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JP7517063B2 - Printing member, method for manufacturing printing member, and method for manufacturing printed matter using same - Google Patents
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Description

本発明は、印刷部材、印刷部材の製造方法、およびそれを用いた印刷物の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a printing material, a method for manufacturing a printing material, and a method for manufacturing a printed matter using the same.

印刷には、凸版印刷、凹版印刷、孔版(スクリーン)印刷、平版印刷など様々な方式があり、各方式の特徴を活かして印刷が行われている。 There are various printing methods, including letterpress printing, intaglio printing, stencil (screen) printing, and planographic printing, and printing is done by taking advantage of the characteristics of each method.

中でも平版印刷は、精細度の高い印刷物が得られる点や、ランニングコストを含めたトータルコストが安価である点などで他の印刷方式に比べ有利である。 Lithographic printing is particularly advantageous over other printing methods in that it produces highly detailed prints and has low total costs, including running costs.

平版印刷は、インキ着肉性の画線部とインキ反発性の非画線部を印刷版のほぼ同一平面に存在させ、インキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷媒体にインキを転写する印刷方法である。平版印刷のための印刷版(以下、平版印刷版という)には、湿し水の作用によって非画線部をインキ反発性とするものと、湿し水を用いることなく、シリコーンゴムやフッ素樹脂をインキ反発性の非画線部として使用するものとに大別される。 Lithographic printing is a printing method in which ink-receptive image areas and ink-repellent non-image areas are placed on nearly the same plane on a printing plate, and ink is applied only to the image areas by utilizing the difference in ink adhesion, and then the ink is transferred to a print medium such as paper. Printing plates for lithographic printing (hereafter referred to as lithographic printing plates) are broadly divided into those in which the non-image areas are made ink-repellent by the action of dampening water, and those in which silicone rubber or fluororesin is used for the ink-repellent non-image areas without using dampening water.

シリコーンゴムやフッ素樹脂をインキ反発性の非画線部として使用する平版印刷版として、特許文献1には、インキ反発層としてシリコーンゴムを用いる水なし平版印刷版原版が記載されている。 As a lithographic printing plate that uses silicone rubber or fluororesin as the ink-repellent non-printing areas, Patent Document 1 describes a waterless lithographic printing plate precursor that uses silicone rubber as the ink-repellent layer.

国際公開第2016/076286号International Publication No. 2016/076286

特許文献1に記載の水なし平版印刷版原版は、支持体上に感熱層およびインキ反発性シリコーンゴム層がこの順に積層された多層構造であるため、印刷版を得るには露光後に現像処理を行う必要があった。 The waterless lithographic printing plate precursor described in Patent Document 1 has a multi-layer structure in which a heat-sensitive layer and an ink-repellent silicone rubber layer are laminated in that order on a support, so development processing was required after exposure to obtain a printing plate.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、インキ反発性、およびインキ着肉性に優れた印刷部材およびその製造方法、並びに当該印刷部材を用いた印刷物の製造方法を提供することである。 The problem that the present invention aims to solve is to provide a printing member that has excellent ink repellency and ink adhesion, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a printed matter using the printing member.

上記課題を解決するため、本発明の印刷部材は次の構成を有する。すなわち、支持体、並びに、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層を有する印刷部材であって、該層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有し、前記インキ反発部がジオルガノシロキサン単位を含み、前記インキ着肉部がシルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含み、前記インキ着肉部の平均弾性率と前記インキ反発部の平均弾性率の差が100~10000MPaである、印刷部材、である。 In order to solve the above problems, the printing member of the present invention has the following configuration: That is, the printing member has a support and a layer consisting of an ink-repelling portion and an ink-receiving portion, the ink-repelling portion and the ink-receiving portion are present on at least the surface of the layer, the ink-repelling portion contains a diorganosiloxane unit, the ink-receiving portion contains a silsesquioxane structure and/or a glass structure, and the difference between the average elastic modulus of the ink-receiving portion and the average elastic modulus of the ink-repelling portion is 100 to 10,000 MPa .

本発明によれば、インキ反発性、およびインキ着肉性に優れた印刷部材を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a printing member with excellent ink repellency and ink adhesion.

インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有する印刷部材の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a printing member having an ink-repelling portion and an ink-receiving portion on at least the surface of a layer made of an ink-repelling portion and an ink-receiving portion. インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有する印刷部材の一例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an example of a printing member having an ink-repelling portion and an ink-receiving portion on at least the surface of a layer made of an ink-repelling portion and an ink-receiving portion. 本発明に係る印刷物の製造方法の一例を示す断面図である。1A to 1C are cross-sectional views showing an example of a method for producing a printed matter according to the present invention.

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention is described in detail below.

本発明に係る印刷部材は、支持体、並びに、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層を有する印刷部材であって、該層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有する。 The printing member according to the present invention is a printing member having a support and a layer consisting of an ink-repelling portion and an ink-receiving portion, and the ink-repelling portion and the ink-receiving portion are present on at least the surface of the layer.

本発明に用いられる支持体としては、従来平版印刷版の基板として用いられてきた寸法的に安定な公知の紙、金属、ガラス、フィルムなどを使用することができる。具体的には、上質紙、アート紙、コート紙、キャスト紙、合成紙などの紙;プラスチック(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙;アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、鉄、鋼、亜鉛、銅などの金属板;ソーダライム、石英などのガラス板;シリコンウエハー;セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのプラスチックフィルム;前記金属がラミネートまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムは透明でも不透明でもよいが、不透明のフィルムが検版性を向上させる上で好ましい。 As the support used in the present invention, known dimensionally stable paper, metal, glass, film, etc. that have been used as substrates for conventional lithographic printing plates can be used. Specific examples include paper such as fine paper, art paper, coated paper, cast paper, synthetic paper, etc.; paper laminated with plastic (polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.); metal plates such as aluminum (including aluminum alloys), iron, steel, zinc, copper, etc.; glass plates such as soda lime and quartz; silicon wafers; plastic films such as cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.; paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above-mentioned metals, etc. The plastic film may be transparent or opaque, but opaque films are preferred in terms of improving plate inspection properties.

これらの中でも、支持体の表面が金属またはプラスチックであるものを使用することが好ましい。そのような支持体として、合成紙、金属板、プラスチックフィルム、金属が蒸着またはラミネートされた紙またはプラスチックフィルム、プラスチックフィルムがラミネートされた紙または金属板などが好ましく、金属板、プラスチックフィルムがより好ましい。 Among these, it is preferable to use a support whose surface is metal or plastic. As such supports, synthetic paper, metal plate, plastic film, paper or plastic film on which metal is vapor-deposited or laminated, paper or metal plate laminated with plastic film, etc. are preferable, and metal plate and plastic film are more preferable.

支持体と、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層との接着力を高める目的で、支持体表面にコロナ放電処理やプラズマ処理などの表面処理を施してもよい。また、支持体と、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層との間にプライマー層(接着層)を設けてもよい。さらにこれらを併用してもよい。 In order to increase the adhesive strength between the support and the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-receiving portion, the surface of the support may be subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a plasma treatment. Also, a primer layer (adhesive layer) may be provided between the support and the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-receiving portion. Furthermore, these may be used in combination.

支持体の厚みは特に限定されず、印刷に使用される印刷機に対応した厚みを選択すればよい。 There are no particular limitations on the thickness of the support, and a thickness that is compatible with the printing machine used for printing can be selected.

また、支持体の形状は、板状の他に、ロール状、円筒状または円柱状の支持体も使用することができる。円筒状や円柱状の支持体を用いた場合には、継ぎ目のないシームレス印刷やエンドレス印刷が可能となる。また、印刷機の版胴を円筒状や円柱状の支持体として用いてもよい。 In addition to plate-shaped supports, roll-shaped, cylindrical or columnar supports can also be used. When a cylindrical or columnar support is used, seamless printing or endless printing without seams becomes possible. The plate cylinder of a printing press can also be used as a cylindrical or columnar support.

本発明に係る印刷部材は、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有する。ここで、表面とは、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層における支持体に対向しない面の表層から支持体方向に形成される領域をいう。 The printing member according to the present invention has an ink-repelling portion and an ink-receiving portion on at least the surface of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-receiving portion. Here, the surface refers to the region formed in the direction of the support from the surface layer of the side of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-receiving portion that does not face the support.

図1および図2は、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有する印刷部材の一例を示す断面図である。図1および図2はともに、支持体1上にインキ反発部およびインキ着肉部からなる層2を有しており、該層の少なくとも表面にインキ反発部3とインキ着肉部4を有している。図1では、インキ着肉部4は支持体1に対向しない面の表層から深さ方向の一部に形成されており、また、図2では、インキ着肉部4は支持体1に対向しない面の表層から支持体に対向する面の表層までインキ着肉部が形成されている。なお、図1および図2では、支持体1上にインキ反発部およびインキ着肉部からなる層2が直接設けられた例を示したが、支持体1とインキ反発部およびインキ着肉部からなる層2との接着力を高める目的で、支持体1とインキ反発部およびインキ着肉部からなる層2との間にプライマー層(接着層)を設けてもよい。 1 and 2 are cross-sectional views showing an example of a printing member having an ink-repelling portion and an ink-applied portion on at least the surface of a layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion. In both of FIG. 1 and FIG. 2, a layer 2 consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion is provided on a support 1, and at least the surface of the layer has an ink-repelling portion 3 and an ink-applied portion 4. In FIG. 1, the ink-applied portion 4 is formed in a part of the depth direction from the surface layer of the surface that does not face the support 1, and in FIG. 2, the ink-applied portion 4 is formed from the surface layer of the surface that does not face the support 1 to the surface layer of the surface that faces the support. Note that, although FIG. 1 and FIG. 2 show an example in which the layer 2 consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion is provided directly on the support 1, a primer layer (adhesive layer) may be provided between the support 1 and the layer 2 consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion in order to increase the adhesive strength between the support 1 and the layer 2 consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion.

本発明において、インキ着肉部とは、印刷部材表面にインキを展開した際にインキが付着する(インキが着肉する)部分を指し、インキ反発部とは、印刷部材表面にインキを展開した際にインキが付着しない(インキを反発する)部分を指す。インキ着肉部は支持体に対向しない面の表層から深さ方向の一部に形成されていてもよいし、支持体に対向しない面の表層から支持体に対向する面の表層までインキ着肉部が形成されていてもよい。 In the present invention, the ink-receiving portion refers to the portion to which ink adheres (the ink adheres) when ink is spread on the surface of the printing material, and the ink-repelling portion refers to the portion to which ink does not adhere (the ink is repelled) when ink is spread on the surface of the printing material. The ink-receiving portion may be formed in a part of the depth direction from the surface layer of the surface that does not face the support, or the ink-receiving portion may be formed from the surface layer of the surface that does not face the support to the surface layer of the surface that faces the support.

本発明に係る印刷部材は、インキ反発部に含まれる粒子の含有率が0~5体積%であることが好ましい。本発明における粒子とは、大気圧25℃の環境下において粒状を示す、無機または有機の固体を指す。また、粒子の内部に大気圧25℃の環境下において流動性を示す液体を含むマイクロカプセルなどの粒子も本発明の粒子の範疇である。具体的には、膜強度を向上させる目的で添加されるシリカ粒子、検版性を付与する目的で添加される無機や有機の有色顔料、光照射により濡れ性を変化させる目的で添加されるチタニア粒子(光触媒)、耐擦過性を向上させる目的で添加されるフッ素樹脂粒子などが挙げられるが、これらに限定されない。これらの粒子は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。本発明における粒子の平均粒子径は5nm以上40μm以下が好ましく、10nm以上35μm以下がより好ましい。また、インキ反発部に含まれる粒子の平均粒子径は、印刷部材断面を電子顕微鏡により観察することで求められる。より詳しくは、超薄切片法にて得た印刷部材のインキ反発部断面を電子顕微鏡にて観察し、100個の粒子をランダムに選択して各々の等価円相当径を測長した後、その平均値を算出することでインキ反発部に含まれる粒子の平均粒子径を求めることができる。 In the printing member according to the present invention, the content of particles contained in the ink-repelling portion is preferably 0 to 5% by volume. The particles in the present invention refer to inorganic or organic solids that exhibit a granular shape in an environment of atmospheric pressure and 25°C. In addition, particles such as microcapsules that contain a liquid that exhibits fluidity in an environment of atmospheric pressure and 25°C are also included in the category of particles in the present invention. Specifically, silica particles added to improve film strength, inorganic or organic colored pigments added to impart plate inspection properties, titania particles (photocatalysts) added to change wettability by light irradiation, and fluororesin particles added to improve abrasion resistance are included, but are not limited to these. These particles may be used alone or in combination of two or more types. The average particle size of the particles in the present invention is preferably 5 nm or more and 40 μm or less, and more preferably 10 nm or more and 35 μm or less. The average particle size of the particles contained in the ink-repelling portion is determined by observing the cross section of the printing member with an electron microscope. More specifically, the cross section of the ink-repelling portion of the printing member obtained by the ultrathin section method is observed under an electron microscope, 100 particles are randomly selected, the equivalent circle diameter of each is measured, and the average value is calculated to determine the average particle diameter of the particles contained in the ink-repelling portion.

インキ反発性の観点からは、インキ反発部における粒子の含有率は5体積%以下であることが好ましく、3体積%以下がより好ましく、2体積%以下がさらに好ましく、0体積%が最も好ましい。インキ反発部に含まれる粒子の含有率は、印刷部材断面を電子顕微鏡により観察することで求められる。より詳しくは、連続超薄切片法にて得た印刷部材のインキ反発部断面の三次元情報から、単位体積あたりの粒子体積を算出することにより求めることができる。インキ反発部の垂直方向において、インキ反発部の支持体に対向する面の表層、支持体に対向しない面の表層、および層内部の任意の点の10点について単位体積あたりの粒子体積を算出し、その平均値をインキ反発部に含まれる粒子の含有率とする。 From the viewpoint of ink repellency, the particle content in the ink repellent portion is preferably 5% by volume or less, more preferably 3% by volume or less, even more preferably 2% by volume or less, and most preferably 0% by volume. The particle content in the ink repellent portion is determined by observing the cross section of the printing member with an electron microscope. More specifically, it can be determined by calculating the particle volume per unit volume from three-dimensional information of the cross section of the ink repellent portion of the printing member obtained by serial ultrathin sectioning. In the vertical direction of the ink repellent portion, the particle volume per unit volume is calculated for the surface layer of the surface facing the support of the ink repellent portion, the surface layer of the surface not facing the support, and 10 arbitrary points inside the layer, and the average value is taken as the particle content in the ink repellent portion.

本発明において、インキ着肉部の平均弾性率は、60MPa以上が好ましく、100MPa以上がより好ましく、150MPa以上がさらに好ましく、200MPa以上がさらにより好ましい。また、本発明におけるインキ着肉部の平均弾性率は、10000MPa以下が好ましく、6000MPa以下がより好ましく、2000MPa以下がさらに好ましく、1000MPa以下がさらにより好ましい。60MPa以上であればインキ着肉性がさらに向上するため好ましく、10000MPa以下であれば強靱な膜が得られ、耐刷性が向上するため好ましい。 In the present invention, the average elastic modulus of the ink-receiving portion is preferably 60 MPa or more, more preferably 100 MPa or more, even more preferably 150 MPa or more, and even more preferably 200 MPa or more. In addition, the average elastic modulus of the ink-receiving portion in the present invention is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 6,000 MPa or less, even more preferably 2,000 MPa or less, and even more preferably 1,000 MPa or less. If it is 60 MPa or more, it is preferable because the ink receivability is further improved, and if it is 10,000 MPa or less, it is preferable because a tough film is obtained and printing durability is improved.

一方、インキ反発部の平均弾性率は、0.001~10MPaであることが好ましい。0.001MPa以上であれば、耐刷性が向上するため好ましく、10MPa以下であればインキ反発性がさらに向上するため好ましい。0.01~5MPaがより好ましく、0.1~3MPaが更に好ましい。 On the other hand, the average elastic modulus of the ink-repellent portion is preferably 0.001 to 10 MPa. If it is 0.001 MPa or more, printing durability is improved, which is preferable, and if it is 10 MPa or less, ink repellency is further improved, which is preferable. 0.01 to 5 MPa is more preferable, and 0.1 to 3 MPa is even more preferable.

また、インキ着肉部の平均弾性率とインキ反発部の平均弾性率との差は、50MPa以上が好ましく、100MPa以上がより好ましく、150MPa以上がさらに好ましく、200MPa以上がさらにより好ましい。また、本発明におけるインキ着肉部の平均弾性率とインキ反発部の平均弾性率との差は、10000MPa以下が好ましく、6000MPa以下がより好ましく、2000MPa以下がさらに好ましく、1500MPaがさらにより好ましい。インキ着肉部の平均弾性率とインキ反発部の平均弾性率との差が上記範囲内であれば、印刷部材におけるインキ反発性とインキ着肉性の双方をさらに向上することができるため好ましい。 The difference between the average modulus of elasticity of the ink-applied portion and the average modulus of elasticity of the ink-repelling portion is preferably 50 MPa or more, more preferably 100 MPa or more, even more preferably 150 MPa or more, and even more preferably 200 MPa or more. The difference between the average modulus of elasticity of the ink-applied portion and the average modulus of elasticity of the ink-repelling portion in the present invention is preferably 10,000 MPa or less, more preferably 6,000 MPa or less, even more preferably 2,000 MPa or less, and even more preferably 1,500 MPa. If the difference between the average modulus of elasticity of the ink-applied portion and the average modulus of elasticity of the ink-repelling portion is within the above range, both the ink repellency and ink adhesion of the printing member can be further improved, which is preferable.

印刷部材のインキ着肉部やインキ反発部の弾性率は、先端鋭利な探針を用いて極僅かな荷重にて分析を行う原子間力顕微鏡を用いたフォースボリューム法での分析が好適である。先端曲率半径が5~20nmのシリコン製または窒化珪素製の探針を使用し、1~20nNの荷重で分析することで、下層や支持体の影響を排除した各部のみの正確な弾性率を測定することができる。フォースボリューム法は、探針(カンチレバー)を垂直移動させ、層表面に押し当ててから離す、という一連の動作を繰り返しながら探針を2次元走査する。その際、1サイクル毎にフォースカーブを取得しているため、その解析により弾性率などの力学物性のマッピングを調べることができる。平均弾性率は、25μm(縦:5μm×横:5μm)の測定範囲における、4096点(縦:64点×横:64点)の測定点で得られた各弾性率の相加平均値を算出することにより求めることができる。 The elastic modulus of the ink-receiving portion and the ink-repelling portion of the printing member is preferably analyzed by the force volume method using an atomic force microscope, which performs analysis with a very small load using a sharp-tipped probe. By using a silicon or silicon nitride probe with a tip curvature radius of 5 to 20 nm and analyzing with a load of 1 to 20 nN, it is possible to measure the accurate elastic modulus of each portion without the influence of the lower layer or the support. In the force volume method, the probe (cantilever) is moved vertically, pressed against the layer surface, and then released, and the probe is scanned two-dimensionally while repeating a series of operations. At that time, a force curve is obtained for each cycle, so that the mapping of mechanical properties such as the elastic modulus can be investigated by analyzing the force curve. The average elastic modulus can be obtained by calculating the arithmetic mean value of each elastic modulus obtained at 4096 measurement points (vertical: 64 points x horizontal: 64 points) in a measurement range of 25 μm 2 (vertical: 5 μm x horizontal: 5 μm).

