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JP7499869B2 - Connecting the parts - Google Patents
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Description

本発明は、第一部品を第二部品に接続する方法及び接続要素に関し、また、互いに接続された2つの部品の装置にも関し、特に電子部品に関連するものに関する。 The present invention relates to a method and a connection element for connecting a first component to a second component, and also to an arrangement of two components connected to each other, particularly in relation to electronic components.

本発明は、さらに、第一接触面を第二接触面に接続する方法と、第一接触面を第二接触面に接続するために接続要素を使用することに関し、また、互いに接続された2つの接触面の装置にも関し、特に電子部品に関連するものに関する。 The invention further relates to a method for connecting a first contact surface to a second contact surface and to the use of a connecting element for connecting a first contact surface to a second contact surface, and also to an arrangement of two contact surfaces connected to each other, in particular in relation to electronic components.

多種多様な用途において、物体同士を接続するニーズは存在する。例えば、2つの金属物体や、異なる材料で作られた2つの物体を、互いに接続するような場合がある。特にエレクトロニクス分野がこれに該当する。従来技術からは、このような接続部を形成するための様々な方法が知られている。特に知られているのは、例えば、銅製の電気導体又は物体を、溶接・硬ろう付け・軟ろう付け・接着結合・ネジ締め・リベット締め・エンボス加工を用いて接続する方法である。この種の方法では、下準備された表面を互いに対して正確に合わせて接続される。したがって、接続対象の物体は、その長さ及び接続位置に関して、明確に且つ幾何学的に定められ準備される必要がある。さらに、接続部を作製するための準備、例えば、穿孔又は対応する接続要素の用意等を事前に行わなければならない。接着結合・ネジ締め・リベット締めによる接続技術は、室温で行う処理である。一方、溶接・軟ろう付け・硬ろう付けは、高温で行う処理であり、液体金属が製造され、これが所定容積に充填されたり、接合部と金属的に相互作用する。 There is a need to connect objects together in a wide variety of applications, for example two metal objects or objects made of different materials. This is especially the case in the electronics field. Various methods are known from the prior art for producing such connections. In particular, methods are known for connecting electrical conductors or objects, for example made of copper, by welding, hard soldering, soft soldering, adhesive bonding, screwing, riveting or embossing. In such methods, the connection is made by precisely matching prepared surfaces with respect to one another. The objects to be connected must therefore be clearly and geometrically defined and prepared with respect to their length and the connection position. Furthermore, preparations must be made in advance for making the connection, for example by drilling holes or providing corresponding connection elements. Connection techniques by adhesive bonding, screwing or riveting are processes carried out at room temperature. On the other hand, welding, soft soldering or hard soldering are processes carried out at high temperatures, in which a liquid metal is produced, which fills a volume or interacts metallically with the joint.

溶接は、通常は1400℃にもなる相当な温度が投入されるため、一方では、対象の物体を相当な程度まで加熱することにより可燃性材料による火災を引き起こす虞があるという不利な点がある。接続対象の物体の表面に視覚的変化も起こることがあり、これは特にラッカー、フィルム又はコーティングで前処理された表面では問題となる場合がある。加えて、溶接できない材料も多い。 Welding has the disadvantage that it involves the application of considerable temperatures, usually up to 1400°C, which can heat the objects to a considerable extent and thus cause fires with flammable materials. It can also cause visual changes to the surfaces of the objects being joined, which can be problematic especially for surfaces that have been pretreated with lacquers, films or coatings. In addition, many materials cannot be welded.

例えば銅の硬ろう付けも、相当な熱エネルギーが投入されるため、接続部に関連する部品がかなり(特に400℃超まで)加熱されることが起こり得る。これは、引火性材料を発火させかねない。 For example, copper hard soldering involves the input of significant thermal energy, which can result in significant heating of the parts involved in the connection (especially to above 400°C). This can lead to the ignition of flammable materials.

例えば銅の軟ろう付けは、接続部のせん断強度が所望よりも低い一方で、軟ろう付けの場合には、温度負荷が変化することによる金属の脱混合、ひいては接続部の脆化につながるという不利な点がありうる。これにより、接続部の不具合が生じる場合がある。さらに、軟ろう付けは、例えば純銅よりも接続部の伝達抵抗が非常に大きいという不利な点がある。この他に軟ろう付け接続部の不利な点としては、機械的疲労強度が低いことがあるが、通常は約120℃までしか存在しない。このような接続部の酸性媒質に対する耐食性も不十分であることが多い。 Soft soldering, for example of copper, can have the disadvantage that the shear strength of the connection is lower than desired, while soft soldering can lead to demixing of the metals due to changing temperature loads and thus embrittlement of the connection. This can lead to failure of the connection. Furthermore, soft soldering has the disadvantage that the transmission resistance of the connection is much higher than, for example, pure copper. Another disadvantage of soft soldered connections is the low mechanical fatigue strength, which usually only exists up to about 120 °C. The corrosion resistance of such connections in acidic media is also often insufficient.

特に伝導性の部品(例として銅部品等)の接着結合の際には、この接着結合によって電気的な伝達抵抗が相当な程度まで悪影響を受けるという不利な点がよくある。伝導性の結合が、接続部の機械的強度の点における機械的要件を常に満たすことは不可能である。また、十分な機械的強度があっても、通常はせいぜい120℃の温度範囲までしか存在しない。これにより、特に、温暖又は高温の環境での使用や、高温媒質の使用が不可能になる場合がある。 Particularly in the adhesive bonding of conductive components (e.g. copper components), it is often a disadvantage that the electrical transmission resistance is adversely affected to a considerable extent by the adhesive bond. It is not always possible for a conductive bond to fulfill the mechanical requirements in terms of the mechanical strength of the connection. Furthermore, even if there is sufficient mechanical strength, it usually only exists up to a temperature range of 120°C. This may preclude use in particular in warm or hot environments or with hot media.

ネジ締め及びリベット締めの場合には、パーツを特に正確に結合しなければならない。また、ネジ締め又はリベット締めでの接続で必要な穴や構造により、構築物全体の視覚的及び機械的外観の視覚的損傷が生じることはよくある。さらに、構築の観点では、接続が行われるべき正確な位置が事前に分かっているようにすることが必要である。それにより、長さが決まっていない部品を使用することがより複雑になるか又は妨げられる場合がある。さらに、このような接続部の場合には、通常は部品間に残留間隙が存在する。毛細管現象によって残留間隙に水分が入り込むことがあり、続いて腐食が引き起こされる。腐食は接続部にダメージを与えかねない。また、接続部の電気や熱による伝達抵抗も増加する場合がある。さらに、ネジ締め又はリベット締め用の穴が、接続部の領域で漏れを引き起こすこともある。これにより、例えば容器又は圧力システムでこのような接続部を使用することが、特に、密閉手段がさらに必要である点で、より困難になる場合がある。 In the case of screwing and riveting, the parts must be joined particularly precisely. Furthermore, the holes and structures required for screwing or riveting connections often cause visual damage to the visual and mechanical appearance of the entire construction. Furthermore, from a construction point of view, it is necessary to ensure that the exact position where the connection has to be made is known in advance, which may make the use of parts of no fixed length more complicated or even preclude it. Furthermore, in the case of such connections, residual gaps are usually present between the parts. Moisture can penetrate into the residual gaps by capillary action, which then leads to corrosion. Corrosion can damage the connection. The electrical and thermal transfer resistance of the connection may also increase. Furthermore, the holes for screwing or riveting can cause leaks in the area of the connection. This can make the use of such connections, for example, in containers or pressure systems more difficult, in particular in that additional sealing means are required.

このことから、本発明の目的は、先行技術に関連して考察された技術的な問題を解決するか又は少なくとも軽減することである。特に機械的に安定であり且つ特に良好な熱伝導性を有する接続部が、特に信頼性が高く且つ簡易な態様で部品同士の間に形成されているか又は形成するように、第一部品を第二部品に接続する方法及び接続要素を提供すること、また、互いに接続された2つの部品の装置を提供することが意図されている。 The object of the present invention is therefore to solve or at least alleviate the technical problems considered in relation to the prior art. It is intended to provide a method and a connection element for connecting a first part to a second part, such that a connection that is particularly mechanically stable and has particularly good thermal conductivity is or is formed between the parts in a particularly reliable and simple manner, as well as to provide an arrangement of two parts connected to each other.

このことから、本発明の目的は、先行技術に関連して考察された技術的な問題を解決するか又は少なくとも軽減することである。特に機械的に安定であり且つ特に良好な熱伝導性を有する接続部が、特に信頼性が高く且つ簡易な態様で部品同士の間に形成されているか又は形成するように、第一部品を第二部品に接続する方法及び接続要素を提供すること、また、互いに接続された2つの部品の装置を提供することが意図されている。 The object of the present invention is therefore to solve or at least alleviate the technical problems considered in relation to the prior art. It is intended to provide a method and a connection element for connecting a first part to a second part, such that a connection that is particularly mechanically stable and has particularly good thermal conductivity is or is formed between the parts in a particularly reliable and simple manner, as well as to provide an arrangement of two parts connected to each other.

特に、特に機械的に安定であり且つ特に良好な電気伝導性及び熱伝導性の少なくとも一方を有する接続部が、特に信頼性が高く且つ簡易な態様で接触面同士の間に形成されているか又は形成されるように、第一接触面を第二接触面に接続する方法と、第一接触面を第二接触面に接続するために接続要素を使用することを提供すること、また、互いに接続された2つの接触面の装置を提供することも意図されている。 In particular, it is intended to provide a method for connecting a first contact surface to a second contact surface and to use a connecting element for connecting the first contact surface to the second contact surface, such that a connection that is particularly mechanically stable and has at least one of particularly good electrical and thermal conductivity is or can be formed between the contact surfaces in a particularly reliable and simple manner, and also to provide an arrangement of two contact surfaces connected to one another.

前述の目的は、独立特許請求項の特徴による方法、接続要素、接続要素の使用、及び装置によって達成される。従属請求項はそれぞれ、有利な構成を示している。請求項において個々に詳述する特徴は、技術的に有意な任意の態様で互いに組み合わせ可能であり、本発明の更なる変形例を詳述している本明細書の説明的な技術内容によって補完されうる。 The above-mentioned object is achieved by a method, a connecting element, the use of a connecting element and a device according to the features of the independent patent claims. The dependent claims each indicate advantageous configurations. The features recited individually in the claims can be combined with one another in any technically significant manner and can be supplemented by the explanatory technical content of the present specification recited further variants of the invention.

本発明によれば、第一部品を第二部品に接続する方法が提示される。この方法は、
a)接続要素を設けるステップであって、
接続要素は、接続要素の第一側にある第一接続面上と接続要素の第一側と反対の第二側にある第二接続面上とのそれぞれに、多数のナノワイヤを備えており、
第一接続面と第二接続面は、互いに対して電気的に絶縁されている、ステップと、
b)第一部品の接触面と接続要素の第一接続面とを合わせるステップと、
c)第二部品の接触面と接続要素の第二接続面とを合わせるステップと
を含む。
In accordance with the present invention, a method for connecting a first part to a second part is provided, the method comprising the steps of:
a) providing a connecting element,
the connecting element comprises a number of nanowires on a first connecting surface on a first side of the connecting element and on a second connecting surface on a second side of the connecting element opposite the first side;
the first connecting surface and the second connecting surface being electrically insulated from each other;
b) mating a contact surface of the first part with a first connecting surface of the connecting element;
and c) mating the contact surface of the second part with the second connecting surface of the connecting element.

第一部品及び第二部品は、例えば、半導体部品、コンピュータチップ、マイクロプロセッサ又はプリント回路基板等の電子部品であることが好ましい。第一部品又は第二部品又はその両方は、少なくとも部分的に熱伝導性であることが好ましい。第一部品又は第二部品又はその両方は、全体的又は部分的に電気伝導性であるか又は電気的に絶縁であってもよい。接続面同士の間が電気的に絶縁であることにより、電気伝導性部品が電気伝導可能な態様で互いに接続されない。 The first and second components are preferably electronic components, such as, for example, semiconductor components, computer chips, microprocessors, or printed circuit boards. The first or second component, or both, are preferably at least partially thermally conductive. The first or second component, or both, may be wholly or partially electrically conductive or electrically insulating. Electrical insulation between the connection surfaces ensures that the electrically conductive components are not connected to each other in an electrically conductive manner.

ここで使用される意味における電気伝導性や熱伝導性は、特に金属(例として銅)に存在するものであり、一般に「電気伝導性の」又は同義語として「電気伝導的な」、「熱伝導性の」又は「熱伝導的な」とも言われる。特に、一般に電気絶縁又は熱絶縁又はその両方であるとみなされる材料が電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方であるとみなされることは、ここでは意図されていない。第一接続面と第二接続面との間の電気抵抗が四端子測定において少なくとも100KΩと測定される場合は、第一接続面と第二接続面は互いに電気的に絶縁されているとみなすことが意図されている。この測定は、室温、空気湿度20%、定電圧(すなわち交流電圧ではない)で行われたものであり、第一接続面上及び第二接続面上のそれぞれの電極を用いており、電極は1cmの面積にわたってそれぞれの接続面に接触している。 Electrical and thermal conductivity in the sense used herein is present in particular in metals (copper, for example) and is also generally referred to as "electrically conductive" or synonymously as "electrically conductive", "thermally conductive" or "thermally conductive". In particular, it is not intended herein to consider materials that are generally considered to be electrically insulating or thermally insulating or both as being electrically conductive or thermally conductive or both. It is intended to consider the first and second connecting surfaces as being electrically insulated from each other if the electrical resistance between the first and second connecting surfaces is measured to be at least 100 KΩ in a four-terminal measurement. This measurement was performed at room temperature, with an air humidity of 20%, at a constant voltage (i.e. not an alternating voltage), with respective electrodes on the first and second connecting surfaces, the electrodes contacting the respective connecting surfaces over an area of 1 cm2.

本方法は、エレクトロニクスの分野での用途に制限されない。例えば、(第一部品としての)センサ等の部品が(第二部品としての)壁又はマウントに、本方法によって固定されることも可能である。本方法を用いて、特に機械的に安定であり、電気絶縁であり、好ましくは熱伝導性である接続部を、第一部品と第二部品との間に形成することが可能である。このように、本方法は、2つの部品の間に対応する接続部が必要とされる全ての分野で採用されうる。本方法は、所定の大きさの部品に限定されることもない。したがって、本方法は、例えばエレクトロニクス、特にマイクロエレクトロニクスの分野での用途に、又は、巨視的レベルの相当な大きさの部品の接続に適する。 The method is not limited to applications in the field of electronics. For example, a component such as a sensor (as a first component) can also be fixed by the method to a wall or a mount (as a second component). Using the method, a connection can be formed between a first component and a second component that is particularly mechanically stable, electrically insulating and preferably thermally conductive. In this way, the method can be employed in all fields where a corresponding connection between two components is required. The method is also not limited to components of a certain size. The method is therefore suitable for applications in the field of electronics, particularly microelectronics, for example, or for connecting components of considerable size at a macroscopic level.

部品は、それぞれの接触面を介して接続要素に接続することができる。接触面は、特に、それぞれの部品の表面の、空間的に区別される領域である。特に、接触面は、接続部の形成によって区別されることが好ましい。これは、接触面が最初は部品の表面の他の部分と異なっていないこと、且つ、接触面は接続部の形成によってはじめて接続部の上に形成されたエリアであることから、接触面が区別されることを意味する。この場合、接触面は、最初は、部品の表面の他の部分と概念的に区別されるにすぎない。接触面の領域で、接続要素のナノワイヤがそれぞれの部品と接触することができる。 The components can be connected to the connection element via their respective contact surfaces. The contact surfaces are in particular spatially distinct areas of the surface of the respective components. In particular, the contact surfaces are preferably differentiated by the formation of the connection. This means that the contact surfaces are initially not different from the rest of the surface of the components and are differentiated because they are areas formed on the connection only by the formation of the connection. In this case, the contact surfaces are initially only conceptually distinct from the rest of the surface of the components. In the region of the contact surfaces the nanowires of the connection element can come into contact with the respective components.

接触面はいずれも、それぞれの部品の表面の単に連続した形の領域であることが好ましい。あるいは、第一部品又は第二部品又はその両方の接触面それぞれが、それぞれの部品の表面の複数の別々の小領域にさらに分割されることが可能である。したがって、接触面は、各部品の表面の2つ以上の別々の部分から構成されることができる。接触面は、電気伝導性又は電気絶縁であるか又は熱伝導性又は熱絶縁であるか又はそれらの組み合わせでありうる。接続面間が電気絶縁であることにより、接続部はいずれの場合にも電気絶縁である。 Preferably, each contact surface is simply a continuous area of the surface of the respective part. Alternatively, each contact surface of the first part or the second part or both can be further divided into a number of separate sub-areas of the surface of the respective part. Thus, the contact surface can be made up of two or more separate portions of the surface of each part. The contact surfaces can be electrically conductive or electrically insulating or thermally conductive or thermally insulating or a combination thereof. By virtue of the electrical insulation between the connecting surfaces, the connection is in each case electrically insulating.

部品は、剛性設計のものであるか、又は少なくとも1つの剛性表面を有し、その上にそれぞれの接触面が設けられることが好ましい。これは特に、部品(又は少なくとも接触面)が可撓性でないことが好ましいことを意味する。剛性の部品又は接触面により、接続部を本方法にしたがって特に満足できる態様で形成することが可能となる。例えば部品のうちの一つを可撓性設計のものとすれば、ナノワイヤの荷重のために接続部が壊れることもありうる。しかし、厳密な状況次第では、可撓性部品又は接触面を用いて、本方法を有利に実施することも可能となる。 The components are preferably of rigid design or have at least one rigid surface on which the respective contact surface is provided. This means in particular that the components (or at least the contact surface) are preferably not flexible. Rigid components or contact surfaces allow the connection to be formed in a particularly satisfactory manner according to the method. If, for example, one of the components is of flexible design, the connection may break due to the load of the nanowires. However, depending on the exact circumstances, it is also possible to advantageously carry out the method using flexible components or contact surfaces.

本方法では、第一部品と接続要素との間の接続部は、多数のナノワイヤを介して形成される。 In this method, the connection between the first component and the connection element is formed via a number of nanowires.

本明細書におけるナノワイヤとは、数ナノメートルから数マイクロメートルの範囲のサイズをワイヤ状の任意の材料体を意味するものと理解されるべきである。ナノワイヤは、例えば円形状、楕円形状、多角形状の底面を有してもよい。特に、ナノワイヤは六角形状の底面を有してもよい。接続部に関連する全てのナノワイヤは、同じ材料から形成されることが好ましい。接続要素の構成のおかげで、ナノワイヤが電気伝導性材料から形成されるときに、接続される部品の接触面間の電気絶縁も提供される。このように、ナノワイヤは、電気伝導性の材料及び電気絶縁の材料の少なくとも一方から形成されることが可能である。 Nanowires in this specification should be understood to mean any wire-like material body with a size ranging from a few nanometers to a few micrometers. Nanowires may for example have a circular, elliptical or polygonal base. In particular, nanowires may have a hexagonal base. All nanowires involved in a connection are preferably made of the same material. Thanks to the configuration of the connection elements, when the nanowires are made of an electrically conductive material, electrical insulation between the contact surfaces of the components to be connected is also provided. Thus, nanowires can be made of at least one electrically conductive and insulating material.

