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JP7451344B2 - Vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer - Google Patents
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JP7451344B2 JP2020133901A JP2020133901A JP7451344B2 JP 7451344 B2 JP7451344 B2 JP 7451344B2 JP 2020133901 A JP2020133901 A JP 2020133901A JP 2020133901 A JP2020133901 A JP 2020133901A JP 7451344 B2 JP7451344 B2 JP 7451344B2
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Description

本発明は、真空紫外1光子イオン化質量分析装置に関する。 The present invention relates to a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer.

一般に、工場等から排出される排出ガスには、芳香族化合物等の微量の成分が含まれている。環境負荷を検討する際には、排出ガス中のこのような微量の成分を検出、定量することは重要である。 Generally, exhaust gas discharged from factories etc. contains trace amounts of components such as aromatic compounds. When considering environmental impact, it is important to detect and quantify such trace amounts of components in exhaust gas.

気体中の成分を測定する方法として、真空紫外光を試料に照射して当該試料を1光子でイオン化させ、質量分析を行う真空紫外1光子イオン化質量分析法が提案されている。例えば、特許文献1には、レーザー光を利用した1光子イオン化質量分析装置と赤外分光装置とを組み合わせた環境負荷ガス中の分子種をモニタリングする測定システムおよび測定方法が提案されている。 As a method for measuring components in a gas, a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry method has been proposed in which vacuum ultraviolet light is irradiated onto a sample to ionize the sample with one photon, and mass spectrometry is performed. For example, Patent Document 1 proposes a measurement system and a measurement method for monitoring molecular species in an environmentally hazardous gas, which combines a one-photon ionization mass spectrometer using a laser beam and an infrared spectrometer.

また、特許文献2には、高い質量分解能を得るために、イオンが円弧状の軌道を周回する飛行時間型質量分析装置が提案されている。 Further, Patent Document 2 proposes a time-of-flight mass spectrometer in which ions orbit in an arcuate trajectory in order to obtain high mass resolution.

特開2013-174558号公報Japanese Patent Application Publication No. 2013-174558 特開2011-146180号公報Japanese Patent Application Publication No. 2011-146180

上述したような特許文献1に記載される1光子イオン化質量分析においては、イオン化時における分子開裂を抑制できる、いわゆるソフトイオン化が可能であり、分子種の特定が比較的容易である。しかしながら、特許文献1に記載される1光子イオン化質量分析においては、一般的な飛行時間型質量分析装置により、質量分析を行っているところ、さらなる質量分解能が望まれる。 In the one-photon ionization mass spectrometry described in Patent Document 1 as described above, so-called soft ionization, which can suppress molecular cleavage during ionization, is possible, and molecular species can be identified relatively easily. However, in the one-photon ionization mass spectrometry described in Patent Document 1, mass spectrometry is performed using a general time-of-flight mass spectrometer, and higher mass resolution is desired.

一方で、特許文献2に記載される飛行時間型質量分析装置は、イオンが円弧状の軌道を周回することによって長い飛行時間が達成可能であり、これにより高い質量分解能を有している。しかしながら、特許文献2に記載される飛行時間型質量分析装置では、イオン化の方法として電子イオン化法や化学イオン化法を採用しており、イオン化において対象となる分子のフラグメント化が生じやすかった。このようなフラグメント化は、未知の試料組成物を分析する際において、多くの検出ピークを生じさせ分析を複雑化させる。 On the other hand, the time-of-flight mass spectrometer described in Patent Document 2 can achieve a long flight time because ions orbit in an arcuate trajectory, and thereby has high mass resolution. However, the time-of-flight mass spectrometer described in Patent Document 2 employs an electron ionization method or a chemical ionization method as an ionization method, and fragmentation of target molecules is likely to occur during ionization. Such fragmentation creates many detection peaks and complicates analysis when analyzing an unknown sample composition.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、ソフトイオン化が可能であり、かつ、高い質量分解能を有する真空紫外1光子イオン化質量分析装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer that is capable of soft ionization and has high mass resolution. It's about doing.

本発明者らは、上述した課題を解決すべく、まず、イオン源として真空紫外1光子イオン化装置を用い、これに質量分析装置として多重周回飛行時間型質量分析装置を組み合わせることを試みた。しかしながら、これらのイオン源と質量分析装置とを単純に組み合わせた場合、装置が動作しないという問題に直面した。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors first attempted to use a vacuum ultraviolet one-photon ionization device as an ion source and combine this with a multi-turn time-of-flight mass spectrometer as a mass spectrometer. However, when these ion sources and mass spectrometers were simply combined, a problem was encountered in that the devices did not work.

本発明者らは、この原因を突き止めるべく検討したところ、真空紫外線は一般には紫外線を変換して生成されるところ、変換に利用されなかった紫外線の強度が高く、これがイオン源に侵入することにより、イオン源に悪影響を与え得ることも知見した。そして、このような紫外線を遮蔽すべく、2つのアパーチャーを設けることを見出し、以下に示す本発明に想到した。
上記のような知見に基づき完成された本発明の要旨は、以下の通りである。
The inventors investigated the cause of this problem and found that vacuum ultraviolet rays are generally generated by converting ultraviolet rays, but the intensity of the ultraviolet rays that were not used for conversion was high, and this caused the ion source to enter the ion source. It has also been found that this can have an adverse effect on the ion source. Then, in order to block such ultraviolet rays, it was discovered that two apertures should be provided, and the present invention described below was conceived.
The gist of the present invention, which was completed based on the above findings, is as follows.

(1) 真空紫外線レーザーを発生させる真空紫外線発生部と、
試料を前記真空紫外線レーザーにより1光子イオン化し、対象イオンを生成するイオン発生部と、
前記対象イオンを検出するとともに、前記対象イオンの質量を測定する、多重周回飛行時間型質量分析部と、を備え、
前記真空紫外線発生部は、紫外線レーザーを前記真空紫外線レーザーに変換する変換部と、前記真空紫外線レーザーを集光して前記イオン発生部に導入する集光レンズと、を有し、
前記イオン発生部は、
前記試料に前記真空紫外線レーザーを照射させるとともに1光子イオン化した前記対象イオンを前記多重周回飛行時間型質量分析部へ押し出すイオン化部と、
前記イオン化部と前記集光レンズとの間に、かつ前記真空紫外線レーザーの光軸に沿って配置される、第1のアパーチャーと、
前記イオン化部と前記第1のアパーチャーとの間に、かつ前記真空紫外線レーザーの光軸に沿って配置される、第2のアパーチャーとを有する、真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(2) 前記第2のアパーチャーは、前記イオン化部と隣接して配置される、(1)に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(3) 前記第2のアパーチャーは、接地されている、(1)または(2)に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(4) 前記第2のアパーチャーは、前記第1のアパーチャーと対向する面が、前記真空紫外線レーザーの光軸に対し、傾斜した傾斜面である、(1)~(3)のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(5) 前記イオン発生部は、前記傾斜面にて反射した前記紫外線レーザーを透過可能な、ビューポートを備える、(4)に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(6) さらに、前記第2のアパーチャーの前記傾斜面が反射した前記紫外線レーザーを検出する紫外線検出部を有する、(4)または(5)に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(7) 前記紫外線検出部が検出した前記紫外線レーザーの位置および/または強度に応じて、前記真空紫外線レーザーの光軸および/または光量を調節する、調整機構を有する、(6)に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(8) 前記真空紫外線レーザーの光軸は、前記多重周回飛行時間型質量分析部における前記対象イオンの周回軌道が形成する面と直交する、(1)~(7)のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(9) 前記イオン化部は、さらに、前記真空紫外線レーザーの光軸と直交するように電子線を前記試料に対し照射可能な電子銃を有する、(1)~(8)のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
(1) A vacuum ultraviolet ray generator that generates a vacuum ultraviolet laser;
an ion generation unit that ionizes the sample by one photon using the vacuum ultraviolet laser to generate target ions;
a multi-orbit time-of-flight mass spectrometer that detects the target ions and measures the mass of the target ions,
The vacuum ultraviolet ray generation section includes a conversion section that converts the ultraviolet laser into the vacuum ultraviolet laser, and a condensing lens that focuses the vacuum ultraviolet laser and introduces it into the ion generation section,
The ion generating section is
an ionization unit that irradiates the sample with the vacuum ultraviolet laser and pushes out the one-photon ionized target ions to the multi-turn time-of-flight mass spectrometry unit;
a first aperture disposed between the ionization section and the condensing lens and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser;
A vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer, comprising a second aperture disposed between the ionization section and the first aperture and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser.
(2) The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to (1), wherein the second aperture is arranged adjacent to the ionization section.
(3) The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to (1) or (2), wherein the second aperture is grounded.
(4) Any one of (1) to (3), wherein the second aperture has a surface facing the first aperture that is inclined with respect to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser. The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer described in .
(5) The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to (4), wherein the ion generating section includes a view port through which the ultraviolet laser reflected by the inclined surface can pass.
(6) The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to (4) or (5), further comprising an ultraviolet detection section that detects the ultraviolet laser reflected by the inclined surface of the second aperture.
(7) The vacuum according to (6), which has an adjustment mechanism that adjusts the optical axis and/or light amount of the vacuum ultraviolet laser according to the position and/or intensity of the ultraviolet laser detected by the ultraviolet detection unit. Ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer.
(8) The optical axis of the vacuum ultraviolet laser is perpendicular to a plane formed by the orbit of the target ion in the multi-orbit time-of-flight mass spectrometer, according to any one of (1) to (7). vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer.
(9) According to any one of (1) to (8), the ionization unit further includes an electron gun capable of irradiating the sample with an electron beam perpendicular to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser. The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer described above.