本発明において、インキ反発部はジオルガノシロキサン単位を含むことが好ましく、インキ着肉部はシルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが好ましい。インキ反発部がジオルガノシロキサン単位を含むことでインキ反発性をさらに向上することができ、インキ着肉部がシルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことでインキ着肉性がさらに向上するため好ましい。インキ反発部におけるジオルガノシロキサン単位の含有率は90質量%以上であることが好ましく、92質量%以上がより好ましく、94質量%以上がさらに好ましい。インキ反発部におけるジオルガノシロキサン単位が90質量%以上であればインキ反発性をさらに向上することができるため好ましい。インキ反発部におけるジオルガノシロキサン単位の含有率は、FT-IR-ATR法による分析と飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)による分析とを併用することにより測定することができる。 In the present invention, it is preferable that the ink-repellent portion contains a diorganosiloxane unit, and it is preferable that the ink-receiving portion contains a silsesquioxane structure and/or a glass structure. The ink-repellent portion contains a diorganosiloxane unit, which can further improve the ink repellency, and the ink-receiving portion contains a silsesquioxane structure and/or a glass structure, which is preferable because the ink-receiving portion further improves the ink receptivity. The content of diorganosiloxane units in the ink-repellent portion is preferably 90% by mass or more, more preferably 92% by mass or more, and even more preferably 94% by mass or more. If the diorganosiloxane units in the ink-repellent portion is 90% by mass or more, it is preferable because the ink repellency can be further improved. The content of diorganosiloxane units in the ink-repellent portion can be measured by combining analysis by the FT-IR-ATR method and analysis by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS).

また、インキ反発部におけるジオルガノシロキサン単位や、インキ着肉部におけるシルセスキオキサン構造、およびガラス構造は、FT-IR-ATR分析により確認することができる。FT-IR-ATR分析において、ジオルガノシロキサン単位は1256、1085、790cm-1付近の吸収帯などにシグナルが現れ、また、シルセスキオキサン構造やガラス構造は1271、1133、995cm-1付近の吸収帯などにシグナルが現れる。 The diorganosiloxane units in the ink-repelling portion and the silsesquioxane and glass structures in the ink-receiving portion can be confirmed by FT-IR-ATR analysis, in which the diorganosiloxane units show signals in absorption bands around 1256, 1085, and 790 cm-1 , and the silsesquioxane and glass structures show signals in absorption bands around 1271, 1133, and 995 cm-1 .

本発明において、インキ着肉部の元素濃度比は、珪素:23~33atom%、酸素:30~67atom%、炭素:0~47atom%の範囲内であることが好ましい。珪素:23atom%以上、酸素30atom%以上、炭素:47atom%以下であればインキ着肉性がさらに向上し、珪素:33atom%以下、酸素67atom%以下、炭素:0atom%以上であれば強靱な膜が得られ、耐刷性が向上するため好ましい。また、インキ着肉部における珪素濃度に対する酸素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は、1.3~2.0の範囲内であることが好ましい。1.3以上であればインキ着肉性がさらに向上するため好ましく、2.0以下であれば強靱な膜が得られ、耐刷性が向上するため好ましい。 In the present invention, the element concentration ratios in the ink-receiving portion are preferably within the ranges of silicon: 23 to 33 atom%, oxygen: 30 to 67 atom%, and carbon: 0 to 47 atom%. If the silicon is 23 atom% or more, oxygen is 30 atom% or more, and carbon is 47 atom% or less, the ink receivability is further improved, and if the silicon is 33 atom% or less, oxygen is 67 atom% or less, and carbon is 0 atom% or more, a tough film is obtained and printing durability is improved, which is preferable. In addition, the ratio of the oxygen concentration to the silicon concentration in the ink-receiving portion (oxygen concentration/silicon concentration) is preferably within the range of 1.3 to 2.0. If it is 1.3 or more, the ink receivability is further improved, and if it is 2.0 or less, a tough film is obtained and printing durability is improved, which is preferable.

一方、インキ反発部における元素濃度が、珪素:22~26atom%、酸素:24~28atom%、炭素:48~52atom%の範囲内であることが好ましく、この範囲内であればインキ反発性がさらに向上するため好ましい。また、インキ反発部における珪素濃度に対する酸素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は、0.9~1.2の範囲内であることが好ましく、この範囲内であればインキ反発性がさらに向上するため好ましい。 On the other hand, the element concentrations in the ink-repellent portion are preferably within the ranges of silicon: 22-26 atom%, oxygen: 24-28 atom%, and carbon: 48-52 atom%, and within these ranges, ink repellency is further improved, which is preferable. Also, the ratio of oxygen concentration to silicon concentration in the ink-repellent portion (oxygen concentration/silicon concentration) is preferably within the range of 0.9-1.2, and within this range, ink repellency is further improved, which is preferable.

インキ着肉部やインキ反発部における元素濃度は、X線光電子分光法での分析により測定することができる。また、得られた酸素濃度値を珪素濃度値で割ることで酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)を算出することができる。 The element concentrations in the ink-receiving and ink-repelling areas can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy. In addition, the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) can be calculated by dividing the obtained oxygen concentration value by the silicon concentration value.

インキ反発部における珪素濃度は、25~50質量%であることが好ましい。インキ反発部中の珪素濃度が25質量%以上であれば、インキ反発性をさらに向上させる上で好ましく、30質量%以上がより好ましく、35質量%以上がさらにより好ましい。また、珪素濃度が50質量%以下であればインキ反発部のインキ反発性や耐刷性をさらに向上させる上で好ましく、45質量%以下がより好ましく、40質量%以下であればさらにより好ましい。インキ反発部中の珪素濃度は、前述したX線光電子分光法を用いて元素分析することにより求めることができる。 The silicon concentration in the ink-repellent portion is preferably 25 to 50% by mass. A silicon concentration of 25% by mass or more in the ink-repellent portion is preferable in order to further improve the ink repellency, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 35% by mass or more. A silicon concentration of 50% by mass or less is preferable in order to further improve the ink repellency and printing durability of the ink-repellent portion, more preferably 45% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less. The silicon concentration in the ink-repellent portion can be determined by elemental analysis using the X-ray photoelectron spectroscopy described above.

本発明において、インキ着肉部の表面に接触させた液粘度が20センチストークスである12マイクロリットルのジメチルシリコーンオイルの接触後10分経過時点のスポット径が、20~37mmであることが好ましい。本発明における接触後10分経過時点のスポット径とは、接触後10分経過時点のジメチルシリコーンオイルのスポット形状において、最長となる径の長さを意味する。例えば、接触後10分経過時点のジメチルシリコーンオイルのスポット形状が真円である場合には、円の直径がスポット径となり、楕円形の場合は、長軸となる。本評価は、接触させる層に対するジメチルシリコーンオイルの浸透(膨潤)の程度を表している。インキ反発部にジメチルシリコーンオイルが接触した場合には、層中に速やかに浸透するためジメチルシリコーンオイルは濡れ広がりにくくなり、経時後のスポット径としては小さくなる。一方、インキ着肉部にジメチルシリコーンオイルが接触した場合には、層中への浸透が大きく抑制されるため、ジメチルシリコーンオイルは濡れ広がりやすくなり、経時後のスポット径としては大きくなる。10分経過時点のスポット径が20mm以上であれば良好なインキ着肉性が得られ、22mm以上がより好ましく、24mm以上が更に好ましい。また、10分経過時点のスポット径が37mm以下であれば耐刷性が良好となり、35mm以下がより好ましく、33mm以下がさらに好ましい。 In the present invention, it is preferable that the spot diameter of 12 microliters of dimethyl silicone oil with a liquid viscosity of 20 centistokes contacted with the surface of the ink-receiving portion 10 minutes after contact is 20 to 37 mm. In the present invention, the spot diameter after 10 minutes of contact means the longest diameter in the spot shape of dimethyl silicone oil after 10 minutes of contact. For example, if the spot shape of dimethyl silicone oil after 10 minutes of contact is a perfect circle, the diameter of the circle is the spot diameter, and if it is an ellipse, the major axis is the spot diameter. This evaluation represents the degree of penetration (swelling) of dimethyl silicone oil into the layer with which it is contacted. When dimethyl silicone oil contacts the ink-repelling portion, it penetrates into the layer quickly, so the dimethyl silicone oil does not spread easily, and the spot diameter after aging becomes smaller. On the other hand, when dimethyl silicone oil contacts the ink-receiving portion, penetration into the layer is greatly suppressed, so the dimethyl silicone oil spreads easily, and the spot diameter after aging becomes larger. If the spot diameter after 10 minutes is 20 mm or more, good ink adhesion is obtained, more preferably 22 mm or more, and even more preferably 24 mm or more. Also, if the spot diameter after 10 minutes is 37 mm or less, good printing durability is obtained, more preferably 35 mm or less, and even more preferably 33 mm or less.

液粘度が20センチストークスである市販のジメチルシリコーンオイルとしては、KF-96-20cs(信越化学工業(株)製)、DOWSIL(登録商標)SH200 Fluid 20CS(東レ・ダウコーニング(株)製)、WACKER(登録商標)SILICONE FLUID AK 20(旭化成ワッカーシリコーン(株)製)、Element14(登録商標)PDMS 20-JC(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)、DMS-T12(GELEST Inc.製)などを挙げることができ、これら何れのジメチルシリコーンオイルを用いて評価した場合も、経時後のスポット径は同等の値が得られる。 Commercially available dimethyl silicone oils with a liquid viscosity of 20 centistokes include KF-96-20cs (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), DOWSIL (registered trademark) SH200 Fluid 20CS (Dow Corning Toray Co., Ltd.), WACKER (registered trademark) SILICONE FLUID AK 20 (Wacker Asahi Kasei Silicone Co., Ltd.), Element14 (registered trademark) PDMS 20-JC (Momentive Performance Materials Japan LLC), and DMS-T12 (Gelest Inc.). When any of these dimethyl silicone oils is used for evaluation, the spot diameter after aging is the same.

インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の平均膜厚は4~30μmであることが好ましい。インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の平均膜厚を4μm以上とすることで印刷部材のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が十分となり、30μm以下とすることで経済的見地から不利となりにくい。インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の平均膜厚は、断面TEM観察により求めることができる。より詳しくは、印刷部材から超薄切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率2000倍の条件でTEM観察を行う。垂直断面のTEM写真において、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層からランダムに選んだ10箇所について膜厚を計測し、その数平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。 The average thickness of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion is preferably 4 to 30 μm. By making the average thickness of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion 4 μm or more, the ink repellency, scratch resistance, and printing durability of the printing member are sufficient, and by making it 30 μm or less, it is unlikely to be disadvantageous from an economic point of view. The average thickness of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion can be determined by cross-sectional TEM observation. More specifically, a sample is prepared from the printing member by the ultra-thin section method, and TEM observation is performed under conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. In a TEM photograph of a vertical cross section, the thickness is measured at 10 randomly selected points from the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-applied portion, and the average thickness can be obtained by calculating the number average value.

本発明におけるインキ反発部としてはシリコーンゴムが好ましい。本発明におけるシリコーンゴムとは、60質量%以上がシロキサン化合物の架橋体から構成されている層のことを指す。インキ反発部中のシロキサン化合物の架橋体の含有率は、FT-IR-ATR法による分析と飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)による分析とを併用することにより測定することができる。 Silicone rubber is preferred as the ink-repellent portion in the present invention. Silicone rubber in the present invention refers to a layer in which 60% by mass or more is composed of crosslinked siloxane compounds. The content of crosslinked siloxane compounds in the ink-repellent portion can be measured by combining analysis by the FT-IR-ATR method and analysis by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS).

印刷部材の生産性を高める点で、インキ反発部中にビニル基を有することが好ましい。後述するジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中の全SiH基数よりも過剰数のビニル基を含ませることによりビニル基を有するインキ反発部を得ることができる。インキ反発部中のビニル基濃度は、0.5~15質量%であることが好ましい。インキ反発部中のビニル基濃度が0.5質量%以上であれば印刷部材の生産性が向上し、15質量%以下であればインキ反発性の低下を抑制できるため好ましい。1~12質量%がより好ましく、1.5~10質量%が更に好ましい。インキ反発部中のビニル基の存在は、インキ反発部をFT-IR-ATR法により分析することで確認することができる。 In terms of increasing the productivity of the printing member, it is preferable that the ink-repellent portion has vinyl groups. By including an excess number of vinyl groups over the total number of SiH groups in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer forming composition described below, an ink-repellent portion having vinyl groups can be obtained. The vinyl group concentration in the ink-repellent portion is preferably 0.5 to 15 mass%. If the vinyl group concentration in the ink-repellent portion is 0.5 mass% or more, the productivity of the printing member can be improved, and if it is 15 mass% or less, it is preferable because the decrease in ink repellency can be suppressed. 1 to 12 mass% is more preferable, and 1.5 to 10 mass% is even more preferable. The presence of vinyl groups in the ink-repellent portion can be confirmed by analyzing the ink-repellent portion by the FT-IR-ATR method.

次に、本発明に係る印刷部材前駆体について説明する。 Next, we will explain the printing member precursor according to the present invention.

印刷部材前駆体は、支持体、並びに、ジオルガノシロキサン単位含有層を有する。より好ましくは、ジオルガノシロキサン単位含有層はジオルガノシロキサン単位を含む単一層である。本発明に係るジオルガノシロキサン単位含有層としては、これまでに水なし平版印刷版原版のインキ反発層として開示された、従来公知の付加反応型、縮合反応型、付加反応-縮合反応併用型のインキ反発性シリコーンゴム層を用いることができる。 The printing member precursor has a support and a diorganosiloxane unit-containing layer. More preferably, the diorganosiloxane unit-containing layer is a single layer containing diorganosiloxane units. As the diorganosiloxane unit-containing layer according to the present invention, a conventional ink-repellent silicone rubber layer of an addition reaction type, a condensation reaction type, or a combined addition reaction-condensation reaction type that has been disclosed as an ink-repellent layer for a waterless lithographic printing plate precursor can be used.

以下に、本発明で用いられるジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。 Specific examples of the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition used in the present invention are given below, but are not limited to these.

本発明に用いられる付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物としては、分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物、分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物および反応触媒を含むことが好ましい。さらに、反応抑制剤やシランカップリング剤を含んでもよい。 The composition for forming the addition reaction type diorganosiloxane unit-containing layer used in the present invention preferably contains a siloxane compound having two or more vinyl groups in the molecule, a siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule, and a reaction catalyst. It may further contain a reaction inhibitor and a silane coupling agent.

分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば、分子両末端にビニル基を有するジオルガノポリシロキサン、オルガノビニルポリシロキサン、オルガノビニルシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体、分子内にジオルガノビニルシロキシ基を2個以上有する化合物が挙げられる。中でも、分子両末端にビニル基を有するジオルガノポリシロキサン、オルガノビニルシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体が好ましい。これらを2種以上含有してもよい。 Examples of siloxane compounds having two or more vinyl groups in the molecule include diorganopolysiloxanes having vinyl groups at both molecular terminals, organovinylpolysiloxanes, organovinylsiloxane-diorganosiloxane copolymers, and compounds having two or more diorganovinylsiloxy groups in the molecule. Among these, diorganopolysiloxanes having vinyl groups at both molecular terminals and organovinylsiloxane-diorganosiloxane copolymers are preferred. Two or more of these may be contained.

分子両末端にビニル基を有するジオルガノポリシロキサンやオルガノビニルシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体は、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有する。また、珪素原子と結合している有機基は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基を示す。脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。 Diorganopolysiloxanes and organovinylsiloxane-diorganosiloxane copolymers having vinyl groups at both ends of the molecule have linear, cyclic, branched, or network molecular structures. The organic groups bonded to the silicon atoms may be the same or different, and each represents a monovalent organic group that does not contain an aliphatic unsaturated bond. Examples of monovalent organic groups that do not contain an aliphatic unsaturated bond include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, and heptyl; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl; aralkyl groups such as benzyl and phenethyl; and halogenated alkyl groups such as chloromethyl, 3-chloropropyl, and 3,3,3-trifluoropropyl.

前記脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基中、全体の50モル%以上がメチル基であることが、印刷部材のインキ反発性の面で好ましい。また、分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物の重量平均分子量としては、30,000以上が耐刷性や耐傷性を向上させる点で好ましく、塗工性を向上させる点で、300,000以下が好ましい。なお、重量平均分子量はGPCを用い、ポリスチレン換算で測定を行い、得ることができる。 In terms of the ink repellency of the printing material, it is preferable that 50 mol% or more of the monovalent organic groups not containing aliphatic unsaturated bonds are methyl groups. In addition, the weight average molecular weight of a siloxane compound having two or more vinyl groups in the molecule is preferably 30,000 or more in terms of improving printing durability and scratch resistance, and is preferably 300,000 or less in terms of improving coating properties. The weight average molecular weight can be obtained by measuring using GPC in terms of polystyrene.

分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、60質量%以上であればインキ反発部においてインキ反発性を向上させる点で好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を確保する点で、99質量%以下が好ましい。 The content of the siloxane compound having two or more vinyl groups in the molecule is preferably 60% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the ink repellency in the ink repellent portion, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more. In addition, in order to ensure the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer, it is preferably 99% by mass or less.

ここで、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分とは、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物を塗布し、乾燥(揮発成分を除去)した後に残存する成分を表す。 Here, the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition refers to the components remaining after the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is applied and dried (volatile components are removed).

分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物としては、例えば、オルガノハイドロポリシロキサン、オルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体、分子内にジオルガノハイドロシロキシ基を3個以上有する化合物が挙げられる。中でも、オルガノハイドロポリシロキサン、オルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体が好ましい。これらを2種以上含有してもよい。分子内のSiH基数としては、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる上で5個以上が好ましく、6個以上がより好ましい。 Examples of siloxane compounds having three or more SiH groups in the molecule include organohydropolysiloxanes, organohydrosiloxane-diorganosiloxane copolymers, and compounds having three or more diorganohydrosiloxy groups in the molecule. Of these, organohydropolysiloxanes and organohydrosiloxane-diorganosiloxane copolymers are preferred. Two or more of these may be contained. The number of SiH groups in the molecule is preferably 5 or more, more preferably 6 or more, in order to improve the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer.

オルガノハイドロポリシロキサンやオルガノハイドロシロキサン・ジオルガノシロキサン共重合体は、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有する。また、珪素原子と結合している有機基は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基を示す。脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。 Organohydropolysiloxanes and organohydrosiloxane-diorganosiloxane copolymers have linear, cyclic, branched, or network molecular structures. The organic groups bonded to the silicon atoms may be the same or different, and each represents a monovalent organic group that does not contain an aliphatic unsaturated bond. Examples of monovalent organic groups that do not contain an aliphatic unsaturated bond include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, and heptyl; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl; aralkyl groups such as benzyl and phenethyl; and halogenated alkyl groups such as chloromethyl, 3-chloropropyl, and 3,3,3-trifluoropropyl.

分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.5質量%以上であればジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる上で好ましく、1質量%以上がより好ましい。また、10質量%以下がインキ反発性を向上させる上で好ましく、5質量%以下がより好ましい。 The content of the siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule is preferably 0.5% by mass or more in the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the curing properties of the diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 1% by mass or more. In addition, a content of 10% by mass or less is preferable in order to improve ink repellency, and more preferably 5% by mass or less.

また、本発明に係るジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度としては、0.001~0.04質量%であることが好ましい。ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度が0.001質量%以上であればジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる上で好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度が0.04質量%以下であればインキ反発部におけるインキ反発性を向上させる上で好ましい。 In addition, the H group concentration derived from the SiH group in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition according to the present invention is preferably 0.001 to 0.04 mass%. If the H group concentration derived from the SiH group in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is 0.001 mass% or more, this is preferable in terms of improving the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer. In addition, if the H group concentration derived from the SiH group in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is 0.04 mass% or less, this is preferable in terms of improving the ink repellency in the ink repellent portion.

ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度と、前述のインキ反発部の平均弾性率との関係で言えば、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度が0.001質量%の時に平均弾性率がおおよそ0.001MPaとなる。また、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中のSiH基に由来するH基濃度が0.04質量%の時に平均弾性率がおおよそ10MPaとなる。 In terms of the relationship between the concentration of H groups derived from SiH groups in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition and the average elastic modulus of the ink-repelling portion described above, when the concentration of H groups derived from SiH groups in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is 0.001 mass%, the average elastic modulus is approximately 0.001 MPa. Also, when the concentration of H groups derived from SiH groups in the total solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is 0.04 mass%, the average elastic modulus is approximately 10 MPa.

反応触媒としては、ヒドロシリル化反応触媒として公知のものを用いることができるが、反応性が高い点から白金、ロジウムを含有することが好ましい。具体的には、白金単体、担体(アルミナ、シリカ、カーボンブラック等)に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、白金-オレフィン錯体、白金-ビニルシラン錯体、白金-ビニルシロキサン錯体、白金-ホスフィン錯体、白金-ホスファイト錯体、白金-アセチルアセトン錯体、白金-アセト酢酸アルキルエステル錯体、白金-マロン酸ジアルキルエステル錯体、また、Ashbyらの米国特許第3159601号公報および米国特許第3159662号公報に記載された白金-炭化水素複合体、並びにLamoreauxらの米国特許第3220972号公報に記載された白金アルコラ-ト触媒も挙げられる。また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh、RhCl、RhAl、RuCl、IrCl、FeCl、AlCl、PdCl・2HO、NiCl、TiCl等が挙げられる。これらの反応触媒は単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 As the reaction catalyst, a known hydrosilylation reaction catalyst can be used, but it is preferable that the catalyst contains platinum or rhodium because of its high reactivity.Specific examples of the reaction catalyst include platinum alone, solid platinum supported on a carrier (alumina, silica, carbon black, etc.), chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsilane complexes, platinum-vinylsiloxane complexes, platinum-phosphine complexes, platinum-phosphite complexes, platinum-acetylacetone complexes, platinum-alkyl acetoacetate complexes, platinum-dialkyl malonate complexes, platinum-hydrocarbon complexes described in U.S. Pat. Nos. 3,159,601 and 3,159,662 to Ashby et al., and platinum alcoholate catalysts described in U.S. Pat. No. 3,220,972 to Lamoreaux et al. Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl( PPh3 ) 3 , RhCl3 , RhAl2O3 , RuCl3 , IrCl3 , FeCl3 , AlCl3 , PdCl2.2H2O , NiCl2 , TiCl4 , etc. These reaction catalysts may be used alone or in combination of two or more.

反応触媒の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.0001質量%以上がジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる点で好ましく、0.001質量%以上がより好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物のポットライフを向上させる点で、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、1質量%以下が好ましく、0.1質量%以下がより好ましい。 The content of the reaction catalyst is preferably 0.0001% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the curing properties of the diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 0.001% by mass or more. In addition, in order to improve the pot life of the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, the content of the reaction catalyst is preferably 1% by mass or less of the total solid content contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 0.1% by mass or less.

反応抑制剤としては、ヒドロシリル化反応抑制剤または反応遅延剤として公知のものを用いることができる。アミン化合物、アセチレン化合物が好ましく、ピリジン、ピコリン、2,2’-ジピリジル、2-ブタノンオキシムや、アセチレンアルコール、アセチレンシランなどがより好ましく挙げられる。アセチレンアルコールとしては、たとえば2-メチル-3-ブチン-2-オール、2-フェニル-3-ブチン-2-オール、1-エチニル-1-ヘキサノール、3,5-ジメチル-1-ヘキシン-3-オール、3-メチル-1-ペンチン-3-オールなどが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。これらの反応抑制剤を含有することにより、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物のポットライフが向上する。 As the reaction inhibitor, those known as hydrosilylation reaction inhibitors or reaction retarders can be used. Amine compounds and acetylene compounds are preferred, and more preferred examples include pyridine, picoline, 2,2'-dipyridyl, 2-butanone oxime, acetylene alcohol, and acetylene silane. Examples of acetylene alcohol include 2-methyl-3-butyn-2-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 1-ethynyl-1-hexanol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and 3-methyl-1-pentyn-3-ol. Two or more of these may be contained. By containing these reaction inhibitors, the pot life of the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition is improved.

反応抑制剤の含有量は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分100質量部に対して、0.01質量部以上がジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物のポットライフを向上させる点で好ましく、0.1質量部以上がより好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を確保する点で、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。 The content of the reaction inhibitor is preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.1 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the total solids contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, in order to improve the pot life of the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer. Also, in order to ensure the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer, the content is preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 15 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the total solids contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer.

シランカップリング剤としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、トルイルトリアセトキシシラン、キシリルトリアセトキシシラン、メチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、フェニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、トルイルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、キシリルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、アリルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、3-アクリロキシプロピルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シランなどが挙げられるが、これらに限定されない。中でも、分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物との反応性や下層との接着性を向上させる点や、インキ反発性の低下を抑制する点でビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シランが好ましい。 Examples of silane coupling agents include, but are not limited to, methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, toluyltriacetoxysilane, xylyltriacetoxysilane, methyltris(methylethylketoximino)silane, ethyltris(methylethylketoximino)silane, phenyltris(methylethylketoximino)silane, toluyltris(methylethylketoximino)silane, xylyltris(methylethylketoximino)silane, vinyltriacetoxysilane, allyltriacetoxysilane, 3-acryloxypropyltriacetoxysilane, 3-methacryloxypropyltriacetoxysilane, vinyltris(methylethylketoximino)silane, allyltris(methylethylketoximino)silane, 3-acryloxypropyltris(methylethylketoximino)silane, 3-methacryloxypropyltris(methylethylketoximino)silane, and the like. Among these, vinyltriacetoxysilane and vinyltris(methylethylketoximino)silane are preferred in terms of improving reactivity with siloxane compounds having three or more SiH groups in the molecule, improving adhesion to the lower layer, and preventing a decrease in ink repellency.

シランカップリング剤の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.5質量%以上であればプライマー層または支持体との接着性(対下層接着性)を向上させる点で好ましく、1質量%以上がより好ましい。また、インキ反発性を向上させる点で10質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましい。 The content of the silane coupling agent is preferably 0.5% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve adhesion to the primer layer or support (adhesion to the lower layer), and more preferably 1% by mass or more. Also, in order to improve ink repellency, the content is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

本発明に用いられる縮合反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物としては、分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物、シランカップリングを含むことが好ましい。さらに、反応触媒を含んでもよい。 The condensation reaction type diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition used in the present invention preferably contains a siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule, and a silane coupling agent. It may further contain a reaction catalyst.

分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物としては、例えば、分子両末端にシラノール基を有するジオルガノポリシロキサンが挙げられる。 An example of a siloxane compound having two or more silanol groups in a molecule is a diorganopolysiloxane having silanol groups at both ends of the molecule.

分子両末端にシラノール基を有するジオルガノポリシロキサンは、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有する。また、珪素原子と結合している有機基は同じであっても異なっていてもよく、それぞれ脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基を示す。脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3-クロロプロピル基、3,3,3-トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。 Diorganopolysiloxanes having silanol groups at both ends of the molecule have a linear, cyclic, branched, or network molecular structure. The organic groups bonded to the silicon atoms may be the same or different, and each represents a monovalent organic group that does not contain an aliphatic unsaturated bond. Examples of monovalent organic groups that do not contain an aliphatic unsaturated bond include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, and heptyl; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl; aralkyl groups such as benzyl and phenethyl; and halogenated alkyl groups such as chloromethyl, 3-chloropropyl, and 3,3,3-trifluoropropyl.

前記脂肪族不飽和結合を含まない一価の有機基中、全体の50モル%以上がメチル基であることが、印刷部材のインキ反発性の面で好ましい。また、分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物の重量平均分子量としては、30,000以上が耐刷性や耐傷性を向上させる点で好ましく、塗工性を向上させる点で、300,000以下が好ましい。なお、重量平均分子量はGPCを用い、ポリスチレン換算で測定を行い、得ることができる。 In terms of the ink repellency of the printing material, it is preferable that 50 mol % or more of the monovalent organic groups not containing aliphatic unsaturated bonds are methyl groups. In addition, the weight average molecular weight of a siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule is preferably 30,000 or more in terms of improving printing durability and scratch resistance, and is preferably 300,000 or less in terms of improving coating properties. The weight average molecular weight can be obtained by measuring using GPC in terms of polystyrene.

分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、60質量%以上であればインキ反発部におけるインキ反発性を向上させる点で好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を確保する点で、99質量%以下が好ましい。 The content of the siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule is preferably 60% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the ink repellency in the ink repellent portion, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more. In addition, in order to ensure the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer, it is preferably 99% by mass or less.

シランカップリング剤としては、付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記シランカップリング剤を挙げることができる。 Examples of the silane coupling agent include the silane coupling agents exemplified above in the composition for forming the layer containing diorganosiloxane units of the addition reaction type.

シランカップリング剤の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.5質量%以上が硬化性や対下層接着性を向上させる点で好ましく、1質量%以上がより好ましい。また、インキ反発性を向上させる点で10質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましい。 The content of the silane coupling agent is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more, of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve curability and adhesion to the lower layer. Also, in order to improve ink repellency, the content is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

反応触媒としては、有機カルボン酸、酸類、アルカリ、アミン、金属アルコキシド、金属ジケテネート、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンなどの金属の有機酸塩などが挙げられる。具体的には、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。これらを2種以上含有してもよい。 Examples of reaction catalysts include organic carboxylic acids, acids, alkalis, amines, metal alkoxides, metal diketenates, and organic acid salts of metals such as tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese. Specific examples include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate. Two or more of these may be contained.

反応触媒の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の全固形分中に0.01質量%以上1質量%以下含有することが好ましい。0.01質量%以上であればジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性や下層との接着性が良好となり、1質量%以下であればジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の安定性が良好となる。 The content of the reaction catalyst is preferably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less of the total solid content of the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer. If it is 0.01% by mass or more, the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer and the adhesion to the lower layer will be good, and if it is 1% by mass or less, the stability of the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer will be good.

本発明に用いられる付加反応-縮合反応併用型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物としては、分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物、分子内に1個以上のビニル基を有するシランカップリング剤、分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物、反応触媒を含むことが好ましい。さらに、反応抑制剤を含んでもよい。 The composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer of the addition reaction-condensation reaction combination type used in the present invention preferably contains a siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule, a silane coupling agent having one or more vinyl groups in the molecule, a siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule, and a reaction catalyst. It may further contain a reaction inhibitor.

分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物としては、縮合反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記シロキサン化合物を挙げることができる。 Examples of siloxane compounds having two or more silanol groups in the molecule include the siloxane compounds exemplified above in the composition for forming a layer containing condensation reaction type diorganosiloxane units.

分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、60質量%以上であればインキ反発部におけるインキ反発性を向上させる点で好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を確保する点で、99質量%以下が好ましい。 The content of the siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule is preferably 60% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the ink repellency in the ink repellent portion, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more. In addition, in order to ensure the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer, it is preferably 99% by mass or less.

分子内に1個以上のビニル基を有するシランカップリング剤としては、付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記シランカップリング剤のうち、分子内に1個以上のビニル基を有するシランカップリング剤を挙げることができる。 Examples of silane coupling agents having one or more vinyl groups in the molecule include silane coupling agents having one or more vinyl groups in the molecule, among the silane coupling agents exemplified in the composition for forming the layer containing diorganosiloxane units of the addition reaction type.

分子内に1個以上のビニル基を有するシランカップリング剤の含有率は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.5質量%以上が硬化性や対下層接着性を向上させる点で好ましく、1質量%以上がより好ましい。また、インキ反発性を向上させる点で10質量%以下が好ましく、5質量%以下がより好ましい。 The content of the silane coupling agent having one or more vinyl groups in the molecule is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more, of the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve curability and adhesion to the lower layer. Also, in order to improve ink repellency, the content is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物としては、付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記シロキサン化合物を挙げることができる。 Examples of siloxane compounds having three or more SiH groups in the molecule include the siloxane compounds exemplified above in the composition for forming the layer containing diorganosiloxane units of the addition reaction type.

分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.5質量%以上であればジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる上で好ましく、1質量%以上がより好ましい。また、10質量%以下がインキ反発性を向上させる上で好ましく、5質量%以下がより好ましい。 The content of the siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule is preferably 0.5% by mass or more in the total solid content contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the curing properties of the diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 1% by mass or more. In addition, a content of 10% by mass or less is preferable in order to improve ink repellency, and more preferably 5% by mass or less.

反応触媒としては、付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記反応触媒を挙げることができる。 Examples of reaction catalysts include the reaction catalysts exemplified above for the composition for forming the layer containing diorganosiloxane units of the addition reaction type.

反応触媒の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、0.0001質量%以上がジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を向上させる点で好ましく、0.001質量%以上がより好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物のポットライフを向上させる点で、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、1質量%以下が好ましく、0.1質量%以下がより好ましい。 The content of the reaction catalyst is preferably 0.0001% by mass or more of the total solid content contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer in order to improve the curing properties of the diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 0.001% by mass or more. In addition, in order to improve the pot life of the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, the content of the reaction catalyst is preferably 1% by mass or less of the total solid content contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, and more preferably 0.1% by mass or less.

反応抑制剤としては、付加反応型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物で例示した前記反応抑制剤を挙げることができる。 Examples of reaction inhibitors include the reaction inhibitors exemplified above in the composition for forming the layer containing diorganosiloxane units of the addition reaction type.

反応抑制剤の含有量は、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分100質量部に対して、0.01質量部以上がジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物のポットライフを向上させる点で好ましく、0.1質量部以上がより好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層の硬化性を確保する点で、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分100質量部に対して、20質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。 The content of the reaction inhibitor is preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.1 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the total solids contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer, in order to improve the pot life of the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer. Also, in order to ensure the curability of the diorganosiloxane unit-containing layer, the content is preferably 20 parts by mass or less, and more preferably 15 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the total solids contained in the composition for forming a diorganosiloxane unit-containing layer.

また、前記付加反応型、縮合反応型、付加反応-縮合反応併用型のジオルガノシロキサン単位含有層のインキ反発性を更に向上させる目的で、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に25℃での表面張力が30mN/m以下の液体を含んでもよい。液体の表面張力が30mN/m以下であれば、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層のインキ反発部表面に前記25℃での表面張力が30mN/m以下の液体が表出し、インキの剥離を助けるためインキ反発性が向上し、地汚れ開始温度を上昇させることができる。前記液体が、25℃での表面張力が22mN/m以下の液体であることがインキ反発性を向上させる上でより好ましく、21mN/m以下であることがさらに好ましい。表面張力は、公知の測定方法である白金プレートを用いたWilhelmy法(プレート法や垂直板法と呼ばれることもある)により測定することができる。 In order to further improve the ink repellency of the addition reaction type, condensation reaction type, or combination of addition reaction and condensation reaction type diorganosiloxane unit-containing layer, the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition may contain a liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C. If the surface tension of the liquid is 30 mN/m or less, the liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C appears on the surface of the ink repellent portion of the layer consisting of the ink repellent portion and the ink-receiving portion, which helps the ink to peel off, improving the ink repellency and increasing the scumming start temperature. In terms of improving the ink repellency, it is more preferable for the liquid to have a surface tension of 22 mN/m or less at 25°C, and even more preferable for it to be 21 mN/m or less. Surface tension can be measured by the Wilhelmy method (sometimes called the plate method or vertical plate method) using a platinum plate, which is a known measurement method.

25℃での表面張力が30mN/m以下の液体は1気圧環境下において150℃で24時間静置したのちの質量減少が0~0.5質量%であることが好ましい。1気圧環境下において150℃で24時間静置したのちの質量減少が0~0.5質量%であれば、印刷部材前駆体や印刷部材の製造時や保管時に揮発しにくく、インキ反発性の効果を失いにくい。 A liquid with a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C preferably has a mass loss of 0 to 0.5% by mass after being left to stand at 150°C for 24 hours in an atmospheric pressure environment. If the mass loss is 0 to 0.5% by mass after being left to stand at 150°C for 24 hours in an atmospheric pressure environment, the liquid is less likely to volatilize during the manufacture or storage of the printing member precursor or printing member, and is less likely to lose its ink repellency effect.

25℃での表面張力が30mN/m以下の液体の含有率としては、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる全固形分中、5~40質量%が好ましい。5質量%以上であればインキ反発性が顕著に向上し、40質量%以下であればジオルガノシロキサン単位含有層の強度が十分確保できるため、耐刷性を維持することができる。 The content of the liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C is preferably 5 to 40 mass% of the total solids contained in the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer. If it is 5 mass% or more, the ink repellency is significantly improved, and if it is 40 mass% or less, the strength of the diorganosiloxane unit-containing layer can be sufficiently ensured, so that printing durability can be maintained.

25℃での表面張力が30mN/m以下の液体としては、シリコーン化合物であることが好ましく、シリコーンオイルがより好ましい。本発明で言うシリコーンオイルとは、ジオルガノシロキサン単位含有層の架橋に携わらないポリシロキサン成分を指す。具体的には、分子鎖末端がトリメチルシリル基のポリジメチルシロキサン、環状ポリジメチルシロキサン、分子鎖末端がトリメチルシリル基のジメチルシロキサン-メチルフェニルシロキサンコポリマー、分子鎖末端がトリメチルシリル基のジメチルシロキサン-ジフェニルシロキサンコポリマーなどのジメチルシリコーンオイル類、また、アルキル変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルコール変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、エポキシポリエーテル変性シリコーンオイル、フェノール変性シリコーンオイル、カルボキシ変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、アミド変性シリコーンオイル、カルバナ変性シリコーンオイル、高級脂肪酸変性シリコーンオイルなどの分子内のメチル基の一部に各種有機基を導入した変性シリコーンオイル類などが挙げられる。 The liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C is preferably a silicone compound, and more preferably a silicone oil. The silicone oil in the present invention refers to a polysiloxane component that is not involved in the crosslinking of the diorganosiloxane unit-containing layer. Specifically, dimethyl silicone oils such as polydimethylsiloxane having a trimethylsilyl group at the molecular chain end, cyclic polydimethylsiloxane, dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer having a trimethylsilyl group at the molecular chain end, and dimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer having a trimethylsilyl group at the molecular chain end, as well as modified silicone oils in which various organic groups have been introduced into some of the methyl groups in the molecule, such as alkyl-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, alcohol-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, epoxy polyether-modified silicone oil, phenol-modified silicone oil, carboxy-modified silicone oil, mercapto-modified silicone oil, amide-modified silicone oil, carbamate-modified silicone oil, and higher fatty acid-modified silicone oil, can be mentioned.

25℃での表面張力が30mN/m以下の液体の分子量としては、重量平均分子量で200~100,000が好ましい。重量平均分子量が200以上であれば印刷部材の製造時や保管時における前記25℃での表面張力が30mN/m以下の液体の揮発が抑制され、100,000以下であればジオルガノシロキサン単位含有層からのブリードアウトが抑制される。1,000~10,000がより好ましい。なお、重量平均分子量はGPCを用い、ポリスチレン換算で測定を行い、得ることができる。 The molecular weight of a liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C is preferably a weight average molecular weight of 200 to 100,000. If the weight average molecular weight is 200 or more, evaporation of the liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C during production and storage of the printing member is suppressed, and if it is 100,000 or less, bleeding out from the diorganosiloxane unit-containing layer is suppressed. 1,000 to 10,000 is more preferable. The weight average molecular weight can be obtained by measuring using GPC in terms of polystyrene.

