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JP7513467B2 - Graft-modified polymethylpentene composition, molded article, and copper-clad laminate - Google Patents
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Graft-modified polymethylpentene composition, molded article, and copper-clad laminate Download PDF

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Description

本発明は、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物と、当該グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品及びフィルムと、当該グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなるフィルムを含むフレキシブルプリント配線板とに関する。 The present invention relates to a graft-modified polymethylpentene composition, a molded article and a film made of the graft-modified polymethylpentene composition, and a flexible printed wiring board including a film made of the graft-modified polymethylpentene composition.

近年、スマートフォン等の通信機器や、次世代テレビ等の電子機器において、大容量のデータを高速に送受信することが要求されている。これに伴い、電気信号の高周波数化が進んでいる。具体的には、無線通信分野では、2020年頃に、第5世代移動通信システム(5G)の導入が見込まれる。第5世代移動通信システムの導入に際して、10GHz以上の高周波数帯域の使用が検討されている。 In recent years, there has been a demand for communication devices such as smartphones and electronic devices such as next-generation televisions to transmit and receive large volumes of data at high speeds. This has led to the use of higher frequencies for electrical signals. Specifically, in the field of wireless communications, the fifth-generation mobile communications system (5G) is expected to be introduced around 2020. When the fifth-generation mobile communications system is introduced, the use of high-frequency bands of 10 GHz or higher is being considered.

しかしながら、使用される信号の周波数が高くなるに伴い、情報の誤認識を招きうる出力信号の品質低下、すなわち、伝送損失が大きくなる。この伝送損失は、導体に起因する導体損失と、電子機器や通信機器における基板等の電気電子部品を構成する絶縁用の樹脂に起因する誘電損失とからなるが、導体損失は使用する周波数の0.5乗、誘電損失は周波数の1乗に比例するため、高周波帯、とりわけGHz帯においては、この誘電損失による影響が非常に大きくなる。 However, as the frequency of the signal used increases, the quality of the output signal decreases, which can lead to erroneous recognition of information, i.e., transmission loss increases. This transmission loss is made up of conductor loss caused by the conductor and dielectric loss caused by the insulating resin that makes up electrical and electronic components such as circuit boards in electronic devices and communications devices. Since conductor loss is proportional to the 0.5th power of the frequency used and dielectric loss is proportional to the 1st power of the frequency, the impact of this dielectric loss becomes extremely large in high frequency bands, especially in the GHz band.

このため、伝送損失を低減するために、誘電損失に係る因子である比誘電率と、誘電正接とが低い低誘電材料が求められている。このような事情から、高周波数帯域で使用され得る低誘電材料として、例えば、低誘電損失及び低誘電正接等の電気特性に優れたポリオレフィンを含む組成物の使用が検討されている(特許文献1を参照)。 For this reason, in order to reduce transmission loss, there is a demand for low-dielectric materials with low relative permittivity and dielectric dissipation factor, which are factors related to dielectric loss. In light of this, the use of compositions containing polyolefins, which have excellent electrical properties such as low dielectric loss and low dielectric dissipation factor, as low-dielectric materials that can be used in high-frequency bands, is being considered (see Patent Document 1).

特開2013-245305号公報JP 2013-245305 A

低誘電特性に優れる材料の好ましい用途としては、フレキシブルプリント配線板が挙げられる。フレキシブルプリント配線板において、低誘電特性を有する材料は、通常、フィルム又はシートとして使用される。 A preferred application of materials with excellent low dielectric properties is flexible printed wiring boards. In flexible printed wiring boards, materials with low dielectric properties are usually used as films or sheets.

フレキシブルプリント配線板は、通常、銅張積層板(CCL)であることが多い。しかしながら、特許文献1に記載されるようなポリオレフィン組成物は、通常、銅箔のような金属箔と良好に接着しにくい。 Flexible printed wiring boards are usually copper-clad laminates (CCLs). However, polyolefin compositions such as those described in Patent Document 1 usually do not adhere well to metal foils such as copper foils.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、フィルム化等の成形性が良好であり、銅箔等の金属箔との接着性に優れる成形品を与えるグラフト変性ポリメチルペンテン組成物と、当該グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなるフィルム等の成形品と、前述のフィルムを含む銅張積層板とを提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and aims to provide a graft-modified polymethylpentene composition that has good formability, such as film formation, and gives a molded product that has excellent adhesion to metal foils such as copper foils, a molded product such as a film made of the graft-modified polymethylpentene composition, and a copper-clad laminate that includes the aforementioned film.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。 The inventors conducted extensive research to solve the above problems and have now completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の(1)~(9)を提供する。
(1)グラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、架橋剤(B)とを含み、
グラフト変性ポリメチルペンテン(A)が、グラフト変性により極性基を導入されている、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物。
(2)架橋剤(B)が、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、及びトリメタリルイソシアヌレートからなる群から選ばれる1種以上である、(1)に記載のポリメチルペンテン組成物。
(3)架橋剤(B)の含有量が、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)100質量部に対して、1質量部以上100質量部以下である、(1)又は(2)に記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。
(4)グラフト変性ポリメチルペンテン(A)が、グリシジル(メタ)アクリレートと、スチレンとによってグラフト変性されている、(1)~(3)のいずれか1つに記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。
(5)グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点が200℃以上である、(1)~(4)のいずれか1つに記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。
(6)(1)~(5)のいずれか1つに記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品。
(7)(6)に記載の成形品に対して架橋剤(B)による架橋処理が施された、成形品。
(8)フィルムである、(6)又は(7)に記載の成形品。
(9)(8)に記載のフィルムを含む、銅張積層板。
That is, the present invention provides the following (1) to (9).
(1) A composition comprising a graft-modified polymethylpentene (A) and a crosslinking agent (B),
A graft-modified polymethylpentene composition, in which a polar group has been introduced into the graft-modified polymethylpentene (A) by graft modification.
(2) The polymethylpentene composition according to (1), wherein the crosslinking agent (B) is at least one member selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, and trimethallyl isocyanurate.
(3) The graft-modified polymethylpentene composition according to (1) or (2), in which the content of the crosslinking agent (B) is 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less per 100 parts by mass of the graft-modified polymethylpentene (A).
(4) The graft-modified polymethylpentene composition according to any one of (1) to (3), wherein the graft-modified polymethylpentene (A) is graft-modified with glycidyl (meth)acrylate and styrene.
(5) The graft-modified polymethylpentene composition according to any one of (1) to (4), wherein the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is 200° C. or higher.
(6) A molded article comprising the graft-modified polymethylpentene composition according to any one of (1) to (5).
(7) A molded article, which is obtained by subjecting the molded article according to (6) to a crosslinking treatment using a crosslinking agent (B).
(8) The molded article according to (6) or (7), which is a film.
(9) A copper-clad laminate comprising the film according to (8).

