JP7514966B2

JP7514966B2 - 半導体廃ガス処理システムとその水分分離器

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Publication number: JP7514966B2
Application number: JP2023004249A
Authority: JP
Inventors: 蔡定; 陳志豪; 黄少檠
Original assignee: 日揚科技股▲分▼有限公司
Priority date: 2022-12-15
Filing date: 2023-01-16
Publication date: 2024-07-11
Anticipated expiration: 2043-01-16
Also published as: JP2024086515A; TW202426114A; TWI847431B; US20240198272A1

Description

本発明は、廃ガス処理システムとそのコンポーネントに関し、特に、半導体廃ガス処理システムとその水分分離器（Ｍｏｉｓｔｕｒｅ－ＧａｓＳｅｐａｒａｔｏｒ）に関するものである。

半導体の作製プロセスでは、可燃性、腐食性または毒性の高い反応性ガスが大量に使用されるが、多くの半導体プロセスにおいて、反応性ガスの利用率が極めて低いため、作製プロセスにおいて、完全に反応されていない残留ガス及び反応生成物を反応プロセスチャンバーから排出することが必要である。これらの混合ガスは、プロセス廃ガス又はテールガスと称することが一般的であり、排出される前に、無害または使い捨ての物質に変換する必要がある。

現在、廃ガスシステムは、主に、反応プロセスチャンバーと接続する、ターボ真空ポンプ（ＴｕｒｂｏＰｕｍｐ）と、機械式ポンプと、ローカル廃ガス処理システム（ＬｏｃａｌＳｃｒｕｂｂｅｒＳｙｓｔｅｍ）とから構成される。プロセス廃ガスは、ターボ真空ポンプ、排気管路及び機械式ポンプを順次に経由して、反応プロセスチャンバーから抽出されて、ローカル廃ガス処理システムに送り込んで処理を行った後、中央廃ガス処理システム（ＣｅｎｔｒａｌＳｃｒｕｂｂｅｒＳｙｓｔｅｍ）から排出される。

プロセス廃ガスを適切に処理するために、従来から、多くの技術が提案されて使用されている。例えば、プロセス廃ガスを排出する前に、排気ポンプにより、プロセス廃ガスを燃焼洗浄タワーに送り込んで、廃ガス処理を行う技術が提案されている。しかし、燃焼洗浄タワーは、フッ素化合物を処理する効果が良くなく、常時稼働し、大量の燃料を供給しなければならないため、コストが大幅に増加し、且つエネルギーが大量に消費され、燃料ガスは、可燃性・爆発性ガスであるため、危険性が増加する。また、触媒熱分解法を採用する技術が提案されているが、触媒を使用すると、エージング及び中毒問題があり、且つ触媒交換及びリサイクル処理によるコストが極めて高い。しかし、触媒熱分解法によれば、同様に、常時に稼働し、大量の燃料を供給しなければならない。

また、従来、上記のプロセス廃ガスの燃焼または分解処理を行う前に、まず、湿式廃ガス処理装置により、プロセス廃ガスから、有毒ガス及び粉塵などの固体粒子を洗浄して、洗浄された洗浄廃ガスを排出する技術が提案されている。しかし、従来の散水式の湿式廃ガス処理装置は、洗浄効率が高くなく、且つ排出された洗浄廃ガスの湿度が高く、若干の有毒ガス及び固体粒子が洗浄廃ガスに存在する。このため、固体粒子が、湿式廃ガス処理装置の排出管路の管壁に付着しやすく、ひいては排出管路の出口、又は上記のプロセス廃ガスの燃焼または分解処理を行う装置の輸送管路の入り口が、粉塵に塞がれやすい。また、湿式廃ガス処理装置のタンク内に、気液分離コンポーネントを設けても、この気液分離コンポーネントは、上記の粉塵に塞がれてろ過効果が喪失し易く、そしてコンダクタンスが降下し、又は圧力差が増加する。また、従来の、湿式廃ガス処理装置のタンク内に気液分離コンポーネントを設ける設計によれば、気液を有効に分離することができないため、保全修理の周期が極めて短く、タンク内の部品交換にかなりの時間が掛かるため、コストが増加する反面、上記のような、排出管路の出口、又は輸送管路の入り口が粉塵に塞がれるという問題を解決することができない。

本発明の主な目的は、保全修理の周期を長くすることができ、タンク内の部品交換の時間を短縮することができ、コストを減少することができ、かつ排出管路の出口、又は輸送管路の入り口が粉塵に塞がらない半導体廃ガス処理システムとその水分分離器を提供することにある。