第一接続面上のナノワイヤは、第二接続面上のナノワイヤと同じ材料から形成されることが好ましい。あるいは、第一接続面上のナノワイヤと第二接続面上のナノワイヤは、異なる材料から形成されることが好ましい。 The nanowires on the first connecting surface are preferably formed from the same material as the nanowires on the second connecting surface. Alternatively, the nanowires on the first connecting surface and the nanowires on the second connecting surface are preferably formed from different materials.

特に好ましくは、第一接続面上のナノワイヤ及び第二接続面上のナノワイヤの少なくとも一方は、それぞれの金属から形成される。さらに好ましくは、第一接続面上のナノワイヤが第一部品の接触面の材料から形成されるか、又は、第二接続面上のナノワイヤが第二部品の接触面の材料から形成される、又は、その両方である。 Particularly preferably, at least one of the nanowires on the first connecting surface and the nanowires on the second connecting surface are formed from the respective metal. Even more preferably, the nanowires on the first connecting surface are formed from the material of the contact surface of the first component, or the nanowires on the second connecting surface are formed from the material of the contact surface of the second component, or both.

ナノワイヤの材料に応じて、接続部は異なる特性を有しうる。特に、接続部の機械的強度及び熱伝導性は、ナノワイヤの材料によって影響を受ける。ナノワイヤが2つの接続面上に異なる材料から形成されることにより、異なる特性を有する2つの接続部を形成することが可能とある。このように、本来なら互いに接続できないか又は接続しづらい2つの部品が接続要素を介して互いに接続できるので、接続要素は、接続対象の2つの部品の間の中継物とみなすことができる。 Depending on the material of the nanowire, the connection may have different properties. In particular, the mechanical strength and thermal conductivity of the connection are influenced by the material of the nanowire. By forming the nanowire from different materials on the two connection surfaces, it is possible to form two connections with different properties. In this way, two parts that would otherwise be impossible or difficult to connect to each other can be connected to each other via the connection element, so that the connection element can be considered as an intermediate between the two parts to be connected.

ナノワイヤは、100nm[ナノメートル]~100μm[マイクロメートル]の範囲の長さ、特に500nm~30μmの範囲の長さを有することが好ましい。さらに、ナノワイヤは、10nm~10μmの範囲の直径、特に30nm~2μmの範囲の直径を有することが好ましい。本明細書における「直径」という表現は円形の底面に関するものであり、これから逸脱する底面の場合には、同様の直径の定義を用いるものとする。使用される全てのナノワイヤが同じ長さ及び同じ直径を有することが特に好ましい。 The nanowires preferably have a length in the range of 100 nm [nanometers] to 100 μm [micrometers], in particular a length in the range of 500 nm to 30 μm. Furthermore, the nanowires preferably have a diameter in the range of 10 nm to 10 μm, in particular a diameter in the range of 30 nm to 2 μm. The expression "diameter" in this specification relates to a circular base, and in the case of bases deviating from this, a similar definition of diameter shall be used. It is particularly preferred that all nanowires used have the same length and the same diameter.

本発明の本方法では、部品は、接続要素を介して間接的に互いに接続される。これには、いずれの部品上にもナノワイヤを設ける必要がないという利点がある。ナノワイヤは、接続要素上に存在すればよい。特に、ナノワイヤは、部品の接触面上ではなく、接続要素の接続面上だけに設けられることが好ましい。これにより、本方法の実行がより容易になり、特に本方法の適用範囲を、ナノワイヤが成長できないか又は成長しづらい部品にも広げることができる。ナノワイヤは、部品とは離れて局所的に成長させることもできる。それにもかかわらず、代わりにそれぞれの多数のナノワイヤが第一部品の接触面上及び第二部品の接触面上の少なくとも一方に設けられることも好ましい。 In the method of the invention, the components are indirectly connected to one another via the connecting elements. This has the advantage that it is not necessary to provide nanowires on any of the components. The nanowires only need to be present on the connecting elements. In particular, it is preferred that the nanowires are only provided on the connecting surfaces of the connecting elements and not on the contact surfaces of the components. This makes the method easier to carry out and in particular allows the method to be extended to components where nanowires cannot or are difficult to grow. The nanowires can also be grown locally away from the components. Nevertheless, it is also preferred that instead a respective multiplicity of nanowires is provided on at least one of the contact surfaces of the first component and the contact surface of the second component.

接続要素は、可撓性構成のものであることが好ましい。あるいは、接続要素は、剛性構成のものであることが好ましい。接続要素は、例えば固体小金属プレートの形で構成されうる。その場合、接続面間の電気絶縁は、1つ又は複数の被覆によって実現することができる。 The connecting element is preferably of flexible construction. Alternatively, the connecting element is preferably of rigid construction. The connecting element may be constructed, for example, in the form of a solid small metal plate. In that case, electrical insulation between the connecting surfaces may be achieved by one or more coatings.

接続要素は、プラスチックから形成されることが好ましい。例えば、接続要素は、ポリマーから形成することが可能であり、特にポリカーボネート、PVC、ポリエステル、ポリエチレン、ポリアミド、PET又はこれらの組み合わせから形成することが可能である。また、接続要素は、セラミック材料、シリコン、酸化アルミニウム、ガラス等から形成するとも可能である。さらに、接続要素は、ステンレス鋼、アルミニウム、非鉄金属から形成することも可能である。接続要素は、前述の材料のいくつかを含む複合材料から形成されることも好ましい。 The connecting element is preferably made of plastic. For example, the connecting element can be made of a polymer, in particular polycarbonate, PVC, polyester, polyethylene, polyamide, PET or a combination thereof. The connecting element can also be made of ceramic materials, silicon, aluminum oxide, glass, etc. Furthermore, the connecting element can be made of stainless steel, aluminum, non-ferrous metals, etc. The connecting element is also preferably made of a composite material that includes some of the aforementioned materials.

ステップa)で、2つの接続面を有する接続要素が設けられる。2つの接続面はそれぞれ、多数のナノワイヤを有する。第一接続面は接続要素の第一側に設けられており、第二接続面は接続要素の第二側に設けられている。接続要素の第一側と第二側とは、互いに反対側に設けられている。接続要素の第一側は、接続部の形成後に第一部品側に向く接続要素の側である。接続要素の第二側は、接続部の形成後に第二部品側に向く接続要素の側である。したがって、接続部の形成後に、2つの部品の接触面が互いに対向する態様で接続要素の2つの側に設けられることによって、本方法を用いて部品同士を接続することができる。この場合、2つの接触面の間の間隔は、接続要素の厚さとナノワイヤが占有する空間とのみにより生じる。 In step a), a connection element is provided having two connection surfaces. Each of the two connection surfaces has a number of nanowires. The first connection surface is provided on a first side of the connection element, and the second connection surface is provided on a second side of the connection element. The first and second sides of the connection element are provided on opposite sides. The first side of the connection element is the side of the connection element that faces the first component after the connection is formed. The second side of the connection element is the side of the connection element that faces the second component after the connection is formed. Thus, after the connection is formed, the contact surfaces of the two components are provided on the two sides of the connection element in a mutually opposing manner, so that the components can be connected using this method. In this case, the distance between the two contact surfaces is caused only by the thickness of the connection element and the space occupied by the nanowires.

接続要素は、本方法のステップa)において設けられる。一方、「設けられる」とは、この場合、記載されたように構成された接続要素が本方法の一部として設けられることを意味すると理解されるものとする。したがって、ナノワイヤを、本方法の一部として接続面に付けることが特に可能であり、特にガルバニック成長を用いて接続面に付けることが可能である。しかしながら、他方では、「設けられる」とは、接続面にナノワイヤが既に設けられている接続要素を使用することも含む。したがって、例えば、対応して準備された接続要素をサプライヤーから入手し、本方法に使用することが可能である。このように準備された接続要素を入手することも、ここで用いられる意味での接続要素を設けることに該当する。 The connection element is provided in step a) of the method. On the one hand, "provided" is to be understood in this case to mean that the connection element configured as described is provided as part of the method. It is therefore in particular possible to apply nanowires to the connection surface as part of the method, in particular by means of galvanic growth. On the other hand, however, "provided" also includes the use of a connection element whose connection surface is already provided with nanowires. Thus, for example, it is possible to obtain correspondingly prepared connection elements from a supplier and use them in the method. The obtaining of such prepared connection elements also constitutes providing a connection element in the sense used here.

ナノワイヤは、該ナノワイヤがそれぞれの接続面に対して略直角(好ましくは直角)であるように接続面に設けられることが好ましい。接続面上のナノワイヤ全体を、特にナノワイヤの芝と言ってもよい。しかし、ナノワイヤは、接続面上に任意の向きで設けることもできる。接続面を複数の(接続された又は別々の)小領域にさらに分割し、ナノワイヤが異なる小領域で異なる方向を向くことも可能である。このようにして、特に、せん断力に特に満足に耐え得る、特に安定な接続部を実現することができる。さらに、ナノワイヤは、特にその長さ、直径、材料及び密度(ナノワイヤの密度は単位面積当たりに提供されるナノワイヤ数を指す)に関して、接続面の異なる所で異なる構成を有することが可能である。 The nanowires are preferably provided on the connection surfaces such that they are substantially perpendicular (preferably perpendicular) to the respective connection surface. The entirety of the nanowires on the connection surface may in particular be referred to as a lawn of nanowires. However, the nanowires can also be provided on the connection surface in any orientation. It is also possible to further divide the connection surface into a number of (connected or separate) sub-regions, with the nanowires pointing in different directions in the different sub-regions. In this way, in particular particularly stable connections can be achieved which can withstand shear forces particularly satisfactorily. Furthermore, the nanowires can have different configurations at different points of the connection surface, in particular with regard to their length, diameter, material and density (density of nanowires refers to the number of nanowires provided per unit area).

接続要素は、特に、第一部品と第二部品との間の接続部の中継物であるとみなすことができる。特に、接続要素として、部品同士を接続するために各部品の接触面の間に設けられるのに適した任意の物理的物体が考えられる。 The connecting element can in particular be considered as an intermediate of the connection between the first part and the second part. In particular, the connecting element can be any physical object suitable to be provided between the contact surfaces of the parts in order to connect them together.

接続面は、特に、接続要素の側面それぞれにおける接続要素の表面の領域であり、空間的に区別される領域である。特に、接続面は、接続部の形成によって区別されることが好ましい。これは、接続面が最初は接続要素の表面の他の部分と異なっていないこと、且つ、接続面は接続部の形成によってはじめて接続部上に形成されたエリアであることから、接続面が区別されることを意味する。この場合、接続面は、接続部の形成前は、接続要素の表面の他の部分と概念的に区別されるにすぎない。例えば、面接続要素の接続面は、その接続要素の区切られたエリア上に(すなわち接続面上に)各部品それぞれに対する面接続部が形成されることで区別することができる。 The connection surface is in particular a region of the surface of the connection element on each of the sides of the connection element, which is a spatially distinct region. In particular, the connection surface is preferably distinguished by the formation of the connection part. This means that the connection surface is distinguished because it is not initially different from the other parts of the surface of the connection element, and is an area formed on the connection part only by the formation of the connection part. In this case, the connection surface is only conceptually distinct from the other parts of the surface of the connection element before the formation of the connection part. For example, the connection surface of a surface connection element can be distinguished by the formation of a surface connection part for each respective component on a delimited area of the connection element (i.e. on the connection surface).

接続面は、対応する接触面と同じ大きさであるのが好ましく、対応する接触面の形状をしていることが特に好ましい。しかし、接触面が対応する接続面よりも大きい又は小さいこと、又は、接触面と対応する接続面とが異なる形状であること、又はその両方が可能である。 The connection surfaces are preferably the same size as the corresponding contact surfaces, and particularly preferably have the shape of the corresponding contact surfaces. However, it is possible for the contact surfaces to be larger or smaller than the corresponding connection surfaces, or for the contact surfaces and the corresponding connection surfaces to have different shapes, or both.

接続面はいずれも、接続要素の表面の単に連続した形の領域であることが好ましい。あるいは、第一接続面又は第二接続面又はその両方が、接続要素の表面の複数の別々の小領域にさらに分割されることが可能である。したがって、接続面は、接続要素の表面の2つ以上の別々の部分から構成されることができる。 Preferably, any connection surface is simply a continuous region of the surface of the connection element. Alternatively, the first connection surface or the second connection surface or both may be further divided into multiple separate sub-regions of the surface of the connection element. Thus, the connection surface may be comprised of two or more separate portions of the surface of the connection element.

ステップb)及びc)では、接触面と接続面とが合わせられる、すなわち互いに向かって移動される。その結果、接続面上のナノワイヤがそれぞれの接触面と接触する。この場合、ナノワイヤが対応する接触面に接続し、その結果、部品と接続要素との間に対応する接続部が形成される。 In steps b) and c), the contact surface and the connection surface are brought together, i.e. moved towards each other, so that the nanowires on the connection surfaces come into contact with the respective contact surface. In this case, the nanowires connect to the corresponding contact surface, so that a corresponding connection is formed between the component and the connection element.

各ナノワイヤが接触面に接続することで、特にそれぞれの接触面に向いた各ナノワイヤの端が接触面に接続することで、接続部が形成される。この接続部は原子レベルで形成される。この原子レベルで進行するプロセスは、焼結の際に生じるプロセスに類似する。得られる接続部は、気密又は液密又はその両方とすることができ、これにより、特に接続部の又は互いに接続された部品又はその両方の腐食が、接続部の領域で阻止又は少なくとも限定することができる。特に、形成される接続部は、完全に金属製とみなせる。この方法は、「KlettWelding(フックアンドループ溶接)」とも言われる。これは、多数のナノワイヤを用いて、つまり多数の細長い毛髪状の構造体を用いて、加熱によって接続部を得ること、を表している。多数のナノワイヤにより、接触面の不均一さや粗さを補うことができる。 A connection is formed by connecting each nanowire to the contact surface, in particular by connecting the end of each nanowire facing the respective contact surface. This connection is formed at the atomic level. This process, which proceeds at the atomic level, is similar to the process that occurs during sintering. The connection obtained can be gas-tight or liquid-tight or both, so that in particular corrosion of the connection or of the parts connected to each other or both can be prevented or at least limited in the area of the connection. In particular, the connection formed can be considered to be completely metallic. This method is also called "KlettWelding", which refers to obtaining a connection by heating using a large number of nanowires, i.e. a large number of elongated hair-like structures. The large number of nanowires makes it possible to compensate for unevenness and roughness of the contact surface.

ナノワイヤのサイズがナノメートル範囲であるために、接続部の表面(すなわちファンデルワールス力等の力が原子レベルで作用するエリア)は特に大きい。よって、接続部は、特に良好な熱伝導性又は機械的安定性又はその両方を有することができる。特に熱伝導性である接続部では、ナノワイヤは熱伝導性材料から形成されることが好ましい。ここでは、銅を使用することが特に好ましい。また、接触面は、熱伝導性材料で形成されることが好ましく、特に銅で形成されることが好ましい。さらに上述したように、銅を使用することは、特に溶接接続部の場合には不可能である。本方法によって得られる接続部の大きな表面により、接続部の熱伝導性を特に高くすることが可能となる。接続部が特に良好な熱伝導性を持つことにより、例えば、接続部に関連する部品の冷却を改善しうる。特に、このために、ナノワイヤ又は接触面又はその両方に銅を使用することが好ましい。 Due to the size of the nanowires in the nanometer range, the surface of the connection (i.e. the area over which forces such as van der Waals forces act at atomic level) is particularly large. The connection can thus have particularly good thermal conductivity or mechanical stability or both. For particularly thermally conductive connections, the nanowires are preferably made of a thermally conductive material. The use of copper is particularly preferred here. The contact surfaces are also preferably made of a thermally conductive material, in particular copper. As further mentioned above, the use of copper is not possible, in particular in the case of welded connections. The large surface of the connection obtained by the method makes it possible to make the thermal conductivity of the connection particularly high. A particularly good thermal conductivity of the connection can, for example, improve the cooling of the components associated with the connection. In particular, the use of copper for the nanowires or the contact surfaces or both for this purpose is preferred.

前述の接続部はさらに、特に簡易な態様で、工具なしで形成可能である。単に部品を接続し接続要素を合わせることだけすればよい。加熱及び圧力の印加は、選択的に行うことが可能であり、絶対に必要というわけではない。 The aforementioned connections can furthermore be formed in a particularly simple manner and without tools. It is only necessary to connect the parts and bring the connection elements together. The application of heat and pressure can be performed selectively and is not absolutely necessary.

方法ステップa)~c)は、好ましくは、記載した順序で行われ、特に連続して行われる。特に、ステップa)は、好ましくは、ステップb)及びc)が開始する前に行われる。 The method steps a) to c) are preferably carried out in the order described, in particular consecutively. In particular, step a) is preferably carried out before steps b) and c) start.

ステップb)及びc)が連続して行われる場合には、第一部品の接触面が第一接続面と最初に合わせられる、すなわち第一部品と接続要素とが最初に合わせられる(ステップb))。続いて、ステップb)で第一部品と合わせられた接続要素が、第二部品の接触面と第二接続面とが合わされるように第二部品と合わせられる(ステップc))。 If steps b) and c) are performed in succession, the contact surface of the first part is first brought into alignment with the first connection surface, i.e. the first part and the connection element are first brought into alignment (step b)). Subsequently, the connection element brought into alignment with the first part in step b) is brought into alignment with the second part, such that the contact surface of the second part is brought into alignment with the second connection surface (step c)).

あるいは、ステップb)及びc)は、同時に、時間的に重なる態様で又は連続して行うことが可能である。これは、例えば、接続要素が2つの部品の間に保持され且つこれらの部品を両側から接続要素に向かって同時に移動する場合に可能である。 Alternatively, steps b) and c) can be performed simultaneously, overlapping in time or successively. This is possible, for example, if the connecting element is held between two parts and these parts are moved simultaneously from both sides towards the connecting element.

本方法の好ましい実施形態では、ステップb)及びステップc)の少なくとも一方は、室温で行われる。 In a preferred embodiment of the method, at least one of steps b) and c) is carried out at room temperature.

