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JP7501801B2 - Molding resin composition, method for producing sealed structure, and sealed structure - Google Patents
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Molding resin composition, method for producing sealed structure, and sealed structure Download PDF

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Description

本発明は、成形用樹脂組成物、封止構造体の製造方法および封止構造体に関する。 The present invention relates to a molding resin composition, a method for producing a sealing structure, and a sealing structure.

半導体素子等に代表される電子部品、またはステータ等の構造体を、外部環境から保護するため、熱硬化性樹脂を用いて封止する方法が広く採用されている。特に封止用樹脂としてエポキシ樹脂を使用したトランスファーモールド法は経済性と生産性に優れており、大量生産に好適であることから、樹脂封止の主流となっている。 To protect electronic components such as semiconductor elements or structures such as stators from the external environment, a method of encapsulating them using thermosetting resins is widely used. In particular, the transfer molding method using epoxy resin as the encapsulating resin is economical and productive, and is suitable for mass production, making it the mainstream method of resin encapsulation.

ステータコアに樹脂材料を用いる技術として、特許文献1(特開2003-284277号公報)に記載にものがある。同文献には、複数の電磁鋼板を積層したステータコアに複数のコイルを所定間隔で巻線したステータと、このステータに対し回転可能に保持されたロータと、ステータを固定する冷却フレームを有する回転電機において、ステータの巻線部分となるスロットを樹脂成分中に異方性構造が存在する熱硬化性樹脂で構成した高熱伝導複合材を配置した回転電機について記載されており、かかる構成により、コイルで発生した熱が伝わりやすく放熱性のよい回転電機が提供されるとされている。 Patent Document 1 (JP Patent Publication 2003-284277A) describes a technology for using a resin material in a stator core. The document describes a rotating electric machine having a stator in which multiple coils are wound at regular intervals around a stator core made of multiple laminated electromagnetic steel sheets, a rotor that is rotatably held relative to the stator, and a cooling frame to which the stator is fixed, in which a highly heat-conductive composite material made of a thermosetting resin with an anisotropic structure in the resin component is arranged in the slots that form the winding portion of the stator. It is said that this configuration provides a rotating electric machine with good heat dissipation properties, where heat generated in the coils is easily transferred.

特開2003-284277号公報JP 2003-284277 A

しかし、従来技術の樹脂組成物では、硬化のために高温での処理が必要となり、作業性に改善の余地があった。また、従来技術の樹脂組成物を用いた封止構造体では、電子部品やステータ等の構造体との密着性と防水性に改善の余地があり、封止構造体に不具合が生じる場合があった。However, resin compositions of the prior art require high-temperature processing for curing, leaving room for improvement in terms of workability. Also, sealing structures using resin compositions of the prior art leave room for improvement in terms of adhesion to structures such as electronic components and stators, and waterproofing, which can cause problems with the sealing structures.

本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、低温で硬化が可能であり、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる成形用樹脂組成物を提供することを目的とする。The present invention has been made in consideration of these circumstances, and aims to provide a molding resin composition that can be cured at low temperatures and can improve adhesion and waterproofing when used to seal structures such as electronic components or stators.

本発明者らは、検討の結果、以下に提供される発明を完成させ、上記課題を解決した。 As a result of their investigations, the inventors have completed the invention provided below and solved the above-mentioned problems.

本発明によれば、
以下の成形用樹脂組成物、封止構造体の製造方法および封止構造体が提供される。
According to the present invention,
The following molding resin composition, method for producing a sealed structure, and sealed structure are provided.

[1]
電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルとを一括して封止するために用いられる成形用樹脂組成物であって、
エポキシ樹脂と、
硬化剤および硬化触媒の一方または両方と、
無機充填材と、を含み、
当該成形用樹脂組成物を140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下である、成形用樹脂組成物。
[2]
上記[1]に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法1)によって測定される、ガラス転移温度(Tg)が140℃以上300℃以下である、成形用樹脂組成物。
(方法1)
上記成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒で、80mm×10mm×4mmの試験片を成形し、175℃2時間で後硬化する。さらに、熱機械分析装置を用いて、5℃/分の昇温速度で得られた試験片の熱膨張率を測定する。次いで、得られた測定結果に基づき、熱膨張率の変曲点から硬化物のガラス転移温度(Tg)(℃)を算出する。
[3]
上記[1]または[2]に記載の成形用樹脂組成物において、
上記エポキシ樹脂がフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含む、成形用樹脂組成物。
[4]
上記[1]~[3]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
上記エポキシ樹脂の含有量が、上記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、3質量%以上40質量%以下である、成形用樹脂組成物。
[5]
上記[1]~[4]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
上記硬化剤を含み、上記硬化剤がフェノール樹脂系硬化剤を含む、成形用樹脂組成物。
[6]
上記[5]に記載の成形用樹脂組成物において、
上記フェノール樹脂系硬化剤がフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂およびトリスフェノールメタン型フェノール樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含む、成形用樹脂組成物。
[7]
上記[5]または[6]に記載の成形用樹脂組成物において、
上記硬化剤の含有量が、上記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、0.8質量%以上12質量%以下である、成形用樹脂組成物。[8]
上記[1]~[7]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
上記硬化触媒を含み、上記硬化触媒がイミダゾール系化合物を含む、成形用樹脂組成物。
[9]
上記[8]に記載の成形用樹脂組成物において、
上記硬化触媒の含有量が、上記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、0.01質量%以上2.0質量%以下である、成形用樹脂組成物。
[10]
上記[1]~[9]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
当該成形用樹脂組成物を金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとし、当該成形用樹脂組成物を25℃で48時間放置した後、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとしたとき、S≧0.8×Sを満たす、成形用樹脂組成物。
[11]
上記[1]~[10]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法2)によって測定される、トルク値が2N・mに達する時間が100秒未満である、成形用樹脂組成物。
(方法2)
キュラストメーター(登録商標)を用い、金型温度140℃、振幅角度±0.25度にて、上記成形用樹脂組成物のトルク値を経時的に測定する。測定結果に基づいて、測定開始から、トルク値が2N・mに達する時間(秒)を算出する。
[12]
上記[1]~[11]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法3)によって測定される、スパイラルフローが70cm以上である、成形用樹脂組成物。
(方法3)
上記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入し、流動長を測定し、これをスパイラルフロー(cm)とする。
[13]
上記[1]~[12]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法4)によって測定される、ゲルタイムが30秒以上である、成形用樹脂組成物。
(方法4)
上記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入する。注入開始から成形用樹脂組成物が硬化し流動しなくなるまでの時間を測定し、ゲルタイム(秒)とする。
[14]
上記[1]~[13]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法5)によって測定される、線膨張係数α1が10.0ppm/℃以下である、成形用樹脂組成物。
(方法5)
上記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分の条件で注入成形し、15mm×4mm×4mmの成形品を得る。次いで、得られた成形品を175℃、4時間で後硬化して試験片を作製する。そして、得られた試験片に対して、熱機械分析装置を用いて、測定温度範囲0℃~400℃、昇温速度5℃/分の条件下で、25-70℃における平均線膨張係数α1(ppm/℃)を測定する。
[15]
上記[1]~[14]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法6)によって測定される、熱伝導率が0.5W/m・K以上である、成形用樹脂組成物。
(方法6)
上記成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒間の条件で注入成形し、80mm×10mm×4mmの成形体を得る。次いで、得られた成形体を175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片について、レーザーフラッシュ法を用いて熱拡散率を測定する。また、電子比重計を用いて、熱伝導率測定に用いた試験片の比重を測定する。さらに、示差走査熱量計を用いて、熱伝導率及び比重測定に用いた試験片の比熱を測定する。測定した熱拡散率、比重および比熱の各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率(W/m・K)を算出する。
[16]
トランスファー成形機中の成形型に、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルと、を配置する工程と、
上記トランスファー成形機を用いるトランスファーモールド法にて、上記[1]~[15]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物で上記成形型内の上記基板と、上記ステータコアと、上記コイルと、を封止成形することにより、封止構造体を得る工程と、
を含む、封止構造体の製造方法。
[17]
上記[16]に記載の封止構造体の製造方法において、
上記封止構造体を得る上記工程において、上記成形用樹脂組成物の硬化体のTg以下の温度で封止成形する、封止構造体の製造方法。
[18]
上記[16]または[17]に記載の封止構造体の製造方法において、
上記封止構造体を得る上記工程として、後硬化工程を行わない、封止構造体の製造方法。
[19]
電子部品が搭載された基板と、
上記基板の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロットを有するステータコアと、
上記スロットに収容された複数個のコイルと、
を含む被封止体と、
上記被封止体の一部または全部を被覆して設けられる封止部材と、を備え、
上記封止部材が、上記[1]~[15]のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物の硬化物により構成されている、封止構造体。
[1]
A molding resin composition used to collectively seal a substrate on which electronic components are mounted, a stator core fixed on the substrate and having a plurality of slots formed in the circumferential direction, and a plurality of coils housed in the slots,
Epoxy resin,
a curing agent and/or a curing catalyst;
an inorganic filler;
The molding resin composition is cured at 140° C. for 2 minutes, and the cured product has a flexural modulus at 25° C. (in accordance with JIS K6911:2006) of 0.1 GPa or more and 30 GPa or less.
[2]
In the molding resin composition according to the above [1],
A molding resin composition having a glass transition temperature (Tg) of 140° C. or higher and 300° C. or lower, as measured by the following (Method 1).
(Method 1)
The molding resin composition is molded into a test piece of 80 mm x 10 mm x 4 mm using a transfer molding machine at a mold temperature of 175 ° C, injection pressure of 6.9 MPa, and curing time of 90 seconds, and then post-cured at 175 ° C for 2 hours. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the test piece obtained is measured at a heating rate of 5 ° C / min using a thermomechanical analyzer. Next, based on the obtained measurement results, the glass transition temperature (Tg) ( ° C) of the cured product is calculated from the inflection point of the thermal expansion coefficient.
[3]
In the molding resin composition according to the above [1] or [2],
The molding resin composition, wherein the epoxy resin comprises one or more selected from the group consisting of phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, and trisphenolmethane type epoxy resins.
[4]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [3],
A molding resin composition, wherein the content of the epoxy resin is 3% by mass or more and 40% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass.
[5]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [4],
A molding resin composition comprising the above curing agent, wherein the curing agent comprises a phenolic resin-based curing agent.
[6]
In the molding resin composition according to the above [5],
The molding resin composition, wherein the phenolic resin-based curing agent comprises one or more selected from the group consisting of phenol novolac resins, cresol novolac resins, naphthol novolac resins and trisphenolmethane type phenolic resins.
[7]
In the molding resin composition according to the above [5] or [6],
The molding resin composition, wherein the content of the curing agent is 0.8% by mass or more and 12% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass. [8]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [7],
A molding resin composition comprising the above curing catalyst, the curing catalyst comprising an imidazole-based compound.
[9]
In the molding resin composition according to the above [8],
The molding resin composition has a content of the curing catalyst of 0.01% by mass or more and 2.0% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.
[10]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [9],
The molding resin composition satisfies S2 ≧ 0.8 × S1, where S1 is a spiral flow measured for the molding resin composition at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes, and S2 is a spiral flow measured for the molding resin composition after leaving the composition at 25°C for 48 hours, at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa , and a curing time of 3 minutes.
[11]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [10],
A molding resin composition, in which the time required for a torque value to reach 2 N·m, as measured by the following (Method 2), is less than 100 seconds.
(Method 2)
Using a Curastometer (registered trademark), the torque value of the molding resin composition is measured over time at a mold temperature of 140° C. and an amplitude angle of ±0.25°. Based on the measurement results, the time (seconds) from the start of measurement until the torque value reaches 2 N·m is calculated.
[12]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [11],
A molding resin composition having a spiral flow of 70 cm or more, as measured by the following (Method 3).
(Method 3)
The above molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold in accordance with ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175°C, injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes, and the flow length is measured, which is defined as the spiral flow (cm).
[13]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [12],
A molding resin composition having a gel time of 30 seconds or more, as measured by the following (Method 4).
(Method 4)
The molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold conforming to ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175° C., injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes. The time from the start of injection until the molding resin composition hardens and no longer flows is measured and taken as the gel time (seconds).
[14]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [13],
A molding resin composition having a linear expansion coefficient α1 of 10.0 ppm/° C. or less, as measured by the following (Method 5).
(Method 5)
The molding resin composition is injected and molded using a low-pressure transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes to obtain a molded product of 15 mm x 4 mm x 4 mm. The molded product obtained is then post-cured at 175°C for 4 hours to prepare a test piece. The average linear expansion coefficient α1 (ppm/°C) of the obtained test piece at 25-70°C is measured using a thermomechanical analyzer under conditions of a measurement temperature range of 0°C to 400°C and a heating rate of 5°C/min.
[15]
In the molding resin composition according to any one of the above [1] to [14],
A molding resin composition having a thermal conductivity of 0.5 W/m·K or more, as measured by the following (Method 6).
(Method 6)
The molding resin composition is injected and molded using a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds to obtain a molded body of 80 mm x 10 mm x 4 mm. The molded body obtained is then post-cured at 175°C for 2 hours to obtain a test piece. The thermal diffusivity of the obtained test piece is measured using a laser flash method. In addition, the specific gravity of the test piece used for the thermal conductivity measurement is measured using an electronic specific gravity meter. Furthermore, the specific heat of the test piece used for the thermal conductivity and specific gravity measurement is measured using a differential scanning calorimeter. The thermal conductivity (W/m·K) in the thickness direction of the test piece is calculated from the measured values of the thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat.
[16]
A step of arranging, in a mold in a transfer molding machine, a substrate on which electronic components are mounted, a stator core having a plurality of slots formed in a circumferential direction and fixed on the substrate, and a plurality of coils housed in the slots;
A step of obtaining a sealed structure by encapsulating the substrate, the stator core, and the coil in the mold with the molding resin composition according to any one of [1] to [15] above by a transfer molding method using the transfer molding machine;
A method for manufacturing a sealing structure comprising the steps of:
[17]
In the method for producing a sealing structure according to the above [16],
A method for producing a sealed structure, wherein in the step of obtaining the sealed structure, sealing molding is performed at a temperature equal to or lower than the Tg of a cured product of the molding resin composition.
[18]
In the method for producing a sealing structure according to the above [16] or [17],
A method for producing a sealing structure, in which a post-curing step is not performed as the step of obtaining the sealing structure.
[19]
A substrate on which electronic components are mounted;
a stator core fixed on one surface of the substrate and having a plurality of slots formed in a circumferential direction;
A plurality of coils housed in the slot;
A sealed body including the above-mentioned
a sealing member provided to cover a part or the whole of the sealed object,
A sealed structure, wherein the sealing member is constituted by a cured product of the molding resin composition according to any one of [1] to [15] above.

本発明によれば、低温で硬化が可能であり、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる成形用樹脂組成物が提供される。 According to the present invention, a molding resin composition is provided that can be cured at low temperatures and can improve adhesion and waterproofing when sealing structures such as electronic components or stators.

本実施形態の一例における成形前後の被封止体および封止構造体の上面図である。3A to 3C are top views of the sealed body and the sealing structure before and after molding in one example of this embodiment. 本実施形態の一例における成形前後の被封止体および封止構造体の側面図である。3A to 3C are side views of a sealed body and a sealing structure before and after molding in one example of this embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
本明細書中、数値範囲に関する「X~Y」の表記は、特に断らない限り、X以上Y以下を表す。本明細書中、数値範囲に関する上限値および下限値の記載は、特に断りがなければ、記載されている上限値および下限値を任意で組み合わせることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same components are given the same reference numerals and the description will be omitted as appropriate.
In this specification, the expression "X to Y" regarding a numerical range means from X to Y, unless otherwise specified. In this specification, the upper and lower limit values regarding a numerical range can be arbitrarily combined, unless otherwise specified.