本発明に係る水分分離器は、縦方向に沿って、湿式スクラバーと空気抽出置を連通することに適する水分分離器において、吸気管と、分離管と、排気管と、少なくとも一つの導流傾斜仕切板と、少なくとも一つのろ材層と、を少なくとも備え、分離管は、縦方向に沿って、吸気管と排気管を連通し、吸気管は、縦方向に沿って設けられ、湿式スクラバーの排気口と連通し、排気管は、縦方向に沿って設けられ、空気抽出装置の抽気口と連通し、導流傾斜仕切板は、分離管内に斜めに設けられており、ろ材層は、分離管に充填されており、導流傾斜仕切板上に位置し、複数のろ過ゾーンを形成するためのものであり、湿式スクラバーは、プロセス廃ガス源から排出されたプロセス廃ガスを洗浄して、洗浄廃ガスを排出し、空気抽出装置は、吸引力を発生して、吸引力により、湿式スクラバーから排出された洗浄廃ガスが、吸気管を経由して分離管に入って、分離管内にあるろ材層及び導流傾斜仕切板により、洗浄廃ガスに含むミスト及び粉塵を分離した後、乾燥廃ガスになって、排気管から排出されることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管の口径は、前記吸気管の吸気口の口径よりも大きいことを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記導流傾斜仕切板は、前記分離管の管壁に取り外し可能に設けられていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管は、斜めに前記管壁の表面に沿って分布されている溝を少なくとも一つ有し、前記導流傾斜仕切板は、前記溝に気密に差し込まれていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記導流傾斜仕切板の投影区域は、前記分離管の吸気口と一部または全部に重なることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記水分分離器の前記分離管と前記湿式スクラバーとの間には、更に、圧力リリーフバルブを有する圧力逃がしバイパス管が接続されていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記水分分離器と前記空気抽出装置との間には、更に、燃焼処理装置が設けられており、前記排気管は、縦方向に沿って設けられており、その排気口が前記燃焼処理装置の吸気口に接続されており、前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスは、まず、前記水分分離器により、前記洗浄廃ガスに含むミスト及び粉塵が分離されて、前記乾燥廃ガスになった後、前記乾燥廃ガスは、前記燃焼処理装置に排出されて、燃焼処理が行われることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記排気管には、更に、加熱ベルトが覆われており、前記加熱ベルトにより、前記排気管の前記排気口を経由して排出された前記乾燥廃ガスが加熱されることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記吸気管の吸気口は、前記湿式スクラバの前記排気口に取り外し可能に接続されており、前記排気管の前記排気口は、前記燃焼処理装置の前記吸気口に取り外し可能に接続されていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管は、前記吸気管と前記排気管との間に位置し、前記吸気管と前記排気管とに取り外し可能に接続されていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記導流傾斜仕切板は、複数あり、それぞれ斜めに前記分離管内に設けられており、前記分離管内に層状に千鳥状に分布されていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記複数の導流傾斜仕切板の投影区域は、それぞれ前記分離管の吸気口と一部に重なり、その後、それら全てが前記分離管の前記吸気口と重なることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管及びその上に設けられている、前記導流傾斜仕切板と、前記ろ材層とは、前記吸気管と前記排気管との間に回転可能に設けられていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、更に、外ケーシングを備え、前記外ケーシングの両端は、前記吸気管及び前記排気管とそれぞれ気密に接続されており、前記分離管は、前記外ケーシングの内部に回転可能に設けられていることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管は、前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスに駆動されて回転することを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管は、円筒または多角管であり、前記導流傾斜仕切板は、円弧形、多辺形、又は螺旋形を呈することを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記導流傾斜仕切板は、縦方向または斜め方向に沿って、前記導流傾斜仕切板の上面と下面とを貫通する通気穴を複数有することを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記分離管は、透明な素材から構成されることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記ろ材層は、少なくとも一つのプラスチックストリップを織り交ぜたろ過構造であることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記ろ材層は、耐酸性、耐アルカリ性、耐油性、又は耐有機溶剤性を有する耐食性ろ材であることを特徴とする。

本発明に係る水分分離器は、前記吸気管、前記分離管及び前記排気管は、塩素化ポリ塩化ビニル（ＣＰＶＣ）管を採用することを特徴とする。

本発明に係る半導体廃ガス処理システムは、プロセス廃ガス源から排出されたプロセス廃ガスを処理するための半導体廃ガス処理システムにおいて、プロセス廃ガスを洗浄して、洗浄廃ガスを排出する湿式スクラバーと、湿式スクラバーのタンクの外部に設けられている水分分離器と、吸引力を発生して、吸引力により、湿式スクラバーから排出された洗浄廃ガスが、まず、水分分離器を経由して、洗浄廃ガスに含むミスト及び粉塵が分離されて、乾燥廃ガスが形成された後、乾燥廃ガスを排出し、水分分離器は、湿式スクラバーと空気抽出装置との間に位置し、湿式スクラバー及び空気抽出装置と連通する空気抽出装置と、を含むことを特徴とする。

本発明に係る半導体廃ガス処理システムは、前記湿式スクラバーは、負圧ジェット管を利用して、洗浄液を高速に噴射することにより、低圧環境を発生して、前記プロセス廃ガス源から排出された前記プロセス廃ガスを吸い込み、高速に噴射された前記洗浄液により、前記プロセス廃ガスがカットされてマイクロバブルが形成され、これにより、前記マイクロバブル及びそれに携帯される粉塵が捕捉・吸着され、前記空気抽出装置による前記吸引力により、前記湿式スクラバーが前記洗浄廃ガスを排出して、前記洗浄廃ガスが、前記湿式スクラバーと連通する前記水分分離器に進入して、分離ろ過プロセスを受けることにより、前記洗浄廃ガスは前記乾燥廃ガスになることを特徴とする。

上記のように、本発明の半導体廃ガス処理システムとその水分分離器は、以下の利点を有する。
（１）水分分離器は湿式スクラバー槽の外側で分解処理を行うため、湿式スクラバーの内槽に限ったものではなく、湿式スクラバー槽内の気液分離装置も省くことが可能である。
（２）水分分離器は、水霧や粉塵の分離濾過を維持するだけでなく、さらに透明かつ可視化、分解可能及び加熱可能なため、圧力変化の観測、迅速な分解、保守間隔の延長などの向上を実現する。
（３）水分分離器の導流傾斜仕切板は、分離管の中に水平ではなく斜めに設置することで、水分分離と導風を兼ねており、水霧を分離することができ、気流に影響を与えないようにできる。
（４）加熱ベルトは、チューブや水分分離器からの乾性排ガスを加熱し、水霧や粉塵の残留による閉塞を防ぐために使われる。
本発明に係る半導体廃ガス処理システムとその水分分離器は、保全修理の周期を長くすることができ、タンク内の部品交換の時間を短縮することができ、コストを減少することができ、排出管路の出口、又は輸送管路の入り口が粉塵で塞がらないという効果がある。

本発明の技術的特徴および達成し得る技術的効能の理解を深めるために、より良い実施例と詳細な説明を以下に示す。

本発明に係る半導体廃ガス処理システムとその水分分離器の操作を示す図である。本発明に係る水分分離器が、湿式スクラバーのタンクの外部と空気抽出装置との間に組付けられた状態を示す側面透視図である。本発明に係る水分分離器の分離管を示す斜視透視図である。本発明に係る水分分離器の分離管を第１の方向に沿って見た透視図である。本発明に係る水分分離器の分離管を第２の方向に沿って見た透視図であって、第２の方向は第１の方向に垂直である。図５のＩ－Ｉ線に沿った断面図である。本発明に係る水分分離器の分離管を示す上面図である。本発明に係る水分分離器の導流傾斜仕切板に通気穴が増設されている状態を示す断面図である。本発明に係る水分分離器の導流傾斜仕切板が分離管に取り外し可能に設けられている状態を示す透視図である。本発明に係る半導体廃ガス処理システムの湿式スクラバーの構成を示す図である。本発明に係る水分分離器が回転式の分離管を有する状態を示す図である。本発明に係る半導体廃ガス処理システムに燃焼処理装置が増設されている状態を示す図である。本発明に係る水分分離器の分離管と湿式スクラバーとの間に、圧力リリーフバルブを有する圧力逃がしバイパス管が増設されている状態を示す図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。本発明の実施の形態の図面における各部材の比率は、説明を容易に理解するために示され、実際の比率ではない。また、図に示すアセンブリの寸法の比率は、各部品とその構造を説明するためのものであり、もちろん、本発明はこれに限定されない。一方、理解を便利にするために、下記の実施の形態における同じ部品については、同じ符号を付して説明する。

