JP7519348B2 - Styrenic resin composition, molded article and light guide plate - Google Patents
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Description
本発明は、スチレン系樹脂組成物及びその成形品、導光板に関するものである。 The present invention relates to a styrene-based resin composition and a molded article and light guide plate made therefrom.
液晶表示装置のバックライトには、光源を表示装置の正面に配置する直下型と側面に配置するエッジライト型がある。エッジライト型バックライトには、側面に配置された光源の光を表示装置の正面に導く導光板と呼ばれる部品が使用されている。
導光板の材料は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)に代表されるアクリル系樹脂が使用されている。しかしながら、PMMAは吸水性が高いため、吸水により導光板の反りや寸法変化が生じる場合がある。また、成形時に熱分解しやすいため、高温で成形すると成形体に外観不良が生じやすいという問題がある。
これらの問題を改善するため、スチレン-(メタ)アクリル酸メチル共重合体を導光板の材料として用いることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
There are two types of backlights for LCD devices: direct-light type, in which the light source is placed in front of the display device, and edge-light type, in which the light source is placed on the side. Edge-light type backlights use a component called a light guide plate that guides light from a light source placed on the side to the front of the display device.
The light guide plate is made of acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA). However, PMMA is highly water absorbing, which can cause the light guide plate to warp or change in size. PMMA is also prone to thermal decomposition during molding, which can lead to poor appearance of the molded product when molded at high temperatures.
In order to solve these problems, it has been proposed to use a styrene-methyl (meth)acrylate copolymer as a material for the light guide plate (see, for example, Patent Document 1).
本発明は、耐湿熱性に優れたスチレン系樹脂組成物及びその成形品並びに導光板を提供することを課題とする。The objective of the present invention is to provide a styrene-based resin composition having excellent resistance to moist heat, and a molded article and a light guide plate made from the composition.
即ち、本発明は以下の通りである。
(1)200℃の酸素雰囲気下で測定した酸化誘導時間をt1、80℃且つ90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理した後に200℃の酸素雰囲気下で測定した酸化誘導時間をt2としたときに、t1-t2が20分以下である、スチレン系樹脂組成物。
(2)前記t1は、50分以上である、(1)に記載のスチレン系樹脂組成物。
(3)ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)と、フェノール系水酸基を有しないリン系酸化防止剤(C2)と、を含有する(1)又は(2)に記載のスチレン系樹脂組成物。
(4)スチレン系単量体単位及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位を有するスチレン系樹脂(A)を含有する(1)~(3)のいずれか一つに記載のスチレン系樹脂組成物。
(5)フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)を含有する(1)~(4)のいずれか一つに記載のスチレン系樹脂組成物。
(6)前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)が、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチレンビス(オキシエチレン)ビス〔3-(5-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-m-トリル)プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]から選ばれる少なくとも一種の化合物である(3)に記載のスチレン系樹脂組成物。
(7)前記リン系酸化防止剤(C2)が、2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)2-エチルヘキシルホスファイト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスファイトから選ばれる少なくとも一種の化合物である(3)に記載のスチレン系樹脂組成物。
(8)前記リン系酸化防止剤(C1)が、6-[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-tert-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンである(5)に記載のスチレン系樹脂組成物。
(9)初期の光路長115mmでのYI値が2.5以下である、(1)~(8)のいずれか一つに記載のスチレン系樹脂組成物。
(10)(1)~(9)のいずれか一つに記載のスチレン系樹脂組成物を用いた成形品。
(11)(10)に記載の成形品を用いた導光板。
That is, the present invention is as follows.
(1) A styrene-based resin composition in which t1 is an oxidation induction time measured in an oxygen atmosphere at 200° C. and t2 is an oxidation induction time measured in an oxygen atmosphere at 200° C. after 500 hours of wet heat treatment in an air atmosphere at 80° C. and 90% humidity, and t1-t2 is 20 minutes or less.
(2) The styrene-based resin composition according to (1), wherein the t1 is 50 minutes or more.
(3) The styrene-based resin composition according to (1) or (2), which contains a hindered phenol-based antioxidant (B) and a phosphorus-based antioxidant (C2) having no phenolic hydroxyl group.
(4) The styrene-based resin composition according to any one of (1) to (3), which contains a styrene-based resin (A) having a styrene-based monomer unit and a (meth)acrylic acid ester-based monomer unit.
(5) The styrene-based resin composition according to any one of (1) to (4), which contains a phosphorus-based antioxidant (C1) having a phenolic hydroxyl group.
(6) The styrene-based resin composition according to (3), wherein the hindered phenol-based antioxidant (B) is at least one compound selected from the group consisting of octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, ethylene bis(oxyethylene) bis[3-(5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl)propionate], and pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate].
(7) The styrene-based resin composition according to (3), wherein the phosphorus-based antioxidant (C2) is at least one compound selected from the group consisting of 2,2'-methylenebis(4,6-di-tert-butylphenyl)2-ethylhexyl phosphite and tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite.
(8) The styrene-based resin composition according to (5), wherein the phosphorus-based antioxidant (C1) is 6-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine.
(9) The styrene-based resin composition according to any one of (1) to (8), having a YI value of 2.5 or less at an initial optical path length of 115 mm.
(10) A molded article using the styrene-based resin composition according to any one of (1) to (9).
(11) A light guide plate using the molded article according to (10).
本発明により、耐湿熱性に優れたスチレン系樹脂組成物及びその成形品並びに導光板が得られる。The present invention provides a styrene-based resin composition having excellent resistance to moist heat, as well as a molded article and a light guide plate made from the composition.
本願明細書において、「A~B」なる記載は、A以上でありB以下であることを意味する。In this specification, the term "A to B" means greater than or equal to A and less than or equal to B.
本発明のスチレン系樹脂組成物は、200℃の酸素雰囲気下で測定した酸化誘導時間をt1、80℃且つ90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理した後に200℃の酸素雰囲気下で測定した酸化誘導時間をt2としたときに、t1-t2が20分以下であり、好ましくは15分以下であり、より好ましくは10分以下である。t1-t2がこのような範囲であれば、高温高湿環境下に保管された場合の色相の悪化を抑制することができる。また、酸化防止剤の添加量の増加は酸化誘導時間の維持に寄与するが、一方で色相への悪影響を生じる場合があるため、バランスを考慮した場合、t1-t2は、好ましくは1分以上であり、より好ましくは2分以上であり、さらに好ましくは4分以上である。t1-t2は、具体的には例えば、0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20分であり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。In the styrene-based resin composition of the present invention, when the oxidation induction time measured in an oxygen atmosphere at 200°C is t1 and the oxidation induction time measured in an oxygen atmosphere at 200°C after 500 hours of wet heat treatment in an air atmosphere at 80°C and 90% humidity is t2, t1-t2 is 20 minutes or less, preferably 15 minutes or less, and more preferably 10 minutes or less. If t1-t2 is in such a range, deterioration of the hue when stored in a high-temperature and high-humidity environment can be suppressed. In addition, an increase in the amount of antioxidant added contributes to maintaining the oxidation induction time, but on the other hand may have an adverse effect on the hue, so when a balance is taken into consideration, t1-t2 is preferably 1 minute or more, more preferably 2 minutes or more, and even more preferably 4 minutes or more. Specifically, t1-t2 may be, for example, 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, or 20 minutes, or may be within a range between any two of the values exemplified here.
t1は、好ましくは50分以上であり、より好ましくは70分以上であり、さらに好ましくは90分以上である。t1がこのような範囲であれば、高温環境下における黄変を抑制することができる。また、酸化防止剤の添加量の増加は酸化誘導時間を長くすることに寄与するが、一方で色相への悪影響を生じる場合があるため、バランスを考慮した場合、t1は、好ましくは500分以下であり、より好ましくは200分以下である。t1 is preferably 50 minutes or more, more preferably 70 minutes or more, and even more preferably 90 minutes or more. If t1 is in this range, yellowing in a high-temperature environment can be suppressed. In addition, while increasing the amount of antioxidant added contributes to extending the oxidation induction time, it may also have a negative effect on the hue. Therefore, when a balance is taken into consideration, t1 is preferably 500 minutes or less, and more preferably 200 minutes or less.
