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JP7514740B2 - Processing device and method for manufacturing processed products - Google Patents
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Description

本発明は、加工装置及び加工品の製造方法の技術に関する。 The present invention relates to a technique for a processing device and a method for manufacturing a processed product.

特許文献1には、基板を支持するベースと、基板をベースに対して押さえつけるクランパーと、クランパーを昇降させるエアシリンダと、を備えた基板保持装置が開示されている。この基板保持装置では、エアシリンダを作動させることで、クランパーをベースに対して昇降させ、クランパーとベースとの間で基板を保持することができる。 Patent Document 1 discloses a substrate holding device that includes a base that supports the substrate, a clamper that presses the substrate against the base, and an air cylinder that raises and lowers the clamper. In this substrate holding device, the clamper can be raised and lowered relative to the base by operating the air cylinder, and the substrate can be held between the clamper and the base.

特開平7-33973号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-33973

しかしながら、特許文献1に記載されているような基板保持装置において、クランパーだけでなくベースも昇降させようとした場合、ベースを昇降させるためのアクチュエータ(エアシリンダ)を別途設ける必要がある。そのため、部品点数が増加し、装置の構造が複雑化するおそれや、コストが増加するおそれがある。 However, in a substrate holding device such as that described in Patent Document 1, if it is desired to raise and lower not only the clamper but also the base, it is necessary to provide a separate actuator (air cylinder) for raising and lowering the base. This increases the number of parts, which may complicate the structure of the device and increase costs.

本発明は以上の如き状況に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、ワークを保持するための2つの保持部を移動可能としながらも、構造の複雑化を抑制することが可能な加工装置及び加工品の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and the problem it aims to solve is to provide a processing device and a method for manufacturing a processed product that are capable of moving two holding parts for holding a workpiece while preventing the structure from becoming too complicated.

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、この課題を解決するため、本発明に係る加工装置は、ワークの下側に配置される第一保持部と、前記ワークの上側に配置される第二保持部と、前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟むように、前記第一保持部及び前記第二保持部を移動させる共通のアクチュエータと、前記第一保持部の下側への移動を規制する第一規制部と、前記第二保持部の下側への移動を規制する第二規制部と、を具備し、前記アクチュエータは、前記第一保持部の下側に固定され、前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟んでいる場合、前記第一規制部は、前記第一保持部の下側への移動は規制しておらず、かつ、前記第二規制部は、前記第二保持部の下側への移動を規制しており、前記アクチュエータは、前記ワークの保持を解除する場合、前記第一保持部から前記第二保持部を離し、前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟んでいる場合にて、前記アクチュエータが前記第一保持部から前記第二保持部を離したとき、前記第一規制部が前記第一保持部の下側への移動を規制するまで前記第一保持部が下降し、その後、前記第二保持部は上昇し、前記第二規制部の規制が解除される、ワーク保持機構と、前記ワーク保持機構により保持された前記ワークを加工する加工機構と、ロール状に巻かれた前記ワークを引き出して前記ワーク保持機構へと搬送すると共に、前記加工機構によって加工された前記ワークをロール状に巻き取る搬送機構と、を具備するものである。 The problem to be solved by the present invention is as described above, and in order to solve this problem, the processing device of the present invention comprises a first holding part arranged below a workpiece, a second holding part arranged above the workpiece, a common actuator that moves the first holding part and the second holding part so that the workpiece is sandwiched between the first holding part and the second holding part, a first regulating part that regulates downward movement of the first holding part, and a second regulating part that regulates downward movement of the second holding part, the actuator being fixed to the underside of the first holding part, and when the workpiece is sandwiched between the first holding part and the second holding part, the first regulating part does not regulate downward movement of the first holding part, and the second regulating part regulates downward movement of the second holding part. The actuator restricts downward movement of the workpiece, and when the actuator releases the hold of the workpiece, the actuator separates the second holding part from the first holding part, and when the workpiece is clamped between the first holding part and the second holding part, when the actuator separates the second holding part from the first holding part, the first holding part descends until the first restricting part restricts the downward movement of the first holding part, and then the second holding part rises and the restriction by the second restricting part is released.The actuator is provided with a work holding mechanism , a processing mechanism which processes the workpiece held by the work holding mechanism, and a transport mechanism which pulls out the workpiece wound in a roll and transports it to the work holding mechanism, and also winds up the workpiece processed by the processing mechanism into a roll .

また本発明に係る加工品の製造方法は、前記加工装置を用いて、前記ワークを加工するものである。 The manufacturing method of the processed product according to the present invention processes the workpiece using the processing device.

本発明によれば、構造の複雑化を抑制することができる。 The present invention makes it possible to prevent the structure from becoming complicated.

レーザ加工装置の全体的な構成を示す側面模式図。FIG. 2 is a schematic side view showing the overall configuration of the laser processing apparatus. 保持機構を示す正面断面図(左側はフィルムを保持していない状態、右側はフィルムを保持している状態)。A front cross-sectional view showing the holding mechanism (left side: when not holding a film, right side: when holding a film). 保持機構(特に下側保持部)を示す平面図。FIG. 4 is a plan view showing the holding mechanism (particularly the lower holding portion). 保持機構を示す側面図。FIG. ストッパ機構及びアクチュエータの構成を示す側面断面図。FIG. 4 is a side cross-sectional view showing the configuration of a stopper mechanism and an actuator. (a)フィルムを保持していない状態の保持機構を示す側面図。(b)上側保持部が下降した状態の保持機構を示す側面図。1A is a side view showing the holding mechanism when the film is not being held, and FIG. フィルムを保持している状態の保持機構を示す側面図。FIG. 4 is a side view showing the holding mechanism in a state where the film is being held. (a)複数の孔が形成されたフィルムを示す平面模式図。(b)レーザ光の軌跡を示す模式図。(c)フィルムに形成された孔の形状を示す模式図。1A is a schematic plan view showing a film having a plurality of holes formed therein, (b) a schematic diagram showing the trajectory of a laser beam, and (c) a schematic diagram showing the shape of holes formed in the film. (a)フィルムを挟む部分を示した平面模式図。(b)フィルムを挟む部分の変形例を示した平面模式図。(c)フィルムを挟む部分の変形例を示した平面模式図。1A is a schematic plan view showing a portion for sandwiching a film, FIG. 1B is a schematic plan view showing a modified example of the portion for sandwiching a film, and FIG. 1C is a schematic plan view showing a modified example of the portion for sandwiching a film.

以下で説明する本実施形態に係るレーザ加工装置1は、ワーク(加工対象物)であるフィルムFを加工するためのものである。まず、加工対象となるフィルムFについて説明する。 The laser processing device 1 according to the present embodiment described below is for processing a film F, which is a workpiece (object to be processed). First, the film F to be processed will be described.

本実施形態では、レーザ加工装置1による加工対象となるフィルムFとして、樹脂成形装置で用いられるリリースフィルムを想定している。このリリースフィルムとしては、例えばポリスチレン系フィルム、PET系フィルム、ポリメチルペンテン系フィルム等を用いることができる。リリースフィルムは、樹脂成形装置において樹脂が成形型に付着しないように、成形型の表面に吸着されて保持される。 In this embodiment, the film F to be processed by the laser processing device 1 is assumed to be a release film used in a resin molding device. For example, a polystyrene film, a PET film, a polymethylpentene film, etc. can be used as this release film. The release film is adsorbed and held on the surface of the mold in the resin molding device so that the resin does not adhere to the mold.

ここで、リリースフィルムを吸着保持した成形型に、さらに樹脂成形の対象となるウェーハ等を吸着保持するためには、リリースフィルムに空気が通過できる程度の孔を形成する必要がある。本実施形態に係るレーザ加工装置1は、このようなリリースフィルムを得るために、フィルムFに複数の孔F1(図8参照)を形成する(孔開け加工を行う)ものである。 Here, in order to adsorb and hold the wafer or the like that is to be resin molded onto the mold that adsorbs and holds the release film, it is necessary to form holes in the release film large enough to allow air to pass through. In order to obtain such a release film, the laser processing device 1 according to this embodiment forms multiple holes F1 (see FIG. 8) in the film F (performs hole drilling).

<レーザ加工装置1の全体構成>
次に、図1を用いて、本実施形態に係るレーザ加工装置1の構成について説明する。なお以下では、図中に示した矢印U、矢印D、矢印L、矢印R、矢印F及び矢印Bで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、左方向、右方向、前方向及び後方向と定義して説明を行う。
<Overall configuration of laser processing device 1>
Next, the configuration of the laser processing device 1 according to this embodiment will be described with reference to Fig. 1. In the following description, the directions indicated by the arrows U, D, L, R, F, and B shown in the figure are defined as the upward direction, downward direction, leftward direction, rightward direction, forward direction, and backward direction, respectively.