さらに、明細書全体および特許請求の範囲で使用される用語は、特に明記しない限り、通常、この分野、本明細書に開示される内容、および特別な内容で使用される各用語の通常の意味を有する。本発明を説明するために使用されるいくつかの用語は、当業者に本発明の説明に関する追加のガイダンスを提供するために、本明細書の以下または他の場所で説明される。

この記事での「第１」、「第２」、「第３」などの使用については、順序や順次を具体的に示すものではなく、本発明を制限するためにも使用されていない。これは、同じ専門用語で説明するコンポーネントまたは操作を区別するだけために使用される。

次に、この記事で「含む」、「備える」、「有する」、「含有する」などの用語が使用されている場合、それらはすべてオープンな用語である。つまり、これらは、含むがこれに限定されないことを意味する。

本発明は、半導体廃ガス処理システムとその水分分離器を提供する。図１を参照する。図１は、本発明に係る半導体廃ガス処理システムとその水分分離器の操作を示す図である。
半導体廃ガス処理システムは、プロセス廃ガス源３００から排出されたプロセス廃ガス４００を処理するためのものである。半導体廃ガス処理システムは、湿式スクラバー１００と、水分分離器１０と、空気抽出装置２００と、を少なくとも備える。本発明に係る水分分離器１０は、縦方向に沿って、湿式スクラバー１００と空気抽出装置２００との間に位置し、湿式スクラバー１００及び空気抽出装置２００と連通する。上記の湿式スクラバー１００は、洗浄プロセスを行うことにより、半導体廃ガス処理システムのプロセス廃ガス源３００から排出されたプロセス廃ガス４００を洗浄して、プロセス廃ガス４００が洗浄廃ガス５００になる。空気抽出装置２００は、吸引力を発生して、前記吸引力により、湿式スクラバー１００と空気抽出装置２００との間に、負圧環境（低圧環境）が形成される。湿式スクラバー１００により、プロセス廃ガス４００を洗浄して形成される洗浄廃ガス５００を、水分分離器１０の底部から、水分分離器１０に吸い込んで、水分分離器１０が洗浄廃ガス５００に対して分離ろ過プロセスを行い、水分分離器１０の頂部から、分離処理を行った乾燥廃ガス５１０を吸い出す。
本発明に係る水分分離器１０により、分離ろ過プロセスを行って排出された乾燥廃ガス５１０は、殆ど全てのミスト及び粉塵（固体粒子）が除去され、より乾燥している。

本発明に係る半導体廃ガス処理システムの水分分離器１０の特徴の一つは、水分分離器１０が湿式スクラバー１００のタンクの外部に組付けられているため、湿式スクラバー１００のタンクの外部で、分離ろ過プロセスを行うことができる点であり、湿式スクラバー１００のタンクの内部だけで、分離ろ過プロセスを行うことに限定されない。分離されたミストは、自重により、湿式スクラバー１００に自動的にリサイクルして重複して利用することができる。本発明に係る水分分離器１０によれば、ミスト及び粉塵の分離とろ過の効果を保持できるだけではなく、更に、透明可視化、取り外し可能化及び加熱可能化の設計によるため、圧力の変化を観察することができ、クイック交換、及び保全周期の延長などの改良効果を得ることもできる。
本発明に適用する湿式スクラバー１００のタイプ及び構成は、特に限定されず、プロセス廃ガス４００を洗浄することができれば、本発明に適用することができる。一方、本発明に係る半導体廃ガス処理システムに適用する湿式スクラバー１００は、水分分離器１０を設けることにより、湿式スクラバー１００のタンクの内部に設ける気液分離コンポーネント（例えば、ファイバーベッドミストエリミネーターなど）を選択的に省略することができ、これにより、修理保全の速度、コスト及び周期を改善することができる。
本発明に係る水分分離器１０は、湿式スクラバー１００のタンクの外部に位置しても、水分分離器１０におけるミスト及び粉塵の殆ど全部をブロックすることができ、ろ過されたミストは、湿式スクラバー１００のタンクに自動的に回流して重複に利用することができる。ガス流速が約０．２ｍ／ｓ～３．８ｍ／ｓであることを例とする場合には、本発明に係る水分分離器１０によれば、少なくとも約９０％以上のろ過効率を得ることができる。ガス流速が約１．５ｍ／ｓであることを例とする場合には、本発明に係る水分分離器１０によれば、ろ過効率は、更に、約９８％を達成することも可能である。

次に、図１及び図２から図７を参照する。詳細には、図２は、本発明に係る水分分離器１０が湿式スクラバー１００のタンクの外部と空気抽出装置２００との間に組付けられている状態を示す側面透視図である。図３から図７は、本発明に係る水分分離器の分離管を示す図であって、説明の便宜のため、ろ材層を図示しない。
本発明に係る水分分離器１０は、互いに連通する、吸気管２０、分離管３０及び排気管４０と、分離管３０の内部に位置する、少なくとも一つの導流傾斜仕切板５０及びろ材層６０と、を少なくとも備える。分離管３０は、縦方向に沿って、吸気管２０と排気管４０との間に位置し、吸気管２０及び排気管４０と連通する。分離管３０の吸気口３２及び排気口３４は、吸気管２０の排気口２４及び排気管４０の吸気口４２とそれぞれ接続する。吸気管２０は、縦方向に沿って、吸気口２２を経由して上記の湿式スクラバー１００の排気口１０４と連通し、排気管４０は、縦方向に沿って、排気口４４を経由して、空気抽出装置２００の抽気口２１０と連通する。
分離管３０は、例えば、吸気管２０と排気管４０との間に固定するように設けられている。或いは、分離管３０は、例えば、吸気管２０と排気管４０との間に取り外し可能に設けられていてもよい。交換可能なケーシングの設計により、水分分離器１０を修理しようとする場合には、吸気管２０と排気管４０との間から、分離管３０を直接取り外して交換することができるため、現場で組み立てて溶接する必要がない。これにより、修理の工数を大幅に短縮することができる。分離管３０は、例えば、ネジ止め、ソケット締め、クランプ、又は図２に示すフランジ２１などの組み立て方法により、吸気管２０及び排気管４０に取り外し可能に接続されていてもよいが、これらに限定されず、分離管３０を吸気管２０及び／又は排気管４０と取り外し可能に接続すれば、何れの技術でも、本発明に適用することができる。