酸化誘導時間は、ケミルミネッセンス法(化学発光法)により測定した値である。以下の条件でスチレン系樹脂組成物の発光量の経時変化を測定し、得られた測定時間と発光量の関係より、図1に示すように発光量が変化する前の直線と発光量が増大した後の直線との交点の時間を算出した。スチレン系樹脂組成物は、酸素存在下で加熱すると徐々に酸化される。試料中に酸化防止剤が存在する場合、酸化によって徐々に酸化防止剤は消費されるが、酸化防止剤の存在する間は一定の発光量を示す。酸化防止剤が無くなると樹脂自身が酸化され、一気に発光の増加が見られる。すなわち、酸化誘導時間は酸化防止剤が消費され、樹脂組成物の酸化が急激に進行する時間を表す。
ケミルミネッセンス測定器:CLA-FS4(東北電子産業社製)
測定温度:200℃
酸素流量:100mL/分
The oxidation induction time is a value measured by a chemiluminescence method. The change over time in the amount of light emitted by the styrene resin composition was measured under the following conditions, and the time at which the line before the amount of light emitted changed and the line after the amount of light emitted increased were calculated from the relationship between the measurement time and the amount of light emitted, as shown in FIG. 1. The styrene resin composition is gradually oxidized when heated in the presence of oxygen. When an antioxidant is present in the sample, the antioxidant is gradually consumed by oxidation, but a constant amount of light emitted is observed while the antioxidant is present. When the antioxidant is gone, the resin itself is oxidized, and a sudden increase in light emission is observed. In other words, the oxidation induction time represents the time at which the antioxidant is consumed and the oxidation of the resin composition progresses rapidly.
Chemiluminescence measuring device: CLA-FS4 (Tohoku Electronics Industries Co., Ltd.)
Measurement temperature: 200°C
Oxygen flow rate: 100 mL/min
本発明のスチレン系樹脂組成物は、好ましくは、スチレン系単量体と(メタ)アクリル酸エステル系単量体の共重合体であるスチレン系樹脂(A)を含有する。The styrene-based resin composition of the present invention preferably contains a styrene-based resin (A) which is a copolymer of a styrene-based monomer and a (meth)acrylic acid ester-based monomer.
スチレン系単量体とは、芳香族ビニル系モノマーであり、スチレン、α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、エチルスチレン、p-tert-ブチルスチレンなどの単独又は2種以上の混合物がある。これらの単量体の中でも、色相がよいという観点から、スチレンを用いることが好ましい。Styrene-based monomers are aromatic vinyl monomers, and include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, ethylstyrene, p-tert-butylstyrene, etc., either alone or in mixtures of two or more. Of these monomers, it is preferable to use styrene because of its good hue.
(メタ)アクリル酸エステル系単量体とは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレートのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-ブチルアクリレート、2-メチルへキシルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレートの単独又は2種以上の混合物がある。色相や耐熱性に優れるという観点から、メチル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。 (Meth)acrylic acid ester monomers include methacrylic acid esters of methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-methylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and decyl acrylate, either alone or in mixtures of two or more. From the viewpoint of excellent hue and heat resistance, it is preferable to use methyl (meth)acrylate.
スチレン系樹脂(A)は、好ましくは、スチレン系単量体単位の含有量が20~80質量%及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の含有量が80~20質量%であり、好ましくはスチレン系単量体単位の含有量が30~60質量%、(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の含有量が70~40質量%である。単量体単位の含有量がこのような範囲であると、吸水率及び変形率(吸水性)が低く、吸湿により反り及び寸法変化が大きくなることを抑制でき、色相の悪化や表面硬度低下による傷付きを抑制できる。The styrene-based resin (A) preferably has a styrene-based monomer unit content of 20 to 80% by mass and a (meth)acrylic acid ester-based monomer unit content of 80 to 20% by mass, and preferably has a styrene-based monomer unit content of 30 to 60% by mass and a (meth)acrylic acid ester-based monomer unit content of 70 to 40% by mass. When the monomer unit content is within such a range, the water absorption rate and deformation rate (water absorption) are low, and it is possible to suppress warping and dimensional changes caused by moisture absorption, and to suppress scratches due to deterioration of color and reduction in surface hardness.
スチレン系樹脂(A)には、(メタ)アクリル酸エステル系単量体以外の単量体を5質量%以下の範囲で共重合させてもよい。共重合させる単量体としては、スチレン系単量体及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体に共重合可能なビニル単量体があり、アクリロニトリル、メタクリル酸、アクリル酸、無水マレインなどがある。Styrene-based resin (A) may be copolymerized with a monomer other than a (meth)acrylic acid ester-based monomer in an amount of 5% by mass or less. The monomer to be copolymerized may be a vinyl monomer that can be copolymerized with a styrene-based monomer and a (meth)acrylic acid ester-based monomer, such as acrylonitrile, methacrylic acid, acrylic acid, or maleic anhydride.
スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の含有量は熱分解ガスクロマトグラフィーで以下の条件で測定することができる。
熱分解炉:PYR-2A(株式会社島津製作所製)
熱分解炉温度設定:525℃
ガスクロマトグラフ:GC-14A(株式会社島津製作所製)
カラム:ガラス製3mm径×3m
充填剤:FFAP Chromsorb WAW
カラム温度:120℃
キャリアーガス:窒素
The contents of the styrene-based monomer units and the (meth)acrylic acid ester-based monomer units in the styrene-based resin can be measured by pyrolysis gas chromatography under the following conditions.
Pyrolysis furnace: PYR-2A (manufactured by Shimadzu Corporation)
Pyrolysis furnace temperature setting: 525℃
Gas chromatograph: GC-14A (manufactured by Shimadzu Corporation)
Column: Glass, 3 mm diameter x 3 m
Filler: FFAP Chromsorb WAW
Column temperature: 120 ° C.
Carrier gas: Nitrogen
スチレン系樹脂の製造方法としては、公知の塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合などにより製造することができる。反応装置の操作法としては、連続式、バッチ式(回分式)、半回分式のいずれも適用できる。透明性などの品質面や生産性の面から、塊状重合或いは溶液重合が好ましく、連続式であることが好ましい。塊状重合或いは溶液重合の溶媒としては、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン及びキシレンなどのアルキルベンゼン類やアセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、ヘキサンやシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素などがある。Styrene-based resins can be produced by known methods such as bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization. The reactor can be operated in any of the following ways: continuous, batch (batchwise), and semi-batch. In terms of quality such as transparency and productivity, bulk or solution polymerization is preferred, and continuous polymerization is preferable. Solvents for bulk or solution polymerization include alkylbenzenes such as benzene, toluene, ethylbenzene, and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane.
スチレン系樹脂の重合方法は、公知の方法が採用できる。簡潔なプロセスで生産性に優れることから、ラジカル重合法が好ましい。A known method can be used to polymerize styrene-based resins. Radical polymerization is preferred because it is a simple process and has excellent productivity.
スチレン系樹脂の塊状重合或いは溶液重合では、重合開始剤、連鎖移動剤を用いることができ、重合温度は110~170℃の範囲であることが好ましい。連続式で塊状重合或いは溶液重合を行う場合、生産性の観点から、スチレン系単量体及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体の転化率は、重合工程の出口において、60%以上になるよう重合を行うことが好ましい。In bulk or solution polymerization of styrene-based resins, a polymerization initiator and a chain transfer agent can be used, and the polymerization temperature is preferably in the range of 110 to 170°C. When performing bulk or solution polymerization in a continuous manner, from the viewpoint of productivity, it is preferable to carry out the polymerization so that the conversion rate of the styrene-based monomer and the (meth)acrylic acid ester-based monomer is 60% or more at the outlet of the polymerization process.