レーザ加工装置1は、主として巻出し機構10、巻取り機構20、保持機構100、上側集塵機構30、下側集塵機構40及びレーザ機構50を具備する。 The laser processing device 1 mainly comprises an unwinding mechanism 10, a winding mechanism 20, a holding mechanism 100, an upper dust collection mechanism 30, a lower dust collection mechanism 40, and a laser mechanism 50.

<巻出し機構10>
巻出し機構10は、ロール状に巻かれたフィルムFを後述する保持機構100へと供給するものである。巻出し機構10は、主として巻出しローラ11、ガイドローラ12及びイオナイザ13を具備する。
<Unwinding mechanism 10>
The unwinding mechanism 10 supplies the film F wound in a roll to a holding mechanism 100 described below. The unwinding mechanism 10 mainly includes an unwinding roller 11, a guide roller 12, and an ionizer 13.

巻出しローラ11は、ロール状に巻かれたフィルムFを支持するものである。巻出しローラ11は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。巻出しローラ11には、加工される前のフィルムFが巻き付けられる。巻出しローラ11には図示せぬ駆動源(モータ等)が設けられる。前記駆動源によって巻出しローラ11に適宜の回転力を付与することで、巻出しローラ11から引き出されたフィルムFに対して適宜の張力(テンション)を付与することができる。 The unwinding roller 11 supports the film F wound into a roll. The unwinding roller 11 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis oriented horizontally (in the depth direction of the paper in FIG. 1). The unprocessed film F is wound around the unwinding roller 11. A drive source (motor, etc.) (not shown) is provided on the unwinding roller 11. By applying an appropriate rotational force to the unwinding roller 11 by the drive source, an appropriate tension can be applied to the film F pulled out from the unwinding roller 11.

ガイドローラ12は、巻出しローラ11から引き出されたフィルムFを保持機構100へと案内するものである。ガイドローラ12は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。ガイドローラ12は、3つ設けられる。巻出しローラ11から引き出されたフィルムFは、3つのガイドローラ12に順次巻き掛けられる。フィルムFは、3つのガイドローラ12によって適宜の張力を付与されると共に、適宜の方向へと向きを変えながら案内される。 The guide rollers 12 guide the film F pulled out from the unwinding roller 11 to the holding mechanism 100. The guide rollers 12 are cylindrical and arranged with their axis oriented horizontally (into the depth direction of the paper in FIG. 1). There are three guide rollers 12. The film F pulled out from the unwinding roller 11 is wound around the three guide rollers 12 in sequence. The three guide rollers 12 provide the film F with an appropriate tension and guide it while changing its direction to an appropriate direction.

イオナイザ13は、フィルムFの静電気を除去するものである。イオナイザ13は、フィルムFの静電気をイオンで中和することができる。イオナイザ13は、ガイドローラ12によって案内されるフィルムFの通過経路の中途部に配置される。 The ionizer 13 removes static electricity from the film F. The ionizer 13 can neutralize the static electricity from the film F with ions. The ionizer 13 is positioned midway along the path through which the film F passes, guided by the guide roller 12.

<巻取り機構20>
巻取り機構20は、レーザ機構50による加工が終了したフィルムFを巻取るものである。巻取り機構20は、主として巻取りローラ21、ガイドローラ22、送りローラ23、粘着ローラ24及びイオナイザ25を具備する。
<Winding mechanism 20>
The winding mechanism 20 winds up the film F after the processing by the laser mechanism 50. The winding mechanism 20 mainly includes a winding roller 21, a guide roller 22, a feed roller 23, an adhesive roller 24, and an ionizer 25.

巻取りローラ21は、フィルムFをロール状に巻き取るものである。巻取りローラ21は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。巻取りローラ21には、加工が終了したフィルムFが巻き付けられる。巻取りローラ21には図示せぬ駆動源(モータ等)が設けられる。前記駆動源によって巻取りローラ21に適宜の回転力を付与することで、巻取りローラ21に巻き取られるフィルムFに対して適宜の張力を付与することができる。 The winding roller 21 winds up the film F into a roll. The winding roller 21 is formed in a cylindrical shape and is positioned with its axis oriented horizontally (in the depth direction of the paper in FIG. 1). The film F that has been processed is wound around the winding roller 21. A drive source (motor, etc.) (not shown) is provided on the winding roller 21. By applying an appropriate rotational force to the winding roller 21 by the drive source, an appropriate tension can be applied to the film F being wound around the winding roller 21.

ガイドローラ22は、レーザ機構50による加工が終了した(保持機構100を通過した)フィルムFを巻取りローラ21へと案内するものである。ガイドローラ22は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。ガイドローラ22は、3つ設けられる。レーザ機構50による加工が終了したフィルムFは、3つのガイドローラ22及び後述する送りローラ23に順次巻き掛けられる。フィルムFは、3つのガイドローラ22及び後述する送りローラ23によって適宜の張力を付与されると共に、適宜の方向へと向きを変えながら、巻取りローラ21へと案内される。 The guide rollers 22 guide the film F that has been processed by the laser mechanism 50 (that has passed through the holding mechanism 100) to the winding roller 21. The guide rollers 22 are cylindrical and are arranged with their axis oriented horizontally (into the depth direction of the paper in FIG. 1). There are three guide rollers 22. The film F that has been processed by the laser mechanism 50 is wound in sequence around the three guide rollers 22 and the feed roller 23, which will be described later. The film F is given an appropriate tension by the three guide rollers 22 and the feed roller 23, which will be described later, and is guided to the winding roller 21 while being turned in an appropriate direction.

送りローラ23は、フィルムFを巻出しローラ11から巻取りローラ21に向かうように送るものである。送りローラ23は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。送りローラ23には、巻き掛けられたフィルムFが送りローラ23に対して滑らないように、送りローラ23との間でフィルムFを挟みこむ滑り防止ローラ23aが設けられる。滑り防止ローラ23aは、例えばゴム等の弾性を有する素材により形成される。送りローラ23には図示せぬ駆動源(モータ等)が設けられる。前記駆動源によって送りローラ23を回転させることで、フィルムFを巻出しローラ11から巻取りローラ21に向かって送ることができる。 The feed roller 23 feeds the film F from the unwind roller 11 toward the take-up roller 21. The feed roller 23 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis oriented horizontally (in the direction of the depth of the paper in FIG. 1). The feed roller 23 is provided with an anti-slip roller 23a that sandwiches the film F between the feed roller 23 and the feed roller 23 to prevent the wound film F from slipping relative to the feed roller 23. The anti-slip roller 23a is formed of an elastic material such as rubber. The feed roller 23 is provided with a drive source (motor, etc.) not shown. By rotating the feed roller 23 with the drive source, the film F can be fed from the unwind roller 11 toward the take-up roller 21.

粘着ローラ24は、加工が終了したフィルムFに付着したゴミや加工屑(コンタミ)を除去するものである。粘着ローラ24は円柱状に形成され、軸線を水平(図1の紙面奥行き方向)に向けて配置される。粘着ローラ24は、2つ設けられる。粘着ローラ24は、ガイドローラ22及び送りローラ23との間でフィルムFを挟みこむようにそれぞれ配置される。 The adhesive roller 24 is used to remove dirt and processing debris (contamination) that has adhered to the film F after processing. The adhesive roller 24 is formed in a cylindrical shape and is positioned with its axis oriented horizontally (in the depth direction of the paper in Figure 1). Two adhesive rollers 24 are provided. Each adhesive roller 24 is positioned so as to sandwich the film F between the guide roller 22 and the feed roller 23.

イオナイザ25は、フィルムFの静電気を除去するものである。イオナイザ25は、フィルムFの静電気をイオンで中和することができる。イオナイザ25は、ガイドローラ22及び送りローラ23によって案内されるフィルムFの通過経路の中途部に配置される。 The ionizer 25 removes static electricity from the film F. The ionizer 25 can neutralize the static electricity from the film F with ions. The ionizer 25 is positioned midway along the path of the film F, which is guided by the guide roller 22 and the feed roller 23.

なお、フィルムFの静電気を除去するための機器は、上述のイオナイザ13及びイオナイザ25に限るものではない。例えば、フィルムFの表面に接触させることで静電気を除去することが可能な除電ブラシ等を用いることも可能である。 The device for removing static electricity from the film F is not limited to the above-mentioned ionizer 13 and ionizer 25. For example, it is also possible to use a static elimination brush or the like that can remove static electricity by contacting the surface of the film F.