また、前記付加反応型、縮合反応型、付加反応-縮合反応併用型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物には、ゴム強度を向上させる目的でシリカ粒子や、ビニル基、SiH基、シラノール基などの官能基を有するシリコーンレジンなどの公知の補強剤を含有してもよい。 The above-mentioned addition reaction type, condensation reaction type, and combination addition reaction-condensation reaction type diorganosiloxane unit-containing layer forming composition may also contain known reinforcing agents such as silica particles and silicone resins having functional groups such as vinyl groups, SiH groups, and silanol groups in order to improve rubber strength.

さらに、前記付加反応型、縮合反応型、付加反応-縮合反応併用型のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物には、塗工性の向上を目的に溶剤を含有してもよい。 Furthermore, the above-mentioned addition reaction type, condensation reaction type, and combination addition reaction-condensation reaction type diorganosiloxane unit-containing layer forming composition may contain a solvent to improve coatability.

溶剤としては、例えば、脂肪族、脂環族、芳香族の炭化水素や、ハロゲン化炭化水素、鎖状または環状のエーテル化合物などが挙げられる。中でも、経済性や安全性を向上させる点で、脂肪族または脂環族の炭化水素が好ましい。また、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物に含まれる固形分の溶解性を向上させる点で、溶剤の溶解度パラメーターは、16.4(MPa)1/2以下が好ましく、15.4(MPa)1/2以下がより好ましく、14.4(MPa)1/2以下がさらに好ましい。溶解度パラメーターはFedors推算法を用いて算出できる。また、安全性や取り扱い性を向上させる点で、1気圧における沸点が60℃以上であることが好ましく、80℃以上であることがより好ましい。一方、塗液の乾燥性を向上させる点で、1気圧における沸点が150℃以下であることが好ましく、120℃以下であることがより好ましい。このような溶剤の具体例としては、炭素数が6~9の直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素や、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素などを挙げることができる。これら溶剤の2種以上を混合して用いてもよいし、これら溶剤があらかじめ混合された以下に代表されるような市販の溶剤を用いてもよい。 Examples of the solvent include aliphatic, alicyclic, and aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, and linear or cyclic ether compounds. Among them, aliphatic or alicyclic hydrocarbons are preferred from the viewpoint of improving economic efficiency and safety. In addition, from the viewpoint of improving the solubility of the solid content contained in the diorganosiloxane unit-containing layer forming composition, the solubility parameter of the solvent is preferably 16.4 (MPa) 1/2 or less, more preferably 15.4 (MPa) 1/2 or less, and even more preferably 14.4 (MPa) 1/2 or less. The solubility parameter can be calculated using the Fedors estimation method. In addition, from the viewpoint of improving safety and ease of handling, the boiling point at 1 atmospheric pressure is preferably 60° C. or more, and more preferably 80° C. or more. On the other hand, from the viewpoint of improving the drying property of the coating liquid, the boiling point at 1 atmospheric pressure is preferably 150° C. or less, and more preferably 120° C. or less. Specific examples of such solvents include linear or branched aliphatic hydrocarbons having 6 to 9 carbon atoms, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane, etc. Two or more of these solvents may be mixed and used, or commercially available solvents in which these solvents are mixed in advance, such as those typified below, may be used.

分岐状脂肪族炭化水素の混合物:例えば、マルカゾール8(丸善石油化学(株)製)、“アイソパー”(登録商標)C、“アイソパー”(登録商標)E(いずれもエクソンモービルケミカル社製)、IPソルベント1016(出光興産(株)製)、“アイソゾール”(登録商標)200(JX日鉱日石エネルギー(株)製)が挙げられ、各社から入手可能である。 Mixtures of branched aliphatic hydrocarbons: For example, Marukasol 8 (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.), "Isopar" (registered trademark) C, "Isopar" (registered trademark) E (all manufactured by ExxonMobil Chemical Co.), IP Solvent 1016 (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), and "Isosol" (registered trademark) 200 (manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) are available from the respective companies.

脂環族炭化水素の混合物:例えば、エクソールDSP80/100、エクソールDSP100/140、エクソールD30、(いずれもエクソンモービルケミカル社製)、CS揮発油(JX日鉱日石エネルギー(株)製)が挙げられ、各社から入手可能である。 Alicyclic hydrocarbon mixtures: For example, Exxol DSP 80/100, Exxol DSP 100/140, Exxol D30 (all manufactured by ExxonMobil Chemical Corporation), and CS volatile oil (manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) are available from various companies.

また、前述の溶剤以外の溶剤を混合して用いることもできるが、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の溶解性を向上させる点で、前述の溶剤が全溶剤中、80体積%以上含まれることが好ましく、90体積%以上含まれることがより好ましい。 In addition, solvents other than the above-mentioned solvents can be mixed and used, but in order to improve the solubility of the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition, it is preferable that the above-mentioned solvents account for 80 volume % or more of the total solvent, and more preferably 90 volume % or more.

以下に、ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の具体的な作製方法を記載するが、これに限定されない。 The specific method for preparing the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer is described below, but is not limited thereto.

例えば、容器中に溶剤、分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物、分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物、25℃での表面張力が30mN/m以下の液体、反応抑制剤、シランカップリング剤を投入し、成分が均一になるまで攪拌する。さらに、反応触媒を投入し、成分が均一になるまで攪拌することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物を得ることができる。 For example, a solvent, a siloxane compound having two or more vinyl groups in the molecule, a siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule, a liquid having a surface tension of 30 mN/m or less at 25°C, a reaction inhibitor, and a silane coupling agent are added to a container and stirred until the components are uniform. Furthermore, a reaction catalyst is added and the components are stirred until they are uniform, thereby obtaining a composition for forming a layer containing diorganosiloxane units.

硬化性維持の観点で、反応触媒はジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の塗布直前に投入することが好ましい。 From the viewpoint of maintaining curability, it is preferable to add the reaction catalyst immediately before applying the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer.

ジオルガノシロキサン単位含有層は、前述したジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物を支持体または支持体上に設けられた別の層に塗布することで形成できる。 The diorganosiloxane unit-containing layer can be formed by applying the above-mentioned diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition to a support or to another layer provided on a support.

また、本発明の印刷部材前駆体には、接着性、検版性、耐傷性、耐刷性などの向上を目的として、前記支持体と前記ジオルガノシロキサン単位含有層との間にプライマー層を有してもよい。 The printing member precursor of the present invention may also have a primer layer between the support and the diorganosiloxane unit-containing layer for the purpose of improving adhesion, plate inspection properties, scratch resistance, printing durability, etc.

プライマー層としては、例えば特開2004-199016号公報、特開2004-334025号公報、特開2006-276385号公報などに断熱層として記載されたプライマー層が挙げられるが、これらに限定されない。 Examples of primer layers include, but are not limited to, the primer layers described as heat insulating layers in JP-A-2004-199016, JP-A-2004-334025, and JP-A-2006-276385.

プライマー層の平均膜厚としては、0.1μm以上が印刷部材の耐傷性、耐刷性、検版性などを向上させる点で好ましい。また、希釈溶剤が揮発しやすく生産性が優れる点で、30μm以下が好ましく、0.2~20μmがより好ましい。 The average thickness of the primer layer is preferably 0.1 μm or more, as this improves the scratch resistance, printing durability, and plate inspection properties of the printing material. In addition, the average thickness of the primer layer is preferably 30 μm or less, and more preferably 0.2 to 20 μm, as this improves the productivity of the printing material by making it easier for the dilution solvent to volatilize.

次に、印刷部材前駆体の製造方法について説明する。 Next, we will explain the method for producing the printing member precursor.

支持体上にプライマー層を設ける場合には、支持体上にプライマー層形成用組成物を塗布し、加熱下または非加熱下で乾燥、硬化することにより支持体上にプライマー層を形成することができる。 When providing a primer layer on a support, a primer layer-forming composition is applied onto the support, and the composition is dried and cured with or without heating to form a primer layer on the support.

プライマー層形成用組成物の塗布には、スリットダイコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ワイヤーバーコーターなどを用いることができるが、スリットダイコーターが好ましい。 A slit die coater, gravure coater, roll coater, wire bar coater, etc. can be used to apply the composition for forming the primer layer, but a slit die coater is preferred.

加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いることができ、50~250℃の温度で30秒~10分間乾燥することが好ましい。 When heating, a hot air dryer, infrared dryer, etc. can be used, and it is preferable to dry at a temperature of 50 to 250°C for 30 seconds to 10 minutes.

ジオルガノシロキサン単位含有層は、支持体上または支持体上に設けられたプライマー層上に前記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物を塗布し、加熱下または非加熱下で乾燥、硬化することにより形成する。 The diorganosiloxane unit-containing layer is formed by applying the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition onto a support or onto a primer layer provided on a support, and then drying and curing the composition with or without heating.

ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物を塗布する際、支持体表面やプライマー層表面に付着した水分を可能な限り除去することが、接着性を向上させる点で好ましい。 When applying the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition, it is preferable to remove as much moisture as possible from the support surface and primer layer surface in order to improve adhesion.

ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物の塗布には、スリットダイコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ワイヤーバーコーターなどを用いることができるが、スリットダイコーターが好ましい。 A slit die coater, gravure coater, roll coater, wire bar coater, etc. can be used to apply the composition for forming the diorganosiloxane unit-containing layer, but a slit die coater is preferred.

加熱する場合には熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いることができ、50~200℃の温度で30秒~10分間乾燥することが好ましい。 When heating, a hot air dryer, infrared dryer, etc. can be used, and it is preferable to dry at a temperature of 50 to 200°C for 30 seconds to 10 minutes.

本発明の印刷部材前駆体は、ジオルガノシロキサン単位含有層表面を保護する目的でジオルガノシロキサン単位含有層上にカバーフィルムもしくは合紙またはその両方を設けてもよい。 The printing member precursor of the present invention may have a cover film or interleaf paper, or both, provided on the diorganosiloxane unit-containing layer for the purpose of protecting the surface of the diorganosiloxane unit-containing layer.

カバーフィルムとしては、厚み100μm以下のフィルムが好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、セロファンなどを挙げることができる。 The cover film is preferably a film with a thickness of 100 μm or less. Specific examples include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, cellophane, etc.

合紙は、秤量30~120g/mのものが好ましく、より好ましくは30~90g/mである。秤量30g/m以上であれば機械的強度が十分であり、120g/m以下であれば経済的に有利であるばかりでなく、印刷部材前駆体や印刷部材と合紙の積層体が薄くなり、作業性が有利になる。好ましく用いられる合紙の例として、例えば、情報記録原紙40g/m(名古屋パルプ(株)製)、金属合紙30g/m(名古屋パルプ(株)製)、未晒しクラフト紙50g/m(中越パルプ工業(株)製)、NIP用紙52g/m(中越パルプ工業(株)製)、純白ロール紙45g/m(王子製紙(株)製)、クルパック73g/m(王子製紙(株)製)などが挙げられ、各社より入手できるがこれらに限定されるものではない。 The slip paper preferably has a basis weight of 30 to 120 g/m 2 , more preferably 30 to 90 g/m 2. If the basis weight is 30 g/m 2 or more, the mechanical strength is sufficient, and if it is 120 g/m 2 or less, not only is it economically advantageous, but the laminate of the printing member precursor or the printing member and the slip paper becomes thin, and workability is advantageous. Examples of the slip paper that is preferably used include, for example, information recording base paper 40 g/m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), metal slip paper 30 g/m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), unbleached kraft paper 50 g/m 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Co., Ltd.), NIP paper 52 g/m 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Co., Ltd.), pure white roll paper 45 g/m 2 (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), and Clupac 73 g/m 2 (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), which are available from each company, but are not limited thereto.

次に、前記印刷部材前駆体から印刷部材を製造する方法について説明する。印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上にカバーフィルムや合紙が設けられている場合には、印刷部材の製造前に予めこれらを取り除く。本発明に係る印刷部材は、前記印刷部材前駆体に電子線または波長125~260nmの紫外線を照射することにより得ることができる。紫外線の波長は、125nm~200nmがより好ましい。ここで、波長125~260nmの紫外線とは、波長125~260nmにおいてピーク波長を有する紫外線をいう。インキ反発部に電子線または波長125~260nmの紫外線を照射すると、照射部分のジオルガノシロキサン単位含有層の少なくとも表面がシルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含む構造に変化することによって、インキ反発性がインキ着肉性に変化する。 Next, a method for producing a printing member from the printing member precursor will be described. If a cover film or interleaf paper is provided on the diorganosiloxane unit-containing layer of the printing member precursor, these are removed in advance before producing the printing member. The printing member according to the present invention can be obtained by irradiating the printing member precursor with electron beams or ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm. The wavelength of the ultraviolet light is more preferably 125 nm to 200 nm. Here, ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm refers to ultraviolet light having a peak wavelength in the wavelength range of 125 to 260 nm. When the ink-repelling portion is irradiated with electron beams or ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm, at least the surface of the diorganosiloxane unit-containing layer in the irradiated portion changes to a structure containing a silsesquioxane structure and/or a glass structure, thereby changing the ink repellency to ink receptivity.

中でも、製版用のマスクが不要となる点から、電子線描画装置や波長125~260nmの紫外線レーザー描画装置などを用いて、インキ着肉部のパターンを直接描画することが好ましい。 Among these, it is preferable to directly draw the pattern of the ink-receiving area using an electron beam drawing device or an ultraviolet laser drawing device with a wavelength of 125 to 260 nm, since this eliminates the need for a mask for plate making.

電子線照射装置は、走査型のスキャンビーム方式と非走査型のエリアビーム方式を挙げることができ、これらいずれの方式も好適に用いることができる。一般的に、300keV以上の高エネルギー装置にスキャンビーム方式が用いられ、300keV以下の低エネルギー装置にはエリアビーム方式が用いられる場合が多い。 Electron beam irradiation devices can be classified into a scanning type scan beam system and a non-scanning type area beam system, and either system can be suitably used. In general, the scan beam system is used for high energy devices of 300 keV or more, and the area beam system is often used for low energy devices of 300 keV or less.

電子線描画装置は、スポットビーム方式、可変成形ビーム(矩形ビーム)方式、キャラクタープロジェクション方式などを挙げることができ、これらいずれの方式も好適に用いることができる。またこれら方式を組み合わせてもよい。スポットビーム方式は超高精細(数十~数百nm)のパターニングが行えることが最大のメリットであるが、一方で印刷部材の生産性(スループット)が低くなるデメリットを有している。印刷部材の製造においては、高解像度とされる4000dpiであってもその最小ドットサイズは約6μm程度であり、スポットビーム方式よりも精細度に劣る可変成形ビーム方式を用いたとしても精細度としては十分であり、これにより印刷部材の生産性を高めることができる。 Electron beam lithography devices include a spot beam system, a variable shaped beam (rectangular beam) system, and a character projection system, and any of these systems can be suitably used. These systems may also be combined. The greatest advantage of the spot beam system is that it can perform ultra-high definition patterning (tens to hundreds of nm), but it has the disadvantage of lowering the productivity (throughput) of printed materials. In the manufacture of printed materials, even at 4000 dpi, which is considered to be a high resolution, the minimum dot size is about 6 μm, so even if a variable shaped beam system, which has lower definition than the spot beam system, is used, the definition is sufficient, and this can increase the productivity of printed materials.

電子線の線量としては、100~3000kGyであることが好ましく、500~2000kGyであることがより好ましい。100kGy以上であれば電子線照射部分のインキ着肉性がさらに向上するため好ましく、3000kGy以下であれば生産性や耐刷性に優れるため好ましい。 The dose of the electron beam is preferably 100 to 3000 kGy, and more preferably 500 to 2000 kGy. A dose of 100 kGy or more is preferable because it further improves the ink receptivity of the electron beam irradiated area, and a dose of 3000 kGy or less is preferable because it provides excellent productivity and printing durability.

また、電子線の加速電圧としては、50~150kVであることが好ましく、75~125kGyであることがより好ましい。50kGy以上であれば生産性に優れるため好ましく、150kGy以下であれば低線量でインキ着肉性がさらに向上し、また電子線の浸透深さが浅くなるため支持体やプライマー層へのダメージを抑制できるため好ましい。 The acceleration voltage of the electron beam is preferably 50 to 150 kV, and more preferably 75 to 125 kGy. A voltage of 50 kGy or more is preferable because it provides excellent productivity, while a voltage of 150 kGy or less is preferable because it further improves ink adhesion at a low dose and reduces the penetration depth of the electron beam, thereby suppressing damage to the support and primer layer.

波長125~260nmの紫外線照射装置は、照射光のピーク波長が125~260nmの範囲に含まれる、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、およびエキシマランプなどを挙げることができる。これらの中では低圧水銀ランプ、エキシマランプが好ましい。波長125~260nmのエキシマランプとしては、Ar(126nm)、Kr(146nm)、F(153nm)、ArBr(165nm)、Xe(172nm)、ArCl(175nm)、ArF(193nm)、KrBr(207nm)、KrCl(222nm)、KrF(248nm)、XeI(253nm)、HgXe(254nm)、Cl(259nm)などの希ガスエキシマランプや希ガスハロゲンエキシマランプが挙げられるが、これらに限定されない。中でも、印刷部材の生産性を向上させる点で、Ar(126nm)、Kr(146nm)、F(153nm)、ArBr(165nm)、Xe(172nm)、ArCl(175nm)、ArF(193nm)などの波長125~200nmの真空紫外線エキシマランプを使用することがより好ましい。 Examples of ultraviolet irradiation devices with a wavelength of 125 to 260 nm include high-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, and excimer lamps, which have a peak wavelength of irradiation light in the range of 125 to 260 nm. Among these, low-pressure mercury lamps and excimer lamps are preferred. Examples of excimer lamps with a wavelength of 125 to 260 nm include rare gas excimer lamps and rare gas halogen excimer lamps such as Ar 2 (126 nm), Kr 2 (146 nm), F 2 (153 nm), ArBr (165 nm), Xe 2 (172 nm), ArCl (175 nm), ArF (193 nm), KrBr (207 nm), KrCl (222 nm), KrF (248 nm), XeI (253 nm), HgXe (254 nm), and Cl 2 (259 nm), but are not limited to these. Among these, from the viewpoint of improving the productivity of printing members, it is more preferable to use a vacuum ultraviolet excimer lamp having a wavelength of 125 to 200 nm, such as Ar 2 (126 nm), Kr 2 (146 nm), F 2 (153 nm), ArBr (165 nm), Xe 2 (172 nm), ArCl (175 nm), or ArF (193 nm).

波長125~260nmの紫外線レーザーとしては、アレキサンドライトレーザーの第3高調波(252nm)、Nd:YAGレーザーの第5高調波(213nm)、Nd:YVOレーザーの第5高調波(213nm)、Nd:YLFレーザーの第5高調波(211nm)などの固体レーザー、Fレーザー(157nm)、ArFレーザー(193nm)、KClレーザー(222nm)、KrFレーザー(248nm)などの気体レーザーなどが挙げられるが、これらに限定されない。中でも、印刷部材の生産性を向上させる点で、Fレーザー(157nm)、ArFレーザー(193nm)などの波長125~200nmの真空紫外線レーザーを使用することがより好ましい。 Examples of ultraviolet lasers with a wavelength of 125 to 260 nm include solid lasers such as the third harmonic of an Alexandrite laser (252 nm), the fifth harmonic of an Nd:YAG laser (213 nm), the fifth harmonic of an Nd: YVO4 laser (213 nm), and the fifth harmonic of an Nd:YLF laser (211 nm), and gas lasers such as an F2 laser (157 nm), an ArF laser (193 nm), a KCl laser (222 nm), and a KrF laser (248 nm), but are not limited thereto. Among these, in terms of improving the productivity of printing members, it is more preferable to use vacuum ultraviolet lasers with a wavelength of 125 to 200 nm, such as an F2 laser (157 nm) and an ArF laser (193 nm).

