溶であるため、これらの溶媒を用いて、ポリシルセスキオキサン化合物(A)の溶液状態での29Si-NMRを測定することができる。 The polysilsesquioxane compound (A) is a ketone solvent such as acetone; an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene; a sulfur-containing solvent such as dimethyl sulfoxide; an ether solvent such as tetrahydrofuran; an ester solvent such as ethyl acetate. Since it is soluble in various organic solvents such as solvents; halogen-containing solvents such as chloroform; and mixed solvents consisting of two or more of these, the polysilsesquioxane compound (A) can be prepared using these solvents. 29 Si-NMR in a solution state can be measured.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)の溶液状態での29Si-NMRを測定することにより、前記式(a-3)で示されるT3サイト、式(a-4)で示されるT2サイト、式(a-5)で示されるT1サイトの含有割合を求めることができる。
本発明で用いるポリシルセスキオキサン化合物(A)は、硬化物の接着性を向上させる観点から、T2サイトを、10~45mol%含有するものが好ましく、15~40mol%含有するものがより好ましく、20~35mol%含有するものがより更に好ましい。
また、本発明で用いるポリシルセスキオキサン化合物(A)は、硬く、耐熱性に優れる硬化物を得る観点から、T3サイトを、50~90mol%含有するものが好ましく、55~85mol%含有するものがより好ましく、60~80mol%含有するものがより更に好ましい。
By measuring 29 Si-NMR of the polysilsesquioxane compound (A) in a solution state, the T3 site represented by the formula (a-3), the T2 site represented by the formula (a-4), and the formula The content ratio of the T1 site shown in (a-5) can be determined.
The polysilsesquioxane compound (A) used in the present invention preferably contains 10 to 45 mol% of T2 sites, more preferably 15 to 40 mol%, from the viewpoint of improving the adhesiveness of the cured product. , 20 to 35 mol% is even more preferred.
In addition, from the viewpoint of obtaining a cured product that is hard and has excellent heat resistance, the polysilsesquioxane compound (A) used in the present invention preferably contains 50 to 90 mol% of T3 sites, and preferably contains 55 to 85 mol% of T3 sites. Those containing 60 to 80 mol% are even more preferred.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、1種のRを有するもの(単独重合体)であってもよく、2種以上のRを有するもの(共重合体)であってもよい。 The polysilsesquioxane compound (A) may have one type of R 1 (homopolymer) or may have two or more types of R 1 (copolymer).

ポリシルセスキオキサン化合物(A)が共重合体である場合、ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体等のいずれであってもよいが、製造容易性等の観点からは、ランダム共重合体が好ましい。
また、ポリシルセスキオキサン化合物(A)の構造は、ラダー型構造、ダブルデッカー型構造、籠型構造、部分開裂籠型構造、環状型構造、ランダム型構造のいずれの構造であってもよい。
When the polysilsesquioxane compound (A) is a copolymer, the polysilsesquioxane compound (A) can be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, an alternating copolymer, etc. However, from the viewpoint of ease of manufacture, etc., a random copolymer is preferable.
Further, the structure of the polysilsesquioxane compound (A) may be any of a ladder structure, a double decker structure, a cage structure, a partially cleaved cage structure, a cyclic structure, and a random structure. .

ポリシルセスキオキサン化合物(A)の質量平均分子量(Mw)は、通常500~20,000、好ましくは1,000~15,000、より好ましくは1,500~12,000である。質量平均分子量(Mw)が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、耐熱性及び接着性により優れる硬化物を与える硬化性組成物が得られ易くなる。 The weight average molecular weight (Mw) of the polysilsesquioxane compound (A) is usually 500 to 20,000, preferably 1,000 to 15,000, more preferably 1,500 to 12,000. By using a polysilsesquioxane compound (A) having a mass average molecular weight (Mw) within the above range, it becomes easier to obtain a curable composition that provides a cured product with better heat resistance and adhesiveness.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)の分子量分布(Mw/Mn)は特に限定されないが、通常1.0~10.0、好ましくは1.1~6.0である。分子量分布(Mw/Mn)が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、耐熱性及び接着性により優れる硬化物を与える硬化性組成物が得られ易くなる。
質量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)による標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polysilsesquioxane compound (A) is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.1 to 6.0. By using a polysilsesquioxane compound (A) having a molecular weight distribution (Mw/Mn) within the above range, a curable composition that provides a cured product with better heat resistance and adhesiveness can be easily obtained.
The mass average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be determined, for example, as standard polystyrene equivalent values by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent.

本発明において、ポリシルセスキオキサン化合物(A)は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ポリシルセスキオキサン化合物(A)の含有量は、硬化性組成物の固形分中、好ましくは40質量%以上、100質量%未満であり、より好ましくは48~95質量%、さらに好ましくは56~90質量%である。
本発明において、「固形分」とは、硬化性組成物中の溶媒以外の成分をいう。
In the present invention, the polysilsesquioxane compound (A) can be used alone or in combination of two or more.
The content of the polysilsesquioxane compound (A) is preferably 40% by mass or more and less than 100% by mass, more preferably 48 to 95% by mass, even more preferably 56% by mass, based on the solid content of the curable composition. ~90% by mass.
In the present invention, "solid content" refers to components other than the solvent in the curable composition.

ポリシルセスキオキサン化合物(A)の製造方法は特に限定されない。例えば、下記式(a-6)で示されるシラン化合物(1)の少なくとも1種を重縮合させることにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A)を製造することができる。 The method for producing the polysilsesquioxane compound (A) is not particularly limited. For example, the polysilsesquioxane compound (A) can be produced by polycondensing at least one silane compound (1) represented by the following formula (a-6).

Figure 0007420610000005
Figure 0007420610000005

式中、Rは前記と同じ意味を表す。Rは炭素数1~10のアルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表し、pは0~3の整数を表す。複数のR、及び複数のXは、それぞれ、互いに同一であっても、相異なっていてもよい。
の炭素数1~10のアルキル基としては、Rの炭素数1~10のアルキル基として示したものと同様のものが挙げられる。
のハロゲン原子としては、塩素原子、及び臭素原子等が挙げられる。
In the formula, R 1 represents the same meaning as above. R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3. The plurality of R 3 and the plurality of X 1 may be the same or different from each other.
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 3 include those shown as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms for R 2 .
Examples of the halogen atom for X 1 include a chlorine atom and a bromine atom.

シラン化合物(1)の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン化合物類;
メチルクロロジメトキシシラン、メチルクロロジエトキシシラン、メチルジクロロメトキシシラン、メチルブロモジメトキシシラン、エチルクロロジメトキシシラン、エチルクロロジエトキシシラン、エチルジクロロメトキシシラン、エチルブロモジメトキシシラン等のアルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類;
メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリブロモシラン等のアルキルトリハロゲノシラン化合物類;
Specific examples of the silane compound (1) include alkyltrialkoxysilane compounds such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and ethyltripropoxysilane;
Alkylhalogenoalkoxysilane compounds such as methylchlorodimethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylbromodimethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethylchlorodiethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, and ethylbromodimethoxysilane;
Alkyltrihalogenosilane compounds such as methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, ethyltrichlorosilane, and ethyltribromosilane;

3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、2-シアノエチルトリメトキシシラン、2-シアノエチルトリエトキシシラン等の置換アルキルトリアルコキシシラン化合物類;
3,3,3-トリフルオロプロピルクロロジメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルクロロジエトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルジクロロメトキシシラン、3,3,3-トリフルオロプロピルジクロロエトキシシラン、2-シアノエチルクロロジメトキシシラン、2-シアノエチルクロロジエトキシシラン、2-シアノエチルジクロロメトキシシラン、2-シアノエチルジクロロエトキシシラン等の置換アルキルハロゲノアルコキシシラン化合物類;
3,3,3-トリフルオロプロピルトリクロロシラン、2-シアノエチルトリクロロシラン等の置換アルキルトリハロゲノシラン化合物類;
Substituted alkyltrialkoxysilane compounds such as 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane, 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane;
3,3,3-trifluoropropylchlorodimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropylchlorodiethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyldichloromethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyldichloro Substituted alkylhalogenoalkoxysilane compounds such as ethoxysilane, 2-cyanoethylchlorodimethoxysilane, 2-cyanoethylchlorodiethoxysilane, 2-cyanoethyldichloromethoxysilane, 2-cyanoethyldichloroethoxysilane;
Substituted alkyltrihalogenosilane compounds such as 3,3,3-trifluoropropyltrichlorosilane and 2-cyanoethyltrichlorosilane;

フェニルトリメトキシシラン、4-メトキシフェニルトリメトキシシラン等の、置換基を有する、又は置換基を有さないフェニルトリアルコキシシラン化合物類;
フェニルクロロジメトキシシラン、フェニルジクロロメトキシシラン、4-メトキシフェニルクロロジメトキシシラン、4-メトキシフェニルジクロロメトキシシラン等の、置換基を有する、又は置換基を有さないフェニルハロゲノアルコキシシラン化合物類;
フェニルトリクロロシラン、4-メトキシフェニルトリクロロシラン等の、置換基を有する、又は置換基を有さないフェニルトリハロゲノシラン化合物類;等が挙げられる。
これらのシラン化合物(1)は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Phenyltrialkoxysilane compounds with or without substituents, such as phenyltrimethoxysilane and 4-methoxyphenyltrimethoxysilane;
Phenylhalogenoalkoxysilane compounds with or without substituents, such as phenylchlorodimethoxysilane, phenyldichloromethoxysilane, 4-methoxyphenylchlorodimethoxysilane, 4-methoxyphenyldichloromethoxysilane;
Examples include phenyltrihalogenosilane compounds with or without substituents, such as phenyltrichlorosilane and 4-methoxyphenyltrichlorosilane.
These silane compounds (1) can be used alone or in combination of two or more.

