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JP7449809B2 - Workpiece dipping device - Google Patents
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JP7449809B2 JP2020129116A JP2020129116A JP7449809B2 JP 7449809 B2 JP7449809 B2 JP 7449809B2 JP 2020129116 A JP2020129116 A JP 2020129116A JP 2020129116 A JP2020129116 A JP 2020129116A JP 7449809 B2 JP7449809 B2 JP 7449809B2
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Description

本発明は、ワーク浸漬装置及びワーク浸漬方法に関する。 The present invention relates to a workpiece dipping device and a workpiece dipping method.

ワーク(例えば、小型の金属部品など)を液体に浸漬させた状態でワークの検査、試験、加工、改質、塗装、洗浄などの処理が行われることがある。そのためには、まず、ワークを液体に浸漬させる必要があるが、ワークを液体に浸漬させた際にワークの表面に気泡が発生することがあった。この気泡は、ワークに付着し、あるいは、液中や液面を漂い、ワークの処理を妨害する恐れがあった。この問題を解決するための従来技術として、ワークに付着した気泡に液体を吹き付けたり、液面を漂う気泡に気体を吹き付けたりすることで、気泡を除去することが知られている(例えば、特許文献1~7参照)。 BACKGROUND ART Processes such as inspection, testing, processing, modification, painting, and cleaning may be performed on a workpiece (for example, a small metal part) while immersed in a liquid. To do this, it is first necessary to immerse the workpiece in a liquid, but when the workpiece is immersed in the liquid, bubbles are sometimes generated on the surface of the workpiece. These bubbles may adhere to the workpiece or float in the liquid or on the liquid surface, thereby interfering with the processing of the workpiece. As a conventional technique to solve this problem, it is known to remove air bubbles by spraying liquid onto air bubbles attached to the workpiece or blowing gas onto air bubbles floating on the liquid surface (for example, patent (See References 1 to 7).

特開2006-100717号公報Japanese Patent Application Publication No. 2006-100717 特開平7-136576号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-136576 特開2019-219234号公報JP2019-219234A 特開2010-53406号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-53406 特開2009-291674号公報JP2009-291674A 特開平10-165910号公報Japanese Patent Application Publication No. 10-165910 実開平4-41659号公報Utility Model Publication No. 4-41659

従来技術のように気泡を除去したとしても、既に発生してしまった多量の気泡を完全に取り除くことは困難である。このような問題に対しては、ワークを液体に浸漬させた際にできるだけ気泡を発生させないようにすることが有効である。 Even if bubbles are removed as in the prior art, it is difficult to completely remove the large amount of bubbles that have already been generated. To solve this problem, it is effective to prevent the generation of bubbles as much as possible when the workpiece is immersed in liquid.

本発明は、気泡の発生を抑制することが可能なワーク浸漬装置及びワーク浸漬方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a workpiece dipping device and a workpiece dipping method that can suppress the generation of bubbles.

液体を収容する液体収容部と、前記液体収容部に収容された前記液体の表面に向かって気体を吐出することにより前記液体の表面に斜面を形成する気体吐出部と、前記液体収容部に収容された前記液体に向かってワークを相対的に移動させる移動手段と、を備え、前記液体の前記斜面に前記ワークの表面を接触させながら前記ワークを前記液体の内部へ移動させる、ワーク浸漬装置である。 a liquid storage part that stores a liquid; a gas discharge part that forms a slope on the surface of the liquid by discharging gas toward the surface of the liquid stored in the liquid storage part; a moving means for moving the workpiece relatively toward the liquid, the workpiece immersion device moving the workpiece into the liquid while bringing the surface of the workpiece into contact with the slope of the liquid. be.

前記液体収容部に収容された前記液体の内部から外部へ取り出された前記ワークに付着している前記液体に接触することにより前記液体を流下させて除去する液体除去部を備える、ワーク浸漬装置であっても良い。 A workpiece immersion device comprising a liquid removal section that causes the liquid to flow down and remove by contacting the liquid adhering to the workpiece taken out from the inside of the liquid accommodated in the liquid storage section. It's okay to have one.

前記液体除去部は、前記ワークに付着している前記液体を前記液体収容部の内側に流下させる、ワーク浸漬装置であっても良い。 The liquid removal section may be a workpiece immersion device that causes the liquid adhering to the workpiece to flow down inside the liquid storage section.

前記液体除去部は、前記ワークから一定距離だけ離れた第一の停止位置と前記ワークと接触する第二の停止位置とを結ぶ経路上を往復移動可能であり、前記経路は、前記液体収容部に収容された前記液体の上方に配置されている、ワーク浸漬装置であっても良い。 The liquid removal section is movable back and forth on a path connecting a first stop position that is a certain distance away from the workpiece and a second stop position that is in contact with the workpiece, and the path is such that the liquid removal section is connected to the liquid storage section. The workpiece immersion device may be disposed above the liquid contained in the workpiece.