波長125~260nmの紫外線の露光量としては、300~3000mJ/cmであることが好ましく、500~2000mJ/cmであることがより好ましい。300mJ/cm以上であれば紫外線照射部分のインキ着肉性がさらに向上するため好ましく、3000mJ/cm以下であれば生産性や耐刷性に優れるため好ましい。 The exposure dose of ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm is preferably 300 to 3000 mJ/ cm2 , and more preferably 500 to 2000 mJ/ cm2 . If it is 300 mJ/ cm2 or more, the ink receptivity of the ultraviolet irradiated portion is further improved, and if it is 3000 mJ/ cm2 or less, the productivity and printing durability are excellent, and therefore it is preferable.

電子線や波長125~200nmの紫外線の照射はオゾン発生の抑制や酸素などによる照射線のエネルギー損失抑制の点で、窒素ガス中や真空中で行なうことが好ましい。 Irradiation with electron beams or ultraviolet rays with wavelengths of 125 to 200 nm is preferably carried out in nitrogen gas or vacuum to prevent ozone generation and energy loss of the irradiation rays due to oxygen, etc.

得られた印刷部材を積み重ねて保管する場合には、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層の表面を保護する目的で、印刷部材と印刷部材の間に合紙を挟んでおくことが好ましい。 When the resulting printing members are stacked for storage, it is preferable to place interleaf paper between the printing members in order to protect the surface of the layer consisting of the ink-repelling portion and the ink-receiving portion.

次に、印刷部材とインキと被印刷媒体を用いて印刷物を製造する方法について説明する。本発明に係る印刷部材は、水なし印刷に好適に使用することができる。 Next, we will explain a method for producing a printed matter using a printing member, ink, and a print medium. The printing member according to the present invention can be suitably used for waterless printing.

本発明に係る印刷物の製造方法は、本発明に係る印刷部材、インキ、および被印刷媒体を用いる。具体的には、印刷部材の表面にインキを付着させる工程と、前記インキを直接またはブランケットを介して被印刷媒体に転写する工程を含むことが好ましい。 The method for producing a printed matter according to the present invention uses the printing member, ink, and print medium according to the present invention. Specifically, it is preferable that the method includes a step of applying ink to the surface of the printing member, and a step of transferring the ink to the print medium directly or via a blanket.

図3を用いて本発明に係る印刷物の製造方法の一形態を説明する。なお、以下ではブランケット胴8を使用した例を説明するが、本発明はこれに限定されず、ブランケット胴8を使用せずにインキローラー5から版胴7に装着された印刷部材6にインキを付着させた後、インキを直接被印刷媒体に転写しても構わない。また、以下では被印刷媒体9の上方からインキを供給する例を説明するが、被印刷媒体9の下方からインキを供給しても構わない。 One embodiment of the method for producing a printed matter according to the present invention will be described using Figure 3. Note that, although an example using a blanket cylinder 8 will be described below, the present invention is not limited to this, and it is also possible to transfer ink directly to the print medium after applying ink from an ink roller 5 to a printing member 6 mounted on a plate cylinder 7 without using a blanket cylinder 8. Also, although an example will be described below in which ink is supplied from above the print medium 9, ink may also be supplied from below the print medium 9.

はじめに、インキローラー5にインキを供給する。インキローラー5に供給されたインキは、版胴7との接点において、版胴7に装着された印刷部材6に付着する。印刷部材6に付着したインキはブランケット胴8との接点において、ブランケット胴8の表面に転写する。ブランケット胴8に付着したインキは、圧胴10上に配置された被印刷媒体9との接点において、被印刷媒体9に転写する。被印刷媒体9を必要に応じて乾燥することにより、印刷物が得られる。インキローラーや各胴の回転スピードは特に限定されるものではなく、印刷物に要求される品質、インキの性質等に応じて、適宜設定することができる。 First, ink is supplied to the ink roller 5. The ink supplied to the ink roller 5 adheres to the printing material 6 attached to the plate cylinder 7 at the contact point with the plate cylinder 7. The ink adhered to the printing material 6 is transferred to the surface of the blanket cylinder 8 at the contact point with the blanket cylinder 8. The ink adhered to the blanket cylinder 8 is transferred to the print medium 9 placed on the impression cylinder 10 at the contact point with the print medium 9. A print is obtained by drying the print medium 9 as necessary. There are no particular limitations on the rotation speed of the ink rollers and each cylinder, and it can be set appropriately depending on the quality required for the print and the properties of the ink, etc.

本発明に係る印刷物の製造に用いられる印刷機としては、例えば、枚葉方式または輪転方式などの公知の直刷り印刷機やオフセット印刷機が挙げられるが、印刷時の印刷部材へのダメージ抑制により多くの印刷物が得られる点から、オフセット印刷機が好ましい。オフセット印刷機は、フィーダー部、印刷部およびデリバリー部により構成される。印刷部は、少なくとも、インキ供給部、版胴、ブランケット胴および圧胴を有する。 Printing machines used to produce the printed matter according to the present invention include, for example, known direct printing machines such as sheet-fed or rotary printing machines and offset printing machines, but offset printing machines are preferred because they can produce more printed matter by minimizing damage to the printing material during printing. An offset printing machine is composed of a feeder section, a printing section, and a delivery section. The printing section has at least an ink supply section, a plate cylinder, a blanket cylinder, and an impression cylinder.

オフセット印刷機としては、揺動ローラーおよび/または版胴に冷却機構が備わったオフセット印刷機が耐地汚れ性を向上させる点で好ましい。 As for offset printing machines, offset printing machines equipped with a cooling mechanism for the oscillating roller and/or plate cylinder are preferred in terms of improving the resistance to scumming.

油溶性または水溶性の酸化重合型インキを用いた印刷の場合、被印刷媒体に転写されたインキが自然乾燥または加熱処理により乾燥および/または硬化することによって、印刷物が得られる。 When printing with oil-soluble or water-soluble oxidative polymerization ink, the ink transferred to the print medium is dried and/or hardened by natural drying or heat treatment to obtain a printed product.

一方、油溶性または水溶性の活性エネルギー線硬化型インキを用いた印刷の場合は、被印刷媒体に転写されたインキは活性エネルギー線照射装置からの活性エネルギー線により瞬時に硬化し、印刷物が得られるため好ましい。 On the other hand, when printing with oil-soluble or water-soluble active energy ray-curable ink, the ink transferred to the print medium is instantly cured by the active energy rays from the active energy ray irradiation device, resulting in a printed product, which is preferable.

活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線(UV)、電子線(EB)、X線、粒子線などが挙げられるが、線源の扱いやすさなどの点から紫外線や電子線が好ましい。 Examples of active energy rays include visible light, ultraviolet light (UV), electron beams (EB), X-rays, and particle beams, but ultraviolet light and electron beams are preferred from the standpoint of ease of handling the radiation source.

紫外線により硬化させる場合は、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、LED等の紫外線照射装置が好ましく用いられるが、例えばメタルハライドランプを用いる場合、80~150W/cmの照度を有するランプによって、コンベアーによる搬送速度が50~150m/minで硬化させることが生産性の面から好ましい。特に、被印刷媒体としてプラスチックフィルムや金属を含む被印刷媒体を用いる場合、活性エネルギー線による発熱によって被印刷媒体が伸縮しやすくなるため、発熱の少ない電子線、またはLEDを用いた紫外線照射装置(LED-UV)を好ましく用いることができる。 When curing with ultraviolet light, ultraviolet irradiation devices such as high-pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and LEDs are preferably used, but when using a metal halide lamp, for example, it is preferable from the viewpoint of productivity to cure with a lamp having an illuminance of 80 to 150 W/cm 2 and a conveyor transport speed of 50 to 150 m/min. In particular, when using a print medium containing a plastic film or metal as the print medium, the print medium is likely to expand or contract due to heat generated by active energy rays, so that an ultraviolet irradiation device using an electron beam that generates less heat or an LED (LED-UV) can be preferably used.

電子線により硬化させる場合は、100~500eVのエネルギー線を有する電子線照射装置が好ましく用いられる。 When curing with electron beams, an electron beam irradiation device with an energy beam of 100 to 500 eV is preferably used.

本発明に好ましく用いることができるインキとしては、以下に記載のインキなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Inks that can be preferably used in the present invention include, but are not limited to, the inks listed below.

<インキ-1> 油溶性酸化重合型インキ
油溶性酸化重合型インキとしては、例えば、特開昭48-004107号公報、特開平01-306482号公報などで開示された油性洗浄液で洗浄可能な公知の油溶性酸化重合型インキが挙げられる。また、特開2005-336301号公報、特開2005-126579号公報、特開2011-144295号公報、特開2012-224823号公報などで開示された、溶剤成分を従来の鉱物油(石油)成分から植物油成分に置き換えた、大豆油インキや植物油インキ、ならびにNon-VOCインキなどと称される環境低負荷型のインキも油溶性酸化重合型インキに含まれる。
<Ink-1> Oil-soluble oxidative polymerization type ink Examples of the oil-soluble oxidative polymerization type ink include known oil-soluble oxidative polymerization type inks that can be washed with an oil-based washing liquid, as disclosed in, for example, JP-A-48-004107, JP-A-01-306482, etc. Also included in the oil-soluble oxidative polymerization type inks are soybean oil inks and vegetable oil inks, in which the solvent component is replaced from the conventional mineral oil (petroleum) component with a vegetable oil component, as well as environmentally low-load inks known as Non-VOC inks, as disclosed in, for example, JP-A-2005-336301, JP-A-2005-126579, JP-A-2011-144295, and JP-A-2012-224823.

<インキ-2> 水溶性酸化重合型インキ
水溶性酸化重合型インキとしては、例えば、特開2009-57461号公報、特許第4522094号公報などで開示された水または水系洗浄液で洗浄可能な公知の水溶性酸化重合型インキが挙げられる。
<Ink-2> Water-soluble oxidative polymerization ink Examples of the water-soluble oxidative polymerization ink include known water-soluble oxidative polymerization inks that can be washed with water or an aqueous cleaning solution, as disclosed in JP-A-2009-57461, Japanese Patent No. 4,522,094, and the like.

<インキ-3> 油溶性活性エネルギー線硬化型インキ
油溶性活性エネルギー線硬化型インキとしては、例えば、特許第5158274号公報、特開2012-211230号公報などで開示された油性洗浄液で洗浄可能な公知の活性エネルギー線硬化型インキが挙げられる。また、活性エネルギー線硬化型インキには省電力(減灯)UV印刷やLED-UV印刷に使用される高感度UVインキも含まれる。
<Ink-3> Oil-soluble active energy ray-curable ink Examples of the oil-soluble active energy ray-curable ink include known active energy ray-curable inks that can be washed with an oil-based washing liquid, such as those disclosed in Japanese Patent No. 5158274, JP-A No. 2012-211230, etc. Active energy ray-curable inks also include high-sensitivity UV inks used in power-saving (reduced lighting) UV printing and LED-UV printing.

<インキ-4> 水溶性活性エネルギー線硬化型インキ
水溶性活性エネルギー線硬化型インキとしては、例えば、特開2017-52817号公報、国際公開第2017/047817号、国際公開第2017/090663号などで開示された水または水系洗浄液で洗浄可能な公知の水溶性活性エネルギー線硬化型インキが挙げられる。
<Ink-4> Water-soluble active energy ray-curable ink Examples of the water-soluble active energy ray-curable ink include known water-soluble active energy ray-curable inks that can be washed with water or an aqueous cleaning solution, as disclosed in, for example, JP2017-52817A, WO2017/047817A, WO2017/090663A, and the like.

上記のインキの中でも、油溶性または水溶性の活性エネルギー線硬化型インキは、被印刷媒体に転写後、活性エネルギー線の照射により瞬時に硬化するため、直ちに裏面の印刷や後加工が行えるといった従来の酸化重合型インキにはないメリットを有しているため好ましい。しかしながら、活性エネルギー線硬化型インキは、従来の酸化重合型インキとは異なりインキ中に地汚れ防止成分を一切含まないか、またはごく少量しか含まないため、印刷時に地汚れが発生しやすい欠点を有している。本発明の印刷部材は高いインキ反発性を有するため、油溶性活性エネルギー線硬化型インキおよび水溶性活性エネルギー線硬化型インキを好適に使用することができる。また、印刷機の各種ローラー、ブランケット、印刷部材などに付着したインキを洗浄する際、油溶性酸化重合型インキや油溶性活性エネルギー線硬化型インキなどの油溶性インキでは、揮発性が高く有害な有機溶剤を使用することから人体や環境への負荷が大きい。これに対し、水溶性酸化重合型インキや水溶性活性エネルギー線硬化型インキなどの水溶性インキは、水単独、または水を主成分とする洗浄液で洗浄することが可能であることから、揮発性が高く有害な有機溶剤を使用する必要がなく、人体や環境への負荷を著しく抑制できる点で好ましい。とりわけ、水溶性活性エネルギー線硬化型インキをより好適に使用することができる。 Among the above inks, oil-soluble or water-soluble active energy ray curable inks are preferred because they have the advantage that conventional oxidative polymerization inks do not have, that is, they are instantly cured by irradiation with active energy rays after being transferred to the printing medium, and therefore printing on the back side and post-processing can be performed immediately. However, unlike conventional oxidative polymerization inks, active energy ray curable inks have the disadvantage that they are prone to background scumming during printing because they contain no or only a small amount of ingredients to prevent background scumming. Since the printing member of the present invention has high ink repellency, oil-soluble active energy ray curable inks and water-soluble active energy ray curable inks can be suitably used. In addition, when cleaning ink attached to various rollers, blankets, printing members, etc. of a printing machine, oil-soluble inks such as oil-soluble oxidative polymerization inks and oil-soluble active energy ray curable inks use highly volatile and harmful organic solvents, which put a large burden on the human body and the environment. In contrast, water-soluble inks such as water-soluble oxidative polymerization inks and water-soluble active energy ray curable inks can be washed off with water alone or with a cleaning solution mainly composed of water, making it unnecessary to use highly volatile and harmful organic solvents, and thus favorable in that the burden on the human body and the environment can be significantly reduced. In particular, water-soluble active energy ray curable inks can be used more preferably.

被印刷媒体としては、上質紙、アート紙、コート紙、キャスト紙、合成紙、新聞用紙などの紙類、アルミニウムやアルミニウム合金、鉄、鋼、亜鉛、銅などの金属類、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのプラスチックフィルム類、またはこれら紙類、金属類、プラスチックフィルム類の複合体(金属が蒸着またはラミネートされた紙またはプラスチックフィルム、プラスチックフィルムがラミネートされた紙または金属、紙がラミネートされた金属またはプラスチックフィルム)などが挙げられるが、これらに限定されない。 Printing media include, but are not limited to, papers such as fine paper, art paper, coated paper, cast paper, synthetic paper, and newsprint; metals such as aluminum, aluminum alloys, iron, steel, zinc, and copper; plastic films such as polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl acetal; and composites of these papers, metals, and plastic films (paper or plastic film vapor-deposited or laminated with metal, paper or metal laminated with plastic film, and metal or plastic film laminated with paper).

中でも、本発明に係る印刷物の製造方法では、被印刷面が金属またはプラスチックフィルムで構成される、合成紙、金属類、プラスチックフィルム類、金属が蒸着またはラミネートされた紙またはプラスチックフィルム、プラスチックフィルムがラミネートされた紙または金属などのインキ成分非吸収性の被印刷媒体への印刷に好適である。 In particular, the method for producing printed matter according to the present invention is suitable for printing on print media that do not absorb ink components, such as synthetic paper, metals, plastic films, paper or plastic film on which metal is vapor-deposited or laminated, and paper or metal laminated with plastic film, whose print surface is made of metal or plastic film.

上記のうち、被印刷面がプラスチックフィルムで構成される、合成紙、プラスチックフィルム類、プラスチックフィルムがラミネートされた紙または金属などの被印刷媒体の被印刷面は、接着性向上の点でプライマー樹脂のコーティングや、コロナ放電処理、プラズマ処理などの表面処理を施してもよい。 Of the above, the printing surface of the printing medium, such as synthetic paper, plastic films, paper laminated with plastic film, or metal, whose printing surface is made of plastic film, may be coated with a primer resin or subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or plasma treatment to improve adhesion.

被印刷媒体は、枚葉状、ロール状のいずれも用いることができる。軟包装用の薄膜フィルムに印刷する場合は、ロール状フィルムを用い、ロールトゥロールで印刷することが好ましい。 The printing medium can be in either sheet or roll form. When printing on thin film for flexible packaging, it is preferable to use rolled film and print by roll-to-roll.

被印刷媒体上のインキ塗膜(インキ硬化膜)の厚みは0.1~50μmであることが好ましい。インキ塗膜の厚みが上記範囲内であることにより、良好な印刷品質を保ちつつ、インキコストを低減させることが出来る。 The thickness of the ink coating (cured ink film) on the printing medium is preferably 0.1 to 50 μm. By keeping the thickness of the ink coating within the above range, it is possible to reduce ink costs while maintaining good print quality.

本発明の印刷部材は現像工程が不要であり、従来の現像工程で用いられる前処理薬品や後処理薬品などを使用する必要がない。このため、印刷部材への前処理薬品や後処理薬品の付着や浸透がなく、印刷工程においてこれら薬品の印刷部材から印刷物への移行がないことから、薬品の含有量に厳しい食品包装用途の印刷に特に好適に用いることができる。 The printing member of the present invention does not require a development process, and there is no need to use pre-treatment chemicals or post-treatment chemicals used in conventional development processes. Therefore, pre-treatment chemicals and post-treatment chemicals do not adhere to or penetrate the printing member, and these chemicals do not migrate from the printing member to the printed matter during the printing process, making it particularly suitable for use in printing for food packaging applications, which have strict chemical content requirements.

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。また、各実施例・比較例における評価は次の方法で行った。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples. Each example and comparative example was evaluated using the following methods.

<各実施例・比較例における評価方法>
(1)電子線または波長125~260nmの紫外線照射部(インキ着肉部)および電子線または紫外線未照射部(インキ反発部)の平均弾性率、平均弾性率差
各実施例、比較例に記載の方法で得られた印刷部材の電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部の平均弾性率を以下の分析法により評価、算出した。
分析装置:走査型プローブ顕微鏡(SPM):NanoScopeV dimension Icon(Bruker社製)
探針:シリコンカンチレバー(ばね定数=6N/m)
先端曲率半径:8nm
荷重:5~20nN
走査モード:フォースボリューム(コンタクトモード)
走査範囲:電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部のそれぞれ任意の25μm(縦:5μm×横:5μm)
走査範囲内での測定点:4096点(縦:64点×横:64点)
測定環境:室温、大気中。
<Evaluation methods for each example and comparative example>
(1) Average elastic modulus and difference in average elastic modulus between a portion irradiated with an electron beam or ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm (ink-applied portion) and a portion not irradiated with an electron beam or ultraviolet light (ink-repelling portion) The average elastic modulus of a portion irradiated with an electron beam or ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm and a portion not irradiated with an electron beam or ultraviolet light of the printing members obtained by the methods described in each Example and Comparative Example were evaluated and calculated by the following analytical method.
Analytical device: Scanning probe microscope (SPM): NanoScope V dimension Icon (manufactured by Bruker)
Probe: Silicon cantilever (spring constant = 6 N/m)
Tip curvature radius: 8nm
Load: 5 to 20 nN
Scanning mode: Force volume (contact mode)
Scanning range: 25 μm 2 (length: 5 μm × width: 5 μm) of each of the area irradiated with electron beam or ultraviolet light with a wavelength of 125 to 260 nm and the area not irradiated with electron beam or ultraviolet light
Measurement points within the scanning range: 4096 points (vertical: 64 points x horizontal: 64 points)
Measurement environment: Room temperature, in air.