前記シラン化合物(1)を重縮合させる方法は特に限定されない。例えば、溶媒中、又は無溶媒で、シラン化合物(1)に、所定量の重縮合触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法が挙げられる。より具体的には、(a)シラン化合物(1)に、所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、(b)シラン化合物(1)に、所定量の塩基触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、(c)シラン化合物(1)に、所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌した後、過剰量の塩基触媒を添加して、反応系を塩基性とし、所定温度で撹拌する方法等が挙げられる。これらの中でも、効率よく目的とするポリシルセスキオキサン化合物(A)を得ることができることから、(a)又は(c)の方法が好ましい。 The method of polycondensing the silane compound (1) is not particularly limited. For example, a method may be mentioned in which a predetermined amount of a polycondensation catalyst is added to the silane compound (1) in a solvent or without a solvent, and the mixture is stirred at a predetermined temperature. More specifically, (a) a method in which a predetermined amount of an acid catalyst is added to the silane compound (1) and stirred at a predetermined temperature; (b) a method in which a predetermined amount of a base catalyst is added to the silane compound (1). , a method of stirring at a predetermined temperature, (c) adding a predetermined amount of acid catalyst to the silane compound (1), stirring at a predetermined temperature, and then adding an excess amount of a base catalyst to make the reaction system basic. , a method of stirring at a predetermined temperature, and the like. Among these, method (a) or (c) is preferred because the desired polysilsesquioxane compound (A) can be obtained efficiently.

用いる重縮合触媒は、酸触媒及び塩基触媒のいずれであってもよい。また、2以上の重縮合触媒を組み合わせて用いてもよいが、少なくとも酸触媒を用いることが好ましい。
酸触媒としては、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、硝酸等の無機酸;クエン酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸;等が挙げられる。これらの中でも、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、クエン酸、酢酸、及びメタンスルホン酸から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
The polycondensation catalyst used may be either an acid catalyst or a base catalyst. Moreover, although two or more polycondensation catalysts may be used in combination, it is preferable to use at least an acid catalyst.
Examples of acid catalysts include inorganic acids such as phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, and nitric acid; organic acids such as citric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid; etc. can be mentioned. Among these, at least one selected from phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, citric acid, acetic acid, and methanesulfonic acid is preferred.

塩基触媒としては、アンモニア水;トリメチルアミン、トリエチルアミン、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、アニリン、ピコリン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、イミダゾール等の有機塩基;水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等の有機水酸化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt-ブトキシド、カリウムt-ブトキシド等の金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩;等が挙げられる。 As a base catalyst, aqueous ammonia; trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis(trimethylsilyl)amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, aniline, picoline, 1,4- Organic bases such as diazabicyclo[2.2.2]octane and imidazole; organic hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t-butoxide metal alkoxides such as sodium hydride, calcium hydride, etc.; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide; metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, magnesium carbonate; Examples include metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate.

重縮合触媒の使用量は、シラン化合物(1)の総mol量に対して、通常、0.05~10mol%、好ましくは0.1~5mol%の範囲である。 The amount of the polycondensation catalyst used is usually in the range of 0.05 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the total mol of the silane compound (1).

重縮合時に溶媒を用いる場合、用いる溶媒は、シラン化合物(1)の種類等に応じて、適宜選択することができる。例えば、水;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール、s-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記(c)の方法を採用する場合、酸触媒の存在下、水系で重縮合反応を行った後、反応液に、有機溶媒と過剰量の塩基触媒(アンモニア水など)を添加し、塩基性条件下で、更に重縮合反応を行うようにしてもよい。 When using a solvent during polycondensation, the solvent to be used can be appropriately selected depending on the type of silane compound (1), etc. For example, water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol, and t-butyl alcohol; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more. In addition, when employing the method (c) above, after performing a polycondensation reaction in an aqueous system in the presence of an acid catalyst, an organic solvent and an excess amount of a basic catalyst (such as aqueous ammonia) are added to the reaction solution, A polycondensation reaction may be further carried out under basic conditions.

溶媒の使用量は、シラン化合物(1)の総mol量1mol当たり、0.1リットル以上10リットル以下、好ましくは0.1リットル以上2リットル以下である。 The amount of the solvent used is 0.1 liter or more and 10 liters or less, preferably 0.1 liter or more and 2 liters or less, per 1 mol of the total mol of the silane compound (1).

シラン化合物(1)を重縮合させるときの温度は、通常0℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは20℃以上100℃以下の範囲である。反応温度があまりに低いと重縮合反応の進行が不十分となる場合がある。一方、反応温度が高くなりすぎるとゲル化抑制が困難となる。反応は、通常30分から30時間で完結する。 The temperature at which the silane compound (1) is polycondensed is usually from 0°C to the boiling point of the solvent used, preferably from 20°C to 100°C. If the reaction temperature is too low, the polycondensation reaction may not proceed sufficiently. On the other hand, if the reaction temperature becomes too high, it becomes difficult to suppress gelation. The reaction is usually completed in 30 minutes to 30 hours.

なお、用いるモノマーの種類によっては、高分子量化が困難な場合がある。例えば、Rがフッ素原子を有するアルキル基であるモノマーは、Rが通常のアルキル基であるモノマーよりも反応性に劣る傾向がある。このような場合、触媒量を減らし、かつ、穏やかな条件で長時間反応を行うことにより、目的の分子量のポリシルセスキオキサン化合物(A)が得られ易くなる。 Note that depending on the type of monomer used, it may be difficult to increase the molecular weight. For example, monomers in which R 1 is an alkyl group having a fluorine atom tend to be less reactive than monomers in which R 1 is a normal alkyl group. In such a case, the polysilsesquioxane compound (A) having the desired molecular weight can be easily obtained by reducing the amount of catalyst and carrying out the reaction under mild conditions for a long time.

反応終了後は、酸触媒を用いた場合は、反応溶液に炭酸水素ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加することにより中和を行い、また、塩基触媒を用いた場合は、反応溶液に塩酸等の酸を添加することにより中和を行い、その際に生じる塩をろ別又は水洗等により除去し、目的とするポリシルセスキオキサン化合物(A)を得ることができる。 After the reaction is complete, if an acid catalyst is used, the reaction solution is neutralized by adding an alkaline aqueous solution such as sodium hydrogen carbonate, or if a base catalyst is used, the reaction solution is neutralized by adding an acid such as hydrochloric acid to the reaction solution. The desired polysilsesquioxane compound (A) can be obtained by neutralizing by adding and removing the salts generated at that time by filtration or washing with water.

上記方法により、ポリシルセスキオキサン化合物(A)を製造する際、シラン化合物(1)のOR又はXのうち、脱アルコール等が起こらなかった部分は、ポリシルセスキオキサン化合物(A)中に残存する。このため、ポリシルセスキオキサン化合物(A)中に、前記式(a-3)で示されるTサイト以外に、前記式(a-4)、式(a-5)で示されるTサイトが含まれることがある。 When producing the polysilsesquioxane compound (A) by the above method, the portion of OR 3 or X 1 of the silane compound (1) in which dealcoholization etc. did not occur is ) remains in the Therefore, in the polysilsesquioxane compound (A), in addition to the T site shown by the above formula (a-3), there are T sites shown by the above formula (a-4) and formula (a-5). May be included.

〔(B)成分〕
本発明の硬化性組成物を構成する(B)成分は、分子内に2以上のカルボキシ基を有するカルボキシ基含有化合物(以下、「多価カルボン酸(B)」と表すことがある。)である。
本発明の硬化性組成物は、多価カルボン酸(B)を含有するため、硬化性に優れる。
また、多価カルボン酸(B)を用いることで、硬化物の接着性が向上する場合もある。
[(B) component]
Component (B) constituting the curable composition of the present invention is a carboxyl group-containing compound having two or more carboxyl groups in the molecule (hereinafter sometimes referred to as "polyhydric carboxylic acid (B)"). be.
Since the curable composition of the present invention contains polyhydric carboxylic acid (B), it has excellent curability.
Furthermore, the use of polyhydric carboxylic acid (B) may improve the adhesiveness of the cured product.

