JP7501497B2 - 容器保管設備 - Google Patents
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Description
それぞれに容器が載置される容器載置部を複数備えた容器保管棚と、前記容器載置部に載置された前記容器のそれぞれに対して不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、を備えた容器保管設備であって、
前記容器保管棚の周辺に分散配置された複数の酸素濃度センサからなるセンサ群と、
前記容器保管棚の必要箇所に対して送風できるように設置された拡散用ファンと、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記容器保管棚の全域を複数の監視エリアに区分し、前記センサ群を構成する複数の前記酸素濃度センサのそれぞれの検出値に基づいて、前記複数の監視エリアのそれぞれの酸素濃度を推定し、推定した前記酸素濃度が規定の判定しきい値以下である前記監視エリアである酸素濃度低下エリアがある場合には、当該酸素濃度低下エリアに対して送風するように前記拡散用ファンを動作させる点にある。
容器保管設備1は、図1に示すように、容器保管棚10と不活性ガス供給装置45とを備えている。容器保管棚10は、容器4を保管する棚であり、それぞれに容器4が載置される容器載置部11を複数備えている。そして、容器載置部11に載置された容器4のそれぞれに対して不活性ガス供給装置45により不活性ガスが供給される。
次に、容器保管設備1のその他の実施形態について説明する。
以下、上記において説明した容器保管設備の概要について説明する。
それぞれに容器が載置される容器載置部を複数備えた容器保管棚と、前記容器載置部に載置された前記容器のそれぞれに対して不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、を備えた容器保管設備であって、
前記容器保管棚の周辺に分散配置された複数の酸素濃度センサからなるセンサ群と、
前記容器保管棚の必要箇所に対して送風できるように設置された拡散用ファンと、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記容器保管棚の全域を複数の監視エリアに区分し、前記センサ群を構成する複数の前記酸素濃度センサのそれぞれの検出値に基づいて、前記複数の監視エリアのそれぞれの酸素濃度を推定し、推定した前記酸素濃度が規定の判定しきい値以下である前記監視エリアである酸素濃度低下エリアがある場合には、当該酸素濃度低下エリアに対して送風するように前記拡散用ファンを動作させる。
水平方向に沿う特定の方向を第1方向とし、上下方向に沿う上下方向視で前記第1方向に直交する方向を第2方向とし、前記上下方向に沿う方向を第3方向として、
前記センサ群は、前記第1方向、前記第2方向、及び、前記第3方向のそれぞれについて2個以上の前記酸素濃度センサが間隔を空けて分散するように配置され、
前記制御装置は、前記センサ群を構成する全ての前記酸素濃度センサの検出値に基づいて、空間補間により前記複数の監視エリアのそれぞれの酸素濃度の最低値を推定し、前記最低値が前記判定しきい値以下である前記監視エリアを、前記酸素濃度低下エリアと判定すると好適である。
前記拡散用ファンは、前記制御装置からの指令に応じて送風方向を変更できるように構成されていると好適である。
表示装置を更に備え、
前記制御装置は、前記複数の監視エリアのそれぞれについて推定した酸素濃度を、前記容器保管棚の位置に関連付けた酸素濃度マップとして前記表示装置に表示すると好適である。
前記容器保管棚は、当該容器保管棚の周囲を囲む周壁部を備えた保管庫の内部に設置され、
前記周壁部の一部に開口が設けられ、
前記拡散用ファンは、前記保管庫の内部における前記開口に隣接するエリアに、前記開口の内側から外側に向かう方向に対して交差する方向の気流を生成すると好適である。
前記容器保管棚は、当該容器保管棚の周囲を囲む周壁部を備えた保管庫の内部に設置され、
前記保管庫の内部から排気路に向かう気流を生成する排気ファンを更に備えると好適である。
前記制御装置は、前記複数の監視エリアの全てにおける前記酸素濃度が前記判定しきい値以上に設定された減速しきい値以上である場合には、前記排気ファンにより生成する気流を減速させる減速制御を実行し、又は、前記排気ファンにより生成する気流を減速させる操作を作業者に促す減速促進制御を実行すると好適である。
4 :容器
10 :容器保管棚
11 :容器載置部
14 :周壁部
30 :センサ群
31 :酸素濃度センサ
40 :拡散用ファン
41 :排気ファン
45 :不活性ガス供給装置
50 :制御装置
60 :表示装置
70 :開口
93 :床下空間(排気路)
A :監視エリア
A1 :酸素濃度低下エリア
X :第1方向
Y :第2方向
Z :第3方向
Claims (7)
- それぞれに容器が載置される容器載置部を複数備えた容器保管棚と、前記容器載置部に載置された前記容器のそれぞれに対して不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置と、を備えた容器保管設備であって、
前記容器保管棚の周辺に分散配置された複数の酸素濃度センサからなるセンサ群と、
前記容器保管棚の必要箇所に対して送風できるように設置された拡散用ファンと、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記容器保管棚の全域を複数の監視エリアに区分し、前記センサ群を構成する複数の前記酸素濃度センサのそれぞれの検出値に基づいて、前記複数の監視エリアのそれぞれの酸素濃度を推定し、推定した前記酸素濃度が規定の判定しきい値以下である前記監視エリアである酸素濃度低下エリアがある場合には、当該酸素濃度低下エリアに対して送風するように前記拡散用ファンを動作させる、容器保管設備。 - 水平方向に沿う特定の方向を第1方向とし、上下方向に沿う上下方向視で前記第1方向に直交する方向を第2方向とし、前記上下方向に沿う方向を第3方向として、