得られた全測定点(4096点)における弾性率の相加平均値を平均弾性率とし、 電子線または波長125~260nmの紫外線照射部の平均弾性率から電子線または紫外線未照射部の平均弾性率を除した数値を平均弾性率差とした。 The arithmetic mean value of the elastic modulus at all measurement points (4096 points) was taken as the average elastic modulus, and the average elastic modulus difference was calculated by dividing the average elastic modulus of the area irradiated with the electron beam or ultraviolet light with a wavelength of 125 to 260 nm by the average elastic modulus of the area not irradiated with the electron beam or ultraviolet light.

(2)スポット径の測定
水平器を用いて水平にしたホットプレート(プレート温度:30℃)上に印刷部材を置いた。印刷部材の表面温度が30℃になっていることを確認後、印刷部材の電子線または波長125~260nmの紫外線照射部の表面の任意の1箇所に、ジメチルシリコーンオイル:KF-96-20cs(信越化学工業(株)製、液粘度:20センチストークス)を12マイクロリットル接触させ、接触後10分経過時点のスポット径を測定した。スポット径は、接触後10分経過時点のジメチルシリコーンオイルのスポット形状のうち、径が最長となる箇所を測長することによって求めた。
(2) Measurement of spot diameter A printing member was placed on a hot plate (plate temperature: 30°C) that was leveled using a level. After confirming that the surface temperature of the printing member was 30°C, 12 microliters of dimethyl silicone oil: KF-96-20cs (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., liquid viscosity: 20 centistokes) was brought into contact with any one location on the surface of the printing member that was irradiated with electron beams or ultraviolet rays with a wavelength of 125 to 260 nm, and the spot diameter was measured 10 minutes after the contact. The spot diameter was determined by measuring the length of the spot shape of the dimethyl silicone oil 10 minutes after the contact, at the point where the diameter was the longest.

(3)印刷方法
各実施例、比較例に記載の方法で得た印刷部材を、LED-UVオフセット輪転印刷機:MHL13A((株)ミヤコシ製)に装着し、以下に示す条件で20,000mの印刷を行った。
(3) Printing Method The printing members obtained by the methods described in each of the Examples and Comparative Examples were mounted on an LED-UV offset rotary printing press: MHL13A (manufactured by Miyakoshi Co., Ltd.), and 20,000 m of printing was carried out under the conditions shown below.

<印刷条件>
インキローラー:#8000(明和ゴム工業(株)製)
ブランケット:T626W((株)金陽社製)
水溶性UVインキ:UV171 NH TBS 墨((株)T&K TOKA製)
インキ成分非吸収性の被印刷媒体:“エンブレット”(登録商標)PTM-12(ロール状2軸延伸PETフィルム、厚み:12μm、印刷面:易接着処理、ユニチカ(株)製)
版面温度:25~28℃
印刷速度:100m/分。
<Printing conditions>
Ink roller: #8000 (manufactured by Meiwa Rubber Industries Co., Ltd.)
Blanket: T626W (Kinyosha Co., Ltd.)
Water-soluble UV ink: UV171 NH TBS ink (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.)
Ink component non-absorbent print medium: "EMBLET" (registered trademark) PTM-12 (rolled biaxially stretched PET film, thickness: 12 μm, printing surface: easy-adhesion treatment, manufactured by Unitika Ltd.)
Plate surface temperature: 25-28℃
Printing speed: 100m/min.

<インキ硬化条件>
UV波長:385nm
UV照射強度:8W/cm
<Ink curing conditions>
UV wavelength: 385nm
UV irradiation intensity: 8 W/cm 2 .

(3-1)電子線または波長125~260nmの紫外線照射部におけるインキ着肉性の評価
印刷開始から500m付近の印刷物を切り出し、5枚重ねにしたコート紙:OK“トップコート”(登録商標)+(王子製紙(株)製)上に置き、ベタ部の墨反射濃度を分光濃度計“スペクトロアイ”(エックスライト社製)にて測定した。インキ着肉性の評点は以下の通りとした。
A:墨反射濃度1.4以上
B:墨反射濃度1.1以上1.4未満
C:墨反射濃度0.8以上1.1未満
D:墨反射濃度0.5以上0.8未満
E:墨反射濃度0.5未満。
(3-1) Evaluation of ink receptivity in areas irradiated with electron beams or ultraviolet rays with wavelengths of 125 to 260 nm A printed matter approximately 500 m from the start of printing was cut out and placed on a five-ply coated paper: OK "Topcoat" (registered trademark) + (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), and the ink reflection density of the solid area was measured with a spectrodensitometer "Spectroeye" (manufactured by X-Rite Inc.). The ink receptivity was scored as follows:
A: Black reflection density 1.4 or more. B: Black reflection density 1.1 or more and less than 1.4. C: Black reflection density 0.8 or more and less than 1.1. D: Black reflection density 0.5 or more and less than 0.8. E: Black reflection density less than 0.5.

(3-2)電子線または紫外線未照射部におけるインキ反発性の評価
印刷開始から500m付近の印刷物を切り出し、5枚重ねにしたOK“トップコート”(登録商標)+上に置き、白ベタ部墨反射濃度を“スペクトロアイ”にて測定した。反射濃度が低い方がインキ反発性は良好であり、反射濃度:0.00が最良である。反射濃度:0.01以上の場合には白ベタ部に地汚れが発生しており、数値が高くなるほど地汚れの程度がひどくなる。
(3-2) Evaluation of ink repellency in areas not irradiated with electron beam or ultraviolet ray A printed matter was cut out from about 500 m from the start of printing, placed on a 5-ply OK "Topcoat" (registered trademark) +, and the ink reflection density of the white solid area was measured with a "Spectroeye." The lower the reflection density, the better the ink repellency, and a reflection density of 0.00 is the best. When the reflection density is 0.01 or more, background scumming occurs in the white solid area, and the higher the value, the worse the degree of background scumming becomes.

(3-3)電子線または波長125~260nmの紫外線照射部における耐刷性の評価
印刷開始から5,000m毎の印刷物を切り出し、5枚重ねにしたOK“トップコート”(登録商標)+上に置き、ベタ部墨反射濃度を“スペクトロアイ”にて測定した。電子線または波長125~260nmの紫外線照射部における耐刷性の評点は以下の通りとした。
A:20,000mでも墨反射濃度の低下なし
B:15,000mで墨反射濃度の低下なし、20,000mで墨反射濃度が低下
C:10,000mで墨反射濃度の低下なし、15,000mで墨反射濃度が低下
D:5,000mで墨反射濃度の低下なし、10,000mで墨反射濃度が低下
E:5,000mで墨反射濃度が低下。
(3-3) Evaluation of printing durability in the area irradiated with electron beam or ultraviolet light with a wavelength of 125 to 260 nm Printed matter was cut out every 5,000 m from the start of printing, placed on a 5-ply OK "Topcoat" (registered trademark) +, and the ink reflection density of the solid area was measured with a "Spectroeye". The printing durability in the area irradiated with electron beam or ultraviolet light with a wavelength of 125 to 260 nm was evaluated as follows.
A: No decrease in ink reflection density even at 20,000 m. B: No decrease in ink reflection density at 15,000 m, but decrease in ink reflection density at 20,000 m. C: No decrease in ink reflection density at 10,000 m, but decrease in ink reflection density at 15,000 m. D: No decrease in ink reflection density at 5,000 m, but decrease in ink reflection density at 10,000 m. E: decrease in ink reflection density at 5,000 m.

(3-4)電子線または紫外線未照射部における耐刷性の評価
印刷開始から5,000m毎の印刷物を切り出し、5枚重ねにしたOK“トップコート”(登録商標)+上に置き、白ベタ部墨反射濃度を“スペクトロアイ”にて測定した。電子線または紫外線未照射部における耐刷性の評点は以下の通りとした。
A:20,000mでも墨反射濃度の上昇なし
B:15,000mで墨反射濃度の上昇なし、20,000mで墨反射濃度が上昇
C:10,000mで墨反射濃度の上昇なし、15,000mで墨反射濃度が上昇
D:5,000mで墨反射濃度の上昇なし、10,000mで墨反射濃度が上昇
E:5,000mで墨反射濃度が上昇。
(3-4) Evaluation of printing durability in areas not irradiated with electron beams or ultraviolet rays Prints were cut out every 5,000 m from the start of printing, placed on a stack of 5 OK "Topcoat" (registered trademark) +, and the black reflection density of the white solid area was measured with a "Spectroeye". The printing durability in areas not irradiated with electron beams or ultraviolet rays was evaluated as follows.
A: No increase in ink reflection density even at 20,000 m. B: No increase in ink reflection density at 15,000 m, but increase in ink reflection density at 20,000 m. C: No increase in ink reflection density at 10,000 m, but increase in ink reflection density at 15,000 m. D: No increase in ink reflection density at 5,000 m, but increase in ink reflection density at 10,000 m. E: Increase in ink reflection density at 5,000 m.

(4)電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部の元素分析
(4-1)元素濃度
各実施例、比較例に記載の方法で得られた印刷部材の電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部の元素分析を以下の分析法により評価、算出した。
分析装置:走査型X線光電子分光分析装置(ESCA system ULVAC PHI 5700(ULVAC-PHI社製))
真空度:1.33×10-6Pa以下
X線源:Mg線源
スキャン:ナロースキャン
測定元素:C1s、O1s、Si2p、Ti2p
X線入射角度:45度。
(4) Elemental Analysis of the Area Irradiated with Electron Beam or UV Light with a Wavelength of 125 to 260 nm and the Area Not Irradiated with Electron Beam or UV Light (4-1) Elemental Concentration Elemental analysis of the area irradiated with electron beam or UV light with a wavelength of 125 to 260 nm and the area not irradiated with electron beam or UV light of the printing members obtained by the methods described in each of the Examples and Comparative Examples was evaluated and calculated by the following analytical method.
Analyzer: Scanning X-ray photoelectron spectrometer (ESCA system ULVAC PHI 5700 (manufactured by ULVAC-PHI))
Degree of vacuum: 1.33×10-6 Pa or less X-ray source: Mg source Scan: Narrow scan Measurement elements: C1s, O1s, Si2p, Ti2p
X-ray incident angle: 45 degrees.

電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部のそれぞれ任意の1箇所について測定した。得られた測定データをデータ解析ソフト:“PHI MultiPak”(商標)(ULVAC-PHI社製)を用い、スムージング補正:Point9、バックグラウンド補正:OFF SETにて各元素のスペクトルを表示し、ベースラインを引いて得たスペクトル面積から各元素濃度値(atom%)を算出した。 Measurements were taken at one arbitrary location on each of the areas irradiated with electron beam or ultraviolet light with a wavelength of 125 to 260 nm and the areas not irradiated with electron beam or ultraviolet light. The obtained measurement data was analyzed using data analysis software "PHI MultiPak" (trademark) (ULVAC-PHI), with smoothing correction at Point 9 and background correction OFF SET, to display the spectrum of each element, and the concentration value (atom%) of each element was calculated from the spectral area obtained by subtracting the baseline.

(4-2)酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)
上記(4-1)で求めた酸素濃度値を珪素濃度値で割ることで酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)を算出した。
(4-2) Ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration)
The oxygen concentration value obtained in (4-1) above was divided by the silicon concentration value to calculate the ratio of the oxygen concentration to the silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration).

(5)FT-IR-ATR法による分析
各実施例、比較例に記載の方法で得られた印刷部材の電子線または波長125~260nmの紫外線照射部および電子線または紫外線未照射部の任意の1箇所について、赤外線吸収を以下の方法により分析した。
分析装置:FTS-55A(Bio-Rad Diglab製)
光源:特殊セラミックス
検知器:MCT
パージ:窒素ガス
分解能:4cm-1
積算回数:512回
測定方法:ATR(減衰全反射)法
測定波長範囲:4000~600cm-1
付属装置:一回反射型ATR測定付属装置(The SeagullTM)
偏光:なし
IRE:Ge(屈折率:4.0)
入射角度:45度。
(5) Analysis by FT-IR-ATR Method Infrared absorption was analyzed by the following method for any one location of a portion irradiated with electron beam or ultraviolet light having a wavelength of 125 to 260 nm and a portion not irradiated with electron beam or ultraviolet light of the printing member obtained by the method described in each Example and Comparative Example.
Analytical device: FTS-55A (manufactured by Bio-Rad Diglab)
Light source: Special ceramics Detector: MCT
Purge: Nitrogen gas Resolution: 4 cm
Accumulation count: 512 times
Measurement method: ATR (attenuated total reflection) method Measurement wavelength range: 4000 to 600 cm
Attached equipment: Single reflection type ATR measurement accessory equipment (The SeagullTM)
Polarization: None IRE: Ge (Refractive index: 4.0)
Incident angle: 45 degrees.

[実施例1]
厚さ0.24mmの脱脂したアルミ基板(三菱アルミ(株)製)上に、下記のプライマー層形成用組成物-1を塗布し、200℃で90秒間乾燥し、平均膜厚10μmのプライマー層を設けた。
[Example 1]
The following primer layer forming composition-1 was applied onto a degreased aluminum substrate (manufactured by Mitsubishi Aluminum Co., Ltd.) having a thickness of 0.24 mm and dried at 200° C. for 90 seconds to provide a primer layer having an average thickness of 10 μm.

<プライマー層形成用組成物-1>
容器中に下記(a-1)成分を投入し、スリーワンモーターにて攪拌しながら(b-1)、(c-1)、(d-1)、(e-1)成分を順次ゆっくりと投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた混合液中に(f-1)、(g-1)成分を投入して10分間攪拌混合することでプライマー層形成用組成物-1を得た。
(a-1)酸化チタン分散液:“タイペーク”(登録商標)CR-50(石原産業(株)製)のN,N-ジメチルホルムアミド分散液(酸化チタン50質量%):60.0質量部
(b-1)エポキシ樹脂:“jER”(登録商標)1010(三菱化学(株)製):35.0質量部
(c-1)ポリウレタン:“サンプレン”(登録商標)LQ-T1331D(三洋化成工業(株)製、固形分濃度:20質量%):375.0質量部
(d-1)N,N-ジメチルホルムアミド:730.0質量部
(e-1)メチルエチルケトン:250.0質量部
(f-1)アルミキレート:“アルミキレート”ALCH-TR(川研ファインケミカル(株)製):10.0質量部
(g-1)レベリング剤:“ディスパロン”(登録商標)LC951(楠本化成(株)製、固形分:10質量%):1.0質量部。
<Primer layer forming composition-1>
The following component (a-1) was added to a container, and while stirring with a three-one motor, components (b-1), (c-1), (d-1), and (e-1) were added slowly in sequence and stirred and mixed until the components were uniform. Components (f-1) and (g-1) were added to the resulting mixture and stirred and mixed for 10 minutes to obtain a primer layer-forming composition-1.
(a-1) Titanium oxide dispersion: N,N-dimethylformamide dispersion of "Tipaque" (registered trademark) CR-50 (manufactured by Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd.) (titanium oxide 50% by mass): 60.0 parts by mass (b-1) Epoxy resin: "jER" (registered trademark) 1010 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 35.0 parts by mass (c-1) Polyurethane: "Sanprene" (registered trademark) LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., solid content concentration: 20% by mass): 375.0 parts by mass (d-1) N,N-dimethylformamide: 730.0 parts by mass (e-1) Methyl ethyl ketone: 250.0 parts by mass (f-1) Aluminum chelate: "Aluminum chelate" ALCH-TR (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.): 10.0 parts by mass (g-1) Leveling agent: "Disparlon" (registered trademark) LC951 (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., solid content: 10% by mass): 1.0 part by mass.

<(a-1)酸化チタン分散液の作製>
ジルコニアビーズ:“YTZ”(登録商標)ボール(φ1mm、(株)ニッカトー製)1,600.0gを充填した密閉可能なガラス製規格瓶中に、N,N-ジメチルホルムアミド:700.0g、“タイペーク”(登録商標)CR-50:700.0gを投入し、密閉後、小型ボールミル回転架台(アズワン(株)製)にセットし、0.4m/秒の回転速度で7日間分散することで、(a-1)酸化チタン分散液を得た。
<(a-1) Preparation of titanium oxide dispersion liquid>
Into a sealable standard glass bottle filled with 1,600.0 g of zirconia beads: "YTZ" (registered trademark) balls (φ1 mm, manufactured by Nikkato Corporation), 700.0 g of N,N-dimethylformamide and 700.0 g of "TYPAQUE" (registered trademark) CR-50 were placed. After sealing, the bottle was set on a small ball mill rotating stand (manufactured by AS ONE Corporation) and dispersed at a rotation speed of 0.4 m/sec for 7 days, thereby obtaining (a-1) a titanium oxide dispersion liquid.

次いで、下記のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を前記プライマー層上に塗布し、140℃で80秒間加熱し、平均膜厚20.0μmのジオルガノシロキサン単位含有層を設けることで印刷部材前駆体を得た。 Then, the following composition-1 for forming a diorganosiloxane unit-containing layer was applied onto the primer layer and heated at 140°C for 80 seconds to provide a diorganosiloxane unit-containing layer with an average thickness of 20.0 μm, thereby obtaining a printing member precursor.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1>
容器中に下記(a-2)および(b-2)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に(c-2)および(d-2)成分を投入して10分間攪拌混合した。塗布直前に(e-2)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を得た。
(a-2)イソパラフィン系溶剤:“アイソパー”(登録商標)E(エクソンモービルケミカル社製):299.00質量部
(b-2)分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物(両末端ジメチルヒドロキシシロキシ-ポリジメチルシロキサン):DMS-S35(GELEST Inc.製、重量平均分子量:49,000、分子内のシラノール基数:2.0個):95.98質量部
(c-2)シランカップリング剤:ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン(GELEST Inc.製):3.0質量部
(d-2)シランカップリング剤:テトラキス(メチルエチルケトキシミノ)シラン(固形分濃度:50質量%):2.0質量部
(e-2)反応触媒(有機錫化合物):ジブチル錫ジアセテート:0.02質量部。
<Diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1>
The following components (a-2) and (b-2) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Components (c-2) and (d-2) were added to the resulting solution and mixed with stirring for 10 minutes. Just before coating, component (e-2) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1.
(a-2) Isoparaffin solvent: "Isopar" (registered trademark) E (manufactured by ExxonMobil Chemical Company): 299.00 parts by mass (b-2) Siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule (dimethylhydroxysiloxy-polydimethylsiloxane at both ends): DMS-S35 (manufactured by GELEST Inc., weight average molecular weight: 49,000, number of silanol groups in the molecule: 2.0): 95.98 parts by mass (c-2) Silane coupling agent: vinyltris(methylethylketoximino)silane (manufactured by GELEST Inc.): 3.0 parts by mass (d-2) Silane coupling agent: tetrakis(methylethylketoximino)silane (solid content concentration: 50% by mass): 2.0 parts by mass (e-2) Reaction catalyst (organotin compound): dibutyltin diacetate: 0.02 parts by mass.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、窒素雰囲気中で電子線を加速電圧:100kV、線量:1200kGyにてパターン状に照射することで、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層を有する印刷部材を得た。 A mask with openings in the shape of a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the resulting printing member precursor, and an electron beam was irradiated in a pattern in a nitrogen atmosphere at an acceleration voltage of 100 kV and a dose of 1,200 kGy to obtain a printing member having a layer consisting of an ink-repelling portion and an ink-receiving portion.

