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JP7452230B2 - Electromagnetic shielding sheet, printed wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description

本発明は、電磁波シールドシート、並びにプリント配線板およびその製造方法に関する。例えば、電磁波を放出する部品の一部に接合して利用するのに好適な電磁波シールドシート、並びにプリント配線板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic shielding sheet, a printed wiring board, and a method for manufacturing the same. For example, the present invention relates to an electromagnetic shielding sheet suitable for use by being bonded to a part of a component that emits electromagnetic waves, a printed wiring board, and a method for manufacturing the same.

携帯端末、PC、サーバー等をはじめとする各種電子機器には、プリント配線板等の基板が内蔵されている。これらの基板には、外部からの磁場や電波による誤動作を防止するために、また、電気信号からの不要輻射を低減するために、電磁波シールド構造が設けられている。 Various electronic devices including mobile terminals, PCs, servers, etc. have built-in substrates such as printed wiring boards. These boards are provided with electromagnetic shielding structures to prevent malfunctions caused by external magnetic fields and radio waves, and to reduce unnecessary radiation from electrical signals.

例えば、特許文献1においては、厚みが0.5~12μmの金属層と、異方導電接着剤層とを積層状態で備えた構成が開示されている。また、特許文献2では、導電性接着剤層と、揮発成分を逃すための複数の開口部が形成されている金属箔膜層であるシールド層と、絶縁層がこの順に積層され、層間剥離特性が優れる電磁波シールドフィルムが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a structure in which a metal layer with a thickness of 0.5 to 12 μm and an anisotropically conductive adhesive layer are laminated. Furthermore, in Patent Document 2, a conductive adhesive layer, a shield layer which is a metal foil film layer in which a plurality of openings for escaping volatile components are formed, and an insulating layer are laminated in this order, and the delamination characteristics are An electromagnetic shielding film with excellent properties has been disclosed.

国際公開第2013/077108号International Publication No. 2013/077108 国際公開第2018/147299号International Publication No. 2018/147299

携帯端末に代表される電子機器においては、それらに内蔵される配線回路基板上の電磁波シールド層の高品質化が、昨今、更に求められている。例えば、配線回路基板に電磁波シールド層が接合されたプリント配線板においては、製造工程でハンダリフローなどの高温処理を行うが、高温処理により発生した揮発成分がプリント配線板内部で品質劣化を引き起こすことがある。具体的には、電磁波シールド層の積層体の層間、或いは電磁波シールド層と配線回路基板の界面で浮き、剥離、膨れが生じたり、外観不良が発生したり、シールド特性が低下したりする場合がある(以下、ハンダリフロー耐性ということがある)。
また、昨今の伝送信号の高速伝送化に伴って、特に高周波領域において優れた伝送特性が強く求められている。
更に、プリント配線板の製造歩留まりを高める技術が求められている。プリント配線板の製造工程において、通常、電磁波シールドシートは配線基板に仮貼付され、熱圧着により接合される。配線基板への仮貼付の段階で再剥離性(リワーク性)を確保することができれば、製造歩留まりを高めることができるが、再剥離すると被着体に糊残りが生じ、リワークできない場合がある。また、配線基板の薄膜化に伴い、配線基板自体が損傷しやすくなる傾向にあり、仮貼付の段階で再剥離性(リワーク性)の確保は容易ではないという問題もある。
BACKGROUND ART In electronic devices such as mobile terminals, there has recently been a demand for higher quality electromagnetic shielding layers on printed circuit boards built into the electronic devices. For example, printed wiring boards in which an electromagnetic shielding layer is bonded to a printed wiring board are subjected to high-temperature processing such as solder reflow during the manufacturing process, but volatile components generated by the high-temperature processing can cause quality deterioration inside the printed wiring board. There is. Specifically, floating, peeling, or blistering may occur between the layers of the electromagnetic shielding layer laminate or at the interface between the electromagnetic shielding layer and the printed circuit board, or the appearance may be defective or the shielding properties may deteriorate. Yes (hereinafter referred to as solder reflow resistance).
In addition, with the recent increase in the speed of transmission of transmission signals, there is a strong demand for excellent transmission characteristics, particularly in the high frequency region.
Furthermore, there is a need for technology that increases the manufacturing yield of printed wiring boards. In the manufacturing process of printed wiring boards, an electromagnetic shielding sheet is usually temporarily attached to a wiring board and bonded by thermocompression bonding. If removability (reworkability) can be ensured at the stage of temporary attachment to the wiring board, manufacturing yield can be increased, but re-peeling may leave adhesive residue on the adherend, making rework impossible. Further, as the wiring board becomes thinner, the wiring board itself tends to be easily damaged, and there is also the problem that it is not easy to ensure removability (reworkability) at the stage of temporary attachment.

なお、上記においてはプリント配線板における問題点を説明したが、被着体に電磁波シールド層を接合したい用途全般に対して同様の課題が生じ得る。 Note that, although the problems with printed wiring boards have been described above, similar problems may occur in general applications where an electromagnetic shielding layer is bonded to an adherend.

本発明は、上記背景に鑑みて成されたものであり、その目的とするところは、ハンダリフロー耐性に優れ、且つ高周波領域において優れた伝送特性を有し、リワーク性に優れる電磁波シールドシートおよびプリント配線板およびその製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above background, and its purpose is to provide an electromagnetic shielding sheet and printed material that has excellent solder reflow resistance, excellent transmission characteristics in the high frequency range, and excellent reworkability. An object of the present invention is to provide a wiring board and a method for manufacturing the same.

本発明者らが鋭意検討を重ねたところ、以下の態様において、本発明の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
[1]: 保護層、金属層、接着剤層をこの順に備える積層体を有し、
前記接着剤層は、少なくとも一側面まで延在される連通空隙部を複数有する電磁波シールドシート。
[2]: 前記連通空隙部は、前記接着剤層の第一主面から前記第一主面と反対側の第二主面まで貫通する溝、前記第一主面または前記第二主面のいずれか一方から当該接着剤層内部まで凹部状に形成されたスリット、前記接着剤層の内部に形成され、前記第一主面および前記第二主面に露出しない細孔、および前記溝、前記スリット、前記細孔を任意に組み合わせた開口部の少なくともいずれかを含むことを特徴とする[1]に記載の電磁波シールドシート。
[3]: 前記溝により、前記接着剤層が複数の島部に分断されていることを特徴とする[2]に記載の電磁波シールドシート。
[4]: 前記接着剤層が導電性を示すことを特徴とする[1]~[3]のいずれかに記載の電磁波シールドシート。
[5]: 絶縁性基材上に信号配線が形成された配線板と、
前記配線板上に形成された絶縁性のカバーコート層と、
前記カバーコート層上に形成された電磁波シールド層とを備え、
前記電磁波シールド層は、保護層、金属層、および少なくとも一側面まで延在される連通空隙部を複数有する接着剤層をこの順に備える積層体を有する、[1]~[4]のいずれかに記載の電磁波シールドシートから形成されてなるプリント配線板。
[6]: 前記電磁波シールド層は、前記電磁波シールドシートの前記連通空隙部に由来する連通空隙孔を有し、
前記連通空隙孔は、少なくとも一側面まで延在されていることを特徴とする[5]に記載のプリント配線板。
[7]: 保護層、金属層、接着剤層をこの順に備える積層体を有する電磁波シールドシートを形成する工程Aと、
絶縁性基材上に信号配線が形成された配線板上に、絶縁性のカバーコート層を形成する工程Bと、
前記カバーコート層上に、前記電磁波シールドシートを載置して熱圧着により電磁波シールド層を形成する工程Cとを有し、
前記工程Aは、前記接着剤層に、少なくとも一側面まで延在される連通空隙部を複数形成する工程を含み、
前記電磁波シールド層に、前記連通空隙部に由来する連通空隙孔を形成するプリント配線板の製造方法。
As a result of extensive studies, the present inventors have found that the problems of the present invention can be solved in the following embodiments, and have completed the present invention.
[1]: A laminate including a protective layer, a metal layer, and an adhesive layer in this order,
The adhesive layer is an electromagnetic shielding sheet having a plurality of communicating voids extending to at least one side.
[2]: The communicating gap is a groove that penetrates from the first main surface of the adhesive layer to the second main surface opposite to the first main surface, or a groove that penetrates the first main surface or the second main surface of the adhesive layer. a slit formed in a concave shape from one side to the inside of the adhesive layer, a pore formed inside the adhesive layer and not exposed to the first main surface and the second main surface, and the groove; The electromagnetic shielding sheet according to [1], which includes at least one of a slit and an opening formed by arbitrarily combining the pores.
[3]: The electromagnetic shielding sheet according to [2], wherein the adhesive layer is divided into a plurality of island parts by the grooves.
[4]: The electromagnetic shielding sheet according to any one of [1] to [3], wherein the adhesive layer exhibits conductivity.
[5]: A wiring board in which signal wiring is formed on an insulating base material,
an insulating cover coat layer formed on the wiring board;
an electromagnetic shielding layer formed on the cover coat layer,
Any one of [1] to [4], wherein the electromagnetic shielding layer has a laminate including, in this order, a protective layer, a metal layer, and an adhesive layer having a plurality of communicating voids extending to at least one side. A printed wiring board formed from the electromagnetic shielding sheet described above.
[6]: The electromagnetic wave shielding layer has communicating voids originating from the communicating voids of the electromagnetic shielding sheet,
The printed wiring board according to [5], wherein the communicating void extends to at least one side.
[7]: Step A of forming an electromagnetic shielding sheet having a laminate including a protective layer, a metal layer, and an adhesive layer in this order;
Step B of forming an insulating cover coat layer on a wiring board with signal wiring formed on an insulating base material;
Step C of placing the electromagnetic shielding sheet on the cover coat layer and forming an electromagnetic shielding layer by thermocompression bonding,
The step A includes a step of forming a plurality of communicating voids extending to at least one side in the adhesive layer,
A method for manufacturing a printed wiring board, comprising forming a communicating gap derived from the communicating gap in the electromagnetic shielding layer.

本発明によれば、ハンダリフロー耐性に優れ、且つ高周波領域において優れた伝送特性を有し、リワーク性に優れる電磁波シールドシートおよびプリント配線板およびその製造方法を提供できるという優れた効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to provide an electromagnetic shielding sheet, a printed wiring board, and a method for manufacturing the same, which have excellent solder reflow resistance, excellent transmission characteristics in a high frequency region, and excellent reworkability.

第1実施形態に係る電磁波シールドシートの一例を示す模式的側面図。FIG. 1 is a schematic side view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to a first embodiment. 図1のIIの領域の部分拡大斜視図。FIG. 2 is a partially enlarged perspective view of region II in FIG. 1; 第1実施形態に係る電磁波シールド層付被着体の一例を示す模式的斜視図。FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of an adherend with an electromagnetic shielding layer according to the first embodiment. 第1実施形態に係るプリント配線板の一例を示す模式的断面図。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a printed wiring board according to the first embodiment. 変形例1に係るに係る電磁波シールドシートの一例を示す模式的上面図。FIG. 7 is a schematic top view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to Modification 1. 変形例2に係るに係る電磁波シールドシートの一例を示す模式的上面図。FIG. 7 is a schematic top view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to Modification Example 2. 変形例3に係るに係る電磁波シールドシートの一例を示す模式的側面図。FIG. 7 is a schematic side view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to Modification 3. 第2実施形態に係るに電磁波シールドシートの一例を示す模式的側面図。FIG. 7 is a schematic side view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to a second embodiment. 第3実施形態に係るに電磁波シールドシートの一例を示す模式的斜視図。FIG. 7 is a schematic perspective view showing an example of an electromagnetic shielding sheet according to a third embodiment. 実施例および比較例に係るコプレーナ回路を有する配線回路基板の主面側の模式的平面図。FIG. 3 is a schematic plan view of the main surface side of a printed circuit board having a coplanar circuit according to an example and a comparative example. 実施例および比較例に係るコプレーナ回路を有する配線板の裏面側の模式的平面図。FIG. 3 is a schematic plan view of the back side of a wiring board having a coplanar circuit according to an example and a comparative example. 実施例および比較例に係る電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有する配線板の主面側の模式的平面図。FIG. 3 is a schematic plan view of the main surface side of a wiring board having a coplanar circuit with an electromagnetic shielding sheet according to an example and a comparative example.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。但し、本発明は、上記実施形態および変形例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得る。また、各実施形態および変形例は、互いに好適に組み合わせられる。なお、本明細書において特定する数値は、実施形態または実施例に開示した方法により求められる値である。また、本明細書におけるシートは、フィルム、テープと同義である。説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。本明細書中に出てくる各種成分は特に注釈しない限り、それぞれ独立に一種単独でも二種以上を併用してもよい。 An example of an embodiment to which the present invention is applied will be described below. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and other embodiments may also belong to the scope of the present invention as long as they meet the spirit of the present invention. Moreover, each embodiment and modification example can be suitably combined with each other. Note that the numerical values specified in this specification are values determined by the methods disclosed in the embodiments or examples. Further, the term "sheet" as used herein has the same meaning as "film" or "tape". For clarity of explanation, the following description and drawings have been simplified where appropriate. Unless otherwise noted, the various components appearing in this specification may be used individually or in combination of two or more.

本実施形態に係る電磁波シールドシートは、少なくとも接着剤層、金属層、保護層をこの順に備える積層体を有する。そして、接着剤層は、少なくとも一側面まで延在される連通空隙部を複数有する。少なくとも一側面まで延在されていればよく、その形状およびその始点の位置は問わない。連通空隙部の延在方向は、巨視的には基板面の側面に向かう方向となるが、微視的には任意の方向に延在され得る。本明細書において接着剤層とは、実際に接着剤が存在する部分のみならず、連通空隙部も含めて接着剤層というものとする。なお、接着剤層において、一側面まで延在されていない空隙部を有していてもよい。 The electromagnetic shielding sheet according to this embodiment has a laminate including at least an adhesive layer, a metal layer, and a protective layer in this order. The adhesive layer has a plurality of communicating voids extending to at least one side. As long as it extends to at least one side, its shape and the position of its starting point do not matter. Macroscopically, the communicating gap section extends in a direction toward the side surface of the substrate surface, but microscopically, it may extend in any direction. In this specification, the adhesive layer includes not only the portion where the adhesive actually exists, but also the communicating void portion. Note that the adhesive layer may have a void that does not extend to one side.

接着剤層は、被着体と当接させて接合するための層として用いられる。そして、接着剤層は、電磁波シールドシートを被着体に接合した後の電磁波シールド層において接合層として機能する。金属層はシールド性を付与する役割を主として担い、保護層は金属層を保護する役割を少なくとも担う。 The adhesive layer is used as a layer for contacting and bonding the adherend. The adhesive layer functions as a bonding layer in the electromagnetic shielding layer after bonding the electromagnetic shielding sheet to the adherend. The metal layer mainly plays the role of providing shielding properties, and the protective layer plays the role of at least protecting the metal layer.

電磁波シールドシートは、電磁波を内部または/および外部から遮蔽したい用途全般に利用し得る。典型的には、電磁波シールドシートの接着剤層を被着体と接合し、電磁波シールドシート層付被着体として利用できる。好適な例としては、配線回路基板に電磁波シールドシートを貼付して、接合処理により配線回路基板に電磁波シールド層を接合したプリント配線板が挙げられる。 The electromagnetic wave shielding sheet can be used in all applications where it is desired to shield electromagnetic waves from the inside and/or the outside. Typically, the adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet is bonded to an adherend and can be used as an adherend with an electromagnetic shielding sheet layer. A suitable example is a printed wiring board in which an electromagnetic shielding sheet is attached to a printed circuit board, and the electromagnetic shielding layer is bonded to the printed circuit board by a bonding process.

[第1実施形態]
図1に、第1実施形態に係る電磁波シールドシートの一例を示す模式的側面図を、図2に、図1中の点線で囲んだ領域の接着剤層1側からみた部分拡大斜視図を示す。これらの図に示すように、電磁波シールドシート10は、接着剤層1、金属層2および保護層3をこの順に備える積層体を有する。電磁波シールドシート10は、これら以外の層を有していてもよい。
[First embodiment]
FIG. 1 is a schematic side view showing an example of the electromagnetic shielding sheet according to the first embodiment, and FIG. 2 is a partially enlarged perspective view of the area surrounded by the dotted line in FIG. 1 as seen from the adhesive layer 1 side. . As shown in these figures, the electromagnetic shielding sheet 10 has a laminate including an adhesive layer 1, a metal layer 2, and a protective layer 3 in this order. The electromagnetic shielding sheet 10 may have layers other than these.

