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JP7484189B2 - Method for producing triphenylmethane compound - Google Patents
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本発明は、トリフェニルメタン化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a triphenylmethane compound.

特許文献1には、トリフェニルメタン化合物を良溶媒に溶かし再沈殿で精製する手法が開示されている。 Patent Document 1 discloses a method for purifying a triphenylmethane compound by dissolving it in a good solvent and reprecipitation.

特許文献2には、アリールアセタールを用いたトリフェニルメタン化合物の製造方法が開示されている。 Patent Document 2 discloses a method for producing a triphenylmethane compound using an aryl acetal.

米国特許第9529286号明細書U.S. Pat. No. 9,529,286 米国特許第8080351号明細書U.S. Pat. No. 8,080,351

従来、下記一般式(I)で表される化合物と、下記一般式(II)で表される化合物とを、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して0.2モル当量未満の酸の存在下で反応させ、下記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を合成する合成工程を含む、トリフェニルメタン化合物の製造方法が知られている。この従来のトリフェニルメタン化合物の製造方法では、得られる前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物の収率が低かった。
そこで、本発明では、前記アミノ基の総モル数に対して0.2モル当量未満の酸の存在下で反応させる場合に比べて、高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法を提供することを課題とする。
Conventionally, a method for producing a triphenylmethane compound has been known, which includes a synthesis step of reacting a compound represented by the following general formula (I) with a compound represented by the following general formula (II) in the presence of an acid in an amount less than 0.2 molar equivalent relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II) to synthesize a triphenylmethane compound represented by the following general formula (III): In this conventional method for producing a triphenylmethane compound, the yield of the obtained triphenylmethane compound represented by the general formula (III) was low.
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the reaction is carried out in the presence of an acid in an amount of less than 0.2 molar equivalents relative to the total number of moles of the amino groups.

前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。 Specific means for solving the above problems include the following aspects:

[1] 下記一般式(I)で表される化合物と、下記一般式(II)で表される化合物とを、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.5モル当量以下の酸の存在下で反応させ、下記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を合成する合成工程を含む、トリフェニルメタン化合物の製造方法。
(前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11は、それぞれ独立に、アルキル基又はアラルキル基を表す。R10及びR11は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは0又は1を表す。R12は、アルデヒド基又は-CH(ORを表し、前記Rはアルキル基を表す。
前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23は、それぞれ独立に、アルキル基、ω-ヒドロキシアルキル基又はアラルキル基を表す。R20及びR21は、互いに連結して環を形成していてもよい。)

[2] 前記酸は、25℃の水における酸解離定数(pKa)が、-1.0未満である、[1]に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[3] 前記酸は、25℃の水における酸解離定数(pKa)が、-3.0以上-2.0以下である、[2]に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[4] 前記合成工程の後に、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む粗生成物を、10℃以上30℃未満の良溶媒に溶解させた後、10℃以上50℃未満で前記良溶媒を静置することで、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む結晶物を得る、晶析工程をさらに含む、[1]~[3]のいずれか1つに記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[5] 前記良溶媒が、脂肪族アルコールを含む、[4]に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[6] 前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表す、[1]~[5]のいずれか1つに記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[7] 前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表す、[1]~[6]のいずれか1つに記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[8] 前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表し、
前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、
前記酸の量が、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.2モル当量以下である、
[1]~[7]のいずれか1つに記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
[1] A method for producing a triphenylmethane compound, comprising a synthesis step of reacting a compound represented by the following general formula (I) with a compound represented by the following general formula (II) in the presence of an acid in an amount of 1 molar equivalent to 1.5 molar equivalents relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II), to synthesize a triphenylmethane compound represented by the following general formula (III):
(In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group or an aralkyl group. R 10 and R 11 may be linked to each other to form a ring. n represents 0 or 1. R 12 represents an aldehyde group or -CH(OR x ) 2 , and the R x represents an alkyl group.
In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group, an ω-hydroxyalkyl group or an aralkyl group. R 20 and R 21 may be linked to each other to form a ring.

[2] The method for producing a triphenylmethane compound according to [1], wherein the acid has an acid dissociation constant (pKa) in water at 25° C. of less than −1.0.
[3] The method for producing a triphenylmethane compound according to [2], wherein the acid has an acid dissociation constant (pKa) in water at 25° C. of −3.0 or more and −2.0 or less.
[4] The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of [1] to [3], further comprising a crystallization step of dissolving a crude product containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) in a good solvent at 10° C. or higher and lower than 30° C. after the synthesis step, and then allowing the good solvent to stand at 10° C. or higher and lower than 50° C. to obtain a crystallization product containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III).
[5] The method for producing a triphenylmethane compound according to [4], wherein the good solvent contains an aliphatic alcohol.
[6] In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 1. The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of [1] to [5].
[7] In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of [1] to [6].
[8] In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 1;
In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
the amount of the acid is 1 molar equivalent or more and 1.2 molar equivalents or less with respect to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II);
The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of [1] to [7].

[1]、[6]、[7]又は[8]に係る発明によれば、前記アミノ基の総モル数に対して0.2モル当量未満の酸の存在下で反応させる場合に比べて、高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法が提供される。 The invention according to [1], [6], [7] or [8] provides a method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the reaction is carried out in the presence of an acid in an amount of less than 0.2 molar equivalents relative to the total number of moles of the amino groups.