重合開始剤は、過酸化ベンゾイル、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、1,1-ジ(t-ブチルバーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,2-ビス(4,4-ジ-tert-ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、tert-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジクミルパーオキサイド、tert-ブチルクミルパーオキサイド、tert-ブチルパーオキシアセテート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ポリエーテルテトラキス(tert-ブチルパーオキシカーボネート)、エチル-3,3-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ブチレート、tert-ブチルパーオキシイソブチレートなどの有機過酸化物がある。Polymerization initiators include organic peroxides such as benzoyl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, 1,1-di(t-butylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(t-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(t-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis(4,4-di-tert-butylperoxycyclohexyl)propane, tert-butylperoxyisopropylcarbonate, dicumyl peroxide, tert-butylcumyl peroxide, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, polyether tetrakis(tert-butylperoxycarbonate), ethyl-3,3-di(tert-butylperoxy)butyrate, and tert-butylperoxyisobutyrate.
重合開始剤の添加量は、単量体の合計100質量%に対して、0.001~0.2質量%であることが好ましく、0.001~0.05質量%がより好ましい。重合開始剤の添加量が多すぎると色相が悪化することがある。The amount of polymerization initiator added is preferably 0.001 to 0.2% by mass, and more preferably 0.001 to 0.05% by mass, based on 100% by mass of the total monomers. If too much polymerization initiator is added, the color may deteriorate.
連鎖移動剤は、脂肪族メルカプタン、芳香族メルカプタン、ペンタフェニルエタン、α-メチルスチレンダイマー及びテルピノーレンなどがある。 Chain transfer agents include aliphatic mercaptans, aromatic mercaptans, pentaphenylethane, α-methylstyrene dimer and terpinolene.
連鎖移動剤の添加量は、好ましくは単量体の合計100質量%に対して、0.001~0.5質量%が好ましく、0.005~0.2質量%がより好ましい。連鎖移動剤の添加量が0.001~0.5質量%であると、熱安定性が良好なものとなる。The amount of chain transfer agent added is preferably 0.001 to 0.5% by mass, and more preferably 0.005 to 0.2% by mass, based on 100% by mass of the total monomers. When the amount of chain transfer agent added is 0.001 to 0.5% by mass, the thermal stability is good.
スチレン系樹脂の重合終了後の溶液から、未反応の単量体や溶液重合に用いた溶媒などの揮発成分を取り除く脱揮方法は、公知の手法が採用でき、例えば、予熱器付きの真空脱揮槽やベント付き脱揮押出機を用いることができる。脱揮工程におけるスチレン系樹脂の温度は200℃~300℃であることが好ましく、220℃~260℃であることがより好ましい。脱揮工程でのスチレン系樹脂の温度が高すぎると、色相が悪化する場合がある。脱揮された溶融状態のスチレン系樹脂は、造粒工程に移送され、多孔ダイよりストランド状に押出し、コールドカット方式や空中ホットカット方式、水中ホットカット方式にてペレット状に加工することができる。A known method can be used to remove volatile components such as unreacted monomers and the solvent used in the solution polymerization from the solution after polymerization of the styrene resin. For example, a vacuum devolatilization tank with a preheater or a devolatilization extruder with a vent can be used. The temperature of the styrene resin in the devolatilization process is preferably 200°C to 300°C, more preferably 220°C to 260°C. If the temperature of the styrene resin in the devolatilization process is too high, the color may deteriorate. The devolatilized molten styrene resin is transferred to the granulation process, extruded into strands through a multi-hole die, and processed into pellets by the cold cut method, the air hot cut method, or the underwater hot cut method.
脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶液重合に用いた溶媒は回収し、精製して重合禁止剤などの不純物を除去した後に、回収原料としてフレッシュな原料と混合して使用することが好ましい。回収原料は、重合禁止剤を含有しないフレッシュな原料と混合して使用することで、重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量を低減することが可能となる。重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量は、12ppm未満であることが好ましく、より好ましくは9ppm未満であり、さらに好ましくは6ppm未満であり、最も好ましくは4ppm未満である。重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量が12ppm未満であると、透過率と透明性が良好なものとなる。なお、重合禁止剤を全て取り除くことは難しく、0.01ppm以上含む場合が多い。ここでフレッシュな原料とは、スチレン-(メタ)アクリル酸エステル系共重合体の製造工程に新たに供給される原料で、回収原料と区別するため、そのように称する。The unreacted monomers removed in the devolatilization process and the solvent used in the solution polymerization are preferably recovered and purified to remove impurities such as polymerization inhibitors, and then mixed with fresh raw materials to be used as recovered raw materials. By mixing the recovered raw materials with fresh raw materials that do not contain polymerization inhibitors, it is possible to reduce the content of polymerization inhibitors in the raw materials supplied to the polymerization process. The content of polymerization inhibitors in the raw materials supplied to the polymerization process is preferably less than 12 ppm, more preferably less than 9 ppm, even more preferably less than 6 ppm, and most preferably less than 4 ppm. If the content of polymerization inhibitors in the raw materials supplied to the polymerization process is less than 12 ppm, the transmittance and transparency are good. It is difficult to remove all the polymerization inhibitors, and they often contain 0.01 ppm or more. Here, the fresh raw materials are raw materials that are newly supplied to the production process of styrene-(meth)acrylic acid ester copolymers, and are called so in order to distinguish them from recovered raw materials.
脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶液重合に用いた溶媒の回収及び精製方法は、公知の方法が採用でき、例えば、脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶媒のガスをコンデンサーで凝縮して液化し、フラッシュ蒸留塔で精製して高沸点成分を分離除去する方法がある。また、脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶媒のガスから、先に高沸点成分のみをコンデンサーやスプレー塔などを用いて凝縮させて分離し、残りのガスをコンデンサーにて全量凝縮する方法がある。重合禁止剤の4-tert-ブチルカテコールの沸点は285℃、6-tert-ブチル-2,4-キシレノールの沸点は249℃であり、高沸点成分として単量体及び溶媒から分離除去することができる(スチレンの沸点145℃、メチル(メタ)アクリレートの沸点101℃、エチルベンゼンの沸点136℃)。The unreacted monomers removed in the devolatilization step and the solvent used in the solution polymerization can be recovered and purified by known methods. For example, the unreacted monomers and solvent gases removed in the devolatilization step are condensed and liquefied in a condenser, and then purified in a flash distillation tower to separate and remove high boiling components. Another method is to first condense and separate only the high boiling components from the unreacted monomers and solvent gases removed in the devolatilization step using a condenser or spray tower, and then condense the remaining gas in a condenser. The boiling points of the polymerization inhibitors 4-tert-butylcatechol and 6-tert-butyl-2,4-xylenol are 285°C and 249°C, respectively, and can be separated and removed from the monomers and solvent as high boiling components (the boiling point of styrene is 145°C, the boiling point of methyl (meth)acrylate is 101°C, and the boiling point of ethylbenzene is 136°C).
スチレン系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、5万~45万が好ましく、7万~30万がより好ましく、7万~20万がさらに好ましい。重量平均分子量(Mw)が5万未満になると、導光板の強度が低下する場合がある。重量平均分子量(Mw)が20万を超えると、流動性が低下し、成形加工性が悪化することがある。重量平均分子量(Mw)は、重合工程の反応温度、滞留時間、重合開始剤の種類及び添加量、連鎖移動剤の種類及び添加量、重合時に使用する溶媒の種類及び量などによって制御することができる。The weight average molecular weight (Mw) of the styrene resin is preferably 50,000 to 450,000, more preferably 70,000 to 300,000, and even more preferably 70,000 to 200,000. If the weight average molecular weight (Mw) is less than 50,000, the strength of the light guide plate may decrease. If the weight average molecular weight (Mw) is more than 200,000, the fluidity may decrease and the moldability may deteriorate. The weight average molecular weight (Mw) can be controlled by the reaction temperature and residence time of the polymerization process, the type and amount of polymerization initiator, the type and amount of chain transfer agent, the type and amount of solvent used during polymerization, etc.