インキ反発部(電子線未照射部)をFT-IR-ATR法により分析した結果、ジメチルシロキサン単位に帰属される吸収帯(1256、1085、790cm-1)にシグナルが検出され、ジオルガノシロキサン単位の存在が確認された。また、ビニル基に帰属される吸収帯(3055、1599、1408、960cm-1)にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、インキ着肉部(電子線照射部)をFT-IR-ATR分析した結果、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造に帰属される吸収帯(1271、1133、995cm-1)にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 The ink-repelling portion (portion not irradiated with electron beam) was analyzed by FT-IR-ATR method, and signals were detected in the absorption bands (1256, 1085, 790 cm -1 ) assigned to dimethylsiloxane units, confirming the presence of diorganosiloxane units. Furthermore, no signals were detected in the absorption bands (3055, 1599, 1408, 960 cm -1 ) assigned to vinyl groups, and the presence of vinyl groups could not be confirmed. On the other hand, the ink-receiving portion (portion irradiated with electron beam) was analyzed by FT-IR-ATR, and signals were detected in the absorption bands (1271, 1133, 995 cm -1 ) assigned to silsesquioxane structures and/or glass structures, confirming the presence of silsesquioxane structures and/or glass structures.

また、電子線未照射部分のジオルガノシロキサン単位濃度は99質量%、珪素濃度は36.7質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the portion not irradiated with the electron beam was 99% by mass, and the silicon concentration was 36.7% by mass.

電子線照射部の平均弾性率は890MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は889MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:38atom%、炭素:38atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.6であった。電子線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、電子線照射部のスポット径は31mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 890 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 889 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 38 atom%, and carbon: 38 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.6. The element concentration ratios of the non-electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 31 mm.

[実施例2]
ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を、下記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 2]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1 was changed to the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-2 described below.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2>
容器中に下記(a-3)、(b-3)および(c-3)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に(d-3)成分を投入して10分間攪拌混合した。塗布直前に(e-3)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2を得た。
(a-3)“アイソパー”(登録商標)E:295.00質量部
(b-3)分子内に2個以上のビニル基を有するシロキサン化合物(両末端ジメチルビニルシロキシ-ポリジメチルシロキサン):DMS-V35(GELEST Inc.製、重量平均分子量:49,500、分子内のビニル基数:2.0個):91.00質量部
(c-3)分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物(両末端トリメチルシロキシ-メチルハイドロシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー):HMS-301(GELEST Inc.製、重量平均分子量:1,950、SiH基に由来するH基濃度:0.41質量%、分子内のSiH基数:8.0個):6.0質量部
(d-3)ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン:3.0質量部
(e-3)反応触媒(白金混合物):XC94-C4326(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、固形分濃度:1質量%):5.0質量部。
<Diorganosiloxane Unit-Containing Layer-Forming Composition-2>
The following components (a-3), (b-3), and (c-3) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Component (d-3) was added to the resulting solution and mixed with stirring for 10 minutes. Just before coating, component (e-3) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-2.
(a-3) "Isopar" (registered trademark) E: 295.00 parts by mass (b-3) Siloxane compound having two or more vinyl groups in the molecule (dimethylvinylsiloxy-polydimethylsiloxane at both ends): DMS-V35 (GELEST Inc., weight average molecular weight: 49,500, number of vinyl groups in the molecule: 2.0): 91.00 parts by mass (c-3) Siloxane compound having three or more SiH groups in the molecule (trimethylsiloxy-methylhydrosiloxane-dimethylsiloxane copolymer at both ends): HMS-301 (GELEST Inc.) (d-3) Vinyltris(methylethylketoximino)silane: 3.0 parts by mass (e-3) Reaction catalyst (platinum mixture): XC94-C4326 (manufactured by Momentive Performance Materials Japan, LLC, solid content concentration: 1% by mass): 5.0 parts by mass.

電子線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 FT-IR-ATR analysis of the non-irradiated area detected signals at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. No signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. On the other hand, FT-IR-ATR analysis of the irradiated area detected signals at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

また、電子線未照射部のジオルガノシロキサン単位濃度は97質量%、珪素濃度は36.8質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the area not irradiated with electron beam was 97% by mass, and the silicon concentration was 36.8% by mass.

電子線照射部の平均弾性率は870MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は869MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:38atom%、炭素:38atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.6であった。電子線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、電子線照射部のスポット径は30mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 870 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 869 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 38 atom%, and carbon: 38 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.6. The element concentration ratios of the non-electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 30 mm.

[実施例3]
ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を、下記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-3に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 3]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1 was changed to the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-3 described below.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-3>
容器中に下記(a-4)、(b-4)、(c-4)および(d-4)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。塗布直前に(e-4)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-3を得た。
(a-4)“アイソパー”(登録商標)E:293.5質量部
(b-4)分子内に3個以上のビニル基を有するシロキサン化合物(両末端トリメチルシロキシ-ビニルメチルシロキサン-ジメチルシロキサンコポリマー):VDT-954(GELEST Inc.製、重量平均分子量:225,000、ビニル基濃度:4.29質量%、分子内のビニル基数:357.2個):94.0質量部
(c-4)分子内に3個以上のSiH基を有するシロキサン化合物(両末端トリメチルシロキシ-ポリメチルハイドロシロキサン):HMS-993(GELEST Inc.製、重量平均分子量:2,250、SiH基に由来するH基濃度:1.56質量%、分子内のSiH基数:35.2個):6.0質量部
(d-4)反応抑制剤:2-メチル-3-ブチン-2-オール:1.5質量部
(e-4)XC94-C4326:5.0質量部。
<Diorganosiloxane Unit-Containing Layer-Forming Composition-3>
The following components (a-4), (b-4), (c-4), and (d-4) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Just before coating, component (e-4) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-3.
(a-4) "Isopar" (registered trademark) E: 293.5 parts by mass (b-4) Siloxane compound having 3 or more vinyl groups in the molecule (both terminal trimethylsiloxy-vinylmethylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer): VDT-954 (manufactured by GELEST Inc., weight average molecular weight: 225,000, vinyl group concentration: 4.29% by mass, number of vinyl groups in the molecule: 357.2): 94.0 parts by mass (c-4) Siloxane compound having 3 or more SiH groups in the molecule (both terminal trimethylsiloxy-polymethylhydrosiloxane): HMS-993 (GELEST Manufactured by: Ajinomoto Co., Inc., weight average molecular weight: 2,250, H group concentration derived from SiH group: 1.56 mass%, number of SiH groups in molecule: 35.2): 6.0 parts by mass (d-4) Reaction inhibitor: 2-methyl-3-butyn-2-ol: 1.5 parts by mass (e-4) XC94-C4326: 5.0 parts by mass.

電子線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にもシグナルが検出され、ビニル基の存在が確認された。ビニル基濃度は1.5質量%であった。一方、電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the part not irradiated with the electron beam, signals were detected at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. In addition, signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. The vinyl group concentration was 1.5 mass%. On the other hand, as a result of FT-IR-ATR analysis of the part irradiated with the electron beam, signals were detected at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

また、電子線未照射部のジオルガノシロキサン単位濃度は92質量%、珪素濃度は37.7質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the area not irradiated with electron beam was 92% by mass, and the silicon concentration was 37.7% by mass.

電子線照射部の平均弾性率は1160MPa、電子線未照射部の平均弾性率は2MPaであり、その差は1158MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:40atom%、炭素:36atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。電子線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:25atom%、炭素:51atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.0であった。また、電子線照射部のスポット径は33mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 1160 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 2 MPa, with a difference of 1158 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 40 atom%, and carbon: 36 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 25 atom%, and carbon: 51 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.0. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 33 mm.

[実施例4]
ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を、下記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-4に変更したこと以外は実施例1と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 4]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1 was changed to the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-4 described below.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-4>
容器中に下記(a-5)、(b-5)および(c-5)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に(d-5)成分を投入して30分間攪拌混合した。塗布直前に(e-5)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-4を得た。
(a-5)“アイソパー”(登録商標)E:295.00質量部
(b-5)DMS-S35:91.00質量部
(c-5)HMS-301:6.0質量部
(d-5)ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン:3.0質量部
(e-5)XC94-C4326:5.0質量部。
<Diorganosiloxane Unit-Containing Layer-Forming Composition-4>
The following components (a-5), (b-5), and (c-5) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Component (d-5) was added to the resulting solution and mixed with stirring for 30 minutes. Just before coating, component (e-5) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-4.
(a-5) "Isopar" (registered trademark) E: 295.00 parts by mass (b-5) DMS-S35: 91.00 parts by mass (c-5) HMS-301: 6.0 parts by mass (d-5) Vinyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane: 3.0 parts by mass (e-5) XC94-C4326: 5.0 parts by mass.

電子線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 FT-IR-ATR analysis of the non-irradiated area detected signals at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. No signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. On the other hand, FT-IR-ATR analysis of the irradiated area detected signals at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

また、電子線未照射部のジオルガノシロキサン単位濃度は98質量%、珪素濃度は37.1質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the area not irradiated with electron beam was 98% by mass, and the silicon concentration was 37.1% by mass.

電子線照射部の平均弾性率は870MPa、インキ反発部(電子線未照射部)の平均弾性率は1MPaであり、その差は869MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:38atom%、炭素:38atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.6であった。電子線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、電子線照射部のスポット径は30mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 870 MPa, while the average elastic modulus of the ink repelling area (area not irradiated with the electron beam) was 1 MPa, with a difference of 869 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 38 atom%, carbon: 38 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.6. The element concentration ratios of the non-electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 30 mm.

[実施例5]
電子線の線量を1200kGyから800kGyに変更した以外は実施例2と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 5]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 2, except that the dose of the electron beam was changed from 1,200 kGy to 800 kGy.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は150MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は149MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:32atom%、炭素:44atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.3であった。また、電子線照射部のスポット径は21mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 150 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 149 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 32 atom%, and carbon: 44 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.3. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 21 mm.

[実施例6]
電子線の線量を1200kGyから800kGyに変更した以外は実施例3と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 6]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 3, except that the dose of the electron beam was changed from 1,200 kGy to 800 kGy.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は720MPa、電子線未照射部の平均弾性率は2MPaであり、その差は718MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:36atom%、炭素:40atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.5であった。また、電子線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 2 MPa, with a difference of 718 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 36 atom%, and carbon: 40 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.5. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 28 mm.

[実施例7]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 7]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

電子線描画装置を用い、上記印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層に窒素雰囲気中で加速電圧:100kV、線量:1200kGyにて電子線描画を行うことで印刷部材を得た。 Using an electron beam lithography device, the diorganosiloxane unit-containing layer of the above printing member precursor was subjected to electron beam lithography in a nitrogen atmosphere at an acceleration voltage of 100 kV and a dose of 1200 kGy to obtain a printing member.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は870MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は869MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:38atom%、炭素:38atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.6であった。また、電子線照射部のスポット径は30mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 870 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 869 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 38 atom%, and carbon: 38 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.6. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 30 mm.

印刷開始から500m付近の印刷物を抜き出して観察したところ、AM600lpi(解像度:8500dpi)の網点部分において0.5~99.5%の網点が忠実に再現されており、従来の一般的なオフセット印刷部材(AM175lpi、解像度:2400dpi、再現可能網点:1~99%)に比べ著しく高精細な画像を再現できることが確認された。 When the printout was extracted and observed about 500m from the start of printing, it was confirmed that 0.5 to 99.5% of the dots in the AM 600 lpi (resolution: 8500 dpi) dot area were faithfully reproduced, making it possible to reproduce images with significantly higher resolution than with conventional offset printing materials (AM 175 lpi, resolution: 2400 dpi, reproducible dots: 1 to 99%).

[実施例8]
実施例1と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 8]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 1.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層を有する印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and ultraviolet light having a wavelength of 172 nm was irradiated in a pattern shape at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) in a vacuum to obtain a printing member having a layer consisting of ink-repelling portions and ink-receiving portions.

インキ着肉部(紫外線照射部)をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the inked portion (ultraviolet irradiated portion), signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm -1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は730MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は729MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 730 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 729 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例9]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 9]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプを用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern with ultraviolet light having a wavelength of 172 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp in a vacuum to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例10]
実施例3と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 10]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 3.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプを用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern with ultraviolet light having a wavelength of 172 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp in a vacuum to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は740MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は2MPaであり、その差は738MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:42atom%、炭素:33atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 740 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 2 MPa, with a difference of 738 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 42 atom%, and carbon: 33 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例11]
実施例4と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 11]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 4.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプを用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern with ultraviolet light having a wavelength of 172 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp in a vacuum to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例12]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 12]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

エキシマレーザー描画装置(波長:157nm)を用い、上記印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層に真空中で露光量:300mJ/cmにて紫外線描画を行うことで印刷部材を得た。 Using an F2 excimer laser imaging device (wavelength: 157 nm), ultraviolet imaging was performed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the printing member precursor in a vacuum at an exposure dose of 300 mJ/ cm2 to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は1870MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は1869MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:29atom%、酸素:57atom%、炭素:14atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は2.0であった。また、紫外線照射部のスポット径は35mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 1870 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 1869 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 29 atom%, oxygen: 57 atom%, and carbon: 14 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 2.0. The spot diameter of the UV-irradiated area was 35 mm.

印刷開始から500m付近の印刷物を抜き出して観察したところ、AM600lpi(解像度:8500dpi)の網点部分において0.5~99.5%の網点が忠実に再現されており、従来の一般的なオフセット印刷部材(AM175lpi、解像度:2400dpi、再現可能網点:1~99%)に比べ著しく高精細な画像を再現できることが確認された。 When the printout was extracted and observed about 500m from the start of printing, it was confirmed that 0.5 to 99.5% of the dots in the AM 600 lpi (resolution: 8500 dpi) dot area were faithfully reproduced, making it possible to reproduce images with significantly higher resolution than with conventional offset printing materials (AM 175 lpi, resolution: 2400 dpi, reproducible dots: 1 to 99%).

[実施例13]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 13]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でArエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:126nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern shape with ultraviolet light having a wavelength of 126 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 in a vacuum using an Ar2 excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例14]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 14]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でKrエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:146nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern shape with ultraviolet light having a wavelength of 146 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 in a vacuum using a Kr2 excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例15]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Example 15]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でArFエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:193nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in the shape of a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the pattern was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 193 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 in a vacuum using an ArF excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は650MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は649MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:42atom%、炭素:33atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は27mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 650 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 649 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 42 atom%, and carbon: 33 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 27 mm.

[実施例16]
紫外線の照射を真空中から大気圧中(N:100%)に変更した以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 16]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the ultraviolet ray irradiation was changed from a vacuum to atmospheric pressure (N 2 : 100%).

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は700MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は699MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:42atom%、炭素:33atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 700 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 699 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 42 atom%, and carbon: 33 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例17]
紫外線の照射を真空中から大気圧中(大気:100%)に変更した以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 17]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the ultraviolet irradiation was changed from a vacuum to atmospheric pressure (atmosphere: 100%).

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は110MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は109MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:31atom%、炭素:45atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.3であった。また、紫外線照射部のスポット径は21mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 110 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 109 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 31 atom%, and carbon: 45 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.3. The spot diameter of the UV-irradiated area was 21 mm.

[実施例18]
ジオルガノシロキサン単位含有層の平均膜厚を20.0μmから40.0μmに変更したこと以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 18]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the average thickness of the diorganosiloxane unit-containing layer was changed from 20.0 μm to 40.0 μm.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例19]
ジオルガノシロキサン単位含有層の平均膜厚を20.0μmから10.0μmに変更したこと以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 19]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the average thickness of the diorganosiloxane unit-containing layer was changed from 20.0 μm to 10.0 μm.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例20]
ジオルガノシロキサン単位含有層の平均膜厚を20.0μmから5.0μmに変更したこと以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 20]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the average thickness of the diorganosiloxane unit-containing layer was changed from 20.0 μm to 5.0 μm.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例21]
ジオルガノシロキサン単位含有層の平均膜厚を20.0μmから2.5μmに変更したこと以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 21]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the average thickness of the diorganosiloxane unit-containing layer was changed from 20.0 μm to 2.5 μm.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例22]
厚さ0.25mmの脱脂したポリエチレンテレフタレートフィルム:“ルミラー(登録商標)”#250-X10s(東レ(株)製)上に、下記のプライマー層形成用組成物-2を塗布し、100℃で30秒間乾燥し、平均膜厚0.5μmのプライマー層を設けた。
[Example 22]
The following primer layer-forming composition-2 was applied onto a 0.25 mm-thick degreased polyethylene terephthalate film: "Lumirror (registered trademark)"#250-X10s (manufactured by Toray Industries, Inc.), and dried at 100°C for 30 seconds to provide a primer layer with an average thickness of 0.5 µm.

<プライマー層形成用組成物-2>
容器中に下記(a-6)、(b-6)および(c-6)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた混合液中に(d-6)成分を投入し、5分間攪拌することでプライマー層形成用組成物-2を得た。
(a-6)メチルエチルケトン:900.0質量部
(b-6)エポキシ樹脂:“jER”(登録商標)1007(三菱化学(株)製):90.0質量部
(c-6)ヘキサメチレンジイソシアネート:10.0質量部
(d―6)ジブチル錫ジアセテート:0.1質量部。
<Primer layer forming composition-2>
The following components (a-6), (b-6), and (c-6) were added to a container and stirred until the components were uniformly mixed. Component (d-6) was added to the resulting mixture and stirred for 5 minutes to obtain a primer layer-forming composition-2.
(a-6) Methyl ethyl ketone: 900.0 parts by mass (b-6) Epoxy resin: "jER" (registered trademark) 1007 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation): 90.0 parts by mass (c-6) Hexamethylene diisocyanate: 10.0 parts by mass (d-6) Dibutyltin diacetate: 0.1 parts by mass.

次いで、実施例2に記載のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2を前記プライマー層上に塗布し、100℃で60秒間加熱し、平均膜厚20.0μmのジオルガノシロキサン単位含有層を設けることで印刷部材前駆体を得た。 Next, the diorganosiloxane unit-containing layer forming composition-2 described in Example 2 was applied onto the primer layer and heated at 100°C for 60 seconds to provide a diorganosiloxane unit-containing layer with an average thickness of 20.0 μm, thereby obtaining a printing member precursor.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプを用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern with ultraviolet light having a wavelength of 172 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp in a vacuum to obtain a printing member.

紫外線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 FT-IR-ATR analysis of the UV-unirradiated portion detected signals at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. No signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. On the other hand, FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion detected signals at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は720MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は719MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:43atom%、炭素:32atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 720 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 719 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 43 atom%, and carbon: 32 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例23]
円筒状アルミ合金支持体の表面に、円筒スリットダイコーター(東レエンジニアリング(株)製)を用いて実施例1に記載のプライマー層形成用組成物-1を塗布し、200℃で300秒間乾燥し、平均膜厚10μmのプライマー層を設けた。
[Example 23]
The primer layer-forming composition-1 described in Example 1 was applied to the surface of a cylindrical aluminum alloy support using a cylindrical slit die coater (manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), and dried at 200°C for 300 seconds to provide a primer layer with an average thickness of 10 µm.

次いで、円筒スリットダイコーターを用いて実施例2に記載のジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2を前記プライマー層上に塗布し、140℃で300秒間加熱し、平均膜厚20.0μmのジオルガノシロキサン単位含有層を設けることで印刷部材前駆体を得た。 Next, the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-2 described in Example 2 was applied onto the primer layer using a cylindrical slit die coater and heated at 140°C for 300 seconds to provide a diorganosiloxane unit-containing layer with an average thickness of 20.0 μm, thereby obtaining a printing member precursor.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeエキシマランプを用いて、波長:172nmの紫外線を露光量:600mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern with ultraviolet light having a wavelength of 172 nm at an exposure dose of 600 mJ/ cm2 using a Xe2 excimer lamp in a vacuum to obtain a printing member.