[2]に係る発明によれば、前記酸の25℃の水における酸解離定数(pKa)が、2.46以上である場合に比べて、より高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法が提供される。 The invention according to [2] provides a method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the acid dissociation constant (pKa) in water at 25°C of the acid is 2.46 or more.

[3]に係る発明によれば、前記酸の25℃の水における酸解離定数(pKa)が、-3.0未満又は2.5超えである場合に比べて、より高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法が提供される。
[4]に係る発明によれば、前記合成工程の後に、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む粗生成物を良溶媒に溶解させ、前記粗生成物を含む良溶媒を貧溶媒に加え再沈殿する再沈殿法により、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む結晶物を得る晶析工程をさらに含む場合に比べて、より高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法が提供される。
[5]に係る発明によれば、前記良溶媒が、n-ヘキサンである場合に比べて、より高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造する製造方法が提供される。
According to the invention related to [3], there is provided a production method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the acid has an acid dissociation constant (pKa) in water at 25° C. of less than −3.0 or more than 2.5.
According to the invention related to [4], there is provided a production method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the method further includes a crystallization step of obtaining a crystal containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) by a reprecipitation method in which a crude product containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) is dissolved in a good solvent after the synthesis step, and the good solvent containing the crude product is added to a poor solvent to reprecipitate, thereby producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the method further includes a crystallization step of obtaining a crystal containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III).
According to the invention related to [5], there is provided a production method for producing a triphenylmethane compound in a higher yield than when the good solvent is n-hexane.

以下に、本発明の実施形態について説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、実施形態の範囲を制限するものではない。 The following describes embodiments of the present invention. These descriptions and examples are intended to illustrate the embodiments and are not intended to limit the scope of the embodiments.

本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。 In the numerical ranges described in this specification in stages, the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages. Also, in the numerical ranges described in this disclosure, the upper or lower limit value of that numerical range may be replaced with a value shown in the examples.

本明細書において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
In this specification, each component may contain multiple corresponding substances.
In this specification, when referring to the amount of each component in a composition, if multiple substances corresponding to each component are present in the composition, the amount refers to the total amount of those multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.

―トリフェニルメタン化合物の製造方法―
本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法は、下記一般式(I)で表される化合物と、下記一般式(II)で表される化合物とを、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.5モル当量以下の酸の存在下で反応させ、下記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を合成する合成工程を含む。
-Method for producing triphenylmethane compounds-
The method for producing a triphenylmethane compound according to this embodiment includes a synthesis step of reacting a compound represented by the following general formula (I) with a compound represented by the following general formula (II) in the presence of an acid in an amount of 1 molar equivalent to 1.5 molar equivalents relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II), to synthesize a triphenylmethane compound represented by the following general formula (III).

一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11は、それぞれ独立に、アルキル基又はアラルキル基を表す。R10及びR11は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは0又は1を表す。R12は、アルデヒド基又は-CH(ORを表し、前記Rはアルキル基を表す。
一般式(II)及び一般式(III)中、R20、R21及びR23は、それぞれ独立に、アルキル基、ω-ヒドロキシアルキル基又はアラルキル基を表す。R20及びR21は、互いに連結して環を形成していてもよい。
In general formula (I) and general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group or an aralkyl group. R 10 and R 11 may be linked to each other to form a ring. n represents 0 or 1. R 12 represents an aldehyde group or -CH(OR x ) 2 , where R x represents an alkyl group.
In general formula (II) and general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group, a ω-hydroxyalkyl group or an aralkyl group, and R 20 and R 21 may be linked to each other to form a ring.

従来、一般式(I)で表される化合物と、一般式(II)で表される化合物とを、酸触媒の存在下で反応させることで、一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を製造する方法が知られている。前記従来の製造方法では、酸(H、プロトン)が、一般式(I)で表される化合物におけるアルデヒド基の酸素原子をプロトン化する傾向にある。これにより、正電荷を帯びたアルデヒド基の炭素原子は、一般式(II)で表される化合物の芳香族環に対して求電子的に働き易い。その結果、求電子置換反応が進行し、一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物が形成されると考えられる。 Conventionally, a method for producing a triphenylmethane compound represented by general formula (III) by reacting a compound represented by general formula (I) with a compound represented by general formula (II) in the presence of an acid catalyst is known. In the conventional production method, the acid (H + , proton) tends to protonate the oxygen atom of the aldehyde group in the compound represented by general formula (I). As a result, the carbon atom of the positively charged aldehyde group is likely to act electrophilically on the aromatic ring of the compound represented by general formula (II). As a result, an electrophilic substitution reaction proceeds, and the triphenylmethane compound represented by general formula (III) is thought to be formed.

以下、一般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表される化合物を合わせて単に「基質」とも称す。また、以下、一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を、単に「トリフェニルメタン化合物」とも称す。 Hereinafter, the compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II) will be collectively referred to simply as the "substrate." In addition, the triphenylmethane compound represented by general formula (III) will be hereinafter simply referred to as the "triphenylmethane compound."

しかしながら、前記従来の製造方法では、最終的に得られる一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物の収率が低い傾向にあった。この要因は、本発明者らの検討の結果、以下のように推定される。 However, the yield of the triphenylmethane compound represented by general formula (III) obtained in the conventional manufacturing method tends to be low. As a result of the inventors' investigation, the cause of this is presumed to be as follows.

