JP7469746B2 - 光硬化性組成物 - Google Patents
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Description
(a):(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2つ以上有する少なくとも1種の多官能(メタ)アクリレート
(b):光ラジカル開始剤
(c):下記式(1)で表される少なくとも1種のシランカップリング剤で表面修飾された、一次粒子径が1nm乃至100nmのシリカ粒子
(d):下記式(2)で表される多官能チオール
(e):(メタ)アクリロイルオキシ基を有するポリロタキサン
(f):フェノール系酸化防止剤
(g):スルフィド系酸化防止剤
(h):(メタ)アクリロイルオキシ基又はアリルオキシ基を1分子中に1つ有するモノマー
(a1):二官能ウレタン(メタ)アクリレート
(a2):下記式(3)で表される二官能(メタ)アクリレート
本発明の光硬化性組成物の(a)成分として使用可能な、(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2つ以上有する多官能(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に3つ以上有する三官能以上の(メタ)アクリレートと、(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2つ有する二官能(メタ)アクリレートとに大別できる。本明細書では、前記二官能(メタ)アクリレートの内、“-NH-C(=O)O-”で表されるウレタン結合を少なくとも1つ有する化合物[二官能ウレタン(メタ)アクリレート]を(a1)成分と称し、前記式(3)で表される二官能(メタ)アクリレートを(a2)成分と称する。本発明の光硬化性組成物が(a1)成分を含むとき、該光硬化性組成物から得られる硬化物及び成形体は、支持体との密着性に優れる。本発明の光硬化性組成物が(a2)成分を含むとき、該光硬化性組成物から得られる硬化物及び成形体は、柔軟性に優れ、且つ後述の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するポリロタキサンとの相溶性に優れる。
前記(a1)成分としては、例えば、U-2PPA、U-200PA、U-160TM、U-290TM、UA-4200、UA-4400、UA-122P、UA-W2A(以上、新中村化学工業(株)製)、AH-600、UF-8001G(以上、共栄社化学(株)製)、EBECRYL(登録商標)210、同230、同270、同280/15IB、同284、同4491、同4683、同4858、同8307、同8402、同8411、同8413、同8804、同8807、同9270、同246/20HEMA、同1271、同286、同4859、同8409、同8809、同8810、同8811、KRM(登録商標)7735、同8961、同8191、(以上、ダイセル・オルネクス(株)製)、M-1100、M-1200(以上、東亞合成(株)製)、UV-2000B、UV-3000B、UV-3200B、UV-3300B、UV-3310B、UV-3500BA、UV-3520EA、UV-3700B、UV-6640B及びUV-6630B(以上、三菱ケミカル(株)製)が挙げられる。
前記(a2)成分としては、例えば、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,7-ヘプタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8-オクタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-エチル-1,3-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,8-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、2,4,4-トリメチル-1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-ブチル―2-エチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、が挙げられる。
式(4):30質量部≦(Y+Z)≦90質量部
式(5):0質量部≦Y≦80質量部
式(6):0質量部≦Z≦70質量部
式(4´):35質量部≦(Y+Z)≦85質量部
式(5´):0質量部≦Y≦75質量部
式(6´):0質量部≦Z≦65質量部
式(4´´):40質量部≦(Y+Z)≦80質量部
式(5´´):0質量部≦Y≦70質量部
式(6´´):0質量部≦Z≦60質量部
本発明の光硬化性組成物の(b)成分として使用可能な光ラジカル開始剤として、例えば、アルキルフェノン類、ベンゾフェノン類、ジベンゾイル類、アントラキノン類、アシルホスフィンオキシド類、ベンゾイルベンゾエート類、オキシムエステル類及びチオキサントン類が挙げられ、特に、分子内開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。前記光ラジカル開始剤として市販品を用いてもよく、例えば、OMNIRAD(登録商標)127、同184、同369、同369E、同379EG、同500、同651、同819、同784、同907、同1173、同2959、同TPO H(以上、IGM Resins社製)、IRGACURE(登録商標)OXE01、同OXE02、同OXE03、同OXE04、CGI1700、同CGI1750、同CGI1850、同CG24-61(以上、BASFジャパン(株)製)、ESACURE KIP150、同KIP65LT、同KIP100F、同KT37、同KT55、同KTO46及び同KIP75(以上、Lamberti社製)が挙げられる。