接触面と接続面との間にある前述の接続部は、室温でも形成可能である。この場合、2つの部品が互いに押し合わされて接続部を形成することが好ましい。ここで使用される圧力は、3MPa~200MPaの間の範囲内、特に15MPa~70MPaの間の範囲内にあることが好ましい。20MPaの圧力が特に好ましい。 The aforementioned connection between the contact surface and the connection surface can also be formed at room temperature. In this case, it is preferred that the two parts are pressed against one another to form the connection. The pressure used here is preferably in the range between 3 MPa and 200 MPa, in particular in the range between 15 MPa and 70 MPa. A pressure of 20 MPa is particularly preferred.

また、ステップb)及びc)の終了後に加熱が行われないことも好ましい。これにより、温度の作用による部品へのダメージを防止することが可能である。 It is also preferred that no heating is performed after steps b) and c) are completed, in order to prevent damage to the components due to the effects of temperature.

さらに好ましい実施形態において、本方法は、以下をさらに含む。
d)少なくとも接触面を少なくとも90℃の温度に加熱するステップ
In a further preferred embodiment, the method further comprises:
d) heating at least the contact surface to a temperature of at least 90° C.

接触面は、(最低温度として)少なくとも90℃の温度に、好ましくは(最低温度として)少なくとも150℃の温度に加熱される。温度は200℃であることが好ましい。加熱は、最高270℃、特に最高240℃の温度まで行われることが好ましい。本実施形態では、ステップb)及びc)の少なくとも一方が室温で行われることも好ましい。これは、ステップb)及びc)による接続部の形成後にはじめて加熱が行われることを意味する。このようにして、形成された接続部は加熱により補強される。 The contact surfaces are heated to a temperature of at least 90° C. (as a minimum temperature), preferably to a temperature of at least 150° C. (as a minimum temperature). The temperature is preferably 200° C. Heating is preferably carried out to a temperature of up to 270° C., in particular up to 240° C. In this embodiment, it is also preferred that at least one of steps b) and c) is carried out at room temperature. This means that heating is carried out only after the formation of the connection according to steps b) and c). In this way, the formed connection is reinforced by heating.

ステップd)による加熱により、各ナノワイヤが接触面に特に満足できる態様で接続される。したがって、接触面のみが加熱されればよい。実際には、このような加熱では、接触面、ナノワイヤ、接続要素、第一部品の一部又は全体、第二部品の一部又は全体、又は、これらの組み合わせに対して、加熱が行われるのかどうかについて区別できないことが多い。これは、特に熱伝導性材料が使用される場合に当てはまる。接続部の形成のために、接触面以外の要素を(共に)加熱する必要はないが、有害でもない。したがって、ステップd)による加熱は特に、第一部品と、第二部品と、接続要素とがまとめて、例えば炉内で、加熱されることで行うことができる。しかし、あるいは、熱を、接続部の領域に、特に接触面の領域に局所的に導くことも可能である。 The heating according to step d) connects the nanowires to the contact surfaces in a particularly satisfactory manner. Therefore, only the contact surfaces need to be heated. In practice, such heating often does not distinguish whether the contact surfaces, the nanowires, the connection elements, part or all of the first part, part or all of the second part, or a combination of these, are heated. This is particularly true when thermally conductive materials are used. For the formation of the connection, it is not necessary, but is also not harmful, to heat (together) elements other than the contact surfaces. The heating according to step d) can therefore be carried out in particular by heating the first part, the second part and the connection elements together, for example in a furnace. However, it is alternatively possible to introduce heat locally into the region of the connection, in particular into the region of the contact surfaces.

接続部を形成するには、前述の最低温度に一回、短時間でも少なくとも到達すればよい。最低温度を維持する必要はない。しかし、ステップd)で加熱が行われる温度が少なくとも10秒間、好ましくは少なくとも30秒間維持されることが好ましい。これにより、接続部を望んだとおりに形成することが可能となる。原則として、温度がより長く維持されることは有害ではない。 To form the connection, the aforementioned minimum temperature must be reached at least once, even for a short time. It is not necessary to maintain the minimum temperature. It is, however, preferable that the temperature at which heating is carried out in step d) is maintained for at least 10 seconds, preferably at least 30 seconds. This makes it possible to form the connection as desired. In principle, a longer temperature maintenance is not detrimental.

ステップb)及びc)、またステップd)も、少なくとも部分的に時間的に重なる態様で行うことができる。したがって、例えば、ステップb)及びc)の前又は最中に予熱が行うことが可能であり、この予熱はステップd)の一部とみなすことができる。ステップb)又はc)における合わせる動作の際に接続部の形成に必要な温度にあらかじめ到達するように、第一部品又は第二部品又はその両方の接触面それぞれをステップd)の前に加熱することも可能である。特に、この点で、ステップb)又はc)の前にステップd)が始まることも可能である。この場合、ステップd)は、ステップd)により必要とされる温度が、ステップb)又はc)の終了後でも少なくとも一時的に存在することによって行われる。 Steps b) and c) and also step d) can be carried out in an at least partially overlapping manner. Thus, for example, preheating can be carried out before or during steps b) and c), which can be considered as part of step d). It is also possible to heat the contact surfaces of the first part or the second part or both, respectively, before step d), so that the temperature required for the formation of the connection during the mating operation in step b) or c) is already reached. In particular, in this respect, it is also possible for step d) to start before step b) or c). In this case, step d) is carried out in such a way that the temperature required by step d) is at least temporarily present even after the end of step b) or c).

本方法によれば、例えば溶接又は硬ろう付けの場合のような程度の温度に達することなく、2つの部品の間の接続部を得ることが可能である。本実施形態では、不必要な程の加熱をしないで済む点で、この利点を利用することができる。例えば、これにより部品へのダメージが回避可能である。前述のような低い温度であることにより、可燃性材料の発火も防止可能となる。したがって、第一部品又は第二部品又はその両方の温度が、本方法の任意の時点で270℃を超えることがなく、特に240℃を超えないことが特に好ましい。 The method makes it possible to obtain a connection between two parts without reaching temperatures as in the case of, for example, welding or brazing. In the present embodiment, this can be exploited to advantage in that unnecessary heating is not required, for example, this can avoid damage to the parts. Such low temperatures also make it possible to prevent ignition of flammable materials. It is therefore particularly preferred that the temperature of the first part or the second part or both does not exceed 270°C, in particular does not exceed 240°C, at any point during the method.

本方法のさらに好ましい実施形態では、接続要素又は第一部品又は第二部品又はそれらの組み合わせは、ステップb)及びステップc)の少なくとも一方において超音波による作用を受ける。 In a further preferred embodiment of the method, the connection element or the first part or the second part or a combination thereof is subjected to ultrasonic action in at least one of steps b) and c).

ステップb)において接続要素及び第一部品が超音波による作用を受けることが好ましい。これの代わりに又はこれに加えて、ステップc)において接続要素及び第二部品が超音波による作用を受けることが好ましい。超音波による作用を受けることについては、接続要素、第一部品、第二部品、又は、これらの組み合わせのいずれが作用を受けるのか区別することは全く不可能であるか又はほとんど不可能であるように、行わることがある。したがって、ステップb)及びステップc)の少なくとも一方において、接続要素と、第一部品と、第二部品とが、超音波による作用を受けることも好ましい。 In step b), it is preferred that the connection element and the first part are subjected to ultrasonic action. Alternatively or additionally, it is preferred that the connection element and the second part are subjected to ultrasonic action in step c). The ultrasonic action may be performed in such a way that it is completely or almost impossible to distinguish whether the connection element, the first part, the second part, or a combination thereof is acted upon. It is therefore also preferred that in at least one of steps b) and c), the connection element, the first part, and the second part are acted upon by ultrasonic action.

超音波は、ナノワイヤと接触面との間の接続部の形成に寄与することが分かっている。 Ultrasound has been shown to contribute to the formation of connections between the nanowires and the contact surface.

本方法のさらに好ましい実施形態では、第一部品及び第二部品は、少なくとも加熱中の一部の期間ににおいて、小さくとも3MPaの圧力で、特に小さくとも15MPaの圧力又は大きくとも200MPaの圧力で、特に70MPaの圧力で、接続要素に押し付けられる。これは特に、接続要素が2つの部品の間に設けられる際に、2つの部品が互いに向かって押されることで行うことができる。 In a further preferred embodiment of the method, the first part and the second part are pressed against the connecting element at least during part of the heating with a pressure of at least 3 MPa, in particular at least 15 MPa or at most 200 MPa, in particular at most 70 MPa. This can be done in particular by pressing the two parts towards each other when the connecting element is provided between them.

使用される圧力は、3MPa~200MPaの間の範囲内、特に15MPa~70MPaの間の範囲内にあることが好ましい。20MPaの圧力が特に好ましい。 The pressure used is preferably in the range between 3 MPa and 200 MPa, in particular in the range between 15 MPa and 70 MPa. A pressure of 20 MPa is particularly preferred.

圧力は、温度がその指定された下限を超える期間に少なくともおいては、指定された下限を上回ることが好ましい。したがって、この点で、ナノワイヤ及び接触面は、少なくともこの期間においては、対応する圧力と対応する温度との両方に曝される。これにより、圧力及び温度の作用により接続部を形成することができる。 The pressure is preferably above the specified lower limit at least during the period during which the temperature exceeds its specified lower limit. In this regard, the nanowire and the contact surface are thus exposed to both the corresponding pressure and the corresponding temperature for at least this period. This allows a connection to be formed by the action of pressure and temperature.

本方法のさらに好ましい実施形態では、第一接続面と第二接続面とは、相互に対向する態様で構成されている。 In a further preferred embodiment of the method, the first connection surface and the second connection surface are configured to face each other.

第一接続面と第二接続面とは、互いに平行に設けられることが好ましい。 It is preferable that the first and second connection surfaces are arranged parallel to each other.

本実施形態では、接続要素は、接続される2つの部品の間に設けられうる。この場合、接続要素は、(接続部の形成とは別に)、接触面が互いに直接隣接するのではなく接続要素の材料厚さ分だけ特に互いに離れて設けられるという効果をもつにすぎない。接触面の互いに対する向きは、接続要素によって影響されないままである。 In this embodiment, a connecting element can be provided between the two parts to be connected. In this case, the connecting element only has the effect (apart from forming the connection) that the contact surfaces are not directly adjacent to each other but are in particular spaced apart from each other by the material thickness of the connecting element. The orientation of the contact surfaces relative to each other remains unaffected by the connecting element.

あるいは、例えば第一接続面及び第二接続面が、接続要素の特に平面の表面それぞれの異なる位置に設けられることも可能である。その場合、第一部品は、これらの位置のうちの第一位置で接続要素に接続されることができ、第二部品は、これらの位置のうちの第二位置で前記接続要素に接続されることができる。本方法のさらに好ましい実施形態では、ステップa)で設けられる接続要素は、接続要素の第一側の第三接続面上と、接続要素の第二側の第四接続面上とのそれぞれに、多数のナノワイヤを備えており、第三接続面と第四接続面とは、互いに電気伝導可能な態様で接続され、本方法は、
b’)第三部品の接触面と接続要素の第三接続面とを合わせるステップと、
c’)第四部品の接触面と接続要素の第四接続面とを合わせるステップと
をさらに含む。
Alternatively, it is also possible for example for the first and second connecting surfaces to be provided at different positions on each, in particular on a planar surface, of the connecting element, in which case the first part can be connected to the connecting element at a first of these positions and the second part can be connected to said connecting element at a second of these positions. In a further preferred embodiment of the method, the connecting element provided in step a) comprises a multiplicity of nanowires on a third connecting surface on the first side of the connecting element and on a fourth connecting surface on the second side of the connecting element, respectively, the third and fourth connecting surfaces being electrically conductively connected to one another, and the method further comprises:
b') mating a contact surface of the third part with a third connecting surface of the connecting element;
and c') mating a contact surface of the fourth part with a fourth connecting surface of the connecting element.

本実施形態では、方法は、「4つの部品を接続する方法」とも呼ばれる。 In this embodiment, the method is also called the "method of connecting four parts."

ステップb)、b’)、c)及びc’)は、同時に、又は、時間的に重なる態様で、又は、任意の所望の順序で連続して行うことができる。 Steps b), b'), c) and c') may be performed simultaneously, overlapping in time, or sequentially in any desired order.

本実施形態では、第一部品と第二部品との間の電気的に絶縁された接続部と、第三部品と第四部品との間の電気伝導可能な接続部とが形成される。この場合、第一部品と第二部品とからなる対が複数できるか、又は、第三部品と第四部品とからなる対が複数できるか、又は、その両方である。 In this embodiment, an electrically insulated connection is formed between the first and second parts, and an electrically conductive connection is formed between the third and fourth parts. In this case, there may be multiple pairs of the first and second parts, or multiple pairs of the third and fourth parts, or both.

第一接続面は、電気伝導可能な態様で、他の全ての接続面から隔離されていることが好ましい。第二接続面は、電気伝導可能な態様で、他の全ての接続面から隔離されていることが好ましい。 The first connection surface is preferably electrically conductively isolated from all other connection surfaces. The second connection surface is preferably electrically conductively isolated from all other connection surfaces.

特段の記載のない限り、第一部品及び第二部品についての上記の内容は、第三部品及び第四部品にも当てはまり、第一接続面及び第二接続面についての上記の内容は、第三接続面及び第四接続面にも当てはまる。 Unless otherwise specified, the above content regarding the first and second parts also applies to the third and fourth parts, and the above content regarding the first and second connecting surfaces also applies to the third and fourth connecting surfaces.

本実施形態は、例えば、第一部品としてのMOSFET又はIGBT等のトランジスタを、第二部品としての放熱器に電気的に絶縁された態様で接続するためや、第三部品としてのマイクロコントローラを第四部品としてのデータラインに接続するために、用いることができる。 This embodiment can be used, for example, to connect a transistor such as a MOSFET or IGBT as a first component to a heat sink as a second component in an electrically isolated manner, or to connect a microcontroller as a third component to a data line as a fourth component.

第三接続面及び第四接続面はいずれも、接続要素の表面の単に連続した形の領域であることが好ましい。あるいは、第三接続面又は第四接続面又はその両方が、接続要素の表面の複数の別々の小領域にさらに分割されることが可能である。したがって、接続面は、接続要素の表面の2つ以上の別々の部分から構成されることができる。これにより、例えば、第三部品としてのマイクロコントローラを、第四部品としての多極データラインに、多数の接続部を介して取り付けることが可能である。 The third and fourth connection surfaces are preferably simply continuous regions of the surface of the connection element. Alternatively, the third and/or fourth connection surfaces can be further divided into multiple separate sub-regions of the surface of the connection element. Thus, the connection surfaces can be made up of two or more separate portions of the surface of the connection element. This allows, for example, a microcontroller as the third component to be attached to a multi-pole data line as the fourth component via multiple connections.

第一接続面と第三接続面とは、接続要素の第一表面上に互いから離れて設けられることが好ましい。第二接続面と第四接続面とは、接続要素の第二表面上に互いから離れて設けられることが好ましい。第一接続面は、第二接続面の反対に配されることが好ましい。第三接続面は、第四接続面の反対に配されることが好ましい。 The first and third connection surfaces are preferably spaced apart from each other on a first surface of the connection element. The second and fourth connection surfaces are preferably spaced apart from each other on a second surface of the connection element. The first connection surface is preferably arranged opposite the second connection surface. The third connection surface is preferably arranged opposite the fourth connection surface.

原則として、接続要素は電気絶縁の材料から形成されることが好ましい。この点で、第三接続面及び第四接続面の領域において接続要素を通過する1つ又は複数の接続線によって、第三接続面と第四接続面との間の電気伝導接続が実現可能となる。接続線は、例えば銅から形成することができ、リソグラフィ手段によって得ることができる。 In principle, the connection element is preferably made of an electrically insulating material. In this respect, an electrically conductive connection between the third and fourth connection surfaces can be realised by one or more connection lines passing through the connection element in the region of the third and fourth connection surfaces. The connection lines can be made, for example, from copper and can be obtained by lithographic means.

本発明のさらなる態様として、第一部品を第二部品に接続する接続要素が提示される。接続要素は、接続要素の第一側の第一接続面上と、接続要素の第一側と反対の第二側の第二接続面上とのそれぞれに、多数のナノワイヤを備える。第一接続面と第二接続面は、互いに電気的に絶縁されている。 In a further aspect of the invention, a connection element is provided for connecting a first component to a second component. The connection element comprises a number of nanowires on a first connection surface on a first side of the connection element and on a second connection surface on a second side opposite the first side of the connection element. The first connection surface and the second connection surface are electrically insulated from each other.

前述の本方法の特別な利点及び設計の特徴は、前述の接続要素に適用可能及び転用可能であり、その逆も同様である。 The particular advantages and design features of the method described above are applicable and transferable to the connecting elements described above, and vice versa.

好ましい実施形態では、接続要素は、フィルム状の構成である。 In a preferred embodiment, the connecting element is of film-like construction.

フィルム状の構成とは、接続要素の厚さが、接続要素の他の方向への広がりに比べて非常に小さいことを意味する。好ましい実施形態では、接続要素の厚さは最大でも5mmである。接続要素の厚さは、0.005mm~5mm[ミリメートル]の間の範囲内、特に0.01mm~1mmの間の範囲内にあることが好ましい。 The film-like configuration means that the thickness of the connection element is very small compared to its extent in other directions. In a preferred embodiment, the thickness of the connection element is at most 5 mm. The thickness of the connection element is preferably in the range between 0.005 mm and 5 mm [millimeters], in particular in the range between 0.01 mm and 1 mm.

さらに、接続要素は帯状の構成であることが好ましい。この実施形態では、接続要素の第一側及びその反対にある第二側は、帯状の2つの表面であり、これらの表面は(帯状の材料厚さから生じる)他の表面全てと比べて、表面積が非常に大きい。 Furthermore, the connecting element is preferably configured in a strip. In this embodiment, the first side and the opposite second side of the connecting element are two strip-like surfaces, which have a very large surface area compared to all other surfaces (resulting from the strip's material thickness).

帯状材料は、例えばロールの形で提供可能である。この場合、ナノワイヤは、帯状材料上にあらかじめ設けられており、例えば保護ラッカーによって保護することができる。接続要素を使用する前に、保護ラッカーを除去してナノワイヤを露出することができる。帯状材料の必要な部分それぞれを、使用されるためにロールから分離することができる。 The strip of material can be provided, for example, in the form of a roll. In this case, the nanowires are pre-applied on the strip of material and can be protected, for example, by a protective lacquer. Before using the connection element, the protective lacquer can be removed to expose the nanowires. Each required portion of the strip of material can be separated from the roll for use.

本実施形態では、接続要素は、「接続テープ」、特に「KlettWeldingテープ」[フックアンドループ溶接テープ]とも呼ぶことができる。 In this embodiment, the connection element can also be referred to as a "connection tape," specifically a "KlettWelding tape" [hook and loop welding tape].