<保持機構100>
保持機構100は、フィルムFの加工を行う際に、フィルムFを挟んで保持するものである。保持機構100は、下側保持部120と上側保持部130によってフィルムFを上下から挟むことで、フィルムFを保持することができる。なお、保持機構100の具体的な構成については後述する。
<Retention mechanism 100>
The holding mechanism 100 sandwiches and holds the film F when processing the film F. The holding mechanism 100 can hold the film F by sandwiching the film F from above and below using a lower holding part 120 and an upper holding part 130. The specific configuration of the holding mechanism 100 will be described later.

<上側集塵機構30>
上側集塵機構30は、フィルムFを加工する際に発生するヒュームや粒子状物質等を回収するものである。上側集塵機構30は、主として上側筐体31及び上側ダクト32を具備する。
<Upper dust collecting mechanism 30>
The upper dust collection mechanism 30 collects fumes, particulate matter, and the like that are generated when the film F is processed. The upper dust collection mechanism 30 mainly includes an upper housing 31 and an upper duct 32.

上側筐体31は、保持機構100(より具体的には、後述する上側保持部130の上面)を上方から覆うものである。上側筐体31は、中空の箱状に形成される。上側筐体31は、保持機構100のすぐ上方に配置される。上側筐体31の下面(上側保持部130と対向する部分)は開口されている。 The upper housing 31 covers the holding mechanism 100 (more specifically, the upper surface of the upper holding part 130 described later) from above. The upper housing 31 is formed in a hollow box shape. The upper housing 31 is disposed immediately above the holding mechanism 100. The lower surface of the upper housing 31 (the portion facing the upper holding part 130) is open.

上側ダクト32は、上側筐体31の内部と外部とを連通するものである。上側ダクト32は、筒状に形成される。上側ダクト32は、上側筐体31の上部に設けられる。上側ダクト32は、図示せぬファンに接続される。前記ファンを駆動させることで、上側ダクト32を介して上側筐体31内の空気を排出することができる。 The upper duct 32 connects the inside and outside of the upper housing 31. The upper duct 32 is formed in a cylindrical shape. The upper duct 32 is provided at the top of the upper housing 31. The upper duct 32 is connected to a fan (not shown). By driving the fan, the air inside the upper housing 31 can be exhausted through the upper duct 32.

<下側集塵機構40>
下側集塵機構40は、フィルムFを加工する際に発生するヒュームや粒子状物質等を回収するものである。下側集塵機構40は、主として下側筐体41及び下側ダクト42を具備する。
<Lower dust collection mechanism 40>
The lower dust collection mechanism 40 collects fumes, particulate matter, and the like that are generated when the film F is processed. The lower dust collection mechanism 40 mainly includes a lower housing 41 and a lower duct 42.

下側筐体41は、保持機構100(より具体的には、後述する下側保持部120の下面)を下方から覆うものである。下側筐体41は、中空の箱状に形成される。下側筐体41は、保持機構100のすぐ下方に配置される。下側筐体41の上面(下側保持部120と対向する部分)は開口されている。下側筐体41は、下側保持部120に固定される。 The lower housing 41 covers the holding mechanism 100 (more specifically, the lower surface of the lower holding part 120 described below) from below. The lower housing 41 is formed in a hollow box shape. The lower housing 41 is disposed immediately below the holding mechanism 100. The upper surface of the lower housing 41 (the portion facing the lower holding part 120) is open. The lower housing 41 is fixed to the lower holding part 120.

下側ダクト42は、下側筐体41の内部と外部とを連通するものである。下側ダクト42は、筒状に形成される。下側ダクト42は、下側筐体41の底部に設けられる。下側ダクト42は、図示せぬファンに接続される。前記ファンを駆動させることで、下側ダクト42を介して下側筐体41内の空気を排出することができる。 The lower duct 42 connects the inside and outside of the lower housing 41. The lower duct 42 is formed in a cylindrical shape. The lower duct 42 is provided at the bottom of the lower housing 41. The lower duct 42 is connected to a fan (not shown). By driving the fan, air inside the lower housing 41 can be exhausted through the lower duct 42.

<レーザ機構50>
レーザ機構50は、レーザ光を用いてフィルムFを加工するものである。レーザ機構50は、主として加工ヘッド51を具備する。
<Laser mechanism 50>
The laser mechanism 50 uses laser light to process the film F. The laser mechanism 50 mainly includes a processing head 51.

加工ヘッド51は、レーザ光を照射するものである。加工ヘッド51は、上側筐体31の上部に設けられる。加工ヘッド51は、図示せぬ発振装置により発振されたレーザ光を下方に向かって照射することができる。加工ヘッド51は、レーザ光の照射方向を任意に変更することができる。加工ヘッド51から照射されたレーザ光は、上側筐体31の内部を介して保持機構100により保持されたフィルムFへと照射される。このようにレーザ光をフィルムFに照射することで、フィルムFを加工することができる。 The processing head 51 irradiates laser light. The processing head 51 is provided on the top of the upper housing 31. The processing head 51 can irradiate laser light oscillated by an oscillator (not shown) downward. The processing head 51 can arbitrarily change the direction of laser light irradiation. The laser light irradiated from the processing head 51 is irradiated onto the film F held by the holding mechanism 100 through the inside of the upper housing 31. By irradiating the film F with laser light in this manner, the film F can be processed.

レーザ機構50で用いるレーザとしては、例えばUVレーザ、COレーザ等、種々のレーザを用いることが可能である。 The laser used in the laser mechanism 50 can be various lasers such as a UV laser or a CO2 laser.

なお、上述のレーザ加工装置1の各部の動作は、CPU等の演算処理部、RAMやROM等の記憶部等を具備する制御部(不図示)によって制御される。 The operation of each part of the laser processing device 1 described above is controlled by a control unit (not shown) that includes an arithmetic processing unit such as a CPU, a memory unit such as a RAM or a ROM, etc.

<レーザ加工装置1による加工方法>
次に、上述の如く構成されたレーザ加工装置1を用いてフィルムFを加工する方法(孔F1の開いたフィルムFの製造方法)について説明する。
<Processing method using laser processing device 1>
Next, a method for processing the film F using the laser processing apparatus 1 configured as described above (a method for manufacturing the film F having the holes F1) will be described.

送りローラ23が側面視(図1参照)時計回りに回転すると、ガイドローラ12等により案内されながら、巻出しローラ11から巻取りローラ21に向かってフィルムFが移動する。具体的には、巻出しローラ11から引き出されたフィルムFは、保持機構100の下側保持部120及び上側保持部130の間を右方に向かって通過し、巻取りローラ21に巻き取られる。 When the feed roller 23 rotates clockwise in a side view (see FIG. 1), the film F moves from the unwind roller 11 to the take-up roller 21 while being guided by the guide roller 12 etc. Specifically, the film F pulled out from the unwind roller 11 passes to the right between the lower holding part 120 and the upper holding part 130 of the holding mechanism 100 and is wound up by the take-up roller 21.

この際、巻出しローラ11から引き出されたフィルムFは、保持機構100に到達する前に、イオナイザ13によって静電気が除去される。フィルムFの加工すべき部位(後述する加工対象範囲P(図3参照))が保持機構100に到達すると、送りローラ23が停止され、フィルムFの移動が停止される。その後、保持機構100(下側保持部120と上側保持部130)によってフィルムFが上下から挟まれて保持される。このようにフィルムFを保持することで、振動や空気の影響によってフィルムFが揺れたり皺が生じたりするのを防止することができる。
At this time, static electricity is removed from the film F pulled out from the unwinding roller 11 by the ionizer 13 before it reaches the holding mechanism 100. When the portion of the film F to be processed (a processing target range P (see FIG. 3) described below) reaches the holding mechanism 100, the feed roller 23 is stopped and the movement of the film F is halted. The film F is then sandwiched and held from above and below by the holding mechanism 100 (the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130). Holding the film F in this manner makes it possible to prevent the film F from shaking or wrinkling due to the effects of vibration or air.

保持機構100によってフィルムFが保持された状態で、上側集塵機構30及び下側集塵機構40が作動され、レーザ機構50によるフィルムFの孔開け加工が行われる。これによって、ヒューム等を回収しながらフィルムFに複数の孔F1を形成することができる。 With the film F held by the holding mechanism 100, the upper dust collection mechanism 30 and the lower dust collection mechanism 40 are operated, and the laser mechanism 50 performs hole drilling on the film F. This allows multiple holes F1 to be formed in the film F while collecting fumes, etc.

保持機構100によって保持された部位の加工が終了すると、下側保持部120と上側保持部130がフィルムFから離れるように上下に移動し、フィルムFの保持が解除される。この状態で再度送りローラ23が回転し、フィルムFが巻取りローラ21に向かって移動する。 When the processing of the area held by the holding mechanism 100 is completed, the lower holding part 120 and the upper holding part 130 move up and down so as to move away from the film F, and the film F is released from its hold. In this state, the feed roller 23 rotates again, and the film F moves toward the take-up roller 21.

