JP7490376B2 - Semiconductor element and resin sheet for forming semiconductor element - Google Patents
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Description
本発明は半導体素子および半導体素子形成用樹脂シートに関する。 The present invention relates to a semiconductor element and a resin sheet for forming a semiconductor element.
従来、インダクタ等の半導体素子がいくつか提案されている。例えば特許文献1には、金属粉末と、非晶質エポキシ樹脂と、を含み、前記金属粉末の重量比が75~98wt%であるフィルム状の混合物からなる、インダクタ用の金属-ポリマー複合体フィルムおよびこれを用いたインダクタの製造方法が提案されている。
Several semiconductor elements such as inductors have been proposed in the past. For example,
特許文献1に挙げられるようなインダクタは、基板等に実装される際に、フラックス入り半田やフラックスを塗布した上に半田付けされる。
その後、フラックスが残渣として残留してしまうと、後工程でのボンディング不良、半田ボールの発生、絶縁信頼性の低下の懸念が生じる場合があるので、通常、フラックスはフラックス洗浄剤を用いて洗浄される。
When an inductor such as that disclosed in
If any flux remains as residue after that, it may cause bonding defects, solder balls, and reduced insulation reliability in later processes, so the flux is usually cleaned using a flux cleaner.
しかしながら、従来の半導体素子における樹脂部分は、フラックス洗浄剤に対する耐性が低かった。フラックス洗浄剤によって樹脂部分がダメージを受けてしまうと、樹脂部分が膨潤等し、半導体素子の透磁率が低下してしまう恐れがある。 However, the resin parts of conventional semiconductor elements have low resistance to flux cleaners. If the resin parts are damaged by flux cleaners, they may swell, reducing the magnetic permeability of the semiconductor element.
本発明は上記のような課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明はフラックス洗浄剤に対する耐性が高い樹脂部分を備える半導体素子およびそれを形成するために用いることができる樹脂シートを提供することを目的とする。 The present invention aims to solve the above problems. In other words, the present invention aims to provide a semiconductor element having a resin portion that is highly resistant to flux cleaning agents, and a resin sheet that can be used to form the semiconductor element.
本発明者は上記課題を解決するため鋭意検討し、本発明を完成させた。
本発明は以下の(1)~(8)である。
(1)エポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末とを含む混合物からなる、半導体素子形成用の樹脂シート。
(2)前記ジエン系ゴムがランダム共重合体である、上記(1)に記載の樹脂シート。
(3)前記ジエン系ゴムがNBRおよび/またはSBRである、上記(1)または(2)に記載の樹脂シート。
(4)前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%である、上記(1)~(3)のいずれかに記載の樹脂シート。
(5)金属粉末が分散しており、内部に回路が含まれている樹脂硬化体を含む半導体素子であって、
前記樹脂硬化体がエポキシ樹脂とジエン系ゴムとの反応生成物である、半導体素子。
(6)前記ジエン系ゴムがNBRおよび/またはSBRである、上記(5)に記載の半導体素子。
(7)前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%である、上記(5)または(6)に記載の半導体素子。
(8)インダクタである、上記(5)~(7)のいずれかに記載の半導体素子。
The present inventors have conducted extensive research to solve the above problems and have completed the present invention.
The present invention relates to the following (1) to (8).
(1) A resin sheet for forming semiconductor elements, which is made of a mixture containing an epoxy resin, a diene rubber, and metal powder.
(2) The resin sheet according to (1) above, wherein the diene rubber is a random copolymer.
(3) The resin sheet according to the above (1) or (2), wherein the diene rubber is NBR and/or SBR.
(4) The mass ratio of the epoxy resin to the total amount of the epoxy resin and the diene-based rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene-based rubber)×100) is 30 to 80 mass%. A resin sheet according to any one of (1) to (3).
(5) A semiconductor element including a cured resin body having a metal powder dispersed therein and including a circuit therein,
A semiconductor device, wherein the cured resin is a reaction product of an epoxy resin and a diene rubber.
(6) The semiconductor element according to (5) above, wherein the diene rubber is NBR and/or SBR.
(7) The semiconductor element according to (5) or (6) above, wherein the mass ratio of the epoxy resin to the total amount of the epoxy resin and the diene-based rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene-based rubber)×100) is 30 to 80 mass%.