多価カルボン酸(B)の分子量は、通常90~200、好ましくは90~150、より好ましくは90~104である。
多価カルボン酸(B)の分子量を200以下とすることで、硬化反応を効率的に促進し、高い接着強度が維持できる。また多価カルボン酸(B)の分子量を90以上とすることで、硬化物の接着性が向上する。
多価カルボン酸(B)中のカルボキシ基の数は、1分子当たり、通常2~4、好ましくは2~3であり、より好ましくは2である。
一価カルボン酸を用いても、本願発明の効果は得られにくい。更に、硬化性組成物の硬化性や硬化物の接着性を低下させる場合もある。
The molecular weight of the polyhydric carboxylic acid (B) is usually 90 to 200, preferably 90 to 150, more preferably 90 to 104.
By setting the molecular weight of the polyhydric carboxylic acid (B) to 200 or less, the curing reaction can be efficiently promoted and high adhesive strength can be maintained. Furthermore, by setting the molecular weight of the polyvalent carboxylic acid (B) to 90 or more, the adhesiveness of the cured product is improved.
The number of carboxy groups in the polyvalent carboxylic acid (B) is usually 2 to 4, preferably 2 to 3, and more preferably 2 per molecule.
Even if a monohydric carboxylic acid is used, it is difficult to obtain the effects of the present invention. Furthermore, the curability of the curable composition and the adhesiveness of the cured product may be reduced.

多価カルボン酸(B)としては、脂肪族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸、芳香族多価カルボン酸、オキシ多価カルボン酸等が挙げられる。 Examples of the polycarboxylic acid (B) include aliphatic polycarboxylic acids, alicyclic polycarboxylic acids, aromatic polycarboxylic acids, oxypolycarboxylic acids, and the like.

脂肪族多価カルボン酸は、分子内に、脂肪族骨格(ただし、脂環式骨格を除く)と、2以上のカルボキシ基を有する化合物である。
脂肪族多価カルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。
An aliphatic polycarboxylic acid is a compound having an aliphatic skeleton (excluding an alicyclic skeleton) and two or more carboxy groups in the molecule.
Examples of the aliphatic polycarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and the like.

脂環式多価カルボン酸は、分子内に、脂環式骨格と、2以上のカルボキシ基を有する化合物である。
脂環式多価カルボン酸としては、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸等が挙げられる。
Alicyclic polyhydric carboxylic acid is a compound having an alicyclic skeleton and two or more carboxy groups in the molecule.
Examples of the alicyclic polycarboxylic acid include hexahydrophthalic acid and tetrahydrophthalic acid.

芳香族多価カルボン酸は、分子内に、芳香族骨格と、2以上のカルボキシ基を有する化合物である。
芳香族多価カルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
Aromatic polyhydric carboxylic acid is a compound having an aromatic skeleton and two or more carboxy groups in the molecule.
Examples of aromatic polycarboxylic acids include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, and pyromellitic acid.

オキシ多価カルボン酸は、分子内に、ヒドロキシ基と、2以上のカルボキシ基を有する化合物である。
オキシ多価カルボン酸としては、タルトロン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等が挙げられる。
Oxypolyhydric carboxylic acid is a compound having a hydroxy group and two or more carboxy groups in the molecule.
Examples of the oxypolycarboxylic acid include tartronic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, and the like.

これらの中でも、硬化反応を効率的に促進し、高い接着強度が維持できることから、多価カルボン酸(B)としては、脂肪族多価カルボン酸好ましく、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸がより好ましく、シュウ酸が特に好ましい。 Among these, aliphatic polycarboxylic acids are preferable as polycarboxylic acids (B) because they can efficiently promote the curing reaction and maintain high adhesive strength, and oxalic acid, malonic acid, succinic acid, and glutaric acid are preferred as polycarboxylic acids (B). , adipic acid is more preferred, and oxalic acid is particularly preferred.

多価カルボン酸(B)は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
多価カルボン酸(B)の含有量は、ポリシルセスキオキサン化合物(A)100質量部に対して通常0質量部超、10質量部以下であり、好ましくは0.01~8質量部、より好ましくは0.05~6質量部であり、更に好ましくは0.1~4質量部であり、より更に好ましくは0.3~3質量部であり、特に好ましくは0.7~2質量部である。
多価カルボン酸(B)が多過ぎると、硬化物の接着性が低下するおそれがある。
The polyhydric carboxylic acids (B) can be used alone or in combination of two or more.
The content of the polyhydric carboxylic acid (B) is usually more than 0 parts by mass and 10 parts by mass or less, preferably 0.01 to 8 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polysilsesquioxane compound (A). More preferably 0.05 to 6 parts by weight, still more preferably 0.1 to 4 parts by weight, even more preferably 0.3 to 3 parts by weight, particularly preferably 0.7 to 2 parts by weight. It is.
If the polyhydric carboxylic acid (B) is too large, the adhesiveness of the cured product may decrease.

〔硬化性組成物〕
本発明の硬化性組成物は、(C)成分として、シランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤を含有する硬化性組成物を用いることで、接着性により優れる硬化物を形成し易くなる。
シランカップリング剤とは、ケイ素原子と、官能基と、前記ケイ素原子に結合した加水分解性基とを有するシラン化合物をいう。
官能基とは、他の化合物(主に有機物)と反応性を有する基をいい、例えば、アミノ基、置換アミノ基、イソシアネート基、ウレイド基、イソシアヌレート骨格を有する基等の窒素原子を有する基;酸無水物基;ビニル基;アリル基;エポキシ基;(メタ)アクリル基;メルカプト基;等が挙げられる。
本発明において、シランカップリング剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化性組成物がシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は特に限定されず、目的に応じて適宜決定することができる。
シランカップリング剤の含有量は、ポリシルセスキオキサン化合物(A)100質量部に対して通常95質量部以下、好ましくは65質量部以下、より好ましくは35質量部以下である。
[Curable composition]
The curable composition of the present invention may contain a silane coupling agent as component (C). By using a curable composition containing a silane coupling agent, it becomes easier to form a cured product with better adhesive properties.
The silane coupling agent refers to a silane compound having a silicon atom, a functional group, and a hydrolyzable group bonded to the silicon atom.
A functional group refers to a group that is reactive with other compounds (mainly organic substances), such as a group having a nitrogen atom such as an amino group, a substituted amino group, an isocyanate group, a ureido group, and a group having an isocyanurate skeleton. ; acid anhydride group; vinyl group; allyl group; epoxy group; (meth)acrylic group; mercapto group; and the like.
In the present invention, the silane coupling agents can be used alone or in combination of two or more.
When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent, the content is not particularly limited and can be appropriately determined depending on the purpose.
The content of the silane coupling agent is usually 95 parts by mass or less, preferably 65 parts by mass or less, and more preferably 35 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the polysilsesquioxane compound (A).

シランカップリング剤としては、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤や分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤が好ましい。 As the silane coupling agent, a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule or a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule is preferable.

分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤や分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物は、耐熱性及び接着性により優れる硬化物を与える傾向がある。 A curable composition containing a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule or a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule tends to give a cured product with better heat resistance and adhesiveness.

分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、例えば、下記式(c-1)で表されるトリアルコキシシラン化合物、式(c-2)で表されるジアルコキシアルキルシラン化合物又はジアルコキシアリールシラン化合物等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule include a trialkoxysilane compound represented by the following formula (c-1), a dialkoxyalkylsilane compound represented by the formula (c-2), or a dialkoxysilane compound represented by the formula (c-2). Examples include arylsilane compounds.

Figure 0007420610000006
Figure 0007420610000006

上記式中、Rは、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、t-ブトキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基を表す。複数のR同士は同一であっても相異なっていてもよい。
は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基等の炭素数1~6のアルキル基;又は、フェニル基、4-クロロフェニル基、4-メチルフェニル基、1-ナフチル基等の、置換基を有する、又は置換基を有さないアリール基;を表す。
In the above formula, R a represents an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a t-butoxy group. The plurality of Ras may be the same or different.
R b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group; or phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4- Represents an aryl group with or without a substituent, such as a methylphenyl group or a 1-naphthyl group.

は、窒素原子を有する、炭素数1~10の有機基を表す。また、Rは、さらに他のケイ素原子を含む基と結合していてもよい。
の炭素数1~10の有機基の具体例としては、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピル基、3-アミノプロピル基、N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)アミノプロピル基、3-ウレイドプロピル基、N-フェニル-アミノプロピル基等が挙げられる。
R c represents an organic group having 1 to 10 carbon atoms and having a nitrogen atom. Further, R c may further be bonded to another group containing a silicon atom.
Specific examples of the organic group having 1 to 10 carbon atoms for R c include N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyl group, 3-aminopropyl group, N-(1,3-dimethyl-butylidene)amino Examples include propyl group, 3-ureidopropyl group, N-phenyl-aminopropyl group, and the like.

上記式(c-1)又は(c-2)で表される化合物のうち、Rが、他のケイ素原子を含む基と結合した有機基である場合の化合物としては、イソシアヌレート骨格を有するシランカップリング剤(イソシアヌレート系シランカップリング剤)や、ウレア骨格を有するシランカップリング剤(ウレア系シランカップリング剤)が挙げられる。 Among the compounds represented by the above formula (c-1) or (c-2), when R c is an organic group bonded to another silicon atom-containing group, the compound has an isocyanurate skeleton. Examples include silane coupling agents (isocyanurate-based silane coupling agents) and silane coupling agents having a urea skeleton (urea-based silane coupling agents).