レーザ機構50により加工されたフィルムFは、巻取りローラ21に到達する前に、イオナイザ25によって静電気が除去されると共に、粘着ローラ24によってコンタミが除去される。その後、フィルムFは巻取りローラ21に巻き取られる。 Before the film F processed by the laser mechanism 50 reaches the winding roller 21, static electricity is removed by the ionizer 25 and contamination is removed by the adhesive roller 24. The film F is then wound onto the winding roller 21.

このようなフィルムFの一定距離の移動と、レーザ機構50による加工を繰り返し行うことで、複数の孔F1が形成されたロール状のフィルムFを製造することができる。 By repeatedly moving the film F a fixed distance and processing it with the laser mechanism 50, a roll of film F with multiple holes F1 formed therein can be manufactured.

<保持機構100の具体的構成>
次に、図2から図5を用いて、保持機構100の構成について説明する。
<Specific Configuration of Retention Mechanism 100>
Next, the configuration of the holding mechanism 100 will be described with reference to FIGS.

上述の如く、保持機構100は、フィルムFの加工を行う際に、フィルムFを挟んで保持するものである。保持機構100は、主としてベース部110、下側保持部120、上側保持部130、上側ストッパ機構140、下側ストッパ機構150及びアクチュエータ160を具備する。 As described above, the holding mechanism 100 clamps and holds the film F when the film F is processed. The holding mechanism 100 mainly comprises a base portion 110, a lower holding portion 120, an upper holding portion 130, an upper stopper mechanism 140, a lower stopper mechanism 150, and an actuator 160.

図2に示すベース部110は、保持機構100を構成する各部材(後述する上側保持部130等)を支持するものである。ベース部110は直方体状に形成され、床面に載置される。 The base portion 110 shown in FIG. 2 supports each member (such as the upper holding portion 130 described below) that constitutes the holding mechanism 100. The base portion 110 is formed in a rectangular parallelepiped shape and is placed on the floor surface.

図2から図4に示す下側保持部120は、フィルムFの下面に接触可能な部材である。下側保持部120は、平面視矩形の枠状に形成される。具体的には、下側保持部120は、平面視矩形板状の部材の中央部分に、矩形状の開口部121を設けることにより形成される。開口部121の前後幅は、フィルムFの前後幅より若干小さく形成される。 The lower holding portion 120 shown in Figures 2 to 4 is a member that can contact the lower surface of the film F. The lower holding portion 120 is formed in a rectangular frame shape when viewed from above. Specifically, the lower holding portion 120 is formed by providing a rectangular opening 121 in the center of a member that is a rectangular plate shape when viewed from above. The front-to-rear width of the opening 121 is formed to be slightly smaller than the front-to-rear width of the film F.

下側保持部120の上面には、スポンジ122が設けられる。スポンジ122は、弾性を有する部材である。スポンジ122は、開口部121を全周に亘って囲むように配置される。これによってスポンジ122は、平面視において矩形枠状に配置される。 A sponge 122 is provided on the upper surface of the lower holding portion 120. The sponge 122 is an elastic member. The sponge 122 is arranged so as to surround the entire circumference of the opening 121. As a result, the sponge 122 is arranged in the shape of a rectangular frame in a plan view.

図2及び図4に示す上側保持部130は、フィルムFの上面に接触可能な部材である。上側保持部130は、概ね下側保持部120と同様の形状(平面視矩形の枠状)に形成される。すなわち、上側保持部130は、平面視矩形板状の部材の中央部分に、矩形状の開口部131を設けることにより形成される。開口部131は、下側保持部120の開口部121よりも一回り小さく形成される。具体的には、開口部131の前後幅及び左右幅は、それぞれ開口部121の前後幅及び左右幅よりも若干小さく形成される(図2の拡大部分参照)。 The upper holding portion 130 shown in Figures 2 and 4 is a member that can contact the upper surface of the film F. The upper holding portion 130 is formed in a shape (rectangular frame shape in plan view) that is generally the same as the lower holding portion 120. That is, the upper holding portion 130 is formed by providing a rectangular opening 131 in the center of a member that is rectangular plate-like in plan view. The opening 131 is formed to be slightly smaller than the opening 121 of the lower holding portion 120. Specifically, the front-to-back width and left-to-right width of the opening 131 are formed slightly smaller than the front-to-back width and left-to-right width of the opening 121, respectively (see the enlarged portion in Figure 2).

上側保持部130は、下側保持部120の上方に配置される。上側保持部130は、外形が、平面視において下側保持部120の外形と一致するように配置される。このように、上側保持部130は下側保持部120と上下に対向するように配置される。 The upper holding part 130 is disposed above the lower holding part 120. The upper holding part 130 is disposed so that its outer shape matches the outer shape of the lower holding part 120 in a plan view. In this way, the upper holding part 130 is disposed so as to face the lower holding part 120 vertically.

図2から図5に示す上側ストッパ機構140は、下側保持部120及び上側保持部130を上下に案内すると共に、上側保持部130の下方への移動を所定の位置で規制するものである。図5に示すように、上側ストッパ機構140は、主として下側ブシュ141、上側ブシュ142、可動軸143及びストッパ144を具備する。 The upper stopper mechanism 140 shown in Figures 2 to 5 guides the lower holding part 120 and the upper holding part 130 up and down, and regulates the downward movement of the upper holding part 130 at a predetermined position. As shown in Figure 5, the upper stopper mechanism 140 mainly comprises a lower bushing 141, an upper bushing 142, a movable shaft 143, and a stopper 144.

下側ブシュ141は、ベース部110に固定されて、後述する可動軸143を案内するものである。下側ブシュ141は円筒状に形成され、軸線を垂直方法に向けて配置される。下側ブシュ141の下部は、ベース部110を上下に貫通するように形成された孔部111に挿入された状態で固定される。 The lower bushing 141 is fixed to the base portion 110 and guides the movable shaft 143 described below. The lower bushing 141 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis facing vertically. The lower part of the lower bushing 141 is fixed in a state where it is inserted into a hole 111 formed to penetrate the base portion 110 from top to bottom.

上側ブシュ142は、下側保持部120に固定されて、後述する可動軸143を案内するものである。上側ブシュ142は円筒状に形成され、軸線を垂直方法に向けて配置される。上側ブシュ142は、下側ブシュ141と同軸上に配置される。上側ブシュ142は、下側保持部120を上下に貫通するように形成された孔部123に挿入された状態で固定される。 The upper bushing 142 is fixed to the lower holding part 120 and guides the movable shaft 143 described below. The upper bushing 142 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis facing vertically. The upper bushing 142 is arranged coaxially with the lower bushing 141. The upper bushing 142 is fixed in a state where it is inserted into a hole 123 formed so as to penetrate the lower holding part 120 from top to bottom.

可動軸143は、下側保持部120及び上側保持部130を上下に案内するものである。可動軸143は円柱状に形成され、軸線を垂直方向に向けて配置される。可動軸143は、下側ブシュ141及び上側ブシュ142に挿入される。可動軸143は、下側ブシュ141及び上側ブシュ142の軸線方向に沿って移動することができる。可動軸143の上端部は、上側保持部130に固定される。 The movable shaft 143 guides the lower holding part 120 and the upper holding part 130 up and down. The movable shaft 143 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis facing vertically. The movable shaft 143 is inserted into the lower bush 141 and the upper bush 142. The movable shaft 143 can move along the axial direction of the lower bush 141 and the upper bush 142. The upper end of the movable shaft 143 is fixed to the upper holding part 130.

ストッパ144は、可動軸143の下方への移動を所定の位置で規制するものである。ストッパ144は、上下方向において下側ブシュ141と上側ブシュ142の間に配置される。ストッパ144は、可動軸143に外側から嵌め合わされることで、可動軸143に固定される。これによってストッパ144は、可動軸143の外周面から可動軸143の径方向外側に突出するように配置される。 The stopper 144 restricts the downward movement of the movable shaft 143 at a predetermined position. The stopper 144 is disposed between the lower bush 141 and the upper bush 142 in the up-down direction. The stopper 144 is fixed to the movable shaft 143 by being fitted into the movable shaft 143 from the outside. As a result, the stopper 144 is disposed so as to protrude radially outward from the outer circumferential surface of the movable shaft 143.

このように構成された上側ストッパ機構140は、図3に示すように、平面視矩形状に形成された下側保持部120の4つの角部(四隅)にそれぞれ設けられる。 The upper stopper mechanism 140 configured in this manner is provided at each of the four corners of the lower holding part 120, which is rectangular in plan view, as shown in FIG. 3.