<成形用樹脂組成物>
本実施形態の成形用樹脂組成物は、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルとを一括して封止するために用いられる成形用樹脂組成物であって、エポキシ樹脂と、硬化触媒と、無機充填材と、を含み、当該成形用樹脂組成物を140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下である。
<Molding resin composition>
The molding resin composition of the present embodiment is a molding resin composition used to collectively seal a substrate on which electronic components are mounted, a stator core fixed on the substrate having a plurality of slots formed in the circumferential direction, and a plurality of coils housed in the slots, the molding resin composition comprising an epoxy resin, a curing catalyst, and an inorganic filler, and a cured product obtained by curing the molding resin composition at 140°C for 2 minutes has a flexural modulus at 25°C (in accordance with JIS K6911:2006) of 0.1 GPa or more and 30 GPa or less.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルとを一括して封止するために用いられる。本実施形態の成形性樹脂組成物の封止材としての使用方法については、以下に詳述する。The molding resin composition of this embodiment is used to collectively seal a substrate on which electronic components are mounted, a stator core having multiple slots formed in the circumferential direction and fixed onto the substrate, and multiple coils housed in the slots. The method of using the moldable resin composition of this embodiment as a sealant is described in detail below.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、当該成形用樹脂組成物を140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下である。本実施形態の成形用樹脂組成物は、上記数値範囲内の曲げ弾性率を有することにより、低温で硬化が可能であり、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる。The molding resin composition of this embodiment has a flexural modulus at 25°C (based on JIS K6911:2006) of 0.1 GPa to 30 GPa in the cured product obtained by curing the molding resin composition at 140°C for 2 minutes. By having a flexural modulus within the above numerical range, the molding resin composition of this embodiment can be cured at a low temperature, and can improve adhesion and waterproofing when sealing structures such as electronic components or stators.

このような効果を奏するメカニズムは定かではないが、曲げ弾性率が上記数値範囲内であることによって、本実施形態の成形用樹脂組成物の硬化物に何らかの負荷がかかった際に、上記硬化物における微細なクラックの発生を抑制することができ、結果として電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができるものと考えられる。Although the mechanism by which this effect is achieved is unclear, it is believed that by having a flexural modulus within the above numerical range, when a load is applied to the cured product of the molding resin composition of this embodiment, the occurrence of fine cracks in the cured product can be suppressed, resulting in improved adhesion and waterproofing when sealing structures such as electronic components or stators.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、当該成形用樹脂組成物を140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911準拠:2006)の下限値が0.1GPa以上であるが、好ましくは1.0GPa以上、より好ましくは3.0GPa以上、さらに好ましくは5.0GPa以上、さらに好ましくは8.0GPa以上、さらに好ましくは10.0GPa以上、さらに好ましくは12.0GPa以上、さらに好ましくは13.0GPa以上である。曲げ弾性率を上記下限値以上にすることにより、低温で硬化させた際でも機械強度に優れる構造体を得ることができる。
また、曲げ弾性率の上限値は30GPa以下であるが、好ましくは27.0GPa以下、より好ましくは24.0GPa以下、さらに好ましくは21.0GPa以下である。曲げ弾性率を上記上限値以下にすることにより、硬化物中に蓄積する応力が十分に小さくなり、反りが低減される。これにより、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができ、構造体の不具合が生じにくくなる。
The molding resin composition of this embodiment has a flexural modulus (based on JIS K6911: 2006) at 25° C. in a cured product obtained by curing the molding resin composition at 140° C. for 2 minutes, with a lower limit of 0.1 GPa or more, preferably 1.0 GPa or more, more preferably 3.0 GPa or more, even more preferably 5.0 GPa or more, even more preferably 8.0 GPa or more, even more preferably 10.0 GPa or more, even more preferably 12.0 GPa or more, and even more preferably 13.0 GPa or more. By making the flexural modulus equal to or more than the lower limit, a structure having excellent mechanical strength can be obtained even when cured at a low temperature.
The upper limit of the flexural modulus is 30 GPa or less, preferably 27.0 GPa or less, more preferably 24.0 GPa or less, and even more preferably 21.0 GPa or less. By making the flexural modulus equal to or less than the upper limit, the stress accumulated in the cured product is sufficiently small, and warping is reduced. This can improve the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator, and the structure is less likely to have defects.

ここで、本実施形態の成形用樹脂組成物の25℃における曲げ弾性率は例えば以下の方法で測定することができる。
低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度140℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間2分の条件で、樹脂組成物を注入成形し、長さ80mm、幅10mm、厚さ4mmの成形物を得た。得られた成形物を、後硬化として200℃で4時間加熱処理したものを試験片とし、曲げ弾性率をJIS K 6911:2006に準じて25℃の雰囲気温度下で測定することができる。低圧トランスファー成形機としては、たとえばKTS-15、KTS-30(コータキ精機社製)を用いることができる。
The flexural modulus at 25° C. of the molding resin composition of this embodiment can be measured, for example, by the following method.
Using a low pressure transfer molding machine, the resin composition was injected and molded under the conditions of a mold temperature of 140°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 2 minutes to obtain a molded product having a length of 80 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 4 mm. The obtained molded product was heat-treated at 200°C for 4 hours as a post-cure to obtain a test piece, and the flexural modulus can be measured at an ambient temperature of 25°C in accordance with JIS K 6911:2006. As the low pressure transfer molding machine, for example, KTS-15 or KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.) can be used.

以下、本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられる各成分について説明する。Below, we will explain each component used in the molding resin composition of this embodiment.

[エポキシ樹脂]
本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられるエポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、N,N-ジグリシジルアニリン、N,N-ジグリシジルトルイジン、ジアミノジフェニルメタン型グリシジルアミン、アミノフェノール型グリシジルアミンのような芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリスフェノールプロパン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェニレンおよび/またはビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、フェニレンおよび/またはビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル型エポキシ樹脂等のアラルキル型エポキシ樹脂等の芳香族エポキシ樹脂、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジエンオキシド、アリサイクリックジエポキシ-アジペイド等の脂環式エポキシ等の脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。これらは単独でも2種以上混合して使用しても良い。
これらの中でも、本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられるエポキシ樹脂としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含むことが好ましい。
[Epoxy resin]
Examples of epoxy resins used in the molding resin composition of this embodiment include novolac type epoxy resins such as phenol novolac type epoxy resins and cresol novolac type epoxy resins, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins, aromatic glycidylamine type epoxy resins such as N,N-diglycidylaniline, N,N-diglycidyltoluidine, diaminodiphenylmethane type glycidylamine, and aminophenol type glycidylamine, hydroquinone type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, stilbene type epoxy resins, trisphenolmethane type epoxy resins, trisphenol methane type epoxy resins, and the like. Examples of such epoxy resins include aromatic epoxy resins such as aralkyl type epoxy resins, such as phenol propane type epoxy resins, alkyl modified trisphenol methane type epoxy resins, triazine nucleus-containing epoxy resins, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resins, naphthol type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, phenol aralkyl type epoxy resins having a phenylene and/or biphenylene skeleton, and naphthol aralkyl type epoxy resins having a phenylene and/or biphenylene skeleton, and aliphatic epoxy resins such as alicyclic epoxy resins, such as vinylcyclohexene dioxide, dicyclopentadiene oxide, and alicyclic diepoxy adipide. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, the epoxy resin used in the molding resin composition of this embodiment preferably contains one or more types selected from the group consisting of phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, and trisphenolmethane type epoxy resins.

本実施形態の成形用樹脂組成物におけるエポキシ樹脂の含有量の下限値は、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性をより向上させる観点から、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは3質量%以上、より好ましくは4質量%以上、さらに好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは6質量%以上、さらに好ましくは7質量%以上である。
また、エポキシ樹脂の含有量の上限値は、低温で硬化させた際でも機械強度に優れる構造体を得る観点から、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下、さらに好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは15質量%以下である。
本実施形態の成形用樹脂組成物におけるエポキシ樹脂の含有量は、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性をより向上させる観点および低温で硬化させた際でも機械強度に優れる構造体を得る観点から、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは3質量%以上40質量%以下、より好ましくは4質量%以上30質量%以下、さらに好ましくは5質量%以上20質量%以下、さらに好ましくは6質量%以上20質量%以下、さらに好ましくは7質量%以上15質量%以下である。
The lower limit of the epoxy resin content in the molding resin composition of this embodiment is, from the viewpoint of further improving adhesion and waterproofing when sealing structures such as electronic components or stators, preferably 3 mass % or more, more preferably 4 mass % or more, even more preferably 5 mass % or more, even more preferably 6 mass % or more, and even more preferably 7 mass % or more, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100 mass %.
Furthermore, from the viewpoint of obtaining a structure having excellent mechanical strength even when cured at low temperature, the upper limit of the epoxy resin content is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, even more preferably 20% by mass or less, and still more preferably 15% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.
The content of the epoxy resin in the molding resin composition of this embodiment, from the viewpoint of further improving adhesion and waterproofing when sealing structures such as electronic components or stators, and from the viewpoint of obtaining structures having excellent mechanical strength even when cured at low temperatures, is preferably 3% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 4% by mass or more and 30% by mass or less, even more preferably 5% by mass or more and 20% by mass or less, even more preferably 6% by mass or more and 20% by mass or less, and even more preferably 7% by mass or more and 15% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.

(硬化剤)
本実施形態の成形用樹脂組成物は、硬化剤および硬化触媒の一方または両方を含む。本実施形態の成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を三次元架橋させるために、好ましくは硬化剤を含み、硬化剤を必須成分として含む場合、より好ましくはフェノール樹脂系硬化剤を含む。フェノール樹脂系硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂;トリスフェノールメタン型フェノール樹脂等の多官能型フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂等の変性フェノール樹脂;フェニレン骨格及び/又はビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂、フェニレン及び/又はビフェニレン骨格を有するナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のビスフェノール化合物等が挙げられ、これらは1種類を単独で用いても2種類以上を併用してもよい。
(Hardening agent)
The molding resin composition of this embodiment includes one or both of a curing agent and a curing catalyst. The molding resin composition of this embodiment preferably includes a curing agent in order to three-dimensionally crosslink the epoxy resin, and when the curing agent is included as an essential component, more preferably includes a phenolic resin-based curing agent. Examples of the phenolic resin-based curing agent include novolac-type phenolic resins such as phenol novolac resins, cresol novolac resins, and naphthol novolac resins; multifunctional phenolic resins such as trisphenolmethane-type phenolic resins; modified phenolic resins such as terpene-modified phenolic resins and dicyclopentadiene-modified phenolic resins; aralkyl-type phenolic resins such as phenol aralkyl resins having a phenylene skeleton and/or biphenylene skeleton, and naphthol aralkyl resins having a phenylene and/or biphenylene skeleton; and bisphenol compounds such as bisphenol A and bisphenol F. These may be used alone or in combination of two or more types.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、好ましくはフェノール樹脂系硬化剤がフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂およびトリスフェノールメタン型フェノール樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含む。このようなフェノール樹脂系硬化剤により、耐燃性、耐湿性、電気特性、硬化性、保存安定性等のバランスが良好となる。特に、硬化性の点から、たとえばフェノール樹脂系硬化剤の水酸基当量は、90g/eq以上、250g/eq以下とすることができる。In the molding resin composition of this embodiment, the phenolic resin-based curing agent preferably contains one or more selected from the group consisting of phenol novolac resin, cresol novolac resin, naphthol novolac resin, and trisphenolmethane type phenolic resin. Such a phenolic resin-based curing agent provides a good balance of flame resistance, moisture resistance, electrical properties, curability, storage stability, etc. In particular, from the viewpoint of curability, for example, the hydroxyl group equivalent of the phenolic resin-based curing agent can be 90 g/eq or more and 250 g/eq or less.

さらに、併用できる硬化剤としては、例えば重付加型の硬化剤、触媒型の硬化剤、縮合型の硬化剤等を挙げることができる。 In addition, examples of curing agents that can be used in combination include polyaddition type curing agents, catalyst type curing agents, condensation type curing agents, etc.

重付加型の硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン(DETA)、トリエチレンテトラミン(TETA)、メタキシレンジアミン(MXDA)などの脂肪族ポリアミン、ジアミノジフェニルメタン(DDM)、m-フェニレンジアミン(MPDA)、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)などの芳香族ポリアミンのほか、ジシアンジアミド(DICY)、有機酸ジヒドラジドなどを含むポリアミン化合物;ヘキサヒドロ無水フタル酸(HHPA)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(MTHPA)などの脂環族酸無水物、無水トリメリット酸(TMA)、無水ピロメリット酸(PMDA)、ベンゾフェノンテトラカルボン酸(BTDA)などの芳香族酸無水物などを含む酸無水物;ノボラック型フェノール樹脂、フェノールポリマーなどのポリフェノール化合物;ポリサルファイド、チオエステル、チオエーテルなどのポリメルカプタン化合物;イソシアネートプレポリマー、ブロック化イソシアネートなどのイソシアネート化合物;カルボン酸含有ポリエステル樹脂などの有機酸類などが挙げられる。Examples of polyaddition type curing agents include aliphatic polyamines such as diethylenetriamine (DETA), triethylenetetramine (TETA), and metaxylenediamine (MXDA), aromatic polyamines such as diaminodiphenylmethane (DDM), m-phenylenediamine (MPDA), and diaminodiphenylsulfone (DDS), as well as polyamine compounds including dicyandiamide (DICY) and organic acid dihydrazides; alicyclic acid anhydrides such as hexahydrophthalic anhydride (HHPA), methyltetrahydrophthalic anhydride (MTHPA), and aromatic acid anhydrides such as trimellitic anhydride (TMA), pyromellitic anhydride (PMDA), and benzophenonetetracarboxylic acid (BTDA); polyphenol compounds such as novolac-type phenolic resins and phenol polymers; polymercaptan compounds such as polysulfides, thioesters, and thioethers; isocyanate compounds such as isocyanate prepolymers and blocked isocyanates; and organic acids such as carboxylic acid-containing polyester resins.

触媒型の硬化剤としては、例えば、ベンジルジメチルアミン(BDMA)、2,4,6-トリスジメチルアミノメチルフェノール(DMP-30)などの3級アミン化合物;2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール(EMI24)などのイミダゾール化合物;BF錯体などのルイス酸などが挙げられる。 Examples of catalyst-type curing agents include tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine (BDMA) and 2,4,6-trisdimethylaminomethylphenol (DMP-30); imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole (EMI24); and Lewis acids such as BF3 complex.

縮合型の硬化剤としては、例えば、レゾール樹脂、メチロール基含有尿素樹脂のような尿素樹脂;メチロール基含有メラミン樹脂のようなメラミン樹脂などが挙げられる。 Examples of condensation type curing agents include resole resins, urea resins such as methylol group-containing urea resins, and melamine resins such as methylol group-containing melamine resins.

このような他の硬化剤を併用する場合において、フェノール樹脂系硬化剤の含有量の下限値は、全硬化剤に対して、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上である。フェノール樹脂系硬化剤の含有量が上記下限値以上であると、低温での硬化性を保持しつつ、良好な流動性を発現させることができる。また、フェノール樹脂系硬化剤の含有量の上限値は、特に限定されないが、全硬化剤に対して、100質量%以下であることが好ましい。When such other curing agents are used in combination, the lower limit of the content of the phenolic resin-based curing agent is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more, based on the total curing agent. When the content of the phenolic resin-based curing agent is equal to or more than the above lower limit, it is possible to exhibit good fluidity while maintaining curability at low temperatures. In addition, the upper limit of the content of the phenolic resin-based curing agent is not particularly limited, but it is preferable that it is 100% by mass or less based on the total curing agent.