本発明の光硬化性組成物の(c)成分のシリカ粒子の表面を修飾する、前記式(1)で表されるシランカップリング剤は、該式(1)中のmが8乃至14の整数であること、すなわち炭素原子数8乃至14の直鎖状炭化水素基を分子内に有することが特徴である。具体的には、炭素原子数8乃至14の直鎖状アルキル基がケイ素原子と結合したアルコキシシラン化合物、又は炭素原子数8乃至14の直鎖状アルキレン基を介して(メタ)アクリロイルオキシ基がケイ素原子と結合したアルコキシシラン化合物である。前記式(1)中のmが8乃至14であるシランカップリング剤を用いることで、該シランカップリング剤で表面修飾されたシリカ粒子の表面と有機樹脂との親和性・密着性を向上させることができる。前記式(1)中のmが7以下のシランカップリング剤の場合、有機樹脂との親和性・密着性が不十分となり、本発明の光硬化性組成物の硬化物及び成形体の透過率が低下したり、有機溶剤を用いた現像工程後に該硬化物及び成形体の裾部にクラックが発生したりする虞がある。前記式(1)中のmが15以上のシランカップリング剤の場合、直鎖状炭化水素基の結晶性が顕著となり、該シランカップリング剤で表面修飾されたシリカ粒子が凝集する虞がある。
式(7):0.1ミリモル≦(y+z)≦2ミリモル
式(8):0.1ミリモル≦y
式(7´):0.2ミリモル≦(y+z)≦1.5ミリモル
式(8´):0.2ミリモル≦y
式(7´´):0.3ミリモル≦(y+z)≦1ミリモル
式(8´´):0.3ミリモル≦y
本発明の光硬化性組成物の(d)成分として使用可能な、前記式(2)で表される多官能チオールとしては、例えば、1,2-エタンジチオール、1,3-プロパンジチオール、ビス(2-メルカプトエチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチリルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6-(1H,3H,5H)-トリオン、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、及びペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトプロピル)エーテルが挙げられる。
本発明の光硬化性組成物の(e)成分として使用可能な(メタ)アクリロイルオキシ基を有するポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接された擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置され、該環状分子が(メタ)アクリロイルオキシ基を有する。前記ポリロタキサンの構成要素である、環状分子、直鎖状分子及び封鎖基について、説明する。
前記ポリロタキサンの環状分子は、環状であり且つ開口部を有し、直鎖状分子によって串刺し状に包接されるものであれば、特に限定されない。前記(メタ)アクリロイルオキシ基は、前記環状分子に直接結合していても、スペーサーを介して結合していてもよい。前記スペーサーとしては、特に限定されないが、例えば、アルキレン基、(ポリ)アルキレングリコール基、ヒドロキシアルキレン基、ウレタン結合[-NH-C(=O)O-]、エステル結合[-C(=O)O-]及びカーボネート結合[-O-C(=O)O-]からなる群から選択される1つ又は2つ以上を組み合わせたものが挙げられる。前記環状分子として、例えば、α-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン及びγ-シクロデキストリンからなる群から選択するのが好ましい。
前記ポリロタキサンの直鎖状分子は、用いる環状分子の開口部に串刺し状に包接され得るものであれば、特に限定されない。前記直鎖状分子としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール及びポリビニルメチルエーテルからなる群から選択されるポリマーが好ましく、特にポリエチレングリコールが好ましい。
前記ポリロタキサンの封鎖基は、擬ポリロタキサンの両端に配置され、用いる環状分子が脱離しないように作用する基であれば、特に限定されない。前記封鎖基として、例えば、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンチル基類、トリチル基類、フルオレセイン類、シルセスキオキサン類、及びピレン類からなる群から選ばれる封鎖基が好ましく、より好ましくはアダマンチル基類又はシクロデキストリン類である。前記封鎖基は、例えば[-NH-C(=O)-]を介して、前記直鎖状分子と結合している。
本発明の光硬化性組成物の(f)成分として使用可能なフェノール系酸化防止剤としては、例えば、IRGANOX(登録商標)245、同1010、同1035、同1076、同1135(以上、BASFジャパン(株)製)、SUMILIZER(登録商標)GA-80、同GP、同MDP-S、同BBM-S、同WX-R(以上、住友化学(株)製)、アデカスタブ(登録商標)AO-20、同AO-30、同AO-40、同AO-50、同AO-60、同AO-80及び同AO-330(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
本発明の光硬化性組成物の(g)成分として使用可能なスルフィド系酸化防止剤としては、例えば、アデカスタブ(登録商標)AO-412S、同AO-503(以上、(株)ADEKA製)、IRGANOX(登録商標)PS802、同PS800(以上、BASFジャパン(株)製)、及びSUMILIZER(登録商標)TP-D(住友化学(株)製)が挙げられる。