接着剤層1には、その側面7まで延在される連通空隙部4が複数設けられている。連通空隙部4は、接着剤層1の第一主面5からその反対側の第二主面6まで貫通する溝により形成されてなり、図2中のX方向およびY方向に延在されている。接着剤層1には、連通空隙部4によってアレイ状の複数の島部が形成されている。第1実施形態では、連通空隙部4によって分断されている個々の島部(即ち、接着剤を有する箇所)の集合体および連通空隙部4(即ち、接着剤が形成されていない箇所)の集合体が接着剤層1である。 The adhesive layer 1 is provided with a plurality of communicating voids 4 extending to the side surface 7 thereof. The communication gap 4 is formed by a groove penetrating from the first main surface 5 of the adhesive layer 1 to the second main surface 6 on the opposite side, and extends in the X direction and the Y direction in FIG. There is. The adhesive layer 1 has a plurality of islands formed in an array by communicating voids 4 . In the first embodiment, a collection of individual island portions (i.e., locations with adhesive) separated by communication voids 4 and a collection of communication voids 4 (i.e., locations where no adhesive is formed) are described. The body is adhesive layer 1.

図3に、電磁波シールド層付被着体の模式的な部分拡大斜視図の一例を示す。電磁波シールド層付被着体30は、被着体31に電磁波シールド層15が接合されてなる。電磁波シールド層15は、電磁波シールドシート10の接着剤層1の第一主面5(図1,図2参照)を被着体31に仮貼付した後、接合する工程を経て得られる。電磁波シールドシート10の接着剤層1は、仮貼付・接合工程を経て被着体31に接合され、接合層9として機能する。接着剤層1の連通空隙部4(図1,図2参照)は、仮貼付・接合工程を経て、連通空隙部4に由来する連通空隙孔8が形成される。接合工程の好適例として、熱圧着処理、熱処理、圧着処理、光硬化処理が例示できる。簡便性の観点からは、接合工程は熱圧着処理が好適である。連通空隙孔8は、通常、連通空隙部4に比べて開口径が減少する。 FIG. 3 shows an example of a schematic partially enlarged perspective view of an adherend with an electromagnetic shielding layer. The electromagnetic shielding layer-attached adherend 30 is formed by bonding the electromagnetic shielding layer 15 to the adherend 31. The electromagnetic shielding layer 15 is obtained through a process of temporarily attaching the first principal surface 5 (see FIGS. 1 and 2) of the adhesive layer 1 of the electromagnetic shielding sheet 10 to the adherend 31 and then bonding. The adhesive layer 1 of the electromagnetic shielding sheet 10 is bonded to the adherend 31 through a temporary bonding and bonding process, and functions as a bonding layer 9. The communicating void 4 (see FIGS. 1 and 2) of the adhesive layer 1 undergoes a temporary attachment and bonding process, and a communicating void 8 originating from the communicating void 4 is formed. Preferred examples of the bonding process include thermocompression bonding treatment, heat treatment, pressure bonding treatment, and photocuring treatment. From the viewpoint of simplicity, thermocompression bonding processing is suitable for the joining process. The communicating gap hole 8 usually has an opening diameter smaller than that of the communicating gap part 4.

連通空隙孔8のサイズ(平均開口径(平均短径)、平均長径)は、プリント配線板20の製造工程等において例えば高温処理時に発生する揮発成分を排出できればよく、特に限定されない。目視では連通空隙孔8が認められないサイズであってもよく、アウトガス蒸散経路としての機能を有していればよい。連通空隙孔8のサイズは、電磁波シールドシート10の連通空隙部4の形状、位置、接着剤層1の組成、接合条件等の製造条件により変わり得る。換言すると、連通空隙孔8が所望のサイズ・形状となるように、これらの諸条件を適宜設計すればよい。従って、電磁波シールドシート10の連通空隙部4の条件は特に限定されない。 The size (average opening diameter (average minor axis), average major axis) of the communicating voids 8 is not particularly limited as long as it can discharge volatile components generated during high temperature processing in the manufacturing process of the printed wiring board 20. The size may be such that the communicating void holes 8 are not visually recognized, and it is sufficient that they have a function as an outgas evaporation path. The size of the communicating voids 8 may vary depending on manufacturing conditions such as the shape and position of the communicating voids 4 of the electromagnetic shielding sheet 10, the composition of the adhesive layer 1, and bonding conditions. In other words, these various conditions may be appropriately designed so that the communicating void hole 8 has a desired size and shape. Therefore, the conditions of the communication gap 4 of the electromagnetic shielding sheet 10 are not particularly limited.

図4に、第1実施形態に係るプリント配線板の一例を示す模式的断面図を示す。プリント配線板20は、絶縁性基材22上に信号配線23およびグランド配線24を有する回路パターンを有する配線板25と、配線板25上に形成された絶縁性のカバーコート層26を有する配線回路基板27を有する。このような構成を有する配線回路基板27上に電磁波シールドシート10(図1参照)を仮貼付し、熱圧着することにより、電磁波シールド層15を有するプリント配線板20が形成される。 FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view showing an example of the printed wiring board according to the first embodiment. The printed wiring board 20 includes a wiring board 25 having a circuit pattern having a signal wiring 23 and a ground wiring 24 on an insulating base material 22, and a wiring circuit having an insulating cover coat layer 26 formed on the wiring board 25. It has a substrate 27. The printed wiring board 20 having the electromagnetic shielding layer 15 is formed by temporarily pasting the electromagnetic shielding sheet 10 (see FIG. 1) on the printed circuit board 27 having such a configuration and thermocompression bonding.

図4の例では、導電性を発現する接着剤層を有する電磁波シールドシートを用いて電磁波シールド層15が形成される。カバーコート層26には、グランド配線24上の少なくとも一部が露出するビア28が形成されている。そして、ビア28内部に接合層9(接着剤層1(図1参照))を流入させグランド配線24と金属層2との導通を図っている。 In the example of FIG. 4, the electromagnetic shielding layer 15 is formed using an electromagnetic shielding sheet having an adhesive layer exhibiting conductivity. A via 28 is formed in the cover coat layer 26 so that at least a portion of the ground wiring 24 is exposed. Then, the bonding layer 9 (adhesive layer 1 (see FIG. 1)) flows into the via 28 to establish electrical continuity between the ground wiring 24 and the metal layer 2.

カバーコート層26は、信号配線23を覆い外部環境から保護する絶縁材料である。カバーコート層は、熱硬化性接着剤付きポリイミドフィルム、熱硬化型もしくは紫外線硬化型のソルダーレジスト、または感光性カバーレイフィルムが好ましく、微細加工をするためには感光性カバーレイフィルムがより好ましい。カバーコート層は、ポリイミド等の耐熱性と柔軟性を備えた公知の樹脂を使用するのが一般的である。カバーコート層の厚みは、通常10~100μm程度である。 The cover coat layer 26 is an insulating material that covers the signal wiring 23 and protects it from the external environment. The cover coat layer is preferably a polyimide film with a thermosetting adhesive, a thermosetting or ultraviolet curing solder resist, or a photosensitive coverlay film, and a photosensitive coverlay film is more preferable for microfabrication. For the cover coat layer, a known resin having heat resistance and flexibility, such as polyimide, is generally used. The thickness of the cover coat layer is usually about 10 to 100 μm.

回路パターンは、アースをとるグランド配線24、電子部品に電気信号を送る信号配線23を含む。両者は銅箔をエッチング処理することで形成することが一般的である。回路パターンの厚みは、通常1~50μm程度である。 The circuit pattern includes a ground wire 24 for grounding, and a signal wire 23 for sending electrical signals to electronic components. Both are generally formed by etching copper foil. The thickness of the circuit pattern is usually about 1 to 50 μm.

絶縁性基材22は、回路パターンの支持体であって、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、フッ素樹脂、液晶ポリマー等の屈曲可能なプラスチックが好ましく、液晶ポリマーおよびポリイミドがより好ましい。これらの中でも高周波の信号を伝送する配線回路基板の用途を考慮すると、比誘電率および誘電正接が低い液晶ポリマーがさらに好ましい。
配線回路基板がリジッド配線板の場合、絶縁性基材の構成材料は、ガラスエポキシが好ましい。上記のような絶縁性基材を備えることで配線回路基板は高い耐熱性が得られる。
The insulating base material 22 is a support for a circuit pattern, and is preferably made of bendable plastic such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, fluororesin, liquid crystal polymer, and more preferably liquid crystal polymer and polyimide. Among these, liquid crystal polymers with low dielectric constants and low dielectric loss tangents are more preferable, considering the use of printed circuit boards that transmit high-frequency signals.
When the printed circuit board is a rigid wiring board, the constituent material of the insulating base material is preferably glass epoxy. By including the insulating base material as described above, the printed circuit board can have high heat resistance.

接合工程を熱圧着により行う場合の条件は任意であるが、例えば、温度150~190℃程度、圧力1~3MPa程度、1~60分程度の条件で行われる。熱プレスにより接着剤層1とカバーコート層26が密着するとともに、接着剤層1が流動してカバーコート層26に形成されたビア28を埋めることでグランド配線24との間で導通がとれる。接着剤層として熱硬化性樹脂を用いた場合には、熱プレスにより反応して硬化し、電磁波シールド層15となる。この場合において、硬化を促進させるため、熱プレス後に150~190℃で30~90分間ポストキュアを行ってもよい。 The conditions for carrying out the bonding process by thermocompression bonding are arbitrary, but for example, the bonding process is carried out at a temperature of about 150 to 190°C, a pressure of about 1 to 3 MPa, and a time of about 1 to 60 minutes. The adhesive layer 1 and the cover coat layer 26 are brought into close contact with each other by hot pressing, and the adhesive layer 1 flows and fills the vias 28 formed in the cover coat layer 26, thereby establishing conduction with the ground wiring 24. When a thermosetting resin is used as the adhesive layer, it is reacted and cured by heat pressing to become the electromagnetic shielding layer 15. In this case, post-curing may be performed at 150 to 190° C. for 30 to 90 minutes after hot pressing to accelerate curing.

ビア28の開口面積は2.5mm以下が好ましく、0.008mm以上が好ましい。上記範囲とすることでグランド配線の領域を狭めることができ、プリント配線板の小型化を実現できる。ビアの形状は特に限定されず、円、正方形、長方形、三角形および不定形等用途に応じていずれも用いることができる。 The opening area of the via 28 is preferably 2.5 mm 2 or less, and preferably 0.008 mm 2 or more. By setting it within the above range, the area of the ground wiring can be narrowed, and the size of the printed wiring board can be reduced. The shape of the via is not particularly limited, and any shape such as a circle, square, rectangle, triangle, or irregular shape can be used depending on the purpose.

電磁波シールド層は配線回路基板の両面に積層することが、電磁波の漏れをより効果的に抑制できる点から好ましい。また、プリント配線板20における電磁波シールド層15は電磁波を遮蔽する他に、グランド回路として利用できる。これにより、グランド回路の一部を省略し、配線回路基板の面積を縮小することでコストダウンが可能となり筐体内の狭い領域に組み込むことができる。 It is preferable that the electromagnetic shielding layer be laminated on both sides of the printed circuit board, since leakage of electromagnetic waves can be more effectively suppressed. Further, the electromagnetic shield layer 15 in the printed wiring board 20 can be used as a ground circuit in addition to shielding electromagnetic waves. This makes it possible to reduce costs by omitting a part of the ground circuit and reducing the area of the printed circuit board, allowing it to be incorporated into a narrow area within the housing.

また、信号配線23は、一本の信号配線からなるシングルエンド、2本の信号配線からなる差動回路等、種々の回路構成とすることができるが、差動回路がより好ましい。配線回路基板27の回路パターン面積に制約があり、グランド回路を並列に形成することが難しい場合には、信号回路の横にグランド回路を設けず、電磁波シールド層15をグランド回路として用いてもよい。この場合、厚み方向にグランドを有するプリント配線板構造となる。 Further, the signal wiring 23 can have various circuit configurations, such as a single-end circuit consisting of one signal wiring, or a differential circuit consisting of two signal wirings, but a differential circuit is more preferable. If the circuit pattern area of the printed circuit board 27 is limited and it is difficult to form a ground circuit in parallel, the electromagnetic shielding layer 15 may be used as a ground circuit without providing a ground circuit next to the signal circuit. . In this case, the printed wiring board structure has a ground in the thickness direction.

本発明のプリント配線板は、液晶ディスプレイ、タッチパネル等のほか、ノートPC、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の電子機器への搭載に好適である。 The printed wiring board of the present invention is suitable for mounting on electronic devices such as liquid crystal displays, touch panels, etc., as well as notebook PCs, mobile phones, smartphones, and tablet terminals.

連通空隙部に由来する連通空隙孔を接合層に形成した電磁波シールド層を用いることにより、この連通空隙孔を介して、高温処理時などに発生したアウトガスを外部に逃がすことができる。その結果、電磁波シールド層と被着体との界面の剥離や、ガスが滞留することによる膨れを効果的に防止できる。また、発生した水蒸気、その他のガス成分が滞留することによる金属層の酸化等を防止できる。更に、連通空隙部を設けて発生した水蒸気を外部に排出できるので、水蒸気由来の水、その他の異物が残留して、短絡したりする不具合を効果的に防止することができる。また、積層体からなる電磁波シールド層の層間の接合不良、例えば、金属層と接合層の界面剥離を効果的に防止できる。その結果、シールド特性に優れた高品質の電磁波シールドシートおよびプリント配線板を提供できる。即ち、ハンダリフロー耐性が向上し、信頼性の高い優れたシールド特性を有するプリント配線板を提供できる。また、信号配線の最近傍に位置する接合層に低誘電率の空孔を設けることで誘電体損失を低減できるため、伝送特性(特に高周波領域における伝送損失の低減)に優れた電磁波シールド層を提供できる。特に高周波(例えば、100MHzから50GHz)の信号を伝送する配線回路基板に接合する電磁波シールド層において、優れた伝送特性等を実現できる。 By using an electromagnetic shielding layer in which a connecting layer is formed with communicating pores originating from the communicating pores, outgas generated during high-temperature processing can escape to the outside through the communicating pores. As a result, peeling at the interface between the electromagnetic shielding layer and the adherend and swelling due to gas retention can be effectively prevented. In addition, oxidation of the metal layer due to retention of generated water vapor and other gas components can be prevented. Furthermore, since the water vapor generated by providing the communication gap can be discharged to the outside, it is possible to effectively prevent problems such as short circuits caused by water and other foreign substances originating from the water vapor remaining. Furthermore, poor bonding between the layers of the electromagnetic shielding layer made of a laminate, such as interfacial peeling between the metal layer and the bonding layer, can be effectively prevented. As a result, a high-quality electromagnetic shielding sheet and printed wiring board with excellent shielding properties can be provided. That is, it is possible to provide a printed wiring board with improved solder reflow resistance and excellent shielding characteristics with high reliability. In addition, dielectric loss can be reduced by providing holes with a low dielectric constant in the bonding layer located closest to the signal wiring, making it possible to create an electromagnetic shielding layer with excellent transmission characteristics (particularly in reducing transmission loss in the high frequency range). Can be provided. In particular, excellent transmission characteristics can be achieved in an electromagnetic shielding layer bonded to a printed circuit board that transmits high-frequency signals (for example, 100 MHz to 50 GHz).