接続要素のさらに好ましい実施形態では、第一接続面と第二接続面との間の領域において、接続要素の材料の比電気抵抗は、室温で少なくとも10Ωmであり、好ましくは少なくとも10Ωmである。 In a further preferred embodiment of the connecting element, in the region between the first and the second connecting surface, the material of the connecting element has a specific electrical resistivity of at least 10 5 Ωm, preferably at least 10 8 Ωm at room temperature.

本実施形態では、少なくとも第一接続面と第二接続面との間の領域において、接続要素の材料の比電気抵抗は、室温で少なくとも10Ωmであり、特に少なくとも10Ωmである。しかし、好ましくは、接続要素の比電気抵抗は、この領域の外では、特に好ましくは接続要素の全ての箇所に亘って、少なくとも10Ωmであり、特に少なくとも10Ωmである。 In this embodiment, at least in the region between the first and second connecting surfaces, the material of the connecting element has a specific electrical resistance at room temperature of at least 10 5 Ωm, in particular at least 10 8 Ωm. However, preferably, outside this region, and particularly preferably over the entire connecting element, the specific electrical resistance is at least 10 5 Ωm, in particular at least 10 8 Ωm.

接続要素の材料の比電気抵抗について記載された仕様は、定電圧での測定に関するものである。交流電圧を印加すると、異なる結果が得られることがあり、特に交流電圧の周波数に依存する場合がある。 The specifications given for the specific electrical resistivity of the materials of the connecting elements relate to measurements at constant voltage. When an alternating voltage is applied, different results may be obtained and may depend in particular on the frequency of the alternating voltage.

少なくとも10Ωm、好ましくは少なくとも10Ωmの記載値は、接続要素の材料に関する。様々な材料の比抵抗が、専門文献の表などで入手可能である。ここでは、この種の仕様を参照する。接続要素が特定の材料から全体が形成される場合には、ここで使用される接続要素の材料の比抵抗は、専門文献でこの特定の材料に対して指定された値である。この定義は、材料によって生じたのではない効果を全て除外することを意味し、例えば、接続要素の形によって生じる効果等を除外する。接続要素が異なる材料で構成されている場合には、個々の材料の比抵抗を専門文献から確認することができ、接続要素の材料、すなわち材料の組成の総比抵抗を確認することができる。使用される材料の比抵抗の値が専門文献に見つからない場合には、測定によりこの値を確認することができる。 The stated value of at least 10 5 Ωm, preferably at least 10 8 Ωm, relates to the material of the connection element. Resistivities of various materials are available, for example in tables, in the specialist literature. Reference is made here to specifications of this kind. If the connection element is entirely made of a particular material, the resistivity of the material of the connection element used here is the value specified for this particular material in the specialist literature. This definition means that all effects that are not caused by the material are excluded, such as effects caused by the shape of the connection element. If the connection element is made of different materials, the resistivities of the individual materials can be ascertained from the specialist literature, and the total resistivity of the material of the connection element, i.e. the composition of the material, can be ascertained. If the value of the resistivity of the material used cannot be found in the specialist literature, this value can be ascertained by measurement.

特に本実施形態で与えられる比電気抵抗の場合、所与の接続面の間を電気絶縁とみなすことを意図している。 In particular, for the specific electrical resistivity given in this embodiment, it is intended that electrical insulation be considered between the given connection surfaces.

さらに好ましい実施形態では、接続要素は、セラミック材料から、第一接続面と第二接続面との間の領域に形成される。 In a further preferred embodiment, the connection element is formed in the region between the first and second connection surfaces from a ceramic material.

本実施形態では、接続要素は、セラミック材料から、少なくとも第一接続面と第二接続面との間の領域に形成される。しかし、接続要素は、この領域の外でも、特に好ましくは接続要素の全ての箇所に亘って、セラミック材料から形成されることが好ましい。 In this embodiment, the connection element is formed from a ceramic material at least in the region between the first and second connection surfaces. However, it is preferred that the connection element is also formed from a ceramic material outside this region, particularly preferably over the entire connection element.

特に、セラミック材料から形成された接続要素は、記載された比電気抵抗を有することができる。 In particular, connection elements formed from ceramic materials can have the specified specific electrical resistivity.

さらに好ましい実施形態において、接続要素は、少なくとも部分的に熱伝導性である。 In a further preferred embodiment, the connection element is at least partially thermally conductive.

特に、本実施形態では、形成される接続部は、特に良好な熱伝導性を有することができる。 In particular, in this embodiment, the connection formed can have particularly good thermal conductivity.

さらに好ましい実施形態では、接続要素は、接続要素の第一側の第三接続面上と、接続要素の第二側の第四接続面上とのそれぞれに、多数のナノワイヤを備えており、第三接続面と第四接続面は、互いに電気伝導可能な態様で接続されている。 In a further preferred embodiment, the connection element comprises a number of nanowires on each of a third connection surface on the first side of the connection element and a fourth connection surface on the second side of the connection element, the third connection surface and the fourth connection surface being electrically conductively connected to each other.

本発明のさらなる態様として、
接続要素の第一側にある第一接続面上の多数のナノワイヤによって接続要素に接続されている第一部品と、
接続要素の第一側と反対の第二側にある第二接続面上の多数のナノワイヤによって接続要素に接続されている第二部品と
を備える装置が提示される。
As a further aspect of the present invention,
a first part connected to the connecting element by a number of nanowires on a first connecting surface on a first side of the connecting element;
and a second component connected to the connecting element by a multiplicity of nanowires on a second connecting surface on a second side opposite the first side of the connecting element.

第一接続面と第二接続面は、互いに電気的に絶縁されている。 The first connection surface and the second connection surface are electrically insulated from each other.

前述の本方法及び接続要素の特別な利点及び設計の特徴は、本装置に適用及び転用可能である。接続要素は、前述のように構成されることが好ましい。 The particular advantages and design features of the method and connecting element described above are applicable and transferable to the present device. The connecting element is preferably configured as described above.

本装置は、本方法を用いて作製されることが好ましい。 The device is preferably fabricated using the method.

あるいは、装置は、
A)接続要素を設けるステップであって、
接続要素は、接続要素の第一側に第一接続面を備え、接続要素の第一側と反対の第二側に第二接続面を備えており、
第一接続面と第二接続面は、互いに対して電気的に絶縁されている、ステップと、
B)第一部品の接触面上と第二部品の接触面上とのそれぞれに、多数のナノワイヤを設けるステップと、
C)第一部品の接触面と接続要素の第一接続面とを合わせるステップと、
D)第二部品の接触面と接続要素の第二接続面とを合わせるステップと
を含む方法によって作製されることが好ましい。
Alternatively, the apparatus may comprise:
A) providing a connecting element,
the connecting element has a first connecting surface on a first side of the connecting element and a second connecting surface on a second side of the connecting element opposite the first side;
the first connecting surface and the second connecting surface being electrically insulated from each other;
B) providing a number of nanowires on a contact surface of the first component and on a contact surface of the second component, respectively;
C) mating a contact surface of the first part with a first connecting surface of the connecting element;
D) mating a contact surface of the second part with a second connecting surface of the connecting element.

このような方法自体も、本発明の態様として提示される。前述の特別な利点及び設計の特徴は、本方法に適用及び転用可能であり、その逆も同様である。 As such, such a method is also presented as an aspect of the present invention. The special advantages and design features described above are applicable and transferable to this method, and vice versa.

本方法では、ナノワイヤは接続要素上に設けられるのではなく、第一部品上及び第二部品上に設けられる。これには、接続要素の作製が特に簡単になるという利点がある。 In this method, the nanowires are not provided on the connecting element, but on the first part and on the second part. This has the advantage that the production of the connecting element is particularly simple.

さらにこれの代わりに、装置は、
i)接続要素を設けるステップであって、
接続要素は、接続要素の第一側にある第一接続面上に多数のナノワイヤを備えており、
接続要素は、接続要素の第一側と反対の第二側に第二接続面を備えており、
第一接続面と第二接続面は、互いに対して電気的に絶縁されている、ステップと、
ii)第二部品の接触面上に多数のナノワイヤを設けるステップと、
iii)第一部品の接触面と接続要素の第一接続面とを合わせるステップと、
iv)第二部品の接触面と接続要素の第二接続面とを合わせるステップと
を含む方法によって作製されることが好ましい。
Further alternatively, the apparatus comprises:
i) providing a connecting element,
the connecting element comprises a number of nanowires on a first connecting surface on a first side of the connecting element;
the connecting element has a second connecting surface on a second side of the connecting element opposite the first side;
the first connecting surface and the second connecting surface being electrically insulated from each other;
ii) providing a number of nanowires on a contact surface of the second component;
iii) mating a contact surface of the first part with a first connecting surface of the connecting element;
and iv) mating a contact surface of the second part with a second connecting surface of the connecting element.

このような方法自体も、本発明の態様として提示される。前述の特別な利点及び設計の特徴は、本方法に適用及び転用可能であり、その逆も同様である。 As such, such a method is also presented as an aspect of the present invention. The special advantages and design features described above are applicable and transferable to this method, and vice versa.

本方法では、ナノワイヤは、接続部のうちの一方のために接続要素に設けられ、他方のために部品に設けられる。 In this method, nanowires are provided on the connection element for one of the connections and on the component for the other connection.

概して、これにより、接続部に関連する部品の接触面上又は対応する接続面上にナノワイヤを設けることが可能となる。したがって、(ステップa)~c)を含む方法の場合のように)接続要素の両方の接続面上にナノワイヤを設けること、(ステップA)~D)を含む方法の場合のように)両方の部品の接触面上にナノワイヤを設けること、又は、(ステップi)~iv)を含む方法の場合のように)接続要素の接続面のうちの1つと、部品の接触面とに、ナノワイヤを設けることが可能である。全ての方法において、接続面上と、関連する接触面上との両方に、ナノワイヤを設けることも好ましい。この場合には、ナノワイヤ間に接続部が形成される。 Generally, this allows the provision of nanowires on the contact surfaces of the components associated with the connection or on the corresponding connection surfaces. It is thus possible to provide nanowires on both connection surfaces of the connection element (as in the case of the method comprising steps a) to c)), to provide nanowires on the contact surfaces of both components (as in the case of the method comprising steps A) to D)), or to provide nanowires on one of the connection surfaces of the connection element and on the contact surface of the component (as in the case of the method comprising steps i) to iv). In all methods, it is also preferred to provide nanowires both on the connection surface and on the associated contact surface. In this case, a connection is formed between the nanowires.

本発明のさらなる態様として、
装置であって、
第一部品と、
機能要素と、
第二部品と、
第一接続要素と、
第二接続要素と
を備え、
第一部品は、多数のナノワイヤを介して第一接続要素の第一接続面に接続されており、機能要素は、第一側において多数のナノワイヤを介して第一接続要素の第二接続面に接続されており、第二側において多数のナノワイヤを介して第二接続要素の第一接続面に接続されており、第二部品は、多数のナノワイヤを介して第二接続要素の第二接続面に接続されており、第一接続要素の第一接続面と第二接続面は、互いに対して電気的に絶縁されており、第二接続要素の第一接続面と第二接続面は、互いに対して電気的に絶縁されている装置が提示される。
As a further aspect of the present invention,
An apparatus comprising:
A first part;
Functional elements;
A second part;
A first connection element;
a second connection element;
A device is presented in which a first component is connected to a first connection surface of a first connection element via a number of nanowires, a functional element is connected on a first side to a second connection surface of the first connection element via a number of nanowires and on a second side to the first connection surface of the second connection element via a number of nanowires, a second component is connected to the second connection surface of the second connection element via a number of nanowires, the first and second connection surfaces of the first connection element are electrically insulated from each other, and the first and second connection surfaces of the second connection element are electrically insulated from each other.

本方法、接続要素及び前述の本装置の特別な利点及び設計の特徴は、本装置に適用及び転用可能である。装置は、好ましくは、本方法を2回用いることにより作製される。2つの接続要素は、記載されたように形成されることが好ましい。 The method, the connecting elements, and the particular advantages and design features of the device described above are applicable and transferable to the present device. The device is preferably made by using the method twice. Two connecting elements are preferably formed as described.

機能要素は、特に、電子機器の機能層の一部であってもよい。機能要素は、熱の放散、振動の減衰、機械的安定化のうちの1つ又は複数の機能を果たすことが好ましい。機能要素は、例えば織物から形成することができる。機能要素は、ハウジングの一部であってもよい。 The functional element may in particular be part of a functional layer of the electronic device. The functional element preferably performs one or more of the following functions: heat dissipation, vibration damping, mechanical stabilization. The functional element may for example be formed from a textile. The functional element may also be part of the housing.

本発明のさらなる態様として、第一接触面を第二接触面に接続する方法が提示される。この方法は、
a)第一接続面と第二接続面とに、多数のナノワイヤを備える接続要素を設けるステップであって、
第一接続面と第二接続面は、接続要素の同じ側に設けられている、ステップと、
b)第一接触面と接続要素の第一接続面とを合わせるステップと、
c)第二接触面と接続要素の第二接続面とを合わせるステップと
を含む。
As a further aspect of the present invention, a method of connecting a first interface to a second interface is provided, the method comprising the steps of:
a) providing a connecting element comprising a multitude of nanowires on a first connecting surface and on a second connecting surface,
a step, the first connecting surface and the second connecting surface being provided on the same side of the connecting element;
b) mating the first contact surface with a first connecting surface of a connecting element;
and c) mating the second contact surface with a second connecting surface of the connecting element.

本方法は、2つの接触面の間に接続部を形成することを可能にする。第一接触面及び第二接触面は、同じ部品上に設けることもでき又は異なる部品上に設けることもできる。1つの部品又は2つの部品は、特にそれぞれ1つ又は2つの電子部品であり、例えば、半導体部品、コンピュータチップ、マイクロプロセッサ又はプリント回路基板等でありうる。1つ又は複数の部品は、少なくとも部分的に電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方であることが好ましい。 The method makes it possible to form a connection between two contact surfaces. The first and second contact surfaces can be on the same component or on different components. The component or the two components can in particular be one or two electronic components, respectively, such as, for example, a semiconductor component, a computer chip, a microprocessor or a printed circuit board. The component or components are preferably at least partially electrically conductive or thermally conductive or both.

ここで使用される意味における電気伝導性や熱伝導性は、特に金属(例として銅)に存在するものであり、一般に「電気伝導性の」又は同義語として「電気伝導的な」、「熱伝導性の」又は「熱伝導的な」とも言われる。特に、一般に電気絶縁又は熱絶縁又はその両方であるとみなされる材料が電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方であるとみなされることは、ここでは意図されていない。 Electrical and thermal conductivity as used herein are present especially in metals (e.g., copper), and are also commonly referred to as "electrically conductive" or synonymously as "electrically conductive," "thermally conductive," or "thermally conductive." In particular, it is not intended herein that materials that are commonly considered to be electrically insulating or thermally insulating, or both, be considered to be electrically conductive or thermally conductive, or both.

しかし、本方法は、エレクトロニクスの分野での用途に制限されない。本方法を用いて、特に機械的に安定であり、且つ、電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方である接続部が、第一接触面と第二接触面との間に形成することが可能である。このように、本方法は、これらの特性の一つ以上を有する2つの接触面の間の接続が必要とされる全ての分野で採用可能である。本方法は、所定の大きさの部品に限定されることもない。したがって、本方法は、例えば(マイクロ)エレクトロニクスの分野での用途に、又は、巨視的レベルの相当な大きさの接触面の接続に適する。 However, the method is not limited to applications in the field of electronics. With the method, a connection can be formed between a first contact surface and a second contact surface that is particularly mechanically stable and electrically or thermally conductive or both. The method can thus be employed in all fields where a connection between two contact surfaces having one or more of these properties is required. The method is also not limited to components of a certain size. The method is therefore suitable for applications in the field of (micro)electronics, for example, or for connecting contact surfaces of considerable size on a macroscopic level.

接触面は、特に、部品の表面の空間的に区別される領域である。特に、接触面は接続部の形成によって区別されることが好ましい。これは、各接触面が(後述のように、それぞれの相手方の接触面を除いて)最初は部品の表面の他の部分と異なっていないこと且つ各接触面は接続部の形成によってはじめて接続部上に形成されたエリアであることから各接触面が区別されることを意味する。この場合、接触面は、部品の表面の他の部分と概念的に(すなわち空間的な区別はなく)区別される。例えば、面電気導体の接触面は、その面導体の区切られたエリア上に(すなわち接触面上に)第二電気導体に対する面接続部が形成されることで区別することができる。接触面はいずれも、同一の部品の表面の又は各部品それぞれの表面の、単に連続した形の領域であることが好ましい。あるいは、第一接触面又は第二接触面又はその両方が、同一の部品又は各部品それぞれ又はその両方の表面の複数の別々の小領域にさらに分割されることが可能である。したがって、接触面は、表面の2つ以上の別々の部分から構成されることができる。 The contact surfaces are in particular spatially distinct regions of the surface of the component. In particular, the contact surfaces are preferably differentiated by the formation of a connection. This means that each contact surface is initially not different from the rest of the surface of the component (except for the respective mating contact surface, as described below) and each contact surface is differentiated because it is an area formed on the connection only by the formation of the connection. In this case, the contact surfaces are conceptually (i.e. without spatial differentiation) differentiated from the rest of the surface of the component. For example, the contact surface of a surface electrical conductor can be differentiated by the formation of a surface connection to a second electrical conductor on a delimited area of the surface conductor (i.e. on the contact surface). Each contact surface is preferably simply a continuous area of the surface of the same component or of each respective surface of each component. Alternatively, the first contact surface or the second contact surface or both can be further divided into a plurality of separate sub-areas of the surface of the same component or of each respective surface of each component or both. Thus, the contact surface can be composed of two or more separate portions of the surface.

接続される2つの接触面は、接続部の形成の前でも、互いとは区別することができる。ナノワイヤが設けられた接続面が接触面に接続される場合において、1つの接触面が任意に概念的に2つの接触面にさらに分割されていることを、2つの接触面の接続として理解することはできない。本方法によって接続される2つの接触面は、互いに機能的に区別可能である。したがって、複数の小領域からなる接触面が接続面のナノワイヤに接触させられる場合において、接触面の個々の小領域が全て同じ機能を果たすならば、これを2つの接触面の接続として解釈することはやはり不可能である。特に、機能として電気接点が考慮される。本方法により接続される2つの接触面は、好ましくは、互いに対して電気的に絶縁されている。接続要素との接続部を形成することにより、接触面同士の間に電気的な接続部を作製することが可能である。接触面は、電気伝導性又は電気絶縁であるか又は熱伝導性又は熱絶縁であるか又はそれらの組み合わせでありうる。電気伝導性及び熱伝導性の少なくとも一方である接続部が形成可能であるように、接触面は、電気伝導性及び熱伝導性の少なくとも一方であることが好ましい。 The two contact surfaces to be connected can be distinguished from each other even before the formation of the connection. In the case where a connection surface provided with nanowires is connected to a contact surface, the arbitrary conceptual subdivision of one contact surface into two contact surfaces cannot be understood as a connection of two contact surfaces. The two contact surfaces connected by the method are functionally distinguishable from each other. Thus, in the case where a contact surface consisting of a number of small areas is brought into contact with the nanowires of the connection surface, it is also not possible to interpret this as a connection of two contact surfaces if the individual small areas of the contact surface all perform the same function. In particular, an electrical contact is considered as a function. The two contact surfaces to be connected by the method are preferably electrically insulated from each other. By forming a connection with a connection element, it is possible to create an electrical connection between the contact surfaces. The contact surfaces can be electrically conductive or electrically insulating or thermally conductive or thermally insulating or a combination thereof. It is preferable that the contact surfaces are at least one of electrically conductive and thermally conductive, so that at least one of electrically conductive and thermally conductive connections can be formed.