図2から図5に示す下側ストッパ機構150は、下側保持部120の下方への移動を所定の位置で規制するものである。図5に示すように、下側ストッパ機構150は、主として固定軸151及びストッパ152を具備する。 The lower stopper mechanism 150 shown in Figures 2 to 5 restricts the downward movement of the lower holding part 120 at a predetermined position. As shown in Figure 5, the lower stopper mechanism 150 mainly comprises a fixed shaft 151 and a stopper 152.

固定軸151は、後述するストッパ152と接触するものである。固定軸151は円柱状に形成され、軸線を垂直方向に向けて配置される。固定軸151の下端部は、ベース部110の上面に固定される。固定軸151は、ベース部110から上方に向かって突出するように配置される。 The fixed shaft 151 comes into contact with the stopper 152, which will be described later. The fixed shaft 151 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis oriented vertically. The lower end of the fixed shaft 151 is fixed to the upper surface of the base part 110. The fixed shaft 151 is arranged so as to protrude upward from the base part 110.

ストッパ152は、下側保持部120の下方への移動を所定の位置で規制するものである。ストッパ152は円柱状に形成され、軸線を垂直方向に向けて配置される。ストッパ152は、固定軸151と同軸上に配置される。ストッパ152は、下側保持部120の下面に固定される。ストッパ152は、下側保持部120から下方に向かって突出するように配置される。 The stopper 152 restricts the downward movement of the lower holding part 120 at a predetermined position. The stopper 152 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis oriented vertically. The stopper 152 is arranged coaxially with the fixed shaft 151. The stopper 152 is fixed to the underside of the lower holding part 120. The stopper 152 is arranged so as to protrude downward from the lower holding part 120.

このように構成された下側ストッパ機構150は、図3に示すように、平面視矩形状に形成された下側保持部120の4つの角部(四隅)にそれぞれ設けられる。 The lower stopper mechanism 150 configured in this manner is provided at each of the four corners of the lower holding portion 120, which is rectangular in plan view, as shown in FIG. 3.

図2から図5に示すアクチュエータ160は、下側保持部120及び上側保持部130を上下に移動させるものである。アクチュエータ160は、エアシリンダにより構成される。図5に示すように、アクチュエータ160は、主としてシリンダ本体161及びロッド162を具備する。 The actuator 160 shown in Figures 2 to 5 moves the lower holding part 120 and the upper holding part 130 up and down. The actuator 160 is composed of an air cylinder. As shown in Figure 5, the actuator 160 mainly comprises a cylinder body 161 and a rod 162.

シリンダ本体161は、後述するロッド162を伸縮可能に支持するものである。シリンダ本体161は、下側保持部120の下面に固定される。 The cylinder body 161 supports the rod 162, which will be described later, in an extendable manner. The cylinder body 161 is fixed to the lower surface of the lower holding part 120.

ロッド162は、シリンダ本体161に対して摺動(伸縮)可能なものである。ロッド162は円柱状に形成され、軸線を垂直方向に向けて配置される。ロッド162は、シリンダ本体161から上方に突出するように配置される。ロッド162は、下側保持部120を上下に貫通するように形成された孔部124に挿入され、下側保持部120よりも上方に突出するように配置される。ロッド162の上端部は、上側保持部130に固定される。シリンダ本体161にエアを適宜供給することによって、ロッド162をシリンダ本体161に対して上下に摺動させることができる。なお、ロッド162は必ずしも上側保持部130に固定する必要はなく、例えばロッド162の上端を上側保持部130に固定することなく、下方から接触させた状態とすることも可能である。 The rod 162 is slidable (extendable) relative to the cylinder body 161. The rod 162 is formed in a cylindrical shape and is arranged with its axis facing vertically. The rod 162 is arranged so as to protrude upward from the cylinder body 161. The rod 162 is inserted into a hole 124 formed so as to penetrate the lower holding part 120 from top to bottom, and is arranged so as to protrude upward from the lower holding part 120. The upper end of the rod 162 is fixed to the upper holding part 130. By appropriately supplying air to the cylinder body 161, the rod 162 can be slid up and down relative to the cylinder body 161. Note that the rod 162 does not necessarily need to be fixed to the upper holding part 130. For example, it is also possible to have the upper end of the rod 162 in contact with the upper holding part 130 from below without fixing it to the upper holding part 130.

このように下側保持部120に固定されて一方向に伸縮するロッド162を有するアクチュエータ160を用いて、上側保持部130を下側保持部120に対して近づく方向又は離れる方向に相対的に移動させることができる。またこのアクチュエータ160の動作によって、下側保持部120及び上側保持部130をそれぞれ上下に移動させることができる。なお、アクチュエータ160を用いた動作の詳細については後述する。 In this way, the actuator 160 having a rod 162 fixed to the lower holding part 120 and extending in one direction can be used to move the upper holding part 130 relatively toward or away from the lower holding part 120. Furthermore, the operation of this actuator 160 can move the lower holding part 120 and the upper holding part 130 up and down, respectively. Details of the operation using the actuator 160 will be described later.

このように構成されたアクチュエータ160は、図3に示すように、平面視矩形状に形成された下側保持部120の1組の対角部(右前及び左後の角部)にそれぞれ設けられる。 The actuators 160 configured in this manner are provided at a pair of diagonal corners (front right and rear left corners) of the lower holding portion 120, which is rectangular in plan view, as shown in FIG. 3.

このようにして、下側保持部120の1組の対角部(右前及び左後の角部)には、それぞれ上側ストッパ機構140、下側ストッパ機構150及びアクチュエータ160が配置される。この対角部に配置された上側ストッパ機構140、下側ストッパ機構150及びアクチュエータ160は、互いに近づくように前後に並んで配置される。また下側保持部120の他方の1組の対角部(左前及び右後の角部)には、それぞれ上側ストッパ機構140及び下側ストッパ機構150が配置される。この対角部に配置された上側ストッパ機構140及び下側ストッパ機構150は、互いに近づくように前後に並んで配置される。 In this way, the upper stopper mechanism 140, the lower stopper mechanism 150, and the actuator 160 are disposed at one set of diagonal corners (front right and rear left corners) of the lower holding part 120. The upper stopper mechanism 140, the lower stopper mechanism 150, and the actuator 160 disposed at these diagonal corners are disposed in a line up in the front and rear so as to approach each other. The upper stopper mechanism 140 and the lower stopper mechanism 150 are disposed at the other set of diagonal corners (front left and rear right corners) of the lower holding part 120. The upper stopper mechanism 140 and the lower stopper mechanism 150 disposed at these diagonal corners are disposed in a line up in the front and rear so as to approach each other.

<保持機構100の動作>
このように構成された保持機構100は、前述のように下側保持部120と上側保持部130によってフィルムFを上下から挟んで保持することができる。以下では図2、図3、図6及び図7を用いて保持機構100の動作について説明する。
<Operation of holding mechanism 100>
As described above, the holding mechanism 100 configured in this manner can hold the film F by sandwiching it from above and below with the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130. The operation of the holding mechanism 100 will be described below with reference to Figures 2, 3, 6 and 7.

まず、保持機構100によってフィルムFを挟んで保持する場合の動作について説明する。なお、図6及び図7では、フィルムFを挟む場合に各部が動く様子を二点鎖線で示している。 First, the operation of the holding mechanism 100 when it clamps and holds the film F will be described. Note that in Figures 6 and 7, the two-dot chain lines show how each part moves when the film F is clamped.

図6(a)には、保持機構100がフィルムFを保持していない状態を示している。この状態では、アクチュエータ160のロッド162が伸長し、下側保持部120及び上側保持部130はフィルムFから上下にそれぞれ離れている。 Figure 6 (a) shows a state in which the holding mechanism 100 is not holding the film F. In this state, the rod 162 of the actuator 160 is extended, and the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 are separated from the film F above and below.

図6(a)に示す状態からアクチュエータ160のロッド162を収縮させると、図6(b)に示すように、ロッド162と共に上側保持部130が下方へと移動する。これによって上側保持部130がフィルムFに上方から近づく。 When the rod 162 of the actuator 160 is contracted from the state shown in FIG. 6(a), the upper holding part 130 moves downward together with the rod 162, as shown in FIG. 6(b). This causes the upper holding part 130 to approach the film F from above.

また、上側保持部130と共に可動軸143も下方へと移動する。可動軸143が所定の位置まで下方へと移動すると、可動軸143に固定されたストッパ144が下側ブシュ141と接触する。これによって、上側保持部130の下方への移動が規制される。 The movable shaft 143 also moves downward together with the upper holding part 130. When the movable shaft 143 moves downward to a predetermined position, the stopper 144 fixed to the movable shaft 143 comes into contact with the lower bushing 141. This restricts the downward movement of the upper holding part 130.