本発明によれば、ソフトイオン化が可能であり、かつ、高い質量分解能を有する真空紫外1光子イオン化質量分析装置を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer that is capable of soft ionization and has high mass resolution.

本発明の一実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置の概略を模式的に示す模式図である。1 is a schematic diagram schematically showing an outline of a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to an embodiment of the present invention. 図1に示す真空紫外1光子イオン化質量分析装置のイオン発生部の構成を説明する拡大模式図である。FIG. 2 is an enlarged schematic diagram illustrating the configuration of an ion generation section of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer shown in FIG. 1. FIG. 図1に示す真空紫外1光子イオン化質量分析装置のa-a線断面における模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer shown in FIG. 1 taken along the a-a line.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Note that, in this specification and the drawings, components having substantially the same functional configurations are designated by the same reference numerals and redundant explanation will be omitted.

<1.真空紫外1光子イオン化質量分析装置の構成>
まず、本実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置の概略を模式的に示す模式図、図2は、図1に示す真空紫外1光子イオン化質量分析装置のイオン発生部の構成を説明する拡大模式図、図3は、図1に示す真空紫外1光子イオン化質量分析装置のa-a線断面における模式図である。なお、図中、説明の容易化のため、各構成要素は適宜拡大・縮小しており、実際の寸法を示すものではない。また、各図中、説明の容易化のため、説明に不要な部材については省略した。さらに、各図中の紫外線レーザー、真空紫外線レーザーや、試料等の物質の移動については、これらの代表的な移動方向、例えば紫外線レーザー、真空紫外線レーザーの光軸のみ表示し、詳細な広がり等の記載を省略した。
<1. Configuration of vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer>
First, a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing the outline of a vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an ion generating section of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer shown in FIG. FIG. 3 is a schematic diagram of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer shown in FIG. 1 taken along the a-a line. Note that in the drawings, each component is enlarged or reduced as appropriate for ease of explanation, and actual dimensions are not shown. Further, in each figure, for ease of explanation, members unnecessary for the explanation are omitted. Furthermore, regarding the movement of ultraviolet lasers, vacuum ultraviolet lasers, and substances such as samples in each figure, only the typical directions of movement, such as the optical axes of ultraviolet lasers and vacuum ultraviolet lasers, are shown, and detailed spread, etc. Description has been omitted.

図1に示す真空紫外1光子イオン化質量分析装置1は、真空紫外線発生部10と、イオン発生部20と、多重周回飛行時間型質量分析部30と、導入部40と、紫外線検出部50とを有している。 The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 shown in FIG. have.

真空紫外線発生部10は、真空紫外線VUVレーザーを発生させる。真空紫外線発生部10は、固体レーザー発振部より発振されたパルス状の紫外線レーザーUVを変換部13に導光する導光レンズ11と、紫外線レーザーUVを真空紫外線VUVレーザーに変換する変換部13と、変換部13において変換された真空紫外線VUVレーザーを集光してイオン発生部20に導入する集光レンズ15とを有している。 The vacuum ultraviolet ray generator 10 generates a vacuum ultraviolet ray (VUV) laser. The vacuum ultraviolet ray generator 10 includes a light guide lens 11 that guides the pulsed ultraviolet laser UV oscillated from the solid-state laser oscillator to a converter 13, and a converter 13 that converts the ultraviolet laser UV into a vacuum ultraviolet VUV laser. , and a condensing lens 15 that condenses the vacuum ultraviolet VUV laser converted in the converting section 13 and introduces it into the ion generating section 20.

導光レンズ11は、固体レーザー発振部(図示せず)より発振された固体レーザーのパルス状の紫外線レーザーUVを変換部13に導入する。導光レンズ11は、変換部13内の目的とする領域において、紫外線レーザーUVが収束するように紫外線レーザーUVの集光を行う。導光レンズ11は、例えば、合成石英、フッ化マグネシウム等により構成される。また、固体レーザーとしては、例えばYAGレーザー等が挙げられる。パルス状の紫外線レーザーUVは、固体レーザーの高調波(例えばYAGレーザーの3倍波(波長:355nm)等)であることができる。 The light guide lens 11 introduces pulsed ultraviolet laser UV of a solid-state laser oscillated by a solid-state laser oscillation unit (not shown) into the conversion unit 13 . The light guiding lens 11 condenses the ultraviolet laser UV so that the ultraviolet laser UV converges on a target area within the conversion unit 13 . The light guide lens 11 is made of, for example, synthetic quartz, magnesium fluoride, or the like. In addition, examples of solid-state lasers include YAG lasers and the like. The pulsed ultraviolet laser UV can be a harmonic of a solid-state laser (for example, a third harmonic of a YAG laser (wavelength: 355 nm), etc.).

変換部13は、導光レンズ11より導光された紫外線レーザーUVを真空紫外線レーザーに変換する真空紫外線レーザー発振部である。変換部13は、例えば、キセノン、アルゴン、クリプトン等の希ガスが封入されたガスセルである。希ガスは、主に変換部13内の紫外線レーザーUVの収束点において、導光レンズ11より導光された紫外線レーザーUVの光子を複数吸収して共鳴し、真空紫外線レーザーVUVを発振する。このような真空紫外線レーザーVUVの波長は、例えばキセノン由来の場合、118nmである。ただし、紫外線レーザーUVのすべての光子が真空紫外線レーザーVUVの発振に利用されるものではなく、紫外線レーザーUVの一部は、真空紫外線レーザーVUVとともに、集光レンズ15を介して外部に放出される。なお、希ガスは、希ガス導入口131より封入される。 The conversion unit 13 is a vacuum ultraviolet laser oscillation unit that converts the ultraviolet laser UV guided by the light guide lens 11 into a vacuum ultraviolet laser. The conversion unit 13 is, for example, a gas cell filled with a rare gas such as xenon, argon, or krypton. The rare gas absorbs and resonates a plurality of photons of the ultraviolet laser UV guided by the light guide lens 11 mainly at the convergence point of the ultraviolet laser UV in the converter 13, and oscillates a vacuum ultraviolet laser VUV. The wavelength of such a vacuum ultraviolet laser VUV is, for example, 118 nm when it is derived from xenon. However, not all photons of the ultraviolet laser UV are used to oscillate the vacuum ultraviolet laser VUV, and a part of the ultraviolet laser UV is emitted to the outside through the condenser lens 15 together with the vacuum ultraviolet laser VUV. . Note that the rare gas is sealed from the rare gas inlet 131.

集光レンズ15は、変換部13において発振した真空紫外線レーザーVUVをイオン発生部20のイオン化部23内において収束するように集光する。また、真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVとは、波長が異なることから集光レンズ15における屈折角も異なる。したがって、集光レンズ15は、この真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVとの屈折角の差異を利用して、真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVとを分離する。集光レンズ15は、例えばフッ化マグネシウム、フッ化リチウム等により構成される。 The condensing lens 15 condenses the vacuum ultraviolet laser VUV oscillated in the conversion section 13 so as to converge it within the ionization section 23 of the ion generation section 20 . Further, since the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV have different wavelengths, the refraction angles at the condenser lens 15 are also different. Therefore, the condensing lens 15 separates the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV by utilizing the difference in refraction angle between the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV. The condenser lens 15 is made of, for example, magnesium fluoride, lithium fluoride, or the like.

また、以上説明した真空紫外線発生部10は、発生させる真空紫外線レーザーVUVが、図中x軸と並行に後述するイオン化部23へ進行するように配置されている。この場合、イオン化部23において、生成する対象イオンISは、z軸方向と比較して、x軸方向は収束の程度が低い傾向がある。 Further, the vacuum ultraviolet ray generating section 10 described above is arranged so that the vacuum ultraviolet laser VUV to be generated advances to the ionization section 23, which will be described later, in parallel with the x-axis in the figure. In this case, the target ions IS generated in the ionization unit 23 tend to have a lower degree of convergence in the x-axis direction than in the z-axis direction.