本実施形態の成形用樹脂組成物における硬化剤の含有量の合計値の下限値は、特に限定されるものではないが、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.8質量%以上、より好ましくは1質量%以上、さらに好ましくは1.5質量%以上、さらに好ましくは2質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上、さらに好ましくは4質量%以上である。硬化剤の含有量の合計値が上記下限値以上であると、良好な硬化性を得ることができる。また、成形用樹脂組成物に対する硬化剤の含有量の合計値の上限値は、特に限定されるものではないが、成形用樹脂組成物全体に対して、好ましくは12質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは8質量%以下である。The lower limit of the total content of the curing agent in the molding resin composition of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 0.8% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, even more preferably 1.5% by mass or more, even more preferably 2% by mass or more, even more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 4% by mass or more, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass. When the total content of the curing agent is equal to or more than the above lower limit, good curing properties can be obtained. In addition, the upper limit of the total content of the curing agent in the molding resin composition is not particularly limited, but is preferably 12% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 8% by mass or less, relative to the entire molding resin composition.

なお、硬化剤としてのフェノール樹脂と、エポキシ樹脂とは、成形用樹脂組成物中のエポキシ基数(EP)と、全フェノール樹脂のフェノール性水酸基数(OH)との当量比(EP)/(OH)が、0.8以上、1.6以下となるように配合することが好ましい。当量比が上記範囲内であると、得られる成形用樹脂組成物を成形する際、十分な硬化特性を得ることができる。ただし、エポキシ樹脂と反応し得るフェノール樹脂以外の樹脂を併用する場合は、適宜当量比を調整すればよい。It is preferable to mix the phenolic resin as a curing agent and the epoxy resin so that the equivalent ratio (EP)/(OH) between the number of epoxy groups (EP) in the molding resin composition and the number of phenolic hydroxyl groups (OH) in the total phenolic resin is 0.8 or more and 1.6 or less. If the equivalent ratio is within the above range, sufficient curing characteristics can be obtained when molding the resulting molding resin composition. However, when using a resin other than the phenolic resin that can react with the epoxy resin, the equivalent ratio can be adjusted appropriately.

[硬化触媒]
本実施形態の成形用樹脂組成物が硬化触媒を必須成分として含む場合、本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられる硬化触媒としては、イミダゾール系化合物を用いることが好ましい。イミダゾール系化合物は、たとえばイミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、および2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4-ジアミノ-6-[2'-メチルイミダゾリル(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-ウンデシルイミダゾリル(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-エチル-4-メチルイミダゾリル(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-メチルイミダゾリル(1')]-エチル-s-トリアジンのイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2-メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物から選択される一種または二種以上を含むことができる。
[Curing catalyst]
When the molding resin composition of the present embodiment contains a curing catalyst as an essential component, it is preferable to use an imidazole-based compound as the curing catalyst used in the molding resin composition of the present embodiment. The imidazole-based compound is, for example, an imidazoline compound such as imidazole, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole. The compound may include one or more selected from the group consisting of an isocyanuric acid adduct of 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl(1')]-ethyl-s-triazine, an isocyanuric acid adduct of 2,4-diamino-6-[2'-ethyl-4-methylimidazolyl(1')]-ethyl-s-triazine, an isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, and an isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole.

硬化触媒としてイミダゾール系化合物が用いられる場合、イミダゾール系化合物の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.03質量%以上、さらに好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.3質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上、さらに好ましくは1.0質量%以上である。イミダゾール系化合物の含有量を上記下限値以上とすることによって、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる。また、封止成形時における低温での硬化性を向上させることも可能である。一方で、イミダゾール系化合物の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.5質量%以下である。イミダゾール系化合物の含有量を上記上限値以下とすることにより、トランスファーモールド時における流動性を向上させ、充填性の向上に寄与することができる。When an imidazole-based compound is used as a curing catalyst, the content of the imidazole-based compound is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.03% by mass or more, even more preferably 0.05% by mass or more, even more preferably 0.1% by mass or more, even more preferably 0.3% by mass or more, even more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 1.0% by mass or more, when the entire solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. By making the content of the imidazole-based compound equal to or more than the above lower limit, it is possible to improve the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator. It is also possible to improve the curing property at low temperatures during sealing molding. On the other hand, the content of the imidazole-based compound is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.5% by mass or less, when the entire solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. By making the content of the imidazole-based compound equal to or less than the above upper limit, it is possible to improve the fluidity during transfer molding and contribute to improving the filling property.

硬化触媒は、イミダゾール系化合物の他に、たとえば有機ホスフィン、テトラ置換ホスホニウム化合物、ホスホベタイン化合物、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物、ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物等のリン原子含有化合物;1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン等のイミダゾール系化合物以外のアミン系硬化触媒から選択される一種または二種以上をさらに含むことができる。In addition to the imidazole-based compounds, the curing catalyst may further include one or more selected from phosphorus atom-containing compounds such as organic phosphines, tetra-substituted phosphonium compounds, phosphobetaine compounds, adducts of phosphine compounds and quinone compounds, and adducts of phosphonium compounds and silane compounds; and amine-based curing catalysts other than imidazole-based compounds, such as 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene.

有機ホスフィンとしては、例えばエチルホスフィン、フェニルホスフィン等の第1ホスフィン;ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の第2ホスフィン;トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の第3ホスフィンが挙げられる。 Examples of organic phosphines include primary phosphines such as ethylphosphine and phenylphosphine; secondary phosphines such as dimethylphosphine and diphenylphosphine; and tertiary phosphines such as trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, and triphenylphosphine.

テトラ置換ホスホニウム化合物としては、例えば下記一般式(4)で表される化合物等が挙げられる。Examples of tetra-substituted phosphonium compounds include compounds represented by the following general formula (4):

Figure 0007501801000001
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上記一般式(4)において、Pはリン原子を表す。R、R、RおよびRは芳香族基またはアルキル基を表す。Aはヒドロキシル基、カルボキシル基、チオール基から選ばれる官能基のいずれかを芳香環に少なくとも1つ有する芳香族有機酸のアニオンを表す。AHはヒドロキシル基、カルボキシル基、チオール基から選ばれる官能基のいずれかを芳香環に少なくとも1つ有する芳香族有機酸を表す。x、yは1~3の数、zは0~3の数であり、かつx=yである。 In the above general formula (4), P represents a phosphorus atom. R 4 , R 5 , R 6 and R 7 represent an aromatic group or an alkyl group. A represents an anion of an aromatic organic acid having at least one functional group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and a thiol group on an aromatic ring. AH represents an aromatic organic acid having at least one functional group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group and a thiol group on an aromatic ring. x and y are numbers from 1 to 3, z is a number from 0 to 3, and x=y.

一般式(4)で表される化合物は、例えば以下のようにして得られるがこれに限定されるものではない。まず、テトラ置換ホスホニウムハライドと芳香族有機酸と塩基を有機溶剤に混ぜ均一に混合し、その溶液系内に芳香族有機酸アニオンを発生させる。次いで水を加えると、一般式(4)で表される化合物を沈殿させることができる。一般式(4)で表される化合物において、リン原子に結合するR、R、RおよびRがフェニル基であり、かつAHはヒドロキシル基を芳香環に有する化合物、すなわちフェノール類であり、かつAは該フェノール類のアニオンであるのが好ましい。上記フェノール類としては、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコールなどの単環式フェノール類、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、アントラキノールなどの縮合多環式フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSなどのビスフェノール類、フェニルフェノール、ビフェノールなどの多環式フェノール類などが例示される。 The compound represented by the general formula (4) can be obtained, for example, as follows, but is not limited thereto. First, a tetra-substituted phosphonium halide, an aromatic organic acid, and a base are mixed uniformly in an organic solvent, and an aromatic organic acid anion is generated in the solution system. Then, water is added to precipitate the compound represented by the general formula (4). In the compound represented by the general formula (4), R 4 , R 5 , R 6 and R 7 bonded to the phosphorus atom are phenyl groups, and AH is a compound having a hydroxyl group on the aromatic ring, i.e., a phenol, and A is preferably an anion of the phenol. Examples of the phenol include monocyclic phenols such as phenol, cresol, resorcin, and catechol, condensed polycyclic phenols such as naphthol, dihydroxynaphthalene, and anthraquinol, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S, and polycyclic phenols such as phenylphenol and biphenol.

硬化触媒として用いられるホスホベタイン化合物としては、例えば、下記一般式(5)で表される化合物等が挙げられる。Examples of phosphobetaine compounds used as curing catalysts include compounds represented by the following general formula (5):

Figure 0007501801000002
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上記一般式(5)において、Pはリン原子を表す。Rは炭素数1~3のアルキル基、Rはヒドロキシル基を表す。fは0~5の数であり、gは0~3の数である。 In the above general formula (5), P represents a phosphorus atom. R8 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R9 represents a hydroxyl group, f is a number from 0 to 5, and g is a number from 0 to 3.

一般式(5)で表される化合物は、例えば以下のようにして得られる。まず、第三ホスフィンであるトリ芳香族置換ホスフィンとジアゾニウム塩とを接触させ、トリ芳香族置換ホスフィンとジアゾニウム塩が有するジアゾニウム基とを置換させる工程を経て得られる。しかしこれに限定されるものではない。The compound represented by the general formula (5) can be obtained, for example, as follows. First, a triaromatic substituted phosphine, which is a tertiary phosphine, is contacted with a diazonium salt, and the triaromatic substituted phosphine is substituted for the diazonium group of the diazonium salt. However, the method is not limited to this.

硬化触媒として用いられるホスフィン化合物とキノン化合物との付加物としては、例えば、下記一般式(6)で表される化合物等が挙げられる。Examples of adducts of phosphine compounds and quinone compounds used as curing catalysts include compounds represented by the following general formula (6):

Figure 0007501801000003
Figure 0007501801000003

上記一般式(6)において、Pはリン原子を表す。R10、R11およびR12は炭素数1~12のアルキル基または炭素数6~12のアリール基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。R13、R14およびR15は水素原子または炭素数1~12の炭化水素基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、R14とR15が結合して環状構造となっていてもよい。 In the above general formula (6), P represents a phosphorus atom. R 10 , R 11 and R 12 represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms and may be the same or different. R 13 , R 14 and R 15 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and may be the same or different, and R 14 and R 15 may be bonded to form a cyclic structure.

ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物に用いるホスフィン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の芳香環に無置換またはアルキル基、アルコキシル基等の置換基が存在するものが好ましく、アルキル基、アルコキシル基等の置換基としては1~6の炭素数を有するものが挙げられる。入手しやすさの観点からはトリフェニルホスフィンが好ましい。 Phosphine compounds used in the adduct of a phosphine compound and a quinone compound are preferably those which are unsubstituted or have a substituent such as an alkyl group or an alkoxy group on the aromatic ring, such as triphenylphosphine, tris(alkylphenyl)phosphine, tris(alkoxyphenyl)phosphine, trinaphthylphosphine, or tris(benzyl)phosphine, and examples of the substituent such as an alkyl group or an alkoxy group include those having 1 to 6 carbon atoms. Triphenylphosphine is preferred from the viewpoint of ease of availability.

また、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物に用いるキノン化合物としては、ベンゾキノン、アントラキノン類が挙げられ、中でもp-ベンゾキノンが保存安定性の点から好ましい。 In addition, examples of quinone compounds used in the adduct of a phosphine compound and a quinone compound include benzoquinone and anthraquinones, of which p-benzoquinone is preferred from the standpoint of storage stability.

ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物の製造方法としては、有機第三ホスフィンとベンゾキノン類の両者が溶解することができる溶媒中で接触、混合させることにより付加物を得ることができる。溶媒としてはアセトンやメチルエチルケトン等のケトン類で付加物への溶解性が低いものがよい。しかしこれに限定されるものではない。 The adduct of a phosphine compound and a quinone compound can be produced by contacting and mixing the organic tertiary phosphine and the benzoquinone in a solvent in which both can dissolve. The solvent should preferably be a ketone such as acetone or methyl ethyl ketone, which has low solubility in the adduct. However, the solvent is not limited to this.

一般式(6)で表される化合物において、リン原子に結合するR10、R11およびR12がフェニル基であり、かつR13、R14およびR15が水素原子である化合物、すなわち1,4-ベンゾキノンとトリフェニルホスフィンを付加させた化合物が成形用樹脂組成物の硬化物の熱時弾性率を低下させる点で好ましい。 In the compound represented by general formula (6), a compound in which R 10 , R 11 and R 12 bonded to the phosphorus atom are phenyl groups, and R 13 , R 14 and R 15 are hydrogen atoms, i.e., an addition compound of 1,4-benzoquinone and triphenylphosphine, is preferred in terms of reducing the hot elastic modulus of the cured product of the molding resin composition.

硬化触媒として使用されるホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物としては、例えば下記一般式(7)で表される化合物等が挙げられる。Examples of adducts of phosphonium compounds and silane compounds used as curing catalysts include compounds represented by the following general formula (7):

Figure 0007501801000004
Figure 0007501801000004

上記一般式(7)において、Pはリン原子を表し、Siは珪素原子を表す。R16、R17、R18およびR19は、それぞれ、芳香環または複素環を有する有機基、あるいは脂肪族基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。式中R20は、基YおよびYと結合する有機基である。式中R21は、基YおよびYと結合する有機基である。YおよびYは、プロトン供与性基がプロトンを放出してなる基を表し、同一分子内の基YおよびYが珪素原子と結合してキレート構造を形成するものである。YおよびYはプロトン供与性基がプロトンを放出してなる基を表し、同一分子内の基YおよびYが珪素原子と結合してキレート構造を形成するものである。R20、およびR21は互いに同一であっても異なっていてもよく、Y、Y、YおよびYは互いに同一であっても異なっていてもよい。Zは芳香環または複素環を有する有機基、あるいは脂肪族基である。 In the above general formula (7), P represents a phosphorus atom, and Si represents a silicon atom. R 16 , R 17 , R 18 and R 19 each represent an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or an aliphatic group, and may be the same or different from each other. In the formula, R 20 is an organic group bonded to groups Y 2 and Y 3. In the formula, R 21 is an organic group bonded to groups Y 4 and Y 5. Y 2 and Y 3 represent groups formed by releasing a proton from a proton-donating group, and groups Y 2 and Y 3 in the same molecule are bonded to a silicon atom to form a chelate structure. Y 4 and Y 5 represent groups formed by releasing a proton from a proton-donating group, and groups Y 4 and Y 5 in the same molecule are bonded to a silicon atom to form a chelate structure. R 20 and R 21 may be the same or different, and Y 2 , Y 3 , Y 4 and Y 5 may be the same or different. Z 1 is an organic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring, or an aliphatic group.

一般式(7)において、R16、R17、R18およびR19としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、ベンジル基、メチル基、エチル基、n-ブチル基、n-オクチル基およびシクロヘキシル基等が挙げられ、これらの中でも、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基等のアルキル基、アルコキシ基、水酸基などの置換基を有する芳香族基もしくは無置換の芳香族基がより好ましい。 In general formula (7), examples of R 16 , R 17 , R 18 and R 19 include a phenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, a hydroxyphenyl group, a naphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a benzyl group, a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, an n-octyl group and a cyclohexyl group. Among these, an aromatic group having a substituent such as an alkyl group, an alkoxy group or a hydroxyl group, such as a phenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, a hydroxyphenyl group or a hydroxynaphthyl group, or an unsubstituted aromatic group is more preferable.