前記センサ群は、前記第1方向、前記第2方向、及び、前記第3方向のそれぞれについて2個以上の前記酸素濃度センサが間隔を空けて分散するように配置され、
前記制御装置は、前記センサ群を構成する全ての前記酸素濃度センサの検出値に基づいて、空間補間により前記複数の監視エリアのそれぞれの酸素濃度の最低値を推定し、前記最低値が前記判定しきい値以下である前記監視エリアを、前記酸素濃度低下エリアと判定する、請求項1に記載の容器保管設備。 - 前記拡散用ファンは、前記制御装置からの指令に応じて送風方向を変更できるように構成されている、請求項1又は2に記載の容器保管設備。
- 表示装置を更に備え、
前記制御装置は、前記複数の監視エリアのそれぞれについて推定した酸素濃度を、前記容器保管棚の位置に関連付けた酸素濃度マップとして前記表示装置に表示する、請求項1から3のいずれか一項に記載の容器保管設備。 - 前記容器保管棚は、当該容器保管棚の周囲を囲む周壁部を備えた保管庫の内部に設置され、
前記周壁部の一部に開口が設けられ、
前記拡散用ファンは、前記保管庫の内部における前記開口に隣接するエリアに、前記開口の内側から外側に向かう方向に対して交差する方向の気流を生成する、請求項1から4のいずれか一項に記載の容器保管設備。 - 前記容器保管棚は、当該容器保管棚の周囲を囲む周壁部を備えた保管庫の内部に設置され、
前記保管庫の内部から排気路に向かう気流を生成する排気ファンを更に備える、請求項1から5のいずれか一項に記載の容器保管設備。 - 前記制御装置は、前記複数の監視エリアの全てにおける前記酸素濃度が前記判定しきい値以上に設定された減速しきい値以上である場合には、前記排気ファンにより生成する気流を減速させる減速制御を実行し、又は、前記排気ファンにより生成する気流を減速させる操作を作業者に促す減速促進制御を実行する、請求項6に記載の容器保管設備。
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013140893A (ja) | 2012-01-05 | 2013-07-18 | Daifuku Co Ltd | 保管棚用の不活性ガス注入装置 |
| JP2014241377A (ja) | 2013-06-12 | 2014-12-25 | 株式会社ダイフク | 保管棚用の不活性ガス注入装置 |
| JP2015009913A (ja) | 2013-06-26 | 2015-01-19 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| JP2015012042A (ja) | 2013-06-26 | 2015-01-19 | 株式会社ダイフク | 不活性気体供給設備 |
| WO2015114981A1 (ja) | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 村田機械株式会社 | パージ装置及びパージガスを含む気体を拡散させる方法 |
| JP2017186161A (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 株式会社ダイフク | 容器収納設備 |
| JP2019140379A (ja) | 2018-02-09 | 2019-08-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001326162A (ja) * | 2000-05-17 | 2001-11-22 | Canon Inc | 半導体製造装置および半導体デバイス製造方法 |
| US20050028049A1 (en) * | 2002-04-19 | 2005-02-03 | Kameshwar Poolla | Sensor methods and apparatus |
| JP5979089B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2016-08-24 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| WO2015045582A1 (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-02 | 村田機械株式会社 | パージ装置及びパージ方法 |
| JP2016058642A (ja) * | 2014-09-11 | 2016-04-21 | 株式会社東芝 | 粒子供給装置及び方法 |
-
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013140893A (ja) | 2012-01-05 | 2013-07-18 | Daifuku Co Ltd | 保管棚用の不活性ガス注入装置 |
| JP2014241377A (ja) | 2013-06-12 | 2014-12-25 | 株式会社ダイフク | 保管棚用の不活性ガス注入装置 |
| JP2015009913A (ja) | 2013-06-26 | 2015-01-19 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| JP2015012042A (ja) | 2013-06-26 | 2015-01-19 | 株式会社ダイフク | 不活性気体供給設備 |
| WO2015114981A1 (ja) | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 村田機械株式会社 | パージ装置及びパージガスを含む気体を拡散させる方法 |
| JP2017186161A (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 株式会社ダイフク | 容器収納設備 |
| JP2019140379A (ja) | 2018-02-09 | 2019-08-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
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