上記印刷部材を版胴として用い、またブランケットとして筒状ブランケット(表面ゴム:NBR、(株)金陽社製)を用いた以外は、前記<各実施例・比較例における評価方法>の(3)印刷方法と同様の条件で印刷し、印刷物の評価を行った。 Except for using the above printing member as the plate cylinder and using a cylindrical blanket (surface rubber: NBR, manufactured by Kinyosha Co., Ltd.) as the blanket, printing was performed under the same conditions as in (3) Printing method in <Evaluation method for each Example and Comparative Example> above, and the printed matter was evaluated.

本実施例では、ブランケット・印刷部材ともに繋ぎ目のない円筒部材を用いているため、ステップバック印刷方式(間欠式)を用いることなく、通常の連続印刷方式でのシームレス印刷が可能であった。 In this embodiment, because both the blanket and the printing member are seamless cylindrical members, seamless printing was possible using a normal continuous printing method without using a step-back printing method (intermittent method).

[実施例24]
ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-1を、下記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-5に変更したこと以外は実施例8と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 24]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 8, except that the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-1 was changed to the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-5 described below.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-5>
容器中に下記(a-7)および(b-7)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に(c-7)および(d-7)成分を投入して10分間攪拌混合した。塗布直前に(e-7)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-5を得た。
(a-7)“アイソパー”(登録商標)E:299.00質量部
(b-7)分子内に2個以上のシラノール基を有するシロキサン化合物(両末端ジメチルヒドロキシシロキシ-ポリジメチルシロキサン):TF-13(東レ・ダウコーニング(株)製、重量平均分子量:400,000、分子内のシラノール基数:2.0個):99.98質量部
(c-7)ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン:0.75質量部
(d-7)テトラキス(メチルエチルケトキシミノ)シラン(固形分濃度:50質量%):0.25質量部
(e-7)ジブチル錫ジアセテート:0.02質量部。
<Diorganosiloxane Unit-Containing Layer-Forming Composition-5>
The following components (a-7) and (b-7) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Components (c-7) and (d-7) were added to the resulting solution and mixed with stirring for 10 minutes. Just before coating, component (e-7) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-5.
(a-7) "Isopar" (registered trademark) E: 299.00 parts by mass (b-7) Siloxane compound having two or more silanol groups in the molecule (dimethylhydroxysiloxy-polydimethylsiloxane at both ends): TF-13 (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd., weight average molecular weight: 400,000, number of silanol groups in the molecule: 2.0): 99.98 parts by mass (c-7) Vinyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane: 0.75 parts by mass (d-7) Tetrakis (methyl ethyl ketoximino) silane (solid concentration: 50% by mass): 0.25 parts by mass (e-7) Dibutyltin diacetate: 0.02 parts by mass.

紫外線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 FT-IR-ATR analysis of the UV-unirradiated portion detected signals at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. No signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. On the other hand, FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion detected signals at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

また、紫外線未照射部分のジオルガノシロキサン単位濃度は100質量%、珪素濃度は40.8質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the area not irradiated with ultraviolet light was 100% by mass, and the silicon concentration was 40.8% by mass.

紫外線照射部の平均弾性率は710MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は0.004MPaであり、その差は709.996MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:42atom%、炭素:33atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.7であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 710 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 0.004 MPa, with a difference of 709.996 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 42 atom%, and carbon: 33 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.7. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例25]
ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-2を、下記ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-6に変更したこと以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 25]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-2 was changed to the diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-6 described below.

<ジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-6>
容器中に下記(a-8)、(b-8)、(c-8)および(d-8)成分を投入し、成分が均一になるまで攪拌混合した。得られた溶液を乾燥窒素で20分間バブリングすることで溶液中の水分を除去した。得られた溶液中に(e-8)成分を投入して10分間攪拌混合した。塗布直前に(f-8)成分を投入し攪拌混合することでジオルガノシロキサン単位含有層形成用組成物-6を得た。
(a-8)“アイソパー”(登録商標)E:295.00質量部
(b-8)DMS-V35:75.26質量部
(c-8)HMS-301:4.96質量部
(d-8)チタニア粒子:ST-21(石原産業(株)製、X線粒径:20nm):17.3質量部
(e-8)ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン:2.48質量部
(f-8)XC94-C4326:5.0質量部。
<Diorganosiloxane Unit-Containing Layer-Forming Composition-6>
The following components (a-8), (b-8), (c-8) and (d-8) were added to a container and mixed with stirring until the components were uniform. The resulting solution was bubbled with dry nitrogen for 20 minutes to remove moisture from the solution. Component (e-8) was added to the resulting solution and mixed with stirring for 10 minutes. Just before coating, component (f-8) was added and mixed with stirring to obtain a diorganosiloxane unit-containing layer-forming composition-6.
(a-8) "Isopar" (registered trademark) E: 295.00 parts by mass (b-8) DMS-V35: 75.26 parts by mass (c-8) HMS-301: 4.96 parts by mass (d-8) Titania particles: ST-21 (manufactured by Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd., X-ray particle size: 20 nm): 17.3 parts by mass (e-8) Vinyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane: 2.48 parts by mass (f-8) XC94-C4326: 5.0 parts by mass.

なお、本実施例のジオルガノシロキサン単位含有層中におけるチタニア粒子の含有率は5体積%である。 In this embodiment, the titania particle content in the diorganosiloxane unit-containing layer is 5% by volume.

紫外線未照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1256、1085、790cm-1にシグナルが検出され、ジメチルシロキサン単位の存在が確認された。また、3055、1599、1408、960cm-1にはシグナルが検出されず、ビニル基の存在は確認できなかった。一方、紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 FT-IR-ATR analysis of the UV-unirradiated portion detected signals at 1256, 1085, and 790 cm -1 , confirming the presence of dimethylsiloxane units. No signals were detected at 3055, 1599, 1408, and 960 cm -1 , confirming the presence of vinyl groups. On the other hand, FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion detected signals at 1271, 1133, and 995 cm -1 , confirming the presence of a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

また、紫外線未照射部分のジオルガノシロキサン単位濃度は80質量%、珪素濃度は30.4質量%であった。 The diorganosiloxane unit concentration in the area not irradiated with ultraviolet light was 80% by mass, and the silicon concentration was 30.4% by mass.

紫外線照射部の平均弾性率は740MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は13MPaであり、その差は727MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:23atom%、酸素:45atom%、炭素:28atom%、チタニウム:4atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.9であった。紫外線未照射部の元素濃度比率は珪素:22atom%、酸素:30atom%、炭素:44atom%、チタニウム:4atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.4であった。また、紫外線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 740 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 13 MPa, with a difference of 727 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 23 atom%, oxygen: 45 atom%, carbon: 28 atom%, titanium: 4 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.9. The element concentration ratios of the non-UV-irradiated area were silicon: 22 atom%, oxygen: 30 atom%, carbon: 44 atom%, titanium: 4 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.4. The spot diameter of the UV-irradiated area was 28 mm.

[実施例26]
電子線の線量を1200kGyから100kGyに変更した以外は実施例3と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 26]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 3, except that the dose of the electron beam was changed from 1200 kGy to 100 kGy.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は210MPa、電子線未照射部の平均弾性率は2MPaであり、その差は208MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:30atom%、炭素:46atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.3であった。また、電子線照射部のスポット径は20mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 210 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 2 MPa, with a difference of 208 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 30 atom%, and carbon: 46 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.3. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 20 mm.

[実施例27]
電子線の線量を1200kGyから3000kGyに変更した以外は実施例2と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 27]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 2, except that the dose of the electron beam was changed from 1200 kGy to 3000 kGy.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は9700MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は9699MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:32atom%、酸素:64atom%、炭素:4atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は2.0であった。また、電子線照射部のスポット径は37mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 9700 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 9699 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 32 atom%, oxygen: 64 atom%, and carbon: 4 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 2.0. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 37 mm.

[実施例28]
電子線の加速電圧を100kVから50kVに変更した以外は実施例2と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 28]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 2, except that the accelerating voltage of the electron beam was changed from 100 kV to 50 kV.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は900MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は899MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:39atom%、炭素:37atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.6であった。また、電子線照射部のスポット径は31mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 900 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 899 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 39 atom%, and carbon: 37 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.6. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 31 mm.

[実施例29]
電子線の加速電圧を100kVから150kVに変更した以外は実施例2と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 29]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 2, except that the accelerating voltage of the electron beam was changed from 100 kV to 150 kV.

電子線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the electron beam irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the portion contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

電子線照射部の平均弾性率は690MPa、電子線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は689MPaであった。また、電子線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:36atom%、炭素:40atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.5であった。また、電子線照射部のスポット径は28mmであった。 The average elastic modulus of the electron beam irradiated area was 690 MPa, and the average elastic modulus of the non-electron beam irradiated area was 1 MPa, with a difference of 689 MPa. The element concentration ratios of the electron beam irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 36 atom%, and carbon: 40 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.5. The spot diameter of the electron beam irradiated area was 28 mm.

[実施例30]
紫外線の露光量を600mJ/cmから300mJ/cmに変更した以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 30]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the exposure dose of ultraviolet light was changed from 600 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 .

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は120MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は119MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:25atom%、酸素:32atom%、炭素:43atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.3であった。また、紫外線照射部のスポット径は21mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 120 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 119 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 25 atom%, oxygen: 32 atom%, and carbon: 43 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.3. The spot diameter of the UV-irradiated area was 21 mm.

[実施例31]
紫外線の露光量を600mJ/cmから3000mJ/cmに変更した以外は実施例9と同様の方法で印刷部材の作製、評価を行った。
[Example 31]
A printing member was produced and evaluated in the same manner as in Example 9, except that the exposure dose of ultraviolet light was changed from 600 mJ/cm 2 to 3000 mJ/cm 2 .

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出され、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認された。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, signals were detected at 1271, 1133 and 995 cm −1 , confirming that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は9500MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は9499MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:31atom%、酸素:62atom%、炭素:7atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は2.0であった。また、紫外線照射部のスポット径は37mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 9,500 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 9,499 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 31 atom%, oxygen: 62 atom%, and carbon: 7 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 2.0. The spot diameter of the UV-irradiated area was 37 mm.

[比較例1]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Comparative Example 1]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeBrエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:283nmの紫外線を露光量:3000mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern shape with ultraviolet light having a wavelength of 283 nm at an exposure dose of 3000 mJ/ cm2 in a vacuum using a XeBr excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出されず、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認できなかった。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, no signals were detected at 1271, 1133, and 995 cm −1 , and it was not possible to confirm that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は3MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は2MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は8mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 3 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 2 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 8 mm.

得られた印刷部材を用いて印刷したところ、印刷部材の紫外線照射部分にインキの付着が一切認められず、印刷部材中にインキ着肉部が形成されていなかった。 When the obtained printing material was used for printing, no ink was found adhering to the UV-irradiated parts of the printing material, and no ink-receiving areas were formed within the printing material.

[比較例2]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Comparative Example 2]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeClエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:308nmの紫外線を露光量:3000mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in the shape of a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the pattern was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 308 nm at an exposure dose of 3,000 mJ/ cm2 in a vacuum using a XeCl excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出されず、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認できなかった。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, no signals were detected at 1271, 1133, and 995 cm −1 , and it was not possible to confirm that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は2MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は1MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は8mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 2 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 1 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 8 mm.

得られた印刷部材を用いて印刷したところ、印刷部材の紫外線照射部分にインキの付着が一切認められず、印刷部材中にインキ着肉部が形成されていなかった。 When the obtained printing material was used for printing, no ink was found adhering to the UV-irradiated parts of the printing material, and no ink-receiving areas were formed within the printing material.

[比較例3]
実施例2と同様の方法で印刷部材前駆体の作製を行った。
[Comparative Example 3]
A printing member precursor was prepared in the same manner as in Example 2.

得られた印刷部材前駆体のジオルガノシロキサン単位含有層上に、印刷パターン状の開口部を有するマスクを配置し、真空中でXeIエキシマランプ(ウシオ電気(株)製)を用いて、波長:253nmの紫外線を露光量:3000mJ/cmにてパターン状に照射することで印刷部材を得た。 A mask having openings in a printing pattern was placed on the diorganosiloxane unit-containing layer of the obtained printing member precursor, and the layer was irradiated in a pattern shape with ultraviolet light having a wavelength of 253 nm at an exposure dose of 3000 mJ/ cm2 using a XeI excimer lamp (manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) in a vacuum to obtain a printing member.

紫外線照射部をFT-IR-ATR分析した結果、1271、1133、995cm-1にシグナルが検出されず、シルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含むことが確認できなかった。 As a result of FT-IR-ATR analysis of the UV-irradiated portion, no signals were detected at 1271, 1133, and 995 cm −1 , and it was not possible to confirm that the film contained a silsesquioxane structure and/or a glass structure.

紫外線照射部の平均弾性率は2MPa、紫外線未照射部の平均弾性率は1MPaであり、その差は1MPaであった。また、紫外線照射部の元素濃度比率は珪素:24atom%、酸素:26atom%、炭素:50atom%であり、酸素濃度と珪素濃度の比(酸素濃度/珪素濃度)は1.1であった。また、紫外線照射部のスポット径は8mmであった。 The average elastic modulus of the UV-irradiated area was 2 MPa, and the average elastic modulus of the non-UV-irradiated area was 1 MPa, with a difference of 1 MPa. The element concentration ratios of the UV-irradiated area were silicon: 24 atom%, oxygen: 26 atom%, and carbon: 50 atom%, and the ratio of oxygen concentration to silicon concentration (oxygen concentration/silicon concentration) was 1.1. The spot diameter of the UV-irradiated area was 8 mm.

得られた印刷部材を用いて印刷したところ、印刷部材の紫外線照射部分にインキの付着が一切認められず、印刷部材中にインキ着肉部が形成されていなかった。 When the obtained printing material was used for printing, no ink was found adhering to the UV-irradiated parts of the printing material, and no ink-receiving areas were formed within the printing material.

実施例1~31および比較例1~3について、評価結果を表1に示す。 The evaluation results for Examples 1 to 31 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Table 1.

Figure 0007517063000001
Figure 0007517063000001

1 支持体
2 インキ反発部およびインキ着肉部からなる層
3 インキ反発部
4 インキ着肉部
5 インキローラー
6 印刷部材
7 版胴
8 ブランケット胴
9 被印刷媒体
10 圧胴
REFERENCE SIGNS LIST 1 Support 2 Layer consisting of ink-repelling portion and ink-receiving portion 3 Ink-repelling portion 4 Ink-receiving portion 5 Ink roller 6 Printing member 7 Plate cylinder 8 Blanket cylinder 9 Printed medium 10 Impression cylinder

Claims (17)

支持体、並びに、インキ反発部およびインキ着肉部からなる層を有する印刷部材であって、該層の少なくとも表面にインキ反発部およびインキ着肉部を有し、前記インキ反発部がジオルガノシロキサン単位を含み、前記インキ着肉部がシルセスキオキサン構造および/またはガラス構造を含み、前記インキ着肉部の平均弾性率と前記インキ反発部の平均弾性率の差が100~10000MPaである、印刷部材。 A printing member having a support and a layer consisting of an ink-repellent portion and an ink-receiving portion, the layer having the ink-repellent portion and the ink-receiving portion on at least a surface thereof, the ink-repellent portion containing a diorganosiloxane unit, the ink-receiving portion containing a silsesquioxane structure and/or a glass structure, and a difference between an average modulus of elasticity of the ink-receiving portion and an average modulus of elasticity of the ink-repellent portion being 100 to 10,000 MPa . 前記インキ着肉部における珪素濃度に対する酸素濃度の比が1.3~2.0である、請求項1に記載の印刷部材。2. The printing member according to claim 1, wherein the ratio of oxygen concentration to silicon concentration in the inked portion is 1.3 to 2.0. 前記インキ着肉部における元素濃度が、珪素:23~33atom%、酸素:30~67atom%、炭素:0~47atom%である、請求項1または2に記載の印刷部材。3. The printing member according to claim 1, wherein the element concentrations in the ink-receiving portion are as follows: silicon: 23 to 33 atom %, oxygen: 30 to 67 atom %, and carbon: 0 to 47 atom %. 前記インキ着肉部の平均弾性率が、100~10000MPaである請求項1~3のいずれかに記載の印刷部材。4. The printing member according to claim 1, wherein the ink-receiving portion has an average elastic modulus of 100 to 10,000 MPa. 前記インキ反発部における珪素濃度に対する酸素濃度の比が0.9~1.2である、請求項1~4のいずれかに記載の印刷部材。5. The printing member according to claim 1, wherein the ratio of oxygen concentration to silicon concentration in the ink repellent portion is 0.9 to 1.2. 前記インキ反発部における元素濃度が、珪素:22~26atom%、酸素:24~28atom%、炭素:48~52atom%である、請求項1~5のいずれかに記載の印刷部材。6. The printing member according to claim 1, wherein the element concentrations in the ink-repelling portion are as follows: silicon: 22 to 26 atom %, oxygen: 24 to 28 atom %, and carbon: 48 to 52 atom %. 前記インキ反発部の平均弾性率が、0.001~10MPaである請求項1~6のいずれかに記載の印刷部材。7. The printing member according to claim 1, wherein the ink-repelling portion has an average elastic modulus of 0.001 to 10 MPa. 請求項1~7のいずれかに記載の印刷部材を製造する方法であって、インキ反発部からなる層に電子線を照射してインキ着肉部のパターンを描画する、印刷部材の製造方法。8. A method for producing the printed member according to claim 1, comprising irradiating an electron beam onto a layer made of ink-repelling parts to draw a pattern of ink-receiving parts. 前記電子線の線量が100~3000kGyである、請求項8に記載の印刷部材の製造方法。The method for producing a printing member according to claim 8, wherein the dose of the electron beam is 100 to 3000 kGy. 前記電子線の加速電圧が50~150kVである、請求項8または9に記載の印刷部材の製造方法。The method for producing a printing member according to claim 8 or 9, wherein the accelerating voltage of the electron beam is 50 to 150 kV. 請求項1~7のいずれかに記載の印刷部材を製造する方法であって、インキ反発部からなる層に波長125~200nmの紫外線を照射してインキ着肉部のパターンを描画する、印刷部材の製造方法。A method for producing the printed member according to any one of claims 1 to 7, comprising irradiating a layer made of an ink-repelling portion with ultraviolet light having a wavelength of 125 to 200 nm to draw a pattern of an ink-receiving portion. 前記波長125~200nmの紫外線の露光量が300~3000mJ/cmThe exposure dose of the ultraviolet light having a wavelength of 125 to 200 nm is 300 to 3000 mJ/cm 2 である、請求項11に記載の印刷部材の製造方法。The method of claim 11 , wherein 請求項1~7のいずれかに記載の印刷部材、インキ、および被印刷媒体を用いた印刷物の製造方法。A method for producing a printed matter using the printing member, ink, and print medium according to any one of claims 1 to 7. 前記インキが、活性エネルギー線硬化型インキである請求項13に記載の印刷物の製造方法。The method for producing a printed matter according to claim 13, wherein the ink is an active energy ray-curable ink. 前記インキが、水溶性インキである請求項13または14に記載の印刷物の製造方法。The method for producing a printed matter according to claim 13 or 14, wherein the ink is a water-soluble ink. 前記被印刷媒体が、インキ成分非吸収性である請求項13~15のいずれかに記載の印刷物の製造方法。The method for producing a printed matter according to any one of claims 13 to 15, wherein the print medium does not absorb ink components. 前記被印刷媒体が、食品包装用基材である請求項13~16のいずれかに記載の印刷物の製造方法。The method for producing a printed matter according to any one of claims 13 to 16, wherein the medium to be printed is a food packaging substrate.
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