基質を酸触媒の存在下で反応させると、酸(H、プロトン)が、基質の窒素原子を、プロトン化することがある。酸触媒が基質の窒素原子がプロトン化に消費されると、トリフェニルメタン化合物を形成する反応に適用される酸触媒の割合が減る。その結果、トリフェニルメタン化合物を形成する反応の反応率が低下し、収率が低下すると考えられる。 When a substrate is reacted in the presence of an acid catalyst, the acid (H + , proton) may protonate a nitrogen atom of the substrate. When the acid catalyst is consumed for the protonation of the nitrogen atom of the substrate, the ratio of the acid catalyst applied to the reaction for forming a triphenylmethane compound is reduced. As a result, the reaction rate of the reaction for forming a triphenylmethane compound is reduced, which is considered to result in a decrease in the yield.

一方、本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法は、高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造することができる。この要因は必ずしも明らかではないが、以下のように推定される。 On the other hand, the method for producing a triphenylmethane compound according to this embodiment can produce a triphenylmethane compound in a high yield. The reason for this is not entirely clear, but is presumed to be as follows.

本実施形態に係るトリフェニルメタンの製造方法は、基質に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.5モル当量以下の酸の存在下で、基質を反応させる。
前記アミノ基の総モル数に対して1モル当量以上、つまり、触媒量ではなく、化学量論量の酸の存在下で基質を反応させることにより、酸の一部がアミノ基のプロトン化に消費されても、トリフェニルメタン化合物を形成する反応に適用される酸の割合が減少することが抑制される傾向にある。他方、前記アミノ基の総モル数に対して1.5モル当量以下の酸の存在下で基質を反応させることにより、酸によりトリフェニルメタン化合物が分解する等による副生成物の副生が抑制される傾向にある。これらの結果、本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法は、高い収率でトリフェニルメタン化合物を製造することができると考えられる。
In the method for producing triphenylmethane according to this embodiment, a substrate is reacted in the presence of an acid in an amount of 1 molar equivalent to 1.5 molar equivalents relative to the total number of moles of amino groups contained in the substrate.
By reacting the substrate in the presence of 1 molar equivalent or more of acid relative to the total number of moles of the amino groups, that is, in a stoichiometric amount rather than a catalytic amount, even if a part of the acid is consumed for protonation of the amino groups, a decrease in the ratio of acid applied to the reaction forming the triphenylmethane compound tends to be suppressed. On the other hand, by reacting the substrate in the presence of 1.5 molar equivalents or less of acid relative to the total number of moles of the amino groups, the production of by-products due to decomposition of the triphenylmethane compound by the acid tends to be suppressed. As a result, it is considered that the method for producing a triphenylmethane compound according to this embodiment can produce a triphenylmethane compound in a high yield.

上述の通り、従来のトリフェニルメタン化合物の合成では、酸の量を触媒量としており、化学量論量以上の酸の存在下であると、反応生成物の分解等が促進されると考えられている。一方、本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法では、合成工程において、酸を所定量の化学量論量以上で存在させることにより、基質のアミノ基のプロトン化が生じても、トリフェニルメタン化合物の収率の低下を抑制できることを新たに見出した。 As described above, in conventional synthesis of triphenylmethane compounds, the amount of acid is set to a catalytic amount, and it is believed that the presence of a stoichiometric amount or more of acid promotes the decomposition of the reaction product. On the other hand, in the method for producing triphenylmethane compounds according to the present embodiment, it has been newly discovered that by making an acid present in a predetermined stoichiometric amount or more in the synthesis step, a decrease in the yield of triphenylmethane compounds can be suppressed even if protonation of the amino group of the substrate occurs.

≪基質及びトリフェニルメタン化合物の構造≫
一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11は、それぞれ独立に、アルキル基又はアラルキル基を表す。R10及びR11は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは0又は1を表す。R12は、アルデヒド基又は-CH(ORを表し、Rはアルキル基を表す。
<Structure of substrate and triphenylmethane compound>
In general formula (I) and general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group or an aralkyl group. R 10 and R 11 may be linked to each other to form a ring. n represents 0 or 1. R 12 represents an aldehyde group or -CH(OR x ) 2 , and R x represents an alkyl group.

一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23は、それぞれ独立に、アルキル基、ω-ヒドロキシアルキル基又はアラルキル基を表す。R20及びR21は、互いに連結して環を形成していてもよい。 In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group, a ω-hydroxyalkyl group or an aralkyl group. R 20 and R 21 may be linked to each other to form a ring.

一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11で表されるアルキル基としては、炭素数1以上10以下の直鎖状のアルキル基、炭素数3以上10以下の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数1以上10以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。
炭素数3以上10以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert-ペンチル基、イソヘキシル基、sec-ヘキシル基、tert-ヘキシル基、イソヘプチル基、sec-ヘプチル基、tert-ヘプチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、イソノニル基、sec-ノニル基、tert-ノニル基、イソデシル基、sec-デシル基、tert-デシル基等が挙げられる。
上記の中でも、一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ペンチル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1以上8以下の低級アルキル基であることが好ましい。
In general formula (I) and general formula (III), examples of the alkyl group represented by R 10 and R 11 include a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
Examples of the linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-nonyl group, and an n-decyl group.
Examples of the branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, an isohexyl group, a sec-hexyl group, a tert-hexyl group, an isoheptyl group, a sec-heptyl group, a tert-heptyl group, an isooctyl group, a sec-octyl group, a tert-octyl group, an isononyl group, a sec-nonyl group, a tert-nonyl group, an isodecyl group, a sec-decyl group, and a tert-decyl group.
Among the above, the alkyl group represented by R 10 and R 11 in general formula (I) and general formula (III) is preferably a lower alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a pentyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.