前記ワークが挿入される一端とそれとは反対側の他端とを有する筒状部を備え、前記筒状部の前記一端は、前記液体収容部に収容された前記液体の外部に配置され、前記筒状部の前記他端は、前記液体収容部に収容された前記液体の内部に配置されている、ワーク浸漬装置であっても良い。 a cylindrical part having one end into which the workpiece is inserted and the other end opposite thereto; the one end of the cylindrical part is disposed outside the liquid contained in the liquid storage part; The other end of the cylindrical portion may be a workpiece immersion device disposed inside the liquid contained in the liquid storage portion.

前記筒状部は、前記気体吐出部から吐出された前記気体を前記筒状部の内側に収容された前記液体に向かって通過させる開口部からなる吸気口を有する、ワーク浸漬装置であっても良い。 The cylindrical part may be a workpiece immersion device, wherein the cylindrical part has an intake port that is an opening that allows the gas discharged from the gas discharge part to pass toward the liquid stored inside the cylindrical part. good.

前記筒状部は、前記吸気口を通して前記筒状部の内側に流入した前記気体を前記筒状部の内側から外側へ通過させる開口部からなる排気口を有する、ワーク浸漬装置であっても良い。 The cylindrical part may be a workpiece immersion device having an exhaust port that is an opening that allows the gas that has flowed into the cylindrical part through the intake port to pass from the inside to the outside of the cylindrical part. .

前記吸気口と前記排気口は、互いに対向している、ワーク浸漬装置であっても良い。 The workpiece immersion device may be such that the intake port and the exhaust port are opposed to each other.

液体の表面に向かって気体を吐出することにより前記液体の表面に斜面を形成し、前記液体の前記斜面にワークの表面を接触させながら前記ワークを前記液体の内部へ移動させる、ワーク浸漬方法である。 A workpiece immersion method in which a slope is formed on the surface of the liquid by discharging gas toward the surface of the liquid, and the workpiece is moved into the liquid while bringing the surface of the workpiece into contact with the slope of the liquid. be.

本発明によれば、気泡の発生を抑制することが可能なワーク浸漬装置及びワーク浸漬方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a workpiece dipping device and a workpiece dipping method that can suppress the generation of bubbles.

本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。1A and 1B are a top view and an AA sectional view conceptually showing a work dipping device in an embodiment of the present invention. FIG. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S1)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。FIG. 2 is (a) a top view and (b) a sectional view taken along the line AA, conceptually showing the operation (S1) of the workpiece dipping device in an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S2)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing the operation (S2) of the workpiece dipping device in an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S3)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along the line AA, conceptually showing the operation (S3) of the workpiece dipping device in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S4)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing the operation (S4) of the workpiece dipping device in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S5)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along the line AA, conceptually showing the operation (S5) of the workpiece immersion device in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S6)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing the operation (S6) of the workpiece dipping device in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S7)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。They are (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing the operation (S7) of the workpiece dipping device in one embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態におけるワーク浸漬装置を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。FIG. 7 is (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing a work dipping device in another embodiment of the present invention.

以下、図を参照して本発明の実施形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。この実施形態(実施例1)におけるワーク浸漬装置1は、液体2を収容する液体収容部3と、ワークWを液体2の表面に向かって相対的に移動させる移動手段4と、液体2の表面に向かって気体Gを吐出する気体吐出部5と、ワークWに付着している液体2a(図2-5参照)を除去する液体除去部6とを、備えている。ワークWは、例えば、実質的に平坦な下面を有する円柱状の金属部品である。 FIG. 1 is (a) a top view and (b) a sectional view taken along the line AA, conceptually showing a work dipping device in an embodiment of the present invention. The workpiece immersion apparatus 1 in this embodiment (Example 1) includes a liquid storage section 3 that stores the liquid 2, a moving means 4 that relatively moves the workpiece W toward the surface of the liquid 2, and a surface of the liquid 2. It includes a gas discharge section 5 that discharges gas G toward the workpiece W, and a liquid removal section 6 that removes the liquid 2a (see FIG. 2-5) adhering to the workpiece W. The workpiece W is, for example, a cylindrical metal part having a substantially flat lower surface.

液体収容部3は、例えば、上部が開口された箱型の容器である。液体収容部3の内側には、液体2が所定の量だけ収容されている。液体2は、例えば、水や有機溶媒である。なお、液体2の種類は、これらに限らず、ワークWに対して行われる処理の内容に応じて適宜選択される。 The liquid storage section 3 is, for example, a box-shaped container with an open top. A predetermined amount of liquid 2 is stored inside the liquid storage portion 3 . The liquid 2 is, for example, water or an organic solvent. Note that the type of liquid 2 is not limited to these, and can be selected as appropriate depending on the content of the process to be performed on the workpiece W.