本発明では、空気抽出装置２００による吸引力により、湿式スクラバー１００から排出されて洗浄プロセス処理を行った洗浄廃ガス５００が、水分分離器１０に吸い込まれ、分離管３０内にあるろ材層６０及び導流傾斜仕切板５０により、分離ろ過プロセスを受ける。これによって、洗浄廃ガス５００から、それに含む殆ど全部のミスト及び粉塵が分離されて、乾燥廃ガス５１０になった後、排気管４０から、より乾燥な乾燥廃ガス５１０が排出され、その後の中央廃ガス処理を行い、又は外部に排出する。上記の吸気管２０、分離管３０及び排気管４０は、例えば、塩素化ポリ塩化ビニル（ＣＰＶＣ）管またはその他の材質を採用するチューブであり、分離管３０は透明な材質を採用してもよい。
透明可視化の設計により、洗浄廃ガス５００に含むミスト及び粉塵のろ過の効果及び程度を観察することができ、吸気管２０の吸気口２２と排気管４０の排気口４４との圧力の変化を便利に観察することができ、修理保全の周期を適当に決めることができる。一方、導流傾斜仕切板５０の材質は、分離管３０と同じでもよく、透明な材質を採用してもよい。これにより、洗浄廃ガス５００に含むミスト及び粉塵のろ過の効果及び程度を便利に観察することができる。

図２から図７を参照する。本発明の別の特徴は、導流傾斜仕切板５０が、分離管３０内に斜めに設けられており、例えば、分離管３０の管壁３１上に斜めに設けられている点であり、分離管３０の管壁３１上に水平に設けられていることではない。ろ材層６０は、分離管３０に充填されており、導流傾斜仕切板５０上、例えば導流傾斜仕切板５０の上方及び／下方に位置し、これにより、複数のろ過ゾーンが形成される。図３に示す３枚の導流傾斜仕切板５０を例とする場合、ろ材層６０により、約４個のろ過ゾーンが形成される。導流傾斜仕切板５０の傾斜方向は、例えば分離管３０の下方（すなわち、吸気口３２側）から上方（すなわち、排気口３４側）へ傾斜することにより、ミスト分離及び気流案内の効果を同時に得ることができ、水分分離器１０のコンダクタンスに対する影響を軽減することができる。
本発明に係る水分分離器１０は半導体プロセスの廃ガス処理システムに適用されるため、ろ材層６０は、耐酸性、耐アルカリ性、耐油性、又は耐有機溶剤性を有する耐食性ろ材を採用してもよい。ろ材層６０は、洗浄が容易で再利用が可能であり、難燃性、軽量、圧力ロスが極めて少ないという効果を有する。例えば、ろ材層６０は、複数のプラスチックストリップ又は少なくとも一つのプラスチックストリップを織り交ぜたろ過構造である。ろ材層６０は、例えば、ポリエステル樹脂を採用し、各プラスチックストリップの直径が約０．０１ｍｍ～３ｍｍであり、例えば約０．１ｍｍであり、千鳥積み後のメッシュ数は、１００（メッシュ／インチ）～１，０００（メッシュ／インチ）程度であり、例えば約５００（メッシュ／インチ）である。或いは、本発明では、まず、ろ材層６０をろ材バーを有するものに作製し、その幅は、分離管３０の直径とやや同じ、又は分離管３０の直径よりも少し大きく、その厚さは、約１０ｍｍ～１００ｍｍ、例えば２５ｍｍ～５０ｍｍである。そして、例えば、上記の導流傾斜仕切板５０の上方及び／又は下方にあるろ過ゾーンに、一つの前記濾材バーをそれぞれ入れる。
ろ材層６０と分離管３０の体積比は、約１／１０～１／１であり、例えば約１／２～１／１である。本発明に係る吸気管２０、分離管３０及び排気管４０は、円筒であることを例とするが、これに限定されない。本発明に係る吸気管２０、分離管３０及び排気管４０は、外観の形状が特に限定されず、例えば多角形のチューブやその他の中空構造でもよい。

本発明に係る導流傾斜仕切板５０には、複数の通気穴５２が設けられていてもよい。通気穴５２は、図８に示すように、縦方向または傾斜方向に沿って導流傾斜仕切板５０の上面及び下面を貫通する。通気穴５２は、乾燥廃ガス５１０を通過可能にするためのものであり、そしてミスト及び粉塵をろ過してブロックすることができる。このため、通気穴５２の穴径の寸法は、例えばガスの分子の直径よりも大きいが、ミストと粉塵との直径よりも小さい。しかし、本発明は、これに限定されない。そして、ミスト及び粉塵は、導流傾斜仕切板５０に当たる前に、ろ材層６０に徐々にブロックされるため、通気穴５２の穴径の寸法は、例えばミストと粉塵との直径よりも大きくてもよく、コンダクタンスの降下または圧力差の増加を回避することができる。
一方、導流傾斜仕切板５０は、下面が平坦な面であり、又は下面上にリブや溝などのブロック構造を増設してもよい。これにより、ミスト及び粉塵は、導流傾斜仕切板５０に当たると、リブや溝などのブロック構造により、導流傾斜仕切板５０に溜まるため、重量が増加して墜落する。これにより、ミスト及び粉塵をろ過して分離する効果が向上する。

本発明に係る水分分離器之分離管３０の口径は、例えば吸気管２０の吸気口２２の口径よりも大きく、すなわち、分離管３０の口径は、例えば湿式スクラバー１００の排気口１０４の口径よりも大きい。これにより、洗浄廃ガス５００に対して分離ろ過プロセスを行うことができ、コンダクタンス又は圧力差に悪影響を与えることを回避することができる。
例えば、分離管３０の口径と排気口１０４の口径の比は、約１：１～１０：１であり、例えば約２：１でもよいが、本発明は、これに限定されない。分離管３０の口径と排気口１０４の口径の比は、例えば１０：１よりも大きくてもよい。一方、吸気管２０の口径は、例えば、排気口２４の口径が実質的に分離管３０の吸気口３２の口径と同じになるまで、吸気口２２から排気口２４へ、徐々に増加し、又は段階的に増加する。分離管３０の口径は、例えば一定であり、又は変化する。