イオン生成領域236に広がる試料Sが真空紫外レーザーに照射されて生成する対象イオンISのうち、後述する多重周回飛行時間型質量分析部30における対象イオンISの周回軌道が形成する面(y-z面)内に存在する対象イオンISが最も効率的に周回軌道に取り込まれる。周回軌道面(y-z面)から離れるにしたがって、対象イオンISの周回軌道への収束効率が低下する。言い換えれば、真空紫外レーザーVUVをx軸方向に照射することによって、対象イオンISと真空紫外レーザーVUVとの有効な相互作用体積を最大とすることができる。このように、対象イオンISが収束しにくい方向軸と、多重周回飛行時間型質量分析部30における対象イオンISの収束の許容度合いが大きい方向軸とを合わせることにより、対象イオンISの検出感度が向上する。 Of the target ions IS generated when the sample S spread in the ion generation region 236 is irradiated with a vacuum ultraviolet laser, a plane (y-z The target ions IS existing within the surface) are taken into the orbit most efficiently. The efficiency with which the target ion IS converges on the orbit decreases as it moves away from the orbital plane (yz plane). In other words, by irradiating the vacuum ultraviolet laser VUV in the x-axis direction, the effective interaction volume between the target ion IS and the vacuum ultraviolet laser VUV can be maximized. In this way, by aligning the direction axis in which the target ion IS is difficult to converge with the direction axis in which the degree of permissible convergence of the target ion IS in the multi-orbit time-of-flight mass spectrometer 30 is high, the detection sensitivity of the target ion IS can be increased. improves.

イオン発生部20は、試料Sを真空紫外線レーザーVUVにより1光子イオン化し、対象イオンISを生成する。イオン発生部20は、真空チャンバー21と、イオン化部23と、第1のアパーチャー25と、第2のアパーチャー27と、電子銃29とを有している。 The ion generator 20 ionizes the sample S by one photon using a vacuum ultraviolet laser VUV to generate target ions IS. The ion generating section 20 has a vacuum chamber 21 , an ionizing section 23 , a first aperture 25 , a second aperture 27 , and an electron gun 29 .

真空チャンバー21は、空間211を備え、イオン発生部20の各部を収納するとともに、空間211内の真空(減圧)状態を維持する。また、真空チャンバー21は、ビューポート215を有している。 The vacuum chamber 21 includes a space 211, houses each part of the ion generating section 20, and maintains a vacuum (reduced pressure) state within the space 211. Further, the vacuum chamber 21 has a view port 215.

真空紫外線発生部10において発振された真空紫外線レーザーVUVは、集光レンズ15を介してイオン発生部20へ導入される。真空紫外レーザーVUVは、集光レンズ15を通過後、真空内を伝播させる必要があり、集光レンズ15は直接、真空チャンバー21の側面に取り付けている。なお、図示の態様に限定されず、変換部13と真空チャンバー21とは、内部を真空としたまたは不活性ガスで置換した鏡筒で接続されてもよい。 The vacuum ultraviolet laser VUV oscillated in the vacuum ultraviolet generator 10 is introduced into the ion generator 20 via the condenser lens 15 . The vacuum ultraviolet laser VUV needs to be propagated in vacuum after passing through the condensing lens 15, and the condensing lens 15 is directly attached to the side surface of the vacuum chamber 21. Note that, without being limited to the illustrated embodiment, the conversion section 13 and the vacuum chamber 21 may be connected by a lens barrel whose interior is evacuated or replaced with an inert gas.

ビューポート215は、後述する第2のアパーチャー27にて反射した紫外線レーザーUVの光路上に設けられた、透光性の窓部材である。ビューポート215より、イオン発生部20内の紫外線レーザーUVの照射位置、特に後述する第2のアパーチャー27への照射位置を確認することができる。これにより、視認不可能な真空紫外線レーザーVUVの光軸を推測することが可能となり、真空紫外線レーザーVUVの光軸の調整が可能となる。
ビューポート215は、紫外線レーザーUVに対する耐性を有する材料、例えば、合成石英等により構成される。
The viewport 215 is a translucent window member provided on the optical path of the ultraviolet laser UV reflected by a second aperture 27, which will be described later. From the view port 215, it is possible to confirm the irradiation position of the ultraviolet laser UV within the ion generating section 20, particularly the irradiation position on the second aperture 27, which will be described later. Thereby, it becomes possible to estimate the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV, which cannot be visually recognized, and it becomes possible to adjust the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV.
The viewport 215 is made of a material that is resistant to ultraviolet laser UV, such as synthetic quartz.

イオン化部23は、試料Sに真空紫外線レーザーVUVを照射させるとともに1光子イオン化した対象イオンISを多重周回飛行時間型質量分析部30へ押し出す。図2に示すように、イオン化部23は、押し出し電極231と、引き出し電極232と、引き込み電極233とを有している。そして、押し出し電極231と、引き出し電極232と、引き込み電極233とは、対象イオンISの予定する進行方向に沿って、この順に配置されている。これらの押し出し電極231、引き出し電極232、引き込み電極233は、それぞれ異なる大きさの電圧を印加することができ、これらの電極231~233間において生じる電位差に基づき、2段加速により、対象イオンISが多重周回飛行時間型質量分析部30へ押し出される。 The ionization section 23 irradiates the sample S with a vacuum ultraviolet laser VUV, and pushes out one-photon ionized target ions IS to the multi-turn time-of-flight mass spectrometry section 30 . As shown in FIG. 2, the ionization section 23 includes an extrusion electrode 231, an extraction electrode 232, and an extraction electrode 233. The push-out electrode 231, the pull-out electrode 232, and the pull-in electrode 233 are arranged in this order along the planned traveling direction of the target ions IS. Voltages of different magnitudes can be applied to these push electrode 231, extraction electrode 232, and pull-in electrode 233, respectively. Based on the potential difference generated between these electrodes 231 to 233, the target ion IS is accelerated by two stages of acceleration. It is pushed out to the multi-turn time-of-flight mass spectrometry section 30.

押し出し電極231は、カップ状をなしており、その開口部が引き出し電極232と対向するように配置されている。また、押し出し電極231は、その側面において、真空紫外線レーザーVUVを通過させて押し出し電極231内へ導入するための孔234と、後述する導入部40からの試料Sを押し出し電極231内へ導入するための孔235と、電子銃29からの電子線EBを押し出し電極231内へ導入するための孔239とが設けられている。 The push-out electrode 231 has a cup shape and is arranged such that its opening faces the pull-out electrode 232. The extrusion electrode 231 also has a hole 234 on its side surface for passing the vacuum ultraviolet laser VUV and introducing it into the extrusion electrode 231, and a hole 234 for introducing the sample S from the introduction section 40, which will be described later, into the extrusion electrode 231. A hole 235 and a hole 239 for introducing the electron beam EB from the electron gun 29 into the pushing electrode 231 are provided.

そして、押し出し電極231と後述する引き出し電極232とで形成される空間のうち、イオン生成領域236において、真空紫外線レーザーVUVまたは電子線EBと、試料Sとが衝突して、試料Sがイオン化し、対象イオンISが生成する。 Then, in the ion generation region 236 of the space formed by the push-out electrode 231 and the extraction electrode 232 described later, the vacuum ultraviolet laser VUV or the electron beam EB collides with the sample S, and the sample S is ionized. Target ions IS are generated.

ここで試料S中の分子には、それぞれ固有のイオン化ポテンシャルが存在する。そして、このイオン化ポテンシャルを超える光子エネルギーを有する光子を分子に衝突させることにより、分子は1光子でイオン化される。このような1光子による分子のイオン化は、対象分子の開裂が生じない。また、イオン化ポテンシャルが光子エネルギー以下の分子は、真空紫外線レーザーVUVによりすべてイオン化されることができ、複数種の対象物質を同時にイオン化することも可能である。すなわち1光子イオン化により、複数種の対象物質についての分析が可能となる。そして、本実施形態においては、試料S中の対象物質についてこのような1光子イオン化を行うために、真空紫外線レーザーVUVを使用することができる。 Each molecule in the sample S has its own ionization potential. Then, by bombarding the molecules with photons having photon energy exceeding this ionization potential, the molecules are ionized with one photon. Such ionization of a molecule by one photon does not cause cleavage of the target molecule. In addition, all molecules whose ionization potential is less than the photon energy can be ionized by the vacuum ultraviolet laser VUV, and it is also possible to ionize multiple types of target substances at the same time. That is, one-photon ionization enables analysis of multiple types of target substances. In this embodiment, in order to perform such one-photon ionization of the target substance in the sample S, a vacuum ultraviolet laser VUV can be used.