移動手段4は、例えば、ワークWを左右両側から把持したまま上下方向及び左右方向へそれぞれ往復移動可能な機構である。移動手段4は、ワークWを把持したまま下方へ移動することにより、所定の位置に固定された液体収容部3に収容されている液体2の表面に向かってワークWを移動させる。なお、移動手段4は、所定の位置に固定されたワークWに向かって液体収容部3を移動させる機構などであっても良い。つまり、移動手段4は、液体収容部3に収容されている液体2の表面に向かってワークWを相対的に移動させる機構であれば、どのような機構であっても良い。 The moving means 4 is, for example, a mechanism that can reciprocate in the vertical direction and the horizontal direction while gripping the workpiece W from both left and right sides. The moving means 4 moves the workpiece W toward the surface of the liquid 2 contained in the liquid storage part 3 fixed at a predetermined position by moving downward while holding the workpiece W. Note that the moving means 4 may be a mechanism that moves the liquid storage section 3 toward the workpiece W fixed at a predetermined position. In other words, the moving means 4 may be any mechanism as long as it moves the workpiece W relatively toward the surface of the liquid 2 contained in the liquid storage section 3.

気体吐出部5は、例えば、空気などの気体を吐出する円筒状のノズルであり、任意の気体供給装置(不図示)と接続されている。気体吐出部5は、任意のスライド機構を介して支持され、ワークWから一定距離だけ離れた所定の停止位置と、それよりもワークWに近接する所定の停止位置との間を、往復移動可能である。気体吐出部5は、液体収容部3に収容されている液体2の表面に斜めに気体を吐出する角度で配置されている。なお、気体吐出部5の角度は、これに限らず、液体2の表面に垂直に気体を吐出する角度などであっても良い。気体吐出部5の数は、一つに限らず、二つ以上であっても良い。 The gas discharge section 5 is, for example, a cylindrical nozzle that discharges a gas such as air, and is connected to an arbitrary gas supply device (not shown). The gas discharge part 5 is supported via an arbitrary slide mechanism, and is capable of reciprocating between a predetermined stop position a certain distance away from the work W and a predetermined stop position closer to the work W. It is. The gas discharge section 5 is arranged at an angle to obliquely discharge gas onto the surface of the liquid 2 contained in the liquid storage section 3 . Note that the angle of the gas discharge portion 5 is not limited to this, and may be an angle that discharges gas perpendicularly to the surface of the liquid 2. The number of gas discharge parts 5 is not limited to one, and may be two or more.

液体除去部6は、例えば、ワークWの側面に沿って下方へ延在する薄い平板である。液体除去部6は、PETなどの樹脂材料で構成され、適度な可撓性と、光沢のある平滑な表面とを有している。液体除去部6は、任意のスライド機構を介して支持され、ワークWから一定距離だけ離れた所定の停止位置(第一の停止位置)と、ワークWの側面と接触する所定の停止位置(第二の停止位置)との間を、往復移動可能である。これらの二つの停止位置を結ぶ液体除去部6の移動経路は、液体収容部3に収容されている液体2の上方に配置されている。なお、液体除去部6の数は、一つに限らず、二つ以上であっても良い。 The liquid removal part 6 is, for example, a thin flat plate extending downward along the side surface of the workpiece W. The liquid removal section 6 is made of a resin material such as PET, and has appropriate flexibility and a glossy and smooth surface. The liquid removal unit 6 is supported via an arbitrary slide mechanism, and has a predetermined stop position (first stop position) that is a certain distance away from the workpiece W, and a predetermined stop position (first stop position) that is in contact with the side surface of the workpiece W. It is possible to reciprocate between the two stopping positions. A moving path of the liquid removal section 6 that connects these two stop positions is arranged above the liquid 2 contained in the liquid storage section 3. Note that the number of liquid removal units 6 is not limited to one, and may be two or more.

図2-1~図2-7は、本発明の一実施形態におけるワーク浸漬装置の動作(S1~S7)を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。ワーク浸漬装置1は、以下のステップ1~7(S1~S7)に従って順次動作する。 FIGS. 2-1 to 2-7 are (a) a top view and (b) a sectional view taken along the line AA, conceptually showing the operations (S1 to S7) of the workpiece immersion device in an embodiment of the present invention. The workpiece dipping device 1 sequentially operates according to the following steps 1 to 7 (S1 to S7).