従来より、プリント配線板の製造歩留まりを高める技術が求められている。プリント配線板の製造工程において、通常、電磁波シールドシートは配線回路基板に仮貼付され、接合処理により形成される。ここで仮貼付位置が本来意図した位置ではない場合、再剥離できればプリント配線板の製造歩留まりを高めることができる。しかし、再剥離すると、配線回路基板側に接着剤層に由来する糊残りが生じ、糊残りが多いことによってリワークできない場合がある。また、被着体によっては、各種基板の薄膜化に伴い、電磁波シールドシートの再剥離によって基板自体が損傷しやすい場合がある。 2. Description of the Related Art There has been a demand for technology that increases the manufacturing yield of printed wiring boards. In the manufacturing process of printed wiring boards, an electromagnetic shielding sheet is usually temporarily attached to a printed circuit board and formed by a bonding process. If the temporary attachment position is not the originally intended position, the production yield of printed wiring boards can be increased if the adhesive can be peeled off again. However, when the printed circuit board is peeled off again, adhesive residue originating from the adhesive layer is generated on the printed circuit board side, and rework may not be possible due to the large amount of adhesive residue. Further, depending on the adherend, as various substrates become thinner, the substrate itself may be easily damaged by re-peeling off the electromagnetic shielding sheet.

第1実施形態に係る電磁波シールドシートによれば、連通空隙部を設けることにより、配線回路基板との仮貼付の接触面積を減少させているので、仮貼付時の被着体と電磁波シールドシートとの接着力を弱めることができる。その結果、リワーク性を高めることが可能となり、製造歩留まりを顕著に高められる。 According to the electromagnetic shielding sheet according to the first embodiment, by providing the communication gap, the contact area during temporary attachment with the printed circuit board is reduced, so that the electromagnetic shielding sheet and the adherend during temporary attachment are reduced. can weaken the adhesive strength of As a result, it becomes possible to improve reworkability, and the manufacturing yield can be significantly increased.

以下、電磁波シールドシートの各部材について詳述する。
<接着剤層>
接着剤層1は、前述したように、図2のX方向、Y方向に延在され、それぞれ対向する側面7まで延在される、連通空隙部4が複数設けられている。連通空隙部4は、後述する変形例・実施形態に示すように様々な形態をとることができる。第1実施形態の連通空隙部4のように溝状とする他、後述する実施形態のようにスリット、細孔としてもよい。また、溝、スリットおよび細孔を任意に組み合わせた開口部であってもよい。製造コストの観点からは、連通空隙部の形状は、溝または/およびスリットとすることが好ましい。連通空隙部は1種または複数種を組み合わせることができる。
Each member of the electromagnetic shielding sheet will be described in detail below.
<Adhesive layer>
As described above, the adhesive layer 1 is provided with a plurality of communicating voids 4 extending in the X and Y directions of FIG. 2 and extending to the opposing side surfaces 7, respectively. The communication gap 4 can take various forms as shown in modified examples and embodiments to be described later. In addition to being groove-shaped like the communicating void 4 of the first embodiment, it may also be a slit or a pore like the embodiment described later. Alternatively, the opening may be any combination of grooves, slits, and pores. From the viewpoint of manufacturing cost, it is preferable that the shape of the communicating gap is a groove and/or a slit. One or more types of communicating voids can be used in combination.

接着剤層の側面から見た開口部の形状は、図1のように矩形状とする他、任意の形状を選定できる。例えば、円形、楕円、多角形が例示できる。また、不定形であってもよい。これらのうちでも、三角形、矩形、台形等の多角形が好適である。また、延在方向は、任意の一方向とする他、枝状、屈曲状、ランダムおよびこれらの組み合わせを例示できる。 The shape of the opening seen from the side of the adhesive layer may be rectangular as shown in FIG. 1, or any other shape may be selected. For example, a circle, an ellipse, and a polygon can be used. Moreover, it may be amorphous. Among these, polygons such as triangles, rectangles, and trapezoids are preferred. Further, the extending direction may be any one direction, and may also be branched, bent, random, or a combination thereof.

電磁波シールドシートの接合方法によって好適な連通空隙部のサイズは変わり得る。熱圧着により電磁波シールドシートを被着体に接合する場合、連通空隙孔8を容易に形成する観点からは、接着剤層1のうち、20~85体積%を連通空隙部4とすることが好ましい。この割合は、35体積%以上であることがより好ましく、40体積%以上であることが更に好ましい。 The preferred size of the communicating gap may vary depending on the method of joining the electromagnetic shielding sheet. When bonding the electromagnetic shielding sheet to the adherend by thermocompression bonding, from the viewpoint of easily forming the communicating voids 8, it is preferable that the communicating voids 4 account for 20 to 85% by volume of the adhesive layer 1. . This proportion is more preferably 35% by volume or more, and even more preferably 40% by volume or more.

接着剤層1の隣接する島部同士の間隙W1、W2(図2参照)、即ち、連通空隙部の短径W1、W2は上述したように限定されないが、熱圧着する場合の好適範囲として、それぞれ独立に100~1500μmを例示できる。より好適には150~900μm、更に好適には200~600μm、特に好適には250~300μmである。延在方向に短径は同一であることは必須ではなく、任意の幅とすることができる。 The gaps W1, W2 (see FIG. 2) between adjacent island portions of the adhesive layer 1, that is, the short diameters W1, W2 of the communicating gap portions are not limited as described above, but as a suitable range for thermocompression bonding, An example of each independently is 100 to 1500 μm. The thickness is more preferably 150 to 900 μm, even more preferably 200 to 600 μm, particularly preferably 250 to 300 μm. It is not essential that the short diameter be the same in the extending direction, and it can be any width.

接着剤層1の島部の図2中のX方向、Y方向の長さは上述したように限定されないが、熱圧着する場合の好適範囲として、それぞれ独立に100~1250μmが例示できる。係る長さは、それぞれ独立に、150~870μmであることがより好ましく、200~600μmであることが更に好ましく、230~290μmであることが特に好ましい。島部の面積は、10,000~1,600,000μmであることが好ましく、30,000~800,000μmであることがより好ましく、40,000~400,000μmであることが更に好ましい。島部の面積を10,000~1600,000μmとすることにより、リワーク性をより効果的に高めることができる。 Although the lengths of the island portions of the adhesive layer 1 in the X direction and Y direction in FIG. 2 are not limited as described above, a suitable range for thermocompression bonding can be independently exemplified as 100 to 1250 μm. Such lengths are each independently more preferably from 150 to 870 μm, even more preferably from 200 to 600 μm, particularly preferably from 230 to 290 μm. The area of the island portion is preferably 10,000 to 1,600,000 μm 2 , more preferably 30,000 to 800,000 μm 2 , and even more preferably 40,000 to 400,000 μm 2 preferable. By setting the area of the island portion to 10,000 to 1,600,000 μm 2 , reworkability can be improved more effectively.

接着剤層1は、バインダー樹脂を含有する接着剤組成物から形成された層であり、非導電性接着剤層であっても、導電性接着剤層であってもよい。高周波領域の伝送特性をより優れたものとする観点からは、導電性接着剤層であることが好ましい。なお、ここでいう導電性接着剤層とは、被着体に接合した後に導電性を示していればよく、接着剤層1の段階では導電性を示していなくてもよい。 The adhesive layer 1 is a layer formed from an adhesive composition containing a binder resin, and may be a non-conductive adhesive layer or a conductive adhesive layer. From the viewpoint of improving transmission characteristics in a high frequency region, a conductive adhesive layer is preferable. Note that the conductive adhesive layer referred to here only needs to exhibit conductivity after being bonded to an adherend, and does not need to exhibit conductivity at the stage of adhesive layer 1.

バインダー樹脂は、少なくとも熱軟化性樹脂を含む。熱軟化性樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂および活性光線硬化性樹脂が例示できる。熱硬化性樹脂および活性光線硬化性樹脂は、通常、反応性官能基を有する。熱硬化性樹脂を用いる場合は、硬化性化合物や熱硬化助剤を併用できる。また、活性光線硬化性樹脂を用いる場合は光重合開始剤、増感剤等を併用できる。製造工程の簡便性からは、熱圧着時に硬化する熱硬化タイプが好ましい。
また、自己架橋性樹脂や互いに架橋する複数の樹脂を用いてもよい。また、これらの樹脂に加えて熱可塑性樹脂を混合させてもよい。樹脂および硬化性化合物等の配合成分は、それぞれ独立に単独でまたは複数を併用できる。
なお、接着剤層1の段階で架橋が一部形成されてBステージ(半硬化した状態)となっていてもよい。例えば、熱硬化性樹脂と硬化性化合物の一部が反応して半硬化した状態であってもよい。
The binder resin includes at least a thermosoftening resin. Examples of thermoplastic resins include thermoplastic resins, thermosetting resins, and actinic light-curable resins. Thermosetting resins and actinic light-curable resins usually have reactive functional groups. When using a thermosetting resin, a curable compound and a thermosetting aid can be used together. Further, when using an actinic light-curable resin, a photopolymerization initiator, a sensitizer, etc. can be used in combination. In view of the simplicity of the manufacturing process, a thermosetting type that hardens during thermocompression bonding is preferred.
Further, a self-crosslinking resin or a plurality of resins that crosslink with each other may be used. Moreover, in addition to these resins, a thermoplastic resin may be mixed. The blending components such as resin and curable compound can be used individually or in combination.
Note that some crosslinking may be formed at the adhesive layer 1 stage, resulting in a B stage (semi-cured state). For example, a part of the thermosetting resin and the curable compound may react and be in a semi-cured state.

バインダー樹脂の重量平均分子量Mwは特に限定されないが、ハンダリフロー耐性の観点から10,000~500,000であることが好ましい。Mwは30,000以上であることがより好ましく、50,000以上であることが更に好ましい。 The weight average molecular weight Mw of the binder resin is not particularly limited, but is preferably from 10,000 to 500,000 from the viewpoint of solder reflow resistance. Mw is more preferably 30,000 or more, and even more preferably 50,000 or more.

熱軟化性樹脂の好適な例は、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレンエラストマー樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネートイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン、ポリエステルアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテル樹脂、スチレンエラストマー、ブタジエンゴム、ポリイソプレン、セルロース、ポリエーテルエステル樹脂、マレイン酸樹脂、オキセタン樹脂、フェノール系樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂および液晶ポリマーが挙げられる。これらの中でも、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレンエラストマー樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂が好ましい。熱軟化性樹脂は、1種単独または任意の比率で2種以上を混合して用いることができる。
また、伝送損失を抑制する観点から、バインダー樹脂が低誘電率、低誘電正接の材料であることが好ましく、特性インピーダンスの観点から低誘電率の材料が好ましい。好適な例として、液晶ポリマーやフッ素系樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂は、単独または2種類以上併用できる。
Suitable examples of thermoplastic resins include polyurethane resins, polycarbonate resins, styrene elastomer resins, phenoxy resins, polyurethane urea resins, polyimide resins, polyamide resins, polycarbonate imide resins, polyamideimide resins, epoxy resins, epoxy ester resins, Acrylic resin, polyester resin, polystyrene, polyesteramide resin, acrylic resin, polyether resin, styrene elastomer, butadiene rubber, polyisoprene, cellulose, polyether ester resin, maleic acid resin, oxetane resin, phenolic resin, alkyd resin, Examples include amino resins, polylactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, fluororesins, and liquid crystal polymers. Among these, polyurethane resins, polycarbonate resins, styrene elastomer resins, phenoxy resins, polyamide resins, and polyimide resins are preferred. The thermosoftening resin can be used alone or in a mixture of two or more in any ratio.
Further, from the viewpoint of suppressing transmission loss, it is preferable that the binder resin is a material with a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and from the viewpoint of characteristic impedance, a material with a low dielectric constant is preferable. Suitable examples include liquid crystal polymers and fluororesins. The binder resin can be used alone or in combination of two or more.

また、バインダー樹脂として導電性ポリマーを用いてもよい。導電性ポリマーとしては、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリンが例示できる。 Further, a conductive polymer may be used as the binder resin. Examples of the conductive polymer include polyethylene dioxythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyaniline.

リフロー時における過酷な条件で使用する場合には、熱硬化性樹脂を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂は、加熱によって架橋反応し得る官能基を有している。官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、シラノール基が例示できる。 When used under severe conditions during reflow, it is preferable to include a thermosetting resin. The thermosetting resin has a functional group that can undergo a crosslinking reaction when heated. Examples of the functional group include a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazoline group, an oxazine group, an aziridine group, a thiol group, an isocyanate group, a blocked isocyanate group, and a silanol group.

硬化性化合物は、熱硬化性樹脂の反応性官能基と架橋可能な官能基を有している。硬化性化合物は、エポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イソシアネート化合物、ポリカルボジイミド化合物、アジリジン化合物、ジシアンジアミド化合物、芳香族ジアミン化合物等のアミン化合物、フェノールノボラック樹脂等のフェノール化合物、有機金属化合物等が好ましい。これらのうちでも、エポキシ化合物を含むことがより好ましい。また、硬化性化合物としてエポキシ化合物とアジリジン化合物を併用する組み合わせも好適である。硬化性化合物は、樹脂であってもよい。この場合、熱硬化性樹脂と硬化性化合物の区別は、含有量の多い方を熱硬化性樹脂とし、含有量の少ない方を硬化性化合物として区別する。 The curable compound has a functional group that can crosslink with the reactive functional group of the thermosetting resin. Curable compounds include epoxy compounds, acid anhydride group-containing compounds, isocyanate compounds, polycarbodiimide compounds, aziridine compounds, dicyandiamide compounds, amine compounds such as aromatic diamine compounds, phenolic compounds such as phenol novolac resins, organometallic compounds, etc. preferable. Among these, it is more preferable to include an epoxy compound. Further, a combination in which an epoxy compound and an aziridine compound are used together as the curable compound is also suitable. The curable compound may be a resin. In this case, the thermosetting resin and the curable compound are distinguished as the thermosetting resin having a higher content and the curable compound having a lower content.

硬化性化合物は、熱硬化性樹脂100質量部に対して1~50質量部含むことが好ましく、3~40質量部がより好ましく、3~30質量部が更に好ましい。硬化性化合物は、1種単独でまたは複数種を併用して用いることができる。 The curable compound is preferably contained in 1 to 50 parts by weight, more preferably 3 to 40 parts by weight, and even more preferably 3 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermosetting resin. The curable compounds can be used alone or in combination.

導電性接着剤層は、導電性フィラーを含有させた接着剤組成物を用いることにより容易に形成できる。導電性フィラーは、金属フィラー、導電性セラミックス粒子、導電性ポリマーおよびこれらの混合物が例示できる。金属フィラーは、金、銀、銅、ニッケル等の金属粉、ハンダ等の合金粉、銀コート銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、金コートニッケル粉のコアシェル型粒子が例示できる。優れた導電特性を得る観点から、銀を含有する導電性フィラーが好ましい。コストの観点からは、銅粉を銀で被覆した銀コート銅粉が特に好ましい。導電性ポリマーは、ポリアニリン、ポリアセチレン等が挙げられる。 The conductive adhesive layer can be easily formed by using an adhesive composition containing a conductive filler. Examples of the conductive filler include metal fillers, conductive ceramic particles, conductive polymers, and mixtures thereof. Examples of the metal filler include metal powders such as gold, silver, copper, and nickel, alloy powders such as solder, core-shell type particles such as silver-coated copper powder, gold-coated copper powder, silver-coated nickel powder, and gold-coated nickel powder. From the viewpoint of obtaining excellent conductive properties, a conductive filler containing silver is preferred. From the viewpoint of cost, silver-coated copper powder, which is copper powder coated with silver, is particularly preferred. Examples of the conductive polymer include polyaniline and polyacetylene.

また、導電性フィラーとして、電磁波吸収フィラーを用いてもよい。例えば、鉄、Fe-Ni合金、Fe-Co合金、Fe-Cr合金、Fe-Si合金、Fe-Al合金、Fe-Cr-Si合金、Fe-Cr-Al合金、Fe-Si-Al合金等の鉄合金、Mg-Znフェライト、Mn-Znフェライト、Mn-Mgフェライト、Cu-Znフェライト、Mg-Mn-Srフェライト、Ni-Znフェライト等のフェライト系物質並びに、カーボンフィラーなどが挙げられる。カーボンフィラーは、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ファーネスブラック、カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノナノチューブからなる粒子、グラフェン粒子、グラファイト粒子およびカーボンナノウォールが例示できる。導電性フィラーは、単独または2種類以上を併用できる。 Furthermore, an electromagnetic wave absorbing filler may be used as the conductive filler. For example, iron, Fe-Ni alloy, Fe-Co alloy, Fe-Cr alloy, Fe-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Cr-Si alloy, Fe-Cr-Al alloy, Fe-Si-Al alloy, etc. Examples include iron alloys such as Mg--Zn ferrite, Mn--Zn ferrite, Mn--Mg ferrite, Cu--Zn ferrite, Mg--Mn--Sr ferrite, Ni--Zn ferrite, and other ferrite-based materials, as well as carbon fillers. Examples of the carbon filler include acetylene black, Ketjen black, furnace black, carbon black, carbon fiber, particles made of carbon nanotubes, graphene particles, graphite particles, and carbon nanowalls. The conductive filler can be used alone or in combination of two or more types.