また、一般式(7)において、R20は、YおよびYと結合する有機基である。同様に、R21は、基YおよびYと結合する有機基である。YおよびYはプロトン供与性基がプロトンを放出してなる基であり、同一分子内の基YおよびYが珪素原子と結合してキレート構造を形成するものである。同様にYおよびYはプロトン供与性基がプロトンを放出してなる基であり、同一分子内の基YおよびYが珪素原子と結合してキレート構造を形成するものである。基R20およびR21は互いに同一であっても異なっていてもよく、基Y、Y、Y、およびYは互いに同一であっても異なっていてもよい。このような一般式(7)中の-Y-R20-Y-、および-Y-R21-Y-で表される基は、プロトン供与体が、プロトンを2個放出してなる基で構成されるものであり、プロトン供与体としては、分子内にカルボキシル基、または水酸基を少なくとも2個有する有機酸が好ましく、さらには芳香環を構成する隣接する炭素にカルボキシル基または水酸基を少なくとも2個有する芳香族化合物が好ましく、芳香環を構成する隣接する炭素に水酸基を少なくとも2個有する芳香族化合物がより好ましく、例えば、カテコール、ピロガロール、1,2-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、2,2'-ビフェノール、1,1'-ビ-2-ナフトール、サリチル酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、3-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、クロラニル酸、タンニン酸、2-ヒドロキシベンジルアルコール、1,2-シクロヘキサンジオール、1,2-プロパンジオールおよびグリセリン等が挙げられるが、これらの中でも、カテコール、1,2-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレンがより好ましい。 In addition, in the general formula (7), R 20 is an organic group bonded to Y 2 and Y 3. Similarly, R 21 is an organic group bonded to groups Y 4 and Y 5. Y 2 and Y 3 are groups formed by a proton-donating group releasing a proton, and groups Y 2 and Y 3 in the same molecule are bonded to a silicon atom to form a chelate structure. Similarly, Y 4 and Y 5 are groups formed by a proton-donating group releasing a proton, and groups Y 4 and Y 5 in the same molecule are bonded to a silicon atom to form a chelate structure. Groups R 20 and R 21 may be the same or different from each other, and groups Y 2 , Y 3 , Y 4 , and Y 5 may be the same or different from each other. In such general formula (7), -Y 2 -R 20 -Y 3 - and -Y 4 -R 21 -Y 5 The group represented by - is constituted by a group formed by releasing two protons from a proton donor, and as the proton donor, an organic acid having at least two carboxyl groups or hydroxyl groups in the molecule is preferable, an aromatic compound having at least two carboxyl groups or hydroxyl groups on adjacent carbons constituting an aromatic ring is more preferable, and an aromatic compound having at least two hydroxyl groups on adjacent carbons constituting an aromatic ring is more preferable. Examples of the proton donor include catechol, pyrogallol, 1,2-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,2'-biphenol, 1,1'-bi-2-naphthol, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, chloranilic acid, tannic acid, 2-hydroxybenzyl alcohol, 1,2-cyclohexanediol, 1,2-propanediol, and glycerin, and among these, catechol, 1,2-dihydroxynaphthalene, and 2,3-dihydroxynaphthalene are more preferable.

また、一般式(7)中のZは、芳香環または複素環を有する有機基または脂肪族基を表し、これらの具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基およびオクチル基等の脂肪族炭化水素基や、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基およびビフェニル基等の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシプロピル基、メルカプトプロピル基、アミノプロピル基等のグリシジルオキシ基、メルカプト基、アミノ基を有するアルキル基およびビニル基等の反応性置換基等が挙げられるが、これらの中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、ナフチル基およびビフェニル基が熱安定性の面から、より好ましい。 Z1 in the general formula (7) represents an organic group or an aliphatic group having an aromatic ring or a heterocyclic ring. Specific examples of such groups include aliphatic hydrocarbon groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, and octyl groups; aromatic hydrocarbon groups such as phenyl, benzyl, naphthyl, and biphenyl groups; glycidyloxy groups such as glycidyloxypropyl, mercaptopropyl, and aminopropyl groups; mercapto groups; and reactive substituents such as alkyl groups and vinyl groups having amino groups. Among these, the methyl, ethyl, phenyl, naphthyl, and biphenyl groups are more preferable in terms of thermal stability.

ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物の製造方法としては、メタノールを入れたフラスコに、フェニルトリメトキシシラン等のシラン化合物、2,3-ジヒドロキシナフタレン等のプロトン供与体を加えて溶かし、次に室温攪拌下ナトリウムメトキシド-メタノール溶液を滴下する。さらにそこへ予め用意したテトラフェニルホスホニウムブロマイド等のテトラ置換ホスホニウムハライドをメタノールに溶かした溶液を室温攪拌下滴下すると結晶が析出する。析出した結晶を濾過、水洗、真空乾燥すると、ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物が得られる。しかし、これに限定されるものではない。 In a method for producing an adduct of a phosphonium compound and a silane compound, a silane compound such as phenyltrimethoxysilane and a proton donor such as 2,3-dihydroxynaphthalene are added and dissolved in a flask containing methanol, and then a sodium methoxide-methanol solution is added dropwise at room temperature with stirring. A previously prepared solution of a tetra-substituted phosphonium halide such as tetraphenylphosphonium bromide dissolved in methanol is then added dropwise at room temperature with stirring, causing crystals to precipitate. The precipitated crystals are filtered, washed with water, and vacuum dried to obtain an adduct of a phosphonium compound and a silane compound. However, the method is not limited to this.

本実施形態の成形用樹脂組成物における硬化触媒の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.3質量%以上、さらに好ましくは0.5質量%以上、さらに好ましくは1.0質量%以上である。硬化触媒の含有量を上記下限値以上とすることにより、トランスファーモールド時における成形用樹脂組成物の硬化性を効果的に向上させ、低温での硬化性を向上させることができる。一方で、硬化触媒の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは2.0質量%以下、より好ましくは1.7質量%以下、さらに好ましくは1.5質量%以下である。硬化触媒の含有量を上記上限値以下とすることにより、封止時における流動性を向上させ、充填性の向上に寄与することができる。The content of the curing catalyst in the molding resin composition of this embodiment is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.3% by mass or more, even more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 1.0% by mass or more, when the entire solid content of the molding resin composition is 100% by mass. By making the content of the curing catalyst equal to or more than the above lower limit, the curing property of the molding resin composition during transfer molding can be effectively improved and the curing property at low temperatures can be improved. On the other hand, the content of the curing catalyst is preferably 2.0% by mass or less, more preferably 1.7% by mass or less, and even more preferably 1.5% by mass or less, when the entire solid content of the molding resin composition is 100% by mass. By making the content of the curing catalyst equal to or less than the above upper limit, the fluidity during sealing can be improved and the filling property can be improved.

[無機充填材]
本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられる無機充填材としては、例えば、溶融破砕シリカ及び溶融球状シリカ等の溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、カオリン、タルク、クレイ、マイカ、ロックウール、ウォラストナイト、ガラスパウダー、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ガラスファイバー、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミ、カーボンブラック、グラファイト、二酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、セルロース、アラミド、木材、フェノール樹脂成形材料やエポキシ樹脂成形材料の硬化物を粉砕した粉砕粉等が挙げられる。この中でも、溶融破砕シリカ、溶融球状シリカ、結晶シリカ等のシリカが好ましく、溶融球状シリカがより好ましい。また、この中でも、炭酸カルシウム、ウォラストナイトがコストの面で好ましい。無機充填材は、一種で使用しても良いし、または二種以上を併用してもよい。
[Inorganic filler]
Examples of inorganic fillers used in the molding resin composition of this embodiment include fused silica such as fused crushed silica and fused spherical silica, crystalline silica, alumina, kaolin, talc, clay, mica, rock wool, wollastonite, glass powder, glass flakes, glass beads, glass fiber, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, carbon black, graphite, titanium dioxide, calcium carbonate, calcium sulfate, barium carbonate, magnesium carbonate, magnesium sulfate, barium sulfate, cellulose, aramid, wood, and pulverized powder obtained by pulverizing a cured product of a phenolic resin molding material or an epoxy resin molding material. Among these, silica such as fused crushed silica, fused spherical silica, and crystalline silica is preferred, and fused spherical silica is more preferred. Among these, calcium carbonate and wollastonite are preferred in terms of cost. The inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

無機充填材の平均粒径D50は、好ましくは0.01μm以上75μm以下、より好ましくは0.05μm以上50μm以下である。無機充填材の平均粒径D50を上記範囲内にすることにより、成形時の金型内の充填性が向上する。また、無機充填材の平均粒径D50の上限値を75μm以下とすることにより、さらに充填性が向上する。平均粒径D50は、レーザー回折型測定装置RODOS SR型(SYMPATEC HEROS&RODOS)での体積換算平均粒径とした。 The average particle diameter D50 of the inorganic filler is preferably 0.01 μm or more and 75 μm or less, more preferably 0.05 μm or more and 50 μm or less. By setting the average particle diameter D50 of the inorganic filler within the above range, the filling property in the mold during molding is improved. Furthermore, by setting the upper limit of the average particle diameter D50 of the inorganic filler to 75 μm or less, the filling property is further improved. The average particle diameter D50 was determined as the volume-converted average particle diameter measured by a laser diffraction type measuring device RODOS SR type (SYMPATEC HEROS & RODOS).

また、本実施形態の成形用樹脂組成物は、無機充填材として、2種以上の異なる平均粒径D50を有する球状シリカを含むことができる。これにより、トランスファーモールドの際の流動性及び充填性が向上し得る。 The molding resin composition of the present embodiment may contain, as an inorganic filler, two or more kinds of spherical silica having different average particle sizes D 50. This can improve the flowability and filling property during transfer molding.

本実施形態の成形用樹脂組成物における無機充填材の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは65質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは75質量%以上である。無機充填材の含有量が上記下限値以上であると、得られる成形用樹脂組成物の硬化に伴う吸湿量の増加や、強度の低下が低減できる。また、無機充填材の含有量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは93質量%以下、より好ましくは91質量%以下、さらに好ましくは90質量%以下である。無機充填材の含有量が上記上限値以下であると、得られる成形用樹脂組成物は良好な流動性を有するとともに、良好な成形性を備える。したがって、封止構造体の製造安定性が高まり、歩留まり及び耐久性のバランスに優れた構造体が得られる。The content of the inorganic filler in the molding resin composition of this embodiment is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 65% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 75% by mass or more, when the entire solid content of the molding resin composition is 100% by mass. When the content of the inorganic filler is equal to or more than the above lower limit, the increase in moisture absorption amount and the decrease in strength due to the hardening of the obtained molding resin composition can be reduced. In addition, the content of the inorganic filler is preferably 93% by mass or less, more preferably 91% by mass or less, and even more preferably 90% by mass or less, when the entire solid content of the molding resin composition is 100% by mass. When the content of the inorganic filler is equal to or less than the above upper limit, the obtained molding resin composition has good fluidity and good moldability. Therefore, the manufacturing stability of the sealing structure is improved, and a structure with an excellent balance between yield and durability is obtained.

また、無機充填材として、溶融破砕シリカ、溶融球状シリカ、結晶シリカ等のシリカを用いる場合、シリカの含有量が、成形用樹脂組成物の無機充填材全体を100質量%としたとき、好ましくは40質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは75質量%以上である。シリカの含有量が上記下限値以上であると、トランスファーモールド時の成形用樹脂組成物の硬化性と流動性のバランスが良好となる。
なお、このときのシリカの含有量の上限値は特に限定されるものではないが、成形用樹脂組成物の無機充填材全体を100質量%としたとき、たとえば100質量%以下である。
When silica such as fused crushed silica, fused spherical silica, or crystalline silica is used as the inorganic filler, the content of silica is preferably 40% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 75% by mass or more, based on 100% by mass of the entire inorganic filler in the molding resin composition. When the content of silica is equal to or more than the lower limit, the balance between the curability and fluidity of the molding resin composition during transfer molding is good.
The upper limit of the silica content is not particularly limited, but is, for example, 100% by mass or less when the total amount of the inorganic filler in the molding resin composition is taken as 100% by mass.

また、無機充填材と、後述するような水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物や、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、三酸化アンチモン等の無機系難燃剤とを併用する場合には、これらの無機系難燃剤と上記無機充填材の合計量は、上記無機充填材の含有量の範囲内とすることが望ましい。In addition, when inorganic fillers are used in combination with metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, as described below, or inorganic flame retardants such as zinc borate, zinc molybdate, and antimony trioxide, it is desirable that the total amount of these inorganic flame retardants and the above-mentioned inorganic fillers be within the range of the content of the above-mentioned inorganic fillers.

[その他の成分]
本実施形態の成形用樹脂組成物は、上記成分に加え、必要に応じてさらに、密着助剤、ワックス、カップリング剤、着色剤、難燃剤、離型剤、低応力剤等の他の成分を含んでもよい。
[Other ingredients]
In addition to the above components, the molding resin composition of the present embodiment may further contain other components, such as an adhesion aid, wax, coupling agent, colorant, flame retardant, mold release agent, and stress reducing agent, as necessary.

(密着助剤)
本実施形態の成形用樹脂組成物は、低温での硬化性を向上させるために、好ましくは密着助剤を含む。本実施形態の成形用樹脂組成物に用いられる密着助剤としては、特に限定されず、例えば、トリアゾール化合物等が挙げられ、このトリアゾール化合物としては、1,2,4-トリアゾール環を有する化合物、1,2,3-トリアゾール環を有する化合物が挙げられる。具体的な化合物としては、例えば、3-アミノ-1,2,4-トリアゾール、4-アミノ-1,2,3-トリアゾール、3-アミノ-1,2,4-トリアゾール-5-カルボン酸、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-メルカプト-1,2,3-トリアゾール、3,5-ジアミノ-1,2,4-トリアゾール、3,5-ジメルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジメルカプト-1,2,3-トリアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4-アミノ-5-メルカプト-1,2,3-トリアゾール、3-ヒドラジノ-4-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾールおよび5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール-3-メタノール等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合せて用いることができる。これらのうち、少なくとも1つのメルカプト基を有する化合物であることが好ましい。
(Adhesion aid)
The molding resin composition of the present embodiment preferably contains an adhesion aid in order to improve curability at low temperatures. The adhesion aid used in the molding resin composition of the present embodiment is not particularly limited, and examples thereof include triazole compounds, and examples of the triazole compounds include compounds having a 1,2,4-triazole ring and compounds having a 1,2,3-triazole ring. Specific examples of the compound include 3-amino-1,2,4-triazole, 4-amino-1,2,3-triazole, 3-amino-1,2,4-triazole-5-carboxylic acid, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-mercapto-1,2,3-triazole, 3,5-diamino-1,2,4-triazole, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole, 4,5-dimercapto-1,2,3-triazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, 4-amino-5-mercapto-1,2,3-triazole, 3-hydrazino-4-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, and 5-mercapto-1,2,4-triazole-3-methanol, and one or more of these compounds may be used in combination. Of these compounds, compounds having at least one mercapto group are preferred.

本実施形態の成形用樹脂組成物における密着助剤の含有量の下限値としては、例えば、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.07質量%以上である。これにより、低温での硬化性をより向上できる。
また、密着助剤の含有量の上限値としては、例えば、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、さらに好ましくは1質量%以下、さらに好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.3質量%以下である。これにより、本実施形態の成形用樹脂組成物で電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる。
The lower limit of the content of the adhesion assistant in the molding resin composition of the present embodiment is, for example, preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and even more preferably 0.07% by mass or more, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. This can further improve the curability at low temperatures.
The upper limit of the content of the adhesion assistant is, for example, preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, even more preferably 1% by mass or less, even more preferably 0.5% by mass or less, and even more preferably 0.3% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. This makes it possible to improve adhesion and waterproofing when a structure such as an electronic component or a stator is sealed with the molding resin composition of this embodiment.