<S1>
図2-1に示すように、ワーク浸漬装置1は、移動手段4を動作させることにより、液体収容部3に収容されている液体2の上方にワークWを移動させ、所定の位置に停止させる。次に、ワーク浸漬装置1は、気体吐出部5をワークWに向かって移動させ、ワークWに近接する所定の位置に停止させる。次に、ワーク浸漬装置1は、気体吐出部5から液体2の表面に向かって気体Gを所定の圧力で連続的に吐出させる。この気体Gの風圧により、液体2の表面には、湾曲した斜面7aを有する概ね半球状の凹部7が形成される。凹部7の表面は、気体Gや液体2の流動により多少波立つが、凹部7の形状は、概ね一定に保たれる。なお、凹部7の形状は、この形状に限らず、その他の形状であっても良い。凹部7の位置は、ワークWの直下付近であるが、これに限らず、ワークWが凹部7と接触可能な範囲内であれば、その他の位置であっても良い。凹部7の開口幅は、ワークWの下面の幅よりも僅かに小さい程度であるが、これに限らず、その他の大きさ(例えば、ワークWの下面の幅よりも僅かに大きい程度)であっても良い。
<S1>
As shown in FIG. 2-1, the workpiece immersion device 1 moves the workpiece W above the liquid 2 stored in the liquid storage section 3 by operating the moving means 4, and stops the workpiece W at a predetermined position. . Next, the workpiece immersion device 1 moves the gas discharge part 5 toward the workpiece W and stops it at a predetermined position close to the workpiece W. Next, the workpiece immersion device 1 continuously discharges the gas G at a predetermined pressure from the gas discharge section 5 toward the surface of the liquid 2. Due to the wind pressure of the gas G, a generally hemispherical recess 7 having a curved slope 7a is formed on the surface of the liquid 2. Although the surface of the recess 7 is somewhat undulating due to the flow of the gas G and the liquid 2, the shape of the recess 7 is generally kept constant. Note that the shape of the recess 7 is not limited to this shape, and may be any other shape. Although the position of the recess 7 is near right below the workpiece W, the position is not limited thereto, and may be at any other position as long as the workpiece W is within the range where the recess 7 can come into contact. The opening width of the recess 7 is slightly smaller than the width of the lower surface of the workpiece W, but is not limited to this, and may have other sizes (for example, slightly larger than the width of the lower surface of the workpiece W). It's okay.

<S2>
図2-2に示すように、ワーク浸漬装置1は、移動手段4を動作させることにより、ワークWを液体2に向かって降下させ、ワークWの下面の一部を液体2の表面に接触させる。この時、ワーク2の下面の一部は、凹部7の周囲に位置する実質的に平坦な液体2の表面と概ね平行に接触する。言い換えると、ワークWの下面の一部は、凹部7の外縁において、凹部7の斜面7aと非平行に接触する。これに対し、ワークWの下面のその他の部分は、液体2とは接触せず、凹部7の斜面7aから僅かな隙間(凹部7)を介して離れた位置に配置される。
<S2>
As shown in FIG. 2-2, the workpiece immersion device 1 lowers the workpiece W toward the liquid 2 by operating the moving means 4, and brings a part of the lower surface of the workpiece W into contact with the surface of the liquid 2. . At this time, a portion of the lower surface of the workpiece 2 comes into contact with the substantially flat surface of the liquid 2 located around the recess 7 in approximately parallel manner. In other words, a portion of the lower surface of the workpiece W contacts the slope 7a of the recess 7 non-parallelly at the outer edge of the recess 7. On the other hand, the other portion of the lower surface of the workpiece W does not come into contact with the liquid 2 and is located away from the slope 7a of the recess 7 with a slight gap (recess 7) therebetween.

<S3>
図2-3に示すように、ワーク浸漬装置1は、移動手段4を動作させることにより、ワークWを液体2に向かって更に降下させ、ワークWの下面の一部を凹部7の斜面7aに非平行に接触させながら液体2の内部に移動させる。この時、ワークWの下面のその他の部分は、液体2とは接触せず、凹部7の斜面7aから僅かな隙間(凹部7)を介して離れた位置に配置されるが、この隙間は、ワークWの下面の一部が液体2の内部に移動するにつれて徐々に小さくなる。この過程において、ワークWの下面と凹部7の斜面7aとの間の隙間に介在する空気は、ワークWの下面と凹部7の斜面7aとに挟まれながら横方向へ徐々に押し出され、凹部7の外側へ徐々に排出される。
<S3>
As shown in FIG. 2-3, the workpiece immersion device 1 further lowers the workpiece W toward the liquid 2 by operating the moving means 4, and places a part of the lower surface of the workpiece W on the slope 7a of the recess 7. It is moved into the liquid 2 while being in non-parallel contact. At this time, the other part of the lower surface of the workpiece W does not come into contact with the liquid 2 and is placed at a position separated from the slope 7a of the recess 7 via a slight gap (recess 7). As a part of the lower surface of the workpiece W moves into the liquid 2, it gradually becomes smaller. In this process, the air present in the gap between the lower surface of the work W and the slope 7a of the recess 7 is gradually pushed out laterally while being sandwiched between the lower surface of the work W and the slope 7a of the recess 7, is gradually discharged to the outside.