図6(b)に示す状態からアクチュエータ160のロッド162をさらに収縮させると、上側保持部130の移動が規制されているため、図7に示すように、上側保持部130ではなく、シリンダ本体161が固定されている下側保持部120が上方へと移動する。これによって下側保持部120がフィルムFに下方から近づく。 When the rod 162 of the actuator 160 is further contracted from the state shown in FIG. 6(b), the movement of the upper holding part 130 is restricted, so that, as shown in FIG. 7, it is not the upper holding part 130 but the lower holding part 120 to which the cylinder body 161 is fixed that moves upward. This causes the lower holding part 120 to approach the film F from below.

下側保持部120が上方へと移動することによって、下側保持部120(より詳細には、下側保持部120に設けられたスポンジ122)と上側保持部130との間にフィルムFが挟まれる。この際、スポンジ122が適宜変形することで、フィルムFをより確実に保持することができる。 As the lower holding part 120 moves upward, the film F is sandwiched between the lower holding part 120 (more specifically, the sponge 122 provided on the lower holding part 120) and the upper holding part 130. At this time, the sponge 122 deforms appropriately, so that the film F can be held more securely.

このように、共通のアクチュエータ160を動作させる(ロッド162を収縮させる)ことで、上側保持部130及び下側保持部120を順次移動させ、フィルムFを保持することができる。この状態では、フィルムFのうち、スポンジ122に沿う矩形状の部分S(図3のハッチング部分)が、下側保持部120(スポンジ122)と上側保持部130とによって挟み込まれて保持される。このようにしてフィルムFが挟み込まれた部分の内側の範囲(矩形状の範囲)が、レーザ機構50による加工対象となる(以下、この範囲を加工対象範囲Pと称する)。保持機構100によって加工対象範囲Pの周囲に亘る部分Sを挟んで保持することで、振動や空気の影響によって加工対象範囲PのフィルムFが揺れたり皺が生じたりするのを防止することができる。 In this way, by operating the common actuator 160 (contracting the rod 162), the upper holding part 130 and the lower holding part 120 can be moved sequentially to hold the film F. In this state, the rectangular part S (hatched part in FIG. 3) of the film F that is along the sponge 122 is sandwiched and held by the lower holding part 120 (sponge 122) and the upper holding part 130. In this way, the inner range (rectangular range) of the part where the film F is sandwiched becomes the processing target by the laser mechanism 50 (hereinafter, this range is referred to as the processing target range P). By sandwiching and holding the part S that extends around the processing target range P by the holding mechanism 100, it is possible to prevent the film F in the processing target range P from shaking or wrinkling due to the influence of vibration or air.

なお、図2に示すように、上側保持部130の開口部131が下側保持部120の開口部121よりも小さく形成されているため、下側保持部120に設けられたスポンジ122が、上側保持部130によって上方から覆われるように配置されることになる。これによって、フィルムFが加工される際に、上方から照射されるレーザ光がスポンジ122に照射されるのを防止することができ、スポンジ122の損傷を防止することができる。 As shown in FIG. 2, the opening 131 of the upper holding part 130 is smaller than the opening 121 of the lower holding part 120, so that the sponge 122 provided on the lower holding part 120 is positioned so that it is covered from above by the upper holding part 130. This makes it possible to prevent the sponge 122 from being irradiated with laser light irradiated from above when the film F is processed, and thus prevents damage to the sponge 122.

次に、保持機構100によるフィルムFの保持を解除する場合の動作について説明する。 Next, we will explain the operation when releasing the holding mechanism 100 from the film F.

図7に示す状態からアクチュエータ160のロッド162を伸長させると、シリンダ本体161が下方へと移動する。これによって、シリンダ本体161が固定されている下側保持部120もフィルムFから離れて下方へと移動する。 When the rod 162 of the actuator 160 is extended from the state shown in FIG. 7, the cylinder body 161 moves downward. As a result, the lower holding part 120 to which the cylinder body 161 is fixed also moves downward away from the film F.

下側保持部120が所定の位置まで下方へと移動すると、図6(b)に示すように、下側保持部120に固定されたストッパ152が固定軸151と接触する。これによって、下側保持部120の下方への移動が規制される。 When the lower holding part 120 moves downward to a predetermined position, as shown in FIG. 6(b), the stopper 152 fixed to the lower holding part 120 comes into contact with the fixed shaft 151. This restricts the downward movement of the lower holding part 120.

図6(b)に示す状態からアクチュエータ160のロッド162をさらに伸長させると、下側保持部120の移動が規制されているため、図6(a)に示すように、下側保持部120ではなく、ロッド162が固定されている上側保持部130が上方へと移動する。これによって上側保持部130がフィルムFから離れて上方へと移動する。 When the rod 162 of the actuator 160 is further extended from the state shown in FIG. 6(b), the movement of the lower holding part 120 is restricted, so that as shown in FIG. 6(a), it is not the lower holding part 120 but the upper holding part 130 to which the rod 162 is fixed that moves upward. This causes the upper holding part 130 to move upward away from the film F.

このように、共通のアクチュエータ160を動作させる(ロッド162を伸長させる)ことで、上側保持部130及び下側保持部120を順次移動させ、フィルムFの保持を解除することができる。この状態では、送りローラ23(図1参照)を回転させることで、フィルムFを巻取りローラ21に向かって移動させることができる。特に上側保持部130及び下側保持部120をそれぞれ上下に(フィルムFから離れるように)移動させることで、フィルムFが移動する際に上側保持部130及び下側保持部120に擦れるのを防止することができる。 In this way, by operating the common actuator 160 (extending the rod 162), the upper holding portion 130 and the lower holding portion 120 can be moved sequentially to release the holding of the film F. In this state, the film F can be moved toward the take-up roller 21 by rotating the feed roller 23 (see FIG. 1). In particular, by moving the upper holding portion 130 and the lower holding portion 120 up and down (away from the film F), it is possible to prevent the film F from rubbing against the upper holding portion 130 and the lower holding portion 120 as it moves.

<孔F1の形状>
次に、レーザ機構50によってフィルムFに形成される孔F1の形状について説明する。
<Shape of Hole F1>
Next, the shape of the hole F1 formed in the film F by the laser mechanism 50 will be described.

図8(a)に示すように、本実施形態では、フィルムFの加工対象範囲Pに複数の孔F1を形成する。図8(a)は、フィルムFが円形のウェーハに用いられることを想定して、円形の範囲内に複数の孔F1を形成した例を示している。 As shown in FIG. 8(a), in this embodiment, multiple holes F1 are formed in the processing target area P of the film F. FIG. 8(a) shows an example in which multiple holes F1 are formed within a circular area, assuming that the film F is used for a circular wafer.

孔F1を形成する場合、レーザ機構50は、図8(b)に示すように、一直線状の軌跡Tに沿ってレーザ光を照射する。これによって、図8(c)に示すように、概ね一定の幅を有する長孔状の孔F1をフィルムFに形成することができる。本実施形態では、幅Aが0.2~1.0mm、長さBが1.0~2.5mmとなるように、孔F1を形成している。 When forming hole F1, the laser mechanism 50 irradiates the laser light along a linear trajectory T, as shown in FIG. 8(b). This allows a long hole-shaped hole F1 with a roughly constant width to be formed in the film F, as shown in FIG. 8(c). In this embodiment, hole F1 is formed so that width A is 0.2 to 1.0 mm and length B is 1.0 to 2.5 mm.

このように本実施形態では、孔F1をくり抜くように環状(例えば円形状)にレーザ光を照射するのではなく、一直線状にレーザ光を照射することによって、加工したフィルムFの残りかすがフィルムFに付着するのを抑制することができる。 In this manner, in this embodiment, by irradiating the laser light in a straight line rather than in an annular (e.g., circular) shape to carve out the hole F1, it is possible to prevent residual residue of the processed film F from adhering to the film F.

なお、孔F1の形状は上述のものに限らず、任意の形状とすることが可能である。例えば、上記孔F1の寸法は一例であり、任意に変更することが可能である。また、一直線状ではなく、例えば円形のような屈曲した線状(曲線状)の軌跡Tに沿ってレーザ光を照射して孔F1を形成することも可能である。なお、上述のようにフィルムFの残りかすの付着を抑制する観点から、端部同士が接続されていない線状の軌跡Tに沿ってレーザ光を照射することが望ましい。 The shape of the hole F1 is not limited to the above, and can be any shape. For example, the dimensions of the hole F1 are merely examples, and can be changed as desired. It is also possible to form the hole F1 by irradiating the laser light along a curved, linear trajectory T, such as a circle, rather than a straight line. As described above, from the viewpoint of suppressing adhesion of residual film F, it is desirable to irradiate the laser light along a linear trajectory T whose ends are not connected to each other.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の技術的思想の範囲内で適宜の変更が可能である。 Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and appropriate modifications are possible within the scope of the technical concept of the invention described in the claims.