また、押し出し電極231の底部は、対象イオンISの進行方向とは反対方向に湾曲したくぼみを有する形状をなしている。押し出し電極231の底部がこのような曲面形状を有することにより、適切なポテンシャル分布を形成でき、湾曲した等電位面上にある対象イオンISに対して、それぞれの加速経路において時間的な等長性を与えることができる。この結果、対象イオンISは、収束しつつ引き出し電極232側に押し出されることができる。これにより、対象イオンISの引出し効率が向上する。この結果、後述する検出器39において検出される対象イオンISのピーク幅が狭くなるとともにピーク強度が向上し、検出感度、分解能および定量性のいずれもが改善される。 Further, the bottom of the push-out electrode 231 has a shape having a depression curved in a direction opposite to the traveling direction of the target ions IS. Since the bottom of the extrusion electrode 231 has such a curved surface shape, an appropriate potential distribution can be formed, and temporal isometricity can be achieved in each acceleration path for the target ion IS located on the curved equipotential surface. can be given. As a result, the target ions IS can be pushed out toward the extraction electrode 232 while converging. This improves the extraction efficiency of target ions IS. As a result, the peak width of the target ion IS detected by the detector 39, which will be described later, becomes narrower and the peak intensity improves, and all of detection sensitivity, resolution, and quantitative performance are improved.

また、イオン生成領域236の様々な位置において生成した対象イオンISが引き出されるまでの時間的な等長性を満たし、対象イオンISを空間的に収束させるためには、上述した押し出し電極231の底部は、レンズ効果を有し、かつフォーカス点が引き出し電極232の位置に調整可能なポテンシャル分布を形成するような形状を有することが好ましい。また、押し出し電極231の底部は、押し出し電極231の所定の位置を中心とした同心円上の湾曲を有する等電位線を形成可能なように、湾曲することが好ましい。 In addition, in order to satisfy the temporal isometricity until the target ions IS generated at various positions in the ion generation region 236 are extracted and to spatially converge the target ions IS, it is necessary to preferably has a shape that has a lens effect and forms a potential distribution whose focus point can be adjusted at the position of the extraction electrode 232. Further, the bottom of the push-out electrode 231 is preferably curved so that equipotential lines having concentric curves centered on a predetermined position of the push-out electrode 231 can be formed.

引き出し電極232は、押し出し電極231と引き込み電極233との間に配置される。引き出し電極232は、メッシュ状に形成されており、対象イオンISが通過可能に構成されている。そして、引き出し電極232と押し出し電極231との間の電位差に基づき、対象イオンISがイオン生成領域236より引き出し電極232を通過して、引き込み電極233側へ引き出される。 The extraction electrode 232 is arranged between the extrusion electrode 231 and the extraction electrode 233. The extraction electrode 232 is formed in a mesh shape and is configured to allow the target ions IS to pass therethrough. Then, based on the potential difference between the extraction electrode 232 and the pushing electrode 231, the target ions IS are extracted from the ion generation region 236, passing through the extraction electrode 232, and toward the drawing electrode 233 side.

また、引き出し電極232は、対象イオンISの通過位置付近を中心としたイオン通過部237が、対象イオンISの進行方向とは反対方向に湾曲したくぼみを有する形状をなしている。引き出し電極232がこのような曲面形状を有するイオン通過部237を備えることにより、押し出し電極231と同様に、適切なポテンシャル分布を形成でき、湾曲した等電位面上にある対象イオンISに対して、それぞれの加速経路において時間的な等長性を与えることができる。この結果、上述したように、検出感度、分解能および定量性のいずれもが改善される。 Further, the extraction electrode 232 has a shape in which an ion passage portion 237 centered near the passage position of the target ions IS has a depression curved in a direction opposite to the traveling direction of the target ions IS. By providing the extraction electrode 232 with the ion passing portion 237 having such a curved surface shape, it is possible to form an appropriate potential distribution similarly to the push-out electrode 231, and for the target ions IS on the curved equipotential surface, It is possible to provide temporal isometricity in each acceleration path. As a result, as described above, detection sensitivity, resolution, and quantitative performance are all improved.

引き込み電極233は、引き出し電極よりも対象イオンISの進路の下流側に配置される。引き込み電極233は、引き出し電極232と引き込み電極233との間に生じる電位差に基づき、引き出し電極232を通過した対象イオンISを加速させて孔238から多重周回飛行時間型質量分析部30へ引き込む。 The extraction electrode 233 is arranged downstream of the path of the target ions IS than the extraction electrode. The extraction electrode 233 accelerates the target ions IS that have passed through the extraction electrode 232 based on the potential difference generated between the extraction electrode 232 and the extraction electrode 233, and draws them into the multi-turn time-of-flight mass spectrometer 30 through the hole 238.

また、イオン化部23は、必要に応じて、図示せぬ静電レンズを有し、当該静電レンズは、通過した対象イオンISを空間的にさらに収束させる。 Further, the ionization unit 23 has an electrostatic lens (not shown) as necessary, and the electrostatic lens spatially further converges the target ions IS that have passed through.

以上のようなイオン化部23は、対象イオンISの引き出し効率に優れているとともに、対象イオンISの収束に有利であり、感度、分解能および定量性のいずれをも改善することができる。一方で、孔234を通じて真空紫外線レーザーVUVを導入するための空間が小さくなってしまう。この場合、真空紫外線レーザーVUVとともに侵入した紫外線レーザーUVによりイオン化部23の損傷が起こる恐れがある。特に、押し出し電極231の孔234付近に紫外線レーザーUVが照射された場合、押し出し電極231が帯電して、イオン化部23における対象イオンISの引き出し効率が低下したり、押し出し電極231が損傷し、イオン化部23が損傷する場合があり得る。 The ionization unit 23 as described above has excellent extraction efficiency of the target ions IS, is advantageous in convergence of the target ions IS, and can improve all of sensitivity, resolution, and quantitative performance. On the other hand, the space for introducing the vacuum ultraviolet laser VUV through the hole 234 becomes small. In this case, the ionization section 23 may be damaged by the ultraviolet laser UV that enters together with the vacuum ultraviolet laser VUV. In particular, when the vicinity of the hole 234 of the extrusion electrode 231 is irradiated with ultraviolet laser UV, the extrusion electrode 231 becomes electrically charged, reducing the extraction efficiency of the target ions IS in the ionization section 23, or damaging the extrusion electrode 231, causing ionization. The portion 23 may be damaged.

しかしながら、本実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置1においては、第1のアパーチャー25と、第2のアパーチャー27とを備えることにより、紫外線レーザーUVを効率よく遮断して、上記の問題が防止されている。 However, in the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 according to the present embodiment, by including the first aperture 25 and the second aperture 27, the ultraviolet laser UV can be efficiently blocked and the above problems can be solved. is prevented.

図1に示すように、第1のアパーチャー25は、イオン化部23と集光レンズ15との間に、かつ真空紫外線レーザーVUVの光軸に沿って配置される。第1のアパーチャー25は、真空紫外線レーザーVUVの光軸上に孔251を有し、真空紫外線レーザーVUVを孔251を介して通過させる。一方で、紫外線レーザーUVは、上述したように集光レンズ15により真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVと光路が分離されている。したがって、紫外線レーザーUVは、その大部分が、第1のアパーチャー25の孔251以外の部分に照射されて遮断される。 As shown in FIG. 1, the first aperture 25 is arranged between the ionization section 23 and the condenser lens 15 and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV. The first aperture 25 has a hole 251 on the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV, and allows the vacuum ultraviolet laser VUV to pass through the hole 251. On the other hand, as described above, the optical path of the ultraviolet laser UV is separated into the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV by the condenser lens 15. Therefore, most of the ultraviolet laser UV is irradiated onto the portion other than the hole 251 of the first aperture 25 and is blocked.

ここで、紫外線レーザーUVは、第1のアパーチャー25のみでは、十分にはイオン化部23より遮断できないことを本発明者らは知覚した。すなわち、真空紫外線レーザーVUVの強度を大きくする場合、紫外線レーザーUVの照射強度も当然大きくなる。この場合、紫外線レーザーUVの大部分は、集光レンズ15より射出する際に、収束して、第1のアパーチャー25に照射され、遮断される。一方で、紫外線レーザーUVの一部は、拡散等により、他の紫外線レーザーUVと同様の光路を進行せず、必ずしも第1のアパーチャー25により遮断されない。そして、紫外線レーザーUVの一部は、第1のアパーチャー25の孔251を通過して、イオン化部23側に進行しうる。あるいは、真空紫外線レーザーVUVの光軸調整時に、紫外レーザーUVの一部が第1のアパーチャー25を通過して、イオン化部23に照射されることもあった。しかしながら、本実施形態においては、第2のアパーチャー27により、このような紫外線レーザーUVも遮断することができる。 Here, the present inventors realized that the ultraviolet laser UV cannot be sufficiently blocked by the ionization section 23 only by the first aperture 25. That is, when increasing the intensity of the vacuum ultraviolet laser VUV, the irradiation intensity of the ultraviolet laser UV also naturally increases. In this case, when most of the ultraviolet laser UV is emitted from the condenser lens 15, it is converged and irradiated onto the first aperture 25, where it is blocked. On the other hand, a part of the ultraviolet laser UV does not travel along the same optical path as other ultraviolet lasers UV due to diffusion or the like, and is not necessarily blocked by the first aperture 25. Then, a part of the ultraviolet laser UV can pass through the hole 251 of the first aperture 25 and proceed toward the ionization section 23 side. Alternatively, when adjusting the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV, a part of the ultraviolet laser UV may pass through the first aperture 25 and be irradiated onto the ionization section 23. However, in this embodiment, the second aperture 27 can also block such ultraviolet laser UV.