接触面は、剛性設計のものであることが好ましい。これは、接触面が位置するそれぞれの部品の表面が、少なくとも接触面の領域で剛性構成のものであることを意味する。したがって、接触面は可撓性ではない。剛性接触面の間に、接続部を本方法にしたがって特に満足できる態様で形成することが可能である。例えば接触面のうちの一つを可撓性設計のものとすれば、ナノワイヤの荷重のために接続部が壊れることもありうる。しかし、厳密な状況次第では、可撓性接触面を用いて、本方法を有利に実施することも可能となる。 The contact surfaces are preferably of rigid design. This means that the surface of the respective component on which the contact surface is located is of rigid construction, at least in the region of the contact surface. The contact surfaces are therefore not flexible. Between the rigid contact surfaces, connections can be formed in a particularly satisfactory manner according to the method. If, for example, one of the contact surfaces is of flexible design, the connection may break due to the load of the nanowires. However, depending on the exact circumstances, it is also possible to advantageously carry out the method using flexible contact surfaces.

本方法では、第一接触面と第二接触面との間の接続部は、多数のナノワイヤを介して形成される。 In this method, the connection between the first contact surface and the second contact surface is formed via a number of nanowires.

本明細書におけるナノワイヤとは、数ナノメートルから数マイクロメートルの範囲のサイズをワイヤ状の任意の材料体を意味するものと理解されるべきである。ナノワイヤは、例えば円形状、楕円形状、多角形状の底面を有してもよい。特に、ナノワイヤは六角形状の底面を有してもよい。接続部に関連する全てのナノワイヤは、同じ材料から形成されることが好ましい。ナノワイヤは、電気伝導性及び熱伝導性のうち少なくとも一方の材料から形成されることが特に好ましい。 A nanowire in this specification should be understood to mean any wire-shaped body of material with a size ranging from a few nanometers to a few micrometers. The nanowire may have, for example, a circular, elliptical or polygonal base. In particular, the nanowire may have a hexagonal base. It is preferred that all nanowires involved in a connection are made of the same material. It is particularly preferred that the nanowires are made of at least one of an electrically and thermally conductive material.

第一接続面上のナノワイヤは、第二接続面上のナノワイヤと同じ材料から形成されることが好ましい。あるいは、第一接続面上のナノワイヤと第二接続面上のナノワイヤは、異なる材料から形成されることが好ましい。 The nanowires on the first connecting surface are preferably formed from the same material as the nanowires on the second connecting surface. Alternatively, the nanowires on the first connecting surface and the nanowires on the second connecting surface are preferably formed from different materials.

特に好ましくは、第一接続面上のナノワイヤ及び第二接続面上のナノワイヤの少なくとも一方は、それぞれの金属から形成される。さらに好ましくは、第一接続面上のナノワイヤが第一接触面の材料から形成されるか、又は、第二接続面上のナノワイヤが第二接触面の材料から形成される、又は、その両方である。 Particularly preferably, at least one of the nanowires on the first connecting surface and the nanowires on the second connecting surface are formed from the respective metal. Even more preferably, the nanowires on the first connecting surface are formed from the material of the first contact surface, or the nanowires on the second connecting surface are formed from the material of the second contact surface, or both.

ナノワイヤの材料に応じて、接続部は異なる特性を有しうる。特に、接続部の機械的強度と、電気伝導性及び熱伝導性の少なくとも一方は、ナノワイヤの材料によって影響を受ける。ナノワイヤが2つの接続面上に異なる材料から形成されることにより、異なる特性を有する2つの接続部を形成することが可能とある。このように、本来なら互いに接続できないか又は接続しづらい2つの接触面が接続要素を介して互いに接続できるので、接続要素は、接続対象の2つの接触面の間の中継物とみなすことができる。 Depending on the material of the nanowire, the connection may have different properties. In particular, the mechanical strength and/or electrical and thermal conductivity of the connection are influenced by the material of the nanowire. By forming the nanowire from different materials on the two connection surfaces, it is possible to form two connections with different properties. In this way, two contact surfaces that would otherwise be impossible or difficult to connect to each other can be connected to each other via the connection element, so that the connection element can be considered as an intermediate between the two contact surfaces to be connected.

ナノワイヤは、100nm[ナノメートル]~100μm[マイクロメートル]の範囲の長さ、特に500nm~60μmの範囲の長さを有することが好ましい。さらに、ナノワイヤは、10nm~10μmの範囲の直径、特に30nm~2μmの範囲の直径を有することが好ましい。本明細書における「直径」という表現は円形の底面に関するものであり、これから逸脱する底面の場合には、同様の直径の定義を用いるものとする。使用される全てのナノワイヤが同じ長さ及び同じ直径を有することが特に好ましい。 The nanowires preferably have a length in the range of 100 nm [nanometers] to 100 μm [micrometers], in particular a length in the range of 500 nm to 60 μm. Furthermore, the nanowires preferably have a diameter in the range of 10 nm to 10 μm, in particular a diameter in the range of 30 nm to 2 μm. The expression "diameter" in this specification relates to a circular base, and in the case of bases deviating from this, a similar definition of diameter shall be used. It is particularly preferred that all nanowires used have the same length and the same diameter.

本発明の本方法では、接触面は、接続要素を介して間接的に互いに接続される。これには、いずれの接触面上にもナノワイヤを設ける必要がないという利点がある。ナノワイヤは、接続要素上に存在すればよい。これにより、本方法の実行がより容易になり、特に本方法の適用範囲を、ナノワイヤが成長できないか又は成長しづらい接触面にも広げることができる。ナノワイヤは、接触面とは離れて局所的に成長させることもできる。それにもかかわらず、代わりにそれぞれの多数のナノワイヤが第一接触面上及び第二接触面上の少なくとも一方に設けられることも好ましい。 In the method of the invention, the contact surfaces are indirectly connected to one another via a connecting element. This has the advantage that no nanowires need to be provided on any of the contact surfaces. The nanowires only need to be present on the connecting element. This makes the method easier to carry out and in particular allows the method to be extended to contact surfaces where nanowires cannot or are difficult to grow. The nanowires can also be grown locally away from the contact surfaces. Nevertheless, it is also preferred that instead a respective multiplicity of nanowires is provided on at least one of the first and second contact surfaces.

接続要素は、可撓性構成のものであることが好ましい。あるいは、接続要素は、剛性構成のものであることが好ましい。接続要素は、例えば固体小金属プレートの形で構成されうる。 The connecting element is preferably of flexible construction. Alternatively, the connecting element is preferably of rigid construction. The connecting element may be, for example, in the form of a solid small metal plate.

接続要素は、プラスチックから形成されることが好ましい。例えば、接続要素は、ポリマーから形成することが可能であり、特にポリカーボネート、PVC、ポリエステル、ポリエチレン、ポリアミド、PET又はこれらの組み合わせから形成することが可能である。また、接続要素は、セラミック材料、シリコン、酸化アルミニウム、ガラス等から形成するとも可能である。さらに、接続要素は、ステンレス鋼、アルミニウム、非鉄金属から形成することも可能である。接続要素は、前述の材料のいくつかを含む複合材料から形成されることも好ましい。 The connecting element is preferably made of plastic. For example, the connecting element can be made of a polymer, in particular polycarbonate, PVC, polyester, polyethylene, polyamide, PET or a combination thereof. The connecting element can also be made of ceramic materials, silicon, aluminum oxide, glass, etc. Furthermore, the connecting element can be made of stainless steel, aluminum, non-ferrous metals, etc. The connecting element is also preferably made of a composite material that includes some of the aforementioned materials.

ステップa)で、2つの接続面を有する接続要素が設けられる。2つの接続面はそれぞれ、多数のナノワイヤを有する。第一接続面と第二接続面は、接続要素の同じ側に設けられている。これは、2つの接続面が互いに隣り合うことを意味する。接続面は互いに接触する、つまり互いに合体することができる。あるいは、接続面は、互いに離れて形成されることができる。このように本方法は、特に互いに隣り合う接触面を接続することを可能にする。接触面は互いに接触することができる。しかし、2つの接触面は、接続部の形成前に2つの接触面を分けることも可能であるように、互いから離される。接触面は、互いに離れて形成されていることが好ましい。この場合、接触面は、空間的に離されることによって互いから分離され、この点で互いに区別することが可能である。 In step a), a connection element is provided having two connection surfaces. The two connection surfaces each have a number of nanowires. The first and second connection surfaces are provided on the same side of the connection element. This means that the two connection surfaces are adjacent to each other. The connection surfaces can be in contact with each other, i.e. merged with each other. Alternatively, the connection surfaces can be formed apart from each other. In this way, the method makes it possible in particular to connect contact surfaces that are adjacent to each other. The contact surfaces can be in contact with each other. However, the two contact surfaces are separated from each other, such that it is also possible to separate the two contact surfaces before the formation of the connection. The contact surfaces are preferably formed apart from each other. In this case, the contact surfaces are separated from each other by being spatially separated and can be distinguished from each other in this respect.

接続要素は、本方法のステップa)において設けられる。一方、「設けられる」とは、この場合、記載されたように構成された接続要素が本方法の一部として設けられることを意味すると理解されるものとする。したがって、ナノワイヤを、本方法の一部として接続面に付けることが特に可能であり、特にガルバニック成長を用いて接続面に付けることが可能である。しかしながら、他方では、「設けられる」とは、接続面にナノワイヤが既に設けられている接続要素を使用することも含む。したがって、例えば、対応して準備された接続要素をサプライヤーから入手し、本方法に使用することが可能である。このように準備された接続要素を入手することも、ここで用いられる意味での接続要素を設けることに該当する。 The connection element is provided in step a) of the method. On the one hand, "provided" is to be understood in this case to mean that the connection element configured as described is provided as part of the method. It is therefore in particular possible to apply nanowires to the connection surface as part of the method, in particular by means of galvanic growth. On the other hand, however, "provided" also includes the use of a connection element whose connection surface is already provided with nanowires. Thus, for example, it is possible to obtain correspondingly prepared connection elements from a supplier and use them in the method. The obtaining of such prepared connection elements also constitutes providing a connection element in the sense used here.

ナノワイヤは、該ナノワイヤがそれぞれの接続面に対して略直角(好ましくは直角)であるように接続面に設けられることが好ましい。接続面上のナノワイヤ全体を、特にナノワイヤの芝と言ってもよい。しかし、ナノワイヤは、接続面上に任意の向きで設けることもできる。接続面を複数の(接続された又は別々の)小領域にさらに分割し、ナノワイヤが異なる小領域で異なる方向を向くことも可能である。このようにして、特に、せん断力に特に満足に耐え得る、特に安定な接続部を実現することができる。さらに、ナノワイヤは、特にその長さ、直径、材料及び密度(ナノワイヤの密度は単位面積当たりに提供されるナノワイヤ数を指す)に関して、接続面の異なる所で異なる構成を有することが可能である。 The nanowires are preferably provided on the connection surfaces such that they are substantially perpendicular (preferably perpendicular) to the respective connection surface. The entirety of the nanowires on the connection surface may in particular be referred to as a lawn of nanowires. However, the nanowires can also be provided on the connection surface in any orientation. It is also possible to further divide the connection surface into a number of (connected or separate) sub-regions, with the nanowires pointing in different directions in the different sub-regions. In this way, in particular particularly stable connections can be achieved which can withstand shear forces particularly satisfactorily. Furthermore, the nanowires can have different configurations at different points of the connection surface, in particular with regard to their length, diameter, material and density (density of nanowires refers to the number of nanowires provided per unit area).

接続要素は、特に、第一部品と第二部品との間の接続部の中継物であるとみなすことができる。特に、接続要素として、部品同士を接続するために2つの接触面をカバーするのに適した任意の物理的物体が考えられる。 The connecting element can in particular be considered as an intermediate of the connection between a first part and a second part. In particular, as a connecting element any physical object suitable for covering two contact surfaces in order to connect the parts together is considered.

接続面は、特に、接続要素の側面それぞれにおける接続要素の表面の領域であり、空間的に区別される領域である。特に、接続面は、接続部の形成によって区別されることが好ましい。これは、接続面が最初は接続要素の表面の他の部分と異なっていないこと、且つ、接続面は接続部の形成によってはじめて接続部上に形成されたエリアであることから、接続面が区別されることを意味する。この場合、接続面は、接続部の形成前は、接続要素の表面の他の部分と概念的に区別されるにすぎない。例えば、面接続要素の接続面は、その接続要素の区切られたエリア上に(すなわち接続面上に)各接触面それぞれに対する面接続部が形成されることで区別することができる。 The connection surface is in particular a region of the surface of the connection element on each of the sides of the connection element, which is a spatially distinct region. In particular, the connection surface is preferably differentiated by the formation of the connection part. This means that the connection surface is differentiated because it is not initially different from the rest of the surface of the connection element and is an area formed on the connection part only by the formation of the connection part. In this case, the connection surface is only conceptually distinct from the rest of the surface of the connection element before the formation of the connection part. For example, the connection surface of a surface connection element can be differentiated by the formation of a surface connection part for each respective contact surface on a delimited area of the connection element (i.e. on the connection surface).

接続面は、対応する接触面と同じ大きさであるのが好ましく、対応する接触面の形状をしていることが特に好ましい。しかし、接触面が対応する接続面よりも大きい又は小さいこと、又は、接触面と対応する接続面とが異なる形状であること、又はその両方が可能である。 The connection surfaces are preferably the same size as the corresponding contact surfaces, and particularly preferably have the shape of the corresponding contact surfaces. However, it is possible for the contact surfaces to be larger or smaller than the corresponding connection surfaces, or for the contact surfaces and the corresponding connection surfaces to have different shapes, or both.

接続面はいずれの場合にも、接続要素の表面の単に連続した形の領域であることが好ましい。あるいは、第一接続面又は第二接続面又はその両方が、接続要素の表面の複数の別々の小領域にさらに分割されることが可能である。したがって、接続面は、接続要素の表面の2つ以上の別々の部分から構成されることができる。 The connection surface is preferably in each case simply a continuous region of the surface of the connection element. Alternatively, the first connection surface or the second connection surface or both can be further divided into a number of separate sub-regions of the surface of the connection element. Thus, the connection surface can be made up of two or more separate parts of the surface of the connection element.

ステップb)及びc)では、接触面と接続面とが合わせられる、すなわち互いに向かって移動される。その結果、接続面上のナノワイヤがそれぞれの接触面と接触する。この場合、ナノワイヤが対応する接触面に接続し、その結果、部品と接続要素との間に対応する接続部が形成される。 In steps b) and c), the contact surface and the connection surface are brought together, i.e. moved towards each other, so that the nanowires on the connection surfaces come into contact with the respective contact surface. In this case, the nanowires connect to the corresponding contact surface, so that a corresponding connection is formed between the component and the connection element.

各ナノワイヤが接触面に接続することで、特にそれぞれの接触面に向いた各ナノワイヤの端が接触面に接続することで、接続部が形成される。この接続部は原子レベルで形成される。この原子レベルで進行するプロセスは、焼結の際に生じるプロセスに類似する。得られる接続部は、気密又は液密又はその両方とすることができ、これにより、特に接続部の又は互いに接続された部品又はその両方の腐食が、接続部の領域で阻止又は少なくとも限定することができる。特に、形成される接続部は、完全に金属製とみなせる。この方法は、「KlettWelding(フックアンドループ溶接)」とも言われる。これは、多数のナノワイヤを用いて、つまり多数の細長い毛髪状の構造体を用いて、加熱によって接続部を得ること、を表している。多数のナノワイヤにより、接触面の不均一さや粗さを補うことができる。 A connection is formed by connecting each nanowire to the contact surface, in particular by connecting the end of each nanowire facing the respective contact surface. This connection is formed at the atomic level. This process, which proceeds at the atomic level, is similar to the process that occurs during sintering. The connection obtained can be gas-tight or liquid-tight or both, so that in particular corrosion of the connection or of the parts connected to each other or both can be prevented or at least limited in the area of the connection. In particular, the connection formed can be considered to be completely metallic. This method is also called "KlettWelding", which refers to obtaining a connection by heating using a large number of nanowires, i.e. a large number of elongated hair-like structures. The large number of nanowires makes it possible to compensate for unevenness and roughness of the contact surface.

ナノワイヤのサイズがナノメートル範囲であるために、接続部の表面(すなわちファンデルワールス力等の力が原子レベルで作用するエリア)は特に大きい。よって、接続部は、特に良好な電気伝導性と熱伝導性と機械的安定性とのうち少なくとも一つを有することができる。特に電気伝導性及び熱伝導性のうち少なくとも一方である接続部では、ナノワイヤは、電気伝導性及び熱伝導性のうち少なくとも一方の材料から形成されることが好ましい。ここでは、銅を使用することが特に好ましい。また、接触面は、電気伝導性及び熱伝導性のうち少なくとも一方の材料で形成される、特に銅で形成されることが好ましい。さらに上述したように、銅を使用することは、特に溶接接続部の場合には不可能である。本方法によって得られる接続部の大きな表面により、接続部の電気伝導性及び熱伝導性のうち少なくとも一方を特に高くすることが可能となる。接続部が特に良好な熱伝導性を持つことにより、例えば、接続部に関連する部品の冷却を改善しうる。特に、このために、ナノワイヤ又は接触面又はその両方に銅を使用することが好ましい。 Due to the size of the nanowires in the nanometer range, the surface of the connection (i.e. the area over which forces such as van der Waals forces act at atomic level) is particularly large. The connection can thus have particularly good electrical and/or thermal conductivity and/or mechanical stability. In particular for electrically and/or thermally conductive connections, the nanowires are preferably made of an electrically and/or thermally conductive material. The use of copper is particularly preferred here. The contact surface is also preferably made of an electrically and/or thermally conductive material, in particular of copper. As further mentioned above, the use of copper is not possible, in particular in the case of welded connections. The large surface of the connection obtained by the method allows the electrical and/or thermal conductivity of the connection to be particularly high. The particularly good thermal conductivity of the connection can, for example, improve the cooling of the components associated with the connection. In particular, the use of copper for the nanowires or the contact surface or both is preferred for this purpose.