本発明によれば、フィルム化等の成形性が良好であり、銅箔等の金属箔との接着性に優れる成形品を与えるグラフト変性ポリメチルペンテン組成物と、当該グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなるフィルム等の成形品と、前述のフィルムを含む銅張積層板とを提供することができる。 The present invention can provide a graft-modified polymethylpentene composition that has good formability, such as film formation, and that gives a molded product that has excellent adhesion to metal foils such as copper foils, a molded product such as a film made of the graft-modified polymethylpentene composition, and a copper-clad laminate that includes the aforementioned film.

≪グラフト変性ポリメチルペンテン組成物≫
グラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、極性基を有するグラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、架橋剤(B)とを含む。
グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品は、架橋剤(B)を含むため、例えば、加熱、電子線照射等の方法による架橋処理され得る。架橋処理が施された成形品には、フレキシブルプリント配線板用途における望ましい耐熱性や、向上した機械的特性が付与される。
<Graft-modified polymethylpentene composition>
The graft-modified polymethylpentene composition contains a graft-modified polymethylpentene (A) having a polar group and a crosslinking agent (B).
Since the molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition contains the crosslinking agent (B), it can be crosslinked, for example, by heating, electron beam irradiation, etc. The crosslinked molded article is endowed with desirable heat resistance and improved mechanical properties for flexible printed wiring board applications.

以下、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物が含み得る、必須、又は任意の成分について説明する。 Below, we will explain the essential and optional components that the graft-modified polymethylpentene composition may contain.

<グラフト変性ポリメチルペンテン(A)> <Graft modified polymethylpentene (A)>

グラフト変性ポリメチルペンテン(A)は、ポリメチルペンテンがグラフト変性された樹脂であって、極性基を有する樹脂であれば特に限定されない。 The graft-modified polymethylpentene (A) is a resin in which polymethylpentene has been graft-modified, and is not particularly limited as long as it is a resin having a polar group.

ここで極性基とは、極性のある原子団のことで,この基が有機化合物中に存在すると,その化合物が極性をもつ基のことである。グラフトによりポリメチルペンテンに導入され得る極性基の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、及びイソクロトン酸等の不飽和カルボン酸に由来するカルボキシ基;酸無水物、酸ハライド、アミド、イミド、及びエステル等の前述の不飽和カルボン酸の誘導体に由来する酸無水物基、ハロカルボニル基、カルボン酸アミド基、イミド基、及びカルボン酸エステル基;メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジル、マレイン酸モノグリシジル、マレイン酸ジグリシジル、イタコン酸モノグリシジル、イタコン酸ジグリシジル、アリルコハク酸モノグリシジル、アリルコハク酸ジグリシジル、p-スチレンカルボン酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、スチレン-p-グリシジルエーテル、p-グリシジルスチレン、3,4-エポキシ-1-ブテン、3,4-エポキシ-3-メチル-1-ブテン、及びビニルシクロヘキセンモノオキシド等のエポキシ基含有ビニル単量体に由来するエポキシ基等が挙げられる。これらの極性基の中では、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品と、銅箔等の金属箔との密着性が良好であることや、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)と架橋剤(B)との架橋反応性が良好であること等からエポキシ基が好ましい。 Here, a polar group refers to a polar atomic group, and when this group is present in an organic compound, the compound becomes polar. Specific examples of polar groups that can be introduced into polymethylpentene by grafting include carboxy groups derived from unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, and isocrotonic acid; acid anhydride groups, halocarbonyl groups, carboxylic acid amide groups, imide groups, and carboxylic acid ester groups derived from derivatives of the aforementioned unsaturated carboxylic acids, such as acid anhydrides, acid halides, amides, imides, and esters; glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, maleic acid, and glycidyl methacrylate; Examples of the polar groups include monoglycidyl phosphate, diglycidyl maleate, monoglycidyl itaconate, diglycidyl itaconate, monoglycidyl allyl succinate, diglycidyl allyl succinate, glycidyl p-styrene carboxylate, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether, styrene-p-glycidyl ether, p-glycidyl styrene, 3,4-epoxy-1-butene, 3,4-epoxy-3-methyl-1-butene, and epoxy groups derived from epoxy group-containing vinyl monomers such as vinylcyclohexene monoxide. Among these polar groups, the epoxy group is preferred because it provides good adhesion between a molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition and a metal foil such as a copper foil, and provides good crosslinking reactivity between the graft-modified polymethylpentene (A) and the crosslinking agent (B).

典型的には、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)は、ポリメチルペンテンが、ラジカル重合開始剤の存在下で、極性基を有するビニル単量体でグラフト変性された樹脂である。 Typically, graft-modified polymethylpentene (A) is a resin in which polymethylpentene is graft-modified with a vinyl monomer having a polar group in the presence of a radical polymerization initiator.

グラフト変性ポリメチルペンテン(A)は、極性基を有するビニル単量体、及び芳香族ビニル単量体によりグラフト変性されたポリメチルペンテンであるのが好ましく、グリシジル(メタ)アクリレートと、スチレンとによってグラフト変性されたポリメチルペンテンであるのがより好ましい。 The graft-modified polymethylpentene (A) is preferably polymethylpentene graft-modified with a vinyl monomer having a polar group and an aromatic vinyl monomer, and more preferably polymethylpentene graft-modified with glycidyl (meth)acrylate and styrene.