導電性フィラーの形状は、所望の導電性が得られればよく形状は限定されない。例えば、球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、棒状、ブドウ状が挙げられる。単一形状のフィラーを用いる他、異なる形状の導電性フィラーを併用してもよい。 The shape of the conductive filler is not limited as long as desired conductivity can be obtained. Examples include spherical, flake-like, leaf-like, dendritic, plate-like, needle-like, rod-like, and grape-like shapes. In addition to using a filler of a single shape, conductive fillers of different shapes may be used in combination.

導電性フィラーのD50平均粒子径は、導電性を充分に確保する観点から2μm以上が好ましく、5μm以上がより好ましく、7μm以上とすることが更に好ましい。一方、導電接着剤層の薄さと両立させる観点からは、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、15μm以下とすることが更に好ましい。D50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置等により求めることができる。 The D50 average particle diameter of the conductive filler is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, and even more preferably 7 μm or more from the viewpoint of ensuring sufficient conductivity. On the other hand, from the viewpoint of making the conductive adhesive layer thinner, the thickness is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 15 μm or less. The D50 average particle diameter can be determined using a laser diffraction/scattering method particle size distribution analyzer or the like.

導電性フィラーは、接着剤層のうちの連通空隙部等の空隙部を除く領域、即ち、接着剤が存在する領域において、導電性フィラーの含有率が10~90質量%であることが好ましく、15~70質量%がより好ましく、20~50質量%がさらに好ましい。10質量%以上とすることで接着剤層と後述するプリント配線板におけるグランド配線との導電接続が良好となり、高周波シールド性が向上する。一方、90質量%以下とすることでハンダリフロー耐性、伝送特性が向上する。 The content of the conductive filler is preferably 10 to 90% by mass in the adhesive layer excluding voids such as communicating voids, that is, in the region where the adhesive is present. It is more preferably 15 to 70% by weight, even more preferably 20 to 50% by weight. When the content is 10% by mass or more, the conductive connection between the adhesive layer and the ground wiring on the printed wiring board described later becomes good, and high frequency shielding properties are improved. On the other hand, when the content is 90% by mass or less, solder reflow resistance and transmission characteristics are improved.

導電性接着剤層は、等方導電接着剤層または異方導電接着剤層とすることができる。等方導電接着剤層は、等方的に導電性を有する層であり、異方導電接着剤層は、異方的に導電性を有する層であり、通常、電磁波シールドシートの厚み方向に導電性を有する層をいう。コストダウンの観点からは、異方導電接着剤層が好ましい。 The conductive adhesive layer can be an isotropic conductive adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer. An isotropically conductive adhesive layer is a layer that is isotropically conductive, and an anisotropically conductive adhesive layer is an anisotropically conductive layer that is generally conductive in the thickness direction of the electromagnetic shielding sheet. This refers to the layer that has gender. From the viewpoint of cost reduction, an anisotropic conductive adhesive layer is preferable.

接着剤組成物は、所望の物性向上や機能付与を目的として、他に任意成分としてシランカップリング剤、防錆剤、還元剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤などを配合できる。例えば、炭素粒子は接着剤層の粘弾性調整を目的として添加することができる。炭素粒子は、カーボンブラック、ケッチェンブラック、アセチレンブラック、カーボンナノチューブ、グラフェン等が挙げられる。 For the purpose of improving desired physical properties and imparting functions, the adhesive composition contains optional ingredients such as a silane coupling agent, a rust preventive agent, a reducing agent, an antioxidant, a pigment, a dye, a tackifying resin, a plasticizer, and ultraviolet rays. Absorbents, antifoaming agents, leveling agents, fillers, flame retardants, etc. can be added. For example, carbon particles can be added for the purpose of adjusting the viscoelasticity of the adhesive layer. Examples of the carbon particles include carbon black, Ketjen black, acetylene black, carbon nanotubes, and graphene.

接着剤組成物は、配合成分を混合し攪拌して得ることができる。攪拌は、例えばディスパーマット、ホモジナイザー等、公知の攪拌装置を使用できる。 The adhesive composition can be obtained by mixing and stirring the ingredients. For stirring, a known stirring device such as a dispermat or a homogenizer can be used.

接着剤層の作製は、公知の方法を使用できる。例えば、接着剤組成物を剥離性シート上に塗工して乾燥することで接着剤層を形成する方法、または、Tダイのような押出成形機を使用して接着剤組成物をシート状に押し出すことで形成することもできる。 A known method can be used to prepare the adhesive layer. For example, an adhesive layer may be formed by coating an adhesive composition on a releasable sheet and drying, or an extrusion molding machine such as a T-die may be used to form an adhesive composition into a sheet. It can also be formed by extrusion.

塗工方法は、例えば、グラビアコート方式、キスコート方式、ダイコート方式、リップコート方式、コンマコート方式、ブレード方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、スプレーコート方式、バーコート方式、スピンコート方式、ディップコート方式等の公知の塗工方法を使用できる。塗工に際して、乾燥工程を行うことが好ましい。乾燥工程は、例えば、熱風乾燥機、赤外線ヒーター等の公知の乾燥装置を使用できる。 Coating methods include, for example, gravure coating, kiss coating, die coating, lip coating, comma coating, blade coating, roll coating, knife coating, spray coating, bar coating, spin coating, and dip coating. A known coating method such as a coating method can be used. It is preferable to perform a drying step during coating. In the drying step, for example, a known drying device such as a hot air dryer or an infrared heater can be used.

接着剤層の厚みは用途により適宜設定できるが、例えば2~30μm程度とすることができる。3~15μmが好ましく、4~9μmがより好ましい。厚みが2~30μmの範囲にあることでハンダリフロー耐性を向上させることができる。 The thickness of the adhesive layer can be set appropriately depending on the application, and can be, for example, about 2 to 30 μm. The thickness is preferably 3 to 15 μm, more preferably 4 to 9 μm. When the thickness is in the range of 2 to 30 μm, solder reflow resistance can be improved.

<金属層>
金属層2は、接着剤層1と保護層3に挟持された層であり、例えば、金属箔、金属蒸着膜、金属スパッタ膜、金属メッキ膜により形成されてなる。
金属の種類は、例えばアルミニウム、銅、銀、金等の導電性金属が好ましく、一種類の金属、もしくは複数金属の合金のいずれも使用することができる。高周波シールド性およびコストの面から銅、銀、アルミニウムがより好ましく、銅が更に好ましい。金属箔の好適例として、例えば、圧延銅箔または電解銅箔が例示できる。金属層2の一面あるいは両面に、他の金属あるいは防錆剤等の有機物で被覆してもよい。
<Metal layer>
The metal layer 2 is a layer sandwiched between the adhesive layer 1 and the protective layer 3, and is formed of, for example, metal foil, a metal vapor deposited film, a metal sputtered film, or a metal plating film.
The type of metal is preferably a conductive metal such as aluminum, copper, silver, or gold, and either one type of metal or an alloy of multiple metals can be used. Copper, silver, and aluminum are more preferred in terms of high frequency shielding properties and cost, and copper is even more preferred. Suitable examples of the metal foil include, for example, rolled copper foil and electrolytic copper foil. One or both surfaces of the metal layer 2 may be coated with another metal or an organic substance such as a rust preventive.

金属層の厚みは特に限定されず、用途に応じて適宜選定する。フレキシブル性が要求される場合には、電磁波シールド特性を考慮すると、0.3~10μm程度とすることが好ましい。金属層の厚みを0.3μm以上とすることで、配線回路基板から発生する電磁波ノイズの波長に対し、透過を抑制することができ、十分な高周波シールド性を発現することができる。金属層の厚みは0.5μm以上であることがより好ましい。 The thickness of the metal layer is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the application. When flexibility is required, the thickness is preferably about 0.3 to 10 μm in consideration of electromagnetic shielding properties. By setting the thickness of the metal layer to 0.3 μm or more, transmission of the wavelength of electromagnetic noise generated from the printed circuit board can be suppressed, and sufficient high frequency shielding properties can be exhibited. More preferably, the thickness of the metal layer is 0.5 μm or more.

電磁波シールド層が形成されたプリント配線板において、配線回路基板に形成された信号配線に流れる伝送信号が高周波になると、金属層2に電流が流れるようになる。配線回路基板中の信号配線における伝送特性は、近傍の導電体を流れる電流の影響を受けるため、信号配線と近接する金属層2の表面の凹凸が険しいと、金属表面を流れる電流との距離が変動し、伝送特性が不安定となる。このため、高周波領域の伝送特性を優れたものとする観点からは、金属層2の接着剤層1と接する面の算術平均高さSaを0.01~2.5μmとすることが好ましい。算術平均高さSaは1.25μm以下がより好ましく、0.5μm以下が更に好ましい。また、リワーク性を高める観点からは、金属層2の接着剤層1と接する面の二乗平均平方根傾斜Sdqが0.0001~1.5であることが好ましく、0.7以下であることがより好ましく、0.3以下であることが更に好ましい。接着剤層側の金属層表面の二乗平均平方根傾斜Sdqを0.0001~1.5の範囲とすることにより、金属層表面に形成された凹凸の角度を適度に鋭角にすることができ、接着剤層の金属層に対する食いつきが良好となる。その結果、金属層と接着剤層間の密着力をより高めることができるので、仮貼付段階の接着剤層を被着体から剥離したときの被着体の糊残りを少なくすることができる。なお、算術平均高さSaおよび二乗平均平方根傾斜Sdqは、後述する実施例により求められる値をいう。 In the printed wiring board on which the electromagnetic shielding layer is formed, when the transmission signal flowing through the signal wiring formed on the printed circuit board becomes a high frequency, a current starts to flow through the metal layer 2. The transmission characteristics of signal wiring in a printed circuit board are affected by the current flowing through nearby conductors, so if the surface of the metal layer 2 adjacent to the signal wiring is rough, the distance between the current flowing through the metal surface and This causes the transmission characteristics to become unstable. Therefore, from the viewpoint of improving the transmission characteristics in the high frequency range, it is preferable that the arithmetic mean height Sa of the surface of the metal layer 2 in contact with the adhesive layer 1 is 0.01 to 2.5 μm. The arithmetic mean height Sa is more preferably 1.25 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less. Furthermore, from the viewpoint of improving reworkability, the root mean square slope Sdq of the surface of the metal layer 2 in contact with the adhesive layer 1 is preferably 0.0001 to 1.5, and more preferably 0.7 or less. It is preferably 0.3 or less, and more preferably 0.3 or less. By setting the root mean square slope Sdq of the surface of the metal layer on the adhesive layer side in the range of 0.0001 to 1.5, the angle of the unevenness formed on the surface of the metal layer can be made appropriately acute, and the adhesive The adhesion of the agent layer to the metal layer is improved. As a result, the adhesion between the metal layer and the adhesive layer can be further increased, so that when the adhesive layer at the temporary attachment stage is peeled off from the adherend, it is possible to reduce the amount of adhesive left on the adherend. Note that the arithmetic mean height Sa and the root mean square slope Sdq refer to values determined by an example described later.

ここで算術平均高さSaは、ISO 25178-2:2012規格にて規定され、線の算術平均高さ(Ra)を面に拡張したパラメータであり、測定対象となる表面の平均面に対して、各点の高さの絶対値の平均により算出される値である。
また、二乗平均平方根傾斜Sdqは、同じくISO 25178-2:2012規格にて規定され、基準長さにおいて、局部傾斜dz/dxの二乗平均平方根であり、以下の数式(1)によって表される。Aは定義表面の面積、∂xはx軸方向、∂yはy軸方向、∂z(x,y)はz軸方向の微小変位を表す。

Figure 0007452230000001
Sdqは、触針式表面粗さ測定機などを用いた接触式表面粗さ測定、あるいは、レーザー顕微鏡などを用いた非接触式表面粗さ測定から得られた表面形状データを、適宜解析ソフトによって処理することにより算出することができる。Sdqは、表面における凹凸の険しさを表現するパラメータである。Sdqの数値が大きい程、表面凹凸はより険しくなる。即ち、Sdqの数値によって、表面凹凸険しさの程度を判断することができる。 Here, the arithmetic mean height Sa is defined in the ISO 25178-2:2012 standard, and is a parameter that extends the arithmetic mean height (Ra) of a line to a surface, and is , is a value calculated by averaging the absolute values of the heights of each point.
The root mean square slope Sdq is also defined in the ISO 25178-2:2012 standard, is the root mean square of the local slope dz/dx at the reference length, and is expressed by the following equation (1). A is the area of the defined surface, ∂x is the x-axis direction, ∂y is the y-axis direction, and ∂z(x, y) is the minute displacement in the z-axis direction.
Figure 0007452230000001
Sdq uses analysis software to analyze surface shape data obtained from contact surface roughness measurement using a stylus surface roughness measuring device or from non-contact surface roughness measurement using a laser microscope. It can be calculated by processing. Sdq is a parameter expressing the steepness of the unevenness on the surface. The larger the value of Sdq, the steeper the surface unevenness. That is, the degree of roughness of the surface unevenness can be determined by the numerical value of Sdq.

なお、この金属層の二乗平均平方根傾斜Sdqの値は、加熱プレス等の電磁波シールド層の形成工程により実質的に変化しない。そのため、電磁波シールド層における接合層と接する側の金属層の界面の算術平均高さSaの好適範囲は0.01~2.5μmであり、二乗平均平方根傾斜Sdqの好適範囲は0.0001~1.5である。 Note that the value of the root mean square slope Sdq of this metal layer does not substantially change due to the formation process of the electromagnetic shielding layer, such as hot pressing. Therefore, the preferred range of the arithmetic mean height Sa of the interface of the metal layer in contact with the bonding layer in the electromagnetic shielding layer is 0.01 to 2.5 μm, and the preferred range of the root mean square slope Sdq is 0.0001 to 1. It is .5.

金属層表面の算術平均高さSaおよび二乗平均平方根傾斜Sdqを制御する方法は、例えば、銅箔表面上に粗化粒子を付着させ、粗化処理面を形成する方法、特開第2017-13473号公報に記載されているバフを用いて金属表面を研磨する方法、研磨布紙を用いて金属表面を研磨する方法、所望の凹凸を有するキャリア材上にめっき等の手法で金属層を形成しキャリア材の凹凸を転写させる方法、圧縮空気によって研磨材を金属表面に吹き付けるショットブラスト法が挙げられる。 A method for controlling the arithmetic mean height Sa and root mean square slope Sdq of the metal layer surface is, for example, a method of attaching roughening particles on the surface of a copper foil to form a roughened surface, JP 2017-13473A. A method of polishing a metal surface using a buff described in the publication, a method of polishing a metal surface using coated abrasive paper, and a method of forming a metal layer on a carrier material having desired unevenness by a method such as plating. Examples include a method of transferring the unevenness of a carrier material, and a shot blasting method of spraying an abrasive onto a metal surface using compressed air.