一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11で表されるアラルキル基としては、炭素数7以上30以下のアラルキル基が挙げられる。
炭素数7以上30以下のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、4-フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニルヘプチル 基、フェニルオクチル基、フェニルノニル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、アントラチルメチル基、フェニル-シクロペンチルメチル基等が挙げられる。
上記の中でも、一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、4-フェニルブチル基等の炭素数7以上15以下のアラルキル基であることが好ましい。
In general formula (I) and general formula (III), examples of the aralkyl group represented by R 10 and R 11 include aralkyl groups having 7 to 30 carbon atoms.
Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms include a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a 4-phenylbutyl group, a phenylpentyl group, a phenylhexyl group, a phenylheptyl group, a phenyloctyl group, a phenylnonyl group, a naphthylmethyl group, a naphthylethyl group, an anthrathylmethyl group, and a phenyl-cyclopentylmethyl group.
Among the above, the aralkyl group represented by R 10 and R 11 in general formula (I) and general formula (III) is preferably an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms, such as a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, or a 4-phenylbutyl group.

一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11は、互いに連結して環を形成していてもよい。R10及びR11が互いに連結して形成される環構造としては、炭素数2以上10以下の複素環式アミン(例えば、アジリジン基、ピロリジノ基、ピペリジノ基)などが挙げられる。 In general formula (I) and general formula (III), R 10 and R 11 may be bonded to each other to form a ring. Examples of the ring structure formed by bonding R 10 and R 11 to each other include heterocyclic amines having 2 to 10 carbon atoms (e.g., an aziridine group, a pyrrolidino group, a piperidino group), and the like.

一般式(I)及び一般式(III)中、nは0又は1を表し、nは1を表すことが好ましい。 In general formula (I) and general formula (III), n represents 0 or 1, and preferably n represents 1.

一般式(I)中、R12は、アルデヒド基又は-CH(ORを表し、Rはアルキル基を表す。一般式(I)中、-CH(ORにおけるRで表されるアルキル基としては、先述のR10及びR11におけるアルキル基で例示したものと同様のものが挙げられる。 In general formula (I), R 12 represents an aldehyde group or -CH(OR x ) 2 , and R x represents an alkyl group. In general formula (I), examples of the alkyl group represented by R x in -CH(OR x ) 2 include the same as those exemplified as the alkyl groups in R 10 and R 11 described above.

一般式(II)及び一般式(III)中、R20、R21及びR23は、それぞれ独立に、アルキル基、ω-ヒドロキシアルキル基又はアラルキル基を表す。R20、R21及びR23におけるアルキル基及びアラルキル基の好ましい態様としては、先述のR10及びR11におけるアルキル基及びアラルキル基で例示したものが挙げられる。 In general formula (II) and general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group, an ω-hydroxyalkyl group or an aralkyl group. Preferred embodiments of the alkyl group and aralkyl group in R 20 , R 21 and R 23 include the alkyl group and aralkyl group exemplified above for R 10 and R 11 .

一般式(II)及び一般式(III)中、R20、R21及びR23で表されるω-ヒドロキシアルキル基におけるアルキル鎖としては、炭素数1以上10以下の直鎖状のアルキル鎖、炭素数3以上10以下の分岐状のアルキル鎖が挙げられる。炭素数1以上10以下の直鎖状のアルキル鎖及び炭素数3以上10以下の分岐状のアルキル鎖としては、先述のR10及びR11におけるアルキル基で例示したものと同様のものが挙げられる。 In general formula (II) and general formula (III), examples of the alkyl chain in the ω-hydroxyalkyl group represented by R 20 , R 21 , and R 23 include a linear alkyl chain having from 1 to 10 carbon atoms, and a branched alkyl chain having from 3 to 10 carbon atoms. Examples of the linear alkyl chain having from 1 to 10 carbon atoms and the branched alkyl chain having from 3 to 10 carbon atoms include the same as those exemplified for the alkyl groups in R 10 and R 11 described above.

一般式(II)及び一般式(III)中、R20及びR21は、互いに連結して環を形成していてもよい。R20及びR21が互いに連結して形成される環の好ましい態様としては、先述のR10及びR11が互いに連結して形成される環で例示したものと同様のものが挙げられる。 In general formula (II) and general formula (III), R20 and R21 may be bonded to each other to form a ring. Preferred embodiments of the ring formed by R20 and R21 bonded to each other include the same as those exemplified above for the ring formed by R10 and R11 bonded to each other.

本実施形態の一態様として、トリフェニルメタン化合物は、
一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表す構造であってもよく、
一般式(I)及び一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下のアルキル基を表し、nは1を表す構造であってもよい。
In one aspect of this embodiment, the triphenylmethane compound is
In general formula (I) and general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n may be a structure representing 1.
In general formula (I) and general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n may be a structure representing 1.

本実施形態の一態様として、トリフェニルメタン化合物は、
一般式(II)及び一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表す構造であってもよく、
一般式(II)及び一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上5以下のアルキル基を表す構造であってもよい。
In one aspect of this embodiment, the triphenylmethane compound is
In general formula (II) and general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 may each independently be a structure representing an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
In general formula (II) and general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 may each independently have a structure representing an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

一般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表される化合物は、それぞれ1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 The compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II) may each be used alone or in combination of two or more kinds.

以下、一般式(I)で表される化合物の例示化合物を示すが、本実施形態はこれに限定されない。 The following are examples of compounds represented by general formula (I), but the present embodiment is not limited to these.