ポリメチルペンテンをグラフト変性する際に使用し得るラジカル重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、及びメチルアセトアセテートパーオキサイド等のケトンパーオキサイド;1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n-ブチル-4,4-ビス(tert-ブチルパーオキシ)バレレート、及び2,2-ビス(tert-ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール;パーメタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、及びクメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド;ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,α’-ビス(tert-ブチルパーオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、tert-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-tert-ブチルパーオキサイド、及び2,5-ジメチル-2,5-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3等のジアルキルパーオキサイド;ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;ジ(3-メチル-3-メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、及びジ-2-メトキシブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート、tert-ブチルパーオキシオクテート、tert-ブチルパーオキシイソブチレート、tert-ブチルパーオキシラウレート、tert-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、tert-ブチルパーオキシアセテート、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、及びジ-tert-ブチルパーオキシイソフタレート等のパーオキシエステル等が挙げられる。上記のラジカル重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。 Examples of radical polymerization initiators that can be used when graft-modifying polymethylpentene include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and methyl acetoacetate peroxide; peroxyketals such as 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, n-butyl-4,4-bis(tert-butylperoxy)valerate, and 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane; hydroperoxides such as permethane hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, and cumene hydroperoxide; dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane, α,α'-bis(tert-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, t Examples of the peroxyester include dialkyl peroxides such as tert-butylcumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, and 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexyne-3; diacyl peroxides such as benzoyl peroxide; peroxydicarbonates such as di(3-methyl-3-methoxybutyl)peroxydicarbonate and di-2-methoxybutylperoxydicarbonate; and peroxyesters such as tert-butylperoxyoctate, tert-butylperoxyisobutyrate, tert-butylperoxylaurate, tert-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butylperoxyisopropylcarbonate, 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxybenzoate, and di-tert-butylperoxyisophthalate. The above radical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合開始剤の使用量は、グラフト変性反応が良好に進行する限り特に限定されない。ラジカル重合開始剤の使用量は、ポリメチルペンテン100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下が好ましく、0.2質量部以上5質量部以下がより好ましい。 The amount of radical polymerization initiator used is not particularly limited as long as the graft modification reaction proceeds well. The amount of radical polymerization initiator used is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.2 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, per 100 parts by mass of polymethylpentene.

グラフト変性に使用され得る極性基を有するビニル単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、及びイソクロトン酸等の不飽和カルボン酸;酸無水物、酸ハライド、アミド、イミド、及びエステル等のこれらの不飽和カルボン酸の誘導体;メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジル、マレイン酸モノグリシジル、マレイン酸ジグリシジル、イタコン酸モノグリシジル、イタコン酸ジグリシジル、アリルコハク酸モノグリシジル、アリルコハク酸ジグリシジル、p-スチレンカルボン酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、スチレン-p-グリシジルエーテル、p-グリシジルスチレン、3,4-エポキシ-1-ブテン、3,4-エポキシ-3-メチル-1-ブテン、及びビニルシクロヘキセンモノオキシド等のエポキシ基含有ビニル単量体が挙げられる。 Examples of vinyl monomers having a polar group that can be used for graft modification include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, and isocrotonic acid; derivatives of these unsaturated carboxylic acids such as acid anhydrides, acid halides, amides, imides, and esters; and epoxy group-containing vinyl monomers such as glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, monoglycidyl maleate, diglycidyl maleate, monoglycidyl itaconate, diglycidyl itaconate, monoglycidyl allyl succinate, diglycidyl allyl succinate, glycidyl p-styrene carboxylate, allyl glycidyl ether, methacrylic glycidyl ether, styrene-p-glycidyl ether, p-glycidyl styrene, 3,4-epoxy-1-butene, 3,4-epoxy-3-methyl-1-butene, and vinylcyclohexene monoxide.

これらの中でも、エポキシ基含有ビニル単量体が好ましく、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジルがより好ましく、メタクリル酸グリシジルが特に好ましい。 Among these, epoxy group-containing vinyl monomers are preferred, with glycidyl methacrylate and glycidyl acrylate being more preferred, and glycidyl methacrylate being particularly preferred.

上記の極性基を有するビニル単量体は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。 The above vinyl monomers having polar groups can be used alone or in combination of two or more.

ポリメチルペンテンのグラフト変性に使用される極性基を有するビニル単量体の添加量は、ポリメチルペンテン100質量部に対して、0.1質量部以上12質量部以下が好ましく、0.5質量部以上10質量部以下がより好ましく、1質量部以上8質量部以下が特に好ましい。 The amount of the vinyl monomer having a polar group used for graft modification of polymethylpentene is preferably 0.1 parts by mass or more and 12 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or more and 8 parts by mass or less, per 100 parts by mass of polymethylpentene.

かかる範囲内の量の極性基を有するビニル単量体を用いて変性されたポリメチルペンテンを用いることで、銅箔等の金属箔に対して良好に密着する成形品を与えるグラフト変性ポリメチルペンテンを得やすい。 By using polymethylpentene modified with a vinyl monomer having a polar group in an amount within this range, it is easy to obtain graft-modified polymethylpentene that gives a molded product that adheres well to metal foil such as copper foil.

前述の通りグラフト変性ポリメチルペンテン(A)は、極性基を有するビニル単量体、及び芳香族ビニル単量体によりグラフト変性されたポリメチルペンテンであるのが好ましい。 As mentioned above, the graft-modified polymethylpentene (A) is preferably polymethylpentene graft-modified with a vinyl monomer having a polar group and an aromatic vinyl monomer.

極性基を有するビニル単量体と、芳香族ビニル単量体とを併用することにより、グラフト反応が安定化することによって、極性基を有するビニル単量体を所望する量グラフトさせやすいためである。 By using a vinyl monomer having a polar group in combination with an aromatic vinyl monomer, the grafting reaction is stabilized, making it easier to graft the desired amount of vinyl monomer having a polar group.

芳香族ビニル単量体の具体例としては、スチレン;o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、ジメチルスチレン、及びトリメチルスチレン等のアルキルスチレン類;o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレン、α-クロロスチレン、β-クロロスチレン、ジクロロスチレン、及びトリクロロスチレン等のクロロスチレン類;o-ブロモスチレン、m-ブロモスチレン、p-ブロモスチレン、ジブロモスチレン、及びトリブロモスチレン等のブロモスチレン類;o-フルオロスチレン、m-フルオロスチレン、p-フルオロスチレン、ジフルオロスチレン、及びトリフルオロスチレン等のフルオロスチレン類;o-ニトロスチレン、m-ニトロスチレン、p-ニトロスチレン、ジニトロスチレン、及びトリニトロスチレン等のニトロスチレン類;o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、及びトリヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類;o-ジビニルベンゼン、m-ジビニルベンゼン、p-ジビニルベンゼン、o-ジイソプロペニルベンゼン、m-ジイソプロペニルベンゼン、及びp-ジイソプロペニルベンゼン等のジアルケニルベンゼン類等が挙げられる。 Specific examples of aromatic vinyl monomers include styrene; alkylstyrenes such as o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, β-methylstyrene, dimethylstyrene, and trimethylstyrene; chlorostyrenes such as o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, α-chlorostyrene, β-chlorostyrene, dichlorostyrene, and trichlorostyrene; bromostyrenes such as o-bromostyrene, m-bromostyrene, p-bromostyrene, dibromostyrene, and tribromostyrene; o-fluorostyrene, m-fluorostyrene, p-fluorostyrene, fluorostyrenes such as o-nitrostyrene, m-nitrostyrene, p-nitrostyrene, dinitrostyrene, and trinitrostyrene; nitrostyrenes such as o-nitrostyrene, m-nitrostyrene, p-nitrostyrene, dinitrostyrene, and trinitrostyrene; hydroxystyrenes such as o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, dihydroxystyrene, and trihydroxystyrene; and dialkenylbenzenes such as o-divinylbenzene, m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, o-diisopropenylbenzene, m-diisopropenylbenzene, and p-diisopropenylbenzene.