金属層は、複数の開孔部を有していてもよい。ここでいう開孔は、金属層の厚み方向に貫通する孔をいう。開孔部の開孔率は特に限定されないが、例えば0.1~20%とすることができる。より好適な範囲は0.3~15%であり、更に好適な範囲は0.5~6.5%である。この開孔率は、以下の式により求めることができる。
(開孔率[%])=(単位面積当たりの開孔部の面積)/(単位面積当たりの開孔部の面積+単位面積当たりの非開孔部の面積)×100
The metal layer may have multiple openings. The opening here refers to a hole that penetrates the metal layer in the thickness direction. The porosity of the openings is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 to 20%. A more preferred range is 0.3 to 15%, and an even more preferred range is 0.5 to 6.5%. This porosity can be determined by the following formula.
(Open area ratio [%]) = (Area of open areas per unit area) / (Area of open areas per unit area + Area of non-open areas per unit area) x 100

<保護層>
保護層3は、金属層2の少なくとも一部を被覆していればよい。シールド性の観点からは金属層の全面が被覆されている構成が好ましい。図1では、金属層2の直上に積層する例を挙げているが、金属層2と保護層3の間に他の層を積層してもよい。保護層3は、バインダー樹脂を含有する樹脂または樹脂組成物から形成された層であり、絶縁性を有する。樹脂組成物は、従来公知の樹脂組成物を使用して形成できる。好適例として、接着剤層を形成する接着剤組成物で説明したバインダー樹脂(熱可塑性樹脂、活性光線硬化性樹脂および熱硬化性樹脂)が例示できる。保護層は、単層でも2層以上の積層体でもよい。バインダー樹脂として熱硬化性樹脂等を用いる場合、保護層の製造ステージによって架橋構造等が異なるものとなるが、本明細書では、これらを区別せず保護層というものとする。
<Protective layer>
The protective layer 3 only needs to cover at least a portion of the metal layer 2 . From the viewpoint of shielding properties, a configuration in which the entire surface of the metal layer is covered is preferable. Although FIG. 1 shows an example in which the metal layer 2 is laminated directly above the metal layer 2, other layers may be laminated between the metal layer 2 and the protective layer 3. The protective layer 3 is a layer formed from a resin or a resin composition containing a binder resin, and has insulation properties. The resin composition can be formed using a conventionally known resin composition. Suitable examples include the binder resins (thermoplastic resins, actinic radiation-curable resins, and thermosetting resins) described in the adhesive composition forming the adhesive layer. The protective layer may be a single layer or a laminate of two or more layers. When a thermosetting resin or the like is used as the binder resin, the crosslinked structure etc. differ depending on the manufacturing stage of the protective layer, but in this specification, these will not be distinguished and will be referred to as the protective layer.

バインダー樹脂の重量平均分子量(熱硬化性樹脂、活性光線硬化性樹脂の場合には、硬化までの樹脂の重量平均分子量)は特に限定されないが、10,000~500,000であることが好ましい。30,000以上がより好ましく、50,000以上が更に好適である。熱硬化性樹脂の重量平均分子量が10,000以上であることで、洗浄用薬品曝露時の塗膜の分解や溶解が抑制でき、耐薬品性が向上する。熱硬化性樹脂の重量平均分子量は30,000以上であることがより好ましく、50,000以上であることが更に好ましい。 The weight average molecular weight of the binder resin (in the case of a thermosetting resin or actinic radiation curable resin, the weight average molecular weight of the resin until curing) is not particularly limited, but is preferably from 10,000 to 500,000. More preferably 30,000 or more, and even more preferably 50,000 or more. When the weight average molecular weight of the thermosetting resin is 10,000 or more, decomposition and dissolution of the coating film upon exposure to cleaning chemicals can be suppressed, and chemical resistance is improved. The weight average molecular weight of the thermosetting resin is more preferably 30,000 or more, and even more preferably 50,000 or more.

保護層3は、公知の方法により製造できる。例えば、樹脂組成物を剥離性シート上に塗工して乾燥することで保護層を形成する方法、または、Tダイのような押出成形機を使用して樹脂組成物をシート状に押し出すことで形成することもできる。また、保護層は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等の絶縁性樹脂を成形したフィルムを使用してもよい。 The protective layer 3 can be manufactured by a known method. For example, a protective layer can be formed by coating a resin composition on a removable sheet and drying it, or by extruding the resin composition into a sheet using an extrusion molding machine such as a T-die. It can also be formed. Further, the protective layer may be a film formed from an insulating resin such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, or the like.

硬化性化合物の好適例として、接着剤組成物で例示した化合物が挙げられる。これらのうちでも、エポキシ化合物を含むことがより好ましい。また、エポキシ化合物とアジリジン化合物を併用する組み合わせも好適である。 Suitable examples of the curable compound include the compounds exemplified in the adhesive composition. Among these, it is more preferable to include an epoxy compound. Also suitable is a combination of an epoxy compound and an aziridine compound.

樹脂組成物には、任意成分として非導電性粒子を添加することができる。非導電性粒子を添加することにより、表面粗さ(凹凸)を適切に調整することができる。非導電性粒子としては、タルク、マイカ、クレー、炭酸カルシウム、チタン酸バリウム、カーボンブラック、ガラスビーズ、ガラス中空球、フッ化マグネシウム、二酸化アルミニウム(アルミナ)、二酸化ジルコニウム(ジルコニア)、二酸化ケイ素(シリカ)、炭化ホウ素、窒化アルミ、窒化ホウ素、酸化マグネシウム(マグネシア)、酸化チタン、等のセラミックなどが挙げられる。非導電性微粒子は単独または2種以上を混合して用いてもよい。非導電性微粒子の平均粒子径は特に限定されず、例えば、0.01μm以上10μm以下であり、0.5μm以上3μm以下であってもよい。 Non-conductive particles can be added to the resin composition as an optional component. By adding non-conductive particles, surface roughness (unevenness) can be adjusted appropriately. Non-conductive particles include talc, mica, clay, calcium carbonate, barium titanate, carbon black, glass beads, glass hollow spheres, magnesium fluoride, aluminum dioxide (alumina), zirconium dioxide (zirconia), and silicon dioxide (silica). ), boron carbide, aluminum nitride, boron nitride, magnesium oxide (magnesia), titanium oxide, and other ceramics. The non-conductive fine particles may be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter of the non-conductive fine particles is not particularly limited, and may be, for example, 0.01 μm or more and 10 μm or less, and may be 0.5 μm or more and 3 μm or less.

保護層の厚みは用途に応じて設計し得るが、例えば2~20μmとすることができる。保護層の厚みが2~20μmであることで、洗浄薬品曝露後の保護層溶解や金属層からの剥離を抑制することができる。保護層は、ハードコート性、水蒸気バリア性、酸素バリア性、熱伝導性、低誘電率、高誘電率性または耐熱性のいずれかまたは組み合わせた機能を備えていてもよい。 The thickness of the protective layer can be designed depending on the application, and can be, for example, 2 to 20 μm. When the thickness of the protective layer is 2 to 20 μm, dissolution of the protective layer and peeling from the metal layer after exposure to cleaning chemicals can be suppressed. The protective layer may have any one or a combination of hard coat properties, water vapor barrier properties, oxygen barrier properties, thermal conductivity, low dielectric constant properties, high dielectric constant properties, and heat resistance.

[電磁波シールドシートおよびプリント配線板の製造方法]
電磁波シールドシートおよびプリント配線板の製造方法の一例について以下に説明する。但し、本発明の製造方法は以下の製造方法に限定されない。
まず、剥離性シート上にプレ接着剤層を形成し、キャリア材を有する金属箔とプレ接着剤層を重ねてラミネートした後にキャリア材を剥がす。そして、キャリア材を剥がした面と、別途剥離性シート上に形成した保護層とを重ねてラミネートすることによりプレ積層体を得る。その後、プレ接着剤層に対して連通空隙部を形成する位置にレーザー光を照射して、アブレーションにより連通空隙部を形成する。レーザー光の種類としては、YAGレーザー、炭酸ガスレーザ、エキシマーレーザが例示できるが、これらに限定されない。レーザー光を照射した後、必要に応じてデスミア処理を行う。また、ドリル等の機械的切削により形成してもよい。また、プラズマ処理、ナノインプリント、エンボス加工、印刷等により連通空隙部を形成してもよい。
[Manufacturing method of electromagnetic shielding sheet and printed wiring board]
An example of a method for manufacturing an electromagnetic shielding sheet and a printed wiring board will be described below. However, the manufacturing method of the present invention is not limited to the following manufacturing method.
First, a pre-adhesive layer is formed on a releasable sheet, and the metal foil having a carrier material and the pre-adhesive layer are laminated and then the carrier material is peeled off. Then, a pre-laminated body is obtained by laminating the surface from which the carrier material has been peeled off and a protective layer separately formed on a releasable sheet. Thereafter, a laser beam is irradiated onto the pre-adhesive layer at a position where a communicating gap is to be formed, and a communicating gap is formed by ablation. Examples of types of laser light include, but are not limited to, YAG laser, carbon dioxide laser, and excimer laser. After irradiating with laser light, desmear treatment is performed as necessary. Alternatively, it may be formed by mechanical cutting using a drill or the like. Further, the communicating void portion may be formed by plasma treatment, nanoimprinting, embossing, printing, or the like.

上記方法は一例であり、金属層上にスクリーン印刷等により連通空隙部が形成されるようにパターンを有する接着剤層を得てもよい。また、フォトリソグラフィー法によりパターンを有する接着剤層を得てもよい。 The above method is an example, and an adhesive layer having a pattern such that communicating voids are formed on the metal layer may be obtained by screen printing or the like. Alternatively, a patterned adhesive layer may be obtained by photolithography.

プリント配線板は、上記のようにして得られた電磁波シールドシートをカバーコート層上に載置して接合処理することにより得られる。接合処理によって、電磁波シールドシートの連通空隙部に由来する連通空隙孔が形成された電磁波シールド層を有するプリント配線板が得られる。 The printed wiring board is obtained by placing the electromagnetic shielding sheet obtained as described above on a cover coat layer and subjecting the sheet to a bonding process. By the bonding process, a printed wiring board having an electromagnetic shielding layer in which communicating voids originating from the communicating voids of the electromagnetic shielding sheet are formed is obtained.

<変形例>
上記実施形態では、X方向、Y方向それぞれにおいて、対向する側面まで延在する連通空隙部が形成され、アレイ状に島部が形成された接着剤層を有する電磁波シールドシートの例を挙げたが、連通空隙部の形態はこれに限定されず、種々設計し得る。
変形例1~3に係る電磁波シールドシートは、連通空隙部が第1実施形態と相違するが、その他の基本的な構成は第1実施形態と同様である。なお、以降の例において第1実施形態と重複する記載は適宜省略する。また、同一要素部材は、適宜、同一符号を付し、その説明を省略する。
<Modified example>
In the above embodiment, an example is given of an electromagnetic shielding sheet having an adhesive layer in which communicating voids extending to opposing side surfaces are formed in each of the X direction and the Y direction, and island parts are formed in an array. The form of the communicating gap is not limited to this, and can be designed in various ways.
The electromagnetic shielding sheets according to Modifications 1 to 3 are different from the first embodiment in the communication gap portions, but the other basic configurations are the same as in the first embodiment. Note that in the following examples, descriptions that overlap with those of the first embodiment will be omitted as appropriate. In addition, the same element members will be given the same reference numerals as appropriate, and their explanation will be omitted.

図5は、変形例1に係る電磁波シールドシートを接着剤層側からみた模式的上面図である。同図の電磁波シールドシート10aの接着剤層1aには、Y方向の一側面から対向する他側面まで延在する連通空隙部4aが所定間隔で複数形成されている。連通空隙部4aの短径W1は、位置に応じて変更してもよいし、同一としてもよい。連通空隙部4aの間隔は任意に設定できる。 FIG. 5 is a schematic top view of the electromagnetic shielding sheet according to Modification Example 1, viewed from the adhesive layer side. In the adhesive layer 1a of the electromagnetic shielding sheet 10a shown in the figure, a plurality of communicating voids 4a are formed at predetermined intervals, extending from one side surface in the Y direction to the opposite side surface. The short axis W1 of the communication gap 4a may be changed depending on the position, or may be the same. The interval between the communicating gaps 4a can be set arbitrarily.

図6は、変形例2に係る電磁波シールドシートを接着剤層側からみた模式的上面図である。同図の電磁波シールドシート10bの接着剤層1bには、一側面7s1から内部まで図中のY方向に延在する連通空隙部4bと、一側面7s1と対向する他側面7s2から内部までY方向に延在する連通空隙部4bとが所定間隔で交互に複数形成されている。連通空隙部4bの短径W1は、位置に応じて変更してもよいし、同一としてもよい。連通空隙部4bの間隔は任意とすることができる。
変形例1、2に係る電磁波シールドシートによれば、連通空隙部を任意の一方向とすることにより、ガス蒸散経路を一方向に集約し、被着体との接合面を多く取ることができるというメリットを有する。
FIG. 6 is a schematic top view of the electromagnetic shielding sheet according to Modification Example 2, viewed from the adhesive layer side. The adhesive layer 1b of the electromagnetic shielding sheet 10b in the figure has a communicating gap 4b extending in the Y direction in the figure from one side 7s1 to the inside, and a communicating gap 4b extending in the Y direction from the other side 7s2 opposite to the one side 7s1 to the inside. A plurality of communicating voids 4b are formed alternately at predetermined intervals. The short axis W1 of the communication gap 4b may be changed depending on the position, or may be the same. The interval between the communicating voids 4b can be set arbitrarily.
According to the electromagnetic shielding sheets according to Modifications 1 and 2, by forming the communicating gap in one arbitrary direction, the gas evaporation path can be concentrated in one direction, and a large number of bonding surfaces with the adherend can be obtained. It has the advantage of

被着体に接合された電磁波シールド層において、連通空隙孔の延在する長さは、電磁波シールド層の外径サイズの短手長さの10%以上であることが好ましく、20%以上であることがより好ましく、30%以上であることが更に好ましく、50%以上であることが特に好ましい。なお、延在する長さとは、開口径(短径)の中心を通る長さをいい、直線でも曲線でもよい。 In the electromagnetic shielding layer bonded to the adherend, the extending length of the communicating voids is preferably 10% or more, and preferably 20% or more, of the width of the outside diameter of the electromagnetic shielding layer. is more preferred, still more preferably 30% or more, particularly preferably 50% or more. Note that the extending length refers to the length passing through the center of the opening diameter (breadth diameter), and may be a straight line or a curved line.

図7は、変形例3に係る電磁波シールドシートの模式的側面図である。同図の電磁波シールドシート10cの接着剤層1cには、厚み方向に短径の幅が異なる連通空隙部4cが設けられている。このような連通空隙部4cは、例えば、プレ接着剤層を金属層2に積層した後にレーザー光などを用いて連通空隙部を形成し、次いで2層目のプレ接着剤層を第1の接着剤層上に積層し、その後にレーザー光などを用いて2層目のプレ接着剤層に連通空隙部を設けることにより形成できる。接着剤層を3層以上の積層体としてもよい。また、3Dプリンタにより作製してもよい。変形例3に係る電磁波シールドシートによれば、連通空隙部を確保しつつ、被着体との接合面を多く取りたい用途に好適である。 FIG. 7 is a schematic side view of an electromagnetic shielding sheet according to modification 3. The adhesive layer 1c of the electromagnetic shielding sheet 10c shown in the figure is provided with communication voids 4c having different widths in the short axis in the thickness direction. Such a communicating gap 4c is created by, for example, forming a communicating gap using a laser beam or the like after laminating a pre-adhesive layer on the metal layer 2, and then bonding the second pre-adhesive layer to the first adhesive. It can be formed by laminating the adhesive layer on the adhesive layer and then providing a communicating gap in the second pre-adhesive layer using laser light or the like. The adhesive layer may be a laminate of three or more layers. Alternatively, it may be produced using a 3D printer. The electromagnetic shielding sheet according to Modification 3 is suitable for applications where it is desired to secure a communicating gap and to have a large bonding surface with an adherend.

[第2実施形態]
第2実施形態に係る電磁波シールドシートは、接着剤層の連通空隙部がスリットである点において、連通空隙部が溝である接着剤層を有する電磁波シールドシートを用いた第1実施形態と相違する。但し、特に言及する点を除き、その他の基本的な構成および製造方法は第1実施形態と同様である。
[Second embodiment]
The electromagnetic shielding sheet according to the second embodiment is different from the first embodiment using an electromagnetic shielding sheet having an adhesive layer in which the communicating voids are grooves in that the communicating voids in the adhesive layer are slits. . However, other basic configurations and manufacturing methods are the same as those of the first embodiment except for the points specifically mentioned.