すなわち、集光レンズ15を射出後の集光レンズ15と第2のアパーチャー27との間の光路長は、集光レンズ15と第1のアパーチャー25との間の光路長よりも長く、その分、真空紫外レーザーVUVと紫外レーザーVUのスポットの位置の隔たりはより大きくなり、第1のアパーチャー25を通過した紫外レーザーUVも第2のアパーチャー27では、遮蔽される。集光レンズ15と第2のアパーチャー27との間の光路長は、好ましくは集光レンズ15と第1のアパーチャー25との間の光路長の2倍以上であり、より好ましくは3倍以上4倍以下である。 That is, the optical path length between the condenser lens 15 and the second aperture 27 after exiting the condenser lens 15 is longer than the optical path length between the condenser lens 15 and the first aperture 25, and , the gap between the spot positions of the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser VU becomes larger, and the ultraviolet laser UV that has passed through the first aperture 25 is also blocked by the second aperture 27. The optical path length between the condensing lens 15 and the second aperture 27 is preferably at least twice the optical path length between the condensing lens 15 and the first aperture 25, more preferably at least 3 times the optical path length between the condensing lens 15 and the first aperture 25. It is less than twice that.

図1、図2に示すように、第2のアパーチャー27は、イオン化部23と第1のアパーチャー25との間に、かつ真空紫外線レーザーVUVの光軸に沿って配置される。より具体的には、第2のアパーチャー27は、イオン化部23と隣接して配置される。第2のアパーチャー27は、真空紫外線レーザーVUVの光軸上に孔271を有し、真空紫外線レーザーVUVを孔271を介して通過させる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the second aperture 27 is arranged between the ionization section 23 and the first aperture 25 and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV. More specifically, the second aperture 27 is arranged adjacent to the ionization section 23. The second aperture 27 has a hole 271 on the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV, and allows the vacuum ultraviolet laser VUV to pass through the hole 271.

一方で、第2のアパーチャー27は、第1のアパーチャー25と対向する面273において、紫外線レーザーUVを遮断する。具体的には、第2のアパーチャー27は、面273において、紫外線レーザーUVを吸収または反射する。これにより、紫外線レーザーUVがイオン化部23へ到達することを防止することができる。 On the other hand, the second aperture 27 blocks the ultraviolet laser UV on a surface 273 facing the first aperture 25. Specifically, the second aperture 27 absorbs or reflects the ultraviolet laser UV at the surface 273. Thereby, it is possible to prevent the ultraviolet laser UV from reaching the ionization section 23.

第2のアパーチャー27は、いかなる材料で構成されてもよいが、例えば、金属材料、導電性セラミクス材料、炭素材料等の導電性材料で構成されることが好ましい。この場合、第2のアパーチャーは、図2に示すように接地されていることが好ましい。これにより、紫外線レーザーUVの照射により生じた電荷を除去し、帯電することを防止することができる。この結果、第2のアパーチャー27の帯電によるイオン化部23への影響を防止することができる。なお、金属材料としては、鉄、SUS、アルミニウム等が挙げられる。 The second aperture 27 may be made of any material, but is preferably made of a conductive material such as a metal material, a conductive ceramic material, or a carbon material. In this case, the second aperture is preferably grounded as shown in FIG. This makes it possible to remove charges generated by irradiation with the ultraviolet laser UV and prevent charging. As a result, it is possible to prevent the ionization section 23 from being affected by the charging of the second aperture 27. Note that examples of the metal material include iron, SUS, aluminum, and the like.

また、第2のアパーチャー27の面273は、真空紫外線レーザーVUVの光軸に対し、傾斜した傾斜面である。これにより、第2のアパーチャー27の面273が反射可能な材料、特に金属材料で構成されている場合、面273において紫外線レーザーUVを例えば、前述したビューポート215へ反射することができる。具体的には、面273は、真空紫外線レーザーVUVの光軸に対し、例えば30°以上60°以下の最小角αを有することができる。 Further, the surface 273 of the second aperture 27 is an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV. Thereby, if the surface 273 of the second aperture 27 is made of a reflective material, in particular a metallic material, the ultraviolet laser UV can be reflected at the surface 273, for example into the aforementioned view port 215. Specifically, the surface 273 can have a minimum angle α of, for example, 30° or more and 60° or less with respect to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV.

図1、図3に示す電子銃29は、イオン化部23の下部に配置されている。電子銃29は、真空紫外線発生部10による真空紫外線レーザーVUVのイオン化部23への進入方向とは別の方向、本実施形態では真空紫外線レーザーVUVのイオン化部23への進入方向と垂直な方向(z軸と平行な方向)において、電子線EBを射出する。 The electron gun 29 shown in FIGS. 1 and 3 is arranged below the ionization section 23. The electron gun 29 is operated in a direction different from the direction in which the vacuum ultraviolet laser VUV from the vacuum ultraviolet generator 10 enters the ionization section 23, in this embodiment, in a direction perpendicular to the direction in which the vacuum ultraviolet laser VUV enters the ionization section 23 ( The electron beam EB is emitted in a direction (parallel to the z-axis).

このような電子線EBをイオン化部23のイオン生成領域236において、試料Sと衝突させることにより、試料Sがイオン化し、対象イオンISを生成させることができる。すなわち、本実施形態においては、真空紫外線レーザーVUVによる真空紫外線1光子イオン化法と、電子線EBによるいわゆる電子イオン化法(Electron Ionization)とを、選択的に使用して、対象イオンISを生成することが可能である。 By causing such an electron beam EB to collide with the sample S in the ion generation region 236 of the ionization section 23, the sample S can be ionized and target ions IS can be generated. That is, in this embodiment, the target ion IS is generated by selectively using a vacuum ultraviolet one-photon ionization method using a vacuum ultraviolet laser VUV and a so-called electron ionization method using an electron beam EB. is possible.

多重周回飛行時間型質量分析部30は、対象イオンISを検出するとともに、対象イオンISの質量を測定する。多重周回飛行時間型質量分析部30は、図3に示すように、入射電極31と、複数の周回電極33と、イオンゲート35と、出射電極37と、検出器39とを有している。 The multi-orbit time-of-flight mass spectrometer 30 detects the target ion IS and measures the mass of the target ion IS. As shown in FIG. 3, the multi-turn time-of-flight mass spectrometer 30 includes an entrance electrode 31, a plurality of orbital electrodes 33, an ion gate 35, an exit electrode 37, and a detector 39.

入射電極31は、所定の電場を形成可能であり、イオン発生部20において引き出された対象イオンISを多重周回飛行時間型質量分析部30における周回軌道へ入射する。複数の周回電極33は、一定電圧が印加されており、周回軌道に入射された対象イオンISを誘導して周回軌道を周回させる。なお、本実施形態においては、周回軌道が8の字を描くように、4つの湾曲した周回電極33が配置されている。 The input electrode 31 is capable of forming a predetermined electric field, and causes the target ions IS extracted in the ion generation section 20 to enter the orbit in the multi-turn time-of-flight mass spectrometry section 30 . A constant voltage is applied to the plurality of orbiting electrodes 33, which guide the target ions IS that have entered the orbit and cause them to orbit around the orbit. In addition, in this embodiment, the four curved orbiting electrodes 33 are arranged so that the orbit depicts a figure eight.

イオンゲート35は、定期的に印加され、目的外の範囲の質量電荷比のイオンを除去する。また、イオンゲート35は、周回軌道を周回する対象イオンISのうち、周回遅れとなるイオンの除去も行う。 The ion gate 35 is applied periodically to remove ions having a mass-to-charge ratio outside the desired range. Further, the ion gate 35 also removes ions that are delayed in their orbit from among the target ions IS orbiting in the orbit.

出射電極37は、印加されて電場を形成することにより、周回軌道を目的とする数周回した対象イオンISを誘導し、検出器39へ出射する。 The output electrode 37 is applied with an electric field to form an electric field, thereby guiding the target ions IS that have made several orbits and outputting them to the detector 39 .

検出器39は、例えばデイリーイオン検出器であり、検出器39に到達した対象イオンISを検出する。 The detector 39 is, for example, a daily ion detector, and detects the target ions IS that have reached the detector 39.

導入部40は、イオン発生部20に接続されており、試料Sをイオン発生部20の空間211へ導入する。具体的には、導入部40より試料Sは、減圧されたイオン発生部20内に連続的に噴射される。噴射された試料Sは、イオン化部23のイオン生成領域236に到達し、ここで、真空紫外線レーザーVUVまたは電子線EBが照射される。 The introduction section 40 is connected to the ion generation section 20 and introduces the sample S into the space 211 of the ion generation section 20 . Specifically, the sample S is continuously injected from the introduction section 40 into the reduced pressure ion generation section 20 . The injected sample S reaches the ion generation region 236 of the ionization section 23, where it is irradiated with a vacuum ultraviolet laser VUV or an electron beam EB.