これらの中でも、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、接着性により優れる硬化物が得られ易いことから、イソシアヌレート系シランカップリング剤、及びウレア系シランカップリング剤が好ましく、さらに、分子内に、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を4以上有するものが好ましい。
ケイ素原子に結合したアルコキシ基を4以上有するとは、同一のケイ素原子に結合したアルコキシ基と、異なるケイ素原子に結合したアルコキシ基との総合計数が4以上という意味である。
Among these, as the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, isocyanurate-based silane coupling agents and urea-based silane coupling agents are preferred, as they tend to yield cured products with excellent adhesive properties; , those having four or more alkoxy groups bonded to silicon atoms in the molecule are preferred.
Having 4 or more alkoxy groups bonded to a silicon atom means that the total number of alkoxy groups bonded to the same silicon atom and alkoxy groups bonded to different silicon atoms is 4 or more.

ケイ素原子に結合したアルコキシ基を4以上有するイソシアヌレート系シランカップリング剤としては、下記式(c-3)で表される化合物が挙げられる。ケイ素原子に結合したアルコキシ基を4以上有するウレア系シランカップリング剤としては、下記式(c-4)で表される化合物が挙げられる。 Examples of the isocyanurate-based silane coupling agent having four or more alkoxy groups bonded to a silicon atom include a compound represented by the following formula (c-3). Examples of the urea-based silane coupling agent having four or more alkoxy groups bonded to a silicon atom include a compound represented by the following formula (c-4).

Figure 0007420610000007
Figure 0007420610000007

式中、Rは上記と同じ意味を表す。t1~t5はそれぞれ独立して、1~10の整数を表し、1~6の整数であるのが好ましく、3であるのが特に好ましい。 In the formula, R a represents the same meaning as above. t1 to t5 each independently represent an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, and particularly preferably 3.

これらの中でも、分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤としては、1,3,5-N-トリス(3-トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、1,3,5-N-トリス(3-トリエトキシシリルプロピル)イソシアヌレート(以下、「イソシアヌレート化合物」という。)、N,N’-ビス(3-トリメトキシシリルプロピル)ウレア、N,N’-ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)ウレア(以下、「ウレア化合物」という。)、及び、上記イソシアヌレート化合物とウレア化合物との組み合わせを用いるのが好ましい。 Among these, 1,3,5-N-tris(3-trimethoxysilylpropyl)isocyanurate, 1,3,5-N-tris(3- triethoxysilylpropyl) isocyanurate (hereinafter referred to as "isocyanurate compound"), N,N'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea, N,N'-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea (hereinafter referred to as "urea compound"), and a combination of the above-mentioned isocyanurate compound and urea compound are preferably used.

本発明の硬化性組成物が分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、その量は、上記(A)成分と分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤の質量比〔(A)成分:分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤〕で、好ましくは100:0.1~100:90、より好ましくは100:0.3~100:60、より好ましくは100:1~100:50、さらに好ましくは100:3~100:40、特に好ましくは100:5~100:35となる量である。
このような割合で(A)成分及び分子内に窒素原子を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、耐熱性及び接着性により優れたものになる。
When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule, its content is not particularly limited, but the amount is equal to the amount of the above component (A) and the silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule. The mass ratio of the silane coupling agent [component (A): silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule] is preferably 100:0.1 to 100:90, more preferably 100:0.3 to 100: 60, more preferably 100:1 to 100:50, still more preferably 100:3 to 100:40, particularly preferably 100:5 to 100:35.
A cured product of a curable composition containing component (A) and a silane coupling agent having a nitrogen atom in the molecule in such a ratio has better heat resistance and adhesiveness.

分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤は、一つの分子中に、酸無水物構造を有する基と、加水分解性基の両者を併せ持つ有機ケイ素化合物である。具体的には下記式(c-5)で表される化合物が挙げられる。 A silane coupling agent having an acid anhydride structure in its molecule is an organosilicon compound having both a group having an acid anhydride structure and a hydrolyzable group in one molecule. Specifically, a compound represented by the following formula (c-5) may be mentioned.

Figure 0007420610000008
Figure 0007420610000008

式中、Qは酸無水物構造を有する基を表し、Rは炭素数1~6のアルキル基、又は、置換基を有する、若しくは置換基を有さないフェニル基を表し、Rは炭素数1~6のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、i、kは1~3の整数を表し、jは0~2の整数を表し、i+j+k=4である。jが2であるとき、R同士は同一であっても相異なっていてもよい。kが2又は3のとき、複数のR同士は同一であっても相異なっていてもよい。iが2又は3のとき、複数のQ同士は同一であっても相異なっていてもよい。
Qとしては、下記式で表される基等が挙げられ、(Q1)で表される基が特に好ましい。
In the formula, Q represents a group having an acid anhydride structure, R d represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group with or without a substituent, and R e represents a carbon It represents an alkoxy group or a halogen atom of numbers 1 to 6, i and k represent integers of 1 to 3, j represents an integer of 0 to 2, and i+j+k=4. When j is 2, R d may be the same or different. When k is 2 or 3, the plural Re may be the same or different. When i is 2 or 3, the plural Qs may be the same or different.
Examples of Q include groups represented by the following formulas, and the group represented by (Q1) is particularly preferred.

Figure 0007420610000009
Figure 0007420610000009

式中、hは0~10の整数を表す。 In the formula, h represents an integer from 0 to 10.

分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤としては、2-(トリメトキシシリル)エチル無水コハク酸、2-(トリエトキシシリル)エチル無水コハク酸、3-(トリメトキシシリル)プロピル無水コハク酸、3-(トリエトキシシリル)プロピル無水コハク酸等の、トリ(炭素数1~6)アルコキシシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;
2-(ジメトキシメチルシリル)エチル無水コハク酸等の、ジ(炭素数1~6)アルコキシメチルシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;
2-(メトキシジメチルシリル)エチル無水コハク酸等の、(炭素数1~6)アルコキシジメチルシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;
Examples of silane coupling agents having an acid anhydride structure in the molecule include 2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(triethoxysilyl)ethyl succinic anhydride, and 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride. acid, tri(carbon number 1 to 6) alkoxysilyl(carbon number 2 to 8) alkyl succinic anhydride, such as 3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride;
Di(C1 to C6) alkoxymethylsilyl(C2 to C8) alkylsuccinic anhydride such as 2-(dimethoxymethylsilyl)ethylsuccinic anhydride;
(C1 to C6) alkoxydimethylsilyl (C2 to C8) alkyl succinic anhydride, such as 2-(methoxydimethylsilyl)ethylsuccinic anhydride;

2-(トリクロロシリル)エチル無水コハク酸、2-(トリブロモシリル)エチル無水コハク酸等の、トリハロゲノシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;
2-(ジクロロメチルシリル)エチル無水コハク酸等の、ジハロゲノメチルシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;
2-(クロロジメチルシリル)エチル無水コハク酸等の、ハロゲノジメチルシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸;等が挙げられる。
Trihalogenosilyl (2 to 8 carbon atoms) alkyl succinic anhydride, such as 2-(trichlorosilyl)ethyl succinic anhydride, 2-(tribromosilyl)ethyl succinic anhydride;
Dihalogenomethylsilyl (2 to 8 carbon atoms) alkyl succinic anhydride, such as 2-(dichloromethylsilyl)ethyl succinic anhydride;
Examples include halogenodimethylsilyl (2 to 8 carbon atoms) alkyl succinic anhydride such as 2-(chlorodimethylsilyl)ethyl succinic anhydride.

これらの中でも、分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤としては、トリ(炭素数1~6)アルコキシシリル(炭素数2~8)アルキル無水コハク酸が好ましく、3-(トリメトキシシリル)プロピル無水コハク酸又は3-(トリエトキシシリル)プロピル無水コハク酸が特に好ましい。 Among these, as a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule, tri(carbon number 1-6) alkoxysilyl(carbon number 2-8) alkyl succinic anhydride is preferred, and 3-(trimethoxysilyl ) Propyl succinic anhydride or 3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride is particularly preferred.

本発明の硬化性組成物が分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、その量は、上記(A)成分と分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤の質量比〔(A)成分:分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤〕で、好ましくは100:0.1~100:30、より好ましくは100:0.3~100:20、より好ましくは100:0.5~100:15、さらに好ましくは100:1~100:10となる量である。
このような割合で(A)成分及び分子内に酸無水物構造を有するシランカップリング剤を含有する硬化性組成物の硬化物は、接着性により優れたものになる。
When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule, the content is not particularly limited, but the amount is the same as the component (A) and the silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule. The mass ratio of the silane coupling agent having an acid anhydride structure [component (A): silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule] is preferably 100:0.1 to 100:30, more preferably 100: The amount is 0.3 to 100:20, more preferably 100:0.5 to 100:15, and even more preferably 100:1 to 100:10.
A cured product of a curable composition containing component (A) and a silane coupling agent having an acid anhydride structure in the molecule in such proportions has better adhesive properties.

本発明の硬化性組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、他の成分を含有してもよい。
他の成分としては、微粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。
The curable composition of the present invention may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired.
Other components include fine particles, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and the like.

微粒子を添加すると、塗布工程における作業性に優れる硬化性組成物を得ることができる場合がある。微粒子の材質としては、金属;金属酸化物;鉱物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属硫酸塩;水酸化アルミニウム等の金属水酸化物;珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム等の金属珪酸塩;シリカ等の無機成分;シリコーン;アクリル系重合体等の有機成分;等が挙げられる。
また、用いる微粒子は表面が修飾されたものであってもよい。
When fine particles are added, it may be possible to obtain a curable composition with excellent workability in the coating process. Materials for the fine particles include metals; metal oxides; minerals; metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; aluminum silicate and silicic acid. Metal silicates such as calcium and magnesium silicate; inorganic components such as silica; silicones; organic components such as acrylic polymers; and the like.
Further, the surface of the fine particles used may be modified.