本発明の光硬化性組成物の(h)成分として使用可能な、(メタ)アクリロイルオキシ基又はアリルオキシ基を1分子中に1つ有するモノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2-(アリルオキシメチル)アクリル酸メチル、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシメチルジメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシメチルジエトキシシラン、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルジメトキシシラン、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルジエトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルジメトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルジエトキシシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルジメトキシシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリエトキシシラン、及び8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルジエトキシシランが挙げられる。
さらに本発明の光硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、単官能アクリレート、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、シランカップリング剤等の接着補助剤、顔料、染料、消泡剤などの添加剤を含有することができる。
本発明の光硬化性組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、(a)成分、(b)成分、(c)成分及び(d)成分、並びに必要により(e)成分、(f)成分及び/又は(g)成分、及び(h)成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。
本発明の光硬化性組成物を、露光(光硬化)して、硬化物を得ることができ、本発明は該硬化物も対象とする。露光する光線としては、前記硬化物を得ることができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びX線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びUV-LEDが使用できる。また、露光後、前記硬化物の物性を安定化させるためにポストベークを施してもよい。前記ポストベークの方法としては、特に限定されないが、通常、ホットプレート、オーブン等を使用して、50℃乃至260℃、1分間乃至24時間の範囲で行われる。
本発明の光硬化性組成物は、例えばインプリント成形法を使用することによって、硬化物の形成と並行して各種成形体を容易に製造することができる。以下、成形体の製造に関して詳細なプロセスを記載する。
本発明の成形体の製造方法は、支持体上に本発明の光硬化性組成物を塗布する工程を有する。前記支持体は、開口部を有するパターンを有していてもよく、該パターンは、ネガ型感光性樹脂組成物又はポジ型感光性樹脂組成物をパターニングして形成され、その形状は例えば格子状である。前記支持体は、例えば、酸化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素膜又は酸化窒化珪素膜で被覆されたシリコン等の半導体基板、窒化珪素基板、石英基板、ガラス基板(無アルカリガラス、低アルカリガラス、結晶化ガラスを含む)、ITO膜が形成されたガラス基板が挙げられる。その上に、ディスペンサー、スピナー等の適当な塗布方法により、前記光硬化性組成物を塗布する。
本発明の成形体の製造方法は、前記光硬化性組成物と、目的のレンズ形状の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程を有する。ここで、前記目的のレンズ形状が凹レンズである場合、前記反転パターンは凸レンズパターンである。前記モールドの材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過する材料である限り限定されないが、例えば、ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー(COP)樹脂、石英、硼珪酸ガラス及びフッ化カルシウムが挙げられる。前記モールドの材料が樹脂である場合、非感光性樹脂、感光性樹脂いずれであってもよい。前記感光性樹脂として、例えば、国際公開第2019/031359号に開示されているインプリント用レプリカモールド材料が挙げられる。また、前記遮光膜の材料は、後述する光硬化工程で使用する紫外線等の光を透過しない材料である限り限定されないが、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、コバルト、チタン、タンタル、タングステン及びモリブデンが挙げられる。前記モールドは、後述する離型工程のために、離型剤を塗布し乾燥することで離型処理した後に使用することが望ましい。