JP7435751B2 - 多層基板 - Google Patents
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Description
素体と、放射導体層と、第1容量形成部と、を備える多層基板であって、
前記素体は、第1絶縁体層及び第2絶縁体層を含む複数の絶縁体層が上下方向に積層された構造を有し、
上方向及び下方向の一方を第1方向と定義し、上方向及び下方向の他方を第2方向と定義し、
前記第1絶縁体層は、前記第2絶縁体層の前記第1方向に配置されており、
前記放射導体層は、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記第1容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に通過する第1層間接続導体を含んでおり、
前記第1層間接続導体は、前記放射導体層に電気的に接続されており、
グランド導体は、前記放射導体層の前記第2方向に配置されており、
前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部は、パッチアンテナとして機能し、
前記第1層間接続導体の前記第2方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短く、
前記多層基板は、(A)又は(B)の構造を備える。
前記多層基板は、
上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記第2絶縁体層の上面又は下面に設けられている前記グランド導体であって、前記放射導体層と電気的に接続されていない前記グランド導体を、
更に備える。
前記グランド導体は、上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記多層基板の外に設けられている。
素体と、放射導体層と、第1容量形成部と、を備える多層基板であって、
前記素体は、第1絶縁体層及び第2絶縁体層を含む複数の絶縁体層が上下方向に積層された構造を有し、
上方向及び下方向の一方を第1方向と定義し、上方向及び下方向の他方を第2方向と定義し、
前記第1絶縁体層は、前記第2絶縁体層の前記第1方向に配置されており、
前記放射導体層は、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記第1容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に通過する第1層間接続導体を含んでおり、
前記第1層間接続導体は、前記放射導体層の前記第2方向に配置されるグランド導体に電気的に接続されており、
前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部は、パッチアンテナとして機能し、
前記第1層間接続導体の前記第1方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短く、
前記多層基板は、(A)又は(B)の構造を備える。
前記多層基板は、
上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記第2絶縁体層の上面又は下面に設けられている前記グランド導体であって、前記放射導体層と電気的に接続されていない前記グランド導体を、
更に備える。
前記グランド導体は、上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記多層基板の外に設けられている。
[多層基板の構成]
以下に、本発明の実施形態に係る多層基板10について図面を参照しながら説明する。図1は、多層基板10の分解図である。図1では、多層基板10の絶縁体層12a~12dの上面図を示した。図2は、多層基板10の断面図である。図2では、図1のA-Aにおける断面を示した。図3は、多層基板10の断面図である。図3は、図1のB-Bにおける断面を示した。図4は、多層基板10の使用例を示した図である。
多層基板10によれば、パッチアンテナの共振周波数の低周波化を図ることができる。より詳細には、複数の第1層間接続導体v1a~v8aが放射導体層20aに電気的に接続されている場合には、複数の第1層間接続導体v1a~v8aの下端からグランド導体22までの上下方向における距離L1は、放射導体層20aからグランド導体22までの上下方向における距離L2より短い。これにより、容量導体層32a,34a,36a,38aとグランド導体22との間に容量が発生する。この容量は、放射導体層20aとグランド導体22との間に発生する容量に付加される。放射導体層20aとグランド導体22との間に発生する容量が大きくなると、パッチアンテナの共振周波数が低くなる。
以下に、第1の変形例に係る多層基板10aについて図面を参照しながら説明する。図5は、第1の変形例に係る多層基板10aの容量導体層24a,26a,28a,30a,32a,34a,36a,38aの上面図である。
以下に、第2の変形例に係る多層基板10bについて図面を参照しながら説明する。図6は、第2の変形例に係る多層基板10bの断面図である。図6では、図1のB-Bに相当する位置における断面図を示した。
以下に、第3の変形例に係る多層基板10cについて図面を参照しながら説明する。図7は、第3の変形例に係る多層基板10cの断面図である。図7では、図1のB-Bに相当する位置における断面図を示した。
以下に、第4の変形例に係る多層基板10dについて図面を参照しながら説明する。図8は、第4の変形例に係る多層基板10dの断面図である。図8では、図1のA-Aに相当する位置における断面図を示した。
以下に、第5の変形例に係る多層基板10eについて図面を参照しながら説明する。図9は、第5の変形例に係る多層基板10eの断面図及び上面図である。図9では、図9のC-Cに相当する位置における断面図を示した。
以下に、第6の変形例に係る多層基板10fについて図面を参照しながら説明する。図10は、第6の変形例に係る多層基板10fの断面図及び上面図である。
以下に、第7の変形例に係る多層基板10gについて図面を参照しながら説明する。図11は、第7の変形例に係る多層基板10gの断面図及び上面図である。図11では、図11のC-Cに相当する位置における断面図を示した。
