JP7428607B2 - 掃除ユニット及び自動分析装置 - Google Patents

Description

本開示は、掃除ユニット及び自動分析装置に関する。

血液、尿等の検体の分析を自動で行う自動分析装置が知られている。特許文献１には、分析対象となる検体と混合する試薬を保冷する試薬保冷庫と、前記試薬保冷庫内に格納され、回転駆動する試薬ディスクと、前記試薬ディスクの外側の側面に取り付けられ、前記試薬保冷庫の内壁と接触する弾性部材と、を備える自動分析装置が記載されている。

特開２０１４－６１４０号公報

特許文献１に記載の自動分析装置では、引き出しフックを掴んで抜き取ることで、弾性部材が交換される（特許文献１の段落００２５、図５）。しかし、引き出しフックが小さく、着脱作業が煩雑である。
本開示が解決しようとする課題は、着脱容易な掃除ユニット及び自動分析装置の提供である。

本開示の掃除ユニットは、検体を分析する自動分析装置の試薬収容庫の内面を掃除する掃除ユニットであって、前記試薬収容庫に収容される回転可能なディスクの試薬ホルダに収容可能に構成され、前記試薬収容庫の前記内面を掃除する掃除部材を備え、前記掃除部材は、前記試薬ホルダの下部に形成された第１開口を通じて前記試薬ホルダの下方に配置され、前記試薬収容庫の底面に接触可能な下方掃除部材を含む。その他の解決手段は発明を実施するための形態において後記する。

本開示によれば、着脱容易な掃除ユニット及び自動分析装置を提供できる。

自動分析装置を正面上方から視た斜視図である。 試薬収容庫の断面図である。 試薬収容庫の上面図である。 掃除ユニットの内部構造を示す図である。 掃除ユニットの断面図であり、シャフトが下方に位置する状態を示す図である。 掃除ユニットの断面図であり、シャフトが上方に位置する状態を示す図である。 流量調整板の構造を説明する図である。 流量調整板に形成された溝の下方掃除部材への投影図である。 掃除ユニットを試薬ホルダに設置した状態を示す図であり、試薬保管庫の断面図である。 掃除ユニットから流出した洗浄液の流れを説明する図であり、試薬保管庫の上面図である。 自動分析装置における掃除方法を説明するフローチャートである。 自動分析装置に備えられる制御装置の具体的なハードウェア構成を示すブロック図である。 掃除方法を実行するときに表示部に表示される第１画面である。 掃除方法を実行するときに表示部に表示される第２画面である。 掃除方法を実行するときのタイムチャートである。 第２実施形態の掃除ユニットの断面図である。 第２実施形態の掃除ユニットを用いた掃除方法を説明する図である。 第３実施形態の掃除ユニットの構造を説明する図である。 第４実施形態の掃除ユニットの構造を説明する図である。 第４実施形態の掃除ユニットを用いた掃除方法を説明する図である。 第１実施形態の掃除ユニットを用いた掃除時の下方掃除部材の移動を説明する図である。 第５実施形態の掃除ユニットを用いた掃除時の下方掃除部材の移動を説明する図である。 第６実施形態の掃除ユニットの構造を説明する図である。 第７実施形態の掃除ユニットの構造を説明する図である。

以下、図面を参照しながら本開示を実施するための形態（実施形態と称する）を説明する。ただし、本開示は以下の実施形態に限られず、例えば異なる実施形態同士を組み合わせたり、本開示の効果を著しく損なわない範囲で任意に変形したりできる。また、同じ部材については同じ符号を付すものとし、重複する説明は省略する。更に、同じ機能を有するものは同じ名称を付すものとする。図示の内容は、あくまで模式的なものであり、図示の都合上、本開示の効果を著しく損なわない範囲で実際の構成から変更することがある。

図１は、自動分析装置１００を正面上方から視た斜視図である。自動分析装置１００は、血液、尿等の検体の分析を自動で行うものである。自動分析装置１００は、操作部１２によって操作される。操作部１２は、表示部１２ａ及び入力部１２ｂを備え、表示部１２ａに表示された情報に基づき操作者が入力部１２ｂを通じて入力可能である。操作部１２は、例えばパーソナルコンピュータであり、使用者が自動分析装置で分析依頼を行うためのものである。表示部１２ａは例えばディスプレイであり、入力部１２ｂは例えばキーボード及びマウスである。

図２は、試薬収容庫１８の断面図である。自動分析装置１００は、分析する検体に混合される試薬容器２０を収容する試薬収容庫１８を備える。試薬収容庫１８は、例えば試薬保冷庫である。試薬保冷庫により、収容した試薬容器２０を低温に維持できる。また、試薬保冷庫では、例えば側面１８ｄの冷却により内部が冷却される。このため、側面１８ｄの温度と試薬保冷庫内部の温度との差により、側面１８ｄに結露水が生じ易い。しかし、結露水が生じた場合であっても、試薬収容庫１８の内面１８ｂを掃除する掃除ユニット５０（後記する）によって、内面１８ｂに付着した結露水を掃除できる。

自動分析装置１００は、試薬収容庫１８の上方に、第３開口１８ａを備える。第３開口１８ａは、試薬容器２０を試薬収容庫１８に出し入れ可能にするものであり、第３開口１８ａを通じて、試薬容器２０が出し入れ可能である。自動分析装置１００は、第３開口１８ａを閉塞する開閉部材１７（図１も参照。閉塞部材の一例。扉等でもよい）を備える。図示の例では、試薬収容庫１８の全体を覆うように蓋１６が備えられ、蓋１６の一部の部分に、開閉部材１７が備えられる。蓋１６は固定されているが開閉部材１７は開閉可能で、開閉部材１７を開けることで、試薬収容庫１８の内外が連通する。一方で、開閉部材１７を閉めることで、試薬収容庫１８の内部が保冷される。なお、図示の例では、試薬収容庫１８は２つ備えられ、それらの上方に備えられる蓋１６及び開閉部材１７も２つずつ備えられる。ただし、試薬収容庫１８は１つでもよく、３つ以上でもよい。