以下、一般式(II)で表される化合物の例示化合物を示すが、本実施形態はこれに限定されない。 The following are examples of compounds represented by general formula (II), but the present embodiment is not limited to these.

以下、一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物の例示化合物を示すが、本実施形態はこれに限定されない。 Below, examples of triphenylmethane compounds represented by general formula (III) are shown, but the present embodiment is not limited thereto.

本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法では、反応促進剤等の酸及び溶媒以外のその他の反応剤を含んでいてもよい。
反応促進剤としては、例えば、トリエトキシメタン等のオルトエステル化合物などが挙げられる。オルトエステル化合物を含む場合、一般式(I)で表される化合物中、R12をアセタール基としてより効率的に反応を進行させる観点から、R12はアルデヒド基であることが好ましい。
The method for producing a triphenylmethane compound according to the present embodiment may contain other reactants other than the acid, such as a reaction promoter, and the solvent.
Examples of the reaction accelerator include orthoester compounds such as triethoxymethane. When an orthoester compound is included, it is preferable that R 12 in the compound represented by general formula (I) is an aldehyde group, from the viewpoint of more efficiently proceeding with the reaction with R 12 being an acetal group.

≪合成工程≫
合成工程では、一般式(I)で表される化合物と、一般式(II)で表される化合物とを、一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.5モル当量以下の酸の存在下で反応させ、一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を合成する。
<Synthesis process>
In the synthesis step, a compound represented by general formula (I) and a compound represented by general formula (II) are reacted in the presence of an acid in an amount of 1 molar equivalent to 1.5 molar equivalents relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II), to synthesize a triphenylmethane compound represented by general formula (III).

酸は、無機酸、有機酸のいずれであってもよい。酸は、1種単独の使用であっても、2種以上の併用であってもよい。
無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。
有機酸としては、例えば、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、キシレンスルホン酸、メタンスルホン酸等が挙げられる。
上記の中でも、酸としては、トリフェニルメタン化合物の収率をより向上させる観点から、塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、キシレンスルホン酸及びメタンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも1種の酸を含むことが好ましく、塩酸、硫酸及びトルエンスルホン酸からなる群より選択される少なくとも1種の酸を含むことがより好ましく、トルエンスルホン酸を含むことがさらに好ましい。
The acid may be either an inorganic acid or an organic acid. The acid may be used alone or in combination of two or more kinds.
Examples of inorganic acids include hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid.
Examples of the organic acid include toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and methanesulfonic acid.
Among the above, from the viewpoint of further improving the yield of the triphenylmethane compound, the acid preferably contains at least one acid selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and methanesulfonic acid, more preferably contains at least one acid selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, and toluenesulfonic acid, and even more preferably contains toluenesulfonic acid.

酸は、トリフェニルメタン化合物の収率をより向上させる観点から、25℃の水における酸解離定数(pKa)が、-1.0未満である酸を含むことが好ましく、-3.0以上-2.0以下である酸を含むことがより好ましい。 From the viewpoint of further improving the yield of the triphenylmethane compound, the acid preferably contains an acid whose acid dissociation constant (pKa) in water at 25°C is less than -1.0, and more preferably contains an acid whose pKa is -3.0 or more and -2.0 or less.

使用する酸において酸解離定数(pKa)が複数存在する場合、上記で規定する酸解離定数(pKa)は、第一の酸解離定数(pKa1)のことを意味する。
複数種の酸を用いる場合、上記で規定する酸解離定数(pKa)は、前記複数種の酸における、低い値を有する方の酸の第一の酸解離定数(pKa1)のことを意味する。
When the acid used has a plurality of acid dissociation constants (pKa), the acid dissociation constant (pKa) specified above means the first acid dissociation constant (pKa1).
When a plurality of acids are used, the acid dissociation constant (pKa) defined above means the first acid dissociation constant (pKa1) of the acid having a lower value among the plurality of acids.

酸の量は、一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して、1モル当量以上1.5モル当量以下であり、トリフェニルメタン化合物の収率をより向上させる観点から、1モル当量以上1.3モル当量以下であることが好ましく、1モル当量以上1.2モル当量以下であることがより好ましい。 The amount of acid is 1 molar equivalent or more and 1.5 molar equivalents or less relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II). From the viewpoint of further improving the yield of the triphenylmethane compound, the amount is preferably 1 molar equivalent or more and 1.3 molar equivalents or less, and more preferably 1 molar equivalent or more and 1.2 molar equivalents or less.

特に、一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表し、且つ、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表すトリフェニルメタン化合物を、より収率よく製造する観点からは、前記酸の量が、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.2モル当量以下であることが好ましい。 In particular, from the viewpoint of producing a triphenylmethane compound in which, in general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, n represents 1, and R 20 , R 21 , and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in a higher yield, it is preferable that the amount of the acid is 1 molar equivalent or more and 1.2 molar equivalents or less with respect to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II).

一般式(I)で表される化合物と、一般式(II)で表される化合物とのモル配合比(一般式(I)で表される化合物/一般式(II)で表される化合物)は、例えば、トリフェニルメタン化合物の収率をより向上させる観点から、1/3以上1/2以下であることが好ましく、1/2.7以上1/2以下であることがより好ましく、1/2.5以上1/2以下であることがさらに好ましい。 The molar blending ratio of the compound represented by general formula (I) to the compound represented by general formula (II) (compound represented by general formula (I)/compound represented by general formula (II)) is, for example, preferably 1/3 or more and 1/2 or less, more preferably 1/2.7 or more and 1/2 or less, and even more preferably 1/2.5 or more and 1/2 or less, from the viewpoint of further improving the yield of the triphenylmethane compound.