これら芳香族ビニル単量体の中でも、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o-ジビニルベンゼン、m-ジビニルベンゼン、p-ジビニルベンゼン、又はジビニルベンゼン異性体混合物が、安価な点で好ましく、特にスチレンが好ましい。 Among these aromatic vinyl monomers, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, o-divinylbenzene, m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, or a mixture of divinylbenzene isomers is preferred because of its low cost, with styrene being particularly preferred.

芳香族ビニル単量体は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。 Aromatic vinyl monomers can be used alone or in combination of two or more.

ポリメチルペンテンのグラフト変性に使用される極性基を有する芳香族ビニル単量体の量は、ポリメチルペンテン100質量部に対して、0.1質量部以上12質量部以下が好ましく、0.5質量部以上10質量部以下がより好ましく、1質量部以上8質量部以下が特に好ましい。 The amount of aromatic vinyl monomer having a polar group used for graft modification of polymethylpentene is preferably 0.1 parts by mass or more and 12 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or more and 8 parts by mass or less, per 100 parts by mass of polymethylpentene.

グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点は、特に限定されない。グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点は、80℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、120℃以上240℃以下がさらに好ましい。
成形品の耐熱性の点から、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点は、200℃以上であるのもの好ましい。
グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点が、上記の温度であることにより、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品に良好な耐熱性を付与できる。
また、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点が240℃以下であると、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物を調製したり使用したりする際の、架橋剤(B)の分解や昇華を抑制しやすい。
The melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is not particularly limited. The melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is preferably 80° C. or higher, more preferably 100° C. or higher, and even more preferably 120° C. or higher and 240° C. or lower.
From the viewpoint of heat resistance of the molded product, the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is preferably 200° C. or higher.
When the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is within the above range, good heat resistance can be imparted to a molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition.
In addition, when the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is 240° C. or lower, decomposition or sublimation of the crosslinking agent (B) can be easily suppressed during preparation or use of the graft-modified polymethylpentene composition.

<架橋剤(B)>
グラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、架橋助(B)を含む。架橋剤(B)は、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)を架橋させることにより、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品の耐熱性や機械的特性の向上に寄与する。
<Crosslinking Agent (B)>
The graft-modified polymethylpentene composition contains a crosslinking aid (B). The crosslinking aid (B) crosslinks the graft-modified polymethylpentene (A), thereby contributing to improving the heat resistance and mechanical properties of a molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition.

架橋剤(B)が有する後述の反応性官能基の種類に応じて選択される、加熱や電子線照射等の架橋処理によって、架橋剤(B)は、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)同士を架橋させる。 The crosslinking agent (B) crosslinks the graft-modified polymethylpentene (A) with each other through a crosslinking treatment such as heating or electron beam irradiation, which is selected according to the type of reactive functional group possessed by the crosslinking agent (B) (described later).

架橋剤(B)は、同一分子内に反応性官能基を2個以上有する化合物である。グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品において、架橋剤(B)による分子架橋を生じさせることにより特に耐熱性に優れる成形品を得やすい。 The crosslinking agent (B) is a compound having two or more reactive functional groups in the same molecule. In a molded article made of a graft-modified polymethylpentene composition, it is easy to obtain a molded article having excellent heat resistance by generating molecular crosslinks using the crosslinking agent (B).

架橋剤(B)が有する反応性官能基としては炭素-炭素二重結合含有基、ハロゲン原子、ジカルボン酸無水物基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、及び水酸基が挙げられる。架橋剤の同一分子内に有する複数の反応性官能基は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。
上記の反応性官能基の中では、架橋反応性と、架橋後の架橋構造の安定性とが優れることから、炭素-炭素二重結合含有基が好ましい。
炭素-炭素二重結合含有基としては、ビニル基、アリル基、及びメタリル基等のアルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等の不飽和アシル基、マレイミド基等が挙げられる。好ましい炭素-炭素二重結合含有基は炭素数2~4のアルケニル基であり、特にアリル基が特に好ましい。
Examples of the reactive functional group of the crosslinking agent (B) include a carbon-carbon double bond-containing group, a halogen atom, a dicarboxylic anhydride group, a carboxy group, an amino group, a cyano group, and a hydroxyl group. The reactive functional groups present in the same molecule of the crosslinking agent may be the same or different.
Among the above reactive functional groups, a carbon-carbon double bond-containing group is preferred because it has excellent crosslinking reactivity and the stability of the crosslinked structure after crosslinking.
Examples of the carbon-carbon double bond-containing group include alkenyl groups such as vinyl, allyl, and methallyl groups, unsaturated acyl groups such as acryloyl and methacryloyl groups, maleimide groups, etc. The carbon-carbon double bond-containing group is preferably an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, and particularly preferably an allyl group.

架橋剤(B)の好適な具体例としては、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、1,3,5-トリアクリロイルヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン、トリアリルトリメリテート、m-フェニレンジアミンビスマレイミド、p-キノンジオキシム、p,p’-ジベンゾイルキノンジオキシム、ジプロパルギルテレフタレート、ジアリルフタレート、N,N’,N’’,N’’’-テトラアリルテレフタルアミド、並びにポリメチルビニルシロキサン、及びポリメチルフェニルビニルシロキサン等のビニル基含有ポリシロキサン等が挙げられる。なお、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートと、メタクリレートとの双方を意味する。 Specific examples of suitable crosslinking agents (B) include triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, trimethallyl isocyanurate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, 1,3,5-triacryloylhexahydro-1,3,5-triazine, triallyl trimellitate, m-phenylenediamine bismaleimide, p-quinone dioxime, p,p'-dibenzoylquinone dioxime, dipropargyl terephthalate, diallyl phthalate, N,N',N'',N'''-tetraallyl terephthalamide, and vinyl group-containing polysiloxanes such as polymethylvinylsiloxane and polymethylphenylvinylsiloxane. Note that "(meth)acrylate" refers to both acrylate and methacrylate.