図１に戻って、自動分析装置１００は、自動分析装置１００に投入した検体容器（図示しない）から検体を吸引し、反応容器１５に吐出する検体分注機構１３を備える。更に、自動分析装置１００は、蓋１６に設けられた孔１６ａから試薬吸引機構（図示しない）を通して試薬容器２０（図２）の試薬を吸引し、反応容器１５に吐出する試薬分注機構１４を備える。反応容器１５の中では、検体と試薬とを混合させて検体を分析するための溶液が生成され、その溶液に特定の波長を当てて分析することで、分析結果が得られる。

図２に戻って、試薬収容庫１８の内面１８ｂは、底面１８ｃ及び側面１８ｄを含む。自動分析装置１００は、試薬容器２０を収容する試薬ホルダ１９ａを備える回転可能なディスク１９を備える。試薬ホルダ１９ａの底部の一部は肉抜きされ、第１開口１９ｂが形成される。ディスク１９は、上面視で円環状に構成され、同じく上面視で円環状に構成された試薬収容庫１８に収容される。ディスク１９は、駆動機構２１により、太線の矢印２２で示すように正転又は逆転の各方向に回転駆動される。

試薬収容庫１８の底面１８ｃは内周側から外周側に向かって下る勾配を有し、試薬収容庫１８は、外周側の底面１８ｃに排水口２３を備える。詳細は図１０を参照しながら後記するが、掃除ユニット５０から流出した洗浄液Ｗは、排水口２３を通じて排水される。

図３は、試薬収容庫１８の上面図である。ディスク１９は、周方向に等間隔で試薬ホルダ１９ａを備え、径方向に複数（図示の例では２つ）の試薬ホルダ１９ａを備える。試薬ホルダ１９ａは例えば上面視で台形状である。図示の例では、一部の試薬ホルダ１９ａにのみ試薬容器２０が収容され、残部の試薬ホルダ１９ａは空である。掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに収容し、ディスク１９を回転駆動させることで、試薬収容庫１８の内面１８ｂが掃除される。掃除ユニット５０について説明する。

図４は、掃除ユニット５０の内部構造を示す図である。図４では図示の都合上、一部を切り欠いた状態で図示している。掃除ユニット５０は、試薬収容庫１８（図２）の内面１８ｂ（図２）を掃除するものであり、内面１８ｂを掃除する掃除部材５を備える。掃除部材５は、弾性部材又はブラシの少なくとも一方を含み、図示の例ではブラシである。弾性部材又はブラシの少なくとも一方を含むことで、弾性部材によって水を拭ったりブラシによって内面１８ｂを擦ったりすることで、内面１８ｂを掃除できる。弾性部材は、例えばゴム、樹脂、スポンジ等で形成された例えば板状の部材である。これらの中でも、弾性部材がスポンジであることで、水滴を吸い取ることができる。

掃除部材５は、図示の例では、試薬ホルダ１９ａ（図９）の下部に形成された第１開口１９ｂ（図９）を通じて試薬ホルダ１９ａの下方に配置され、試薬収容庫１８の底面１８ｃ（図９）に接触可能な下方掃除部材６を含む。下方掃除部材６を含むことで、底面１８ｃに接触させた状態でディスク１９（図９）を回転させることで、試薬収容庫１８の底面１８ｃを掃除できる。具体的な掃除方法については、図９を参照して更に後記する。

掃除ユニット５０は、容器１と、シャフト４と、キャップ８（第１フランジ）と、流量調整板１０（第２フランジ）と、シール部材７とを備える。容器１は、洗浄液Ｗ（図５）を貯留するものである。洗浄液Ｗは、底面１８ｃ（図２）に付着した汚れ除去を促進するものであり、例えば、水、界面活性剤を含む水溶液等である。容器１の上方は開口しており、開口が蓋３（図５）により閉塞される。これにより貯留された洗浄液Ｗの溢れが抑制される。

シャフト４は、容器１の下部に形成された第２開口１ａを通じて容器１の内外に延在し、容器１の外側端部に上面視で矩形状の下方掃除部材６が接続され、上下方向に移動可能である。キャップ８は、例えば円形の平板状に形成され、容器１の内部に配置され、シャフト４に固定される。キャップ８の直径は、例えば円形に形成された第２開口１ａの直径よりも大きい。

流量調整板１０は、例えば円形の平板状に構成され、容器１の外部に配置され、シャフト４に固定される。流量調整板１０の直径は第２開口１ａの直径よりも大きい。また、容器１の下部には、部分的に肉厚が短くなる中空部１ｅが形成され、流量調整板１０は中空部１ｅに収容される。中空部１ｅは例えば円柱状に形成され、中空部１ｅの直径は、流量調整板１０の直径よりも長い。

シール部材７は、例えばＯリングであり、キャップ８と、流量調整板１０との間に配置される。シール部材７は、シャフト４の側面に形成された溝に保持されることで、シャフト４に対するシール部材７の摺動が抑制される。

図５は、掃除ユニット５０の断面図であり、シャフト４が下方に位置する状態を示す図である。図示の例では、同じように作用するシャフト４が複数（図示の例では２つ）設けられ、下方掃除部材６は、一方のシャフト４に接続される第１下方掃除部材６ａ、及び、他方のシャフト４に接続される第２下方掃除部材６ｂを含む。第１下方掃除部材６ａと第２下方掃除部材６ｂとは同じ機能を有するため、特に断らない限り、説明の簡略化のために、これらを総称して下方掃除部材６として説明する。