上記と同じように、本発明の特徴は、導流傾斜仕切板５０が分離管３０内に斜めに設けられていることにある。導流傾斜仕切板５０は、例えば、分離管３０の管壁３１に、固定されており、又は取り外し可能に設けられている。図９に示すように、取り外し可能なものを例とする場合には、分離管３０は、例えば、管壁３１の表面に斜めに少なくとも一つ設けられている溝３６を有し、導流傾斜仕切板５０は、例えば、外から内へ、溝３６に気密に差し込まれていることにより、上記の分離ろ過プロセスを行っているときに、負圧環境を保持することができる。導流傾斜仕切板５０と溝３６の数量及び寸法は、互いに対応する。
導流傾斜仕切板５０は、分離管３０の管壁３１上に取り外し可能に設けられているため、作製プロセスの実際の必要によって、導流傾斜仕切板５０の仕様や寸法を変更することができる。本発明では、導流傾斜仕切板５０の数量は、一つ又は複数に限定されず、例えば、図２から図９に示すように、３個であってもよい。また、導流傾斜仕切板５０の形状は、例えば、円弧形（例えば図７に示す半円形）、又は多辺形（例えば正方形や長方形など）を呈する。しかし、導流傾斜仕切板５０の外観の形状は、これらに限定されず、例えば、扇形やその他の形状を呈してもよく、例えば螺旋状を呈する板状構造でもよい。
単一の導流傾斜仕切板５０を例とする場合には、導流傾斜仕切板５０が分離管３０内に斜めに設けられており、導流傾斜仕切板５０の投影区域が、その外観によって異なり、分離管３０の吸気口３２と一部または全部重なることに限定されず、上記の分離ろ過プロセスを行うことができれば、本発明に適用することができる。導流傾斜仕切板５０が複数あることを例とする場合には、これらの導流傾斜仕切板５０がそれぞれ分離管３０内に斜めに設けられており、ひいては分離管３０内で層状に分配され、千鳥配置される。これらの導流傾斜仕切板５０の投影区域は、それぞれ分離管３０の吸気口３２と一部重なり、または全て分離管３０の吸気口３２と重なる。本発明に係る導流傾斜仕切板５０は、図２から図９に示す平板構造を例とするが、本発明は、これに限定されない。

また、図１に示すように、上記のプロセス廃ガス源３００は、例えば半導体プロセスを行うための半導体プロセスチャンバーであり、プロセス廃ガス４００は、例えば上記の半導体プロセスから排出された廃ガスであり、例えば有毒廃ガス、又は温室ガスなどの粒子を含有する廃ガスである。ただし、本発明は、特定の半導体プロセスチャンバー、及びそれで行われる半導体プロセスのタイプに限定されず、プロセス廃ガス４００を発生すれば、本発明に係る半導体廃ガス処理システムにより廃ガスを処理することに適用することができる。例えば、本発明に係るプロセス廃ガス源３００は、実際に行われる半導体プロセスによって、半導体プロセスチャンバーの他、プロセス廃ガスを排出するためのターボポンプ（ＴｕｒｂｏＰｕｍｐ）が組付けられた半導体プロセスチャンバーでもよい。換言すると、本発明に係る半導体廃ガス処理システムに適用されるプロセス廃ガス源３００は、上記の例に限定されず、半導体プロセス廃ガスを排出可能な何れの廃ガス源も、全て本発明に適用することができる。
プロセス廃ガス４００は、半導体プロセスにおいて、発生されたプロセス廃ガスであり、例えばパーフルオロカーボン（ＰＦＣｓ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）、六フッ化硫黄（ＳＦ_６）、三フッ化窒素（ＮＦ_３）、アンモニア（ＮＨ_３）、ボロエタン（Ｂ_２Ｈ_６）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣｓ）及び／又は炭化水素化合物（Ｃ_ｘＨ_ｙ）などの有毒ガスや温室ガスであるが、これらに限定されない。上記の半導体プロセスが原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃｌａｙｅｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＡＬＤ）作製プロセスである場合には、プロセス廃ガスは、例えばトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）、テトラ（エチルメチルアミノ）ジルコニウム（ＴＥＭＡＺ）及び／又はテトラキス（エチルメチルアミノ）ハフニウム（ＴＥＭＡＨ）であるが、これらに限定されない。

上記の半導体廃ガス処理システムの空気抽出装置２００は、例えば真空ポンプである。湿式スクラバー１００は、図１に示すように、吸気口１０２を経由してプロセス廃ガス源３００の排気端３０４と連通し、洗浄液により、プロセス廃ガス源３００から排出されたプロセス廃ガス４００に対して洗浄プロセスを行う。これにより、プロセス廃ガス４００が洗浄されて洗浄廃ガス５００になって、例えば空気抽出装置２００による吸引力により、湿式スクラバー１００の排気口１０４から水分分離器１０に排出されて、分離ろ過プロセスを受ける。空気抽出装置２００の真空度は、半導体プロセスの実際の必要によって調整され、例えば約４００ｔｏｒｒ～６００ｔｏｒｒであり、更に、例えば約７６０ｔｏｒｒ～１０^－３ｔｏｒｒである。

上記のように、本発明に係る湿式スクラバー１００のタイプ及び構造は、特に限定されず、プロセス廃ガス４００を洗浄することができれば、本発明に適用することができる。例えば、本発明の一実施の態様において、湿式スクラバー１００は、例えば負圧ジェット管を利用して洗浄液を高速に噴射することによる低圧環境により、プロセス廃ガス源３００から排出されたプロセス廃ガス４００を吸い込んで、高速な洗浄液により、プロセス廃ガス４００をカットして、浮力が極めて小くて全体の表面積が大幅に増加するマイクロバブルを生じる。このため、マイクロバブルが洗浄液の深い所から、ゆっくり浮き上がっている過程中に、洗浄液は、マイクロバブル及びそれに含む粉塵などの固体粒子を十分に捕捉して吸収することができる。
次に、本発明では、空気抽出装置２００による吸引力により、湿式スクラバー１００から、洗浄プロセスが行われた洗浄廃ガス５００を排出することができるため、洗浄廃ガス５００が、湿式スクラバー１００と連通する水分分離器１０に進入して、分離ろ過プロセスを受ける。