例えば本実施形態では、図2に示すように、フィルムFを確実に挟むために下側保持部120にスポンジ122を設けた例を示したが、下側保持部120に設けるのはスポンジ122に限らず、弾性を有する部材(例えばゴム等)であればよい。 For example, in this embodiment, as shown in FIG. 2, a sponge 122 is provided on the lower holding portion 120 to securely hold the film F, but the material provided on the lower holding portion 120 is not limited to the sponge 122 and may be any material having elasticity (e.g., rubber, etc.).

また本実施形態では、下側保持部120にスポンジ122を設けた例を示したが、下側保持部120ではなく上側保持部130に設けることや、下側保持部120及び上側保持部130の両方に設けることも可能である。また必ずしもスポンジ122を設ける必要はなく、下側保持部120及び上側保持部130で直接フィルムFを挟むように構成することも可能である。 In addition, in this embodiment, an example in which the sponge 122 is provided on the lower holding portion 120 has been shown, but it is also possible to provide it on the upper holding portion 130 instead of the lower holding portion 120, or to provide it on both the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130. Also, it is not necessarily necessary to provide the sponge 122, and it is also possible to configure the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 to directly sandwich the film F.

また本実施形態では、図3及び図9(a)に示すように、保持機構100によって、フィルムFの加工対象範囲Pの周囲に亘る部分Sを挟んで保持する例を示したが、フィルムFを挟む部分はこれに限るものではない。例えば図9(b)に示すように、フィルムFの加工対象範囲Pの側方の部分Sを挟んで保持することも可能である。特に図9(b)には、フィルムFの加工対象範囲Pの両側(フィルムFの搬送方向に対する幅方向(前後方向)の両端部)を挟んで保持する例を示している。なお、図9(b)の例に限らず、フィルムFの加工対象範囲Pの片側(一側方)だけを挟んで保持するように構成することも可能である。 In the present embodiment, as shown in Fig. 3 and Fig. 9(a), an example is shown in which the holding mechanism 100 holds the portion S of the film F surrounding the processing range P, but the portion of the film F that is held is not limited to this. For example, as shown in Fig. 9(b), it is also possible to hold the portion S on the side of the processing range P of the film F by pinching it. In particular, Fig. 9(b) shows an example in which both sides of the processing range P of the film F (both ends in the width direction (front-rear direction) relative to the transport direction of the film F) are held by pinching it. Note that it is not limited to the example of Fig. 9(b), and it is also possible to configure it so that only one side (one side) of the processing range P of the film F is pinched and held.

また図9(c)に示すように、フィルムFの複数の部分Sを挟んで保持することも可能である。このように、少なくともフィルムFの搬送方向(搬送機構によって張力が加わる方向)に対する幅方向の両端部を挟んで保持することで、振動や空気の影響によって加工対象範囲PのフィルムFが揺れたり皺が生じたりするのを防止することができる。 As shown in FIG. 9(c), it is also possible to clamp and hold multiple portions S of the film F. In this way, by clamping and holding at least both ends of the film F in the width direction relative to the transport direction (the direction in which tension is applied by the transport mechanism), it is possible to prevent the film F in the processing area P from shaking or wrinkling due to the effects of vibration or air.

また本実施形態では、図5に示すように、アクチュエータ160(シリンダ本体161)は下側保持部120に固定されるものとしたが、アクチュエータ160の配置はこれに限るものではなく、例えば上側保持部130にシリンダ本体161を固定すると共に、ロッド162を下側保持部120に連結することも可能である。 In addition, in this embodiment, as shown in FIG. 5, the actuator 160 (cylinder body 161) is fixed to the lower holding part 120, but the arrangement of the actuator 160 is not limited to this. For example, it is also possible to fix the cylinder body 161 to the upper holding part 130 and connect the rod 162 to the lower holding part 120.

また本実施形態では、アクチュエータ160としてエアシリンダを用いる例を示したが、アクチュエータ160としてはその他種々の方式(例えば、電動シリンダ、油圧シリンダ等)を用いることが可能である。 In addition, in this embodiment, an example is shown in which an air cylinder is used as the actuator 160, but various other types of actuators (e.g., electric cylinders, hydraulic cylinders, etc.) can be used as the actuator 160.

また本実施形態では、図3に示すように、上側ストッパ機構140及び下側ストッパ機構150は下側保持部120の角部にそれぞれ設けられ、アクチュエータ160は下側保持部120の1組の対角部にそれぞれ設けられるものとしたが、上側ストッパ機構140等の配置はこれに限るものではなく、保持機構100の各部の大きさ、形状等に応じて、任意の位置に配置することが可能である。 In addition, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the upper stopper mechanism 140 and the lower stopper mechanism 150 are provided at the corners of the lower holding portion 120, and the actuators 160 are provided at a pair of diagonal corners of the lower holding portion 120, but the arrangement of the upper stopper mechanism 140, etc. is not limited to this, and they can be arranged in any position depending on the size, shape, etc. of each part of the holding mechanism 100.

また本実施形態では、保持機構100によって保持したフィルムFをレーザ機構50によって加工する例を示したが、加工方法はこれに限るものではなく、種々の加工方法を採用することが可能である。例えば、保持機構100によって保持したフィルムFを、切削工具を用いて加工したり、水圧(ウォータージェット)により加工したり、プラズマを用いて加工したりする(すなわち、大気圧/真空プラズマ処理装置に適用する)ことも可能である。 In addition, in this embodiment, an example is shown in which the film F held by the holding mechanism 100 is processed by the laser mechanism 50, but the processing method is not limited to this, and various processing methods can be adopted. For example, the film F held by the holding mechanism 100 can be processed using a cutting tool, water pressure (water jet), or plasma (i.e., applied to an atmospheric pressure/vacuum plasma processing device).

また本実施形態では、レーザ加工装置1の加工対象物(ワーク)としてフィルムFを例示したが、フィルムFに限らずその他種々の加工対象物を用いることが可能である。例えば、金属、ゴム、紙、布地等、種々の加工対象物に対して加工を行うことが可能である。 In this embodiment, a film F is used as an example of the workpiece (work) to be processed by the laser processing device 1, but it is possible to use various other workpieces in addition to the film F. For example, it is possible to process various workpieces such as metal, rubber, paper, and fabric.

またレーザ加工装置1に、本実施形態に例示した機構以外の他の機構を設けることも可能である。例えば加工に伴って有毒ガスが発生する場合(フッ素系のフィルムFを加工する場合等)には、排ガス処理装置を別途設けることも可能である。 It is also possible to provide the laser processing device 1 with mechanisms other than those illustrated in this embodiment. For example, if toxic gases are generated during processing (such as when processing fluorine-based film F), it is also possible to provide a separate exhaust gas treatment device.

以上の如く、本実施形態に係る保持機構100(ワーク保持機構)は、
フィルムF(ワーク)の一方側に配置される下側保持部120(第一保持部)と、
前記フィルムFの他方側に配置される上側保持部130(第二保持部)と、
前記下側保持部120及び前記上側保持部130によって前記フィルムFを挟むように、前記下側保持部120及び前記上側保持部130を移動させる共通のアクチュエータ160と、
を具備するものである。
このように構成することにより、構造の複雑化を抑制することができる。すなわち、共通のアクチュエータ160で2つの保持部を移動させることができるため、構造の複雑化を抑制し、ひいては部品点数やコストの増加を抑制することができる。
As described above, the holding mechanism 100 (workpiece holding mechanism) according to this embodiment has the following features:
A lower holding portion 120 (first holding portion) arranged on one side of the film F (workpiece);
an upper holding portion 130 (second holding portion) arranged on the other side of the film F;
a common actuator 160 that moves the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 so that the film F is sandwiched between the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130;
It is equipped with the following.
Such a configuration can prevent the structure from becoming complicated. That is, since the two holding parts can be moved by the common actuator 160, the structure can be prevented from becoming complicated, and furthermore, an increase in the number of parts and costs can be prevented.

また、前記アクチュエータ160は、前記下側保持部120又は前記上側保持部130のいずれか一方に固定されるものである。
このように構成することにより、構造の簡素化を図ることができる。すなわち、下側保持部120を用いてアクチュエータ160を支持することができるため、アクチュエータ160を支持するための構造の簡素化を図ることができる。
The actuator 160 is fixed to either the lower holding portion 120 or the upper holding portion 130 .
With this configuration, it is possible to simplify the structure. That is, since the actuator 160 can be supported by the lower holding portion 120, it is possible to simplify the structure for supporting the actuator 160.