前記離型剤は、市販品として入手が可能であり、例えば、Novec(登録商標)1700、同1710、同1720(以上、スリーエムジャパン(株)製)、フロロサーフ(登録商標)FG-5084、同FG-5093(以上、(株)フロロテクノロジー製)、デュラサーフ(登録商標)DP-500、同DP-200、同DS-5400、同DH-100、同DH-405TH、同DH-610、同DS-5800、同DS-5935(以上、(株)ハーベス製)、ポリフロン(登録商標)PTFE TC-7105GN、同PTFE TC-7109BK、同PTFE TC-7113LB、同PTFE TC-7400CR、同PTFE TC-7405GN、同PTFE TC-7408GY、同PTFE TC-7409BK、同PTFE TC-7609M1、同PTFE TC-7808GY、同PTFE TC-7809BK、同PTFE TD-7139BD、オプツール(登録商標)DAC-HP、同DSX-E、オプトエース(登録商標)WP-140、ダイフリー(登録商標)GW-4000、同GW-4010、同GW-4500、同GW-4510、同GW-8000、同GW-8500、同MS-175、同GF-700、同GF-750、同MS-600、同GA-3000、同GA-9700、同GA-9750(以上、ダイキン工業(株)製)、メガファック(登録商標)F-553、同F-555、同F-558、同F-561(以上、DIC(株)製)、SFE-DP02H、SNF-DP20H、SFE-B002H、SNF-B200A、SCV-X008、SFEX008、SNF-X800、SR-4000A、S-680、S-685、MR F-6441-AL、MR F-6711-AL、MR F-6758-AL、MR F-6811-AL、及びMR EF-6521-AL(以上、AGCセイミケミカル(株)製)が挙げられる。前記離型剤として、上記市販品以外に、例えば国際公開第2019/031312号に開示されているモールド用離型剤が挙げられる。
本発明の成形体の製造方法は、前記インプリント工程の後、前記モールドを介して前記光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程を有する。露光する光線としては、前記光硬化部を形成することができる限り特に限定されないが、例えば、紫外線、電子線及びX線が挙げられる。紫外線照射に用いる光源としては、例えば、太陽光線、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、及びUV-LEDが使用できる。前記光硬化部の膜厚は、好ましくは100μm乃至1000μmであり、より好ましくは300μm乃至700μmである。前記モールドは、紫外線等の光を透過する材料から作製され、且つ該紫外線等の光を透過しない遮光膜を有するため、本工程ではマスクとして使用される。
本発明の成形体の製造方法は、前記光硬化部と前記モールドとを分離する離型工程を有する。離型方法は、前記光硬化部が損傷及び変形することなく、前記モールドから完全に分離することができる限り、特に限定されない。前記モールドは、前記離型剤を塗布し乾燥する離型処理によって、前記光硬化部と該モールドとの分離が容易となる。前記光硬化工程の後、本離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに有してもよく、その場合、該光硬化部の加熱条件は、例えば、50℃乃至260℃、1分乃至24時間の範囲から適宜選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブンが挙げられる。
本発明の成形体の製造方法は、前記離型工程の後、前記光硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して前記光硬化部を露出させる現像工程を有する。現像方法は特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。現像の条件は、例えば、現像温度5℃乃至50℃、現像時間10秒乃至300秒の範囲から適宜選択される。
本発明の成形体の製造方法は、前記現像工程の後、後述する乾燥工程の前に、前記光硬化部に対してリンス液を用いてリンス処理するリンス工程を有してもよい。リンス処理方法は特に限定されないが、例えば、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法及びスタティックディスペンス法が挙げられる。リンス処理の条件は、リンス温度5℃乃至50℃、リンス時間10秒乃至300秒の範囲から適宜選択される。
本発明の成形体の製造方法は、前記現像工程の後、前記光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を有する。前記支持体をスピナー、コーター等のスピン乾燥可能な装置により回転させることにより、本工程を実施することができる。乾燥条件は特に限定されないが、例えば、回転数200rpm乃至3000rpm、10秒乃至10分の範囲から適宜選択される。
本発明の成形体の製造方法は、前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程を有してもよい。本工程において露光する光線は、前記光硬化工程で使用可能な光線を使用することができる。
本発明の成形体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程を有してもよい。ポストベークの条件は、例えば、50℃乃至260℃、1分乃至24時間の範囲から適宜選択される。また、加熱手段としては、特に限定されないが、例えば、ホットプレート及びオーブンが挙げられる。
本発明の成形体の製造方法は、前記ポスト露光工程の後、又は前記ポストベーク工程を行う場合は該ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに有してもよい。前記反射防止膜は、前記光硬化物に入射する光の反射を抑制し、透過率を向上させるために、該光硬化物の表面に形成される。前記反射防止膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法、ミスト法、スピンコート法、ディップコート法及びスプレーコート法が挙げられる。また、前記反射防止膜として、フッ化マグネシウム、二酸化ケイ素等の無機膜、及びオルガノポリシロキサン等の有機膜が挙げられる。
装置:(株)シンキー製 自転・公転ミキサーあわとり練太郎(登録商標)ARE-310
(2)UV露光
装置1:シーシーエス(株)製 バッチ式UV-LED照射装置(波長365nm)
装置2:岩崎電気(株)製 UV-LED照射装置LHPUV365/2501
(3)現像