詳細には、図１０に示すように、上記の半導体廃ガス処理システムの湿式スクラバー１００は、例えば、ベンチュリスロート（Ｖｅｎｔｕｒｉｔｈｒｏａｔ）原理を利用して、負圧ジェット管１１０により洗浄液１１２を噴射し、図１に示すように、プロセス廃ガス源３００と湿式スクラバー１００との間に低圧環境を発生して、プロセス廃ガス源３００から排出されたプロセス廃ガス４００を吸い込んで、高速な洗浄液１１２によって、プロセス廃ガス４００をカットしてマイクロバブルを形成する。これにより、接触面積及び接触時間が大幅に増加して、洗浄液１１２は、プロセス廃ガス４００を十分に溶解して反応することができ、粉塵などの粒子を捕捉することもできるため、プロセス廃ガス４００が洗浄されて洗浄廃ガス５００になる。詳細には、本発明に係る湿式スクラバー１００は、図１０に示すように、ベンチュリスロート原理を採用するジェットタイプのマイクロバブル湿式廃ガススクラバーを例とする。
湿式スクラバー１００は、負圧ジェット管１１０を利用して、縦方向に沿って洗浄液１１２を高速に噴出して低圧環境（約７６０ｔｏｒｒ～１０^－３ｔｏｒｒであり、例えば約４００ｔｏｒｒ～６００ｔｏｒｒの負圧）を形成して、プロセス廃ガス４００を吸い込む。洗浄液１１２の体積は、例えば処理槽の内槽１１４の体積の約５０％～９０％を占め、約６０％～８０％を占めることが良く、約７０％を占めることが更に良い。そして、洗浄液１１２は、負圧ジェット管１１０により、下方へ処理槽の内槽１１４内にある洗浄液１１２を高速に噴射しているときに、プロセス廃ガス４００がカットされて、洗浄液１１２において、複数のマイクロバブル（平均直径は、約１．０ｍｍよりも小さく、例えば０．１ｍｍよりも小さい）が形成される。その寸法は従来の気泡よりも遥かに小さいため、表面積が従来の気泡よりも遥かに大きく、且つマイクロバブルが処理槽の内槽１１４にある洗浄液１１２の深い処から上方へ移動している過程中に、接触面積及び接触時間が大幅に増加するため、マイクロバブルは洗浄液１１２に十分に接触することができる。
プロセス廃ガス４００は洗浄液に溶けるため、マイクロバブルは、上昇している過程中に、体積が徐々に縮小して、ひいては洗浄液１１２において、消失する。内槽１１４の壁に穴があり、内槽１１４における洗浄液は、前記穴により、処理槽の外槽１１６における洗浄液と連通する。洗浄液１１２は、プロセス廃ガス４００を処理するための化学品を含む。化学品は、例えば、生理食塩水、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、重炭酸ナトリウムから構成されるグループから選ばれるが、これらに限定されない。すなわち、洗浄液の組成は、処理されるプロセス廃ガス４００によって決め、適切な塩基を中和に使用して、例えば淡水と水酸化ナトリウムまたはその他の中和剤（例えば石灰）などからなる溶液により、酸性溶液の形成を減らすことができる。これにより、プロセス廃ガス４００における大量のＨＣｌ、ＳＯ_２またはその他の酸性成分を効果的に抽出して中和することができる。例えば水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）_２）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ_３）及び／又は炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ_３）は、洗浄液と混合すると、さまざまな生産源からの他の酸性のプロセス廃ガス４００の吸収を助ける。このため、マイクロバブルが洗浄液に接触している過程中に、プロセス廃ガス４００は洗浄液１１２に十分に溶け、且つ洗浄液１１２は粒子を十分に捕捉することができる。

次に、プロセス廃ガス４００が洗浄されて形成された洗浄廃ガス５００は、洗浄液１１２と共に内槽１１４の液面に拡散して、ミストを形成して、空気抽出装置２００による吸引力により、洗浄廃ガス５００は、湿式スクラバー１００の排気口１０４から、水分分離器１０に排出されて、ミストに対して分離ろ過プロセスを行う。このため、水分分離器１０は、ミスト及び粉塵のろ過及び捕捉の役割を果たす。これにより、洗浄廃ガス５００は乾燥廃ガス５１０になって、この乾燥廃ガス５１０は、例えば中央廃ガス処理システムに排出される。一方、本発明に係る水分分離器１０にブロックされて分離する、洗浄廃ガス５００におけるミスト及び粉塵は、湿式スクラバー１００の外槽１１６又は内槽１１４に落ちる。
次に、例えば、ろ過コンポーネント１１８により、処理槽の外槽１１６又は内槽１１４における洗浄液をろ過して、ウォーターポンプ１２０により、ろ過された洗浄液が、再度負圧ジェット管１１０を経由して処理槽の内槽１１４に注入することにより、負圧が発生され、プロセス廃ガス４００がカットされて、洗浄液１１２において、多数のマイクロバブルが形成される。これにより、節水効果を果たすことができる。換言すると、上記と同じように、本発明に係る湿式スクラバー１００によれば、湿式スクラバー１００のタンクの内部に、気液分離コンポーネントを別に設けることが必要なくなり、すなわち、湿式スクラバー１００のタンクの内部に、気液分離コンポーネントを設けなくてもよい。これにより、修理保全のスピードを向上することができ、修理保全のコストを減少することができ、修理保全の周期を短縮することもできる。