重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定することができる。
GPC機種:昭和電工株式会社製Shodex GPC-101
カラム:ポリマーラボラトリーズ社製 PLgel 10μm MIXED-B
移動相:テトラヒドロフラン
試料濃度:0.2質量%
温度:オーブン40℃、注入口35℃、検出器35℃
検出器:示差屈折計
本発明の分子量は単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出時間における分子量を算出し、ポリスチレン換算の分子量として算出したものである。
The weight average molecular weight (Mw) can be measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
GPC model: Showa Denko Co., Ltd. Shodex GPC-101
Column: Polymer Laboratories PLgel 10 μm MIXED-B
Mobile phase: tetrahydrofuran Sample concentration: 0.2% by mass
Temperature: oven 40°C, injection port 35°C, detector 35°C
Detector: differential refractometer The molecular weight in the present invention is calculated as a polystyrene-equivalent molecular weight by calculating the molecular weight at each elution time from the elution curve of monodisperse polystyrene.
スチレン系樹脂の残存単量体及び重合溶媒の合計量は、0.5質量%以下が好ましく、0.2質量%がより好ましい。残存単量体及び重合溶媒の合計量が0.5質量%を超えると、耐熱性が不十分となることがある。The total amount of residual monomer and polymerization solvent in the styrene-based resin is preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.2% by mass. If the total amount of residual monomer and polymerization solvent exceeds 0.5% by mass, the heat resistance may be insufficient.
残存単量体及び重合溶媒は、スチレン系樹脂に残存する単量体と重合溶媒の量であり、スチレン、メチル(メタ)アクリレート、エチルベンゼンなどがある。残存単量体及び重合溶媒の量は脱揮工程の構成や脱揮工程の条件で調整することができる。The residual monomer and polymerization solvent are the amounts of monomer and polymerization solvent remaining in the styrene-based resin, such as styrene, methyl (meth)acrylate, and ethylbenzene. The amounts of the residual monomer and polymerization solvent can be adjusted by the configuration of the devolatilization process and the conditions of the devolatilization process.
残存単量体及び重合溶媒の量は、スチレン系樹脂0.2gを精秤し、内部標準物質としてp-ジエチルベンゼンを含むテトラヒドロフラン10mLに溶解し、キャピラリーガスクロマトグラフを用いて以下の条件で測定した。
キャピラリーガスクロマトグラフ:GC-4000(ジーエルサイエンス株式会社製)
カラム:ジーエルサイエンス株式会社製 InertCap WAX、内径 0.25mm、長さ 30m、膜厚 50μm
インジェクション温度:180℃
カラム温度:60℃~170℃
ディテクター温度:210℃
スプリット比:5/1
The amounts of the remaining monomer and polymerization solvent were measured by precisely weighing 0.2 g of the styrene-based resin, dissolving it in 10 mL of tetrahydrofuran containing p-diethylbenzene as an internal standard substance, and using a capillary gas chromatograph under the following conditions.
Capillary gas chromatograph: GC-4000 (GL Sciences, Inc.)
Column: InertCap WAX manufactured by GL Sciences, inner diameter 0.25 mm, length 30 m, film thickness 50 μm
Injection temperature: 180°C
Column temperature: 60°C to 170°C
Detector temperature: 210°C
Split ratio: 5/1
スチレン系樹脂のスチレン系単量体及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体の2量体又は3量体(以下オリゴマー)の合計量は、2質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以下である。オリゴマーの合計量が1質量%を超えると、導光板としての耐熱性が不十分となることがある。The total amount of the styrene monomer and the dimer or trimer (hereinafter referred to as oligomer) of the (meth)acrylic acid ester monomer in the styrene resin is preferably 2% by mass or less. More preferably, it is 1% by mass or less. If the total amount of the oligomer exceeds 1% by mass, the heat resistance of the light guide plate may be insufficient.
オリゴマーの測定は、スチレン系樹脂200mgを2mLの1,2-ジクロロメタンに溶解し、メタノールを2mL添加して重合体を析出させ、静置させた後、上澄み液についてガスクロマトグラフを用いて以下の条件で測定した。
ガスクロマトグラフ:HP-5890(ヒューレットパッカード社製)
カラム:DB-1(ht) 0.25mm×30m 膜厚0.1μm
インジェクション温度:250℃
カラム温度:100-300℃
検出器温度:300℃
スプリット比:50/1
内部標準物質:n-エイコサン
キャリアーガス:窒素
The oligomer content was measured by dissolving 200 mg of the styrene resin in 2 mL of 1,2-dichloromethane, adding 2 mL of methanol to precipitate the polymer, and allowing the mixture to stand. The supernatant was then measured using a gas chromatograph under the following conditions.
Gas chromatograph: HP-5890 (manufactured by Hewlett-Packard)
Column: DB-1 (ht) 0.25 mm x 30 m, film thickness 0.1 μm
Injection temperature: 250°C
Column temperature: 100-300°C
Detector temperature: 300°C
Split ratio: 50/1
Internal standard: n-eicosane Carrier gas: nitrogen
本発明のスチレン系樹脂組成物は、好ましくは、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)を含有する。スチレン系樹脂組成物に含まれるヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)は、基本骨格にフェノール性水酸基を持つ酸化防止剤である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチレンビス(オキシエチレン)ビス〔3-(5-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-m-トリル)プロピオネート〕、3,9-ビス[2-〔3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、4,6-ビス(オクチルチオメチル)-o-クレゾール、4,6-ビス〔(ドデシルチオ)メチル〕-o-クレゾール、2,4-ジメチル-6-(1-メチルペンタデシル)フェノール、テトラキス〔メチレン-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、4,4'-チオビス(6-tert-ブチル-3-メチルフェノール)、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン、4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、ビス-[3,3-ビス-(4'-ヒドロキシ-3'-tert―ブチルフェニル)-ブタン酸]-グリコールエステル、2-tert-ブチル-6-(3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェニルアクリレート、2-〔1-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ペンチルフェニル)エチル〕-4,6-ジ-tert-ペンチルフェニルアクリレートなどがある。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でもよいが2種以上を組み合わせて使用してもよい。The styrene-based resin composition of the present invention preferably contains a hindered phenol-based antioxidant (B). The hindered phenol-based antioxidant (B) contained in the styrene-based resin composition is an antioxidant having a phenolic hydroxyl group in the basic skeleton. Examples of the hindered phenol antioxidant include octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate, ethylene bis(oxyethylene)bis[3-(5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl)propionate], 3,9-bis[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]-1,1-dimethylethyl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecane, pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 4,6-bis(octylthiomethyl)-o-cresol, 4,6-bis[(dodecylthio)methyl]-o-cresol, and 2,4-dimethyl-6-(1-methylpentadecyl)phenol. tetrakis[methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate]methane, 4,4'-thiobis(6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, 4,4'-butylidenebis(3-methyl-6-tert-butylphenol), bis-[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoic acid]-glycol ester, 2-tert-butyl-6-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl)-4-methylphenyl acrylate, 2-[1-(2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl)ethyl]-4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, and the like. The hindered phenol-based antioxidants may be used alone or in combination of two or more kinds.
ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)の含有量は、スチレン系樹脂(A)100質量部に対して0.001~0.3質量部であることが好ましく、0.03~0.09質量部がより好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)の含有量をこの範囲に調整することで、色相に優れたスチレン系樹脂組成物が得られる。The content of the hindered phenol-based antioxidant (B) is preferably 0.001 to 0.3 parts by mass, and more preferably 0.03 to 0.09 parts by mass, per 100 parts by mass of the styrene-based resin (A). By adjusting the content of the hindered phenol-based antioxidant (B) within this range, a styrene-based resin composition with excellent hue can be obtained.