装置:アクテス京三(株)製 小型現像装置ADE-3000S
(4)裾部クラック観察
装置:オリンパス(株)製 光学顕微鏡MX61A
条件:明視野、対物10倍
(5)透過率測定
装置:日本分光(株)製 紫外可視近赤外分光光度計V-670
リファレンス:空気
(6)基板反り量測定
装置:三鷹光器(株)製 非接触表面性状測定装置PF-60
A-DOG:新中村化学工業(株)製 商品名:NKエステル A-DOG
APG-100:新中村化学工業(株)製 商品名:NKエステル APG-100
APG-400:新中村化学工業(株)製 商品名:NKエステル APG-400
A-TMPT:新中村化学工業(株)製 商品名:NKエステル A-TMPT
UA-4200:新中村化学工業(株)製 商品名:NKオリゴ UA-4200
V#195:大阪有機化学工業(株)製 商品名:ビスコート#195
V#260:大阪有機化学工業(株)製 商品名:ビスコート#260
I184:IGM Resins社製 商品名:OMNIRAD(登録商標)184
OTES:東京化成工業(株)製 商品名:n-オクチルトリエトキシシラン
MOTMS:信越化学工業(株)製 商品名:KBM-5803
MPTMS:信越化学工業(株)製 商品名:KBM-503
シリカゾルi:日産化学(株)製 商品名:MA-ST-M
シリカゾルii:日産化学(株)製 商品名:メタノールシリカゾル
NR1:昭和電工(株)製 商品名:カレンズMT(登録商標)NR1
PEPT:SC有機化学(株)製 商品名:PEPT
SA1303P:(株)ASM(旧アドバンスト・ソフトマテリアルズ(株))製 商品名:セルム(登録商標)スーパーポリマーSA1303P
I245:BASFジャパン(株)製 商品名:IRGANOX(登録商標)245
AO503:(株)ADEKA製 商品名:アデカスタブ(登録商標)AO-503
IBXA:大阪有機化学工業(株)製 商品名:IBXA
AOMA:(株)日本触媒製 商品名:FX-AO-MA
100mLナスフラスコに、シリカゾルiを50g、MOTMSを5g(シリカ粒子1g当たり0.8ミリモル)秤量し、65℃のオイルバスにて計6時間、加水分解縮合反応を行った。続いて、200mLナスフラスコに、得られたMOTMS修飾シリカ粒子のメタノール分散液(固形分濃度45質量%)を40g、UA-4200を15g秤量し、撹拌して均一化した後、エバポレーターを用いて、60℃、減圧度133.3Pa以下の条件でメタノールを留去し、MOTMS修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MOTMS修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
UA-4200の代わりにAPG-100を使用する以外は製造例1と同様の手順にて、MOTMS修飾シリカ粒子のAPG-100分散液(該MOTMS修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
MOTMSの使用量が3.5g(シリカ粒子1g当たり0.5ミリモル)である以外は製造例1と同様の手順にて、MOTMS修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MOTMS修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
100mLナスフラスコに、シリカゾルiを50g、MOTMSを2.5g(シリカ粒子1g当たり0.4ミリモル)、MPTMSを2g(シリカ粒子1g当たり0.4ミリモル)秤量し、65℃のオイルバスにて計6時間加水分解縮合反応を行った。続いて、200mLナスフラスコに、得られたMOTMS及びMPTMS修飾シリカ粒子のメタノール分散液(固形分濃度45質量%)を40g、UA-4200を15g秤量し、撹拌して均一化した後、エバポレーターを用いて、60℃、減圧度133.3Pa以下の条件でメタノールを留去し、MOTMS及びMPTMS修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MOTMS及びMPTMS修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
MPTMSの代わりにOTESを2.2g(シリカ粒子1g当たり0.4ミリモル)使用する以外は製造例4と同様の手順にて、MOTMS及びOTES修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MOTMS及びOTES修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
100mLナスフラスコに、シリカゾルiiを50g、MOTMSを4g(シリカ粒子1g当たり0.8ミリモル)秤量し、65℃のオイルバスにて計6時間加水分解縮合反応を行った。続いて、200mLナスフラスコに、得られたMOTMS修飾シリカ粒子のメタノール分散液(固形分濃度36質量%)を34g、UA-4200を15g秤量し、撹拌して均一化した後、エバポレーターを用いて、60℃、減圧度133.3Pa以下の条件でメタノールを留去し、MOTMS修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MOTMS修飾シリカ粒子の濃度45質量%)を得た。
MOTMSを5g使用する代わりに、MPTMSを4g(シリカ粒子1g当たり0.8ミリモル)使用する以外は製造例1と同様の手順にて、MPTMS修飾シリカ粒子のUA-4200分散液(該MPTMS修飾シリカ粒子の濃度55質量%)を得た。
100mLナスフラスコに、V#260を20g、SA1303Pを40g秤量し、撹拌して均一化した後、エバポレーターを用いて、50℃、減圧度133.3Pa以下の条件でメチルエチルケトンを留去し、前記ポリロタキサンのV#260分散液(該ポリロタキサンの濃度50質量%)を得た。