キャップ８と流量調整板１０との間のシャフト４の長さＬ１は、第２開口１ａに接続され、内面１ｂ１とシャフト４の側面４ａとの間に形成される洗浄液流路１ｂの長さＬ２よりも長い。長さＬ２は、底面１ｃと外側底面１ｄとの間の距離である。従って、長さＬ１を長さＬ２よりも長くすることで、シャフト４を上下方向に移動できる。そして、シャフト４が下方に位置するとき、キャップ８は、容器１の底面１ｃと接触する。また、シール部材７は、洗浄液流路１ｂの内面１ｂ１と、シャフト４の側面４ａとの間に配置される。従って、第２開口１ａに接続される洗浄液流路１ｂは、シール部材７によって閉塞される。特に、この位置にシール部材７が配置されることで、内面１ｂ１とシール部材７と側面４ａとの間で生じる摩擦力によって洗浄液流路１ｂを閉塞できるため、シール強度を向上できる。

なお、洗浄液Ｗが貯留されていない状態で例えば指、治具等を用いてキャップ８を押し込むことで、図５に示すような、キャップ８が底面１ｃに接触する状態にできる。この状態で洗浄液Ｗを容器１に入れることで、洗浄液Ｗを貯留できる。

図６は、掃除ユニット５０の断面図であり、シャフト４が上方に位置する状態を示す図である。掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａ（図９）に収容すると、下方掃除部材６が底面１８ｃ（図９）に載置される。この状態で容器１を底面１８ｃに押し付けると、内面１ｂ１とシール部材７と側面４ａとの間で生じる摩擦力に打ち勝って容器１が下方に移動し、最終的には流量調整板１０が容器１の外側底面１ｄに接触する。これにより、シャフト４の位置が容器１において相対的に上方に位置する。このとき、シール部材７による洗浄液流路１ｂの閉塞が解除される。これにより、図６の破線矢印で示すように、容器１の内部の洗浄液Ｗは、シャフト４の側面４ａに沿って洗浄液流路１ｂを流れ、流量調整板１０に至る。ここで、流量調整板１０の構造を説明する。

図７は、流量調整板１０の構造を説明する図である。流量調整板１０は、容器１（図６）と対向する側の面に、第２開口１ａ（図６）の下方から流量調整板１０の縁１０ｂまで延在する溝１０ｃを備える。図示の例では、溝１０ｃは、第２開口１ａ（図６）の下方であるシャフト４の側面４ａから縁１０ｂまで水平方向に延在する。

溝１０ｃを備えることで、破線矢印で示すように側面４ａに沿って洗浄液流路１ｂ（図７）を流れ、流量調整板１０に至った洗浄液Ｗを、破線矢印で示すように、溝１０ｃを通じて流出できる。更に、シャフト４の周方向全域に形成される洗浄液流路１ｂを流れてきた洗浄液Ｗは溝１０ｃに集められ、溝１０ｃの端部１０ｄから垂直（鉛直）方向に落下することで流出する。このため、溝１０ｃの形状（例えば幅、深さ等）を調整することで洗浄液Ｗの流出速度を調整できる。これにより、例えば掃除中は洗浄液Ｗが流出し続けるようにする等、洗浄液Ｗの流出時間を調整できる。

図８は、流量調整板１０に形成された溝１０ｃの下方掃除部材６への投影図である。縁１０ｂ側の溝１０ｃの端部１０ｄの、下方掃除部材６の上面６ｃを含む面（図８の図示面）への投影位置と、下方掃除部材６の上面６ｃとの位置が異なっている。即ち、容器１から見た上面図において、端部１０ｄは上面６ｃとは重なっておらず、異なる位置である。このようにすることで、溝１０ｃを流れる洗浄液Ｗを、下方掃除部材６に直接落下させずに試薬収容庫１８の底面１８ｃ（図２）に直接落下でき、洗浄液Ｗによる底面１８ｃの洗浄効率を向上できる。

以上のように、掃除ユニット５０では、シャフト４の上下方向への移動により、容器１の内外の連通を制御できる。例えば、図５に示すように、シャフト４を下方に位置させることで第２開口１ａを閉塞でき、容器１に洗浄液Ｗを充填できる。一方で、図６に示すように、シャフト４を上方に移動させることでシール部材７による洗浄液流路１ｂの閉塞を解除して、容器１内の洗浄液Ｗを流出できる。これにより、下方掃除部材６が洗浄液Ｗを用いて底面１８ｃを掃除できる。

図９は、掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに設置した状態を示す図であり、試薬収容庫１８の断面図である。掃除ユニット５０は、試薬ホルダ１９ａに収容可能に構成される。具体的には、掃除ユニット５０の外形寸法は、第１開口１９ｂ（図９）を通じて下方掃除部材６の下方に突出可能になっていること以外は、試薬容器２０（図２）の外形寸法とほぼ同じである。このため、使用者が試薬容器２０を試薬ホルダ１９ａに収容するとの同様の労力により、掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに収容できる。このため、掃除ユニット５０の着脱を容易に行うことができる。

洗浄液Ｗを貯留した掃除ユニット５０が試薬ホルダ１９ａに収容されると、掃除ユニット５０の下方掃除部材６が試薬収容庫１８の底面１８ｃと接触する。この状態で掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに押し込むと、図６に示すように、シャフト４が上方に移動して洗浄液流路１ｂの閉塞が解除され、洗浄液Ｗが試薬収容庫１８の底面１８ｃに流出する。流出開始後、駆動機構２１によってディスク１９を回転駆動させることで、掃除ユニット５０は周方向に移動し、周方向に底面１８ｃを掃除する。掃除に使用された洗浄液Ｗは、底面１８ｃの下る傾斜によって外周側に流れ、外周側に形成された排水口２３を通じて自動分析装置１００の外部に排水される。