本発明のスチレン系樹脂組成物は、好ましくは、フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)を含有する。スチレン系樹脂組成物に含まれるリン系酸化防止剤(C1)は、基本骨格にフェノール系水酸基を有する三価のリン化合物である。リン系酸化防止剤(C1)は、他のリン系酸化防止剤に比べて加水分解しやすいという特性があり、得られるスチレン系樹脂組成物の色相改善効果が高いものである。リン系酸化防止剤(C1)は、6-[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-tert-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピンなどがある。The styrene resin composition of the present invention preferably contains a phosphorus-based antioxidant (C1) having a phenolic hydroxyl group. The phosphorus-based antioxidant (C1) contained in the styrene resin composition is a trivalent phosphorus compound having a phenolic hydroxyl group in the basic skeleton. The phosphorus-based antioxidant (C1) has the property of being more easily hydrolyzed than other phosphorus-based antioxidants, and has a high effect of improving the hue of the resulting styrene resin composition. Examples of the phosphorus-based antioxidant (C1) include 6-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine.
リン系酸化防止剤(C1)の含有量は、スチレン系樹脂(A)100質量部に対して0.001~0.3質量部であることが好ましく、より好ましくは0.03~0.09質量部であり、さらに好ましくは0.05~0.08質量部である。リン系酸化防止剤(C1)の含有量をこの範囲に調整することで、色相に優れたスチレン系樹脂組成物が得られる。The content of the phosphorus-based antioxidant (C1) is preferably 0.001 to 0.3 parts by mass, more preferably 0.03 to 0.09 parts by mass, and even more preferably 0.05 to 0.08 parts by mass, per 100 parts by mass of the styrene-based resin (A). By adjusting the content of the phosphorus-based antioxidant (C1) within this range, a styrene-based resin composition with excellent hue can be obtained.
本発明のスチレン系樹脂組成物は、好ましくは、フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)以外のリン系酸化防止剤(C2)を含有する。スチレン系樹脂組成物に含まれるリン系酸化防止剤(C2)は、基本骨格にフェノール系水酸基を有さない三価のリン化合物である。リン系酸化防止剤(C2)は、リン系酸化防止剤(C1)に比べて加水分解をしにくいが、スチレン系樹脂組成物の色相改善効果が長期にわたって持続するものである。すなわち、耐湿熱性に特に寄与しうる。リン系酸化防止剤(C2)は、3,9-ビス(2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン、ビス(2,4-ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)2-エチルヘキシルホスファイト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスファイト、ビス〔2,4-ビス(1,1-ジメチルエチル)-6-メチルフェニル〕エチルエステル亜リン酸、ビス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、4,4'-ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイド、テトラキス(2,4-ジ-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-4,4'-ビフェニレンジホスホナイトなどがあり、色相改善の効果が持続するという観点から、好ましくは、2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)2-エチルヘキシルホスファイトやトリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスファイトを用いると良い。リン系酸化防止剤(C2)は、単独でもよいが2種以上を組み合わせて使用しても良い。The styrene-based resin composition of the present invention preferably contains a phosphorus-based antioxidant (C2) other than the phosphorus-based antioxidant (C1) having a phenolic hydroxyl group. The phosphorus-based antioxidant (C2) contained in the styrene-based resin composition is a trivalent phosphorus compound that does not have a phenolic hydroxyl group in its basic skeleton. The phosphorus-based antioxidant (C2) is less susceptible to hydrolysis than the phosphorus-based antioxidant (C1), but the hue improvement effect of the styrene-based resin composition is sustained for a long period of time. In other words, it can particularly contribute to moist heat resistance. Examples of the phosphorus-based antioxidant (C2) include 3,9-bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane, bis(2,4-dicumylphenyl)pentaerythritol diphosphite, 2,2'-methylenebis(4,6-di-tert-butylphenyl)2-ethylhexyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite, bis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-6-methylphenyl]ethyl ester phosphorous acid, bis(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, and cyclic neopentane tetraphosphate. Examples of suitable antioxidants include bis(octadecyl phosphite), bis(nonylphenyl)pentaerythritol diphosphite, tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl) 4,4'-biphenylenediphosphinate, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, and tetrakis(2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl)-4,4'-biphenylenediphosphonite. From the viewpoint of sustained effect of improving hue, it is preferable to use 2,2'-methylenebis(4,6-di-tert-butylphenyl)2-ethylhexyl phosphite or tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite. The phosphorus-based antioxidant (C2) may be used alone or in combination of two or more.
リン系酸化防止剤(C2)の含有量は、スチレン系樹脂(A)100質量部に対して0.001~0.3質量部であることが好ましく、より好ましくは0.03~0.09質量部であり、さらに好ましくは0.05~0.08質量部である。リン系酸化防止剤(C2)の含有量をこの範囲に調整することで、初期及び長期に色相が長期にわたって優れたスチレン系樹脂組成物が得られる。The content of the phosphorus-based antioxidant (C2) is preferably 0.001 to 0.3 parts by mass, more preferably 0.03 to 0.09 parts by mass, and even more preferably 0.05 to 0.08 parts by mass, per 100 parts by mass of the styrene-based resin (A). By adjusting the content of the phosphorus-based antioxidant (C2) within this range, a styrene-based resin composition that has excellent initial and long-term hue can be obtained.
リン系酸化防止剤(C1)とリン系酸化防止剤(C2)の配合割合は、質量比で3:1~1:3の範囲が好ましく、より好ましくは2:1~1:2である。この範囲に調整することで、得られるスチレン系樹脂組成物の色相とその耐久性のバランスが良くなる。The blending ratio of the phosphorus-based antioxidant (C1) to the phosphorus-based antioxidant (C2) is preferably in the range of 3:1 to 1:3 by mass, and more preferably 2:1 to 1:2. By adjusting the blending ratio to this range, the hue of the obtained styrene-based resin composition and its durability are well balanced.
スチレン系樹脂組成物を製造する方法は、公知の方法が採用できる。スチレン系樹脂の重合工程、脱揮工程、造粒工程などの製造工程で、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)とリン系酸化防止剤(C1)及びリン系酸化防止剤(C2)を添加する方法があり、脱揮工程で未反応の単量体及び溶媒が除去された後に添加することが好ましい。真空脱揮槽を用いる場合、脱揮槽から抜き出したスチレン系樹脂に溶融状態のヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)、リン系酸化防止剤(C1)及びリン系酸化防止剤(C2)を添加し、スタティックミキサーで混合する方法や、ベント付き脱揮押出機を用いる場合には、ベントゾーン以降にヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)、リン系酸化防止剤(C1)及びリン系酸化防止剤(C2)を添加、混合することができる。押出機を用いて、造粒後のスチレン系樹脂(A)にヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)、リン系酸化防止剤(C)及びリン系酸化防止剤(C2)を溶融混練することもできる。A known method can be used to produce the styrene resin composition. There is a method of adding the hindered phenol-based antioxidant (B), the phosphorus-based antioxidant (C1), and the phosphorus-based antioxidant (C2) in the production process such as the polymerization process, the devolatilization process, and the granulation process of the styrene resin, and it is preferable to add them after the unreacted monomer and the solvent are removed in the devolatilization process. When using a vacuum devolatilization tank, the molten hindered phenol-based antioxidant (B), the phosphorus-based antioxidant (C1), and the phosphorus-based antioxidant (C2) can be added to the styrene resin extracted from the devolatilization tank and mixed with a static mixer, or when using a vented devolatilization extruder, the hindered phenol-based antioxidant (B), the phosphorus-based antioxidant (C1), and the phosphorus-based antioxidant (C2) can be added and mixed after the vent zone. The hindered phenol-based antioxidant (B), the phosphorus-based antioxidant (C) and the phosphorus-based antioxidant (C2) can also be melt-kneaded with the granulated styrene-based resin (A) using an extruder.
スチレン系樹脂組成物は、透明性を損なわない範囲でミネラルオイルを添加してもよい。また、ステアリン酸、エチレンビスステアリルアミドなどの内部潤滑剤や、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤、帯電防止剤、エチレンビスステアリルアミドなどの外部潤滑剤を添加しても良い。The styrene resin composition may contain mineral oil as long as the transparency is not impaired. Internal lubricants such as stearic acid and ethylene bisstearylamide, and external lubricants such as sulfur-based antioxidants, lactone-based antioxidants, ultraviolet absorbers, hindered amine-based stabilizers, antistatic agents, and ethylene bisstearylamide may also be added.