また、前記アクチュエータ160は、前記下側保持部120及び前記上側保持部130を互いに近づく方向及び離れる方向に移動させることが可能であり、
前記下側保持部120が前記上側保持部130に対して離れる方向に移動するのを所定の位置で規制する下側ストッパ機構150(第一規制部)と、
前記上側保持部130が前記下側保持部120に対して近づく方向に移動するのを所定の位置で規制する上側ストッパ機構140(第二規制部)と、
をさらに具備するものである。
このように構成することにより、構造の簡素化を図ることができる。すなわち、2つの規制部によって2つの保持部の移動を適宜規制することで、共通のアクチュエータ160で2つの保持部の移動を行うことができ、ひいては構造の簡素化を図ることができる。
In addition, the actuator 160 can move the lower holding part 120 and the upper holding part 130 in a direction toward and away from each other,
a lower stopper mechanism (first restriction portion) that restricts the lower holding portion (120) from moving in a direction away from the upper holding portion (130) at a predetermined position;
an upper stopper mechanism 140 (second restricting portion) that restricts the upper holding portion 130 from moving toward the lower holding portion 120 at a predetermined position;
It further comprises:
Such a configuration can simplify the structure, i.e., by appropriately restricting the movement of the two holding parts by the two restricting parts, the two holding parts can be moved by a common actuator 160, and thus the structure can be simplified.

また、前記下側保持部120及び前記上側保持部130は、前記下側保持部120及び前記上側保持部130の移動方向から見て矩形状に形成され、
前記下側ストッパ機構150及び前記上側ストッパ機構140は、少なくとも前記下側保持部120及び前記上側保持部130の各角部に配置されているものである。
このように構成することにより、下側保持部120及び上側保持部130の移動を安定して規制することができる。
In addition, the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 are formed in a rectangular shape when viewed from the moving direction of the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130,
The lower stopper mechanism 150 and the upper stopper mechanism 140 are disposed at least at the respective corners of the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 .
With this configuration, the movements of the lower holding part 120 and the upper holding part 130 can be stably restricted.

また、前記下側保持部120及び前記上側保持部130は、前記下側保持部120及び前記上側保持部130の移動方向から見て矩形状に形成され、
前記アクチュエータ160は、少なくとも前記下側保持部120及び前記上側保持部130の1組の対角部に配置されているものである。
このように構成することにより、下側保持部120及び上側保持部130を安定して移動させることができる。
In addition, the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 are formed in a rectangular shape when viewed from the moving direction of the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130,
The actuators 160 are disposed at least at one pair of diagonal corners of the lower holding portion 120 and the upper holding portion 130 .
With this configuration, the lower holding part 120 and the upper holding part 130 can be moved stably.

また、本実施形態に係るレーザ加工装置1(加工装置)は、
前記保持機構100と、
前記保持機構100により保持された前記フィルムFを加工するレーザ機構50(加工機構)と、
を具備するものである。
このように構成することにより、構造の複雑化を抑制することができる。
In addition, the laser processing apparatus 1 (processing apparatus) according to this embodiment is
The holding mechanism 100;
a laser mechanism 50 (processing mechanism) that processes the film F held by the holding mechanism 100;
It is equipped with the following.
By configuring in this way, it is possible to prevent the structure from becoming complicated.

また、本実施形態に係るレーザ加工装置1は、
ロール状に巻かれた前記フィルムFを引き出して前記保持機構100へと搬送すると共に、前記レーザ機構50によって加工された前記フィルムFをロール状に巻き取る搬送機構(巻出し機構10及び巻取り機構20)をさらに具備するものである。
このように構成することにより、ロール状のフィルムFを安定して加工することができる。
In addition, the laser processing apparatus 1 according to this embodiment has
The film F wound in a roll is pulled out and transported to the holding mechanism 100, and the film F processed by the laser mechanism 50 is further provided with a transport mechanism (unwinding mechanism 10 and winding mechanism 20) that winds up the film F in a roll.
With this configuration, the roll-shaped film F can be processed stably.

また、本実施形態に係る加工品の製造方法は、
前記レーザ加工装置1を用いて、前記フィルムFを加工するものである。
このように構成することにより、構造の複雑化を抑制することができる。
In addition, the manufacturing method of the processed product according to this embodiment is as follows:
The film F is processed by using the laser processing device 1 .
By configuring in this way, it is possible to prevent the structure from becoming complicated.

1 レーザ加工装置
10 巻出し機構
20 巻取り機構
30 上側集塵機構
40 下側集塵機構
50 レーザ機構
100 保持機構
120 下側保持部
130 上側保持部
140 上側ストッパ機構
150 下側ストッパ機構
160 アクチュエータ
REFERENCE SIGNS LIST 1 laser processing device 10 unwinding mechanism 20 winding mechanism 30 upper dust collection mechanism 40 lower dust collection mechanism 50 laser mechanism 100 holding mechanism 120 lower holding section 130 upper holding section 140 upper stopper mechanism 150 lower stopper mechanism 160 actuator

Claims (5)

ワークの下側に配置される第一保持部と、
前記ワークの上側に配置される第二保持部と、
前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟むように、前記第一保持部及び前記第二保持部を移動させる共通のアクチュエータと、
前記第一保持部の下側への移動を規制する第一規制部と、
前記第二保持部の下側への移動を規制する第二規制部と、
を具備し、
前記アクチュエータは、前記第一保持部の下側に固定され、
前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟んでいる場合、前記第一規制部は、前記第一保持部の下側への移動は規制しておらず、かつ、前記第二規制部は、前記第二保持部の下側への移動を規制しており、
前記アクチュエータは、前記ワークの保持を解除する場合、前記第一保持部から前記第二保持部を離し、
前記第一保持部及び前記第二保持部によって前記ワークを挟んでいる場合にて、前記アクチュエータが前記第一保持部から前記第二保持部を離したとき、前記第一規制部が前記第一保持部の下側への移動を規制するまで前記第一保持部が下降し、その後、前記第二保持部は上昇し、前記第二規制部の規制が解除される、
ワーク保持機構と、
前記ワーク保持機構により保持された前記ワークを加工する加工機構と、
ロール状に巻かれた前記ワークを引き出して前記ワーク保持機構へと搬送すると共に、前記加工機構によって加工された前記ワークをロール状に巻き取る搬送機構と、
を具備する加工装置。
A first holding portion disposed below the workpiece;
A second holding portion arranged above the workpiece;
A common actuator that moves the first holding portion and the second holding portion so that the workpiece is sandwiched between the first holding portion and the second holding portion;
A first restriction portion that restricts downward movement of the first holding portion;
A second restriction portion that restricts downward movement of the second holding portion;
Equipped with
The actuator is fixed to a lower side of the first holding portion,
When the workpiece is clamped by the first holding portion and the second holding portion, the first regulating portion does not regulate the downward movement of the first holding portion, and the second regulating portion regulates the downward movement of the second holding portion,
When releasing the holding of the workpiece, the actuator separates the second holding portion from the first holding portion,
When the workpiece is clamped by the first holding portion and the second holding portion, when the actuator separates the second holding portion from the first holding portion, the first holding portion descends until the first regulating portion regulates the downward movement of the first holding portion, and then the second holding portion rises and the regulation by the second regulating portion is released.
A work holding mechanism ;
a machining mechanism that machines the workpiece held by the workpiece holding mechanism;
a conveying mechanism that pulls out the work wound in a roll and conveys it to the work holding mechanism, and also winds up the work processed by the processing mechanism in a roll;
A processing device comprising:
前記アクチュエータは、前記第一保持部に前記第二保持部を近づける、
請求項1に記載の加工装置
The actuator brings the second holding portion closer to the first holding portion.
The processing device according to claim 1 .
前記第一保持部及び前記第二保持部は、前記第一保持部及び前記第二保持部の移動方向から見て矩形状に形成され、
前記第一規制部及び前記第二規制部は、少なくとも前記第一保持部及び前記第二保持部の各角部に配置されている、
請求項1又は請求項2に記載の加工装置
The first holding portion and the second holding portion are formed in a rectangular shape when viewed from a moving direction of the first holding portion and the second holding portion,
The first restricting portion and the second restricting portion are disposed at least at each corner of the first holding portion and the second holding portion.
The processing apparatus according to claim 1 or 2.
前記第一保持部及び前記第二保持部は、前記第一保持部及び前記第二保持部の移動方向から見て矩形状に形成され、
前記アクチュエータは、少なくとも前記第一保持部及び前記第二保持部の1組の対角部に配置されている、
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の加工装置
The first holding portion and the second holding portion are formed in a rectangular shape when viewed from a moving direction of the first holding portion and the second holding portion,
The actuator is disposed at least at one pair of diagonal corners of the first holding portion and the second holding portion.
The processing device according to any one of claims 1 to 3.
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の加工装置を用いて、前記ワークを加工する、
加工品の製造方法
The workpiece is machined using the machining apparatus according to any one of claims 1 to 4.
Manufacturing method for processed products .
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