図１０は、掃除ユニット５０から流出した洗浄液Ｗの流れを説明する図であり、試薬収容庫１８の上面図である。ディスク１９が正転（反時計回り）すると、洗浄液Ｗが流出しながら掃除ユニット５０が反時計回りに移動するため、矢印２７の方向に洗浄液Ｗが流れる。一方で、ディスク１９が逆転（時計回り）すると、洗浄液Ｗが流出しながら掃除ユニット５０が時計回りに移動するため、矢印２８の方向に洗浄液Ｗが流れる。何れの場合であっても、内周側に配置された掃除ユニット５０から流出した洗浄液Ｗは、底面１８ｃ（図９）を矢印２６のように流れる。正転又は逆転のいずれの場合であっても洗浄液Ｗは排水口２３を通じて排水されるが、排水口２３の付近で掃除ユニット５０の正転及び逆転が切り替わるようにすることで、排水を促進できる。

上記の図３に示すように、試薬ホルダ１９ａは径方向に複数配置されるため、掃除ユニット５０も径方向に複数収容可能である。このため、外周側の掃除ユニット５０と内周側の掃除ユニット５０とで、異なる種類の洗浄液Ｗを使用できる。例えば、外周側の掃除ユニット５０には洗剤を入れ、内周側の掃除ユニット５０には水を入れることで、外周側の掃除ユニット５０から流出した洗剤によって掃除された底面１８ｃを、内周側の掃除ユニット５０から流出し、遠心力によって外周側に流れる水によって洗うことができる。これにより、洗浄効率を向上できる。

掃除ユニット５０の収容は、試薬容器２０が収容されていない試薬ホルダ１９ａ、又は、全ての試薬ホルダ１９ａに試薬容器２０が収容されている場合には一部の試薬容器２０を取り出して空いた試薬ホルダ１９ａに収容すればよい。このため、掃除のために収納された全ての試薬容器２０を試薬収容庫１８から取り出す必要がない。開閉部材１７を開けることで形成された第３開口１８ａを通じて掃除ユニット５０を収容すればよいため、蓋１６及び開閉部材１７を取り外してディスク１９を取り出すといった作業が不要である。このため、試薬収容庫１８の内面１８ｂを容易に掃除できる。掃除を行うことで、カビ等の汚れの発生、及び発生しても除去できるため試薬収容庫１８の雰囲気を良くし、試薬の劣化を抑制できる。

図１１は、自動分析装置１００における掃除方法を説明するフローチャートである。この掃除方法のステップＳ１０７～Ｓ１０９は、図示はしないが、自動分析装置１００に備えられる制御装置７０（図１２）を用いて行うことができる。なお、本実施形態では、ステップＳ１０１～Ｓ１０６、Ｓ１１０、Ｓ１１１及びＳ１１２は、操作者による手動操作により行われる。

図１２は、自動分析装置１００に備えられる制御装置７０の具体的なハードウェア構成を示すブロック図である。制御装置７０は、例えばＣＰＵ７１（Central Processing Unit）、ＲＡＭ７２（Random Access Memory）、ＲＯＭ７３（Read Only Memory）、Ｉ／Ｆ７４（インターフェイス）等を備えて構成される。そして、制御装置７０は、ＲＯＭ７３に格納されている所定の制御プログラムがＲＡＭ７２に展開され、ＣＰＵ７１によって実行されることにより具現化される。

図１１に戻って、操作者が操作部１２（図１２）を操作することで、掃除動作を行うために第１画面２９（図１３）が表示部１２ａ（図１２）に表示される。

図１３は、掃除方法を実行するときに表示部１２ａに表示される第１画面２９である。操作者が操作部１２を操作することで、表示部１２ａに第１画面２９が表示される。掃除動作は定期的に実施する機能であることから、例えば、メンテナンス項目に表示されることが望ましいが、表示部１２ａに表示されればどの項目に属してもよい。操作者は、第１画面２９において、「試薬収容庫洗浄モード」のボタン２９ａを選択し押下する（ステップＳ１０１）。これにより、自動分析装置１００の試薬庫洗浄を動作制御するための信号が操作部１２から自動分析装置１００に送信される。これにより、第２画面３０（図１４）が表示部１２ａに表示される。

図１１に戻って、操作者は、開閉部材１７（図２）を開き（ステップＳ１０２）、ディスク１９の試薬ホルダ１９ａに掃除ユニット５０を収容する（ステップＳ１０３）。収容する掃除ユニット５０には洗浄液Ｗが貯留され、この時点ではまだ、洗浄液Ｗの流出は開始していない。

図１４は、掃除方法を実行するときに表示部１２ａに表示される第２画面３０である。操作者は、操作部１２を操作し、掃除回数の入力ボックス３０ａに、洗浄動作のサイクル数を入力する（ステップＳ１０４）。これにより、操作部１２は、掃除動作の駆動パターンの繰り返し回数の信号を自動分析装置１００に送信する。掃除回数を入力することで、連続で同一プログラムを実施することができる。ただし、入力ボックス３０ａは、自動分析装置１００に予め規定値が設定されていれば、表示されなくてもよい。入力後、操作者は開閉部材１７を閉じ（図１１のステップＳ１０５）、第２画面３０の実行ボタン３０ｂを選択及び押下することで（図１１のステップＳ１０６）、試薬収容庫１８の底面１８ｃ（図９）の掃除が開始される。