紫外線吸収剤は、紫外線による劣化や着色を抑制する機能を有するものであって、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾエート系、サリシレート系、シアノアクリレート系、マロン酸エステル系、ホルムアミジン系などの紫外線吸収剤がある。これらは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができ、ヒンダードアミンなどの光安定剤を併用してもよい。 UV absorbers have the function of suppressing deterioration and discoloration caused by ultraviolet rays, and include benzophenone-based, benzotriazole-based, triazine-based, benzoate-based, salicylate-based, cyanoacrylate-based, malonic acid ester-based, and formamidine-based UV absorbers. These can be used alone or in combination of two or more types, and may be used in combination with a light stabilizer such as a hindered amine.
スチレン系樹脂のビカット軟化点は95℃以上であることが好ましく、98℃以上であることがより好ましい。ビカット軟化点が95℃未満では耐熱性が不足し、使用環境によっては成形品が変形する可能性がある。(ビカット軟化温度は、JIS K 7206に準拠し、昇温速度50℃/hr、試験荷重50Nで試験を行った。)The Vicat softening point of the styrene resin is preferably 95°C or higher, and more preferably 98°C or higher. If the Vicat softening point is less than 95°C, the heat resistance is insufficient, and depending on the usage environment, the molded product may deform. (Vicat softening temperature was tested in accordance with JIS K 7206, at a heating rate of 50°C/hr and a test load of 50N.)
スチレン系樹脂組成物は、押出成形、射出成形、圧縮成形、ブロー成形などの公知の方法で板状の成形品を作製し、導光板などに加工して使用することができる。The styrene-based resin composition can be used to produce plate-shaped molded products by known methods such as extrusion molding, injection molding, compression molding, and blow molding, and can be processed into light guide panels and other products for use.
本発明のスチレン系樹脂組成物は熱安定性に優れることから、押出成形時のシート端材や射出成形時のスプールやランナーなどの製品化されない部分を回収及び粉砕して、バージン原料に混合して使用することができる。 Because the styrene-based resin composition of the present invention has excellent thermal stability, unproductized parts such as sheet scraps from extrusion molding and spools and runners from injection molding can be recovered and crushed, and mixed with virgin raw materials for use.
導光板は、板状成形品の一方の面に形成された反射パターンにより、板状成形品の端面から入射した光を板状成形品の面側に導き、発光させる機能を持つ部材である。反射パターンはスクリーン印刷法やレーザー加工法、インクジェット法などの方法により形成することができる。また、反射パターンが形成された面の反対面(発光面)にプリズムパターンなどを設けることが出来る。板状成形品の反射パターンやプリズムパターンは、板状成形品の成形時に形成することができ、射出成形では金型形状、押出成形ではロール転写などにより、形成することができる。 A light guide plate is a component that has the function of guiding light incident from the end face of a plate-shaped molded product to the face side of the plate-shaped molded product, causing it to emit light, by using a reflective pattern formed on one side of the plate-shaped molded product. The reflective pattern can be formed by methods such as screen printing, laser processing, and inkjet printing. In addition, a prism pattern or the like can be provided on the opposite side (light-emitting surface) to the side on which the reflective pattern is formed. The reflective pattern and prism pattern of a plate-shaped molded product can be formed when the plate-shaped molded product is molded; in injection molding, they can be formed by the mold shape, and in extrusion molding, they can be formed by roll transfer, etc.
スチレン系樹脂組成物の初期の光路長115mmで測定したYI値は、好ましくは2.5以下であり、より好ましくは2.0以下である。ここで、「初期の」とは、80℃、90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理する前という意味である。測定は、光路長115mmでの波長350nm~800nmの分光透過率を測定し、C光源における視野2°でのYI値をJIS K7373に倣い算出した値である。光路長115mmで測定したYI値は2.5より高いと、光路長と共に色が変化するため、バックライトとして使用した場合、液晶表示装置の面において色むらを生じる可能性がある。また、光路長115mmで測定した波長350nm~800nmの分光透過率の平均値が87%以上であることが好ましく、より好ましくは88%以上であり、さらに好ましくは89%以上である。
The YI value of the styrene resin composition measured at an initial optical path length of 115 mm is preferably 2.5 or less, more preferably 2.0 or less. Here, "initial" means before 500 hours of wet heat treatment in an air atmosphere at 80°C and 90% humidity. The measurement is a value calculated by measuring the spectral transmittance at wavelengths of 350 nm to 800 nm at an optical path length of 115 mm, and calculating the YI value at a field of view of 2° with a C light source according to JIS K 7373. If the YI value measured at an optical path length of 115 mm is higher than 2.5, the color changes with the optical path length, so that when used as a backlight, color unevenness may occur on the surface of a liquid crystal display device. In addition, the average value of the spectral transmittance at wavelengths of 350 nm to 800 nm measured at an optical path length of 115 mm is preferably 87% or more, more preferably 88% or more, and even more preferably 89% or more.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。The present invention will be explained in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
<スチレン系樹脂A-1の製造例>
スチレン系樹脂は、ラジカル重合法にて、連続式の溶液重合で製造した。第1反応器として完全混合槽型撹拌槽を使用し、第2反応器として静的混合器付プラグフロー型反応器を使用し、直列に接続して重合工程を構成した。第1反応器の容量は30L、第2反応器の容量は12Lとした。スチレン系単量体として、工業的に使用されるスチレン(以下、フレッシュStyと称する)を準備したところ、4-tert-ブチルカテコール(以下、TBCと称する)の濃度は10.2ppmであった。(メタ)アクリル酸エステル系単量体として、工業的に使用されるメチル(メタ)アクリレート(以下、フレッシュMMAと称する)を準備したところ、6-tert-ブチル-2,4-キシレノール(以下、TBXと称する)の濃度は4.9ppmであった。重合溶媒として、工業的に使用されるエチルベンゼン(以下、フレッシュEBと称する)を準備した。また、後述する真空脱揮槽より分離した単量体及び重合溶媒などのガスはコンデンサーで凝縮し、フラッシュ蒸留塔で精製したものを回収原料として使用した。回収原料中のTBX及びTBCは検出下限以下の濃度であった。フレッシュSty、フレッシュMMA及び回収原料を用い、Sty:49質量%、MMA:41質量%、EB:10質量%の組成で原料溶液を作製し、重合工程に8.0kg/hの流量で連続的に供給した。原料溶液に占める回収原料の使用割合は33質量%であった。また、原料溶液に対して、重合開始剤としてt-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを150ppm、連鎖移動剤としてn-ドデシルメルカプタンを500ppmの濃度となるよう、原料溶液の供給ラインに連続的に添加した。第1反応器の温度は135℃となるよう調整し、第2反応器では流れの方向に沿って温度勾配をつけ、中間部分で130℃、出口部分で145℃となるよう調整した。重合工程出口でのポリマー濃度は65%で、スチレンとメチル(メタ)アクリレートの転化率は72%であった。反応器から連続的に取り出されたポリマー溶液は、予熱器付き真空脱揮槽に供給され、未反応のスチレン及びメチル(メタ)アクリレート、エチルベンゼンなどを分離した。脱揮槽内のポリマー温度が240℃となるように予熱器の温度を調整し、脱揮槽内の圧力は1kPaとした。ギヤーポンプにより真空脱揮槽からポリマーを抜出し、ストランド状に押出して冷却水にて冷却後、切断してペレット状のスチレン系樹脂A-1を得た。A-1の組成は、Sty:50質量%、MMA:50質量%であった。また、A-1の重量平均分子量は14.5万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は0.07質量%、残存オリゴマーの合計量は0.35質量%であった。
<Production Example of Styrene-Based Resin A-1>