合成工程では、一般式(I)で表される化合物と、一般式(II)で表される化合物とを、酸の存在下で反応させることができれば、溶媒を使用しても、溶媒を使用せずニート条件下であってもよい。ニート条件下である場合、酸は無機酸であることが好ましい。
溶媒としては、1-ブタノール(n-ブタノール)、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、1,4-ジオキサン、トルエン、メチルエチルケトン等の公知の溶媒が適用できる。上記の中でも、溶媒としては、1-ブタノール(n-ブタノール)が好ましい。
In the synthesis step, as long as the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II) can be reacted in the presence of an acid, a solvent may be used or the reaction may be carried out under neat conditions without using a solvent. In the case of the reaction under neat conditions, the acid is preferably an inorganic acid.
As the solvent, known solvents such as 1-butanol (n-butanol), 2-butanol, t-butyl alcohol, 1,4-dioxane, toluene, methyl ethyl ketone, etc. Among the above, 1-butanol (n-butanol) is preferable as the solvent.

反応温度は、使用する溶媒に応じて適宜設定できるが、例えば、50℃以上150℃以下であってもよく、80℃以上130℃以下であってもよい。 The reaction temperature can be set appropriately depending on the solvent used, but may be, for example, from 50°C to 150°C, or from 80°C to 130°C.

反応時間は、適宜設定できるが、例えば、基質(つまり、原料)が消失するまでであればよく、1時間以上48時間以内であってもよく、3時間以上30時間以下であってもよい。 The reaction time can be set appropriately, but may be, for example, until the substrate (i.e., raw material) is consumed, and may be from 1 hour to 48 hours, or from 3 hours to 30 hours.

≪晶析工程≫
本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法は、晶析工程を含むことが好ましい。
<Crystallization process>
The method for producing a triphenylmethane compound according to this embodiment preferably includes a crystallization step.

晶析工程では、前記合成工程の後に、粗生成物から前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を晶析する手法であれば特に制限されず、貧溶媒と良溶媒とを用いた2液型晶析方法、再沈殿方法、良溶媒のみを用いた1液型晶析方法等のいずれであってもよい。 In the crystallization step, there is no particular limitation as long as it is a method for crystallizing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) from the crude product after the synthesis step, and it may be any of a two-liquid crystallization method using a poor solvent and a good solvent, a reprecipitation method, a one-liquid crystallization method using only a good solvent, etc.

晶析工程は、例えば、トリフェニルメタン化合物をより収率よく得る観点から、前記合成工程の後に、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む粗生成物を、10℃以上30℃未満の良溶媒に溶解させた後、10℃以上50℃未満で前記良溶媒を静置することで、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む結晶物を得る工程であることが好ましい。 From the viewpoint of obtaining the triphenylmethane compound in a higher yield, the crystallization step is preferably a step of obtaining a crystal containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) by dissolving the crude product containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) in a good solvent at 10°C or higher and lower than 30°C after the synthesis step, and then allowing the good solvent to stand at 10°C or higher and lower than 50°C to obtain a crystal containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III).

前記良溶媒の種類は、特に制限されず、トリフェニルメタン化合物が溶解する溶剤を適宜しようすることができる。良溶媒は、1種単独の使用であっても、2種以上の併用であってもよい。なお、溶解とは、溶解物の残存が目視にて確認でない状態を示す。
前記良溶媒は、例えば、トリフェニルメタン化合物をより収率よく得る観点から、脂肪族アルコールと含むことが好ましい。脂肪族アルコールとしては、炭素数1以上10以下の低級脂肪族アルコール、エチレングリコール等が挙げられる。上記の中でも、脂肪族アルコールとしては、炭素数1以上10以下の低級脂肪族アルコールを含むことが好ましく、炭素数1以上5以下の低級脂肪族アルコールを含むことがより好ましい。
The type of the good solvent is not particularly limited, and any solvent that dissolves the triphenylmethane compound can be used. The good solvent may be used alone or in combination of two or more. The term "dissolved" refers to a state in which no remaining dissolved material is visually observed.
The good solvent preferably contains an aliphatic alcohol, for example, from the viewpoint of obtaining a triphenylmethane compound in a higher yield. Examples of the aliphatic alcohol include lower aliphatic alcohols having 1 to 10 carbon atoms, ethylene glycol, etc. Among the above, the aliphatic alcohol preferably contains a lower aliphatic alcohol having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably contains a lower aliphatic alcohol having 1 to 5 carbon atoms.

良溶媒に溶解させるトリフェニルメタン化合物の濃度は、トリフェニルメタン化合物を含む結晶を晶析させることができれば特に制限されないが、例えば、良溶媒全量に対して30質量%以下であることが好ましく、1質量%以上20質量%以下であることがより好ましい。 The concentration of the triphenylmethane compound dissolved in the good solvent is not particularly limited as long as it is possible to crystallize a crystal containing the triphenylmethane compound, but for example, it is preferably 30% by mass or less relative to the total amount of the good solvent, and more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less.