(8) The semiconductor element according to any one of (5) to (7) above, which is an inductor.
本発明によれば、フラックス洗浄剤に対する耐性が高い樹脂部分を備える半導体素子およびそれを形成するために用いることができる樹脂シートを提供することができる。 The present invention provides a semiconductor element having a resin portion that is highly resistant to flux cleaning agents, and a resin sheet that can be used to form the semiconductor element.
本発明について説明する。
本発明は、エポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末とを含む混合物からなる、半導体素子形成用の樹脂シートである。
このような樹脂シートを、以下では「本発明のシート」ともいう。
The present invention will now be described.
The present invention is a resin sheet for forming semiconductor elements, which is made of a mixture containing an epoxy resin, a diene rubber, and metal powder.
Such a resin sheet will hereinafter be referred to as the "sheet of the present invention."
また、本発明は、金属粉末が分散しており、内部に回路が含まれている樹脂硬化体を含む半導体素子であって、前記樹脂硬化体がエポキシ樹脂とジエン系ゴムとの反応生成物である、半導体素子である。
このような半導体素子を、以下では「本発明の半導体素子」ともいう。
The present invention also relates to a semiconductor element including a cured resin having metal powder dispersed therein and containing a circuit therein, the cured resin being a reaction product of an epoxy resin and a diene rubber.
Such a semiconductor element will hereinafter be referred to as the "semiconductor element of the present invention."
以下において、単に「本発明」と記した場合、「本発明のシート」および「本発明の半導体素子」の両方を意味するものとする。 Hereinafter, when simply referring to "the present invention," this means both "the sheet of the present invention" and "the semiconductor element of the present invention."
<本発明のシート>
本発明のシートについて説明する。
本発明のシートは、エポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末とを含む混合物からなる。
<Sheet of the present invention>
The sheet of the present invention will now be described.
The sheet of the present invention is made of a mixture containing an epoxy resin, a diene rubber, and a metal powder.
本発明においてエポキシ樹脂は特に限定されず、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。
エポキシ樹脂は、1分子中にエポキシ基を2個以上有する。エポキシ樹脂は、フェノールノボラック型、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ナフタレン型、ビフェニル型、ジシクロペンタジエン型のものが好ましい。エポキシ当量は90~100,000g/eqが好ましく、200~20,000g/eqがさらに好ましく、500~5,000g/eqが特に好ましい。
エポキシ樹脂の分子量については、数平均分子量(Mn)が100~100,000が好ましく、200~50,000がさらに好ましく、500~10,000が特に好ましい。
In the present invention, the epoxy resin is not particularly limited, and any conventionally known epoxy resin can be used.
The epoxy resin has two or more epoxy groups in one molecule. The epoxy resin is preferably a phenol novolac type, a bisphenol A type, a bisphenol F type, a bisphenol S type, a naphthalene type, a biphenyl type, or a dicyclopentadiene type. The epoxy equivalent is preferably 90 to 100,000 g/eq, more preferably 200 to 20,000 g/eq, and particularly preferably 500 to 5,000 g/eq.
Regarding the molecular weight of the epoxy resin, the number average molecular weight (Mn) is preferably from 100 to 100,000, more preferably from 200 to 50,000, and particularly preferably from 500 to 10,000.
本発明においてジエン系ゴムは特に限定されず、従来公知のジエン系ゴムを用いることができる。
ジエン系ゴムとして、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、スチレン-ブタジエン共重合体ゴム(SBR)、水添スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS:スチレンとブタジエンからなるブロック共重合体の二重結合部分を水素添加したポリマー)、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、クロロプレンゴム(CR)、エチレン-プロピレン-ジエン共重合体ゴム(EPDM)、スチレン-イソプレンゴム、イソプレン-ブタジエンゴム、ニトリルゴム、水添ニトリルゴム等が挙げられる。
ジエン系ゴムの末端は、官能基により修飾されていてもよい。官能基としては例えば、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基等が挙げられる。
In the present invention, the diene rubber is not particularly limited, and any conventionally known diene rubber can be used.
Examples of diene rubbers include acrylonitrile butadiene rubber (NBR), styrene-butadiene copolymer rubber (SBR), hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer (SEBS: a polymer in which the double bond portion of a block copolymer consisting of styrene and butadiene is hydrogenated), natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), butadiene rubber (BR), chloroprene rubber (CR), ethylene-propylene-diene copolymer rubber (EPDM), styrene-isoprene rubber, isoprene-butadiene rubber, nitrile rubber, and hydrogenated nitrile rubber.