前記(a)成分としてUA-4200を1.0g及びV#260を4.3g、前記(b)成分としてI184を0.1g、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)、前記(f)成分としてI245を0.07g、それぞれ配合し、50℃で15時間振とうさせ混合した後、前記(d)成分としてPEPTを0.5g添加し、前記撹拌脱泡機を用いて10分間撹拌脱泡することで、光硬化性組成物1を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を2.0g及びV#195を3.3g使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物2を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を2.0g及びA-DOGを3.3g使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物3を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を2.6g及びA-TMPTを2.7g使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物4を調製した。
前記(a)成分としてAPG-400を4.2g及びAPG-100を1.1g使用し、前記(c)成分として製造例2で得たAPG-100分散液を4.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)使用し、前記(d)成分としてNR1を0.5g使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物5を調製した。
前記(c)成分として製造例3で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物6を調製した。
前記(c)成分として製造例4で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS及びMPTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物7を調製した。
前記(c)成分として製造例5で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS及びOTES修飾シリカ粒子換算で2.3g)使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物8を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を1.7g及びV#260を5.1g使用し、前記(c)成分として製造例6で得たUA-4200分散液を2.7g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で1.2g)使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物9を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を1.2g及びV#260を5.0g、前記(b)成分としてI184を0.1g、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を3.3g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で1.8g)、前記(f)成分としてI245を0.07g、前記(g)成分としてAO-503を0.05g、それぞれ配合し、50℃で15時間振とうさせ混合した後、前記(d)成分としてPEPTを0.5g添加し、前記撹拌脱泡機を用いて10分間撹拌脱泡することで、光硬化性組成物10を調製した。
前記(d)成分としてNR1を使用する以外は実施例1と同様の手順にて、光硬化性組成物11を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を0.8g及びV#260を4.3g、前記(b)成分としてI184を0.1g、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)、前記(e)成分として製造例8で得た分散液を0.2g(ポリロタキサン換算で0.1g)、前記(f)成分としてI245を0.07g、それぞれ配合し、50℃で15時間振とうさせ混合した後、前記(d)成分としてPEPTを0.5g添加し、前記撹拌脱泡機を用いて10分間撹拌脱泡することで、光硬化性組成物12を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を0.5g及びV#260を4.0g使用し、前記(e)成分として製造例8で得た分散液を0.8g(ポリロタキサン換算で0.4g)使用する以外は実施例12と同様の手順にて、光硬化性組成物13を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を0.3g及びV#260を3.6g使用し、前記(e)成分として製造例8で得た分散液を1.4g(ポリロタキサン換算で0.7g)使用する以外は実施例12と同様の手順にて、光硬化性組成物14を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を0.2g及びV#260を3.3g使用し、前記(e)成分として製造例8で得たV#260分散液を1.8g(ポリロタキサン換算で0.9g)使用する以外は実施例12と同様の手順にて、光硬化性組成物15を調製した。