紫外線検出部50は、図1に示すように、第2のアパーチャー27の面273において反射された紫外線レーザーUVの光路上に配置されている。紫外線検出部50は、例えばフォトダイオードであり、第2のアパーチャー27の面273において反射した紫外線レーザーUVを検出する。このように、反射した紫外線レーザーUVの強度および位置を紫外線検出部50において検出することにより、真空紫外線レーザーVUVの強度および光軸の位置を推測することが可能となる。この結果、紫外線検出部50において検出された紫外線レーザーUVの強度および位置に基づき、真空紫外線レーザーVUVの光量および/または光軸を調節することができる。 As shown in FIG. 1, the ultraviolet detection unit 50 is arranged on the optical path of the ultraviolet laser UV reflected by the surface 273 of the second aperture 27. The ultraviolet light detection unit 50 is, for example, a photodiode, and detects the ultraviolet laser UV reflected from the surface 273 of the second aperture 27. In this manner, by detecting the intensity and position of the reflected ultraviolet laser UV in the ultraviolet detection unit 50, it becomes possible to estimate the intensity and the position of the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV. As a result, the light intensity and/or optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV can be adjusted based on the intensity and position of the ultraviolet laser UV detected by the ultraviolet detector 50.

したがって、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1は、紫外線検出部50が検出した紫外線レーザーUVの位置および/または強度に応じて、真空紫外線レーザーVUVの光軸および/または光量を調節する、調整機構を有してもよい(図示せず)。当該調整機構により、真空紫外線レーザーVUVの光軸および/または光量のより精確な制御化可能となる。 Therefore, the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 has an adjustment mechanism that adjusts the optical axis and/or light intensity of the vacuum ultraviolet laser VUV according to the position and/or intensity of the ultraviolet laser UV detected by the ultraviolet detection unit 50. (not shown). This adjustment mechanism enables more accurate control of the optical axis and/or light amount of the vacuum ultraviolet laser VUV.

なお、図示は省略するが、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1には、当該真空紫外1光子イオン化質量分析装置1の動作を制御するための制御装置が設けられる。当該制御装置は、以上説明した、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1の各構成の動作を制御し得る。当該制御装置は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサ、又はプロセッサとメモリ等の記憶素子が搭載された制御基板等であり得る。あるいは、当該制御装置は、PC(Personal Computer)等の汎用的な情報処理装置であってもよい。当該制御部のプロセッサが所定のプログラムに従って演算処理を実行することにより、以上説明した各種の機能が実現・実行され得る。
以上、本実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置1について説明した。
Although not shown, the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 is provided with a control device for controlling the operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1. The control device can control the operations of each component of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 described above. The control device may be a processor such as a CPU (Central Processing Unit), or a control board on which a processor and a storage element such as a memory are mounted. Alternatively, the control device may be a general-purpose information processing device such as a PC (Personal Computer). The various functions described above can be realized and executed by the processor of the control unit executing arithmetic processing according to a predetermined program.
The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 according to the present embodiment has been described above.

<2.真空紫外1光子イオン化質量分析装置の動作>
次に、本実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置の動作について、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1の動作を例に、説明する。
<2. Operation of vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer>
Next, the operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to the present embodiment will be described using the operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 as an example.

(2.1. 真空紫外1光子イオン化質量分析)
真空紫外1光子イオン化質量分析を行う際の真空紫外1光子イオン化質量分析装置1の動作について説明する。
この場合、まず、導入部40より試料Sがイオン発生部20内に連続的に噴射される。噴射される試料Sは、イオン化部23のイオン生成領域236に到達し、ここで、真空紫外線レーザーVUVが照射される。
(2.1. Vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry)
The operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 when performing vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry will be described.
In this case, first, the sample S is continuously injected into the ion generating section 20 from the introduction section 40. The injected sample S reaches the ion generation region 236 of the ionization section 23, where it is irradiated with a vacuum ultraviolet laser VUV.

なお、試料Sとしては、真空紫外線レーザーVUVによるソフトイオン化が可能であれば特に限定されず、各種気体状の組成物、化合物を用いることができる。試料Sは、例えば、芳香族化合物、炭化水素等の低分子または高分子の有機化合物や、工場、ガスタービン、焼却炉等の産業施設や自動車、飛行機等の輸送機械から排出される排出ガス等であることができる。なお、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1において検出、定量される化合物は、1種であってもよいし、複数種であってもよい。 Note that the sample S is not particularly limited as long as it can be soft ionized by vacuum ultraviolet laser VUV, and various gaseous compositions and compounds can be used. Sample S includes, for example, low-molecular or high-molecular organic compounds such as aromatic compounds and hydrocarbons, exhaust gases emitted from industrial facilities such as factories, gas turbines, and incinerators, and transportation machines such as automobiles and airplanes. can be. Note that the number of compounds detected and quantified by the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 may be one or more than one.

一方で、真空紫外線レーザーVUVは、真空紫外線発生部10において発振される。具体的には、まず、固体レーザー発振部(図示せず)より発振された固体レーザーのパルス状の紫外線レーザーUVを導光レンズ11を介して変換部13に導入する。次いで、変換部13に導入された紫外線レーザーUVは、その収束点において、変換部13に封入されたキセノン等の希ガスを励起・共鳴させて真空紫外線レーザーVUVを発振させる。 On the other hand, the vacuum ultraviolet laser VUV is oscillated in the vacuum ultraviolet generator 10. Specifically, first, pulsed ultraviolet laser UV of a solid-state laser oscillated by a solid-state laser oscillation unit (not shown) is introduced into the conversion unit 13 via the light guide lens 11 . Next, the ultraviolet laser UV introduced into the converting section 13 excites and resonates a rare gas such as xenon sealed in the converting section 13 at its convergence point to oscillate a vacuum ultraviolet laser VUV.

変換部13において発振した真空紫外線レーザーVUVは、イオン発生部20のイオン化部23内において収束するように、集光レンズ15において集光される。集光された真空紫外線レーザーVUVは、第1のアパーチャー25の孔251および第2のアパーチャー27の孔271を通過して、イオン化部23のイオン生成領域263に到達する。 The vacuum ultraviolet laser VUV oscillated in the conversion section 13 is condensed by the condenser lens 15 so as to be converged within the ionization section 23 of the ion generation section 20 . The focused vacuum ultraviolet laser VUV passes through the hole 251 of the first aperture 25 and the hole 271 of the second aperture 27 and reaches the ion generation region 263 of the ionization section 23 .

ここで、真空紫外線レーザーVUVの変換に利用されなかった紫外線レーザーUVは、真空紫外線レーザーVUVと同様に集光レンズ15において集光される。しかしながら、真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVとの屈折角の差異を利用して、真空紫外線レーザーVUVと紫外線レーザーUVとを分離される。そして、集光レンズ15から出射した紫外線レーザーUVの大部分は、第1のアパーチャー25の孔251以外の部分において遮断される。また、第1のアパーチャー25を通過したわずかな強度の紫外線レーザーUVは、さらに、第2のアパーチャー27の面273において遮断される。このようにして、イオン化部23には分析や装置の損傷に影響を与える強度の紫外線レーザーUVの到達が防止される一方で、真空紫外線レーザーVUVは、効率よくイオン発生部20のイオン化部23のイオン生成領域236に到達する。 Here, the ultraviolet laser UV not used for conversion of the vacuum ultraviolet laser VUV is condensed by the condenser lens 15 in the same way as the vacuum ultraviolet laser VUV. However, the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV can be separated by utilizing the difference in refraction angle between the vacuum ultraviolet laser VUV and the ultraviolet laser UV. Most of the ultraviolet laser UV emitted from the condensing lens 15 is blocked in a portion of the first aperture 25 other than the hole 251. Further, the ultraviolet laser UV having a slight intensity that has passed through the first aperture 25 is further blocked at the surface 273 of the second aperture 27 . In this way, the ionization section 23 is prevented from reaching the ionization section 23 of the intense ultraviolet laser UV that would affect the analysis or damage the device, while the vacuum ultraviolet laser VUV is efficiently directed to the ionization section 23 of the ion generation section 20. The ion generation region 236 is reached.

イオン化部23のイオン生成領域236において、真空紫外線レーザーVUVは、試料Sを1光子イオン化し、対象イオンISが生成する。対象イオンISは、押し出し電極231、引き出し電極232および引き込み電極233が適宜電位差を印加されることにより、時間的・空間的に収束するとともに加速して、多重周回飛行時間型質量分析部30へ押し出される。 In the ion generation region 236 of the ionization unit 23, the vacuum ultraviolet laser VUV ionizes the sample S by one photon, and target ions IS are generated. The target ions IS are temporally and spatially converged and accelerated by applying an appropriate potential difference to the extrusion electrode 231, the extraction electrode 232, and the extraction electrode 233, and are extruded to the multi-turn time-of-flight mass spectrometer 30. It can be done.