The diene rubber may be modified at its terminals with a functional group, such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, or a hydroxyl group.
本発明においてジエン系ゴムはNBRおよび/またはSBRであることが好ましい。フラックス洗浄剤に対する耐性がより高まるからである。 In the present invention, the diene rubber is preferably NBR and/or SBR, since this provides greater resistance to flux cleaners.
本発明においてジエン系ゴムは、ランダム共重合体であることが好ましい。フラックス洗浄剤に対する耐性がより高まるからである。 In the present invention, the diene rubber is preferably a random copolymer, since this provides greater resistance to flux cleaners.
本発明において、前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%であることが好ましく、30~70質量%であることがより好ましい。フラックス洗浄剤に対する耐性がより高まるからである。 In the present invention, the mass ratio of the epoxy resin to the total amount of the epoxy resin and the diene rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene rubber)×100) is preferably 30 to 80 mass%, and more preferably 30 to 70 mass%. This is because resistance to the flux cleaning agent is further increased.
本発明において金属粉末は磁性粉であることが好ましい。磁性粉としては、公知の磁性体粉末を用いることができる。例えば、硬磁性体であるフェライト磁石や、サマリウムコバルト磁石などや、軟磁性体である鉄粉、ケイ素鋼、センダスト、ソフトフェライトなどが挙げられる。 In the present invention, the metal powder is preferably a magnetic powder. As the magnetic powder, known magnetic powders can be used. For example, hard magnetic materials such as ferrite magnets and samarium-cobalt magnets, and soft magnetic materials such as iron powder, silicon steel, sendust, and soft ferrite can be used.
金属粉末の粒子径は特に限定されず、例えば、従来公知のレーザ回折式粒度分布測定装置を用いて測定される平均粒子径が0.5~150μm程度のものを用いることができる。
金属粉末の形状は特に限定されず、例えば、球状、楕円状、扁平状、針状、繊維状、樹状、不定形状などが挙げられる。本発明の半導体素子における樹脂硬化体または本発明のシートに含まれる金属粉末比率を向上させる観点から、球状、または扁平状であることが好ましい。
金属粉末の形状は、前記形状の1種類、または2種類以上を混合して用いることができる。
金属粉末の表面は、絶縁被覆されていてもよい。例えば、金属粉末を形成する金属の酸化物を表面に形成させる方法や、絶縁性を示す樹脂膜を金属粉末の表面にコーティングする方法、絶縁性の微粒子を金属粉末の周囲に付着させる方法等により、絶縁被覆することができる。
The particle size of the metal powder is not particularly limited, and for example, the average particle size measured using a conventionally known laser diffraction type particle size distribution measuring device can be about 0.5 to 150 μm.
The shape of the metal powder is not particularly limited, and examples thereof include spherical, elliptical, flat, needle-like, fibrous, dendritic, amorphous, etc. From the viewpoint of increasing the ratio of metal powder contained in the resin cured body in the semiconductor element of the present invention or the sheet of the present invention, the shape is preferably spherical or flat.
The metal powder may have one or more of the above shapes.
The surface of the metal powder may be coated with an insulating material, for example, by forming an oxide of the metal that forms the metal powder on the surface, coating the surface of the metal powder with an insulating resin film, or attaching insulating fine particles to the periphery of the metal powder.
本発明のシートに含まれる金属粉末の含有率は70~93質量%であることが好ましく、80~90質量%であることがより好ましい。 The metal powder content in the sheet of the present invention is preferably 70 to 93 mass %, and more preferably 80 to 90 mass %.
本発明のシートは、エポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末とを含む混合物からなるが、この混合物におけるエポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末との合計含有率は90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましく、97質量%以上であることがさらに好ましい。 The sheet of the present invention is made of a mixture containing an epoxy resin, a diene rubber, and metal powder, and the total content of the epoxy resin, diene rubber, and metal powder in this mixture is preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and even more preferably 97% by mass or more.