<S4>
図2-4に示すように、ワーク浸漬装置1は、移動手段4を動作させることにより、ワークWを液体2に向かって更に降下させ、ワークWの下面の全体を液体2の内部に移動させる。この時、ワークWの下面と凹部7の斜面7aとの間の隙間は、ワークWの下面が液体2の内部に移動するにつれて徐々に小さくなり、やがて消滅する。この過程において、ワークWの下面と凹部7の斜面7aとの間の隙間に介在する空気は、ワークWの下面と凹部7の斜面7aとに挟まれながら横方向へ徐々に押し出され、やがて凹部7の外側へ完全に排出される。このようなプロセスにより、ワークWの下面における気泡の発生が抑制される。そして、この状態で、液体2に浸漬されているワークWの下部に対して所定の処理(検査など)が行われる。この時、ワーク浸漬装置1は、必要に応じて気体吐出部5からの気体Gの吐出を停止させる。
<S4>
As shown in FIG. 2-4, the workpiece immersion device 1 operates the moving means 4 to further lower the workpiece W toward the liquid 2 and move the entire lower surface of the workpiece W into the liquid 2. . At this time, the gap between the lower surface of the work W and the slope 7a of the recess 7 gradually becomes smaller as the lower surface of the work W moves into the liquid 2, and eventually disappears. In this process, the air present in the gap between the lower surface of the work W and the slope 7a of the recess 7 is gradually pushed out laterally while being sandwiched between the lower surface of the work W and the slope 7a of the recess 7, and eventually completely discharged to the outside of 7. Such a process suppresses the generation of air bubbles on the lower surface of the workpiece W. In this state, a predetermined process (inspection, etc.) is performed on the lower part of the workpiece W immersed in the liquid 2. At this time, the workpiece immersion device 1 stops the discharge of the gas G from the gas discharge section 5 as necessary.

<S5>
図2-5に示すように、ワーク浸漬装置1は、気体吐出部5をワークWから離反する方向へ移動させ、ワークWから一定距離だけ離れた所定の位置に停止させる。また、ワーク浸漬装置1は、移動手段4を動作させることにより、ワークWを上昇させ、ワークWの下面が液体2とは接触しない所定の位置に停止させる。この時、液体2の内部から外部へ移動したワークWの表面には、表面張力により多少の液体2aが付着する。
<S5>
As shown in FIG. 2-5, the workpiece immersion device 1 moves the gas discharge part 5 in a direction away from the workpiece W, and stops it at a predetermined position a certain distance away from the workpiece W. Further, the workpiece immersion device 1 raises the workpiece W by operating the moving means 4, and stops the workpiece W at a predetermined position where the lower surface of the workpiece W does not come into contact with the liquid 2. At this time, some liquid 2a adheres to the surface of the work W that has moved from the inside of the liquid 2 to the outside due to surface tension.

<S6>
図2-6に示すように、ワーク浸漬装置1は、液体除去部6をワークWに向かって移動させ、ワークWの側面と接触する所定の位置(第二の停止位置)に停止させる。これにより、液体除去部6は、ワークWの表面に付着している液体2aと接触する。液体除去部6と接触した液体2aは、表面張力により周囲の液体2aを巻き込みながら液体除去部6の表面を伝って流下し、液体収容部3の内側に落下する。落下した液体2aは、液体収容部3に収容されている液体2の一部として再利用される。このように、ワークWの表面に付着している液体2aを除去すれば、ワークWの表面から液体2aを容易に除去できると共に、液体収容部3に収容されている液体2の損失を低減することができる。また、後工程においてワークWを乾燥させたり洗浄したりする必要がある場合には、ワークWに付着している液体2aの量が予め減少するため、後工程に要する時間を短縮することなどができる。
<S6>
As shown in FIG. 2-6, the workpiece immersion device 1 moves the liquid removal unit 6 toward the workpiece W and stops it at a predetermined position (second stop position) where it contacts the side surface of the workpiece W. Thereby, the liquid removing section 6 comes into contact with the liquid 2a adhering to the surface of the workpiece W. The liquid 2a that has come into contact with the liquid removal section 6 flows down along the surface of the liquid removal section 6 while involving the surrounding liquid 2a due to surface tension, and falls into the inside of the liquid storage section 3. The fallen liquid 2a is reused as part of the liquid 2 contained in the liquid storage section 3. In this way, by removing the liquid 2a adhering to the surface of the workpiece W, the liquid 2a can be easily removed from the surface of the workpiece W, and the loss of the liquid 2 contained in the liquid storage section 3 is reduced. be able to. In addition, when it is necessary to dry or wash the workpiece W in the post-process, the amount of liquid 2a attached to the workpiece W is reduced in advance, so that the time required for the post-process can be shortened. can.

<S7>
図2-7に示すように、ワーク浸漬装置1は、液体除去部6をワークWから離反する方向へ移動させ、液体収容部3の上方の所定の位置(第一の停止位置)に停止させる。この過程において、液体除去部6に付着している液体2a(不図示)が落下したとしても、落下した液体2aは、液体収容部3の内側に収容されるため、液体収容部3の周囲が液体2aで汚染されることはない。
<S7>
As shown in FIG. 2-7, the workpiece immersion device 1 moves the liquid removal section 6 in a direction away from the workpiece W and stops it at a predetermined position (first stop position) above the liquid storage section 3. . In this process, even if the liquid 2a (not shown) adhering to the liquid removal part 6 falls, the fallen liquid 2a is stored inside the liquid storage part 3, so the surroundings of the liquid storage part 3 are There is no contamination with liquid 2a.