上記粗生成物を溶解させる良溶媒の温度は、10℃以上30℃未満であればよく、15℃以上28℃以下であってもよく、室温(22℃±4℃)であってもよい。
上記良溶媒を静置する温度は、10℃以上50℃未満であればよく、15℃以上28℃以下であってもよく、室温(22℃±4℃)であってもよい。
The temperature of the good solvent in which the crude product is dissolved may be 10° C. or higher and lower than 30° C., may be 15° C. or higher and 28° C. or lower, or may be room temperature (22° C.±4° C.).
The temperature at which the good solvent is allowed to stand may be 10° C. or higher and lower than 50° C., may be 15° C. or higher and 28° C. or lower, or may be room temperature (22° C.±4° C.).

≪その他の工程≫
本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の製造方法は、合成工程及び晶析工程以外のその他の工程(以下、単に「その他の工程」とも称す。)を含んでいてもよい。
<Other processes>
The method for producing a triphenylmethane compound according to this embodiment may include other steps (hereinafter simply referred to as "other steps") in addition to the synthesis step and the crystallization step.

その他の工程としては、例えば、合成工程後に下記の工程を、それぞれ独立に含んでいてもよい。
(1)反応溶液を中和する中和工程。
(2)塩化アンモニウム水溶液、水及び食塩水の少なくとも1種と反応溶液とを混合した後、混合液から有機層と水層とを分液する分液工程。
(3)反応溶液から溶媒又は水を減圧乾固等により乾燥する乾燥工程。
(4)反応溶液をシリカゲル、アルミナ、活性炭等の吸着剤で処理する吸着工程。
As other steps, for example, the following steps may be independently included after the synthesis step.
(1) A neutralization step of neutralizing the reaction solution.
(2) A liquid separation step of mixing at least one of an aqueous ammonium chloride solution, water, and saline with the reaction solution, and then separating the mixture into an organic layer and an aqueous layer.
(3) A drying step in which the solvent or water is dried from the reaction solution by vacuum drying or the like.
(4) An adsorption step in which the reaction solution is treated with an adsorbent such as silica gel, alumina, activated carbon, etc.

≪用途≫
本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物の用途は、特に限定されず、画像形成装置に収容する電子写真感光体における酸化防止剤;ホールトラップ剤;電荷輸送剤などの用途に適用できる。例えば、本実施形態に係るトリフェニルメタン化合物は、画像形成装置に収容する電子写真感光体における表面保護層及び電荷輸送層等の少なくとも一方の層に含まれる酸化防止剤として特に優れる。
<Application>
The use of the triphenylmethane compound according to the present embodiment is not particularly limited, and the compound can be used as an antioxidant in an electrophotographic photoreceptor housed in an image forming apparatus; a hole trapping agent; a charge transporting agent, etc. For example, the triphenylmethane compound according to the present embodiment is particularly excellent as an antioxidant contained in at least one layer, such as a surface protective layer or a charge transporting layer, in an electrophotographic photoreceptor housed in an image forming apparatus.

以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。なお、特に断りがない限り「部」は「質量部」を意味する。 The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing procedures, etc. shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of this disclosure. Note that "parts" means "parts by mass" unless otherwise specified.

―トリフェニルメタン化合物の製造―
[実施例1~3、5~11、比較例1~比較例2]
フラスコ中に、表1に示す量と種類の基質と、溶媒であるn-ブタノール3当量と、を加え、窒素雰囲気下とした。続いて、表1に示す量と種類の酸を加え、110℃で24時間反応させた。反応終了後、反応溶液を水酸化ナトリウム水溶液で中和し、有機層と水層とを分離した。その後、有機層における溶媒を留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物に対し、良溶媒として表1に示す量と種類の溶媒を加え、粗生成物が溶解した溶液を120分間、室温(23℃)で攪拌した。その後、溶液中で晶析した結晶を濾別し、乾燥することで、目的とする生成物:一般式(III)で表される化合物を得た。収率を表1に示す。
-Production of triphenylmethane compounds-
[Examples 1 to 3, 5 to 11, Comparative Examples 1 and 2]
In a flask, the amount and type of substrate shown in Table 1 and 3 equivalents of n-butanol as a solvent were added, and the flask was placed under a nitrogen atmosphere. Then, the amount and type of acid shown in Table 1 were added, and the reaction was carried out at 110°C for 24 hours. After the reaction was completed, the reaction solution was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and the organic layer and the aqueous layer were separated. Then, the solvent in the organic layer was distilled off to obtain a crude product. To the obtained crude product, the amount and type of solvent shown in Table 1 as a good solvent was added, and the solution in which the crude product was dissolved was stirred for 120 minutes at room temperature (23°C). Then, the crystals crystallized in the solution were filtered and dried to obtain the target product: a compound represented by general formula (III). The yield is shown in Table 1.

[実施例4]
実施例1と同じ仕様で反応終了後、反応溶液を水酸化ナトリウム水溶液で中和し、有機層と水層とを分離した。その後、有機層における溶媒を留去し、粗生成物を得た。
エタノールと脱イオン水との20/3混合液を準備し、53℃に予熱した。次に、先で得られた粗生成物をエチルメチルケトンに室温(23℃)で溶解させた粗生成物を含む粗溶液を、前記混合液に20分間かけて加えた。その後、粗溶液と混合された混合液を、さらに15分間混合した後、室温(23℃)にまで放冷させ、結晶を得た。
その後、晶析した結晶を濾別し、乾燥することで、目的とする生成物:一般式(III)で表される化合物を得た。収率を表1に示す。
[Example 4]
After the reaction was completed under the same conditions as in Example 1, the reaction solution was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, and the organic layer and the aqueous layer were separated. Thereafter, the solvent in the organic layer was distilled off to obtain a crude product.
A 20/3 mixture of ethanol and deionized water was prepared and preheated to 53° C. Next, a crude solution containing the crude product obtained above, which was obtained by dissolving the crude product in ethyl methyl ketone at room temperature (23° C.), was added to the mixture over 20 minutes. After that, the mixture mixed with the crude solution was mixed for an additional 15 minutes and then allowed to cool to room temperature (23° C.) to obtain crystals.
The precipitated crystals were then filtered and dried to obtain the target product: the compound represented by general formula (III). The yield is shown in Table 1.