本発明のシートを構成する混合物は、エポキシ樹脂、ジエン系ゴムおよび金属粉末以外の成分として、例えば硬化剤、分散剤などを含んでもよい。
ここで硬化剤は、熱を加えることによって、エポキシ樹脂とジエン系ゴムとを架橋する機能を備えるもの(架橋剤)であり、例えばイミダゾール、アミン系硬化剤が挙げられる。
また、分散剤は混合物中において金属粉末の凝集を抑制する機能を備えるものであり、具体的には、金属粉末との親和性が良い官能基を有する高分子共重合物のエステル塩などが挙げられる。
The mixture constituting the sheet of the present invention may contain components other than the epoxy resin, diene rubber and metal powder, such as a curing agent and a dispersing agent.
The curing agent here is a cross-linking agent that has the function of cross-linking the epoxy resin and the diene rubber by the application of heat, and examples thereof include imidazole and amine curing agents.
The dispersant also has the function of suppressing aggregation of the metal powder in the mixture, and specific examples thereof include ester salts of polymer copolymers having functional groups that have good affinity with the metal powder.
本発明のシートは、上記のようなエポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末とを十分に混錬してなる混合物を、シート状に加工してなるものである。
混合物をシート状に加工する方法としては、混錬物を加熱圧縮してシート化する方法や、混錬物を有機溶媒に希釈してコーティングし溶媒を乾燥させてシート化する方法が挙げられる。
The sheet of the present invention is obtained by thoroughly kneading the above-mentioned epoxy resin, diene rubber, and metal powder, and processing the mixture into a sheet.
Methods for processing the mixture into a sheet include a method in which the kneaded mixture is heated and compressed to form a sheet, and a method in which the kneaded mixture is diluted in an organic solvent, coated, and the solvent is dried to form a sheet.
本発明のシートの厚さは特に限定されないが、0.03~5mmであることが好ましく、0.05~3mmであることがより好ましい。 The thickness of the sheet of the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.03 to 5 mm, and more preferably 0.05 to 3 mm.
<本発明の半導体素子>
本発明の半導体素子について説明する。
本発明の半導体素子は、内部に回路が含まれている樹脂硬化体を含む。樹脂硬化体には、前記金属粉末が分散している。
<Semiconductor element of the present invention>
The semiconductor element of the present invention will now be described.
The semiconductor element of the present invention includes a cured resin body having a circuit therein, and the metal powder is dispersed in the cured resin body.
回路は外部電極と繋がることで導通可能なものであれば特に限定されない。形状等も特に限定されず、例えばコイルであってよい。回路がコイルである場合、その半導体素子はインダクタとなり得る。 The circuit is not particularly limited as long as it can be electrically conductive by connecting to an external electrode. There is also no particular limit to the shape, and it may be, for example, a coil. If the circuit is a coil, the semiconductor element can be an inductor.
樹脂硬化体は、前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとが反応してなる反応生成物である。
前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとは硬化剤(架橋剤)によって架橋してなる反応生成物であってよい。
樹脂硬化体を構成するエポキシ樹脂と、ジエン系ゴムと、金属粉末との量比、その他成分や、エポキシ樹脂とジエン系ゴムとの好ましい比率等については、前述の本発明のシートの場合と同様である。
The cured resin is a reaction product obtained by reacting the epoxy resin with the diene rubber.
The epoxy resin and the diene rubber may be a reaction product formed by crosslinking with a curing agent (crosslinking agent).
The ratio of the amounts of epoxy resin, diene rubber, and metal powder that constitute the resin cured body, other components, and the preferred ratio of epoxy resin and diene rubber are the same as those in the sheet of the present invention described above.
樹脂硬化体の回路以外の部分における金属粉末の含有率は、前述の本発明のシートに含まれる金属粉末の含有率と同様であってよい。 The metal powder content in the portions of the cured resin body other than the circuits may be the same as the metal powder content contained in the sheet of the present invention described above.