これらの中では、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート、及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上がより好ましい。特に架橋反応性の点で、架橋剤(B)がトリアリルイソシアヌレート(TAIC)、及び/又はトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPTMA)を含むのが好ましく、架橋剤(B)がTAICであるのが特に好ましい。 Among these, one or more selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, trimethallyl isocyanurate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate are more preferred. In particular, in terms of crosslinking reactivity, it is preferred that the crosslinking agent (B) contains triallyl isocyanurate (TAIC) and/or trimethylolpropane tri(meth)acrylate (TMPTMA), and it is particularly preferred that the crosslinking agent (B) is TAIC.

架橋剤(B)の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。グラフト変性ポリメチルペンテン組成物における、架橋剤(B)の使用量は、例えば、グラフト変性ポリメチルペンテン100質量部に対して、1質量部以上100質量部以下が好ましく、3質量部以上50質量部以下がより好ましく、5質量部以上30質量部以下がさらに好ましい。 The amount of crosslinking agent (B) used is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The amount of crosslinking agent (B) used in the graft-modified polymethylpentene composition is, for example, preferably 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and even more preferably 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the graft-modified polymethylpentene.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)以外のその他の樹脂を含んでいてもよい。グラフト変性ポリメチルペンテン組成物に含まれる樹脂成分の全質量に対する、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の質量の割合は、典型的には、80質量%が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、100質量%が特に好ましい。 The graft-modified polymethylpentene composition may contain other resins besides the graft-modified polymethylpentene (A) to the extent that the object of the present invention is not impaired. The ratio of the mass of the graft-modified polymethylpentene (A) to the total mass of the resin components contained in the graft-modified polymethylpentene composition is typically preferably 80 mass%, more preferably 90 mass% or more, even more preferably 95 mass% or more, and particularly preferably 100 mass%.

その他の樹脂の例としては、グラフト変性されていないポリオレフィン、グラフト変性ポリメチルペンテン以外のグラフト変性されたポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等の非液晶性のポリエステル、液晶性ポリエステル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、シリコーン樹脂、及びフッ素樹脂等が挙げられる。 Examples of other resins include non-graft-modified polyolefins, graft-modified polyolefins other than graft-modified polymethylpentene, non-liquid crystal polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, liquid crystal polyesters, polyamides, polyesteramides, polyimides, polyamideimides, polycarbonates, polyacetals, polyphenylene sulfides, polyphenylene ethers, polysulfones, polyethersulfones, polyetherimides, silicone resins, and fluororesins.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物には、必要に応じて、無機充填剤を配合できる。無機充填剤としては、炭酸カルシウム、タルク、クレー、シリカ、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ、モンモリロナイト、石膏、ガラスフレーク、ガラス繊維、ミルドガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維、ホウ酸アルミニウムウィスカ、及びチタン酸カリウム繊維等が挙げられる。無機充填剤は、単独で使用されてもよく、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。 The graft-modified polymethylpentene composition can be blended with an inorganic filler as necessary. Examples of inorganic fillers include calcium carbonate, talc, clay, silica, magnesium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, alumina, montmorillonite, gypsum, glass flakes, glass fiber, milled glass fiber, carbon fiber, alumina fiber, silica alumina fiber, aluminum borate whisker, and potassium titanate fiber. The inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

これらの無機充填剤の使用量は、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の低誘電特性を損なわない範囲で、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の用途に応じて適宜決定される。例えば、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物を用いてフィルムを形成する場合には、フィルムの機械強度を著しく損なわない範囲で、無機充填剤の使用量の上限が定められる。 The amount of these inorganic fillers used is determined appropriately according to the application of the graft-modified polymethylpentene composition, so long as the low dielectric properties of the graft-modified polymethylpentene composition are not impaired. For example, when a film is formed using the graft-modified polymethylpentene composition, the upper limit of the amount of inorganic fillers used is determined so long as the mechanical strength of the film is not significantly impaired.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物には、必要に応じて、さらに、有機充填剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、着色剤、防錆剤、架橋剤、発泡剤、蛍光剤、表面平滑剤、表面光沢改良剤、及び離型改良剤等の各種の添加剤を配合できる。 The graft-modified polymethylpentene composition can further contain various additives, such as organic fillers, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, flame retardants, lubricants, antistatic agents, colorants, rust inhibitors, crosslinking agents, foaming agents, fluorescent agents, surface smoothing agents, surface gloss improvers, and release improvers, as necessary.

これらの添加剤は、単独で使用されてもよく、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。 These additives may be used alone or in combination of two or more.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の形態は特に限定されない。グラフトオレフィン組成物は、例えば、固体状のグラフト変性ポリメチルペンテン(A)中に架橋剤(B)が分散した組成物であってもよく、粉末状のグラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、粉末状の架橋剤(B)とが混合された粉末状の組成物であってもよい。グラフト変性ポリメチルペンテン組成物としては、固体状のグラフト変性ポリメチルペンテン(A)中に架橋剤(B)が分散した組成物が好ましい。 The form of the graft-modified polymethylpentene composition is not particularly limited. The graft olefin composition may be, for example, a composition in which the crosslinking agent (B) is dispersed in solid graft-modified polymethylpentene (A), or a powdered composition in which powdered graft-modified polymethylpentene (A) and powdered crosslinking agent (B) are mixed. As the graft-modified polymethylpentene composition, a composition in which the crosslinking agent (B) is dispersed in solid graft-modified polymethylpentene (A) is preferred.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の10GHzにおける誘電正接は、0.0025以下が好ましい。
グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の周波数10GHzにおける比誘電率は、好ましくは2.8以下である。
The dielectric loss tangent at 10 GHz of the graft-modified polymethylpentene composition is preferably 0.0025 or less.
The graft-modified polymethylpentene composition preferably has a relative dielectric constant of 2.8 or less at a frequency of 10 GHz.

上記のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、低誘電特性を活かし、高周波数帯域で使用される電気、電子部品、情報通信装置、当該情報通信装置の部品等の用途において好適に使用される。 The above-mentioned graft-modified polymethylpentene composition takes advantage of its low dielectric properties and is suitable for use in electrical and electronic components, information and communication devices, and parts for such information and communication devices that are used in the high frequency band.