前述の接続部はさらに、特に簡易な態様で、工具なしで形成可能である。単に接触面を接続し接続要素を合わせることだけすればよい。加熱及び圧力の印加は、選択的に行うことが可能であり、絶対に必要というわけではない。 The aforementioned connection can furthermore be formed in a particularly simple manner and without tools. It is only necessary to connect the contact surfaces and bring the connection elements together. The application of heat and pressure can be carried out selectively and is not absolutely necessary.

方法ステップa)~c)は、好ましくは、記載した順序で行われ、特に連続して行われる。特に、ステップa)は、好ましくは、ステップb)及びc)が開始する前に行われる。 The method steps a) to c) are preferably carried out in the order described, in particular consecutively. In particular, step a) is preferably carried out before steps b) and c) start.

ステップb)及びc)が連続して行われる場合には、第一接触面と第一接続面とが最初に合わせられる(ステップb))。続いて、接続要素が、第一接触面が位置する部品と共に、第二接触面と合わせられる(ステップc))。これは、第一接触面と第二接触面とが異なる部品に設けられる場合に特に可能である。 If steps b) and c) are performed in succession, the first contact surface and the first connecting surface are first brought together (step b)). Then the connecting element, together with the part on which the first contact surface is located, is brought together with the second contact surface (step c)). This is particularly possible if the first contact surface and the second contact surface are provided on different parts.

あるいは、ステップb)及びc)は、同時に、時間的に重なる態様で又は連続して行うことが可能である。これは特に、接続要素が2つの接触面に向かって同時に移動する場合に可能である。これは特に、2つの接触面が互いに隣り合う場合、特に両方の接触面が同じ部品に形成されている場合に可能である。 Alternatively, steps b) and c) can be performed simultaneously, overlapping in time or successively. This is particularly possible if the connection element moves simultaneously towards the two contact surfaces. This is particularly possible if the two contact surfaces are adjacent to each other, in particular if both contact surfaces are formed on the same part.

第一接続面と第二接続面とは、互いに電気伝導可能な態様で接続されることが好ましい。したがって、第一部品と第二部品は、互いに電気伝導可能な態様で接続可能である。あるいは、第一接続面と第二接続面とは、互いに電気的に絶縁されることが好ましい。したがって、電気伝導性の接続部を形成することなく、第一部品と第二部品は互いに機械的に接続されることが可能である。これら2つの実施形態を組み合わせることも可能である。このようにして、接続要素は、第三接続面上及び第四接続面上に多数のナノワイヤをさらに有することができ、第三接続面と第四接続面は接続要素の同じ側に設けられる。これは、第一接続面と第二接続面とが設けられる側でもよい。あるいは、第一接続面及び第二接続面は、接続要素の第三接続面及び第四接続面とは異なる側に設けられてもよい。この方法は、
b’)第三接触面と接続要素の第三接続面とを合わせるステップと、
c’)第四接触面と接続要素の第四接続面とを合わせるステップと
をさらに含むことが好ましい。
Preferably, the first and second connection surfaces are electrically conductively connected to each other. Thus, the first and second parts can be electrically conductively connected to each other. Alternatively, the first and second connection surfaces are preferably electrically insulated from each other. Thus, the first and second parts can be mechanically connected to each other without forming an electrically conductive connection. It is also possible to combine these two embodiments. In this way, the connection element can further comprise a multiplicity of nanowires on the third and fourth connection surfaces, the third and fourth connection surfaces being provided on the same side of the connection element. This may be the side on which the first and second connection surfaces are provided. Alternatively, the first and second connection surfaces may be provided on different sides of the connection element from the third and fourth connection surfaces. This method comprises:
b') mating the third contact surface with a third connecting surface of the connecting element;
c') mating the fourth contact surface with a fourth connecting surface of the connecting element.

本実施形態では、方法は、「4つの接触面を接続する方法」とも呼ばれる。 In this embodiment, the method is also called "method of connecting four contact surfaces".

ステップb)、b’)、c)及びc’)は、同時に、又は、時間的に重なる態様で、又は、任意の所望の順序で連続して行うことができる。 Steps b), b'), c) and c') may be performed simultaneously, overlapping in time, or sequentially in any desired order.

上で述べたことは、第三接続面及び第四接続面にも対応して当てはまる。 The above also applies to the third and fourth connection surfaces.

4つの接続面は、電気伝導可能な態様で又は電気的に絶縁された態様で、任意の組み合わせで、互いに接続可能である。例えば、第三接続面と第四接続面とは互いに電気伝導可能な態様で接続されてもよく、他の全ての接続面同士の組は互いに電気的に絶縁されてもよい。さらなる例として、第一接続面と第二接続面とは互いに電気伝導可能な態様で接続されてもよく、第三接続面と第四接続面とは互いに電気伝導可能な態様で接続されてもよく、他の全ての接続面同士の組は互いに電気的に絶縁されてもよい。全ての接続面が互いに電気伝導可能な態様で接続されることも可能である。全ての接続面が互いに電気的に絶縁されることも可能である。 The four connection surfaces can be connected to each other in any combination, either electrically conductive or electrically insulated. For example, the third connection surface and the fourth connection surface can be connected to each other in an electrically conductive manner, and all other pairs of connection surfaces can be electrically insulated from each other. As a further example, the first connection surface and the second connection surface can be connected to each other in an electrically conductive manner, the third connection surface and the fourth connection surface can be connected to each other in an electrically conductive manner, and all other pairs of connection surfaces can be electrically insulated from each other. It is also possible for all connection surfaces to be connected to each other in an electrically conductive manner. It is also possible for all connection surfaces to be electrically insulated from each other.

本方法の好ましい実施形態では、ステップa)において、接続要素は、初期本体から切り離されることによって形成される。 In a preferred embodiment of the method, in step a), the connection element is formed by being separated from the initial body.

ナノワイヤを基板上に成長させることが可能である。この基板は、接続要素が切り離される初期本体としての役割を果たすことができる。初期本体は、互いに離れた個々の領域に多数のナノワイヤを有することが好ましい。初期本体は、例えばナノワイヤを備えた1つ又は複数の帯状の部分を有することができる。このような複数の帯状の部分が、ナノワイヤを備えない帯状の部分によって互いから分離される。例えば、初期本体の一部を切り出すことによって、接続要素を作製することができる。接続要素をなす切り離された部分は、接続要素がナノワイヤによる帯状の部分を中央に有し且つナノワイヤのない帯状の部分をそれぞれその両側に有するような幅を有することが好ましい。接続要素は、ナノワイヤによる帯状の部分を複数有することもできる。この部分の長さは、必要に応じて選択することができる。 The nanowires can be grown on a substrate. This substrate can serve as an initial body from which the connection elements are cut off. The initial body preferably has a number of nanowires in separate areas. The initial body can have, for example, one or more strip-shaped parts with nanowires. Such strips are separated from each other by strips without nanowires. The connection elements can be produced, for example, by cutting out a part of the initial body. The cut-off part forming the connection element preferably has a width such that the connection element has a strip with nanowires in the middle and strips without nanowires on each side. The connection element can also have several strips with nanowires. The length of the parts can be selected as required.

初期本体からの接続要素を形成することにより、ステップa)を特に簡単で柔軟な態様で行うことが可能となる。 Forming the connection element from the initial body allows step a) to be carried out in a particularly simple and flexible manner.

本方法のさらに好ましい実施形態では、ステップb)及びステップc)の少なくとも一方は、室温で行われる。 In a further preferred embodiment of the method, at least one of steps b) and c) is carried out at room temperature.

接触面と接続面との間にある前述の接続部は、室温でも形成可能である。この場合、接続要素が接触面に押し付けられて接続部を形成することが好ましい。ここで使用される圧力は、3MPa~200MPaの間の範囲内、特に15MPa~70MPaの間の範囲内にあることが好ましい。20MPaの圧力が特に好ましい。 The aforementioned connection between the contact surface and the connecting surface can also be formed at room temperature. In this case, it is preferred that the connecting element is pressed against the contact surface to form the connection. The pressure used here is preferably in the range between 3 MPa and 200 MPa, in particular in the range between 15 MPa and 70 MPa. A pressure of 20 MPa is particularly preferred.

また、ステップb)及びc)の終了後に加熱が行われないことも好ましい。これにより、温度の作用による部品へのダメージを防止することが可能である。 It is also preferred that no heating is performed after steps b) and c) are completed, in order to prevent damage to the components due to the effects of temperature.

さらに好ましい実施形態において、本方法は、以下をさらに含む。
d)少なくとも接触面を少なくとも150℃の温度に加熱するステップ。
In a further preferred embodiment, the method further comprises:
d) heating at least the contact surface to a temperature of at least 150°C.

接触面は、(最低温度として)少なくとも150℃の温度に、好ましくは(最低温度として)少なくとも170℃の温度に加熱される。温度は200℃であることが好ましい。加熱は、最高270℃、特に最高240℃の温度まで行われることが好ましい。本実施形態では、ステップb)及びc)の少なくとも一方が室温で行われることも好ましい。これは、ステップb)及びc)による接続部の形成後にはじめて加熱が行われることを意味する。このようにして、形成された接続部は加熱により補強される。 The contact surfaces are heated to a temperature of at least 150°C (as a minimum temperature), preferably to a temperature of at least 170°C (as a minimum temperature). Preferably, the temperature is 200°C. Preferably, heating is performed up to a temperature of up to 270°C, in particular up to 240°C. In this embodiment, it is also preferred that at least one of steps b) and c) is performed at room temperature. This means that heating is performed only after the formation of the connection according to steps b) and c). In this way, the formed connection is reinforced by heating.

ステップd)による加熱により、各ナノワイヤが接触面に特に満足できる態様で接続される。したがって、接触面のみが加熱されればよい。実際には、このような加熱では、接触面、ナノワイヤ、接続要素、1つ又は2つの部品の一部又は全体、又は、これらの組み合わせに対して、加熱が行われるのかどうかについて区別できないことが多い。これは、特に熱伝導性材料が使用される場合に当てはまる。接続部の形成のために、接触面以外の要素を(共に)加熱するは必要ないが、有害でもない。したがって、ステップd)による加熱は特に、1つの又は2つの部品と接続要素とが、まとめて、例えば炉内で、加熱されることで行うことができる。しかし、あるいは、熱を、接続部の領域に、特に接触面の領域に局所的に導くことも可能である。 The heating according to step d) connects the nanowires to the contact surfaces in a particularly satisfactory manner. Therefore, only the contact surfaces need to be heated. In practice, such heating often does not distinguish whether the contact surfaces, the nanowires, the connection element, part or the whole of one or two components, or a combination of these, are heated. This is particularly true when thermally conductive materials are used. For the formation of the connection, it is not necessary, but is also not harmful, to heat (together) elements other than the contact surfaces. The heating according to step d) can therefore be carried out in particular by heating one or two components and the connection element together, for example in a furnace. However, it is alternatively possible to introduce heat locally into the region of the connection, in particular into the region of the contact surfaces.

接続部を形成するには、前述の最低温度に一回、短時間でも少なくとも到達すればよい。最低温度を維持する必要はない。しかし、ステップd)で加熱が行われる温度が少なくとも2秒間、好ましくは少なくとも30秒間維持されることが好ましい。これにより、接続部を望んだとおりに形成することが可能となる。原則として、温度がより長く維持されることは有害ではない。 To form the connection, the aforementioned minimum temperature must be reached at least once, even for a short time. It is not necessary to maintain the minimum temperature. It is, however, preferable that the temperature at which heating is carried out in step d) is maintained for at least 2 seconds, preferably at least 30 seconds. This makes it possible to form the connection as desired. In principle, a longer temperature maintenance is not detrimental.

ステップb)及びc)、またステップd)も、少なくとも部分的に時間的に重なる態様で行うことができる。したがって、例えば、ステップb)及びc)の前又は最中に予熱が行うことが可能であり、この予熱はステップd)の一部とみなすことができる。ステップb)又はc)における合わせる動作の際に接続部の形成に必要な温度にあらかじめ到達するように、第一部品又は第二部品又はその両方の接触面それぞれをステップd)の前に加熱することも可能である。特に、この点で、ステップb)又はc)の前にステップd)が始まることも可能である。この場合、ステップd)は、ステップd)により必要とされる温度が、ステップb)又はc)の終了後でも少なくとも一時的に存在することによって行われる。 Steps b) and c) and also step d) can be carried out in an at least partially overlapping manner. Thus, for example, preheating can be carried out before or during steps b) and c), which can be considered as part of step d). It is also possible to heat the contact surfaces of the first part or the second part or both, respectively, before step d), so that the temperature required for the formation of the connection during the mating operation in step b) or c) is reached in advance. In particular, in this respect, it is also possible for step d) to begin before step b) or c). In this case, step d) is carried out in such a way that the temperature required by step d) is at least temporarily present even after the end of step b) or c).

本方法によれば、例えば溶接又は硬ろう付けの場合のような程度の温度に達することなく、2つの接触面の間の接続部を得ることが可能である。本実施形態では、不必要な程の加熱をしないで済む点で、この利点を利用することができる。例えば、これにより関連する部品へのダメージが回避可能である。前述のような低い温度であることにより、可燃性材料の発火も防止可能となる。したがって、第一接触面又は第二接触面又はその両方の温度が、本方法の任意の時点で270℃を超えることがなく、特に240℃を超えないことが特に好ましい。 The method makes it possible to obtain a connection between the two contact surfaces without reaching temperatures as in the case of, for example, welding or brazing. This can be exploited in the present embodiment in that it avoids unnecessary heating, for example to avoid damage to the components involved. Such low temperatures also prevent ignition of flammable materials. It is therefore particularly preferred that the temperature of the first or second contact surface or both does not exceed 270°C, in particular 240°C, at any point during the method.

本方法のさらに好ましい実施形態では、接続要素は、少なくとも加熱中の一部の期間ににおいて、小さくとも3MPaの圧力で、特に小さくとも15MPaの圧力又は大きくとも200MPaの圧力で、特に70MPaの圧力で、第一接触面及び第二接触面の少なくとも一方に押し付けられる。これは特に、接続要素が1つ又は2つの部品に押し付けられることで行うことができる。 In a further preferred embodiment of the method, the connection element is pressed against at least one of the first and second contact surfaces at a pressure of at least 3 MPa, in particular at least 15 MPa or at most 200 MPa, in particular at most 70 MPa, at least during part of the heating period. This can in particular be done by pressing the connection element against one or two parts.

使用される圧力は、3MPa~200MPaの間の範囲内、特に15MPa~70MPaの間の範囲内にあることが好ましい。20MPaの圧力が特に好ましい。 The pressure used is preferably in the range between 3 MPa and 200 MPa, in particular in the range between 15 MPa and 70 MPa. A pressure of 20 MPa is particularly preferred.

圧力は、温度がその指定された下限を超える期間に少なくともおいては、指定された下限を上回ることが好ましい。したがって、この点で、ナノワイヤ及び接触面は、少なくともこの期間においては、対応する圧力と対応する温度との両方に曝される。これにより、圧力及び温度の作用により接続部を形成することができる。 The pressure is preferably above the specified lower limit at least during the period during which the temperature exceeds its specified lower limit. In this regard, the nanowire and the contact surface are thus exposed to both the corresponding pressure and the corresponding temperature for at least this period. This allows a connection to be formed by the action of pressure and temperature.

本発明のさらなる態様として、第一接触面を第二接触面に接続するために接続要素を使用することを提示する。接続要素は、第一接続面上及び第二接続面上に、それぞれの多数のナノワイヤを有する。第一接続面と第二接続面は、接続要素の同じ側に設けられる。 A further aspect of the invention provides for the use of a connecting element to connect a first contact surface to a second contact surface. The connecting element has a multiplicity of nanowires on the first connecting surface and on the second connecting surface, respectively. The first connecting surface and the second connecting surface are provided on the same side of the connecting element.

本方法の前述の特別な利点及び設計の特徴は、本使用に適用及び転用可能であり、その逆も同様である。 The above-mentioned special advantages and design features of the present method are applicable and transferable to this use, and vice versa.

接続要素は、電気伝導性及び熱伝導性の少なくとも一方として形成されることが好ましい。これにより、接触面同士は、電気伝導可能な態様及び熱伝導可能な態様の少なくとも一方で互いに接続することができる。あるいは、第一接続面と第二接続面は、互いに電気的に絶縁されていることが好ましい。 The connecting element is preferably formed to be at least one of electrically conductive and thermally conductive. This allows the contact surfaces to be connected to each other in at least one of an electrically conductive and thermally conductive manner. Alternatively, the first connecting surface and the second connecting surface are preferably electrically insulated from each other.

第一接続面と第二接続面との間の電気抵抗が四端子測定において少なくとも100KΩと測定される場合は、第一接続面と第二接続面は互いに電気的に絶縁されているとみなすことが意図されている。この測定は、室温、空気湿度20%、定電圧(すなわち交流電圧ではない)で行われたものであり、第一接続面上及び第二接続面上のそれぞれの電極を用いており、電極は1cmの面積にわたってそれぞれの接続面に接触している。 It is intended that the first and second connecting surfaces are considered to be electrically insulated from each other if the electrical resistance between them is measured to be at least 100 KΩ in a four-terminal measurement, the measurement being performed at room temperature, with an air humidity of 20%, at a constant voltage (i.e., not an alternating voltage), with respective electrodes on the first and second connecting surfaces, the electrodes contacting the respective connecting surfaces over an area of 1 cm2 .

接続面が互いに対して電気的に絶縁される場合には、接触面同士の間が電気的に絶縁されていながらも機械的に安定であり且つ選択的に熱伝導性でもある接続部を形成可能である。好ましくは、第一接続面と第二接続面との間の領域において、接続要素の材料の比電気抵抗は、室温で少なくとも10Ωmであり、好ましくは少なくとも10Ωmである。 If the connection surfaces are electrically insulated from one another, it is possible to form a connection which is electrically insulated between the contact surfaces but which is nevertheless mechanically stable and optionally also thermally conductive. Preferably, in the region between the first and second connection surfaces, the material of the connection element has a specific electrical resistivity of at least 10 5 Ωm, preferably at least 10 8 Ωm, at room temperature.

接続要素の材料の比電気抵抗について記載された仕様は、定電圧での測定に関するものである。交流電圧を印加すると、異なる結果が得られることがあり、特に交流電圧の周波数に依存する場合がある。 The specifications given for the specific electrical resistivity of the materials of the connecting elements relate to measurements at constant voltage. When an alternating voltage is applied, different results may be obtained and may depend in particular on the frequency of the alternating voltage.