<製造方法>
本発明のシートから本発明の半導体素子を製造する方法について、図を用いて説明する。
図1は、2つの本発明のシート1、3を用意し、そのうちの一方の本発明のシート1の主面上に回路5を形成した状態を示している。
その後、図2に示すように、回路5を2つの本発明のシート1、3によって挟み込むように、本発明のシート1と本発明のシート3との主面同士を付ける。
そして、2つの本発明のシート1、3を押し付け合うように、熱プレスを施す。ここで加熱温度は、本発明のシート1、3に含まれるエポキシ樹脂とジエン系ゴムとが熱硬化(熱の作用によって架橋)する温度であればよい。例えば、ジエン系ゴムとしてNBRを用い、架橋剤としてイミダゾールを用いる場合、165℃以上であることが好ましく、165~200℃程度に保持した状態で、0.1~10MPakgf/m2、真空度0.1Torr以下でのプレス加工を施すことが好ましい。そうすると、2つの本発明のシート同士が反応して、これらを一体化することができる。
その後、図3に示すように、内部の回路と導通する外部電極7を取り付けることが好ましい。
このようにして、本発明の半導体素子10を得ることが好ましい。
<Production Method>
A method for producing a semiconductor element of the present invention from the sheet of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a state in which two
Thereafter, as shown in FIG. 2, the main surfaces of the
Then, the two
Thereafter, as shown in FIG. 3, it is preferable to attach an
In this manner, the
以下の原材料を用意し、これらを特定の配合比で混合して組成物を得た。各実施例および各比較例における配合比を第1表に示す。
・エポキシ樹脂:jER1009F、三菱化学株式会社製
・SEBS(水添スチレン系熱可塑性エラストマー):タフテックM1913、旭化成ケミカルズ社製
・アクリルゴム:NIPOL AR 51、日本ゼオン社製
・分散剤:DISPERBYK142、ビックケミー社製
・硬化剤(イミダゾール):2PHZ-PW、四国化成工業社製
・磁性粉:ケイ素を3.5wt%、クロムを4.5wt%含む球状鉄粉を扁平化処理し、平均粒子径30μmの磁性粉を用いた。
なお、NBRは以下の方法で合成した。
<NBRの合成方法>
反応容器に、イオン交換水180部、濃度10重量%のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液25部、アクリロニトリル28.0部、マレイン酸モノn-ブチル3部、及びt-ドデシルメルカプタン(分子量調整剤)0.5部の順に加え、内部を窒素置換した後、1,3-ブタジエン43部を仕込んだ。反応器を5℃に保ち、クメンハイドロパーオキサイド(重合開始剤)0.1部を加え、攪拌した。18時間重合反応後、濃度10%のハイドロキノン水溶液(重合停止剤)0.1部を加えて重合反応を停止した後、水温60℃のロータリーエバポレーターを用いて残留単量体を除去し、NBRを得た。次いで、得られNBRに2容量のメタノールを加えて凝固した後、ろ過して固形物を取り出し、これを60℃で12時間真空乾燥することにより、NBR固形物を得た。得られたNBRはアクリロニトリル単量体単位含有量が27質量%、質量平均分子量30万であった。
The following raw materials were prepared and mixed in specific ratios to obtain compositions. The ratios in each of the examples and comparative examples are shown in Table 1.
Epoxy resin: jER1009F, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. SEBS (hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer): Tuftec M1913, manufactured by Asahi Kasei Chemicals. Acrylic rubber: NIPOL AR 51, manufactured by Zeon Corporation. Dispersant: DISPERBYK142, manufactured by BYK. Hardener (imidazole): 2PHZ-PW, manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd. Magnetic powder: Spherical iron powder containing 3.5 wt% silicon and 4.5 wt% chromium was flattened to produce magnetic powder with an average particle size of 30 μm.
The NBR was synthesized by the following method.
<Method of synthesizing NBR>
In a reaction vessel, 180 parts of ion-exchanged water, 25 parts of a 10% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate, 28.0 parts of acrylonitrile, 3 parts of mono n-butyl maleate, and 0.5 parts of t-dodecyl mercaptan (molecular weight modifier) were added in this order, and the inside was replaced with nitrogen, and then 43 parts of 1,3-butadiene was charged. The reactor was kept at 5°C, and 0.1 parts of cumene hydroperoxide (polymerization initiator) was added and stirred. After 18 hours of polymerization reaction, 0.1 parts of a 10% aqueous solution of hydroquinone (polymerization terminator) was added to terminate the polymerization reaction, and the residual monomer was removed using a rotary evaporator with a water temperature of 60°C to obtain NBR. Next, 2 volumes of methanol were added to the obtained NBR to coagulate it, and then the solid was filtered to take out, and this was vacuum dried at 60°C for 12 hours to obtain an NBR solid. The obtained NBR had an acrylonitrile monomer unit content of 27% by mass and a mass average molecular weight of 300,000.