多重周回飛行時間型質量分析部30において、対象イオンISは、まず、所定の電圧に印加された入射電極31により周回軌道に誘導される。そして、一定電圧が印加された4つの周回電極33により、対象イオンISは、周回軌道を目的とする回数周回する。この過程において、入射電極31における印加は、初回の周回が終了するまでには終了される。また、イオンゲート35は、定期的に印加され、目的外の範囲の質量静電荷比のイオンを除去する。 In the multi-turn time-of-flight mass spectrometer 30, the target ion IS is first guided into an orbit by the entrance electrode 31 to which a predetermined voltage is applied. Then, the target ion IS orbits the intended number of times by the four orbiting electrodes 33 to which a constant voltage is applied. In this process, the application to the input electrode 31 is terminated by the time the first round is completed. Further, the ion gate 35 is periodically applied to remove ions having a mass-to-static charge ratio in a range other than the intended range.

対象イオンISが目的とする回数周回軌道を周回した後、出射電極37は、印加されて電場を形成することにより、対象イオンISを誘導し、検出器39へ出射する。そして、検出器39は、到達した対象イオンISを検出する。そして真空紫外線レーザーVUVの発振時間とその後検出器39に到達するまでの飛行時間の関係から、m/z値が特定される。また、検出器39において検出した対象イオンISの量に応じた、m/z値毎の信号強度が検出される。 After the target ions IS have orbited the intended number of times, the output electrode 37 is applied to form an electric field to guide the target ions IS and output them to the detector 39 . Then, the detector 39 detects the target ion IS that has arrived. Then, the m/z value is determined from the relationship between the oscillation time of the vacuum ultraviolet laser VUV and the subsequent flight time until it reaches the detector 39. Further, the signal intensity for each m/z value is detected according to the amount of target ions IS detected by the detector 39.

このように得られた情報により、対象イオンISの質量数の特定および定量が可能となる。すなわち、m/z値により、対象イオンISの質量数が特定される。さらに、試料Sの濃度と対応するm/z値の信号強度との検量線を予め作成しておき、検出された信号強度を検量線に代入することにより、試料Sの濃度が算出される。このような試料Sの質量数の特定および定量は、図示せぬ制御装置により行うことができる。 The information obtained in this way allows identification and quantification of the mass number of the target ion IS. That is, the mass number of the target ion IS is specified by the m/z value. Furthermore, a calibration curve between the concentration of the sample S and the signal intensity of the corresponding m/z value is created in advance, and the concentration of the sample S is calculated by substituting the detected signal intensity into the calibration curve. Such identification and quantification of the mass number of the sample S can be performed by a control device (not shown).

以上のようにして、試料Sの質量および濃度が特定される。上記の真空紫外1光子イオン化質量分析においては、ソフトイオン化が可能な真空紫外1光子イオン化法と、高い質量分解能を有する多重周回飛行時間型質量分析法を組み合わせることにより、極めて高い精度での質量分析および試料Sの特定・定量が可能となる。例えば、本発明者らは、上記の真空紫外1光子イオン化質量分析装置1に相当する装置を採用することにより、整数質量数が同一であるシクロヘキサン(C12、質量数84.0939)と、チオフェン(CS、質量数84.0034)との混合物について質量分析を行い、これらについてフラグメントフリーで分離検出できることを確認している。すなわち、これらの分子について、別個のピークとして検出し、定量することが可能であった。 As described above, the mass and concentration of the sample S are specified. The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry described above combines vacuum ultraviolet one-photon ionization, which allows soft ionization, and multi-turn time-of-flight mass spectrometry, which has high mass resolution, to achieve mass spectrometry with extremely high accuracy. It also becomes possible to identify and quantify sample S. For example, by employing a device equivalent to the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 described above, the present inventors were able to analyze cyclohexane (C 6 H 12 , mass number 84.0939), which has the same integer mass number. , and thiophene (C 4 H 4 S, mass number 84.0034), and confirmed that they can be separated and detected fragment-free. That is, it was possible to detect and quantify these molecules as separate peaks.

このような、真空紫外1光子イオン化法と多重周回飛行時間型質量分析法との組み合わせは、第1のアパーチャー25と第2のアパーチャー27とを採用する、すなわち、複数のアパーチャーを採用して、紫外線レーザーUVを効率的に遮断することにより、初めて可能となったものである。 Such a combination of vacuum ultraviolet one-photon ionization method and multi-turn time-of-flight mass spectrometry employs the first aperture 25 and the second aperture 27, that is, employs a plurality of apertures, This was made possible for the first time by efficiently blocking ultraviolet laser UV.

また、真空紫外1光子イオン化質量分析の前後または最終においては、必要に応じて、ビューポート215および/または紫外線検出部50により、紫外線レーザーの位置および/または強度についての情報を得る。この情報に基づき、適宜真空紫外線レーザーVUVの光軸および光量を調節する。
以上、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1を用いた真空紫外1光子イオン化質量分析について説明した。
Furthermore, before or after vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry, information about the position and/or intensity of the ultraviolet laser is obtained from the viewport 215 and/or the ultraviolet detection unit 50 as necessary. Based on this information, the optical axis and light intensity of the vacuum ultraviolet laser VUV are adjusted as appropriate.
The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry using the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 has been described above.

(2.2. 電子イオン化質量分析)
次に、電子イオン化質量分析を行う際の真空紫外1光子イオン化質量分析装置1の動作について説明する。電子イオン化質量分析においては、真空紫外1光子イオン化質量分析の場合と比較して、真空紫外線発生部10からの真空紫外線レーザーVUVの使用に代えて電子銃29からの電子線EBを試料Sのイオン化に使用する点が主に異なる。したがって、この点を主に説明し、同様の事項については説明を省略する。
(2.2. Electron ionization mass spectrometry)
Next, the operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 when performing electron ionization mass spectrometry will be described. In electron ionization mass spectrometry, unlike vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry, instead of using the vacuum ultraviolet laser VUV from the vacuum ultraviolet generator 10, the electron beam EB from the electron gun 29 is used to ionize the sample S. The main difference is that it is used for Therefore, this point will be mainly explained, and the explanation of similar matters will be omitted.

すなわち、まず、導入部40より試料Sがイオン発生部20内に連続的に噴射される。噴射された試料Sは、イオン化部23のイオン生成領域236に到達する。 That is, first, the sample S is continuously injected into the ion generating section 20 from the introduction section 40 . The injected sample S reaches the ion generation region 236 of the ionization section 23.

一方で、電子銃29により電子線EBがイオン化部23のイオン生成領域236に向けて照射され、電子線EBにより試料Sがイオン化されて対象イオンISが生成する。生成した対象イオンISのその後の分析については、上述した真空紫外1光子イオン化質量分析の場合と同様である。 On the other hand, the electron gun 29 irradiates the ion generation region 236 of the ionization unit 23 with the electron beam EB, and the sample S is ionized by the electron beam EB to generate target ions IS. The subsequent analysis of the generated target ions IS is the same as in the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry described above.

以上のように、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1は、電子銃29を備えることにより、真空紫外1光子イオン化質量分析に代えて電子イオン化質量分析を行うことが可能である。電子イオン化法では、フラグメント化が問題とならない、CO、CO等の低分子の測定が可能である。また、電子イオン化法は、これによるフラグメント化イオンのデータベースが充実していることから、組成が未知の試料Sについて、便宜的に分析を行うのに適している。そして、真空紫外線1光子イオン化法は、フラグメント化イオンのデータベースが電子イオン化法と比較して充実していないが、ソフトイオン化によるより厳密な質量分析および定量が可能となる。したがって、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1を用いて、その状況に応じた質量分析法を選択することが可能である。 As described above, by including the electron gun 29, the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 can perform electron ionization mass spectrometry instead of vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometry. With the electron ionization method, it is possible to measure low molecules such as CO and CO 2 without causing fragmentation problems. Further, since the electron ionization method has a rich database of fragmented ions, it is suitable for conveniently analyzing a sample S whose composition is unknown. Although the vacuum ultraviolet one-photon ionization method does not have a comprehensive database of fragmented ions compared to the electron ionization method, it enables more precise mass spectrometry and quantification using soft ionization. Therefore, using the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1, it is possible to select a mass spectrometry method according to the situation.

以上、本実施形態に係る真空紫外1光子イオン化質量分析装置の動作について説明した。 The operation of the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to this embodiment has been described above.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 Although preferred embodiments of the present invention have been described above in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to such examples. It is clear that a person with ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can come up with various changes or modifications within the scope of the technical idea stated in the claims. It is understood that these also naturally fall within the technical scope of the present invention.