(ワックス)
本実施形態の成形用樹脂組成物は、好ましくは融点が30℃から90℃のワックスを含む。このようなワックスを含むことにより、成形用樹脂組成物は、トランスファーモールドで適用される温度下で、溶融性が良好であり、よって封止時における流動性が向上するとともに、充填性が向上し得る。このようなワックスとしては、カルナバワックス等の天然ワックス、モンタン酸エステルワックスや酸化ポリエチレンワックス等の合成ワックス、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸およびその金属塩類が挙げられる。
(wax)
The molding resin composition of the present embodiment preferably contains a wax having a melting point of 30° C. to 90° C. By containing such a wax, the molding resin composition has good melting properties at the temperature applied in transfer molding, and therefore the fluidity during sealing and the filling property can be improved. Examples of such wax include natural waxes such as carnauba wax, synthetic waxes such as montan acid ester wax and oxidized polyethylene wax, and higher fatty acids and metal salts thereof such as zinc stearate.

ワックスの配合量は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、例えば、0.05質量%以上2.0質量%以下である。ワックスの配合量の下限値は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.2質量%以上である。ワックスの配合量の上限値は、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは1.5質量%以下、より好ましくは1.0質量%以下である。上記範囲でワックスを配合することにより、得られる成形用樹脂組成物は、トランスファーモールド時において優れた流動性と、充填性とを有する。The amount of wax blended is, for example, 0.05% by mass or more and 2.0% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass. The lower limit of the amount of wax blended is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass. The upper limit of the amount of wax blended is preferably 1.5% by mass or less, more preferably 1.0% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is 100% by mass. By blending the wax in the above range, the obtained molding resin composition has excellent fluidity and filling properties during transfer molding.

(カップリング剤)
本実施形態の成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と無機充填材との密着性を向上させるため、シランカップリング剤等のカップリング剤を含んでもよい。カップリング剤としては、例えばエポキシシラン、アミノシラン、ウレイドシラン、メルカプトシラン等が挙げられる。
(Coupling Agent)
The molding resin composition of the present embodiment may contain a coupling agent such as a silane coupling agent in order to improve adhesion between the epoxy resin and the inorganic filler. Examples of the coupling agent include epoxysilane, aminosilane, ureidosilane, and mercaptosilane.

エポキシシランとしては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β-(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、アミノシランとしては、例えば、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニルγ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニルγ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-6-(アミノヘキシル)3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(3-(トリメトキシシリルプロピル)-1,3-ベンゼンジメタナン等が挙げられる。また、ウレイドシランとしては、例えば、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。アミノシランの1級アミノ部位をケトン又はアルデヒドを反応させて保護した潜在性アミノシランカップリング剤として用いてもよい。また、アミノシランとしては、2級アミノ基を有してもよい。また、メルカプトシランとしては、例えば、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシランのほか、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィドのような熱分解することによってメルカプトシランカップリング剤と同様の機能を発現するシランカップリング剤など、が挙げられる。またこれらのシランカップリング剤は予め加水分解反応させたものを配合してもよい。これらのシランカップリング剤は1種類を単独で用いても2種類以上を併用してもよい。 Examples of epoxy silanes include γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. Examples of aminosilanes include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-phenylγ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenylγ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropyltriethoxysilane, N-6-(aminohexyl)3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-(3-(trimethoxysilylpropyl)-1,3-benzenedimethanane. Examples of ureidosilanes include γ-ureidopropyltriethoxysilane and hexamethyldisilazane. Primary aminosilanes include A latent aminosilane coupling agent in which an amino site is protected by reacting with a ketone or aldehyde may be used. The aminosilane may have a secondary amino group. Examples of mercaptosilane include γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and silane coupling agents that exhibit the same function as a mercaptosilane coupling agent by thermal decomposition, such as bis(3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfide and bis(3-triethoxysilylpropyl)disulfide. These silane coupling agents may be blended after being hydrolyzed in advance. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

連続成形性という観点では、メルカプトシランが好ましく、流動性の観点では、アミノシランが好ましく、密着性という観点ではエポキシシランが好ましい。 From the viewpoint of continuous moldability, mercaptosilane is preferred, from the viewpoint of fluidity, aminosilane is preferred, and from the viewpoint of adhesion, epoxysilane is preferred.

本実施形態の成形用樹脂組成物におけるシランカップリング剤等のカップリング剤の含有量の下限値としては、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは0.2質量%以上である。シランカップリング剤等のカップリング剤の含有量が上記下限値以上であれば、エポキシ樹脂と無機充填材との界面強度が低下することがなく、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる。また、シランカップリング剤等のカップリング剤の含有量の上限値としては、成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、好ましくは1質量%以下、より好ましくは0.8質量%以下、さらに好ましくは0.6質量%以下、さらに好ましくは0.4質量%以下である。シランカップリング剤等のカップリング剤の含有量が上記上限値以下であれば、エポキシ樹脂と無機充填材との界面強度が低下することがなく、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができる。また、シランカップリング剤等のカップリング剤の含有量が上記上限値以下であれば、成形用樹脂組成物の硬化物の吸水性が増大することが防止される。The lower limit of the content of the coupling agent such as the silane coupling agent in the molding resin composition of this embodiment is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, even more preferably 0.1% by mass or more, and even more preferably 0.2% by mass or more, when the entire solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. If the content of the coupling agent such as the silane coupling agent is equal to or more than the above lower limit, the interfacial strength between the epoxy resin and the inorganic filler is not reduced, and the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator can be improved. In addition, the upper limit of the content of the coupling agent such as the silane coupling agent is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.8% by mass or less, even more preferably 0.6% by mass or less, and even more preferably 0.4% by mass or less, when the entire solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass. If the content of the coupling agent such as the silane coupling agent is equal to or less than the above upper limit, the interfacial strength between the epoxy resin and the inorganic filler is not reduced, and the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator can be improved. In addition, when the content of the coupling agent such as the silane coupling agent is equal to or less than the above upper limit, the water absorption of the cured product of the molding resin composition is prevented from increasing.

[特性]
本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法1)によって測定される、ガラス転移温度(Tg)の下限値が好ましくは140℃以上、より好ましくは150℃以上、さらに好ましくは155℃以上、さらに好ましくは160℃以上、さらに好ましくは165℃以上である。ガラス転移温度(Tg)が上記下限値以上であることにより、本実施形態の成形用樹脂組成物が低温でも硬化が可能となるほか、本実施形態の成形用樹脂組成物の硬化物の耐熱性が向上する。
また、ガラス転移温度(Tg)の上限値は特に限定されないが、たとえば300℃以下であり、250℃以下であり、220℃以下である。
[Characteristic]
The molding resin composition of this embodiment has a glass transition temperature (Tg) of preferably at least 140° C., more preferably at least 150° C., even more preferably at least 155° C., even more preferably at least 160° C., and even more preferably at least 165° C., as measured by the following (Method 1). By having a glass transition temperature (Tg) of at least the above-mentioned lower limit, the molding resin composition of this embodiment can be cured even at low temperatures, and the heat resistance of the cured product of the molding resin composition of this embodiment is improved.
The upper limit of the glass transition temperature (Tg) is not particularly limited, but is, for example, 300° C. or less, 250° C. or less, or 220° C. or less.

(方法1)
成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒で、80mm×10mm×4mmの試験片を成形し、175℃2時間で後硬化する。さらに、熱機械分析装置を用いて、5℃/分の昇温速度で得られた試験片の熱膨張率を測定する。次いで、得られた測定結果に基づき、熱膨張率の変曲点から硬化物のガラス転移温度(Tg)(℃)を算出する。
(Method 1)
The molding resin composition is molded into a test piece of 80 mm x 10 mm x 4 mm using a transfer molding machine at a mold temperature of 175 ° C, injection pressure of 6.9 MPa, and curing time of 90 seconds, and then post-cured at 175 ° C for 2 hours. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the obtained test piece is measured at a heating rate of 5 ° C / min using a thermomechanical analyzer. Next, based on the obtained measurement results, the glass transition temperature (Tg) ( ° C) of the cured product is calculated from the inflection point of the thermal expansion coefficient.

ここで、ガラス転移温度の測定のための硬化物は、たとえば樹脂組成物を175℃で2時間硬化することにより得られる。
具体的には、ガラス転移温度Tgは、たとえば低圧トランスファー成形機を用いて金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒で樹脂組成物を注入成形して得た試験片を175℃、2時間で後硬化した後、当該試験片に対して熱機械分析装置を用いて測定温度範囲0℃~320℃、昇温速度5℃/分の条件下で測定を行って得た測定結果から算出することができる。低圧トランスファー成形機としては、たとえばKTS-15およびKTS-30(コータキ精機社製)等を用いることができる。また、熱機械分析装置としては、たとえばTMA/SS6000(セイコーインスツルメンツ社製)やTMA7100(日立ハイテクサイエンス社製)等を用いることができる。
The cured product for measuring the glass transition temperature can be obtained, for example, by curing the resin composition at 175° C. for two hours.
Specifically, the glass transition temperature Tg can be calculated from the measurement results obtained by, for example, using a low-pressure transfer molding machine to inject and mold a resin composition at a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds, post-curing the resulting test piece at 175 ° C. for 2 hours, and then measuring the test piece using a thermomechanical analyzer under conditions of a measurement temperature range of 0 ° C. to 320 ° C. and a temperature rise rate of 5 ° C./min. Examples of low-pressure transfer molding machines that can be used include KTS-15 and KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.). Examples of thermomechanical analyzers that can be used include TMA/SS6000 (manufactured by Seiko Instruments Inc.) and TMA7100 (manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation).

本実施形態の成形用樹脂組成物は、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとし、当該成形用樹脂組成物を25℃で48時間放置した後、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとしたとき、S≧0.8×Sを満たすことが好ましい。このようにすることで、低温で硬化が可能であり、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性を向上させることができるほか、長期の保存性を向上させることができる。 The molding resin composition of this embodiment preferably satisfies S2 ≧ 0.8 × S1, where S1 is a spiral flow measured at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes, and S2 is a spiral flow measured at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa , and a curing time of 3 minutes after leaving the molding resin composition at 25° C for 48 hours. In this way, the composition can be cured at a low temperature, and the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator can be improved, as well as long-term storage stability can be improved.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法2)によって測定される、トルク値が2N・mに達する時間の上限値が、好ましくは100秒未満、より好ましくは70秒未満、さらに好ましくは50秒未満、さらに好ましくは30秒未満である。トルク値が2N・mに達する時間が上記上限値未満であることにより、低温でも本実施形態の成形用樹脂組成物の成形が可能となる。
また、トルク値が2N・mに達する時間の下限値は特に限定されないが、たとえば0.1秒以上であり1秒以上であってもよい。
The molding resin composition of this embodiment has an upper limit of the time for the torque value to reach 2 N m, as measured by the following (Method 2), which is preferably less than 100 seconds, more preferably less than 70 seconds, even more preferably less than 50 seconds, and even more preferably less than 30 seconds. When the time for the torque value to reach 2 N m is less than the upper limit, the molding resin composition of this embodiment can be molded even at low temperatures.
Furthermore, the lower limit of the time required for the torque value to reach 2 N·m is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 seconds or more and 1 second or more.

(方法2)
キュラストメーター(登録商標)を用い、金型温度140℃、振幅角度±0.25度にて、成形用樹脂組成物のトルク値を経時的に測定する。測定結果に基づいて、測定開始から、トルク値が2N・mに達する時間(秒)を算出する。
(Method 2)
Using a Curastometer (registered trademark), the torque value of the molding resin composition is measured over time at a mold temperature of 140° C. and an amplitude angle of ±0.25°. Based on the measurement results, the time (seconds) from the start of measurement until the torque value reaches 2 N·m is calculated.

キュラストメーター(登録商標)としては、たとえばキュラストメーター(登録商標)MODEL7((株)エー・アンド・デイ製)等を用いることができる。 As a Curastometer (registered trademark), for example, Curastometer (registered trademark) MODEL 7 (manufactured by A&D Co., Ltd.) can be used.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法3)によって測定される、スパイラルフローは、好ましくは70cm以上、より好ましくは80cm以上、さらに好ましくは90cm以上である。スパイラルフローが上記下限値以上であることにより、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性をより向上させることができる。
また、上記スパイラルフローは、好ましくは180cm以下、より好ましくは160cm以下、さらに好ましくは140cm以下である。スパイラルフローが上記上限値以下であることにより、本実施形態の成形用樹脂組成物の長期の保存性を向上させることができる。
The molding resin composition of the present embodiment has a spiral flow of preferably 70 cm or more, more preferably 80 cm or more, and even more preferably 90 cm or more, as measured by the following (Method 3). By having a spiral flow of at least the above lower limit, it is possible to further improve the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator.
The spiral flow is preferably 180 cm or less, more preferably 160 cm or less, and even more preferably 140 cm or less. By having the spiral flow be equal to or less than the upper limit, the long-term storage stability of the molding resin composition of the present embodiment can be improved.

(方法3)
成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入し、流動長を測定し、これをスパイラルフロー(cm)とする。
(Method 3)
The molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold in accordance with ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175°C, injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes, and the flow length is measured, which is defined as the spiral flow (cm).

低圧トランスファー成形機としては、たとえば上述のKTS-15およびKTS-30(コータキ精機社製)等を用いることができる。 Examples of low-pressure transfer molding machines that can be used include the above-mentioned KTS-15 and KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.).

本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法4)によって測定される、ゲルタイムは、好ましくは30秒以上、より好ましくは40秒以上、さらに好ましくは50秒以上である。ゲルタイムが上記下限値以上であることにより、本実施形態の成形用樹脂組成物の長期の保存性を向上させることができる。
また、上記ゲルタイムは、好ましくは80秒以下、より好ましくは70秒以下、さらに好ましくは60秒以下である。ゲルタイムが上記上限値以下であることにより、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性をより向上させることができる。
The molding resin composition of this embodiment has a gel time, measured by the following (Method 4), of preferably 30 seconds or more, more preferably 40 seconds or more, and even more preferably 50 seconds or more. By having a gel time of at least the above lower limit, the long-term storage stability of the molding resin composition of this embodiment can be improved.
The gel time is preferably 80 seconds or less, more preferably 70 seconds or less, and even more preferably 60 seconds or less. By making the gel time equal to or less than the upper limit, the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator can be further improved.

(方法4)
成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入する。注入開始から成形用樹脂組成物が硬化し流動しなくなるまでの時間を測定し、ゲルタイム(秒)とする。
(Method 4)
The molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold conforming to ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175° C., injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes. The time from the start of injection until the molding resin composition hardens and no longer flows is measured and taken as the gel time (seconds).

低圧トランスファー成形機としては、たとえば上述のKTS-15およびKTS-30(コータキ精機社製)等を用いることができる。 Examples of low-pressure transfer molding machines that can be used include the above-mentioned KTS-15 and KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.).

本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法5)によって測定される、線膨張係数α1の下限値は特に限定されないが、例えば0.8ppm/℃以上、1.0ppm/℃以上、1.2ppm/℃以上である。
また、線膨張係数α1は、好ましくは10.0ppm/℃以下、より好ましくは5.0ppm/℃以下、さらに好ましくは3.0ppm/℃以下、さらに好ましくは2.0ppm/℃以下である。線膨張係数α1が上記上限値以下であることにより、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の密着性と防水性をより向上させることができる。
The molding resin composition of this embodiment has a linear expansion coefficient α1, as measured by the following (Method 5), whose lower limit is not particularly limited, and is, for example, 0.8 ppm/°C or more, 1.0 ppm/°C or more, or 1.2 ppm/°C or more.
Moreover, the linear expansion coefficient α1 is preferably 10.0 ppm/° C. or less, more preferably 5.0 ppm/° C. or less, even more preferably 3.0 ppm/° C. or less, and even more preferably 2.0 ppm/° C. or less. By having the linear expansion coefficient α1 be equal to or less than the above upper limit, it is possible to further improve the adhesion and waterproofing when sealing a structure such as an electronic component or a stator.