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の製造方法は特に限定されない。グラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、架橋剤(B)とを混合することにより製造され得る。
グラフト変性ポリメチルペンテン(A)及び架橋剤(B)を混合する方法は特に限定されない。好ましい混合方法としては、一軸押出機や二軸押出機等の溶融混練装置を用いる方法が挙げられる。
The method for producing the graft-modified polymethylpentene composition is not particularly limited. The graft-modified polymethylpentene composition can be produced by mixing the graft-modified polymethylpentene (A) and the crosslinking agent (B).
The method for mixing the graft-modified polymethylpentene (A) and the crosslinking agent (B) is not particularly limited, but a preferred mixing method is a method using a melt kneading device such as a single-screw extruder or a twin-screw extruder.

混合条件は、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、架橋剤(B)とを均一に混合でき、各成分が、過度に熱分解したり、昇華したりしない条件であれば特に限定されない。溶融混練装置を用いる場合、例えば、グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点よりも、好ましくは5℃以上100℃以下高い温度、より好ましくは10℃以上50℃以下高い温度で溶融混練が行われる。 The mixing conditions are not particularly limited as long as the graft-modified polymethylpentene (A) and the crosslinking agent (B) can be mixed uniformly and each component does not undergo excessive thermal decomposition or sublimation. When a melt kneading device is used, for example, the melt kneading is performed at a temperature that is preferably 5°C to 100°C higher, more preferably 10°C to 50°C higher than the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A).

グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品に対して、架橋剤(B)による架橋処理が施されるのが好ましい。架橋処理の方法は特に限定されず、架橋剤(B)が有する反応性官能基の種類に応じて適宜選択される。架橋処理の方法としては、電子線照射、加熱、光照射等が挙げられる。
フィルム化後に架橋構造を形成可能である点で電子線照射が好ましい。電子線照射を行う場合の電子線の線量としては、100kGy以上1200kGy以下が好ましく、200kGy以上800kGy以下がより好ましい。
加熱により架橋する方法では、架橋温度が過度に高いと、成形品を架橋させる際に成形品が熱劣化したり変形したりするおそれがある。逆に架橋温度が過度に低いと、押出機内でグラフト変性ポリメチルペンテン組成物が架橋してしまうおそれがある。この場合、液グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の押出機内での増粘により成形品の外観不良が生じやすいため、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物の成形方法として、溶融成形法の適用が難しい。光照射による方法では、特別な場合以外は、光酸発生剤等の開始剤がグラフト変性ポリメチルペンテン組成物に添加される必要がある。しかし、このような開始剤は、高温の押出機内で分解しやすい。以上の点を考慮すると、種々の不具合を生じさせることなく、フィルム等の成形品に架橋構造を容易に形成可能である点で電子線照射が好ましい。
つまり、架橋剤(B)により架橋処理された成形品の製造方法としては、
前述のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物を上述の方法等により成形して成形品を得ることと、
得られた成形品に電子線を照射して、成形品に対して架橋剤(B)による架橋処理を行うことと、を含む方法が好ましい。
It is preferable that a molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition is subjected to a crosslinking treatment with a crosslinking agent (B). The method of crosslinking is not particularly limited and is appropriately selected depending on the type of reactive functional group possessed by the crosslinking agent (B). Examples of the method of crosslinking include electron beam irradiation, heating, and light irradiation.
Electron beam irradiation is preferred because it is possible to form a crosslinked structure after film formation. When electron beam irradiation is performed, the dose of the electron beam is preferably from 100 kGy to 1,200 kGy, and more preferably from 200 kGy to 800 kGy.
In the method of crosslinking by heating, if the crosslinking temperature is too high, the molded article may be thermally deteriorated or deformed when crosslinking the molded article. Conversely, if the crosslinking temperature is too low, the graft-modified polymethylpentene composition may be crosslinked in the extruder. In this case, the liquid graft-modified polymethylpentene composition is likely to thicken in the extruder, resulting in poor appearance of the molded article, making it difficult to apply a melt molding method as a molding method for the graft-modified polymethylpentene composition. In the method by light irradiation, except in special cases, it is necessary to add an initiator such as a photoacid generator to the graft-modified polymethylpentene composition. However, such an initiator is easily decomposed in a high-temperature extruder. In consideration of the above points, electron beam irradiation is preferable in that it is possible to easily form a crosslinked structure in a molded article such as a film without causing various problems.
That is, the method for producing a molded product crosslinked with the crosslinking agent (B) is as follows:
The graft-modified polymethylpentene composition is molded by the above-mentioned method or the like to obtain a molded article;
and irradiating the obtained molded article with an electron beam to crosslink the molded article with the crosslinking agent (B).

以上説明したグラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、高周波帯域における低誘電特性と、フィルム等を加工する際の溶融加工性とに優れるため、好ましくはフィルムに加工され、当該フィルムを用いて銅箔がフィルムに良好に密着した銅張積層板が製造される。 The graft-modified polymethylpentene composition described above has low dielectric properties in the high frequency band and excellent melt processability when processing films, etc., so it is preferably processed into a film, and the film is used to manufacture a copper-clad laminate in which the copper foil is well adhered to the film.

また、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品に架橋剤(B)による架橋処理を施すことにより、フレキシブルプリント配線板として好適な耐熱性を有するフィルムやシート等の成形品や、当該成形品を用いた銅張積層板が得られる。 In addition, by subjecting a molded article made of the graft-modified polymethylpentene composition to a crosslinking treatment using a crosslinking agent (B), a molded article such as a film or sheet having heat resistance suitable for a flexible printed wiring board, or a copper-clad laminate using the molded article, can be obtained.

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

〔製造例1〕
(変性ポリメチルペンテン1(mTPX)の製造)
(a1)ポリメチルペンテン(三井化学製TPXグレードMX002)100質量部、(b1)1,3-ジ(tert-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン(日油製:パーブチルP)0.5質量部を、ホッパー口より、シリンダー温度230℃、スクリュー回転数150rpmに設定した二軸押出機(46mmφ、L/D=63、神戸製鋼社製)に供給して溶融混練を行う際に、シリンダー途中より(c1)スチレン1質量部、(d1)グリシジルメタクリレート1質量部を加えた。その後、ベント口から真空脱揮することにより変性ポリオレフィン樹脂のペレットを得た。
[Production Example 1]
(Production of modified polymethylpentene 1 (mTPX))
(a1) 100 parts by mass of polymethylpentene (Mitsui Chemicals, TPX grade MX002) and (b1) 0.5 parts by mass of 1,3-di(tert-butylperoxyisopropyl)benzene (NOF Corp.: Perbutyl P) were fed from a hopper port to a twin-screw extruder (46 mmφ, L/D=63, Kobe Steel, Ltd.) set at a cylinder temperature of 230° C. and a screw rotation speed of 150 rpm, and melt-kneaded. (c1) 1 part by mass of styrene and (d1) 1 part by mass of glycidyl methacrylate were then added midway through the cylinder. Thereafter, pellets of modified polyolefin resin were obtained by vacuum devolatilization from a vent port.