これらの微粒子は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。微粒子の含有量は特に限定されないが、(A)成分に対して、通常50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、35質量%以下がより更に好ましい。 These fine particles can be used alone or in combination of two or more. The content of the fine particles is not particularly limited, but is usually preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 35% by mass or less, based on component (A).

酸化防止剤は、加熱時の酸化劣化を防止するために添加される。酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。 Antioxidants are added to prevent oxidative deterioration during heating. Examples of the antioxidant include phosphorus antioxidants, phenolic antioxidants, sulfur antioxidants, and the like.

リン系酸化防止剤としては、ホスファイト類、オキサホスファフェナントレンオキサイド類等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、モノフェノール類、ビスフェノール類、高分子型フェノール類等が挙げられる。硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル-3,3’-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3’-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3’-チオジプロピオネート等が挙げられる。 Examples of phosphorus antioxidants include phosphites, oxaphosphaphenanthrene oxides, and the like. Examples of phenolic antioxidants include monophenols, bisphenols, and polymeric phenols. Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, and the like.

これらの酸化防止剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。酸化防止剤の含有量は特に限定されないが、(A)成分に対して、通常10質量%以下である。 These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. The content of the antioxidant is not particularly limited, but is usually 10% by mass or less based on component (A).

紫外線吸収剤は、得られる硬化物の耐光性を向上させる目的で添加される。
紫外線吸収剤としては、サリチル酸類、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、ヒンダードアミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。紫外線吸収剤の含有量は特に限定されないが、(A)成分に対して、通常10質量%以下である。
The ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the light resistance of the resulting cured product.
Examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids, benzophenones, benzotriazoles, hindered amines, and the like.
One type of ultraviolet absorber can be used alone or two or more types can be used in combination. The content of the ultraviolet absorber is not particularly limited, but is usually 10% by mass or less based on component (A).

光安定剤は、得られる硬化物の耐光性を向上させる目的で添加される。
光安定剤としては、例えば、ポリ[{6-(1,1,3,3,-テトラメチルブチル)アミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル}{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン)イミノ}]等のヒンダードアミン類等が挙げられる。
これらの光安定剤は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。光安定剤の含有量は、(A)成分に対して、通常20質量%以下である。
A light stabilizer is added for the purpose of improving the light resistance of the resulting cured product.
Examples of the light stabilizer include poly[{6-(1,1,3,3,-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl}{(2,2,6 , 6-tetramethyl-4-piperidine)imino}hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine)imino} and the like.
These light stabilizers can be used alone or in combination of two or more. The content of the light stabilizer is usually 20% by mass or less based on component (A).

本発明の硬化性組成物は、溶媒を含有してもよい。溶媒は、本発明の硬化性組成物の成分を溶解又は分散し得るものであれば特に限定されない。
溶媒としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1,6-ヘキサンジオールジアセテート等のアセテート類;トリプロピレングリコール-n-ブチルエーテル;グリセリンジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ネオペンチルグリコールグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、アルキレンジグリシジルエーテル、ポリグリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等のジグリシジルエーテル類;トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等のトリグリシジルエーテル類;4-ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド等のビニルヘキセンオキサイド類;等が挙げられる。
溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The curable composition of the present invention may contain a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the components of the curable composition of the present invention.
As a solvent, acetates such as diethylene glycol monobutyl ether acetate and 1,6-hexanediol diacetate; tripropylene glycol-n-butyl ether; glycerin diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, diglycidyl aniline, neopentyl glycol glycidyl ether , cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, alkylene diglycidyl ether, polyglycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and other diglycidyl ethers; trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, and other triglycidyl ethers; 4 - Vinylhexene oxides such as vinylcyclohexene monooxide, vinylcyclohexene dioxide, and methylated vinylcyclohexene dioxide; and the like.
One type of solvent can be used alone or two or more types can be used in combination.

本発明の硬化性組成物が溶媒を含有する場合、その含有量は、固形分濃度が、好ましくは50質量%以上、100質量%未満、より好ましくは60~90質量%、より更に好ましくは65~85質量%になる量である。固形分濃度がこの範囲内であることで、塗布工程における作業性に優れる硬化性組成物が得られ易くなる。 When the curable composition of the present invention contains a solvent, the content thereof is such that the solid content concentration is preferably 50% by mass or more and less than 100% by mass, more preferably 60 to 90% by mass, and even more preferably 65% by mass. The amount is ~85% by mass. When the solid content concentration is within this range, it becomes easier to obtain a curable composition that has excellent workability in the coating process.

本発明の硬化性組成物は、例えば、上記(A)成分と(B)成分、及び、所望により他の成分を所定割合で混合し、脱泡することにより調製することができる。
混合方法、脱泡方法は特に限定されず、公知の方法を利用することができる。
The curable composition of the present invention can be prepared, for example, by mixing the above components (A) and (B) and, if desired, other components in a predetermined ratio and defoaming the mixture.
The mixing method and defoaming method are not particularly limited, and known methods can be used.

本発明の硬化性組成物を調製した後、使用するまでの間は、冷蔵保存又は冷凍保存をすることが好ましい。本発明の硬化性組成物を冷蔵又は冷凍することで、長期間保存することができる。 After the curable composition of the present invention is prepared, it is preferably stored refrigerated or frozen until it is used. By refrigerating or freezing the curable composition of the present invention, it can be stored for a long period of time.

本発明の硬化性組成物は、ポリシルセスキオキサン化合物(A)及び多価カルボン酸(B)を含有する。このため、本発明の硬化性組成物は硬化性に優れる。
本発明の硬化性組成物が硬化性に優れることは、例えば、実施例に記載の方法により確認することができる。
すなわち、自動硬化時間測定装置(株式会社サイバー製、商品名「まどか」)を用い、150℃に加熱されたステンレス板上に硬化性組成物のサンプルを投入して撹拌すると、撹拌トルクが上昇する。したがって、撹拌トルクが、0.049N・cmになるまでの時間を測定することにより、硬化性を数値化することができる。
撹拌トルクが0.049N・cmになるまでの時間は、1000秒以下が好ましく、800秒以下がより好ましく、500秒以下がさらに好ましい。
The curable composition of the present invention contains a polysilsesquioxane compound (A) and a polycarboxylic acid (B). Therefore, the curable composition of the present invention has excellent curability.
The excellent curability of the curable composition of the present invention can be confirmed, for example, by the method described in the Examples.
That is, when a sample of the curable composition is placed on a stainless steel plate heated to 150°C and stirred using an automatic curing time measuring device (manufactured by Cyber Co., Ltd., product name "Madoka"), the stirring torque increases. . Therefore, by measuring the time it takes for the stirring torque to reach 0.049 N·cm, the curability can be quantified.
The time required for the stirring torque to reach 0.049 N·cm is preferably 1000 seconds or less, more preferably 800 seconds or less, and even more preferably 500 seconds or less.

上記のように、本発明の硬化性組成物は硬化性に優れる。したがって、本発明の硬化性組成物を使用することで、従来の硬化性組成物を使用する場合に比べて、作業時間を短縮化することができる。 As mentioned above, the curable composition of the present invention has excellent curability. Therefore, by using the curable composition of the present invention, the working time can be shortened compared to the case where conventional curable compositions are used.

2)硬化物
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化させて得られるものである。
本発明の硬化性組成物を硬化させる方法としては加熱硬化が挙げられる。硬化させるときの加熱温度は、通常80~140℃であり、より好ましくは90~120℃である。加熱時間は、通常30分から5時間であり、好ましくは1~3時間である。
2) Cured product The cured product of the present invention is obtained by curing the curable composition of the present invention.
A method for curing the curable composition of the present invention includes heat curing. The heating temperature during curing is usually 80 to 140°C, more preferably 90 to 120°C. The heating time is usually 30 minutes to 5 hours, preferably 1 to 3 hours.

本発明の硬化物は、耐熱性及び接着性に優れるものが好ましい。
硬化物の耐熱性や接着性は、例えば、次のようにして確認することができる。すなわち、シリコンチップのミラー面に、本発明の硬化性組成物を所定量塗布し、塗布面を被着体の上に載せ、圧着し、加熱処理して硬化させる。これを、予め所定温度(例えば、100℃)に加熱したボンドテスターの測定ステージ上に30秒間放置し、被着体から100μmの高さの位置より、接着面に対し水平方向(せん断方向)に応力をかけ、試験片と被着体との接着力を測定する。
The cured product of the present invention preferably has excellent heat resistance and adhesive properties.
The heat resistance and adhesiveness of the cured product can be confirmed, for example, as follows. That is, a predetermined amount of the curable composition of the present invention is applied to the mirror surface of a silicon chip, the applied surface is placed on an adherend, the composition is pressed, and the composition is heated and cured. This was left on the measurement stage of a bond tester preheated to a predetermined temperature (for example, 100°C) for 30 seconds, and the adhesive was measured horizontally (shearing direction) from a position 100 μm above the adherend. Apply stress and measure the adhesive strength between the test piece and the adherend.