例えば、上述した実施形態では、第2のアパーチャー27が真空紫外線レーザーVUVの光軸に対して傾斜した面273を有するものとして説明したが、本発明はこれに限定されず、第2のアパーチャーは、真空紫外線レーザーの光軸に対して傾斜した面を有しなくてもよく、真空紫外線レーザーの入射側の面は任意の角度、形状を有することができる。 For example, in the embodiment described above, the second aperture 27 is described as having the surface 273 inclined with respect to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser VUV, but the present invention is not limited to this, and the second aperture 27 is , the surface on the incident side of the vacuum ultraviolet laser may have any angle and shape.

また、第2のアパーチャーは、紫外線レーザーを遮断できるものであればよく、紫外線レーザーを吸収する等、反射しなくてもよい。また、この場合、イオン発生部に配置されるビューポートや、紫外線検出部は省略され得る。 Further, the second aperture only needs to be able to block the ultraviolet laser, and does not need to absorb or reflect the ultraviolet laser. Furthermore, in this case, the view port and the ultraviolet detection section disposed in the ion generation section may be omitted.

例えば、上述した実施形態では、真空紫外1光子イオン化質量分析装置1が電子銃29を備えるものとして説明したが、本発明はこれに限定されず、真空紫外1光子イオン化質量分析装置は電子銃を備えていなくてもよい。 For example, in the embodiment described above, the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 1 was described as having the electron gun 29, but the present invention is not limited to this, and the vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer includes an electron gun. You don't have to be prepared.

さらに、例えば、本発明において用いられるイオン化部としては、上述した本実施形態における電極の構成を備えていなくてもよく、公知の構成を採用し得る。例えば、イオン化部は、引き出し電極を備えていなくてもよい。また、押し出し電極および引き出し電極は、それぞれ湾曲していなくてもよい。 Furthermore, for example, the ionization section used in the present invention does not need to have the structure of the electrode in this embodiment described above, and may employ a known structure. For example, the ionization section does not need to include an extraction electrode. Moreover, the extrusion electrode and the extraction electrode do not need to be curved.

また、本発明においては、上述した実施形態における多重周回飛行時間型質量分析部30以外の構成の各種公知の多重周回飛行時間型質量分析部を採用してもよい。例えば、多重周回飛行時間型質量分析部におけるイオンの周回軌道は、上述したような8の字を描くものに限定されず、例えば、円周軌道、螺旋軌道等を適宜選択することができる。また、この場合において、多重周回飛行時間型質量分析部に配置される各種電極の構成も合わせて変更される。 Further, in the present invention, various known multi-turn time-of-flight mass spectrometers having configurations other than the multi-turn time-of-flight mass spectrometer 30 in the above-described embodiment may be employed. For example, the orbit of the ions in the multi-turn time-of-flight mass spectrometer is not limited to the figure-eight shape described above, and can be appropriately selected from, for example, a circular orbit, a spiral orbit, or the like. Furthermore, in this case, the configurations of the various electrodes arranged in the multi-turn time-of-flight mass spectrometer are also changed.

1 真空紫外1光子イオン化質量分析装置
10 真空紫外線発生部
11 導光レンズ
13 変換部
131 希ガス導入口
15 集光レンズ
20 イオン発生部
21 真空チャンバー
211 空間
215 ビューポート
23 イオン化部
231 押し出し電極
232 引き出し電極
233 引き込み電極
234、235、238、239 孔
236 イオン生成領域
237 イオン通過部
25 第1のアパーチャー
251 孔
27 第2のアパーチャー
271 孔
273 面
29 電子銃
30 多重周回飛行時間型質量分析部
31 入射電極
33 周回電極
35 イオンゲート
37 出射電極
39 検出器
40 導入部
50 紫外線検出部
1 Vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer 10 Vacuum ultraviolet ray generation section 11 Light guide lens 13 Conversion section 131 Rare gas inlet 15 Condensing lens 20 Ion generation section 21 Vacuum chamber 211 Space 215 View port 23 Ionization section 231 Extrusion electrode 232 Extraction Electrode 233 Pull-in electrode 234, 235, 238, 239 Hole 236 Ion generation region 237 Ion passage section 25 First aperture 251 Hole 27 Second aperture 271 Hole 273 Surface 29 Electron gun 30 Multi-turn time-of-flight mass spectrometry section 31 Injection Electrode 33 Circulating electrode 35 Ion gate 37 Output electrode 39 Detector 40 Introduction part 50 Ultraviolet detection part

Claims (9)

真空紫外線レーザーを発生させる真空紫外線発生部と、
試料を前記真空紫外線レーザーにより1光子イオン化し、対象イオンを生成するイオン発生部と、
前記対象イオンを検出するとともに、前記対象イオンの質量を測定する、多重周回飛行時間型質量分析部と、を備え、
前記真空紫外線発生部は、紫外線レーザーを前記真空紫外線レーザーに変換する変換部と、前記真空紫外線レーザーを集光して前記イオン発生部に導入する集光レンズと、を有し、
前記イオン発生部は、
前記試料に前記真空紫外線レーザーを照射させるとともに1光子イオン化した前記対象イオンを前記多重周回飛行時間型質量分析部へ押し出すイオン化部と、
前記イオン化部と前記集光レンズとの間に、かつ前記真空紫外線レーザーの光軸に沿って配置される、第1のアパーチャーと、
前記イオン化部と前記第1のアパーチャーとの間に、かつ前記真空紫外線レーザーの光軸に沿って配置される、第2のアパーチャーとを有する、真空紫外1光子イオン化質量分析装置。
A vacuum ultraviolet ray generator that generates a vacuum ultraviolet laser;
an ion generation unit that one-photonizes the sample with the vacuum ultraviolet laser to generate target ions;
a multi-orbit time-of-flight mass spectrometer that detects the target ions and measures the mass of the target ions,
The vacuum ultraviolet ray generation section includes a conversion section that converts the ultraviolet laser into the vacuum ultraviolet laser, and a condensing lens that focuses the vacuum ultraviolet laser and introduces it into the ion generation section,
The ion generating section is
an ionization unit that irradiates the sample with the vacuum ultraviolet laser and pushes out the one-photon ionized target ions to the multi-turn time-of-flight mass spectrometry unit;
a first aperture disposed between the ionization section and the condensing lens and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser;
A vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer, comprising a second aperture disposed between the ionization section and the first aperture and along the optical axis of the vacuum ultraviolet laser.
前記第2のアパーチャーは、前記イオン化部と隣接して配置される、請求項1に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to claim 1, wherein the second aperture is arranged adjacent to the ionization section. 前記第2のアパーチャーは、接地されている、請求項1または2に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to claim 1 or 2, wherein the second aperture is grounded. 前記第2のアパーチャーは、前記第1のアパーチャーと対向する面が、前記真空紫外線レーザーの光軸に対し、傾斜した傾斜面である、請求項1~3のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet laser according to any one of claims 1 to 3, wherein the second aperture has a surface facing the first aperture that is inclined with respect to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser. One-photon ionization mass spectrometer. 前記イオン発生部は、前記傾斜面にて反射した前記紫外線レーザーを透過可能な、ビューポートを備える、請求項4に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 5. The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to claim 4, wherein the ion generating section includes a view port through which the ultraviolet laser reflected by the inclined surface can pass. さらに、前記第2のアパーチャーの前記傾斜面が反射した前記紫外線レーザーを検出する紫外線検出部を有する、請求項4または5に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet one-photon ionization mass spectrometer according to claim 4 or 5, further comprising an ultraviolet detection section that detects the ultraviolet laser reflected by the inclined surface of the second aperture. 前記紫外線検出部が検出した前記紫外線レーザーの位置および/または強度に応じて、前記真空紫外線レーザーの光軸および/または光量を調節する、調整機構を有する、請求項6に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet one-photon according to claim 6, further comprising an adjustment mechanism that adjusts the optical axis and/or light intensity of the vacuum ultraviolet laser according to the position and/or intensity of the ultraviolet laser detected by the ultraviolet detection unit. Ionization mass spectrometer. 前記真空紫外線レーザーの光軸は、前記多重周回飛行時間型質量分析部における前記対象イオンの周回軌道が形成する面と直交する、請求項1~7のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet one photon according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical axis of the vacuum ultraviolet laser is perpendicular to a plane formed by the orbit of the target ion in the multi-turn time-of-flight mass spectrometer. Ionization mass spectrometer. 前記イオン化部は、さらに、前記真空紫外線レーザーの光軸と直交するように電子線を前記試料に対し照射可能な電子銃を有する、請求項1~8のいずれか一項に記載の真空紫外1光子イオン化質量分析装置。 The vacuum ultraviolet 1 according to any one of claims 1 to 8, wherein the ionization unit further includes an electron gun capable of irradiating the sample with an electron beam perpendicular to the optical axis of the vacuum ultraviolet laser. Photon ionization mass spectrometer.
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