S1~S7が終了した後は、ワークWが新たなワークWと入れ替えられ、新たなワークWに対してS1~S7が同様に行われ、以降、同様の動作が繰り返される。 After S1 to S7 are completed, the workpiece W is replaced with a new workpiece W, and S1 to S7 are similarly performed on the new workpiece W, and the same operations are repeated thereafter.

図3は、本発明の他の実施形態におけるワーク浸漬装置を概念的に示す(a)上面図、(b)A-A断面図である。この実施形態(実施例2)におけるワーク浸漬装置21は、実施例1におけるワーク浸漬装置1と同様の構成として、液体2を収容する液体収容部3と、ワークWを液体2の表面に向かって相対的に移動させる移動手段4と、液体2の表面に向かって気体Gを吐出する気体吐出部5と、ワークWに付着している液体2a(図2-5参照)を除去する液体除去部6とを備え、更に、実施例1におけるワーク浸漬装置1とは異なる構成として、ワークWを収容する筒状部22を備えている。 FIG. 3 is (a) a top view and (b) a sectional view taken along line AA, conceptually showing a work dipping device in another embodiment of the present invention. The workpiece immersion apparatus 21 in this embodiment (Example 2) has the same configuration as the workpiece immersion apparatus 1 in Example 1, and includes a liquid storage section 3 that accommodates the liquid 2, and a workpiece W directed toward the surface of the liquid 2. A moving means 4 for relative movement, a gas discharge section 5 for discharging gas G toward the surface of the liquid 2, and a liquid removal section for removing the liquid 2a (see FIG. 2-5) adhering to the workpiece W. 6, and further includes a cylindrical portion 22 for accommodating the workpiece W, which is different from the workpiece dipping device 1 in the first embodiment.

筒状部22は、円柱状のワークWの外径よりも僅かに大きな内径を有する円筒状のパイプである。筒状部22の上端は、液体収容部3に収容されている液体2の外部に配置され、ワークWの挿入口として上方に向かって開口されている。筒状部22の下端は、液体収容部3に収容されている液体2の内部に配置され、液体収容部3の底面に固定されている。なお、筒状部22の形状は、これに限らず、その他の形状(角筒状など)であっても良い。 The cylindrical portion 22 is a cylindrical pipe having an inner diameter slightly larger than the outer diameter of the cylindrical work W. The upper end of the cylindrical portion 22 is disposed outside the liquid 2 contained in the liquid storage portion 3 and is opened upward as an insertion port for the workpiece W. The lower end of the cylindrical portion 22 is disposed inside the liquid 2 contained in the liquid storage portion 3 and is fixed to the bottom surface of the liquid storage portion 3 . Note that the shape of the cylindrical portion 22 is not limited to this, and may be other shapes (such as a rectangular tube shape).

筒状部22の下端と液体収容部3の底面との間には、少なくとも一つの隙間23が設けられている。液体収容部3に収容されている液体2は、隙間23を介して筒状部22の内側と外側との間を自由に流通することができる。これにより、筒状部22の内側に収容されている液体2の表面の高さ(液位)と、筒状部22の外側に収容されている液体2の表面の高さ(液位)は、互いに常に等しい状態に保たれる。 At least one gap 23 is provided between the lower end of the cylindrical portion 22 and the bottom surface of the liquid storage portion 3. The liquid 2 contained in the liquid storage part 3 can freely flow between the inside and outside of the cylindrical part 22 via the gap 23. As a result, the height (liquid level) of the surface of the liquid 2 stored inside the cylindrical part 22 and the height (liquid level) of the surface of the liquid 2 stored outside the cylindrical part 22 are , are always kept equal to each other.

筒状部22は、液体2の表面から僅かに上方へ離れた位置に、互いの対向する二つの開口部22a、22bを有している。一方の開口部22aは、気体吐出部5から吐出された気体Gを筒状部22の内側へ流入させる吸気口としての役割を果たし、他方の開口部22bは、筒状部22の内側に流入した気体Gを筒状部22の外側へ排出する排気口としての役割を果たす。 The cylindrical portion 22 has two opposing openings 22a and 22b located slightly upwardly away from the surface of the liquid 2. One opening 22a serves as an intake port for causing the gas G discharged from the gas discharge portion 5 to flow into the inside of the cylindrical portion 22, and the other opening 22b serves as an intake port for causing the gas G discharged from the gas discharge portion 5 to flow into the inside of the cylindrical portion 22. It serves as an exhaust port for discharging the gas G to the outside of the cylindrical portion 22.