図１１に戻って、掃除動作は、ディスク１９の正転及び逆転により実行される（ステップＳ１０７）。自動分析装置１００の制御装置７０は、駆動機構２１に駆動信号を送信することで、掃除ユニット５０を収容したディスク１９を回転駆動する。ディスク１９の回転駆動により底面１８ｃが掃除され、汚れを洗浄できる。制御装置は、上記のステップＳ１０４で入力された掃除回数の掃除を繰り返す（ステップＳ１０８）。入力された掃除回数が終了後、制御装置は、ディスク１９の正転によって排水動作を実行する（ステップＳ１０９）。これにより、底面１８ｃに付着している洗浄液Ｗの排水口２３（図９）への排水が行われる。

排水が終わった後、掃除動作終了の旨が表示部１２ａに表示されると、操作者は開閉部材１７を開け（ステップＳ１１０）、試薬ホルダ１９ａから掃除ユニット５０を取り出す（ステップＳ１１１）。そして、操作者が開閉部材１７を閉じることで（ステップＳ１１２）、掃除方法が終了する。

図１５は、掃除方法を実行するときのタイムチャートである。掃除動作は、通常は排水動作とともに行われる。掃除動作はディスク１９の正転及び逆転を複数回繰り返し、排水動作は、正転を繰り返す。ここでいう正転又は逆転としての回転が１回とは、掃除ユニット５０が円環状の底面１８ｃを１周することをいう。従って、図示の例では、掃除動作時、掃除ユニット５０は、１サイクルの駆動、即ち正転方向に１周し、逆転方向に１周し、正転方向に１周し、最後に逆転方向に１周する。また、排水動作時、掃除ユニット５０は正転方向への１周を４回繰り返す。回転速度は、正転方向と逆転方向とで例えば同じであるが異なってもよい。

図示の例では、掃除動作は、正転、逆転、正転及び逆転をこの順で１サイクルとし、１サイクルのみ図示したが、ステップＳ１０４で入力された掃除回数に対応するサイクル数で掃除動作が行われる。また、１サイクルの内容も図示の例に限定されず、掃除動作は、正転のみ又は逆転のみにできる。ただし、掃除動作は、正転及び逆転をそれぞれ１回以上含み、正転及び逆転を交互に行うことで洗浄むらを抑制でき、洗浄効率を向上できるため好ましい。さらに、排水動作も、図示の例に限定されず、正転及び逆転を組み合わせたり、逆転のみにしてもよい。排水動作の回転回数（図示の例では４回）は、例えばディスク１９の大きさ、ディスク１９の回転速度等に応じて決定できる。

自動分析装置１００によれば、掃除ユニット５０を用いて試薬収容庫１８の内面１８ｂを掃除できる。また、掃除時等の必要なときに第３開口１８ａ（図２）を通じ掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに収容でき、それ以外のときには第３開口１８ａを通じ試薬ホルダ１９ａから掃除ユニット５０を取り外すことができる。このため、試薬容器２０（図２）の収容及び取り出しと同様にして掃除ユニット５０を着脱でき、着脱を容易に行うことができる。

自動分析装置１００では、図示の例では、掃除ユニット５０を手動で設置しているが、例えば、試薬容器２０を自動でディスク９に搬送可能な試薬オートローダ（図示しない）を搭載している自動分析装置（図示しない）に対しても適用可能である。この場合、掃除ユニット５０は、試薬オートローダを用いて、自動で搭載される。特に、試薬オートローダで掃除ユニット５０をディスク９に設置するときには、掃除ユニット５０を下方向に押し付けるように動作させることが好ましい。これにより、シャフト４を上方に移動できるため、汎用性が向上する。

図１６は、第２実施形態の掃除ユニット５０１の断面図である。掃除ユニット５０１は、上記の掃除ユニット５０（図６）の各構成に加えて、試薬ホルダ１９ａ（図１７）の側方に配置され、試薬収容庫１８の側面１８ｄ（図１７）に接触可能な側方掃除部材１１を備える。側方掃除部材１１は、掃除部材５に含まれるが、下方掃除部材６と異なり、洗浄液Ｗは供給されない。従って、側方掃除部材１１は、例えば、側面１８ｄに付着した汚れ、結露水等を掻き落とすことで、側面１８ｄを掃除する。側方掃除部材１１は、アーム１１ａを介して容器１に固定される。側方掃除部材１１は、容器１から側方掃除部材１１を視る方向である側方視で矩形状であり、鉛直方向に配置される。

図１７は、第２実施形態の掃除ユニット５０１を用いた掃除方法を説明する図である。掃除ユニット５０を試薬ホルダ１９ａに収容すると、アーム１１ａは試薬ホルダ１９ａの側壁１９ａ１の上方に配置される。これにより、側方掃除部材１１は、試薬ホルダ１９ａの側方に配置されるとともに、側面１８ｄに接触する。この状態でディスク１９を回転駆動させると、側方掃除部材１１は側面１８ｄを掃除しながら周方向に移動する。この結果、側面１８ｄに付着した汚れ、結露水等は試薬収容庫１８の底面１８ｃに落下し、落下した汚れ、結露水等は、下方掃除部材６によって集められ、洗浄液Ｗとともに排水口２３（図９）から排水される。

側方掃除部材１１を備えることで、側面１８ｄに接触させた状態でディスク１９を回転させて、試薬収容庫１８の側面１８ｄを掃除できる。

図１８は、第３実施形態の掃除ユニット５０２の構造を説明する図である。掃除ユニット５０２は、上記の掃除ユニット５０の溝１０ｃ（図７）に代えて孔１０ｅを備えること以外は掃除ユニット５０と同じである。流量調整板１０は、第２開口１ａ（図５）の下方に形成された孔１０ｅを備える。なお、孔１０ｅと溝１０ｃ（図７）とが併用されてもよい。