前記(a)成分としてV#260を4.7g、前記(b)成分としてI184を0.1g、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を3.3g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で1.8g)、前記(f)成分としてI245を0.07g、前記(h)成分としてIBXAを1.5g、それぞれ配合し、50℃で15時間振とうさせ混合した後、前記(d)成分としてPEPTを0.5g添加し、前記撹拌脱泡機を用いて10分間撹拌脱泡することで、光硬化性組成物16を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を1.7g及びV#260を5.1g使用し、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を2.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で1.2g)使用し、前記(h)成分としてAOMAを0.5g使用する以外は実施例16と同様の手順にて、光硬化性組成物17を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を0.2g及びV#260を3.3g使用し、前記(c)成分の代わりに製造例7で得たUA-4200分散液を4.2g(MPTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)を使用し、前記(e)成分として製造例8で得たV#260分散液を1.8g(ポリロタキサン換算で0.9g)使用する以外は実施例12と同様の手順にて、光硬化性組成物18を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を1.2g及びV#260を4.6g、前記(b)成分としてI184を0.1g、前記(c)成分として製造例1で得たUA-4200分散液を4.2g(MOTMS修飾シリカ粒子換算で2.3g)、前記(f)成分としてI245を0.07g、それぞれ配合し、50℃で15時間振とうさせ混合した後、前記撹拌脱泡機を用いて10分間撹拌脱泡することで、光硬化性組成物19を調製した。
前記(a)成分としてUA-4200を2.2g及びV#195を3.6g使用する以外は比較例2と同様の手順にて、光硬化性組成物20を調製した。
実施例1乃至実施例17及び比較例1乃至比較例3で調製した各光硬化性組成物を、Novec(登録商標)1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したガラス基板2枚で、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して挟み込んだ。その後、前記離型処理したガラス基板2枚に挟まれた光硬化性組成物を、前記UV-LED照射装置を用いて30mW/cm2で200秒間UV露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離した後、100℃のホットプレートで10分間加熱することで、直径3cm、500μm厚の硬化物を作製した。前記硬化物の波長410nmにおける透過率を、前記分光光度計を用いて測定した。その結果を下記表4に示す。
Novec(登録商標)1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したガラス基板上に、実施例1乃至実施例17及び比較例1乃至比較例3で調製した光硬化性組成物を0.01g滴下した。その後、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、無アルカリガラス基板(1cm角、700μm厚)で挟み込んだ。前記無アルカリガラス基板は、信越化学工業(株)製接着補助剤(製品名:KBM-503)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで5質量%に希釈した溶液を塗布し乾燥することで、密着処理したものである。続いて、前記光硬化性組成物を、UV-LED照射装置を用いて30mW/cm2で200秒間UV露光した。露光後得られた硬化物を、前記離型処理したガラス基板から剥離した後、100℃のホットプレートで10分間加熱することで、前記密着処理した無アルカリガラス基板上に、直径0.5cm、500μm厚の硬化物を作製した。さらに、175℃のホットプレートで2分30秒間加熱した。
Novec(登録商標)1720(スリーエムジャパン(株)製)を塗布し乾燥することで離型処理したフォトマスク基板(開口部1cm角)上に、実施例1乃至実施例17及び比較例1で調製した各光硬化性組成物を適量滴下した。その後、500μm厚のシリコーンゴム製スペーサーを介して、無アルカリガラス基板(10cm角、700μm厚)で挟み込んだ。前記無アルカリガラス基板は、信越化学工業(株)製接着補助剤(製品名:KBM-5803)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで10質量%に希釈した溶液を塗布し乾燥することで、密着処理したものである。続いて、前記光硬化性組成物を、前記岩崎電気(株)製UV-LED照射装置を用いて、前記離型処理したフォトマスク基板を介して50mW/cm2で9秒間UV露光し、光硬化部を形成した。前記光硬化部が密着した無アルカリガラス基板を、前記離型処理したフォトマスク基板から剥離した後、前記現像装置を用いて、現像のみを、又は現像及びリンスを行った。用いた現像液及び現像時間、並びにリンス液及びリンス時間は、下記表3に記載の現像・リンス条件の条件A乃至条件Eのいずれかである。現像時の前記無アルカリガラス基板の回転数は300rpm、リンス時の前記無アルカリガラス基板の回転数は200rpm、現像液及びリンス液の吐出流量は200mL/分である。前記現像後、又はリンスを行ったものについてはリンス後、前記現像装置を用いて3000rpmで前記無アルカリガラス基板を30秒間回転し、乾燥を行った。次いで、23℃の温度条件下にて2時間静置した後、前記シーシーエス(株)製UV-LED装置を用いて50mW/cm2で111秒間UV露光し、さらに100℃のホットプレートで10分間加熱することで、前記密着処理した無アルカリガラス基板上に、1cm角、500μm厚の硬化物を作製した。作製した1cm角、500μm厚の硬化物の天面は、平面形状である。