以下に、第8の変形例に係る多層基板10hについて図面を参照しながら説明する。図12は、第8の変形例に係る多層基板10hの断面図である。
以下に、第9の変形例に係る多層基板10iについて図面を参照しながら説明する。図13は、第9の変形例に係る多層基板10iの上面図である。
以下に、第10の変形例に係る多層基板10jについて図面を参照しながら説明する。図14は、第10の変形例に係る多層基板10jの断面図及び上面図である。図14では、図14のD-D、E-E及びF-Fに相当する位置における断面図を示した。
本発明に係る多層基板は、前記実施形態に係る多層基板10,10a~10jに限らず、その要旨の範囲内において変更可能である。
11:素体
12a~12e:絶縁体層
20,20a~20c:放射導体層
21a,21b,21c:第1容量形成部
22:グランド導体
24a,26a,28a,30a,32a,34a,36a,38a:容量導体層
40a~40c,42a~42c:信号導体層
50a~50c:外部電極
60,72:コネクタ
70:回路基板
71:基板本体
100:枠状導体層
121a:第2容量形成部
126a,130,132,134,140,142,144,150,152,160,162,232,234,244:容量導体層
221:第1容量形成部
231:第3容量形成部
241,251:第4容量形成部
L1:第1長辺
L2:第2長辺
L3:第1短辺
L4:第2短辺
SL1a~SL4a:スリット
v10a,v10b,v10c,v11a,v12a:層間接続導体
v1a~v8a,v21~v25:第1層間接続導体
v102a:第2層間接続導体
v31~v35:第3層間接続導体
v41,v42,v51,v52:第4層間接続導体
Claims (13)
- 素体と、放射導体層と、第1容量形成部と、枠状導体層と、を備える多層基板であって、
前記素体は、第1絶縁体層及び第2絶縁体層を含む複数の絶縁体層が上下方向に積層された構造を有し、
上方向及び下方向の一方を第1方向と定義し、上方向及び下方向の他方を第2方向と定義し、
前記第1絶縁体層は、前記第2絶縁体層の前記第1方向に配置されており、
前記放射導体層は、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記第1容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に通過する第1層間接続導体を含んでおり、
前記第1層間接続導体は、前記放射導体層に電気的に接続されており、
前記第1容量形成部は、前記放射導体層に接触しており、かつ、上下方向に見て、前記放射導体層と重なっており、
グランド導体は、前記放射導体層の前記第2方向に配置されており、
前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部は、パッチアンテナであり、
前記第1層間接続導体の前記第2方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短く、
前記枠状導体層は、前記放射導体層と共に、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記枠状導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層を囲む枠形状を有しており、
前記枠状導体層は、前記グランド導体に電気的に接続されており、
前記多層基板は、(A)又は(B)の構造を備える、
多層基板。
(A)
前記多層基板は、
上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記第2絶縁体層の上面又は下面に設けられている前記グランド導体であって、前記放射導体層と電気的に接続されていない前記グランド導体を、
更に備える。
(B)
前記グランド導体は、上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記多層基板の外に設けられている。 - 素体と、放射導体層と、第1容量形成部と、枠状導体層と、を備える多層基板であって、
前記素体は、第1絶縁体層及び第2絶縁体層を含む複数の絶縁体層が上下方向に積層された構造を有し、
上方向及び下方向の一方を第1方向と定義し、上方向及び下方向の他方を第2方向と定義し、
前記第1絶縁体層は、前記第2絶縁体層の前記第1方向に配置されており、
前記放射導体層は、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記第1容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に通過する第1層間接続導体を含んでおり、
前記第1層間接続導体は、前記放射導体層の前記第2方向に配置されるグランド導体に電気的に接続されており、
前記第1容量形成部は、前記グランド導体に接触し、かつ、上下方向に見て、前記放射導体層と重なっており、
前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部は、パッチアンテナであり、
前記第1層間接続導体の前記第1方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短く、
前記枠状導体層は、前記放射導体層と共に、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記枠状導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層を囲む枠形状を有しており、
前記枠状導体層は、前記グランド導体に電気的に接続されており、
前記多層基板は、(A)又は(B)の構造を備える、
多層基板。
(A)
前記多層基板は、
上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記第2絶縁体層の上面又は下面に設けられている前記グランド導体であって、前記放射導体層と電気的に接続されていない前記グランド導体を、
更に備える。
(B)
前記グランド導体は、上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記多層基板の外に設けられている。 - 前記第1層間接続導体は、前記放射導体層の外縁部に電気的に接続されている、