本発明の硬化物の接着力は、実施例に記載の測定条件において、15N/4mm以上であることが好ましく、25N/4mm以上であることがより好ましく、30N/4mm以上であることがさらに好ましい。
本明細書において、「4mm」とは、「2mm square」、すなわち、2mm×2mm(1辺が2mmの正方形)を意味する。
The adhesive strength of the cured product of the present invention is preferably 15 N/4 mm 2 or more, more preferably 25 N/4 mm 2 or more, and 30 N/4 mm 2 or more under the measurement conditions described in the Examples. is even more preferable.
In this specification, "4 mm 2 " means "2 mm square", that is, 2 mm x 2 mm (a square with one side of 2 mm).

耐熱性及び接着性に優れる硬化物は、例えば、上記(C)成分を含有する硬化性組成物を硬化させることで効率よく形成することができる。
耐熱性及び接着性に優れる硬化物は、光素子固定材としてより好ましく用いられる。
A cured product having excellent heat resistance and adhesiveness can be efficiently formed, for example, by curing a curable composition containing the component (C).
A cured product with excellent heat resistance and adhesive properties is more preferably used as an optical element fixing material.

3)硬化性組成物の使用方法
本発明の方法は、本発明の硬化性組成物を、光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する方法である。
光素子としては、LED、LD等の発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等が挙げられる。
3) Method of using curable composition The method of the present invention is a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material.
Examples of optical elements include light emitting elements such as LEDs and LDs, light receiving elements, composite optical elements, optical integrated circuits, and the like.

〈光素子固定材用接着剤〉
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用接着剤として好適に使用することができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用接着剤として使用する方法としては、接着の対象とする材料(光素子とその基板等)の一方又は両方の接着面に該組成物を塗布し、圧着した後、加熱硬化させ、接着の対象とする材料同士を強固に接着させる方法が挙げられる。本発明の硬化性組成物の塗布量は、特に限定されず、硬化させることにより、接着の対象とする材料同士を強固に接着することができる量であればよい。通常、硬化性組成物の塗膜の厚みが0.5~5μm、好ましくは1~3μmとなる量である。
<Adhesive for optical element fixing material>
The curable composition of the present invention can be suitably used as an adhesive for an optical element fixing material.
A method for using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical device fixing material is to apply the composition to one or both adhesive surfaces of the materials to be bonded (optical device and its substrate, etc.). After crimping, the materials to be bonded may be hardened by heating to firmly bond the materials to be bonded. The amount of the curable composition of the present invention to be applied is not particularly limited, and may be any amount that allows the materials to be bonded to be firmly bonded together by curing. Usually, the amount is such that the thickness of the coating film of the curable composition is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 3 μm.

光素子を接着するための基板材料としては、ソーダライムガラス、耐熱性硬質ガラス等のガラス類;セラミックス;サファイア;鉄、銅、アルミニウム、金、銀、白金、クロム、チタン及びこれらの金属の合金、ステンレス(SUS302、SUS304、SUS304L、SUS309等)等の金属類;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレン-酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂、ガラスエポキシ樹脂等の合成樹脂;等が挙げられる。 Substrate materials for bonding optical devices include glasses such as soda lime glass and heat-resistant hard glass; ceramics; sapphire; iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium, and alloys of these metals. , metals such as stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyether ether ketone , polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene resin, cycloolefin resin, glass epoxy resin, and other synthetic resins.

加熱硬化させる際の加熱温度は、用いる硬化性組成物等にもよるが、通常80~150℃であり、より好ましくは90~130℃である。加熱時間は、通常30分から5時間であり、好ましくは1~3時間である。 The heating temperature during heat curing depends on the curable composition used, but is usually 80 to 150°C, more preferably 90 to 130°C. The heating time is usually 30 minutes to 5 hours, preferably 1 to 3 hours.

〈光素子固定材用封止材〉
本発明の硬化性組成物は、光素子固定材用封止材として好適に用いることができる。
本発明の硬化性組成物を光素子固定材用封止材として使用する方法としては、例えば、該組成物を所望の形状に成形して、光素子を内包した成形体を得た後、このものを加熱硬化させることにより、光素子封止体を製造する方法等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物を所望の形状に成形する方法としては、特に限定されるものではなく、通常のトランスファー成形法や、注型法等の公知のモールド法を採用できる。
<Encapsulant for optical element fixing material>
The curable composition of the present invention can be suitably used as a sealing material for an optical element fixing material.
As a method for using the curable composition of the present invention as a sealing material for an optical element fixing material, for example, the composition is molded into a desired shape to obtain a molded body containing an optical element, and then this Examples include a method of manufacturing an optical element sealing body by heating and curing the material.
The method for molding the curable composition of the present invention into a desired shape is not particularly limited, and a known molding method such as a normal transfer molding method or a casting method can be employed.

加熱硬化する際の加熱温度は、用いる硬化性組成物等にもよるが、通常80~150℃であり、より好ましくは90~130℃である。加熱時間は、通常30分から5時間であり、好ましくは1~3時間である。 The heating temperature during heat curing depends on the curable composition used, but is usually 80 to 150°C, more preferably 90 to 130°C. The heating time is usually 30 minutes to 5 hours, preferably 1 to 3 hours.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(平均分子量測定)
製造例で得たポリシルセスキオキサン化合物の質量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、標準ポリスチレン換算値とし、以下の装置及び条件にて測定した。
装置名:HLC-8220GPC、東ソー株式会社製
カラム:TSKgelGMHXL、TSKgelGMHXL、及び、TSKgel2000HXLを順次連結したもの
溶媒:テトラヒドロフラン
注入量:80μl
測定温度:40℃
流速:1ml/分
検出器:示差屈折計
(Average molecular weight measurement)
The mass average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polysilsesquioxane compound obtained in the production example were measured using the following equipment and conditions using standard polystyrene equivalent values.
Device name: HLC-8220GPC, manufactured by Tosoh Corporation Column: TSKgelGMHXL, TSKgelGMHXL, and TSKgel2000HXL connected in sequence Solvent: Tetrahydrofuran Injection volume: 80 μl
Measurement temperature: 40℃
Flow rate: 1ml/min Detector: Differential refractometer

(IRスペクトルの測定)
製造例で得たポリシルセスキオキサン化合物のIRスペクトルは、フーリエ変換赤外分光光度計(パーキンエルマー社製、Spectrum100)を使用して測定した。
(Measurement of IR spectrum)
The IR spectrum of the polysilsesquioxane compound obtained in the production example was measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (PerkinElmer, Spectrum 100).

29Si-NMR測定)
製造例で得たポリシルセスキオキサン化合物の繰り返し単位とその量を調べるために、以下の条件で29Si-NMR測定を行った。
装置:ブルカー・バイオスピン社製 AV-500
29Si-NMR共鳴周波数:99.352MHz
プローブ:5mmφ溶液プローブ
測定温度:室温(25℃)
試料回転数:20kHz
測定法:インバースゲートデカップリング法
29Si フリップ角:90°
29Si 90°パルス幅:8.0μs
繰り返し時間:5s
積算回数:9200回
観測幅:30kHz
( 29Si -NMR measurement)
In order to investigate the repeating unit and its amount of the polysilsesquioxane compound obtained in the production example, 29 Si-NMR measurement was performed under the following conditions.
Equipment: Bruker Biospin AV-500
29 Si-NMR resonance frequency: 99.352MHz
Probe: 5mmφ solution probe Measurement temperature: Room temperature (25℃)
Sample rotation speed: 20kHz
Measurement method: Inverse gate decoupling method
29 Si Flip angle: 90°
29 Si 90° pulse width: 8.0 μs
Repeat time: 5s
Total number of times: 9200 times Observation width: 30kHz

29Si-NMR試料作製方法)
緩和時間短縮のため、緩和試薬としてFe(acac)を添加し測定した。
ポリシルセスキオキサン化合物濃度:30質量%
Fe(acac)濃度:0.7質量%
測定溶媒:アセトン
内部標準:TMS
( 29 Si-NMR sample preparation method)
In order to shorten the relaxation time, Fe(acac) 3 was added as a relaxation reagent for measurement.
Polysilsesquioxane compound concentration: 30% by mass
Fe(acac) 3 concentration: 0.7% by mass
Measurement solvent: acetone Internal standard: TMS

(波形処理解析)
フーリエ変換後のスペクトルの各ピークについて、ピークトップの位置によりケミカルシフトを求め、積分を行った。
(Waveform processing analysis)
For each peak in the spectrum after Fourier transformation, the chemical shift was determined based on the position of the peak top, and integration was performed.