孔１０ｅを備えることで、上記の図６に示すように流量調整板１０が容器１の外側底面１ｄに接触したときに、洗浄液流路１ｂを流れて流量調整板１０に至った洗浄液Ｗを、孔１０ｅを通じて流出できる。更に、シャフト４の周方向全域に形成される洗浄液流路１ｂを流れてきた洗浄液Ｗは、孔１０ｅに集められて流出する。このため、孔１０ｅを通じて外部に流出する洗浄液Ｗの流量を増加できる。また、孔１０ｅの形状（例えば大きさ等）を調整することで洗浄液Ｗの流出速度を調整できる。これにより、例えば掃除中は洗浄液Ｗが流出し続けるようにする等、洗浄液Ｗの流出時間を調整できる。

図示は省略するが、孔１０ｅの下方掃除部材６の上面６ｃを含む面（例えば図８の図示面）への投影位置と、下方掃除部材６の上面６ｃとの位置は、上記図８に示した溝１０ｃの端部１０ｄと同様に、異なっている。即ち、掃除ユニット５０２では、投影図において、孔１０ｅは上面６ｃとは重なっていない。このようにすることで、孔１０ｅから流出した洗浄液Ｗを、下方掃除部材６に直接落下させずに試薬収容庫１８の底面１８ｃ（図２）に直接落下でき、洗浄液Ｗによる底面１８ｃの洗浄効率を向上できる。

図１９は、第４実施形態の掃除ユニット５０３の構造を説明する図である。掃除ユニット５０３は、下方掃除部材６がシャフト４に対して回動可能（揺動可能）になっていること以外は、掃除ユニット５０（図７）と同じである。

掃除ユニット５０３は、シャフト４に配置された回動軸３５を備える。回動軸３５は例えば、シャフト４の径方向に貫通するピンである。下方掃除部材６は、回動軸３５を軸中心に回動可能になっており、回動軸３５によってシャフト４に接続される。掃除ユニット５０３がこのように構成されることで、試薬収容庫１８の底面１８ｃの傾斜に合わせて下方掃除部材６を傾けることができる。これにより、底面１８ｃへの下方掃除部材６の接触面積を増やし、掃除むらを抑制できる。

回動軸３５は、試薬ホルダ１９ａ（図９）に設置した時に外周側に向かって下る傾斜を有する底面１８ｃに沿って下方掃除部材６を回動可能に設置することが好ましい。このようにすることで、試薬収容庫１８の底面１８ｃに沿って下方掃除部材６を傾けて接触部分を増やすことができる。

図２０は、第４実施形態の掃除ユニット５０３を用いた掃除方法を説明する図である。試薬ホルダ１９ａ（図９）に掃除ユニット５０３を収容すると、シャフト４は鉛直方向に配置される。図９の例では底面１８ｃが傾斜しているので、シャフト４に接続された下方掃除部材６は底面１８ｃの傾斜に沿って回動する。これにより、下方掃除部材６と底面１８ｃとの接触面積が増大する。この状態でディスク９（図９）を回転駆動させると掃除ユニット５０３は、底面１８ｃとの接触面積が増大した状態で周方向に移動するため、底面１８ｃの掃除むらを抑制できる。

図２１は、第１実施形態の掃除ユニット５０を用いた掃除時の下方掃除部材６の移動を説明する図である。図５を参照して説明したように、下方掃除部材６は、何れも上面視で矩形状の第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂを含む。第１下方掃除部材６ａの長手方向に延びる中心軸Ｌ３と、第２下方掃除部材６ｂの長手方向に延びる中心軸Ｌ４とは一致する。ここでいう中心軸とは、短手方向の中央を通る直線のことである。

図２１において実線矢印で示すように第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂが周方向に移動すると、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂのそれぞれの移動方向前側に接触した洗浄液Ｗは、矢印３８で示すように、遠心力によって第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂの外周側に向かう。従って、例えば内周側の第２下方掃除部材６ｂの移動方向前側に接触した洗浄液Ｗは、第１下方掃除部材６ａと第２下方掃除部材６ｂとの間に形成された隙間を通り、後方に流れる。

図２２は、第５実施形態の掃除ユニット５０４を用いた掃除時の下方掃除部材６の移動を説明する図である。図２１の掃除ユニット５０とは異なり、第１下方掃除部材６ａの長手方向に延びる中心軸Ｌ５と、第２下方掃除部材６ｂの長手方向に延びる中心軸Ｌ６とは異なる。このようにすることで、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂを傾けたりずらしたりして配置でき、洗浄液Ｗが第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂに接触したときの洗浄液Ｗの流れ方を調整でき、洗浄液Ｗを排水し易くできる。

図示の例では、中心軸Ｌ５と中心軸Ｌ６とは平行であるが異なる位置に存在する。具体的には、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂをそれぞれ正転方向（矢印２２の方向）に対して前傾して配置される。即ち、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂのそれぞれにおいて、内周側が後側に配置され、外周側が前側に配置される。これにより、内周側の第２下方掃除部材６ｂの中心軸Ｌ６が、外周側の第１下方掃除部材６ａの中心軸Ｌ５よりも正転方向において前側に配置される。

図２２において実線矢印で示すように第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂが周方向に移動すると、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂのそれぞれの移動方向前側に接触した洗浄液Ｗは、矢印３９のように流れる。即ち、内周側の第２下方掃除部材６ｂに接触した洗浄液Ｗは、前傾する第２下方掃除部材６ｂの前側に沿って遠心力に逆らいながら外周側に流れる。そして、外周側に流れた洗浄液Ｗは、第２下方掃除部材６ｂに隣接し、同じく前傾した第１下方掃除部材６ａに接触し、第１下方掃除部材６ａの前側に沿って外周側に流れ、底面１８ｃの外周側に至る。

このようにすることで、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂに接触した洗浄液Ｗを、内周側から外周側に向かって流すことができるため、流れのムラを抑制でき、排水口２３に流し易くできる。これにより、余剰の洗浄液Ｗを速やかに排水でき、洗浄効率を向上できる。