The styrene resin was produced by continuous solution polymerization using a radical polymerization method. A complete mixing tank type stirring tank was used as the first reactor, and a plug flow type reactor with a static mixer was used as the second reactor, and they were connected in series to form a polymerization process. The capacity of the first reactor was 30 L, and the capacity of the second reactor was 12 L. When industrially used styrene (hereinafter referred to as fresh Sty) was prepared as the styrene monomer, the concentration of 4-tert-butylcatechol (hereinafter referred to as TBC) was 10.2 ppm. When industrially used methyl (meth)acrylate (hereinafter referred to as fresh MMA) was prepared as the (meth)acrylic acid ester monomer, the concentration of 6-tert-butyl-2,4-xylenol (hereinafter referred to as TBX) was 4.9 ppm. As the polymerization solvent, industrially used ethylbenzene (hereinafter referred to as fresh EB) was prepared. In addition, gases such as monomers and polymerization solvents separated from a vacuum devolatilizer tank described later were condensed in a condenser, and purified in a flash distillation column and used as the recovered raw material. The concentrations of TBX and TBC in the recovered raw material were below the detection limit. Fresh Sty, fresh MMA, and the recovered raw material were used to prepare a raw material solution with a composition of Sty: 49 mass%, MMA: 41 mass%, and EB: 10 mass%, and the raw material solution was continuously supplied to the polymerization step at a flow rate of 8.0 kg/h. The usage ratio of the recovered raw material in the raw material solution was 33 mass%. In addition, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate as a polymerization initiator was continuously added to the raw material solution supply line so that the concentrations of the raw material solution were 150 ppm and n-dodecyl mercaptan as a chain transfer agent were 500 ppm. The temperature of the first reactor was adjusted to 135°C, and the temperature of the second reactor was adjusted to 130°C in the middle and 145°C at the outlet along the direction of flow. The polymer concentration at the outlet of the polymerization step was 65%, and the conversion of styrene and methyl (meth)acrylate was 72%. The polymer solution continuously taken out from the reactor was supplied to a vacuum devolatilizer tank equipped with a preheater, and unreacted styrene, methyl (meth)acrylate, ethylbenzene, and the like were separated. The temperature of the preheater was adjusted so that the polymer temperature in the devolatilizer tank was 240°C, and the pressure in the devolatilizer tank was 1 kPa. The polymer was extracted from the vacuum devolatilizer tank by a gear pump, extruded into a strand shape, cooled with cooling water, and then cut to obtain pellet-shaped styrene-based resin A-1. The composition of A-1 was Sty: 50% by mass, MMA: 50% by mass. The weight average molecular weight of A-1 was 145,000, the total amount of the remaining monomers and polymerization solvent was 0.07% by mass, and the total amount of the remaining oligomers was 0.35% by mass.
<スチレン系樹脂A-2の製造例>
原料組成をSty:77質量%、MMA:13質量%、EB:10質量%に変更し、n-ドデシルメルカプタンの添加を停止し、第1反応器の温度を140℃とし、第2反応器の中間部分の温度を140℃、出口部分の温度を160℃とした以外は、A-1と同様に実施した。原料溶液に占める回収原料の使用割合は33質量%であった。A-2の組成は、Sty:82質量%、MMA:18質量%であった。また、A-2の重量平均分子量は24万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は0.06質量%、残存オリゴマーの合計量は0.33質量%であった。
<Production Example of Styrene-Based Resin A-2>
The same procedure as in A-1 was carried out except that the raw material composition was changed to Sty: 77% by mass, MMA: 13% by mass, and EB: 10% by mass, the addition of n-dodecyl mercaptan was stopped, the temperature of the first reactor was set to 140°C, the temperature of the middle part of the second reactor was set to 140°C, and the temperature of the outlet part was set to 160°C. The proportion of the recovered raw material in the raw material solution was 33% by mass. The composition of A-2 was Sty: 82% by mass, MMA: 18% by mass. The weight average molecular weight of A-2 was 240,000, the total amount of the residual monomer and polymerization solvent was 0.06% by mass, and the total amount of the residual oligomer was 0.33% by mass.
<スチレン系樹脂A-3の製造例>
原料組成をSty:8質量%、MMA:79質量%、EB:13質量%に変更し、フィード流量を5.7kg/hとし、tert-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートの濃度を100ppm、n-ドデシルメルカプタンの濃度を3000ppmとし、第1反応器の温度を122℃とし、第2反応器の中間部分の温度を140℃、出口部分の温度を150℃とした以外は、A-1と同様に実施した。原料溶液に占める回収原料の使用割合は34質量%であった。A-3の組成は、Sty:10質量%、MMA:90質量%であった。また、A-3の重量平均分子量は8万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は0.06質量%、残存オリゴマーの合計量は0.34質量%であった。
<Production Example of Styrene-Based Resin A-3>
The raw material composition was changed to Sty: 8% by mass, MMA: 79% by mass, and EB: 13% by mass, the feed flow rate was 5.7 kg/h, the concentration of tert-butylperoxyisopropyl monocarbonate was 100 ppm, the concentration of n-dodecyl mercaptan was 3000 ppm, the temperature of the first reactor was 122 ° C, the temperature of the middle part of the second reactor was 140 ° C, and the temperature of the outlet part was 150 ° C., but the same procedure as in A-1 was carried out. The proportion of the recovered raw material in the raw material solution was 34% by mass. The composition of A-3 was Sty: 10% by mass, MMA: 90% by mass. The weight average molecular weight of A-3 was 80,000, the total amount of the residual monomer and polymerization solvent was 0.06% by mass, and the total amount of the residual oligomer was 0.34% by mass.
<実施例1~10・比較例1・参考例1~2>
製造例で得られたスチレン系樹脂A-1~A-3に、以下に示すヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)、リン系酸化防止剤(C1)及びリン系酸化防止剤(C2-1)、(C2-2)を表1に示す含有量にて混合し、LEADER社製シート押出機を用いて酸化防止剤を溶融混練しつつ、450mm×500mm×2mmのシート成形品を得た。シート押出機は、50mmφ単軸押出機とTダイ、鏡面ロール3本より構成され、単軸押出機のシリンダー温度225℃、スクリュー回転数120rpmでシート押出を行った。Tダイの幅は450mm、開度は3mmとした。
(B)オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート (BASFジャパン株式会社製 Irganox 1076)
(C1)6-[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-tert-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン (住友化学株式会社製 Sumilizer GP)
(C2-1)2,2'-メチレンビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェニル)2-エチルヘキシルホスファイト (株式会社ADEKA製 アデカスタブ HP-10)
(C2-2)トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスファイト (BASFジャパン株式会社製 Irgafos 168)
<Examples 1 to 10, Comparative Example 1, Reference Examples 1 to 2>
The styrene-based resins A-1 to A-3 obtained in the production examples were mixed with the hindered phenol-based antioxidant (B), phosphorus-based antioxidant (C1), and phosphorus-based antioxidants (C2-1) and (C2-2) shown below in the amounts shown in Table 1, and the antioxidants were melt-kneaded using a sheet extruder manufactured by LEADER to obtain a sheet molded product of 450 mm x 500 mm x 2 mm. The sheet extruder was composed of a 50 mmφ single-screw extruder, a T-die, and three mirror-finished rolls, and the sheet extrusion was performed at a cylinder temperature of 225 ° C. and a screw rotation speed of 120 rpm. The width of the T-die was 450 mm, and the opening was 3 mm.
(B) Octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate (Irganox 1076, manufactured by BASF Japan Ltd.)
(C1) 6-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propoxy]-2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepine (Sumitomo Chemical Co., Ltd., Sumilizer GP)
(C2-1) 2,2'-methylenebis(4,6-di-tert-butylphenyl)2-ethylhexyl phosphite (ADEKA STAB HP-10, manufactured by ADEKA CORPORATION)
(C2-2) Tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite (Irgafos 168, manufactured by BASF Japan Ltd.)