(製造例1)
300mlのナス型フラスコに、メチルトリエトキシシラン71.37g(400mmol)を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水21.6mlに35質量%塩酸0.10g(メチルトリエトキシシランに対して0.25mol%)を溶解した水溶液を加え、全容を30℃にて2時間、次いで70℃に昇温して5時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、酢酸プロピル140gと、28質量%アンモニア水0.12g(メチルトリエトキシシランに対して0.5mol%)を加え、そのまま70℃で3時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに精製水を加えて分液処理を行い、水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。有機層をエバポレーターで濃縮し、濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A1)〔PSQ(A1)〕を得た。PSQ(A1)の質量平均分子量(Mw)は7,800、分子量分布(Mw/Mn)は4.52であった。
PSQ(A1)のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si-CH:1272cm-1,1409cm-1,Si-O:1132cm-1
また、29Si-NMRスペクトル測定を行った結果、T1、T2、T3のピーク積分値比は、0:24:76であった。
(Manufacturing example 1)
After charging 71.37 g (400 mmol) of methyltriethoxysilane into a 300 ml eggplant-shaped flask, while stirring, add 0.10 g of 35% by mass hydrochloric acid (0.10 g relative to methyltriethoxysilane) to 21.6 ml of distilled water. An aqueous solution in which .
While stirring the contents, 140 g of propyl acetate and 0.12 g of 28% by mass ammonia water (0.5 mol% relative to methyltriethoxysilane) were added thereto, and the mixture was stirred as it was at 70° C. for 3 hours.
After the reaction solution was allowed to cool to room temperature, purified water was added thereto to perform a liquid separation treatment, and this operation was repeated until the pH of the aqueous layer reached 7. The organic layer was concentrated using an evaporator, and the concentrate was vacuum-dried to obtain a polysilsesquioxane compound (A1) [PSQ (A1)]. The mass average molecular weight (Mw) of PSQ (A1) was 7,800, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 4.52.
IR spectrum data of PSQ(A1) is shown below.
Si-CH 3 : 1272 cm -1 , 1409 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1
Further, as a result of 29 Si-NMR spectrum measurement, the ratio of peak integral values of T1, T2, and T3 was 0:24:76.

(製造例2)
300mLのナス型フラスコに、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン17.0g(77.7mmol)、及び、メチルトリエトキシシラン32.33g(181.3mmol)を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水14.0gに35質量%塩酸0.0675g(HClの量が0.65mmol,シラン化合物の合計量に対して、0.25mol%)を溶解して得られた水溶液を加え、全容を30℃にて2時間、次いで70℃に昇温して20時間撹拌した。
内容物の撹拌を継続しながら、そこに、28質量%アンモニア水0.0394g(NHの量が0.65mmol)と酢酸プロピル46.1gの混合溶液を加えて反応液のpHを6.9にし、そのまま70℃で40分間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル50g及び水100gを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A2)〔PSQ(A2)〕を得た。PSQ(A2)の質量平均分子量(Mw)は5,500、分子量分布は3.40であった。
PSQ(A2)のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si-CH:1272cm-1,1409cm-1,Si-O:1132cm-1,C-F:1213cm-1
また、29Si-NMRスペクトル測定を行った結果、T1、T2、T3のピーク積分値比は、2:27:71であった。
(Manufacturing example 2)
A 300 mL eggplant-shaped flask was charged with 17.0 g (77.7 mmol) of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and 32.33 g (181.3 mmol) of methyltriethoxysilane, and then stirred. While adding an aqueous solution obtained by dissolving 0.0675 g of 35% by mass hydrochloric acid (the amount of HCl is 0.65 mmol, 0.25 mol% with respect to the total amount of silane compounds) in 14.0 g of distilled water, The whole mixture was stirred at 30°C for 2 hours, then heated to 70°C and stirred for 20 hours.
While stirring the contents, a mixed solution of 0.0394 g of 28% by mass ammonia water (the amount of NH 3 is 0.65 mmol) and 46.1 g of propyl acetate was added thereto to adjust the pH of the reaction solution to 6.9. The mixture was stirred at 70° C. for 40 minutes.
After the reaction solution was allowed to cool to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added thereto for liquid separation treatment to obtain an organic layer containing the reaction product. Magnesium sulfate was added to this organic layer for drying. After removing magnesium sulfate by filtration, the organic layer was concentrated using an evaporator, and the resulting concentrate was then vacuum-dried to obtain polysilsesquioxane compound (A2) [PSQ (A2)]. The mass average molecular weight (Mw) of PSQ (A2) was 5,500, and the molecular weight distribution was 3.40.
IR spectrum data of PSQ (A2) is shown below.
Si-CH 3 : 1272 cm -1 , 1409 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , C-F: 1213 cm -1
Further, as a result of 29 Si-NMR spectrum measurement, the ratio of peak integral values of T1, T2, and T3 was 2:27:71.

(製造例3)
300mlのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン20.2g(102mmol)、2-シアノエチルトリメトキシシラン3.15g(18mmol)、並びに、溶媒として、アセトン96ml及び蒸留水24mlを仕込んだ後、内容物を撹拌しながら、触媒としてリン酸0.15g(1.5mmol)を加え、25℃でさらに16時間撹拌した。
反応終了後、反応液をエバポレーターで50mlまで濃縮し、濃縮物に酢酸エチル100mlを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて中和した。しばらく静置した後、有機層を分取した。次いで、有機層を蒸留水にて2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムをろ別後、ろ液をエバポレーターにて50mlまで濃縮し、得られた濃縮物を多量のn-ヘキサン中に滴下して沈殿させ、沈殿物をデカンテーションにより分離した。得られた沈殿物をメチルエチルケトン(MEK)に溶解させて回収し、エバポレーターで溶媒を減圧留去した。残留物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A3)〔PSQ(A3)〕を得た。PSQ(A3)の質量平均分子量(Mw)は1,870、分子量分布(Mw/Mn)は1.42であった。
PSQ(A3)のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si-Ph:698cm-1,740cm-1,Si-O:1132cm-1,-CN:2259cm-1
また、29Si-NMRスペクトル測定を行った結果、T1、T2、T3のピーク積分値比は、0:33:67であった。
(Manufacturing example 3)
A 300 ml eggplant-shaped flask was charged with 20.2 g (102 mmol) of phenyltrimethoxysilane, 3.15 g (18 mmol) of 2-cyanoethyltrimethoxysilane, and 96 ml of acetone and 24 ml of distilled water as solvents. While stirring, 0.15 g (1.5 mmol) of phosphoric acid was added as a catalyst, and the mixture was further stirred at 25° C. for 16 hours.
After the reaction was completed, the reaction solution was concentrated to 50 ml using an evaporator, 100 ml of ethyl acetate was added to the concentrate, and the mixture was neutralized with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After standing still for a while, the organic layer was separated. The organic layer was then washed twice with distilled water and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtering off magnesium sulfate, the filtrate was concentrated to 50 ml using an evaporator, the resulting concentrate was dropped into a large amount of n-hexane to precipitate it, and the precipitate was separated by decantation. The obtained precipitate was recovered by dissolving it in methyl ethyl ketone (MEK), and the solvent was distilled off under reduced pressure using an evaporator. By vacuum drying the residue, a polysilsesquioxane compound (A3) [PSQ (A3)] was obtained. The mass average molecular weight (Mw) of PSQ (A3) was 1,870, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.42.
IR spectrum data of PSQ (A3) is shown below.
Si-Ph: 698 cm -1 , 740 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -CN: 2259 cm -1
Further, as a result of 29 Si-NMR spectrum measurement, the ratio of peak integral values of T1, T2, and T3 was 0:33:67.

(製造例4)
300mlのナス型フラスコに、フェニルトリメトキシシラン28.91g(145.8mmol)を仕込んだ後、これを撹拌しながら、蒸留水7.874gに35質量%塩酸0.0376g(フェニルトリメトキシシランに対してHClが0.25mol%)を溶解した水溶液を加え、全容を30℃にて2時間、次いで70℃に昇温して5時間撹拌した。
反応液を室温まで放冷した後、そこに、酢酸プロピル50g及び水100gを加えて分液処理を行い、反応生成物を含む有機層を得た。この有機層に硫酸マグネシウムを加えて乾燥処理を行った。硫酸マグネシウムを濾別除去した後、有機層をエバポレーターで濃縮し、次いで、得られた濃縮物を真空乾燥することにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A4)を得た。PSQ(A4)の質量平均分子量(Mw)は1,100、分子量分布(Mw/Mn)は1.20であった。
PSQ(A4)のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si-Ph:698cm-1,740cm-1,Si-O:1132cm-1
また、29Si-NMRスペクトル測定を行った結果、T1、T2、T3のピーク積分値比は、5:53:42であった。
(Manufacturing example 4)
After charging 28.91 g (145.8 mmol) of phenyltrimethoxysilane into a 300 ml eggplant-shaped flask, while stirring, add 0.0376 g of 35% by mass hydrochloric acid (based on phenyltrimethoxysilane) to 7.874 g of distilled water. An aqueous solution in which HCl (0.25 mol %) was dissolved was added, and the entire volume was stirred at 30° C. for 2 hours, then heated to 70° C. and stirred for 5 hours.
After the reaction solution was allowed to cool to room temperature, 50 g of propyl acetate and 100 g of water were added thereto for liquid separation treatment to obtain an organic layer containing the reaction product. Magnesium sulfate was added to this organic layer for drying. After removing magnesium sulfate by filtration, the organic layer was concentrated using an evaporator, and the resulting concentrate was then vacuum-dried to obtain a polysilsesquioxane compound (A4). The mass average molecular weight (Mw) of PSQ (A4) was 1,100, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.20.
IR spectrum data of PSQ (A4) is shown below.
Si-Ph: 698cm -1 , 740cm -1 , Si-O: 1132cm -1
Further, as a result of 29 Si-NMR spectrum measurement, the ratio of peak integral values of T1, T2, and T3 was 5:53:42.