第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂのそれぞれの前傾の程度、即ち、中心軸Ｌ３，Ｌ４に対する中心軸Ｌ５，Ｌ６の角度θ１，θ２は、内周側の第２下方掃除部材６ｂから遠心力によって外周側に流れた洗浄液Ｗを、外周側の第１下方掃除部材６ａが受け止めることができるような角度（矢印３９のように流れを生じさせる角度）であることが好ましい。具体的には、角度θ１，θ２は、それぞれ、例えば４５°以下、好ましくは３０°以下である。角度θ１，θ２をこの範囲にすることで、矢印３９で示した洗浄液Ｗの流れを形成できる。なお、中心軸Ｌ３，Ｌ４に対する中心軸Ｌ５の角度θ１と、中心軸Ｌ３，Ｌ４に対する中心軸Ｌ６の角度θ２とは、同じでもよいし異なってもよいが、同じであることが好ましい。

また、第１下方掃除部材６ａと第２下方掃除部材６ｂとの間に形成される隙間の長さは、図２１の例と図２１の例とで同じであるが、異なってもよい。ここでいう隙間の長さとは、第１下方掃除部材６ａと第２下方掃除部材６ｂとの最も近接する部分における第１下方掃除部材６ａと第２下方掃除部材６ｂとの間の距離をいう。隙間の長さの調整は、例えば、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂの配置場所を調整してもよく、第１下方掃除部材６ａ及び第２下方掃除部材６ｂのそれぞれの幅を変更してもよい。

図２３は、第６実施形態の掃除ユニット５０５の構造を説明する図である。掃除ユニット５０５は、シール部材７の配置場所が上記の掃除ユニット５０（図５）とは異なること以外は、掃除ユニット５０と同じである。

掃除ユニット５０５では、シール部材７は、容器１の底面１ｃと、キャップ８との間に配置される。この位置にシール部材７を配置することで、シャフト４の自重によってシャフト４を下方に移動させて洗浄液流路１ｂを閉塞できるため、洗浄液Ｗの容器１への充填時にシャフト４を手動で押し下げる手間を省略できる。また、シャフト４を少し上方に移動させるだけで容器１の底面１ｃ又はキャップ８とシール部材７との間に隙間を形成でき、洗浄液Ｗを容易に流出できる。シール部材７は、例えば、第２開口１ａを囲うように円環状に配置したり、上面視で円形のキャップ８の下面において縁に沿って円環状に配置したりできる。

図２４は、第７実施形態の掃除ユニット５０６の構造を説明する図である。掃除ユニット５０６は、側方掃除部材１１が鉛直方向に傾斜して配置されていること以外は、掃除ユニット５０１（図１６）と同じである。

掃除ユニット５０６では、側方掃除部材１１は、容器１から側方掃除部材１１を視る方向である側方視で矩形状であり、破線Ｌ７で示す鉛直方向に対して角度θ３の傾斜を有して配置される。鉛直方向に対する側方掃除部材１１の中心線Ｌ８の角度θ３を調整することで、側面１８ｄ（図１７）に付着した汚れを底面１８ｃに落とし易くできる。角度θ３は、例えば２０°以下である。

傾斜の形態について、掃除ユニット５０６を用いた掃除時、ディスク１９（図１７）の回転駆動方向に対し、側方掃除部材１１の上側が前側となるように側方掃除部材１１を傾斜させることが好ましい。このようにすることで、例えばディスク１９の正転時、側面１８ｄに付着した汚れを側方掃除部材１１の表面に沿って下方に押し出すことができる。これにより、側面１８ｄから除去した汚れが速やかに底面１８ｃに押し出されるため、側面１８ｄの洗浄効率を向上できる。

以上の本開示について付記すると以下のとおりである。
（付記１）
検体を分析する自動分析装置の試薬収容庫の内面を掃除する掃除ユニットであって、
前記試薬収容庫に収容される回転可能なディスクの試薬ホルダに収容可能に構成され、
前記試薬収容庫の前記内面を掃除する掃除部材を備える
ことを特徴とする掃除ユニット。
（付記２）
前記掃除部材は、前記試薬ホルダの下部に形成された第１開口を通じて前記試薬ホルダの下方に配置され、前記試薬収容庫の底面に接触可能な下方掃除部材を含む
ことを特徴とする付記１に記載の掃除ユニット。
（付記３）
洗浄液を貯留する容器と、
前記容器の下部に形成された第２開口を通じて前記容器の内外に延在し、前記容器の外側端部に前記下方掃除部材が接続され、上下方向に移動可能なシャフトと、
前記容器の内部に配置され、前記シャフトに固定された第１フランジと、
前記容器の外部に配置され、前記シャフトに固定された第２フランジと、
前記第１フランジと前記第２フランジとの間に配置されたシール部材とを備え、
前記シャフトが下方に位置するときには、前記シール部材によって前記第２開口に接続される洗浄液流路が閉塞され、
前記シャフトが上方に位置するときには、前記シール部材による前記洗浄液流路の閉塞が解除される
ことを特徴とする付記２に記載の掃除ユニット。
（付記４）
前記掃除部材は、前記試薬ホルダの側方に配置され、前記試薬収容庫の側面に接触可能な側方掃除部材を含む
ことを特徴とする付記１～３の何れか１項に記載の掃除ユニット。
（付記５）
試薬容器を収容する試薬ホルダを備える回転可能なディスクと、
前記ディスクを収容する試薬収容庫と、
前記試薬ホルダに収容可能に構成され、前記試薬収容庫の内面を掃除する掃除部材を備える掃除ユニットと、を備える
ことを特徴とする自動分析装置。
（付記６）
前記第２フランジは、
前記第２開口の下方に形成された孔、又は、
前記容器と対向する側の面に、前記第２開口の下方から前記第２フランジの縁まで延在する溝、
の少なくとも何れか一方を備える
ことを特徴とする付記３に記載の掃除ユニット。
（付記７）
前記孔、又は、前記縁側の前記溝の端部、の何れかの前記下方掃除部材の上面を含む面への投影位置と、前記下方掃除部材の上面との位置が異なっている
ことを特徴とする付記６に記載の掃除ユニット。
（付記８）
前記シール部材は、前記洗浄液流路の内面と、前記シャフトの側面との間に配置される
ことを特徴とする付記３に記載の掃除ユニット。
（付記９）
前記シール部材は、前記容器の底面と、前記第１フランジとの間に配置される
ことを特徴とする付記３に記載の掃除ユニット。
（付記１０）
前記シャフトに配置された回動軸を備え、
前記下方掃除部材は、前記回動軸を軸中心に回動可能になっている
ことを特徴とする付記３に記載の掃除ユニット。
（付記１１）
前記下方掃除部材は、何れも上面視で矩形状の第１下方掃除部材及び第２下方掃除部材を含み、
前記第１下方掃除部材の長手方向に延びる中心軸と、前記第２下方掃除部材の長手方向に延びる中心軸とが異なる。
ことを特徴とする付記２又は３に記載の掃除ユニット。
（付記１２）
前記掃除部材は、弾性部材又はブラシの少なくとも一方を含む
ことを特徴する付記１～３の何れか１項に記載の掃除ユニット。
（付記１３）
前記側方掃除部材は、側方視で矩形状であり、鉛直方向に対して傾斜を有して配置される
ことを特徴とする付記４に記載の掃除ユニット。
（付記１４）
前記試薬収容庫は試薬保冷庫である
ことを特徴とする付記５に記載の自動分析装置。
（付記１５）
前記試薬容器を前記試薬収容庫に出し入れ可能な第３開口を閉塞する閉塞部材を備える
ことを特徴とする付記５に記載の自動分析装置。