図8に、第2実施形態に係る電磁波シールドシートの要部の一例を示す模式的側面図を示す。同図に示すように、電磁波シールドシート10eは、接着剤層1e、金属層2および保護層3をこの順に備える積層体を有する。接着剤層1eには、その側面7まで延在される連通空隙部4eが複数設けられている。連通空隙部4eは、接着剤層1eの第一主面5から凹部を形成するスリットにより形成されてなり、X方向、Y方向に延在されている。連通空隙部4eによって接着剤層1eは凹部が形成され、この例においては凸部がアレイ状に形成されている。 FIG. 8 is a schematic side view showing an example of a main part of the electromagnetic shielding sheet according to the second embodiment. As shown in the figure, the electromagnetic shielding sheet 10e has a laminate including an adhesive layer 1e, a metal layer 2, and a protective layer 3 in this order. The adhesive layer 1e is provided with a plurality of communicating voids 4e extending to the side surface 7 thereof. The communication gap 4e is formed by a slit forming a recess from the first main surface 5 of the adhesive layer 1e, and extends in the X direction and the Y direction. Concave portions are formed in the adhesive layer 1e by the communicating voids 4e, and in this example, convex portions are formed in an array.

図8の例においては、連通空隙部4eの側面視における形状は台形の例を示しているが、第1実施形態と同様、種々の形状を取り得る。スリットのサイズは、接合処理の方法等に応じて種々設計すればよい。熱圧着処理する場合、連通空隙孔を容易に形成する観点からは、連通空隙部を矩形状とする場合の開口部の短手方向の幅Wの好適範囲は第1実施形態と同様である。台形とする場合の好適範囲は、スリットの上面の長さおよび底面の長さの好適範囲はそれぞれ独立に100~1500μmであり、150~900μmとすることがより好ましく、200~600μmとすることが更に好ましく、250~300μmとすることが特に好ましい。図8のように側面視における連通空隙部の形状の底面部の長さ<上面部の長さとする他、その逆としてもよい。 In the example of FIG. 8, the shape of the communication gap 4e in side view is a trapezoid, but as in the first embodiment, it can take various shapes. The size of the slit may be designed in various ways depending on the bonding method and the like. In the case of thermocompression bonding, from the viewpoint of easily forming a communicating gap, the preferred range of the width W in the short direction of the opening when the communicating gap is rectangular is the same as in the first embodiment. In the case of a trapezoidal shape, the preferable range for the length of the top surface and the length of the bottom surface of the slit is independently 100 to 1500 μm, more preferably 150 to 900 μm, and preferably 200 to 600 μm. The thickness is more preferably 250 to 300 μm. As shown in FIG. 8, the length of the bottom part of the shape of the communicating gap in side view<the length of the top part, or vice versa.

連通空隙部4eであるスリット底面の長さとスリット上面(この例においては接着剤層の第一主面)の長さの比、即ち底面の長さ/上面の長さの比は特に限定されないが、金属層と接着剤層間の密着力と、アウトガス蒸散経路の確保を両立する観点からは0.9以下であることが好ましい。また、連通空隙部の側面視の形状として台形に変えて三角形状のスリットを形成してもよい。 Although the ratio of the length of the slit bottom, which is the communicating gap 4e, to the length of the slit top surface (in this example, the first principal surface of the adhesive layer), that is, the ratio of the length of the bottom surface/the length of the top surface, is not particularly limited. From the viewpoint of achieving both adhesion between the metal layer and the adhesive layer and ensuring an outgas evaporation path, it is preferably 0.9 or less. Further, the shape of the communication gap in side view may be changed to a trapezoid, and a triangular slit may be formed.

接着剤層の厚みに対するスリットの深さ(高さ)、即ち、スリットの深さ/接着剤層の厚みの比は限定されないが、金属層と接着剤層間の密着力と、アウトガス蒸散経路の確保を両立する観点からは0.2以上、1未満であることが好ましく、0.4~0.8であることがより好ましく、0.4~0.6であることが更に好ましい。接着剤層の好適な膜厚は、第1実施形態で述べた通りである。 The depth (height) of the slit relative to the thickness of the adhesive layer, that is, the ratio of slit depth/thickness of the adhesive layer, is not limited, but it is important to ensure adhesion between the metal layer and the adhesive layer and a path for outgas evaporation. From the viewpoint of achieving both, it is preferably 0.2 or more and less than 1, more preferably 0.4 to 0.8, and even more preferably 0.4 to 0.6. The suitable thickness of the adhesive layer is as described in the first embodiment.

接着剤層1eの連通空隙部4eは、例えば、レーザー光照射、インプリント法、エンボス加工などにより形成することができる。第2実施形態に係る電磁波シールドシートによれば、金属層と接着剤層の接合面積を確保しつつ、アウトガス蒸散経路を確実に確保できるというメリットを有する。 The communicating void portion 4e of the adhesive layer 1e can be formed by, for example, laser light irradiation, imprinting, embossing, or the like. The electromagnetic shielding sheet according to the second embodiment has the advantage that an outgas evaporation path can be reliably secured while securing the bonding area between the metal layer and the adhesive layer.

<変形例>
第2実施形態においては、接着剤層の被着体との接合面側にスリットが形成されている例を挙げたが、接着剤層の金属層との接合面側にスリットを形成してもよい。また、金属層側と被着体側の両者にスリットを形成してもよい。更に、X方向、Y方向に連通空隙部が延在する接着剤層に代えて、第1実施形態の変形例で例示したように、例えば、ボーダー状の連通空隙部としたり、櫛歯状の連通空隙部としたりすることができる。
<Modified example>
In the second embodiment, an example was given in which a slit is formed on the side of the adhesive layer that is bonded to the adherend, but it is also possible to form a slit on the side of the adhesive layer that is bonded to the metal layer. good. Furthermore, slits may be formed on both the metal layer side and the adherend side. Furthermore, instead of the adhesive layer having communicating voids extending in the X and Y directions, for example, border-like communicating voids or comb-shaped communicating voids may be used, as exemplified in the modification of the first embodiment. It can also be a communicating void.

[第3実施形態]
第3実施形態に係る電磁波シールドシートは、接着剤層の連通空隙部が細孔である点において、連通空隙部が溝である第1実施形態と相違する。但し、特に言及する点を除き、その他の基本的な構成および製造方法は第1実施形態と同様である。
[Third embodiment]
The electromagnetic shielding sheet according to the third embodiment differs from the first embodiment in that the communicating voids in the adhesive layer are pores, in that the communicating voids are grooves. However, other basic configurations and manufacturing methods are the same as those of the first embodiment except for the points specifically mentioned.

図9に、第3実施形態に係る電磁波シールドシートの要部の一例を示す模式的斜視図を示す。同図に示すように、電磁波シールドシート10fは、接着剤層1f、金属層2および保護層3をこの順に備える積層体を有する。接着剤層1fには、その側面7まで延在される連通空隙部4fが所定間隔で複数設けられている。連通空隙部4fは、接着剤層1fの内部にX方向およびY方向に延在する細孔が形成されている。 FIG. 9 is a schematic perspective view showing an example of a main part of an electromagnetic shielding sheet according to a third embodiment. As shown in the figure, the electromagnetic shielding sheet 10f has a laminate including an adhesive layer 1f, a metal layer 2, and a protective layer 3 in this order. The adhesive layer 1f is provided with a plurality of communicating voids 4f extending to the side surface 7 at predetermined intervals. The communicating void portion 4f is formed with pores extending in the X direction and the Y direction inside the adhesive layer 1f.

接着剤層1fの連通空隙部4fは、例えば、離形性基材に連通空隙部を形成した中間層を形成し、この中間層を、連通空隙部を有さない一対の表層で挟持することにより形成できる。中間層の連通空隙部の形成方法は、上記実施形態で述べた方法を適宜適用できる。また、3Dプリンタにより製造してもよい。
第3実施形態に係る電磁波シールドシートによれば、金属層と接着剤層との接合面積、並びに接着剤層と被着体との接合面積を確保しつつ、アウトガス蒸散経路を確保できるというメリットを有する。
The communicating voids 4f of the adhesive layer 1f may be formed, for example, by forming an intermediate layer in which a communicating void is formed in a releasable base material, and sandwiching this intermediate layer between a pair of surface layers that do not have communicating voids. It can be formed by The method described in the above embodiment can be applied as appropriate to the method for forming the communicating gap in the intermediate layer. Alternatively, it may be manufactured using a 3D printer.
According to the electromagnetic shielding sheet according to the third embodiment, the advantage is that an outgas evaporation path can be secured while securing the bonding area between the metal layer and the adhesive layer and the bonding area between the adhesive layer and the adherend. have

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、実施例中の「部」とあるのは「質量部」を、「%」とあるのは「質量%」を其々表すものとする。
なお、樹脂の酸価、重量平均分子量(Mw)、ガラス転移温度(Tg)、および導電性フィラーの平均粒子径の測定は次の方法で行なった。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. Further, in the examples, "parts" and "%" mean "parts by mass" and "% by mass," respectively.
The acid value, weight average molecular weight (Mw), glass transition temperature (Tg) of the resin, and average particle diameter of the conductive filler were measured by the following methods.

《バインダー樹脂の酸価の測定》
酸価はJIS K0070に準じて測定した。共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、テトラヒドロフラン/エタノール(容量比:テトラヒドロフラン/エタノール=2/1)混合液100mLを加えて溶解した。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を30秒間保持した時を終点とした。酸価は次式により求めた。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/S
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(mL)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
《Measurement of acid value of binder resin》
The acid value was measured according to JIS K0070. Approximately 1 g of the sample was accurately weighed into a stoppered Erlenmeyer flask, and 100 mL of a mixed solution of tetrahydrofuran/ethanol (volume ratio: tetrahydrofuran/ethanol = 2/1) was added to dissolve it. To this, a phenolphthalein test solution was added as an indicator and titrated with 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution, and the end point was defined as when the indicator remained pale pink for 30 seconds. The acid value was determined by the following formula.
Acid value (mgKOH/g) = (5.611 x a x F)/S
however,
S: Amount of sample collected (g)
a: Consumption amount (mL) of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution
F: Titer of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

《バインダー樹脂の重量平均分子量(Mw)の測定》
重量平均分子量(Mw)の測定は東ソー株式会社製GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)「HPC-8020」を用いた。GPCは溶媒(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本測定は、カラムに「LF-604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6mL/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量(Mw)の決定はポリスチレン換算で行った。
《Measurement of weight average molecular weight (Mw) of binder resin》
The weight average molecular weight (Mw) was measured using GPC (gel permeation chromatography) "HPC-8020" manufactured by Tosoh Corporation. GPC is liquid chromatography that separates and quantifies substances dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) based on the difference in molecular size. In this measurement, two columns of "LF-604" (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID x 150 mm size) were connected in series, the flow rate was 0.6 mL/min, and the column temperature was 40°C. The weight average molecular weight (Mw) was determined in terms of polystyrene.

《バインダー樹脂のガラス転移温度(Tg)》
Tgの測定は、示差走査熱量測定(メトラー・トレド社製「DSC-1」)によって測定した。
《Glass transition temperature (Tg) of binder resin》
The Tg was measured by differential scanning calorimetry (“DSC-1” manufactured by Mettler Toledo).

《導電性フィラーの平均粒子径測定》
D50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS13320(ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、導電性フィラーを測定して得た数値であり、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。なお、屈折率の設定は1.6とした。
《Measurement of average particle diameter of conductive filler》
The D50 average particle diameter is a value obtained by measuring the conductive filler with a Tornado Dry Powder Sample Module using a laser diffraction/scattering method particle size distribution analyzer LS13320 (manufactured by Beckman Coulter). The cumulative value in the cumulative distribution is the particle size of 50%. Note that the refractive index was set to 1.6.

続いて、実施例で使用した原料を以下に示す。
《原料》
・バインダー樹脂:ポリウレタンウレア樹脂(トーヨーケム社製)、酸価:5mgKOH/g、Mw:54,000、Tg:-7℃、
・エポキシ化合物:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(「JER828」、三菱ケミカル社製)、エポキシ当量=189g/eq
・アジリジン化合物:「ケミタイトPZ-33」日本触媒社製
・導電性フィラー:複合微粒子(核体の銅100質量部に対して銀が10質量部被覆されたデンドライト状の微粒子)、平均粒径D50:11.0μm(福田金属箔粉工業社製)
・非導電粒子:サンスフェアNP-100(D50平均粒子径:8.0μm、SiO;体積抵抗率1.0×1014Ω・cmの含有率99%。AGCエスアイテック社製)
・キャリア材付き銅箔:厚み12μmの銅キャリア材上に電解製錬法により厚さ2.5μmにて形成された銅箔が形成されたキャリア材付き銅箔。
Next, the raw materials used in the examples are shown below.
"material"
・Binder resin: polyurethane urea resin (manufactured by Toyochem), acid value: 5 mgKOH/g, Mw: 54,000, Tg: -7°C,
・Epoxy compound: Bisphenol A type epoxy resin (“JER828”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), epoxy equivalent = 189 g/eq
・Aziridine compound: "Chemitite PZ-33" manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. ・Conductive filler: Composite fine particles (dendritic fine particles coated with 10 parts by mass of silver per 100 parts by mass of copper in the core), average particle size D50 :11.0μm (manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Industries Co., Ltd.)
・Non-conductive particles: Sunsphere NP-100 (D50 average particle diameter: 8.0 μm, SiO 2 ; volume resistivity 1.0×10 14 Ω・cm content 99%. Manufactured by AGC SI Tech)
- Copper foil with carrier material: Copper foil with carrier material in which copper foil with a thickness of 2.5 μm is formed on a copper carrier material with a thickness of 12 μm by electrolytic smelting.

[実施例1]
固形分換算でバインダー樹脂を100部、エポキシ化合物を30部およびアジリジン硬化剤を7.5部加え、ディスパーで10分攪拌することで樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を、バーコーターにより乾燥厚みが11μmになるように、キャリア材付き銅箔の銅箔上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥して保護層を形成した。そして、保護層に微粘着剥離性シートを貼り合わせることによりプレ積層体を得た。
[Example 1]
A resin composition was obtained by adding 100 parts of a binder resin, 30 parts of an epoxy compound, and 7.5 parts of an aziridine curing agent in terms of solid content, and stirring with a disper for 10 minutes. The obtained resin composition was coated on the copper foil with carrier material to a dry thickness of 11 μm using a bar coater, and dried in an electric oven at 100° C. for 2 minutes to form a protective layer. . A pre-laminate was then obtained by laminating a slightly adhesive releasable sheet to the protective layer.

次いで、キャリア材付き銅箔のキャリア材を剥がし、銅箔面をバフ研磨し、銅箔面の算術平均高さSa、および二乗平均平方根傾斜Sdqを表1に示す値となるよう調整した。 Next, the carrier material of the copper foil with carrier material was peeled off, the copper foil surface was buffed, and the arithmetic mean height Sa and root mean square slope Sdq of the copper foil surface were adjusted to the values shown in Table 1.

その後、固形分換算でバインダー樹脂を100部、導電性フィラーを80部、エポキシ化合物を20部、アジリジン化合物を0.5部容器に仕込み、不揮発分濃度が40%になるように混合溶剤(トルエン:イソプロピルアルコール=2:1(質量比))を加え、ディスパーで10分攪拌して接着剤組成物を作製した。得られた接着剤組成物を、バーコーターにより乾燥厚みが8μmになるように前述のプレ積層体の銅箔面に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで積層体を得た。 Thereafter, 100 parts of binder resin, 80 parts of conductive filler, 20 parts of epoxy compound, and 0.5 part of aziridine compound were charged into a container in terms of solid content, and a mixed solvent (toluene : isopropyl alcohol=2:1 (mass ratio)) and stirred with a disper for 10 minutes to prepare an adhesive composition. The obtained adhesive composition was coated on the copper foil surface of the pre-laminated body described above so that the dry thickness was 8 μm using a bar coater, and the laminated body was obtained by drying in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes. Ta.