[比較例3]
酸を加えない仕様とした以外は、実施例1と同様にしてトリフェニルメタン化合物の製造を行った。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
Except for not adding acid, a triphenylmethane compound was produced in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

表1中、*1は、一般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対する酸のモル当量を表す。表1中、*2は、晶析工程において、実施例4で示すように再沈殿方式でトリフェニルメタン化合物を含む結晶を得たことを意味する。 In Table 1, *1 indicates the molar equivalent of the acid relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by general formula (I) and the compound represented by general formula (II). In Table 1, *2 indicates that in the crystallization step, crystals containing a triphenylmethane compound were obtained by the reprecipitation method as shown in Example 4.

表1に示すように、実施例のトリフェニルメタン化合物の製造は、比較例のトリフェニルメタン化合物の製造に比べて、トリフェニルメタン化合物を収率よく製造可能であることがわかった。 As shown in Table 1, it was found that the production of the triphenylmethane compound in the Example can produce the triphenylmethane compound in a higher yield than the production of the triphenylmethane compound in the Comparative Example.

Claims (8)

下記一般式(I)で表される化合物と、下記一般式(II)で表される化合物とを、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.5モル当量以下の酸の存在下で反応させ、下記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を合成する合成工程を含前記酸は、25℃の水における酸解離定数(pKa)が、-3.0以上-2.0以下である、トリフェニルメタン化合物の製造方法。
(前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11は、それぞれ独立に、アルキル基又はアラルキル基を表す。R10及びR11は、互いに連結して環を形成していてもよい。nは0又は1を表す。R12は、アルデヒド基又は-CH(ORを表し、前記Rはアルキル基を表す。
前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23は、それぞれ独立に、アルキル基、ω-ヒドロキシアルキル基又はアラルキル基を表す。R20及びR21は、互いに連結して環を形成していてもよい。)

A method for producing a triphenylmethane compound, comprising: a synthesis step of reacting a compound represented by the following general formula (I) with a compound represented by the following general formula (II) in the presence of an acid in an amount of 1 molar equivalent to 1.5 molar equivalents relative to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II), to synthesize a triphenylmethane compound represented by the following general formula (III), wherein the acid has an acid dissociation constant (pKa) in water at 25° C. of −3.0 or more and −2.0 or less.
(In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group or an aralkyl group. R 10 and R 11 may be linked to each other to form a ring. n represents 0 or 1. R 12 represents an aldehyde group or -CH(OR x ) 2 , and the R x represents an alkyl group.
In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group, an ω-hydroxyalkyl group or an aralkyl group. R 20 and R 21 may be linked to each other to form a ring.

前記酸が、トルエンスルホン酸、及びベンゼンスルホン酸からなる群から選ばれる少なくとも1つを含む、請求項1に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。The method for producing a triphenylmethane compound according to claim 1, wherein the acid includes at least one selected from the group consisting of toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid. 前記酸が、トルエンスルホン酸を含む、請求項1に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。The method for producing a triphenylmethane compound according to claim 1 , wherein the acid comprises toluenesulfonic acid. 前記合成工程の後に、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む粗生成物を、10℃以上30℃未満の良溶媒に溶解させた後、10℃以上50℃未満で前記良溶媒を静置することで、前記一般式(III)で表されるトリフェニルメタン化合物を含む結晶物を得る、晶析工程をさらに含む、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。 The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of claims 1 to 3 further comprises a crystallization step in which, after the synthesis step, a crude product containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III) is dissolved in a good solvent at 10°C or higher and lower than 30°C, and the good solvent is allowed to stand at 10°C or higher and lower than 50°C to obtain a crystal containing the triphenylmethane compound represented by the general formula (III). 前記良溶媒が、脂肪族アルコールを含む、請求項4に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。 The method for producing a triphenylmethane compound according to claim 4, wherein the good solvent includes an aliphatic alcohol. 前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表す、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。 In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 1. The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of claims 1 to 5. 前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表す、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。 The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of claims 1 to 6, wherein in the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. 前記一般式(I)及び前記一般式(III)中、R10及びR11はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、nは1を表し、
前記一般式(II)及び前記一般式(III)中、R20、R21及びR23はそれぞれ独立に炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、
前記酸の量が、前記一般式(I)で表される化合物及び前記一般式(II)で表される化合物に含まれるアミノ基の総モル数に対して1モル当量以上1.2モル当量以下である、
請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のトリフェニルメタン化合物の製造方法。
In the general formula (I) and the general formula (III), R 10 and R 11 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents 1.
In the general formula (II) and the general formula (III), R 20 , R 21 and R 23 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
the amount of the acid is 1 molar equivalent or more and 1.2 molar equivalents or less with respect to the total number of moles of amino groups contained in the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II);
The method for producing a triphenylmethane compound according to any one of claims 1 to 7.
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