１ 容器
１０ 流量調整板（第２フランジ）
１００ 自動分析装置
１０ｂ 縁
１０ｃ 溝
１０ｄ 端部
１０ｅ 孔
１１ 側方掃除部材
１１ａ アーム
１２ 操作部
１２ａ 表示部
１２ｂ 入力部
１３ 検体分注機構
１４ 試薬分注機構
１５ 反応容器
１６ 蓋
１６ａ 孔
１７ 開閉部材（閉塞部材）
１８ 試薬収容庫
１８ａ 第３開口
１８ｂ 内面
１８ｃ 底面
１８ｄ 側面
１９ ディスク
１９ａ 試薬ホルダ
１９ａ１ 側壁
１９ｂ 第１開口
１ａ 第２開口
１ｂ 洗浄液流路
１ｂ１ 内面
１ｃ 底面
１ｄ 外側底面
１ｅ 中空部
２０ 試薬容器
２１ 駆動機構
２２，２６，２７，２８，３８，３９ 矢印
２３ 排水口
２９ 第１画面
２９ａ ボタン
３ 蓋
３０ 第２画面
３０ａ 入力ボックス
３０ｂ 実行ボタン
３５ 回動軸
４ シャフト
４ａ 側面
５ 掃除部材
５０，５０１，５０２，５０３，５０４，５０５，５０６ 掃除ユニット
６ 下方掃除部材
６ａ 第１下方掃除部材
６ｂ 第２下方掃除部材
７ シール部材
７０ 制御装置
７１ ＣＰＵ
７２ ＲＡＭ
７３ ＲＯＭ
７４ Ｉ／Ｆ
８ キャップ（第１フランジ）
９ ディスク
Ｌ１，Ｌ２ 長さ
Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５，Ｌ６ 中心軸
Ｗ 洗浄液
θ１，θ２，θ３ 角度

Claims (4)

1. 検体を分析する自動分析装置の試薬収容庫の内面を掃除する掃除ユニットであって、
   前記試薬収容庫に収容される回転可能なディスクの試薬ホルダに収容可能に構成され、
   前記試薬収容庫の前記内面を掃除する掃除部材を備え、
   前記掃除部材は、前記試薬ホルダの下部に形成された第１開口を通じて前記試薬ホルダの下方に配置され、前記試薬収容庫の底面に接触可能な下方掃除部材を含む
   ことを特徴とする掃除ユニット。
2. 洗浄液を貯留する容器と、
   前記容器の下部に形成された第２開口を通じて前記容器の内外に延在し、前記容器の外側端部に前記下方掃除部材が接続され、上下方向に移動可能なシャフトと、
   前記容器の内部に配置され、前記シャフトに固定された第１フランジと、
   前記容器の外部に配置され、前記シャフトに固定された第２フランジと、
   前記第１フランジと前記第２フランジとの間に配置されたシール部材とを備え、
   前記シャフトが下方に位置するときには、前記シール部材によって前記第２開口に接続される洗浄液流路が閉塞され、
   前記シャフトが上方に位置するときには、前記シール部材による前記洗浄液流路の閉塞が解除される
   ことを特徴とする請求項１に記載の掃除ユニット。
3. 前記掃除部材は、前記試薬ホルダの側方に配置され、前記試薬収容庫の側面に接触可能な側方掃除部材を含む
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の掃除ユニット。
4. 試薬容器を収容する試薬ホルダを備える回転可能なディスクと、
   前記ディスクを収容する試薬収容庫と、
   前記試薬ホルダに収容可能に構成され、前記試薬収容庫の内面を掃除する掃除部材を備える掃除ユニットと、を備え、
   前記掃除部材は、前記試薬ホルダの下部に形成された第１開口を通じて前記試薬ホルダの下方に配置され、前記試薬収容庫の底面に接触可能な下方掃除部材を含む
   ことを特徴とする自動分析装置。
   

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