(方法5)
成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分の条件で注入成形し、15mm×4mm×4mmの成形品を得る。次いで、得られた成形品を175℃、4時間で後硬化して試験片を作製する。そして、得られた試験片に対して、熱機械分析装置を用いて、測定温度範囲0℃~400℃、昇温速度5℃/分の条件下で、25-70℃における平均線膨張係数α1(ppm/℃)を測定する。
(Method 5)
The molding resin composition is injected and molded using a low-pressure transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes to obtain a molded product of 15 mm x 4 mm x 4 mm. The molded product obtained is then post-cured at 175°C for 4 hours to prepare a test piece. The average linear expansion coefficient α1 (ppm/°C) of the obtained test piece at 25-70°C is measured using a thermomechanical analyzer under conditions of a measurement temperature range of 0°C to 400°C and a heating rate of 5°C/min.

低圧トランスファー成形機としては、たとえば上述のKTS-15およびKTS-30(コータキ精機社製)等を用いることができる。また、熱機械分析装置としては、たとえば上述のTMA/SS6000(セイコーインスツルメンツ社製)やTMA7100(日立ハイテクサイエンス社製)等を用いることができる。 As a low-pressure transfer molding machine, for example, the above-mentioned KTS-15 and KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.) can be used. Furthermore, as a thermomechanical analyzer, for example, the above-mentioned TMA/SS6000 (manufactured by Seiko Instruments Inc.) or TMA7100 (manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation) can be used.

本実施形態の成形用樹脂組成物は、以下の(方法6)によって測定される、熱伝導率は、好ましくは0.5W/m・K以上、より好ましくは0.6W/m・K以上、さらに好ましくは0.7W/m・K以上、さらに好ましくは0.8W/m・K以上である。熱伝導率が上記下限値以上であることにより、本実施形態の成形用樹脂組成物を用いた成形体の内部の電子部品に係る熱を効率的に放出することができる。
また、熱伝導率は、好ましくは3.5W/m・K以下、より好ましくは3.3W/m・K以下、さらに好ましくは3.1W/m・K以下、さらに好ましくは2.9W/m・K以下、さらに好ましくは2.8W/m・K以下である。熱伝導率が上記上限値以下であることにより、本実施形態の成形用樹脂組成物を用いた成形体の内部の電子部品に対する外部からの熱の影響を抑えることができる。
The molding resin composition of this embodiment has a thermal conductivity, measured by the following (Method 6), of preferably 0.5 W/m K or more, more preferably 0.6 W/m K or more, even more preferably 0.7 W/m K or more, and still more preferably 0.8 W/m K or more. When the thermal conductivity is equal to or more than the above lower limit, heat associated with electronic components inside an article molded using the molding resin composition of this embodiment can be efficiently released.
The thermal conductivity is preferably 3.5 W/m K or less, more preferably 3.3 W/m K or less, even more preferably 3.1 W/m K or less, even more preferably 2.9 W/m K or less, and even more preferably 2.8 W/m K or less. When the thermal conductivity is equal to or less than the upper limit, the influence of external heat on electronic components inside a molded article using the molding resin composition of this embodiment can be suppressed.

(方法6)
成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒間の条件で注入成形し、80mm×10mm×4mmの成形体を得る。次いで、得られた成形体を175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片について、レーザーフラッシュ法を用いて熱拡散率を測定する。また、電子比重計を用いて、熱伝導率測定に用いた試験片の比重を測定する。さらに、示差走査熱量計を用いて、熱伝導率及び比重測定に用いた試験片の比熱を測定する。測定した熱拡散率、比重および比熱の各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率(W/m・K)を算出する。
(Method 6)
The molding resin composition is injected and molded using a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds to obtain a molded body of 80 mm x 10 mm x 4 mm. The molded body obtained is then post-cured at 175°C for 2 hours to obtain a test piece. The thermal diffusivity of the obtained test piece is measured using a laser flash method. In addition, the specific gravity of the test piece used for the thermal conductivity measurement is measured using an electronic specific gravity meter. Furthermore, the specific heat of the test piece used for the thermal conductivity and specific gravity measurement is measured using a differential scanning calorimeter. The thermal conductivity (W/m·K) in the thickness direction of the test piece is calculated from the measured values of the thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat.

トランスファー成形機としては、たとえば上述のKTS-15およびKTS-30(コータキ精機社製)等を用いることができる。また、レーザーフラッシュ法による熱拡散率の測定には、たとえばキセノンフラッシュアナライザーLFA447(NETZSCH製)等を用いることができる。また、電子比重計としては、たとえばSD-200L(アルファーミラージュ株式会社製)等を用いることができる。また、示差走査熱量計としては、たとえばDSC8230(株式会社リガク製)等を用いることができる。 As a transfer molding machine, for example, the above-mentioned KTS-15 and KTS-30 (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.) can be used. Furthermore, for measuring thermal diffusivity by the laser flash method, for example, a xenon flash analyzer LFA447 (manufactured by NETZSCH) can be used. Furthermore, as an electronic specific gravity meter, for example, an SD-200L (manufactured by Alpha Mirage Co., Ltd.) can be used. Furthermore, as a differential scanning calorimeter, for example, a DSC8230 (manufactured by Rigaku Corporation) can be used.

[用途]
本実施形態の成形用樹脂組成物は、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルとを一括して封止するために用いられる。本実施形態の成形用樹脂組成物を封止材として備えるステータは、例えば、回転電機(電動機、発電機または電動機/発電機の両用機)として電動機(モータ)に適用される。
[Application]
The molding resin composition of the present embodiment is used to collectively seal a substrate on which electronic components are mounted, a stator core having a plurality of slots formed in the circumferential direction and fixed on the substrate, and a plurality of coils housed in the slots. A stator including the molding resin composition of the present embodiment as a sealant is applied to, for example, an electric motor (motor) as a rotating electric machine (electric motor, generator, or dual-purpose motor/generator).

<封止構造体>
以下、本実施形態の成形用樹脂組成物を用いた封止構造体200について、図面を用いて説明する。
図1は成形前後の被封止体100および封止構造体200の上面図を模式的に表している。同様に、図2は成形前後の被封止体100および封止構造体200の側面図を模式的に表している。ここで、(a)、(c)は成形前の被封止体100を、(b)、(d)は成形後の封止構造体200を模式的に表している。
<Sealing structure>
Hereinafter, a sealing structure 200 using the molding resin composition of this embodiment will be described with reference to the drawings.
Fig. 1 shows a top view of the sealed body 100 and the sealing structure 200 before and after molding. Similarly, Fig. 2 shows a side view of the sealed body 100 and the sealing structure 200 before and after molding. Here, (a) and (c) show the sealed body 100 before molding, and (b) and (d) show the sealing structure 200 after molding.

本実施形態における封止構造体200は、電子部品11が搭載された基板10と、基板10の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロット21を有するステータコア20と、上記スロット21に収容された複数個のコイル30とを含む被封止体100と、上記被封止体100の一部または全部を被覆して設けられる封止部材50と、を備え、上記封止部材50が、本実施形態の成形用樹脂組成物の硬化物により構成されている。The sealing structure 200 in this embodiment comprises a substrate 10 on which an electronic component 11 is mounted, a stator core 20 fixed to one surface of the substrate 10 and having a plurality of slots 21 formed in the circumferential direction, a sealed object 100 including a plurality of coils 30 housed in the slots 21, and a sealing member 50 provided to cover a part or all of the sealed object 100, the sealing member 50 being composed of a cured product of the molding resin composition of this embodiment.

本実施形態の封止構造体200において、本実施形態の成形用樹脂組成物によって封止される被封止体100は、電子部品11が搭載された基板10と、基板10の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロット21を有するステータコア20と、スロット21に収容された複数個のコイル30とを含む。In the sealing structure 200 of this embodiment, the sealed object 100 to be sealed with the molding resin composition of this embodiment includes a substrate 10 on which an electronic component 11 is mounted, a stator core 20 fixed to one surface of the substrate 10 and having a plurality of slots 21 formed in the circumferential direction, and a plurality of coils 30 housed in the slots 21.

基板10は、図1に示すように、たとえば一面および当該一面とは反対の他面のうちの一方または双方に電子部品11が搭載された基板である。図1に示すように、基板10は、たとえば平板状の形状を有している。As shown in Fig. 1, the substrate 10 is a substrate on which electronic components 11 are mounted on one or both of one surface and the other surface opposite to the one surface. As shown in Fig. 1, the substrate 10 has, for example, a flat plate shape.

基板10は、たとえば電子部品11を搭載する一面においてソルダーレジスト層を有していてもよい。上記ソルダーレジスト層は、半導体装置の分野において通常使用されるソルダーレジスト形成用樹脂組成物を用いて形成することができる。本実施形態においては、たとえば基板10の一面および他面にソルダーレジスト層を設けることができる。
基板10の一面に、または一面および他面の双方に設けられた上記ソルダーレジスト層は、たとえばシリコーン化合物を含む樹脂組成物により形成される。これにより、表面平滑性に優れたソルダーレジスト層を実現することができる。
The substrate 10 may have a solder resist layer on one surface on which the electronic component 11 is mounted. The solder resist layer can be formed using a resin composition for forming a solder resist that is commonly used in the field of semiconductor devices. In this embodiment, for example, the solder resist layer can be provided on one surface and the other surface of the substrate 10.
The solder resist layer provided on one surface or on both surfaces of the substrate 10 is formed from a resin composition containing a silicone compound, for example, which makes it possible to realize a solder resist layer with excellent surface smoothness.

電子部品11は、図1(a)に示すように、たとえば基板10の一面と他面のそれぞれに搭載される。一方で、電子部品11は、基板10の一面のみに設けられ、基板10の他面には設けられていなくともよい。
電子部品11としては、例えば、LEDチップなどの発光素子、脳波・筋電位などの生体電位や血圧・脈拍などの生体活動を検知する生体測定計、圧力・温度・位置・湿度・光・音・加速度などの環境情報を検知する一般的な測定計、コンデンサなどのポータブル電源、音響モジュール、通信モジュール等の素子や、上記素子を接続する配線等が挙げられる。
1A, the electronic components 11 are mounted on, for example, one surface and the other surface of the substrate 10. On the other hand, the electronic components 11 may be provided only on one surface of the substrate 10 and may not be provided on the other surface of the substrate 10.
Examples of electronic components 11 include light-emitting elements such as LED chips, biometers that detect bioelectric potentials such as electroencephalograms and myoelectric potentials, and biological activities such as blood pressure and pulse rate, general measuring instruments that detect environmental information such as pressure, temperature, position, humidity, light, sound, and acceleration, portable power sources such as capacitors, acoustic modules, communication modules, and other elements, as well as wiring that connects the above elements.

ここで、基板10および電子部品11には、リード線40が接続されていることが好ましい。本実施形態の成形用樹脂組成物によって封止される前に、リード線40が基板10および電子部品11と接続されていることによって、後述する封止部材50によってリード線40と基板10および電子部品11との接続部を一括して封止することができるようになり、結果として本実施形態の封止構造体200の防水性を向上させることができる。Here, it is preferable that a lead wire 40 is connected to the substrate 10 and the electronic component 11. By connecting the lead wire 40 to the substrate 10 and the electronic component 11 before sealing with the molding resin composition of this embodiment, the connection parts between the lead wire 40 and the substrate 10 and the electronic component 11 can be sealed together with the sealing member 50 described later, and as a result, the waterproofness of the sealing structure 200 of this embodiment can be improved.

ステータコア20は、図1(a)に示すように軸方向端部から見たときに、周方向に形成された複数のスロット21が設けられている。ここでは、図1(a)に示すように、4個のスロット21が設けられている。そして、ステータコア20は、図2(c)に示すように、電子部品11が搭載された基板10の一面上に固定されている。
ステータコア20は、複数の電磁鋼板を軸方向に積層し密着固定して設けられていてもよく、樹脂組成物を成形することによって設けられていてもよい。
The stator core 20 has a plurality of slots 21 formed in the circumferential direction when viewed from the axial end as shown in Fig. 1(a). Here, as shown in Fig. 1(a), four slots 21 are provided. The stator core 20 is fixed onto one surface of the substrate 10 on which the electronic components 11 are mounted as shown in Fig. 2(c).
Stator core 20 may be provided by stacking a plurality of electromagnetic steel plates in the axial direction and closely fixing them together, or may be provided by molding a resin composition.

コイル30は、たとえば平角線U字形状であって、離間した二つのスロット21に収容されるようにして巻かれている。コイル30は、第1のコイルエンドと、第2のコイルエンドとを有する。第1のコイルエンドは、ステータコア20の軸方向一方側に突出する。第2のコイルエンドは、ステータコア20の軸方向他方側に突出する。すなわち、コイル30は、ステータコア20の軸方向両側にそれぞれ突出する一対のコイルエンドを有する。 The coil 30 is, for example, a rectangular wire U-shaped and is wound so as to be accommodated in two spaced apart slots 21. The coil 30 has a first coil end and a second coil end. The first coil end protrudes to one axial side of the stator core 20. The second coil end protrudes to the other axial side of the stator core 20. In other words, the coil 30 has a pair of coil ends that protrude to both axial sides of the stator core 20.

封止部材50は、図1(b)および図2(d)に示すように、上述した電子部品11が搭載された基板10と、基板10の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロット21を有するステータコア20と、上記スロット21に収容された複数個のコイル30とを一括して封止するものである。つまり、封止部材50は、電子部品11が搭載された基板10と、基板10の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロット21を有するステータコア20と、スロット21に収容された複数個のコイル30とを含む被封止体100の一部または全部を被覆して設けられる。
封止部材50の材料としては、上述した成形用樹脂組成物が用いられる。
1(b) and 2(d), the sealing member 50 collectively seals the substrate 10 on which the above-mentioned electronic components 11 are mounted, the stator core 20 fixed to one surface of the substrate 10 and having a plurality of slots 21 formed in the circumferential direction, and the plurality of coils 30 housed in the slots 21. In other words, the sealing member 50 is provided to cover a part or the whole of the sealed body 100 including the substrate 10 on which the electronic components 11 are mounted, the stator core 20 fixed to one surface of the substrate 10 and having a plurality of slots 21 formed in the circumferential direction, and the plurality of coils 30 housed in the slots 21.
As the material for the sealing member 50, the above-mentioned molding resin composition is used.

このとき、図1(b)および図2(d)に示すように、リード線40と基板10および電子部品11との接続部が封止部材50によって一括して封止されていることが好ましい。このようにすることで、本実施形態の封止構造体200の防水性を向上させることができる。At this time, as shown in Figures 1(b) and 2(d), it is preferable that the connection portions between the lead wires 40 and the substrate 10 and the electronic components 11 are collectively sealed with the sealing member 50. In this way, the waterproofness of the sealing structure 200 of this embodiment can be improved.

<封止構造体の製造方法>
以下、本実施形態の成形用樹脂組成物を用いた封止構造体の製造方法について説明する。
本実施形態の封止構造体の製造方法は、トランスファー成形機中の成形型に、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する上記基板上に固定されたステータコアと、上記スロットに収容された複数個のコイルと、を配置する工程と、上記トランスファー成形機を用いるトランスファーモールド法にて、本実施形態の成形用樹脂組成物で上記成形型内の上記基板と、上記ステータコアと、上記コイルと、を封止成形することにより、封止構造体を得る工程と、を含む。
<Method of manufacturing sealing structure>
Hereinafter, a method for producing a sealing structure using the molding resin composition of this embodiment will be described.
The method for manufacturing the sealing structure of the present embodiment includes the steps of arranging, in a molding die in a transfer molding machine, a substrate on which electronic components are mounted, a stator core having a plurality of slots formed in the circumferential direction and fixed onto the substrate, and a plurality of coils housed in the slots, and obtaining a sealing structure by encapsulating the substrate, the stator core, and the coils in the molding die with the molding resin composition of the present embodiment by a transfer molding method using the transfer molding machine.