少なくとも10Ωm、好ましくは少なくとも10Ωmの記載値は、接続要素の材料に関する。様々な材料の比抵抗が、専門文献の表などで入手可能である。ここでは、この種の仕様を参照する。接続要素が特定の材料から全体が形成される場合には、ここで使用される接続要素の材料の比抵抗は、専門文献でこの特定の材料に対して指定された値である。この定義は、材料によって生じたのではない効果を全て除外することを意味し、例えば、接続要素の形によって生じる効果等を除外する。接続要素が異なる材料で構成されている場合には、個々の材料の比抵抗を専門文献から確認することができ、接続要素の材料、すなわち材料の組成の総比抵抗を確認することができる。使用される材料の比抵抗の値が専門文献に見つからない場合には、測定によりこの値を確認することができる。 The stated value of at least 10 5 Ωm, preferably at least 10 8 Ωm, relates to the material of the connection element. Resistivities of various materials are available, for example in tables, in the specialist literature. Reference is made here to specifications of this kind. If the connection element is entirely made of a particular material, the resistivity of the material of the connection element used here is the value specified for this particular material in the specialist literature. This definition means that all effects that are not caused by the material are excluded, such as effects caused by the shape of the connection element. If the connection element is made of different materials, the resistivities of the individual materials can be ascertained from the specialist literature, and the total resistivity of the material of the connection element, i.e. the composition of the material, can be ascertained. If the value of the resistivity of the material used cannot be found in the specialist literature, this value can be ascertained by measurement.

使用の好ましいある実施形態では、第一接触面は部品の第一領域に設けられ、第二接触面は部品の第二領域に設けられる。 In a preferred embodiment of the use, the first contact surface is provided on a first region of the part and the second contact surface is provided on a second region of the part.

本実施形態では、両方の接触面が同じ部品上に形成される。しかし、部品は、少なくとも2つの異なる領域にさらに分割される。個々の領域は、構造的な特徴の観点で互いに区別可能である。個々の領域は、さらに、機能的観点でも互いに区別可能であることが好ましい。特に、個々の領域は、構築及び組み立てを容易にするために電子部品がさらに分割されるゾーンとすることができる。 In this embodiment, both contact surfaces are formed on the same component. However, the component is further divided into at least two different regions. The individual regions are distinguishable from one another in terms of structural features. Preferably, the individual regions are also distinguishable from one another in terms of functionality. In particular, the individual regions can be zones into which the electronic component is further divided to facilitate construction and assembly.

使用の好ましい実施形態では、第一接続面は、第二接続面から離れて設けられる。 In a preferred embodiment of the use, the first connection surface is spaced apart from the second connection surface.

接続面は、接続部の形成によって概念的にのみ区別可能である。この場合、本実施形態では、互いに離れて設けられた接続面同士の間に接続部が存在することができる。特に、記載されたように区別される接続面同士の間にナノワイヤが設けられることもできる。これにより、接続面同士の間でのナノワイヤの成長を抑制するための措置をとる必要がないため、ナノワイヤの成長を促進することができる。接続面と接触面とを精密に適合する様式で重ねる必要がないため、接続要素の配置を非常に容易にすることも可能となる。代わりに、各接続面は、それぞれの接触面と接触するに必要とされる箇所に正確に形成される。また、接続要素は、特定の用途のために特別に作製される必要はない。むしろ、接続要素は、多種多様な用途に柔軟に使用されることができる。接続面同士の間のナノワイヤは、使用しないままとすることができ、又は、接触面外の表面領域に対して接続することができる。 The connection surfaces can be distinguished only conceptually by the formation of a connection. In this case, in the present embodiment, a connection can be present between the connection surfaces that are provided apart from one another. In particular, nanowires can be provided between the connection surfaces that are distinguished as described. This can promote the growth of nanowires, since no measures need to be taken to suppress the growth of nanowires between the connection surfaces. It also makes it possible to greatly facilitate the positioning of the connection elements, since the connection surfaces and the contact surfaces do not need to be overlapped in a precisely matching manner. Instead, each connection surface is formed exactly where it is required to contact the respective contact surface. Furthermore, the connection elements do not need to be specially made for a particular application. Rather, the connection elements can be used flexibly for a wide variety of applications. The nanowires between the connection surfaces can be left unused or can be connected to surface areas outside the contact surfaces.

使用のさらに好ましい実施形態では、第一接触面と第二接触面は、接続要素によって、電気伝導性の態様又は熱伝導性の態様又は機械的態様又はそれらの組み合わせで、互いに接続される。 In a further preferred embodiment of the use, the first contact surface and the second contact surface are connected to each other by a connecting element in an electrically conductive manner or in a thermally conductive manner or in a mechanical manner or in a combination thereof.

この実施形態では、特にナノワイヤが、電気伝導性又は熱伝導性又は機械的安定性又はそれらを組み合わせて有する材料から形成される場合、接触面の間に、電気伝導性の態様又は熱伝導性の態様又は機械的の態様又はそれらの組み合わせの接続部を形成することができる。第一接触面と第二接触面は、電気伝導性の態様又は熱伝導性の態様又はその両方で互いに接続されることが好ましい。接続面の間における電気伝導性又は熱伝導性又はその両方を有する接続部は、接続要素の材料によって形成することができる。これに関しては、ナノワイヤが上に設けられる接続要素の表面が、電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方であればよい。 In this embodiment, in particular when the nanowires are made of a material that has electrical conductivity or thermal conductivity or mechanical stability or a combination thereof, a connection can be made between the contact surfaces that has an electrically conductive, thermally conductive or mechanical aspect or a combination thereof. The first and second contact surfaces are preferably connected to each other in an electrically conductive or thermally conductive manner or both. The electrically and/or thermally conductive connection between the connecting surfaces can be made by the material of the connecting element. In this regard, it is sufficient that the surface of the connecting element on which the nanowires are provided is electrically and/or thermally conductive.

後者が当てはまるのは、特に、ナノワイヤは層によって接続要素に接続され、第一接続面と第二接続面との間の全体に亘って層が形成される、使用の好ましい実施形態である。 The latter applies in particular to preferred embodiments of the use in which the nanowires are connected to the connection element by a layer, forming a layer all the way between the first and second connection surfaces.

層は、好ましくは、ナノワイヤのガルバニック成長に使用される。層は、好ましくは、ナノワイヤの材料から形成される。このように、基板はナノワイヤの材料で被覆することができ、それにより、層が得られる。そして、ナノワイヤが層上で成長し、ナノワイヤの成長によって、層上は区切られることができる。リソグラフィ中間ステップを用いてナノワイヤの成長の前に層が構造化される場合には、ナノワイヤの成長を局所的に区切ることが可能である。このようにして、ナノワイヤが帯状等の形で設けられた初期本体を得ることができる。 The layer is preferably used for the galvanic growth of the nanowires. The layer is preferably made of the material of the nanowires. In this way, the substrate can be coated with the material of the nanowires, whereby a layer is obtained. The nanowires are then grown on the layer, which can be delimited by the growth of the nanowires. If the layer is structured before the growth of the nanowires by means of an intermediate lithographic step, it is possible to locally delimit the growth of the nanowires. In this way, an initial body can be obtained in which the nanowires are arranged in the form of strips, etc.

使用のさらに好ましい実施形態では、層は、熱伝導性であるか、又は、電気伝導性であるか、又は、機械的接続部を形成するために構成されているか、又は、それらの組み合わせである。 In further preferred embodiments of the use, the layer is thermally conductive, electrically conductive, configured to form a mechanical connection, or a combination thereof.

特にこのタイプの層を用いて、各接続面は、熱伝導性の態様又は電気伝導性の態様又は機械的の態様又はそれらの組み合わせで互いに接続されることができる。層は、電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方であることが好ましい。さらに、ナノワイヤが電気伝導性であるか又は熱伝導性であるか又はその両方である場合は、接触面の間において、電気伝導性又は熱伝導性又はその両方を有する接続部を作製形成することができる。 In particular, with this type of layer, the contact surfaces can be connected to each other in a thermally conductive manner, an electrically conductive manner, a mechanical manner, or a combination thereof. The layer is preferably electrically conductive or thermally conductive or both. Furthermore, if the nanowires are electrically conductive or thermally conductive or both, connections can be made between the contact surfaces that are electrically and/or thermally conductive.

使用のさらに好ましい実施形態では、接続要素は、フィルム状の構成である。 In a further preferred embodiment of the use, the connecting element is of film-like configuration.

フィルム状の構成とは、接続要素の厚さが、接続要素の他の方向への広がりに比べて非常に小さいことを意味する。好ましい実施形態では、接続要素の厚さは最大でも5mmである。接続要素の厚さは、0.005mm~5mm[ミリメートル]の間の範囲内、特に0.01mm~1mmの間の範囲内にあることが好ましい。 The film-like configuration means that the thickness of the connection element is very small compared to its extent in other directions. In a preferred embodiment, the thickness of the connection element is at most 5 mm. The thickness of the connection element is preferably in the range between 0.005 mm and 5 mm [millimeters], in particular in the range between 0.01 mm and 1 mm.

特に、フィルム状の接続要素は、可撓性構成のものであることが好ましい。 In particular, it is preferable that the film-like connecting element has a flexible configuration.

さらに、接続要素は帯状の構成のものであることが好ましい。この実施形態では、接続面は、帯状の2つの表面のうちの1つに設けられ、これらの表面は(帯状の材料厚さから生じる)他の表面全てと比べて、表面積が非常に大きい。 Furthermore, the connection element is preferably of strip-like configuration. In this embodiment, the connection surface is provided on one of the two surfaces of the strip, which has a very large surface area compared to all the other surfaces (resulting from the material thickness of the strip).

帯状材料は、例えばロールの形で提供可能である。この場合、ナノワイヤは、帯状材料上にあらかじめ設けられており、例えば保護ラッカーによって保護することができる。接続要素を使用する前に、保護ラッカーを除去してナノワイヤを露出することができる。帯状材料の必要な部分それぞれを、使用されるためにロールから分離することができる。 The strip of material can be provided, for example, in the form of a roll. In this case, the nanowires are pre-applied on the strip of material and can be protected, for example, by a protective lacquer. Before using the connection element, the protective lacquer can be removed to expose the nanowires. Each required portion of the strip of material can be separated from the roll for use.

本実施形態では、接続要素は、「接続テープ」、特に「KlettWeldingテープ」[フックアンドループ溶接テープ]とも呼ぶことができる。 In this embodiment, the connection element can also be referred to as a "connection tape," specifically a "KlettWelding tape" [hook and loop welding tape].

本発明のさらなる態様として、接続要素と部品とを有する装置が提示される。この装置は、
多数のナノワイヤによって接続要素の第一接続面に接続される第一接触面と、
多数のナノワイヤによって接続要素の第二接続面に接続される第二接触面と
を備え、
第一接続面と第二接続面とは、接続要素の同じ側に設けられる。
According to a further aspect of the present invention, there is provided a device having a connecting element and a part, the device comprising:
a first contact surface connected to the first connection surface of the connection element by a number of nanowires;
a second contact surface connected to the second connecting surface of the connecting element by a number of nanowires;
The first connecting surface and the second connecting surface are provided on the same side of the connecting element.

本方法及び本接続要素の使用の前述の特別な利点及び設計の特徴は、本装置に適用及び転用可能である。 The above-mentioned special advantages and design features of the present method and use of the present connection element are applicable and transferable to the present device.

本発明及び技術分野は、図面に基づいて以下により詳細に説明する。図面には、特に好ましい例示的実施形態を示す。しかし、本発明はそれに制限されない。特に、図面、特に図示されるサイズ比は、模式的なものにすぎないことに留意すべきである。 The invention and the technical field are explained in more detail below on the basis of the drawings, which show particularly preferred exemplary embodiments, to which the invention is not, however, limited. It should be noted in particular that the drawings, and in particular the illustrated size ratios, are only schematic.

2つの部品を接続する本発明による方法の概略図を示す。1 shows a schematic diagram of a method according to the invention for connecting two components; 図1の方法によって互いに接続された2つの部品の本発明による装置の概略図を示す。2 shows a schematic diagram of an apparatus according to the invention of two components connected to each other by the method of FIG. 1; 本発明によるさらなる装置の概略図を示す。1 shows a schematic diagram of a further device according to the invention; 本発明によるさらなる装置の概略図を示す。1 shows a schematic diagram of a further device according to the invention; 2つの接触面を接続する本発明による方法の概略図を示す。1 shows a schematic diagram of a method according to the invention for connecting two contact surfaces; 図5の方法によって互いに接続された2つの接触面を備える部品を有する本発明による第一装置の概略側面図を示す。6 shows a schematic side view of a first device according to the invention having parts with two contact surfaces connected to each other by the method of FIG. 5 . 図6の接続要素を下から見た概略図を示す。7 shows a schematic view of the connection element of FIG. 6 from below. 図6及び図7の接続要素が得られる初期本体を下から見た概略図を示す。8 shows a schematic view from below of an initial body from which the connecting elements of FIGS. 6 and 7 are obtained; 接続要素の第二実施形態の、下から見た概略図を示す。4 shows a schematic view from below of a second embodiment of a connecting element; 接続要素の第三実施形態の、下から見た概略図を示す。4 shows a schematic view from below of a third embodiment of a connecting element; 図5の方法によって互いに接続された2つの接触面を備える部品を有する本発明によるさらなる装置の概略側面図を示す。6 shows a schematic side view of a further device according to the invention having parts with two contact surfaces connected to each other by the method of FIG. 5 .

図1は、第一部品2を第二部品3に接続する方法を示す。使用される参照符号は図2に関するものである。この方法は、
a)接続要素6を設けるステップであって、
接続要素6は、接続要素6の第一側10にある第一接続面7上と接続要素6の第一側10と反対の第二側11にある第二接続面8上とのそれぞれに、多数のナノワイヤ1を備えており、
第一接続面7と第二接続面8は、互いに対して電気的に絶縁されている、ステップと、
b)第一部品2の接触面4と接続要素6の第一接続面7とを合わせるステップと、
c)第二部品3の接触面5と接続要素6の第二接続面8とを合わせるステップと
を含む。
Figure 1 shows a method for connecting a first part 2 to a second part 3. The reference numbers used refer to figure 2. This method comprises the steps of:
a) providing a connecting element 6,
The connecting element 6 comprises a multiplicity of nanowires 1 on a first connecting surface 7 on a first side 10 of the connecting element 6 and on a second connecting surface 8 on a second side 11 of the connecting element 6 opposite the first side 10,
the first connecting surface 7 and the second connecting surface 8 being electrically insulated from each other;
b) bringing the contact surface 4 of the first part 2 and the first connecting surface 7 of the connecting element 6 together;
c) bringing the contact surface 5 of the second part 3 and the second connecting surface 8 of the connecting element 6 together.

ステップb)及びc)の少なくとも一方は、室温で行われることが好ましい。この方法は、図1に破線のボックスで示される以下の選択的なステップをさらに含むことができる。
d)少なくとも各接触面4、5を少なくとも150℃の温度に加熱するステップ
At least one of steps b) and c) is preferably carried out at room temperature. The method may further comprise the following optional steps, which are indicated in dashed boxes in FIG.
d) heating at least each contact surface 4, 5 to a temperature of at least 150° C.

図2は、図1の方法を用いて得られる装置9を示す。装置9は、接続要素6の第一側10の第一接続面7上の多数のナノワイヤ1によって接続要素6に接続されている第一部品2を備える。装置9は、接続要素6の第一側10と反対の第二側11の第二接続面8上の多数のナノワイヤ1によって接続要素6に接続されている第二部品3をさらに備える。この目的のために、第一部品2及び第二部品3は、それぞれの接触面4、5を有する。 Figure 2 shows a device 9 obtained using the method of Figure 1. The device 9 comprises a first part 2 connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a first connection surface 7 on a first side 10 of the connection element 6. The device 9 further comprises a second part 3 connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a second connection surface 8 on a second side 11 opposite to the first side 10 of the connection element 6. To this end, the first part 2 and the second part 3 have respective contact surfaces 4, 5.

第一接続面7と第二接続面8は、互いに対して電気的に絶縁されている。このために、接続要素6は、セラミック材料から、少なくとも第一接続面7と第二接続面8との間の領域に形成される。その結果、少なくともこの領域において、接続要素6の比電気抵抗は、少なくとも1010Ωmである。接続要素6は、フィルム状の構成である。接続要素6の厚さは、最大でも5mmである。接続要素6の厚さは、図2における接続要素6の鉛直方向の範囲として特定することができる。 The first connecting surface 7 and the second connecting surface 8 are electrically insulated from each other. For this purpose, the connecting element 6 is formed from a ceramic material at least in the region between the first connecting surface 7 and the second connecting surface 8. As a result, at least in this region, the specific electrical resistance of the connecting element 6 is at least 10 10 Ωm. The connecting element 6 is of film-like construction. The thickness of the connecting element 6 is at most 5 mm. The thickness of the connecting element 6 can be specified as the vertical extent of the connecting element 6 in FIG. 2.

図3は、第一部品2と、機能要素13と、第二部品3と、第一接続要素6と、第二接続要素14とを備える装置12を示す。第一部品2は、多数のナノワイヤ1を介して第一接続要素6の第一接続面7に接続されている。機能要素13は、第一側において、多数のナノワイヤ1を介して、第一接続要素6の第二接続面8に接続されており、第二側において、多数のナノワイヤ1を介して、第二接続要素14の第一接続面7に接続されている。第二部品3は、多数のナノワイヤ1を介して第二接続要素14の第二接続面8に接続されている。接続要素6、14の接続面7、8は、それぞれ互いに対して電気的に絶縁されている。図3に示す装置12は、図1の方法を2回用いることにより作製することができる。 Figure 3 shows a device 12 comprising a first part 2, a functional element 13, a second part 3, a first connecting element 6 and a second connecting element 14. The first part 2 is connected to a first connecting surface 7 of the first connecting element 6 via a number of nanowires 1. The functional element 13 is connected on a first side to a second connecting surface 8 of the first connecting element 6 via a number of nanowires 1 and on a second side to a first connecting surface 7 of the second connecting element 14 via a number of nanowires 1. The second part 3 is connected to a second connecting surface 8 of the second connecting element 14 via a number of nanowires 1. The connecting surfaces 7, 8 of the connecting elements 6, 14 are electrically insulated from each other, respectively. The device 12 shown in Figure 3 can be produced by using the method of Figure 1 twice.