(酸化誘導時間)
得られたシート成形品より30mm×30mm×2mm厚みの試験片を切り出し、東北電子産業社製のケミルミネッセンスアナライザーCLA-FS4を用いて、200℃、酸素流量100mL/分の条件にて発光量を測定し、測定時間と発光量の関係より、図1に示す方法で酸化誘導時間を求めた。押出直後のシート成形品の酸化誘導時間(t1)と、80℃、90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理したシート成形品の酸化誘導時間(t2)の測定結果を表1に示す。なお、参考例1と参考例2は測定開始後、直ぐに発光量が増加し続け、酸化誘導時間を測定できなかった。
(Oxidation induction time)
A test piece measuring 30 mm x 30 mm x 2 mm was cut out from the obtained sheet molded product, and the amount of light emitted was measured at 200°C and an oxygen flow rate of 100 mL/min using a chemiluminescence analyzer CLA-FS4 manufactured by Tohoku Electronics Industries Co., Ltd., and the oxidation induction time was determined from the relationship between the measurement time and the amount of light emitted by the method shown in Figure 1. The measurement results of the oxidation induction time (t1) of the sheet molded product immediately after extrusion and the oxidation induction time (t2) of the sheet molded product subjected to a wet heat treatment for 500 hours in an air atmosphere at 80°C and 90% humidity are shown in Table 1. In Reference Example 1 and Reference Example 2, the amount of light emitted continued to increase immediately after the start of the measurement, and the oxidation induction time could not be measured.
(光路長115mmでの光学特性)
得られたシート成形品より115mm×85mm×2mm厚みの試験片を切り出し、端面を研磨し、端面に鏡面を有する板状成形品を作成した。研磨後の板状成形品について、日本分光株式会社製の紫外線可視分光光度計V-670を用いて、大きさ20×1.6mm、広がり角度0°の入射光において、光路長115mmでの波長350nm~800nmの分光透過率を測定し、C光源における視野2°でのYI値をJIS K7373に倣い算出した。表1に示す透過率とは波長380nm~780nmの平均透過率を示す。押出直後のシート成形品(初期)と80℃、90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理したシート成形品、80℃の環境下で1000時間保管したシート成形品について測定した結果を表1に示す。
(Optical characteristics at optical path length of 115 mm)
A test piece measuring 115 mm x 85 mm x 2 mm thick was cut out from the obtained sheet molded product, and the end surface was polished to prepare a plate-shaped molded product having a mirror surface on the end surface. For the plate-shaped molded product after polishing, a UV-visible spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation was used to measure the spectral transmittance of a wavelength of 350 nm to 800 nm at an optical path length of 115 mm with incident light of a size of 20 x 1.6 mm and a spread angle of 0°, and the YI value at a field of view of 2° with a C light source was calculated according to JIS K7373. The transmittance shown in Table 1 indicates the average transmittance of a wavelength of 380 nm to 780 nm. The results of measurements of the sheet molded product (initial) immediately after extrusion, the sheet molded product subjected to moist heat treatment for 500 hours in an air atmosphere at 80 ° C. and 90% humidity, and the sheet molded product stored in an environment of 80 ° C. for 1000 hours are shown in Table 1.
(吸水性)
得られたシート成形品を切削し、200mm×300mmサイズの成形品を得た。この成形品を温度60℃、湿度90%の条件で500時間保管し、保管前後での質量及び長辺の寸法変化を測定し、吸水性の指標として、下記式により吸水率及び変形率を計算した。
(吸水率)=((保管後の質量)-(保管前の質量))÷(保管前の質量)×100(%)
(変形率)=((保管後の長辺長さ)-(保管前の長辺長さ))÷(保管前の長辺長さ)×100(%)
表1に評価結果を示した。吸水率が1.0以下の場合を良好であると判断し、変形率が0.30以下の場合を良好であると判断した。
(Water Absorbency)
The obtained sheet molded product was cut to obtain a molded product of 200 mm × 300 mm size. This molded product was stored for 500 hours under conditions of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%, and the mass and dimensional changes of the long side before and after storage were measured, and the water absorption rate and deformation rate were calculated as indicators of water absorption by the following formula.
(Water absorption rate) = ((mass after storage) - (mass before storage)) ÷ (mass before storage) x 100 (%)
(Deformation rate) = ((Long side length after storage) - (Long side length before storage)) ÷ (Long side length before storage) x 100 (%)
The evaluation results are shown in Table 1. A water absorption rate of 1.0 or less was judged to be good, and a deformation rate of 0.30 or less was judged to be good.
本発明のスチレン系樹脂組成物及びその成形品は、耐湿熱性に優れることから、色相や透明性が劣化しにくく、テレビ、デスクトップ型パーソナルコンピューター、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話機、カーナビゲーション、室内照明などの導光板用途などに好適に用いることができる。The styrene-based resin composition of the present invention and its molded products have excellent moist heat resistance, and therefore are less susceptible to deterioration in hue and transparency, making them suitable for use in light guide panels for televisions, desktop personal computers, notebook personal computers, mobile phones, car navigation systems, indoor lighting, and other applications.
Claims (8)
80℃且つ90%湿度の空気雰囲気下で500時間湿熱処理した後に200℃の酸素雰囲気下で測定した酸化誘導時間をt2としたときに、
t1-t2が20分以下である、
スチレン系樹脂組成物であって、
前記スチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂(A)、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)、フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)、及び、フェノール系水酸基を有しないリン系酸化防止剤(C2)を含み、
前記スチレン系樹脂(A)は、スチレン系単量体単位及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位を有し、
前記スチレン系樹脂(A)は、スチレン系単量体単位の含有量が20~80質量%及び(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の含有量が80~20質量%であり、
前記フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)は、フェノール系水酸基を有する三価のリン化合物であり、
前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)は、フェノール性水酸基を持つ酸化防止剤であって、フェノール系水酸基を有する三価のリン化合物を含まず、
前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤(B)の含有量は、スチレン系樹脂(A)に対して、0.001~0.3質量部であり、
前記フェノール系水酸基を有するリン系酸化防止剤(C1)の含有量は、スチレン系樹脂(A)に対して、0.001~0.3質量部であり
前記フェノール系水酸基を有しないリン系酸化防止剤(C2)の含有量は、スチレン系樹脂(A)に対して、0.001~0.3質量部である、スチレン系樹脂組成物。 The oxidation induction time measured under an oxygen atmosphere at 200 ° C. is t1,
When the oxidation induction time measured in an oxygen atmosphere at 200° C. after 500 hours of wet heat treatment in an air atmosphere at 80° C. and 90% humidity is t2,
t1-t2 is 20 minutes or less;
A styrene-based resin composition comprising:
The styrene-based resin composition contains a styrene-based resin (A), a hindered phenol-based antioxidant (B), a phosphorus-based antioxidant having a phenolic hydroxyl group (C1), and a phosphorus-based antioxidant not having a phenolic hydroxyl group (C2),
The styrene-based resin (A) has a styrene-based monomer unit and a (meth)acrylic acid ester-based monomer unit,
The styrene-based resin (A) has a styrene-based monomer unit content of 20 to 80 mass% and a (meth)acrylic acid ester-based monomer unit content of 80 to 20 mass%,
The phosphorus-based antioxidant (C1) having a phenolic hydroxyl group is a trivalent phosphorus compound having a phenolic hydroxyl group,
The hindered phenol-based antioxidant (B) is an antioxidant having a phenolic hydroxyl group and does not contain a trivalent phosphorus compound having a phenolic hydroxyl group,
The content of the hindered phenol-based antioxidant (B) is 0.001 to 0.3 parts by mass relative to the styrene-based resin (A),
The content of the phosphorus-based antioxidant (C1) having a phenolic hydroxyl group is 0.001 to 0.3 parts by mass based on the styrene-based resin (A), and the content of the phosphorus-based antioxidant (C2) not having a phenolic hydroxyl group is 0.001 to 0.3 parts by mass based on the styrene-based resin (A).
請求項1~請求項5のいずれか一項に記載のスチレン系樹脂組成物。 The YI value at an initial optical path length of 115 mm is 2.5 or less.
The styrene-based resin composition according to any one of claims 1 to 5 .
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