上記封止構造体を得る上記工程は、例えば、80℃以上180℃未満の温度、1MPa以上15MPa以下の圧力で実施される。好ましくは、上記工程は、120℃以上170℃以下の温度、3MPa以上12MPa以下の圧力で実施される。これにより、密着性と防水性に優れた封止構造体を得ることができる。
このとき、上記封止構造体を得る上記工程は、上記成形用樹脂組成物硬化体のTg以下の温度で封止成形することが好ましい。
The step of obtaining the sealed structure is carried out, for example, at a temperature of 80° C. or more and less than 180° C. and a pressure of 1 MPa or more and 15 MPa or less. Preferably, the step is carried out at a temperature of 120° C. or more and 170° C. or less and a pressure of 3 MPa or more and 12 MPa or less. This makes it possible to obtain a sealed structure having excellent adhesion and waterproof properties.
In this case, the step of obtaining the sealed structure is preferably performed by sealing and molding at a temperature equal to or lower than the Tg of the cured product of the molding resin composition.

上記封止構造体を得る上記工程は、
(A)トランスファー成形、圧縮成形などの手法による成形工程と、
(B)成形工程の後、成形体を加熱する後硬化工程
とを含んでも良い。
The step of obtaining the sealing structure includes:
(A) a molding process by a technique such as transfer molding or compression molding;
(B) After the molding step, a post-curing step of heating the molded body may be included.

通常の封止工程においては、上記(A)の後、エポキシ樹脂の硬化を進め、良好な架橋構造を得る目的で上記(B)を行う。
これに対して、本実施形態における好ましい態様は、上記(B)の後硬化工程を行わず、上記(A)の成形工程のみを行うことである。こうすることにより、生産性が向上する上、後硬化による熱損傷、すなわち、封止対象である、ステータコア、コイルおよび基板に対する熱損傷を抑制でき、良好な封止構造体を得ることができる。
本実施形態においては、140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下となるように成形用樹脂組成物を構成しているため、(B)を省略しても、良好な架橋構造が得られる。
In a typical sealing process, after the above step (A), the above step (B) is carried out in order to promote curing of the epoxy resin and obtain a good crosslinked structure.
In contrast, a preferred aspect of this embodiment is to perform only the molding step (A) without performing the post-curing step (B), which not only improves productivity but also suppresses thermal damage caused by the post-curing, i.e., thermal damage to the stator core, coil, and substrate, which are the objects to be sealed, and a good sealing structure can be obtained.
In this embodiment, the molding resin composition is configured so that the cured product cured at 140°C for 2 minutes has a flexural modulus at 25°C (in accordance with JIS K6911:2006) of 0.1 GPa or more and 30 GPa or less, so that a good crosslinked structure can be obtained even if (B) is omitted.

また、本実施形態では、(A)における成形温度は、成形用樹脂組成物から得られる硬化体のTg(℃)以下の温度とすることが好ましく、より好ましくは、(Tg-10℃)以下、最も好ましくは、(Tg-30℃)以下である。また、成形温度は、好ましくは160℃以下、より好ましくは140℃以下、最も好ましくは130℃以下である。
このような低温で成形することにより、封止対象である、ステータコア、コイルおよび基板への熱損傷を抑制でき、良好な封止構造体を得ることができる。
成形温度の下限については、成形用樹脂組成物を充分に硬化させることができる限り、特に限定されない。たとえば、(Tg-80℃)以上とすることができ、90℃以上とすることができる。
In this embodiment, the molding temperature in (A) is preferably a temperature not higher than the Tg (° C.) of the cured product obtained from the molding resin composition, more preferably not higher than (Tg-10° C.), and most preferably not higher than (Tg-30° C.). The molding temperature is preferably not higher than 160° C., more preferably not higher than 140° C., and most preferably not higher than 130° C.
By molding at such a low temperature, thermal damage to the objects to be sealed, that is, the stator core, the coils and the substrate, can be suppressed, and a good sealing structure can be obtained.
The lower limit of the molding temperature is not particularly limited as long as the molding resin composition can be sufficiently cured. For example, it can be (Tg-80°C) or higher, and can be 90°C or higher.

上記(B)の後硬化を行う場合における後硬化温度も、上記成形温度と同様の範囲が好ましい。すなわち、成形用樹脂組成物から得られる硬化体のTg(℃)以下の温度とすることが好ましく、より好ましくは、(Tg-10℃)以下、最も好ましくは、(Tg-30℃)以下である。また、成形温度は、好ましくは160℃以下、より好ましくは140℃以下、最も好ましくは130℃以下である。このような低温で後硬化することにより、封止対象への熱損傷を抑制でき、良好な封止構造体を得ることができる。成形温度の下限については特に制限がないが、たとえば、(Tg-80℃)以上とすることができ、90℃以上とすることができる。When performing the post-curing of (B) above, the post-curing temperature is preferably in the same range as the molding temperature. That is, it is preferable to set the temperature at or below the Tg (°C) of the cured product obtained from the molding resin composition, more preferably at or below (Tg-10°C), and most preferably at or below (Tg-30°C). The molding temperature is preferably 160°C or lower, more preferably at or below 140°C, and most preferably at or below 130°C. By performing post-curing at such a low temperature, thermal damage to the object to be sealed can be suppressed, and a good sealing structure can be obtained. There is no particular limit to the lower limit of the molding temperature, but it can be, for example, at or above (Tg-80°C), and can be at or above 90°C.

通常の封止工程においては、上記(A)や上記(B)の温度は、通常、成形用樹脂組成物から得られる硬化体のTg(℃)を超える温度とされる。これに対して、本実施形態においては上記した低温域の温度範囲が好ましい。本実施形態においては、140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下となるように成形用樹脂組成物を構成しているため、上記(A)や上記(B)の温度を低温にしても、良好な架橋構造が得られる。In a typical sealing process, the temperatures of (A) and (B) are usually set to temperatures exceeding the Tg (°C) of the cured product obtained from the molding resin composition. In contrast, in this embodiment, the above-mentioned low temperature range is preferred. In this embodiment, the molding resin composition is configured so that the cured product cured at 140°C for 2 minutes has a flexural modulus at 25°C (in accordance with JIS K6911:2006) of 0.1 GPa or more and 30 GPa or less, so that a good crosslinked structure can be obtained even if the temperatures of (A) and (B) are low.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 The above describes embodiments of the present invention, but these are merely examples of the present invention and various configurations other than those described above can also be adopted.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these.

(実施例1~4、比較例1~2)
<成形用樹脂組成物の調製>
各実施例、および各比較例のそれぞれについて、以下のように成形用樹脂組成物を調製した。
まず、表1に示す各成分をミキサーにより混合した。次いで、得られた混合物を、ロール混練した後、冷却、粉砕して粉粒体である成形用樹脂組成物を得た。
(Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2)
<Preparation of molding resin composition>
For each of the Examples and Comparative Examples, a molding resin composition was prepared as follows.
First, the components shown in Table 1 were mixed in a mixer. The resulting mixture was then roll-kneaded, cooled, and pulverized to obtain a molding resin composition in the form of powder.

表1中の各成分の詳細は下記のとおりである。また、表1中に示す処方は、樹脂組成物全体に対する各成分の含有量(質量%)を示している。The details of each component in Table 1 are as follows. The formulation shown in Table 1 indicates the content (mass%) of each component relative to the entire resin composition.

(無機充填材)
・無機充填材1:溶融球状シリカ(デンカ株式会社製、製品名「FB-950」)
・無機充填材2:溶融球状シリカ(デンカ株式会社製、製品名「FB-105」)
・無機充填材3:アルミナ(デンカ株式会社製、製品名「DAW-02」)
(Inorganic filler)
Inorganic filler 1: Fused spherical silica (manufactured by Denka Co., Ltd., product name "FB-950")
Inorganic filler 2: Fused spherical silica (manufactured by Denka Co., Ltd., product name "FB-105")
Inorganic filler 3: Alumina (manufactured by Denka Co., Ltd., product name "DAW-02")

(カップリング剤)
・カップリング剤1:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名「CF-4083」)
(Coupling Agent)
Coupling agent 1: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd., product name "CF-4083")

(エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂1:オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC社製、製品名「EPICRON N-670」)
(Epoxy resin)
Epoxy resin 1: Orthocresol novolac type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, product name "EPICRON N-670")

(硬化剤)
・硬化剤1:ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型樹脂(明和化成株式会社製、製品名「MEH-7851SS」)
・硬化剤2:トリスフェニルメタン型フェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製、製品名「MEH-7500」)
(Hardening agent)
Hardener 1: Biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl resin (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., product name "MEH-7851SS")
Hardener 2: Trisphenylmethane type phenol novolac resin (manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., product name "MEH-7500")

(密着助剤)
・密着助剤1:3-アミノ-1,2,4-トリアゾール
(Adhesion aid)
Adhesion aid 1: 3-amino-1,2,4-triazole

(硬化触媒)
・硬化触媒1:2-フェニルイミダゾール
・硬化触媒2:2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール
(Curing catalyst)
Curing catalyst 1: 2-phenylimidazole Curing catalyst 2: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole

(着色材)
・着色材1:カーボンブラック(三菱ケミカル株式会社製、製品名「カーボン#5」)
(Coloring material)
Coloring material 1: Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "Carbon #5")

<成形用樹脂組成物の性能評価>
得られた成形用樹脂組成物を、以下の項目について評価した。評価結果を以下の表1に示す。
<Performance evaluation of molding resin composition>
The obtained molding resin composition was evaluated for the following items. The evaluation results are shown in Table 1 below.

(曲げ弾性率)
低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、KTS-30)を用いて、金型温度140℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間2分の条件で、樹脂組成物を注入成形し、長さ80mm、幅10mm、厚さ4mmの成形物を得た。得られた成形物を、後硬化として200℃で4時間加熱処理したものを試験片とし、曲げ弾性率(GPa)をJIS K 6911:2006に準じて25℃の雰囲気温度下で測定した。
(Flexural modulus)
Using a low pressure transfer molding machine (KTS-30, manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.), the resin composition was injected and molded under the conditions of a mold temperature of 140°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 2 minutes to obtain a molded product having a length of 80 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 4 mm. The obtained molded product was post-cured by heat treatment at 200°C for 4 hours to obtain a test piece, and the flexural modulus (GPa) was measured at an ambient temperature of 25°C in accordance with JIS K 6911:2006.

(低温成形性)
キュラストメーター(登録商標)((株)エー・アンド・デイ製、キュラストメーター(登録商標)MODEL7)を用い、金型温度140℃、振幅角度±0.25度にて、得られた成形用樹脂組成物のトルク値を経時的に測定した。測定結果に基づいて、測定開始から、トルク値が2N・mに達する時間(秒)を算出した。トルク値が2N・mに達する時間(秒)から、以下の基準で低温成形性を評価した。
A:トルク値が2N・mに達する時間が30秒未満(実施例はこちら)
B:トルク値が2N・mに達する時間が30秒以上100秒未満
C:トルク値が2N・mに達する時間が100秒以上
(Low temperature formability)
Using a Curastometer (registered trademark) (Curastometer (registered trademark) MODEL 7, manufactured by A&D Co., Ltd.), the torque value of the obtained molding resin composition was measured over time at a mold temperature of 140°C and an amplitude angle of ±0.25 degrees. Based on the measurement results, the time (seconds) from the start of measurement until the torque value reached 2 N·m was calculated. From the time (seconds) until the torque value reached 2 N·m, the low-temperature moldability was evaluated according to the following criteria.
A: The time it takes for the torque value to reach 2 Nm is less than 30 seconds (see example here)
B: Time required for torque value to reach 2 N.m is 30 seconds or more and less than 100 seconds. C: Time required for torque value to reach 2 N.m is 100 seconds or more.

(密着性・防水性)
23mmφ×0.9mmのガラスエポキシ基板(ICパッケージ及びアルミ電解コンデンサを実装した基板)に対して、低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、KTS-30)を用いて、金型温度140℃、注入圧力3~5MPa、硬化時間2分の条件で、樹脂組成物を基板上2cm厚となるように注入成形し、ポストキュアなしで、基板封止体を得た。
その後、上記基板封止体を深さ15~100cmの純水プールに1000時間浸漬させた。その後、自然乾燥した後、テスターを用いて基板上の回路配線の導通を確認した。
A:導通不良なし
B:導通不良あり(ショート、抵抗増加など)
(Adhesion and waterproofing)
A resin composition was injected into a 23 mmφ×0.9 mm glass epoxy substrate (a substrate mounted with an IC package and an aluminum electrolytic capacitor) using a low-pressure transfer molding machine (KTS-30, manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.) under conditions of a mold temperature of 140° C., an injection pressure of 3 to 5 MPa, and a curing time of 2 minutes to a thickness of 2 cm on the substrate, and a substrate sealing body was obtained without post-curing.
Thereafter, the substrate sealing body was immersed in a pure water pool 15 to 100 cm deep for 1000 hours, and then air-dried, after which the continuity of the circuit wiring on the substrate was checked using a tester.
A: No continuity failure B: Continuity failure (short circuit, increased resistance, etc.)

(スパイラルフロー・ゲルタイム)
低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、「KTS-15」)を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で、各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物を注入し、流動長を測定し、これをスパイラルフロー(cm)とした。また、注入開始から成形用樹脂組成物が硬化し流動しなくなるまでの時間を測定し、ゲルタイム(秒)とした。
なお、スパイラルフローは、流動性のパラメータであり、数値が大きい方が、流動性が良好である。
(Spiral Flow Gel Time)
Using a low pressure transfer molding machine (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd., "KTS-15"), the molding resin compositions of each Example and Comparative Example were injected into a spiral flow measurement mold conforming to ANSI/ASTM D 3123-72 under conditions of 175°C, injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes, and the flow length was measured and defined as the spiral flow (cm). In addition, the time from the start of injection until the molding resin composition hardened and no longer flowed was measured and defined as the gel time (seconds).
The spiral flow is a parameter of fluidity, and the larger the value, the better the fluidity.

(線膨張係数α1)
各実施例および各比較例について、得られた成形用樹脂組成物の線膨張係数を測定した。低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製「KTS-30」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分の条件で注入成形し、15mm×4mm×4mmの成形品を得た。次いで、得られた成形品を175℃、4時間で後硬化して試験片を作製した。そして、得られた試験片に対して、熱機械分析装置(セイコーインスツル株式会社製、TMA100)を用いて、測定温度範囲0℃~400℃、昇温速度5℃/分の条件下で、25-70℃における平均線膨張係数α1(ppm/℃)を測定した。
(Linear expansion coefficient α1)
The linear expansion coefficient of the molding resin composition obtained for each Example and Comparative Example was measured. Using a low pressure transfer molding machine ("KTS-30" manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd.), injection molding was performed under conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes, to obtain a molded product of 15 mm x 4 mm x 4 mm. The molded product obtained was then post-cured at 175°C for 4 hours to prepare a test piece. Then, the average linear expansion coefficient α1 (ppm/°C) of the obtained test piece was measured at 25-70°C using a thermomechanical analyzer (TMA100 manufactured by Seiko Instruments Inc.) under conditions of a measurement temperature range of 0°C to 400°C and a heating rate of 5°C/min.

(ガラス転移温度(Tg))
各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物のガラス転移温度は、JIS K 6911:2006に準じて測定した。すなわち、各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物について、トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、「KTS-15」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒で、80mm×10mm×4mmの試験片を成形した。そして、175℃2時間で後硬化した。さらに、熱機械分析装置(セイコーインスツルメンツ社製、TMA/SS6000)を用いて、5℃/分の昇温速度で得られた試験片の熱膨張率を測定した。次いで、得られた測定結果に基づき、熱膨張率の変曲点から硬化物のガラス転移温度(Tg)(℃)を算出した。
(Glass Transition Temperature (Tg))
The glass transition temperature of the molding resin composition of each Example and Comparative Example was measured in accordance with JIS K 6911:2006. That is, for the molding resin composition of each Example and Comparative Example, a transfer molding machine (manufactured by Kotaki Seiki Co., Ltd., "KTS-15") was used to mold a test piece of 80 mm x 10 mm x 4 mm at a mold temperature of 175 ° C, an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds. Then, the test piece was post-cured at 175 ° C for 2 hours. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the test piece obtained at a heating rate of 5 ° C / min was measured using a thermomechanical analyzer (manufactured by Seiko Instruments Inc., TMA / SS6000). Next, based on the obtained measurement results, the glass transition temperature (Tg) (° C.) of the cured product was calculated from the inflection point of the thermal expansion coefficient.