作製した積層体のプレ接着剤層側からレーザー光照射(UV-YAGレーザー、照射波長355nm、Model5330、ESI社製)を行い、第1実施形態に示したようにアレイ状の島部を有し、X方向、Y方向に延在する連通空隙部を有する接着剤層を得た。図2中のX方向の隣接する島部同士の間隙の短径W1を1500μm、Y方向の隣接する島部同士の間隙の短径W2を1500μmとした。また、島部のX方向の長さL1、Y方向の長さL2を共に1250μmとした。連通空隙部が形成されている領域は、銅箔が露出していることを確認した。接着剤層の75体積%が連通空隙部である。これらの工程を経て、「微粘着剥離性シート/保護層/銅箔/接着剤層」の構成をもつ電磁波シールドシートを得た。 Laser light irradiation (UV-YAG laser, irradiation wavelength 355 nm, Model 5330, manufactured by ESI) was performed from the pre-adhesive layer side of the produced laminate to form an array of island portions as shown in the first embodiment. , an adhesive layer having communicating voids extending in the X direction and the Y direction was obtained. In FIG. 2, the minor axis W1 of the gap between adjacent island portions in the X direction was 1500 μm, and the minor axis W2 of the gap between adjacent island portions in the Y direction was 1500 μm. Further, the length L1 of the island portion in the X direction and the length L2 of the island portion in the Y direction were both 1250 μm. It was confirmed that the copper foil was exposed in the area where the communicating gap was formed. 75% by volume of the adhesive layer is a communicating void. Through these steps, an electromagnetic shielding sheet having the structure of "slightly adhesive releasable sheet/protective layer/copper foil/adhesive layer" was obtained.

[実施例2~8,10~14、19~21、比較例1]
表1~表3に示す条件に変更した以外は、実施例1と同様の方法により、実施例2~8,10~14、19~21および比較例1に係る電磁波シールドシートを得た。
[Examples 2 to 8, 10 to 14, 19 to 21, Comparative Example 1]
Electromagnetic shielding sheets according to Examples 2 to 8, 10 to 14, 19 to 21, and Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the conditions were changed to those shown in Tables 1 to 3.

[実施例9]
固形分換算でバインダー樹脂を100部、エポキシ化合物を30部およびアジリジン化合物を7.5部、非導電粒子を31.4部加え、ディスパーで10分攪拌することで樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をバーコーターにより乾燥厚みが11μmになるように、剥離性シートに塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥して保護層を形成した。
[Example 9]
A resin composition was obtained by adding 100 parts of a binder resin, 30 parts of an epoxy compound, 7.5 parts of an aziridine compound, and 31.4 parts of non-conductive particles in terms of solid content, and stirring with a disper for 10 minutes. The obtained resin composition was coated on a releasable sheet using a bar coater to a dry thickness of 11 μm, and dried in an electric oven at 100° C. for 2 minutes to form a protective layer.

次いで、得られた「剥離性シート/保護層」の保護層が露出した表面に、金属層である銅めっき層(2.5μm)を形成した。銅めっき層は、電解めっき法により形成した。用いた電解液は硫酸銅、25℃にて7分間の電流印可を行った。 Next, a copper plating layer (2.5 μm), which is a metal layer, was formed on the surface of the obtained “peelable sheet/protective layer” where the protective layer was exposed. The copper plating layer was formed by electrolytic plating. The electrolytic solution used was copper sulfate, and a current was applied for 7 minutes at 25°C.

形成した金属層面にプレ接着剤層を貼り合わせ、その後、実施例1と同様にレーザー光を照射することにより連通空隙部を有する接着剤層を形成した。これらの工程を経て「剥離性シート/保護層/金属層(めっき層)/接着剤層/剥離性シート」からなる電磁波シールドシートを得た。金属層とプレ接着剤層の貼り合わせは、温度90℃、圧力3kgf/cmで、熱ラミネーターにより貼り合わせた。それ以外の方法は、実施例1と同様とした。 A pre-adhesive layer was attached to the surface of the formed metal layer, and then laser light was irradiated in the same manner as in Example 1 to form an adhesive layer having communicating voids. Through these steps, an electromagnetic shielding sheet consisting of "releasable sheet/protective layer/metal layer (plating layer)/adhesive layer/releasable sheet" was obtained. The metal layer and the pre-adhesive layer were bonded together using a thermal laminator at a temperature of 90° C. and a pressure of 3 kgf/cm 2 . The other methods were the same as in Example 1.

[実施例15]
実施例15は、連通空隙部の形状が細孔である点において、溝である実施例1等と相違する。接着剤層は、1.0μmのプレ接着剤層、6.0μmの開口径を有するプレ接着剤層および1.0μmのプレ接着剤層をこの順に積層してラミネートすることにより得た。細孔径は6.0μmとし、隣接する細孔の間の距離をX方向、Y方向それぞれ0.5μmとなるようにした。接着剤層の74.5体積%が連通空隙部であった。
[Example 15]
Example 15 differs from Example 1, etc., in that the shape of the communicating void is a pore, which is a groove. The adhesive layer was obtained by laminating a 1.0 μm pre-adhesive layer, a 6.0 μm opening diameter pre-adhesive layer, and a 1.0 μm pre-adhesive layer in this order. The pore diameter was 6.0 μm, and the distance between adjacent pores was 0.5 μm in each of the X and Y directions. 74.5% by volume of the adhesive layer was a continuous void.

[実施例16]
実施例16は、連通空隙部の形状がスリットである点において、溝である実施例1等と相違する。スリットの側面視の形状は、図8に示すように台形であり、接着剤層の第一主面5(被着体と接合する面)から凹部状にスリットが形成されている。X方向にも、同様の連通空隙部が形成されている。溝形成時よりも低い出力でアブレーションを実施した以外は上記実施例と同様の方法により、スリット底面の短径W1(bottom)が200μm、スリット開口部上面の短径W1(top)が300μmの連通空隙部を得た。図8中のX方向においても同様のスリット状の連通空隙部を形成した。島部のX方向、Y方向の長さをそれぞれ290μmとなるようにした。接着剤層の75.3体積%が連通空隙部であった。
[Example 16]
Example 16 differs from Example 1 and the like in that the shape of the communicating gap is a slit, which is a groove. The shape of the slit in a side view is trapezoidal as shown in FIG. 8, and the slit is formed in a concave shape from the first main surface 5 (the surface to be bonded to the adherend) of the adhesive layer. A similar communication gap is also formed in the X direction. By using the same method as in the above example except that ablation was performed at a lower power than when forming the groove, a connection was made in which the minor axis W1 (bottom) of the slit bottom was 200 μm and the minor axis W1 (top) of the top of the slit opening was 300 μm. A void was obtained. A similar slit-shaped communicating gap was also formed in the X direction in FIG. The lengths of the island portions in the X and Y directions were each 290 μm. 75.3% by volume of the adhesive layer was a continuous void.

[実施例17]
実施例17は、連通空隙部の形成方向が一方向の溝である点において、X方向とY方向に溝が形成されていた実施例1等と相違する。溝状の連通空隙部は、図5に示すように、Y方向に延在されている。溝状の連通空隙部の短径W1は300μmとし、島部のL1方向の長さを103μmとした。接着剤層の74.0体積%が連通空隙部であった。
[Example 17]
Example 17 differs from Example 1 and the like in which grooves were formed in the X and Y directions in that the communication gap was formed in one direction. The groove-shaped communication gap extends in the Y direction, as shown in FIG. The short axis W1 of the groove-shaped communicating gap was 300 μm, and the length of the island portion in the L1 direction was 103 μm. 74.0% by volume of the adhesive layer was a continuous void.

[実施例18]
実施例18は、連通空隙部の形成方向が一方向の溝であり、図6に示すように、一側面から内部まで延在する連通空隙部が対向する一対の側面から交互に櫛歯状に形成されている点において、実施例17と相違する。溝状の連通空隙部は、図6に示すように、Y方向に延在されている。溝状の連通空隙部の短径W1は300μmとし、連通空隙部の長径は14,000μmとした。また、島部のL1方向の長さを290μmとした。接着剤層の75.0体積%が連通空隙部であった。
[Example 18]
In Example 18, the communication gap is formed as a groove in one direction, and as shown in FIG. It is different from Example 17 in that it is formed. The groove-shaped communication gap extends in the Y direction, as shown in FIG. The short axis W1 of the groove-shaped communicating gap was 300 μm, and the long axis of the communicating gap was 14,000 μm. Further, the length of the island portion in the L1 direction was set to 290 μm. 75.0% by volume of the adhesive layer was a continuous void.

得られた電磁波シールドシートについて、各層の厚み、金属層の算術平均高さSa、および二乗平均平方根傾斜Sdqの測定は次の方法で行なった。
なお、上記実施例・比較例において、銅箔表面の算術平均高さSaおよび二乗平均平方根傾斜Sdqの目標値がキャリア材の値と異なる場合には、適宜バフ研磨によって表面を磨く、あるいは荒らす処理を適宜おこなうことにより、算術平均高さSaおよび二乗平均平方根傾斜Sdqを調整した。
Regarding the obtained electromagnetic shielding sheet, the thickness of each layer, the arithmetic mean height Sa of the metal layer, and the root mean square slope Sdq were measured by the following method.
In addition, in the above Examples and Comparative Examples, if the target values of the arithmetic mean height Sa and root mean square slope Sdq of the copper foil surface are different from the values of the carrier material, the surface may be polished or roughened by buffing as appropriate. The arithmetic mean height Sa and the root mean square slope Sdq were adjusted by performing the following as appropriate.

《各層厚みの測定》
電磁波シールドシートの接着剤層、金属層、および保護層の厚みは、以下の方法により測定した。
電磁波シールドシートの接着剤層側の剥離性シートを剥がし、露出した接着剤層とポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン200EN」)を貼り合せ、2MPa、170℃の条件で30分熱プレスした。これを幅5mm、長さ5mm程度の大きさに切断した後、エポキシ樹脂(ペトロポキシ154、マルトー社製)をスライドガラス状に0.05g滴下し、電磁波シールドシートを接着させ、スライドガラス/電磁波シールドシート/ポリイミドフィルムの構成の積層体を得た。得られた積層体をクロスセクションポリッシャー(日本電子社製、SM-09010)を用いてポリイミドフィルム側からイオンビーム照射により切断加工して、熱プレス後の電磁波シールドシートの測定試料を得た。
《Measurement of each layer thickness》
The thicknesses of the adhesive layer, metal layer, and protective layer of the electromagnetic shielding sheet were measured by the following method.
The releasable sheet on the adhesive layer side of the electromagnetic shielding sheet was peeled off, and the exposed adhesive layer and polyimide film (Kapton 200EN, manufactured by DuPont-Toray) were bonded together and heat pressed at 2 MPa and 170°C for 30 minutes. . After cutting this into a size of about 5 mm in width and 5 mm in length, 0.05 g of epoxy resin (Petropoxy 154, manufactured by Marto) was dropped onto a slide glass, an electromagnetic shield sheet was attached, and the slide glass/electromagnetic shield A laminate having a sheet/polyimide film configuration was obtained. The obtained laminate was cut by ion beam irradiation from the polyimide film side using a cross-section polisher (manufactured by JEOL Ltd., SM-09010) to obtain a measurement sample of a heat-pressed electromagnetic shielding sheet.

得られた測定試料の断面をレーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、VK-X100)を使用し、観察した拡大画像から各層の厚みを測定した。倍率は、500~2000倍とした。 The cross section of the obtained measurement sample was observed using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-X100), and the thickness of each layer was measured from the enlarged image. The magnification was 500 to 2000 times.

《金属層の算術平均高さSa、および二乗平均平方根傾斜Sdqの測定》
電磁波シールドシートの金属層の算術平均高さSa、および二乗平均平方根傾斜Sdqは、以下の方法により測定した。
電磁波シールドシートの露出した接着剤層に粘着テープ(ニチバン社製「CT1835」)を、粘着テープの端部を残して貼り合せ、粘着テープの端部から剥離を行い、接着剤層/粘着テープを剥離する。接着剤層が除去され、露出した金属層の表面をレーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、VK-X100)を使用し、測定データ取得を行った。
取得した測定データを解析ソフトウェア(ISO 25178表面性状計測モジュール「VK-H1XR」を備えた、解析アプリケーション「VK-H1XA」、ともにキーエンス社製)に取り込み、ISO25178表面性状計測を実行した(条件は、S‐フィルター;1μm、L‐フィルター;0.2mm)。なお、表面に開口部を有する金属層については、ISO 25178表面性状計測を実行する際に、開口部は計測範囲から除外した。
<<Measurement of arithmetic mean height Sa and root mean square slope Sdq of metal layer>>
The arithmetic mean height Sa and root mean square slope Sdq of the metal layer of the electromagnetic shielding sheet were measured by the following method.
Adhesive tape ("CT1835" manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is pasted on the exposed adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet, leaving the edges of the adhesive tape intact, and the adhesive layer/adhesive tape is peeled off from the edge of the adhesive tape. Peel off. The adhesive layer was removed and the surface of the exposed metal layer was measured using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-X100) to obtain measurement data.
The acquired measurement data was imported into analysis software (analysis application "VK-H1XA" equipped with ISO 25178 surface texture measurement module "VK-H1XR", both manufactured by Keyence Corporation), and ISO 25178 surface texture measurement was performed (conditions were as follows: S-filter: 1 μm, L-filter: 0.2 mm). Note that for metal layers having openings on the surface, the openings were excluded from the measurement range when performing ISO 25178 surface texture measurement.

得られた電磁波シールドシートを用いて、下記評価を行った。結果を表1~表3に示す。 The following evaluations were performed using the obtained electromagnetic shield sheet. The results are shown in Tables 1 to 3.

<ハンダリフロー耐性>
ハンダリフロー耐性は、電磁波シールドシートと溶融半田とを接触させた後の、外観変化の有無により評価した。ハンダリフロー耐性が高い電磁波シールドシートは、外観が変化しないが、ハンダリフロー耐性が低い電磁波シールドシートは、膨れや剥がれといった外観不良が発生する。
まず、幅25mm・長さ70mmの電磁波シールドシートの接着剤層の剥離性シートを剥がし、露出した接着剤層と、総厚64μmの金メッキ処理された銅張積層板(金メッキ0.3μm/ニッケルメッキ1μm/銅箔18μm/接着剤20μm/ポリイミドフィルム25μm)の金メッキ面を170℃、2.0MPa、30分の条件で圧着し、熱硬化させて積層体を得た。得られた積層体を幅10mm・縦65mmの大きさに切り取り試料を作製した。得られた試料を40℃、90%RHの雰囲気下で72時間放置した。その後、試料のポリイミドフィルム面を下にして250℃の溶融半田上に1分間浮かべ、次いで試料を取り出し、試料保護層面の外観を目視で観察し、膨れ、浮き、剥がれ等の外観不良の有無を次の基準で評価した。
+++:外観変化不良が、目視において認められない。極めて良好である。
++:外観不良の範囲が試料中の保護層面積の10%以下。良好である。
+:外観不良の範囲が試料中の保護層面積の10%より広く、30%以下。実用可。
NG:外観不良の範囲が試料中の保護層面積の30%より広い。
実用不可。
<Solder reflow resistance>
Solder reflow resistance was evaluated based on the presence or absence of a change in appearance after the electromagnetic shielding sheet was brought into contact with molten solder. An electromagnetic shielding sheet with high resistance to solder reflow does not change its appearance, but an electromagnetic shielding sheet with low resistance to solder reflow causes appearance defects such as blistering and peeling.
First, peel off the removable sheet of the adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet with a width of 25 mm and a length of 70 mm, and remove the exposed adhesive layer and the gold-plated copper clad laminate with a total thickness of 64 μm (gold plating 0.3 μm/nickel plating). The gold-plated surfaces of 1 μm/copper foil 18 μm/adhesive 20 μm/polyimide film 25 μm were pressed together under conditions of 170° C., 2.0 MPa, and 30 minutes, and then thermosetted to obtain a laminate. The obtained laminate was cut to a size of 10 mm in width and 65 mm in length to prepare a sample. The obtained sample was left in an atmosphere of 40° C. and 90% RH for 72 hours. After that, the sample was floated on molten solder at 250°C for 1 minute with the polyimide film side facing down, and then the sample was taken out and the appearance of the sample protective layer surface was visually observed to check for appearance defects such as blistering, lifting, and peeling. Evaluation was made based on the following criteria.
+++: No defective change in appearance is visually observed. Very good.
++: The extent of appearance defects is 10% or less of the area of the protective layer in the sample. In good condition.
+: The range of appearance defects is wider than 10% and 30% or less of the area of the protective layer in the sample. Practical.
NG: The range of appearance defects is wider than 30% of the area of the protective layer in the sample.
Not practical.