得られた樹脂ペレットを130℃でキシレンに溶解させた後、再び常温に冷却した際に析出した再結晶樹脂を用いて、JIS K7236に準拠し電位差自動滴定装置(京都電子工業製AT700)でグリシジルメタクリレート変性量を測定した。変性ポリオレフィン1(mTPX)のグリシジルメタクリレート変性量は0.75質量%だった。 The obtained resin pellets were dissolved in xylene at 130°C, and then cooled to room temperature again to precipitate a recrystallized resin. The amount of glycidyl methacrylate modification was measured using an automatic potentiometric titrator (AT700 manufactured by Kyoto Electronics Manufacturing Co., Ltd.) in accordance with JIS K7236. The amount of glycidyl methacrylate modification in modified polyolefin 1 (mTPX) was 0.75% by mass.

〔製造例2〕
(変性ポリプロピレン2(mPP)の製造)
(a1)ポリプロピレン(プライムポリマー製ポリプロピレングレードJ106G)100質量部、(b1)1,3-ジ(tert-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン(日油製:パーブチルP)0.25質量部を、ホッパー口より、シリンダー温度200℃、スクリュー回転数150rpmに設定した製造例1と同じ二軸押出機に供給して溶融混練を行う際に、シリンダー途中より(c1)スチレン2.5質量部、(d1)グリシジルメタクリレート2.5質量部を加えた。その後、ベント口から真空脱揮することにより変性ポリオレフィン樹脂のペレットを得た。製造例1と同様に変性量を測定したところ、変性ポリプロピレン(mPP)のグリシジルメタクリレート変性量は1.25質量%だった。
[Production Example 2]
(Production of Modified Polypropylene 2 (mPP))
(a1) 100 parts by mass of polypropylene (Prime Polymer polypropylene grade J106G) and (b1) 0.25 parts by mass of 1,3-di(tert-butylperoxyisopropyl)benzene (NOF: Perbutyl P) were fed from the hopper port to the same twin-screw extruder as in Production Example 1, with the cylinder temperature set at 200 ° C. and the screw rotation speed set at 150 rpm, and melt-kneaded. (c1) 2.5 parts by mass of styrene and (d1) 2.5 parts by mass of glycidyl methacrylate were added from the middle of the cylinder. Thereafter, pellets of modified polyolefin resin were obtained by vacuum devolatilization from the vent port. The amount of modification was measured in the same manner as in Production Example 1, and the amount of glycidyl methacrylate modification of the modified polypropylene (mPP) was 1.25% by mass.

〔実施例1~5、及び比較例1~13〕
表1に記載の種類のポリオレフィン100質量部と、表1に記載の種類及び量の架橋剤とを、シリンダー温度230℃、スクリュー回転数150rpmに設定した二軸押出機(25mmφ、L/D=40、テクノベル製)にホッパー口から供給して溶融混錬して、ポリオレフィンと架橋剤とを含む組成物を得た。
[Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 13]
100 parts by mass of a polyolefin of the type shown in Table 1 and a crosslinking agent of the type and amount shown in Table 1 were fed from a hopper port to a twin-screw extruder (25 mmφ, L/D=40, manufactured by Technobel) set at a cylinder temperature of 230° C. and a screw rotation speed of 150 rpm, and melt-kneaded to obtain a composition containing a polyolefin and a crosslinking agent.

上記のようにして得られた組成物を230℃で溶融させ、溶融した組成物を140mm幅のTダイから概ね100μmの厚さで押出してフィルムを得た。 The composition obtained as described above was melted at 230°C, and the molten composition was extruded through a 140 mm wide T-die to a thickness of approximately 100 μm to obtain a film.

得られたフィルムに、加速電圧200kVで吸収線量400kGyの条件で電子線を照射して、架橋剤による架橋を行った。 The resulting film was irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 200 kV and an absorbed dose of 400 kGy to crosslink the film with the crosslinking agent.

架橋されたフィルムについて、以下の方法に従い、誘電特性(Dk(比誘電率)、Df(誘電正接))、及びリフロー耐熱性を評価した。これらの評価結果を表1に記す。
なお、フィルムを作製できなかったり、フィルムの強度が著しく低い場合には、誘電特性の評価を行わなかった。
The crosslinked film was evaluated for dielectric properties (Dk (dielectric constant), Df (dielectric loss tangent)) and reflow heat resistance according to the following methods. The evaluation results are shown in Table 1.
When a film could not be produced or the strength of the film was extremely low, the dielectric properties were not evaluated.

[誘電特性(Dk(比誘電率)、Df(誘電正接))]
測定装置として、空洞共振器摂動法複素誘電率評価装置を用い、下記周波数で得られた組成物の比誘電率及び誘電正接を測定した。
測定周波数:10GHz
測定条件:温度22℃~24℃、湿度45%~55%
測定試料:前記測定条件下で、24時間放置した試料を使用した。
[Dielectric properties (Dk (dielectric constant), Df (dielectric tangent)]
The relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained composition were measured at the following frequencies using a cavity resonator perturbation method complex dielectric constant evaluation device.
Measurement frequency: 10 GHz
Measurement conditions: Temperature 22°C to 24°C, humidity 45% to 55%
Measurement sample: A sample that had been left to stand for 24 hours under the above measurement conditions was used.