(熱伝導率)
各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物について、トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製、「KTS-15」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒間で注入成形し、80mm×10mm×4mmの成形体を得た。次いで、得られた成形体を175℃、2時間で後硬化し、試験片を得た。得られた試験片について、レーザーフラッシュ法(NETZSCH製のキセノンフラッシュアナライザーLFA447)を用いて熱拡散率を測定した。また、アルファーミラージュ株式会社製の電子比重計SD-200Lを用いて、熱伝導率測定に用いた試験片の比重を測定した。さらに、株式会社リガク製の示差走査熱量計DSC8230を用いて、熱伝導率及び比重測定に用いた試験片の比熱を測定した。測定した熱拡散率、比重および比熱の各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率(W/m・K)を算出した。
(Thermal conductivity)
The molding resin compositions of each Example and Comparative Example were injected and molded using a transfer molding machine (KOTAKISEIKI Co., Ltd., "KTS-15") at a mold temperature of 175°C, injection pressure of 6.9 MPa, and curing time of 90 seconds to obtain molded bodies of 80 mm x 10 mm x 4 mm. The molded bodies obtained were then post-cured at 175°C for 2 hours to obtain test pieces. The thermal diffusivity of the obtained test pieces was measured using a laser flash method (Xenon Flash Analyzer LFA447 manufactured by NETZSCH). In addition, the specific gravity of the test pieces used for the thermal conductivity measurement was measured using an electronic specific gravity meter SD-200L manufactured by Alpha Mirage Co., Ltd. Furthermore, the specific heat of the test pieces used for the thermal conductivity and specific gravity measurement was measured using a differential scanning calorimeter DSC8230 manufactured by Rigaku Corporation. The thermal conductivity (W/m·K) in the thickness direction of the test pieces was calculated from the measured values of thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat.

(室温保存性)
各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物について、室温保存性を測定した。低圧トランスファー成形機(コータキ精機株式会社製「KTS-30」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分の条件で、各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物を注入し、流動長を測定し、このときのスパイラルフローをSとした。
また、各実施例および各比較例の成形用樹脂組成物を25℃で48時間放置した後、上記同様の条件で流動長を測定し、このときのスパイラルフローをSとした。
上記SおよびSについて、以下の基準で評価を行った。
A:S≧0.8×Sを満たす。
B:S<0.8×Sを満たす。
(Storage at room temperature)
The molding resin compositions of each Example and Comparative Example were measured for room temperature storage stability. Using a low pressure transfer molding machine (KOTAKISEIKI Co., Ltd.'s "KTS-30"), the molding resin compositions of each Example and Comparative Example were injected under conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes, and the flow length was measured. The spiral flow at this time was designated as S1 .
In addition, after the molding resin composition of each Example and Comparative Example was allowed to stand at 25° C. for 48 hours, the flow length was measured under the same conditions as above, and the spiral flow at this time was designated as S2 .
The above S1 and S2 were evaluated according to the following criteria.
A: S2 ≧0.8× S1 is satisfied.
B: S2 < 0.8 x S1 is satisfied.

Figure 0007501801000005
Figure 0007501801000005

実施例の成形用樹脂組成物はいずれも、低温で硬化が可能であり、電子部品またはステータ等の構造体を封止した際の優れた密着性と防水性を有していた。All of the molding resin compositions in the examples could be cured at low temperatures and had excellent adhesion and waterproofing when used to seal structures such as electronic components or stators.

この出願は、2022年3月31日に出願された日本出願特願2022-058500号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。 This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2022-058500, filed on March 31, 2022, the disclosure of which is incorporated herein in its entirety.

10 基板
11 電子部品
20 ステータコア
21 スロット
30 コイル
40 リード線
50 封止部材
100 被封止体
200 封止構造体
REFERENCE SIGNS LIST 10: Substrate 11: Electronic component 20: Stator core 21: Slot 30: Coil 40: Lead wire 50: Sealing member 100: Sealed object 200: Sealing structure

Claims (19)

電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する前記基板上に固定されたステータコアと、前記スロットに収容された複数個のコイルとを一括して封止するために用いられる成形用樹脂組成物であって、
エポキシ樹脂と、
硬化剤および硬化触媒の一方または両方と、
無機充填材と、を含み、
当該成形用樹脂組成物を140℃で2分硬化させた硬化物において、25℃における曲げ弾性率(JIS K6911:2006準拠)が0.1GPa以上30GPa以下である、成形用樹脂組成物。
A molding resin composition used to collectively seal a substrate on which electronic components are mounted, a stator core fixed on the substrate and having a plurality of slots formed in a circumferential direction, and a plurality of coils housed in the slots, the composition comprising:
Epoxy resin,
a curing agent and/or a curing catalyst;
an inorganic filler;
The molding resin composition is cured at 140° C. for 2 minutes, and the cured product has a flexural modulus at 25° C. (in accordance with JIS K6911:2006) of 0.1 GPa or more and 30 GPa or less.
請求項1に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法1)によって測定される、ガラス転移温度(Tg)が140℃以上300℃以下である、成形用樹脂組成物。
(方法1)
前記成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒で、80mm×10mm×4mmの試験片を成形し、175℃2時間で後硬化する。さらに、熱機械分析装置を用いて、5℃/分の昇温速度で得られた試験片の熱膨張率を測定する。次いで、得られた測定結果に基づき、熱膨張率の変曲点から硬化物のガラス転移温度(Tg)(℃)を算出する。
The molding resin composition according to claim 1,
A molding resin composition having a glass transition temperature (Tg) of 140° C. or higher and 300° C. or lower, as measured by the following (Method 1).
(Method 1)
The molding resin composition is molded into a test piece of 80 mm x 10 mm x 4 mm using a transfer molding machine at a mold temperature of 175 ° C, injection pressure of 6.9 MPa, and curing time of 90 seconds, and then post-cured at 175 ° C for 2 hours. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the obtained test piece is measured at a heating rate of 5 ° C / min using a thermomechanical analyzer. Next, based on the obtained measurement results, the glass transition temperature (Tg) ( ° C) of the cured product is calculated from the inflection point of the thermal expansion coefficient.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
前記エポキシ樹脂がフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含む、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 1 or 2,
The molding resin composition, wherein the epoxy resin comprises one or more selected from the group consisting of phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, and trisphenolmethane type epoxy resins.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
前記エポキシ樹脂の含有量が、前記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、3質量%以上40質量%以下である、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
The molding resin composition has a content of the epoxy resin of 3% by mass or more and 40% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
前記硬化剤を含み、前記硬化剤がフェノール樹脂系硬化剤を含む、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition comprising the curing agent, wherein the curing agent comprises a phenolic resin-based curing agent.
請求項5に記載の成形用樹脂組成物において、
前記フェノール樹脂系硬化剤がフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂およびトリスフェノールメタン型フェノール樹脂からなる群より選択される1種または2種以上を含む、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 5,
The molding resin composition, wherein the phenolic resin-based curing agent comprises one or more selected from the group consisting of phenol novolac resins, cresol novolac resins, naphthol novolac resins, and trisphenolmethane type phenolic resins.
請求項5に記載の成形用樹脂組成物において、
前記硬化剤の含有量が、前記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、0.8質量%以上12質量%以下である、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 5 ,
The molding resin composition has a curing agent content of 0.8% by mass or more and 12% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
前記硬化触媒を含み、前記硬化触媒がイミダゾール系化合物を含む、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition comprising the curing catalyst, the curing catalyst comprising an imidazole-based compound.
請求項8に記載の成形用樹脂組成物において、
前記硬化触媒の含有量が、前記成形用樹脂組成物の固形分全体を100質量%としたとき、0.01質量%以上2.0質量%以下である、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 8,
The molding resin composition has a content of the curing catalyst of 0.01% by mass or more and 2.0% by mass or less, when the total solid content of the molding resin composition is taken as 100% by mass.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
当該成形用樹脂組成物を金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとし、当該成形用樹脂組成物を25℃で48時間放置した後、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分で測定したスパイラルフローをSとしたとき、S≧0.8×Sを満たす、成形用樹脂組成物。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
The molding resin composition satisfies S2 ≧ 0.8 × S1, where S1 is a spiral flow measured for the molding resin composition at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes, and S2 is a spiral flow measured for the molding resin composition after leaving the composition at 25°C for 48 hours, at a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa , and a curing time of 3 minutes.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法2)によって測定される、トルク値が2N・mに達する時間が100秒未満である、成形用樹脂組成物。
(方法2)
キュラストメーター(登録商標)を用い、金型温度140℃、振幅角度±0.25度にて、前記成形用樹脂組成物のトルク値を経時的に測定する。測定結果に基づいて、測定開始から、トルク値が2N・mに達する時間(秒)を算出する。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition, in which the time required for a torque value to reach 2 N·m, as measured by the following (Method 2), is less than 100 seconds.
(Method 2)
Using a Curastometer (registered trademark), the torque value of the molding resin composition is measured over time at a mold temperature of 140° C. and an amplitude angle of ±0.25°. Based on the measurement results, the time (seconds) from the start of measurement until the torque value reaches 2 N·m is calculated.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法3)によって測定される、スパイラルフローが70cm以上である、成形用樹脂組成物。
(方法3)
前記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入し、流動長を測定し、これをスパイラルフロー(cm)とする。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition having a spiral flow of 70 cm or more, as measured by the following (Method 3).
(Method 3)
The molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold in accordance with ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175° C., injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes, and the flow length is measured, which is defined as the spiral flow (cm).
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法4)によって測定される、ゲルタイムが30秒以上である、成形用樹脂組成物。
(方法4)
前記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、ANSI/ASTM D 3123-72に準じたスパイラルフロー測定用金型に、175℃、注入圧力6.9MPa、保圧時間3分の条件で注入する。注入開始から成形用樹脂組成物が硬化し流動しなくなるまでの時間を測定し、ゲルタイム(秒)とする。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition having a gel time of 30 seconds or more, as measured by the following (Method 4).
(Method 4)
The molding resin composition is injected into a spiral flow measurement mold conforming to ANSI/ASTM D 3123-72 using a low-pressure transfer molding machine under conditions of 175° C., injection pressure of 6.9 MPa, and pressure retention time of 3 minutes. The time from the start of injection until the molding resin composition hardens and no longer flows is measured and taken as the gel time (seconds).
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法5)によって測定される、線膨張係数α1が10.0ppm/℃以下である、成形用樹脂組成物。
(方法5)
前記成形用樹脂組成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力9.8MPa、硬化時間3分の条件で注入成形し、15mm×4mm×4mmの成形品を得る。次いで、得られた成形品を175℃、4時間で後硬化して試験片を作製する。そして、得られた試験片に対して、熱機械分析装置を用いて、測定温度範囲0℃~400℃、昇温速度5℃/分の条件下で、25-70℃における平均線膨張係数α1(ppm/℃)を測定する。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition having a linear expansion coefficient α1 of 10.0 ppm/° C. or less, as measured by the following (Method 5).
(Method 5)
The molding resin composition is injected and molded using a low-pressure transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 9.8 MPa, and a curing time of 3 minutes to obtain a molded product of 15 mm x 4 mm x 4 mm. The molded product obtained is then post-cured at 175°C for 4 hours to prepare a test piece. The average linear expansion coefficient α1 (ppm/°C) of the obtained test piece at 25-70°C is measured using a thermomechanical analyzer under conditions of a measurement temperature range of 0°C to 400°C and a heating rate of 5°C/min.
請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物において、
以下の(方法6)によって測定される、熱伝導率が0.5W/m・K以上である、成形用樹脂組成物。
(方法6)
前記成形用樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間90秒間の条件で注入成形し、80mm×10mm×4mmの成形体を得る。次いで、得られた成形体を175℃、2時間で後硬化し、試験片を得る。得られた試験片について、レーザーフラッシュ法を用いて熱拡散率を測定する。また、電子比重計を用いて、熱伝導率測定に用いた試験片の比重を測定する。さらに、示差走査熱量計を用いて、熱伝導率及び比重測定に用いた試験片の比熱を測定する。測定した熱拡散率、比重および比熱の各測定値から、当該試験片の厚さ方向の熱伝導率(W/m・K)を算出する。
The molding resin composition according to claim 1 or 2 ,
A molding resin composition having a thermal conductivity of 0.5 W/m·K or more, as measured by the following (Method 6).
(Method 6)
The molding resin composition is injected and molded using a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 175°C, an injection pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds to obtain a molded body of 80 mm x 10 mm x 4 mm. The molded body obtained is then post-cured at 175°C for 2 hours to obtain a test piece. The thermal diffusivity of the obtained test piece is measured using a laser flash method. In addition, the specific gravity of the test piece used for the thermal conductivity measurement is measured using an electronic specific gravity meter. Furthermore, the specific heat of the test piece used for the thermal conductivity and specific gravity measurement is measured using a differential scanning calorimeter. The thermal conductivity (W/m·K) in the thickness direction of the test piece is calculated from the measured values of the thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat.
トランスファー成形機中の成形型に、電子部品が搭載された基板と、周方向に形成された複数のスロットを有する前記基板上に固定されたステータコアと、前記スロットに収容された複数個のコイルと、を配置する工程と、
前記トランスファー成形機を用いるトランスファーモールド法にて、請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物で前記成形型内の前記基板と、前記ステータコアと、前記コイルと、を封止成形することにより、封止構造体を得る工程と、
を含む、封止構造体の製造方法。
A step of arranging, in a mold in a transfer molding machine, a substrate on which electronic components are mounted, a stator core having a plurality of slots formed in a circumferential direction and fixed on the substrate, and a plurality of coils housed in the slots;
a step of encapsulating the substrate, the stator core, and the coil in the mold with the molding resin composition according to claim 1 or 2 by a transfer molding method using the transfer molding machine to obtain an encapsulated structure;
A method for manufacturing a sealing structure comprising the steps of:
請求項16に記載の封止構造体の製造方法において、
前記封止構造体を得る前記工程において、前記成形用樹脂組成物の硬化体のTg以下の温度で封止成形する、封止構造体の製造方法。
The method for producing a sealing structure according to claim 16,
The method for producing a sealed structure, wherein in the step of obtaining the sealed structure, sealing molding is performed at a temperature equal to or lower than the Tg of a cured product of the molding resin composition.
請求項16に記載の封止構造体の製造方法において、
前記封止構造体を得る前記工程として、後硬化工程を行わない、封止構造体の製造方法。
The method for producing a sealing structure according to claim 16,
A method for producing a sealing structure, the method not including a post-curing step as the step of obtaining the sealing structure.
電子部品が搭載された基板と、
前記基板の一面上に固定され、周方向に形成された複数のスロットを有するステータコアと、
前記スロットに収容された複数個のコイルと、
を含む被封止体と、
前記被封止体の一部または全部を被覆して設けられる封止部材と、を備え、
前記封止部材が、請求項1または2に記載の成形用樹脂組成物の硬化物により構成されている、封止構造体。
A substrate on which electronic components are mounted;
a stator core fixed on one surface of the substrate and having a plurality of slots formed in a circumferential direction;
A plurality of coils housed in the slots;
A sealed body including the above-mentioned
a sealing member provided to cover a part or the whole of the sealed object,
3. A sealing structure, wherein the sealing member is constituted by a cured product of the molding resin composition according to claim 1 .
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