一方、図１１は本発明に係る水分分離器が回転式の分離管を有することを示す図である。図１１に示すように、本発明に係る水分分離器１０の分離管３０と、その上での導流傾斜仕切板５０及びろ材層６０とは、吸気管２０と排気管４０との間に回転可能に設けられていることにより、分離ろ過プロセスによる分離およびろ過の効果を更に増加することができる。分離管３０は、例えば、回転エレメント３３（例えばリング状の軸受け）により、吸気管２０と排気管４０との間に回転可能に設けられている。
本発明に係る分離管３０は、例えば、電力及びコンポーネントにより、分離管３０及びその上での導流傾斜仕切板５０とろ材層６０とを回転することができるが、本発明の別の特徴は、例えば、湿式スクラバー１００から排出された洗浄廃ガス５００の気流だけにより、分離管３０を回転することができるため、分離管３０に設けられている導流傾斜仕切板５０及びろ材層６０も同期に回転されることにある。これにより、上記の回転に必要とされる余分の電力及びコンポーネントによるコストを無くすことができ、分離およびろ過の効果を向上することができる。一方、本発明に係る水分分離器１０には、更に、回転可能な分離管３０を覆う外ケーシング７０が増設されており、外ケーシング７０により、空気抽出装置２００による吸引力を保持することができる。例えば外ケーシング７０の両端は、吸気管２０及び排気管４０と気密に接続し、且つ分離管３０は、外ケーシング７０の内部に回転可能に設けられていることにより、上記の負圧環境の条件を保持する状態で、分離ろ過プロセスを行う。外ケーシング７０の両端は、例えばそれぞれ吸気管２０及び排気管４０に、固定されており、又は取り外し可能に接続されている。外ケーシング７０の材質は、分離管３０の材質と同じでもいいし、透明な材質を同様に採用してもよい。

一方、本発明に係る半導体廃ガス処理システムは、図１２に示すように、水分分離器１０と空気抽出装置２００との間に設けられている燃焼処理装置６００を備えてもよい。水分分離器１０の排気管４０は、縦方向に沿って設けられており、排気管４０の排気口４４は、燃焼処理装置６００の吸気口６０２と接続する。湿式スクラバー１００から排出された洗浄廃ガス５００は、まず、水分分離器１０により、洗浄廃ガス５００に含むミスト及び粉塵を分離して、乾燥廃ガス５１０を形成した後、乾燥廃ガス５１０を燃焼処理装置６００に排出して、燃焼処理を行う。
燃焼処理装置６００は、水分分離器１０と空気抽出装置２００との間にある低圧環境に設けられているため、低圧プラズマ処理装置でもよい。燃焼処理装置６００により、乾燥廃ガス５１０に対して低圧プラズマ燃焼処理を行うことができる。同じように、本発明に係る燃焼処理装置６００は、その種類は特に限定されず、例えば大気圧プラズマ燃焼処理装置でもよく、乾燥廃ガス５１０に対して燃焼処理を行うことができれば、全て本発明に適用することができる。

また、水分分離器１０は、図１２に示すように、加熱ベルト４６を備えてもよい。加熱ベルト４６は、例えば排気管４０及び／又は排気管４０と接続する何れかのチューブを覆う。本発明の別の特徴は、加熱ベルト４６により、水分分離器１０の排気管４０及び／又は排気管４０と接続する何れかのチューブを加熱することにより、管路間の温度差が大きすぎることにより、乾燥廃ガス５１０におけるミスト又は粉塵が残留して堆積して、管路を塞ぐことを回避することができる。また、排気管４０の排気口４４を経由して排出された乾燥廃ガス５１０を加熱することにより、乾燥廃ガス５１０がより乾燥して、この後の廃ガス処理を行う助けになる。換言すると、本発明に係る加熱ベルト４６は、水分分離器１０から排出された乾燥空気５１０、排気管４０、又は排気管４０と接続する何れかのチューブの温度を上昇させることができる何れかの加熱コンポーネントである。
加熱ベルト４６は、例えば、加熱ワイヤー及び／又は保温綿のような被覆構造を有するが、これらに限定されない。上記の排気管４０と接続する何れかのチューブとは、例えば、排気管４０の排気口４４及び燃焼処理装置６００の吸気口６０２と連通し、又は中央廃ガス処理システムと連通するための管路である。例えば、本発明に係る半導体廃ガス処理システムが燃焼処理装置６００を備える場合に、上記の加熱ベルト４６は、水分分離器１０の排気管４０、及び排気管４０と燃焼処理装置６００との間に位置し、排気管４０及び燃焼処理装置６００と接続するチューブを加熱することができ、これにより、燃焼処理装置６００の吸気口６０２の塞ぎを回避することができる。

一方、本発明に係る水分分離器１０の分離管３０と湿式スクラバー１００との間には、更に、圧力リリーフバルブ７１０を有する圧力逃がしバイパス管７００が設けられており、圧力逃がしバイパス管７００が水分分離器１０の分離管３０及び湿式スクラバー１００と接続する。
圧力逃がしバイパス管７００は、図１３に示すように、分離管３０の管壁３１の何れかの適合の箇所と接続し、例えば上半部、中央、又は下半部と接続し、且つ上記の適合の箇所は、例えば、異なる高さにある導流傾斜仕切板５０又はろ材層６０に対応してもよい。圧力リリーフバルブ７１０は、湿式スクラバー１００から排出された洗浄廃ガス５００の排出圧力が臨界値（プリセット値）を超えたときに作動する。このような安全防爆設計により、プロセス廃ガス源３００が大量のプロセス廃ガス４００を突然に排出し、又は水分分離器１０が多すぎる粉塵を捕捉することにより、管路が塞がり、又はろ過効果が降下しても、湿式スクラバー１００と空気抽出装置２００との間に閉塞が発生しないため、爆発やその他の問題を回避することができる。

以上の記述は例を挙げたものにすぎず、限定するものではない。本発明の精神及び範疇から逸脱しない、それに対して行ういかなる同等効果の修正又は変更も、添付の請求の範囲に含まれる。

１０水分分離器
２０吸気管
２１フランジ
２２吸気口
２４排気口
３０分離管
３１管壁
３２吸気口
３３回転エレメント
３４排気口
３６溝
４０排気管
４２吸気口
４４排気口
４６加熱ベルト
５０導流傾斜仕切板
５２通気穴
６０ろ材層
７０外ケーシング
１００湿式スクラバー
１０２吸気口
１０４排気口
１１０負圧ジェット管
１１２洗浄液
１１４内槽
１１６外槽
１１８ろ過コンポーネント
１２０ウォーターポンプ
２００空気抽出装置
２１０抽気口
３００プロセス廃ガス源
３０４排気端
４００プロセス廃ガス
５００洗浄廃ガス
５１０乾燥廃ガス
６００燃焼処理装置
６０２吸気口
７００圧力逃がしバイパス管
７１０圧力リリーフバルブ