<伝送特性>
伝送特性は、図10に示す電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有するフレキシブルプリント配線板20gを用いて評価した。
<Transmission characteristics>
The transmission characteristics were evaluated using a flexible printed wiring board 20g having a coplanar circuit with an electromagnetic shielding sheet shown in FIG.

測定に用いたコプレーナ回路を有するフレキシブルプリント配線板(以下、コプレーナ回路を有する配線板ともいう)20gの主面側の模式的平面図を図10に、図11に、裏面側の模式的平面図を示す。まず、厚さ50μmのポリイミドフィルム50の両面に、厚さ12μmの圧延銅箔を積層した両面CCL「R-F775」(パナソニック社製)を用意した。そして、矩形状の4つのコーナー部近傍に、其々6か所のスルーホール51(直径0.1mm)を設けた。なお、図中においては、図示の便宜上、各コーナー部にスルーホール51を2つのみ示している。次いで、無電解メッキ処理を行った後に、電解メッキ処理を行って10μmの銅メッキ膜52を形成し、スルーホール51内に形成された銅メッキ膜を介して主面-裏面間の導通を確保した。その後、図10に示すように、ポリイミドフィルム50の主面に長さが10cmの2本の信号配線53、およびその外側に信号配線53と並行なグランド配線54、およびグランド配線54から延在され、ポリイミドフィルム50の短手方向のスルーホール51を含む領域にグランドパターン(i)55を形成した。 FIG. 10 shows a schematic plan view of the main surface of 20 g of a flexible printed wiring board with a coplanar circuit (hereinafter also referred to as a wiring board with a coplanar circuit) used in the measurement, and FIG. 11 shows a schematic plan view of the back side. shows. First, a double-sided CCL "R-F775" (manufactured by Panasonic) was prepared, in which rolled copper foil with a thickness of 12 μm was laminated on both sides of a polyimide film 50 with a thickness of 50 μm. Then, six through holes 51 (diameter 0.1 mm) were provided near each of the four corners of the rectangle. In addition, in the figure, for convenience of illustration, only two through holes 51 are shown at each corner portion. Next, after performing an electroless plating process, an electrolytic plating process is performed to form a 10 μm copper plating film 52 to ensure conduction between the main surface and the back surface via the copper plating film formed in the through hole 51. did. Thereafter, as shown in FIG. 10, two signal wires 53 each having a length of 10 cm are formed on the main surface of the polyimide film 50, and a ground wire 54 parallel to the signal wires 53 extends from the ground wire 54 on the outside thereof. A ground pattern (i) 55 was formed in the region including the through hole 51 in the transverse direction of the polyimide film 50.

その後、ポリイミドフィルム50の裏面に形成された銅箔をエッチングして、グランドパターン(i)55に対応する位置に、図11に示すような裏面側グランドパターン(ii)56を得た。回路の外観、公差の検査仕様はJPCA規格(JPCA-DG02)とした。次に、ポリイミドフィルム50の主面側に、ポリイミドフィルム(厚さ12.5μm)と絶縁性接着剤層(厚さ15μm)とで構成されるカバーコート層26g「CISV1215(ニッカン工業社製)」を貼り付けた。なお、図10においては、信号配線53等の構造がわかるように、カバーコート層26gを透視図で示した。その後、カバーコート層26gから露出した銅箔パターンにニッケルメッキ(不図示)を行い、次いで金メッキ(不図示)処理を行った。 Thereafter, the copper foil formed on the back surface of the polyimide film 50 was etched to obtain a back ground pattern (ii) 56 as shown in FIG. 11 at a position corresponding to the ground pattern (i) 55. The circuit appearance and tolerance inspection specifications were based on the JPCA standard (JPCA-DG02). Next, on the main surface side of the polyimide film 50, a cover coat layer 26g "CISV1215 (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.)" consisting of a polyimide film (thickness 12.5 μm) and an insulating adhesive layer (thickness 15 μm) is applied. pasted. In addition, in FIG. 10, the cover coat layer 26g is shown in a perspective view so that the structure of the signal wiring 53 and the like can be seen. Thereafter, the copper foil pattern exposed from the cover coat layer 26g was nickel plated (not shown), and then gold plated (not shown).

次に図12に示すように、接着剤層1、金属層2、保護層3の積層体からなる電磁波シールドシート10gを用意し、電磁波シールドシート10gの接着剤層上に設けられた剥離処理シート(不図示)を剥がした。そして、電磁波シールドシート10gの接着剤層を内側としてコプレーナ回路を有する配線板25の裏全面側に、170℃、2.0MPa、30分の条件で圧着することにより電磁波シールド層付コプレーナ回路を有するフレキシブルプリント配線板20gを得た。図12においては、裏面側グランドパターン(ii)56を透視図で示した。 Next, as shown in FIG. 12, 10 g of an electromagnetic shielding sheet made of a laminate of an adhesive layer 1, a metal layer 2, and a protective layer 3 is prepared, and a release treatment sheet provided on the adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet 10g is prepared. (not shown) was removed. Then, a coplanar circuit with an electromagnetic shielding layer is formed by pressing the adhesive layer of 10 g of the electromagnetic shielding sheet on the back surface side of the wiring board 25 having the coplanar circuit under the conditions of 170° C., 2.0 MPa, and 30 minutes. 20 g of a flexible printed wiring board was obtained. In FIG. 12, the back side ground pattern (ii) 56 is shown in a perspective view.

なお、信号配線53のL/S(ライン/スペース)は特性インピーダンスが±10Ωに入るよう適宜調整した。グランド配線54の幅は100μm、グランド配線54と信号配線53の間の距離は1mmとした。 Note that the L/S (line/space) of the signal wiring 53 was appropriately adjusted so that the characteristic impedance was within ±10Ω. The width of the ground wiring 54 was 100 μm, and the distance between the ground wiring 54 and the signal wiring 53 was 1 mm.

電磁波シールドシート付きコプレーナ回路を有するフレキシブルプリント配線板20gの露出した信号配線53にネットワークアナライザE5071C(アジレント・ジャパン社製)を接続し、15GHzのサイン波を入力し、伝送損失を測定することで伝送特性を評価した。測定した伝送特性を下記の基準で評価した。
+++:15GHzにおける伝送損失が7.0dB未満。極めて良好である。
++:15GHzにおける伝送損失が7.0dB以上、7.5dB未満。良好である。
+:15GHzにおける伝送損失が7.5dB以上、8.0dB未満。実用可。
NG:15GHzにおける伝送損失が8.0dB以上。実用不可。
Connect network analyzer E5071C (manufactured by Agilent Japan) to the exposed signal wiring 53 of the flexible printed wiring board 20g that has a coplanar circuit with an electromagnetic shielding sheet, input a 15 GHz sine wave, and measure the transmission loss. Characteristics were evaluated. The measured transmission characteristics were evaluated based on the following criteria.
+++: Transmission loss at 15 GHz is less than 7.0 dB. Very good.
++: Transmission loss at 15 GHz is 7.0 dB or more and less than 7.5 dB. In good condition.
+: Transmission loss at 15 GHz is 7.5 dB or more and less than 8.0 dB. Practical.
NG: Transmission loss at 15 GHz is 8.0 dB or more. Not practical.

<リワーク性>
リワーク性は、ポリイミドに仮貼りした電磁波シールドシートを剥がした際の接着剤層の糊残り面積と算術平均高さで評価した。幅50mm・長さ50mmに切出した電磁波シールドシートの接着剤層を、幅70mm・長さ70mmに切出したポリイミドフィルム(カプトン300H)と貼り合せ、ロールラミネーター(搬送速度:1m/分、温度:90℃、圧力:3kgf/cm)を通過させて仮貼りを行った。得られた仮貼り積層体中の電磁波シールドシートを端部から剥がし、ポリイミド上に残った接着剤の面積を、貼り合せ前の接着剤の面積で除することにより糊残り率を算出した。ついで、糊残り部分から任意の5点を選択し、表面をレーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、VK-X100)を使用し、測定データ取得を行い、取得した測定データを解析ソフトウェア(ISO 25178表面性状計測モジュール「VK-H1XR」を備えた、解析アプリケーション「VK-H1XA」、ともにキーエンス社製)に取り込み、ISO25178表面性状計測を実行し、算術平均高さを算出した(条件は、S‐フィルター;1μm、L‐フィルター;0.2mm)。これによって得られた糊残り率、算術平均高さを用いて、下記の基準で評価した。
+++:糊残り率が5%以下、かつ糊残りした部分がある場合には、その算術平均高さが接着剤層厚さの20%未満。極めて良好である。
++:糊残り率が5%越え、15%以下であり、かつその算術平均高さが接着剤層厚さの20%未満。良好である。
+:糊残り率が15%以下、かつ糊残りした部分の算術平均高さが接着剤層厚さの20~50%。実用可。
NG:糊残り率が15%より大きい、または/および糊残りした部分の算術平均高さが接着剤層厚さの50%より大きい。実用不可。
<Reworkability>
Reworkability was evaluated based on the remaining area of the adhesive layer and the arithmetic average height when the electromagnetic shielding sheet temporarily attached to polyimide was peeled off. The adhesive layer of the electromagnetic shielding sheet cut out to a width of 50 mm and a length of 50 mm was laminated to a polyimide film (Kapton 300H) cut out to a width of 70 mm and a length of 70 mm, and then laminated using a roll laminator (conveying speed: 1 m/min, temperature: 90 mm). ℃ and pressure: 3 kgf/cm 2 ) for temporary pasting. The electromagnetic shielding sheet in the obtained temporarily pasted laminate was peeled off from the end, and the adhesive residue rate was calculated by dividing the area of the adhesive remaining on the polyimide by the area of the adhesive before lamination. Next, select five arbitrary points from the remaining adhesive area, use a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-X100) to acquire measurement data on the surface, and analyze the acquired measurement data using analysis software (ISO 25178 surface texture). It was imported into the analysis application "VK-H1XA" equipped with the measurement module "VK-H1XR" (both manufactured by Keyence Corporation), the ISO25178 surface texture measurement was performed, and the arithmetic mean height was calculated (the conditions were S-filter; 1 μm, L-filter; 0.2 mm). Using the adhesive residue rate and arithmetic average height thus obtained, evaluation was made according to the following criteria.
+++: If the adhesive residue rate is 5% or less, and if there is a portion with adhesive residue, the arithmetic mean height thereof is less than 20% of the adhesive layer thickness. Very good.
++: The adhesive residue rate is more than 5% and less than 15%, and the arithmetic average height is less than 20% of the adhesive layer thickness. In good condition.
+: The adhesive residue rate is 15% or less, and the arithmetic average height of the adhesive remaining portion is 20 to 50% of the adhesive layer thickness. Practical.
NG: The adhesive residue rate is greater than 15%, and/or the arithmetic mean height of the adhesive remaining portion is greater than 50% of the adhesive layer thickness. Not practical.

Figure 0007452230000002
Figure 0007452230000002
Figure 0007452230000003
Figure 0007452230000003

Figure 0007452230000004
Figure 0007452230000004

1 接着剤層
2 金属層
3 保護層
4 連通空隙部
5 第一主面
6 第二主面
7 側面
8 連通空隙孔
9 接合層
10 電磁波シールドシート
15 電磁波シールド層
20 プリント配線板
22 絶縁性基材
23 信号配線
24 グランド配線
25 配線板
26 カバーコート層
27 配線回路基板
28 ビア
30 電磁波シールド層付被着体
31 被着体
50 ポリイミドフィルム
51 スルーホール
52 銅メッキ膜
53 信号配線
54 グランド配線
55 グランドパターン(i)
56 裏面側グランドパターン(ii)
1 Adhesive layer 2 Metal layer 3 Protective layer 4 Communication gap 5 First main surface 6 Second main surface 7 Side surface 8 Communication gap 9 Bonding layer 10 Electromagnetic shielding sheet 15 Electromagnetic shielding layer 20 Printed wiring board 22 Insulating base material 23 Signal wiring 24 Ground wiring 25 Wiring board 26 Cover coat layer 27 Wired circuit board 28 Via 30 Adherent with electromagnetic shielding layer 31 Adherent 50 Polyimide film 51 Through hole 52 Copper plating film 53 Signal wiring 54 Ground wiring 55 Ground pattern (i)
56 Back side ground pattern (ii)

Claims (6)

保護層、金属層、接着剤層をこの順に備える積層体を有し、
前記接着剤層は、連通空隙部を複数有し、
前記連通空隙部は、前記接着剤層の一側面まで延在されており、且つ当該連通空隙部の開口径である短径が100~1500μmである電磁波シールドシート。
It has a laminate including a protective layer, a metal layer, and an adhesive layer in this order,
The adhesive layer has a plurality of communicating voids ,
The communicating gap extends to one side of the adhesive layer, and the short axis, which is the opening diameter of the communicating gap, is 100 to 1500 μm .
前記連通空隙部は、前記接着剤層の第一主面から前記第一主面と反対側の第二主面まで貫通する溝、前記接着剤層の内部に形成され、前記第一主面または前記第二主面のいずれか一方から当該接着剤層内部まで凹部状に形成されたスリット、前記第一主面および前記第二主面に露出しない細孔、および前記溝、前記スリット、前記細孔を任意に組み合わせた開口部の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1に記載の電磁波シールドシート。 The communication gap is a groove that penetrates from the first main surface of the adhesive layer to a second main surface opposite to the first main surface, and is formed inside the adhesive layer, and is formed in the first main surface or A slit formed in a concave shape from either one of the second main surfaces to the inside of the adhesive layer, a pore that is not exposed to the first main surface and the second main surface, and the groove, the slit, and the narrow pore. The electromagnetic shielding sheet according to claim 1, characterized in that it includes at least one of an opening formed by an arbitrary combination of holes. 前記溝により、前記接着剤層が複数の島部に分断されていることを特徴とする請求項2に記載の電磁波シールドシート。 The electromagnetic shielding sheet according to claim 2, wherein the adhesive layer is divided into a plurality of island parts by the grooves. 前記接着剤層が導電性を示すことを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の電磁波シールドシート。 The electromagnetic shielding sheet according to claim 1, wherein the adhesive layer exhibits conductivity. 絶縁性基材上に信号配線が形成された配線板と、
前記配線板上に形成された絶縁性のカバーコート層と、
前記カバーコート層上に形成された電磁波シールド層とを備え、
前記電磁波シールド層は、請求項1~4のいずれかに記載の電磁波シールドシートから形成されてなり、
前記電磁波シールド層は、前記電磁波シールドシートの前記連通空隙部に由来する連通空隙孔を有し、
前記連通空隙孔は、前記電磁波シールド層の少なくとも一側面まで延在されているプリント配線板。
A wiring board with signal wiring formed on an insulating base material,
an insulating cover coat layer formed on the wiring board;
an electromagnetic shielding layer formed on the cover coat layer,
The electromagnetic shielding layer is formed from the electromagnetic shielding sheet according to any one of claims 1 to 4 ,
The electromagnetic wave shielding layer has communicating voids originating from the communicating voids of the electromagnetic shielding sheet,
In the printed wiring board, the communicating void extends to at least one side of the electromagnetic shielding layer .
保護層、金属層、接着剤層をこの順に備える積層体を有する電磁波シールドシートを形成する工程Aと、
絶縁性基材上に信号配線が形成された配線板上に、絶縁性のカバーコート層を形成する工程Bと、
前記カバーコート層上に、前記電磁波シールドシートを載置して熱圧着により電磁波シールド層を形成する工程Cとを有し、
前記工程Aは、前記接着剤層に、少なくとも一側面まで延在される連通空隙部を複数形成する工程を含み、
前記電磁波シールド層に、前記連通空隙部に由来する連通空隙孔を形成するプリント配線板の製造方法。
Step A of forming an electromagnetic shielding sheet having a laminate including a protective layer, a metal layer, and an adhesive layer in this order;
Step B of forming an insulating cover coat layer on a wiring board with signal wiring formed on an insulating base material;
Step C of placing the electromagnetic shielding sheet on the cover coat layer and forming an electromagnetic shielding layer by thermocompression bonding,
The step A includes a step of forming a plurality of communicating voids extending to at least one side in the adhesive layer,
A method for manufacturing a printed wiring board, comprising forming a communicating gap derived from the communicating gap in the electromagnetic shielding layer.
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