次に、各実施例および各比較例の組成物に、195℃、8MPakgf/m2、真空度0.1Torrでの熱プレス加工を施して硬化させ、樹脂硬化体を得た。
そして、得られた樹脂硬化体を用いて、以下の試験を行った。
Next, the compositions of each of the Examples and Comparative Examples were cured by hot pressing at 195° C., 8 MPa kgf/m 2 and a vacuum degree of 0.1 Torr to obtain cured resin bodies.
The obtained cured resin was subjected to the following tests.
<耐溶剤性試験>
ノルマルプロピルアルコールと、イソプロパノールと、エタノールとを1:1:1の質量比で混合した溶剤を作成した。この溶剤の組成は、一般的に用いられているフラックス洗浄剤に近い。
このような溶剤中に、各樹脂硬化体を65℃、20分間浸漬し、耐溶剤性を評価した。評価基準は以下の通りである。結果を第1表に示す。
◎:浸漬後、厚み変化が5%未満であったもの。
○:浸漬後、厚み変化が5%以上、10%未満であったもの。
△:浸漬後、厚み変化が10%以上、20%未満であったもの。
×:浸漬後、厚み変化が20%以上増加したもの。
<Solvent resistance test>
A solvent was prepared by mixing normal propyl alcohol, isopropanol, and ethanol in a mass ratio of 1:1:1. The composition of this solvent is similar to that of commonly used flux cleaners.
Each cured resin was immersed in such a solvent at 65° C. for 20 minutes to evaluate the solvent resistance. The evaluation criteria are as follows. The results are shown in Table 1.
A: After immersion, the thickness change was less than 5%.
◯: After immersion, the thickness change was 5% or more and less than 10%.
Δ: After immersion, the change in thickness was 10% or more and less than 20%.
×: After immersion, the thickness change increased by 20% or more.
<粉落ち試験>
磁性粉が樹脂硬化体の内部に保持される程度を評価した。評価基準は以下の通りである。結果を第1表に示す。
◎:硬化後の成形体を指先で触れた時、指に転写する粉の転写がほとんどないもの。
○:硬化後の成形体を指先で触れた時、指に転写する粉の転写がほとんどないが、こすると磁性粉が付着するもの。
△:硬化後の成形体を指先で触れた時、指に転写する粉の少ないもの。
×:硬化後の成形体を指先で触れた時、指全面に粉が転写するもの。
<Powder fall test>
The degree to which the magnetic powder was retained inside the hardened resin was evaluated. The evaluation criteria were as follows. The results are shown in Table 1.
⊚: When the hardened molded product is touched with a fingertip, almost no powder is transferred to the finger.
◯: When the hardened molded product was touched with a fingertip, almost no powder was transferred to the finger, but when rubbed, magnetic powder adhered to the finger.
Δ: When the hardened molded product was touched with a fingertip, little powder was transferred to the finger.
×: When the hardened molded product was touched with a fingertip, powder was transferred to the entire finger.
<加工性確認試験>
各樹脂硬化体をダイサーでカットしたときの加工性を評価した。評価基準は以下の通りである。結果を第1表に示す。
◎:加工後の端面において、バリ、ひげ、粒子の脱落等がないもの。
○:加工後の端面において、バリ、ひげ、粒子の脱落等が極一部で発生したもの。
×:加工時にバリ、ひげ、粒子の脱落等の欠陥が発生した、または、硬化物に著しい変形があったもの。
<Processability verification test>
The cured resins were cut with a dicer and the processability was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
◎: No burrs, whiskers, or fallen particles on the end surface after processing.
○: Burrs, whiskers, particles falling off, etc. occurred in a very small area on the end surface after processing.
×: Defects such as burrs, whiskers, and particle loss occurred during processing, or the cured product was significantly deformed.
エポキシ樹脂と、ジエン系ゴム(NBRまたは水添スチレン系熱可塑性エラストマー)と、金属粉末(磁性粉)とを含む混合物からなる実施例1~10の樹脂硬化体は、いずれも耐溶剤性に優れることが確認できた。
また、エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100の値が30~80質量%である実施例3~5の樹脂シートは、耐溶剤性、粉落ち性、加工性のいずれもが優れることが確認できた。
It was confirmed that the resin cured bodies of Examples 1 to 10, which were made of a mixture containing an epoxy resin, a diene-based rubber (NBR or a hydrogenated styrene-based thermoplastic elastomer), and a metal powder (magnetic powder), all had excellent solvent resistance.