気体吐出部5から吐出された気体Gは、一方の開口部22aを通して液体2の表面に吹き付けられる。これにより、筒状部22の内側に収容されている液体2の表面には、実施例1と同様の凹部7(図2-1参照)が形成される。液体2の表面に吹き付けられた気体Gは、他方の開口部22bを通して筒状部22の外側へ排出される。気体吐出部5から吐出された気体Gは、一方の開口部22a、液体2の表面、他方の開口部22bを順次経由してスムーズに流動するため、筒状部22の内側に収容されている液体2の表面には、安定した形状の凹部7が形成される。 The gas G discharged from the gas discharge section 5 is blown onto the surface of the liquid 2 through one opening 22a. As a result, a recess 7 (see FIG. 2-1) similar to that in Example 1 is formed on the surface of the liquid 2 housed inside the cylindrical portion 22. The gas G blown onto the surface of the liquid 2 is discharged to the outside of the cylindrical portion 22 through the other opening 22b. The gas G discharged from the gas discharge part 5 is accommodated inside the cylindrical part 22 in order to smoothly flow through one opening 22a, the surface of the liquid 2, and the other opening 22b in sequence. A stable-shaped recess 7 is formed on the surface of the liquid 2.

二つの開口部22a、22bは、互いに対向していなくても良いが、気体吐出部5から吐出された気体Gをスムーズに流動させるためには、互いに対向していることが好ましい。二つの開口部22a、22bの形状は、例えば、それぞれ円形であるが、その他の形状であっても良い。他方の開口部22bは、必須ではなく、省略することが可能であるが、気体Gをスムーズに流動させるためには、設けられていることが好ましい。 Although the two openings 22a and 22b do not have to face each other, it is preferable that they face each other in order to make the gas G discharged from the gas discharge part 5 flow smoothly. The shapes of the two openings 22a and 22b are, for example, circular, but may have other shapes. The other opening 22b is not essential and can be omitted, but is preferably provided in order to allow the gas G to flow smoothly.

実施例2におけるワーク浸漬装置21では、筒状部22の内側にワークWが収容されているため、外側から飛来した異物などがワークWに付着したり、ワークWに付着している液体2aが外側へ飛散したりすることなどが防止される。また、筒状部22の内側に収容されている液体2の表面は、筒状部22の外側に収容されている液体2の表面よりも波立ち難いため、筒状部22の内側に収容されている液体2の表面には、安定した形状の凹部7が形成される。 In the workpiece immersion device 21 in the second embodiment, the workpiece W is housed inside the cylindrical portion 22, so that foreign objects flying from the outside may adhere to the workpiece W, and the liquid 2a attached to the workpiece W may This prevents it from scattering to the outside. Furthermore, the surface of the liquid 2 accommodated inside the cylindrical portion 22 is less likely to ripple than the surface of the liquid 2 accommodated on the outside of the cylindrical portion 22. A stable-shaped recess 7 is formed on the surface of the liquid 2.

実施例2におけるワーク浸漬装置21は、実施例1におけるワーク浸漬装置1と同様に、前述のS1~S7に従って順次動作する。 The workpiece dipping device 21 in the second embodiment operates sequentially according to S1 to S7 described above, similarly to the workpiece dipping device 1 in the first embodiment.

本発明は、以上の実施形態に限定されず、その他種々の形態を取り得る。 The present invention is not limited to the above embodiments, and may take various other forms.

本発明は、小型の金属部品などを液体に浸漬させる場合に好適に利用することができるが、それ以外の場合にも利用することができる。 The present invention can be suitably used when immersing small metal parts in liquid, but can also be used in other cases.

1 ワーク浸漬装置(実施例1)
2 液体
2a 液体
3 液体収容部
4 移動手段
5 気体吐出部
6 液体除去部
7 凹部
7a 斜面
21 ワーク浸漬装置(実施例2)
22 筒状部
22a 開口部(吸気口)
22b 開口部(排気口)
23 隙間
W ワーク
G 気体
1 Workpiece immersion device (Example 1)
2 Liquid 2a Liquid 3 Liquid storage section 4 Moving means 5 Gas discharge section 6 Liquid removal section 7 Recessed section 7a Slope 21 Work immersion device (Example 2)
22 Cylindrical part 22a Opening part (intake port)
22b Opening (exhaust port)
23 Gap W Work G Gas

Claims (7)