Claims

縦方向に沿って、下位の湿式スクラバーと上位の空気抽出装置の間に位置し、湿式スクラバーと空気抽出装置に連通する水分分離器において、
吸気管と、分離管と、排気管と、少なくとも一つの導流傾斜仕切板と、少なくとも一つのろ材層と、を少なくとも備え、縦方向に沿って、湿式スクラバーと空気抽出装置を連通する水分分離器において、
吸気管と、分離管と、排気管と、少なくとも一つの導流傾斜仕切板と、少なくとも一つのろ材層と、を少なくとも備え、
前記空気抽出装置は真空ポンプであり、
前記分離管の口径は前記吸気管の吸気口の口径よりも大きく、
前記分離管は、縦方向に沿って、分離管の下位に位置する前記吸気管と分離管の上位に位置する前記排気管に連通し、
前記吸気管は、縦方向に沿って設けられ、前記湿式スクラバーの排気口と連通し、
前記排気管は、縦方向に沿って設けられ、前記真空ポンプの抽気口と連通し、
前記導流傾斜仕切板は、前記分離管内に斜めに設けられており、
前記ろ材層は、前記分離管に充填されており、前記導流傾斜仕切板上に位置し、複数のろ過ゾーンを形成し、
前記湿式スクラバーは、プロセス廃ガス源から排出されたプロセス廃ガスを洗浄して、洗浄廃ガスを排出し、
前記真空ポンプは、吸引力を発生して、前記吸引力により、前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスが、前記吸気管を経由して前記分離管に入って、前記分離管内にある前記ろ材層及び前記導流傾斜仕切板により、前記洗浄廃ガスに含むミスト及び粉塵を分離した後、乾燥廃ガスになって、前記排気管から排出されることを特徴とする、
水分分離器。
前記導流傾斜仕切板は、前記分離管の管壁に取り外し可能に設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記分離管は、斜めに前記管壁の表面に沿って分布されている溝を少なくとも一つ有し、前記導流傾斜仕切板は、前記溝に気密に差し込まれていることを特徴とする、請求項２に記載の水分分離器。
前記導流傾斜仕切板の投影区域は、前記分離管の吸気口と一部または全部に重なることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記水分分離器の前記分離管と前記湿式スクラバーとの間には、更に、圧力リリーフバルブを有する圧力逃がしバイパス管が接続されていることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記水分分離器と前記真空ポンプとの間には、更に、燃焼処理装置が設けられており、前記排気管は、縦方向に沿って設けられており、その排気口が前記燃焼処理装置の吸気口に接続されており、前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスは、まず、前記水分分離器により、前記洗浄廃ガスが含むミスト及び粉塵が分離されて、前記乾燥廃ガスになった後、前記乾燥廃ガスが、前記燃焼処理装置に排出されて、燃焼処理が行われることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記排気管は、更に、加熱ベルトでに覆われており、前記加熱ベルトにより、前記排気管の前記排気口を経由して排出された前記乾燥廃ガスが加熱されることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記吸気管の吸気口は、前記湿式スクラバーの前記排気口に取り外し可能に接続されており、前記排気管の前記排気口は、前記燃焼処理装置の前記吸気口に取り外し可能に接続されていることを特徴とする、請求項６に記載の水分分離器。
前記分離管は、前記吸気管と前記排気管との間に位置し、前記吸気管と前記排気管とに取り外し可能に接続されていることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記導流傾斜仕切板は、複数あり、それぞれ斜めに前記分離管内に設けられており、前記分離管内に層状に千鳥状に分布されていることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記複数の導流傾斜仕切板の投影区域は、それぞれ前記分離管の吸気口と一部重なり、その後、それら全てが前記分離管の前記吸気口と重なることを特徴とする、請求項１０に記載の水分分離器。
前記分離管は、前記吸気管と前記排気管との間に回転可能に設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
更に、外ケーシングを備え、前記外ケーシングの両端は、前記吸気管及び前記排気管とそれぞれ気密に接続されており、前記分離管は、前記外ケーシングの内部に回転可能に設けられていることを特徴とする、請求項１２に記載の水分分離器。
前記分離管は、前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスに駆動されて回転することを特徴とする、請求項１２に記載の水分分離器。
前記分離管は、円筒または多角管であり、前記導流傾斜仕切板は、円弧形、多辺形、又は螺旋形を呈することを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記導流傾斜仕切板は、縦方向または斜め方向に沿って、前記導流傾斜仕切板の上面と下面とを貫通する通気穴を複数有することを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記分離管は、透明な素材から構成されることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記ろ材層は、少なくとも一つのプラスチックストリップを織り交ぜたろ過構造であることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記ろ材層は、耐酸性、耐アルカリ性、耐油性、又は耐有機溶剤性を有する耐食性ろ材であることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
前記吸気管、前記分離管及び前記排気管は、塩素化ポリ塩化ビニル（ＣＰＶＣ）管であることを特徴とする、請求項１に記載の水分分離器。
プロセス廃ガス源から排出されたプロセス廃ガスを処理するための半導体廃ガス処理システムにおいて、
前記プロセス廃ガスを洗浄して、洗浄廃ガスを排出する湿式スクラバーと、
前記湿式スクラバーのタンクの外部に設けられている請求項１から２０のいずれか１項に記載の前記水分分離器と、
吸引力を発生して、前記吸引力により、湿式スクラバーと真空ポンプとの間に負圧環境を形成する真空ポンプと、を含み、
前記水分分離器は、下位の前記湿式スクラバーと上位の前記真空ポンプとの間に位置し、前記湿式スクラバー及び前記真空ポンプと連通し、
前記湿式スクラバーから排出された前記洗浄廃ガスが、まず、前記水分分離器を経由して、前記洗浄廃ガスに含むミスト及び粉塵が分離されて、乾燥廃ガスが形成された後、前記乾燥廃ガスを排出することを特徴とする、
半導体廃ガス処理システム。
前記湿式スクラバーは、負圧ジェット管を利用して、洗浄液を高速に噴射することにより、負圧環境を発生して、前記プロセス廃ガス源から排出された前記プロセス廃ガスを吸い込み、高速に噴射された前記洗浄液により、前記プロセス廃ガスがカットされてマイクロバブルが形成され、これにより、前記マイクロバブル及びそれに携帯される粉塵が捕捉・吸着され、前記真空ポンプによる前記吸引力により、前記湿式スクラバーが前記洗浄廃ガスを排出して、前記洗浄廃ガスが、前記湿式スクラバーと連通する前記水分分離器に進入して、分離ろ過プロセスを受けることにより、前記洗浄廃ガスは前記乾燥廃ガスになることを特徴とする、請求項２１に記載の半導体廃ガス処理システム。