Claims (14)
- 下記(a)成分、下記(b)成分、下記(c)成分、下記(d)成分及び下記(f)成分、並びに任意成分として下記(e)成分及び下記(h)成分を含み、(a)成分、(c)成分、(d)成分及び(e)成分の和100質量部に対し(a)成分の含有量は30質量部乃至90質量部であり、(a)成分、(c)成分、(d)成分、(e)成分及び(h)成分の和100質量部に対し(b)成分の含有量は0.1質量部乃至5質量部、(c)成分の含有量は5質量部乃至60質量部、(d)成分の含有量は1質量部乃至15質量部、(f)成分の含有量は0.05質量部乃至3質量部、(e)成分を含む場合該(e)成分の含有量は1質量部乃至15質量部、(h)成分を含む場合該(h)成分の含有量は0.5質量部乃至40質量部である、光硬化性組成物。
(a):(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2つ以上有する少なくとも2種の多官能(メタ)アクリレートであって、該少なくとも2種の多官能(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に2つ有する二官能(メタ)アクリレートであるか、又は該二官能(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に3つ有する三官能(メタ)アクリレート
(b):光ラジカル開始剤
(c):下記式(1)で表される少なくとも1種のシランカップリング剤で表面修飾された、一次粒子径が1nm乃至100nmのシリカ粒子(但し、下記式(1)中のX 1 が水素原子であるシランカップリング剤のみで表面修飾されたシリカ粒子を除く。)
(式中、X1は水素原子、又は(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、R1及びR2はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数1又は2のアルキル基を表し、mは8乃至14の整数を表し、nは0乃至2の整数を表す。)
(d):下記式(2)で表される多官能チオール
(式中、R3は単結合、炭素原子数1乃至6の直鎖状アルキレン基又は炭素原子数3乃至6の分岐鎖状のアルキレン基を表し、X2は単結合、エステル結合又はエーテル結合を表し、Q1はヘテロ原子を少なくとも1つ含むもしくはヘテロ原子を含まない炭素原子数2乃至12の有機基、又はヘテロ原子を表し、pは2乃至6の整数を表す。)
(e):(メタ)アクリロイルオキシ基を有するポリロタキサン
(f):フェノール系酸化防止剤
(h):(メタ)アクリロイルオキシ基又はアリルオキシ基を1分子中に1つ有するモノマー - さらに、下記(g)成分を含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
(g):スルフィド系酸化防止剤 - 前記(c)成分は、前記式(1)におけるX1が(メタ)アクリロイルオキシ基を表すシランカップリング剤で表面修飾されたシリカ粒子である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の光硬化性組成物。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光硬化性組成物の硬化物。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光硬化性組成物をインプリント成形する工程を含む、成形体の製造方法。
- 光硬化性組成物の成形体の製造方法であって、支持体上に請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の光硬化性組成物を塗布する工程、該光硬化性組成物と、目的とする成形体の形状の反転パターン及び遮光膜を有するモールドとを接触させるインプリント工程、該インプリント工程の後、該モールドを介して該光硬化性組成物を露光して光硬化部を形成する光硬化工程、該光硬化部と該モールドとを分離する離型工程、該離型工程の後、該光
硬化性組成物の未硬化部を現像液により除去して該光硬化部を露出させる現像工程、及び該現像工程の後、該光硬化部が形成された支持体をスピン乾燥させる乾燥工程を含む、成形体の製造方法。 - 前記光硬化工程の後、前記離型工程の前、中途又は後に、前記光硬化部を加熱する工程をさらに含む、請求項7に記載の成形体の製造方法。
- 前記現像工程の後、前記乾燥工程の前に、前記光硬化部に対してリンス液を用いてリンス処理するリンス工程をさらに含む、請求項7又は請求項8に記載の成形体の製造方法。
- 前記乾燥工程の後、前記光硬化部の全面を露光するポスト露光工程をさらに含む、請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載の成形体の製造方法。
- 前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部を加熱するポストベーク工程をさらに含む、請求項10に記載の成形体の製造方法。
- 前記ポスト露光工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含む、請求項10に記載の成形体の製造方法。
- 前記ポストベーク工程の後、前記光硬化部の表面に反射防止膜を形成する工程をさらに含む、請求項11に記載の成形体の製造方法。
- 前記成形体がカメラモジュール用レンズである、請求項6乃至請求項13のいずれか一項に記載の成形体の製造方法。
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