液体を収容する液体収容部と、
前記液体収容部に収容された前記液体の表面に向かって気体を吐出することにより前記液体の表面に斜面を形成する気体吐出部と、
前記液体収容部に収容された前記液体に向かってワークを相対的に移動させる移動手段と、
前記液体収容部に収容された前記液体の内部から外部へ取り出された前記ワークに付着している前記液体に接触することにより前記液体を流下させて除去する液体除去部と、を備え、
前記移動手段は、前記液体の前記斜面に前記ワークの表面を接触させながら前記ワークを前記液体の内部へ移動させる、
ことを特徴とするワーク浸漬装置。
a liquid storage section that stores liquid;
a gas discharge section that forms a slope on the surface of the liquid by discharging gas toward the surface of the liquid contained in the liquid storage section;
moving means for relatively moving a workpiece toward the liquid contained in the liquid storage section;
a liquid removal unit that causes the liquid to flow down and remove the liquid by contacting the liquid adhering to the workpiece taken out from the inside of the liquid contained in the liquid storage unit,
The moving means moves the workpiece into the liquid while bringing the surface of the workpiece into contact with the slope of the liquid.
A work dipping device characterized by:
前記液体除去部は、前記ワークに付着している前記液体を前記液体収容部の内側に流下させる、ことを特徴とする請求項に記載のワーク浸漬装置。 The workpiece immersion apparatus according to claim 1 , wherein the liquid removal section causes the liquid adhering to the workpiece to flow down inside the liquid storage section. 前記液体除去部は、前記ワークから一定距離だけ離れた第一の停止位置と前記ワークと接触する第二の停止位置とを結ぶ経路上を往復移動可能であり、前記経路は、前記液体収容部に収容された前記液体の上方に配置されている、ことを特徴とする請求項に記載のワーク浸漬装置。 The liquid removal section is movable back and forth on a path connecting a first stop position that is a certain distance away from the workpiece and a second stop position that is in contact with the workpiece, and the path is such that the liquid removal section is connected to the liquid storage section. The workpiece immersion apparatus according to claim 2 , wherein the workpiece immersion apparatus is arranged above the liquid contained in the liquid. 液体を収容する液体収容部と、
前記液体収容部に収容された前記液体の表面に向かって気体を吐出することにより前記液体の表面に斜面を形成する気体吐出部と、
前記液体収容部に収容された前記液体に向かってワークを相対的に移動させる移動手段と、
前記ワークが挿入される一端とそれとは反対側の他端とを有する筒状部と、を備え、
前記筒状部の前記一端は、前記液体収容部に収容された前記液体の外部に配置され、
前記筒状部の前記他端は、前記液体収容部に収容された前記液体の内部に配置され
前記移動手段は、前記液体の前記斜面に前記ワークの表面を接触させながら前記ワークを前記液体の内部へ移動させる
ことを特徴とするワーク浸漬装置。
a liquid storage section that stores liquid;
a gas discharge section that forms a slope on the surface of the liquid by discharging gas toward the surface of the liquid contained in the liquid storage section;
moving means for relatively moving a workpiece toward the liquid contained in the liquid storage section;
a cylindrical part having one end into which the work is inserted and the other end opposite thereto ;
The one end of the cylindrical part is arranged outside the liquid contained in the liquid storage part,
The other end of the cylindrical part is arranged inside the liquid contained in the liquid storage part ,
The moving means moves the workpiece into the liquid while bringing the surface of the workpiece into contact with the slope of the liquid .
A work dipping device characterized by:
前記筒状部は、前記気体吐出部から吐出された前記気体を前記筒状部の内側に収容された前記液体に向かって通過させる開口部からなる吸気口を有する、ことを特徴とする請求項に記載のワーク浸漬装置。 Claim characterized in that the cylindrical part has an intake port that is an opening that allows the gas discharged from the gas discharge part to pass toward the liquid stored inside the cylindrical part. 4. The workpiece immersion device according to 4 . 前記筒状部は、前記吸気口を通して前記筒状部の内側に流入した前記気体を前記筒状部の内側から外側へ通過させる開口部からなる排気口を有する、ことを特徴とする請求項に記載のワーク浸漬装置。 5. The cylindrical part has an exhaust port that is an opening that allows the gas that has flowed into the cylindrical part through the intake port to pass from the inside to the outside of the cylindrical part. The workpiece immersion device described in . 前記吸気口と前記排気口は、互いに対向している、ことを特徴とする請求項に記載のワーク浸漬装置。
The workpiece immersion apparatus according to claim 6 , wherein the intake port and the exhaust port are opposed to each other.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006100717A (en) 2004-09-30 2006-04-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing method and apparatus
JP2012142394A (en) 2010-12-28 2012-07-26 Tdk Corp Method for adhering rare earth compound and apparatus for adhering rare earth compound

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3223667B2 (en) * 1993-11-18 2001-10-29 三菱化学株式会社 Immersion coating method
JPH1057864A (en) * 1996-08-21 1998-03-03 Ricoh Co Ltd Dip coating method and dip coating equipment
JP3628511B2 (en) * 1998-03-03 2005-03-16 株式会社リコー Immersion coating equipment
JP3661828B2 (en) * 1998-03-27 2005-06-22 株式会社リコー Immersion coating equipment

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006100717A (en) 2004-09-30 2006-04-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processing method and apparatus
JP2012142394A (en) 2010-12-28 2012-07-26 Tdk Corp Method for adhering rare earth compound and apparatus for adhering rare earth compound

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