[リフロー耐熱試験]
銅張積層板としての耐熱性を評価するために、リフロー耐熱試験を行った。
フィルムの試料の両面を電解銅箔(CF-T49A-DS-HD2-12(福田金属箔粉工業(株)社製))で挟み、180℃で真空プレスを行い模擬的な銅張積層板(CCL)を作製した。
得られたCCLを、鉛フリーはんだの使用を想定した条件で高温リフロー炉(アントム社、UNI6116S)を通過させ、高温リフロー炉通過後のCCL試料を観察した。高温リフロー炉の通過条件は、ピーク温度288±3℃、通過時間60秒、通過サイクル数3である。
観察の結果に基づき、以下の基準に従いリフロー耐熱性を評価した。なお、リフロー耐熱性の評価を行えなかった場合について、以下のC又はD評価である。また、リフロー耐熱性についての合格の許容範囲は、下記のA評価である。
A:銅箔が剥離しないか、わずかに剥離し、フィルム形状が維持された。
B:銅箔が著しく剥離し銅箔表面に凹凸が生じ、フィルムにボイドが発生した。
C:銅箔が接着しなかったか、フィルムの強度が低すぎるためにCCLを作製できなかった。
D:フィルムの試料を成形できなかった。
[Reflow heat resistance test]
In order to evaluate the heat resistance of the copper-clad laminate, a reflow heat resistance test was carried out.
Both sides of the film sample were sandwiched between electrolytic copper foils (CF-T49A-DS-HD2-12 (manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Co., Ltd.)) and vacuum pressed at 180° C. to prepare a simulated copper-clad laminate (CCL).
The obtained CCL was passed through a high-temperature reflow furnace (UNI6116S, Antom) under conditions assuming the use of lead-free solder, and the CCL sample after passing through the high-temperature reflow furnace was observed. The conditions for passing through the high-temperature reflow furnace were a peak temperature of 288±3°C, a passing time of 60 seconds, and three passing cycles.
Based on the observation results, the reflow heat resistance was evaluated according to the following criteria. If the reflow heat resistance could not be evaluated, it was rated C or D. The acceptable range for passing the reflow heat resistance is the following A rating.
A: The copper foil did not peel off or peeled off slightly, and the film shape was maintained.
B: The copper foil was significantly peeled off, the copper foil surface was uneven, and voids were generated in the film.
C: The copper foil did not adhere or the strength of the film was too low to produce a CCL.
D: A film sample could not be molded.

表1中の略号は以下の通りである。
mTPX:製造例1で得た、グラフト変性ポリメチルペンテン
mPP:製造例2で得た、グラフト変性ポリプロピレン
TPX:未変性ポリメチルペンテン(三井化学製TPXグレードMX002)
PP:未変性ポリプロピレン(プライムポリマー製ポリプロピレングレードJ108M)
TAIC:トリアリルイソシアヌレート
TMPTMA:トリメチロールプロパントリメタクリレート

Figure 0007513467000001
The abbreviations in Table 1 are as follows.
mTPX: Graft-modified polymethylpentene obtained in Production Example 1 mPP: Graft-modified polypropylene obtained in Production Example 2 TPX: Unmodified polymethylpentene (TPX grade MX002, manufactured by Mitsui Chemicals)
PP: Unmodified polypropylene (Prime Polymer polypropylene grade J108M)
TAIC: Triallyl isocyanurate TMPTMA: Trimethylolpropane trimethacrylate
Figure 0007513467000001

実施例1~5より、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(A)と架橋剤(B)とを含むグラフト変性ポリメチルペンテン組成物は、良好にフィルム化できることが分かる。また、実施例1~5で得た極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(A)と架橋剤(B)とを含むグラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなるフィルムを架橋することで、低誘電特性に優れるフィルムを含み、リフロー耐熱性に優れる銅張積層板(CCL)を製造できることが分かる。
他方、比較例1~13によれば、未変性のポリオレフィンや、ポリメチルペンテン以外のポリオレフィンのグラフト変性体を用いる場合、成膜性が良好な組成物を得にくく、リフロー耐熱性に優れる銅張積層板(CCL)の製造が困難であることが分かる。
It is seen from Examples 1 to 5 that the graft-modified polymethylpentene composition containing the graft-modified polyolefin (A) having a polar group and the crosslinking agent (B) can be satisfactorily formed into a film. It is also seen that by crosslinking the film made of the graft-modified polymethylpentene composition containing the graft-modified polyolefin (A) having a polar group and the crosslinking agent (B) obtained in Examples 1 to 5, a copper-clad laminate (CCL) having excellent reflow heat resistance and including a film having excellent low dielectric properties can be produced.
On the other hand, according to Comparative Examples 1 to 13, when an unmodified polyolefin or a graft-modified product of a polyolefin other than polymethylpentene is used, it is difficult to obtain a composition having good film-forming properties, and it is difficult to produce a copper-clad laminate (CCL) having excellent reflow heat resistance.

Claims (8)

グラフト変性ポリメチルペンテン(A)と、架橋剤(B)とを含むグラフト変性ポリメチルペンテン組成物であって
前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)が、グラフト変性により極性基を導入されており、
前記架橋剤(B)が、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレート、及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる1種以上であり、
前記架橋剤(B)の含有量が、前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下であり、
前記グラフト変性ポリメチルペンテン組成物に含まれる樹脂成分の全質量に対する、前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の質量の割合が80質量%以上である、グラフト変性ポリメチルペンテン組成物。
A graft-modified polymethylpentene composition comprising a graft-modified polymethylpentene (A) and a crosslinking agent (B),
the graft-modified polymethylpentene (A) has a polar group introduced therein by graft modification,
The crosslinking agent (B) is at least one selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, trimethallyl isocyanurate, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate,
the content of the crosslinking agent (B) is 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the graft-modified polymethylpentene (A),
A graft-modified polymethylpentene composition, in which the proportion of the mass of the graft-modified polymethylpentene (A) relative to the total mass of resin components contained in the graft-modified polymethylpentene composition is 80 mass% or more.
前記架橋剤(B)の含有量が、前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)100質量部に対して、質量部以上20質量部以下である、請求項1に記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。 The graft-modified polymethylpentene composition according to claim 1 , wherein the content of the crosslinking agent (B) is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the graft-modified polymethylpentene (A). 前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)が、グリシジル(メタ)アクリレートと、スチレンとによってグラフト変性されている、請求項1又は2に記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。 The graft-modified polymethylpentene composition according to claim 1 or 2 , wherein the graft-modified polymethylpentene (A) is graft-modified with glycidyl (meth)acrylate and styrene. 前記グラフト変性ポリメチルペンテン(A)の融点が200℃以上である、請求項1~請求項のいずれか1項に記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物。 The graft-modified polymethylpentene composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the melting point of the graft-modified polymethylpentene (A) is 200°C or higher. 請求項1~のいずれか1項に記載のグラフト変性ポリメチルペンテン組成物からなる成形品。 A molded article comprising the graft-modified polymethylpentene composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項に記載の前記成形品に対して前記架橋剤(B)による架橋処理が施された、成形品。 A molded article, comprising the molded article according to claim 5 , which is subjected to a crosslinking treatment with the crosslinking agent (B). フィルムである、請求項又はに記載の成形品。 The molded article according to claim 5 or 6 , which is a film. フィルムである、請求項に記載の成形品を含む、銅張積層板。 A copper clad laminate comprising the molded article of claim 7 which is a film.
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