請求項1又は請求項2に記載の多層基板。 - 上下方向に見たときに、前記放射導体層の外縁から前記放射導体層の内側に向かって延びるスリットが、前記放射導体層に設けられている、
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の多層基板。 - 前記素体は、可撓性を有し、かつ、折り曲げられている、
請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の多層基板。 - 前記多層基板は、パッチアンテナである前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部を複数組備えている、
請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の多層基板。 - 前記多層基板は、複数の前記放射導体層のそれぞれに電気的に接続されている複数の信号線路を更に備えており、
前記複数の信号線路の長さは、実質的に等しい、
請求項6に記載の多層基板。 - 前記多層基板は、第2容量形成部を備えており、
前記第1容量形成部は、複数の前記第1層間接続導体を含んでおり、
複数の前記第1層間接続導体は、前記放射導体層に電気的に接続されており、
前記第2容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に横切る複数の第2層間接続導体を含んでおり、
複数の前記第2層間接続導体は、前記グランド導体に電気的に接続されており、
上下方向に直行する方向に見たときに、複数の前記第1層間接続導体と複数の前記第2層間接続導体とは、交互に並んでいる、
請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の多層基板。 - 素体と、放射導体層と、第1容量形成部と、枠状導体層と、を備える多層基板であって、
前記素体は、第1絶縁体層及び第2絶縁体層を含む複数の絶縁体層が上下方向に積層された構造を有し、
上方向及び下方向の一方を第1方向と定義し、上方向及び下方向の他方を第2方向と定義し、
前記第1絶縁体層は、前記第2絶縁体層の前記第1方向に配置されており、
前記放射導体層は、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記第1容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に通過する第1層間接続導体を含んでおり、
前記第1層間接続導体は、前記放射導体層に電気的に接続されており、
グランド導体は、前記放射導体層の前記第2方向に配置されており、
前記放射導体層、前記グランド導体及び前記第1容量形成部は、パッチアンテナであり、
前記第1層間接続導体の前記第2方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短く、
前記枠状導体層は、前記放射導体層と共に、前記第1絶縁体層の上面又は下面に設けられており、
前記枠状導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層を囲む枠形状を有しており、
前記枠状導体層は、前記グランド導体に電気的に接続されており、
前記第1層間接続導体は、前記グランド導体及び前記枠状導体層に電気的に接触しており、
前記第1層間接続導体は、上下方向に見たときに、前記放射導体層と重なっておらず、
前記第1容量形成部は、前記第1層間接続導体に接触し、かつ、前記グランド導体より前記第1方向、かつ、前記放射導体層より前記第2方向に設けられている第1容量導体層を、更に含んでおり、
前記第1容量導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層と重なっており、
前記多層基板は、(A)の構造を備える、
多層基板。
(A)
前記多層基板は、
上下方向に見たときに前記放射導体層と重なるように、前記第2絶縁体層の上面又は下面に設けられている前記グランド導体であって、前記放射導体層と電気的に接続されていない前記グランド導体を、
更に備える。 - 前記放射導体層は、上下方向に見たときに、第1長辺、第2長辺、第1短辺及び第2短辺を有する長方形状を有しており、
前記第1容量導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層の前記第1短辺と重なっている、
請求項9に記載の多層基板。 - 前記多層基板は、第3容量形成部を備えており、
前記第3容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に横切る複数の第3層間接続導体と、前記第3層間接続導体に電気的に接続され、かつ、前記グランド導体より前記第1方向、かつ、前記放射導体層より前記第2方向に設けられている第3容量導体層と、を含んでおり、
前記第3層間接続導体は、前記グランド導体及び前記枠状導体層に電気的に接続されており、
前記第3容量導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層の前記第2短辺と重なっている、
請求項10に記載の多層基板。 - 前記第1容量形成部は、前記第1層間接続導体に電気的に接続され、かつ、前記グランド導体より前記第1方向、かつ、前記第1容量導体層より前記第2方向に設けられている第2容量導体層を、更に含んでおり、
前記第2容量導体層は、上下方向に見たときに、前記放射導体層と重なっている、
請求項9ないし請求項11のいずれかに記載の多層基板。 - 前記多層基板は、第4容量形成部を備えており、
前記第4容量形成部は、前記複数の絶縁体層の内の1以上の前記絶縁体層を上下方向に横切る第4層間接続導体を、含んでおり、
前記第4層間接続導体は、前記放射導体層に電気的に接続されており、
前記第4層間接続導体の前記第2方向の端から前記グランド導体までの上下方向における距離は、前記放射導体層から前記グランド導体までの上下方向における距離より短い、
請求項9ないし請求項12のいずれかに記載の多層基板。
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