図4は、第一部品2と、第二部品3と、第三部品16と第四部品17とを備える装置15を示す。第一部品2は、接続要素6の第一側10の第一接続面7上の多数のナノワイヤ1によって、接続要素6に接続される。第二部品3は、接続要素6の第一側10と反対の第二側11の第二接続面8上の多数のナノワイヤ1によって、接続要素6に接続される。第一接続面7と第二接続面8とは、互いに電気的に絶縁される。第三部品16は、接続要素6の第一側10の第三接続面20上の多数のナノワイヤ1によって、接続要素6に接続される。第四部品17は、接続要素6の第二側11の第四接続面21上の多数のナノワイヤ1によって、接続要素6に接続される。第三接続面20と第四接続面21は、互いに電気伝導可能な態様で接続される。部品2、3、16、17のそれぞれの接触面4、5、18、19も示されている。 Figure 4 shows a device 15 comprising a first part 2, a second part 3, a third part 16 and a fourth part 17. The first part 2 is connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a first connection surface 7 of the first side 10 of the connection element 6. The second part 3 is connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a second connection surface 8 of the second side 11 opposite the first side 10 of the connection element 6. The first connection surface 7 and the second connection surface 8 are electrically insulated from each other. The third part 16 is connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a third connection surface 20 of the first side 10 of the connection element 6. The fourth part 17 is connected to the connection element 6 by a number of nanowires 1 on a fourth connection surface 21 of the second side 11 of the connection element 6. The third connection surface 20 and the fourth connection surface 21 are electrically connected to each other in an electrically conductive manner. The respective contact surfaces 4, 5, 18, 19 of the parts 2, 3, 16, 17 are also shown.

図5は、第一接触面102と第二接触面103とを接続する方法を示す。使用される参照符号は図6に関するものである。この方法は、
a)第一接続面107と第二接続面108とに、多数のナノワイヤ101を備える接続要素106を設けるステップであって、
第一接続面107と第二接続面108は、接続要素106の同じ側に設けられている、ステップと、
b)第一接触面102と接続要素106の第一接続面107とを合わせるステップと、
c)第二接触面103と接続要素106の第二接続面108とを合わせるステップと
を含む。
Figure 5 shows a method for connecting the first contact surface 102 and the second contact surface 103. The reference numbers used relate to figure 6. This method comprises the steps of:
a) providing a connecting element 106 comprising a number of nanowires 101 on a first connecting surface 107 and a second connecting surface 108,
a step, the first connecting surface 107 and the second connecting surface 108 being provided on the same side of the connecting element 106;
b) mating the first contact surface 102 with a first connecting surface 107 of a connecting element 106;
c) mating the second contact surface 103 with the second connecting surface 108 of the connecting element 106.

ステップa)において、接続要素106は、図8に示す初期本体112から切り離されることによって形成される。 In step a), the connection element 106 is formed by being cut away from the initial body 112 shown in FIG. 8.

ステップb)及びc)の少なくとも一方は、室温で行われることが好ましい。この方法は、図5に破線のボックスで示される以下の選択的なステップをさらに含むことができる。
d)少なくとも各接触面102、103を少なくとも150℃の温度に加熱するステップ
At least one of steps b) and c) is preferably carried out at room temperature. The method may further comprise the following optional steps, which are indicated in dashed boxes in FIG.
d) heating at least each contact surface 102, 103 to a temperature of at least 150° C.

図6は、接続要素106と部品110とを有する装置109を示す。部品110は、第一接触面102と第二接触面103とを有する。第一接触面102は、多数のナノワイヤ101によって、接続要素106の第一接続面107に接続される。第二接触面103は、多数のナノワイヤ101によって、接続要素106の第二接続面108に接続される。第一接続面107と第二接続面108は、接続要素106の同じ側に設けられる。図6に示す例では、これは、接続要素106の、下方に向いた側面である。 Figure 6 shows a device 109 with a connecting element 106 and a part 110. The part 110 has a first contact surface 102 and a second contact surface 103. The first contact surface 102 is connected to a first connecting surface 107 of the connecting element 106 by a number of nanowires 101. The second contact surface 103 is connected to a second connecting surface 108 of the connecting element 106 by a number of nanowires 101. The first connecting surface 107 and the second connecting surface 108 are provided on the same side of the connecting element 106. In the example shown in Figure 6, this is the downward-facing side of the connecting element 106.

第一接触面102は、部品110の第一領域104に設けられる。第二接触面103は、部品110の第二領域105に設けられる。 The first contact surface 102 is provided in a first region 104 of the part 110. The second contact surface 103 is provided in a second region 105 of the part 110.

接続面107、108は、互いに離れて設けられる。 The connection surfaces 107 and 108 are spaced apart from each other.

ナノワイヤ101は、層111によって接続要素106に接続される。層111は、第一接続面107と第二接続面108との間の全体に亘って形成される。 The nanowire 101 is connected to the connection element 106 by a layer 111. The layer 111 is formed all the way between the first connection surface 107 and the second connection surface 108.

層111は、電気伝導性であり且つ熱伝導性である。ナノワイヤ101は、電気伝導性であり且つ熱伝導性である材料から形成される。これにより、接触面102、103は、互いに電気伝導性であり且つ熱伝導である態様で接続される。 Layer 111 is electrically and thermally conductive. Nanowire 101 is formed from an electrically and thermally conductive material, such that contact surfaces 102, 103 are connected to each other in an electrically and thermally conductive manner.

図7は、図5の方法で使用されうる図6の接続要素106を下から見た図を示す。層111が見られる。図7は、接続部が形成される前の状況を示しており、そのため、接続面はまだ区別されていない。 Figure 7 shows a bottom view of the connection element 106 of Figure 6 that can be used in the method of Figure 5. Layer 111 is visible. Figure 7 shows the situation before the connection is made, so that the connection surfaces are not yet differentiated.

図8は、層111の帯状部分を多数備えた初期本体112を示す。ナノワイヤ101を備えたこれらの帯状部分は、ナノワイヤ101を備えない帯状部分によって互いから分離される。破線は、好ましくは、フィルム状の初期本体112から切り出すことによって接続要素106が得られる様子を示す。層111の帯状部分に沿っている接続要素106の範囲は、要件に応じて選択可能である。また、接続要素106は、層111の帯状部分を複数用いて形成することができる。初期本体112から多数の接続要素106を切り出すことができる。破線で描かれた接続要素106は、例示した1つの角で切り出される最初の接続要素である。あるいは、例えば初期本体112全体を接続要素106として使用することも可能である。図示した実施形態のように層111の帯状部分が規則的に設けられることも、必須ではない。帯状部分の幅、隣接する帯状部分間の間隔、(図8の右から左の方向に)帯状部分の長さ、帯状部分の向き、これらのいずれかが異なるか、又は、それらを組み合わせた、不規則なパターンも可能である。 8 shows an initial body 112 with a number of strips of the layer 111. These strips with nanowires 101 are separated from each other by strips without nanowires 101. The dashed lines show how the connection element 106 is obtained by cutting out from the initial body 112, which is preferably in the form of a film. The extent of the connection element 106 along the strip of the layer 111 can be selected according to the requirements. The connection element 106 can also be formed by using a number of strips of the layer 111. A number of connection elements 106 can be cut out from the initial body 112. The connection element 106 depicted in dashed lines is the first connection element cut out at one corner as illustrated. Alternatively, it is possible to use, for example, the entire initial body 112 as the connection element 106. It is also not necessary that the strips of the layer 111 are arranged regularly as in the illustrated embodiment. Irregular patterns are also possible, with variations in the width of the bands, the spacing between adjacent bands, the length of the bands (from right to left in FIG. 8), the orientation of the bands, or any combination of these.

これに対応して、図9及び10は層111の配置が異なる接続要素6の2つの実施形態を示す。 Correspondingly, Figures 9 and 10 show two embodiments of the connection element 6 with different arrangements of the layers 111.

図9における接続要素106は、幅が連続的に減少する層111の帯状部分を有する。この接続要素6は、特に、(接続要素106の左側の)大きな接触面を小さな接触面(右側)に接続するために使用することができる。 The connecting element 106 in FIG. 9 has strips of layers 111 with a continuously decreasing width. This connecting element 6 can be used in particular to connect a large contact surface (on the left side of the connecting element 106) to a smaller contact surface (on the right side).

図10における接続要素6は、層111の帯状部分を4つ有する。これらの帯状部分は長さが異なる。これに対応して、接続要素106は、4つの接続部を形成するために使用することができ、それぞれの第一接触面は線上に設けられ、それぞれの第二接触面はこの線に対して斜めになっている線上に設けられる。 The connecting element 6 in FIG. 10 has four strips of layer 111, which have different lengths. Correspondingly, the connecting element 106 can be used to form four connections, each with a first contact surface on a line and each with a second contact surface on a line oblique to this line.

図11は、互いに接続された接触面102、103の第二装置109を示す。この装置109は、接触面2、3が部品110の異なる領域104、105に設けられない点で、図6の装置109と異なる。代わりに、第一接触面102は第一部品110上に設けられ、第二接触面103は第二部品113上に設けられる。2つの部品110、113は、互いに対して平行に設けられてはいない。2つの部品が互いに90°の角度をなす例として示される。角度が異なる装置も同様に可能である。別々の部品110、113が存在するという特徴と、接触面102、103が互いに対して平行になっていないという特徴とは、互いに独立したものである。これは、例えば部品110の領域104、105が互いに対して角度をなすことも可能であることを意味する。 11 shows a second arrangement 109 of contact surfaces 102, 103 connected to each other. This arrangement 109 differs from the arrangement 109 of FIG. 6 in that the contact surfaces 2, 3 are not provided on different areas 104, 105 of the part 110. Instead, the first contact surface 102 is provided on the first part 110 and the second contact surface 103 is provided on the second part 113. The two parts 110, 113 are not provided parallel to each other. It is shown as an example that the two parts are at an angle of 90° to each other. Arrangements with different angles are possible as well. The features of the presence of separate parts 110, 113 and the feature that the contact surfaces 102, 103 are not parallel to each other are independent of each other. This means that for example the areas 104, 105 of the part 110 can also be at an angle to each other.

図11では、2つの部品110、113が角度のある装置を形成し、その内側に接続要素106が設けられている。あるいは、接続要素106を、角度のある装置の外側に設けることもできる。図11では、角度のある装置の外側は、第一部品110の左の側面と第二部品113の下の側面とによって形成される。 In FIG. 11, the two parts 110, 113 form an angled device, on the inside of which the connecting element 106 is provided. Alternatively, the connecting element 106 can be provided on the outside of the angled device. In FIG. 11, the outside of the angled device is formed by the left side of the first part 110 and the lower side of the second part 113.

1 ナノワイヤ
2 第一部品
3 第二部品
4 第一部品の接触面
5 第二部品の接触面
6 第一接続要素
7 第一接続面
8 第二接続面
9 装置
10 第一側
11 第二側
12 装置
13 機能要素
14 第二接続要素
15 装置
16 第三部品
17 第四部品
18 第三部品の接触面
19 第四部品の接触面
20 第三接続面
21 第四接続面
101 ナノワイヤ
102 第一接触面
103 第二接触面
104 第一領域
105 第二領域
106 接続要素
107 第一接続面
108 第二接続面
109 装置
110 第一部品
111 層
112 初期本体
113 第二部品
1 Nanowire 2 First part 3 Second part 4 Contact surface of first part 5 Contact surface of second part 6 First connection element 7 First connection surface 8 Second connection surface 9 Device 10 First side 11 Second side 12 Device 13 Functional element 14 Second connection element 15 Device 16 Third part 17 Fourth part 18 Contact surface of third part 19 Contact surface of fourth part 20 Third connection surface 21 Fourth connection surface 101 Nanowire 102 First contact surface 103 Second contact surface 104 First region 105 Second region 106 Connection element 107 First connection surface 108 Second connection surface 109 Device 110 First part 111 Layer 112 Initial body 113 Second part

Claims (12)

第一部品(2)を第二部品(3)に接続する方法であって、
a)接続要素(6)を設けるステップであって、
前記接続要素(6)は、前記接続要素(6)の第一側(10)にある第一接続面(7)上と前記接続要素(6)の前記第一側(10)と反対の第二側(11)にある第二接続面(8)上とのそれぞれに、多数のナノワイヤ(1)を備えており、
前記第一接続面(7)と前記第二接続面(8)は、互いに対して電気的に絶縁されており、
前記接続要素(6)は、ポリマーから形成されている、ステップと、
b)前記第一部品(2)の接触面(4)と前記接続要素(6)の前記第一接続面(7)とを合わせるステップと、
c)前記第二部品(3)の接触面(5)と前記接続要素(6)の前記第二接続面(8)とを合わせるステップと
を含む方法。
A method for connecting a first part (2) to a second part (3), comprising the steps of:
a) providing a connecting element (6),
The connecting element (6) comprises a number of nanowires (1) on a first connecting surface (7) on a first side (10) of the connecting element (6) and on a second connecting surface (8) on a second side (11) of the connecting element (6) opposite to the first side (10),
the first connecting surface (7) and the second connecting surface (8) are electrically insulated from each other ;
the connecting element (6) being made of a polymer ;
b) mating the contact surface (4) of the first part (2) with the first connecting surface (7) of the connecting element (6);
and c) mating the contact surface (5) of the second part (3) with the second connecting surface (8) of the connecting element (6).
請求項1に記載の方法であって、
前記ステップb)及び前記ステップc)の少なくとも一方は、室温で行われる、
方法。
2. The method of claim 1 ,
At least one of steps b) and c) is performed at room temperature.
Method.
請求項1又は2のいずれかに記載の方法であって、
d)少なくとも前記各接触面(4、5)を少なくとも90℃の温度に加熱するステップ
をさらに含む、
方法。
3. A method according to claim 1 or 2, comprising:
d) heating at least each of said contact surfaces (4, 5) to a temperature of at least 90° C.,
Method.
請求項1~3のいずれか一項に記載の方法であって、
前記接続要素又は前記第一部品又は前記第二部品又はそれらの組み合わせは、前記ステップb)及び前記ステップc)の少なくとも一方において超音波による作用を受ける、
方法。
The method according to any one of claims 1 to 3,
the connecting element or the first part or the second part or a combination thereof is subjected to ultrasonic action in at least one of steps b) and c);
Method.
請求項1~4のいずれか一項に記載の方法であって、
ステップa)で設けられる前記接続要素(6)は、前記接続要素(6)の前記第一側(10)の第三接続面(20)上と、前記接続要素(6)の前記第二側(11)の第四接続面(21)上とのそれぞれに、多数のナノワイヤ(1)を備えており、
前記第三接続面(20)と前記第四接続面(21)は、互いに電気伝導可能な態様で接続され、
該方法は、
b’)第三部品(16)の接触面(18)と前記接続要素(6)の前記第三接続面(20)とを合わせるステップと、
c’)第四部品(17)の接触面(19)と前記接続要素(6)の前記第四接続面(21)とを合わせるステップと
をさらに含む方法。
The method according to any one of claims 1 to 4,
The connection element (6) provided in step a) comprises a number of nanowires (1) on a third connection surface (20) of the first side (10) of the connection element (6) and on a fourth connection surface (21) of the second side (11) of the connection element (6),
the third connection surface (20) and the fourth connection surface (21) are connected to each other in an electrically conductive manner;
The method comprises:
b') mating a contact surface (18) of a third part (16) with said third connecting surface (20) of said connecting element (6);
and c') mating a contact surface (19) of a fourth part (17) with said fourth connecting surface (21) of said connecting element (6).
第一部品(2)を第二部品(3)に接続する接続要素(6)であって、
該接続要素(6)は、該接続要素(6)の第一側(10)にある第一接続面(7)上と、該接続要素(6)の前記第一側(10)と反対の第二側(11)にある第二接続面(8)上とのそれぞれに、多数のナノワイヤ(1)を備えており、
前記第一接続面(7)と前記第二接続面(8)は、互いに電気的に絶縁されており、
前記接続要素(6)は、ポリマーから形成されている、
接続要素(6)。
A connecting element (6) for connecting the first part (2) to the second part (3),
The connecting element (6) comprises a number of nanowires (1) on a first connecting surface (7) on a first side (10) of the connecting element (6) and on a second connecting surface (8) on a second side (11) of the connecting element (6) opposite to the first side (10);
The first connecting surface (7) and the second connecting surface (8) are electrically insulated from each other ;
The connecting element (6) is made of a polymer .
Connecting element (6).
請求項6に記載の接続要素(6)であって、
前記接続要素(6)は、フィルム状の構成である、
接続要素(6)。
A connecting element (6) according to claim 6,
The connecting element (6) is of a film-like construction,
Connecting element (6).
請求項6又は7に記載の接続要素(6)であって、
前記接続要素(6)の厚さは、最大でも5mmである、
接続要素(6)。
A connecting element (6) according to claim 6 or 7,
The thickness of the connecting element (6) is at most 5 mm.
Connecting element (6).
請求項6~8のいずれか一項に記載の接続要素(6)であって、
前記第一接続面(7)と前記第二接続面(8)との間の領域において、前記接続要素(6)の材料の比電気抵抗は、室温で少なくとも10Ωmである、
接続要素(6)。
A connecting element (6) according to any one of claims 6 to 8,
the specific electrical resistivity of the material of the connecting element (6) in the region between the first connecting surface (7) and the second connecting surface (8) is at least 10 5 Ωm at room temperature;
Connecting element (6).
請求項6~9のいずれか一項に記載の接続要素(6)であって、
前記接続要素(6)は、セラミック材料から、前記第一接続面(7)と前記第二接続面(8)との間の領域に形成される、
接続要素(6)。
A connecting element (6) according to any one of claims 6 to 9,
the connecting element (6) being formed in the region between the first connecting surface (7) and the second connecting surface (8) from a ceramic material;
Connecting element (6).
請求項6~10のいずれか一項に記載の接続要素であって、
前記接続要素(6)の前記第一側(10)の第三接続面(20)上と、前記接続要素(6)の前記第二側(11)の第四接続面(21)上とのそれぞれに、多数のナノワイヤ(1)をさらに備えており、
前記第三接続面(20)と前記第四接続面(21)は、互いに電気伝導可能な態様で接続されている、
接続要素。
A connecting element according to any one of claims 6 to 10,
a number of nanowires (1) on a third connection surface (20) of the first side (10) of the connection element (6) and on a fourth connection surface (21) of the second side (11) of the connection element (6),
The third connection surface (20) and the fourth connection surface (21) are connected to each other in an electrically conductive manner.
Connection element.
装置(9)であって、
接続要素(6)の第一側(10)にある第一接続面(7)上の多数のナノワイヤ(1)によって、前記接続要素(6)に接続されている第一部品(2)と、
前記接続要素(6)の前記第一側(10)と反対の第二側(11)にある第二接続面(8)上の多数のナノワイヤ(1)によって、前記接続要素(6)に接続されている第二部品(3)と
を備え、
前記第一接続面(7)と前記第二接続面(8)は、互いに対して電気的に絶縁されており、
前記接続要素(6)は、ポリマーから形成されている、
装置(9)。
An apparatus (9), comprising:
a first part (2) connected to a connecting element (6) by a number of nanowires (1) on a first connecting surface (7) on a first side (10) of said connecting element (6);
a second part (3) connected to said connecting element (6) by a multiplicity of nanowires (1) on a second connecting surface (8) on a second side (11) of said connecting element (6) opposite to said first side (10),
the first connecting surface (7) and the second connecting surface (8) are electrically insulated from each other ;
The connecting element (6) is made of a polymer .
Apparatus (9).
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