In addition, the resin sheets of Examples 3 to 5, in which the value of epoxy resin mass/(epoxy resin mass+diene rubber mass)×100 is 30 to 80 mass%, were confirmed to have excellent solvent resistance, powder fall-off properties, and processability.
これに対してジエン系ゴムを含まない比較例1の樹脂硬化体は、耐溶剤性及び粉落ち性が劣っていた。
また、ジエン系ゴムを含まない(代わりにアクリルゴムを含む)比較例2の樹脂硬化体は、耐溶剤性が顕著に劣っていた。
In contrast, the cured resin material of Comparative Example 1, which did not contain a diene rubber, was poor in solvent resistance and powder falling off properties.
Moreover, the cured resin material of Comparative Example 2, which did not contain a diene rubber (containing an acrylic rubber instead), had significantly poor solvent resistance.
1 本発明のシート
3 本発明のシート
5 回路
7 外部電極
10 本発明の半導体素子
1 Sheet of the
Claims (8)
前記混合物における前記エポキシ樹脂と、前記ジエン系ゴムと、前記磁性体粉末との合計含有率は90質量%以上であり、
前記混合物における前記磁性体粉末の含有率は70~93質量%であり、
前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%(ただし48.2質量%以上を除く)である、半導体素子形成用の樹脂シート。 The adhesive is made of a mixture containing an epoxy resin, a diene rubber, and a magnetic powder,
a total content of the epoxy resin, the diene rubber, and the magnetic powder in the mixture is 90 mass% or more;
The content of the magnetic powder in the mixture is 70 to 93 mass %,
A resin sheet for forming a semiconductor element, in which a mass ratio of the epoxy resin to a total amount of the epoxy resin and the diene-based rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene-based rubber)×100) is 30 to 80 mass % (excluding 48.2 mass % or more) .
前記樹脂硬化体がエポキシ樹脂とジエン系ゴムとの反応生成物であり、
前記樹脂硬化体における前記エポキシ樹脂と、前記ジエン系ゴムと、前記磁性体粉末との合計含有率は90質量%以上であり、
前記樹脂硬化体における前記磁性体粉末の含有率は70~93質量%であり、
前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%(ただし48.2質量%以上を除く)である、半導体素子。 A semiconductor element including a resin cured body having a magnetic powder dispersed therein and including a circuit therein,
the cured resin is a reaction product of an epoxy resin and a diene rubber,
a total content of the epoxy resin, the diene rubber, and the magnetic powder in the cured resin body is 90 mass% or more;
the content of the magnetic powder in the cured resin body is 70 to 93 mass %,
a mass ratio of the epoxy resin to a total amount of the epoxy resin and the diene-based rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene-based rubber)×100) is 30 to 80 mass % (excluding 48.2 mass % or more) .
前記樹脂硬化体がエポキシ樹脂とジエン系ゴムとの反応生成物であり、
前記樹脂硬化体における前記エポキシ樹脂と、前記ジエン系ゴムと、前記磁性体粉末との合計含有率は90質量%以上であり、
前記樹脂硬化体における前記磁性体粉末の含有率は70~93質量%であり、
前記エポキシ樹脂と前記ジエン系ゴムとの合計量に対する前記エポキシ樹脂の質量割合(エポキシ樹脂の質量/(エポキシ樹脂の質量+ジエン系ゴムの質量)×100)が30~80質量%(ただし48.2質量%以上を除く)である、インダクタ。 An inductor including a resin cured body having magnetic powder dispersed therein and including a circuit therein,
the cured resin is a reaction product of an epoxy resin and a diene rubber,
a total content of the epoxy resin, the diene rubber, and the magnetic powder in the cured resin body is 90 mass% or more;
the content of the magnetic powder in the cured resin body is 70 to 93 mass %,
An inductor, wherein a mass ratio of the epoxy resin to a total amount of the epoxy resin and the diene-based rubber (mass of epoxy resin/(mass of epoxy resin+mass of diene-based rubber)×100) is 30 to 80 mass % (excluding 48.2 mass % or more) .
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