実施例及び比較例で用いた化合物を以下に示す。
(A成分)
PSQ(A1)~(A4)
The compounds used in Examples and Comparative Examples are shown below.
(A component)
PSQ (A1) ~ (A4)

(B成分及び比較用化合物)
多価カルボン酸(B1):シュウ酸
多価カルボン酸(B2):アジピン酸
多価カルボン酸(B3):クエン酸
多価カルボン酸(B4):フタル酸
多価カルボン酸(B5):シクロヘキサンジカルボン酸
カルボキシ基含有化合物(X1):ギ酸
カルボキシ基含有化合物(X2):プロピオン酸
カルボキシ基含有化合物(X3):酪酸
(Component B and comparative compound)
Polyvalent carboxylic acid (B1): Oxalic acid polyvalent carboxylic acid (B2): Adipic acid polyvalent carboxylic acid (B3): Citric acid polyvalent carboxylic acid (B4): Phthalic acid polyvalent carboxylic acid (B5): Cyclohexanedicarboxylic acid Acid carboxyl group-containing compound (X1): Formic acid carboxyl group-containing compound (X2): Propionic acid carboxyl group-containing compound (X3): Butyric acid

(C成分)
シランカップリング剤(C1):1,3,5-N-トリス〔3-(トリメトキシシリル)プロピル〕イソシアヌレート
シランカップリング剤(C2):3-(トリメトキシシリル)プロピルコハク酸無水物
(C component)
Silane coupling agent (C1): 1,3,5-N-tris[3-(trimethoxysilyl)propyl]isocyanurate Silane coupling agent (C2): 3-(trimethoxysilyl)propyl succinic anhydride

(実施例1)
PSQ(A1)100質量部に、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート:トリプロピレングリコール-n-ブチルエーテル=40:60(質量比)の混合溶剤を加え、全容を撹拌した。このものに、多価カルボン酸(B1)0.5部(20質量%メタノール溶液として添加)、シランカップリング剤(C1)30質量部、シランカップリング剤(C2)3質量部を加え、全容を十分に混合、脱泡することにより、硬化性組成物を得た。
(Example 1)
A mixed solvent of diethylene glycol monobutyl ether acetate: tripropylene glycol-n-butyl ether = 40:60 (mass ratio) was added to 100 parts by mass of PSQ (A1), and the whole was stirred. To this, add 0.5 parts of polyhydric carboxylic acid (B1) (added as a 20% by mass methanol solution), 30 parts by mass of silane coupling agent (C1), and 3 parts by mass of silane coupling agent (C2), and add A curable composition was obtained by thoroughly mixing and defoaming.

(実施例2~14、比較例1~5)
実施例1において、各成分を第1表に示すものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物を得た。
(Examples 2 to 14, Comparative Examples 1 to 5)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that each component was changed to those shown in Table 1.

実施例、及び比較例で得た硬化性組成物を用いて、それぞれ以下の測定、試験を行った。結果を第1表に示す。 The following measurements and tests were conducted using the curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples. The results are shown in Table 1.

[硬化性評価]
自動硬化時間測定装置「まどか」(株式会社サイバー製)を用いて、以下の方法により硬化性組成物の硬化時間を測定した。
150℃に加熱されたステンレス板上に、0.30mLのサンプルを投入し、撹拌した。経時的に撹拌トルクが上昇するため、撹拌トルクが0.049N・cmになるまでの時間(秒)を測定した。撹拌条件は以下のとおりである。
・撹拌翼の自転回転数: 200rpm
・撹拌翼の公転回転数: 80rpm
・ギャップ(加熱板と撹拌翼間の距離): 0.3mm
[Cureability evaluation]
Using an automatic curing time measuring device "Madoka" (manufactured by Cyber Co., Ltd.), the curing time of the curable composition was measured by the following method.
0.30 mL of the sample was placed on a stainless steel plate heated to 150°C and stirred. Since the stirring torque increases over time, the time (seconds) until the stirring torque reaches 0.049 N·cm was measured. The stirring conditions are as follows.
・Rotation speed of stirring blade: 200 rpm
・Revolution speed of stirring blade: 80 rpm
・Gap (distance between heating plate and stirring blade): 0.3mm

[接着強度評価]
一辺の長さが2mmの正方形(面積が4mm)のシリコンチップのミラー面に、実施例及び比較例で得た硬化性組成物を、それぞれ、厚さが約2μmになるように塗布し、塗布面を被着体(銀メッキ銅板)の上に載せ圧着した。その後、130℃で2時間加熱処理して硬化させて試験片付被着体を得た。この試験片付被着体を、予め100℃に加熱したボンドテスター(デイジ社製、シリーズ4000)の測定ステージ上に30秒間放置し、被着体から100μmの高さの位置より、スピード200μm/sで接着面に対し水平方向(せん断方向)に応力をかけ、100℃における、試験片と被着体との接着力(N/4mm)を測定した。
[Adhesive strength evaluation]
The curable compositions obtained in Examples and Comparative Examples were each applied to the mirror surface of a square silicon chip with a side length of 2 mm (area: 4 mm 2 ) to a thickness of about 2 μm, The coated surface was placed on an adherend (silver-plated copper plate) and pressed. Thereafter, it was cured by heat treatment at 130° C. for 2 hours to obtain an adherend with a test piece attached. The adherend with the test piece was left on the measurement stage of a bond tester (manufactured by Dage, series 4000) preheated to 100°C for 30 seconds, and the test piece was measured at a speed of 200 μm/cm from a height of 100 μm from the adherend. Stress was applied to the adhesive surface in the horizontal direction (shear direction) at s, and the adhesive force (N/4 mm 2 ) between the test piece and the adherend at 100° C. was measured.

Figure 0007420610000010
Figure 0007420610000010

上記実施例及び比較例から以下のことが分かる。
実施例1~14の硬化性組成物は硬化性評価試験において、1000秒以下という短い時間で硬化物が得られており、硬化性に優れている。
一方、比較例1~7の硬化性組成物は硬化性に劣っている。
The following can be understood from the above examples and comparative examples.
The curable compositions of Examples 1 to 14 exhibited excellent curability, with cured products being obtained in a short time of 1000 seconds or less in the curability evaluation test.
On the other hand, the curable compositions of Comparative Examples 1 to 7 have poor curability.

Claims (11)

光素子固定材用接着剤又は光素子固定材用封止材として使用する硬化性組成物であって、
下記(A)成分、及び、(B)成分を含有する化性組成物。
(A)成分:下記式(a-1)で示される繰り返し単位を、1種又は2種以上有するポリシルセスキオキサン化合物
Figure 0007420610000011
〔Rは、無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換基を有する炭素数1~10のアルキル基、無置換の炭素数6~12のアリール基、及び、置換基を有する炭素数6~12のアリール基からなる群から選ばれる基である。〕
(B)成分:分子内に2以上のカルボキシ基を有するカルボキシ基含有化合物
A curable composition used as an adhesive for an optical element fixing material or a sealing material for an optical element fixing material,
A curable composition containing the following component (A) and component (B).
Component (A): polysilsesquioxane compound having one or more repeating units represented by the following formula (a-1)
Figure 0007420610000011
[R 1 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituent alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent having 6 to 12 carbon atoms; It is a group selected from the group consisting of 6 to 12 aryl groups. ]
(B) Component: Carboxy group-containing compound having two or more carboxy groups in the molecule
(A)成分中の式(a-1)で示される繰り返し単位の量が、(A)成分の全繰り返し単位中70~100mol%である、請求項1に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 1, wherein the amount of the repeating unit represented by formula (a-1) in component (A) is 70 to 100 mol% of the total repeating units of component (A). (A)成分の質量平均分子量(Mw)が、500~20,000である、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the weight average molecular weight (Mw) of component (A) is 500 to 20,000. (A)成分の含有量が、硬化性組成物の固形分中40質量%以上、100質量%未満である、請求項1~3のいずれかに記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of component (A) is 40% by mass or more and less than 100% by mass based on the solid content of the curable composition. (B)成分の分子量が、90~200である、請求項1~4のいずれかに記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein component (B) has a molecular weight of 90 to 200. (B)成分が、脂肪族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸、芳香族多価カルボン酸、及びオキシ多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1~5のいずれかに記載の硬化性組成物。 Component (B) is at least one selected from the group consisting of aliphatic polycarboxylic acids, alicyclic polycarboxylic acids, aromatic polycarboxylic acids, and oxypolycarboxylic acids. 5. The curable composition according to any one of 5. (B)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して0質量部超、10質量部以下である、請求項1~6のいずれかに記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of component (B) is more than 0 parts by mass and 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of component (A). さらに、下記(C)成分を含有する、請求項1~7のいずれかに記載の硬化性組成物。
(C)成分:シランカップリング剤
The curable composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising the following component (C).
(C) Component: Silane coupling agent
さらに溶媒を含有し、固形分濃度が、50質量%以上、100質量%未満である、請求項1~8のいずれかに記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 8, further comprising a solvent and having a solid content concentration of 50% by mass or more and less than 100% by mass. 請求項1~9のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物。 A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of claims 1 to 9. 光素子固定材である請求項10に記載の硬化物。 The cured product according to claim 10, which is an optical element fixing material.
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